JPH09139630A - Portable communication equipment and power amplifier in portable communication equipment - Google Patents

Portable communication equipment and power amplifier in portable communication equipment

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JPH09139630A
JPH09139630A JP7295689A JP29568995A JPH09139630A JP H09139630 A JPH09139630 A JP H09139630A JP 7295689 A JP7295689 A JP 7295689A JP 29568995 A JP29568995 A JP 29568995A JP H09139630 A JPH09139630 A JP H09139630A
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JP
Japan
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fet
gate
amplification
temperature
temperature compensation
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JP7295689A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Yokoyama
隆弘 横山
Osamu Ishikawa
修 石川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize the power amplifier capable compensating a temperature without provision of a temperature compensation circuit. SOLUTION: The power amplifier is provided with a self-bias type gate bias circuit in which an amplifier FET amplifying a received high frequency power, a resistor and a temperature compensation FET formed on a GaAs substrate are connected in series. One terminal of the gate bias circuit connects to a voltage power supply and the other terminal connects to ground. A connecting point between the resistor and the temperature compensation FET in the gate bias circuit connects to a gate of the amplifier FET. A gate azimuth of the amplifier FET with respect to orientation flat of the GaAs substrate is selected to e 90 deg. and a gate azimuth of the temperature compensation FET with respect to orientation flat of the GaAs substrate is selected to be 0 deg., and the temperature characteristic of the amplifier FET is selected to be reverse to that of the temperature compensation FET.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、携帯型通信機器に
おける電力増幅装置に関し、特に小型で低コストの携帯
型通信機器に使用される高周波電力の増幅装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a power amplifier in a portable communication device, and more particularly to a high frequency power amplifier used in a small and low cost portable communication device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯型通信機器、特に携帯電話機
が一般に普及し、携帯型通信機器において使用される高
周波電力の増幅装置の高性能化がますます求められるよ
うになってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, portable communication devices, especially mobile phones, have become widespread, and there has been an increasing demand for higher performance of high frequency power amplifiers used in the portable communication devices.

【0003】図13は、携帯電話機において使用されて
いる、ガリウム砒素(GaAs)等の化合物半導体上に
形成されたゲートバイアス回路を有する2段構成の電力
増幅装置の従来例を示している。図13において、1は
前段の電力増幅回路となるソース接地の前段の増幅用F
ET、2は後段の電力増幅回路となるソース接地の後段
の増幅用FET、3は入力信号の高周波電力の例えば5
0Ωのインピーダンスを前段の増幅用FET1に最適な
インピーダンスに変換する入力マッチング回路、4は前
段の増幅用FET1から出力される高周波電力のインピ
ーダンスを後段の増幅用FET2に最適なインピーダン
スに変換する段間マッチング回路、5は後段の増幅用F
ET2から出力される高周波電力のインピーダンスをア
ンテナ側配線の例えば50Ωのインピーダンスに変換す
る出力マッチング回路、6は前段の増幅用FET1のド
レイン電圧が入力信号の高周波電力の影響を受けないよ
うに高周波的に開放(open)となるように設定され
た前段のドレインバイアス回路、7は後段の増幅用FE
T2のドレイン電圧が入力信号の高周波電力の影響を受
けないように高周波的に開放(open)となるように
設定された後段のドレインバイアス回路、8Eは入力信
号の高周波電力を直流に変換して前段の増幅用FET1
のゲートに入力させるための前段のゲートバイアス回
路、9Eは入力信号の高周波電力を直流に変換して後段
の増幅用FET2のゲートに入力させるための後段のゲ
ートバイアス回路である。前段及び後段のゲートバイア
ス回路8E,9Eにおいては、前段及び後段の増幅用F
ET1,2のゲートにそれぞれ最適な電圧が印加される
ように抵抗分割によりゲートバイアス電圧を得ている。
FIG. 13 shows a conventional example of a two-stage power amplifier device having a gate bias circuit formed on a compound semiconductor such as gallium arsenide (GaAs) used in a mobile phone. In FIG. 13, reference numeral 1 denotes a source-grounded front-stage amplification F that serves as a front-stage power amplification circuit.
ET, 2 are FETs for amplification in the latter stage of the source grounded to be the power amplification circuit in the latter stage, and 3 is, for example, 5 of the high frequency power of the input signal.
An input matching circuit for converting an impedance of 0Ω into an optimum impedance for the amplification FET 1 in the preceding stage, and 4 is an interstage for converting the impedance of the high frequency power output from the amplification FET 1 in the preceding stage into the optimum impedance for the amplification FET 2 in the subsequent stage. Matching circuit, 5 is a post-stage amplification F
An output matching circuit for converting the impedance of the high frequency power output from the ET2 into the impedance of the antenna side wiring, for example, 50Ω, 6 is a high frequency power so that the drain voltage of the amplification FET1 in the preceding stage is not affected by the high frequency power of the input signal. The drain bias circuit in the front stage set to be open (open), 7 is the FE for amplification in the rear stage
The drain bias circuit of the latter stage is set so that the drain voltage of T2 is opened in high frequency so as not to be affected by the high frequency power of the input signal, and 8E converts the high frequency power of the input signal into direct current. FET1 for amplification in the previous stage
The gate bias circuit in the front stage for inputting the high frequency power of the input signal into a direct current and input to the gate of the amplification FET 2 in the rear stage is input to the gate bias circuit in the front stage. In the gate bias circuits 8E and 9E in the front and rear stages, the amplification F in the front and rear stages is used.
The gate bias voltage is obtained by resistance division so that optimum voltages are applied to the gates of ET1 and ET2, respectively.

【0004】図14は、前記2段構成の電力増幅回路装
置における動作電流及び利得の温度依存性を示してお
り、図14から電力増幅回路装置の周囲温度が変化する
と動作電流が変化し、これに伴って利得も変化してしま
うことが分かる。電力増幅回路装置の温度依存性を考慮
することなく、電力増幅回路装置を例えば携帯電話機に
使用すると、気温が低い場合と高い場合との間で送信電
力に差が生じてしまい、携帯電話機として十分な性能を
発揮できない場合がある。
FIG. 14 shows the temperature dependence of the operating current and the gain in the power amplifier circuit device of the two-stage configuration. From FIG. 14, the operating current changes when the ambient temperature of the power amplifier circuit device changes. It can be seen that the gain also changes with. If the power amplification circuit device is used in, for example, a mobile phone without considering the temperature dependence of the power amplification circuit device, a difference occurs in transmission power between when the temperature is low and when the temperature is high. It may not be possible to achieve good performance.

【0005】電力増幅回路装置の温度依存性を補償する
ためには、温度に応じてFETのゲートバイアス電圧を
制御すればよいが、図13に示した前段側及び後段側の
ゲートバイアス回路8E,9Eにおいては、抵抗分割に
より前段及び後段の増幅用FET1,2にゲートバイア
ス電圧を与えているので、ゲートバイアス電圧は温度変
化の影響を殆ど受けない。
In order to compensate the temperature dependence of the power amplifier circuit device, the gate bias voltage of the FET may be controlled according to the temperature, but the gate bias circuits 8E and 8E on the front and rear stages shown in FIG. In 9E, since the gate bias voltage is applied to the amplification FETs 1 and 2 in the front stage and the rear stage by resistance division, the gate bias voltage is hardly affected by the temperature change.

【0006】そこで、図15に示すようなサーミスタを
用いた温度補償回路を図13に示す前段及び後段のゲー
トバイアス回路8E,9Eのゲート電圧Vg1,Vg2に接
続して、前段及び後段の増幅用FET1,2のゲートバ
イアス電圧を制御している。すなわち、図15に示す温
度補償回路は、温度上昇と共に動作電流が減少するFE
Tを用いた増幅回路の場合であり、温度が上昇すると動
作電流が低下するので、出力されるゲート電圧Vg が上
昇する。これにより、増幅回路における動作電流が使用
温度範囲において殆ど変化しなくなる。
Therefore, a temperature compensating circuit using a thermistor as shown in FIG. 15 is connected to the gate voltages V g1 and V g2 of the front and rear gate bias circuits 8E and 9E shown in FIG. The gate bias voltages of the amplification FETs 1 and 2 are controlled. That is, the temperature compensating circuit shown in FIG. 15 has an FE in which the operating current decreases as the temperature rises.
In the case of an amplifier circuit using T, the operating current decreases as the temperature rises, so the output gate voltage V g rises. As a result, the operating current in the amplifier circuit hardly changes in the operating temperature range.

【0007】図16は前記の温度補償回路を備えた携帯
電話機の送信部のブロック図であって、図16におい
て、10Cは図13に示した2段増幅型の電力増幅回
路、11は図15に示した温度補償回路、12は音声信
号の周波数を送信周波数に変換するアップコンバータ、
13はアップコンバータ12からの出力を増幅する前段
アンプ、14は電力増幅回路10Cから出力される高周
波電力が逆方向に流れないようにするアイソレータ、1
5は送信側と出力側とを切替えるRFスイッチ、16は
所定周波数の高周波電力のみを通過させるフィルター、
17は送信信号の出力及び受信信号の入力を行なうアン
テナである。
FIG. 16 is a block diagram of a transmitter of a portable telephone equipped with the temperature compensation circuit described above. In FIG. 16, 10C is a two-stage amplification type power amplification circuit shown in FIG. The temperature compensating circuit shown in 12 is an up converter for converting the frequency of the audio signal into the transmission frequency,
Reference numeral 13 is a pre-stage amplifier that amplifies the output from the up-converter 12, 14 is an isolator that prevents the high-frequency power output from the power amplification circuit 10C from flowing in the opposite direction, 1
Reference numeral 5 is an RF switch for switching between the transmission side and the output side, 16 is a filter for passing only high frequency power of a predetermined frequency,
Reference numeral 17 denotes an antenna that outputs a transmission signal and inputs a reception signal.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図16に示
すように、温度補償回路11を電力増幅回路10Cに接
続すると、温度補償回路11が大きなスペースを必要と
するため、電力増幅回路10Cと温度補償回路11とか
らなる電力増幅装置の面積が大きくなり、これに伴っ
て、携帯型通信機器の小型化が妨げられると共に、温度
補償回路11の分だけ携帯型通信機器のコスト高を招く
という問題がある。
However, when the temperature compensating circuit 11 is connected to the power amplifying circuit 10C as shown in FIG. 16, the temperature compensating circuit 11 requires a large space. The area of the power amplification device including the compensating circuit 11 becomes large, which hinders downsizing of the portable communication device and causes the cost increase of the portable communication device by the temperature compensating circuit 11. There is.

【0009】前記に鑑み、本発明は、温度補償回路を備
えることなく温度補償が可能な電力増幅装置を実現し、
これにより、電力増幅装置ひいては携帯型通信機器の小
型化及び低コスト化を図ることを目的とする。
In view of the above, the present invention realizes a power amplification device capable of temperature compensation without including a temperature compensation circuit,
Accordingly, it is an object of the present invention to reduce the size and cost of the power amplification device and thus the portable communication device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明は、分割された複数の抵抗よりなるゲートバ
イアス回路のうちの一部の抵抗を温度補償用FETに置
き換えると共に、増幅用FETの温度特性と温度補償用
FETの温度特性とを互いに逆特性にするものである。
In order to achieve the above object, the present invention replaces a part of the resistance of a gate bias circuit composed of a plurality of divided resistances with a temperature compensating FET, and at the same time, for amplification. The temperature characteristic of the FET and the temperature characteristic of the temperature compensating FET are made opposite to each other.

【0011】具体的に請求項1の発明が講じた解決手段
は、携帯型通信機器における電力増幅装置を、化合物半
導体基板上に形成されており入力された高周波電力を増
幅する増幅用FETと、抵抗と化合物半導体基板上に形
成された温度補償用FETとからなる直列回路とを備
え、前記増幅用FETのゲートの該増幅用FETが形成
されている化合物半導体基板に対する結晶方位と、前記
温度補償用FETのゲートの該温度補償用FETが形成
されている化合物半導体基板に対する結晶方位とは、前
記増幅用FETの温度特性と前記温度補償用FETの温
度特性とが互いに逆特性になるように設定されており、
前記直列回路の一端は電圧電源に接続されていると共
に、前記直列回路の他端は接地されており、前記直列回
路における前記抵抗と前記温度補償用FETとの接続点
は前記増幅用FETのゲートに接続されている構成とす
るものである。
Specifically, a solution means taken by the invention of claim 1 is a power amplifying device for a portable communication device, which is formed on a compound semiconductor substrate and has an amplifying FET for amplifying inputted high frequency power. A series circuit including a resistor and a temperature compensating FET formed on the compound semiconductor substrate, and a crystal orientation of a gate of the amplifying FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the amplifying FET is formed, and the temperature compensating The crystal orientation of the gate of the temperature-compensating FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the temperature-compensating FET is formed is set so that the temperature characteristic of the amplifying FET and the temperature characteristic of the temperature-compensating FET are opposite to each other. Has been done,
One end of the series circuit is connected to a voltage power source and the other end of the series circuit is grounded, and the connection point between the resistance and the temperature compensation FET in the series circuit is the gate of the amplification FET. It is configured to be connected to.

【0012】請求項1の構成により、抵抗と温度補償用
FETとからなる直列回路の一端は電圧電源に接続され
ていると共に他端は接地されており、直列回路における
抵抗と温度補償用FETとの接続点は増幅用FETのゲ
ートに接続されているため、直列回路は抵抗分割のゲー
トバイアス回路となる。また、増幅用FETのゲートの
結晶方位と温度補償用FETのゲートの結晶方位とは、
増幅用FETの温度特性と温度補償用FETの温度特性
とが互いに逆特性になるように設定されているため、温
度が上昇して増幅用FETの動作電流が増加しようとす
る場合には、温度補償用FETの動作電流が減少して増
幅用FETの動作電流の増加を抑制し、温度が降下して
増幅用FETの動作電流が減少しようとする場合には、
温度補償用FETの動作電流が増加して増幅用FETの
動作電流の減少を抑制するので、増幅用FETの動作電
流の温度による変化量は少なくなる。
According to the structure of claim 1, one end of the series circuit composed of the resistance and the temperature compensation FET is connected to the voltage power supply and the other end is grounded, and the resistance and the temperature compensation FET in the series circuit are connected to each other. Since the connection point of is connected to the gate of the amplification FET, the series circuit becomes a resistance-divided gate bias circuit. The crystal orientation of the gate of the amplification FET and the crystal orientation of the gate of the temperature compensation FET are
Since the temperature characteristic of the amplifying FET and the temperature characteristic of the temperature compensating FET are set to be opposite to each other, when the temperature rises and the operating current of the amplifying FET is about to increase, When the operating current of the compensating FET is reduced to suppress the increase of the operating current of the amplifying FET, and the temperature is lowered to try to reduce the operating current of the amplifying FET,
Since the operating current of the temperature compensating FET increases and the decrease of the operating current of the amplifying FET is suppressed, the change amount of the operating current of the amplifying FET due to the temperature decreases.

【0013】請求項2の発明は、請求項1の構成に、前
記増幅用FETと前記温度補償用FETとは同一の化合
物半導体基板上に形成されているという構成を付加する
ものである。
According to a second aspect of the present invention, the amplification FET and the temperature compensation FET are formed on the same compound semiconductor substrate in addition to the structure of the first aspect.

【0014】請求項3の発明は、請求項1又は2の構成
に、前記増幅用FETの相互コンダクタンスは前記温度
補償用FETの相互コンダクタンスよりも高いという構
成を付加するものである。
According to a third aspect of the present invention, in addition to the configuration of the first or second aspect, a configuration in which the transconductance of the amplification FET is higher than that of the temperature compensation FET is added.

【0015】請求項4の発明が講じた解決手段は、入力
される高周波電力を増幅する2段構成の電力増幅装置を
有する携帯型通信機器を対象とし、前記2段構成の電力
増幅装置を構成する前段の電力増幅手段及び後段の電力
増幅手段のうちの少なくとも1つの電力増幅手段は、化
合物半導体基板上に形成されており入力された高周波電
力を増幅する増幅用FETと、抵抗と化合物半導体基板
上に形成された温度補償用FETとからなる直列回路と
を備え、前記増幅用FETのゲートの該増幅用FETが
形成されている化合物半導体基板に対する結晶方位と、
前記温度補償用FETのゲートの該温度補償用FETが
形成されている化合物半導体基板に対する結晶方位と
は、前記増幅用FETの温度特性と前記温度補償用FE
Tの温度特性とが互いに逆特性になるように設定されて
おり、前記直列回路の一端は電圧電源に接続されている
と共に、前記直列回路の他端は接地されており、前記直
列回路における前記抵抗と前記温度補償用FETとの接
続点は前記増幅用FETのゲートに接続されている構成
とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a solving means for a portable communication device having a two-stage power amplifying device for amplifying input high frequency power, the two-stage power amplifying device being configured. At least one power amplifying means of the former power amplifying means and the latter power amplifying means is formed on the compound semiconductor substrate and has an amplifying FET for amplifying the inputted high frequency power, a resistor and the compound semiconductor substrate. A series circuit including a temperature compensation FET formed above, and a crystal orientation of a gate of the amplification FET with respect to a compound semiconductor substrate on which the amplification FET is formed,
The crystal orientation of the gate of the temperature compensating FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the temperature compensating FET is formed is the temperature characteristic of the amplifying FET and the temperature compensating FE.
The temperature characteristics of T are set to be opposite to each other, one end of the series circuit is connected to a voltage power supply, and the other end of the series circuit is grounded. The connection point between the resistor and the temperature compensation FET is connected to the gate of the amplification FET.

【0016】請求項5の発明は、請求項4の構成に、前
記増幅用FETと前記温度補償用FETとは同一の化合
物半導体基板上に形成されているという構成を付加する
ものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the fourth aspect, the amplification FET and the temperature compensation FET are formed on the same compound semiconductor substrate.

【0017】請求項6の発明は、請求項4又は5の構成
に、前記増幅用FETの相互コンダクタンスは前記温度
補償用FETの相互コンダクタンスよりも高いという構
成を付加するものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the fourth or fifth aspect, a configuration in which the transconductance of the amplification FET is higher than the transconductance of the temperature compensation FET is added.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係る携
帯型通信機における電力増幅装置及び携帯型通信機につ
いて説明するが、その前提として、各実施形態に共通し
て用いられる電力増幅回路について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A power amplifier device and a portable communication device in a portable communication device according to an embodiment of the present invention will be described below. As a premise, a power amplifier circuit commonly used in each embodiment. Will be described.

【0019】図1は、各実施形態に共通して用いられる
第1の電力増幅回路を示しており、図1においては、図
13に基づき説明した電力増幅装置と同様の回路につい
ては同一の符号を付すことにより説明を省略する。
FIG. 1 shows a first power amplifier circuit commonly used in the respective embodiments. In FIG. 1, the same reference numerals are used for the circuits similar to those of the power amplifier device described with reference to FIG. The description is omitted by adding.

【0020】第1の電力増幅回路の特徴は、図2(a)
に示すような前段の第1のゲートバイアス回路8A及び
後段の第1のゲートバイアス回路9A(図示は省略して
いる。)を備えている。後段の第1のゲートバイアス回
路9Aは前段の第1のゲートバイアス回路8Aと同様の
回路構成を有しているので、以下においては、前段の第
1のゲートバイアス回路8Aについてのみ説明する。
The characteristic of the first power amplifier circuit is shown in FIG.
The first gate bias circuit 8A in the front stage and the first gate bias circuit 9A in the rear stage (not shown) are provided as shown in FIG. The first gate bias circuit 9A in the subsequent stage has the same circuit configuration as the first gate bias circuit 8A in the previous stage, and therefore only the first gate bias circuit 8A in the previous stage will be described below.

【0021】図2(a)に示すように、第1のゲートバ
イアス回路8Aは、第1の抵抗21と、第2の抵抗22
と、温度補償用FET23とが直列に接続されてなるバ
イアス直列回路を有している。バイアス直列回路の一端
側となる第1の抵抗21の一端は接地されていると共
に、第1の抵抗21と並列に接地側キャパシタ24が接
続されている。バイアス直列回路の他端側となる温度補
償用FET23のソースはゲート電圧電源Vg に接続さ
れていると共に電源側キャパシタ25を介して接地され
ている。接地側キャパシタ24及び電源側キャパシタ2
5は高周波成分を逃がすパスコンデンサとしての機能を
有している。
As shown in FIG. 2 (a), the first gate bias circuit 8A includes a first resistor 21 and a second resistor 22.
And a temperature compensation FET 23 are connected in series to form a bias series circuit. One end of the first resistor 21, which is one end of the bias series circuit, is grounded, and the grounding side capacitor 24 is connected in parallel with the first resistor 21. The source of the temperature compensating FET 23, which is the other end of the bias series circuit, is connected to the gate voltage power supply V g and is also grounded via the power supply side capacitor 25. Ground side capacitor 24 and power source side capacitor 2
Reference numeral 5 has a function as a pass capacitor that releases high frequency components.

【0022】第2の抵抗22と温度補償用FET23と
の接続点26は前段の増幅用FET1のゲートに接続さ
れており、接続点26は前段の増幅用FET1にゲート
電圧Vgg1 を与える。温度補償用FET23のしきい値
電圧は前段の増幅用FET1のしきい値よりも大きく設
定されていると共に、温度補償用FET23は温度によ
って動作電流が変化するので、該温度補償用FET23
は温度補償用抵抗として働く。
The connection point 26 between the second resistor 22 and the temperature compensating FET 23 is connected to the gate of the amplification FET 1 in the preceding stage, and the connection point 26 gives the gate voltage V gg1 to the amplification FET 1 in the preceding stage. The threshold voltage of the temperature compensating FET 23 is set higher than the threshold value of the amplifying FET 1 in the previous stage, and the operating current of the temperature compensating FET 23 changes depending on the temperature.
Acts as a temperature compensating resistor.

【0023】図2(b)は、第2の電力増幅回路に用い
られる第2のゲートバイアス回路8Bの回路構成を示し
ている。第2のゲートバイアス回路8Bは第1のゲート
バイアス回路8Aと異なり、バイアス直列回路の一端側
となる第1の抵抗21の一端がゲート電圧電源Vg に接
続されていると共に、第1の抵抗21と並列に電源側キ
ャパシタ25が接続されている。バイアス直列回路の他
端側となる温度補償用FET23のソースは直接に接地
されている。尚、第2の抵抗22と温度補償用FET2
3との接続点26が増幅用FETにゲート電圧Vgg1
与える点は第1のゲートバイアス回路8Aと同様であ
る。
FIG. 2B shows the circuit configuration of the second gate bias circuit 8B used in the second power amplifier circuit. The second gate bias circuit 8B is different from the first gate bias circuit 8A in that one end of the first resistor 21, which is one end side of the bias series circuit, is connected to the gate voltage power supply V g and the first resistor is also connected. A power supply side capacitor 25 is connected in parallel with the capacitor 21. The source of the temperature compensating FET 23 on the other end side of the bias series circuit is directly grounded. The second resistor 22 and the temperature compensating FET 2
Similar to the first gate bias circuit 8A, the connection point 26 with 3 gives a gate voltage Vgg1 to the amplification FET.

【0024】図2(c)は、第3の電力増幅回路に用い
られる第3のゲートバイアス回路8Cの回路構成を示し
ている。第3のゲートバイアス回路8Cは第1のゲート
バイアス回路8Aから第1の抵抗21を除いた回路構成
であって、第2の抵抗22の一端は直接に接地されてい
ると共に接地側キャパシタ24を介して接地されてい
る。
FIG. 2C shows a circuit configuration of the third gate bias circuit 8C used in the third power amplifier circuit. The third gate bias circuit 8C has a circuit configuration in which the first resistor 21 is removed from the first gate bias circuit 8A, one end of the second resistor 22 is directly grounded, and the grounding side capacitor 24 is connected. Grounded through.

【0025】図2(d)は、第4の電力増幅回路に用い
られる第4のゲートバイアス回路8Dの回路構成を示し
ている。第4のゲートバイアス回路8Dは第2のゲート
バイアス回路8Bから第1の抵抗21を除いた回路構成
であって、第2の抵抗22の一端はゲート電圧電源Vg
に接続されていると共に電源側キャパシタ25を介して
接地されている。
FIG. 2D shows the circuit configuration of the fourth gate bias circuit 8D used in the fourth power amplifier circuit. The fourth gate bias circuit 8D has a circuit configuration in which the first resistor 21 is removed from the second gate bias circuit 8B, and one end of the second resistor 22 has a gate voltage power supply V g.
And is grounded via the power supply side capacitor 25.

【0026】以下に説明する第1〜第4の実施形態にお
いては、第1のゲートバイアス回路8Aを用いる場合に
ついて説明するが、第1のゲートバイアス回路8Aに代
えて、第2〜第4のゲートバイアス回路8B,8C,8
Dを用いてもよい。
In the first to fourth embodiments described below, the case of using the first gate bias circuit 8A will be described. However, instead of the first gate bias circuit 8A, the second to fourth embodiments are used. Gate bias circuits 8B, 8C, 8
You may use D.

【0027】(第1の実施形態)図3は本発明の第1の
実施形態に係る携帯型通信機器における電力増幅装置で
あるMCM(マルチチップモジュール)の平面構造を示
している。図3に示すように、プリント基板30の上に
は、前段の増幅用FET1となる第1のFET31、後
段の増幅用FET2となる第2のFET32、入力マッ
チング回路3、段間マッチング回路4、出力マッチング
回路5、前段のドレインバイアス回路6、後段のドレイ
ンバイアス回路7、前段のゲートバイアス回路8A及び
後段のゲートバイアス回路9Aが搭載されている。前段
のドレインバイアス回路6及び後段のドレインバイアス
回路7は、図示を省略しているが、それぞれ配線パター
ンとチップキャパシタとから構成されている。また、入
力マッチング回路3、段間マッチング回路4及び出力マ
ッチング回路5は、図示を省略しているが、それぞれ配
線パターンとチップキャパシタとチップ抵抗とから構成
されている。
(First Embodiment) FIG. 3 shows a planar structure of an MCM (multi-chip module) which is a power amplifying device in a portable communication device according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, on the printed circuit board 30, a first FET 31 serving as a front-stage amplification FET 1, a second FET 32 serving as a rear-stage amplification FET 2, an input matching circuit 3, an inter-stage matching circuit 4, An output matching circuit 5, a front stage drain bias circuit 6, a rear stage drain bias circuit 7, a front stage gate bias circuit 8A and a rear stage gate bias circuit 9A are mounted. Although not shown, the drain bias circuit 6 at the front stage and the drain bias circuit 7 at the rear stage are each configured by a wiring pattern and a chip capacitor. The input matching circuit 3, the inter-stage matching circuit 4, and the output matching circuit 5 are each composed of a wiring pattern, a chip capacitor, and a chip resistor, though not shown.

【0028】また、プリント基板30の上には、入力マ
ッチング回路3の入力パッド3a、該入力パッド3aと
入力マッチング回路3とを接続する配線パターン3b、
出力マッチング回路5の出力パッド5a、該出力パッド
5aと出力マッチング回路5とを接続する配線パターン
5b、前段側ドレインバイアス回路6のドレインパッド
6a、該ドレインパッド6aと前段側ドレインバイアス
回路6とを接続する配線パッド6b、後段側ドレインバ
イアス回路7のドレインパッド7a、該ドレインパッド
7aと後段側ドレインバイアス回路7とを接続する配線
パターン7bが形成されている。
Further, on the printed circuit board 30, the input pad 3a of the input matching circuit 3, the wiring pattern 3b connecting the input pad 3a and the input matching circuit 3,
The output pad 5a of the output matching circuit 5, the wiring pattern 5b connecting the output pad 5a and the output matching circuit 5, the drain pad 6a of the pre-stage side drain bias circuit 6, the drain pad 6a and the pre-stage side drain bias circuit 6 are provided. A wiring pad 6b to be connected, a drain pad 7a of the rear side drain bias circuit 7 and a wiring pattern 7b for connecting the drain pad 7a and the rear side drain bias circuit 7 are formed.

【0029】第1の実施形態の特徴として、プリント基
板30の上には、第1のゲートバイアス回路8Aを構成
する、ゲート電圧電源Vg となるゲートパッド8a、接
地となるグランドパッド8b、第1の抵抗21となる第
1のチップ抵抗8c、第2の抵抗22となる第2のチッ
プ抵抗8d、温度補償用FET23となる第3のFET
33、及びこれらを接続する配線パターン8eが形成さ
れていると共に、後段の第1のゲートバイアス回路9A
を構成する、ゲートパッド9a、グランドパッド9b、
第1のチップ抵抗9c、第2のチップ抵抗9d、第4の
FET34及び配線パターン8eが形成されている。
尚、接地側キャパシタ24及び電源側キャパシタ25は
直流的には影響を及ぼさないので図面を簡略化するため
に図示を省略している。
As a feature of the first embodiment, on the printed circuit board 30, a gate pad 8a serving as a gate voltage power source V g , a ground pad 8b serving as a ground, which constitutes the first gate bias circuit 8A, The first chip resistor 8c serving as the first resistor 21, the second chip resistor 8d serving as the second resistor 22, and the third FET serving as the temperature compensating FET 23.
33 and a wiring pattern 8e for connecting them, and the first gate bias circuit 9A in the subsequent stage.
, The gate pad 9a, the ground pad 9b,
A first chip resistor 9c, a second chip resistor 9d, a fourth FET 34 and a wiring pattern 8e are formed.
The ground-side capacitor 24 and the power-source-side capacitor 25 do not affect the direct current, and therefore are not shown in order to simplify the drawing.

【0030】前記の第1〜第4のFET31〜34は、
図4に示すGaAsよりなる半絶縁性の化合物半導体基
板上に個別に形成されたものである。化合物半導体基板
は、面方位が(100)面であって、オリエンテーショ
ンフラット(以下、オリフラと略称する。)の方位が
[0 -1 -1]方向である。
The above-mentioned first to fourth FETs 31 to 34 are
It is individually formed on the semi-insulating compound semiconductor substrate made of GaAs shown in FIG. The compound semiconductor substrate has a plane orientation of (100) and an orientation flat (hereinafter, abbreviated as orientation flat) orientation is a [0 -1 -1] direction.

【0031】GaAsはSi(シリコン)と異なり2つ
の元素から構成されているので、Ga及びAsは弱い極
性(+及び−)を帯びている。このため、同じ大きさの
FETを同じ条件で且つ同一のGaAs基板上に作製し
ても、ゲート方位が異なると、ピエゾ効果によりgmや
しきい値が異なることが知られている(例えば文献 :P.
Asbeck etal. "Piezoelectric Effects in GaAs FET's
and Their Role in Orientation-Dependent Device Cha
racteristics" IEEE Transactions on Electron Devic
es, Vol.ED-31, No.10, pp.1377-1380,1984 参照)。
このため、FETの温度特性もゲート方位によって異な
る。
Since GaAs is composed of two elements unlike Si (silicon), Ga and As have weak polarities (+ and-). For this reason, it is known that even if FETs of the same size are manufactured under the same conditions and on the same GaAs substrate, gm and a threshold value differ due to the piezo effect when the gate orientation is different (for example, reference: P.
Asbeck et al. "Piezoelectric Effects in GaAs FET's
and Their Role in Orientation-Dependent Device Cha
racteristics "IEEE Transactions on Electron Devic
es, Vol.ED-31, No.10, pp.1377-1380, 1984).
Therefore, the temperature characteristic of the FET also differs depending on the gate orientation.

【0032】図6はオリフラに対してゲート方位が0°
([0 -1 -1]方向)であるFET及びゲート方位が9
0°([0 -1 1]方向)であるFETの動作電流の温
度依存性の一例を示している。図6からゲート方位が0
°のFETの動作電流は温度の上昇に伴って増加する
が、ゲート方位が90°のFETの動作電流は温度の上
昇に伴って減少することが分かる。
In FIG. 6, the gate orientation is 0 ° with respect to the orientation flat.
([0 -1 -1] direction) and the gate orientation is 9
An example of the temperature dependence of the operating current of the FET that is 0 ° ([0 −1 1] direction) is shown. From Figure 6, the gate direction is 0
It can be seen that the operating current of the FET of 90 ° increases as the temperature rises, but the operating current of the FET of which the gate orientation is 90 ° decreases as the temperature rises.

【0033】図7はゲート方位が0°であるFET及び
ゲート方位が90°であるFETの単位ゲート幅当たり
のgmのゲート電圧依存性の一例を示している。図7よ
り、ゲート電圧が同じ場合には、単位ゲート幅当たりの
gm(相互コンダクタンス)は、ゲート方位が90°で
あるFETの方がゲート方位が0°であるFETよりも
大きいことが分かる。
FIG. 7 shows an example of the gate voltage dependence of gm per unit gate width of an FET having a gate orientation of 0 ° and an FET having a gate orientation of 90 °. From FIG. 7, it can be seen that, when the gate voltage is the same, the gm (transconductance) per unit gate width is larger in the FET having a gate orientation of 90 ° than in the FET having a gate orientation of 0 °.

【0034】図8はFETの単位ゲート幅当たりのgm
のゲート方位依存性を示している。図8から分かるよう
に、ゲート方位が0°から90°に変化するのに伴って
gmは大きくなる。
FIG. 8 shows gm per unit gate width of FET.
Shows the gate orientation dependency of. As can be seen from FIG. 8, gm increases as the gate orientation changes from 0 ° to 90 °.

【0035】再び、図4を参照しながら説明する。増幅
用FETである第1のFET31及び第2のFET32
のゲート方位をオリフラに対して90°に設定し、温度
補償用FETである第3のFET33及び第4のFET
34のゲート方位をオリフラに対して0°に設定する。
第1のゲートバイアス回路8Aの第3のFET33及び
第2のゲートバイアス回路9Aの第4のFET34は、
いずれも、図2(a)に示すように、ソースとゲートと
を直接に接続した自己バイアス型とし、ソースドレイン
間の抵抗(図1におけるR3 、R6 )が500Ω〜2k
Ω程度になるようにしておく。そして、図1に示す第1
及び第2のゲートバイアス回路8A,8Bにおいて抵抗
1 、R2 及び抵抗R4 ,R5 を適当に設定して、第1
のFET31及び第2のFET32に対する所望のゲー
トバイアスが得られるようにする。
The description will be made again with reference to FIG. A first FET 31 and a second FET 32 that are amplification FETs
Set the gate azimuth of the device to 90 ° with respect to the orientation flat, and the third FET 33 and the fourth FET which are temperature compensation FETs.
The gate azimuth of 34 is set to 0 ° with respect to the orientation flat.
The third FET 33 of the first gate bias circuit 8A and the fourth FET 34 of the second gate bias circuit 9A are
In both cases, as shown in FIG. 2A, the source and the gate are directly connected to each other, and the self-bias type is used, and the resistance between the source and the drain (R 3 , R 6 in FIG. 1) is 500Ω to 2k.
Set to about Ω. Then, the first shown in FIG.
And the resistors R 1 and R 2 and the resistors R 4 and R 5 in the second gate bias circuits 8A and 8B are set appropriately,
So that a desired gate bias for the FET 31 and the second FET 32 can be obtained.

【0036】前述したように、温度補償用FETとなる
第3及び第4のFET33,34と、増幅用FETとな
る第1及び第2のFET31,32とはゲート方位が互
いに90°異なるので、温度の上昇に伴って、第1及び
第2のFET31,32の動作電流は上昇しようとする
が、第3及び第4のFET33,34の動作電流は減少
しようとする。このため、図1におけるVgg1 ,Vgg2
の各電位は温度の上昇に伴って低くなる。
As described above, the gate orientations of the third and fourth FETs 33 and 34, which are FETs for temperature compensation, and the first and second FETs 31 and 32, which are FETs for amplification, are different from each other by 90 °. As the temperature rises, the operating currents of the first and second FETs 31 and 32 tend to increase, but the operating currents of the third and fourth FETs 33 and 34 tend to decrease. Therefore, V gg1 and V gg2 in FIG.
The respective potentials of 1 become lower as the temperature rises.

【0037】図9は、前記第1の実施形態における電力
増幅装置の動作電流の温度依存性を示しており、図9か
ら分かるように、第1の増幅用FET1及び第2の増幅
用FET2よりなる電力増幅回路においては、動作電流
の温度による変化を低減することができる。
FIG. 9 shows the temperature dependence of the operating current of the power amplifying device according to the first embodiment. As can be seen from FIG. 9, the first amplifying FET 1 and the second amplifying FET 2 In such a power amplifier circuit, it is possible to reduce a change in operating current due to temperature.

【0038】尚、前記第1の実施形態とは逆に、増幅用
FETである第1のFET31及び第2のFET32の
ゲート方位をオリフラに対して0°に設定し、温度補償
用FETである第3のFET33及び第4のFET34
のゲート方位をオリフラに対して90°に設定してもよ
い。この場合にも、前記第1の実施形態と同様の原理に
より、第1の増幅用FET1及び第2の増幅用FET2
よりなる電力増幅回路における動作電流の温度による変
化を低減することができる。
Contrary to the first embodiment, the gate orientation of the first FET 31 and the second FET 32, which are amplification FETs, is set to 0 ° with respect to the orientation flat, and is a temperature compensation FET. Third FET 33 and fourth FET 34
The gate azimuth may be set to 90 ° with respect to the orientation flat. Also in this case, the first amplification FET 1 and the second amplification FET 2 are operated according to the same principle as that of the first embodiment.
The change in operating current due to temperature can be reduced.

【0039】図7及び図8に基づき説明したように、単
位ゲート幅当たりのgmは、ゲート方位が90°である
FETの方がゲート方位が0°であるFETよりも大き
いので、第1のFET31及び第2のFET32のゲー
ト方位をオリフラに対して0°に設定すると、第1のF
ET31及び第2のFET32のゲート方位をオリフラ
に対して90°に設定する場合よりも、電力増幅回路の
利得が低くなって不利である。
As described with reference to FIGS. 7 and 8, the gm per unit gate width is larger in the FET having a gate orientation of 90 ° than in the FET having a gate orientation of 0 °. If the gate orientations of the FET 31 and the second FET 32 are set to 0 ° with respect to the orientation flat, the first F
This is disadvantageous in that the gain of the power amplification circuit is lower than in the case where the gate orientations of the ET 31 and the second FET 32 are set to 90 ° with respect to the orientation flat.

【0040】従って、第1の実施形態においては、高い
利得が要求される増幅用FETである第1のFET31
及び第2のFET32のゲート方位をオリフラに対して
90°に設定し、増幅には寄与しない温度補償用FET
である第3のFET33及び第4のFET34のゲート
方位をオリフラに対して0°に設定している。
Therefore, in the first embodiment, the first FET 31 which is an amplifying FET requiring high gain is used.
Also, the gate direction of the second FET 32 is set to 90 ° with respect to the orientation flat, and the temperature compensating FET does not contribute to amplification.
The gate orientations of the third FET 33 and the fourth FET 34 are set to 0 ° with respect to the orientation flat.

【0041】以上のように、第1の実施形態によると、
ゲートバイアス回路に抵抗となる温度補償用FETを用
いると共に、該温度補償用FET及び増幅用FETのゲ
ート方位を最適化しているため、ゲートバイアス回路が
温度補償機能を有しているので、温度が変化しても動作
電流の変化が小さくなると共に、GaAsよりなる基板
上に形成された増幅用FETが本来有している高い利得
を減殺しない電力増幅装置を提供することができる。
As described above, according to the first embodiment,
Since the temperature compensating FET serving as a resistance is used in the gate bias circuit and the gate orientations of the temperature compensating FET and the amplifying FET are optimized, the temperature of the gate bias circuit has a temperature compensating function. It is possible to provide a power amplification device in which a change in the operating current is reduced even if it changes and the high gain originally possessed by the amplification FET formed on the substrate made of GaAs is not reduced.

【0042】尚、第1の実施形態においては、温度補償
用FET及び増幅用FETのゲート方位をオリフラに対
して0°及び90°になるようにそれぞれ設定したが、
FETの温度特性のゲート方位依存性はFETの作製プ
ロセスに依存する場合があるので、ゲート方位を必ずし
もオリフラに対して0°及び90°になるように設定し
なくてもよい。FETの温度特性のゲート方位依存性を
把握した上で、高いgmをもつゲート方位のFETを増
幅用FETに使用すると共に、該増幅用FETと逆の温
度特性をもつゲート方位のFETを温度補償用FETに
使用することが好ましい。
In the first embodiment, the gate directions of the temperature compensating FET and the amplifying FET are set to 0 ° and 90 ° with respect to the orientation flat, respectively.
Since the gate orientation dependency of the temperature characteristics of the FET may depend on the manufacturing process of the FET, the gate orientation does not necessarily have to be set to 0 ° and 90 ° with respect to the orientation flat. After grasping the gate orientation dependency of the temperature characteristics of the FET, a FET having a gate orientation having a high gm is used as an amplifying FET, and a FET having a gate orientation having a temperature characteristic opposite to that of the amplifying FET is temperature-compensated. It is preferable to use it for an FET.

【0043】また、第1の実施形態においては、温度補
償用FET及び増幅用FETが形成される化合物半導体
としてGaAsを用いたが、これに代えて、他の化合物
半導体、例えばInP(インジウムリン)を用いてもよ
い。
Further, in the first embodiment, GaAs is used as the compound semiconductor in which the temperature compensating FET and the amplifying FET are formed, but instead of this, another compound semiconductor such as InP (indium phosphide) is used. May be used.

【0044】(第2の実施形態)図10は本発明の第2
の実施形態に係る携帯型通信機器における電力増幅装置
であるMMIC(Microwave Monolithic IC )の平面構
造を示している。図10に示すように、GaAs基板4
0上に、前段の増幅用FET1となる第1のFET4
1、後段の増幅用FET2となる第2のFET42、入
力マッチング回路3、段間マッチング回路4、出力マッ
チング回路5、前段側ゲートバイアス回路8B及び後段
側ゲートバイアス回路9Bが形成されている。入力マッ
チング回路3、段間マッチング回路4及び出力マッチン
グ回路5は、図示を省略しているが、それぞれ配線パタ
ーンとチップキャパシタとチップ抵抗とから構成されて
いる。また、図示を省略しているが、前段及び後段のド
レインバイアス回路は、それぞれ配線パターンとチップ
キャパシタとから構成されており、ドレインパッド6
a,7aに接続されている。また、GaAs基板40上
には、ソースパッド6c,7c、第1の実施例と同様、
入力パッド3a、配線パターン3b、出力パッド5a及
び配線パターン5bが形成されている。
(Second Embodiment) FIG. 10 shows a second embodiment of the present invention.
2 shows a planar structure of an MMIC (Microwave Monolithic IC) which is a power amplification device in the portable communication device according to the embodiment. As shown in FIG. 10, the GaAs substrate 4
On the top of 0, the first FET 4 which becomes the amplification FET 1 of the previous stage
1, a second FET 42 serving as a subsequent amplification FET 2, an input matching circuit 3, an interstage matching circuit 4, an output matching circuit 5, a front stage side gate bias circuit 8B and a rear stage side gate bias circuit 9B are formed. Although not shown, the input matching circuit 3, the inter-stage matching circuit 4, and the output matching circuit 5 each include a wiring pattern, a chip capacitor, and a chip resistor. Although not shown in the drawings, the drain bias circuits in the front stage and the rear stage each include a wiring pattern and a chip capacitor, and the drain pad 6
a, 7a. Also, on the GaAs substrate 40, the source pads 6c and 7c, as in the first embodiment,
An input pad 3a, a wiring pattern 3b, an output pad 5a and a wiring pattern 5b are formed.

【0045】第2の実施形態の特徴として、GaAs基
板40の上には、第1のゲートバイアス回路8Aを構成
する、ゲート電圧電源Vg となるゲートパッド8a、第
1の抵抗21となる第1のチップ抵抗8c、第2の抵抗
22となる第2のチップ抵抗8d、温度補償用FET2
3となる第3のFET43、及びこれらを接続する配線
パターン8eが形成されていると共に、第2のゲートバ
イアス回路9Aを構成する、ゲートパッド9a、第1の
チップ抵抗9c、第2のチップ抵抗9d、第4のFET
44及び配線パターン9eが形成されている。すなわ
ち、第2の実施形態の特徴は、増幅用FETとなる第1
のFET41及び第2のFET42と、温度補償用FE
Tとなる第3のFET43及び第4のFET44が同一
のGaAs基板40の上に形成されている。尚、接地側
キャパシタ24及び電源側キャパシタ25は直流的には
影響を及ぼさないので図面を簡略化するために図示を省
略している。
A feature of the second embodiment is that, on the GaAs substrate 40, the first gate bias circuit 8A is constituted by the gate pad 8a serving as the gate voltage power supply V g and the first resistor 21 serving as the first resistor 21. 1 chip resistor 8c, 2nd chip resistor 8d to become the second resistor 22, temperature compensating FET 2
The third FET 43 serving as the third FET 3 and the wiring pattern 8e for connecting these are formed, and the gate pad 9a, the first chip resistor 9c, and the second chip resistor that configure the second gate bias circuit 9A are formed. 9d, 4th FET
44 and the wiring pattern 9e are formed. That is, the feature of the second embodiment is that the first embodiment becomes the amplification FET.
FET 41 and second FET 42, and FE for temperature compensation
The third FET 43 and the fourth FET 44, which are T, are formed on the same GaAs substrate 40. The ground-side capacitor 24 and the power-source-side capacitor 25 do not affect the direct current, and therefore are not shown in order to simplify the drawing.

【0046】第2の実施形態においても、図5に示すよ
うに、GaAs基板40は、基板面方位が(100)で
あって、オリフラの方位が[0 -1 -1]である。また、
第2の実施形態においても、増幅用FETである第1の
FET41及び第2のFET42のゲート方位をオリフ
ラに対して90°に設定し、温度補償用FETである第
3のFET43及び第4のFET44のゲート方位をオ
リフラに対して0°に設定する。第1のゲートバイアス
回路8Aの第3のFET43及び第2のゲートバイアス
回路9Aの第4のFET44は、いずれも、ソースとゲ
ートとを直接に接続した自己バイアス型とし、ソースド
レイン間の抵抗(図1におけるR3 、R6 )が500Ω
〜2kΩ程度になるようにしておく。そして、図1に示
す第1及び第2のゲートバイアス回路8A,8Bにおい
て抵抗R1 、R2 及び抵抗R4 ,R5 を適当に設定し
て、第1のFET41及び第2のFET42に対する所
望のゲートバイアスが得られるようにする。
Also in the second embodiment, as shown in FIG. 5, the GaAs substrate 40 has a substrate surface orientation of (100) and an orientation flat orientation of [0 -1 -1]. Also,
Also in the second embodiment, the gate directions of the first FET 41 and the second FET 42, which are amplification FETs, are set to 90 ° with respect to the orientation flat, and the third FET 43 and the fourth FET, which are temperature compensation FETs, are set. The gate direction of the FET 44 is set to 0 ° with respect to the orientation flat. Each of the third FET 43 of the first gate bias circuit 8A and the fourth FET 44 of the second gate bias circuit 9A is a self-bias type in which the source and the gate are directly connected, and the resistance between the source and the drain ( R 3 and R 6 in FIG. 1 is 500Ω
It should be about 2 kΩ. Then, in the first and second gate bias circuits 8A and 8B shown in FIG. 1, the resistances R 1 and R 2 and the resistances R 4 and R 5 are appropriately set to obtain the desired values for the first FET 41 and the second FET 42. So that the gate bias of is obtained.

【0047】前述したように、温度補償用FETとなる
第3及び第4のFET43,44と、増幅用FETとな
る第1及び第2のFET41,42とはゲート方位が互
いに90°異なるので、温度の上昇に伴って、第1及び
第2のFET41432の動作電流は上昇しようとする
が、第3及び第4のFET43,44の動作電流は減少
しようとする。このため、図1におけるVgg1 ,Vgg2
の各電位は温度の上昇に伴って低くなる。従って、図1
に示す第1の増幅用FET1及び第2の増幅用FET2
よりなる2段構成の電力増幅回路においては、図9に示
すように、動作電流の温度による変化を低減することが
できる。
As described above, since the third and fourth FETs 43 and 44, which are the temperature compensating FETs, and the first and second FETs 41 and 42, which are the amplifying FETs, have different gate orientations from each other by 90 °. As the temperature rises, the operating currents of the first and second FETs 41432 tend to increase, but the operating currents of the third and fourth FETs 43, 44 tend to decrease. Therefore, V gg1 and V gg2 in FIG.
The respective potentials of 1 become lower as the temperature rises. Therefore, FIG.
1st amplification FET1 and 2nd amplification FET2 shown in FIG.
In the power amplifier circuit having the two-stage configuration, the change in operating current due to temperature can be reduced as shown in FIG.

【0048】また、第2の実施形態においては、増幅用
FETである第1のFET31及び第2のFET32の
ゲート方位をオリフラに対して90°に設定し、温度補
償用FETである第3のFET33及び第4のFET3
4のゲート方位をオリフラに対して0°に設定している
理由は第1の実施形態と同様である。
In the second embodiment, the gate directions of the first FET 31 and the second FET 32, which are amplification FETs, are set to 90 ° with respect to the orientation flat, and the third FET, which is a temperature compensation FET, is set. FET 33 and fourth FET 3
The reason why the gate azimuth of No. 4 is set to 0 ° with respect to the orientation flat is the same as in the first embodiment.

【0049】以上のように、第2の実施形態によると、
ゲートバイアス回路に抵抗となる温度補償用FETを用
いると共に、該温度補償用FETと増幅用FETとのゲ
ート方位を最適化しているため、ゲートバイアス回路が
温度補償機能を有しているので、温度が変化しても動作
電流の変化が小さくなると共に、GaAsよりなる基板
上に形成された増幅用FETが本来有している高い利得
を減殺しない電力増幅装置を提供することができる。
As described above, according to the second embodiment,
Since the temperature compensating FET serving as a resistance is used in the gate bias circuit and the gate directions of the temperature compensating FET and the amplifying FET are optimized, the gate bias circuit has a temperature compensating function. It is possible to provide a power amplifying device in which the change in the operating current is reduced even when is changed, and the high gain originally possessed by the amplifying FET formed on the substrate made of GaAs is not reduced.

【0050】尚、第2の実施形態においては、温度補償
用FET及び増幅用FETのゲート方位をオリフラに対
して0°及び90°になるように設定したが、FETの
温度特性のゲート方位依存性はFETの作製プロセスに
依存する場合があるので、ゲート方位を必ずしもオリフ
ラに対して0°及び90°になるように設定しなくても
よい。FETの温度特性のゲート方位依存性を把握した
上で、高いgmをもつゲート方位のFETを増幅用FE
Tに使用すると共に、該増幅用FETと逆の温度特性を
もつゲート方位のFETを温度補償用FETに使用する
ことが好ましい。
In the second embodiment, the gate orientations of the temperature compensating FET and the amplifying FET are set to 0 ° and 90 ° with respect to the orientation flat, but the temperature characteristic of the FET depends on the gate orientation. The gate orientation may not necessarily be set to 0 ° and 90 ° with respect to the orientation flat because the characteristics may depend on the FET manufacturing process. After grasping the gate orientation dependence of the temperature characteristics of the FET, an FET with a gate orientation having a high gm is used for amplification FE.
It is preferable to use a FET having a gate direction having a temperature characteristic opposite to that of the amplifying FET as the temperature compensating FET, as well as being used for T.

【0051】また、第2の実施形態においては、温度補
償用FET及び増幅用FETが形成される化合物半導体
としてGaAsを用いたが、これに代えて、他の化合物
半導体、例えばInP(インジウムリン)を用いてもよ
い。
In the second embodiment, GaAs is used as the compound semiconductor in which the temperature compensating FET and the amplifying FET are formed, but instead of this, another compound semiconductor such as InP (indium phosphide) is used. May be used.

【0052】また、一般に化合物半導体基板は高価であ
るため、部品コストを下げるためには化合物半導体チッ
プの面積をできるだけ小さくすることが望ましい。従っ
て、第2の実施形態に代えて、増幅用FETである第1
及び第2のFET41,42と、温度補償用FETであ
る第3及び第4のFET43,44とを同一の化合物半
導体基板上に形成し、その他の抵抗やマッチング回路等
を前記の化合物半導体基板とは異なる基板上に形成して
もよい。
Further, since the compound semiconductor substrate is generally expensive, it is desirable to make the area of the compound semiconductor chip as small as possible in order to reduce the cost of parts. Therefore, instead of the second embodiment, the first FET that is an amplification FET is used.
And the second FETs 41 and 42 and the third and fourth FETs 43 and 44 which are temperature compensating FETs are formed on the same compound semiconductor substrate, and other resistors, matching circuits and the like are formed on the compound semiconductor substrate. May be formed on different substrates.

【0053】(第3の実施形態)図11は本発明の第3
の実施形態に係る携帯型通信機器である携帯電話機の送
信部のブロック図であって、図11において、10Aは
第1の実施形態に係る送信増幅器(MCM)、12は音
声信号の周波数を送信増幅器10Aの増幅用FETに適
した高い周波数に変換するアップコンバータ、13はア
ップコンバータ12からの出力を増幅する前段アンプ、
14は送信増幅器10Aから出力される高周波電力が逆
方向に流れないようにするアイソレータ、15は送信側
ブロックと出力側ブロックとを切替えるRFスイッチ、
16は所定の周波数の高周波電力のみを通過させるフィ
ルター、17は送信信号の出力及び受信信号の入力を行
なうアンテナである。
(Third Embodiment) FIG. 11 shows a third embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a block diagram of a transmission unit of a mobile phone which is a portable communication device according to the embodiment of the present invention. In FIG. 11, 10A is a transmission amplifier (MCM) according to the first embodiment, and 12 is a frequency of an audio signal. An up-converter for converting to a high frequency suitable for the amplification FET of the amplifier 10A, a pre-amplifier 13 for amplifying the output from the up-converter 12,
14 is an isolator for preventing the high frequency power output from the transmission amplifier 10A from flowing in the opposite direction, 15 is an RF switch for switching between the transmission side block and the output side block,
Reference numeral 16 is a filter that passes only high-frequency power of a predetermined frequency, and 17 is an antenna that outputs a transmission signal and inputs a reception signal.

【0054】第3の実施形態に係る携帯電話機が図16
に基づき説明した従来の携帯電話機と異なるのは、送信
用増幅器10Aが温度補償用回路を有していないこと
と、送信増幅器10Aが温度補償用FETを内蔵してい
ることである。
FIG. 16 shows a mobile phone according to the third embodiment.
The difference from the conventional mobile phone described above is that the transmission amplifier 10A does not have a temperature compensation circuit, and the transmission amplifier 10A has a temperature compensation FET built therein.

【0055】(第4の実施形態)図12は本発明の第4
の実施形態に係る携帯型通信機器である携帯電話機の送
信部のブロック図である。第4の実施形態が第3の実施
形態と異なるのは、第1実施形態に係る送信増幅器(M
CM)10Aに代えて、第2実施形態に係る送信増幅器
(MMIC)10Bを備えていることである。
(Fourth Embodiment) FIG. 12 shows a fourth embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of a transmission unit of a mobile phone which is a mobile communication device according to the embodiment of FIG. The fourth embodiment is different from the third embodiment in that the transmission amplifier (M
It is that the transmission amplifier (MMIC) 10B according to the second embodiment is provided instead of the CM) 10A.

【0056】第3の実施形態及び第4の実施形態に係る
携帯電話機によると、送信増幅器10A,10Bが温度
補償回路を有していないので、送信増幅器10A,10
Bの実装面積を小さくできると共に、温度補償回路の分
だけ送信増幅器10A,10Bひいては携帯電話機の部
品コストを低減することができる。
According to the mobile phones according to the third and fourth embodiments, the transmission amplifiers 10A and 10B do not have a temperature compensation circuit, and therefore the transmission amplifiers 10A and 10B are not provided.
The mounting area of B can be reduced, and the cost of the transmission amplifiers 10A and 10B, and thus of the mobile phone, can be reduced by the amount of the temperature compensation circuit.

【0057】[0057]

【発明の効果】請求項1の発明に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置によると、増幅用FETのゲートの
結晶方位と温度補償用FETのゲートの結晶方位とは、
増幅用FETの温度特性と温度補償用FETの温度特性
とが互いに逆特性になるように設定されていると共に、
ゲートバイアス回路を構成する温度補償用FETが増幅
用FETの温度補償機能を有しているため、温度補償用
回路を増幅回路とは別に設ける必要がないので、部品点
数が減少し、これにより、電力増幅装置ひいては携帯型
通信機器の小型化及び低コスト化を図ることができる。
According to the power amplification device in the portable communication device of the first aspect of the present invention, the crystal orientation of the gate of the amplification FET and the crystal orientation of the gate of the temperature compensation FET are:
The temperature characteristic of the amplifying FET and the temperature characteristic of the temperature compensating FET are set to be opposite to each other, and
Since the temperature compensating FET that constitutes the gate bias circuit has the temperature compensating function of the amplifying FET, it is not necessary to provide the temperature compensating circuit separately from the amplifying circuit, so that the number of parts is reduced, and as a result, It is possible to reduce the size and cost of the power amplifier device and thus the portable communication device.

【0058】請求項2の発明に係る携帯型通信機器にお
ける電力増幅装置によると、増幅用FETと温度補償用
FETとは同一の化合物半導体基板上に形成されている
ため、化合物半導体基板上における増幅用FETのゲー
ト幅方向と温度補償用FETのゲート幅方向とを互いに
異ならせることにより、増幅用FETの温度特性と温度
補償用FETの温度特性とが互いに逆特性になるように
することができると共に、MMICを実現することがで
きる。
According to the power amplification device in the portable communication device of the second aspect of the invention, since the amplification FET and the temperature compensation FET are formed on the same compound semiconductor substrate, the amplification on the compound semiconductor substrate is performed. By making the gate width direction of the temperature-use FET and the gate width direction of the temperature-compensation FET different from each other, the temperature characteristics of the amplification FET and the temperature characteristics of the temperature-compensation FET can be made opposite to each other. At the same time, the MMIC can be realized.

【0059】請求項3の発明に係る携帯型通信機器にお
ける電力増幅装置によると、増幅用FETの相互コンダ
クタンスは温度補償用FETの相互コンダクタンスより
も高いため、増幅用FETの利得が高くなる一方、増幅
には寄与しない温度補償用FETの相互コンダクタンス
は低くても差支えがないので、効率的である。
According to the power amplifying device in the portable communication device of the third aspect of the invention, since the mutual conductance of the amplifying FET is higher than that of the temperature compensating FET, the gain of the amplifying FET becomes high, while The temperature compensating FET, which does not contribute to amplification, may be low in transconductance, which is efficient.

【0060】請求項4の発明に係る携帯型通信機器によ
ると、請求項1の発明に係る電力増幅装置を備えている
ため、小型化及び低コスト化を図ることができる。ま
た、部品点数の増加を招くことなく、増幅用FETの温
度補償を行なうことができるので、前段及び後段の両方
のゲートバイアス回路に温度補償用FETを設けること
が容易になるので、温度補償機能を確実に実現すること
ができる。
According to the portable communication device of the fourth aspect of the present invention, since the portable communication device is provided with the power amplification device of the first aspect of the invention, it is possible to reduce the size and cost. Further, since the temperature compensation of the amplification FET can be performed without increasing the number of parts, it becomes easy to provide the temperature compensation FET in both the gate bias circuits in the front stage and the rear stage, and thus the temperature compensation function is provided. Can be reliably realized.

【0061】請求項5の発明に係る携帯型通信機器によ
ると、請求項2の発明に係る電力増幅装置を備えている
ため、MMICを有する携帯型通信機器を実現できる。
According to the portable communication device of the fifth aspect of the present invention, the portable communication device having the MMIC can be realized because it has the power amplifying device of the second aspect of the invention.

【0062】請求項6の発明に係る携帯型通信機器によ
ると、請求項3の発明に係る電力増幅装置を備えている
ため、増幅用FETの利得を高くすることができる。
According to the portable communication device of the sixth aspect of the present invention, since the power amplifier device of the third aspect is provided, the gain of the amplifying FET can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の各実施形態に共通して用いられる電力
増幅回路を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a power amplifier circuit commonly used in each embodiment of the present invention.

【図2】本発明の各実施形態に共通して用いられる第1
〜第4の電力増幅回路を構成する第1〜第4のゲートバ
イアス回路を示す図である。
FIG. 2 is a first view commonly used in each embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing first to fourth gate bias circuits forming a fourth power amplifier circuit.

【図3】本発明の第1実施形態に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置であるMCMのブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of an MCM that is a power amplification device in the portable communication device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置であるMCMに用いられる増幅用F
ET及び温度補償用FETのゲート方位を説明する図で
ある。
FIG. 4 is an amplification F used in the MCM that is the power amplification device in the portable communication device according to the first embodiment of the present invention.
It is a figure explaining the gate direction of FET for ET and temperature compensation.

【図5】本発明の第2実施形態に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置であるMMICに用いられる増幅用
FET及び温度補償用FETのゲート方位を説明する図
である。
FIG. 5 is a diagram illustrating gate directions of an amplification FET and a temperature compensation FET used in an MMIC that is a power amplification device in a portable communication device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】オリフラに対してゲート方位が0°であるFE
T及びゲート方位が90°であるFETの動作電流の温
度依存性を示す特性図である。
FIG. 6 is an FE with a gate orientation of 0 ° with respect to orientation flats.
It is a characteristic view which shows the temperature dependence of the operating current of FET which T and a gate direction are 90 degrees.

【図7】オリフラに対してゲート方位が0°であるFE
T及びゲート方位が90°であるFETの相互コンダク
タンスのゲート電圧依存性を示す特性図である。
FIG. 7: FE with a gate orientation of 0 ° with respect to orientation flat
It is a characteristic view which shows the gate voltage dependence of transconductance of FET which T and the gate direction are 90 degrees.

【図8】本発明の第1実施形態に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置の相互コンダクタンスのゲート電圧
依存性を示す特性図である。
FIG. 8 is a characteristic diagram showing the gate voltage dependence of the mutual conductance of the power amplification device in the portable communication device according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1実施形態に係る携帯型通信機器に
おける電力増幅装置の動作電流の温度依存性を示す特性
図である。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing the temperature dependence of the operating current of the power amplification device in the portable communication device according to the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2実施形態に係る携帯型通信機器
における電力増幅装置であるMMICのブロック図であ
る。
FIG. 10 is a block diagram of an MMIC that is a power amplification device in a portable communication device according to a second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第3実施形態に係る携帯電話機にお
ける高周波送信部のブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram of a high frequency transmitter in a mobile phone according to a third embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第4実施形態に係る携帯電話機にお
ける高周波送信部のブロック図である。
FIG. 12 is a block diagram of a high frequency transmitter in a mobile phone according to a fourth embodiment of the present invention.

【図13】従来の携帯電話機における電力増幅装置の回
路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram of a power amplification device in a conventional mobile phone.

【図14】従来の携帯電話機における電力増幅装置の動
作電流の温度依存性を示す特性図である。
FIG. 14 is a characteristic diagram showing the temperature dependence of the operating current of the power amplification device in the conventional mobile phone.

【図15】従来の携帯電話機における電力増幅装置に用
いられる温度補償回路を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a temperature compensation circuit used in a power amplification device in a conventional mobile phone.

【図16】従来の携帯電話機における高周波送信部のブ
ロック図である。
FIG. 16 is a block diagram of a high frequency transmitter in a conventional mobile phone.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前段の増幅用FET 2 後段の増幅用FET 3 入力マッチング回路 4 段間マッチング回路 5 出力マッチング回路 6 前段のドレインバイアス回路 7 後段のドレインバイアス回路 8A 前段の第1のゲートバイアス回路 8B 前段の第2のゲートバイアス回路 8C 前段の第3のゲートバイアス回路 8D 前段の第4のゲートバイアス回路 8a ゲートパッド 8b グランドパターン 8c 第1のチップ抵抗 8d 第2のチップ抵抗 8e 配線パターン 9a ゲートパッド 9b グランドパターン 9c 第1のチップ抵抗 9d 第2のチップ抵抗 9A 後段の第1のゲートバイアス回路 10A 送信用増幅器 10B 送信用増幅器 12 アップコンバータ 13 前段アンプ 14 アイソレータ 15 RFスイッチ 16 フィルター 17 アンテナ 21 第1の抵抗 22 第2の抵抗 23 温度補償用FET 24 接地側キャパシタ 25 電源側キャパシタ 26 第2の抵抗と温度補償用FETとの接続点 30 プリント基板 31 第1のFET 32 第2のFET 33 第3のFET 34 第4のFET 40 GaAs基板 41 第1のFET 42 第2のFET 43 第3のFET 44 第4のFET 1 front-stage amplification FET 2 rear-stage amplification FET 3 input matching circuit 4 interstage matching circuit 5 output matching circuit 6 front-stage drain bias circuit 7 rear-stage drain bias circuit 8A front-stage first gate bias circuit 8B front-stage first 2 gate bias circuit 8C 3rd gate bias circuit in the previous stage 8D 4th gate bias circuit in the previous stage 8a Gate pad 8b Ground pattern 8c First chip resistor 8d Second chip resistor 8e Wiring pattern 9a Gate pad 9b Ground pattern 9c 1st chip resistance 9d 2nd chip resistance 9A 1st gate bias circuit of the latter stage 10A Transmitter amplifier 10B Transmitter amplifier 12 Upconverter 13 Front stage amplifier 14 Isolator 15 RF switch 16 Filter 17 Antenna 21 1 resistance 22 2nd resistance 23 Temperature compensation FET 24 Grounding side capacitor 25 Power supply side capacitor 26 Connection point of 2nd resistance and temperature compensation FET 30 Printed circuit board 31 1st FET 32 2nd FET 33th 3rd FET 34 4th FET 40 GaAs substrate 41 1st FET 42 2nd FET 43 3rd FET 44 4th FET

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 化合物半導体基板上に形成されており入
力された高周波電力を増幅する増幅用FETと、抵抗と
化合物半導体基板上に形成された温度補償用FETとか
らなる直列回路とを備え、 前記増幅用FETのゲートの該増幅用FETが形成され
ている化合物半導体基板に対する結晶方位と、前記温度
補償用FETのゲートの該温度補償用FETが形成され
ている化合物半導体基板に対する結晶方位とは、前記増
幅用FETの温度特性と前記温度補償用FETの温度特
性とが互いに逆特性になるように設定されており、 前記直列回路の一端は電圧電源に接続されていると共
に、前記直列回路の他端は接地されており、 前記直列回路における前記抵抗と前記温度補償用FET
との接続点は前記増幅用FETのゲートに接続されてい
ることを特徴とする携帯型通信機器における電力増幅装
置。
1. An amplification FET formed on a compound semiconductor substrate for amplifying input high-frequency power, and a series circuit comprising a resistor and a temperature compensation FET formed on the compound semiconductor substrate, The crystal orientation of the gate of the amplification FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the amplification FET is formed and the crystal orientation of the gate of the temperature compensation FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the temperature compensation FET is formed The temperature characteristics of the amplifying FET and the temperature characteristics of the temperature compensating FET are set to be opposite to each other, and one end of the series circuit is connected to a voltage power supply and The other end is grounded, and the resistance in the series circuit and the temperature compensation FET
A power amplification device in a portable communication device, wherein a connection point with is connected to the gate of the amplification FET.
【請求項2】 前記増幅用FETと前記温度補償用FE
Tとは同一の化合物半導体基板上に形成されていること
を特徴とする請求項1に記載の携帯型通信機器における
電力増幅装置。
2. The amplification FET and the temperature compensation FE
The power amplification device in a portable communication device according to claim 1, wherein T is formed on the same compound semiconductor substrate.
【請求項3】 前記増幅用FETの相互コンダクタンス
は前記温度補償用FETの相互コンダクタンスよりも高
いことを特徴とする請求項1又は2に記載の携帯型通信
機器における電力増幅装置。
3. The power amplification device in a portable communication device according to claim 1, wherein the transconductance of the amplification FET is higher than the transconductance of the temperature compensation FET.
【請求項4】 入力される高周波電力を増幅する2段構
成の電力増幅装置を有する携帯型通信機器であって、 前記2段構成の電力増幅装置を構成する前段の電力増幅
手段及び後段の電力増幅手段のうちの少なくとも1つの
電力増幅手段は、 化合物半導体基板上に形成されており入力された高周波
電力を増幅する増幅用FETと、抵抗と化合物半導体基
板上に形成された温度補償用FETとからなる直列回路
とを備え、 前記増幅用FETのゲートの該増幅用FETが形成され
ている化合物半導体基板に対する結晶方位と、前記温度
補償用FETのゲートの該温度補償用FETが形成され
ている化合物半導体基板に対する結晶方位とは、前記増
幅用FETの温度特性と前記温度補償用FETの温度特
性とが互いに逆特性になるように設定されており、 前記直列回路の一端は電圧電源に接続されていると共
に、前記直列回路の他端は接地されており、 前記直列回路における前記抵抗と前記温度補償用FET
との接続点は前記増幅用FETのゲートに接続されてい
ることを特徴とする携帯型通信機器。
4. A portable communication device having a two-stage power amplifying device for amplifying input high-frequency power, comprising: a front-stage power amplifying means and a second-stage power constituting the two-stage power amplifying device. At least one power amplification means of the amplification means includes an amplification FET that is formed on the compound semiconductor substrate and amplifies the input high frequency power, and a resistor and a temperature compensation FET that is formed on the compound semiconductor substrate. And a crystallographic orientation of the gate of the amplification FET with respect to the compound semiconductor substrate on which the amplification FET is formed, and the temperature compensation FET of the gate of the temperature compensation FET is formed. The crystal orientation with respect to the compound semiconductor substrate is set so that the temperature characteristics of the amplification FET and the temperature characteristics of the temperature compensation FET are opposite to each other. One end of the series circuit is connected to a voltage power supply, and the other end of the series circuit is grounded. The resistor and the temperature compensation FET in the series circuit are connected to each other.
A portable communication device, wherein a connection point with is connected to the gate of the amplification FET.
【請求項5】 前記増幅用FETと前記温度補償用FE
Tとは同一の化合物半導体基板上に形成されていること
を特徴とする請求項4に記載の携帯型通信機器。
5. The amplification FET and the temperature compensation FE
The portable communication device according to claim 4, wherein T is formed on the same compound semiconductor substrate.
【請求項6】 前記増幅用FETの相互コンダクタンス
は前記温度補償用FETの相互コンダクタンスよりも高
いことを特徴とする請求項4又は5に記載の携帯型通信
機器。
6. The portable communication device according to claim 4, wherein the transconductance of the amplification FET is higher than the transconductance of the temperature compensation FET.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6043713A (en) * 1998-01-05 2000-03-28 Mitsuhishi Denki Kabushiki Kaisha Amplifier with temperature compensation function

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