JPH09113934A - Liquid crystal display device and its production - Google Patents

Liquid crystal display device and its production

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JPH09113934A
JPH09113934A JP27439695A JP27439695A JPH09113934A JP H09113934 A JPH09113934 A JP H09113934A JP 27439695 A JP27439695 A JP 27439695A JP 27439695 A JP27439695 A JP 27439695A JP H09113934 A JPH09113934 A JP H09113934A
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substrate
liquid crystal
pixel electrode
switching element
switching elements
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Masanori Funaki
正紀 舟木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device of a reflection type with which the embodiment of high image quality is made possible by increasing the flatness of a reflection surface. SOLUTION: The one surface of a substrate 2 has the specified shapes consisting of recessed parts and projecting parts enclosing the recessed parts longitudinally and transversely respectively at specified pitches. Pixel electrodes 3 consisting of metallic films are formed on the recessed parts and the switching elements 4 are formed on the projecting parts. The switching elements 4 of the respective longitudinal and transverse columns and rows are wired and connected by wirings 9 to the longitudinal and transverse driving lines in proximity thereto. The switching elements 4 on the projecting parts having the specified shapes and the pixel electrodes 3 on the recessed parts are wired and connected by the wirings 9 and transparent electrodes 18 are formed via a liquid crystal layer 17 on the other one surface side of the substrate 2. A substrate for supporting 15 is mounted via a tacky adhesive material 14 on the switching elements 4 and the pixel electrodes 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置とそ
の製造方法に係り、特に、反射面の平坦度を高くして高
画質を実現可能にした反射型の液晶表示装置とその製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a reflection type liquid crystal display device capable of realizing high image quality by increasing a flatness of a reflecting surface and a manufacturing method thereof. .

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置はブラウン管に代わる表示
装置として、開発が行われている。図1に液晶表示装置
の平面構成例を示す。ここでは、4×4画素で構成して
いるが、画素数は必要に応じて増やして使用する。1画
素は1個の画素電極3と1個のスイッチング素子4で構
成される。スイッチング素子4は通常はFETで作る。
FETの歩留りを考慮して、1画素を1個の画素電極3
と複数のスイッチング素子4で構成してもよい。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device has been developed as a display device to replace a cathode ray tube. FIG. 1 shows a planar configuration example of a liquid crystal display device. Although the number of pixels is 4 × 4 here, the number of pixels may be increased as needed. One pixel is composed of one pixel electrode 3 and one switching element 4. The switching element 4 is usually made of FET.
Considering the yield of FETs, one pixel has one pixel electrode 3
And a plurality of switching elements 4.

【0003】縦方向駆動部5と横方向駆動部6に各々縦
横の駆動線7,8が接続され、この駆動線7,8に供給
されるクロック信号に同期して、特定のスイッチング素
子4が駆動されて画素電極3に電圧が印加される。例え
ば、縦方向駆動部5と横方向駆動部6を各々ホールド回
路と走査回路で構成し、縦横の駆動線7,8を各々ドレ
インバスとゲートバスで構成する。
Vertical and horizontal drive lines 7 and 8 are connected to the vertical drive unit 5 and the horizontal drive unit 6, respectively, and a specific switching element 4 operates in synchronization with a clock signal supplied to the drive lines 7 and 8. It is driven and a voltage is applied to the pixel electrode 3. For example, the vertical drive unit 5 and the horizontal drive unit 6 are each configured by a hold circuit and a scanning circuit, and the vertical and horizontal drive lines 7 and 8 are configured by a drain bus and a gate bus, respectively.

【0004】画素電極と透明電極は液晶層をはさんでお
り、この画素電極と透明電極間の電圧で液晶の状態を変
化させて、液晶表示を実現する。
The pixel electrode and the transparent electrode sandwich a liquid crystal layer, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode changes the state of the liquid crystal to realize a liquid crystal display.

【0005】液晶表示装置には、直視型と投影型があ
る。このうち投影型には、反射型と透過型があり、透過
型に比べて反射型の液晶表示装置は光の利用効率が高く
高輝度にできるという利点がある。反射型の液晶表示装
置は反射面の平坦度が画質に直接に結び付いているた
め、高画質にするには反射面の平坦度を上げる必要があ
る。
The liquid crystal display device is classified into a direct view type and a projection type. Among them, the projection type includes a reflection type and a transmission type. Compared with the transmission type, the reflection type liquid crystal display device has an advantage that light utilization efficiency is high and brightness can be increased. In the reflection type liquid crystal display device, the flatness of the reflecting surface is directly linked to the image quality, and therefore it is necessary to increase the flatness of the reflecting surface in order to obtain high image quality.

【0006】従来、反射面の平坦度や画質が必ずしも十
分でなかった理由の1つには、スイッチング素子と画素
電極とを基板の同じ側に形成し、その上に液晶層と透明
電極を形成したことが挙げられる。それを解決するた
め、スイッチング素子と画素電極とを基板の別の側にそ
れぞれ形成し、基板に開けたヴィアホールでスイッチン
グ素子と画素電極とを電気的に接続し、この画素電極に
重ねて液晶層と透明電極とを形成した液晶表示装置が考
えられる。
Conventionally, one of the reasons why the flatness of the reflecting surface and the image quality are not always sufficient is that the switching element and the pixel electrode are formed on the same side of the substrate, and the liquid crystal layer and the transparent electrode are formed thereon. What you have done. In order to solve the problem, a switching element and a pixel electrode are formed on different sides of the substrate, and the switching element and the pixel electrode are electrically connected by a via hole opened in the substrate, and the liquid crystal is superposed on the pixel electrode. A liquid crystal display device having a layer and a transparent electrode is conceivable.

【0007】この液晶表示装置の断面構造図を図2に示
す。ここでは、簡単のため1画素分を示してある。基板
2は絶縁性のガラス基板とし、スイッチング素子4はT
FT(Thin-FilmTransistor)としている。また、画素
電極3の材料はアルミニウムとし、画素電極3の表面は
反射面を兼ねている。
FIG. 2 shows a cross-sectional structural view of this liquid crystal display device. Here, for simplification, one pixel is shown. The substrate 2 is an insulating glass substrate, and the switching element 4 is T
FT (Thin-Film Transistor). The material of the pixel electrode 3 is aluminum, and the surface of the pixel electrode 3 also serves as a reflecting surface.

【0008】図2の液晶表示装置では、基板2の片面側
にスイッチング素子4と駆動線(図示せず)があり、基
板2の他の片面側に画素電極3があり、この画素電極3
とスイッチング素子4とを基板2に開けたヴィアホール
20で接続している。スイッチング素子4の上には粘着
物質14をはさんで支持用基板15がある。この粘着物
質14は絶縁性としているが、もし導電性の場合はスイ
ッチング素子4や駆動線と粘着物質14との間に絶縁膜
を介在させるとよい。スイッチング素子4や駆動線を保
護したい場合も同様である。
In the liquid crystal display device shown in FIG. 2, the switching element 4 and the drive line (not shown) are provided on one side of the substrate 2, and the pixel electrode 3 is provided on the other side of the substrate 2.
The switching element 4 is connected to the switching element 4 through a via hole 20 formed in the substrate 2. On the switching element 4, there is a supporting substrate 15 sandwiching the adhesive substance 14. The adhesive substance 14 is insulative, but if electrically conductive, an insulating film may be interposed between the switching element 4 or the drive line and the adhesive substance 14. The same applies when it is desired to protect the switching element 4 and the drive line.

【0009】基板2は研磨されその板厚が薄くされてい
るため、支持用基板15が液晶表示装置を支持してい
る。画素電極3と透明電極18の間には液晶層17が介
在している。光は基板2の他方の片面側(図2の下側)
から当たり、反射面を兼ねる画素電極3の表面で反射さ
れる。
Since the substrate 2 is polished and thinned, the supporting substrate 15 supports the liquid crystal display device. A liquid crystal layer 17 is interposed between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18. The light is on the other side of the substrate 2 (the lower side of FIG. 2)
Then, it is reflected by the surface of the pixel electrode 3 which also serves as a reflecting surface.

【0010】図2の液晶表示装置の製造方法を、図3及
び図4を用いて説明する。
A method of manufacturing the liquid crystal display device of FIG. 2 will be described with reference to FIGS.

【0011】工程1:基板2の片面上にスイッチング素
子4を縦横に各々一定ピッチで形成する(図3
(a))。 工程2:基板2の片面上に駆動線(図示せず)を縦横に
前記一定ピッチで形成し、各スイッチング素子4の近傍
にランドパターン9aを形成すると共に、縦横の各列と
各行のスイッチング素子4をこれらのスイッチング素子
4に近接する縦横の駆動線に配線9にて配線接続し、ス
イッチング素子4とその近傍のランドパターン9aとを
配線9にて配線接続する(図3(a))。 工程3:基板2上に形成されているスイッチング素子
4、駆動線、および、ランドパターン9aの上に粘着物
質14を介して支持用基板15を装着する(図3
(b))。 工程4:基板2の他方の片面を研磨して基板2の板厚を
薄くする(図3(c))。 工程5:基板2の他方の片面に、ランドパターン9aに
至るヴィアホール20を形成する(図3(d))。 工程6:基板2の他方の片面の全域に金属の膜3aを形
成して、この膜3aとランドパターン9aとを接続する
(図3(d),図4(a))。 工程7:この膜3aを各スイッチング素子4に対応付け
て分離し、画素電極3を形成する(図4(b))。 工程8:基板2の他方の片面側に、この片面を覆う液晶
層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形成
する(図4(c))。
Step 1: The switching elements 4 are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate 2 at a constant pitch (see FIG. 3).
(A)). Step 2: drive lines (not shown) are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at the above-mentioned constant pitch, and land patterns 9a are formed in the vicinity of the switching elements 4, and vertical and horizontal columns and rows of switching elements are formed. 4 is connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements 4 by wiring 9, and the switching element 4 and the land pattern 9a in the vicinity thereof are connected by wiring 9 (FIG. 3A). Step 3: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the drive line, and the land pattern 9a formed on the substrate 2 via the adhesive substance 14 (FIG. 3).
(B)). Step 4: The other surface of the substrate 2 is polished to reduce the thickness of the substrate 2 (FIG. 3C). Step 5: A via hole 20 reaching the land pattern 9a is formed on the other surface of the substrate 2 (FIG. 3D). Step 6: A metal film 3a is formed on the entire area of the other surface of the substrate 2, and the film 3a and the land pattern 9a are connected (FIGS. 3D and 4A). Step 7: The film 3a is associated with each switching element 4 and separated to form the pixel electrode 3 (FIG. 4B). Step 8: A liquid crystal layer 17 covering this one surface and a transparent electrode 18 covering this liquid crystal layer 17 are formed on the other one surface side of the substrate 2 (FIG. 4C).

【0012】基板2をシリコン基板のような半導体基板
で構成した場合は、図5のように、基板2と画素電極3
の間に絶縁膜12を形成する必要がある。この半導体基
板上にスイッチング素子4を直接形成してもよい。
When the substrate 2 is composed of a semiconductor substrate such as a silicon substrate, the substrate 2 and the pixel electrode 3 are formed as shown in FIG.
It is necessary to form the insulating film 12 between them. The switching element 4 may be directly formed on this semiconductor substrate.

【0013】画素電極3の表面を反射面として用いない
場合は、図6のように、誘電体多層膜などの反射層16
を画素電極3と液晶層17の間に介在させるとよい。
When the surface of the pixel electrode 3 is not used as a reflection surface, a reflection layer 16 such as a dielectric multilayer film is used as shown in FIG.
Is preferably interposed between the pixel electrode 3 and the liquid crystal layer 17.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の図3及
び図4に示す製造方法では、画素電極3の表面や反射層
16の表面からなる反射面は充分な平坦度を達成できな
い場合がある。図2から判るように、分離して形成され
た画素電極3間に隙間ができる。この隙間周辺の平坦度
が劣化して光散乱が起こったり、画素電極3間の局所的
な電位差で隙間の液晶の状態が変化して配向乱れが起こ
ったりして、画質が劣化するからである。
However, in the manufacturing method shown in FIG. 3 and FIG. 4, there are cases where the reflecting surface composed of the surface of the pixel electrode 3 and the surface of the reflecting layer 16 cannot achieve sufficient flatness. . As can be seen from FIG. 2, a gap is formed between the pixel electrodes 3 formed separately. This is because the flatness around the gap is deteriorated to cause light scattering, or the local potential difference between the pixel electrodes 3 changes the state of the liquid crystal in the gap to cause alignment disorder, which deteriorates the image quality. .

【0015】また、画素電極3の表面におけるヴィアホ
ール20を充填してなる部分には窪みができ、この部分
でも平坦度が劣化して光散乱が起こり、画質が劣化する
からである。
Further, a recess is formed in the portion of the surface of the pixel electrode 3 which is filled with the via hole 20, and the flatness is deteriorated also in this portion, light scattering occurs, and the image quality is deteriorated.

【0016】このように、基板の裏面に画素電極を形成
したときに反射面を兼ねる画素電極の表面の平坦度が劣
化しないような液晶表示装置およびその製造方法の開発
が望まれる。また、画素電極間の隙間に液晶が位置しな
いような液晶表示装置およびその製造方法の開発が望ま
れる。
As described above, it is desired to develop a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof in which the flatness of the surface of the pixel electrode which also serves as a reflecting surface does not deteriorate when the pixel electrode is formed on the back surface of the substrate. Further, it is desired to develop a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not positioned in the gap between the pixel electrodes.

【0017】本発明は、上記した従来技術の課題を解決
するためになされたものであって、その目的は、反射型
の液晶表示装置において、基板の裏面に画素電極を形成
する場合に、反射面を兼ねる画素電極の表面の平坦度が
高く、かつ、製造工程が減少するような液晶表示装置と
その製造方法を提供することにある。また、反射面の平
坦度が高い他の液晶表示装置とその製造方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a reflection type liquid crystal display device in which a pixel electrode is formed on the back surface of a substrate. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof in which the flatness of the surface of the pixel electrode which also serves as a surface is high and the manufacturing process is reduced. Another object of the present invention is to provide another liquid crystal display device having a highly flat reflective surface and a method for manufacturing the same.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る液晶表示
装置では、一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とか
ら構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備えた
基板と、凹部上に前記一定形状ごとに形成された、凹部
を覆う金属の膜の画素電極と、凸部上に前記一定形状ご
とに形成された、画素電極と配線接続されているスイッ
チング素子と、縦横の各列と各行のスイッチング素子に
近接した、これらのスイッチング素子に配線接続されて
いる縦横の駆動線と、凹部と凸部とを備えた基板の片面
とは反対側の、研磨された片面を覆う液晶層と、この液
晶層を覆う透明電極と、基板上に形成されたスイッチン
グ素子および画素電極の上に粘着物質を介して装着され
た支持用基板と、を備えていることを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally. A pixel electrode of a metal film that covers the concave portion and is formed on the concave portion in each of the constant shapes; a switching element that is formed on the convex portion in the constant shape and that is connected to the pixel electrode by wiring; The vertical and horizontal drive lines, which are close to the switching elements of each column and each row, are connected to these switching elements by wiring, and the one surface of the substrate opposite to the one surface of the substrate provided with the concave portions and the convex portions, the polished one surface of A liquid crystal layer for covering, a transparent electrode for covering the liquid crystal layer, and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive substance. .

【0019】基板の片面における一定の深さの凹部に金
属の膜からなる画素電極を形成し、この凹部の表面に接
する画素電極の表面で反射面を構成しているので、平坦
な反射面を得ることができる。
Since a pixel electrode made of a metal film is formed in a concave portion having a certain depth on one surface of the substrate and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the concave portion constitutes the reflecting surface, a flat reflecting surface is formed. Obtainable.

【0020】請求項2に係る液晶表示装置では、一定の
深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定
形状を縦横に各々一定ピッチで備えた基板と、凹部上に
前記一定形状ごとに形成された、凹部を覆う金属の膜の
画素電極と、凸部上に前記一定形状ごとに形成された、
画素電極と配線接続されているスイッチング素子と、縦
横の各列と各行のスイッチング素子に近接した、これら
のスイッチング素子に配線接続されている縦横の駆動線
と、凹部と凸部とを備えた基板の片面とは反対側の、画
素電極の下面と同一平面を構成する片面を覆う液晶層
と、この液晶層を覆う透明電極と、基板上に形成された
スイッチング素子および画素電極の上に粘着物質を介し
て装着された支持用基板と、を備えていることを特徴と
する。
According to another aspect of the liquid crystal display device of the present invention, the substrate is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in the vertical and horizontal directions. A pixel electrode made of a metal film that covers the concave portion, formed for each shape, and formed for each fixed shape on the convex portion,
A substrate provided with a switching element wiring-connected to the pixel electrode, vertical and horizontal drive lines wiring-connected to the switching elements adjacent to the vertical and horizontal columns and rows, and wiring lines connected to these switching elements. Liquid crystal layer that covers the one surface that is flush with the lower surface of the pixel electrode, that is, the transparent electrode that covers the liquid crystal layer, and the adhesive material on the switching element and the pixel electrode that are formed on the substrate. And a supporting substrate attached via the.

【0021】基板におけるスイッチング素子を有する面
の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この画素
電極の下面は反射面を構成しているので、平坦な反射面
を得ることができる。
Since the back surface of the surface of the substrate having the switching element constitutes the same plane as the lower surface of the pixel electrode, and the lower surface of this pixel electrode constitutes the reflective surface, a flat reflective surface can be obtained.

【0022】裏面側にはこの同一平面を覆う液晶層を介
して透明電極が形成されており、画素電極と透明電極間
の電圧がそのまま液晶層にかかるので、画素電極と透明
電極間に基板や他の層がある場合に比べて液晶の状態を
変化させる両電極間の電圧を低くすることができ、液晶
の状態を変化させる効率を高くすることができる。
On the back side, a transparent electrode is formed via a liquid crystal layer covering the same plane, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the liquid crystal layer as it is. The voltage between both electrodes that changes the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where other layers are provided.

【0023】請求項3に係る液晶表示装置の製造方法
は、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面上にスイッチング素子を縦横に各々
一定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面に一定の深さの凹部を、スイッチン
グ素子の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピッチで形
成する。 工程3:基板の片面の全域に金属の膜を形成する。 工程4:その膜を凹部毎に分離して凹部を覆う画素電極
を形成する。 工程5:凹部を囲む凸部上には駆動線を縦横に前記一定
ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチ
ング素子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の
駆動線に配線接続し、スイッチング素子とこのスイッチ
ング素子に近接する1個の画素電極とを配線接続する。 工程6:基板上に形成されているスイッチング素子、画
素電極、および、駆動線の上に粘着物質を介して支持用
基板を装着する。 工程7:基板の他方の片面を研磨して、基板の凹部の板
厚を薄くし、または、各画素電極を露出させる。 工程8:基板の他方の片面側には、この片面を覆う液晶
層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to a third aspect is characterized by performing the following steps. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: Recesses having a constant depth are formed on one surface of the substrate in the vertical and horizontal directions at the constant pitch while avoiding the position of the switching element. Step 3: A metal film is formed on the entire surface of one side of the substrate. Step 4: The film is separated for each recess to form a pixel electrode covering the recess. Step 5: Driving lines are formed vertically and horizontally on the convex portion surrounding the concave portion at the above-mentioned constant pitch, and switching elements in each vertical and horizontal column and each row are connected to vertical and horizontal driving lines in proximity to these switching elements. The switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode. Step 8: A liquid crystal layer that covers this one surface and a transparent electrode that covers this liquid crystal layer are formed on the other one surface side of the substrate.

【0024】各画素電極を露出させた場合は、基板の他
方の片面を研磨してなる研磨面は画素電極の表面と同一
平面を構成し、この画素電極の表面で反射面を構成して
いるので、平坦な反射面を得ることができる。各画素電
極を露出させない場合は、基板の片面における一定の深
さの凹部に金属の膜からなる画素電極を形成し、この凹
部の表面に接する画素電極の表面で反射面を構成してい
るので、平坦な反射面を得ることができる。
When each pixel electrode is exposed, the polishing surface formed by polishing the other surface of the substrate forms the same plane as the surface of the pixel electrode, and the surface of this pixel electrode forms the reflecting surface. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained. If each pixel electrode is not exposed, a pixel electrode made of a metal film is formed in a recess of a certain depth on one surface of the substrate, and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the recess forms a reflective surface. A flat reflecting surface can be obtained.

【0025】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う液晶層とこの液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧が凹部
の薄い板厚の基板と液晶層とにかかるので、または、そ
のまま液晶層にかかるので、この片面を研磨しない場合
に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低く
することができ、液晶の状態を変化させる効率を高くす
ることができる。
The other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and a liquid crystal layer covering this one surface and a transparent electrode covering this liquid crystal layer are formed. Since the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the recess and the liquid crystal layer, or to the liquid crystal layer as it is, the state of the liquid crystal is better than that in the case where one side is not polished. It is possible to reduce the voltage between both electrodes that changes the liquid crystal, and it is possible to increase the efficiency that changes the state of the liquid crystal.

【0026】請求項4に係る液晶表示装置の製造方法
は、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面の全域に金属の膜を形成する。 工程3:その膜を凹部毎に分離して凹部を覆う画素電極
を形成する。 工程4:基板の凹部を囲む凸部上にスイッチング素子を
縦横に各々前記一定ピッチで形成する。 工程5:凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチで形
成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素子を
これらのスイッチング素子に近接する縦横の駆動線に配
線接続し、スイッチング素子とこのスイッチング素子に
近接する1個の画素電極とを配線接続する。 工程6:基板上に形成されているスイッチング素子、画
素電極、および、駆動線の上に粘着物質を介して支持用
基板を装着する。 工程7:基板の他方の片面を研磨して、基板の凹部の板
厚を薄くし、または、各画素電極を露出させる。 工程8:基板の他方の片面側には、この片面を覆う液晶
層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth aspect is characterized by performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: A metal film is formed on the entire surface of one side of the substrate. Step 3: The film is separated for each recess to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: Switching elements are formed vertically and horizontally on the convex portions surrounding the concave portions of the substrate at the constant pitch. Step 5: The drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the above-mentioned constant pitch, and the switching elements of each vertical and horizontal column and each row are connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements to form the switching elements. A wiring is connected to one pixel electrode adjacent to the switching element. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode. Step 8: A liquid crystal layer that covers this one surface and a transparent electrode that covers this liquid crystal layer are formed on the other one surface side of the substrate.

【0027】各画素電極を露出させた場合は、基板の他
方の片面を研磨してなる研磨面は画素電極の表面と同一
平面を構成し、この画素電極の表面で反射面を構成して
いるので、平坦な反射面を得ることができる。各画素電
極を露出させない場合は、基板の片面における一定の深
さの凹部に金属の膜からなる画素電極を形成し、この凹
部の表面に接する画素電極の表面で反射面を構成してい
るので、平坦な反射面を得ることができる。
When each pixel electrode is exposed, the polishing surface obtained by polishing the other surface of the substrate constitutes the same plane as the surface of the pixel electrode, and the surface of this pixel electrode constitutes the reflecting surface. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained. If each pixel electrode is not exposed, a pixel electrode made of a metal film is formed in a recess of a certain depth on one surface of the substrate, and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the recess forms a reflective surface. A flat reflecting surface can be obtained.

【0028】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う液晶層とこの液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧が凹部
の薄い板厚の基板と液晶層とにかかるので、または、そ
のまま液晶層にかかるので、この片面を研磨しない場合
に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低く
することができ、液晶の状態を変化させる効率を高くす
ることができる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and a liquid crystal layer covering this one surface and a transparent electrode covering this liquid crystal layer are formed. Since the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the recess and the liquid crystal layer, or to the liquid crystal layer as it is, the state of the liquid crystal is better than that in the case where one side is not polished. It is possible to reduce the voltage between both electrodes that changes the liquid crystal, and it is possible to increase the efficiency that changes the state of the liquid crystal.

【0029】請求項5に係る液晶表示装置では、一定の
深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定
形状を縦横に各々一定ピッチで備えた基板と、凹部上に
前記一定形状ごとに形成された、凹部を覆う金属の膜の
画素電極または不純物をドープした半導体の膜の画素電
極と、凸部上に前記一定形状ごとに形成された、画素電
極と配線接続されているスイッチング素子と、縦横の各
列と各行のスイッチング素子に近接した、これらのスイ
ッチング素子に配線接続されている縦横の駆動線と、凹
部と凸部とを備えた基板の片面とは反対側の、研磨され
た片面を覆う誘電体多層膜の反射層と、この反射層を覆
う液晶層と、この液晶層を覆う透明電極と、基板上に形
成されたスイッチング素子および画素電極の上に粘着物
質を介して装着された支持用基板と、を備えていること
を特徴とする。
In the liquid crystal display device according to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in each of the vertical and horizontal directions, and the constant number on the concave portion. The pixel electrode of a metal film or the pixel electrode of a semiconductor film doped with an impurity, which is formed for each shape, is connected to the pixel electrode which is formed on the projection for each of the certain shapes, and is connected to the pixel electrode by wiring. Switching elements, vertical and horizontal drive lines, which are adjacent to the switching elements in each vertical and horizontal column and each row, and are connected to these switching elements by wiring, and on the opposite side of one side of the substrate having concave and convex portions, A reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the polished one side, a liquid crystal layer that covers the reflective layer, a transparent electrode that covers the liquid crystal layer, and an adhesive substance on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate. Fitted through Characterized in that it comprises a and a supporting substrate.

【0030】基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層で覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
Since the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film and the reflective surface is constituted by the surface of this reflective layer, a flat reflective surface can be obtained.

【0031】請求項6に係る液晶表示装置では、一定の
深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定
形状を縦横に各々一定ピッチで備えた基板と、凹部上に
前記一定形状ごとに形成された、凹部を覆う金属の膜の
画素電極または不純物がドープされた半導体の膜の画素
電極と、凸部上に前記一定形状ごとに形成された、画素
電極と配線接続されているスイッチング素子と、縦横の
各列と各行のスイッチング素子に近接した、これらのス
イッチング素子に配線接続されている縦横の駆動線と、
凹部と凸部とを備えた基板の片面とは反対側の、画素電
極の下面と同一平面を構成する片面を覆う誘電体多層膜
の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、この液晶層を
覆う透明電極と、基板上に形成されたスイッチング素子
および画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持
用基板と、を備えていることを特徴とする。
According to another aspect of the liquid crystal display device of the present invention, the substrate is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in each of the vertical and horizontal directions, and the constant portion on the concave portion. A pixel electrode of a metal film or a pixel electrode of a semiconductor film doped with an impurity, which is formed for each shape and covers the recess, and a pixel electrode which is formed on the projection for each of the certain shapes and is connected to the pixel electrode by wiring. Switching elements that are present, and vertical and horizontal drive lines that are connected to these switching elements in the vicinity of the vertical and horizontal columns and the switching elements in each row,
A reflective layer of a dielectric multi-layer film that covers one surface of the substrate, which has the concave portion and the convex portion and that is flush with the lower surface of the pixel electrode, and a liquid crystal layer that covers the reflective layer and the liquid crystal. It is characterized by comprising a transparent electrode covering the layer, and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive material.

【0032】基板におけるスイッチング素子を有する面
の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この同一
平面を誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層
の表面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得
ることができる。
The rear surface of the surface of the substrate having the switching elements forms the same plane as the lower surface of the pixel electrode, and the same plane is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer constitutes the reflective surface. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0033】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層とこの反射層を覆う液晶層とを介して透明電極が形成
されており、画素電極と透明電極間の電圧がそのまま反
射層と液晶層とにかかるので、画素電極と透明電極間に
基板や他の層がある場合に比べて液晶の状態を変化させ
る両電極間の電圧を低くすることができ、液晶の状態を
変化させる効率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode is formed on the back surface side via a reflection layer covering the same plane and a liquid crystal layer covering the reflection layer, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is the same as that of the reflection layer and the liquid crystal. Since it is applied to a layer, the voltage between both electrodes that changes the state of the liquid crystal can be lowered compared to the case where there is a substrate or another layer between the pixel electrode and the transparent electrode, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be improved. Can be higher.

【0034】請求項7に係る液晶表示装置の製造方法
は、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面上にスイッチング素子を縦横に各々
一定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面に一定の深さの凹部を、スイッチン
グ素子の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピッチで形
成する。 工程3:基板の片面の全域に金属の膜または不純物をド
ープした半導体の膜を形成する。 工程4:その膜を凹部毎に分離して凹部を覆う画素電極
を形成する。 工程5:凹部を囲む凸部上には駆動線を縦横に前記一定
ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチ
ング素子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の
駆動線に配線接続し、スイッチング素子とこのスイッチ
ング素子に近接する1個の画素電極とを配線接続する。 工程6:基板上に形成されているスイッチング素子、画
素電極、および、駆動線の上に粘着物質を介して支持用
基板を装着する。 工程7:基板の他方の片面を研磨して、基板の凹部の板
厚を薄くし、または、各画素電極を露出させる。 工程8:基板の他方の片面側には、この片面を覆う誘電
体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、この
液晶層を覆う透明電極とを形成する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to a seventh aspect is characterized by performing the following steps. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: Recesses having a constant depth are formed on one surface of the substrate in the vertical and horizontal directions at the constant pitch while avoiding the position of the switching element. Step 3: A metal film or a semiconductor film doped with impurities is formed on the entire surface of one side of the substrate. Step 4: The film is separated for each recess to form a pixel electrode covering the recess. Step 5: Driving lines are formed vertically and horizontally on the convex portion surrounding the concave portion at the above-mentioned constant pitch, and switching elements in each vertical and horizontal column and each row are connected to vertical and horizontal driving lines in proximity to these switching elements. The switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode. Step 8: On the other one surface side of the substrate, a reflective layer of a dielectric multilayer film that covers this one surface, a liquid crystal layer that covers this reflective layer, and a transparent electrode that covers this liquid crystal layer are formed.

【0035】基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層が覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
Since the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film and the surface of this reflective layer constitutes the reflective surface, a flat reflective surface can be obtained.

【0036】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and the reflective layer covering this one surface and the liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0037】請求項8に係る液晶表示装置の製造方法
は、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面の全域に金属の膜または不純物をド
ープした半導体の膜を形成する。 工程3:その膜を凹部毎に分離して凹部を覆う画素電極
を形成する。 工程4:基板の凹部を囲む凸部上にスイッチング素子を
縦横に各々前記一定ピッチで形成する。 工程5:凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチで形
成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素子を
これらのスイッチング素子に近接する縦横の駆動線に配
線接続し、スイッチング素子とこのスイッチング素子に
近接する1個の画素電極とを配線接続する。 工程6:基板上に形成されているスイッチング素子、画
素電極、および、駆動線の上に粘着物質を介して支持用
基板を装着する。 工程7:基板の他方の片面を研磨して、基板の凹部の板
厚を薄くし、または、各画素電極を露出させる。 工程8:基板の他方の片面側には、この片面を覆う誘電
体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、この
液晶層を覆う透明電極とを形成する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an eighth aspect is characterized by performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: A metal film or a semiconductor film doped with impurities is formed on the entire surface of one side of the substrate. Step 3: The film is separated for each recess to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: Switching elements are formed vertically and horizontally on the convex portions surrounding the concave portions of the substrate at the constant pitch. Step 5: The drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the above-mentioned constant pitch, and the switching elements of each vertical and horizontal column and each row are connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements to form the switching elements. A wiring is connected to one pixel electrode adjacent to the switching element. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode. Step 8: On the other one surface side of the substrate, a reflective layer of a dielectric multilayer film that covers this one surface, a liquid crystal layer that covers this reflective layer, and a transparent electrode that covers this liquid crystal layer are formed.

【0038】基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層が覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
The other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer constitutes the reflective surface, so that a flat reflective surface can be obtained.

【0039】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode, and the reflective layer covering this one surface and the liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0040】請求項9に係る液晶表示装置では、一定の
深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定
形状を縦横に各々一定ピッチで備えた基板と、凹部上に
前記一定形状ごとに形成された、凹部を覆う不純物がド
ープされた半導体の膜の画素電極と、この膜の凸部に掛
かる部分に前記一定形状ごとに形成されたスイッチング
素子と、縦横の各列と各行のスイッチング素子に近接し
た、これらのスイッチング素子に配線接続されている縦
横の駆動線と、凹部と凸部とを備えた基板の片面とは反
対側の、研磨された片面を覆う誘電体多層膜の反射層
と、この反射層を覆う液晶層と、この液晶層を覆う透明
電極と、基板上に形成されたスイッチング素子および画
素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基板
と、を備えていることを特徴とする。
In a liquid crystal display device according to a ninth aspect, a substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in each of the vertical and horizontal directions; Pixel electrodes of an impurity-doped semiconductor film that covers the recesses formed for each shape, switching elements formed for each of the constant shapes at the portions of the film that cover the projections, and each vertical and horizontal column and row Of the dielectric multi-layered film which covers the polished one side opposite to the one side of the substrate provided with the vertical and horizontal drive lines which are wire-connected to these switching elements and which has the concave portion and the convex portion. A reflective layer, a liquid crystal layer covering the reflective layer, a transparent electrode covering the liquid crystal layer, a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive substance, Be equipped with And it features.

【0041】基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層が覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
Since the other polished surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the reflective surface is constituted by the surface of this reflective layer, a flat reflective surface can be obtained.

【0042】また、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは同じ半
導体の膜で接続されているので、これらを新たに導電性
物質等で配線接続する手間をはぶくことができる。
Further, a pixel electrode of a semiconductor film that covers the concave portion is formed for each of the above-mentioned constant shapes, and a switching element is formed for each of the above-mentioned constant shapes at the portion that overlaps the convex portion of this film. Since the switching element and the switching element are connected by the same semiconductor film, it is possible to save the trouble of newly connecting them with a conductive material or the like.

【0043】請求項10に係る液晶表示装置では、一定
の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部とから構成される一
定形状を縦横に各々一定ピッチで備えた基板と、凹部に
前記一定形状ごとに形成された、凹部を覆う不純物がド
ープされた半導体の膜の画素電極と、この膜の凸部に掛
かる部分に前記一定形状ごとに形成されたスイッチング
素子と、縦横の各列と各行のスイッチング素子に近接し
た、これらのスイッチング素子に配線接続されている縦
横の駆動線と、凹部と凸部とを備えた基板の片面とは反
対側の、画素電極の下面と同一平面を構成する片面を覆
う誘電体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層
と、この液晶層を覆う透明電極と、基板上に形成された
スイッチング素子および画素電極の上に粘着物質を介し
て装着された支持用基板と、を備えていることを特徴と
する。
In a liquid crystal display device according to a tenth aspect of the present invention, there is provided a substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and the constant shape of the concave portion. Pixel electrodes of the semiconductor film doped with impurities that cover the concave portions formed in each of the above, switching elements formed in each of the constant shapes in the portion that overlaps the convex portions of this film, and the vertical and horizontal columns and rows One side that is in the same plane as the lower surface of the pixel electrode on the side opposite to the one side of the substrate provided with the vertical and horizontal drive lines that are connected to these switching elements and is connected to these switching elements and the concave and convex portions. And a liquid crystal layer that covers the reflective layer, a transparent electrode that covers the liquid crystal layer, a switching element and a pixel electrode that are formed on the substrate, and are attached via an adhesive substance. For support Characterized in that it comprises a plate, a.

【0044】基板におけるスイッチング素子を有する面
の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この同一
平面を誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層
の表面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得
ることができる。
The rear surface of the surface of the substrate having the switching element forms the same plane as the lower surface of the pixel electrode, and the same plane is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer constitutes the reflective surface. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0045】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層とこの反射層を覆う液晶層とを介して透明電極が形成
されており、画素電極と透明電極間の電圧がそのまま反
射層と液晶層とにかかるので、画素電極と透明電極間に
基板や他の層がある場合に比べて液晶の状態を変化させ
る両電極間の電圧を低くすることができ、液晶の状態を
変化させる効率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode is formed on the back surface side via a reflection layer covering the same plane and a liquid crystal layer covering the reflection layer, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is the same as that of the reflection layer and the liquid crystal. Since it is applied to a layer, the voltage between both electrodes that changes the state of the liquid crystal can be lowered compared to the case where there is a substrate or another layer between the pixel electrode and the transparent electrode, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be improved. Can be higher.

【0046】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは同じ半
導体の膜で接続されているので、これらを新たに導電性
物質等で配線接続する手間をはぶくことができる。
Further, a pixel electrode of a semiconductor film that covers the concave portion is formed for each of the above-mentioned constant shapes, and a switching element is formed for each of the above-mentioned constant shapes at the portion that overlaps the convex portion of this film, and the pixel electrode is formed. Since the switching element and the switching element are connected by the same semiconductor film, it is possible to save the trouble of newly connecting them with a conductive material or the like.

【0047】請求項11に係る液晶表示装置の製造方法
は、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面の全域に不純物をドープした半導体
の膜を形成する。 工程3:その膜を凹部毎に分離して凹部を覆う画素電極
を形成する。 工程4:基板の凹部を囲む凸部上における膜の凸部に掛
かる部分にスイッチング素子を形成する。 工程5:凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチで形
成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素子を
これらのスイッチング素子に近接する縦横の駆動線に配
線接続する。 工程6:基板上に形成されているスイッチング素子、画
素電極、および、駆動線の上に粘着物質を介して支持用
基板を装着する。 工程7:基板の他方の片面を研磨して、基板の凹部の板
厚を薄くし、または、各画素電極を露出させる。 工程8:基板の他方の片面側には、この片面を覆う誘電
体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、この
液晶層を覆う透明電極とを形成する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an eleventh aspect is characterized by performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: An impurity-doped semiconductor film is formed on the entire surface of one side of the substrate. Step 3: The film is separated for each recess to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: A switching element is formed on the convex portion surrounding the concave portion of the substrate on the convex portion of the film. Step 5: The drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the above-mentioned constant pitch, and the switching elements in the vertical and horizontal columns and rows are connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode. Step 8: On the other one surface side of the substrate, a reflective layer of a dielectric multilayer film that covers this one surface, a liquid crystal layer that covers this reflective layer, and a transparent electrode that covers this liquid crystal layer are formed.

【0048】基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層が覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
The other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer constitutes the reflective surface, so that a flat reflective surface can be obtained.

【0049】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Also, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and a reflective layer covering this one surface and a liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0050】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは同じ半
導体の膜で接続されているので、これらを新たに導電性
物質等で配線接続する手間をはぶくことができる。
Further, a pixel electrode of a semiconductor film that covers the concave portion is formed for each of the constant shapes, and a switching element is formed for each of the constant shapes at a portion of the film that extends over the convex portion of the pixel electrode. Since the switching element and the switching element are connected by the same semiconductor film, it is possible to save the trouble of newly connecting them with a conductive material or the like.

【0051】請求項12では、請求項1、請求項2、請
求項5、請求項6、請求項9、または、請求項10記載
の液晶表示装置において、基板と支持用基板との間に、
画素電極毎に対応して形成され画素電極毎に接続されて
いる金属の膜または不純物がドープされた半導体の膜の
第一電極と、この膜の上に絶縁膜を介して形成され透明
電極に接続されている金属の膜または不純物がドープさ
れた半導体の膜の第二電極と、を備えたことを特徴とす
る。
According to a twelfth aspect, in the liquid crystal display device according to the first aspect, the second aspect, the fifth aspect, the sixth aspect, the ninth aspect or the tenth aspect, between the substrate and the supporting substrate,
A first electrode of a metal film or an impurity-doped semiconductor film formed corresponding to each pixel electrode and connected to each pixel electrode, and a transparent electrode formed on this film via an insulating film. And a second electrode of a metal film or a semiconductor film doped with impurities, which is connected to the second electrode.

【0052】画素電極と透明電極に第一電極と第二電極
からなる対向電極を並列接続することで、画素電極と透
明電極間の容量を増加でき、画素電極の電圧を安定化す
ることができる。
By connecting the counter electrode consisting of the first electrode and the second electrode in parallel to the pixel electrode and the transparent electrode, the capacitance between the pixel electrode and the transparent electrode can be increased and the voltage of the pixel electrode can be stabilized. .

【0053】また、液晶層や透明電極とは基板をはさん
で対向電極を形成するので、反射面の平坦度を悪化させ
ずに補助容量を生成することができる。
Further, since the counter electrode is formed by sandwiching the substrate with the liquid crystal layer and the transparent electrode, it is possible to generate the auxiliary capacitance without deteriorating the flatness of the reflecting surface.

【0054】請求項13では、請求項1、請求項2、請
求項5、請求項6、請求項9、または、請求項10記載
の液晶表示装置において、基板が不純物を混入したガラ
ス基板からなることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect, in the liquid crystal display device according to the first aspect, the second aspect, the fifth aspect, the sixth aspect, the ninth aspect, or the tenth aspect, the substrate is a glass substrate mixed with impurities. It is characterized by

【0055】基板に不純物を混入することで、基板は光
を散乱または遮断することができるので、その分は光が
基板を通過しスイッチング素子に到達してスイッチング
素子のON/OFF動作が不安定になるのを防止でき
る。
By mixing impurities into the substrate, the substrate can scatter or block light, so that the light passes through the substrate and reaches the switching element, and the ON / OFF operation of the switching element is unstable. Can be prevented.

【0056】請求項14に係る液晶表示装置の製造方法
では、以下の工程を実行することを特徴とする。 工程1:基板の片面上にスイッチング素子を縦横に各々
一定ピッチで形成する。 工程2:基板の片面上に駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成し、各スイッチング素子の近傍にランドパターン
を形成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素
子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の駆動線
に配線接続し、スイッチング素子とその近傍のランドパ
ターンとを配線接続する。 工程3:基板上に形成されているスイッチング素子、駆
動線、および、ランドパターンの上に粘着物質を介して
支持用基板を装着する。 工程4:基板の他方の片面を研磨して基板の板厚を薄く
する。 工程5:基板の他方の片面に、各スイッチング素子に対
応する凹部を形成すると共に、ランドパターンに至るヴ
ィアホールを凹部の中または凹部の縁に形成する。 工程6:基板の他方の片面の全域に金属の膜を形成し
て、この膜とランドパターンとを接続する。 工程7:基板の他方の片面側を研磨して、基板の他方の
片面を露出させると共に凹部の金属の膜を各々分離して
画素電極を形成する。 工程8:基板の他方の片面側に、この研磨済みの片面を
覆う液晶層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成す
る。
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 14 is characterized in that the following steps are executed. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: drive lines are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at the constant pitch, and land patterns are formed in the vicinity of each switching element, and switching elements in each vertical and horizontal column and each row are brought close to these switching elements. The vertical and horizontal drive lines are connected by wiring, and the switching element and the land pattern in the vicinity thereof are connected by wiring. Step 3: A supporting substrate is mounted on the switching elements, drive lines, and land patterns formed on the substrate via an adhesive material. Step 4: The other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the substrate. Step 5: A recess corresponding to each switching element is formed on the other surface of the substrate, and a via hole reaching the land pattern is formed in the recess or at the edge of the recess. Step 6: A metal film is formed on the entire area of the other surface of the substrate, and the film and the land pattern are connected. Step 7: The other surface of the substrate is polished to expose the other surface of the substrate and the metal film in the recess is separated to form a pixel electrode. Step 8: A liquid crystal layer that covers the polished one surface and a transparent electrode that covers the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate.

【0057】基板の他方の片面に金属の膜を形成してこ
の膜とランドパターンとを接続したときは、膜の表面に
おけるヴィアホールを充填してなる部分に窪みができる
が、この片面側を研磨することで膜を分離して各凹部に
画素電極を形成できると共に、膜の表面をならすことが
でき、画素電極の表面で反射面を構成していることか
ら、平坦な反射面を得ることができる。
When a metal film is formed on the other surface of the substrate and the film and the land pattern are connected to each other, a depression is formed in the portion of the surface of the film filled with the via hole. By polishing, the film can be separated to form pixel electrodes in each recess, and the surface of the film can be leveled, and the surface of the pixel electrode constitutes the reflective surface, so that a flat reflective surface can be obtained. You can

【0058】また、基板の他方の片面側には、この研磨
済みの片面を覆う液晶層と、この液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧をその
まま液晶層にかけて液晶の状態を変化させることができ
る。
A liquid crystal layer covering the polished one surface and a transparent electrode covering the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is directly applied to the liquid crystal. The state of the liquid crystal can be changed over the layers.

【0059】なお、請求項1〜請求項14の液晶表示装
置とその製造方法では、画素電極間の隙間には基板が位
置して液晶が位置しない構造なので、画素電極間の局所
的な電位差による液晶の配向乱れを防止できる。
In the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to claims 1 to 14, since the substrate is located in the gap between the pixel electrodes and the liquid crystal is not located, there is a local potential difference between the pixel electrodes. It is possible to prevent liquid crystal alignment disorder.

【0060】[0060]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施形
態に基づいて説明する。なお、図面の下部にある矢印
は、光の進行方向を表している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings. The arrow at the bottom of the drawing indicates the traveling direction of light.

【0061】図7は、本発明の一実施形態である。ここ
では、基板2はガラス基板とし、スイッチング素子4は
TFTで作ることとする。また、画素電極3の材料はア
ルミニウムとし、この画素電極3の表面は反射面を兼ね
ている。
FIG. 7 shows an embodiment of the present invention. Here, the substrate 2 is a glass substrate, and the switching element 4 is a TFT. The material of the pixel electrode 3 is aluminum, and the surface of the pixel electrode 3 also serves as a reflecting surface.

【0062】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部上に前記一定
形状ごとに形成された、凹部を覆うアルミニウムの膜の
画素電極3と、凸部上に前記一定形状ごとに形成され
た、画素電極3とアルミニウムの配線9にて配線接続さ
れているスイッチング素子4と、縦横の各列と各行のス
イッチング素子4に近接した、これらのスイッチング素
子4にアルミニウムの配線9にて配線接続されている縦
横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部とを備えた基板
2の片面とは反対側の、研磨された片面を覆う液晶層1
7と、この液晶層17を覆う透明電極18と、基板2上
に形成されたスイッチング素子4および画素電極3の上
に粘着物質14を介して装着された支持用基板15と、
を備えている。
In this liquid crystal display device, the substrate 2 is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and on the concave portion for each constant shape. The formed pixel electrode 3 of an aluminum film that covers the concave portion, the switching element 4 that is formed on the convex portion in the above-described fixed shape and is connected to the pixel electrode 3 by the aluminum wiring 9, and the vertical and horizontal directions. A substrate provided with vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each column and each row, and which are connected to these switching elements 4 by aluminum wirings 9, and concave and convex portions. Liquid crystal layer 1 covering the polished one side opposite to the one side
7, a transparent electrode 18 covering the liquid crystal layer 17, a supporting substrate 15 mounted on the switching element 4 and the pixel electrode 3 formed on the substrate 2 via an adhesive substance 14,
It has.

【0063】この液晶表示装置では、画素電極3とスイ
ッチング素子4はヴィアホールを通して接続されるので
はなく、基板2上で単純な配線9で接続されている。
In this liquid crystal display device, the pixel electrode 3 and the switching element 4 are not connected through the via hole but are connected by the simple wiring 9 on the substrate 2.

【0064】基板2の片面における一定の深さの凹部に
アルミニウムの膜からなる画素電極3を形成し、この凹
部の表面に接する画素電極3の表面で反射面を構成して
いるので、平坦な反射面を得ることができる。
A pixel electrode 3 made of an aluminum film is formed in a concave portion having a constant depth on one surface of the substrate 2, and the surface of the pixel electrode 3 which is in contact with the surface of the concave portion constitutes a reflecting surface, so that it is flat. A reflective surface can be obtained.

【0065】かかる構造をとる場合は、画素電極3と液
晶層17の間に残される基板2の凹部の板厚は薄いほど
よい。なぜなら、薄いほど液晶層17にかかる電圧の割
合が大きくなり、液晶の状態を変化させる効率が高くな
るからである。
In the case of adopting such a structure, it is preferable that the plate thickness of the concave portion of the substrate 2 left between the pixel electrode 3 and the liquid crystal layer 17 is thinner. This is because the thinner the ratio, the higher the ratio of the voltage applied to the liquid crystal layer 17 and the higher the efficiency of changing the state of the liquid crystal.

【0066】最も極端な場合、基板2の凹部の板厚は
0、つまり画素電極3が基板2の他方の片面側に露出し
ている状態がよい。図8にその例を示す。
In the most extreme case, it is preferable that the plate thickness of the recess of the substrate 2 is 0, that is, the pixel electrode 3 is exposed on the other side of the substrate 2. FIG. 8 shows an example thereof.

【0067】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部上に前記一定
形状ごとに形成された、凹部を覆うアルミニウムの膜の
画素電極3と、凸部上に前記一定形状ごとに形成され
た、画素電極3とアルミニウムの配線9にて配線接続さ
れているスイッチング素子4と、縦横の各列と各行のス
イッチング素子4に近接した、これらのスイッチング素
子4にアルミニウムの配線9にて配線接続されている縦
横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部とを備えた基板
2の片面とは反対側の、画素電極3の下面と同一平面を
構成する片面を覆う液晶層17と、この液晶層17を覆
う透明電極18と、基板2上に形成されたスイッチング
素子4および画素電極3の上に粘着物質14を介して装
着された支持用基板15と、を備えている。
In this liquid crystal display device, the substrate 2 is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and on the concave portion for each constant shape. The formed pixel electrode 3 of an aluminum film that covers the concave portion, the switching element 4 that is formed on the convex portion in the above-described fixed shape and is connected to the pixel electrode 3 by the aluminum wiring 9, and the vertical and horizontal directions. A substrate provided with vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each column and each row, and which are connected to these switching elements 4 by aluminum wirings 9, and concave and convex portions. 2, a liquid crystal layer 17 that covers the one surface that is flush with the lower surface of the pixel electrode 3 on the opposite side, a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17, a switching element 4 formed on the substrate 2, Pixel electric And the supporting substrate 15 mounted via an adhesive material 14 on the 3, and a.

【0068】基板2の凹部はいわば窓であり、この凹部
を囲む凸部はいわば窓枠である。基板2におけるスイッ
チング素子4を有する面の裏面は画素電極3の下面と同
一平面を構成し、この画素電極3の下面は反射面を構成
しているので、平坦な反射面を得ることができる。
The concave portion of the substrate 2 is, so to speak, a window, and the convex portion surrounding the concave portion is, so to speak, a window frame. Since the back surface of the surface of the substrate 2 having the switching element 4 constitutes the same plane as the lower surface of the pixel electrode 3, and the lower surface of the pixel electrode 3 constitutes the reflecting surface, a flat reflecting surface can be obtained.

【0069】また、裏面側にはこの同一平面を覆う液晶
層17を介して透明電極18が形成されており、画素電
極3と透明電極間18の電圧がそのまま液晶層17にか
かるので、画素電極3と透明電極18間に基板2や他の
層がある場合に比べて液晶の状態を変化させる両電極間
の電圧を低くすることができ、液晶の状態を変化させる
効率を高くすることができる。
A transparent electrode 18 is formed on the back surface side of the liquid crystal layer 17 covering the same plane, and the voltage between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 is applied to the liquid crystal layer 17 as it is. As compared with the case where the substrate 2 or another layer is provided between the transparent electrode 3 and the transparent electrode 18, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered, and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased. .

【0070】次に、このような液晶表示装置の製造方法
を、図9及び図10に基づいて説明する。
Next, a method of manufacturing such a liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

【0071】工程1:基板2の片面上にスイッチング素
子4を縦横に各々一定ピッチで形成する(図9
(a))。基板2の板厚は、例えば1mmとする。 工程2:基板2の片面に一定の深さの凹部2bを、スイ
ッチング素子4の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピ
ッチで形成する(図9(b))。この深さは、例えば5
μmとする。
Step 1: The switching elements 4 are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate 2 at a constant pitch (see FIG. 9).
(A)). The plate thickness of the substrate 2 is, eg, 1 mm. Step 2: Recesses 2b having a constant depth are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at the constant pitch while avoiding the position of the switching element 4 (FIG. 9B). This depth is, for example, 5
μm.

【0072】工程3:基板2の片面の全域に金属の膜3
aを形成する(図9(c))。この金属は、例えばアル
ミニウムとする。 工程4:金属の膜3aをエッチング等により凹部2b毎
に分離し、凹部2bを覆う画素電極3を形成する(図9
(d))。 工程5:凹部2bを囲む凸部2a上には駆動線(図示せ
ず)を縦横に前記一定ピッチで形成すると共に、縦横の
各列と各行のスイッチング素子4をこれらのスイッチン
グ素子4に近接する縦横の駆動線に配線9にて配線接続
し、スイッチング素子4とこのスイッチング素子4に近
接する1個の画素電極3とを配線9にて配線接続する
(図9(d))。アルミニウムの蒸着やエッチング等で
配線接続してもよい。なお、この工程4と工程5を1つ
の工程にまとめてもよい。上記の工程1で、基板2の片
面上に複数のスイッチング素子4を縦横に各々一定ピッ
チで形成し、工程5で、この複数のスイッチング素子4
とこれに近接する1個の画素電極3とを配線9にて配線
接続してもよい。スイッチング素子の歩留りを考慮し
て、1画素を1個の画素電極と複数のスイッチング素子
で構成し、1個の画素電極に複数のスイッチング素子を
配線接続するものもある。
Step 3: A metal film 3 is formed on the entire surface of one side of the substrate 2.
a is formed (FIG. 9C). This metal is, for example, aluminum. Step 4: The metal film 3a is separated into each recess 2b by etching or the like to form the pixel electrode 3 that covers the recess 2b (FIG. 9).
(D)). Step 5: Drive lines (not shown) are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a surrounding the concave portion 2b at the above-mentioned constant pitch, and the switching elements 4 of each vertical and horizontal column and each row are arranged close to these switching elements 4. The vertical and horizontal drive lines are connected by wiring 9 and the switching element 4 and one pixel electrode 3 adjacent to the switching element 4 are connected by wiring 9 (FIG. 9D). The wiring may be connected by vapor deposition or etching of aluminum. The steps 4 and 5 may be combined into one step. In step 1 above, a plurality of switching elements 4 are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at a constant pitch, and in step 5, the plurality of switching elements 4 are formed.
Alternatively, one pixel electrode 3 adjacent thereto may be connected by a wiring 9. In consideration of the yield of switching elements, one pixel may be composed of one pixel electrode and a plurality of switching elements, and a plurality of switching elements may be connected by wiring to one pixel electrode.

【0073】工程6:基板2上に形成されているスイッ
チング素子4、画素電極3、および、駆動線(図示せ
ず)の上に粘着物質14を介して支持用基板15を装着
する(図9(e))。スイッチング素子4、画素電極
3、および、駆動線の上に保護用の絶縁膜を形成し、こ
の絶縁膜を覆う粘着物質の上に支持用基板を装着しても
よい。
Step 6: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line (not shown) formed on the substrate 2 via the adhesive material 14 (FIG. 9). (E)). A protective insulating film may be formed on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line, and the supporting substrate may be mounted on the adhesive material that covers the insulating film.

【0074】工程7:基板2の他方の片面を研磨して、
基板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極
3を露出させる(図9(e),図10(a))。なお、
基板2の凹部2bの板厚を薄くした場合の液晶表示装置
が図7と対応し、各画素電極3を露出させた場合の液晶
表示装置が図8と対応する。 工程8:基板2の他方の片面側には、この片面を覆う液
晶層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形
成する(図10(b))。
Step 7: Polishing the other surface of the substrate 2,
The recess 2b of the substrate 2 is thinned or each pixel electrode 3 is exposed (FIGS. 9E and 10A). In addition,
The liquid crystal display device when the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2 is thin corresponds to FIG. 7, and the liquid crystal display device when each pixel electrode 3 is exposed corresponds to FIG. Step 8: A liquid crystal layer 17 that covers this one surface and a transparent electrode 18 that covers this liquid crystal layer 17 are formed on the other one surface side of the substrate 2 (FIG. 10B).

【0075】各画素電極3を露出させた場合は、基板2
の他方の片面を研磨してなる研磨面は画素電極3の表面
と同一平面を構成し、この画素電極3の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
各画素電極3を露出させない場合は、基板2の片面にお
ける一定の深さの凹部2bに金属の膜からなる画素電極
3を形成し、この凹部2bの表面に接する画素電極3の
表面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得る
ことができる。
When each pixel electrode 3 is exposed, the substrate 2
Since the polishing surface formed by polishing the other one surface of the above constitutes the same plane as the surface of the pixel electrode 3, and the reflecting surface is constituted by the surface of this pixel electrode 3, a flat reflecting surface can be obtained.
When each pixel electrode 3 is not exposed, the pixel electrode 3 made of a metal film is formed in the recess 2b having a certain depth on one surface of the substrate 2, and the surface of the pixel electrode 3 in contact with the surface of the recess 2b forms a reflective surface. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0076】また、基板2の他方の片面を研磨して、基
板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極3
を露出させ、この片面を覆う液晶層17とこの液晶層1
7を覆う透明電極18とを形成しており、画素電極3と
透明電極18間の電圧が凹部2bの薄い板厚の基板2と
液晶層17とにかかるので、または、そのまま液晶層1
7にかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて液
晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすることが
でき、液晶の状態を変化させる効率を高くすることがで
きる。
Further, the other surface of the substrate 2 is polished to reduce the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2, or each pixel electrode 3 is formed.
And a liquid crystal layer 17 covering one side of the liquid crystal layer 1 and the liquid crystal layer 1
7 is formed, and the voltage between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 is applied to the thin substrate 2 of the recess 2b and the liquid crystal layer 17, or as it is.
Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered, and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased, as compared with the case where one surface is not polished.

【0077】図9(a)〜(d)では、スイッチング素
子4を形成してから画素電極3を形成しているが、その
形成の工程は逆でもよい。すなわち、以下の工程で液晶
表示装置を製造してもよい。
In FIGS. 9A to 9D, the pixel electrode 3 is formed after the switching element 4 is formed, but the formation process may be reversed. That is, the liquid crystal display device may be manufactured by the following steps.

【0078】工程1:基板2の片面に一定の深さの凹部
2bを縦横に各々一定ピッチで形成する。 工程2:基板2の片面の全域に金属の膜3aを形成す
る。 工程3:その膜を凹部2b毎に分離して凹部2bを覆う
画素電極3を形成する。 工程4:基板2の凹部2bを囲む凸部2a上にスイッチ
ング素子4を縦横に各々前記一定ピッチで形成する。 工程5:凸部2a上には駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素
子4をこれらのスイッチング素子4に近接する縦横の駆
動線に配線9にて配線接続し、スイッチング素子4とこ
のスイッチング素子4に近接する1個の画素電極3とを
配線9にて配線接続する。 工程6:基板2上に形成されているスイッチング素子
4、画素電極3、および、駆動線の上に粘着物質14を
介して支持用基板15を装着する。 工程7:基板2の他方の片面を研磨して、基板2の凹部
2bの板厚を薄くし、または、各画素電極3を露出させ
る。 工程8:基板2の他方の片面側には、この片面を覆う液
晶層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形
成する。
Step 1: Recesses 2b having a constant depth are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at a constant pitch. Step 2: A metal film 3a is formed on the entire surface of one surface of the substrate 2. Step 3: The film is separated for each recess 2b to form the pixel electrode 3 covering the recess 2b. Step 4: The switching elements 4 are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a surrounding the concave portion 2b of the substrate 2 at the constant pitch. Step 5: The drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a at the above-mentioned constant pitch, and the switching elements 4 of each vertical and horizontal column and each row are connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements 4 by wiring 9. The wiring is connected, and the switching element 4 and one pixel electrode 3 adjacent to the switching element 4 are connected by the wiring 9. Step 6: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line formed on the substrate 2 via the adhesive substance 14. Step 7: The other surface of the substrate 2 is polished to reduce the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2 or expose each pixel electrode 3. Step 8: A liquid crystal layer 17 covering the one surface of the substrate 2 and a transparent electrode 18 covering the liquid crystal layer 17 are formed on the other surface of the substrate 2.

【0079】図9及び図10では、絶縁性のガラス基板
を基板2に使用したが、半導体基板を基板2に使用して
もよい。これを図11と図12に示す。
Although the insulating glass substrate is used for the substrate 2 in FIGS. 9 and 10, a semiconductor substrate may be used for the substrate 2. This is shown in FIGS. 11 and 12.

【0080】基板2上に画素電極3をそのまま形成する
と、基板2と画素電極3とが電気的に接続される可能性
があるので、基板2と画素電極3の間に絶縁膜12を形
成している。基板2の片面の全域に画素電極3用の金属
の膜3aを形成する工程の直前に、基板2の片面を絶縁
膜12で覆う工程を設定すればよい。スイッチング素子
4の接続端子はエッチング等で露出させればよい。な
お、スイッチング素子4は基板2上に直接形成してい
る。基板2を研磨する程度により、図11や図12のよ
うになる。
If the pixel electrode 3 is formed on the substrate 2 as it is, the substrate 2 and the pixel electrode 3 may be electrically connected. Therefore, the insulating film 12 is formed between the substrate 2 and the pixel electrode 3. ing. The step of covering one surface of the substrate 2 with the insulating film 12 may be set immediately before the step of forming the metal film 3a for the pixel electrode 3 on the entire one surface of the substrate 2. The connection terminal of the switching element 4 may be exposed by etching or the like. The switching element 4 is formed directly on the substrate 2. 11 and 12 depending on the degree to which the substrate 2 is polished.

【0081】ところで、アルミニウムのようなミラーの
性質を兼ね備えている材料以外を画素電極3に使う場合
は、画素電極3とは別に反射層16を画素電極3と液晶
層17の間に設ける必要がある。以下では、画素電極3
の表面を反射面として使用せず、反射層16を設ける場
合について述べる。画素電極3は不純物をドープした半
導体(例えば、ポリシリコン等)の膜で形成する。
By the way, when a material other than a material having a mirror property such as aluminum is used for the pixel electrode 3, it is necessary to provide the reflective layer 16 between the pixel electrode 3 and the liquid crystal layer 17 separately from the pixel electrode 3. is there. In the following, the pixel electrode 3
The case where the reflective layer 16 is provided without using the surface of 1 as the reflective surface will be described. The pixel electrode 3 is formed of a semiconductor (for example, polysilicon) film doped with impurities.

【0082】図13は、本発明の一実施形態である。こ
こでは、基板2はガラス基板とし、スイッチング素子4
はTFTで作ることとする。また、画素電極3と液晶層
17との間に誘電体多層膜による反射層16を設けてお
り、この反射層16の表面は反射面を構成している。
FIG. 13 shows an embodiment of the present invention. Here, the substrate 2 is a glass substrate, and the switching element 4
Will be made with TFT. A reflective layer 16 made of a dielectric multilayer film is provided between the pixel electrode 3 and the liquid crystal layer 17, and the surface of the reflective layer 16 constitutes a reflective surface.

【0083】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部上に前記一定
形状ごとに形成された、凹部を覆う不純物をドープした
半導体の膜の画素電極3と、凸部上に前記一定形状ごと
に形成された、画素電極3とアルミニウムの配線9にて
配線接続されているスイッチング素子4と、縦横の各列
と各行のスイッチング素子4に近接した、これらのスイ
ッチング素子4にアルミニウムの配線9にて配線接続さ
れている縦横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部とを
備えた基板2の片面とは反対側の、研磨された片面を覆
う誘電体多層膜の反射層16と、この反射層16を覆う
液晶層17と、この液晶層17を覆う透明電極18と、
基板2上に形成されたスイッチング素子4および画素電
極3の上に粘着物質14を介して装着された支持用基板
15と、を備えている。
In this liquid crystal display device, the substrate 2 is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and convex portions surrounding the concave portion at a constant pitch in the vertical and horizontal directions, and the constant shape on the concave portion. The formed pixel electrode 3 of a semiconductor film that is doped with an impurity and covers the concave portion, and the switching element, which is formed on the convex portion in the above-described fixed shape, is connected to the pixel electrode 3 by an aluminum wiring 9. 4, vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each vertical and horizontal column and each row, and which are connected to these switching elements 4 by aluminum wirings 9, and concave and convex portions. A reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers the polished one surface of the substrate 2 opposite to the one surface, a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16, and a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17. ,
A supporting substrate 15 mounted on the switching element 4 and the pixel electrode 3 formed on the substrate 2 via an adhesive substance 14 is provided.

【0084】半導体の膜の画素電極3を保護すべく、画
素電極3と基板2とを絶縁膜12で覆っている。この絶
縁膜12には配線接続用の穴が開けられている。画素電
極3は、半導体ではなく金属の膜で形成してもよい。
In order to protect the pixel electrode 3 of the semiconductor film, the pixel electrode 3 and the substrate 2 are covered with the insulating film 12. A hole for wiring connection is formed in the insulating film 12. The pixel electrode 3 may be formed of a metal film instead of the semiconductor.

【0085】基板2の他方の研磨された片面を誘電体多
層膜の反射層16で覆っており、この反射層16の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができる。
Since the other polished one surface of the substrate 2 is covered with the reflective layer 16 of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer 16 constitutes the reflective surface, a flat reflective surface can be obtained. it can.

【0086】画素電極3と反射層16の間に残される基
板2の凹部の板厚は薄いほどよい。なぜなら、薄いほど
液晶層17にかかる電圧の割合が大きくなり、液晶の状
態を変化させる効率が高くなるからである。
The thinner the thickness of the recess of the substrate 2 left between the pixel electrode 3 and the reflective layer 16, the better. This is because the thinner the ratio, the higher the ratio of the voltage applied to the liquid crystal layer 17 and the higher the efficiency of changing the state of the liquid crystal.

【0087】最も極端な場合、基板2の凹部の板厚は
0、つまり画素電極3が基板2の他方の片面側に露出し
ている状態がよい。図14にその例を示す。
In the most extreme case, it is preferable that the plate thickness of the concave portion of the substrate 2 is 0, that is, the pixel electrode 3 is exposed on the other side of the substrate 2. FIG. 14 shows an example.

【0088】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部上に前記一定
形状ごとに形成された、凹部を覆う不純物がドープされ
た半導体の膜の画素電極3と、凸部上に前記一定形状ご
とに形成された、画素電極3とアルミニウムの配線9に
て配線接続されているスイッチング素子4と、縦横の各
列と各行のスイッチング素子4に近接した、これらのス
イッチング素子4にアルミニウムの配線9にて配線接続
されている縦横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部と
を備えた基板2の片面とは反対側の、画素電極3の下面
と同一平面を構成する片面を覆う誘電体多層膜の反射層
16と、この反射層16を覆う液晶層17と、この液晶
層17を覆う透明電極18と、基板2上に形成されたス
イッチング素子4および画素電極3の上に粘着物質14
を介して装着された支持用基板15と、を備えている。
In this liquid crystal display device, the substrate 2 is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and convex portions surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and on the concave portion, each constant shape is provided. The formed pixel electrode 3 of an impurity-doped semiconductor film that covers the concave portion is connected to the pixel electrode 3 formed on the convex portion in the predetermined shape by the aluminum wiring 9. The element 4, vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each vertical and horizontal column and each row, and are connected to these switching elements 4 by aluminum wirings 9, concave portions and convex portions A reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers one surface of the substrate 2 that is opposite to the one surface that is flush with the lower surface of the pixel electrode 3, and a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16. Transparent covering the liquid crystal layer 17 Adhesive material 14 and electrode 18, on the switching element 4 and the pixel electrode 3 formed on the substrate 2
And a supporting substrate 15 attached via the.

【0089】基板2の凹部はいわば窓であり、この凹部
を囲む凸部はいわば窓枠である。基板2におけるスイッ
チング素子4を有する面の裏面は画素電極3の下面と同
一平面を構成し、この同一平面を誘電体多層膜の反射層
16が覆っており、この反射層16の表面で反射面を構
成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
The concave portion of the substrate 2 is, so to speak, a window, and the convex portion surrounding the concave portion is, so to speak, a window frame. The rear surface of the surface of the substrate 2 having the switching element 4 constitutes the same plane as the lower surface of the pixel electrode 3, and the reflection layer 16 of the dielectric multilayer film covers the same plane. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0090】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層16とこの反射層16を覆う液晶層17とを介して透
明電極18が形成されており、画素電極3と透明電極1
8間の電圧がそのまま反射層16と液晶層17とにかか
るので、画素電極3と透明電極18間に基板2や他の層
がある場合に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の
電圧を低くすることができ、液晶の状態を変化させる効
率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode 18 is formed on the back surface side via a reflective layer 16 covering the same plane and a liquid crystal layer 17 covering the reflective layer 16, and the pixel electrode 3 and the transparent electrode 1 are formed.
Since the voltage between 8 is applied to the reflective layer 16 and the liquid crystal layer 17 as it is, the voltage between the two electrodes that changes the state of the liquid crystal as compared with the case where the substrate 2 or another layer is provided between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18. Can be lowered, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be increased.

【0091】次に、このような液晶表示装置の製造工程
を図15及び図16に基づいて説明する。
Next, the manufacturing process of such a liquid crystal display device will be described with reference to FIGS.

【0092】工程1:基板2の片面に一定の深さの凹部
2bを、エッチングにより縦横に各々一定ピッチで形成
する(図15(a))。基板2の板厚は例えば1mmと
し、凹部2bの深さは例えば5μmとする。 工程2:基板2の片面の全域に不純物をドープした半導
体の膜3aを形成する(図15(b))。半導体の代わ
りに金属を用いてもよい。 工程3:その膜3aを凹部2b毎に分離して凹部2bを
覆う画素電極3を形成する(図15(c))。
Step 1: Recesses 2b having a constant depth are formed on one surface of the substrate 2 by etching at a constant pitch vertically and horizontally (FIG. 15 (a)). The thickness of the substrate 2 is, for example, 1 mm, and the depth of the recess 2b is, for example, 5 μm. Step 2: An impurity-doped semiconductor film 3a is formed on the entire surface of one side of the substrate 2 (FIG. 15B). A metal may be used instead of the semiconductor. Step 3: The film 3a is separated for each recess 2b to form the pixel electrode 3 that covers the recess 2b (FIG. 15C).

【0093】工程4:基板2の片面側の全域に画素電極
3を保護する絶縁膜12を形成し、基板の凹部2bを囲
む凸部2aを覆う絶縁膜12上にスイッチング素子4を
縦横に各々前記一定ピッチで形成する(図15
(d))。但し、画素電極3を形成する半導体の膜3a
と同じ膜上にスイッチング素子4や駆動線を作らない場
合は、この絶縁膜12を形成しなくてもよい。 工程5:凸部2a上には駆動線(図示せず)を縦横に前
記一定ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行のス
イッチング素子4をこれらのスイッチング素子4に近接
する縦横の駆動線に配線9にて配線接続し、スイッチン
グ素子4とこのスイッチング素子4に近接する1個の画
素電極3とを配線9にて配線接続する(図15
(e))。アルミニウムの蒸着やエッチング等により配
線接続してもよい。なお、絶縁膜12には配線接続用の
穴12aが開けられている。上記の工程4で、凸部2a
を覆う絶縁膜12上に複数のスイッチング素子4を縦横
に各々前記一定ピッチで形成し、工程5で、この複数の
スイッチング素子4とこれに近接する1個の画素電極3
とを配線9にて配線接続してもよい。スイッチング素子
の歩留りを考慮して、1画素を1個の画素電極と複数の
スイッチング素子で構成し、1個の画素電極に複数のス
イッチング素子を配線接続するものもある。
Step 4: An insulating film 12 for protecting the pixel electrodes 3 is formed on the entire surface of one side of the substrate 2, and the switching elements 4 are arranged vertically and horizontally on the insulating film 12 covering the convex portion 2a surrounding the concave portion 2b of the substrate. Formed at the constant pitch (FIG. 15).
(D)). However, a semiconductor film 3a forming the pixel electrode 3
If the switching element 4 and the drive line are not formed on the same film as above, the insulating film 12 may not be formed. Step 5: Drive lines (not shown) are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a at the above-mentioned constant pitch, and vertical and horizontal switching lines 4 are provided in the vertical and horizontal drive lines adjacent to the switching elements 4. To the switching element 4 and one pixel electrode 3 adjacent to the switching element 4 by wiring 9 (FIG. 15).
(E)). The wiring may be connected by vapor deposition or etching of aluminum. The insulating film 12 has a hole 12a for connecting a wiring. In the above step 4, the convex portion 2a
A plurality of switching elements 4 are formed vertically and horizontally on the insulating film 12 that covers the plurality of switching elements 4 at the constant pitch, and in step 5, the plurality of switching elements 4 and one pixel electrode 3 adjacent thereto are formed.
And may be connected to each other by the wiring 9. In consideration of the yield of switching elements, one pixel may be composed of one pixel electrode and a plurality of switching elements, and a plurality of switching elements may be connected by wiring to one pixel electrode.

【0094】工程6:基板2上に形成されているスイッ
チング素子4、画素電極3、および、駆動線の上に粘着
物質14を介して支持用基板15を装着する(図15
(e),図16(a))。スイッチング素子4、画素電
極3、および、駆動線の上に保護用の絶縁膜を形成し、
この絶縁膜を覆う粘着物質14の上に支持用基板15を
装着してもよい。
Step 6: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line formed on the substrate 2 via the adhesive substance 14 (FIG. 15).
(E), FIG. 16 (a)). A protective insulating film is formed on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line,
The supporting substrate 15 may be mounted on the adhesive material 14 that covers the insulating film.

【0095】工程7:基板2の他方の片面を研磨して、
基板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極
3を露出させる(図16(b))。なお、基板2の凹部
2bの板厚を薄くした場合の液晶表示装置が図13と対
応し、各画素電極3を露出させた場合の液晶表示装置が
図14と対応する。 工程8:基板2の他方の片面側には、この片面を覆う誘
電体多層膜の反射層16と、この反射層16を覆う液晶
層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形成
する(図16(c))。
Step 7: Polishing the other surface of the substrate 2,
The thickness of the recess 2b of the substrate 2 is reduced, or each pixel electrode 3 is exposed (FIG. 16B). The liquid crystal display device in which the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2 is thin corresponds to FIG. 13, and the liquid crystal display device in which each pixel electrode 3 is exposed corresponds to FIG. Step 8: On one side of the other side of the substrate 2, a reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers the one side, a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16, and a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17 are formed. (FIG. 16C).

【0096】基板2の他方の研磨された片面を誘電体多
層膜の反射層16が覆っており、この反射層16の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができる。
The other polished one surface of the substrate 2 is covered with the reflective layer 16 of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer 16 constitutes the reflective surface, so that a flat reflective surface can be obtained. it can.

【0097】また、基板2の他方の片面を研磨して、基
板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極3
を露出させ、この片面を覆う反射層16とこの反射層1
6を覆う液晶層17とこの液晶層17を覆う透明電極1
8とを形成しており、画素電極3と透明電極18間の電
圧が凹部2bの薄い板厚の基板2と反射層16と液晶層
17とにかかるので、または、そのまま反射層16と液
晶層17とにかかるので、この片面を研磨しない場合に
比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くす
ることができ、液晶の状態を変化させる効率を高くする
ことができる。
Further, the other surface of the substrate 2 is polished to reduce the plate thickness of the concave portion 2b of the substrate 2, or each pixel electrode 3 is formed.
And a reflective layer 16 covering this one side and
6 and a transparent electrode 1 covering the liquid crystal layer 17
8 and the voltage between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 is applied to the thin substrate 2 of the recess 2b, the reflective layer 16 and the liquid crystal layer 17, or as it is. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where the one surface is not polished.

【0098】図15(a)〜(d)では、画素電極3を
形成してからスイッチング素子4を形成しているが、そ
の形成の工程は逆でもよい。すなわち、以下の工程で液
晶表示装置を製造してもよい。
In FIGS. 15A to 15D, the switching element 4 is formed after the pixel electrode 3 is formed, but the formation process may be reversed. That is, the liquid crystal display device may be manufactured by the following steps.

【0099】工程1:基板2の片面上にスイッチング素
子4を縦横に各々一定ピッチで形成する。 工程2:基板2の片面に一定の深さの凹部2bを、スイ
ッチング素子4の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピ
ッチで形成する。 工程3:基板2の片面の全域に金属または不純物をドー
プした半導体の膜3aを形成する。 工程4:その膜3aを凹部2b毎に分離して凹部2bを
覆う画素電極3を形成する。 工程5:凹部2bを囲む凸部2a上には駆動線を縦横に
前記一定ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行の
スイッチング素子4をこれらのスイッチング素子4に近
接する縦横の駆動線に配線9にて配線接続し、スイッチ
ング素子4とこのスイッチング素子4に近接する1個の
画素電極3とを配線9にて配線接続する。 工程6:基板2上に形成されているスイッチング素子
4、画素電極3、および、駆動線の上に粘着物質14を
介して支持用基板15を装着する。 工程7:基板2の他方の片面を研磨して、基板2の凹部
2bの板厚を薄くし、または、各画素電極3を露出させ
る。 工程8:基板2の他方の片面側には、この片面を覆う誘
電体多層膜の反射層16と、この反射層16を覆う液晶
層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形成
する。
Step 1: The switching elements 4 are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate 2 at a constant pitch. Step 2: The recesses 2b having a constant depth are formed on one surface of the substrate 2 while avoiding the position of the switching element 4 in the vertical and horizontal directions at the constant pitch. Step 3: A semiconductor film 3a doped with a metal or an impurity is formed on the entire surface of one surface of the substrate 2. Step 4: The film 3a is separated for each recess 2b to form the pixel electrode 3 covering the recess 2b. Step 5: Driving lines are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a surrounding the concave portion 2b at the constant pitch, and the switching elements 4 in each vertical and horizontal column and each row are formed as vertical and horizontal driving lines close to these switching elements 4. The wiring 9 is connected by wiring, and the switching element 4 and one pixel electrode 3 adjacent to the switching element 4 are connected by the wiring 9. Step 6: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the pixel electrode 3, and the drive line formed on the substrate 2 via the adhesive substance 14. Step 7: The other surface of the substrate 2 is polished to reduce the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2 or expose each pixel electrode 3. Step 8: On one side of the other side of the substrate 2, a reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers the one side, a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16, and a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17 are formed. To do.

【0100】ポリシリコン等の半導体の膜を画素電極3
に用いる場合は、この半導体の膜に画素電極3とスイッ
チング素子4とを作り込むことができる。図17と図1
8にその例を示す。この半導体の膜は保護用の絶縁膜で
覆われている。
A film of a semiconductor such as polysilicon is used as the pixel electrode 3
When used for, the pixel electrode 3 and the switching element 4 can be formed in this semiconductor film. 17 and 1
8 shows an example. This semiconductor film is covered with a protective insulating film.

【0101】図17は、本発明の一実施形態である。こ
こでは、基板2はガラス基板とし、スイッチング素子4
はTFTで作ることとする。また、画素電極3と液晶層
17との間に誘電体多層膜による反射層16を設けてお
り、この反射層16の表面は反射面を構成している。
FIG. 17 shows an embodiment of the present invention. Here, the substrate 2 is a glass substrate, and the switching element 4
Will be made with TFT. A reflective layer 16 made of a dielectric multilayer film is provided between the pixel electrode 3 and the liquid crystal layer 17, and the surface of the reflective layer 16 constitutes a reflective surface.

【0102】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部上に前記一定
形状ごとに形成された、凹部を覆う不純物がドープされ
た半導体の膜の画素電極3と、この膜の凸部に掛かる部
分に前記一定形状ごとに形成されたスイッチング素子4
と、縦横の各列と各行のスイッチング素子4に近接し
た、これらのスイッチング素子4に配線9にて配線接続
されている縦横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部と
を備えた基板2の片面とは反対側の、研磨された片面を
覆う誘電体多層膜の反射層16と、この反射層16を覆
う液晶層17と、この液晶層17を覆う透明電極18
と、基板2上に形成されたスイッチング素子4および画
素電極3の上に粘着物質14を介して装着された支持用
基板15と、を備えている。
In this liquid crystal display device, the substrate 2 is provided with a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and convex portions surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and on the concave portion for each constant shape. The formed pixel electrode 3 of a semiconductor film, which is doped with impurities and covers the concave portion, and the switching element 4, which is formed on the convex portion of the film in a predetermined shape.
And vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each vertical and horizontal column and each row, and are connected to these switching elements 4 by wiring 9, and a concave portion and a convex portion. A reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers the polished one surface of the substrate 2 opposite the one surface, a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16, and a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17.
And a supporting substrate 15 mounted on the switching element 4 and the pixel electrode 3 formed on the substrate 2 via an adhesive substance 14.

【0103】半導体の膜で形成された画素電極3とスイ
ッチング素子4とを保護すべく、スイッチング素子4の
接続端子を除いて半導体の膜と基板2とを絶縁膜12で
覆っている。
In order to protect the pixel electrode 3 formed of a semiconductor film and the switching element 4, the semiconductor film and the substrate 2 are covered with an insulating film 12 except for the connection terminals of the switching element 4.

【0104】基板2の他方の研磨された片面を誘電体多
層膜の反射層16が覆っており、この反射層16の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができる。
The other polished one surface of the substrate 2 is covered with the reflecting layer 16 of the dielectric multilayer film, and the reflecting surface is constituted by the surface of the reflecting layer 16, so that a flat reflecting surface can be obtained. it can.

【0105】また、凹部を覆う半導体の膜の画素電極3
が前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に
掛かる部分にはスイッチング素子4が前記一定形状ごと
に形成されており、画素電極3とスイッチング素子4と
は同じ半導体の膜で接続されているので、これらを新た
に導電性物質で配線する手間をはぶくことができる。更
に、図13の場合に比べて液晶表示装置の構成を簡略化
することができる。
Further, the pixel electrode 3 made of a semiconductor film that covers the recesses.
Are formed for each of the constant shapes, and the switching element 4 is formed for each of the constant shapes in a portion of the film overhanging the convex portion, and the pixel electrode 3 and the switching element 4 are connected by the same semiconductor film. Therefore, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material. Further, the configuration of the liquid crystal display device can be simplified as compared with the case of FIG.

【0106】画素電極3と反射層16の間に残される基
板2の凹部の板厚は薄いほどよい。なぜなら、薄いほど
液晶層17にかかる電圧の割合が大きくなり、液晶の状
態を変化させる効率が高くなるからである。
The plate thickness of the concave portion of the substrate 2 left between the pixel electrode 3 and the reflective layer 16 is preferably as thin as possible. This is because the thinner the ratio, the higher the ratio of the voltage applied to the liquid crystal layer 17 and the higher the efficiency of changing the state of the liquid crystal.

【0107】最も極端な場合、基板2の凹部の板厚は
0、つまり画素電極3が基板2の他方の片面側に露出し
ている状態がよい。図18にその例を示す。
In the most extreme case, it is preferable that the plate thickness of the concave portion of the substrate 2 is 0, that is, the pixel electrode 3 is exposed on the other side of the substrate 2. FIG. 18 shows an example.

【0108】この液晶表示装置では、一定の深さの凹部
とこの凹部を囲む凸部とから構成される一定形状を縦横
に各々一定ピッチで備えた基板2と、凹部に前記一定形
状ごとに形成された、凹部を覆う不純物がドープされた
半導体の膜の画素電極3と、この膜の凸部に掛かる部分
に前記一定形状ごとに形成されたスイッチング素子4
と、縦横の各列と各行のスイッチング素子4に近接し
た、これらのスイッチング素子4に配線9にて配線接続
されている縦横の駆動線(図示せず)と、凹部と凸部と
を備えた基板2の片面とは反対側の、画素電極3の下面
と同一平面を構成する片面を覆う誘電体多層膜の反射層
16と、この反射層16を覆う液晶層17と、この液晶
層17を覆う透明電極18と、基板2上に形成されたス
イッチング素子4および画素電極3の上に粘着物質14
を介して装着された支持用基板15と、を備えている。
In this liquid crystal display device, a substrate 2 having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion is provided at a constant pitch in the vertical and horizontal directions, and the concave portion is formed for each constant shape. The pixel electrode 3 made of an impurity-doped semiconductor film covering the concave portion and the switching element 4 formed in the constant shape in the portion of the film covering the convex portion.
And vertical and horizontal drive lines (not shown), which are adjacent to the switching elements 4 in each vertical and horizontal column and each row, and are connected to these switching elements 4 by wiring 9, and a concave portion and a convex portion. A reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers one surface of the substrate 2 that is flush with the lower surface of the pixel electrode 3, and a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16 and the liquid crystal layer 17 The adhesive material 14 is formed on the transparent electrode 18 that covers the switching element 4 and the pixel electrode 3 that are formed on the substrate 2.
And a supporting substrate 15 attached via the.

【0109】基板2の凹部はいわば窓であり、この凹部
を囲む凸部はいわば窓枠である。基板2におけるスイッ
チング素子4を有する面の裏面は画素電極3の下面と同
一平面を構成し、この同一平面を誘電体多層膜の反射層
16が覆っており、この反射層16の表面で反射面を構
成しているので、平坦な反射面を得ることができる。
The concave portion of the substrate 2 is, so to speak, a window, and the convex portion surrounding the concave portion is, so to speak, a window frame. The rear surface of the surface of the substrate 2 having the switching element 4 constitutes the same plane as the lower surface of the pixel electrode 3, and the reflection layer 16 of the dielectric multilayer film covers the same plane. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0110】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層16とこの反射層16を覆う液晶層17とを介して透
明電極18が形成されており、画素電極3と透明電極1
8間の電圧がそのまま反射層16と液晶層17とにかか
るので、画素電極3と透明電極18間に基板2や他の層
がある場合に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の
電圧を低くすることができ、液晶の状態を変化させる効
率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode 18 is formed on the back surface side via a reflective layer 16 covering the same plane and a liquid crystal layer 17 covering the reflective layer 16, and the pixel electrode 3 and the transparent electrode 1 are formed.
Since the voltage between 8 is applied to the reflective layer 16 and the liquid crystal layer 17 as it is, the voltage between the two electrodes that changes the state of the liquid crystal as compared with the case where the substrate 2 or another layer is provided between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18. Can be lowered, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be increased.

【0111】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極3
が前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に
掛かる部分にはスイッチング素子4が前記一定形状ごと
に形成されており、画素電極3とスイッチング素子4と
は半導体の膜で接続されているので、これらを新たに導
電性物質で配線する手間をはぶくことができる。また、
図14の場合に比べて液晶表示装置の構成を簡略化する
ことができる。
Furthermore, the pixel electrode 3 made of a semiconductor film that covers the recesses.
Are formed for each of the constant shapes, and the switching element 4 is formed for each of the constant shapes at the portion of the film overhanging the convex portion, and the pixel electrode 3 and the switching element 4 are connected by a semiconductor film. Therefore, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material. Also,
The configuration of the liquid crystal display device can be simplified as compared with the case of FIG.

【0112】次に、このような液晶表示装置の製造方法
を説明する。
Next, a method of manufacturing such a liquid crystal display device will be described.

【0113】工程1:基板2の片面に一定の深さの凹部
2bを縦横に各々一定ピッチで形成する。基板2の板厚
は例えば1mmとし、凹部2bの深さは例えば5μmと
する。
Step 1: Recesses 2b having a constant depth are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at a constant pitch. The thickness of the substrate 2 is, for example, 1 mm, and the depth of the recess 2b is, for example, 5 μm.

【0114】工程2:基板2の片面の全域に不純物をド
ープした半導体の膜3aを形成する。 工程3:その膜3aを凹部2b毎に分離して凹部2bを
覆う画素電極3を形成する。 工程4:基板2の凹部2bを囲む凸部2a上における膜
の凸部2aに掛かる部分にスイッチング素子4を形成
し、半導体の膜と基板2との上に保護用の絶縁膜12を
形成する。スイッチング素子4の接続端子はエッチング
等で露出させればよい。 工程5:凸部2a上には駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成すると共に、縦横の各列と各行のスイッチング素
子4をこれらのスイッチング素子4に近接する縦横の駆
動線にアルミニウムの配線9にて配線接続する。
Step 2: An impurity-doped semiconductor film 3a is formed on the entire surface of one surface of the substrate 2. Step 3: The film 3a is separated for each recess 2b to form the pixel electrode 3 covering the recess 2b. Step 4: A switching element 4 is formed on a portion of the convex portion 2a surrounding the concave portion 2b of the substrate 2 over the convex portion 2a of the film, and a protective insulating film 12 is formed on the semiconductor film and the substrate 2. . The connection terminal of the switching element 4 may be exposed by etching or the like. Step 5: Drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion 2a at the above-mentioned constant pitch, and switching elements 4 in each column and row are provided in the vertical and horizontal drive lines adjacent to the switching elements 4 with aluminum wiring 9. Connect the wiring with.

【0115】工程6:絶縁膜12および駆動線の上に粘
着物質14を介して支持用基板15を装着する。この粘
着物質14が絶縁性の場合は、絶縁膜12を常に形成す
る必要はない。
Step 6: The supporting substrate 15 is mounted on the insulating film 12 and the drive line via the adhesive substance 14. When the adhesive substance 14 is insulative, it is not always necessary to form the insulating film 12.

【0116】工程7:基板2の他方の片面を研磨して、
基板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極
3を露出させる。基板2の凹部2bの板厚を薄くした場
合の液晶表示装置が図17に対応し、各画素電極3を露
出させた場合の液晶表示装置が図18に対応する。 工程8:基板2の他方の片面側には、この片面を覆う誘
電体多層膜の反射層16と、この反射層16を覆う液晶
層17と、この液晶層17を覆う透明電極18とを形成
する。
Step 7: Polishing the other surface of the substrate 2,
The plate thickness of the recess 2b of the substrate 2 is thinned or each pixel electrode 3 is exposed. The liquid crystal display device when the thickness of the recess 2b of the substrate 2 is thin corresponds to FIG. 17, and the liquid crystal display device when each pixel electrode 3 is exposed corresponds to FIG. Step 8: On one side of the other side of the substrate 2, a reflective layer 16 of a dielectric multilayer film that covers the one side, a liquid crystal layer 17 that covers the reflective layer 16, and a transparent electrode 18 that covers the liquid crystal layer 17 are formed. To do.

【0117】基板2の他方の研磨された片面を誘電体多
層膜の反射層16が覆っており、この反射層16の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができる。
The other polished one surface of the substrate 2 is covered with the reflective layer 16 of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer 16 constitutes the reflective surface, so that a flat reflective surface can be obtained. it can.

【0118】また、基板2の他方の片面を研磨して、基
板2の凹部2bの板厚を薄くし、または、各画素電極3
を露出させ、この片面を覆う反射層16とこの反射層1
6を覆う液晶層17とこの液晶層17を覆う透明電極1
8とを形成しており、画素電極3と透明電極間18の電
圧が凹部2bの薄い板厚の基板2と反射層16と液晶層
17とにかかるので、または、そのまま反射層16と液
晶層17とにかかるので、この片面を研磨しない場合に
比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くす
ることができ、液晶の状態を変化させる効率を高くする
ことができる。
Further, the other surface of the substrate 2 is polished to reduce the plate thickness of the recess 2b of the substrate 2, or each pixel electrode 3 is formed.
And a reflective layer 16 covering this one side and
6 and a transparent electrode 1 covering the liquid crystal layer 17
8 and the voltage between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 is applied to the thin substrate 2 of the recess 2b, the reflective layer 16 and the liquid crystal layer 17, or as it is. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where the one surface is not polished.

【0119】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極3
が前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に
掛かる部分にはスイッチング素子4が前記一定形状ごと
に形成されており、画素電極3とスイッチング素子4と
は半導体の膜で接続されているので、これらを新たに導
電性物質で配線する手間をはぶくことができる。また、
液晶表示装置の構成を簡略化することができる。
Further, the pixel electrode 3 made of a semiconductor film that covers the concave portion.
Are formed for each of the constant shapes, and the switching element 4 is formed for each of the constant shapes at the portion of the film overhanging the convex portion, and the pixel electrode 3 and the switching element 4 are connected by a semiconductor film. Therefore, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material. Also,
The configuration of the liquid crystal display device can be simplified.

【0120】さて、画素電極3の電圧は、一定時間、安
定した値を保つ必要がある。従って、画素電極3の容量
は大きい方がよい。容量を増やすにはコンデンサまたは
対向電極を形成して並列接続し、補助容量を生成するの
が効果的である。
By the way, the voltage of the pixel electrode 3 needs to maintain a stable value for a certain period of time. Therefore, the larger the capacitance of the pixel electrode 3, the better. To increase the capacity, it is effective to form a capacitor or a counter electrode and connect them in parallel to generate an auxiliary capacity.

【0121】画素電極3とスイッチング素子4とを基板
2の同じ片面側に形成し、その上に液晶層17と透明電
極18を形成する場合は、画素電極3に重ねて対向電極
を形成すると片面側の凹凸が更に顕著になり、その平坦
度が悪化すると共に液晶の配向乱れ等の悪影響がある。
When the pixel electrode 3 and the switching element 4 are formed on the same one surface side of the substrate 2 and the liquid crystal layer 17 and the transparent electrode 18 are formed thereon, when the counter electrode is formed so as to overlap the pixel electrode 3, one surface is formed. The unevenness on the side becomes more conspicuous, the flatness thereof deteriorates, and there is an adverse effect such as disordered alignment of the liquid crystal.

【0122】しかし、液晶層17や透明電極18とは基
板2をはさんで対向電極を形成する場合には、反射面の
平坦度は悪化しない。また、大きな補助容量を生成する
ことができる。図19にその一例を示す。
However, when the counter electrode is formed with the liquid crystal layer 17 and the transparent electrode 18 sandwiching the substrate 2, the flatness of the reflecting surface is not deteriorated. Also, a large auxiliary capacitance can be generated. FIG. 19 shows an example.

【0123】図19は、本発明の一実施形態である。図
14に示す構成に対向電極を付加したものである。不純
物をドープしたポリシリコンでスタックド・キャパシタ
・セル(積重ね型のコンデンサ)を形成している。
FIG. 19 shows an embodiment of the present invention. A counter electrode is added to the structure shown in FIG. A stacked capacitor cell (stacked capacitor) is formed of polysilicon doped with impurities.

【0124】この液晶表示装置は、基板2と支持用基板
15との間に、画素電極3毎に対応して形成され画素電
極3毎に絶縁膜12に開けた穴を通じて接続されている
不純物がドープされた半導体の膜の第一電極31と、こ
の膜の上に絶縁膜11を介して形成され透明電極18に
配線接続されている不純物がドープされた半導体の膜の
第二電極32と、を備えている。半導体の膜の代わりに
金属の膜を用いてもよい。
In this liquid crystal display device, impurities which are formed between the substrate 2 and the supporting substrate 15 in correspondence with each pixel electrode 3 and which are connected through the holes formed in the insulating film 12 for each pixel electrode 3 are provided. A first electrode 31 of a doped semiconductor film, and a second electrode 32 of a semiconductor film doped with impurities, which is formed on the film via the insulating film 11 and is wire-connected to the transparent electrode 18. Is equipped with. A metal film may be used instead of the semiconductor film.

【0125】画素電極3と透明電極18に第一電極31
と第二電極32からなる対向電極を並列接続すること
で、画素電極3と透明電極18間の容量を増加でき、画
素電極3の電圧を安定化することができる。請求項1、
請求項2、請求項5、請求項6、請求項9、または、請
求項10記載の液晶表示装置にも適用できる。
The pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 have a first electrode 31.
By parallelly connecting the counter electrode including the second electrode 32 and the second electrode 32, the capacitance between the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 can be increased, and the voltage of the pixel electrode 3 can be stabilized. Claim 1,
It is also applicable to the liquid crystal display device according to claim 2, claim 5, claim 6, claim 9, or claim 10.

【0126】この液晶表示装置の製造方法としては、基
板2の片面側に粘着物質14を介して支持用基板15を
装着する工程の直前に、第一電極31と第二電極32か
らなる対向電極を形成して画素電極3と透明電極18に
並列接続する工程を設定すればよい。
As a method of manufacturing this liquid crystal display device, immediately before the step of mounting the supporting substrate 15 on one surface side of the substrate 2 via the adhesive substance 14, the counter electrode composed of the first electrode 31 and the second electrode 32 is provided. It is only necessary to set a step of forming and connecting the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 in parallel.

【0127】一方、可視光に対するガラス基板、赤外線
に対するシリコン基板のように、光の透過率が高い材料
を基板2に用いる場合、光が基板2を通過してスイッチ
ング素子4に到達し、スイッチング素子4のON/OF
F動作が不安定になることがある。反射型の液晶表示装
置ではなおさらである。
On the other hand, when a material having a high light transmittance, such as a glass substrate for visible light and a silicon substrate for infrared light, is used for the substrate 2, the light passes through the substrate 2 and reaches the switching element 4, and the switching element ON / OF of 4
The F operation may become unstable. This is especially true in a reflective liquid crystal display device.

【0128】これを防止するため、図20の液晶表示装
置では、基板は不純物を混入したガラス基板からなる。
基板2に不純物を混入することで、基板2(基板2内の
不純物)は光を散乱または遮断することができる。ま
た、この不純物により可視光線、赤外線、および、紫外
線の透過率を調整することができる。可視光線、赤外
線、および、紫外線を通過させない基板を用いてもよ
い。
To prevent this, in the liquid crystal display device of FIG. 20, the substrate is made of a glass substrate containing impurities.
By mixing impurities into the substrate 2, the substrate 2 (impurities in the substrate 2) can scatter or block light. Moreover, the transmittance of visible light, infrared light, and ultraviolet light can be adjusted by the impurities. A substrate that does not transmit visible light, infrared light, and ultraviolet light may be used.

【0129】ところで、図2〜図5に示す液晶表示装置
では、ヴィアホール20により基板2をはさんで画素電
極3とスイッチング素子4とを接続しており、画素電極
3間の液晶の配向乱れや画素電極3の表面におけるヴィ
アホール20を充填してなる部分の窪みによって画質が
劣化するという課題がある。ヴィアホール20により画
素電極3とスイッチング素子4とを接続してなる液晶表
示装置で上記課題を解決するには、図21及び図22に
示すように液晶表示装置を製造するとよい。
By the way, in the liquid crystal display device shown in FIGS. 2 to 5, the pixel electrode 3 and the switching element 4 are connected to each other with the via hole 20 sandwiching the substrate 2, and the alignment disorder of the liquid crystal between the pixel electrodes 3 is disturbed. There is a problem that the image quality is deteriorated by the depression of the portion formed by filling the via hole 20 on the surface of the pixel electrode 3. In order to solve the above problem in a liquid crystal display device in which the pixel electrode 3 and the switching element 4 are connected by the via hole 20, the liquid crystal display device may be manufactured as shown in FIGS. 21 and 22.

【0130】工程1:基板2の片面上にスイッチング素
子4を縦横に各々一定ピッチで形成する(図21
(a))。 工程2:基板2の片面上に駆動線(図示せず)を縦横に
前記一定ピッチで形成し、各スイッチング素子4の近傍
にランドパターン9aを形成すると共に、縦横の各列と
各行のスイッチング素子4をこれらのスイッチング素子
4に近接する縦横の駆動線に配線9にて配線接続し、ス
イッチング素子4とその近傍のランドパターン9aとを
配線9にて配線接続する(図21(a))。 工程3:基板2上に形成されているスイッチング素子
4、駆動線、および、ランドパターン9aの上に粘着物
質14を介して支持用基板15を装着する(図21
(b))。 工程4:基板2の他方の片面を研磨して基板2の板厚を
薄くする(図21(c))。 工程5:基板2の他方の片面に、各スイッチング素子4
に対応する凹部21を形成すると共に、ランドパターン
9aに至るヴィアホール20を凹部21の中または凹部
21の縁に形成する(図21(d))。 工程6:基板2の他方の片面の全域に金属の膜3aを形
成して、この膜3aとランドパターン9aとを接続する
(図21(d),図22(a))。 工程7:基板2の他方の片面側を研磨して、基板2の他
方の片面を露出させると共に凹部21の金属の膜3aを
各々分離して画素電極3を形成する(図22(b))。 工程8:基板2の他方の片面側に、この研磨済みの片面
を覆う液晶層17と、この液晶層17を覆う透明電極1
8とを形成する(図22(c))。
Step 1: The switching elements 4 are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate 2 at a constant pitch (FIG. 21).
(A)). Step 2: drive lines (not shown) are formed on one surface of the substrate 2 vertically and horizontally at the above-mentioned constant pitch, and land patterns 9a are formed in the vicinity of the switching elements 4, and vertical and horizontal columns and rows of switching elements are formed. 4 is connected to vertical and horizontal drive lines close to these switching elements 4 by wiring 9, and the switching element 4 and the land pattern 9a in the vicinity thereof are connected by wiring 9 (FIG. 21 (a)). Step 3: The supporting substrate 15 is mounted on the switching element 4, the drive line, and the land pattern 9a formed on the substrate 2 via the adhesive substance 14 (FIG. 21).
(B)). Step 4: The other surface of the substrate 2 is polished to reduce the thickness of the substrate 2 (FIG. 21 (c)). Step 5: Each switching element 4 is provided on the other surface of the substrate 2.
And a via hole 20 reaching the land pattern 9a is formed in the recess 21 or at the edge of the recess 21 (FIG. 21D). Step 6: A metal film 3a is formed on the entire area of the other surface of the substrate 2, and the film 3a and the land pattern 9a are connected (FIGS. 21 (d) and 22 (a)). Step 7: The other surface of the substrate 2 is polished to expose the other surface of the substrate 2 and the metal film 3a of the recess 21 is separated to form the pixel electrode 3 (FIG. 22B). . Step 8: The liquid crystal layer 17 covering the polished one surface on the other surface side of the substrate 2, and the transparent electrode 1 covering the liquid crystal layer 17.
And 8 (FIG. 22 (c)).

【0131】基板2の他方の片面に金属の膜3aを形成
してこの膜3aとランドパターン9aとを接続したとき
は、膜3aの表面におけるヴィアホール20を充填して
なる部分に窪みができるが、この片面側を研磨すること
で膜3aを分離して各凹部21に画素電極3を形成でき
ると共に、膜3aの表面をならすことができ、画素電極
3の表面で反射面を構成していることから、平坦な反射
面を得ることができる。
When the metal film 3a is formed on the other surface of the substrate 2 and the film 3a and the land pattern 9a are connected to each other, a recess is formed in the surface of the film 3a filled with the via holes 20. However, by polishing the one surface side, the film 3a can be separated to form the pixel electrode 3 in each recess 21, and the surface of the film 3a can be smoothed to form a reflective surface on the surface of the pixel electrode 3. Therefore, a flat reflecting surface can be obtained.

【0132】また、基板2の他方の片面側には、この研
磨済みの片面を覆う液晶層17と、この液晶層17を覆
う透明電極18とを形成しており、画素電極3と透明電
極18間の電圧をそのまま液晶層17にかけて液晶の状
態を変化させることができる。
A liquid crystal layer 17 covering the polished one surface and a transparent electrode 18 covering the liquid crystal layer 17 are formed on the other one surface side of the substrate 2, and the pixel electrode 3 and the transparent electrode 18 are formed. The voltage between them can be applied to the liquid crystal layer 17 as it is to change the state of the liquid crystal.

【0133】請求項1〜請求項14の液晶表示装置とそ
の製造方法では、画素電極3間の隙間には基板2が位置
して液晶が位置しない構造なので、画素電極3間の局所
的な電位差による液晶の配向乱れを防止できる。
In the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to claims 1 to 14, since the substrate 2 is located in the gap between the pixel electrodes 3 and the liquid crystal is not located, a local potential difference between the pixel electrodes 3 is generated. It is possible to prevent the alignment disorder of the liquid crystal due to.

【0134】請求項3,4,7,8,11,14におい
て基板2を研磨する場合は、基板2に形成した凹部2
b,21の表面と平行に研磨するのが望ましい。また、
液晶層17や反射層16は平行に積層するのが望まし
い。液晶画面の全域に一定の高画質を実現するためであ
る。
When polishing the substrate 2 according to claims 3, 4, 7, 8, 11, and 14, the recess 2 formed in the substrate 2 is used.
It is desirable to grind parallel to the surfaces of b and 21. Also,
The liquid crystal layer 17 and the reflective layer 16 are preferably laminated in parallel. This is to achieve a constant high image quality over the entire liquid crystal screen.

【0135】なお、上記実施形態は本発明の一例であ
り、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
The above embodiment is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment.

【0136】[0136]

【発明の効果】請求項1に係る液晶表示装置によれば、
上記のように、基板の片面における一定の深さの凹部に
金属の膜からなる画素電極を形成し、この凹部の表面に
接する画素電極の表面で反射面を構成しているので、平
坦な反射面を得ることができ、高画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the first aspect,
As described above, a pixel electrode made of a metal film is formed in a recess of a certain depth on one surface of the substrate, and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the recess forms a reflective surface, so that a flat reflection is obtained. The surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0137】請求項2に係る液晶表示装置によれば、上
記のように、基板におけるスイッチング素子を有する面
の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この画素
電極の下面は反射面を構成しているので、平坦な反射面
を得ることができ、高画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the second aspect, as described above, the rear surface of the surface of the substrate having the switching element is flush with the lower surface of the pixel electrode, and the lower surface of the pixel electrode is the reflective surface. Since it is configured, a flat reflecting surface can be obtained, and high image quality can be realized.

【0138】また、裏面側にはこの同一平面を覆う液晶
層を介して透明電極が形成されており、画素電極と透明
電極間の電圧がそのまま液晶層にかかるので、画素電極
と透明電極間に基板や他の層がある場合に比べて液晶の
状態を変化させる両電極間の電圧を低くすることがで
き、液晶の状態を変化させる効率を高くすることができ
る。
Further, a transparent electrode is formed on the back surface side via a liquid crystal layer covering the same plane, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the liquid crystal layer as it is. The voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where there is a substrate or another layer.

【0139】請求項3に係る液晶表示装置の製造方法に
よれば、上記のように、基板の他方の片面を研磨して各
画素電極を露出させた場合は、基板の他方の片面を研磨
してなる研磨面は画素電極の表面と同一平面を構成し、
この画素電極の表面で反射面を構成しているので、平坦
な反射面を得ることができ、高画質を実現できる。各画
素電極を露出させない場合は、基板の片面における一定
の深さの凹部に金属の膜からなる画素電極を形成し、こ
の凹部の表面に接する画素電極の表面で反射面を構成し
ているので、平坦な反射面を得ることができ、高画質を
実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to a third aspect, as described above, when the other surface of the substrate is polished to expose each pixel electrode, the other surface of the substrate is polished. The polished surface that is formed is flush with the surface of the pixel electrode,
Since the reflecting surface is formed by the surface of the pixel electrode, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized. If each pixel electrode is not exposed, a pixel electrode made of a metal film is formed in a recess of a certain depth on one surface of the substrate, and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the recess forms a reflective surface. A flat reflective surface can be obtained, and high image quality can be realized.

【0140】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う液晶層とこの液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧が凹部
の薄い板厚の基板と液晶層とにかかるので、または、そ
のまま液晶層にかかるので、この片面を研磨しない場合
に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低く
することができ、液晶の状態を変化させる効率を高くす
ることができる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode, and a liquid crystal layer covering this one surface and a transparent electrode covering this liquid crystal layer are formed. Since the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the recess and the liquid crystal layer, or to the liquid crystal layer as it is, the state of the liquid crystal is better than that in the case where one side is not polished. It is possible to reduce the voltage between both electrodes that changes the liquid crystal, and it is possible to increase the efficiency that changes the state of the liquid crystal.

【0141】請求項4に係る液晶表示装置の製造方法に
よれば、上記のように、基板の他方の片面を研磨して各
画素電極を露出させた場合は、基板の他方の片面を研磨
してなる研磨面は画素電極の表面と同一平面を構成し、
この画素電極の表面で反射面を構成しているので、平坦
な反射面を得ることができ、高画質を実現できる。各画
素電極を露出させない場合は、基板の片面における一定
の深さの凹部に金属の膜からなる画素電極を形成し、こ
の凹部の表面に接する画素電極の表面で反射面を構成し
ているので、平坦な反射面を得ることができ、高画質を
実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth aspect, as described above, when each pixel electrode is exposed by polishing the other surface of the substrate, the other surface of the substrate is polished. The polished surface that is formed is flush with the surface of the pixel electrode,
Since the reflecting surface is formed by the surface of the pixel electrode, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized. If each pixel electrode is not exposed, a pixel electrode made of a metal film is formed in a recess of a certain depth on one surface of the substrate, and the surface of the pixel electrode in contact with the surface of the recess forms a reflective surface. A flat reflective surface can be obtained, and high image quality can be realized.

【0142】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う液晶層とこの液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧が凹部
の薄い板厚の基板と液晶層とにかかるので、または、そ
のまま液晶層にかかるので、この片面を研磨しない場合
に比べて液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低く
することができ、液晶の状態を変化させる効率を高くす
ることができる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode, and a liquid crystal layer covering this one surface and a transparent electrode covering the liquid crystal layer are formed. Since the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the recess and the liquid crystal layer, or to the liquid crystal layer as it is, the state of the liquid crystal is better than that in the case where one side is not polished. It is possible to reduce the voltage between both electrodes that changes the liquid crystal, and it is possible to increase the efficiency that changes the state of the liquid crystal.

【0143】請求項5に係る液晶表示装置によれば、上
記のように、基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層で覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができ、高
画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the fifth aspect, as described above, the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the reflective surface is covered with the surface of the reflective layer. Since it is configured, a flat reflecting surface can be obtained, and high image quality can be realized.

【0144】請求項6に係る液晶表示装置によれば、上
記のように、基板におけるスイッチング素子を有する面
の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この同一
平面を誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層
の表面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得
ることができ、高画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the sixth aspect, as described above, the rear surface of the surface of the substrate having the switching element forms the same plane as the lower surface of the pixel electrode, and this same plane is formed of the dielectric multilayer film. Since the reflective layer covers and the reflective surface is constituted by the surface of the reflective layer, a flat reflective surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0145】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層とこの反射層を覆う液晶層とを介して透明電極が形成
されており、画素電極と透明電極間の電圧がそのまま反
射層と液晶層とにかかるので、画素電極と透明電極間に
基板や他の層がある場合に比べて液晶の状態を変化させ
る両電極間の電圧を低くすることができ、液晶の状態を
変化させる効率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode is formed on the back surface side via a reflection layer covering the same plane and a liquid crystal layer covering the reflection layer, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is the same as that of the reflection layer and the liquid crystal. Since it is applied to a layer, the voltage between both electrodes that changes the state of the liquid crystal can be lowered compared to the case where there is a substrate or another layer between the pixel electrode and the transparent electrode, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be improved. Can be higher.

【0146】請求項7に係る液晶表示装置の製造方法に
よれば、上記のように、基板の他方の研磨された片面を
誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができ、高画質を実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to a seventh aspect, as described above, the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer is covered. Since the reflecting surface is configured, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0147】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Also, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and the reflective layer covering this one surface and the liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0148】請求項8に係る液晶表示装置の製造方法に
よれば、上記のように、基板の他方の研磨された片面を
誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層の表面
で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得ること
ができ、高画質を実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to an eighth aspect, as described above, the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer is covered. Since the reflecting surface is configured, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0149】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the recess of the substrate or expose each pixel electrode, and the reflective layer covering this one surface and the liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0150】請求項9に係る液晶表示装置によれば、上
記のように、基板の他方の研磨された片面を誘電体多層
膜の反射層が覆っており、この反射層の表面で反射面を
構成しているので、平坦な反射面を得ることができ、高
画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the ninth aspect, as described above, the other polished surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the reflective surface is covered by the surface of the reflective layer. Since it is configured, a flat reflecting surface can be obtained, and high image quality can be realized.

【0151】また、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは半導体
の膜で接続されているので、これらを新たに導電性物質
で配線する手間をはぶくことができる。
Further, the pixel electrode of the semiconductor film covering the concave portion is formed for each of the above-mentioned constant shapes, and the switching element is formed for each of the above-mentioned constant shape at the portion of the film over the convex portion. Since the switching element and the switching element are connected by a semiconductor film, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material.

【0152】請求項10に係る液晶表示装置によれば、
上記のように、基板におけるスイッチング素子を有する
面の裏面は画素電極の下面と同一平面を構成し、この同
一平面を誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射
層の表面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を
得ることができ、高画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the tenth aspect,
As described above, the back surface of the surface having the switching element on the substrate constitutes the same plane as the lower surface of the pixel electrode, and the reflection layer of the dielectric multilayer film covers the same plane. Since it is configured, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0153】また、裏面側にはこの同一平面を覆う反射
層とこの反射層を覆う液晶層とを介して透明電極が形成
されており、画素電極と透明電極間の電圧がそのまま反
射層と液晶層とにかかるので、画素電極と透明電極間に
基板や他の層がある場合に比べて液晶の状態を変化させ
る両電極間の電圧を低くすることができ、液晶の状態を
変化させる効率を高くすることができる。
Further, a transparent electrode is formed on the back surface side via a reflection layer covering the same plane and a liquid crystal layer covering the reflection layer, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is the same as that of the reflection layer and the liquid crystal. Since it is applied to a layer, the voltage between both electrodes that changes the state of the liquid crystal can be lowered compared to the case where there is a substrate or another layer between the pixel electrode and the transparent electrode, and the efficiency of changing the state of the liquid crystal can be improved. Can be higher.

【0154】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは半導体
の膜で接続されているので、これらを新たに導電性物質
で配線する手間をはぶくことができる。
Further, the pixel electrode of the semiconductor film covering the concave portion is formed for each of the above-mentioned constant shapes, and the switching element is formed for each of the above-mentioned constant shape in the portion of the film that extends over the convex portion of the pixel electrode. Since the switching element and the switching element are connected by a semiconductor film, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material.

【0155】請求項11に係る液晶表示装置の製造方法
によれば、上記のように、基板の他方の研磨された片面
を誘電体多層膜の反射層が覆っており、この反射層の表
面で反射面を構成しているので、平坦な反射面を得るこ
とができ、高画質を実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the eleventh aspect, as described above, the other polished one surface of the substrate is covered with the reflective layer of the dielectric multilayer film, and the surface of this reflective layer is covered. Since the reflecting surface is configured, a flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0156】また、基板の他方の片面を研磨して、基板
の凹部の板厚を薄くし、または、各画素電極を露出さ
せ、この片面を覆う反射層とこの反射層を覆う液晶層と
この液晶層を覆う透明電極とを形成しており、画素電極
と透明電極間の電圧が凹部の薄い板厚の基板と反射層と
液晶層とにかかるので、または、そのまま反射層と液晶
層とにかかるので、この片面を研磨しない場合に比べて
液晶の状態を変化させる両電極間の電圧を低くすること
ができ、液晶の状態を変化させる効率を高くすることが
できる。
Further, the other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the concave portion of the substrate or expose each pixel electrode, and the reflective layer covering this one surface and the liquid crystal layer covering this reflective layer are formed. A transparent electrode covering the liquid crystal layer is formed, and a voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is applied to the substrate having a thin plate thickness of the concave portion, the reflective layer and the liquid crystal layer, or directly to the reflective layer and the liquid crystal layer. Therefore, the voltage between both electrodes for changing the state of the liquid crystal can be lowered and the efficiency for changing the state of the liquid crystal can be increased as compared with the case where one surface is not polished.

【0157】更に、凹部を覆う半導体の膜の画素電極が
前記一定形状ごとに形成されており、この膜の凸部に掛
かる部分にはスイッチング素子が前記一定形状ごとに形
成されており、画素電極とスイッチング素子とは半導体
の膜で接続されているので、これらを新たに導電性物質
で配線する手間をはぶくことができる。
Further, a pixel electrode of a semiconductor film that covers the concave portion is formed for each of the above-mentioned constant shapes, and a switching element is formed for each of the above-mentioned constant shapes at the portion that overlaps the convex portion of this film. Since the switching element and the switching element are connected by a semiconductor film, it is possible to eliminate the trouble of newly wiring them with a conductive material.

【0158】請求項12に係る液晶表示装置によれば、
上記のように、画素電極と透明電極に第一電極と第二電
極からなる対向電極を並列接続することで、画素電極と
透明電極間の容量を増加でき、画素電極の電圧を安定化
することができ、高画質を実現できる。
According to the liquid crystal display device of the twelfth aspect,
As described above, by connecting the counter electrode composed of the first electrode and the second electrode in parallel to the pixel electrode and the transparent electrode, the capacitance between the pixel electrode and the transparent electrode can be increased and the voltage of the pixel electrode can be stabilized. And high image quality can be realized.

【0159】また、液晶層や透明電極とは基板をはさん
で対向電極を形成するので、反射面の平坦度を悪化させ
ずに補助容量を生成することができる。
Further, since the counter electrode is formed with the liquid crystal layer and the transparent electrode sandwiching the substrate, the auxiliary capacitance can be generated without deteriorating the flatness of the reflecting surface.

【0160】請求項13に係る液晶表示装置によれば、
上記のように、基板に不純物を混入することで基板は光
を散乱または遮断することができるので、光が基板を通
過しスイッチング素子に到達してスイッチング素子のO
N/OFF動作が不安定になるのを防止でき、高画質を
実現できる。
According to the liquid crystal display device of the thirteenth aspect,
As described above, by mixing impurities into the substrate, the substrate can scatter or block light, so that the light passes through the substrate, reaches the switching element, and reaches the switching element O
The N / OFF operation can be prevented from becoming unstable, and high image quality can be realized.

【0161】請求項14に係る液晶表示装置の製造方法
によれば、上記のように、基板の他方の片面に金属の膜
を形成してこの膜とランドパターンとを接続したとき
は、膜の表面におけるヴィアホールを充填してなる部分
に窪みができるが、この片面側を研磨することで膜を分
離して各凹部に画素電極を形成できると共に、膜の表面
をならすことができ、画素電極の表面で反射面を構成し
ていることから、平坦な反射面を得ることができ、高画
質を実現できる。
According to the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the fourteenth aspect, as described above, when the metal film is formed on the other surface of the substrate and the film and the land pattern are connected, A depression is formed in the portion of the surface filled with the via hole, but by polishing this one side, the film can be separated to form the pixel electrode in each recess, and the surface of the film can be smoothed. Since the reflecting surface is formed by the surface of, the flat reflecting surface can be obtained and high image quality can be realized.

【0162】また、基板の他方の片面側には、この研磨
済みの片面を覆う液晶層と、この液晶層を覆う透明電極
とを形成しており、画素電極と透明電極間の電圧をその
まま液晶層にかけて液晶の状態を変化させることができ
る。
Further, a liquid crystal layer covering the polished one surface and a transparent electrode covering the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate, and the voltage between the pixel electrode and the transparent electrode is directly applied to the liquid crystal. The state of the liquid crystal can be changed over the layers.

【0163】更に、請求項1〜請求項14の液晶表示装
置とその製造方法では、画素電極間の隙間には基板が位
置して液晶が位置しない構造なので、画素電極間の局所
的な電位差による液晶の配向乱れを防止でき、高画質を
実現できる。
Further, in the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to claims 1 to 14, since the substrate is located in the gap between the pixel electrodes and the liquid crystal is not located, the potential difference between the pixel electrodes causes a local potential difference. The alignment disorder of the liquid crystal can be prevented, and high image quality can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】液晶表示装置の平面構成図FIG. 1 is a plan configuration diagram of a liquid crystal display device.

【図2】従来の液晶表示装置の断面構造図FIG. 2 is a sectional structural view of a conventional liquid crystal display device.

【図3】従来の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 3 is an explanatory view of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device.

【図4】従来の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 4 is an explanatory view of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device.

【図5】半導体基板を用いた従来の液晶表示装置の断面
構造図
FIG. 5 is a sectional structural view of a conventional liquid crystal display device using a semiconductor substrate.

【図6】反射層を備えた従来の液晶表示装置の断面構造
FIG. 6 is a cross-sectional structural view of a conventional liquid crystal display device having a reflective layer.

【図7】本発明の液晶表示装置の断面構造図FIG. 7 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図8】本発明の液晶表示装置の断面構造図FIG. 8 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図9】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 9 is an explanatory view of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図10】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 10 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図11】半導体基板を用いた本発明の液晶表示装置の
断面構造図
FIG. 11 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention using a semiconductor substrate.

【図12】半導体基板を用いた本発明の液晶表示装置の
断面構造図
FIG. 12 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention using a semiconductor substrate.

【図13】反射層を備えた本発明の液晶表示装置の断面
構造図
FIG. 13 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention having a reflective layer.

【図14】反射層を備えた本発明の液晶表示装置の断面
構造図
FIG. 14 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention having a reflective layer.

【図15】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 15 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図16】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 16 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図17】本発明の液晶表示装置の断面構造図FIG. 17 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図18】本発明の液晶表示装置の断面構造図FIG. 18 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図19】補助容量を付加した本発明の液晶表示装置の
断面構造図
FIG. 19 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention to which an auxiliary capacitance is added.

【図20】不純物を混入したガラス基板を用いた本発明
の液晶表示装置の断面構造図
FIG. 20 is a sectional structural view of a liquid crystal display device of the present invention using a glass substrate containing impurities.

【図21】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 21 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【図22】本発明の液晶表示装置の製造方法の説明図FIG. 22 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【符号の説明】 1…液晶表示装置、2…基板、2a…凸部、2b,21
…凹部、3…画素電極、3a…膜、4…スイッチング素
子、5…縦方向駆動部、6…横方向駆動部、7…縦の駆
動線、8…横の駆動線、9…配線、9a…ランドパター
ン、11,12,13…絶縁膜、12a…穴、14…粘
着物質、15…支持用基板、16…反射層、17…液晶
層、18…透明電極、20…ヴィアホール、31…第一
電極、32…第二電極。
[Description of Reference Signs] 1 ... Liquid crystal display device, 2 ... Substrate, 2a ... Convex portion, 2b, 21
... recesses, 3 ... pixel electrodes, 3a ... film, 4 ... switching element, 5 ... vertical drive section, 6 ... horizontal drive section, 7 ... vertical drive line, 8 ... horizontal drive line, 9 ... wiring, 9a ... Land pattern, 11, 12, 13 ... Insulating film, 12a ... Hole, 14 ... Adhesive substance, 15 ... Supporting substrate, 16 ... Reflective layer, 17 ... Liquid crystal layer, 18 ... Transparent electrode, 20 ... Via hole, 31 ... First electrode, 32 ... Second electrode.

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部
とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備
えた基板と、 前記凹部上に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部
を覆う金属の膜の画素電極と、 前記凸部上に前記一定形状ごとに形成された、前記画素
電極と配線接続されているスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、研磨された片面を覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
1. A substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and formed on the concave portion for each constant shape. A pixel electrode made of a metal film covering the concave portion, a switching element formed on the convex portion for each of the constant shapes and wiring-connected to the pixel electrode, and each of the vertical and horizontal columns and the switching element in each row. Close,
Vertical and horizontal drive lines that are wired and connected to these switching elements, and a liquid crystal layer that covers the polished one side opposite to the one side of the substrate provided with the concave portion and the convex portion, and this liquid crystal layer A liquid crystal display device comprising: a transparent electrode for covering; and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive material.
【請求項2】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部
とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備
えた基板と、 前記凹部上に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部
を覆う金属の膜の画素電極と、 前記凸部上に前記一定形状ごとに形成された、前記画素
電極と配線接続されているスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、前記画素電極の下面と同一平面を構成する片面を
覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
2. A substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in the vertical and horizontal directions, and formed on the concave portion for each of the constant shapes. A pixel electrode made of a metal film covering the concave portion, a switching element formed on the convex portion for each of the constant shapes and wiring-connected to the pixel electrode, and each of the vertical and horizontal columns and the switching element in each row. Close,
Vertical and horizontal drive lines wired to these switching elements and one surface of the substrate opposite to the one surface of the substrate provided with the concave portion and the convex portion and forming the same plane as the lower surface of the pixel electrode are covered. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer, a transparent electrode covering the liquid crystal layer, and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive substance. .
【請求項3】 以下の工程を実行してなる液晶表示装置
の製造方法。 工程1:基板の片面上にスイッチング素子を縦横に各々
一定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面に一定の深さの凹部を、前記ス
イッチング素子の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピ
ッチで形成する。 工程3:前記基板の片面の全域に金属の膜を形成する。 工程4:前記膜を前記凹部毎に分離して前記凹部を覆う
画素電極を形成する。 工程5:前記凹部を囲む凸部上には駆動線を縦横に前記
一定ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行の前記
スイッチング素子をこれらのスイッチング素子に近接す
る縦横の前記駆動線に配線接続し、前記スイッチング素
子とこのスイッチング素子に近接する1個の前記画素電
極とを配線接続する。 工程6:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記画素電極、および、前記駆動線の上に粘着物
質を介して支持用基板を装着する。 工程7:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
前記凹部の板厚を薄くし、または、前記各画素電極を露
出させる。 工程8:前記基板の他方の片面側には、この片面を覆う
液晶層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
3. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: Recesses having a constant depth are formed on one surface of the substrate in the vertical and horizontal directions at the constant pitch while avoiding the position of the switching element. Step 3: A metal film is formed on the entire surface of one surface of the substrate. Step 4: The film is separated for each of the recesses to form a pixel electrode covering the recess. Step 5: Drive lines are formed vertically and horizontally at the constant pitch on the convex portion surrounding the concave portion, and the switching elements in each vertical and horizontal column and each row are wired to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements. Then, the switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the recess of the substrate or expose the pixel electrodes. Step 8: A liquid crystal layer that covers the one surface of the substrate and a transparent electrode that covers the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate.
【請求項4】 以下の工程を実行してなる液晶表示装置
の製造方法。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面の全域に金属の膜を形成する。 工程3:前記膜を前記凹部毎に分離して前記凹部を覆う
画素電極を形成する。 工程4:前記基板の前記凹部を囲む凸部上にスイッチン
グ素子を縦横に各々前記一定ピッチで形成する。 工程5:前記凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成すると共に、縦横の各列と各行の前記スイッチン
グ素子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の前
記駆動線に配線接続し、前記スイッチング素子とこのス
イッチング素子に近接する1個の前記画素電極とを配線
接続する。 工程6:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記画素電極、および、前記駆動線の上に粘着物
質を介して支持用基板を装着する。 工程7:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
前記凹部の板厚を薄くし、または、前記各画素電極を露
出させる。 工程8:前記基板の他方の片面側には、この片面を覆う
液晶層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
4. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: A metal film is formed on the entire area of one surface of the substrate. Step 3: The film is separated for each of the recesses to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: Switching elements are formed vertically and horizontally on the convex portion surrounding the concave portion of the substrate at the constant pitch. Step 5: drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the constant pitch, and the switching elements of each vertical and horizontal column and each row are connected by wiring to the vertical and horizontal drive lines adjacent to these switching elements. The switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the recess of the substrate or expose the pixel electrodes. Step 8: A liquid crystal layer that covers the one surface of the substrate and a transparent electrode that covers the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate.
【請求項5】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部
とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備
えた基板と、 前記凹部上に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部
を覆う金属の膜の画素電極または不純物をドープした半
導体の膜の画素電極と、 前記凸部上に前記一定形状ごとに形成された、前記画素
電極と配線接続されているスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、研磨された片面を覆う誘電体多層膜の反射層と、 この反射層を覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
5. A substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in the vertical and horizontal directions, and formed on the concave portion for each of the constant shapes. A pixel electrode of a metal film or a pixel electrode of a semiconductor film doped with an impurity, which covers the concave portion; and a switching element which is formed on the convex portion in each of the constant shapes and is wiring-connected to the pixel electrode, Proximity to the switching elements in each vertical and horizontal column and each row,
Vertical and horizontal drive lines wired and connected to these switching elements, and a reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the polished one side opposite to the one side of the substrate having the recess and the protrusion. A liquid crystal layer covering the reflective layer, a transparent electrode covering the liquid crystal layer, and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive substance. A liquid crystal display device provided.
【請求項6】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部
とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備
えた基板と、 前記凹部上に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部
を覆う金属の膜の画素電極または不純物がドープされた
半導体の膜の画素電極と、 前記凸部上に前記一定形状ごとに形成された、前記画素
電極と配線接続されているスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、前記画素電極の下面と同一平面を構成する片面を
覆う誘電体多層膜の反射層と、 この反射層を覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
6. A substrate having a constant shape composed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch in the vertical and horizontal directions, and formed on the concave portion for each of the constant shapes. A pixel electrode of a metal film or a pixel electrode of a semiconductor film doped with an impurity, which covers the concave portion, and a switching element which is formed on the convex portion in each of the constant shapes and is wiring-connected to the pixel electrode. , Adjacent to the switching elements in each row and column,
Vertical and horizontal drive lines wired to these switching elements and one surface of the substrate opposite to the one surface of the substrate provided with the concave portion and the convex portion and forming the same plane as the lower surface of the pixel electrode are covered. A reflective layer of a dielectric multilayer film, a liquid crystal layer that covers the reflective layer, a transparent electrode that covers the liquid crystal layer, and the switching element and the pixel electrode formed on the substrate, which are mounted via an adhesive material. Liquid crystal display device comprising:
【請求項7】 以下の工程を実行してなる液晶表示装置
の製造方法。工程1:基板の片面上にスイッチング素子
を縦横に各々一定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面に一定の深さの凹部を、前記ス
イッチング素子の位置を避けつつ縦横に各々前記一定ピ
ッチで形成する。 工程3:前記基板の片面の全域に金属の膜または不純物
をドープした半導体の膜を形成する。 工程4:前記膜を前記凹部毎に分離して前記凹部を覆う
画素電極を形成する。 工程5:前記凹部を囲む凸部上には駆動線を縦横に前記
一定ピッチで形成すると共に、縦横の各列と各行の前記
スイッチング素子をこれらのスイッチング素子に近接す
る縦横の前記駆動線に配線接続し、前記スイッチング素
子とこのスイッチング素子に近接する1個の前記画素電
極とを配線接続する。 工程6:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記画素電極、および、前記駆動線の上に粘着物
質を介して支持用基板を装着する。 工程7:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
前記凹部の板厚を薄くし、または、前記各画素電極を露
出させる。 工程8:前記基板の他方の片面側には、この片面を覆う
誘電体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、
この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
7. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: Recesses having a constant depth are formed on one surface of the substrate in the vertical and horizontal directions at the constant pitch while avoiding the position of the switching element. Step 3: A metal film or a semiconductor film doped with impurities is formed on the entire surface of one surface of the substrate. Step 4: The film is separated for each of the recesses to form a pixel electrode covering the recess. Step 5: Drive lines are formed vertically and horizontally at the constant pitch on the convex portion surrounding the concave portion, and the switching elements in each vertical and horizontal column and each row are wired to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements. Then, the switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the recess of the substrate or expose the pixel electrodes. Step 8: A reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the one surface of the other side of the substrate, and a liquid crystal layer that covers the reflective layer.
A transparent electrode that covers the liquid crystal layer is formed.
【請求項8】 以下の工程を実行してなる液晶表示装置
の製造方法。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面の全域に金属の膜または不純物
をドープした半導体の膜を形成する。 工程3:前記膜を前記凹部毎に分離して前記凹部を覆う
画素電極を形成する。 工程4:前記基板の前記凹部を囲む凸部上にスイッチン
グ素子を縦横に各々前記一定ピッチで形成する。 工程5:前記凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成すると共に、縦横の各列と各行の前記スイッチン
グ素子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の前
記駆動線に配線接続し、前記スイッチング素子とこのス
イッチング素子に近接する1個の前記画素電極とを配線
接続する。 工程6:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記画素電極、および、前記駆動線の上に粘着物
質を介して支持用基板を装着する。 工程7:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
前記凹部の板厚を薄くし、または、前記各画素電極を露
出させる。 工程8:前記基板の他方の片面側には、この片面を覆う
誘電体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、
この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
8. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: A metal film or a semiconductor film doped with impurities is formed on the entire surface of one surface of the substrate. Step 3: The film is separated for each of the recesses to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: Switching elements are formed vertically and horizontally on the convex portion surrounding the concave portion of the substrate at the constant pitch. Step 5: drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the constant pitch, and the switching elements of each vertical and horizontal column and each row are connected by wiring to the vertical and horizontal drive lines adjacent to these switching elements. The switching element and one pixel electrode adjacent to the switching element are connected by wiring. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the recess of the substrate or expose the pixel electrodes. Step 8: A reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the one surface of the other side of the substrate, and a liquid crystal layer that covers the reflective layer.
A transparent electrode that covers the liquid crystal layer is formed.
【請求項9】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸部
とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで備
えた基板と、 前記凹部上に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部
を覆う不純物がドープされた半導体の膜の画素電極と、 前記膜の前記凸部に掛かる部分に前記一定形状ごとに形
成されたスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、研磨された片面を覆う誘電体多層膜の反射層と、 この反射層を覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
9. A substrate having a constant shape formed of a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion at a constant pitch vertically and horizontally, and formed on the concave portion for each constant shape. A pixel electrode of an impurity-doped semiconductor film that covers the recess, a switching element formed in each of the constant shapes in a portion of the film that overlaps the protrusion, and vertical and horizontal columns and rows of the switching element. Close,
Vertical and horizontal drive lines wired and connected to these switching elements, and a reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the polished one side opposite to the one side of the substrate having the recess and the protrusion. A liquid crystal layer covering the reflective layer, a transparent electrode covering the liquid crystal layer, and a supporting substrate mounted on the switching element and the pixel electrode formed on the substrate via an adhesive substance. A liquid crystal display device provided.
【請求項10】 一定の深さの凹部とこの凹部を囲む凸
部とから構成される一定形状を縦横に各々一定ピッチで
備えた基板と、 前記凹部に前記一定形状ごとに形成された、前記凹部を
覆う不純物がドープされた半導体の膜の画素電極と、 前記膜の前記凸部に掛かる部分に前記一定形状ごとに形
成されたスイッチング素子と、 縦横の各列と各行の前記スイッチング素子に近接した、
これらのスイッチング素子に配線接続されている縦横の
駆動線と、 前記凹部と前記凸部とを備えた前記基板の片面とは反対
側の、前記画素電極の下面と同一平面を構成する片面を
覆う誘電体多層膜の反射層と、 この反射層を覆う液晶層と、 この液晶層を覆う透明電極と、 前記基板上に形成された前記スイッチング素子および前
記画素電極の上に粘着物質を介して装着された支持用基
板と、を備えてなる液晶表示装置。
10. A substrate provided with a constant shape vertically and horizontally at constant pitches, each of which comprises a concave portion having a constant depth and a convex portion surrounding the concave portion, and the concave portion formed for each constant shape. A pixel electrode of an impurity-doped semiconductor film that covers the concave portion, a switching element formed in the constant shape in the portion of the film that overlaps the convex portion, and a vertical and horizontal column and a proximity of the switching element in each row. did,
Vertical and horizontal drive lines wired to these switching elements and one surface of the substrate opposite to the one surface of the substrate provided with the concave portion and the convex portion and forming the same plane as the lower surface of the pixel electrode are covered. A reflective layer of a dielectric multilayer film, a liquid crystal layer that covers the reflective layer, a transparent electrode that covers the liquid crystal layer, and the switching element and the pixel electrode formed on the substrate, which are mounted via an adhesive material. Liquid crystal display device comprising:
【請求項11】 以下の工程を実行してなる液晶表示装
置の製造方法。 工程1:基板の片面に一定の深さの凹部を縦横に各々一
定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面の全域に不純物をドープした半
導体の膜を形成する。 工程3:前記膜を前記凹部毎に分離して前記凹部を覆う
画素電極を形成する。 工程4:前記基板の前記凹部を囲む凸部上における前記
膜の前記凸部に掛かる部分にスイッチング素子を形成す
る。 工程5:前記凸部上には駆動線を縦横に前記一定ピッチ
で形成すると共に、縦横の各列と各行の前記スイッチン
グ素子をこれらのスイッチング素子に近接する縦横の前
記駆動線に配線接続する。 工程6:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記画素電極、および、前記駆動線の上に粘着物
質を介して支持用基板を装着する。 工程7:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
前記凹部の板厚を薄くし、または、前記各画素電極を露
出させる。 工程8:前記基板の他方の片面側には、この片面を覆う
誘電体多層膜の反射層と、この反射層を覆う液晶層と、
この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
11. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Recesses having a constant depth are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: An impurity-doped semiconductor film is formed on the entire surface of one surface of the substrate. Step 3: The film is separated for each of the recesses to form a pixel electrode covering the recess. Step 4: A switching element is formed on a portion of the film, which overlaps the convex portion on the convex portion surrounding the concave portion of the substrate. Step 5: Drive lines are formed vertically and horizontally on the convex portion at the constant pitch, and the switching elements in each vertical and horizontal column and each row are wire-connected to the vertical and horizontal drive lines close to these switching elements. Step 6: A supporting substrate is mounted on the switching elements, the pixel electrodes, and the drive lines formed on the substrate via an adhesive material. Step 7: The other surface of the substrate is polished to reduce the plate thickness of the recess of the substrate or expose the pixel electrodes. Step 8: A reflective layer of a dielectric multilayer film that covers the one surface of the other side of the substrate, and a liquid crystal layer that covers the reflective layer.
A transparent electrode that covers the liquid crystal layer is formed.
【請求項12】 請求項1、請求項2、請求項5、請求
項6、請求項9、または、請求項10記載の液晶表示装
置において、 前記基板と前記支持用基板との間に、 前記画素電極毎に対応して形成され前記画素電極毎に接
続されている金属の膜または不純物がドープされた半導
体の膜と、 この膜の上に絶縁膜を介して形成され前記透明電極に接
続されている金属の膜または不純物がドープされた半導
体の膜と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 1, claim 2, claim 5, claim 6, claim 9, or claim 10, wherein the substrate is provided between the substrate and the supporting substrate. A metal film or a semiconductor film doped with impurities, which is formed corresponding to each pixel electrode and is connected to each pixel electrode, and an insulating film formed on this film and connected to the transparent electrode. And a semiconductor film doped with impurities, the liquid crystal display device.
【請求項13】 請求項1、請求項2、請求項5、請求
項6、請求項9、または、請求項10記載の液晶表示装
置において、 前記基板は不純物を混入したガラス基板からなることを
特徴とする液晶表示装置。
13. The liquid crystal display device according to claim 1, claim 2, claim 5, claim 6, claim 9, or claim 10, wherein the substrate is a glass substrate mixed with impurities. Characteristic liquid crystal display device.
【請求項14】 以下の工程を実行してなる液晶表示装
置の製造方法。 工程1:基板の片面上にスイッチング素子を縦横に各々
一定ピッチで形成する。 工程2:前記基板の片面上に駆動線を縦横に前記一定ピ
ッチで形成し、前記各スイッチング素子の近傍にランド
パターンを形成すると共に、縦横の各列と各行の前記ス
イッチング素子をこれらのスイッチング素子に近接する
縦横の前記駆動線に配線接続し、前記スイッチング素子
とその近傍の前記ランドパターンとを配線接続する。 工程3:前記基板上に形成されている前記スイッチング
素子、前記駆動線、および、前記ランドパターンの上に
粘着物質を介して支持用基板を装着する。 工程4:前記基板の他方の片面を研磨して、前記基板の
板厚を薄くする。 工程5:前記基板の他方の片面に、前記各スイッチング
素子に対応する凹部を形成すると共に、前記ランドパタ
ーンに至るヴィアホールを前記凹部の中または前記凹部
の縁に形成する。 工程6:前記基板の他方の片面の全域に金属の膜を形成
して、この膜と前記ランドパターンとを接続する。 工程7:前記基板の他方の片面側を研磨して、前記基板
の他方の片面を露出させると共に前記凹部の前記膜を各
々分離して画素電極を形成する。 工程8:前記基板の他方の片面側に、この片面を覆う液
晶層と、この液晶層を覆う透明電極とを形成する。
14. A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises performing the following steps. Step 1: Switching elements are formed vertically and horizontally on one surface of the substrate at a constant pitch. Step 2: drive lines are formed vertically and horizontally on the one surface of the substrate at the constant pitch, and land patterns are formed in the vicinity of the switching elements, and the vertical and horizontal columns and rows of the switching elements are provided with these switching elements. To the drive lines in the vertical and horizontal directions adjacent to the switching element and to connect the switching element and the land pattern in the vicinity thereof. Step 3: A supporting substrate is mounted on the switching element, the drive line, and the land pattern formed on the substrate via an adhesive material. Step 4: The other surface of the substrate is polished to reduce the thickness of the substrate. Step 5: Form a recess corresponding to each of the switching elements on the other surface of the substrate, and form a via hole reaching the land pattern in the recess or at an edge of the recess. Step 6: A metal film is formed on the entire area of the other surface of the substrate, and the film and the land pattern are connected. Step 7: The other surface of the substrate is polished to expose the other surface of the substrate, and the films in the recesses are separated to form pixel electrodes. Step 8: A liquid crystal layer that covers the one surface and a transparent electrode that covers the liquid crystal layer are formed on the other surface of the substrate.
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KR100314717B1 (en) * 1998-03-02 2001-11-17 포만 제프리 엘 Reflection type liquid crystal device, manufacturing method therefor, and projection display system

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KR100314717B1 (en) * 1998-03-02 2001-11-17 포만 제프리 엘 Reflection type liquid crystal device, manufacturing method therefor, and projection display system

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