JPH0889770A - Production of gas separation membrane - Google Patents

Production of gas separation membrane

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JPH0889770A
JPH0889770A JP6258691A JP25869194A JPH0889770A JP H0889770 A JPH0889770 A JP H0889770A JP 6258691 A JP6258691 A JP 6258691A JP 25869194 A JP25869194 A JP 25869194A JP H0889770 A JPH0889770 A JP H0889770A
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JP
Japan
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gas
coating layer
main solvent
temperature
additive
Prior art date
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Pending
Application number
JP6258691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shohei Fukada
尚平 深田
Yoshiaki Nagano
義昭 長野
Tadashi Habuka
忠司 羽深
Takashi Ogawa
高志 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Priority to AU32948/95A priority patent/AU3294895A/en
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    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/40Capture or disposal of greenhouse gases of CO2

Abstract

PURPOSE: To obtain a gas separation membrane which enables efficient separation of carbon dioxide from natural gas containing carbon dioxide by blowing gas for heating in a specified temp. range to the surface of a coating layer formed by applying a film forming source liquid and then irradiating the surface with IR rays. CONSTITUTION: A film forming source liquid 4 is applied by a liquid coating means 3 on the one surface of a nonwoven fabric released from a releasing roller 1 to form a coating layer. Then the coating layer is heated by blowing nitrogen gas in 100 to 300 deg.C temp. range from a blowing means 5 of the heating gas and further by an IR ray heater 8 to vaporize the main solvent and additives in the surface layer of the coating layer. Then, immediately the nonwoven fabric 2 is dipped in a solidifying soln. 10 and wound up on a winding roller 11. By this method, a gas separation membrane comprising a polyether sulfone dense layer and a polyether sulfone porous layer is formed on the one surface of the nonwoven fabric 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、気体分離膜の製造方
法、特に、二酸化炭素を含む天然ガスから二酸化炭素を
効率良く選択分離することが可能な気体分離膜の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a gas separation membrane, and more particularly to a method for producing a gas separation membrane capable of efficiently selectively separating carbon dioxide from natural gas containing carbon dioxide.

【0002】[0002]

【従来の技術】高分子樹脂を用いた気体分離膜に関して
は、長年、研究がなされ、種々のものが提案されてい
る。それらの中で、特に天然ガスから二酸化炭素を分離
するポリエーテルスルホンの気体分離膜は、産業上の要
求も高く実用化が強く望まれている。
2. Description of the Related Art Gas separation membranes using polymer resins have been studied for many years and various kinds have been proposed. Among them, a polyethersulfone gas separation membrane that separates carbon dioxide from natural gas is highly demanded in industry and is strongly desired for practical use.

【0003】二酸化炭素の分離膜は、天然ガス等の混合
気体から二酸化炭素を選択的に分離する機能に優れ、し
かも、二酸化炭素を透過させる機能に優れていることが
重要である。即ち、二酸化炭素の分離膜は、二酸化炭素
選択性および二酸化炭素透過性に優れていることが重要
である。
It is important that the carbon dioxide separation membrane has an excellent function of selectively separating carbon dioxide from a mixed gas such as natural gas and also an excellent function of permeating carbon dioxide. That is, it is important that the carbon dioxide separation membrane has excellent carbon dioxide selectivity and carbon dioxide permeability.

【0004】一般に、緻密で均質な構造を有する気体分
離膜における気体の透過量は、気体分離膜の膜厚に反比
例する。従って、気体選択能を有する高分子樹脂におい
て如何に薄い膜を得るかが製膜上、重要な点となるが、
気体分離膜は、同時に十分な機械的強度が要求される。
Generally, the amount of gas permeation through a gas separation membrane having a dense and homogeneous structure is inversely proportional to the thickness of the gas separation membrane. Therefore, how to obtain a thin film in a polymer resin having gas selectivity is an important point in film formation.
At the same time, the gas separation membrane is required to have sufficient mechanical strength.

【0005】そのために高分子樹脂膜を、予め製造した
多孔質支持体の表面に接着する方法が、特開昭56−9
2926号公報および特開昭63−296822号公報
に開示されている。
Therefore, a method of adhering a polymer resin film to the surface of a porous support produced in advance is disclosed in JP-A-56-9.
It is disclosed in Japanese Patent No. 2926 and Japanese Patent Laid-Open No. 63-296822.

【0006】しかしながら、極めて薄い均質な薄膜を製
造し、それを多孔質支持体の表面に接着することは、工
業上困難であり、しかも、薄膜の気体分離性能も接着に
より阻害されやすい。
However, it is industrially difficult to produce an extremely thin homogeneous thin film and adhere it to the surface of the porous support, and furthermore, the gas separation performance of the thin film is easily impaired by the adhesion.

【0007】そこで、有用な気体分離膜として、高い気
体選択性能を有する緻密層を、柱状あるいはスポンジ状
の空孔を有する多孔質層によって一体的に支持する、所
謂、異方性構造を有する非対称気体分離膜が、特開昭5
8−36617号公報およびアメリカ特許第47463
33号特許明細書に開示されている。
Therefore, as a useful gas separation membrane, a dense layer having high gas selection performance is integrally supported by a porous layer having columnar or sponge-like pores, that is, an asymmetric structure having a so-called anisotropic structure. A gas separation membrane is disclosed in JP-A-5
8-36617 and U.S. Pat. No. 47463.
No. 33 patent specification.

【0008】このような非対称気体分離膜を製造するに
は、膜本体を構成する高分子樹脂、高分子樹脂を溶解さ
せるための主溶剤、高分子樹脂を膜形状に凝固させるた
めの凝固溶液、および、膜中に柱状あるいはスポンジ状
の空孔を形成するための添加剤等が必要となる。添加剤
は、高分子樹脂に対する溶解性が非常に小さく、そし
て、凝固溶液に対する溶解性が大きいという特性を有し
ている。
In order to manufacture such an asymmetric gas separation membrane, a polymer resin constituting the membrane body, a main solvent for dissolving the polymer resin, a coagulating solution for coagulating the polymer resin into a membrane shape, Also, an additive or the like for forming columnar or sponge-like pores in the film is required. The additive has the property that it has very low solubility in the polymer resin and high solubility in the coagulation solution.

【0009】非対称気体分離膜は、次のようにして製造
される。即ち、主溶剤と添加剤とからなる溶剤系に、膜
本体を構成する高分子樹脂を溶解させて、製膜用原液を
調製する。次いで、このようにして調製した製膜用原液
を、ガラスあるいは不織布等の製膜用支持基材上に塗布
して、製膜用支持基材上に塗布層を形成し、短時間放置
する。この間に、塗布層の表層部分から主溶剤および添
加剤が蒸発する。この結果、塗布層の表層部の高分子樹
脂濃度が高くなる。この後、直ちに、製膜用支持基材と
共に塗布層を凝固溶液中に浸漬する。これによって、表
層部が高分子樹脂からなる緻密層と、下層部が柱状ある
いはスポンジ状の空孔が形成された、表層部と同一の高
分子樹脂からなる多孔質層とによって構成される非対称
膜気体分離膜が支持基材上に形成される。ここで、多孔
質層が形成されるのは、下層部の添加剤が凝固溶液中に
溶出し、この部分が空孔として残存するからである。
The asymmetric gas separation membrane is manufactured as follows. That is, the polymer resin constituting the film body is dissolved in a solvent system composed of a main solvent and an additive to prepare a stock solution for film formation. Next, the film-forming stock solution thus prepared is applied onto a film-forming supporting base material such as glass or a non-woven fabric to form a coating layer on the film-forming supporting base material, and left for a short time. During this time, the main solvent and the additives evaporate from the surface layer portion of the coating layer. As a result, the polymer resin concentration in the surface layer of the coating layer is increased. Immediately thereafter, the coating layer is immersed in the coagulation solution together with the film-forming support substrate. As a result, an asymmetric membrane composed of a dense layer having a surface layer made of a polymer resin and a lower layer having a porous layer made of the same polymer resin as the surface layer having columnar or sponge-shaped pores formed therein. A gas separation membrane is formed on the supporting substrate. Here, the reason why the porous layer is formed is that the additive in the lower layer portion is eluted into the coagulation solution, and this portion remains as pores.

【0010】アメリカ特許第4746333号特許明細
書には、以下の技術が開示されている。即ち、上述した
製膜方法によって、良好な非対称気体分離膜を製造する
には、短時間に主溶剤を蒸発させて、薄い緻密層を表層
部に形成させる必要がある。このために、沸点が低く、
蒸発速度が非常に速いジクロロメタンや1,1,2−ト
リクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶剤を主溶剤と
して使用し、短時間、空気中に放置する。以下、この方
法を従来技術という。
The following technology is disclosed in the specification of US Pat. No. 4,746,333. That is, in order to manufacture a good asymmetric gas separation membrane by the above-mentioned membrane forming method, it is necessary to evaporate the main solvent in a short time to form a thin dense layer on the surface layer portion. Because of this, the boiling point is low,
A halogenated hydrocarbon solvent such as dichloromethane or 1,1,2-trichloroethane, which has a very high evaporation rate, is used as a main solvent and left in the air for a short time. Hereinafter, this method is referred to as a conventional technique.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術は、次のような問題を有している。即ち、主
溶剤のハロゲン化炭化水素溶剤は、毒性が強く人体に悪
影響を及ぼすばかりか、その回収が困難であることか
ら、オゾン層の破壊につながる。
However, the above-mentioned prior art has the following problems. That is, the halogenated hydrocarbon solvent as the main solvent is highly toxic and adversely affects the human body, and it is difficult to collect the halogenated hydrocarbon solvent, which leads to destruction of the ozone layer.

【0012】従って、この発明の目的は、人体や環境に
悪影響を及ぼさず、しかも、二酸化炭素選択性および二
酸化炭素透過性に優れた、気体分離膜の製造方法を提供
することにある。
[0012] Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a gas separation membrane which does not adversely affect the human body and environment and is excellent in carbon dioxide selectivity and carbon dioxide permeability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この発明は、ポリエーテ
ルスルホンを溶解し、且つ、凝固溶液としての水に対し
て相溶性を有する主溶剤と、ポリエーテルスルホンを実
質的に溶解せず、且つ、前記主溶剤および前記凝固溶液
としての水に対して相溶性を有する添加剤とからなる溶
剤系に、ポリエーテルスルホンを溶解させて製膜用原液
を調製し、このようにして調製した製膜用原液を、支持
基材に塗布して、前記支持基材上に前記原液の塗布層を
形成し、次いで、前記塗布層の表面に100から300
℃の範囲内の温度の加熱気体を吹き付け、次いで、前記
塗布層の表面に赤外線を照射し、次いで、前記塗布層を
前記支持基材と共に前記凝固溶液としての水に浸漬し、
かくして、前記支持基材上に前記ポリエーテルスルホン
の薄膜を形成することに特徴を有するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has a main solvent which dissolves polyether sulfone and has compatibility with water as a coagulating solution, and which does not substantially dissolve polyether sulfone, and , A solvent system consisting of the main solvent and an additive having compatibility with water as the coagulating solution, to prepare a solution for forming a film by dissolving polyether sulfone, the film forming thus prepared The stock solution for application is applied to a supporting base material to form a coating layer of the stock solution on the supporting base material, and then 100 to 300 is applied to the surface of the coating layer.
Blow a heated gas at a temperature in the range of ° C., then irradiate the surface of the coating layer with infrared rays, then immerse the coating layer together with the supporting substrate in water as the coagulating solution,
Thus, it is characterized in that the thin film of the polyether sulfone is formed on the supporting substrate.

【0014】前記主溶剤は、ジメチルスルホキシドから
なり、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチルエ
チルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つからな
っている。
The main solvent comprises dimethyl sulfoxide, and the additive comprises at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone.

【0015】前記主溶剤は、テトラメチル尿素からな
り、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチルエチ
ルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つからなっ
ている。
The main solvent comprises tetramethylurea and the additive comprises at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone.

【0016】前記主溶剤は、ジメチルアセトアミドから
なり、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチルエ
チルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つからな
っている。
The main solvent comprises dimethylacetamide, and the additive comprises at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone.

【0017】[0017]

【作用】支持基材上の製膜用原液の塗布層に100から
300℃の範囲内の温度の加熱気体を吹き付け、次い
で、赤外線を照射することによって、前記塗布層の表層
部分の主溶剤および添加剤を瞬時に蒸発させることがで
きるので、前記塗布層の表層部分にポリエーテルスルホ
ンの緻密層を容易に形成することができる。前記製膜用
原液の主溶剤として、ジメチルスルホキシド、テトラメ
チル尿素またはジメチルアセトアミドを使用することに
よって、主溶剤による、人体や環境に及ぼす悪影響を回
避できる。また、凝固溶液として水を使用することによ
って、凝固溶液のハンドリングや処理後の廃液処理が容
易に行える。
The coating layer of the stock solution for film formation on the supporting substrate is sprayed with a heating gas having a temperature in the range of 100 to 300 ° C., and then is irradiated with infrared rays, whereby the main solvent of the surface layer portion of the coating layer and Since the additive can be evaporated instantly, a dense layer of polyether sulfone can be easily formed on the surface layer portion of the coating layer. By using dimethylsulfoxide, tetramethylurea or dimethylacetamide as the main solvent of the stock solution for film formation, adverse effects of the main solvent on the human body and the environment can be avoided. Further, by using water as the coagulation solution, handling of the coagulation solution and treatment of waste liquid after the treatment can be easily performed.

【0018】この発明を更に詳細に説明する。この発明
において使用する、気体分離膜を形成する高分子樹脂と
しては、天然ガス中の主成分であるメタンガスと二酸化
炭素の分離係数が40という高い値を有するポリエーテ
ルスルホンを使用する。
The present invention will be described in more detail. As the polymer resin forming the gas separation membrane used in the present invention, polyether sulfone having a high separation coefficient of 40, which is the main component of natural gas, and carbon dioxide is used.

【0019】この発明において使用する製膜用原液とし
ては、製膜原料としての高分子樹脂であるポリエーテル
スルホンの他、ポリエーテルスルホンを溶解させるため
の主溶剤と、ポリエーテルスルホンに対する溶解性は小
さいが主溶剤および凝固溶液に対して溶解性を有し、主
溶剤よりも低い沸点を有する添加剤とから構成されるも
のを使用する。主溶剤および添加剤を蒸発させるための
加熱処理は、製膜用原液を製膜用支持基材上に塗布した
塗布層の片表面から主として添加剤が短時間で蒸発する
ように実施する。
The undiluted solution for film formation used in the present invention has a solubility not only in polyethersulfone, which is a polymer resin as a film-forming raw material, but also in a main solvent for dissolving polyethersulfone and polyethersulfone. A small one, which is soluble in the main solvent and the coagulating solution and is composed of an additive having a boiling point lower than that of the main solvent, is used. The heat treatment for evaporating the main solvent and the additive is performed so that the additive is mainly evaporated in a short time from one surface of the coating layer obtained by coating the film-forming stock solution on the film-forming supporting substrate.

【0020】この発明において使用する主溶剤として
は、ポリエーテルスルホンを溶解し、且つ、凝固溶液と
しての水に対して相溶性を有する、例えば、ジメチルス
ルホキシド、テトラメチル尿素またはジメチルアセトア
ミドが好ましい。この理由は、これらの溶剤は、従来技
術において使用されていたジクロロメタン等のハロゲン
化炭化水素溶剤と異なり、人体や環境に悪影響を及ぼさ
ないからである。即ち、ジクロロメタン等のハロゲン化
炭化水素溶剤は、蒸発速度が大きく、40.3℃という
低沸点を有するのに対して、上述した溶剤は、何れも、
ハロゲン化炭化水素溶剤に比べて蒸発速度が遅く、沸点
は、ジメチルスルホキシドが189.0℃、テトラメチ
ル尿素が177.5℃、ジメチルアセトアミドが16
5.5℃というように、何れも、ハロゲン化炭化水素溶
剤に比べて高沸点である。
The main solvent used in the present invention is preferably, for example, dimethyl sulfoxide, tetramethyl urea or dimethyl acetamide, which dissolves polyether sulfone and has compatibility with water as a coagulating solution. The reason for this is that these solvents, unlike halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane used in the prior art, do not adversely affect the human body or the environment. That is, while a halogenated hydrocarbon solvent such as dichloromethane has a high evaporation rate and a low boiling point of 40.3 ° C., all of the above-mentioned solvents are
The evaporation rate is slower than that of halogenated hydrocarbon solvents, and the boiling points of dimethyl sulfoxide are 189.0 ° C, tetramethylurea is 177.5 ° C, and dimethylacetamide is 16 ° C.
Each of them has a high boiling point as compared with the halogenated hydrocarbon solvent such as 5.5 ° C.

【0021】主溶剤の使用量は、ポリエーテルスルホン
に対して、通常、100から500重量%程度使用され
るが、その使用量は、ポリエーテルスルホンの溶解が可
能であるならば、気体分離膜の緻密層が形成されやすい
ように、可能な限り少ない方が好ましい。
The amount of the main solvent used is usually about 100 to 500% by weight with respect to the polyether sulfone. The amount of the main solvent used is a gas separation membrane as long as the polyether sulfone can be dissolved. It is preferable that the number is as small as possible so that the dense layer can be easily formed.

【0022】この発明において使用する添加剤として
は、ポリエーテルスルホンに対する溶解性は小さいが、
主溶剤および凝固溶液に対して相溶性を有する有機溶剤
を使用する。例えば、ケトン類、アルデヒド類、カルボ
ン酸、複素環式化合物等のうちの少なくとも1種を使用
する。分離性能に優れた非対称気体分離膜を得るには、
表面に薄い緻密層を形成することが不可欠であり、その
ためには、塗布層の表層部分から溶剤を蒸発させ、かく
して、塗布層表層部分のポリエーテルスルホンの濃度の
みを高くして、ポリエーテルスルホンを析出させる必要
がある。しかし、ハロゲン化炭化水素以外で、ポリエー
テルスルホンを溶解することができる主溶剤は、上述し
たように、何れも、高沸点を有するものばかりであり、
そのままでは、蒸発によるポリエーテルスルホンの高濃
度化はほとんど期待できない。
The additive used in the present invention has a low solubility in polyether sulfone,
Use an organic solvent that is compatible with the main solvent and the coagulation solution. For example, at least one kind selected from ketones, aldehydes, carboxylic acids, heterocyclic compounds and the like is used. To obtain an asymmetric gas separation membrane with excellent separation performance,
It is essential to form a thin dense layer on the surface, for which purpose the solvent is evaporated from the surface layer of the coating layer, thus increasing only the concentration of polyether sulfone on the surface layer of the coating layer, and thus Need to be deposited. However, in addition to halogenated hydrocarbons, the main solvents capable of dissolving polyether sulfone are all those having a high boiling point, as described above,
As it is, almost no increase in the concentration of polyether sulfone due to evaporation can be expected.

【0023】そこで、この発明においては、沸点が低く
蒸発速度が速い添加剤を使用することによって主溶剤で
は困難であった、塗布層表層部分からの蒸発を容易に行
わせる。添加剤は、ポリエーテルスルホンおよび主溶剤
と共に、均一に溶解している製膜用原液から、その親和
力以上の力で離脱し、蒸発しなければならない。このた
めに、添加剤は、主溶剤の沸点と比較して、100℃程
度低い沸点を有するものが好ましい。例えば、56.1
℃の沸点を有するアセトン、79.0℃の沸点を有する
メチルエチルケトンが好ましい。添加剤は、ポリエーテ
ルスルホンに対して、通常、3から120重量%程度使
用されるが、その使用量は、ポリエーテルスルホンが溶
解した製膜用原液の均一性が維持されるならば、多量に
蒸発することによって緻密層が形成されやすいようにす
るために、可能な限り多いほうが好ましい。
Therefore, in the present invention, the use of an additive having a low boiling point and a high evaporation rate facilitates evaporation from the surface layer of the coating layer, which was difficult with the main solvent. The additive, together with the polyether sulfone and the main solvent, must be separated from the uniformly dissolved stock solution for film formation with a force higher than its affinity and evaporated. For this reason, the additive preferably has a boiling point lower by about 100 ° C. than the boiling point of the main solvent. For example, 56.1
Acetone having a boiling point of ° C and methyl ethyl ketone having a boiling point of 79.0 ° C are preferable. The additive is usually used in an amount of about 3 to 120% by weight with respect to the polyether sulfone, but the amount used is a large amount as long as the uniformity of the film-forming stock solution in which the polyether sulfone is dissolved is maintained. It is preferable that the amount is as large as possible so that the dense layer can be easily formed by evaporating.

【0024】この発明において使用する製膜用支持基材
としては、例えば、ガラス板、ステンレス、アルミニウ
ム、テフロン等の表面が平滑な薄板、または、ポリエス
テル等の不織布が好ましい。このうちガラス板以外の支
持基材は、この発明を連続製膜プロセスに適用する場合
に適している。支持基材上に製膜用原液を塗布すること
によって形成する塗布膜の厚さは、50から300μ
m、望ましくは、100から250μmの範囲内が好ま
しい。
As the film-forming supporting base material used in the present invention, for example, a glass plate, a thin plate such as stainless steel, aluminum, or Teflon having a smooth surface, or a nonwoven fabric such as polyester is preferable. Of these, supporting substrates other than glass plates are suitable when the present invention is applied to a continuous film forming process. The thickness of the coating film formed by applying the stock solution for film formation on the supporting substrate is 50 to 300 μm.
m, preferably 100 to 250 μm.

【0025】この発明においては、蒸発しやすい添加剤
を使用することに加え、更に、一部、主溶剤をも蒸発さ
せて緻密層の形成を促すために、塗布層を加熱処理する
必要がある。塗布層の加熱温度は、100から300℃
の範囲内に限定する必要がある。これは、100℃未満
では、添加剤が蒸発せず、一方、300℃を超えると、
製膜原液中のポリエーテルスルホンが熱分解して、膜が
形成されないからである。
In the present invention, in addition to using an additive that easily evaporates, it is necessary to heat the coating layer in order to evaporate a part of the main solvent and promote the formation of a dense layer. . The heating temperature of the coating layer is 100 to 300 ° C.
It is necessary to limit it within the range. This is because below 100 ° C, the additive does not evaporate, while above 300 ° C,
This is because the polyethersulfone in the stock solution for film formation is thermally decomposed and a film is not formed.

【0026】この発明における、支持基材上の塗布層の
加熱方法は、加熱気体吹付けおよびび赤外線照射の併用
である。加熱気体は、塗布層表層部分の主溶剤および添
加剤の蒸発に必要な気化熱を供給すると共に、気流がキ
ャリアとなって塗布層表層から蒸発した主溶剤および添
加剤分子の輸送を行い、これによって、蒸発した主溶剤
および添加剤分子の塗布層近傍雰囲気の濃度が絶えず低
い状態に維持されるので、主溶剤および添加剤の蒸発を
促す効果が大きい。
The method of heating the coating layer on the supporting substrate in the present invention is a combination of heating gas spraying and infrared irradiation. The heating gas supplies the heat of vaporization necessary for the evaporation of the main solvent and additives in the surface layer of the coating layer, and the air flow serves as a carrier to transport the main solvent and additive molecules evaporated from the surface layer of the coating layer. As a result, the concentration of the evaporated main solvent and additive molecules in the atmosphere in the vicinity of the coating layer is constantly maintained at a low level, so that the effect of promoting evaporation of the main solvent and additive is great.

【0027】加熱気体の吹付け速度は速ければ速い程、
主溶剤および添加剤の蒸発効果が高くなるが、余り速す
ぎると流速による力の作用によって、塗布層表面に微細
なしわや欠陥等が発生して、緻密層の形成に悪影響を及
ぼす。また、加熱気体の吹付け速度がばらつくと、塗布
層表層部分に一様に緻密層が形成されないので、加熱気
体の流れは、均一な層流であることが好ましい。
The higher the blowing speed of the heated gas, the more
The evaporation effect of the main solvent and the additive is enhanced, but if it is too fast, fine wrinkles or defects are generated on the surface of the coating layer due to the action of force due to the flow velocity, which adversely affects the formation of the dense layer. Further, if the spraying rate of the heated gas varies, a dense layer is not formed uniformly on the surface layer of the coating layer. Therefore, the heated gas flow is preferably a uniform laminar flow.

【0028】一方、赤外線は、熱的効果が高く、また、
紫外線等は、短波長であるために透過性が強いのに対し
て、赤外線は、長波長であるために透過性が低く、従っ
て、塗布層表層部分から選択的に主溶剤および添加剤を
蒸発させるのに適している。更に、赤外線は、照射強度
および温度管理等が電気的制御によって容易に行えるこ
と、加熱効率が高いこと、および、均一な加熱が可能で
あること等の利点を有している。
On the other hand, infrared rays have a high thermal effect, and
Ultraviolet rays have a short wavelength and therefore have a high transparency, whereas infrared rays have a long wavelength and thus a low transparency.Therefore, the main solvent and additives are selectively evaporated from the surface layer of the coating layer. Suitable to let. Further, infrared rays have the advantages that irradiation intensity and temperature can be easily controlled by electrical control, that heating efficiency is high, and that uniform heating is possible.

【0029】このようなことから、加熱気体の吹付けに
よる気流による蒸発作用と、赤外線照射による均一加熱
効果との併用が、それぞれの不利な点を補う結果、分離
性能に優れた緻密層が形成される。更に、加熱処理を施
すと、緻密層の機械的強度が上昇するので、天然ガスの
ような数から百数10kgf/cm2 ・Gの高圧力を有
する気体からの二酸化炭素の分離に適用可能となる。
From the above, the combined use of the evaporation effect by the air flow by the blowing of the heated gas and the uniform heating effect by the infrared irradiation compensates for the respective disadvantages, and as a result, a dense layer excellent in separation performance is formed. To be done. Furthermore, since heat treatment increases the mechanical strength of the dense layer, it can be applied to the separation of carbon dioxide from a gas such as natural gas having a high pressure of a few to a few hundreds of kgf / cm 2 · G. Become.

【0030】この発明においては、形成された緻密層
が、塗布層内に残存する主溶剤によって、再溶解されな
いように、塗布層の表層部分を加熱した後、直ちに、塗
布層を凝固溶液中に浸漬するが、凝固溶液としては、主
溶剤および添加剤と相溶性を有し、ポリエーテルスルホ
ンは溶解しない水を使用する。凝固溶液は、多量に使用
することから、ハンドリングが容易で廃液処理が容易な
ものが好ましいが、水は、この点からも最適である。
In the present invention, immediately after heating the surface layer portion of the coating layer so that the formed dense layer is not redissolved by the main solvent remaining in the coating layer, the coating layer is immediately immersed in the coagulating solution. Although soaking, water is used as the coagulating solution, which is compatible with the main solvent and the additive and does not dissolve the polyether sulfone. Since the coagulation solution is used in a large amount, it is preferable that the coagulation solution is easy to handle and the waste liquid can be easily treated, but water is also optimal in this respect.

【0031】[0031]

【実施例】次に、この発明を実施例によって更に詳細に
説明する。 実施例1 図1に示すような連続製膜装置を使用して気体分離膜を
製造した。この連続製膜装置について説明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. Example 1 A gas separation membrane was produced using a continuous membrane forming apparatus as shown in FIG. This continuous film forming apparatus will be described.

【0032】図1において、1は、ポリエステル製の不
織布2が巻き付けられた繰出しローラ、3は、繰出しロ
ーラ1から連続的に繰り出される不織布2の一方の表面
に、後述する製膜用原液4を塗布するための原液塗布手
段、5は、不織布2の表面に塗布された製膜用原液4の
表層部分を加熱するための加熱用気体吹付け手段であ
る。加熱用気体吹付け手段5は、窒素ガスを加熱するた
めのヒーター6およびヒーター6により加熱された窒素
ガスを整流して、均一に不織布2の表面に吹き付ける作
用を有する整流器7から構成されている。8は、加熱用
気体吹付け手段5の、不織布2の移動方向の下流側に設
けられた赤外線加熱ヒーター、9は、凝固溶液10が入
れられたタンク、そして、11は、タンク9内に設けら
れた、気体分離膜が形成された不織布2の巻取りローラ
である。
In FIG. 1, 1 is a feeding roller around which a nonwoven fabric 2 made of polyester is wound, and 3 is one surface of the nonwoven fabric 2 which is continuously fed from the feeding roller 1, and a stock solution 4 for film formation, which will be described later, is provided on one surface thereof. The stock solution applying means 5 for applying is a heating gas spraying means for heating the surface layer portion of the film forming stock solution 4 applied to the surface of the nonwoven fabric 2. The heating gas spraying means 5 is composed of a heater 6 for heating the nitrogen gas and a rectifier 7 having a function of rectifying the nitrogen gas heated by the heater 6 and uniformly spraying the nitrogen gas onto the surface of the nonwoven fabric 2. . 8 is an infrared heater provided downstream of the heating gas blowing means 5 in the moving direction of the nonwoven fabric 2, 9 is a tank containing the coagulation solution 10, and 11 is provided in the tank 9. And a take-up roller for the nonwoven fabric 2 on which the gas separation membrane is formed.

【0033】製膜用原液4は、高分子樹脂として市販の
ポリエーテルスルホン(ICI社製、商品名VICTREX PE
S 4800P )30重量%、添加剤としてジメチルホキ
シド35重量%、添加剤としてアセトン35重量%から
なる混合溶液に溶解させることによって調製した。この
組成は、ポリエーテルスルホンの重量に対して、なるべ
く少量の主溶剤、なるべく多量の添加剤となる組合せで
ある。また、主溶剤と添加剤との沸点差は、132.9
℃であった。
The stock solution 4 for film formation is a polyether sulfone commercially available as a polymer resin (trade name: VICTREX PE manufactured by ICI, product name).
S 4800P) 30% by weight, dimethylfoxide 35% by weight as an additive, and acetone 35% by weight as an additive. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. The boiling point difference between the main solvent and the additive is 132.9.
° C.

【0034】繰出しローラ1から2cm/secの速度
で連続的に繰り出した不織布2の一方の表面に、原液塗
布手段3によって製膜用原液4を250μmの厚さに連
続的に塗布して、不織布2の一方の表面に均一に塗布層
を形成した。なお、加熱処理を行わない場合には、塗布
層を形成した後、直ちに、塗布層が形成された不織布2
を凝固溶液10中に浸漬した。一方、加熱処理を行う場
合には、ポリエステルの不織布上の塗布層に、加熱用気
体吹付け手段5から加熱した窒素ガスを1秒間吹き付
け、次いで、赤外線加熱ヒーター8によって塗布層を更
に2秒間加熱して、塗布層の表層部分の主溶剤および添
加剤を短時間で蒸発させ、そして、直ちに、塗布層が形
成された不織布2を凝固溶液10中に浸漬した。凝固溶
液10中に浸漬した不織布2は、巻取りローラ11によ
って巻き取った。このようにして、不織布2の一方の表
面に、ポリエーテルスルホンの緻密層およびポリエーテ
ルスルホンの多孔質層からなる気体分離膜を製造した。
On one surface of the nonwoven fabric 2 continuously fed from the feeding roller 1 at a speed of 2 cm / sec, the film forming stock solution 4 is continuously applied by the stock solution applying means 3 to a thickness of 250 μm, and the non-woven cloth is obtained. A coating layer was uniformly formed on one surface of No. 2. In addition, when the heat treatment is not performed, immediately after the coating layer is formed, the nonwoven fabric 2 on which the coating layer is formed is formed.
Was immersed in coagulation solution 10. On the other hand, when heat treatment is performed, the coating layer on the polyester non-woven fabric is blown with nitrogen gas heated from the heating gas blowing means 5 for 1 second, and then the coating layer is further heated for 2 seconds by the infrared heater 8. Then, the main solvent and the additive in the surface layer portion of the coating layer were evaporated in a short time, and immediately, the nonwoven fabric 2 on which the coating layer was formed was immersed in the coagulating solution 10. The nonwoven fabric 2 dipped in the coagulation solution 10 was wound by the winding roller 11. In this way, a gas separation membrane composed of a dense layer of polyether sulfone and a porous layer of polyether sulfone was produced on one surface of the nonwoven fabric 2.

【0035】加熱用気体吹付け手段5による加熱温度制
御は、窒素ガス温度が所定の温度に維持されるように、
ヒーター6をPID制御することにより行った。赤外線
加熱ヒーター8による加熱温度制御は、負荷電流制御に
より行った。
The heating temperature control by the heating gas spraying means 5 is performed so that the nitrogen gas temperature is maintained at a predetermined temperature.
The heater 6 was controlled by PID. The heating temperature control by the infrared heater 8 was performed by the load current control.

【0036】このようにして製造した気体分離膜の炭酸
ガスおよびメタンガスの透過速度を、次のようにして求
めた。即ち、メタンガスによって膜の表側(緻密層が形
成された側)を1kgf/cm2 ・Gに維持し、膜の裏
側を真空に維持することによって、2kgf/cm2
Gの操作圧とし、膜裏側に透過してくるメタンガスによ
る圧力の上昇速度から透過速度を求めた。更に、二酸化
炭素を用いて、メタンガスにおけると同様に透過速度を
求めた。分離係数は、メタンガスの透過速度に対する炭
酸ガスの透過速度の比によって求めた。
The permeation rates of carbon dioxide gas and methane gas of the gas separation membrane thus produced were determined as follows. That is, the front side of the film (the side where the dense layer is formed) is maintained at 1 kgf / cm 2 · G by methane gas, and the back side of the film is maintained at a vacuum of 2 kgf / cm 2 ·.
The permeation rate was determined from the rate of increase in pressure due to the methane gas permeating to the back side of the membrane, using the operating pressure of G. Further, using carbon dioxide, the permeation rate was determined as in methane gas. The separation coefficient was determined by the ratio of the permeation rate of carbon dioxide to the permeation rate of methane gas.

【0037】表1および表2に、上述した方法に従って
製造した気体分離膜の性能を示す。このときの加熱処理
の温度設定は、以下のようにして行った。即ち、加熱温
度気体を100、200、300℃(赤外線照射の温度
条件は、200℃に固定:表1)に設定し、赤外線照射
による温度を100、200、300℃(加熱気体温度
条件は、200℃に固定:表2)に設定した。なお、赤
外線照射による塗布層の表面温度は、赤外放射温度計に
よって測定した。
Tables 1 and 2 show the performance of the gas separation membrane produced according to the above-mentioned method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows. That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 300 ° C. (infrared irradiation temperature condition is fixed at 200 ° C .: Table 1), and the temperature by infrared irradiation is 100, 200, 300 ° C. (heating gas temperature condition is: Fixed at 200 ° C .: set to Table 2). The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured with an infrared radiation thermometer.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】比較例1は、大矢等、膜、vol.13
(3)、p165〜170(1988)のポリエーテル
スルホンを使用した非対称気体分離膜の性能値である。
大矢等は、ポリエーテルスルホン20重量%、153.
0℃の沸点を有するジメチルホルムアミド80重量%の
製膜用原液を使用しており、添加剤は加えておらず、凝
固溶液としては水を使用している。また、加熱処理は、
製膜後、90℃の雰囲気に5分間静置することによって
行っている。
In Comparative Example 1, Oya et al., Membrane, vol. Thirteen
(3) is a performance value of the asymmetric gas separation membrane using the polyether sulfone of p165-170 (1988).
Oya et al., Polyethersulfone 20% by weight, 153.
An undiluted solution for film formation of dimethylformamide having a boiling point of 0 ° C. of 80% by weight is used, no additive is added, and water is used as a coagulating solution. In addition, the heat treatment,
After film formation, the film is left to stand in an atmosphere of 90 ° C. for 5 minutes.

【0041】表1から明らかなように、気体温度300
℃、赤外線照射200℃の温度加熱条件製造した非対称
気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離性
能で2.7倍、二酸化炭素透過速度で1.3倍と良好な
結果を示すことが分かった。気体温度を100℃から2
00℃に上昇させると、分離係数は、2倍以上に増加し
た。しかし、300℃に上昇させても、分離係数の上昇
は認められなかった。これは、気体温度の上昇に伴い、
緻密層の形成が進行して、分離係数が増加したためと考
えられる。また、二酸化炭素の透過速度は、気体温度が
変化しても顕著な変化は認められなかった。
As is clear from Table 1, the gas temperature is 300
As for the gas separation performance of the produced asymmetric gas separation membrane, the separation performance was 2.7 times and the carbon dioxide permeation rate was 1.3 times better than those of Comparative Example 1. Turned out to show. Gas temperature from 100 ℃ to 2
When the temperature was raised to 00 ° C, the separation factor increased more than twice. However, even if the temperature was raised to 300 ° C, the separation coefficient was not increased. This is because the gas temperature rises,
It is considered that the formation of the dense layer progressed and the separation coefficient increased. The carbon dioxide permeation rate did not change significantly even when the gas temperature changed.

【0042】表2から明らかなように、気体温度200
℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件製造した非対称
気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離性
能で4.3倍、二酸化炭素透過速度で3.0倍と良好な
結果を示すことが分かった。特に、分離係数において
は、ポリエーテルスルホンの理想的な分離係数である4
0と同等な結果を示した。赤外線照射による温度条件が
高くなることによって、分離係数は増加した。これは、
赤外線による加熱温度の上昇に伴い、緻密層形成が進行
して、分離係数が増加したためと考えられる。また、二
酸化炭素の透過速度は、気体温度が変化しても顕著な変
化は認められなかった。
As is clear from Table 2, the gas temperature of 200
As for the gas separation performance of the produced asymmetric gas separation membrane, the separation performance was 4.3 times and the carbon dioxide permeation rate was 3.0 times better than those of Comparative Example 1. Turned out to show. In particular, in terms of separation factor, it is the ideal separation factor of polyethersulfone 4
The result was equivalent to 0. The separation factor increased with increasing temperature condition by infrared irradiation. this is,
It is considered that the dense layer formation progressed as the heating temperature by infrared rays increased, and the separation coefficient increased. The carbon dioxide permeation rate did not change significantly even when the gas temperature changed.

【0043】実施例2 実施例1におけると同様のポリエーテルスルホン30重
量%を、主溶剤としてジメチルスルホキシド35重量
%、添加剤としてメチルエチルケトン35重量%からな
る混合溶液に均一に溶解させて、製膜用原液を調製し
た。この組成は、ポリエーテルスルホンの重量に対し
て、なるべく少量の主溶剤、なるべく多量の添加剤とな
る組合せである。また、主溶剤と添加剤との沸点差は、
110.0℃であった。以下、実施例1におけると同様
に製膜し、膜性能試験を行った。
Example 2 30% by weight of the same polyether sulfone as in Example 1 was uniformly dissolved in a mixed solution of 35% by weight of dimethyl sulfoxide as a main solvent and 35% by weight of methyl ethyl ketone as an additive to form a film. An undiluted solution was prepared. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. Also, the boiling point difference between the main solvent and the additive,
It was 110.0 ° C. Thereafter, a film was formed in the same manner as in Example 1 and a film performance test was conducted.

【0044】表3および表4に、上述した方法によって
製造した非対称気体分離膜の性能値を示す。このときの
加熱処理の温度設定は、以下のようにして行った。即
ち、加熱温度気体を100、200、250℃(赤外線
照射の温度条件は、200℃に固定:表3)に設定し、
赤外線照射による温度を200、300℃(加熱気体温
度条件は、200℃に固定:表4)に設定した。なお、
赤外線照射による塗布層の表面温度は、赤外放射温度計
によって測定した。
Tables 3 and 4 show performance values of the asymmetric gas separation membranes produced by the above method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows. That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 250 ° C. (infrared irradiation temperature condition is fixed at 200 ° C .: Table 3),
The temperature by infrared irradiation was set to 200 and 300 ° C. (heating gas temperature condition fixed at 200 ° C .: Table 4). In addition,
The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured by an infrared radiation thermometer.

【0045】[0045]

【表3】 [Table 3]

【0046】[0046]

【表4】 [Table 4]

【0047】表3から明らかなように、気体温度250
℃、赤外線照射200℃の温度加熱条件で製造した非対
称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離
性能で3.2倍、二酸化炭素透過速度で8.6倍と良好
な結果を示すことが分かった。気体温度を100℃から
200℃に上昇させると分離係数は増加し、250℃に
上昇させると、分離係数は、更に増加して30.0を示
した。これは、気体温度の上昇に伴い、緻密層の形成が
進行して、分離係数が増加したためと考えられる。ま
た、二酸化炭素の透過速度は、気体温度の上昇に伴って
減少する傾向が見られた。これは、緻密層の厚みが徐々
に厚くなっていき、気体の透過抵抗が大きくなったため
と考えれる。
As is apparent from Table 3, the gas temperature is 250
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane produced under the temperature heating conditions of 200 ° C. and infrared irradiation of 200 ° C. was 3.2 times in separation performance and 8.6 times in carbon dioxide permeation rate as compared with Comparative Example 1. Was found to show. When the gas temperature was raised from 100 ° C. to 200 ° C., the separation coefficient increased, and when the gas temperature was raised to 250 ° C., the separation coefficient further increased to 30.0. It is considered that this is because the formation of the dense layer progressed as the gas temperature increased and the separation coefficient increased. Moreover, the permeation rate of carbon dioxide tended to decrease as the gas temperature increased. It is considered that this is because the dense layer was gradually thickened and the gas permeation resistance was increased.

【0048】表4から明らかなように、気体温度200
℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件製造した非対称
気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離性
能で2.2倍、二酸化炭素透過速度で12.9倍と良好
な結果を示すことが分かった。赤外線照射による温度が
200℃から300℃に高くなっても、分離係数は、ほ
ぼ20のままでそれ以上は増加しなかった。また、二酸
化炭素透過速度は、200から300℃になることによ
って若干の減少傾向がみられた。
As is clear from Table 4, the gas temperature is 200
As for the gas separation performance of the produced asymmetric gas separation membrane, the separation performance was 2.2 times and the carbon dioxide permeation rate was 12.9 times better than those of Comparative Example 1. Turned out to show. Even when the temperature by infrared irradiation increased from 200 ° C. to 300 ° C., the separation coefficient remained at about 20 and did not increase any further. In addition, the carbon dioxide permeation rate showed a slight tendency to decrease as the temperature increased from 200 to 300 ° C.

【0049】実施例3 実施例1におけると同様のポリエーテルスルホン30重
量%を、主溶剤としてテトラメチル尿素35重量%、添
加剤としてアセトン35重量%からなる混合溶液に均一
に溶解させて、製膜用原液を調製した。この組成は、ポ
リエーテルスルホンの重量に対して、なるべく少量の主
溶剤、なるべく多量の添加剤となる組合せである。ま
た、主溶剤と添加剤との沸点差は、121.4℃であっ
た。以下、実施例1におけると同様に製膜し、膜性能試
験を行った。
Example 3 30% by weight of the same polyether sulfone as in Example 1 was uniformly dissolved in a mixed solution of 35% by weight of tetramethylurea as a main solvent and 35% by weight of acetone as an additive to prepare a mixture. A stock solution for the membrane was prepared. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. The boiling point difference between the main solvent and the additive was 121.4 ° C. Thereafter, a film was formed in the same manner as in Example 1 and a film performance test was conducted.

【0050】表5および表6に、上述した方法によって
製造した非対称気体分離膜の性能値を示す。このときの
加熱処理の温度設定は、以下のようにして行った。即
ち、加熱温度気体を100、200、250℃(赤外線
照射の温度条件は、200℃に固定:表5)に設定し、
赤外線照射による温度を200、300℃(加熱気体温
度条件は、200℃に固定:表6)に設定した。なお、
赤外線照射による塗布層の表面温度は、赤外放射温度計
によって測定した。
Tables 5 and 6 show performance values of the asymmetric gas separation membrane produced by the above method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows. That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 250 ° C. (the temperature condition of infrared irradiation is fixed at 200 ° C .: Table 5),
The temperature by infrared irradiation was set to 200 and 300 ° C. (heating gas temperature condition fixed at 200 ° C .: Table 6). In addition,
The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured by an infrared radiation thermometer.

【0051】[0051]

【表5】 [Table 5]

【0052】[0052]

【表6】 [Table 6]

【0053】表5から明らかなように、気体温度250
℃、赤外線照射200℃の温度加熱条件で製造した非対
称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離
性能で4.6倍、二酸化炭素透過速度で2.1倍と良好
な結果を示すことが分かった。特に、分離係数において
は、ポリエーテルスルホンの理想的な分離係数である4
0と同等な結果を示した。気体温度を100℃から20
0℃に上昇させても分離係数はほとんど増加しなかった
が、250℃に上昇させると、分離係数は急激に増加し
た。これは、気体温度が200℃以上になると急激に緻
密層の形成が進行したためと考えられる。また、二酸化
炭素の透過速度は、分離係数の増加に呼応して急速に減
少する傾向が見られた。
As is clear from Table 5, the gas temperature is 250
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane manufactured under the temperature heating conditions of 200 ° C. and infrared irradiation of 200 ° C. is 4.6 times as good as that of Comparative Example 1 and 2.1 times as high as the carbon dioxide permeation rate. Was found to show. In particular, in terms of separation factor, it is the ideal separation factor of polyethersulfone 4
The result was equivalent to 0. Gas temperature from 100 ℃ to 20
When the temperature was raised to 0 ° C, the separation coefficient hardly increased, but when the temperature was raised to 250 ° C, the separation coefficient increased sharply. It is considered that this is because the formation of the dense layer rapidly progressed when the gas temperature became 200 ° C. or higher. The carbon dioxide permeation rate tended to decrease rapidly in response to an increase in the separation coefficient.

【0054】表6から明らかなように、気体温度200
℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件で製造した非対
称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離
性能で2.0倍、二酸化炭素透過速度で13.5と良好
な結果を示すことが分かった。赤外線照射による温度条
件が200℃から300℃に高くなっても、分離係数、
二酸化炭素透過速度に顕著な変化は見られなかった。
As is clear from Table 6, the gas temperature is 200
As for the gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane manufactured under the temperature heating conditions of 300 ° C. and infrared irradiation of 300 ° C., the separation performance was 2.0 times that of Comparative Example 1 and the carbon dioxide permeation rate was 13.5, which was excellent results. Turned out to show. Even if the temperature condition by infrared irradiation rises from 200 ℃ to 300 ℃, the separation coefficient,
No significant change was observed in the carbon dioxide permeation rate.

【0055】実施例4 実施例1におけると同様のポリエーテルスルホン30重
量%を、主溶剤としてテトラメチル尿素35重量%、添
加剤としてメチルエチルケトン35重量%からなる混合
溶液に均一に溶解させて、製膜用原液を調製した。この
組成は、ポリエーテルスルホンの重量に対して、なるべ
く少量の主溶剤、なるべく多量の添加剤となる組合せで
ある。また、主溶剤と添加剤との沸点差は、98.5℃
であった。以下、実施例1におけると同様に製膜し、膜
性能試験を行った。
Example 4 30% by weight of the same polyether sulfone as in Example 1 was homogeneously dissolved in a mixed solution of 35% by weight of tetramethylurea as a main solvent and 35% by weight of methyl ethyl ketone as an additive to prepare a mixture. A stock solution for the membrane was prepared. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. The boiling point difference between the main solvent and the additive is 98.5 ° C.
Met. Thereafter, a film was formed in the same manner as in Example 1 and a film performance test was conducted.

【0056】表7および表8に、上述した方法によって
製造した非対称気体分離膜の性能値を示す。このときの
加熱処理の温度設定は、以下のようにして行った。即
ち、加熱温度気体を100、200、300℃(赤外線
照射の温度条件は、200℃に固定:表7)に設定し、
赤外線照射による温度を100、200、300℃(加
熱気体温度条件は、200℃に固定:表8)に設定し
た。なお、赤外線照射による塗布層の表面温度は、赤外
放射温度計によって測定した。
Tables 7 and 8 show performance values of the asymmetric gas separation membranes produced by the above method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows. That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 300 ° C. (infrared irradiation temperature condition is fixed at 200 ° C .: Table 7),
The temperature by infrared irradiation was set to 100, 200, 300 ° C. (heating gas temperature condition fixed at 200 ° C .: Table 8). The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured with an infrared radiation thermometer.

【0057】[0057]

【表7】 [Table 7]

【0058】[0058]

【表8】 [Table 8]

【0059】表7から明らかなように、気体温度250
℃、赤外線照射200℃の温度加熱条件で製造した非対
称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離
性能で2.8倍、二酸化炭素透過速度で28.4倍と良
好な結果を示すことが分かった。気体温度を100℃か
ら200℃に上昇させると分離係数は増加したが、30
0℃に上昇させても、それ以上の顕著な増加傾向は見ら
れなかった。これは、気体温度が200℃までの条件で
ほぼ緻密層の形成が終了したためと考えられる。また、
二酸化炭素透過速度も、分離係数の挙動と同様に気体温
度が200℃以上では顕著な減少は見られなかった。
As is apparent from Table 7, the gas temperature is 250
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane produced under the temperature heating conditions of 200 ° C. and infrared irradiation of 200 ° C. was 2.8 times as high as the separation performance and 28.4 times as high as the carbon dioxide permeation rate as compared with Comparative Example 1. Was found to show. When the gas temperature was raised from 100 ° C to 200 ° C, the separation factor increased, but
Even if the temperature was raised to 0 ° C, no further remarkable increase tendency was observed. It is considered that this is because the formation of the dense layer was almost completed under the gas temperature up to 200 ° C. Also,
The carbon dioxide permeation rate did not decrease significantly when the gas temperature was 200 ° C. or higher, like the behavior of the separation coefficient.

【0060】表8から明らかなように、気体温度200
℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件で製造した非対
称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分離
性能で3.2倍、二酸化炭素透過速度で30.4と良好
な結果を示すことが分かった。赤外線照射による温度条
件が200℃から300℃に高くなっても、分離係数に
顕著な増加は見られなかった。また、二酸化炭素透過速
度は、100℃から200℃では減少傾向が見られた
が、200℃から300℃では顕著な変化は見られなか
った。
As is clear from Table 8, the gas temperature of 200
As for the gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane produced under the temperature heating conditions of 300 ° C. and infrared irradiation of 300 ° C., the separation performance was 3.2 times that of Comparative Example 1 and the carbon dioxide permeation rate was 30.4. Turned out to show. No significant increase in the separation coefficient was observed even when the temperature condition by infrared irradiation increased from 200 ° C to 300 ° C. Further, the carbon dioxide permeation rate tended to decrease from 100 ° C to 200 ° C, but no significant change was observed from 200 ° C to 300 ° C.

【0061】実施例5 実施例1におけると同様のポリエーテルスルホン30重
量%を、主溶剤としてジメチルアセトアミド35重量
%、添加剤としてアセトン35重量%からなる混合溶液
に均一に溶解させて、製膜用原液を調製した。この組成
は、ポリエーテルスルホンの重量に対して、なるべく少
量の主溶剤、なるべく多量の添加剤となる組合せであ
る。また、主溶剤と添加剤との沸点差は、109.4℃
であった。以下、実施例1におけると同様に製膜し、膜
性能試験を行った。
Example 5 30% by weight of the same polyether sulfone as in Example 1 was uniformly dissolved in a mixed solution of 35% by weight of dimethylacetamide as a main solvent and 35% by weight of acetone as an additive to form a film. An undiluted solution was prepared. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. Also, the boiling point difference between the main solvent and the additive is 109.4 ° C.
Met. Thereafter, a film was formed in the same manner as in Example 1 and a film performance test was conducted.

【0062】表9および表10に、上述した方法によっ
て製造した非対称気体分離膜の性能値を示す。このとき
の加熱処理の温度設定は、以下のようにして行った。即
ち、加熱温度気体を100、200、250℃(赤外線
照射の温度条件は、200℃に固定:表9)に設定し、
赤外線照射による温度を200、300℃(加熱気体温
度条件は、200℃に固定:表10)に設定した。な
お、赤外線照射による塗布層の表面温度は、赤外放射温
度計によって測定した。
Tables 9 and 10 show performance values of the asymmetric gas separation membranes produced by the above method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows. That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 250 ° C. (the temperature condition of infrared irradiation is fixed at 200 ° C .: Table 9),
The temperature by infrared irradiation was set to 200 and 300 ° C. (heating gas temperature condition fixed at 200 ° C .: Table 10). The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured with an infrared radiation thermometer.

【0063】[0063]

【表9】 [Table 9]

【0064】[0064]

【表10】 表9から明らかなように、気体温度250℃、赤外線照
射200℃の温度加熱条件で製造した非対称気体分離膜
の気体分離性能は、比較例1に比べて分離性能で2.5
倍、二酸化炭素透過速度で10.8倍と良好な結果を示
すことが分かった。気体温度を100℃から200℃、
更に300℃に上昇させると、分離係数は徐々に増加す
る傾向が見られた。これは、気体温度の上昇に伴って、
緻密層の形成が進行して分離係数が増加したためと考え
られる。また、二酸化炭素透過速度は、気体温度の上昇
に伴って徐々に減少する傾向が見られた。これは、緻密
層の厚みが徐々に厚くなっていき、気体の透過抵抗が大
きくなったためと考えられる。
[Table 10] As is clear from Table 9, the gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane manufactured under the temperature heating conditions of the gas temperature of 250 ° C. and the infrared irradiation of 200 ° C. was 2.5 in the separation performance as compared with Comparative Example 1.
It was found that good results were obtained with a carbon dioxide permeation rate of 10.8 times. The gas temperature is 100 ° C to 200 ° C,
When the temperature was further increased to 300 ° C, the separation coefficient tended to gradually increase. This is due to the increase in gas temperature,
It is considered that the formation of the dense layer progressed and the separation coefficient increased. In addition, the carbon dioxide permeation rate tended to gradually decrease with increasing gas temperature. It is considered that this is because the dense layer was gradually thickened and the gas permeation resistance was increased.

【0065】表10から明らかなように、気体温度20
0℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件で製造した非
対称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分
離性能で1.3倍、二酸化炭素透過速度で14.4と良
好な結果を示すことが分かった。赤外線照射による温度
条件が200℃から300℃に高くなると、分離係数お
よび二酸化炭素透過速度は、共に若干の減少傾向が見ら
れた。
As is clear from Table 10, the gas temperature is 20
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane manufactured under the temperature heating conditions of 0 ° C. and infrared irradiation of 300 ° C. was 1.3 times as high as that of Comparative Example 1, and the carbon dioxide permeation rate was 14.4, which is a good result. Was found to show. When the temperature condition by infrared irradiation increased from 200 ° C. to 300 ° C., both the separation coefficient and the carbon dioxide permeation rate tended to decrease slightly.

【0066】実施例6 実施例1におけると同様のポリエーテルスルホン30重
量%を、主溶剤としてジメチルアセトアミド35重量
%、添加剤としてメチルエチルケトン35重量%からな
る混合溶液に均一に溶解させて、製膜用原液を調製し
た。この組成は、ポリエーテルスルホンの重量に対し
て、なるべく少量の主溶剤、なるべく多量の添加剤とな
る組合せである。また、主溶剤と添加剤との沸点差は、
86.5℃であった。以下、実施例1におけると同様に
製膜し、膜性能試験を行った。
Example 6 30% by weight of the same polyether sulfone as in Example 1 was uniformly dissolved in a mixed solution of 35% by weight of dimethylacetamide as a main solvent and 35% by weight of methyl ethyl ketone as an additive to form a film. An undiluted solution was prepared. This composition is a combination in which the main solvent is as small as possible and the additive is as large as possible, based on the weight of the polyether sulfone. Also, the boiling point difference between the main solvent and the additive,
It was 86.5 ° C. Thereafter, a film was formed in the same manner as in Example 1 and a film performance test was conducted.

【0067】表11および表12に、上述した方法によ
って製造した非対称気体分離膜の性能値を示す。このと
きの加熱処理の温度設定は、以下のようにして行った。
即ち、加熱温度気体を100、200、250℃(赤外
線照射の温度条件は、200℃に固定:表11)に設定
し、赤外線照射による温度を200、300℃(加熱気
体温度条件は、200℃に固定:表12)に設定した。
なお、赤外線照射による塗布層の表面温度は、赤外放射
温度計によって測定した。
Tables 11 and 12 show performance values of the asymmetric gas separation membranes produced by the above method. The temperature of the heat treatment at this time was set as follows.
That is, the heating temperature gas is set to 100, 200, 250 ° C. (infrared irradiation temperature condition is fixed at 200 ° C .: Table 11), and the temperature by infrared irradiation is 200, 300 ° C. (heating gas temperature condition is 200 ° C. Fixed to: set to Table 12).
The surface temperature of the coating layer by infrared irradiation was measured with an infrared radiation thermometer.

【0068】[0068]

【表11】 [Table 11]

【0069】[0069]

【表12】 [Table 12]

【0070】表11から明らかなように、気体温度25
0℃、赤外線照射200℃の温度加熱条件で製造した非
対称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分
離性能で1.9倍、二酸化炭素透過速度で55.8倍と
良好な結果を示すことが分かった。気体温度を100℃
から200℃に上昇させると、分離係数は徐々に増加
し、その後、200℃、250℃では顕著な変化は見ら
れなかった。これは、気体温度が100℃から200℃
まで徐々に緻密層の形成が進行し、200℃以上では、
ほとんど変化がなかったためと考えられる。また、二酸
化炭素透過速度も同様に、気体温度が100℃から20
0℃に上昇したときに徐々に減少し、その後は、ほとん
ど変化が見られなかった。
As is clear from Table 11, the gas temperature is 25
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane manufactured under the temperature heating conditions of 0 ° C. and infrared irradiation of 200 ° C. is 1.9 times as good as that of Comparative Example 1 in terms of separation performance and 55.8 times as high as carbon dioxide permeation rate. It turned out to show a result. Gas temperature 100 ℃
, The separation factor gradually increased, and thereafter, at 200 ° C. and 250 ° C., no significant change was observed. This is because the gas temperature is 100 ℃ to 200 ℃
The formation of the dense layer gradually progresses to
This is probably because there was almost no change. In addition, the carbon dioxide permeation rate is similarly the gas temperature from 100 ℃ to 20
It gradually decreased when the temperature increased to 0 ° C., and thereafter, hardly changed.

【0071】表12から明らかなように、気体温度20
0℃、赤外線照射300℃の温度加熱条件で製造した非
対称気体分離膜の気体分離性能は、比較例1に比べて分
離性能で3.1倍、二酸化炭素透過速度で24.2と良
好な結果を示すことが分かった。赤外線照射による加熱
温度が200℃から300℃に高くなると、分離係数は
上昇し、二酸化炭素透過速度は、若干の減少傾向が見ら
れた。
As is clear from Table 12, the gas temperature is 20
The gas separation performance of the asymmetric gas separation membrane produced under the temperature heating conditions of 0 ° C. and infrared irradiation of 300 ° C. was 3.1 times that of Comparative Example 1 in terms of separation performance and 24.2 in terms of carbon dioxide permeation rate. Was found to show. When the heating temperature by infrared irradiation increased from 200 ° C. to 300 ° C., the separation coefficient increased, and the carbon dioxide permeation rate tended to decrease slightly.

【0072】以上の実施例1から6の結果から、加熱気
体の吹付けおよび赤外線照射によるの加熱温度が共に上
昇することによって、分離係数が増加する傾向を示し、
逆に、二酸化炭素透過速度は減少する傾向が見られた。
これは、加熱処理が緻密層の形成を促す効果を有してい
るためである。
From the results of Examples 1 to 6 described above, it is shown that the separation coefficient tends to increase as the heating temperature by spraying the heating gas and the heating temperature by infrared irradiation both increase.
On the contrary, the carbon dioxide permeation rate tended to decrease.
This is because the heat treatment has the effect of promoting the formation of a dense layer.

【0073】図2は、上述した実施例1および4に示し
た膜のなかで、加熱気体温度200℃、赤外線照射温度
300℃の加熱条件のもとで製造した膜に関して、高圧
下での分離係数の性能について示したグラフであり、図
3は、同様の膜に関して、二酸化炭素透過速度の性能に
ついて示したグラフである。比較例2は、酢酸セルロー
ス膜について評価したものである。比較例3および4
は、1993年に開催されたInternational Congress o
n Membrane and Membrane Processes において、IWAKAM
I が”CO2 Removal,Field Test Using Cellulose Aseta
te and PolyimideMembrane" と題するテーマ名で発表し
た、ポリイミド、酢酸セルロースの高圧の天然ガス分離
を実施した際の分離係数値である。
FIG. 2 shows the separation of the membranes shown in Examples 1 and 4 under high pressure with respect to the membranes produced under the heating conditions of a heating gas temperature of 200 ° C. and an infrared irradiation temperature of 300 ° C. FIG. 4 is a graph showing coefficient performance, and FIG. 3 is a graph showing carbon dioxide permeation rate performance for similar membranes. Comparative Example 2 is an evaluation of a cellulose acetate membrane. Comparative Examples 3 and 4
Is the International Congress o held in 1993
IWAKAM at n Membrane and Membrane Processes
I got “CO 2 Removal, Field Test Using Cellulose Aseta
This is the separation factor value for high-pressure natural gas separation of polyimide and cellulose acetate, which was announced under the theme name "te and PolyimideMembrane".

【0074】図2および図3から明らかなように、酢酸
セルロース、ポリイミドの分離係数に対して、この発明
のポリエーテルスルホンの気体分離膜は、高圧操作でも
高い分離係数を維持しており、透過速度に関しては、む
しろ上昇している。従って、この発明によって製造した
気体分離膜は、高圧の天然ガスからの炭酸ガス分離に極
めて有効であることがわかった。
As is clear from FIGS. 2 and 3, the polyethersulfone gas separation membrane of the present invention maintains a high separation coefficient even under high-pressure operation as compared with the separation coefficients of cellulose acetate and polyimide. In terms of speed, it is rather rising. Therefore, it was found that the gas separation membrane produced according to the present invention is extremely effective in separating carbon dioxide from high pressure natural gas.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、オゾン層破壊等の環境に悪影響を及ぼし、工業的に
使用することができないハロゲン化炭化水素溶剤に代わ
る主溶剤の使用、主溶剤より沸点が低い添加剤の使用、
加熱気体の吹付けおよび赤外線照射の併用による加熱処
理の実施により、分離係数、気体透過速度の良好な非対
称気体分離膜を得ることが可能となり、更に、高圧下の
天然ガス中からの二酸化炭素分離が可能となる等、工業
上有用な効果がもたらされる。
As described above, according to the present invention, the use of a main solvent which replaces a halogenated hydrocarbon solvent which has a bad influence on the environment such as ozone depletion and cannot be used industrially, and a main solvent. Use of additives with lower boiling points,
By carrying out heat treatment by spraying heated gas and using infrared irradiation together, it is possible to obtain an asymmetric gas separation membrane with a good separation coefficient and gas permeation rate, and also to separate carbon dioxide from natural gas under high pressure. It is possible to obtain industrially useful effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】連続製膜装置を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing a continuous film forming apparatus.

【図2】分離係数と操作圧力との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the separation coefficient and the operating pressure.

【図3】透過係数と操作圧力との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a permeability coefficient and an operating pressure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:繰出しローラ、 2:不織布、 3:原液塗布手段、 4:製膜用原液、 5:加熱用気体吹付け手段、 6:ヒータ− 7:整流器、 8:赤外線加熱ヒーター、 9:タンク、 10:凝固溶液、 11:巻取りローラ。 1: Feeding roller, 2: Nonwoven fabric, 3: Undiluted solution applying means, 4: Undiluted solution for film formation, 5: Gas blowing means for heating, 6: Heater-7: Rectifier, 8: Infrared heating heater, 9: Tank, 10 : Coagulation solution, 11: winding roller.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 高志 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takashi Ogawa 1-2-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Steel Pipe Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリエーテルスルホンを溶解し、且つ、
凝固溶液としての水に対して相溶性を有する主溶剤と、
ポリエーテルスルホンを実質的に溶解せず、且つ、前記
主溶剤および前記凝固溶液としての水に対して相溶性を
有する添加剤とからなる溶剤系に、ポリエーテルスルホ
ンを溶解させて製膜用原液を調製し、このようにして調
製した製膜用原液を、支持基材に塗布して、前記支持基
材上に前記原液の塗布層を形成し、次いで、前記塗布層
の表面に100から300℃の範囲内の温度の加熱気体
を吹き付け、次いで、前記塗布層の表面に赤外線を照射
し、次いで、前記塗布層を前記支持基材と共に前記凝固
溶液としての水に浸漬し、かくして、前記支持基材上に
前記ポリエーテルスルホンの薄膜を形成することを特徴
とする、気体分離膜の製造方法。
1. A polyether sulfone is dissolved, and
A main solvent having compatibility with water as a coagulating solution,
A stock solution for film formation by dissolving polyether sulfone in a solvent system which does not substantially dissolve polyether sulfone and which is composed of the main solvent and an additive having compatibility with water as the coagulating solution. Is prepared, and the stock solution for film formation thus prepared is applied to a supporting base material to form a coating layer of the stock solution on the supporting base material, and then 100 to 300 is applied to the surface of the coating layer. Blow a heated gas at a temperature in the range of ° C., then irradiate the surface of the coating layer with infrared rays, then immerse the coating layer together with the supporting substrate in water as the coagulating solution, thus supporting A method for producing a gas separation membrane, comprising forming a thin film of the polyether sulfone on a base material.
【請求項2】 前記主溶剤は、ジメチルスルホキシドか
らなり、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチル
エチルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つから
なっていることを特徴とする、請求項1記載の方法。
2. The method of claim 1, wherein the main solvent comprises dimethyl sulfoxide and the additive comprises at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone. .
【請求項3】 前記主溶剤は、テトラメチル尿素からな
り、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチルエチ
ルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つからなっ
ていることを特徴とする、請求項1記載の方法。
3. The main solvent according to claim 1, wherein the main solvent is tetramethyl urea, and the additive is at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone. Method.
【請求項4】 前記主溶剤は、ジメチルアセトアミドか
らなり、そして、前記添加剤は、アセトンおよびメチル
エチルケトンからなる群から選んだ少なくとも1つから
なっていることを特徴とする、請求項1記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein the main solvent comprises dimethylacetamide, and the additive comprises at least one selected from the group consisting of acetone and methyl ethyl ketone. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1029910A1 (en) * 1999-02-19 2000-08-23 ENI S.p.A. Process for the removal of nitrogen contained in natural gas
CN104619402A (en) * 2012-09-28 2015-05-13 富士胶片株式会社 Complex for carbon dioxide separation, module for carbon dioxide separation, method for producing complex for carbon dioxide separation
CN105387683A (en) * 2015-12-21 2016-03-09 刘印同 Method and device for efficiently liquefying and recovering natural gas

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CN104619402B (en) * 2012-09-28 2016-08-17 富士胶片株式会社 Carbon dioxide separation complex, carbon dioxide separation assembly and the manufacture method of carbon dioxide separation complex
CN105387683A (en) * 2015-12-21 2016-03-09 刘印同 Method and device for efficiently liquefying and recovering natural gas

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