JPH089657B2 - Method for producing high-purity polyphenols - Google Patents

Method for producing high-purity polyphenols

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JPH089657B2
JPH089657B2 JP62012274A JP1227487A JPH089657B2 JP H089657 B2 JPH089657 B2 JP H089657B2 JP 62012274 A JP62012274 A JP 62012274A JP 1227487 A JP1227487 A JP 1227487A JP H089657 B2 JPH089657 B2 JP H089657B2
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polyphenols
phenol
reaction
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は副生物の少ない高純度ポリフェノール類の製
造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing high-purity polyphenols with few by-products.

[産業上の利用分野] 本発明の製造方法によって得られた高純度ポリフェノ
ール類はエポキシ樹脂,フェノール樹脂,プラスチック
改質剤等に使用される。特に、耐熱性,機械的強度,電
気滴特性(体積抵抗,誘電特性)等が優れており、電
気,電子部品関係の用途に適している。
[Field of Industrial Application] The high-purity polyphenols obtained by the production method of the present invention are used as epoxy resins, phenol resins, plastic modifiers, and the like. In particular, it has excellent heat resistance, mechanical strength, electric drop characteristics (volume resistance, dielectric characteristics), etc., and is suitable for use in electrical and electronic parts.

[従来技術及びその問題点] フェノール類とクロトンアルデヒドまたはシンナムア
ルデヒドとを縮合反応させると、それぞれ式(I)また
は式(II)の化合物を含むポリフェ ノール類が生成し、このほかに触媒の種類および、また
は反応温度によって多くの副生物が生成する。
[Prior Art and its Problems] When a phenol and a crotonaldehyde or a cinnamaldehyde are subjected to a condensation reaction, a polyphene containing a compound of formula (I) or formula (II), respectively. The norls are produced, and in addition, many by-products are produced depending on the type of catalyst and / or the reaction temperature.

従来技術として、米国特許3,357,946号、特開昭61−6
2519号が開示されている。これらでは、反応の触媒とし
て酸が挙げられている。しかし、塩酸,塩化水素,臭化
水素酸などのハロゲン化水素の酸を使うと、これらの一
部がハロゲン化剤となって不飽和アルデヒドまたはフェ
ノール化合物と反応してハロゲン化フェノール化合物を
生成する。また、硫酸触媒はフェノール化合物と反応し
てスルホン化フェノール化合物を、硝酸触媒はフェノー
ル化合物と反応してニトロ化フェノール化合物を副生し
て、これらがポリフェノール類に混入する。
As prior art, U.S. Pat. No. 3,357,946, Japanese Patent Laid-Open No. 61-6
No. 2519 is disclosed. In these, an acid is mentioned as a catalyst for the reaction. However, when a hydrogen halide acid such as hydrochloric acid, hydrogen chloride or hydrobromic acid is used, some of these act as halogenating agents and react with unsaturated aldehydes or phenol compounds to form halogenated phenol compounds. . Further, the sulfuric acid catalyst reacts with a phenol compound to produce a sulfonated phenol compound, and the nitric acid catalyst reacts with a phenol compound to produce a nitrated phenol compound as a byproduct, and these are mixed into polyphenols.

一方、シュウ酸,ギ酸,酢酸などの弱酸触媒では、反
応が遅く、しかも生成物として式(III)の副生物が多
量に生成する。
On the other hand, with weak acid catalysts such as oxalic acid, formic acid, and acetic acid, the reaction is slow, and a large amount of the by-product of the formula (III) is produced as a product.

Rは水素,メチル基またはフェノール基である。 R is hydrogen, a methyl group or a phenol group.

このようなハロゲン化フェノール化合物,スルホン化
フェノール化合物,ニトロ化フェノール化合物及び式
(III)のような副生物はポリフェノール類からの分離
が極めせ難しく、これらの副生物を含有するポリフェノ
ール類をエポキシ樹脂,フェノール樹脂またはプラスチ
ック改質剤に用いた場合には、体積抵抗や誘電特性など
の電気特性や耐熱性,機械的強度が著しく低下する。
Such halogenated phenol compounds, sulfonated phenol compounds, nitrated phenol compounds and by-products such as formula (III) are extremely difficult to separate from polyphenols, and polyphenols containing these by-products are treated with epoxy resin. When used as a phenol resin or a plastic modifier, the electrical properties such as volume resistance and dielectric properties, heat resistance, and mechanical strength are significantly reduced.

[問題点を解決するための手段] 本発明はフェノール類とクロトンアルデヒド,シンナ
ムアルデヒドより選ばれた不飽和アルデヒドとの反応に
よってポリフェノール類を製造する方法において、次の
工程を経由することを特徴とする高純度ポリフェノール
類の製造方法。
[Means for Solving Problems] The present invention is characterized in that in the method for producing polyphenols by the reaction of phenols with an unsaturated aldehyde selected from crotonaldehyde and cinnamaldehyde, the method comprises the following steps: A method for producing high-purity polyphenols.

第1工程 上記反応を、上記フェノール類(a)と上記不飽和ア
ルデヒド(b)とのモル比(a/b)を6〜40とし、上記
フェノール類(a)に対し0.01〜0.05重量%のスルホン
酸の存在下、60〜130℃で行ないポリフェノール類を得
る。
First Step The reaction is carried out at a molar ratio (a / b) of the phenols (a) and the unsaturated aldehydes (b) of 6 to 40 and 0.01 to 0.05 wt% of the phenols (a). It is carried out at 60 to 130 ° C in the presence of sulfonic acid to obtain polyphenols.

第2工程 生成したポルフェノール類中のスルホン酸を中和す
る。
Second step Neutralize the sulfonic acid in the produced porphenols.

第3工程 生成したポリフェノール類を水と溶剤との混合溶剤で
洗浄して、中和塩を含む水層を分液除去することによ
り、副生した中和塩を除去する。
Third Step The generated polyphenols are washed with a mixed solvent of water and a solvent, and the aqueous layer containing the neutralized salt is separated and removed to remove the neutralized salt as a by-product.

第4工程 ポリフェノール類を減圧下、120℃〜190℃で未反応フ
ェノールを蒸留除去する。ものである。
Fourth step Unreacted phenol is distilled off at 120 ° C to 190 ° C under reduced pressure. Things.

本発明に用いられるフェノール類(a)とは、フェノ
ール,クレゾール,キシレノール,カテコール,レゾル
シン,ハイドロキシなどが挙げられ、フェノール類
(a)と不飽和アルデヒド(b)とのモル比(a/b)は
3〜40、好ましくは4〜20である。a/bが3より小さい
とゲル化物が生成し、a/bが40より大きいとポリフェノ
ール類に対する未反応フェノール量が多く、これらの回
収に多量のエネルギーを費やすので好ましくない。
Examples of the phenols (a) used in the present invention include phenol, cresol, xylenol, catechol, resorcin, and hydroxy, and the molar ratio (a / b) between the phenols (a) and the unsaturated aldehyde (b). Is 3-40, preferably 4-20. When a / b is less than 3, a gelled product is formed, and when a / b is more than 40, the amount of unreacted phenol with respect to polyphenols is large, and a large amount of energy is spent for recovering them, which is not preferable.

スルホン酸触媒としては、トルエンスルホン酸,ベン
ゼンスルホン酸,キシレンスルホン酸,ナフタレンスル
ホン酸,フェノールスルホン酸などが挙げられ、これら
の触媒濃度は原料フェノール類に対して0.01〜4重量%
が好ましい。
Examples of the sulfonic acid catalyst include toluene sulfonic acid, benzene sulfonic acid, xylene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid, phenol sulfonic acid, etc., and these catalyst concentrations are 0.01 to 4% by weight with respect to the raw material phenols.
Is preferred.

第1工程の反応温度は60〜130℃、好ましくは80〜110
℃であり、60℃より低いと反応速度が遅く、しかも式
(II)の副生物が多く生成し、130℃より高い温度で
は、ゲル化物が生成するので好ましくない。
The reaction temperature in the first step is 60 to 130 ° C, preferably 80 to 110
If the temperature is lower than 60 ° C, the reaction rate will be slower, and more by-products of the formula (II) will be produced.

第2工程において、生成したポリフェノール類(反応
液)中のスルホン酸を苛性ソーダ,苛性カリ,水酸化カ
ルシウム,炭酸ソーダ,炭酸カリ等のアルカリで中和す
る。
In the second step, the sulfonic acid in the produced polyphenols (reaction liquid) is neutralized with alkali such as caustic soda, caustic potash, calcium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and the like.

第3工程の副生した中和塩を除去する方法としては水
洗が最も好ましい。しかしながら、水のみを添加して洗
浄すると、水がフェノール層に溶解し、水層とフェノー
ル層の境界面が不明瞭となり、分液が極めて難しいの
で、メチルエチルケトン,メチルイソブチルケトンなど
の溶剤を添加するのが効果的である。
Washing with water is the most preferable method for removing the neutralized salt produced as a by-product in the third step. However, if only water is added and washed, the water dissolves in the phenol layer, the boundary between the water layer and the phenol layer becomes unclear, and liquid separation is extremely difficult. Therefore, add a solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone. Is effective.

第4工程では、中和塩を除去したポリフェノール類を
減圧にして、120〜190℃で水,溶剤,未反応フェノール
を遂次蒸留によって除去し、高純度のポリフェノール類
を得る。なお、未反応フェノールを蒸留除去する際に、
スルホン酸触媒が残存したり、蒸留温度が190℃を越え
ると、ポリフェノール類の分解が起こり、低分子化合物
とゲル化物が多く生成するので好ましくない。また、12
0℃以下では未反応物,副生物の分離効果が低い。
In the fourth step, the polyphenols from which the neutralized salts have been removed are depressurized and water, solvent and unreacted phenol are removed by successive distillation at 120 to 190 ° C. to obtain high purity polyphenols. When removing unreacted phenol by distillation,
If the sulfonic acid catalyst remains or the distillation temperature exceeds 190 ° C., the polyphenols are decomposed, and many low molecular weight compounds and gelled products are formed, which is not preferable. Also, 12
Below 0 ℃, the effect of separating unreacted substances and by-products is low.

[発明の効果] 本発明の製造方法で得られる高純度ポリフェノール類
はゲル化物を含まず、また、副生物,金属,塩素等の不
純物が少なく、高純度のポリフェノール類が得られ、エ
ポキシ樹脂,フェノール樹脂に用いた場合に耐熱性,機
械的強度,電気的特性がすぐれており、電気,電子関係
の部品、封止材等に使用することができる。
[Effects of the Invention] The high-purity polyphenols obtained by the production method of the present invention do not contain a gelled product, and contain few impurities such as by-products, metals and chlorine, and high-purity polyphenols are obtained. When used for phenolic resin, it has excellent heat resistance, mechanical strength, and electrical characteristics, and can be used for electrical and electronic parts, encapsulants, etc.

[本発明の実施例] 以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
[Examples of the present invention] Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1 内容量3のフラスコにフェノール940g、クロトンア
ルデヒド117g、およびp−トルエンスルホン酸0.95gを
仕込み、80℃で30分、次いで100℃で3時間反応させ
た。反応終了後に、4%苛性ソーダ水溶液5.4gを加えて
触媒を中和し、引続き、水200gとメチルイゾブチルケト
ン1200gを添加、80℃で5分間撹拌し、次いで1時間静
置後、水層を分液除去した。さらに、有機層に水200gを
添加し、80℃で5分撹拌、次いで1時間静置後、水層を
分液除去した。
Example 1 A flask having an inner volume of 3 was charged with 940 g of phenol, 117 g of crotonaldehyde, and 0.95 g of p-toluenesulfonic acid, and reacted at 80 ° C. for 30 minutes and then at 100 ° C. for 3 hours. After the reaction was completed, 5.4 g of 4% aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the catalyst, and subsequently 200 g of water and 1200 g of methylisobutylketone were added, and the mixture was stirred at 80 ° C for 5 minutes, then allowed to stand for 1 hour, then the aqueous layer was formed. The liquid was removed. Further, 200 g of water was added to the organic layer, the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 minutes, and allowed to stand for 1 hour, and then the aqueous layer was separated and removed.

引続き、ポリフェノール類(反応液)を120℃から180
℃まで加熱し、一方、反応系内の圧力を760mmHgから5mm
Hgまで減圧にしながら、水,メチルイソブチルケトン及
び未反応フェノールを蒸留によって除去した。
Continue to add polyphenols (reaction solution) from 120 ℃ to 180
Heat up to ℃, while the pressure inside the reaction system from 760mmHg to 5mm
Water, methyl isobutyl ketone and unreacted phenol were removed by distillation while reducing the pressure to Hg.

得られたポリフェノール類は、式(III)の低分子化
合物2.0%、1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)ブタ
ン44.6%、高次縮合物53.4%からなり、軟化点115℃で
あった。また、このポリフェノール類に含まれるゲル化
物0%、Naは6ppm、Clは3ppmであった。
The obtained polyphenols were composed of 2.0% of the low molecular weight compound of the formula (III), 44.6% of 1.1.3-tris (hydroxyphenyl) butane, and 53.4% of a higher-order condensate, and had a softening point of 115 ° C. Further, the gelled substance contained in this polyphenol was 0%, Na was 6 ppm, and Cl was 3 ppm.

実施例2 実施例1と同一のフラスコに、フェノール940g、シン
ナムアルデヒド176g、およびp−トルエンスルホン酸4.
5gを仕込み、80℃で30分間、次いで100℃で3時間反応
させた。反応終了後、4%苛性ソーダ水溶液27.3gを加
えて触媒を中和し、引続き、水200gとメチルイソブチル
ケトン1200gを添加、80℃で5分間撹拌し、次いで1時
間静置後、水層を分液除去した。
Example 2 In the same flask as in Example 1, 940 g phenol, 176 g cinnamaldehyde, and p-toluenesulfonic acid 4.
5 g was charged and reacted at 80 ° C. for 30 minutes and then at 100 ° C. for 3 hours. After the reaction was completed, 27.3 g of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the catalyst. Subsequently, 200 g of water and 1200 g of methyl isobutyl ketone were added, and the mixture was stirred at 80 ° C for 5 minutes, then allowed to stand for 1 hour, then the aqueous layer was separated. The liquid was removed.

さらに、有機層に水200gを添加し、80℃で5分撹拌
後、1時間静置、水層を分液除去した。
Further, 200 g of water was added to the organic layer, the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 minutes, and allowed to stand for 1 hour to separate and remove the aqueous layer.

引続き、ポリフェノール類(反応液)を120℃から170
℃まで加熱し、一方、反応系内の圧力を760mmHgから5mm
Hgまで減圧にしながら、水,メチルイソブチルケトンお
よび未反応フェノールを蒸留によって除去した。
Continue to add polyphenols (reaction solution) from 120 ℃ to 170
Heat up to ℃, while the pressure inside the reaction system from 760mmHg to 5mm
Water, methyl isobutyl ketone and unreacted phenol were removed by distillation while reducing the pressure to Hg.

得られたポリフェノール類は、低分子化合物9.1%、
1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)−3−フェニル
プロパン54.4%、高次縮合物36.5%からなり、軟化点12
3℃であった。このポリフェノール類に含まれるゲル化
物0%、NaとClはそれぞれ8ppmと6ppmであった。
The obtained polyphenols are low-molecular compounds 9.1%,
1.1.3-Tris (hydroxyphenyl) -3-phenylpropane 54.4%, high-order condensate 36.5%, softening point 12
It was 3 ° C. The gelled substance contained in this polyphenol was 0%, and Na and Cl were 8 ppm and 6 ppm, respectively.

比較例1 実施例1のp−トリエンスルホン酸触媒の代りに35%
塩酸6.3gを用いた以外は実施例1と同様に行なった。
Comparative Example 1 35% in place of the p-trienesulfonic acid catalyst of Example 1
The procedure of Example 1 was repeated except that 6.3 g of hydrochloric acid was used.

得られたポリフェノール類は、低分子化合物4.1%、
1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)ブタン37.3%、
高次縮合物58.5%からなり、軟化点118℃であった。こ
のポリフェノール類に含まれるNaは15ppm、Clは1430ppm
であった。
The obtained polyphenols are low-molecular compounds 4.1%,
1.1.3-tris (hydroxyphenyl) butane 37.3%,
It was composed of 58.5% of high-order condensate and had a softening point of 118 ° C. This polyphenol contains 15ppm of Na and 1430ppm of Cl.
Met.

比較例2 実施例1と同一の反応を行ない、反応終了後、触媒を
中和,除去せずに80℃から180℃まで加熱し、反応系内
の圧力を760mmHgから5mmHgまで減圧にしながら、水と未
反応フェノールを蒸留によって除去した。
Comparative Example 2 The same reaction as in Example 1 was carried out. After the reaction was completed, the catalyst was heated from 80 ° C. to 180 ° C. without being neutralized and removed, and the pressure in the reaction system was reduced from 760 mmHg to 5 mmHg while adding water. And unreacted phenol was removed by distillation.

得られたポリフェノール類は、低分子化合物8.2%、
1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)ブタン32.5%、
高次縮合物59.3%からなり、軟化点124℃であった。ま
た、このポリフェノール類にはゲル化物が2.5%、Cl20p
pm、触媒として残存するp−トルエンスルホン酸1980pp
m含まれていた。
The obtained polyphenols are low-molecular compounds 8.2%,
1.1.3-tris (hydroxyphenyl) butane 32.5%,
The high-order condensate was composed of 59.3% and had a softening point of 124 ° C. Also, this polyphenol has 2.5% gel, Cl20p
pm, p-toluenesulfonic acid remaining as catalyst 1980 pp
m was included.

比較例3 実施例1において第4工程のポリフェノール類(反応
液)を120℃から210℃まで加熱し、反応系内の圧力を76
0mmHgから30mmHgまで減圧にしながら、水,メチルイソ
ブチルケトン及び未反応フェノールを蒸留によって除去
した。
Comparative Example 3 In Example 1, the polyphenols (reaction solution) in the fourth step were heated from 120 ° C. to 210 ° C., and the pressure in the reaction system was adjusted to 76
Water, methyl isobutyl ketone and unreacted phenol were removed by distillation while reducing the pressure from 0 mmHg to 30 mmHg.

得られたポリフェノール類は、低分子化合物5.1%、
1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)ブタン39.6%、
高次縮合物52.9%からなり、軟化点123℃であった。こ
のポリフェノール類にはゲル化物2.4%、Na7ppm、Cl4pp
m含まれていた。
The obtained polyphenols are low-molecular compounds 5.1%,
1.1.3-tris (hydroxyphenyl) butane 39.6%,
It was composed of 52.9% of higher-order condensates and had a softening point of 123 ° C. This polyphenol contains 2.4% gel, Na7ppm, Cl4pp
m was included.

比較例4 実施例1と同様にしてフェノールとクロトンアルデヒ
ドとの反応を行った。反応終了後に、4%苛性ソーダ水
溶液5.4gを加えて触媒を中和し、引続き、水200gを添
加、80℃で5分間撹拌し、次いで1時間静置後、水層を
分液除去した。
Comparative Example 4 Phenol and crotonaldehyde were reacted in the same manner as in Example 1. After the reaction was completed, 5.4 g of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the catalyst, 200 g of water was subsequently added, the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 minutes, and allowed to stand for 1 hour, and then the aqueous layer was separated and removed.

引続き、ポリフェノール類(反応液)を120℃から180
℃まで加熱し、一方、反応系内の圧力を760mmHgから5mm
Hgまで減圧にしながら、水及び未反応フェノールを蒸留
によって除去した。
Continue to add polyphenols (reaction solution) from 120 ℃ to 180
Heat up to ℃, while the pressure inside the reaction system from 760mmHg to 5mm
Water and unreacted phenol were removed by distillation while reducing the pressure to Hg.

得られたポリフェノール類は、式(III)の低分子化
合物2.0%、1.1.3−トリス(ヒドロキシフェニル)ブタ
ン40.1%、高次縮合物55.4%からなり、軟化点117℃で
あった。また、このポリフェノール類にはゲル化物2.5
%、Cl10ppm、p−トリエンスルホン酸ソーダ0.01%が
含まれていた。
The obtained polyphenols consisted of 2.0% of the low molecular weight compound of the formula (III), 40.1% of 1.1.3-tris (hydroxyphenyl) butane and 55.4% of the higher-order condensate, and had a softening point of 117 ° C. In addition, this polyphenol contains 2.5
%, Cl10 ppm, 0.01% sodium p-trienesulfonate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フェノール類とクロトンアルデヒド,シン
ナムアルデヒドより選ばれた不飽和アルデヒドの反応に
よってポリフェノール類を製造する方法において、次の
工程を経由することを特徴とする高純度ポリフェノール
類の製造方法。 第1工程 上記反応を、上記フェノール類(a)と上記不飽和アル
デヒド(b)とのモル比(a/b)を6〜40とし、上記フ
ェノール類(a)に対し0.01〜0.05重量%のスルホン酸
の存在下、60〜130℃で行ないポリフェノール類を得
る。 第2工程 生成したポリフェノール類中のスルホン酸を中和する。 第3工程 生成したポリフェノール類を水と溶剤との混合溶剤で洗
浄して、中和塩を含む水層を分液除去することにより、
副生した中和塩を除去する。 第4工程 ポリフェノール類を減圧下、120℃〜190℃で未反応フェ
ノールを蒸留除去する。
1. A method for producing polyphenols by the reaction of a phenol with an unsaturated aldehyde selected from crotonaldehyde and cinnamaldehyde, which comprises passing through the following steps. First Step The reaction is carried out at a molar ratio (a / b) of the phenols (a) and the unsaturated aldehydes (b) of 6 to 40 and 0.01 to 0.05 wt% of the phenols (a). It is carried out at 60 to 130 ° C in the presence of sulfonic acid to obtain polyphenols. Second step The sulfonic acid in the produced polyphenols is neutralized. Third step By washing the generated polyphenols with a mixed solvent of water and a solvent, and separating and removing an aqueous layer containing a neutralized salt,
The by-product neutralized salt is removed. Fourth step Unreacted phenol is distilled off at 120 ° C to 190 ° C under reduced pressure.
JP62012274A 1987-01-23 1987-01-23 Method for producing high-purity polyphenols Expired - Lifetime JPH089657B2 (en)

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