JPH0875904A - Low reflection laminated film, polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents

Low reflection laminated film, polarizing plate and liquid crystal display device

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JPH0875904A
JPH0875904A JP7136637A JP13663795A JPH0875904A JP H0875904 A JPH0875904 A JP H0875904A JP 7136637 A JP7136637 A JP 7136637A JP 13663795 A JP13663795 A JP 13663795A JP H0875904 A JPH0875904 A JP H0875904A
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JP
Japan
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layer
refractive index
low
film
index layer
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Application number
JP7136637A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuichiro Kin
辰一郎 金
Toru Takemura
徹 竹村
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To provide a low reflection laminated body film having excellent characteristics sufficiently durable for practical use which holding high productivity by forming a hard coating layer and an optical interference layer by wet film forming method, including respectively one or more layer of a specific high refractive index layer and low refractive index layer in the optical interference layer and arranging a specific polarizing plate. CONSTITUTION: The hard coating layer and the optical interference layer are formed by wet film forming method and the optical interference layer includes respectively one or more layer of the high refractive index layer and the low refractive index layer. One layer of the high refractive index layers uses a layers formed by applying a coating solution containing >=70% organic titanium compound and/or the oligomer expressed by formula 1 by solid matter weight ratio and drying by heating. For the low refractive index layers, one layer formed by applying a coating solution containing >=50% organic silicon compound expressed in terms of solid content and/or the carrier of the oligomer and/or the mixture expressed by formulas II-V and drying by heating is used. And for the polarizing plate, a surface protective plate composed of the low reflection laminated body film is used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、トリアセチルセルロー
スフィルムの少なくとも一方の面上に、ハードコート層
と光学干渉層とがこの順に積層されて成る低反射積層体
フィルムに関する。また本発明は、偏光子を2枚の表面
保護板によって挟持して構成した偏光板に関する。さら
にまた本発明は、液晶表示素子の少なくとも一方の側の
最表面上に偏光板を配置した液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low reflection laminate film in which a hard coat layer and an optical interference layer are laminated in this order on at least one surface of a triacetyl cellulose film. The present invention also relates to a polarizing plate constituted by sandwiching a polarizer between two surface protection plates. Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal display device in which a polarizing plate is arranged on the outermost surface of at least one side of a liquid crystal display element.

【0002】[0002]

【従来の技術】低反射積層体フィルムは、例えば偏光板
において偏光子の表面を保護する表面保護板や、液晶デ
ィスプレイ装置等の最表面等に設けられることによっ
て、空気との界面で発生する光の反射を減少し、前記機
器における光の透過率を高め、視認性を向上させる場合
等に利用される。
2. Description of the Related Art A low reflection laminated film is provided, for example, on a surface protective plate for protecting the surface of a polarizer in a polarizing plate, or on the outermost surface of a liquid crystal display device, etc. It is used to reduce the reflection of light, increase the light transmittance of the device, and improve the visibility.

【0003】こうした低反射積層体については、光学レ
ンズ等の分野を中心に、従来より数多くの提案がなされ
ており、光学干渉層として積層する層の屈折率と光学膜
厚が適当な値を有する事により、積層体と空気界面にお
ける光の反射を減少させる事が可能である。
Many proposals have been made for such a low reflection laminate mainly in the field of optical lenses and the like, and the refractive index and the optical film thickness of the layer laminated as an optical interference layer have appropriate values. By doing so, it is possible to reduce the reflection of light at the interface between the laminate and the air.

【0004】なおここで言う光学膜厚とは、層の屈折率
と膜厚との積により定義される量である。例えば、基板
面に高屈折率層、低屈折率層を順に積層した光学干渉層
を有し、波長λの光に対して高屈折率層および低屈折率
層の光学膜厚をλ/4と設定してなる低反射積層体がよ
く知られている。
The optical film thickness mentioned here is an amount defined by the product of the refractive index of the layer and the film thickness. For example, an optical interference layer in which a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are sequentially laminated is provided on the substrate surface, and the optical film thicknesses of the high-refractive index layer and the low-refractive index layer are λ / 4 with respect to light of wavelength λ. Low-reflection laminates made by setting are well known.

【0005】このような光学干渉層として積層される高
屈折率層、低屈折率層は、屈折率の安定制御の面から一
般には、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法等の乾式製膜方法が採られている。
The high-refractive index layer and the low-refractive index layer which are laminated as such an optical interference layer are generally manufactured by a dry method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method or the like from the viewpoint of stable control of the refractive index. Membrane method is adopted.

【0006】そして特に偏光板に関しては、偏光子の両
面を保護する表面保護板として一般にトリアセチルセル
ロースフィルムが用いられている。そして、トリアセチ
ルセルロースフィルムからなる表面保護板上に、ハード
コート層と数層の無機金属酸化膜層からなる光学干渉層
を積層されて作製された低反射偏光板が提案されてい
る。
In particular, with respect to a polarizing plate, a triacetyl cellulose film is generally used as a surface protective plate for protecting both sides of a polarizer. Then, a low reflection polarizing plate has been proposed in which a hard coat layer and an optical interference layer composed of several inorganic metal oxide film layers are laminated on a surface protective plate made of a triacetyl cellulose film.

【0007】こうした低反射偏光板は、単独に光学素子
として利用するほか、前述したように液晶表示装置へも
利用できる。すなわち偏光板を液晶表示素子の少なくと
も一方の表面に配置することによって、外光の映りこみ
を押え表示性能を向上させることができる。
Such a low-reflection polarizing plate can be used not only as an optical element but also as a liquid crystal display device as described above. That is, by disposing the polarizing plate on at least one surface of the liquid crystal display element, reflection of external light can be suppressed and display performance can be improved.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
もしくはプラスチックシートを基板とした低反射積層体
に関しては、プラスチックシートを基板とした低反射積
層体シートを乾式製膜法を用いて製造する技術が知られ
ている。そして、トリアセチルセルロースフィルムを基
板とした低反射積層体フィルムは、スパッタリング法等
の乾式製膜法を用いて製造を行った場合、良好な低反射
特性を得ることができる。
Regarding the low reflection laminate using a plastic film or a plastic sheet as a substrate, a technique for producing a low reflection laminate sheet using a plastic sheet as a substrate using a dry film forming method is known. ing. Then, the low reflection laminate film using the triacetyl cellulose film as a substrate can obtain good low reflection characteristics when manufactured by a dry film forming method such as a sputtering method.

【0009】しかしながら、乾式製膜法を用いて低反射
積層体フィルムの製造を行った場合、広幅のフィルムに
対しては必要レベルの膜厚均一性を確保しながら、高い
生産性を得ることは難しい。
However, when the low reflection laminate film is manufactured by using the dry film forming method, it is not possible to obtain high productivity while securing a required level of film thickness uniformity for a wide film. difficult.

【0010】従って、このような広幅のフィルムに対し
ても膜厚の均一性を確保しつつ、高い生産性を得るため
には、乾式製膜法以外の方法が必要となる。そして例え
ば、ロールコーター等を用いて連続的に液状の材料を塗
布し、熱乾燥により層形成を行う湿式製膜法を用いるこ
とにより、広幅のフィルムに対しても必要レベルの膜厚
均一性を確保しながら、高い生産性を得ることができ
る。
Therefore, a method other than the dry film forming method is required to obtain high productivity while ensuring the film thickness uniformity even for such a wide film. Then, for example, by using a wet film-forming method in which a liquid material is continuously applied using a roll coater or the like, and a layer is formed by heat drying, a required level of film thickness uniformity can be obtained even for a wide film. High productivity can be obtained while securing.

【0011】湿式製膜法を用いた低反射積層体の形成に
ついては、ガラスやプラスチック基板上に浸漬法、スピ
ンコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、液
除去コート法等を用いて低反射積層体を形成する技術が
知られている。しかしながら、これらの例に見られるよ
うに、従来、湿式製膜法を用いた低反射積層体の形成法
は、各層の形成において非常に長い乾燥時間が必要とさ
れるため、広幅のプラスチックフィルム基板に対して連
続的に低反射積層体の形成を行う場合には高い生産性を
得ることができなかった。
For forming a low reflection laminate using a wet film forming method, a low reflection is obtained by using a dipping method, a spin coating method, a spray coating method, a curtain coating method, a liquid removal coating method or the like on a glass or plastic substrate. Techniques for forming a laminate are known. However, as seen in these examples, the conventional method for forming a low-reflection laminate using a wet film-forming method requires a very long drying time in forming each layer, and thus a wide plastic film substrate is required. On the other hand, high productivity could not be obtained when the low reflection laminate was continuously formed.

【0012】また、広幅のプラスチックフィルム基板に
対し、湿式製膜法を用いて高い生産性を確保しつつ低反
射積層体を形成するために、各層の形成における乾燥時
間を短縮した場合、基板フィルムの耐熱性、機械特性等
により塗液の乾燥温度が制限されるために、低反射率化
のために必要な高屈折率層での高い屈折率の値と各層の
硬度、耐摩耗性等の機械的特性をすべて満足するものが
得られにくいという課題がある。
Further, in order to form a low reflection laminate on a wide plastic film substrate by using a wet film forming method while ensuring high productivity, when the drying time in forming each layer is shortened, the substrate film Since the drying temperature of the coating liquid is limited by the heat resistance and mechanical properties of the, the high refractive index value in the high refractive index layer necessary for low reflectance and the hardness, abrasion resistance, etc. of each layer There is a problem in that it is difficult to obtain one that satisfies all mechanical properties.

【0013】基板フィルムとしてトリアセチルセルロー
スフィルムを用いて、湿式製膜法により積層体を形成す
る場合においても同様に、該フィルムの特性により限定
される比較的低温の乾燥温度と、比較的短い乾燥温度に
おいても、低反射率化のために必要な高屈折率層での高
い屈折率の値と各層の硬度、耐摩耗性等の機械的特性を
すべて満足する低反射積層体を得ることが難しく、大き
な課題となっていた。
Similarly, when a laminate is formed by a wet film-forming method using a triacetyl cellulose film as a substrate film, a drying temperature of a relatively low temperature limited by the characteristics of the film and a drying time of a relatively short period are used. Even at temperature, it is difficult to obtain a low-reflection laminate that satisfies all the high refractive index values required for low reflectance and high mechanical properties such as hardness and wear resistance of each layer. , Was a big issue.

【0014】またそうした低反射積層体フイルムを用い
た偏光板や液晶表示装置でも、低コストに製造すること
が強く求められている。その際に、製造コストは低反射
積層体フィルムを生産する工程の生産性に大きく左右さ
れる。こうした点からも、高い生産性で優れた特性を有
する低反射積層体フィルムを製造することが大きな課題
となっていた。
Further, there is a strong demand for low cost production of a polarizing plate and a liquid crystal display device using such a low reflection laminate film. At that time, the manufacturing cost is greatly influenced by the productivity of the process for producing the low reflection laminate film. From these points as well, it has been a major problem to produce a low-reflection laminate film having high productivity and excellent characteristics.

【0015】本発明はかかる課題を解決して、基板フィ
ルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを用いて、
湿式製膜法により積層体を形成する場合において、比較
的低温の乾燥温度と比較的短い乾燥時間においても、低
反射率化のために必要な高屈折率層での高い屈折率の
値、各層の硬度、耐摩耗性等の機械的特性をすべて満足
する低反射積層体フイルムを得ることを目的とする。さ
らにはそうした低反射積層体フイルムを用いることで、
必要な特性を有する偏光板や液晶表示装置を、生産性良
く得ることを目的とする。
The present invention solves the above problems by using a triacetyl cellulose film as a substrate film,
When forming a laminate by a wet film-forming method, even if the drying temperature is relatively low and the drying time is relatively short, the high refractive index value in the high refractive index layer necessary for lowering the reflectance, each layer, It is an object of the present invention to obtain a low reflection laminated film which satisfies all the mechanical properties such as hardness and abrasion resistance. Furthermore, by using such a low reflection laminated film,
The purpose is to obtain a polarizing plate and a liquid crystal display device having necessary characteristics with high productivity.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の低反射積層体フ
ィルムは、トリアセチルセルロースフィルムの少なくと
も一方の面上に、ハードコート層と光学干渉層とをこの
順に積層した低反射積層体フィルムにおいて、ハードコ
ート層と光学干渉層は、湿式製膜法により形成された層
であって、光学干渉層は高屈折率層と低屈折率層とをそ
れぞれ一層以上含み、高屈折率層は少なくとも一層が、
次の一般式(1) Ti(OR1 4 ・・・(1) (但しR1 は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基を示す)
にて表される有機チタン化合物モノマーおよび/または
そのオリゴマーを、固形分重量比率で70%以上含有す
る塗液の塗布と熱乾燥によって形成した、屈折率が1.
65〜2.25の範囲内の層であり、さらに低屈折率層
は少なくとも一層が、次の一般式(2)〜(5) Si(OR2 4 ・・・(2) Si−X4 ・・・(3) R3 −Si(OR2 3 ・・・(4) R3 −Si−X3 ・・・(5) (但しR2 は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を、R3
はメチル基もしくはエチル基を、Xはハロゲン原子を示
す)のいずれかにて示される有機ケイ素化合物モノマー
および/またはそのオリゴマーの単体および/またはそ
れらの混合物を、固形分重量比率で50%以上含有する
塗液の塗布と熱乾燥によって形成した、屈折率が1.3
5〜1.55の範囲内の層であることを特徴としてい
る。
The low reflection laminate film of the present invention is a low reflection laminate film in which a hard coat layer and an optical interference layer are laminated in this order on at least one surface of a triacetyl cellulose film. The hard coat layer and the optical interference layer are layers formed by a wet film forming method, and the optical interference layer includes at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer, and the high refractive index layer is at least one layer. But,
The following general formula (1) Ti (OR 1 ) 4 (1) (wherein R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms)
The organic titanium compound monomer and / or oligomer thereof represented by the formula (1) is formed by applying a coating liquid containing 70% or more by weight of solid content and heat drying, and has a refractive index of 1.
65 to 2.25, and at least one layer of the low refractive index layer has the following general formulas (2) to (5) Si (OR 2 ) 4 (2) Si—X 4 ··· (3) R 3 -Si ( OR 2) 3 ··· (4) R 3 -Si-X 3 ··· (5) ( where R 2 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms To R 3
Represents a methyl group or an ethyl group, and X represents a halogen atom), and contains 50% or more by weight of the solid content of the organic silicon compound monomer and / or its oligomer alone and / or a mixture thereof. The refractive index formed by applying the coating liquid and heat drying is 1.3.
It is characterized in that it is a layer within the range of 5 to 1.55.

【0017】また本発明の偏光板は、偏光子を2枚の表
面保護板によって挟持して構成した偏光板において、少
なくとも一方の表面保護板として本発明の低反射積層体
フィルムを、偏光子と接していない面の側にハードコー
ト層と光学干渉層とを配置して構成したことを特徴とし
ている。
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate constituted by sandwiching a polarizer between two surface protection plates, and the low reflection laminate film of the present invention is used as a polarizer as at least one surface protection plate. It is characterized in that a hard coat layer and an optical interference layer are arranged on the side not in contact with each other.

【0018】さらにまた本発明の液晶表示装置は、液晶
表示素子の少なくとも一方の側の最表面上に、本発明の
偏光板を、低反射積層体フィルムからなる表面保護板を
最表面側にして配置したことを特徴としている。
Furthermore, in the liquid crystal display device of the present invention, the polarizing plate of the present invention is provided on the outermost surface of at least one side of the liquid crystal display element, and the surface protective plate made of a low reflection laminate film is provided on the outermost surface side. It is characterized by having been placed.

【0019】すなわち本発明の低反射積層体フイルムに
おいて、低反射性を得るための光学設計上からは、光学
干渉層中の高屈折率層は屈折率が1.65〜2.25の
範囲にあることが必要である。ところが前述のように、
基板であるトリアセチルセルロースフィルム特性により
熱乾燥温度が上限値を有する。そのため高屈折率層は、
必要な高い屈折率を有し、かつ層の硬度等の機械的特性
が良好であることが必要となる。
That is, in the low reflection laminate film of the present invention, the high refractive index layer in the optical interference layer has a refractive index in the range of 1.65 to 2.25 from the viewpoint of optical design for obtaining low reflectivity. It is necessary to be. However, as mentioned above,
The heat drying temperature has an upper limit due to the characteristics of the substrate, triacetyl cellulose film. Therefore, the high refractive index layer is
It must have the required high refractive index and have good mechanical properties such as the hardness of the layer.

【0020】そこで高屈折率層は少なくとも一層が、前
述の一般式(1)にて表される有機チタン化合物モノマ
ーおよび/またはそのオリゴマーを、固形分重量比率で
70%以上含有する塗液の塗布と熱乾燥によって形成し
た層を用いることが必要となる。
Therefore, at least one of the high refractive index layers is coated with a coating liquid containing the organotitanium compound monomer represented by the general formula (1) and / or its oligomer in an amount of 70% or more in terms of solid content weight ratio. It is necessary to use a layer formed by heat drying.

【0021】ここで塗液中に、一般式(1)にて表され
る有機チタン化合物モノマーおよび/またはそのオリゴ
マーが、固形分重量比率70%以上含まれていない場合
には、高屈折率層の屈折率は1.65以上の値を安定に
得ることが困難になり、多くの場合高屈折率層の屈折率
は1.65を下回る値を示すために光学設計上優れた低
反射性を得ることが難しくなってしまう。
Here, when the coating liquid does not contain the organic titanium compound monomer represented by the general formula (1) and / or its oligomer in a solid content weight ratio of 70% or more, the high refractive index layer. It becomes difficult to stably obtain a refractive index of 1.65 or more. In many cases, the refractive index of the high refractive index layer shows a value of less than 1.65. It's hard to get.

【0022】ところで、1.65以上の屈折率の値を有
する層としては、前記の有機チタン化合物を主成分にす
る層以外にも、例えば粒径10nm以下の酸化チタン、
酸化タンタル、酸化セリウム等の金属微粒子を主成分と
した層がある。しかしながら、前記の熱乾燥温度条件下
においては、高い屈折率の値を確保しながら、層の硬度
や接着性等の機械的特性をも十分に満足した層を得るこ
とは難しい。
Incidentally, as the layer having a refractive index value of 1.65 or more, in addition to the layer containing the organic titanium compound as a main component, for example, titanium oxide having a particle diameter of 10 nm or less,
There is a layer whose main component is metal fine particles such as tantalum oxide and cerium oxide. However, under the above-mentioned heat drying temperature conditions, it is difficult to obtain a layer that sufficiently satisfies mechanical properties such as hardness and adhesiveness while securing a high refractive index value.

【0023】また、有機ジルコニウム化合物を主成分に
した層では、層の硬度や接着性等の機械的特性は比較的
優れているものの、前記の熱乾燥温度条件下において
は、必要な高い屈折率の値を得ることは難しい。
Further, the layer containing an organic zirconium compound as a main component is relatively excellent in mechanical properties such as hardness and adhesiveness, but under the above heat drying temperature condition, a required high refractive index is obtained. Is difficult to obtain.

【0024】そして一般式(1)にて表される有機チタ
ン化合物の内、より好ましくはテトラ−i−プロポキシ
チタン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラキス(2
−エチルヘキソキシ)チタン等が用いられる。これらの
有機チタン化合物は、モノマー状態で用いても、あらか
じめ、モノマーを若干オリゴマー化して用いても、もし
くはモノマーとオリゴマーを混合して用いてもさしつか
えない。
Among the organotitanium compounds represented by the general formula (1), more preferably tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-butoxysilane and tetrakis (2
-Ethylhexoxy) titanium or the like is used. These organotitanium compounds may be used in the monomer state, may be used by slightly oligomerizing the monomer in advance, or may be used by mixing the monomer and the oligomer.

【0025】さらに本発明の低反射積層体フイルムにお
いて、低反射性を得るための光学設計上からは、光学干
渉層中の低屈折率層は屈折率が1.35〜1.55の範
囲にあることが必要である。また、低屈折率層は本発明
の低反射積層体フィルムにおいて最表面側に位置する場
合、特に層の硬度や耐摩耗性等の機械的特性に優れた特
性を有している必要がある。ところが前述のように、基
板であるトリアセチルセルロースフィルム特性により熱
乾燥温度が上限値を有する。そのため、必要な低い屈折
率を有し、かつ層の硬度等の機械的特性が良好な低屈折
率層が必要となる。
Further, in the low reflection laminate film of the present invention, the low refractive index layer in the optical interference layer has a refractive index in the range of 1.35 to 1.55 in terms of optical design for obtaining low reflectivity. It is necessary to be. Further, when the low refractive index layer is located on the outermost surface side in the low reflection laminate film of the present invention, it is necessary to have characteristics particularly excellent in mechanical characteristics such as hardness and abrasion resistance of the layer. However, as described above, the heat drying temperature has an upper limit value due to the characteristics of the triacetyl cellulose film that is the substrate. Therefore, a low refractive index layer having a required low refractive index and good mechanical properties such as hardness of the layer is required.

【0026】そこで低屈折率層としては少なくとも一層
が、前述の一般式(2)〜(5)のいずれかにて示され
る有機ケイ素化合物モノマーおよび/またはそのオリゴ
マーの単体および/またはそれらの混合物を、固形分重
量比率で50%以上含有する塗液の塗布と熱乾燥によっ
て形成した層を用いることが必要となる。
Therefore, at least one layer of the low refractive index layer is a single substance of an organosilicon compound monomer represented by any of the above-mentioned general formulas (2) to (5) and / or an oligomer thereof and / or a mixture thereof. It is necessary to use a layer formed by applying a coating liquid containing 50% or more by weight of solid content and heat drying.

【0027】前記塗液中に、一般式(2)〜(5)にて
表される有機ケイ素化合物モノマーおよび/またはその
オリゴマーを、固形分重量比率50%以上含まれていな
い場合には、低屈折率層の硬度や耐摩耗性等の機械的特
性が不十分になり、好ましくない。
When the coating liquid does not contain the organosilicon compound monomer represented by the general formulas (2) to (5) and / or the oligomer thereof in a solid content weight ratio of 50% or more, it is low. Mechanical properties such as hardness and abrasion resistance of the refractive index layer become insufficient, which is not preferable.

【0028】そして一般式(2)〜(5)にて示される
有機ケイ素化合物の内、より好ましくはテトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン等が用いられる。こ
れらの有機ケイ素化合物は、モノマー状態で用いても、
モノマーを若干オリゴマー化した状態で用いても、ある
いはモノマーとオリゴマーとを混合して用いてもさしつ
かえない。
Of the organosilicon compounds represented by the general formulas (2) to (5), more preferred are tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane and ethyl. Triethoxysilane or the like is used. Even if these organosilicon compounds are used in the monomer state,
The monomers may be used in a state of being slightly oligomerized, or the monomers and oligomers may be mixed and used.

【0029】又、前記の塗液は成分である有機ケイ素化
合物モノマー、オリゴマーの硬化促進の目的で各種の硬
化剤を含有しても良い。これらの硬化剤の例としては、
ほう酸、リン酸等の無機酸やシュウ酸、マロン酸、マレ
イン酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、
ヘキサフルオログルタル酸等のカルボン酸等が好ましく
用いられる。これらの硬化剤は前記有機ケイ素化合物等
の主成分に対しモル比0.05〜3の範囲で含有される
事が好ましい。
Further, the coating liquid may contain various curing agents for the purpose of accelerating the curing of the component organosilicon compound monomer or oligomer. Examples of these curing agents include:
Inorganic acids such as boric acid and phosphoric acid, oxalic acid, malonic acid, maleic acid, tartaric acid, citric acid, malic acid, glycolic acid,
Carboxylic acids such as hexafluoroglutaric acid are preferably used. These curing agents are preferably contained in a molar ratio of 0.05 to 3 with respect to the main component such as the organosilicon compound.

【0030】又、前記塗液が低反射積層体最表面の低屈
折率層形成に用いられる場合に於いて、塗液に各種レベ
リング剤、界面活性剤、シリコンオイル等の低表面張力
物質を添加する事が好ましく行われる。これらの成分は
塗膜の撥水、撥油性を高める効果を有し、ひいては低反
射積層体フィルム表面の防汚染性を高める効果を有す
る。これらの成分は前記の効果発現と塗膜の機械的強度
とのバランス上から、塗液の固形分成分に対し0.01
〜1重量%の範囲で添加する事が好ましい。
When the coating liquid is used for forming the low refractive index layer on the outermost surface of the low reflection laminate, various leveling agents, surfactants, low surface tension substances such as silicone oil are added to the coating liquid. This is preferably done. These components have the effect of enhancing the water repellency and oil repellency of the coating film, and by extension have the effect of enhancing the stain resistance of the surface of the low reflection laminate film. From the viewpoint of the balance between the above-mentioned effect expression and the mechanical strength of the coating film, these components are added in an amount of 0.01 relative to the solid content component of the coating liquid.
It is preferable to add it in the range of ˜1 wt%.

【0031】ところで、高屈折率層用の有機チタン化合
物を主成分とする塗液に対して、次の一般式(6)〜
(7) R4 −Si(OR2 3 ・・・(6) (ただし、R2 は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を、
4 はエポキシ基、アミノ基、メタクリル基、ビニル基
のいずれかを含む有機基を、R3 はメチル基もしくはエ
チル基を示す)のいずれかにて表される有機ケイ素化合
物モノマーおよび/またはそのオリゴマーおよび/また
はを、固形分重量比30%以下の範囲で添加することが
できる。これにより、高屈折率層の屈折率の微調整、高
屈折率層とハードコート層間あるいは高屈折率層と低屈
折率層間の接着性の調整等をすることができる。
By the way, the following general formulas (6) to (6) are applied to a coating liquid containing an organic titanium compound as a main component for the high refractive index layer.
(7) R 4 -Si (OR 2 ) 3 (6) (However, R 2 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms,
R 4 is an organic group containing any of an epoxy group, an amino group, a methacryl group and a vinyl group, and R 3 is a methyl group or an ethyl group) and / or an organosilicon compound monomer The oligomer and / or the solid content can be added in the range of 30% by weight or less. This makes it possible to finely adjust the refractive index of the high refractive index layer, adjust the adhesion between the high refractive index layer and the hard coat layer, or adjust the adhesiveness between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

【0032】また、低屈折率層用の有機ケイ素化合物を
主成分とする塗液に対しも、前述の一般式(6)〜
(7)のいずれかにて表される有機ケイ素化合物モノマ
ーおよび/またはそのオリゴマーおよび/または粒径1
0nm以下のシリカ微粒子等を、固形分重量比50%以
下の範囲で添加することができる。これにより低屈折率
層と高屈折率層間の接着性の調整をすることができる。
Further, for the coating liquid containing an organosilicon compound as a main component for the low refractive index layer, the above-mentioned general formulas (6) to (6)
Organosilicon compound monomer and / or oligomer thereof represented by any of (7) and / or particle size 1
Silica fine particles of 0 nm or less can be added in the range of 50% or less by weight of solid content. Thereby, the adhesiveness between the low refractive index layer and the high refractive index layer can be adjusted.

【0033】なお一般式(6)および一般式(7)にて
表される有機ケイ素化合物の内、より好ましくはγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエ
チル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等が
用いられる。
Among the organosilicon compounds represented by the general formulas (6) and (7), more preferred are γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-
Aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and the like are used.

【0034】また、前記の有機チタン化合物を主成分と
する塗液、あるいは前記の有機ケイ素化合物を主成分と
する塗液については、粘度や塗布性の調整の目的で、固
形成分を炭化水素系、アルコール系等の適当な有機溶媒
に溶解させて使用したものが好ましく用いられる。
For the coating liquid containing the organotitanium compound as the main component or the coating liquid containing the organosilicon compound as the main component, the solid component is a hydrocarbon-based component for the purpose of adjusting the viscosity and coatability. Those used after being dissolved in a suitable organic solvent such as an alcoholic solvent are preferably used.

【0035】また、本発明の低反射積層体フィルムにお
いて用いることのできる光学干渉層としては、前記の高
屈折率層と低屈折率層を順に一層ずつ積層した光学干渉
層の他に、たとえば中屈折率層と高屈折率層と低屈折率
層を順に一層ずつ積層した光学干渉層を用いることが可
能である。この場合、高屈折率層と低屈折率層について
はそれぞれ請求項記載の高屈折率層と低屈折率層とを用
いればよく、中屈折率層としては、ハードコート層の屈
折率層と高屈折率層の屈折率層のおおよそ中間に位置す
る屈折率を有する層を用いればよい。
As the optical interference layer that can be used in the low reflection laminate film of the present invention, in addition to the optical interference layer in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated one by one, for example, It is possible to use an optical interference layer in which a refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially laminated one by one. In this case, the high-refractive index layer and the low-refractive index layer may be the high-refractive index layer and the low-refractive index layer described in the claims, respectively, and the medium-refractive index layer may be the hard coat layer and the high-refractive index layer. A layer having a refractive index positioned approximately in the middle of the refractive index layer may be used.

【0036】また、たとえば第1高屈折率層と第1低屈
折率層と第2高屈折率層と第2低屈折率を順に積層した
光学干渉層を用いることも可能であり、請求項記載の高
屈折率層を第1高屈折率層と第2高屈折率層に、請求項
記載の低屈折率層を第1低屈折率層と第2低屈折率層に
それぞれ用いればよい。この場合、必ずしも第1高屈折
率層と第2高屈折率層または第1低屈折率層と第2低屈
折率層の屈折率、膜厚等は同等である必要はない。
It is also possible to use, for example, an optical interference layer in which a first high refractive index layer, a first low refractive index layer, a second high refractive index layer and a second low refractive index are laminated in this order. The high refractive index layer may be used as the first high refractive index layer and the second high refractive index layer, and the low refractive index layer described in the claims may be used as the first low refractive index layer and the second low refractive index layer, respectively. In this case, the first high-refractive index layer and the second high-refractive index layer or the first low-refractive index layer and the second low-refractive index layer do not necessarily have to have the same refractive index and film thickness.

【0037】なお本発明の低反射積層体フィルムにおい
て、光学干渉層として高屈折率層と低屈折率層とを、こ
の順に一層ずつ積層した光学干渉層を用いた場合には、
両層が前述の範囲の屈折率を有しており、かつ人間が高
い視感度を有する波長500〜600nmの範囲の光に
対して特に低反射性を得るという光学設計上、高屈折率
層と低屈折率層の光学膜厚は各々10.0〜18.0n
mの範囲にあることが好ましく、より好ましくは13.
0〜15.0nmの範囲にあることが好ましい。
In the low reflection laminate film of the present invention, when an optical interference layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated one by one in this order is used as the optical interference layer,
Both layers have a refractive index within the above range, and in view of the optical design that human beings have high visibility, particularly low reflectance for light in the wavelength range of 500 to 600 nm, a high refractive index layer The optical thickness of the low refractive index layer is 10.0 to 18.0 n, respectively.
It is preferably in the range of m, and more preferably 13.
It is preferably in the range of 0 to 15.0 nm.

【0038】ところで本発明の基板として用いるトリア
セチルセルロースフィルムは、厚みが50〜500μm
程度のものが好ましく用いられる。そしてトリアセチル
セルロースフィルム基板は、本発明の低反射積層体を形
成する工程以前に、少なくとも一方の面が予めケン化処
理等のフィルムの表面処理を施して用いることが好まし
い。このケン化処理は、トリアセチルセルロースフィル
ムを水酸化ナトリウム水溶液等の強アルカリ水溶液中に
浸漬する等の公知の方法により行なうことができる。
By the way, the triacetyl cellulose film used as the substrate of the present invention has a thickness of 50 to 500 μm.
The thing of a grade is used preferably. Further, it is preferable that at least one surface of the triacetyl cellulose film substrate is subjected to surface treatment such as saponification treatment before the step of forming the low reflection laminate of the present invention. This saponification treatment can be performed by a known method such as immersing the triacetyl cellulose film in a strong alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution.

【0039】そしてこれにより、例えば、低反射積層体
フィルムを偏光子に貼合わせて偏光板の表面保護板とし
て用いる場合のように、低反射積層体フィルムを他の物
品と貼合わせる場合において、粘着剤、接着剤等とトリ
アセチルセルロースフィルムとの粘着力または接着力を
充分に確保することができる。また、トリアセチルセル
ロースフィルムとハードコート層間の接着性を充分に確
保することもできる。
Thus, for example, when the low reflection laminate film is attached to another article as in the case where the low reflection laminate film is attached to a polarizer and used as a surface protective plate of a polarizing plate, it is possible to obtain an adhesive property. It is possible to sufficiently secure the adhesive force or adhesive force between the agent, adhesive, etc. and the triacetyl cellulose film. Further, it is possible to sufficiently secure the adhesiveness between the triacetyl cellulose film and the hard coat layer.

【0040】また本発明で用いるハードコート層は、層
の屈折率が1.4〜1.55の範囲にあることが低反射
性を得るための光学設計上好ましく、層の膜厚は2.0
〜10.0μmの範囲にあることが好ましい。これは
2.0μmに満たない膜厚では充分な耐衝撃性が得られ
ず、10.0μmを越える膜厚では屈曲性もしくは生産
においての経済性等に課題を生じるためである。
The hard coat layer used in the present invention preferably has a layer refractive index in the range of 1.4 to 1.55 in terms of optical design for obtaining low reflectivity, and the layer thickness is 2. 0
It is preferably in the range of up to 10.0 μm. This is because if the film thickness is less than 2.0 μm, sufficient impact resistance cannot be obtained, and if the film thickness exceeds 10.0 μm, problems such as flexibility or economy in production occur.

【0041】屈折率が該屈折率範囲内にあり、かつ充分
な耐衝撃性の得られるハードコート層としては、熱硬化
型もしくは紫外線硬化型等のハードコート材料を含む塗
液をフィルム上に塗布し乾燥した後に、熱または紫外線
等により硬化を行って層を形成させたものが用いられ
る。
As a hard coat layer having a refractive index within the above range and having sufficient impact resistance, a coating liquid containing a thermosetting type or ultraviolet curing type hard coating material is applied onto a film. Then, after being dried, it is cured by heat or ultraviolet rays to form a layer.

【0042】熱硬化型ハードコート材料としては、次の
一般式(8)〜(12) Si(OR2 4 ・・・(8) R5 −Si(OR2 3 ・・・(9) 4 −Si(OR2 3 ・・・(11) (R2 は炭素数1〜4の炭化水素基を、R4 はエポキシ
基、アミノ基、メタクリル基、ビニル基のいずれかを含
む有機基を、R5 はメチル基、エチル基もしくはフェニ
ル基を示す)のいずれかにて示される有機ケイ素化合物
モノマーおよび/またはそのオリゴマーおよび/または
シリカ微粒子等を含むケイ素系材料の他、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂等の有
機ポリマー材料を用いる事ができる。ハードコート層の
硬度や耐候性の観点からは、前記有機ケイ素系材料を含
有した熱硬化型ハードコート材料を用いることがより好
ましい。
As the thermosetting hard coat material, the following general formulas (8) to (12) Si (OR 2 ) 4 (8) R 5 -Si (OR 2 ) 3 (9) are used. R 4 -Si (OR 2) 3 ··· (11) (R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 is an organic group containing any of an epoxy group, an amino group, a methacryl group and a vinyl group, and R 5 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group. In addition to a silicon-based material containing an organosilicon compound monomer and / or oligomer thereof and / or silica fine particles as shown in any one of (1) to (4), an organic polymer material such as an epoxy resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin is used. I can do things. From the viewpoint of hardness and weather resistance of the hard coat layer, it is more preferable to use a thermosetting hard coat material containing the organosilicon material.

【0043】紫外線硬化型ハードコート材料としては、
ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト、アクリルアクリレート、エポキシアクリレート等の
アクリル系オリゴマーとアクリル系モノマー、ならびに
ラジカル重合開始剤等よりなるラジカル重合型紫外線硬
化樹脂材料や、エポキシ系化合物、ビニルエーテル系化
合物、環状エーテル系化合物、スピロ化合物等のモノマ
ーおよびオリゴマーと光反応性カチオン重合開始剤より
なるカチオン重合型紫外線硬化樹脂材料、もしくはラジ
カル重合型紫外線硬化樹脂材料とカチオン重合型紫外線
硬化樹脂材料との混合材料を用いることができる。
As the ultraviolet curable hard coat material,
Radical polymerization type UV curable resin material consisting of acrylic oligomers such as polyester acrylate, polyether acrylate, acrylic acrylate, epoxy acrylate and acrylic monomers, and radical polymerization initiators, epoxy compounds, vinyl ether compounds, cyclic ether compounds Use of a cationic polymerization type UV curable resin material comprising a compound, a monomer or oligomer such as a spiro compound and a photoreactive cationic polymerization initiator, or a mixed material of a radical polymerization type UV curable resin material and a cationic polymerization type UV curable resin material. You can

【0044】これらのハードコート材料は、塗液の粘度
や塗布性の調整の目的で、炭化水素系、アルコール系等
の適当な有機溶媒等に溶解させてから使用しても構わな
い。
These hard coat materials may be used after being dissolved in an appropriate organic solvent such as a hydrocarbon type or alcohol type for the purpose of adjusting the viscosity and coating property of the coating liquid.

【0045】また、本発明に用いられるハードコート層
には、同層の屈折率の調整を目的として、前述のハード
コート材料に酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タン
タル、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属微粒子お
よび有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機
アルミニウム化合物、有機タンタル化合物等の有機金属
化合物および概金属のキレート化合物等を添加した材料
を塗布、硬化させて成る層を用いても構わない。
In the hard coat layer used in the present invention, for the purpose of adjusting the refractive index of the hard coat layer, a metal such as titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, antimony oxide or cerium oxide is added to the above-mentioned hard coat material. A layer formed by coating and curing a material to which fine particles and an organometallic compound such as an organotitanium compound, an organozirconium compound, an organoaluminum compound, and an organic tantalum compound and a chelate compound of a general metal are added and cured may be used.

【0046】また、本発明の低反射積層体フィルムにお
いて、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層が順に
積層されたフイルム面と反対側のフィルム面にハードコ
ート層を積層する事により、フィルムに発生するカール
の大きさを減少させることが可能である。この場合、フ
ィルム両面に積層されたハードコート層は、同種のハー
ドコート材料を用い、更に層の膜厚をほぼ等しく積層す
ることにより、フィルムに発生するカールを非常に小さ
くすることができる。
In the low reflection laminate film of the present invention, the hard coat layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated in this order on the film surface opposite to the film surface. It is possible to reduce the size of curl generated in the film. In this case, the hard coat layers laminated on both sides of the film are made of the same kind of hard coat material, and by further laminating the film thicknesses of the layers to be substantially equal to each other, the curl generated in the film can be made extremely small.

【0047】また、本発明において、基板であるトリア
セチルセルロースフィルムとハードコート層との界面の
接着性を向上させる目的で両層の間にプライマー層を設
けても構わない。プライマー層は層の屈折率が1.4〜
1.55の範囲にあることが光学特性上好ましく、膜厚
が0.5〜3.0μmの範囲にあることがプライマー性
と経済性を同時に満足させる上で好ましい。
In the present invention, a primer layer may be provided between the triacetyl cellulose film as the substrate and the hard coat layer for the purpose of improving the adhesiveness at the interface between the two layers. The refractive index of the primer layer is 1.4 to
It is preferably in the range of 1.55 from the viewpoint of optical characteristics, and the film thickness is preferably in the range of 0.5 to 3.0 μm in order to satisfy both the primer property and the economical efficiency.

【0048】また、本発明の低反射積層体フィルムにお
いては光学特性の上から、該フィルムの透過光に対し
て、JISに定めるヘイズの値が1.0%以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは0.5%以下であること
が好ましい。
Further, in the low reflection laminate film of the present invention, the haze value defined by JIS is preferably 1.0% or less with respect to the transmitted light of the film, more preferably from the viewpoint of optical characteristics. Is preferably 0.5% or less.

【0049】ところで、基板であるトリアセチルセルロ
ースフィルム上に積層されるハードコート層、高屈折率
層、低屈折率層等は、前述のように塗液の塗布、乾燥
後、熱または紫外線等により硬化されて形成されるが、
これらの塗液の塗布方法としては、ナイフコーター、バ
ーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リ
バースロールコーター、グラビアロールコーター、カー
テンコーター、スプレイコーター、スピンコーター等の
公知の塗工機器を用いる塗布方法や浸漬法等が用いられ
る。後述の実施例においては、基板であるトリアセチル
セルロースフィルム上に積層されるハードコート層、高
屈折率層、低屈折率層を形成するための塗液の塗布にバ
ーコーターを用いているが、例えばロールコーターのよ
うな他の塗液の塗工機器を用いても、同様な結果を得る
事ができる。
By the way, the hard coat layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer and the like to be laminated on the triacetyl cellulose film which is the substrate are, as described above, coated with the coating liquid, dried and then exposed to heat or ultraviolet rays. It is hardened and formed,
As a coating method of these coating liquids, a coating method using a known coating device such as a knife coater, a bar coater, a blade coater, a squeeze coater, a reverse roll coater, a gravure roll coater, a curtain coater, a spray coater, and a spin coater. An immersion method or the like is used. In the examples described below, a bar coater is used for coating the coating liquid for forming the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, which are laminated on the substrate triacetyl cellulose film, Similar results can be obtained by using other coating liquid coating equipment such as a roll coater.

【0050】また塗液の基材への塗布にあたっては、塗
液中の固形分濃度や基材上への塗液の塗布量等を調整す
ることにより、層の膜厚および塗布均一性等を調整する
ことができる。また、基材フィルムへの塗布性の向上の
ため塗液中に微量の界面活性剤等を添加しても差し支え
ない。
When the coating liquid is applied to the substrate, the thickness of the layer and the coating uniformity can be controlled by adjusting the solid content concentration in the coating liquid and the amount of the coating liquid applied onto the substrate. Can be adjusted. In addition, a trace amount of a surfactant or the like may be added to the coating liquid to improve the coating property on the base film.

【0051】またフィルム上への低反射積層体の形成工
程終了後、例えばロール状にフィルムを巻いた状態等に
おいて、60℃程度の温度でエージングを数日間程度行
うことにより、積層体の機械特性や耐久性等を向上させ
ることが可能である。こうしたエージングは非常に低コ
ストで行えることから非常に有効であり、好ましく行わ
れる。
After the step of forming the low reflection laminate on the film is completed, the mechanical properties of the laminate can be obtained by aging the film at a temperature of about 60 ° C. for several days in a state where the film is rolled. It is possible to improve the durability and the like. Since such aging can be performed at a very low cost, it is very effective and is preferably performed.

【0052】またフィルム上への低反射積層体の形成工
程終了後、フィルム表面に簡単に脱着可能な保護フィル
ム等を粘着させて表面を保護しておいても差し支えな
い。むろんこの場合、低反射積層体フィルムを実際に使
用する際においては該保護フィルムを取り外して用いる
ことができる。
After the step of forming the low reflection laminate on the film is completed, the surface of the film may be protected by attaching a removable protective film or the like to the surface of the film. Of course, in this case, when the low reflection laminate film is actually used, the protective film can be removed and used.

【0053】一方本発明の偏光板は、偏光子を保護する
2枚の表面保護板のうち、少なくとも一方に前記の低反
射積層体フィルムからなる表面保護板を用いることを特
徴とする低反射偏光板であり、表面保護板として低反射
積層体フィルムを用いること以外においては、一般の偏
光板の製造工程とほぼ同様な方法を用いて製造される。
On the other hand, the polarizing plate of the present invention is characterized in that, of the two surface protective plates for protecting the polarizer, at least one of them is a surface protective plate made of the above-mentioned low reflective laminate film. It is a plate, and is manufactured by a method substantially similar to the manufacturing process of a general polarizing plate except that a low-reflection laminated film is used as a surface protection plate.

【0054】すなわち本発明の偏光板の製造は、低反射
積層体フィルムの製造工程終了後、低反射積層体が形成
されなかった側のフィルム面と偏光子とを適当な粘着剤
もしくは接着剤を用いて偏光子と貼合わせる工程を行
う。粘着剤もしくは接着剤は通常の偏光板の製造におい
て用いられるものをそのまま使用でき、水溶性の粘着剤
もしくは接着剤が好ましく用いられる。
That is, in the production of the polarizing plate of the present invention, after the production process of the low reflection laminate film is completed, the film surface on the side where the low reflection laminate is not formed and the polarizer are treated with an appropriate pressure-sensitive adhesive or adhesive. The step of laminating with a polarizer is performed. As the pressure-sensitive adhesive or adhesive, those used in ordinary production of a polarizing plate can be used as they are, and a water-soluble pressure-sensitive adhesive or adhesive is preferably used.

【0055】なお本発明の偏光板においては、偏光子を
保護する2枚の表面保護板のうち一方のみに前記の低反
射積層体フィルムを用いて偏光板の片面のみに低反射性
を得ても、両方に低反射積層体フィルムを用いて偏光板
両面に低反射性を得ても差し支えなく、必要に応じて選
択される。
In the polarizing plate of the present invention, the low reflection laminate film described above is used for only one of the two surface protective plates for protecting the polarizer to obtain low reflectance on only one side of the polarizing plate. Also, it is possible to obtain low reflectivity on both surfaces of the polarizing plate by using a low reflective laminate film for both, and it is selected as necessary.

【0056】また低反射積層体フィルムの製造工程終了
後、フィルム表面に簡単に脱着可能な保護フィルム等を
粘着させて表面を保護したのち、偏光子との貼合わせ工
程を行っても差し支えない。むろんこの場合、偏光板を
実際に使用する際においては該保護フィルムを取り外し
て用いることができる。
After the production process of the low reflection laminate film is completed, a protective film or the like which can be easily detached is adhered to the surface of the film to protect the surface, and then a step of laminating with a polarizer may be carried out. Of course, in this case, when the polarizing plate is actually used, the protective film can be removed and used.

【0057】また一方本発明の液晶表示装置は、液晶表
示素子の少なくとも一方の最表面に前記の偏光板を配置
したことを特徴とした液晶表示装置であり、偏光板を最
表面に配置したこと以外においては、一般の液晶表示装
置の製造方法とほぼ同様な方法を用いて製造される。
On the other hand, the liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device characterized in that the polarizing plate is arranged on the outermost surface of at least one of the liquid crystal display elements, and the polarizing plate is arranged on the outermost surface. Other than the above, it is manufactured by using a method substantially similar to the method of manufacturing a general liquid crystal display device.

【0058】すなわち本発明の液晶表示装置は、本発明
の偏光板を低反射積層体フィルム面を最表面とする形
で、液晶表示素子の少なくとも一方の側の最表面に配置
して製造される。ここで液晶表示素子としては、例えば
ツイストネマチック型(TN型)液晶セルやスーパーツ
イストネマチック型(STN型)液晶セル等の、セルへ
の電圧印加等によって入射偏光を変調して表示機能を果
たす公知の液晶表示素子一般を用いることができる。そ
してこれらは光透過型の液晶表示素子でも、光反射型の
液晶表示素子でも差し支えない。
That is, the liquid crystal display device of the present invention is manufactured by arranging the polarizing plate of the present invention on the outermost surface of at least one side of the liquid crystal display device, with the surface of the low reflection laminate film being the outermost surface. . Here, as the liquid crystal display element, for example, a twisted nematic type (TN type) liquid crystal cell, a super twisted nematic type (STN type) liquid crystal cell, or the like is known, and a polarized light is applied to the cell to modulate incident polarized light to perform a display function. The general liquid crystal display element can be used. These may be light transmissive liquid crystal display elements or light reflective liquid crystal display elements.

【0059】なお、通常これらの液晶表示素子は、ガラ
スやプラスチック等の基板、透明電極、配向膜、液晶
層、画素駆動素子、ブラックマトリクス、カラーフィル
ター等のうちの数種類もしくはそれらのすべてを含んで
なるものである。
In general, these liquid crystal display elements include some or all of a substrate made of glass or plastic, a transparent electrode, an alignment film, a liquid crystal layer, a pixel driving element, a black matrix, a color filter and the like. It will be.

【0060】また本発明の液晶表示装置においては、前
記の液晶表示素子と偏光板との間に位相差板を挟持して
配置しても差し支えない。ここで位相差板とは、層内に
屈折率の異方性を持つ層を有してなる光学素子を示し、
例えば、光学等方性を有するプラスチックフィルムを延
伸して該フィルムに複屈折性を与える等の方法で製造さ
れる。
In the liquid crystal display device of the present invention, a retardation plate may be sandwiched between the liquid crystal display element and the polarizing plate. Here, the retardation plate refers to an optical element having a layer having a refractive index anisotropy in the layer,
For example, it is produced by a method of stretching a plastic film having optical isotropy to give birefringence to the film.

【0061】通常こうした位相差板は、液晶表示素子と
偏光板との間に挟持され、液晶表示素子の表示品質を向
上させるために利用される。特にスーパーツイストネマ
チック型液晶セルを液晶表示素子として用いた場合、一
般に光学補償板として位相差板を配置することは不可欠
となっている。また、ツイストネマチック型液晶セルを
液晶表示素子として用いた場合でも、位相差板は高い表
示コントラストが得られる視野角を大きくする等の表示
品質の向上の為、配置される場合がある。これらの位相
差板は必要に応じて1枚もしくは2枚以上積層されて用
いられる。
Usually, such a retardation film is sandwiched between a liquid crystal display element and a polarizing plate and used to improve the display quality of the liquid crystal display element. Particularly when a super twist nematic liquid crystal cell is used as a liquid crystal display element, it is generally essential to dispose a retardation plate as an optical compensation plate. Further, even when the twisted nematic liquid crystal cell is used as a liquid crystal display element, the retardation plate may be disposed for the purpose of improving display quality such as increasing the viewing angle at which a high display contrast can be obtained. These retardation plates may be used alone or as a laminate of two or more as necessary.

【0062】[0062]

【実施例1】ケン化処理を施した80μm厚のトリアセ
チルセルロースフィルム基板の片面に、プライマー層、
ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し
て、積層体フィルムを作製した。
Example 1 A primer layer was formed on one side of a saponified 80 μm thick triacetyl cellulose film substrate.
A hard coat layer, a high-refractive index layer, and a low-refractive index layer were sequentially laminated to produce a laminated film.

【0063】プライマー層を形成するための塗液として
は、プライマー液(信越化学(株)社製の商品名「PC
−7A」)を希釈せずにそのまま用い、バーコーターで
基板上に塗布し、100℃で3分間加熱硬化を行って、
プライマー層を形成した。こうして形成されたプライマ
ー層の膜厚は約1.1μmであった。
As the coating liquid for forming the primer layer, a primer liquid (trade name "PC manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd."
-7A ") is used as it is without dilution, is coated on a substrate with a bar coater, and is heat-cured at 100 ° C. for 3 minutes,
A primer layer was formed. The film thickness of the primer layer thus formed was about 1.1 μm.

【0064】次にハードコート層を形成するための塗液
としては、熱硬化型有機ケイ素系ハードコート液(信越
化学(株)社製の商品名「KP−85」)を希釈せずに
そのまま用い、プライマー層の形成された基板上にバー
コーターで塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行い、
その後60℃で24時間エージングを行ってハードコー
ト層を形成した。こうして形成されたハードコート層の
膜厚は約3.0μmであった。
Next, as a coating liquid for forming the hard coat layer, a thermosetting type organic silicon type hard coat liquid (trade name "KP-85" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as it is without dilution. Using a bar coater on the substrate on which the primer layer has been formed, heat-curing at 100 ° C. for 5 minutes,
Then, aging was performed at 60 ° C. for 24 hours to form a hard coat layer. The thickness of the hard coat layer thus formed was about 3.0 μm.

【0065】次に高屈折率層を形成するための塗液とし
ては、n−ヘキサンとn−ブタノールの混合溶媒中に、
テトラ−n−ブトキシチタンのオリゴマーとγ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランのモノマーとを重量
比9:1の比率で溶解させたものを用いた。この塗液を
バーコーターでハードコート層の形成された基板上に塗
布し、100℃で5分間加熱硬化を行って高屈折率層を
形成した。こうして形成された高屈折率層の屈折率は約
1.70で膜厚は約81nmであった。
Next, as a coating liquid for forming the high refractive index layer, a mixed solvent of n-hexane and n-butanol was used.
A solution obtained by dissolving an oligomer of tetra-n-butoxytitanium and a monomer of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane in a weight ratio of 9: 1 was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, and heat-cured at 100 ° C. for 5 minutes to form a high refractive index layer. The high refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.70 and a film thickness of about 81 nm.

【0066】次に低屈折率層を形成するための塗液とし
ては、エタノール中に、テトラエトキシシランのオリゴ
マーとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの
モノマーとを重量比4:1の比率で溶解させたものを用
いた。この塗液をバーコーターでハードコート層の形成
された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行
い、その後60℃で48時間エージングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約1.45で膜厚は約95nmであった。
Next, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, a tetraethoxysilane oligomer and a γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane monomer were mixed in ethanol at a weight ratio of 4: 1. What was dissolved was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.45 and a film thickness of about 95 nm.

【0067】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.1%、またヘ
イズは0.2%であった。更に表面硬度は鉛筆硬度がH
であり、表面耐摩耗性は摩耗傷が5本/cm以内、付着
性は碁盤目テストの残存率が100%であった。すなわ
ち低反射特性、機械的特性とも非常に優れており、充分
実用に耐えうるものであった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained was reddish purple, and the wavelength at which the reflectance was minimum was about 55.
At 0 nm, its minimum reflectance was about 0.1% and haze was 0.2%. Furthermore, the pencil hardness is H
The surface abrasion resistance was within 5 scratches / cm, and the adhesiveness was 100% in the cross-cut test residual rate. That is, it was extremely excellent in both low reflection characteristics and mechanical characteristics, and was sufficiently practical.

【0068】なおここで各層の屈折率と膜厚は、分光反
射率の測定より計算して算出した。また、作製した低反
射積層体フィルムの低反射光学特性は、分光光度計(日
立製作所製U−3500型)を用い、5度正反射の条件
にて反射率の測定を行った。その際に、低反射積層体が
積層されていない側の基板面に、黒色のスプレーを用い
て光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止
した上で低反射積層体の反射率の測定を行った。ヘイズ
は、波長550nmの光に対してJIS規格K7105
に従って測定を行った。表面硬度は、JIS規格K54
00に従って1kg荷重での鉛筆硬度で評価を行った。
表面耐摩耗性は、#0000のスチールウールに1平方
センチメートルあたり0.1kgの荷重をかけて積層体
フィルム表面を10往復した後の、スチーウール往復方
向の1センチメーター幅あたりの傷の発生本数で評価し
た。更に、付着性はJIS規格K5400に従って碁盤
目テスト(碁盤目テープ法)を行い、剥がれの生じてい
ないマス目の残存率にて評価した。
The refractive index and the film thickness of each layer were calculated by measuring the spectral reflectance. The low reflection optical characteristics of the produced low reflection laminate film were measured by using a spectrophotometer (U-3500 type manufactured by Hitachi, Ltd.) under the condition of regular reflection of 5 degrees. At that time, the surface of the substrate on which the low reflection laminate is not laminated is subjected to light absorption treatment using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and then the reflectance of the low reflection laminate. Was measured. The haze is JIS standard K7105 for light with a wavelength of 550 nm.
The measurement was carried out according to. Surface hardness is JIS standard K54
In accordance with No. 00, the pencil hardness under a load of 1 kg was evaluated.
Surface abrasion resistance is evaluated by the number of scratches per centimeter width in the reciprocating direction of the steel wool after 10 reciprocations on the surface of the laminated film by applying a load of 0.1 kg per square centimeter to # 0000 steel wool. did. Further, the adhesiveness was evaluated by a cross-cut test (cross-cut tape method) in accordance with JIS K5400, and a residual rate of squares where peeling did not occur.

【0069】[0069]

【実施例2】低屈折率層を変えた以外は、実施例1と同
じ条件で積層体フィルムを作製し、評価した。すなわち
実施例2においては、低屈折率層を形成するための塗液
として、エタノール中に、テトラエトキシシランのオリ
ゴマーと粒径10nm以下のシリカ微粒子を重量比2:
1の比率で溶解させたものを用いた。この塗液をバーコ
ーターでハードコート層の形成された基板上に塗布し、
100℃で5分間加熱硬化を行い、その後60℃で48
時間エージングを行って低屈折率層を形成した。形成さ
れた低屈折率層の屈折率は約1.47で膜厚は約94n
mであった。
Example 2 A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the low refractive index layer was changed. That is, in Example 2, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, an oligomer of tetraethoxysilane and silica fine particles having a particle size of 10 nm or less were mixed in ethanol in a weight ratio of 2:
What was melt | dissolved in the ratio of 1 was used. This coating liquid is applied on the substrate on which the hard coat layer is formed by a bar coater,
Heat cure at 100 ° C for 5 minutes and then at 60 ° C for 48 minutes.
A low refractive index layer was formed by performing time aging. The formed low refractive index layer has a refractive index of about 1.47 and a film thickness of about 94n.
It was m.

【0070】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.2%、またヘ
イズは0.2%であった。更に鉛筆硬度はHであり、摩
耗傷は5本/cm以内、碁盤目テストの残存率は100
%であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優れてお
り、充分実用に耐えうるものであった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained was reddish purple, and the wavelength at which the reflectance was minimum was about 55.
The minimum reflectance at 0 nm was about 0.2%, and the haze was 0.2%. Further, the pencil hardness is H, abrasion scratches are within 5 pieces / cm, and the residual rate in the cross-cut test is 100.
%, Which was extremely excellent in both low reflection characteristics and mechanical characteristics, and was sufficiently practical.

【0071】[0071]

【実施例3】低屈折率層を変えた以外は、実施例1と同
じ条件で積層体フィルムを作製し、評価した。すなわち
実施例3においては、低屈折率層を形成するための塗液
として、エタノール中に、メチルトリエトキシシランの
オリゴマーとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ランのモノマーとを重量比9:1の比率で溶解させたも
のを用いた。この塗液をバーコーターでハードコート層
の形成された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬
化を行い、その後60℃で48時間エージングを行って
低屈折率層を形成した。こうして形成された低屈折率層
の屈折率は約1.47で膜厚は約94nmであった。
Example 3 A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the low refractive index layer was changed. That is, in Example 3, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, an oligomer of methyltriethoxysilane and a monomer of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed in ethanol in a weight ratio of 9: 1. What was dissolved at a ratio was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.47 and a film thickness of about 94 nm.

【0072】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.2%、ヘイズ
は0.2%であった。更に鉛筆硬度はHであり、摩耗傷
は5本/cm以内、碁盤目テストの残存率は100%で
あり、低反射特性、機械的特性とも非常に優れており、
充分実用に耐えうるものであった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained is reddish purple, and the wavelength at which the reflectance is minimum is about 55.
At 0 nm, the minimum reflectance was about 0.2% and the haze was 0.2%. Furthermore, the pencil hardness is H, the number of abrasion scratches is 5 / cm or less, the cross-cut test residual rate is 100%, and the low reflection characteristics and mechanical characteristics are very excellent.
It was sufficiently practical.

【0073】[0073]

【実施例4】低屈折率層を変えた以外は、実施例1と同
じ条件で積層体フィルムを作製し、評価した。すなわち
実施例4においては、低屈折率層を形成するための塗液
として、イソプロピルアルコール中に、テトラメトキシ
シランとメチルトリメトキシシランとγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランの各モノマーとリン酸とを
重量比1:2:2:1の比率で溶解したものを用いた。
この塗液をバーコーターでハードコート層の形成された
基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行い、そ
の後60℃で48時間エージングを行って低屈折率層を
形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折率は約
1.47で膜厚は約94nmであった。
Example 4 A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the low refractive index layer was changed. That is, in Example 4, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, each monomer of tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and phosphoric acid were added to isopropyl alcohol. Was dissolved in a weight ratio of 1: 2: 2: 1.
This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.47 and a film thickness of about 94 nm.

【0074】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.2%、ヘイズ
は0.2%であった。更に鉛筆硬度はHであり、摩耗傷
は2本/cm以内、碁盤目テストの残存率は100%で
あり、低反射特性、機械的特性とも非常に優れており、
充分実用に耐えうるものであった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained is reddish purple, and the wavelength at which the reflectance is minimum is about 55.
At 0 nm, the minimum reflectance was about 0.2% and the haze was 0.2%. Furthermore, the pencil hardness is H, the abrasion scratches are within 2 / cm, the cross-cut test residual rate is 100%, and both the low reflection characteristics and the mechanical characteristics are very excellent.
It was sufficiently practical.

【0075】[0075]

【実施例5】実施例5においては、実施例4で使用した
塗液に、フッ素系界面活性剤(住友スリーエム株式会社
製商品名「フロラードFC430」)を固形分重量比
0.1%添加した以外は実施例4と同様の方法で低反射
積層体フィルムを作成した。
[Example 5] In Example 5, a fluorosurfactant (trade name "Florard FC430" manufactured by Sumitomo 3M Limited) was added to the coating solution used in Example 4 in a solid content weight ratio of 0.1%. A low reflection laminate film was prepared in the same manner as in Example 4 except for the above.

【0076】こうして得られた低反射積層体フィルムは
撥水、撥油性が高く、指紋等の汚れに対する防汚染性に
優れる表面を有していた。また低反射特性、機械的特性
等は未添加の場合(実施例4)と同様で低下は観られな
かった。
The low reflection laminate film thus obtained had high water repellency and oil repellency and had a surface excellent in stain resistance against stains such as fingerprints. Further, low reflection characteristics, mechanical characteristics and the like were the same as in the case where no addition was made (Example 4), and no deterioration was observed.

【0077】[0077]

【実施例6】実施例6においては、実施例4で使用した
塗液に、シリコンオイル(東レ・ダウコーニング・シリ
コン株式会社商品名「SH28PA」)を固形分重量比
0.1%添加した以外は実施例4と同様の方法で低反射
積層体フィルムを作成した。
Example 6 In Example 6, silicon oil (Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd., trade name “SH28PA”) was added to the coating liquid used in Example 4 in an amount of 0.1% by weight of solid content. A low reflection laminate film was prepared in the same manner as in Example 4.

【0078】こうして得られた低反射積層体フィルムは
撥水、撥油性が高く、指紋等の汚れに対する防汚染性に
優れる表面を有していた。また低反射特性、機械的特性
等は未添加の場合(実施例4)と同様で低下は観られな
かった。
The low reflection laminate film thus obtained had high water repellency and oil repellency, and had a surface excellent in stain resistance against stains such as fingerprints. Further, low reflection characteristics, mechanical characteristics and the like were the same as in the case where no addition was made (Example 4), and no deterioration was observed.

【0079】[0079]

【比較例1】低屈折率層を変えた以外は、実施例1と同
じ条件で積層体フィルムを作製し、評価した。すなわち
比較例1においては、低屈折率層を形成するための塗液
として、エタノール中に、粒径10nm以下のシリカ微
粒子とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの
モノマーを重量比2:1の比率で溶解させたものを用い
た。この塗液をバーコーターでハードコート層の形成さ
れた基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行
い、その後60℃で48時間エージングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約1.50で膜厚は約92nmであった。
Comparative Example 1 A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the low refractive index layer was changed. That is, in Comparative Example 1, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, silica fine particles having a particle size of 10 nm or less and a monomer of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed in a weight ratio of 2: 1 in ethanol. What was dissolved at a ratio was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.50 and a film thickness of about 92 nm.

【0080】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.4%、ヘイズ
は0.3%であった。更に鉛筆硬度はHであり、碁盤目
テストの残存率は100%であるが、摩耗傷は50本/
cm以上あり、特に耐摩耗性が劣っているために実用に
耐えうるものではなかった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained is reddish purple, and the wavelength at which the reflectance is minimum is about 55.
At 0 nm, the minimum reflectance was about 0.4% and the haze was 0.3%. Furthermore, the pencil hardness is H, and the residual rate in the cross-cut test is 100%, but there are 50 scratches / wear scratches /
Since it was cm or more, and particularly the abrasion resistance was poor, it was not practically usable.

【0081】[0081]

【比較例2】高屈折率層と低屈折率層を変えた以外は、
実施例1と同じ条件で積層体フィルムを作製し、評価し
た。すなわち比較例2においては高屈折率層を形成する
ための塗液として、エタノール中に、粒径10nm以下
の酸化チタン微粒子とγ−アミノプロピルトリメトキシ
シランのモノマーとを重量比4:1の比率で溶解させた
ものを用いた。この塗液をバーコーターでハードコート
層の形成された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱
硬化を行って高屈折率層を形成した。こうして形成され
た高屈折率層の屈折率は約1.70で膜厚は約81nm
であった。
Comparative Example 2 Except that the high refractive index layer and the low refractive index layer were changed,
A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1. That is, in Comparative Example 2, as a coating liquid for forming the high refractive index layer, titanium oxide fine particles having a particle diameter of 10 nm or less and a monomer of γ-aminopropyltrimethoxysilane were mixed in ethanol in a weight ratio of 4: 1. The one dissolved in was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, and heat-cured at 100 ° C. for 5 minutes to form a high refractive index layer. The high refractive index layer thus formed has a refractive index of about 1.70 and a film thickness of about 81 nm.
Met.

【0082】次に低屈折率層を形成するための塗液とし
ては、エタノール中に、テトラエトキシシランのオリゴ
マーとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの
モノマーとを重量比4:1の比率で溶解させたものを用
いた。この塗液をバーコーターでハードコート層の形成
された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行
い、その後60℃で48時間エージングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約1.45で膜厚は約95nmであった。
Next, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, an oligomer of tetraethoxysilane and a monomer of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed in ethanol at a weight ratio of 4: 1. What was dissolved was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.45 and a film thickness of about 95 nm.

【0083】こうして得られた積層体フィルムの反射干
渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は約55
0nmにあって、その最小反射率は約0.1%、ヘイズ
は0.3%であった。更に鉛筆硬度はHであるが、摩耗
傷は50本/cm以上、碁盤目テストの残存率は70%
であり、低反射特性には優れているものの、耐摩耗性と
付着性等の機械的特性に劣っているために実用に耐えら
れるものではなかった。
The reflection interference color of the laminate film thus obtained was reddish purple, and the wavelength at which the reflectance was minimum was about 55.
At 0 nm, the minimum reflectance was about 0.1% and the haze was 0.3%. Further, the pencil hardness is H, but abrasion scratches are 50 or more / cm, and the residual rate in the cross-cut test is 70%.
Although it was excellent in low reflection characteristics, it was not practically usable because it was inferior in mechanical characteristics such as abrasion resistance and adhesion.

【0084】[0084]

【比較例3】高屈折率層と低屈折率層を変えた以外は、
実施例1と同じ条件で積層体フィルムを作製し、評価し
た。すなわち比較例3においては高屈折率層を形成する
ための塗液として、n−ヘキサンとn−ブタノ−ルの混
合溶媒中に、テトラ−n−ブトキシジルコニウムのオリ
ゴマーとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
のモノマーとを重量比9:1の比率で溶解させたものを
用いた。この塗液をバーコーターでハードコート層の形
成された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を
行って高屈折率層を形成した。こうして形成された高屈
折率層の屈折率は約1.60で膜厚は約86nmであっ
た。
[Comparative Example 3] Except that the high refractive index layer and the low refractive index layer were changed,
A laminate film was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 1. That is, in Comparative Example 3, as a coating liquid for forming the high refractive index layer, an oligomer of tetra-n-butoxyzirconium and γ-glycidoxypropyltriene was added in a mixed solvent of n-hexane and n-butanol. A methoxysilane monomer dissolved at a weight ratio of 9: 1 was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, and heat-cured at 100 ° C. for 5 minutes to form a high refractive index layer. The high refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.60 and a film thickness of about 86 nm.

【0085】次に低屈折率層を形成するための塗液とし
ては、エタノール中に、テトラエトキシシランのオリゴ
マーとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの
モノマーとを重量比4:1の比率で溶解させたものを用
いた。この塗液をバーコーターでハードコート層の形成
された基板上に塗布し、100℃で5分間加熱硬化を行
い、その後60℃で48時間エージングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約1.45で膜厚は約95nmであった。
Next, as a coating liquid for forming the low refractive index layer, an oligomer of tetraethoxysilane and a monomer of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed in ethanol at a weight ratio of 4: 1. What was dissolved was used. This coating liquid was applied by a bar coater onto the substrate on which the hard coat layer was formed, heated and cured at 100 ° C. for 5 minutes, and then aged at 60 ° C. for 48 hours to form a low refractive index layer. The low refractive index layer thus formed had a refractive index of about 1.45 and a film thickness of about 95 nm.

【0086】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約550nmにあって、その最小反射率は約0.8%、
ヘイズは0.2%であった。更に鉛筆硬度はHであり、
摩耗傷は10本/cm以下、碁盤目テストの残存率は9
0%であり、機械的特性には比較的優れているものの、
低反射特性に劣っているために実用に耐えられるもので
はなかった。
The reflection interference color of the thus-obtained low reflection laminate film was reddish purple, the wavelength at which the reflectance was minimum was about 550 nm, and the minimum reflectance was about 0.8%.
The haze was 0.2%. Furthermore, the pencil hardness is H,
10 scratches / cm or less for abrasion damage, 9 remaining rate in cross cut test
0%, which is relatively excellent in mechanical properties,
Since it was inferior in low reflection property, it was not practically usable.

【0087】[0087]

【実施例7】実施例1と同じ条件で作製した積層体フィ
ルムを用いて、偏光板を作製した。偏光子には、99.
9%以上の偏光度を有する、ヨウ素を偏光素子としたポ
リビニールアルコール系偏光子を用いた。そしてこの偏
光子の一方の面に、実施例1と同じ条件で作製した積層
体フィルムからなる表面保護板を接着した。さらに他方
の面には、通常のトリアセチルセルロースフィルムから
なる表面保護板を接着した。
Example 7 A polarizing plate was produced using the laminate film produced under the same conditions as in Example 1. The polarizer has 99.
A polyvinyl alcohol-based polarizer having iodine as a polarizing element and having a polarization degree of 9% or more was used. Then, on one surface of this polarizer, a surface protective plate made of a laminate film produced under the same conditions as in Example 1 was adhered. Further, a surface protective plate made of a normal triacetyl cellulose film was adhered to the other surface.

【0088】こうして得られた作製した偏光板につい
て、偏光板単独の波長550nmにおける透過率は4
5.2%であった。さらにこの偏光板の鉛筆硬度はHで
あり、摩耗傷は5本/cm以内、碁盤目テストの残存率
は100%であり、透過率と機械的特性が非常に優れて
おり、充分実用に耐えうるものであった。
Regarding the thus prepared polarizing plate, the transmittance of the polarizing plate alone at a wavelength of 550 nm was 4
It was 5.2%. Furthermore, the pencil hardness of this polarizing plate is H, abrasion scratches are within 5 lines / cm, and the residual rate in the cross-cut test is 100%, and the transmittance and mechanical properties are extremely excellent, and it is sufficiently practical. It was profitable.

【0089】[0089]

【比較例4】実施例7における偏光子を挟持する表面保
護板を、両面とも通常のトリアセチルセルロースフィル
ムに変えた以外は、実施例7と同じ条件で偏光板を作製
して評価した。その結果、偏光板単独の波長550nm
における透過率は43.5%であり、実施例7より劣っ
ていた。
Comparative Example 4 A polarizing plate was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 7, except that the surface protective plate sandwiching the polarizer in Example 7 was changed to a normal triacetyl cellulose film on both sides. As a result, the wavelength of the polarizing plate alone is 550 nm.
The transmittance was 43.5%, which was inferior to that in Example 7.

【0090】[0090]

【実施例8】実施例7と同じ条件で作製した偏光板を用
いて、液晶表示装置を作製した。そのために先ずは、2
cm四方の単一な透明電極により駆動を行う開口率10
0%の簡単なツイストネマチック型液晶セルを作製し
た。そしてセルの片面に、実施例7と同じ条件で作製し
た偏光板を接着した。さらにセルのもう一方の面には、
比較例4と同じ条件で作製した偏光板とアルミニウム製
の反射板を、この順に接着した。こうして、反射型の表
示機能を持つ低反射液晶表示装置を作製した。
Example 8 A liquid crystal display device was produced using the polarizing plate produced under the same conditions as in Example 7. For that purpose, first 2
Aperture ratio 10 driven by a single transparent electrode of 10 cm square
A simple 0% twisted nematic liquid crystal cell was prepared. Then, the polarizing plate prepared under the same conditions as in Example 7 was bonded to one surface of the cell. And on the other side of the cell,
A polarizing plate manufactured under the same conditions as in Comparative Example 4 and a reflecting plate made of aluminum were bonded in this order. Thus, a low reflection liquid crystal display device having a reflection type display function was manufactured.

【0091】こうして得られた液晶表示装置において、
ON状態の波長550nmにおける反射率は約30.0
%を示し、OFF状態の波長550nmにおける反射率
は約1.2%を示した。そしてこれより波長550nm
における表示コントラストを求めると約25.0とな
り、優れた特性を示した。
In the liquid crystal display device thus obtained,
The reflectance at the wavelength of 550 nm in the ON state is about 30.0.
%, And the reflectance at the wavelength of 550 nm in the OFF state was about 1.2%. And from this wavelength 550nm
The display contrast in Example 2 was about 25.0, showing excellent characteristics.

【0092】[0092]

【比較例5】実施例8においてセルに接着した偏光板
を、両面とも比較例4と同じ条件で作製した偏光板に変
えた以外は、実施例8と同じ条件で偏光板を作製して評
価した。その結果、ON状態の波長550nmにおける
反射率は約32.7%、OFF状態の波長550nmに
おける反射率は約5.0%であった。そしてこれより波
長550nmにおける表示コントラストを求めると約
6.5となり、実施例8よりも劣っていた。
Comparative Example 5 A polarizing plate was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 8 except that the polarizing plate adhered to the cell in Example 8 was replaced by the polarizing plate prepared under the same conditions as in Comparative Example 4. did. As a result, the reflectance at the wavelength of 550 nm in the ON state was about 32.7%, and the reflectance at the wavelength of 550 nm in the OFF state was about 5.0%. The display contrast at a wavelength of 550 nm was calculated from this to be about 6.5, which was inferior to that of Example 8.

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明により、基板フィルムとしてトリ
アセチルセルロースフィルムを用いて湿式製膜法により
低反射積層体を形成する場合においても、フィルムの特
性により限定される比較的低温の乾燥温度と、比較的短
い乾燥時間においても、低反射特性と表面硬度、耐摩耗
性等の機械特性に優れた低反射積層体が得られたことに
より、高い生産性を維持しつつ、充分実用に耐えうるよ
うな優れた特性を有する低反射積層体フィルムを得るこ
とができた。さらにはそうした低反射積層体フイルムを
用いることで、必要な特性を有する偏光板や液晶表示装
置を、生産性良く得ることができた。
According to the present invention, even when a low reflective laminate is formed by a wet film forming method using a triacetyl cellulose film as a substrate film, a relatively low drying temperature limited by the characteristics of the film, Even with a relatively short drying time, a low-reflection laminate with excellent low-reflection properties and mechanical properties such as surface hardness and abrasion resistance was obtained, so that high productivity can be maintained and practical use can be sufficiently endured. It was possible to obtain a low reflection laminate film having excellent characteristics. Furthermore, by using such a low-reflection laminated film, a polarizing plate and a liquid crystal display device having necessary characteristics can be obtained with high productivity.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トリアセチルセルロースフィルムの少な
くとも一方の面上に、ハードコート層と光学干渉層とを
この順に積層した低反射積層体フィルムにおいて、ハー
ドコート層と光学干渉層は、湿式製膜法により形成され
た層であって、光学干渉層は高屈折率層と低屈折率層と
をそれぞれ一層以上含み、高屈折率層は少なくとも一層
が、次の一般式(1) Ti(OR1 4 ・・・(1) (但しR1 は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基を示す)
にて表される有機チタン化合物モノマーおよび/または
そのオリゴマーを、固形分重量比率で70%以上含有す
る塗液の塗布と熱乾燥によって形成した、屈折率が1.
65〜2.25の範囲内の層であり、さらに低屈折率層
は少なくとも一層が、次の一般式(2)〜(5) Si(OR2 4 ・・・(2) Si−X4 ・・・(3) R3 −Si(OR2 3 ・・・(4) R3 −Si−X3 ・・・(5) (但しR2 は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を、R3
はメチル基もしくはエチル基を、Xはハロゲン原子を示
す)のいずれかにて示される有機ケイ素化合物モノマー
および/またはそのオリゴマーの単体および/またはそ
れらの混合物を、固形分重量比率で50%以上含有する
塗液の塗布と熱乾燥によって形成した、屈折率が1.3
5〜1.55の範囲内の層であることを特徴とする低反
射積層体フィルム。
1. A low reflection laminate film in which a hard coat layer and an optical interference layer are laminated in this order on at least one surface of a triacetyl cellulose film, wherein the hard coat layer and the optical interference layer are formed by a wet film forming method. The optical interference layer includes at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer, and at least one high refractive index layer has the following general formula (1) Ti (OR 1 ) 4 (1) (wherein R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms)
The organic titanium compound monomer and / or oligomer thereof represented by the formula (1) is formed by applying a coating liquid containing 70% or more by weight of solid content and heat drying, and has a refractive index of 1.
65 to 2.25, and at least one layer of the low refractive index layer has the following general formulas (2) to (5) Si (OR 2 ) 4 (2) Si—X 4 ··· (3) R 3 -Si ( OR 2) 3 ··· (4) R 3 -Si-X 3 ··· (5) ( where R 2 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms To R 3
Represents a methyl group or an ethyl group, and X represents a halogen atom), and contains an organic silicon compound monomer and / or oligomer thereof alone or / and a mixture thereof in an amount of 50% by weight or more in terms of solid content. The refractive index formed by applying the coating liquid and heat drying is 1.3.
A low-reflection laminate film, which is a layer within a range of 5 to 1.55.
【請求項2】 トリアセチルセルロースフィルムとハー
ドコート層との間に、プライマー層を設けたことを特徴
とする請求項1記載の低反射積層体フィルム。
2. The low reflection laminate film according to claim 1, wherein a primer layer is provided between the triacetyl cellulose film and the hard coat layer.
【請求項3】 トリアセチルセルロースフィルムは、少
なくとも一方の面が予めケン化処理を施されたものであ
ることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の低
反射積層体フィルム。
3. The low reflection laminate film according to claim 1, wherein at least one surface of the triacetyl cellulose film is previously saponified.
【請求項4】 偏光子を2枚の表面保護板によって挟持
して構成した偏光板において、少なくとも一方の表面保
護板として請求項1〜3のいずれかに記載の低反射積層
体フィルムを、偏光子と接していない面の側にハードコ
ート層と光学干渉層とを配置して構成したことを特徴と
する偏光板。
4. A polarizing plate constituted by sandwiching a polarizer between two surface protection plates, wherein the low reflection laminate film according to claim 1 is used as at least one surface protection plate. A polarizing plate comprising a hard coat layer and an optical interference layer disposed on the side not in contact with the child.
【請求項5】 液晶表示素子の少なくとも一方の側の最
表面上に、請求項4記載の偏光板を、低反射積層体フィ
ルムからなる表面保護板を最表面側にして配置した特徴
とする液晶表示装置。
5. A liquid crystal characterized in that the polarizing plate according to claim 4 is disposed on the outermost surface of at least one side of a liquid crystal display element with a surface protective plate made of a low reflection laminate film as the outermost surface side. Display device.
JP7136637A 1994-07-04 1995-06-02 Low reflection laminated film, polarizing plate and liquid crystal display device Pending JPH0875904A (en)

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