JPH0899957A - New quinolone or naphthylidone compound or salt thereof, and antiherpes viral agent consisting thereof - Google Patents

New quinolone or naphthylidone compound or salt thereof, and antiherpes viral agent consisting thereof

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JPH0899957A
JPH0899957A JP6261349A JP26134994A JPH0899957A JP H0899957 A JPH0899957 A JP H0899957A JP 6261349 A JP6261349 A JP 6261349A JP 26134994 A JP26134994 A JP 26134994A JP H0899957 A JPH0899957 A JP H0899957A
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group
salt
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aryl
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Hideyoshi Nagaki
秀嘉 長木
Yosuke Furuta
要介 古田
Kazumi Takahashi
和美 高橋
Masatoshi Hirose
正俊 廣瀬
Nobuyuki Matsubara
信之 松原
Kimiyasu Shiraki
公康 白木
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Toyama Chemical Co Ltd
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Toyama Chemical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain a new compound having excellent antiherpes viral activity, thus useful as a medicinal effective for infectious diseases due to herpes simplex virus, herpes zoster virus, cytomegalovirus, etc. CONSTITUTION: This compound, a quinolone or naphthylidone compound (salt thereof), is expressed by formula I [R<1> is a (substituted) alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R<2> is amino, an alkylamino, (substituted) acylamino, etc.; X is H or a halogen; R<3> is a (substituted) aryl or heterocyclic group; A is N or CH], e.g. 3-amino-1-(4-fluorophenyl)-7-(pyridin-4-yl)-1,4-dihydro-4- oxyquinoline. The compound of formula I is obtained by coupling reaction between a compound of formula II (X<1> is Cl, Br or I) and an organotin compound in the presence of a Pd-catalyst to form a compound of formula III which is, in turn, subjected to nitro group reduction followed by alkylation, acylation, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、一般式[1] [式中、R1は、置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリールまたは複素環式基を;R2は、
保護されていてもよいアミノもしくはアルキルアミノ基
または置換されていてもよいアシルアミノもしくはアル
キルスルホニルアミノ基を;Xは、水素原子またはハロ
ゲン原子を;R3は、置換されていてもよいアリールま
たは複素環式基を;Aは、NまたはCHを示す。]で表
わされる抗ウイルス作用を発揮する新規なキノロンまた
はナフチリドン化合物もしくはそれらの塩、それらから
なる抗ヘルペスウイルス剤を提供するものである。な
お、ここでいう抗ヘルペスウイルス剤とは、単純ヘルペ
ス、帯状疱疹ウイルスまたはサイトメガロウイルスなど
による感染症に対して、有効な薬剤を意味する。
The present invention relates to the general formula [1] [Wherein R 1 represents an optionally substituted alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 2 represents
An optionally protected amino or alkylamino group or an optionally substituted acylamino or alkylsulfonylamino group; X is a hydrogen atom or a halogen atom; R 3 is an optionally substituted aryl or heterocycle The formula group; A represents N or CH. ] A novel quinolone or naphthyridone compound exhibiting an antiviral action represented by the above or a salt thereof, and an anti-herpesvirus agent comprising the same are provided. The anti-herpes virus agent here means an agent effective against infections caused by herpes simplex, herpes zoster virus, cytomegalovirus, or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】特公昭53−18600号は、8−エチル−2
−(1−ピペラジノ)ピリド[2,3−d]ピリミジン
−5−オン塩酸塩に抗炎症活性のあることを開示してい
る。また、特開昭59−95287号は、ピリド[2,3−d]
ピリミジン誘導体に心臓の収縮性を増加する作用のある
ことを開示している。さらに、最近、アンチバイラルケ
ミストリーアンドケモセラピー(Antiviral Chemistry
& Chemotherapy)、第5巻、第3号、第169−175頁(199
4年)において、8−アルキル−2−(ピリジン−4−イ
ル)ピリド[2,3−d]ピリミジン−5(8H)−オ
ンがエイズウイルスに対して有効であるとの報告がされ
ている。一方、現在、抗ヘルペスウイルス剤として、ア
シクロビルに代表される核酸誘導体が広く使用されてい
る。単純ヘルペスウイルスや帯状庖疹ウイルスによる感
染症に対しては、アシクロビルに優れた臨床効果が認め
られているが、エイズ患者などにおいて耐性ウイルスの
出現が問題になっている。また同じヘルペスウイルス属
のサイトメガロウイルスによる感染症に対しては、ガン
シクロビルが使用されているが、好中球減少および血小
板減少などの重篤な副作用が問題となっている。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Publication No. 53-18600 is 8-ethyl-2.
Disclosed is that-(1-piperazino) pyrido [2,3-d] pyrimidin-5-one hydrochloride has anti-inflammatory activity. Further, JP-A-59-95287 discloses pyrido [2,3-d].
It is disclosed that the pyrimidine derivative has an action of increasing the contractility of the heart. Furthermore, recently, Antiviral Chemistry
& Chemotherapy), Volume 5, Issue 3, pages 169-175 (199
4 years), 8-alkyl-2- (pyridin-4-yl) pyrido [2,3-d] pyrimidin-5 (8H) -one was reported to be effective against AIDS virus. . On the other hand, at present, nucleic acid derivatives represented by acyclovir are widely used as anti-herpes virus agents. Acyclovir has been found to have excellent clinical effects on infectious diseases caused by herpes simplex virus and herpes zoster virus, but the emergence of resistant virus has become a problem in AIDS patients and the like. In addition, ganciclovir is used for infectious diseases caused by cytomegalovirus of the same herpesvirus genus, but serious side effects such as neutropenia and thrombocytopenia pose a problem.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】したがって、核酸系以
外の新しい抗ヘルペスウイルス剤の開発が望まれてい
る。
Therefore, the development of new anti-herpesvirus agents other than nucleic acid systems is desired.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】このような状況下におい
て、本発明者らは鋭意検討を行った結果、一般式[1] [式中、R1は、置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリールまたは複素環式基を;R2は、
保護されていてもよいアミノもしくはアルキルアミノ基
または置換されていてもよいアシルアミノもしくはアル
キルスルホニルアミノ基を;Xは、水素原子またはハロ
ゲン原子を;R3は、置換されていてもよいアリールま
たは複素環式基を;Aは、NまたはCHを示す。]で表
わされるキノロンまたはナフチリドン誘導体もしくはそ
れらの塩が優れた抗ヘルペスウイルス活性を有すること
を見出し、本発明を完成するに至った。以下、本発明化
合物について詳述する。
Under the circumstances, the inventors of the present invention have made earnest studies, and as a result, the general formula [1] [Wherein R 1 represents an optionally substituted alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 2 represents
An optionally protected amino or alkylamino group or an optionally substituted acylamino or alkylsulfonylamino group; X is a hydrogen atom or a halogen atom; R 3 is an optionally substituted aryl or heterocycle The formula group; A represents N or CH. ] It was found that the quinolone or naphthyridone derivative represented by the formula] or a salt thereof has excellent anti-herpesvirus activity, and the present invention has been completed. Hereinafter, the compound of the present invention will be described in detail.

【0005】本明細書において特にことわらないかぎ
り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子およびヨウ素原子を;低級アルキル基とは、好ましく
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルおよ
びペンチルなどのC1-5アルキル基を;低級アルコキシ
基とは、好ましくは、メトキシ、エトキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、s
ec−ブトキシ、tert−ブトキシおよびペンチルオキシな
どのC1-5アルコキシ基を;低級アルキルチオ基とは、
好ましくは、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、イソブチルチ
オ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオおよびペンチ
ルなどのC1-5アルキルチオ基を;アシル基とは、好ま
しくは、ホルミル基、アセチルおよびエチルカルボニル
などのC2-5アルカノイル基並びにベンゾイルおよびナ
フチルカルボニルなどのアロイル基を;アシルアミノ基
とは、好ましくは、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ
およびエチルカルボニルアミノなどのC2-5アルカノイ
ルアミノ基並びにベンゾイルアミノおよびナフチルカル
ボニルアミノなどのアロイルアミノ基を;低級アルコキ
シカルボニル基とは、好ましくは、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、t
ert−ブトキシカルボニルおよびペンチルオキシカルボ
ニルなどのC1-5アルコキシカルボニル基を;ヒドロキ
シ−低級アルキル基とは、好ましくは、ヒドロキシメチ
ル、ヒドロキシエチルおよびヒドロキシプロピルなどの
ヒドロキシ−C1-5アルキル基を;アルキルアミノ基と
は、好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピ
ルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルア
ミノ、ヘプチルアミノ、オクチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピル
アミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシ
ルアミノ、ジヘプチルアミノおよびジオクチルアミノな
どのモノまたはジ−C1- 10アルキルアミノ基を;低級ア
ルキルアミノ基とは、好ましくは、メチルアミノ、エチ
ルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノおよびメチルエチルアミノなどのモノまたはジ−
1-5アルキルアミノ基を;アミノ−低級アルキル基と
は、好ましくは、アミノメチル、アミノエチルおよびア
ミノプロピルなどのアミノ−C1-5アルキル基を;低級
アルキルアミノ−低級アルキル基とは、好ましくは、メ
チルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチルアミノ
メチル、メチルアミノプロピル、プロピルアミノエチ
ル、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、ジ
エチルアミノエチルおよびジメチルアミノプロピルなど
のモノまたはジ−C1-5アルキルアミノ−C1-5アルキル
基を;ハロゲノ−低級アルキル基とは、好ましくは、フ
ルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロ
メチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロ
ロエチル、ジクロロエチル、トリクロロエチルおよびク
ロロプロピルなどのハロゲノ−C1-5アルキル基を;ア
ルケニル基とは、好ましくは、ビニル、アリル、イソプ
ロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテ
ニルおよびオクテニルなどのC2-10アルケニル基を;低
級アルケニル基とは、好ましくは、ビニルおよびアリル
などのC2-5アルケニル基を;シクロアルキル基とは、
好ましくは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシルなどのC3-6シクロアルキ
ル基を;低級アルキルスルホニル基とは、好ましくは、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル、n−ブチルスルホ
ニル、イソブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニ
ル、tert−ブチルスルホニルおよびペンチルスルホニル
などのC1-5アルキルスルホニル基を;アルキルスルホ
ニルアミノ基とは、好ましくは、メチルスルホニルアミ
ノ、エチルスルホニルアミノ、n−プロピルスルホニル
アミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、n−ブチルス
ルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec−
ブチルスルホニルアミノ、tert−ブチルスルホニルアミ
ノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニルア
ミノ、ヘプチルスルホニルアミノおよびオクチルスルホ
ニルアミノなどの直鎖状または分枝鎖状C1-10アルキル
スルホニルアミノ基を;低級アルキルスルホニルアミノ
基とは、好ましくは、メチルスルホニルアミノ、エチル
スルホニルアミノ、n−プロピルスルホニルアミノ、イ
ソプロピルスルホニルアミノ、n−ブチルスルホニルア
ミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec−ブチルスル
ホニルアミノ、tert−ブチルスルホニルアミノおよびペ
ンチルスルホニルアミノなどのC1-5アルキルスルホニ
ルアミノ基を;低級アルキルスルファモイル基とは、好
ましくは、メチルスルファモイル、エチルスルファモイ
ル、n−プロピルスルファモイル、イソプロピルスルフ
ァモイル、n−ブチルスルファモイル、イソブチルスル
ファモイル、sec−ブチルスルファモイル、tert−ブチ
ルスルファモイル、ペンチルスルファモイル、ジメチル
スルファモイル、ジエチルスルファモイルおよびエチル
メチルスルファモイル基などのモノまたはジ−C1- 5
ルキルスルファモイル基を;アリール基とは、好ましく
は、フェニルおよびナフチルなどの基を;複素環式基と
は、好ましくは、アゼチジニル、チエニル、フリル、ピ
ロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フラザ
ニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、
イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、1,
3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−チアジアゾリ
ル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジ
アゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−ト
リアゾリル、テトラゾリル、チアトリアゾリル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピペリ
ジニル、ピペラジニル、ピラニル、モルホリニル、1,
2,4−トリアジニル、ベンゾチエニル、ナフトチエニ
ル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、クロメニル、イ
ンドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾ
リル、プリニル、キノリル、イソキノリル、フタラジニ
ル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、
シノリニル、フテリジニル、イソクロマニル、クロマニ
ル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾオキサゾ
リル、トリアゾロピリジル、テトラゾロピリダジニル、
テトラゾロピリミジニル、チアゾロピリダジニル、チア
ジアゾロピリダジニル、トリアゾロピリダジニル、ベン
ズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、1,2,3,4−
テトラヒドロキノリル、イミダゾ「1,2−b][1,
2,4]トリアジニルおよびキヌクリジニルなどのよう
な酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる少な
くとも1つの異項原子を含有する4〜6員または縮合複
素環式基をそれぞれ意味する。
In the present specification, unless otherwise specified, the halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; the lower alkyl group is preferably methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n−
A C 1-5 alkyl group such as butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl and pentyl; a lower alkoxy group is preferably methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s.
a C 1-5 alkoxy group such as ec-butoxy, tert-butoxy and pentyloxy; a lower alkylthio group is
Preferably, a C 1-5 alkylthio group such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio and pentyl; an acyl group is preferably a formyl group. , C 2-5 alkanoyl groups such as acetyl and ethylcarbonyl and aroyl groups such as benzoyl and naphthylcarbonyl; acylamino groups are preferably C 2-5 alkanoylamino such as formylamino group, acetylamino and ethylcarbonylamino. A group and an aroylamino group such as benzoylamino and naphthylcarbonylamino; a lower alkoxycarbonyl group is preferably methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl,
Isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl,
Isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, t
ert-butoxycarbonyl and pentyloxycarbonyl and other C 1-5 alkoxycarbonyl groups; hydroxy-lower alkyl groups are preferably hydroxy-C 1-5 alkyl groups such as hydroxymethyl, hydroxyethyl and hydroxypropyl; The alkylamino group is preferably methylamino, ethylamino, propylamino, butylamino, pentylamino, hexylamino, heptylamino, octylamino, dimethylamino, diethylamino, methylethylamino, dipropylamino, dibutylamino, dipentyl. amino, dihexyl amino, mono- or di -C 1-10 alkylamino groups, such as diheptylamino and dioctyl amino; the lower alkylamino group, preferably, methylamino, ethylamino, Puropirua Bruno, dimethylamino, mono- or di diethylamino and methylethylamino -
A C 1-5 alkylamino group; an amino-lower alkyl group is preferably an amino-C 1-5 alkyl group such as aminomethyl, aminoethyl and aminopropyl; a lower alkylamino-lower alkyl group is Preferably, mono- or di-C 1-5 alkylamino-C such as methylaminomethyl, methylaminoethyl, ethylaminomethyl, methylaminopropyl, propylaminoethyl, dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl, diethylaminoethyl and dimethylaminopropyl. 1-5 alkyl group; a halogeno-lower alkyl group is preferably a halo such as fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, dichloromethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl, chloroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl and chloropropyl. Geno-C 1-5 alkyl group; an alkenyl group is preferably a C 2-10 alkenyl group such as vinyl, allyl, isopropenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl and octenyl; Preferably, a C 2-5 alkenyl group such as vinyl and allyl; a cycloalkyl group is
Preferably, a C 3-6 cycloalkyl group such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl; a lower alkylsulfonyl group is preferably
C 1-5 alkylsulfonyl groups such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl and pentylsulfonyl; and alkylsulfonylamino groups. Is preferably methylsulfonylamino, ethylsulfonylamino, n-propylsulfonylamino, isopropylsulfonylamino, n-butylsulfonylamino, isobutylsulfonylamino, sec-
A linear or branched C 1-10 alkylsulfonylamino group such as butylsulfonylamino, tert-butylsulfonylamino, pentylsulfonylamino, hexylsulfonylamino, heptylsulfonylamino and octylsulfonylamino; a lower alkylsulfonylamino group And is preferably methylsulfonylamino, ethylsulfonylamino, n-propylsulfonylamino, isopropylsulfonylamino, n-butylsulfonylamino, isobutylsulfonylamino, sec-butylsulfonylamino, tert-butylsulfonylamino, pentylsulfonylamino and the like. C 1-5 alkylsulfonylamino group of; lower alkylsulfamoyl group, preferably, methylsulfamoyl, ethylsulfamoyl, n- propylsulfamoyl Famo , Isopropylsulfamoyl, n-butylsulfamoyl, isobutylsulfamoyl, sec-butylsulfamoyl, tert-butylsulfamoyl, pentylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, diethylsulfamoyl and ethylmethyl the aryl group, preferably a group such as phenyl and naphthyl; a mono- or di -C 1-5 alkylsulfamoyl group such as sulfamoyl group and a heterocyclic group, preferably, azetidinyl, thienyl , Furyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, flazanyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, imidazolidinyl,
Imidazolinyl, pyrazolidinyl, pyrazolinyl, 1,
3,4-oxadiazolyl, 1,2,3-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, 1,2,3-triazolyl, 1,2,4-triazolyl, tetrazolyl, thiatriazolyl, Pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, piperidinyl, piperazinyl, pyranyl, morpholinyl, 1,
2,4-triazinyl, benzothienyl, naphthothienyl, benzofuryl, isobenzofuryl, chromenil, indolizinyl, isoindolyl, indolyl, indazolyl, purinyl, quinolyl, isoquinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl,
Cinolinyl, fteridinyl, isochromanyl, chromanyl, indolinyl, isoindolinyl, benzoxazolyl, triazolopyridyl, tetrazolopyridazinyl,
Tetrazolopyrimidinyl, thiazolopyridazinyl, thiadiazolopyridazinyl, triazolopyridazinyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, 1,2,3,4-
Tetrahydroquinolyl, imidazo "1,2-b] [1,
It means a 4- to 6-membered or fused heterocyclic group containing at least one hetero atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom, such as 2,4] triazinyl and quinuclidinyl.

【0006】R1における置換されていてもよい低級ア
ルケニル、アルケニル、シクロアルキル、アリールまた
は複素環式基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ
基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されて
いてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基、アリール基、シクロアルキル基、低
級アルケニル基、ハロゲノ−低級アルキル基および保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基が挙げられ、こ
れら一種または二種以上の置換基で置換されていてもよ
い。
The substituent of the optionally substituted lower alkenyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group for R 1 is a halogen atom, a cyano group, an optionally protected carboxyl group or a protected group. Optionally hydroxyl group, optionally protected amino group, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl group, aryl group, cycloalkyl group, lower alkenyl group, halogeno-lower alkyl group and optionally protected A good lower alkylamino group may be mentioned, which may be substituted with one or more of these substituents.

【0007】R2における置換されていてもよいアシル
アミノ、低級アルキルスルホニルアミノまたはアルキル
スルホニルアミノ基の置換基としては、ハロゲン原子、
シアノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護
されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよ
いアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、アリール基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、ハロゲノ−低級アルキル基、保
護されていてもよい低級アルキルアミノ基が挙げられ、
これら一種または二種以上の置換基で置換されていても
よい。
The substituent of the optionally substituted acylamino, lower alkylsulfonylamino or alkylsulfonylamino group for R 2 is a halogen atom,
Cyano group, optionally protected carboxyl group, optionally protected hydroxyl group, optionally protected amino group, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl group, aryl group, cycloalkyl group, Lower alkenyl group, halogeno-lower alkyl group, optionally protected lower alkylamino group,
It may be substituted with one or more of these substituents.

【0008】R3における置換されていてもよいアリー
ルまたは複素環式基の置換基としては、ハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキル
基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、保護されていても
よいヒドロキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ
低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基、保護されてい
てもよいアミノ低級アルキル基、保護されていてもよい
低級アルキルアミノ−低級アルキル基、低級アルキルス
ルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基および
低級アルキルスルファモイル基が挙げられ、これら一種
または二種以上の置換基で置換されていてもよい。
The substituent of the optionally substituted aryl or heterocyclic group for R 3 is a halogen atom,
Lower alkyl group, lower alkenyl group, cycloalkyl group, aryl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, nitro group, cyano group, acyl group, optionally protected hydroxyl group, optionally protected hydroxy lower alkyl Group, optionally protected amino group, optionally protected lower alkylamino group, optionally protected amino lower alkyl group, optionally protected lower alkylamino-lower alkyl group, lower alkylsulfonyl Groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups and lower alkylsulfamoyl groups, which may be substituted with one or more of these substituents.

【0009】カルボキシル基の保護基としては、通常の
カルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を
含み、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−
プロピル、1,1−ジメチルプロピル、n−ブチルおよび
tert−ブチルなどの低級アルキル基;フェニルおよびナ
フチルなどのアリール基;ベンジル、ジフェニルメチ
ル、トリチル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジル
およびビス(p-メトキシフェニル)メチルなどのアル−
低級アルキル基;アセチルメチル、ベンゾイルメチル、
p-ニトロベンゾイルメチル、p-ブロモベンゾイルメチル
およびp-メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシ
ル−低級アルキル基;2−テトラヒドロピラニルおよび
2−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基;
2,2,2−トリクロロエチルなどのハロゲノ−低級アル
キル基;2−(トリメチルシリル)エチルなどの低級ア
ルキルシリルアルキル基;アセトキシメチル、プロピオ
ニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチルなどの
アシルオキシアルキル基;フタルイミドメチルおよびス
クシンイミドメチルなどの含窒素複素環式−低級アルキ
ル基;シクロヘキシルなどのシクロアルキル基;メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチルおよび2−(トリメ
チルシリル)エトキシメチルなどの低級アルコキシ−低
級アルキル基;ベンジルオキシメチルなどのアル−低級
アルコキシ−低級アルキル基;メチルチオメチルおよび
2−メチルチオエチルなどの低級アルキルチオ−低級ア
ルキル基;フェニルチオメチルなどのアリールチオ−低
級アルキル基;1,1−ジメチル−2−プロペニル、3
−メチル−3−ブチニルおよびアリールなどの低級アル
ケニル基;並びにトリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフ
ェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびtert−ブ
チルメトキシフェニルシリルなどの低級アルキル置換シ
リル基などが挙げられる。
The protecting group for the carboxyl group includes all groups which can be used as a usual protecting group for the carboxyl group, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl and iso-.
Propyl, 1,1-dimethylpropyl, n-butyl and
lower alkyl groups such as tert-butyl; aryl groups such as phenyl and naphthyl; al-groups such as benzyl, diphenylmethyl, trityl, p-nitrobenzyl, p-methoxybenzyl and bis (p-methoxyphenyl) methyl.
Lower alkyl group; acetylmethyl, benzoylmethyl,
Acyl-lower alkyl groups such as p-nitrobenzoylmethyl, p-bromobenzoylmethyl and p-methanesulfonylbenzoylmethyl; oxygen-containing heterocyclic groups such as 2-tetrahydropyranyl and 2-tetrahydrofuranyl;
Halogeno-lower alkyl groups such as 2,2,2-trichloroethyl; lower alkylsilylalkyl groups such as 2- (trimethylsilyl) ethyl; acyloxyalkyl groups such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl and pivaloyloxymethyl; phthalimidomethyl And nitrogen-containing heterocyclic-lower alkyl groups such as succinimidomethyl; cycloalkyl groups such as cyclohexyl; lower alkoxy-lower alkyl groups such as methoxymethyl, methoxyethoxymethyl and 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl; benzyloxymethyl and the like. Al-lower alkoxy-lower alkyl group; lower alkylthio-lower alkyl group such as methylthiomethyl and 2-methylthioethyl; arylthio-lower alkyl group such as phenylthiomethyl; - dimethyl-2-propenyl, 3
Lower alkenyl groups such as -methyl-3-butynyl and aryl; and trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, diethylisopropylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl, diphenylmethylsilyl and tert-butylmethoxyphenylsilyl And lower alkyl-substituted silyl groups.

【0010】また、アミノ、低級アルキルアミノ、アル
キルアミノ、アミノ低級アルキル基および低級アルキル
アミノ−低級アルキル基の保護基としては、通常のアミ
ノ保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえ
ば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、p-ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、o-ブロモベンジルオキシカル
ボニル、(モノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、ト
リフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、ア
セチル、ベンゾイル、tert−アミルオキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、p-メトキシベンジルオキシ
カルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、4−(フェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニ
ル、2−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメト
キシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニ
ル、アラニル、ロイシル、1−アダマンチルオキシカル
ボニルおよび8−キノリルオキシカルボニルなどのアシ
ル基;ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなど
のアル−低級アルキル基;2−ニトロフェニルチオおよ
び2,4−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ
基;メタンスルホニルおよびp-トルエンスルホニルなど
のアルカン−もしくはアレーン−スルホニル基;N,N
−ジメチルアミノメチレンなどのジ−低級アルキルアミ
ノ−低級アルキリデン基;ベンジリデン、2−ヒドロキ
シベンジリデン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリ
デンおよび2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレンなど
のアル−低級アルキリデン基;3−ヒドロキシ−4−ピ
リジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基;
シクロヘキシリデン、2−エトキシカルボニルシクロヘ
キシリデン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、2−アセチルシクロヘキシリデンおよび3,3−ジ
メチル−5−オキシシクロヘキシリデンなどシクロアル
キリデン基;ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホ
スホリルなどのジアリール−もしくはジアル−低級アル
キルホスホリル基;5−メチル−2−オキソ−2H−
1,3−ジオキソール−4−イル−メチルなどの含酸素
複素環式アルキル基;並びにトリメチルシリルなどの低
級アルキル置換シリル基などが挙げられる。
The protecting group for amino, lower alkylamino, alkylamino, amino lower alkyl group and lower alkylamino-lower alkyl group includes all groups which can be used as usual amino protecting groups, for example trichloro. Ethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-, tri-) chloroacetyl, trifluoroacetyl, phenylacetyl, formyl, acetyl, Benzoyl, tert-amyloxycarbonyl,
tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4- (phenylazo) benzyloxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, iso Acyl groups such as propoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, alanyl, leucyl, 1-adamantyloxycarbonyl and 8-quinolyloxycarbonyl; al-lower alkyl groups such as benzyl, diphenylmethyl and trityl; 2-nitrophenylthio and 2, Arylthio groups such as 4-dinitrophenylthio; alkane- or arene-sulfonyl groups such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl; N, N
-Di-lower alkylamino-lower alkylidene group such as dimethylaminomethylene; benzylidene, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene and 2-hydroxy-1-naphthylmethylene-containing lower alkylidene group; 3- Nitrogen-containing heterocyclic alkylidene group such as hydroxy-4-pyridylmethylene;
Cycloalkylidene groups such as cyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene and 3,3-dimethyl-5-oxycyclohexylidene; diphenylphosphoryl and dibenzylphosphoryl Such as diaryl- or dial-lower alkylphosphoryl groups; 5-methyl-2-oxo-2H-
And oxygen-containing heterocyclic alkyl groups such as 1,3-dioxol-4-yl-methyl; and lower alkyl-substituted silyl groups such as trimethylsilyl.

【0011】さらに、ヒドロキシルおよびヒドロキシ低
級アルキル基の保護基としては、通常のヒドロキシル保
護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ベ
ンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、4−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−
メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、1,1
−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル,イソブチルオキシカルボニル、ジフェニルメト
キシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニル、2,2,2−トリブロモエトキシカルボニル、2−
(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、2−(フェ
ニルスルホニル)エトキシカルボニル、2−(トリフェ
ニルホスホニオ)エトキシカルボニル、2−フルフリル
オキシカルボニル、1−アダマンチルオキシカルボニ
ル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ル、S−ベンジルチオカルボニル、4−エトキシ−1−
ナフチルオキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボ
ニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロロ
アセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイ
ルおよびベンゾイルなどのアシル基;メチル、tert−ブ
チル、2,2,2−トリクロロエチルおよび2−トリメチ
ルシリルエチルなどの低級アルキル基;アリルなどの低
級アルケニル基;ベンジル、p-メトキシベンジル、3,
4−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリ
チルなどのアル−低級アルキル基;テトラヒドロフリ
ル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラ
ニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基;メトキシメ
チル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、2−
メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキ
シメチル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチルお
よび1−エトキシエチルなどの低級アルコキシ−および
低級アルキルチオ−低級アルキル基;メタンスルホニル
およびp-トルエンスルホニルなどのアルキル−およびア
リール−スルホニル基;並びにトリメチルシリル、トリ
エチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソ
プロピルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−
ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよ
びtert−ブチルメトキシフェニルシリルなどの低級アル
キル置換シリル基などが挙げられる。
Further, the protecting group for hydroxyl and hydroxy lower alkyl group includes all groups which can be used as a usual hydroxyl protecting group, for example, benzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-bromobenzyloxy. Carbonyl, 4-
Methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, 1,1
-Dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tribromoethoxycarbonyl, 2-
(Trimethylsilyl) ethoxycarbonyl, 2- (phenylsulfonyl) ethoxycarbonyl, 2- (triphenylphosphonio) ethoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, 1-adamantyloxycarbonyl, vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, S-benzyl. Thiocarbonyl, 4-ethoxy-1-
Acyl groups such as naphthyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl, acetyl, formyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, methoxyacetyl, phenoxyacetyl, pivaloyl and benzoyl; methyl, tert-butyl, 2, Lower alkyl groups such as 2,2-trichloroethyl and 2-trimethylsilylethyl; lower alkenyl groups such as allyl; benzyl, p-methoxybenzyl, 3,
Al-lower alkyl groups such as 4-dimethoxybenzyl, diphenylmethyl and trityl; oxygen-containing and sulfur-containing heterocyclic groups such as tetrahydrofuryl, tetrahydropyranyl and tetrahydrothiopyranyl; methoxymethyl, methylthiomethyl, benzyloxymethyl, 2-
Lower alkoxy- and lower alkylthio-lower alkyl groups such as methoxyethoxymethyl, 2,2,2-trichloroethoxymethyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl and 1-ethoxyethyl; alkyl- such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl. And aryl-sulfonyl groups; and trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, diethylisopropylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-
And lower alkyl-substituted silyl groups such as butyldiphenylsilyl, diphenylmethylsilyl and tert-butylmethoxyphenylsilyl.

【0012】一般式[1]の化合物の塩としては、通常
知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシ
ルもしくはカルボキシル基などの酸性基における塩を挙
げることができる。塩基性基における塩としては、たと
えば、塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩;
酒石酸、ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸およびトリフ
ルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;並びにメタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン
酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸
などのスルホン酸との塩を、また、酸性基における塩と
しては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのア
ルカリ金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムなど
のアルカリ土類金属塩との塩;アンモニウム塩;並びに
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチル
ピペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミ
ン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフェ
ナミンおよびN,N'−ジベンジルエチレンジアミンなど
の含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。ま
た、一般式[1]の化合物またはその塩において、異性
体(たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性
体など)が存在する場合、本発明は、それらの異性体を
包含し、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結
晶を包含するものである。
As the salt of the compound of the general formula [1], there may be mentioned the commonly known salts of a basic group such as amino group or an acidic group such as hydroxyl or carboxyl group. Examples of the salt in the basic group include salts with mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid;
With salts of organic carboxylic acids such as tartaric acid, formic acid, citric acid, trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid; and with sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid Examples of the salt, and as the salt in the acidic group, include salts with alkali metals such as sodium and potassium; salts with alkaline earth metal salts such as calcium and magnesium; ammonium salts; and trimethylamine, triethylamine, tributylamine, Pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine,
Examples thereof include salts with nitrogen-containing organic bases such as dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine and N, N′-dibenzylethylenediamine. In addition, when the compound of the general formula [1] or a salt thereof has isomers (for example, optical isomers, geometric isomers and tautomers), the present invention includes those isomers, It also includes solvates, hydrates and crystals of various shapes.

【0013】本発明化合物中、R1が置換されていても
よい低級アルケニル、シクロアルキル、アリールまたは
複素環式基;R2が保護されていてもよいアミノもしく
は低級アルキルアミノ基または置換されていてもよいア
シルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノ基で
あるキノロンまたはナフチリドン化合物もしくはそれら
の塩である化合物が好ましく、さらにR1が置換されて
いてもよいシクロアルキル、アリールまたは複素環式
基;R3が置換されていてもよい複素環式基であるキノ
ロンまたはナフチリドン化合物もしくはそれらの塩であ
る化合物が特に好ましい。
In the compound of the present invention, R 1 may be substituted lower alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 2 may be optionally protected amino or lower alkylamino group or substituted And a quinolone which is an acylamino or lower alkylsulfonylamino group, or a compound which is a naphthyridone compound or a salt thereof is preferable, and further, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group in which R 1 may be substituted; R 3 is substituted Particularly preferred are quinolone or naphthyridone compounds which are optionally heterocyclic groups or compounds which are salts thereof.

【0014】本発明化合物中、代表的化合物としては、
以下の化合物が挙げられる。 ・3−アミノ−1−(4−フルオロフェニル)−7−
(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン ・1−(4−フルオロフェニル)−3−ホルミルアミノ
−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン ・1−(4−フルオロフェニル)−3−ホルミルアミノ
−7−(イミダゾール−1−イル)−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−1,8−ナフチリジン ・1−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−ホルミル
アミノ−7−(イミダゾール−1−イル)−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン ・1−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−ホルミル
アミノ−7−(チアゾール−2−イル)−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン ・1−(4−フルオロフェニル)−3−ホルミルアミノ
−7−(チアゾール−2−イル)−1,4−ジヒドロ−
4−オキソキノリン ・3−アミノ−6−フルオロ−1−(4−フルオロフェ
ニル)−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒド
ロ−4−オキソキノリン ・6−フルオロ−1−(4−フルオロフェニル)−3−
ホルミルアミノ−7−(ピリジン−4−イル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン ・6−フルオロ−1−(4−フルオロフェニル)−3−
ホルミルアミノ−7−(1H−イミダゾール−1−イ
ル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン ・1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ
−3−ホルミルアミノ−7−(1H−イミダゾール−1
−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフ
チリジン
Among the compounds of the present invention, as typical compounds,
The following compounds may be mentioned. * 3-amino-1- (4-fluorophenyl) -7-
(Pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline. 1- (4-fluorophenyl) -3-formylamino-7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4
-Oxoquinoline * 1- (4-fluorophenyl) -3-formylamino-7- (imidazol-1-yl) -1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine * 1- (2,4 -Difluorophenyl) -3-formylamino-7- (imidazol-1-yl) -1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine.1- (2,4-difluorophenyl) -3-formyl Amino-7- (thiazol-2-yl) -1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine. 1- (4-fluorophenyl) -3-formylamino-7- (thiazol-2-yl ) -1,4-Dihydro-
4-Oxoquinoline-3-amino-6-fluoro-1- (4-fluorophenyl) -7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline-6-fluoro-1- ( 4-fluorophenyl) -3-
Formylamino-7- (pyridin-4-yl) -1,4
-Dihydro-4-oxoquinoline 6-fluoro-1- (4-fluorophenyl) -3-
Formylamino-7- (1H-imidazol-1-yl) -1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine. 1- (2,4-difluorophenyl) -6-fluoro-3-formylamino -7- (1H-imidazole-1
-Yl) -1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine

【0015】つぎに、本発明化合物の製造法について説
明する。本発明化合物は、たとえば、つぎに示すルート
にしたがって合成することができる。
Next, a method for producing the compound of the present invention will be described. The compound of the present invention can be synthesized, for example, according to the route shown below.

【0016】 [式中、R1、R2、R3、AおよびXは、前記したと同
様の意味を有し;X1は、塩素、臭素またはヨウ素原子
を;R3aは、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾー
ル、ピロリジン、ピペリジンおよびピペラジンなどのN
を介する置換が可能な複素環式基を;Alkは、炭素数
1−6のアルキル基を示す。] 一般式[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、
[7]、[7a]および[1a]の化合物の塩としては、一
般式[1]の化合物の塩で説明したと同様の塩が挙げら
れる。
[0016] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , A and X have the same meanings as described above; X 1 is a chlorine, bromine or iodine atom; R 3a is imidazole, pyrazole, triazole, N such as pyrrolidine, piperidine and piperazine
Alk represents a C1-6 alkyl group. ] General formulas [2], [3], [4], [5], [6],
Examples of the salt of the compound of [7], [7a] and [1a] include the same salts as described for the salt of the compound of general formula [1].

【0017】(製造法1)一般式[7]の化合物または
その塩は、酸化銀の存在下または不存在下、パラジウム
触媒の存在下、一般式[2]の化合物またはその塩と一
般式[3]の有機スズ化合物またはその塩あるいは一般
式[4]の有機スズ化合物またはその塩と一般式[5]
の化合物またはその塩をカップリング反応に付すことに
よって得ることができる。この反応で使用される溶媒と
しては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限
定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキ
シレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル
類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類;並びにジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または
二種以上混合して使用してもよい。この反応で用いられ
るパラジウム触媒としては、たとえば、PdCl2(PPh3)2
Pd(PPh3)4、PdCl2[P(O-トリル)3]2、PdCl2+2P(OEt)3
よびPdCl2(PhCN)2[ただし、Etはエチル基を、Phはフェ
ニル基を示す。]などが挙げられる。一般式[3]の有
機スズ化合物またはその塩の使用量は、一般式[2]の
化合物またはその塩に対して、等モル以上、好ましく
は、1.0−2.0倍モルであればよく、一般式[5]の化合
物またはその塩の使用量は、一般式[4]の有機スズ化
合物またはその塩に対して、等モル以上、好ましくは、
1.0−5.0倍モルであればよい。このカップリング反応
は、通常、不活性ガス(たとえば、アルゴンおよび窒素
などが挙げられる。)雰囲気下、50−170℃で、1分−2
4時間実施すればよい。
(Production Method 1) A compound of the general formula [7] or a salt thereof can be prepared by reacting a compound of the general formula [2] or a salt thereof with a general formula [2] in the presence or absence of silver oxide and a palladium catalyst. [3] Organotin compound or salt thereof or Organotin compound of general formula [4] or salt thereof and General formula [5]
It can be obtained by subjecting a compound of 1 or a salt thereof to a coupling reaction. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and Examples thereof include ethers such as dimethyl cellosolve; nitriles such as acetonitrile; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. You may use it in mixture of 2 or more types. Examples of the palladium catalyst used in this reaction include PdCl 2 (PPh 3 ) 2 ,
Pd (PPh 3 ) 4 , PdCl 2 [P (O-tolyl) 3 ] 2 , PdCl 2 + 2P (OEt) 3 and PdCl 2 (PhCN) 2 [Et represents an ethyl group and Ph represents a phenyl group] . ] Etc. are mentioned. The amount of the organotin compound of the general formula [3] or its salt used is equimolar or more, preferably 1.0 to 2.0 times the molar amount of the compound of the general formula [2] or its salt. The amount of the compound of [5] or a salt thereof to be used is equimolar or more, preferably, to the organotin compound of the general formula [4] or a salt thereof,
It may be 1.0-5.0 times mol. This coupling reaction is usually carried out under an atmosphere of an inert gas (eg, argon and nitrogen) at 50-170 ° C. for 1 minute-2.
It should be carried out for 4 hours.

【0018】一般式[7a]の化合物またはその塩は、一
般式[2]の化合物またはその塩に、一般式[6]の化
合物またはその塩を銅触媒の存在下または不存在下、塩
基を脱酸剤として用いて、反応させることにより得るこ
とができる。この反応で使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなど
の芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;アセト
ニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチルホルムア
ミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類
などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混
合して使用してもよい。この反応で使用される塩基とし
ては、トリエチルアミン、カリウム−tert−ブトキシ
ド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリ
ウムなどの、無機または有機塩基が挙げられる。また、
この反応で用いられる銅触媒としては、銅粉、塩化第一
銅、臭化第一銅およびヨウ化第一銅などが挙げられる。
一般式[6]の化合物またはその塩の使用量は、一般式
[2]の化合物またはその塩に対して等モル以上、好ま
しくは、1.0−3.0 倍モル使用すればよい。この反応
は、通常、50−250℃、好ましくは、100−200℃で、5
分−24時間、好ましくは、30分−10時間実施すればよ
い。
The compound of the general formula [7a] or a salt thereof is obtained by adding the compound of the general formula [6] or a salt thereof to a base in the presence or absence of a copper catalyst. It can be obtained by using as a deoxidizing agent and reacting. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and Examples thereof include ethers such as dimethyl cellosolve; nitriles such as acetonitrile; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. You may use it in mixture of 2 or more types. Bases used in this reaction include inorganic or organic bases such as triethylamine, potassium-tert-butoxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride. Also,
Examples of the copper catalyst used in this reaction include copper powder, cuprous chloride, cuprous bromide and cuprous iodide.
The compound of the general formula [6] or a salt thereof may be used in an equimolar amount or more, preferably 1.0 to 3.0 times the molar amount of the compound of the general formula [2] or a salt thereof. This reaction is usually carried out at 50-250 ° C, preferably 100-200 ° C for 5
It may be carried out for minutes-24 hours, preferably 30 minutes-10 hours.

【0019】一般式[1a]の化合物またはその塩は、一
般式[7]の化合物もしくはその塩または一般式[7a]
の化合物もしくはその塩を、通常行なわれるニトロ基の
還元反応に付すことにより得られる。
The compound of the general formula [1a] or a salt thereof is a compound of the general formula [7] or a salt thereof or a general formula [7a].
The compound or a salt thereof can be obtained by subjecting a nitro group reduction reaction that is usually performed.

【0020】一般式[1]の化合物またはその塩は、一
般式[1a]の化合物またはその塩を通常行われるアルキ
ル化反応、アシル化反応、アルキルスルホニル化反応な
どに付すことにより得られる。
The compound of the general formula [1] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound of the general formula [1a] or a salt thereof to an alkylation reaction, an acylation reaction, an alkylsulfonylation reaction and the like which are usually performed.

【0021】このようにして得られた一般式[1]の化
合物またはその塩を、たとえば、酸化、還元、転位、置
換、付加、ハロゲン化、脱水もしくは加水分解などの自
体公知の反応に付すことによって、またはそれらを適宜
組み合わせることによって、他の一般式[1]の化合物
またはその塩に誘導することができる。
The compound of the general formula [1] or a salt thereof thus obtained is subjected to a known reaction such as oxidation, reduction, rearrangement, substitution, addition, halogenation, dehydration or hydrolysis. Or by combining them as appropriate, other compounds of the general formula [1] or salts thereof can be derived.

【0022】上で述べた製造法における一般式[1a]、
[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、[7a]または
[7]の化合物もしくはそれらの塩において、異性体
(たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体
など)が存在する場合、これらの異性体を使用すること
ができ、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結
晶を使用することができる。
The general formula [1a] in the production method described above,
In the compound of [2], [3], [4], [5], [6], [7a] or [7] or a salt thereof, isomers (for example, optical isomers, geometric isomers and tautomers) Isomers, etc.), these isomers can be used, and solvates, hydrates and crystals of various forms can be used.

【0023】一般式[2]、[3]、[4]、[5]、
[6]、[7a]、[7]または[1a]もしくはそれらの
塩において、アミノ基、ヒドロキシル基またはカルボキ
シル基を有する化合物は、あらかじめこれらの基を通常
の保護基で保護しておき、反応後、自体公知の方法でこ
れらの保護基を脱離することもできる。
General formulas [2], [3], [4], [5],
In [6], [7a], [7] or [1a] or a salt thereof, a compound having an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group may be prepared by previously protecting these groups with an ordinary protecting group. After that, these protecting groups can be removed by a method known per se.

【0024】つぎに、本発明化合物を製造するための原
料である一般式[2]の化合物またはその塩および新規
化合物である一般式[4]の有機スズ化合物またはその
塩の製造法について説明する。
Next, a method for producing a compound of the general formula [2] or a salt thereof and a novel compound, an organotin compound of the general formula [4] or a salt thereof, which are raw materials for producing the compound of the present invention, will be explained. .

【0025】 [式中、Phは、フェニル基を示し、R1、X、X1およ
びAlkは、前記したと同様の意味を有する。] 一般式[8]、[9]、[10]および[11]の化合物の
塩としては、一般式[1]の化合物の塩で説明したと同
様の塩が挙げられる。
[0025] [In the formula, Ph represents a phenyl group, and R 1 , X, X 1 and Alk have the same meanings as described above. Examples of the salts of the compounds of the general formulas [8], [9], [10] and [11] include the same salts as those described for the salt of the compounds of the general formula [1].

【0026】(製造法A) (1) 一般式[9]の化合物またはその塩は、たとえ
ば、シンセシス(Synthesis)、第295頁(1979年)に記
載の方法に準じて、一般式[8]の化合物またはその塩
にニトロメタンを塩基の存在下に反応させることにより
得ることができる。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレ
ンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;ア
セトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチルホル
ムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシ
ド類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以
上混合して使用してもよい。また、この反応に使用され
る塩基としては、カリウム−tert−ブトキシドおよび水
素化ナトリウムなどが挙げられる。塩基およびニトロメ
タンの使用量は、一般式[8]の化合物またはその塩に
対して等モル以上であればよく、好ましくは2−5倍モル
であればよい。この反応は、通常0−50℃、好ましく
は、10−30℃で、5分−30時間実施すればよい。
(Production Method A) (1) The compound of the general formula [9] or a salt thereof can be prepared by the general formula [8] according to the method described in, for example, Synthesis, page 295 (1979). Can be obtained by reacting the compound of 1) or a salt thereof with nitromethane in the presence of a base. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and Examples thereof include ethers such as dimethyl cellosolve; nitriles such as acetonitrile; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. You may use it in mixture of 2 or more types. In addition, examples of the base used in this reaction include potassium tert-butoxide and sodium hydride. The amounts of the base and nitromethane used may be equimolar or more, preferably 2 to 5 times the molar amount of the compound of the general formula [8] or a salt thereof. This reaction may be carried out usually at 0-50 ° C, preferably 10-30 ° C, for 5 minutes-30 hours.

【0027】(2)(a) 一般式[11]の化合物また
はその塩は、一般式[9]の化合物またはその塩に、オ
ルトエステル類を無水酢酸存在下、反応させた後、一般
式[10]の化合物またはその塩を反応させることによっ
て得ることができる。この反応で使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレ
ンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;メ
タノール、エタノールおよびプロパノールなどのアルコ
ール類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホ
ルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどの
アミド類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種
以上混合して使用してもよい。オルトエステル類として
は、たとえば、オルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチ
ルなどが挙げられ、その使用量は、一般式[9]の化合
物またはその塩に対して、それぞれ、等モル以上であれ
ばよく、好ましくは、1−10倍モルであればよい。一般
式[9]の化合物またはその塩とオルトエステル類の反
応は、通常、0−150℃、好ましくは、50−150℃で、20
分−50時間実施すればよい。
(2) (a) A compound of the general formula [11] or a salt thereof is prepared by reacting a compound of the general formula [9] or a salt thereof with an orthoester in the presence of acetic anhydride, It can be obtained by reacting the compound of 10] or a salt thereof. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and Ethers such as dimethyl cellosolve; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and Examples thereof include sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and these solvents may be used alone or in combination of two or more. Examples of the orthoesters include methyl orthoformate and ethyl orthoformate, and the amounts thereof are preferably equimolar or more with respect to the compound of the general formula [9] or a salt thereof, respectively. Is 1 to 10 times by mole. The reaction of the compound of the general formula [9] or a salt thereof with the orthoester is usually at 0 to 150 ° C., preferably at 50 to 150 ° C.
Minutes to 50 hours may be carried out.

【0028】ついで、得られた反応混合物と一般式[1
0]の化合物またはその塩の反応において、一般式[1
0]の化合物またはその塩の使用量は、一般式[9]の
化合物またはその塩に対して、等モル以上であればよ
い。この反応は、通常、0−100℃、好ましくは、10−6
0℃で、20分−30時間実施すればよい。
Then, the obtained reaction mixture and the general formula [1
0] or a salt thereof in the reaction of the general formula [1
The amount of the compound of [0] or salt thereof used may be equimolar or more with respect to the compound of general formula [9] or salt thereof. This reaction is usually performed at 0-100 ° C, preferably 10-6.
It may be carried out at 0 ° C for 20 minutes to 30 hours.

【0029】(b) 別法として、一般式[11]の化合
物またはその塩は、一般式[9]の化合物またはその塩
にアセタール類を酸無水物の存在下あるいは不存在下に
反応させた後、一般式[10]の化合物またはその塩を反
応させることによっても得ることができる。この反応で
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、(2)
(a)で挙げた溶媒と同様の溶媒が挙げられる。酸無水
物としては、たとえば、無水酢酸などが挙げられる。ま
た、アセタール類としては、たとえば、N,N−ジメチ
ルホルムアミドジメチルアセタールまたはN,N−ジメ
チルホルムアミドジエチルアセタールなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[9]の化合物またはその塩に対
して、等モル以上であればよく、好ましくは、1−5倍
モルであればよい。この反応は、通常、0−100℃、好
ましくは、20−85℃で、20分−50時間実施すればよい。
(B) Alternatively, the compound of the general formula [11] or its salt is obtained by reacting the compound of the general formula [9] or its salt with an acetal in the presence or absence of an acid anhydride. Then, it can also be obtained by reacting the compound of the general formula [10] or a salt thereof. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, (2)
The same solvents as those mentioned in (a) can be mentioned. Examples of the acid anhydride include acetic anhydride and the like. Examples of acetals include N, N-dimethylformamide dimethylacetal and N, N-dimethylformamide diethylacetal.
The amount used may be equimolar or more, preferably 1 to 5 times the molar amount of the compound of the general formula [9] or a salt thereof. This reaction may be carried out usually at 0-100 ° C., preferably 20-85 ° C. for 20 minutes-50 hours.

【0030】ついで、一般式[10]の化合物またはその
塩を反応させるには、一般式[10]の化合物またはその
塩を、一般式[9]の化合物またはその塩に対して、等
モル以上使用すればよい。この反応は、通常、0−100
℃、好ましくは、10−60℃で、20分−30時間実施すれば
よい。
Then, in order to react the compound of the general formula [10] or its salt, the compound of the general formula [10] or its salt is equimolar or more to the compound of the general formula [9] or its salt. You can use it. This reaction is usually 0-100
It may be carried out at 20 ° C., preferably 10 to 60 ° C. for 20 minutes to 30 hours.

【0031】(3) 一般式[2]の化合物またはその
塩は、一般式[11]の化合物またはその塩を、フッ化塩
もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付す
ことによって得ることができる。この反応で使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば
特に限定されないが、たとえば、N,N−ジメチルホル
ムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類;ジオキサン、アニソール、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエ
ーテル類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シドなどが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以
上混合して使用してもよい。この反応で所望に応じて用
いられるフッ化塩としては、たとえば、フッ化ナトリウ
ムおよびフッ化カリウムなどが挙げられ、所望に応じて
用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、カリウムtert−ブトキシドおよび水
素化ナトリウムなどが挙げられ、それらの使用量は、一
般式[11]の化合物またはその塩に対して、等モル以上
であればよく、好ましくは、1.0−3.0倍モルであればよ
い。この反応は、通常、0−180℃で、5分−30時間実
施すればよい。
(3) The compound of the general formula [2] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound of the general formula [11] or a salt thereof to a ring closure reaction in the presence or absence of a fluoride salt or a base. be able to. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but for example, amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; dioxane, anisole, diethylene glycol. Examples thereof include ethers such as dimethyl ether and dimethyl cellosolve; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Examples of the fluoride salt optionally used in this reaction include sodium fluoride and potassium fluoride, and examples of the base optionally used include sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium tert. -Butoxide, sodium hydride and the like, and the amount thereof may be equimolar or more to the compound of the general formula [11] or a salt thereof, preferably 1.0 to 3.0 times by mole. Good. This reaction may be carried out usually at 0 to 180 ° C. for 5 minutes to 30 hours.

【0032】(4) 一般式[4]のアリールスズ化合
物またはその塩は、一般式[2]のハロゲン化アリール
化合物またはその塩を、たとえば、ブレティン・オブ・
ザ・ケミカル・ソサェティ・オブ・ジャパン(Bull.Che
m.Soc.Jpn.)、第56巻、第3855−3856頁(1983年)に記載
の方法に準じ、パラジウム触媒を用いて、ヘキサアルキ
ルジスタナンと反応させることによって得ることができ
る。この反応で使用される溶媒およびパラジウム触媒と
しては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限
定されないが、具体的には、製造法1に記載したと同様
のものが挙げられる。ヘキサアルキルジスタナンの使用
量は、一般式[2]のハロゲン化アリール化合物または
その塩に対して、等モル以上、好ましくは、1.0−3.0倍
モルであればよい。この反応は、通常、40−160℃で、
1時間−72時間実施すればよい。
(4) An aryl tin compound of the general formula [4] or a salt thereof can be prepared by reacting an aryl halide compound of the general formula [2] or a salt thereof with, for example, bulletin of
The Chemical Society of Japan (Bull.Che
m.Soc.Jpn.), Vol. 56, pp. 3855-3856 (1983), and can be obtained by reacting with hexaalkyldistannane using a palladium catalyst. The solvent and the palladium catalyst used in this reaction are not particularly limited as long as they do not adversely affect the reaction, and specifically, the same ones as described in the production method 1 can be mentioned. The amount of hexaalkyldistannan used may be equimolar or more, preferably 1.0 to 3.0 times the molar amount of the aryl halide compound of the general formula [2] or a salt thereof. This reaction is usually at 40-160 ° C,
It may be carried out for 1 hour to 72 hours.

【0033】さらに、製造ルートにおいて、一般式
[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、[7a]、
[7]、[10]または[11]の化合物もしくはそれらの
塩がアミノ基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を
有する場合は、あらかじめこれらの基を通常の保護基で
保護しておき、反応後、自体公知の方法でこれらの保護
基を脱離することができる。
Furthermore, in the manufacturing route, general formulas [2], [3], [4], [5], [6], [7a],
When the compound of [7], [10] or [11] or a salt thereof has an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group, these groups should be protected with a usual protecting group in advance, and after the reaction, the compound itself These protecting groups can be removed by a known method.

【0034】前述した製造法において、一般式[1a]、
[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、[7a]、
[7]、[8]、[9]、[10]または[11]の化合物
もしくはそれらの塩に異性体(たとえば、光学異性体、
幾何異性体および互変異性体など)が存在する場合、こ
れらの異性体を使用することができ、また、溶媒和物、
水和物および所望の形状の結晶を使用することができ
る。また、反応終了後、反応目的物は単離せずに、その
ままつぎの反応に用いてもよい。
In the above-mentioned manufacturing method, the general formula [1a],
[2], [3], [4], [5], [6], [7a],
The compound of [7], [8], [9], [10] or [11] or a salt thereof is an isomer (for example, an optical isomer,
Geometric isomers and tautomers, etc.), these isomers can be used, and solvates,
Hydrates and crystals of the desired shape can be used. After the completion of the reaction, the reaction target product may be directly used in the next reaction without isolation.

【0035】このようにして得られた一般式[1]の化
合物またはその塩は、抽出、晶出および/またはカラム
クロマトグラフィーなどの常法にしたがって単離精製す
ることができる。
The compound of the general formula [1] or a salt thereof thus obtained can be isolated and purified by a conventional method such as extraction, crystallization and / or column chromatography.

【0036】本発明化合物を医薬として用いる場合、通
常製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの
製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法にした
がって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒
剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏
剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与す
ることができる。また投与方法、投与量および投与回数
は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択する
ことができ、通常成人に対しては、経口または非経口
(たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など)
的投与により、1日、0.1−100mg/kgを1回から数回に
分割して投与すればよい。
When the compound of the present invention is used as a medicine, excipients, carriers, diluents and the like which are usually used for formulation may be appropriately mixed, and these may be used in the form of tablets or capsules according to a conventional method. It can be administered orally or parenterally in the form of a preparation, powder, syrup, granule, pill, suspension, emulsion, liquid, powder preparation, suppository, ointment or injection. The administration method, dose and frequency of administration can be appropriately selected according to the patient's age, body weight and symptom, and usually for adults, oral or parenteral (for example, injection, infusion and rectal site administration). Administration etc.)
The daily dose may be 0.1-100 mg / kg divided into one to several divided doses.

【0037】つぎに、本発明の代表的化合物についての
薬理作用を説明する。 1.抗ウイルス作用 試験方法 単純ヘルペスウイルス アンチバイラール・リサーチ(Antiviral Research)、
第22巻、第175−188頁(1993年)記載のインビトロプラ
ーク減少法に準じて行った。すなわち、6穴培養プレー
トにVero細胞を十分増殖させ、HSV−2(G)株を10
0PFU/0.5mlで感染させた。感染終了後、各種濃度の被
験化合物を含んだ培地を添加し、3日間培養した。判定
は、メチレンブルーで染色後、プラークを計数し、対照
に対する百分率から50%抑制値(IC50)を算出した。そ
の結果を表1に示す。
Next, the pharmacological action of the representative compounds of the present invention will be explained. 1. Antiviral effect test method Herpes simplex virus Antiviral Research,
It was performed according to the in vitro plaque reduction method described in Vol. 22, pp. 175-188 (1993). That is, Vero cells were sufficiently grown in a 6-well culture plate, and the HSV-2 (G) strain was grown to 10%.
The cells were infected with 0 PFU / 0.5 ml. After the infection was completed, a medium containing various concentrations of the test compound was added, and the cells were cultured for 3 days. For the determination, plaques were counted after staining with methylene blue, and the 50% inhibition value (IC 50 ) was calculated from the percentage relative to the control. The results are shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0038】サイトメガロウイルス 試験方法 アーカイブス・オブ・バイロロジー(Arch.Virol.)、
第117巻、第165−171頁(1991年)に記載のインビトロ
プラーク減少法に準じて行った。すなわち、直径60mm培
養皿にHEL細胞を十分増殖させ、CMV(towne)株を100PF
U/0.5mlで感染させた。感染終了後、各種濃度の被験化
合物を含んだ培地を添加し、8日間培養した。判定は、
メチレンブルーで染色後、プラークを計数し、対照に対
する百分率から50%抑制値(IC50)を算出した。その
結果を表2に示す。
Cytomegalovirus test method Archives of Birology (Arch.Virol.),
The method was carried out according to the in vitro plaque reduction method described in Vol. 117, pp. 165-171 (1991). That is, HEL cells were sufficiently grown in a culture dish with a diameter of 60 mm, and CMV (towne) strain was treated with 100 PF.
Infected with U / 0.5 ml. After the infection was completed, a medium containing various concentrations of the test compound was added, and the cells were cultured for 8 days. The judgment is
After staining with methylene blue, plaques were counted, and the 50% inhibition value (IC 50 ) was calculated from the percentage relative to the control. The results are shown in Table 2.

【表2】 [Table 2]

【0039】[0039]

【実施例】つぎに本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、溶離液における混合比は、すべて用量比であ
り、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、シリカ
ゲル60、No.7734(メルク社製)を用いた。また、参考
例および実施例中で用いられる記号は、つぎの意味を有
する。 TFA−d1:重トリフルオロ酢酸 DMSO−d6:重ジメチルスルホキシド
EXAMPLES Next, the present invention will be explained with reference to reference examples and examples, but the present invention is not limited thereto. The mixing ratios in the eluents were all dose ratios, and silica gel 60, No. 7734 (manufactured by Merck) was used as a carrier in column chromatography. The symbols used in the reference examples and examples have the following meanings. TFA-d 1 : Deuterated trifluoroacetic acid DMSO-d 6 : Deuterated dimethyl sulfoxide

【0040】参考例1 4−ブロモ−2−フルオロ安息香酸6.60gを塩化メチレ
ン86mlに懸濁させ、N,N−ジメチルホルムアミド0.60m
lを加え、0℃に冷却する。ついで、オキサリルクロラ
イド4.00gを5分間を要して滴下する。滴下後、室温で4
0分間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去する。得られた
残留物を塩化メチレン100mlに溶解させ、フェノール3.0
gを加え、0℃に冷却する。ついで、トリエチルアミン
3.20gを滴下し、さらに室温で1時間攪拌する。反応混
合物に水30mlを加え、有機層を分取する。得られた有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物にヘキサンを加え、結晶を濾取すれば、淡黄色結
晶の4−ブロモ−2−フルオロ安息香酸フェニルエステ
ル8.80gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1737 NMR(CDCl3)δ値:7.10-8.25(8H,m)
Reference Example 1 4-Bromo-2-fluorobenzoic acid (6.60 g) was suspended in 86 ml of methylene chloride to give N, N-dimethylformamide (0.60 m).
Add l and cool to 0 ° C. Then, 4.00 g of oxalyl chloride is added dropwise over 5 minutes. 4 at room temperature after dropping
After stirring for 0 minutes, the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue obtained is dissolved in 100 ml of methylene chloride and phenol 3.0
Add g and cool to 0 ° C. Then, triethylamine
3.20 g was added dropwise, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. 30 ml of water is added to the reaction mixture, and the organic layer is separated. The obtained organic layer is washed successively with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. Hexane was added to the obtained residue, and the crystals were collected by filtration to obtain 8.80 g of 4-bromo-2-fluorobenzoic acid phenyl ester as pale yellow crystals. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1737 NMR (CDCl 3 ) δ value: 7.10-8.25 (8H, m)

【0041】参考例2 カリウム−tert−ブトキシド10.0gをジメチルスルホキ
シド100mlに溶解させ、10−20℃で、ニトロメタン5.40g
を20分間を要して滴下する。ついで、20℃で1時間攪拌
した後、ジメチルスルホキシド20mlに溶解させた4−ブ
ロモ−2−フルオロ安息香酸フェニルエステル8.80g
を、10−20℃で20分間要して滴下する。ついで、20℃で
30分間攪拌する。反応混合物を、尿素2.70gを溶解させ
た氷水100mlに注ぎ、6N塩酸でpH2に調整し、水400ml
を加える。析出した結晶を濾取すれば、淡黄色結晶の
4’−ブロモ−2’−フルオロ−2−ニトロアセトフェ
ノン7.00gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1696 NMR(DMSO-d6)δ値:6.26(2H,s),7.57-8.04(3H,m)
Reference Example 2 10.0 g of potassium tert-butoxide was dissolved in 100 ml of dimethyl sulfoxide, and 5.40 g of nitromethane at 10-20 ° C.
Is added dropwise over 20 minutes. Then, after stirring for 1 hour at 20 ° C, 4-bromo-2-fluorobenzoic acid phenyl ester dissolved in 20 ml of dimethyl sulfoxide 8.80 g
Is added dropwise at 10-20 ° C over 20 minutes. Then at 20 ℃
Stir for 30 minutes. The reaction mixture was poured into 100 ml of ice water in which 2.70 g of urea was dissolved, adjusted to pH 2 with 6N hydrochloric acid, and 400 ml of water.
Add. The precipitated crystals are collected by filtration to obtain 7.00 g of pale yellow crystals of 4'-bromo-2'-fluoro-2-nitroacetophenone. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1696 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 6.26 (2H, s), 7.57-8.04 (3H, m)

【0042】参考例3 4’−ブロモ−2’−フルオロ−2−ニトロアセトフェ
ノン4.24gを塩化メチレン42mlに溶解させ、無水酢酸3.3
0gおよびN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタ
ール3.86gを加え、室温で1時間攪拌する。ついで、4
−フルオロアニリン3.78gを加え、室温で10時間攪拌
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=
7:1]で精製すれば、黄色結晶の1−(4−ブロモ−
2−フルオロベンゾイル)−2−(4−フルオロアニリ
ノ)−1−ニトロエチレン3.19gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1669 NMR(DMSO-d6)δ値:5.41-9.14(8H,m),11.90(1H,bs)
Reference Example 3 4.24 g of 4'-bromo-2'-fluoro-2-nitroacetophenone was dissolved in 42 ml of methylene chloride, and 3.3 ml of acetic anhydride was added.
0 g and 3.86 g of N, N-dimethylformamide dimethyl acetal are added, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. Then 4
-Fluoroaniline (3.78 g) is added, the mixture is stirred at room temperature for 10 hours, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue was subjected to column chromatography [eluent; hexane: ethyl acetate =
7: 1] for purification, yellow crystals of 1- (4-bromo-
3.19 g of 2-fluorobenzoyl) -2- (4-fluoroanilino) -1-nitroethylene are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1669 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 5.41-9.14 (8H, m), 11.90 (1H, bs)

【0043】参考例4 1−(4−ブロモ−2−フルオロベンゾイル)−2−
(4−フルオロアニリノ)−1−ニトロエチレン3.15g
をN,N−ジメチルホルムアミド31mlに溶解させ、炭酸
カリウム1.70gを加え、60℃で30分間攪拌する。反応混
合物を室温まで冷却後、水300mlを加え、析出した結晶
を濾取すれば、無色結晶の7−ブロモ−1−(4−フル
オロフェニル)−3−ニトロ−1,4−ジヒドロ−4−
オキソキノリン2.88gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1649 NMR(DMSO-d6)δ値:7.13(1H,d,J=1.5Hz),7.20-7.95(5H,
m),8.28(1H,d,J=8.8Hz),9.14(1H,s)
Reference Example 4 1- (4-Bromo-2-fluorobenzoyl) -2-
(4-Fluoroanilino) -1-nitroethylene 3.15 g
Was dissolved in 31 ml of N, N-dimethylformamide, 1.70 g of potassium carbonate was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 30 minutes. After cooling the reaction mixture to room temperature, 300 ml of water was added and the precipitated crystals were collected by filtration to give colorless crystals of 7-bromo-1- (4-fluorophenyl) -3-nitro-1,4-dihydro-4-.
2.88 g of oxoquinoline are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1649 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 7.13 (1H, d, J = 1.5Hz), 7.20-7.95 (5H,
m), 8.28 (1H, d, J = 8.8Hz), 9.14 (1H, s)

【0044】実施例1 (1)7−ブロモ−1−(4−フルオロフェニル)−3
−ニトロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン2.83g
をトルエン57mlに懸濁させ、ついで、4−トリメチルス
タニルピリジン1.89gおよびテトラキス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウム(0)50.0mgを加えた後、窒素
雰囲気下、18時間加熱還流する。反応混合物を減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー[溶離液;クロロホルム:アセトン=2:1]で精
製した後、ジエチルエーテルを加え、結晶を濾取すれ
ば、無色結晶の1−(4−フルオロフェニル)−3−ニ
トロ−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ
−4−オキソキノリン1.97gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1646 NMR(DMSO-d6)δ値:7.26(1H,d,J=1.0Hz),7.30-8.70(10H,
m),9.18(1H,s)
Example 1 (1) 7-Bromo-1- (4-fluorophenyl) -3
-Nitro-1,4-dihydro-4-oxoquinoline 2.83 g
Was suspended in 57 ml of toluene, and then 1.89 g of 4-trimethylstannylpyridine and 50.0 mg of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added, followed by heating under reflux for 18 hours under a nitrogen atmosphere. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was purified by column chromatography [eluent; chloroform: acetone = 2: 1], diethyl ether was added, and crystals were collected by filtration. 1.97 g of colorless crystals of 1- (4-fluorophenyl) -3-nitro-7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1646 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 7.26 (1H, d, J = 1.0Hz), 7.30-8.70 (10H,
m), 9.18 (1H, s)

【0045】(2)(1)と同様にして、6−フルオロ
−1−(4−フルオロフェニル)−3−ニトロ−7−
(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリンを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1653 NMR(DMSO-d6)δ値:7.17(1H,d,J=5.9Hz),7.30-7.95(6H,
m),8.21(1H,d,J=10.2Hz),8.50-8.70(2H,m),9.20(1H,s)
(2) In the same manner as in (1), 6-fluoro-1- (4-fluorophenyl) -3-nitro-7-
(Pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline is obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1653 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 7.17 (1H, d, J = 5.9Hz), 7.30-7.95 (6H,
m), 8.21 (1H, d, J = 10.2Hz), 8.50-8.70 (2H, m), 9.20 (1H, s)

【0046】(3)塩化スズ(2)3.20gを、濃塩酸48m
lに溶解させ、90℃で1−(4−フルオロフェニル)−
3−ニトロ−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソキノリン1.93gを10分間を要して分
割して添加し、同温度で1時間攪拌する。反応混合物を
冷却した後、5N水酸化ナトリウム水溶液でpH13に調整
し、結晶を濾取すれば、黄色結晶の3−アミノ−1−
(4−フルオロフェニル)−7−(ピリジン−4−イ
ル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン1.40gを得
る。 IR(KBr)cm-1C=O 1630 NMR(DMSO-d6)δ値:4.62(2H,bs),7.10-7.85(9H,m),8.38
(1H,d,J=8.3Hz),8.60(2H,d,J=5.8Hz)
(3) Tin chloride (2) (3.20 g) was added to concentrated hydrochloric acid (48 m)
1- (4-fluorophenyl)-
1.93 g of 3-nitro-7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline are added portionwise over 10 minutes and stirred at the same temperature for 1 hour. After cooling the reaction mixture, the pH was adjusted to 13 with a 5N aqueous sodium hydroxide solution, and the crystals were collected by filtration to give yellow crystals of 3-amino-1-.
1.40 g of (4-fluorophenyl) -7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1630 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 4.62 (2H, bs), 7.10-7.85 (9H, m), 8.38
(1H, d, J = 8.3Hz), 8.60 (2H, d, J = 5.8Hz)

【0047】実施例2 実施例1(3)と同様にして、3−アミノ−6−フルオ
ロ−1−(4−フルオロフェニル)−7−(ピリジン−
4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリンを
得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1621 NMR(DMSO-d6)δ値:4.64(2H,bs),δ:7.07(1H,d,J=6.4H
z),7.39-7.66(7H,m),8.01(1H,d,J=11.1Hz),8.63(2H,dd,
J=4.5Hz,1.6Hz)
Example 2 In the same manner as in Example 1 (3), 3-amino-6-fluoro-1- (4-fluorophenyl) -7- (pyridine-
4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline is obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1621 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 4.64 (2H, bs), δ: 7.07 (1H, d, J = 6.4H
z), 7.39-7.66 (7H, m), 8.01 (1H, d, J = 11.1Hz), 8.63 (2H, dd,
(J = 4.5Hz, 1.6Hz)

【0048】実施例3 ギ酸1.10gおよび無水酢酸1.23gを40℃で2時間加熱攪拌
する。ついで、反応混合物を、3−アミノ−1−(4−
フルオロフェニル)−7−(ピリジン−4−イル)−
1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン0.20gの塩化メチ
レン3mlの懸濁液に20℃で加える。同温度で10分間攪拌
後、ジイソプロピルエーテル30mlを加え、結晶を濾取す
る。得られた結晶を水5mlに懸濁し、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH9に調整し、結晶を濾取すれば、淡黄
色結晶の3−ホルミルアミノ−1−(4−フルオロフェ
ニル)−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒド
ロ−4−オキソキノリン0.15gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1677,1625 NMR(DMSO-d6)δ値:7.10-7.95(8H,m),8.20-8.75(4H,m),
9.10(1H,s),9.91(1H,bs)
Example 3 1.10 g of formic acid and 1.23 g of acetic anhydride were heated and stirred at 40 ° C. for 2 hours. The reaction mixture is then treated with 3-amino-1- (4-
Fluorophenyl) -7- (pyridin-4-yl)-
A suspension of 0.20 g of 1,4-dihydro-4-oxoquinoline in 3 ml of methylene chloride is added at 20 ° C. After stirring for 10 minutes at the same temperature, 30 ml of diisopropyl ether is added and the crystals are collected by filtration. The obtained crystals were suspended in 5 ml of water, adjusted to pH 9 with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and collected by filtration to give 3-formylamino-1- (4-fluorophenyl) -7- (pale yellow crystals as crystals. Pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline (0.15 g) is obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1677,1625 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 7.10-7.95 (8H, m), 8.20-8.75 (4H, m),
9.10 (1H, s), 9.91 (1H, bs)

【0049】実施例4 実施例3と同様にして、6−フルオロ−1−(4−フル
オロフェニル)−3−ホルミルアミノ−7−(ピリジン
−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン
を得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1682,1621 NMR(DMSO-d6)δ値:7.14(1H,d,J=6.3Hz),7.32-8.71(10H,
m),9.10(1H,s),9.91(1H,bs)
Example 4 In the same manner as in Example 3, 6-fluoro-1- (4-fluorophenyl) -3-formylamino-7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-. Get oxoquinoline. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1682,1621 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 7.14 (1H, d, J = 6.3Hz), 7.32-8.71 (10H,
m), 9.10 (1H, s), 9.91 (1H, bs)

【0050】実施例5 3−アミノ−1−(4−フルオロフェニル)−7−(ピ
リジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキ
ノリン0.20gをメタノール3mlに懸濁し、無水酢酸0.15g
を20℃で加え、同温度で2時間攪拌する。反応混合物に
ジイソプロピルエーテル30mlを加え、結晶を濾取する。
得られた結晶を水5mlに懸濁し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でpH9に調整し、結晶を濾取すれば、淡黄色結
晶の3−アセチルアミノ−1−(4−フルオロフェニ
ル)−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ
−4−オキソキノリン0.18gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1685,1626 NMR(DMSO-d6)δ値:2.15(3H,s),7.15-7.90(11H,m),9.05
(1H,s),9.34(1H,bs)
Example 5 0.20 g of 3-amino-1- (4-fluorophenyl) -7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline was suspended in 3 ml of methanol to obtain acetic anhydride. 0.15g
Is added at 20 ° C., and the mixture is stirred at the same temperature for 2 hours. 30 ml of diisopropyl ether is added to the reaction mixture, and the crystals are collected by filtration.
The crystals obtained were suspended in 5 ml of water, adjusted to pH 9 with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and collected by filtration to give 3-acetylamino-1- (4-fluorophenyl) -7- (pale yellow crystals. Pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline (0.18 g) is obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1685,1626 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 2.15 (3H, s), 7.15-7.90 (11H, m), 9.05
(1H, s), 9.34 (1H, bs)

【0051】実施例6 3−アミノ−1−(4−フルオロフェニル)−7−(ピ
リジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソキ
ノリン0.20gを塩化メチレン4mlに懸濁し、20℃でメタ
ンスルホニルクロライド0.10gおよびピリジン0.07gを加
え、同温度で12時間攪拌する。反応混合物にジイソプロ
ピルエーテル30mlを加え、結晶を濾取する。得られた結
晶を水5mlに懸濁し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
pH9に調整し、結晶を濾取すれば、淡黄色結晶の3−メ
タンスルホニルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)
−7−(ピリジン−4−イル)−1,4−ジヒドロ−4
−オキソキノリン0.15gを得る。 IR(KBr)cm-1C=O 1626 NMR(DMSO-d6)δ値:3.06(3H,s),7.10-8.75(12H,m),8.88
(1H,bs)
Example 6 0.20 g of 3-amino-1- (4-fluorophenyl) -7- (pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4-oxoquinoline was suspended in 4 ml of methylene chloride to give 20 At 0 ° C, 0.10 g of methanesulfonyl chloride and 0.07 g of pyridine are added and the mixture is stirred at the same temperature for 12 hours. 30 ml of diisopropyl ether is added to the reaction mixture, and the crystals are collected by filtration. The crystals obtained are suspended in 5 ml of water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added.
The pH was adjusted to 9 and the crystals were collected by filtration to give 3-methanesulfonylamino-1- (4-fluorophenyl) as pale yellow crystals.
-7- (Pyridin-4-yl) -1,4-dihydro-4
-0.15 g of oxoquinoline is obtained. IR (KBr) cm -1 : ν C = O 1626 NMR (DMSO-d 6 ) δ value: 3.06 (3H, s), 7.10-8.75 (12H, m), 8.88
(1H, bs)

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明化合物のキノロンまたはナフチリ
ドン化合物もしくはそれらの塩は、優れた抗ヘルペスウ
イルス活性を有し、医薬品として有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The quinolone or naphthyridone compound of the compound of the present invention or a salt thereof has excellent anti-herpesvirus activity and is useful as a medicine.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松原 信之 富山県富山市中川原新町285−4 (72)発明者 白木 公康 富山県富山市五福末広町2556−4 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuyuki Matsubara 285-4 Shinmachi Nakagawara, Toyama City, Toyama Prefecture (72) Inventor Kimoyasu Shiraki 2556-4 Gosukuhiromachi, Toyama City, Toyama Prefecture

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 [式中、R1は、置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリールまたは複素環式基を;R2は、
保護されていてもよいアミノもしくはアルキルアミノ基
または置換されていてもよいアシルアミノもしくはアル
キルスルホニルアミノ基を;Xは、水素原子またはハロ
ゲン原子を;R3は、置換されていてもよいアリールま
たは複素環式基を;Aは、NまたはCHを示す。]で表
わされるキノロンまたはナフチリドン化合物もしくはそ
れらの塩。
1. [Wherein R 1 represents an optionally substituted alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 2 represents
An optionally protected amino or alkylamino group or an optionally substituted acylamino or alkylsulfonylamino group; X is a hydrogen atom or a halogen atom; R 3 is an optionally substituted aryl or heterocycle The formula group; A represents N or CH. ] The quinolone or naphthyridone compound represented by these, or those salts.
【請求項2】R2が保護されていてもよいアミノもしく
は低級アルキルアミノ基または置換されていてもよいア
シルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノ基で
ある請求項1記載のキノロンまたはナフチリドン化合物
もしくはそれらの塩。
2. The quinolone or naphthyridone compound or a salt thereof according to claim 1, wherein R 2 is an optionally protected amino or lower alkylamino group or an optionally substituted acylamino or lower alkylsulfonylamino group.
【請求項3】R1が置換されていてもよい低級アルケニ
ル、シクロアルキル、アリールまたは複素環式基である
請求項1または2記載のキノロンまたはナフチリドン化
合物もしくはそれらの塩。
3. The quinolone or naphthyridone compound or a salt thereof according to claim 1 or 2, wherein R 1 is an optionally substituted lower alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group.
【請求項4】R1が置換されていてもよいシクロアルキ
ル、アリールまたは複素環式基;R3が置換されていて
もよい複素環式基である請求項1または2記載のキノロ
ンまたはナフチリドン化合物もしくはそれらの塩。
4. The quinolone or naphthyridone compound according to claim 1, wherein R 1 is an optionally substituted cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; and R 3 is an optionally substituted heterocyclic group. Or their salt.
【請求項5】 [式中、R1は、置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリールまたは複素環式基を;R2は、
保護されていてもよいアミノもしくはアルキルアミノ基
または置換されていてもよいアシルアミノもしくはアル
キルスルホニルアミノ基を;Xは、水素原子またはハロ
ゲン原子を;R3は、置換されていてもよいアリールま
たは複素環式基を;Aは、NまたはCHを示す。]で表
わされるキノロンまたはナフチリドン化合物もしくはそ
れらの塩を含有する抗ヘルペスウイルス剤。
5. [Wherein R 1 represents an optionally substituted alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 2 represents
An optionally protected amino or alkylamino group or an optionally substituted acylamino or alkylsulfonylamino group; X is a hydrogen atom or a halogen atom; R 3 is an optionally substituted aryl or heterocycle The formula group; A represents N or CH. ] The anti-herpesvirus agent containing the quinolone represented by this, or a naphthyridone compound, or those salts.
【請求項6】R2が保護されていてもよいアミノもしく
は低級アルキルアミノ基または置換されていてもよいア
シルアミノもしくは低級アルキルスルホニルアミノ基で
ある請求項5記載のキノロンまたはナフチリドン化合物
もしくはそれらの塩を含有する抗ヘルペスウイルス剤。
6. A quinolone or a naphthyridone compound or a salt thereof according to claim 5, wherein R 2 is an optionally protected amino or lower alkylamino group or an optionally substituted acylamino or lower alkylsulfonylamino group. An anti-herpes virus agent contained.
【請求項7】R1が置換されていてもよい低級アルケニ
ル、シクロアルキル、アリールまたは複素環式基である
請求項5または6記載のキノロンまたはナフチリドン化
合物もしくはそれらの塩を含有する抗ヘルペスウイルス
剤。
7. An anti-herpesvirus agent containing the quinolone or naphthyridone compound or a salt thereof according to claim 5 or 6, wherein R 1 is an optionally substituted lower alkenyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group. .
【請求項8】R1が置換されていてもよいシクロアルキ
ル、アリールまたは複素環式基;R3が置換されていて
もよい複素環式基である請求項5または6記載のキノロ
ンまたはナフチリドン化合物もしくはそれらの塩を含有
する抗ヘルペスウイルス剤。
8. A quinolone or naphthyridone compound according to claim 5, wherein R 1 is an optionally substituted cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; and R 3 is an optionally substituted heterocyclic group. Alternatively, an anti-herpesvirus agent containing a salt thereof.
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