JPH09143392A - Photocurable coating composition - Google Patents

Photocurable coating composition

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JPH09143392A
JPH09143392A JP32827895A JP32827895A JPH09143392A JP H09143392 A JPH09143392 A JP H09143392A JP 32827895 A JP32827895 A JP 32827895A JP 32827895 A JP32827895 A JP 32827895A JP H09143392 A JPH09143392 A JP H09143392A
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diol
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residue
propenyl
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Takao Saitou
太香雄 斉藤
Kohei Maeda
浩平 前田
Sunao Ozasa
直 小笹
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photocurable coating compsn. which cures quickly, is excellent in adhesion to a substrate, and is free from toxicity, environmental pollution, and bad odor by incorporating a compd. having at least two terminal propenyl ether groups and a photopolymn. initiator into the same. SOLUTION: This compsn. contains 95-99.9wt.% at least one compd. (A) having at least two terminal propenyl ether groups and selected from among a (poly)ether oligomer, a polyester oligomer, a urethane oligomer, and a monomer and 0.01-5wt.% photopolymn. initiator (B). If necessary, the viscosity of the compsn. is adjusted with a reactive diluent in an amt. of 5-60wt.% of the sum of components A and B. If necessary, the compsn. may further contain a known photochemically radical-polymerizable compsn. in an amt. of 100wt.% or lower of component A.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光照射により硬化可
能な光硬化型塗料組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocurable coating composition curable by light irradiation.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、有機溶剤を使用する塗料は、作業
者に対する有毒性、火災の危険性、環境汚染、乾燥速度
及び、溶剤の浪費などに問題があるため、有機溶剤を必
須成分として含まず、活性エネルギー線の照射による硬
化を利用した、無溶剤系の塗料が検討されている。無溶
剤系の塗料として、ラジカル重合型の不飽和ポリエステ
ル、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、エポキシアクリレートが
あるがラジカル光重合型の硬化は体積収縮が起こり、基
材密着性が劣り、さらに、アクリル系樹脂は特有の臭気
を有し、皮膚刺激性が高いという問題点がある。これら
の問題点を克服する組成物としてエポキシ系光カチオン
UV硬化樹脂があるが、光反応性が低いため、硬化時に
大きなUVエネルギーを必要とする。そのため、高UV
エネルギー照射装置を必要としたり、照射時間が長くか
かるという欠点があった。
2. Description of the Related Art In recent years, paints using organic solvents have problems such as toxicity to workers, fire hazard, environmental pollution, drying speed and waste of solvent. Instead, solvent-free paints that utilize curing by irradiation with active energy rays are being studied. As solvent-free paints, there are radical polymerization type unsaturated polyesters, polyester acrylates, urethane acrylates, silicone acrylates, and epoxy acrylates, but radical photopolymerization type curing causes volume shrinkage, resulting in poor substrate adhesion. Acrylic resins have a peculiar odor and have a problem of high skin irritation. An epoxy photocationic UV curable resin is a composition that overcomes these problems, but it requires a large amount of UV energy during curing due to its low photoreactivity. Therefore, high UV
There are drawbacks that an energy irradiation device is required and that irradiation time is long.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機溶剤、
刺激性のモノマー、オリゴマーを含まず、UV等の活性
エネルギー線を照射することにより、高速に硬化し、基
材密着性にすぐれる塗料用組成物を提供することを目的
とする。従って、本発明は、従来技術における種々の問
題点、すなわち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気
対策、硬化速度、塗料としての物性を大幅に改善するも
のである。
The present invention is directed to an organic solvent,
It is an object of the present invention to provide a coating composition that does not contain irritating monomers and oligomers, is cured at a high speed by irradiating with active energy rays such as UV, and has excellent substrate adhesion. Therefore, the present invention greatly improves various problems in the prior art, namely, harmfulness to workers, environmental pollution, odor control, curing speed, and physical properties as a paint.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達した。す
なわち本発明は少なくとも2個のプロペニルエーテル末
端基を有する化合物(A)および光重合開始剤(B)か
らなる光硬化型塗料組成物である。
The present inventor has arrived at the present invention as a result of extensive studies in order to solve the above problems. That is, the present invention is a photocurable coating composition comprising a compound (A) having at least two propenyl ether terminal groups and a photopolymerization initiator (B).

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の(A)としては次のもの
があげられる。すなわち、プロペニルエーテル末端基を
有する(ポリ)エーテルオリゴマー、プロペニルエーテ
ル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニル
エーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロ
ペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれ
る1種以上のものであり、好ましくはプロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (A) of the present invention includes the following. That is, at least one selected from the group consisting of a (poly) ether oligomer having a propenyl ether end group, a polyester oligomer having a propenyl ether end group, a urethane oligomer having a propenyl ether end group, and a monomer having a propenyl ether end group. And is preferably a urethane oligomer having a propenyl ether end group.

【0006】本発明の(A)におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有する(ポリ)エーテルオリゴマーは下記一
般式(1)で表される化合物である。 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは2〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数でありmの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、mが2以上の場合のAは同一でも異なっていても良
く、(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加で
も良い。X1は多価アルコール残基である。}
The (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group in (A) of the present invention is a compound represented by the following general formula (1). X 1 [-O- (AO) m -R 1] n (1) { wherein, n is an integer of 2 to 200, the n-number of m 0 to
It is an integer of 200 and at least one of m is 1 or more. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and when m is 2 or more, A may be the same or different, and the (AO) m portion may be random addition or block addition. good. X 1 is a polyhydric alcohol residue. }

【0007】一般式(1)において、Aはアルキレン、
アリーレン、アルアルキレンおよびシクロアルキレン基
よりなる群から選ばれる2価の基であり、使用しうるア
ルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、
オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデ
シレン等があげられる。アリーレン基の例にはフェニレ
ン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が
あげられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、1
−フェニチレン、2−フェニチレン、3−フェニルプロ
ピレン、2−フェニルプロピレン、1−フェニルプロピ
レンなどがあげられる。シクロアルキレン基の例には、
シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレ
ン、シクロオクチレン等があげられる。これらのうち好
ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アル
キレン基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
In the general formula (1), A is alkylene,
It is a divalent group selected from the group consisting of arylene, aralkylene and cycloalkylene groups, and examples of alkylene groups that can be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene,
Examples include octylene, nonylene, decylene, undecylene and dodecylene. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of alkylene are benzylene, 1
-Phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene and the like. Examples of cycloalkylene groups include:
Examples include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, ethylene group and propylene group are preferable. When the alkylene group becomes long, the solubility of the initiator deteriorates.

【0008】X1は多価アルコール残基であり、多価ア
ルコールとしては以下のものがあげられる。例えば、グ
リセリン、ポリグリセリン(グリセリンの2〜18量
体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリ
セリン等)、グリシドールの開環重合物(重合度が2〜
5000である化合物)、トリメチロールアルカン(ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールブタン等)および、これらの2〜3量体、モノ
ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、1,
3,5−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タンソルビタングリセリン縮合物等があげられるが、こ
れらのうち特にグリセリンやポリグリセリンの残基なら
びにトリメチロールアルカンおよびその2〜3量体の残
基等が好ましい。
X 1 is a polyhydric alcohol residue, and examples of the polyhydric alcohol include the following. For example, glycerin, polyglycerin (glycerin 2-18mer, such as diglycerin, triglycerin, tetraglycerin, etc.), ring-opening polymer of glycidol (polymerization degree of 2 to
5000 compounds), trimethylolalkanes (trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, etc.) and their 2-3 trimers, monopentaerythritol, dipentaerythritol, 1,
Examples thereof include 3,5-pentaerythritol, sorbitol, sorbitan sorbitan glycerin condensate, etc. Of these, residues of glycerin and polyglycerin, and residues of trimethylolalkane and dimers and trimers thereof are particularly preferable.

【0009】n個のmは通常0〜200の整数でありm
の少なくとも1個は1以上であり、好ましくは1〜8
0、特に好ましくは1〜5の整数である。mが200を
超えると通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。
N is usually an integer from 0 to 200 and m
At least one is 1 or more, preferably 1 to 8
0, particularly preferably an integer of 1 to 5. When m exceeds 200, the viscosity is usually high and it becomes difficult to dissolve the initiator.

【0010】nは2〜200、好ましくは3〜100、
特に好ましくは3〜5の整数である。nが200を超え
ると、通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。
N is 2 to 200, preferably 3 to 100,
Particularly preferably, it is an integer of 3 to 5. When n exceeds 200, the viscosity is usually high and it becomes difficult to dissolve the initiator. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.

【0011】本発明におけるプロペニルエーテル末端基
を有するポリエステルオリゴマーは下記一般式(2)、
(3)または(4)で表される化合物があげられる。
The polyester oligomer having a propenyl ether terminal group in the present invention is represented by the following general formula (2):
Examples thereof include compounds represented by (3) or (4).

【0012】 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。}
[0012] {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by alkylene diol, arylene diol,
It is a residue of any one of polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, and Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }

【0013】一般式(2)におけるX2は、HOX2OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
ある。
X 2 in the general formula (2) is HOX 2 OH.
Represented by alkylene diol, arylene diol,
It is the residue of a diol, either a polyether diol, a polyurethane diol or a polycarbonate diol.

【0014】HOX2OHで表されるアルキレンジオー
ルの例としては、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘキサ
ンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、
エチレングリコール、およびプロピレングリコールであ
る。
Examples of the alkylene diol represented by HOX 2 OH include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butane diol, 1,4-butane diol, 1,6-hexane diol and 1,9-nonane diol. , Neopentyl glycol, 1.4-cyclohexanediol and the like. Of these, preferably,
They are ethylene glycol and propylene glycol.

【0015】HOX2OHで表されるアリーレンジオー
ルの例としては、カテコール、ビス(2−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、ビスフェノールAなどがあげられる。これらのうち
好ましくは、ビスフェノールAである。
Examples of the arylene diol represented by HOX 2 OH include catechol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) methane and bisphenol A. Of these, bisphenol A is preferred.

【0016】HOX2OHで表されるポリエーテルジオ
ールの例としては、ポリ(オキシエチレン)ジオール、
ポリ(オキシプロピレン)ジオール、ポリ(オキシテト
ラメチレン)ジオール、ビスフェノールAのエチレンオ
キサイド付加物、およびビスフェノールAのプロピレン
オキサイド付加物などがあげられる。これらのうち好ま
しくは、ポリ(オキシエチレン)ジオールおよびポリ
(オキシプロピレン)ジオールである。
Examples of the polyether diol represented by HOX 2 OH include poly (oxyethylene) diol,
Examples thereof include poly (oxypropylene) diol, poly (oxytetramethylene) diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, and propylene oxide adduct of bisphenol A. Of these, poly (oxyethylene) diol and poly (oxypropylene) diol are preferable.

【0017】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常
1〜200、好ましくは2〜100、特に好ましくは3
〜20である。
The degree of polymerization of the above polyether diol is usually 1 to 200, preferably 2 to 100, particularly preferably 3
-20.

【0018】HOX2OHで表されるポリウレタンジオ
ールの例としては下記の(i)と(ii)との反応生成
物があげられる。 (i) H(OX5)m−OHで表される化合物 (mは0〜200の整数、X5は炭素数2〜12のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる2価の基である) (ii) OCN−Z3−NCO (式中、Z3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる2
価の基である)
Examples of polyurethane diol represented by HOX 2 OH include reaction products of the following (i) and (ii). (I) Compound represented by H (OX 5 ) m-OH (m is an integer of 0 to 200, X 5 is selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms. (Ii) OCN-Z 3 -NCO (in the formula, Z 3 is 2 selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene).
Is the basis of valence)

【0019】上記(i)のポリエーテルジオールにおい
てmは通常0〜200、好ましくは、3〜20の整数で
ある。
In the above polyether diol (i), m is usually 0 to 200, preferably 3 to 20.

【0020】上記(i)のポリエーテルジオールにおい
てX5は炭素数2〜12のアルキレン、アリーレン、ア
ラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群か
ら選ばれる2価の基であり、使用しうるアルキレン基の
例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、
ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノ
ニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげ
られる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレ
ン、アントリレン、フェナントリレン等があげられる。
アルアルキレンの例には、ベンジレン、1−フェニチレ
ン、2−フェニチレン、3−フェニルプロピレン、2−
フェニルプロピレン、1−フェニルプロピレンなどがあ
げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチ
レン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオ
クチレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エ
チレン、プロピレン基である。アルキレン基が長くなる
と開始剤の溶解性が悪くなる。
In the polyether diol (i), X 5 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms, and usable alkylene groups. Examples of methylene, ethylene, propylene, butylene,
Pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like.
Examples of alkylene are benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-
Examples thereof include phenyl propylene and 1-phenyl propylene. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, ethylene and propylene groups are preferable. When the alkylene group becomes long, the solubility of the initiator deteriorates.

【0021】上記(ii)のジイソシアネートの例とし
ては、トルエンジイソシアネート(TDI)、p−およ
び、m−フェニレンジイソシアネート、1,4−テトラ
メチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジ
イソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシ
アネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート(デスモジュールW)、4,4’−ジフェニル
メタンジイソシアネート(MDI)、3,3’−ジメチ
ル−4、4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
1,5−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−1,5’−ジイソシアネート、ビス(2−メ
チル−3−イソシアネートフェニル)メタン、4,4’
−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチル
キシレンジイソシアネート(TMXDI)、イソホロン
ジイソシアネート(IPDI)などがあげられる。これ
らのうち好ましくは、トルエンジイソシアネート(TD
I)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート
(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPD
I)、テトラメチルキシレンジイソシアネート(TMX
DI)、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート(デスモジュールW)、1,6−ヘキサメチレン
ジイソシアネートである。
Examples of the diisocyanate of (ii) above include toluene diisocyanate (TDI), p- and m-phenylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4. -Trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (Desmodur W), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 3,3'-dimethyl-4,4'- Diphenylmethane diisocyanate,
1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, naphthalene-1,5′-diisocyanate, bis (2-methyl-3-isocyanatephenyl) methane, 4,4 ′
-Diphenylpropane diisocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate (TMXDI), isophorone diisocyanate (IPDI) and the like. Of these, toluene diisocyanate (TD) is preferred.
I), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), isophorone diisocyanate (IPD
I), tetramethyl xylene diisocyanate (TMX
DI), 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (Desmodur W), 1,6-hexamethylene diisocyanate.

【0022】HOX2OHで表されるポリカーボネート
ジオールの例としては下記の一般式であげられる化合物
があげられる。 (mは1〜200の整数であり、X6は炭素数2〜12
のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
る)
Examples of the polycarbonate diol represented by HOX 2 OH include compounds represented by the following general formula. (M is an integer of 1 to 200, X 6 has 2 to 12 carbon atoms
Is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups).

【0023】上記一般式においてmは通常1〜200の
整数、好ましくは3〜20の整数である。
In the above general formula, m is usually an integer of 1 to 200, preferably 3 to 20.

【0024】上記のポリカーボネートジオールにおいて
6は炭素数2〜12のアルキレン、アリーレン、アラ
ルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から
選ばれる2価の基であり、使用しうるアルキレン基の例
には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペ
ンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニ
レン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげら
れる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、
アントリレン、フェナントリレン等があげられる。アル
アルキレンの例には、ベンジレン、1−フェニチレン、
2−フェニチレン、3−フェニルプロピレン、2−フェ
ニルプロピレン、1−フェニルプロピレンなどがあげら
れる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレ
ン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオク
チレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エチ
レン、およびプロピレン基である。アルキレン基が長く
なると開始剤の溶解性が悪くなる。
In the above polycarbonate diol, X 6 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms. Examples of alkylene groups that can be used include , Methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like. Examples of arylene groups are phenylene, naphthylene,
Examples include anthrylene and phenanthrylene. Examples of alkylene are benzylene, 1-phenylene,
2-Phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene and the like can be mentioned. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, ethylene and propylene groups are preferable. When the alkylene group becomes long, the solubility of the initiator deteriorates.

【0025】一般式(2)におけるX3は、上記のX2
示されるものと同一のものがあげられ、X2とX3は同一
でも、異なっていてもよい。
[0025] X in the general formula (2) 3, the same as those shown in the above X 2 may be mentioned, X 2 and X 3 may be the same or different.

【0026】一般式(2)におけるY1は多価カルボン
酸残基であり、Y2は2価カルボン酸残基である。2価
カルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸等があげられ、3価以上のものとしたは
トリメリット酸、ピリメリット酸、その他のポリカルボ
ン酸等があげられる。これらのうちY1、Y2ともにイソ
フタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸が好まし
い。
In the general formula (2), Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue and Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. Examples of the divalent carboxylic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid and adipic acid. Examples thereof include meritic acid and other polycarboxylic acids. Of these, Y 1 and Y 2 are preferably isophthalic acid, terephthalic acid, and adipic acid.

【0027】一般式(2)において、mは通常1〜20
0、好ましくは1〜80、特に好ましくは1〜20の整
数である。mが200をこえると粘度が高くなり開始剤
の溶解が困難になる。
In the general formula (2), m is usually 1 to 20.
It is an integer of 0, preferably 1-80, particularly preferably 1-20. When m exceeds 200, the viscosity becomes high and it becomes difficult to dissolve the initiator.

【0028】一般式(2)おいて、nは通常2〜20
0、好ましくは3〜100、特に好ましくは3〜20の
整数である。nが200より大きくなると、粘度が高く
なり開始剤の溶解が困難になる。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシル又はアリール基でもよい。
In the general formula (2), n is usually 2 to 20.
It is an integer of 0, preferably 3 to 100, particularly preferably 3 to 20. When n is larger than 200, the viscosity becomes high and it becomes difficult to dissolve the initiator. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.

【0029】一般式(3)は、 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。}で表される。
The general formula (3) is {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. It is represented by}.

【0030】一般式(3)におけるX1は一般式(1)
で示されたものと同一のものがあげられ、X2、mおよ
びnは、それぞれ一般式(2)で示されたものと同一の
ものがあげられる。
X 1 in the general formula (3) is represented by the general formula (1)
And the same as those represented by the general formula (2) for X 2 , m and n.

【0031】一般式(4)は、 {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}表される。
The general formula (4) is {In the formula, m is 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are alkylene diols, arylene diols, polyether diols, and polyurethanes represented by HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively. X 1 is a polyhydric alcohol residue, which is the residue of either a diol or a polycarbonate diol. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }expressed.

【0032】一般式(4)におけるX1は一般式(1)
で示されたものと同一のものがあげられ、X2、X3、m
およびnは、それぞれ一般式(2)で示されたものと同
一のものがあげられ、X2とX3は同一でも、異なってい
てもよい。
X 1 in the general formula (4) is represented by the general formula (1)
The same ones as those shown in X. 2 , X 3 , M
Examples of n and n are the same as those shown in the general formula (2), and X 2 and X 3 may be the same or different.

【0033】本発明の(A)におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式
(5)で表される。 {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4
−N(R2)−はHN(R2)−X4−N(R2)Hで表さ
れるジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のアル
キレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキ
レン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、アリ
ール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z1
は多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシア
ネート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。}
The urethane oligomer having a propenyl ether terminal group in (A) of the present invention is represented by the following general formula (5). {In the formula, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, and Q 1 is -OX 2 O- or -N (R 2 ) -X 4 -N (R
2 )-, and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is an alkyl diol represented by HOX 2 OH, an aryl diol, a polyether diol,
It is the residue of a diol, either a polyester diol or a polycarbonate diol. -N (R 2) -X 4
—N (R 2 ) — is a diamine residue represented by HN (R 2 ) —X 4 —N (R 2 ) H, and X 4 is alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkylene having 2 to 12 carbon atoms. And R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. Z 1
Is a polyvalent isocyanate residue, and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }

【0034】一般式(5)において、Z2における2価
イソシアネートとしては前記式(ii)であげられたも
のと同一のものがあげられる。Z1における多価イソシ
アネートとしてはリジンエステルトリイソシアネート、
ヘキサメチレントリイソシアネートおよびポリフェニル
ポリイソシアネート等があげられる。
In the general formula (5), as the divalent isocyanate for Z 2 , the same ones as mentioned in the above formula (ii) can be mentioned. The polyvalent isocyanate in Z 1 is lysine ester triisocyanate,
Examples include hexamethylene triisocyanate and polyphenyl polyisocyanate.

【0035】一般式(5)において、Q1は−OX2O−
または−N(R2)−X4−N(R2)−で表される基で
あり、Q2は−OX2O−で表される基である。X2はH
OX2OHで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、X2は一般(2)におけるX2と同一の
ものがあげられる。
In the general formula (5), Q 1 is -OX 2 O-.
Or -N (R 2) -X 4 -N (R 2) - in a group represented, Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is H
OX 2 OH is a diol residue represented by alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyester diol or polycarbonate diol, and X 2 is the same as X 2 in general (2). can give.

【0036】上記HOX2OHがポリエステルジオール
の場合、下記の(iii)と(iv)との反応生成物が
あげられる。 (iii) H(OX7)m−OH (mは0〜200の整数、X7は炭素数2〜12のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる2価の基である) (iv) HOOC−Y3−COOH (式中、Y3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2
価の基である)
When the HOX 2 OH is a polyester diol, the reaction products of the following (iii) and (iv) can be mentioned. (Iii) H (OX 7 ) m-OH (m is an integer of 0 to 200, X 7 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms. in a) (iv) in HOOC-Y 3 -COOH (wherein, Y 3 is 2 selected alkylene, arylene, from the group consisting of groups aralkylene and cycloalkylene
Is the basis of valence)

【0037】上記(iii)のポリエーテルジオールに
おいてmは通常0〜200、好ましくは、3〜20の整
数である。
In the above-mentioned (iii) polyether diol, m is usually 0 to 200, preferably 3 to 20.

【0038】上記(iii)のポリエーテルジオールに
おいてX7は炭素数2〜12のアルキレン、アリーレ
ン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる
群から選ばれる2価の基であり、使用しうるアルキレン
基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレ
ン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等
があげられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフ
チレン、アントリレン、フェナントリレン等があげられ
る。アルアルキレンの例には、ベンジレン、1−フェニ
チレン、2−フェニチレン、3−フェニルプロピレン、
2−フェニルプロピレン、1−フェニルプロピレンなど
があげられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シク
ロオクチレン等があげられる。これらのうち好ましく
は、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン
基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
In the polyether diol of (iii) above, X 7 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms. Examples include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of alkylene are benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene,
2-phenyl propylene, 1-phenyl propylene, etc. are mentioned. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, ethylene group and propylene group are preferable. When the alkylene group becomes long, the solubility of the initiator deteriorates.

【0039】上記(iv)のジカルボン酸の例として
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等があげられる。これらのうち好ましく
は、イソフタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸で
ある。X4は、一般式(2)におけるX2と同一のものが
あげられ、R2は一般式(1)中のAで示されたものと
同一のものがあげられ、mおよびnは一般式(2)で示
したものと同一のものがあげられる。
Examples of the dicarboxylic acid (iv) include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid and polycarboxylic acid. Of these, preferred are isophthalic acid, terephthalic acid, and adipic acid. X 4 is the same as X 2 in the general formula (2), R 2 is the same as that represented by A in the general formula (1), and m and n are the general formulas. The same thing as shown in (2) can be mentioned.

【0040】本発明の(A)におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するモノマーは下記一般式(6)または一
般式(7)で表される。 X1[−O−R1]n (6) (式中、nは2〜200の整数であり、X1は多価アル
コール残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。)
The monomer having a propenyl ether terminal group in (A) of the present invention is represented by the following general formula (6) or general formula (7). X 1 [-O-R 1] n (6) ( wherein, n is an integer of 2 to 200, X 1 is a polyhydric alcohol residue .n number of at least two is propenyl group for R 1 And the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.)

【0041】一般式(6)において、nは通常2〜20
0、好ましくは2〜6の整数である。nが200を超え
ると粘度が高くハンドリングが悪くなる。X1は一般式
(1)で示したものと同一のものがあげられる。
In the general formula (6), n is usually 2 to 20.
It is an integer of 0, preferably 2 to 6. When n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. Examples of X 1 are the same as those shown in the general formula (1).

【0042】 {式中、nは2−200、X2は、HOX2OHで表され
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Y
1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少なくとも
2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。}一般式(7)
において、nは通常2〜200、好ましくは2〜6の整
数である。nが200を超えると粘度が高くハンドリン
グが悪くなる。Y1およびX2は一般式(2)であげられ
たものと同一のものがあげられる。
[0042] {In the formula, n is 2-200, X 2 is a diol residue represented by HOX 2 OH, which is any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol, and Y
1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } General formula (7)
In, n is usually an integer of 2 to 200, preferably 2 to 6. When n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. Examples of Y 1 and X 2 are the same as those given in the general formula (2).

【0043】本発明において使用される光重合開始剤
(B)としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用で
きる。例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェ
ート、P−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、P−(フェニル
チオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、4−クロルフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、4−クロルフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス[4−ジフェニル−スルフォニオ)フェニル]
スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビ
ス[4−ジフェニル−スルフォニオ)フェニル]スルフ
ィド‐ビス‐ヘキサフルオロアンチモネート、(2、4
−シクロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエチ
ル)ベンゼン]−Fe−ヘキサフルオロホスフェート等
を挙げることができる。これらは市場より容易に入手す
ることができる。例えば、旭電化(株)製、SP−15
0、SP−170、チバ・ガイギー社製、イルガキュア
ー261、ユニオンカーバイド社製、UVR−697
4、UVR−6990等を挙げることができる。
As the photopolymerization initiator (B) used in the present invention, known photocationic polymerization initiators can be used. For example, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium phosphate, P- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, P- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis [4-diphenyl-sulfonyl) phenyl]
Sulfide-bis-hexafluorophosphate, bis [4-diphenyl-sulfonyl) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate, (2,4
-Cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe-hexafluorophosphate and the like can be mentioned. These are readily available from the market. For example, Asahi Denka Co., Ltd., SP-15
0, SP-170, Ciba-Geigy, IRGACURE 261, Union Carbide, UVR-697
4, UVR-6990 and the like.

【0044】本発明において組成物の粘度を調節する目
的で必要に応じて反応性希釈剤(C)を使用できる。
In the present invention, a reactive diluent (C) can be optionally used for the purpose of adjusting the viscosity of the composition.

【0045】該(C)は下記一般式(8)であらわされ
る化合物があげられる。 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。}
Examples of the compound (C) include compounds represented by the following general formula (8). CH 3 —CH═CH—O—X 2 —O—R 3 (8) (In the formula, X 2 represents an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol, or polycarbonate diol represented by HOX 2 OH. It is a residue of any diol, and R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
12 alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl group or hydrogen atom. }

【0046】上記一般式においてX2は一般式(2)で
示されたものと同一のものがあげられ、R3は炭素数が
2〜12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロア
ルキル基または水素原子である。
In the above general formula, X 2 is the same as that shown in the general formula (2), and R 3 is an alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl group or hydrogen atom having 2 to 12 carbon atoms. Is.

【0047】本発明において(A)、および(B)の使
用割合は通常(A)95〜99.9重量%、(B)0.
01〜5重量%、好ましくは(A)96〜98重量%、
(B)2〜4重量%である。
In the present invention, the proportions of (A) and (B) used are usually 95 to 99.9% by weight of (A), and (B) 0.1.
01 to 5% by weight, preferably (A) 96 to 98% by weight,
(B) It is 2 to 4% by weight.

【0048】本発明において(A)、(B)の合計重量
に対して(C)を通常5〜60重量%、好ましくは10
〜30重量%であり、(C)が60重量%をこえると、
硬化速度が大幅に低下する。
In the present invention, the content of (C) is usually 5 to 60% by weight, preferably 10 based on the total weight of (A) and (B).
Is about 30% by weight, and when (C) exceeds 60% by weight,
The curing speed is significantly reduced.

【0049】本発明の組成物には必要により(A)とと
もに公知の光ラジカル重合性組成物(D)を併用するこ
とができる。含有する(D)の量としては、通常(A)
成分100重量部に対し0〜100重量部を使用し、好
ましくは10〜40%である。
In the composition of the present invention, if necessary, a known radical photopolymerizable composition (D) can be used in combination with (A). The content of (D) is usually (A)
0 to 100 parts by weight is used per 100 parts by weight of the component, preferably 10 to 40%.

【0050】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
エポキシ樹脂、(例えば、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラブロモ
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂等)、顔料、着色剤、無機充填剤、非反応樹脂、
その他各種添加剤等を含有させることができる。
The composition of the present invention further comprises, if necessary,
Epoxy resin, (for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, novolac type epoxy resin, etc.), pigment, colorant, inorganic filler, non-reactive resin,
Other various additives and the like can be contained.

【0051】使用できる光としては高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出される
紫外線などをあげることができる。
Examples of usable light include ultraviolet rays emitted from a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a low pressure mercury lamp and the like.

【0052】以上、詳述した本発明の塗料組成物は、木
工合板、家具、楽器などに使用できる。
The coating composition of the present invention described in detail above can be used for woodworking plywood, furniture, musical instruments and the like.

【0053】[0053]

【実施例】以下、実施例を以て本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0054】実施例1 以下の(A)、(B)及び(C)を混合して光硬化型塗
料組成物を得た。 (A) Pr−O−(CH2CH2O)12−Pr 77部 (B) UVR−6974 3部 (C) Pr−O−CH2CH2−OH 20部 この組成物を150mm×100mm×10mm(厚
さ)の合板上にバーコータで塗装し、その後UV照射装
置で80W/cm高圧水銀灯1灯、照射距離15cm、
コンベア速度10m/分で照射した。硬化状態は良好で
あり、合板との密着性も良好であった。
Example 1 The following (A), (B) and (C) were mixed to obtain a photocurable coating composition. (A) Pr-O- (CH 2 CH 2 O) 12 -Pr 77 parts (B) UVR-6974 3 parts (C) Pr-O-CH 2 CH 2 -OH 20 parts 150 mm × 100 mm × the composition Painted on a 10 mm (thickness) plywood with a bar coater, then with a UV irradiation device 80 W / cm high pressure mercury lamp, irradiation distance 15 cm,
Irradiation was carried out at a conveyor speed of 10 m / min. The cured state was good and the adhesion to the plywood was also good.

【0055】実施例2 (A)として以下の化合物77部を用いその他は実施例
1と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 Y:テレフタル酸残基
Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the following compound (77 parts) was used as (A). The results were similar and good. Y: terephthalic acid residue

【0056】実施例3 (A)として以下の化合物77部を用いその他は実施例
1と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 X:トリエチレングリコール残基 Z:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基
Example 3 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the following compound (77 parts) was used as (A). The results were similar and good. X: triethylene glycol residue Z: 4,4′-diphenylmethane diisocyanate residue

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明は、有機溶剤、刺激性のモノマ
ー、オリゴマーを含まず、UV等の活性エネルギー線を
照射することにより、高速に硬化し、基材密着性にすぐ
れ、有害性、環境汚染、臭気のない、塗料としての物性
を大幅に改善するものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention does not contain an organic solvent, an irritating monomer or an oligomer, and is cured at a high speed by irradiating with an active energy ray such as UV, has excellent substrate adhesion, is harmful, and is environmentally friendly. It has no pollution or odor and greatly improves the physical properties as a paint.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2個のプロペニルエーテル末
端基を有する化合物(A)および光重合開始剤(B)か
らなる光硬化型塗料組成物。
1. A photocurable coating composition comprising a compound (A) having at least two propenyl ether terminal groups and a photopolymerization initiator (B).
【請求項2】 (A)がプロペニルエーテル末端基を有
する(ポリ)エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル
末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエ
ーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロペ
ニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれる
1種以上の化合物である請求項1記載の組成物。
2. (A) is selected from the group consisting of (poly) ether oligomers having a propenyl ether end group, polyester oligomers having a propenyl ether end group, urethane oligomers having a propenyl ether end group and monomers having a propenyl ether end group. The composition of claim 1 which is one or more compounds as defined below.
【請求項3】 プロペニルエーテル末端基を有する(ポ
リ)エーテルオリゴマーが下記一般式(1)で表される
オリゴマーである請求項2記載の組成物。 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは2〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数でありmの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、mが2以上の場合のAは同一でも異なっていても良
く、(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加で
も良い。X1は多価アルコール残基である。}
3. The composition according to claim 2, wherein the (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (1). X 1 [-O- (AO) m -R 1] n (1) { wherein, n is an integer of 2 to 200, the n-number of m 0 to
It is an integer of 200 and at least one of m is 1 or more. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and when m is 2 or more, A may be the same or different, and the (AO) m portion may be random addition or block addition. good. X 1 is a polyhydric alcohol residue. }
【請求項4】 プロペニルエーテル末端基を有するポリ
エステルオリゴマーが下記一般式(2)、一般式
(3)、または一般式(4)で表されるオリゴマーであ
る請求項2記載の組成物。 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。} {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。} {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}
4. The composition according to claim 2, wherein the polyester oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (2), general formula (3), or general formula (4). {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by alkylene diol, arylene diol,
It is a residue of any one of polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, and Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } {In the formula, m is 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are alkylene diols, arylene diols, polyether diols, and polyurethanes represented by HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively. X 1 is a polyhydric alcohol residue, which is the residue of either a diol or a polycarbonate diol. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【請求項5】 プロペニルエーテル末端基を有するウレ
タンオリゴマーが下記一般式(5)で表されるオリゴマ
ーである請求項2記載の組成物。 {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4
N(R2)−はHN(R2)−X4−N(R2)Hで表され
るジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のアルキ
レン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレ
ン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z1
多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシアネ
ート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロペ
ニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまた
はアリール基でもよい。}
5. The composition according to claim 2, wherein the urethane oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (5). {In the formula, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, and Q 1 is -OX 2 O- or -N (R 2 ) -X 4 -N (R
2 )-, and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is a residue of any one of alkyl diol, aryl diol, polyether diol, polyester diol or polycarbonate diol represented by HOX 2 OH. -N (R 2) -X 4 -
N (R 2) - is HN (R 2) -X 4 -N (R 2) a diamine residue represented by H, X 4 is alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene or cycloalkylene group And R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. Z 1 is a polyvalent isocyanate residue and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【請求項6】 プロペニルエーテル末端基を有するモノ
マーが下記一般式(6)または一般式(7)で表される
請求項2記載の組成物。 X1[−O−R1]n (6) (式中、nは2〜200の整数であり、X1は多価アル
コール残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。) {式中、nは2−200、X2は、HOX2OHで表され
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Y
1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少なくとも
2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。}
6. The composition according to claim 2, wherein the monomer having a propenyl ether terminal group is represented by the following general formula (6) or general formula (7). X 1 [-O-R 1] n (6) ( wherein, n is an integer of 2 to 200, X 1 is a polyhydric alcohol residue .n number of at least two is propenyl group for R 1 And the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.) {In the formula, n is 2-200, X 2 is a diol residue represented by HOX 2 OH, which is any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol, and Y
1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of n R 1 's are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【請求項7】 (A)の含量が95〜99.9重量%、
(B)の含量が0.01〜5重量%である請求項1〜6
のいずれか記載の組成物。
7. The content of (A) is 95 to 99.9% by weight,
The content of (B) is 0.01 to 5% by weight.
The composition according to any one of 1.
【請求項8】 さらに反応性希釈剤(C)が配合されて
なり、組成物の重量に対して、(C)の含量が5〜60
重量%、(A)の含量が50〜90重量%、(B)の含
量が0.01〜5重量%である請求項1〜7のいずれか
記載の組成物。
8. A reactive diluent (C) is further added, and the content of (C) is 5 to 60 relative to the weight of the composition.
The composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the content of (A) is 50 to 90% by weight, and the content of (B) is 0.01 to 5% by weight.
【請求項9】 (C)が下記一般式(8)で表される反
応性希釈剤である請求項8記載の組成物。 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。}
9. The composition according to claim 8, wherein (C) is a reactive diluent represented by the following general formula (8). CH 3 —CH═CH—O—X 2 —O—R 3 (8) (In the formula, X 2 represents an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol, or polycarbonate diol represented by HOX 2 OH. It is a residue of any diol, and R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
12 alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl group or hydrogen atom. }
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999002482A1 (en) * 1997-07-11 1999-01-21 Showa Denko K.K. New ether compounds and process for producing the same
US20150376472A1 (en) * 2004-09-03 2015-12-31 Nuplex Resins B.V. Methods for producing crosslinkable oligomers

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