JPH09138936A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH09138936A
JPH09138936A JP23915396A JP23915396A JPH09138936A JP H09138936 A JPH09138936 A JP H09138936A JP 23915396 A JP23915396 A JP 23915396A JP 23915396 A JP23915396 A JP 23915396A JP H09138936 A JPH09138936 A JP H09138936A
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JP
Japan
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film
magnetic
recording medium
magnetic recording
copto
Prior art date
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Pending
Application number
JP23915396A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Hikosaka
和志 彦坂
Tsutomu Tanaka
田中  勉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH09138936A publication Critical patent/JPH09138936A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic recording medium which has high coercive force and a proper squareness ratio of antimagnetization and is suitable for high-density recording even when the film thickness of a magnetic film is small, namely, the product of the residual magnetization and the film thickness of the magnetic film is small. SOLUTION: This medium has a base film 12 of a material essentially comprising vanadium formed on a substrate 11 and a magnetic film 13 comprising a CoPtO alloy formed on the base film 12. The medium has a first base film 22 having a crystal structure which forms a body centered cubic lattice formed on a substrate 21, a second base film 23 comprising an amorphous material formed on the first base film 22, and a magnetic film 24 comprising a CoPtO alloy formed on the second base film 23.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータの外
部記憶装置であるハードディスク装置等の磁気記録装置
に用いられる磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium used for a magnetic recording device such as a hard disk device which is an external storage device of a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術およびその課題】磁気記録装置は、小型で
大容量であり、高速アクセスが可能で、しかもコストが
安い等の利点があり、高密度記録装置として利用されて
いる。近年、磁気記録装置のさらなる高密度記録が要望
されており、この要望を満たすべく高密度記録用の磁気
記録媒体が研究されている。
2. Description of the Related Art A magnetic recording device is used as a high-density recording device because it has advantages of small size, large capacity, high speed access, and low cost. In recent years, there has been a demand for higher density recording in magnetic recording devices, and magnetic recording media for high density recording have been studied to meet this demand.

【0003】高密度記録を達成するためには、磁性膜の
保磁力(Hc)を高めること、磁性膜の厚さを薄くする
こと、磁性膜を構成する粒子の異方性を揃えて磁化反転
磁界の分散を小さくすること等が挙げられる。
In order to achieve high density recording, the coercive force (Hc) of the magnetic film should be increased, the thickness of the magnetic film should be reduced, and the anisotropy of the grains forming the magnetic film should be uniform. Examples include reducing the dispersion of the magnetic field.

【0004】高Hcを満たす従来の磁気記録媒体とし
て、基体上に直接CoPt合金膜を磁性膜として形成し
てなる磁気記録媒体が挙げられる。しかしながら、これ
らの従来の磁気記録媒体では、磁性膜の膜厚を薄くする
と、はじめ保磁力は徐々に増大して高密度記録に適した
ものとなるが、さらに膜厚を薄くすると保磁力が急激に
低下する。したがって、従来の磁気記録媒体では、磁性
膜を薄膜化しても、記録密度の向上が達成できなくなる
という問題がある。
As a conventional magnetic recording medium satisfying high Hc, there is a magnetic recording medium in which a CoPt alloy film is directly formed as a magnetic film on a substrate. However, in these conventional magnetic recording media, when the film thickness of the magnetic film is reduced, the coercive force gradually increases and becomes suitable for high density recording. Fall to. Therefore, in the conventional magnetic recording medium, there is a problem that the improvement of the recording density cannot be achieved even if the magnetic film is thinned.

【0005】また、磁気記録媒体においては、磁性膜の
面内方向における抗磁力角形比S*が信号の品質に影響
を与える。このS* は0.4〜0.8程度が適当である
が、薄膜化した際に従来の磁気記録媒体では、この範囲
の値を示さない。
In the magnetic recording medium, the coercive force squareness ratio S * in the in-plane direction of the magnetic film affects the signal quality. It is suitable that S * is about 0.4 to 0.8, but a conventional magnetic recording medium does not show a value in this range when it is made thin.

【0006】そこで、本発明の第1の目的は、磁性膜の
膜厚が薄くても、すなわち磁性膜の残留磁化量(Mr)
と磁性膜の膜厚(t)の積が小さくても、高い保磁力を
示し、抗磁力角形比も適当な高密度記録に適した磁気記
録媒体を提供することである。
Therefore, a first object of the present invention is to reduce the residual magnetization amount (Mr) of the magnetic film even if the magnetic film is thin.
It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium exhibiting a high coercive force even if the product of the magnetic film thickness (t) and the coercive force squareness ratio is suitable for high density recording.

【0007】一方、薄膜の磁気記録媒体においては、媒
体のより高保磁力化、低ノイズ化のために、磁性膜中の
磁性粒子間の磁気的分離を進めることが高密度記録に有
効である。この磁性粒子間の磁気的分離度を示す指標と
してΔMがある。△Mは、磁気ヘッドの記録能力によら
ずに、磁気記録媒体の磁気的分離度を評価できるパラメ
ータであり、ΔMが小さいほど、磁気記録媒体は高保磁
力かつ低ノイズである。
On the other hand, in a thin film magnetic recording medium, it is effective for high density recording to promote magnetic separation between magnetic particles in the magnetic film in order to increase the coercive force and noise of the medium. ΔM is an index indicating the degree of magnetic separation between the magnetic particles. ΔM is a parameter that can evaluate the magnetic separation degree of the magnetic recording medium regardless of the recording capability of the magnetic head. The smaller ΔM is, the higher coercive force and low noise the magnetic recording medium has.

【0008】現在の磁気記録装置においては、磁気記録
媒体としてHcが2000Oe程度の磁性膜が用いられ
ている。現在、磁気ヘッドの記録能力により、磁気記録
媒体のHcは制限されているが、今後磁気ヘッドの記録
能力の向上に伴い、磁気記録媒体の高Hc化が望まれる
ことになる。
In the current magnetic recording apparatus, a magnetic film having Hc of about 2000 Oe is used as a magnetic recording medium. At present, the recording capacity of the magnetic head limits the Hc of the magnetic recording medium, but with the improvement of the recording capacity of the magnetic head in the future, it is desired to increase the Hc of the magnetic recording medium.

【0009】しかしながら、従来の磁気記録媒体では、
ΔMが充分に小さくならないという問題がある。したが
って、基体上に直接CoPtO合金膜を形成してなる磁
気記録媒体は、保磁力に限界があり、高密度記録が達成
されないという問題がある。
However, in the conventional magnetic recording medium,
There is a problem that ΔM does not become sufficiently small. Therefore, the magnetic recording medium in which the CoPtO alloy film is directly formed on the substrate has a limit in coercive force, and there is a problem that high density recording cannot be achieved.

【0010】そこで、本発明の第2の目的は、磁性膜中
において磁性粒子が磁気的に分離されており、高い保磁
力を示す高密度記録に適した磁気記録媒体を提供するこ
とである。
Therefore, a second object of the present invention is to provide a magnetic recording medium suitable for high density recording in which magnetic particles are magnetically separated in a magnetic film and which exhibits a high coercive force.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
基体上に形成された下地膜と、前記下地膜上に形成され
ており、CoPtO系合金で構成された磁性膜とを具備
する磁気記録媒体を提供する。
Means for Solving the Problems A first invention of the present invention is:
Provided is a magnetic recording medium comprising a base film formed on a substrate and a magnetic film formed on the base film and made of a CoPtO-based alloy.

【0012】また、本発明の第1の発明は、基体上に形
成された下地膜と、前記下地膜上に形成されており、C
oPtO系合金で構成された磁性膜とを具備し、前記磁
性膜の磁化量v・Isbが0<v・Isb≦0.3×10
-14 emuを満足する磁気記録媒体を提供する。
The first invention of the present invention is that the base film formed on the substrate and the base film are formed by C
a magnetic film composed of an oPtO-based alloy, and the magnetization amount v · I sb of the magnetic film is 0 <v · I sb ≦ 0.3 × 10.
A magnetic recording medium satisfying -14 emu is provided.

【0013】また、本発明の第1の発明は、基体上に形
成された下地膜と、前記下地膜上に形成されており、C
oPtO系合金で構成された磁性膜とを具備し、前記磁
性膜の面内方向における残留磁化量と前記磁性膜の膜厚
との積Mr・tに対する保磁力Hcの値Hc/(Mr・
t)(Oe/(memu/cm2 ))が少なくとも60
00である磁気記録媒体を提供する。
A first invention of the present invention is that a base film formed on a substrate and the base film is formed by C
a magnetic film made of an oPtO-based alloy, and a value Hc / (Mr · Hc) of a coercive force Hc with respect to a product Mr · t of the residual magnetization in the in-plane direction of the magnetic film and the film thickness of the magnetic film.
t) (Oe / (memu / cm 2 )) is at least 60
A magnetic recording medium of No. 00 is provided.

【0014】ここで、磁性膜の面内方向における残留磁
化量と前記磁性膜の膜厚との積Mr・tおよび磁性膜の
磁化量v・Isbの比(Mr・t/v・Isb)が3.5×
1011個/cm2 以上であることが好ましい。
[0014] Here, the product Mr · t and the ratio of the magnetization v · I sb of the magnetic film (Mr · t / v · I sb between the residual magnetization in the plane direction of the magnetic film and the thickness of the magnetic layer ) Is 3.5 ×
It is preferably 10 11 pieces / cm 2 or more.

【0015】また、本発明の第1の発明は、基体上に形
成された下地膜と、前記下地膜上に形成されており、C
oPtO系合金で構成された磁性膜とを具備し、前記磁
性膜の膜厚が15nm以下であり、前記磁性膜の面内方
向における抗磁力角形S* が0.4〜0.82である磁
気記録媒体を提供する。ここで、下地膜は、バナジウム
を主成分とする材料から構成されていることが好まし
い。
In the first aspect of the present invention, a base film formed on a substrate and the base film is formed, and C
a magnetic film composed of an oPtO-based alloy, the magnetic film having a thickness of 15 nm or less, and the coercive force square S * in the in-plane direction of the magnetic film being 0.4 to 0.82. A recording medium is provided. Here, the base film is preferably made of a material whose main component is vanadium.

【0016】また、第1の発明においては、前記下地膜
により前記基体を構成する材料と前記CoPtO系合金
が格子整合されていることが好ましい。また、第1の発
明において、磁性膜を構成するCoPtO系合金は酸素
を少なくとも10原子%含有し、磁性膜は結晶相と結晶
相よりも酸素を多く含む非晶質相を有することが好まし
い。また、磁性膜が面内方向において磁気異方性を有す
ることが好ましい。
In the first aspect of the invention, it is preferable that the base film and the CoPtO-based alloy are lattice-matched by the base film. In the first invention, it is preferable that the CoPtO-based alloy forming the magnetic film contains at least 10 atomic% oxygen, and the magnetic film has a crystal phase and an amorphous phase containing more oxygen than the crystal phase. Further, it is preferable that the magnetic film has magnetic anisotropy in the in-plane direction.

【0017】本発明の第2の発明は、基体上に形成され
ており、体心立方格子を形成する結晶構造を有する結晶
で構成された第1の下地膜と、前記第1の下地膜上に形
成されており、非晶質材料で構成された第2の下地膜
と、前記第2の下地膜上に形成されており、CoPtO
系合金で構成された磁性膜とを具備することを特徴とす
る磁気記録媒体を提供する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a first underlayer film formed on a substrate, the first underlayer film being made of a crystal having a crystal structure forming a body-centered cubic lattice, and the first underlayer film. A second undercoating film formed of an amorphous material, and CoPtO formed over the second undercoating film.
A magnetic recording medium comprising a magnetic film made of a system alloy.

【0018】第2の発明において、第1の下地膜は磁性
膜の磁気的分離のために、基体上に複数の島状に形成さ
れていることが好ましい。また、第1の下地膜を構成す
る材料はニオブ、バナジウム、およびクロムからなる群
より選ばれた少なくとも一つの元素を含むことが好まし
く、第2の下地膜を構成する材料がカーボン、ボロン、
ボロンナイトライド、および二酸化ケイ素からなる群よ
り選ばれた少なくとも一つを含むことが好ましい。
In the second invention, it is preferable that the first underlayer film is formed in a plurality of islands on the substrate in order to magnetically separate the magnetic film. Further, the material forming the first underlayer preferably contains at least one element selected from the group consisting of niobium, vanadium and chromium, and the material forming the second underlayer is carbon, boron,
It is preferable to contain at least one selected from the group consisting of boron nitride and silicon dioxide.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。本発明の第1の発明の磁気
記録媒体は、図1に示すように、基体11上に下地膜1
2を介して磁性膜13を形成してなる構成を有してい
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention, as shown in FIG.
The magnetic film 13 is formed with the intermediate layer 2 interposed therebetween.

【0020】第1の発明においては、磁性膜の磁化量v
・Isbが0<v・Isb≦0.3×10-14 emu、好ま
しくは0<v・Isb≦0.2×10-14 emuを満足す
るようにする。これは、S/N(シグナルノイズ)比を
向上させるためである。
In the first invention, the magnetization amount v of the magnetic film is
-I sb is set to satisfy 0 <v · I sb ≦ 0.3 × 10 −14 emu, preferably 0 <v · I sb ≦ 0.2 × 10 −14 emu. This is to improve the S / N (signal noise) ratio.

【0021】v・Isb(emu)は、振動試料型磁力計
(VSM)を用いて、磁性膜が飽和する磁界を磁性膜に
印加した後、飽和と逆方向の磁界を印加し、その状態で
磁化量をモニタリングして、磁界(保磁力Hc)と磁化
が0となるまでの時間(sec)との関係を求め、以下の
式Iにより算出したものである。
V · I sb (emu) is a state in which a vibrating sample magnetometer (VSM) is used to apply a magnetic field that saturates the magnetic film to the magnetic film, and then a magnetic field in the opposite direction to saturation is applied. The amount of magnetization is monitored by, and the relationship between the magnetic field (coercive force Hc) and the time (sec) until the magnetization becomes 0 is obtained and calculated by the following formula I.

【0022】 v・Isb={kT/(△Hc/△In(t))} …式I (k:ボルツマン定数、T:絶対温度) v・Isbは、粒子1個の磁気モーメントを表す指標であ
るので、この値が小さいと微粒子化されていることを意
味する。本発明者らは、基体上に下地膜を介してCoP
tO系合金で構成された磁性膜を形成することにより、
磁性膜を構成する材料が微粒子化されることを、v・I
sbを調べることにより初めて発見した。磁性膜を構成す
る材料が微粒子化されると、以下の式IIによりS/N比
が大きくなる。
V · I sb = {kT / (ΔHc / ΔIn (t))} Formula I (k: Boltzmann constant, T: absolute temperature) v · I sb represents the magnetic moment of one particle. Since this is an index, if this value is small, it means that the particles are finely divided. The present inventors have found that CoP is formed on a substrate through an underlying film.
By forming a magnetic film composed of a tO alloy,
The fact that the material forming the magnetic film is made into fine particles is
It was first discovered by examining sb . When the material forming the magnetic film is made into fine particles, the S / N ratio becomes large according to the following formula II.

【0023】 △S/N=10・log(n1 /n2 ) …式II (n1 ,n2 :粒子数) また、第1の発明においては、磁性膜の面内方向におけ
る残留磁化量と前記磁性膜の膜厚との積Mr・tに対す
る保磁力Hcの値Hc/(Mr・t)が少なくとも60
00となるようにする。Hc/(Mr・t)を少なくと
も6000に設定したのは、高記録分解能および低ノイ
ズ化のためである。
ΔS / N = 10 · log (n 1 / n 2 ) ... Formula II (n 1 , n 2 : the number of particles) In the first invention, the residual magnetization amount in the in-plane direction of the magnetic film. The value Hc / (Mr · t) of the coercive force Hc with respect to the product Mr · t of the magnetic film and the magnetic film thickness is at least 60.
It should be 00. Hc / (Mr · t) is set to at least 6000 for the purpose of high recording resolution and low noise.

【0024】ここで、Mr・tとv・Isbとの関係を考
えると、Mr・t/v・Isbが3.5×1011個/cm2
以上であることが好ましい。これは、1ビット当りの磁
性粒子数を考慮したためである。このようにMr・t/
v・Isbを規定することにより、S/N比をより大きく
することができる。
Considering the relationship between Mr · t and v · I sb , Mr · t / v · I sb is 3.5 × 10 11 pieces / cm 2.
It is preferable that it is above. This is because the number of magnetic particles per bit is taken into consideration. Thus Mr · t /
The S / N ratio can be increased by defining v · I sb .

【0025】また、第1の発明においては、磁性膜の膜
厚が15nm以下であり、前記磁性膜の面内方向におけ
る抗磁力角形S* が0.4〜0.82となるようにす
る。磁性膜の膜厚を15nm以下に設定したのは、高記
録分解能のためである。また、磁性膜の面内方向におけ
る抗磁力角形S* を0.4〜0.82に設定したのは、
高出力化および低ノイズ化のためである。
Further, in the first invention, the film thickness of the magnetic film is 15 nm or less, and the coercive force square S * in the in-plane direction of the magnetic film is 0.4 to 0.82. The thickness of the magnetic film is set to 15 nm or less for high recording resolution. Moreover, the coercive force square S * in the in-plane direction of the magnetic film is set to 0.4 to 0.82.
This is for higher output and lower noise.

【0026】また、第1の発明において、下地膜により
基体を構成する材料とCoPtO系合金が格子整合され
ているとは、基体材料の平均原子半径とCoPtO系合
金の平均原子半径が約3%以内に近似していればよく、
必ずしも一致している必要はない。
In the first aspect of the present invention, the fact that the material constituting the substrate is lattice-matched with the CoPtO-based alloy by the underlayer means that the average atomic radius of the substrate material and the average atomic radius of the CoPtO-based alloy are about 3%. It should be close within
They do not have to match.

【0027】第1の発明において、下地膜を構成するバ
ナジウムを主成分とする材料とは、V、V−Nb合金、
V−Ta合金、V−Nb−Ta合金を意味する。第1の
発明において、下地膜として、V膜、V−Nb合金膜、
V−Ta合金膜を用いると、CoPtO磁性膜の保磁力
の低下が抑制できる。これは、前記下地膜が、その上に
形成される極薄膜のCoPtO磁性膜の結晶相の積層欠
陥を少なくし、CoPtO系合金粒子の磁気異方性を低
下させ、磁気異方性の大きさが分散することを防止する
からである。
In the first aspect of the present invention, the material containing vanadium as a main component of the underlayer is V, V-Nb alloy,
It means a V-Ta alloy or a V-Nb-Ta alloy. In the first invention, as a base film, a V film, a V-Nb alloy film,
By using the V-Ta alloy film, it is possible to suppress a decrease in coercive force of the CoPtO magnetic film. This is because the underlying film reduces stacking faults in the crystal phase of the CoPtO magnetic film of the ultra-thin film formed thereon, lowers the magnetic anisotropy of the CoPtO-based alloy particles, and increases the magnetic anisotropy. Is prevented from being dispersed.

【0028】この場合、Vに固溶させるNb、Taの固
溶量を変えることにより、磁性膜の保磁力および角形比
* を制御することができ、磁気ヘッドの記録能力に対
して保磁力を最適化することができると共に、信号品質
も向上させることができる。
In this case, the coercive force of the magnetic film and the squareness ratio S * can be controlled by changing the solid solution amount of Nb and Ta dissolved in V, and the coercive force with respect to the recording ability of the magnetic head. Can be optimized and the signal quality can be improved.

【0029】また、下地膜に配向または形状の異方性を
付与することにより、円周方向に容易軸を持つ磁気異方
性を付与した磁性膜において、磁気特性の角型比を向上
させることができ、出力、記録密度をより高めることが
できる。また、磁性膜が面内方向において磁気異方性を
有することにより、磁気余効を小さくすることができ
る。
Further, by imparting orientation or shape anisotropy to the underlayer film, it is possible to improve the squareness ratio of magnetic characteristics in a magnetic film provided with magnetic anisotropy having an easy axis in the circumferential direction. Therefore, the output and recording density can be further increased. Further, since the magnetic film has magnetic anisotropy in the in-plane direction, the magnetic aftereffect can be reduced.

【0030】なお、磁性膜表面にカーボン等からなる保
護膜やパーフルオロポリエーテル等からなる潤滑剤層を
設けてもよい。本発明の第2の発明の磁気記録媒体は、
図5に示すように、基体21上に第1の下地膜22およ
び第2の下地膜23を介して磁性膜24を形成してなる
構成を有している。なお、必要に応じて磁性膜24上に
保護膜25を形成する。
A protective film made of carbon or the like or a lubricant layer made of perfluoropolyether or the like may be provided on the surface of the magnetic film. The magnetic recording medium of the second invention of the present invention comprises:
As shown in FIG. 5, a magnetic film 24 is formed on a substrate 21 with a first underlayer film 22 and a second underlayer film 23 interposed therebetween. A protective film 25 is formed on the magnetic film 24 as needed.

【0031】第2の発明において、磁性膜においては、
第2の下地膜の結晶領域上に最密六方構造を有するCo
PtOが成長し、第2の下地膜の非晶質領域上には、C
oPtOにおける酸素が多く含まれる非晶質領域が存在
する。このため、磁性膜の磁性粒子の分離が促進され、
4000Oeを越える高いHcおよび0.2以下のΔM
が達成される。このため、高線分解能で、低ノイズで高
いS/N比を有する磁気記録媒体が提供することができ
る。
In the second invention, in the magnetic film,
Co having a close-packed hexagonal structure on the crystalline region of the second underlayer
PtO grows, and C is formed on the amorphous region of the second base film.
There is an amorphous region containing a large amount of oxygen in oPtO. Therefore, the separation of the magnetic particles in the magnetic film is promoted,
High Hc of over 4000 Oe and ΔM of 0.2 or less
Is achieved. Therefore, it is possible to provide a magnetic recording medium having a high linear resolution, low noise, and a high S / N ratio.

【0032】なお、第1および第2の発明において、基
体としては、ガラス基板、シリコン基板、炭素基板等を
用いることができる。また、磁性膜を構成するCoPt
O系合金とは、CoPt合金に酸素が少なくとも10原
子%含有されている合金をいい、CoPtOにCr、Z
r、Ta等の添加元素が含まれているものも含む。この
CoPtO系合金において、結晶相と結晶相よりも酸素
を多く含む非晶質相を有する構造であることにより、磁
気記録媒体の信号品質が良好となり、媒体ノイズを小さ
くすることができる。また、この構造は、本質的に結晶
磁気異方性が大きいので、将来の高密度記録用磁気記録
媒体の材料として好適である。
In the first and second inventions, a glass substrate, a silicon substrate, a carbon substrate or the like can be used as the substrate. In addition, CoPt forming the magnetic film
The O-based alloy means an alloy containing at least 10 atomic% of oxygen in a CoPt alloy, and CoPtO contains Cr and Z.
It also includes those containing additional elements such as r and Ta. With this CoPtO-based alloy having a crystal phase and an amorphous phase containing more oxygen than the crystal phase, the signal quality of the magnetic recording medium is improved and the medium noise can be reduced. Further, since this structure has a large crystal magnetic anisotropy in nature, it is suitable as a material for future magnetic recording media for high density recording.

【0033】以下、本発明の実施例について図面を参照
して具体的に説明する。 (実施例1)ガラス基板上にスパッタリングにより厚さ
360nmのV膜を形成した。スパッタリングは、外径
5インチのVターゲットを用い、ターゲット−基板間距
離170mm、スパッタ圧2Pa、投入電力2.5kW
下で行った。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. (Example 1) A V film having a thickness of 360 nm was formed on a glass substrate by sputtering. For the sputtering, a V target having an outer diameter of 5 inches was used, the distance between the target and the substrate was 170 mm, the sputtering pressure was 2 Pa, and the input power was 2.5 kW.
Went below.

【0034】次いで、V膜上に酸素を25原子%含む厚
さ5〜20nmのCoPtCrO膜を形成した。CoP
tCrO膜の形成は、外径5インチのCo−20原子%
Pt−3原子%Crターゲットを用い、ターゲット−基
板間距離を170mmとし、酸素を含むArスパッタ圧
を12Paとし、投入電力120Wで行った。なお、C
oPtCrO膜については、スパッタリングの際の時間
を制御することにより、種々の膜厚のものを形成した。
このようにして、ガラス基板上にV膜を介してCoPt
CrO膜を形成してなる、磁性膜の膜厚が異なる種々の
磁気記録媒体を作製した。
Then, a CoPtCrO film having a thickness of 5 to 20 nm and containing 25 atomic% of oxygen was formed on the V film. CoP
The tCrO film is formed of Co-20 atomic% with an outer diameter of 5 inches.
A Pt-3 atom% Cr target was used, the target-substrate distance was 170 mm, the Ar sputtering pressure containing oxygen was 12 Pa, and the applied power was 120 W. Note that C
Regarding the oPtCrO film, various thicknesses were formed by controlling the time during sputtering.
In this way, CoPt is formed on the glass substrate through the V film.
Various magnetic recording media having different thicknesses of magnetic films, each having a CrO film formed, were manufactured.

【0035】また、ガラス基板上にスパッタリングによ
り厚さ21nmのNb膜を形成した。スパッタリング
は、外径5インチのNbターゲットを用い、ターゲット
−基板間距離150mm、スパッタ圧0.6Pa、投入
電力2kW下で行った。さらに、さらに、Nb膜上にス
パッタリングにより厚さ9nmのカーボン膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのカーボンターゲ
ットを用い、ターゲット−基板間距離150mm、スパ
ッタ圧2Pa、投入電力1kW下で行った。次いで、N
b膜上に酸素を25原子%含む厚さ5〜20nmのCo
PtCrO膜を上記と同様にして形成した。このように
して、ガラス基板上にカーボン膜およびNb膜を介して
CoPtCrO膜を形成してなる、磁性膜の膜厚が異な
る種々の磁気記録媒体を作製した。
A 21 nm thick Nb film was formed on the glass substrate by sputtering. The sputtering was performed using a Nb target having an outer diameter of 5 inches, a target-substrate distance of 150 mm, a sputtering pressure of 0.6 Pa, and an input power of 2 kW. Furthermore, a carbon film having a thickness of 9 nm was formed on the Nb film by sputtering. The sputtering was performed using a carbon target having an outer diameter of 5 inches, a target-substrate distance of 150 mm, a sputtering pressure of 2 Pa, and an input power of 1 kW. Then N
Co having a thickness of 5 to 20 nm containing 25 atomic% of oxygen on the b film
A PtCrO film was formed in the same manner as above. In this way, various magnetic recording media having different thicknesses of the magnetic film, in which the CoPtCrO film was formed on the glass substrate via the carbon film and the Nb film, were produced.

【0036】従来例として、ガラス基板上にスパッタリ
ングにより直接CoPtCrO膜を形成してなる、磁性
膜の膜厚が異なる種々の磁気記録媒体を作製した。な
お、CoPtCrO膜の形成は上記と同様にして行っ
た。
As a conventional example, various magnetic recording media in which the CoPtCrO film was formed directly on a glass substrate by sputtering and the magnetic film thickness was different were prepared. The CoPtCrO film was formed in the same manner as above.

【0037】これらの磁気記録媒体について、その残留
磁化量を振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定し、
残留磁化量・磁性膜の膜厚Mr・tを算出した。また、
磁性膜のv・Isb(磁気粒子の磁化量)を振動試料型磁
力計(VSM)による測定結果に基づいて算出した。こ
のようにして算出されたMr・tおよびv・Isbの関係
を図2に示す。
The residual magnetization of each of these magnetic recording media was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM),
The residual magnetization amount and the magnetic film thickness Mr · t were calculated. Also,
V · I sb (magnetization amount of magnetic particles) of the magnetic film was calculated based on the measurement result by the vibrating sample magnetometer (VSM). FIG. 2 shows the relationship between Mr · t and v · I sb calculated in this way.

【0038】図2から分かるように、本発明の磁気記録
媒体(CoPtCrO/V/Sub、CoPtCrO/
C/Nb/Sub)はv・Isbが0.2×10-14 em
u以下であった。一方、従来の磁気記録媒体(CoPt
CrO/Sub)はv・Isbが0.3×10-14 emu
以上であり、特にMr・tが0.6memu/cm2 以下
では1.0×10-14 emu近くに大きくなる。
As can be seen from FIG. 2, the magnetic recording medium of the present invention (CoPtCrO / V / Sub, CoPtCrO /
C / Nb / Sub) has v · I sb of 0.2 × 10 −14 em
It was less than u. On the other hand, conventional magnetic recording media (CoPt
CrO / Sub) has v · I sb of 0.3 × 10 −14 emu
Above, especially when Mr · t is 0.6 memu / cm 2 or less, it becomes large near 1.0 × 10 −14 emu.

【0039】また、本発明の磁気記録媒体では、Mr・
t/v・Isbの値は5.5×1011個/cm2 であったの
に対し、従来の磁気記録媒体では、Mr・t/v・Isb
の値は3.0×1011個/cm2 であり、しかも、Mr・
tが0.6memu/cm2 以下でMr・t/v・Isb
値は急激に低下する。
In the magnetic recording medium of the present invention, Mr.
The value of t / v · I sb was 5.5 × 10 11 pieces / cm 2 , whereas in the conventional magnetic recording medium, Mr · t / v · I sb.
Is 3.0 × 10 11 pieces / cm 2 , and Mr.
When t is 0.6 memu / cm 2 or less, the value of Mr · t / v · I sb sharply decreases.

【0040】また、本発明の磁気記録媒体では、Mr・
tが0.6memu/cm2 以下においてS/Nは36d
Bであったのに対し、従来の磁気記録媒体では、Mr・
tが0.6memu/cm2 以下においてS/Nは20d
B以下であった。 (実施例2)ガラス基板上にスパッタリングにより厚さ
360nmのV膜を実施例1と同様にして形成した。次
いで、V膜上に酸素を25原子%含むCoPtO膜をC
o−20原子%Pt−3原子%Crターゲットの代わり
にCo−24原子%Ptターゲットを用いること以外は
実施例1と同様にして形成した。なお、CoPtO膜に
ついては、スパッタリングの際の時間を制御することに
より、種々の膜厚のものを形成した。このようにして、
ガラス基板上にV膜を介してCoPtO膜を形成してな
る、磁性膜の膜厚が異なる種々の磁気記録媒体を作製し
た。
In the magnetic recording medium of the present invention, Mr.
S / N is 36d when t is less than 0.6 memu / cm 2.
However, in the conventional magnetic recording medium, Mr.
S / N is 20d when t is less than 0.6 memu / cm 2.
It was B or less. (Example 2) A V film having a thickness of 360 nm was formed on a glass substrate by sputtering in the same manner as in Example 1. Then, a CoPtO film containing 25 atomic% of oxygen is formed on the V film by C
It was formed in the same manner as in Example 1 except that a Co-24 atom% Pt target was used instead of the o-20 atom% Pt-3 atom% Cr target. Regarding the CoPtO film, various film thicknesses were formed by controlling the time during sputtering. In this way,
Various magnetic recording media in which the CoPtO film was formed on the glass substrate via the V film and the magnetic films had different thicknesses were manufactured.

【0041】従来例として、ガラス基板上にスパッタリ
ングにより直接CoPtO膜を形成してなる、磁性膜の
膜厚が異なる種々の磁気記録媒体を作製した。なお、C
oPtO膜の形成は上記と同様にして行った。
As a conventional example, various magnetic recording media in which the CoPtO film was directly formed on a glass substrate by sputtering and the thickness of the magnetic film was different were prepared. Note that C
The oPtO film was formed in the same manner as above.

【0042】これらの磁気記録媒体について、その磁気
特性を振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定し、残
留磁化量、保磁力、抗磁力角形比を求めた。得られた残
留磁化量および保磁力の結果を用いて、残留磁化量・磁
性膜の膜厚Mr・tと保磁力Hcおよび抗磁力角形比S
* との関係を図3に示した。
The magnetic characteristics of these magnetic recording media were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM), and the residual magnetization, coercive force and coercive force squareness ratio were determined. By using the obtained results of the residual magnetization amount and the coercive force, the residual magnetization amount, the magnetic film thickness Mr.t, the coercive force Hc, and the coercive force squareness ratio S are used.
The relationship with * is shown in FIG.

【0043】図3から分かるように、下地膜としてV膜
を用いた本発明の磁気記録媒体においては、磁性膜の膜
厚tが15nmのときに、残留磁化量と磁性膜の膜厚と
の積Mr・tが0.48memu/cm2 であり、保磁
力Hcが2750Oeであった。また、tが9.8nm
のときに、Mr・tが0.35memu/cm2 であ
り、Hcが2600Oeであった。また、tが6nmの
ときに、Mr・tが0.15memu/cm2 であり、
Hcが1900Oeであった。
As can be seen from FIG. 3, in the magnetic recording medium of the present invention using the V film as the underlayer, when the film thickness t of the magnetic film is 15 nm, the residual magnetization amount and the film thickness of the magnetic film are The product Mr · t was 0.48 memu / cm 2 , and the coercive force Hc was 2750 Oe. Also, t is 9.8 nm
At that time, Mr · t was 0.35 memu / cm 2 and Hc was 2600 Oe. Further, when t is 6 nm, Mr · t is 0.15 memu / cm 2 ,
Hc was 1900 Oe.

【0044】また、本発明の磁気記録媒体の磁性膜を分
析電子顕微鏡で解析したところ、その組織は結晶相と非
晶質相からなり、非晶質相に酸素が多く偏析しているこ
とが確認された。さらに、抗磁力角形比S* はすべて
0.4〜0.6以下で良好な値であった。
When the magnetic film of the magnetic recording medium of the present invention was analyzed by an analytical electron microscope, the structure thereof consisted of a crystalline phase and an amorphous phase, and a large amount of oxygen was segregated in the amorphous phase. confirmed. Further, the coercive force squareness ratio S * was a good value in all 0.4 to 0.6 or less.

【0045】一方、ガラス基板上に直接磁性膜を形成し
た従来の磁気記録媒体においては、tが17nmのとき
に、Mr・tが0.9memu/cm2 であり、Hcが
2100Oeであり問題のないレベルであった。しかし
ながら、tが13.8nmのときに、Mr・tが0.6
2memu/cm2 であり、Hcが1760Oeであ
り、tが10nmのときに、Mr・tが0.56mem
u/cm2 であり、Hcが310Oeであり、磁性膜が
薄くなると、保磁力が急激に低下することが分かった。 (実施例3)ガラス基板上にスパッタリングにより厚さ
120nmのV膜を形成した。スパッタリングは、外径
5インチのVターゲットを用い、ターゲット−基板間距
離170mm、スパッタ圧0.65Pa、投入電力2.
5kW下で行った。
On the other hand, in the conventional magnetic recording medium in which the magnetic film is directly formed on the glass substrate, Mr.t is 0.9 memu / cm 2 and Hc is 2100 Oe when t is 17 nm. There was no level. However, when t is 13.8 nm, Mr · t is 0.6.
2 memu / cm 2 , Hc is 1760 Oe, and t is 10 nm, Mr · t is 0.56 mem
u / cm 2 , Hc was 310 Oe, and it was found that the coercive force sharply decreased when the magnetic film became thin. (Example 3) A V film having a thickness of 120 nm was formed on a glass substrate by sputtering. For sputtering, a V target having an outer diameter of 5 inches was used, the distance between the target and the substrate was 170 mm, the sputtering pressure was 0.65 Pa, and the input power was 2.
It was conducted under 5 kW.

【0046】次いで、V膜上にCoPtCrO膜を形成
した。CoPtCrO膜の形成は、外径5インチのCo
−20原子%Pt−3原子%Crターゲットを用い、タ
ーゲット−基板間距離を170mmとし、酸素を含むA
rスパッタ圧を12Paとし、投入電力200Wで行っ
た。なお、CoPtCrO膜については、スパッタリン
グの際の時間を制御することにより、種々の膜厚のもの
を形成した。このようにして、ガラス基板上にV膜を介
してCoPtCrO膜を形成してなる、磁性膜の膜厚が
異なる種々の磁気記録媒体を作製した。
Then, a CoPtCrO film was formed on the V film. The CoPtCrO film is formed with Co having an outer diameter of 5 inches.
-20 atom% Pt-3 atom% Cr target was used, the target-substrate distance was set to 170 mm, and oxygen containing A was used.
The r sputtering pressure was set to 12 Pa, and the applied power was 200 W. Regarding the CoPtCrO film, various film thicknesses were formed by controlling the time during sputtering. In this manner, various magnetic recording media having different thicknesses of the magnetic film, in which the CoPtCrO film was formed on the glass substrate via the V film, were manufactured.

【0047】従来例として、ガラス基板上にスパッタリ
ングにより直接CoPtCrO膜を形成してなる、磁性
膜の膜厚が異なる種々の磁気記録媒体を作製した。な
お、CoPtCrO膜の形成は上記と同様にして行っ
た。
As a conventional example, various magnetic recording media having different magnetic film thicknesses were produced by directly forming a CoPtCrO film on a glass substrate by sputtering. The CoPtCrO film was formed in the same manner as above.

【0048】これらの磁気記録媒体について、その磁気
特性を振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定し、残
留磁化量、保磁力、抗磁力角形比を求めた。得られた残
留磁化量および保磁力の結果を用いて、残留磁化量・磁
性膜の膜厚Mr・tと保磁力Hcおよび抗磁力角形比S
* との関係を図4に示した。
The magnetic characteristics of these magnetic recording media were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM), and the residual magnetization amount, coercive force, and coercive force squareness ratio were determined. By using the obtained results of the residual magnetization amount and the coercive force, the residual magnetization amount, the magnetic film thickness Mr.t, the coercive force Hc, and the coercive force squareness ratio S are used.
The relationship with * is shown in FIG.

【0049】図4から分かるように、下地膜としてV膜
を用いた本発明の磁気記録媒体においては、磁性膜の膜
厚tが15nmのときに、残留磁化量と磁性膜の膜厚と
の積Mr・tが0.48memu/cm2 であり、保磁
力Hcが3200Oeであった。また、tが9nmのと
きに、Mr・tが0.35memu/cm2 であり、H
cが2800Oeであった。また、tが7nmのとき
に、Mr・tが0.22memu/cm2 であり、Hc
が2350Oeであった。
As can be seen from FIG. 4, in the magnetic recording medium of the present invention using the V film as the underlayer, when the film thickness t of the magnetic film is 15 nm, the residual magnetization amount and the film thickness of the magnetic film are The product Mr · t was 0.48 memu / cm 2 , and the coercive force Hc was 3200 Oe. Further, when t is 9 nm, Mr · t is 0.35 memu / cm 2 , and H
c was 2800 Oe. Further, when t is 7 nm, Mr · t is 0.22 memu / cm 2 , and Hc
Was 2350 Oe.

【0050】また、本発明の磁気記録媒体の磁性膜を分
析電子顕微鏡で解析したところ、その組織は結晶相と非
晶質相からなり、非晶質相に酸素が多く偏析しているこ
とが確認された。さらに、抗磁力角形比S* はすべて
0.4〜0.65で良好な値であった。
When the magnetic film of the magnetic recording medium of the present invention was analyzed by an analytical electron microscope, the structure thereof consisted of a crystalline phase and an amorphous phase, and a large amount of oxygen was segregated in the amorphous phase. confirmed. Furthermore, the coercive force squareness ratio S * was a good value in all 0.4 to 0.65.

【0051】一方、ガラス基板上に直接磁性膜を形成し
た従来の磁気記録媒体においては、tが24nmのとき
に、Mr・tが0.9memu/cm2 であり、Hcが
2100Oeであり問題のないレベルであった。しかし
ながら、tが8nmのときに、Mr・tが0.58me
mu/cm2 であり、Hcが1700Oeであり、tが
6nmのときに、Mr・tが0.55memu/cm2
であり、Hcが300Oeであり、磁性膜が薄くなる
と、保磁力が急激に低下することが分かった。また、抗
磁力角形比S* が非常に大きく、実用レベルの最適範囲
0.4〜0.82を逸脱していた。
On the other hand, in the conventional magnetic recording medium in which the magnetic film is directly formed on the glass substrate, when t is 24 nm, Mr · t is 0.9 memu / cm 2 and Hc is 2100 Oe. There was no level. However, when t is 8 nm, Mr · t is 0.58 me.
mu / cm 2 , Hc is 1700 Oe, and t is 6 nm, Mr · t is 0.55 memu / cm 2.
It was found that Hc was 300 Oe, and the coercive force drastically decreased when the magnetic film became thin. In addition, the coercive force squareness ratio S * was extremely large, which deviated from the practical level optimum range of 0.4 to 0.82.

【0052】なお、下地膜としてCr膜を用いた場合、
Mr・tが0.5以下では、保磁力は1100Oeであ
り、角形比は0.3であった。また、酸素を含まないC
oPt/Vの膜構成においては、膜厚が小さいMr・t
が0.5以下ではノイズが大きかった。 (実施例4)ガラス基板上にスパッタリングにより厚さ
50nmのV−Nb膜を形成した。スパッタリングは、
外径5インチのVターゲットおよびNbターゲットを用
い、ターゲット−基板間距離120mm、スパッタ圧
0.3Pa下で行った。なお、V−Nb膜については、
スパッタリングの際の投入電力を制御することにより、
種々の組成のものを形成した。
When a Cr film is used as the base film,
When Mr · t was 0.5 or less, the coercive force was 1100 Oe and the squareness ratio was 0.3. Also, C containing no oxygen
In the film structure of oPt / V, the film thickness of Mr · t is small.
Was less than 0.5, the noise was large. (Example 4) A 50-nm-thick V-Nb film was formed on a glass substrate by sputtering. Sputtering is
Using a V target and an Nb target having an outer diameter of 5 inches, the target-substrate distance was 120 mm, and the sputtering pressure was 0.3 Pa. Regarding the V-Nb film,
By controlling the input power during sputtering,
Various compositions were formed.

【0053】次いで、V−Nb膜上に厚さ12nmのC
oPtCrO膜を形成した。CoPtCrO膜の形成
は、外径5インチのCo−26原子%Pt−3原子%C
rターゲットを用い、ターゲット−基板間距離を200
mmとし、酸素を含むArスパッタ圧を10Paとし、
投入電力2.5kWで行った。このようにして、ガラス
基板上にV−Nb膜を介してCoPtCrO膜を形成し
てなる、下地膜材料の組成が異なる種々の磁気記録媒体
を作製した。
Next, a 12 nm thick C film was formed on the V-Nb film.
An oPtCrO film was formed. The CoPtCrO film is formed by forming Co-26 atomic% Pt-3 atomic% C with an outer diameter of 5 inches.
The target-substrate distance is set to 200 by using the r target.
mm, the Ar sputtering pressure containing oxygen is 10 Pa,
The input power was 2.5 kW. In this way, various magnetic recording media having different compositions of the underlying film material, in which the CoPtCrO film was formed on the glass substrate via the V-Nb film, were manufactured.

【0054】従来例として、ガラス基板上にスパッタリ
ングにより直接CoPtCrO膜を形成してなる磁気記
録媒体を作製した。なお、CoPtCrO膜の形成は上
記と同様にして行った。
As a conventional example, a magnetic recording medium was produced by directly forming a CoPtCrO film on a glass substrate by sputtering. The CoPtCrO film was formed in the same manner as above.

【0055】これらの磁気記録媒体について、その磁気
特性を振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定し、残
留磁化量、保磁力、抗磁力角形比を求めた。その結果、
V−10原子%Nbの下地膜を用いた磁気記録媒体は、
Hc最大値で2800Oeを示し、V膜を下地膜とした
場合(2200Oe)に比べて高い値であった。また、
Mr・tは0.36memu/cm2 であった。
The magnetic characteristics of these magnetic recording media were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM), and the residual magnetization, coercive force and coercive force squareness ratio were determined. as a result,
A magnetic recording medium using a base film of V-10 atom% Nb is
The maximum Hc value was 2800 Oe, which was higher than that when the V film was used as a base film (2200 Oe). Also,
Mr.t was 0.36 memu / cm 2 .

【0056】Nbを10原子%以上添加したV−Nb膜
を下地膜とする磁気記録媒体は、保磁力が低かった。ま
た、抗磁力角形比S* については、Nb含有量10原子
%までは0.65〜0.70に増大し、さらにNb含有
量が増加すると減少した。
The magnetic recording medium using the V-Nb film containing Nb in an amount of 10 atomic% or more as the base film had a low coercive force. Further, the coercive force squareness ratio S * increased to 0.65 to 0.70 up to the Nb content of 10 atom%, and decreased when the Nb content further increased.

【0057】一方、ガラス基板上に直接磁性膜を形成し
た従来の磁気記録媒体においては、保磁力は500Oe
と低かった。実施例4においては、基板内周から外周に
温度勾配を持たせるように基板表面側から赤外線ランプ
により加熱しながら、基板を回転させてV−Nb膜を形
成し、その上にCoPtCrO膜を形成することによ
り、磁性膜にその円周方向に容易軸を有する磁気異方性
を付与した。このとき、抗磁力角形比S* が最適範囲内
で0.7〜0.82と大きくなった。 (実施例5)ガラス基板上にスパッタリングにより第1
の下地膜として厚さ21nmのNb膜を形成した。スパ
ッタリングは、外径5インチのNbターゲットを用い、
ターゲット−基板間距離170mm、スパッタ圧2P
a、投入電力2.5kW下で行った。Nb膜の膜厚21
nmは、その結晶配向性が充分となる値である。
On the other hand, in the conventional magnetic recording medium in which the magnetic film is directly formed on the glass substrate, the coercive force is 500 Oe.
Was low. In Example 4, the substrate was rotated to form a V-Nb film while heating with an infrared lamp from the substrate surface side so as to have a temperature gradient from the inner circumference to the outer circumference of the substrate, and the CoPtCrO film was formed thereon. By doing so, magnetic anisotropy having an easy axis in the circumferential direction was imparted to the magnetic film. At this time, the coercive force squareness ratio S * increased to 0.7 to 0.82 in the optimum range. (Example 5) First by sputtering on a glass substrate
A 21-nm-thick Nb film was formed as the underlayer film. For sputtering, an Nb target with an outer diameter of 5 inches was used.
Target-substrate distance 170mm, sputter pressure 2P
a, Input power was 2.5 kW. Nb film thickness 21
nm is a value at which the crystal orientation is sufficient.

【0058】次いで、Nb膜上にスパッタリングにより
第2の下地膜である厚さ10nmのカーボン膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのCターゲットを
用い、ターゲット−基板間距離170mm、スパッタ圧
2Pa、投入電力600W下で行った。なお、カーボン
膜については、スパッタリングの際の時間を制御するこ
とにより、種々の膜厚のものを形成した。
Next, a carbon film having a thickness of 10 nm, which is a second base film, was formed on the Nb film by sputtering. Sputtering was performed using a C target having an outer diameter of 5 inches, a target-substrate distance of 170 mm, a sputtering pressure of 2 Pa, and an input power of 600 W. Regarding the carbon film, various thicknesses were formed by controlling the time during sputtering.

【0059】次いで、カーボン膜上にスパッタリングに
より磁性膜である厚さ20nmのCoPtO膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのCo−24原子
%−Ptターゲットを用い、ターゲット−基板間距離1
70mm、酸素を含むArスパッタ圧8Pa、投入電力
400W下で行った。
Then, a 20 nm thick CoPtO film, which is a magnetic film, was formed on the carbon film by sputtering. For sputtering, a Co-24 atom% -Pt target with an outer diameter of 5 inches was used, and the target-substrate distance was 1
70 mm, Ar sputtering pressure containing oxygen was 8 Pa, and input power was 400 W.

【0060】最後に、CoPtO膜上にスパッタリング
により保護膜として厚さ10nmのカーボン膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのCターゲットを
用い、ターゲット−基板間距離170mm、Arスパッ
タ圧2Pa、投入電力600W下で行った。
Finally, a carbon film having a thickness of 10 nm was formed as a protective film on the CoPtO film by sputtering. Sputtering was performed using a C target having an outer diameter of 5 inches, a target-substrate distance of 170 mm, an Ar sputtering pressure of 2 Pa, and an input power of 600 W.

【0061】このようにして作製された、第2の下地膜
の膜厚が異なる種々の磁気記録媒体について、その保磁
力を振動試料型磁力計(VSM)を用いて測定した。そ
の結果を図6および下記第1表に示す。
The coercive force of various magnetic recording media thus produced having different second underlayer film thicknesses was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). The results are shown in FIG. 6 and Table 1 below.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】図6および第1表から明らかなように、第
2の下地膜であるカーボン膜がある本発明の磁気記録媒
体(試料2〜5)は保磁力Hcが非常に高いものであ
り、△Mも小さいものであった。これに対してカーボン
膜を有しない磁気記録媒体(試料1)のは、保磁力Hc
が非常に低く、△Mも大きいものであった。
As is clear from FIG. 6 and Table 1, the magnetic recording media (Samples 2 to 5) of the present invention having the carbon film as the second underlayer have a very high coercive force Hc, ΔM was also small. On the other hand, the magnetic recording medium (Sample 1) having no carbon film has a coercive force Hc.
Was very low and ΔM was large.

【0064】なお、カーボン膜には、CoPtO膜への
Nbの拡散を防止する効果もあると考えられ、この効果
も高Hc化に寄与したものと思われる。 (実施例6)ガラス基板上にスパッタリングにより第1
の下地膜として厚さ21nmのNb膜を形成した。スパ
ッタリングは、外径5インチのNbターゲットを用い、
ターゲット−基板間距離170mm、スパッタ圧0.6
Pa、投入電力2.5kW下で行った。Nb膜の膜厚2
1nmは、その結晶配向性が充分となる値である。
It is considered that the carbon film also has an effect of preventing the diffusion of Nb into the CoPtO film, and this effect is also considered to have contributed to the high Hc. (Example 6) First by sputtering on a glass substrate
A 21-nm-thick Nb film was formed as the underlayer film. For sputtering, an Nb target with an outer diameter of 5 inches was used.
Target-substrate distance 170 mm, sputtering pressure 0.6
It was performed under Pa and input power of 2.5 kW. Nb film thickness 2
1 nm is a value at which the crystal orientation is sufficient.

【0065】次いで、Nb膜上にスパッタリングにより
第2の下地膜である厚さ13nmのカーボン膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのCターゲットを
用い、ターゲット−基板間距離120mm、スパッタ圧
2Pa、投入電力600W下で行った。なお、カーボン
膜については、スパッタリングの際の時間を制御するこ
とにより、種々の膜厚のものを形成した。
Then, a carbon film having a thickness of 13 nm, which is a second base film, was formed on the Nb film by sputtering. The sputtering was performed using a C target having an outer diameter of 5 inches, a target-substrate distance of 120 mm, a sputtering pressure of 2 Pa, and an input power of 600 W. Regarding the carbon film, various thicknesses were formed by controlling the time during sputtering.

【0066】次いで、カーボン膜上にスパッタリングに
より磁性膜である厚さ24.5nmのCoPtO膜を形
成した。スパッタリングは、外径5インチのCo−24
原子%Ptターゲットを用い、ターゲット−基板間距離
170mm、酸素を含むArスパッタ圧12Pa、投入
電力120W下で行った。なお、CoPtO膜について
は、スパッタリングの際の時間を制御することにより、
種々の膜厚のものを形成した。
Then, a CoPtO film having a thickness of 24.5 nm, which is a magnetic film, was formed on the carbon film by sputtering. Sputtering is Co-24 with an outer diameter of 5 inches
Using an atomic% Pt target, the target-substrate distance was 170 mm, the Ar sputtering pressure containing oxygen was 12 Pa, and the applied power was 120 W. Regarding the CoPtO film, by controlling the time during sputtering,
Various film thicknesses were formed.

【0067】最後に、CoPtO膜上にスパッタリング
により保護膜として厚さ8nmのカーボン膜を形成し
た。スパッタリングは、外径5インチのCo−24原子
%Ptターゲットを用い、ターゲット−基板間距離17
0mm、Arスパッタ圧2Pa、投入電力600W下で
行った。
Finally, a carbon film having a thickness of 8 nm was formed as a protective film on the CoPtO film by sputtering. For sputtering, a Co-24 atom% Pt target having an outer diameter of 5 inches was used, and the target-substrate distance was 17
0 mm, Ar sputtering pressure 2 Pa, input power 600 W.

【0068】このようにして作製された、磁性膜の膜厚
が異なる種々の磁気記録媒体について、その保磁力を振
動試料型磁力計(VSM)を用いて測定した。その結果
を図7および第2表に示す。
The coercive force of various magnetic recording media thus produced having different magnetic film thicknesses was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). The results are shown in FIG. 7 and Table 2.

【0069】[0069]

【表2】 [Table 2]

【0070】図7および第2表から明らかなように、C
oPtO膜の膜厚が14nm以上の磁気記録媒体(試料
3,4)は保磁力が非常に大きいものであった。また、
このときの△Mは小さかった。
As is clear from FIG. 7 and Table 2, C
The magnetic recording media (Samples 3 and 4) having an oPtO film thickness of 14 nm or more had a very large coercive force. Also,
At this time, ΔM was small.

【0071】図8にNb膜上に形成したCoPtO膜の
表面の透過電子顕微鏡像を示す。また、図9にNb膜上
にカーボン膜を介して形成したCoPtO膜の表面の透
過電子顕微鏡像を示す。図8および図9から分かるよう
に、図9に示す組織は、磁性粒子間の非晶質相が広がっ
ている。したがって、Nb膜上にカーボン膜を介して形
成したCoPtO膜は、磁性粒子間の交換相互作用を低
減させていると考えられ、これによりHcが高く、ΔM
が小さくなったと思われる。
FIG. 8 shows a transmission electron microscope image of the surface of the CoPtO film formed on the Nb film. Further, FIG. 9 shows a transmission electron microscope image of the surface of the CoPtO film formed on the Nb film via the carbon film. As can be seen from FIGS. 8 and 9, in the structure shown in FIG. 9, the amorphous phase between magnetic particles is widened. Therefore, it is considered that the CoPtO film formed on the Nb film via the carbon film reduces the exchange interaction between the magnetic particles, which results in high Hc and ΔM
Seems to have become smaller.

【0072】実施例5および6においては、第1の下地
膜としてNb膜を用い、第2の下地膜としてカーボン膜
を用いた例について説明しているが、第1の下地膜の材
料として、Nb、V、およびCrからなる群より選ばれ
た少なくとも一つの元素を含むものを用いても同様の効
果が得られ、第2の下地膜の材料として、ボロン、ボロ
ンナイトライド、および二酸化ケイ素からなる群より選
ばれた少なくとも一つを含むものを用いても同様の効果
が得られる。
In Examples 5 and 6, the Nb film is used as the first underlayer film and the carbon film is used as the second underlayer film. However, as the material of the first underlayer film, The same effect can be obtained by using a material containing at least one element selected from the group consisting of Nb, V, and Cr. As the material for the second underlayer, boron, boron nitride, and silicon dioxide are used. The same effect can be obtained by using a material containing at least one selected from the group consisting of

【0073】[0073]

【発明の効果】以上説明したように本発明の第1の発明
の磁気記録媒体は、基体上に形成された下地膜と、前記
下地膜上に形成されており、CoPtO系合金で構成さ
れた磁性膜とを具備するので、磁性膜の膜厚が薄くて
も、すなわち磁性膜の残留磁化量(Mr)と磁性膜の膜
厚(t)の積が小さくても、高い保磁力を示す高密度記
録に適したものである。
As described above, the magnetic recording medium of the first invention of the present invention is composed of a base film formed on a substrate and a CoPtO-based alloy formed on the base film. Since the magnetic film is provided, even if the film thickness of the magnetic film is thin, that is, even if the product of the residual magnetization amount (Mr) of the magnetic film and the film thickness (t) of the magnetic film is small, a high coercive force is exhibited. It is suitable for density recording.

【0074】これにより、磁気ヘッドで記録した際の磁
気記録媒体の磁化遷移幅を小さくすることができ、記録
密度を高めることができる。また、磁化遷移幅が小さく
なることにより、磁化遷移領域からのノイズ量が小さく
なり、磁気記録媒体のS/N比が向上する。また、磁性
膜内で磁気異方性の大きさが揃うことにより、熱擾乱の
影響が少なくなる。
This makes it possible to reduce the width of the magnetic transition of the magnetic recording medium when recording with the magnetic head and increase the recording density. In addition, since the width of the magnetization transition is reduced, the amount of noise from the magnetization transition region is reduced, and the S / N ratio of the magnetic recording medium is improved. In addition, since the magnetic anisotropy is uniform in the magnetic film, the influence of thermal agitation is reduced.

【0075】また、本発明の第2の発明の磁気記録媒体
は、基体上に形成されており、体心立方格子を形成する
結晶構造を有する結晶で構成された第1の下地膜と、前
記第1の下地膜上に形成されており、非晶質材料で構成
された第2の下地膜と、前記第2の下地膜上に形成され
ており、CoPtO系合金で構成された磁性膜とを具備
するので、磁性膜中において磁性粒子が磁気的に分離さ
れており、高い保磁力を示す高密度記録に適したもので
ある。
The magnetic recording medium according to the second aspect of the present invention is formed on a substrate and has a first underlayer composed of crystals having a crystal structure forming a body-centered cubic lattice; A second underlayer film formed on the first underlayer film and made of an amorphous material; and a magnetic film formed on the second underlayer film and made of a CoPtO-based alloy. Therefore, the magnetic particles are magnetically separated in the magnetic film, which is suitable for high-density recording showing a high coercive force.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の発明にかかる磁気記録媒体を示
す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a magnetic recording medium according to a first invention of the present invention.

【図2】本発明の第1の発明にかかる磁気記録媒体にお
ける磁性膜の磁化量を示す特性図。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing a magnetization amount of a magnetic film in the magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention.

【図3】本発明の第1の発明にかかる磁気記録媒体の磁
気特性を示す特性図。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing magnetic characteristics of the magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention.

【図4】本発明の第1の発明にかかる磁気記録媒体の磁
気特性を示す特性図。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing magnetic characteristics of the magnetic recording medium according to the first aspect of the present invention.

【図5】本発明の第2の発明にかかる磁気記録媒体を示
す断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a magnetic recording medium according to a second invention of the present invention.

【図6】本発明の第2の発明にかかる磁気記録媒体にお
ける保磁力の第2の下地膜の膜厚依存性を示す特性図。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the film thickness dependence of the coercive force of the second underlayer film in the magnetic recording medium according to the second invention of the present invention.

【図7】本発明の第2の発明にかかる磁気記録媒体にお
ける保磁力の磁性膜の膜厚依存性を示す特性図。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing the dependence of coercive force on the thickness of a magnetic film in a magnetic recording medium according to a second aspect of the present invention.

【図8】Nb下地膜のみを有する従来の磁気記録媒体を
示す顕微鏡写真。
FIG. 8 is a micrograph showing a conventional magnetic recording medium having only an Nb underlayer.

【図9】Nb下地膜上にカーボン下地膜を形成した本発
明の第2の発明にかかる磁気記録媒体を示す顕微鏡写
真。
FIG. 9 is a micrograph showing a magnetic recording medium according to the second invention of the present invention in which a carbon underlayer is formed on an Nb underlayer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,21…基体、12…下地膜、13,24…磁性
膜、22…第1の下地膜、23…第2の下地膜、25…
保護膜。
11, 21 ... Base, 12 ... Underlayer film, 13, 24 ... Magnetic film, 22 ... First underlayer film, 23 ... Second underlayer film, 25 ...
Protective film.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に形成されており、バナジウムを
主成分とする材料から構成された下地膜と、前記下地膜
上に形成されており、CoPtO系合金で構成された磁
性膜とを具備することを特徴とする磁気記録媒体。
1. A base film formed on a base body and made of a material containing vanadium as a main component, and a magnetic film formed on the base film and made of a CoPtO-based alloy. A magnetic recording medium characterized by:
【請求項2】 前記下地膜により前記基体を構成する材
料と前記CoPtO系合金が格子整合されている請求項
1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the material forming the substrate and the CoPtO-based alloy are lattice-matched by the base film.
【請求項3】 基体上に形成された下地膜と、前記下地
膜上に形成されており、CoPtO系合金で構成された
磁性膜とを具備し、前記磁性膜の磁化量v・Isbが0<
v・Isb≦0.3×10-14 emuを満足することを特
徴とする磁気記録媒体。
3. A base film formed on a substrate, and a magnetic film formed on the base film and made of a CoPtO-based alloy, wherein the magnetization amount v · I sb of the magnetic film is 0 <
A magnetic recording medium characterized by satisfying v · I sb ≦ 0.3 × 10 −14 emu.
【請求項4】 前記磁性膜の面内方向における残留磁化
量と前記磁性膜の膜厚との積Mr・tおよび磁性膜の磁
化量v・Isbの比(Mr・t/v・Isb)が3.5×1
11個/cm2 以上である請求項3記載の磁気記録媒体。
4. The ratio (Mr · t / v · I sb) of the product Mr · t of the residual magnetization amount in the in-plane direction of the magnetic film and the film thickness of the magnetic film and the magnetization amount v · I sb of the magnetic film. ) Is 3.5 × 1
The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the number is 0 11 pieces / cm 2 or more.
【請求項5】 前記下地膜は、バナジウムを主成分とす
る材料から構成されている請求項3記載の磁気記録媒
体。
5. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the base film is made of a material whose main component is vanadium.
【請求項6】 基体上に形成された下地膜と、前記下地
膜上に形成されており、CoPtO系合金で構成された
磁性膜とを具備し、前記磁性膜の面内方向における残留
磁化量と前記磁性膜の膜厚との積Mr・tに対する保磁
力Hcの値Hc/(Mr・t)が少なくとも6000で
あることを特徴とする磁気記録媒体。
6. A residual magnetization amount in the in-plane direction of the magnetic film, comprising: a base film formed on a substrate; and a magnetic film formed on the base film and made of a CoPtO-based alloy. A magnetic recording medium having a value Hc / (Mr · t) of coercive force Hc with respect to the product Mr · t of the magnetic film and the film thickness of the magnetic film is at least 6000.
【請求項7】 前記下地膜は、バナジウムを主成分とす
る材料から構成されている請求項6記載の磁気記録媒
体。
7. The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the base film is made of a material whose main component is vanadium.
【請求項8】 基体上に形成された下地膜と、前記下地
膜上に形成されており、CoPtO系合金で構成された
磁性膜とを具備し、前記磁性膜の膜厚が15nm以下で
あり、前記磁性膜の面内方向における抗磁力角形S*
0.4〜0.82であることを特徴とする磁気記録媒
体。
8. A base film formed on a substrate, and a magnetic film formed on the base film and made of a CoPtO-based alloy, wherein the magnetic film has a thickness of 15 nm or less. A magnetic recording medium, wherein the coercive force square S * in the in-plane direction of the magnetic film is 0.4 to 0.82.
【請求項9】 前記下地膜は、バナジウムを主成分とす
る材料から構成されている請求項8記載の磁気記録媒
体。
9. The magnetic recording medium according to claim 8, wherein the base film is made of a material whose main component is vanadium.
【請求項10】 前記磁性膜を構成するCoPtO系合
金は酸素を少なくとも10原子%含有し、前記磁性膜は
結晶相と前記結晶相よりも酸素を多く含む非晶質相を有
する請求項1記載の磁気記録媒体。
10. The CoPtO-based alloy forming the magnetic film contains at least 10 atomic% oxygen, and the magnetic film has a crystalline phase and an amorphous phase containing more oxygen than the crystalline phase. Magnetic recording medium.
【請求項11】 前記磁性膜が面内方向において磁気異
方性を有する請求項1記載の磁気記録媒体。
11. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic film has magnetic anisotropy in an in-plane direction.
【請求項12】 基体上に形成されており、体心立方格
子を形成する結晶構造を有する結晶で構成された第1の
下地膜と、前記第1の下地膜上に形成されており、非晶
質材料で構成された第2の下地膜と、前記第2の下地膜
上に形成されており、CoPtO系合金で構成された磁
性膜とを具備することを特徴とする磁気記録媒体。
12. A first underlayer film formed on a substrate and made of a crystal having a crystal structure forming a body-centered cubic lattice; and a first underlayer film formed on the first underlayer film. A magnetic recording medium comprising: a second underlayer film made of a crystalline material; and a magnetic film formed on the second underlayer film and made of a CoPtO-based alloy.
【請求項13】 前記第1の下地膜が前記基体上に複数
の島状に形成されている請求項12記載の磁気記録媒
体。
13. The magnetic recording medium according to claim 12, wherein the first underlayer film is formed in a plurality of islands on the substrate.
【請求項14】 前記第1の下地膜を構成する材料がニ
オブ、バナジウム、およびクロムからなる群より選ばれ
た少なくとも一つの元素を含む請求項12記載の磁気記
録媒体。
14. The magnetic recording medium according to claim 12, wherein the material forming the first underlayer contains at least one element selected from the group consisting of niobium, vanadium, and chromium.
【請求項15】 前記第2の下地膜を構成する材料がカ
ーボン、ボロン、ボロンナイトライド、および二酸化ケ
イ素からなる群より選ばれた少なくとも一つを含む請求
項12記載の磁気記録媒体。
15. The magnetic recording medium according to claim 12, wherein the material forming the second underlayer contains at least one selected from the group consisting of carbon, boron, boron nitride, and silicon dioxide.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002157730A (en) * 2000-09-11 2002-05-31 Univ Waseda Magnetic recording medium, its manufacturing method and magnetic recording/reproducing device

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JP4578737B2 (en) * 2000-09-11 2010-11-10 学校法人早稲田大学 Magnetic recording medium and magnetic recording / reproducing apparatus

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