JPH0869135A - Production of electrophotographic printing plate - Google Patents

Production of electrophotographic printing plate

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Publication number
JPH0869135A
JPH0869135A JP15493495A JP15493495A JPH0869135A JP H0869135 A JPH0869135 A JP H0869135A JP 15493495 A JP15493495 A JP 15493495A JP 15493495 A JP15493495 A JP 15493495A JP H0869135 A JPH0869135 A JP H0869135A
Authority
JP
Japan
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group
resin
transfer layer
transfer
electrophotographic
Prior art date
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Application number
JP15493495A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Atsushi Momota
淳 百田
Hiroyuki Oishi
博幸 大石
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH0869135A publication Critical patent/JPH0869135A/en
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  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain excellent transfer property when a toner image with a transfer layer is transferred to a transfer material to be transferred, especially to completely transfer a toner image with a transfer layer to the transfer material to be transferred to obtain good image quality even when a film thickness of the transfer layer is thin and transfer is done under conditions of low temp. and high transfer speed. CONSTITUTION: A first transfer layer 12T1 is formed by electrodeposition coating of resin particles (AL) on the surface of an electrophotographic photoreceptor 11. The resin particles (AL) contain a resin (A1 ) having 10 to 140 deg.C Tg or 35-180 deg.C softening point and a resin (A2 ) having <=45 deg.C Tg or <60 deg.C softening point which is lower than the Tg or the softening point of the resin (A.) by >=2 deg.C in one particle. Then a second transfer layer 12T2 containing a resin (A2 ) is formed on the first transfer layer to obtain a transfer layer 12 of a laminated structure. A toner image 3 is formed on the transfer layer 12 by an electrophotographic process. The toner image with the transfer layer 12 is transferred to the material 16 to be transferred. Then the transferred image 12 on the material 16 is removed by chemical reaction processing to obtain a printing plate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体上に設け
た転写層を利用した平版印刷版の作成方法に関し、更に
詳細には、転写層の転写性に優れた、製版画質及び印刷
画質が良好な電子写真式製版印刷版の作成方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for preparing a lithographic printing plate using a transfer layer provided on an electrophotographic photosensitive member, and more specifically, it is excellent in plate transfer image quality and print image quality of transfer layer. Relates to a method for producing an electrophotographic plate-making printing plate having good quality.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版、特に、原稿入力、補正、編
集、割付から頁組まで一貫してコンピューター操作さ
れ、高速通信網や衛生通信により即時遠隔地の末端プロ
ッターに出力できる電子編集システムにおいて、末端プ
ロッターの出力から直接平版印刷版を作成する直接型印
刷版を提供し得る高い光感度を有する感光体として電子
写真感光体が用いられる。電子写真感光体を用いて平版
印刷版を作成する方法として、電子写真プロセスでトナ
ー画像形成後、非画像部を不感脂化処理液で不感脂化
(親水化)して印刷版として用いる方法、トナー画像形
成後、非画像部の光導電層を除去して印刷版とする方式
が知られている。
2. Description of the Related Art A lithographic printing plate, especially an electronic editing system which can be operated by a computer consistently from manuscript input, correction, editing, layout to page setting and can be immediately output to a terminal plotter at a remote place by a high speed communication network or sanitary communication. An electrophotographic photosensitive member is used as a photosensitive member having a high photosensitivity, which can provide a direct type printing plate for directly producing a lithographic printing plate from the output of an end plotter. As a method for preparing a lithographic printing plate using an electrophotographic photosensitive member, after a toner image is formed by an electrophotographic process, a non-image portion is desensitized (hydrophilized) with a desensitizing treatment liquid and used as a printing plate A method is known in which the photoconductive layer in the non-image area is removed after forming a toner image to form a printing plate.

【0003】しかしながら、感光層を親水化処理し電子
写真感光体そのものの表面を改質して親水性非画像部を
形成する方法あるいは感光層を溶出除去して表面親水性
支持体表面を露出させる方法では、感光体、特に光導電
層に用いられる光導電性化合物や結着樹脂などに種々の
制約があり、得られる印刷版の画質や耐刷性の点で多く
の問題点があった。
However, the photosensitive layer is hydrophilized to modify the surface of the electrophotographic photosensitive member itself to form a hydrophilic non-image portion, or the photosensitive layer is eluted and removed to expose the surface of the hydrophilic support. In the method, there are various restrictions on the photoconductor, particularly the photoconductive compound and the binder resin used in the photoconductive layer, and there are many problems in terms of image quality and printing durability of the obtained printing plate.

【0004】従来のこのような問題を解決するものとし
て、電子写真感光体の表面に化学反応処理により除去さ
れ得る熱可塑性樹脂からなる転写層を設け、該転写層上
に通常の電子写真プロセスを用いてトナー画像を形成
し、該トナー画像を転写層と共に平版印刷版としての親
水性表面を形成する被転写材に転写した後、転写層を除
去してトナー画像を被転写材上に残すことにより平版印
刷版とする方法が国際公開WO93/16418号に記
載されている。
In order to solve such a conventional problem, a transfer layer made of a thermoplastic resin which can be removed by a chemical reaction treatment is provided on the surface of an electrophotographic photoreceptor, and a usual electrophotographic process is performed on the transfer layer. A toner image is formed using the toner image, and the toner image is transferred together with the transfer layer onto a transfer material that forms a hydrophilic surface as a lithographic printing plate, and then the transfer layer is removed to leave the toner image on the transfer material. The method of preparing a lithographic printing plate is described in International Publication WO93 / 16418.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】この転写層を用いた印
刷版の作成方法は、感光体表面を改質して親水性非画像
部を形成するのではなく、感光体とは別の転写層上にト
ナー画像を形成し、親水性表面を有する他の支持体上に
トナー画像を転写層ごと転写させた後、転写層を化学反
応処理により除去するものであるため、従前の光導電層
に要求される種々の制約をうけることなく良好な画質の
印刷版を得ることができる。
The method of making a printing plate using this transfer layer does not involve modifying the surface of the photoconductor to form a hydrophilic non-image area, but rather a transfer layer separate from the photoconductor. After the toner image is formed on the other support having a hydrophilic surface and the toner image is transferred together with the transfer layer, the transfer layer is removed by a chemical reaction treatment. A printing plate with good image quality can be obtained without being subject to various required restrictions.

【0006】しかしながら、かかる方法においては、ト
ナー画像を転写層ごと完全に被転写材に転写しないと、
良好な製版画質が得られない。特に、転写層の膜厚が薄
く、転写条件が緩和されて、例えば転写温度が低温にな
った場合あるいは転写速度が高速度になっても、依然転
写層及びトナー画像が良好に被転写材に転写されること
が望まれる。本発明は、このような転写層を用いた平版
印刷版の作成方法において、転写性に関する新たな課題
を解決することを目的とするものである。
However, in such a method, if the toner image is not completely transferred to the transfer target material together with the transfer layer,
Good plate-making quality cannot be obtained. In particular, when the transfer layer is thin and transfer conditions are relaxed, for example, when the transfer temperature becomes low or the transfer speed becomes high, the transfer layer and the toner image are still satisfactorily applied to the transfer target material. It is desired to be transferred. It is an object of the present invention to solve a new problem relating to transferability in a method for producing a lithographic printing plate using such a transfer layer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、電
子写真感光体の表面に、化学反応処理で除去可能で且つ
剥離可能な転写層を形成し、電子写真プロセスにより該
転写層上にトナー画像を形成し、該トナー画像を転写層
ごと、印刷時に平版印刷可能な親水性表面となる被転写
材に熱転写し、次いで、転写された被転写材の転写層を
化学反応処理により除去する電子写真式製版印刷版の作
成方法において、該転写層がガラス転移点10〜140
℃又は軟化点35℃〜180℃の樹脂(A1)及びガラス
転移点45℃以下又は軟化点60℃以下の樹脂(A2)で
あって、樹脂(A1)のガラス転移点又は軟化点が樹脂
(A2)のそれよりも2℃以上高い少なくとも二種の樹脂
を同一粒子内に含有する熱可塑性樹脂粒子(AL)を電
着塗布法により成膜してなる第1転写層(T1)と、この
層の上に設けられた上記樹脂(A2)を主として含有する
第2転写層(T2)からなる積層構造であることを特徴と
する電子写真式製版印刷版の作成方法により達成される
ことが見出された。
The above object of the present invention is to form a transfer layer which can be removed by a chemical reaction treatment and can be peeled off on the surface of an electrophotographic photoreceptor, and the transfer layer can be formed on the transfer layer by an electrophotographic process. A toner image is formed, and the toner image is transferred together with the transfer layer to a transfer material that becomes a hydrophilic surface that can be lithographically printed at the time of printing, and then the transfer layer of the transferred transfer material is removed by a chemical reaction treatment. In the method for producing an electrophotographic plate-making printing plate, the transfer layer has a glass transition point of 10 to 140.
A ° C. or a softening point of 35 ° C. to 180 ° C. Resin (A 1) and a glass transition point of 45 ° C. or less or a softening point 60 ° C. or less of the resin (A 2), the glass transition point or softening point of the resin (A 1) Of the resin (A 2 ) is higher than that of the resin (A 2 ) by 2 ° C. or more, and a thermoplastic resin particle (AL) containing at least two kinds of resin in the same particle is formed by an electrodeposition coating method. 1 ) and a second transfer layer (T 2 ) mainly containing the above resin (A 2 ) provided on this layer, which is a laminated structure, and a method for producing an electrophotographic plate-making printing plate. It has been found that

【0008】本発明の電子写真式製版印刷版の作成方法
は、そのプロセスの概要を図1に示すように、少なくと
も支持体1及び感光層2からなる電子写真感光体11の
表面に第1の転写層(T1)として熱可塑性樹脂粒子(A
L)を電着塗布法、即ち、静電的に付着又は電着して成
膜し、更にその上に熱可塑性樹脂(A2)を主として含有
する第2の転写層(T2)を設けて積層構造を有する剥離
可能で且つ化学反応処理で除去可能な転写層12を形成
した後、通常の電子写真プロセスでトナー画像3を形成
し、オフセット印刷版に供される支持体と同様な支持体
である被転写材16に熱転写によりトナー画像3を転写
層12ごと転写して印刷原版とし、次いで、この被転写
材16に転写された転写層12を化学反応処理して除去
することで印刷版とするものである。本発明は、転写層
12が積層構造であり且つ感光体側の第1転写層(T1)
を形成する熱可塑性樹脂粒子(AL)がガラス転移点又
は軟化点の異なる少なくとも二種の樹脂(A1)及び樹脂
(A2)を同一粒子内に含有するものであることを大きな
特徴とする。
In the method for producing an electrophotographic plate-making printing plate of the present invention, as shown in the outline of the process in FIG. 1, a first layer is formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member 11 comprising at least a support 1 and a photosensitive layer 2. As the transfer layer (T 1 ), the thermoplastic resin particles (A
L) is applied by electrodeposition, that is, electrostatically adhered or electrodeposited to form a film, and a second transfer layer (T 2 ) mainly containing a thermoplastic resin (A 2 ) is further provided thereon. After forming a transfer layer 12 which has a laminated structure and is removable and which can be removed by a chemical reaction treatment, a toner image 3 is formed by an ordinary electrophotographic process, and a support similar to the support used for an offset printing plate is formed. Printing is performed by transferring the toner image 3 together with the transfer layer 12 to a transfer material 16 that is a body to form a printing original plate, and then removing the transfer layer 12 transferred to the transfer material 16 by a chemical reaction treatment. It is a version. In the present invention, the transfer layer 12 has a laminated structure and the first transfer layer (T 1 ) on the photoconductor side.
The thermoplastic resin particles (AL) forming the resin are characterized by containing at least two kinds of resin (A 1 ) and resin (A 2 ) having different glass transition points or softening points in the same particle. .

【0009】本発明に供される転写層は、電子写真プロ
セスによりトナー画像を形成するまでは電子写真特性
(帯電性、暗中電荷保持率、光感度等)を劣化させず、
良好な複写画像を形成すること、次の熱転写工程では容
易に被転写材に転写する熱可塑性を有しており転写性に
優れていること、更には、印刷版とするために化学反応
処理により容易に除去され、優れた画質及び耐刷性を有
する印刷版が得られることが特徴である。
The transfer layer used in the present invention does not deteriorate electrophotographic properties (chargeability, charge retention ratio in the dark, photosensitivity, etc.) until a toner image is formed by an electrophotographic process.
Forming a good copy image, having a thermoplastic property that easily transfers to the material to be transferred in the next thermal transfer step, and having excellent transferability. It is characterized in that it is easily removed and a printing plate having excellent image quality and printing durability can be obtained.

【0010】本発明によれば、転写層を上記通りの積層
構造とすることにより、感光体表面と第1転写層(T1)
との界面の接着力を小さくし、且つ被転写材表面と第2
転写層(T2)との密着力を大きくする相乗効果によると
推定され、これにより転写層の転写性が飛躍的に向上
し、転写条件(温度・圧力)の軽減及び転写スピードの
向上が可能となったものである。その結果、感光体への
加熱・加圧が軽減されることで電子写真特性の劣化が抑
制され、感光体の繰り返し耐久性が向上し、更に転写過
程に要する時間短縮で製版スピードが向上する。
According to the present invention, the transfer layer has the laminated structure as described above, so that the surface of the photoreceptor and the first transfer layer (T 1 )
The adhesive force at the interface with the
It is presumed that this is due to the synergistic effect of increasing the adhesiveness with the transfer layer (T 2 ), which dramatically improves the transferability of the transfer layer, which reduces transfer conditions (temperature and pressure) and improves transfer speed. It has become. As a result, the heating and pressurization of the photoconductor are reduced, the deterioration of electrophotographic characteristics is suppressed, the repeated durability of the photoconductor is improved, and the plate-making speed is improved by shortening the time required for the transfer process.

【0011】以下、本発明の転写層について説明する。
本発明の転写層は、剥離性表面を有する電子写真感光体
から印刷用の支持体となる被転写材にトナー画像ととも
に剥離転写して印刷原版を提供するとともに、印刷原版
を印刷版とするために化学反応処理により除去される機
能を有する層である。従って、本発明に供される転写層
を構成する主成分の樹脂は熱可塑性樹脂であり、且つ化
学反応処理により溶出除去される樹脂である。ここで、
転写層に主として用いられる上記樹脂を一括して樹脂
(A)と称する(樹脂(A1)及び樹脂(A2)が含まれ
る)。
The transfer layer of the present invention will be described below.
The transfer layer of the present invention provides a printing original plate by peeling and transferring together with the toner image from the electrophotographic photosensitive member having a releasable surface to a material to be transferred which becomes a support for printing, and for making the printing original plate a printing plate. Is a layer having a function of being removed by a chemical reaction treatment. Therefore, the resin as the main component that constitutes the transfer layer used in the present invention is a thermoplastic resin and is a resin that is eluted and removed by a chemical reaction treatment. here,
The above resins mainly used in the transfer layer are collectively referred to as a resin (A) (including a resin (A 1 ) and a resin (A 2 )).

【0012】本発明の転写層は、光透過性のものであ
り、且つ電子写真感光体の分光感度領域の波長光の少な
くとも一部に対して透過性を有するものであれば、特に
限定されるものではなく、着色されていてもよい。通常
無色透明な転写層を用いる。
The transfer layer of the present invention is not particularly limited as long as it is light-transmissive and has a property of transmitting at least a part of wavelength light in the spectral sensitivity region of the electrophotographic photosensitive member. It may be colored instead of the one. Usually, a colorless and transparent transfer layer is used.

【0013】本発明の第1転写層(T1)を形成するため
に用いられる樹脂粒子(AL)は、前記の如く、ガラス
転移点又は軟化点の2℃以上異なる二種の樹脂(A1)及
び樹脂(A2)を少なくとも同一粒子内に含有する。本発
明では、ガラス転移点及び軟化点が本発明の範囲に属す
る樹脂(A1)及び樹脂(A2)とを任意に選択して、本発
明に供することができる。
The resin particles (AL) used for forming the first transfer layer (T 1 ) of the present invention are, as described above, two kinds of resins (A 1 having different glass transition points or softening points of 2 ° C. or more). ) And the resin (A 2 ) at least in the same particle. In the present invention, the resin (A 1 ) and the resin (A 2 ) whose glass transition point and softening point are within the scope of the present invention can be arbitrarily selected and provided for the present invention.

【0014】樹脂(A1)は、好ましくはガラス転移点3
0〜120℃又は軟化点38℃〜160℃であり、より
好ましくはガラス転移点35〜90℃又は軟化点40℃
〜120℃であり、樹脂(A2)は、好ましくはガラス転
移点−40℃〜+40℃又は軟化点0℃〜40℃であ
り、より好ましくはガラス転移点−20〜+33℃又は
軟化点5℃〜35℃である。また、樹脂(A1)と樹脂
(A2)のガラス転移点又は軟化点の差は5℃以上、更に
は10℃以上が好ましい。ここで、樹脂(A1)又は樹脂
(A2)が2種以上含有される場合におけるガラス転移点
又は軟化点の差は、樹脂(A1)中の最もガラス転移点又
は軟化点の低いものと、樹脂(A2)中の最もガラス転移
点又は軟化点の高いものとの差をいうものである。
The resin (A 1 ) preferably has a glass transition point of 3
0 to 120 ° C. or softening point 38 ° C. to 160 ° C., more preferably glass transition point 35 to 90 ° C. or softening point 40 ° C.
To 120 ° C, the resin (A 2 ) preferably has a glass transition point of -40 ° C to + 40 ° C or a softening point of 0 ° C to 40 ° C, and more preferably a glass transition point of -20 to + 33 ° C or a softening point of 5. C to 35C. Further, the difference between the glass transition point or the softening point of the resin (A 1 ) and the resin (A 2 ) is preferably 5 ° C. or higher, more preferably 10 ° C. or higher. Here, the difference in the glass transition point or the softening point in the case where two or more kinds of the resin (A 1 ) or the resin (A 2 ) are contained is the one having the lowest glass transition point or the softening point in the resin (A 1 ). And a resin (A 2 ) having the highest glass transition point or softening point.

【0015】樹脂(A1)と樹脂(A2)は、樹脂(A1)/
樹脂(A2)が5〜90/95〜10(重量比)の存在割
合で樹脂粒子(AL)内に含有されることにより、電子
写真特性及び転写性が良好で、転写層の耐久性もよく、
且つ優れた耐刷性の印刷版を得ることができる。更にト
ナー画像を形成し、被転写材に転写して原版とし、転写
層を化学反応処理により除去する迄に原版を重ね合わせ
て放置した時に、転写層と重ね合わされた上側の原版の
裏側とが密着して転写層のハガレを生じ、結果としてト
ナー画像の欠落を生じることがない(置き版特性が良
い)。より好ましい使用割合は、樹脂(A1)/樹脂(A
2)が10〜70/90〜30(重量比)である。
Resin (A 1 ) and resin (A 2 ) are the same as resin (A 1 ) /
Since the resin (A 2 ) is contained in the resin particles (AL) in an abundance ratio of 5 to 90/95 to 10 (weight ratio), electrophotographic characteristics and transferability are good, and durability of the transfer layer is also high. Often,
Moreover, a printing plate having excellent printing durability can be obtained. Furthermore, when a toner image is formed and transferred to a transfer material to form an original plate, and the original plates are left in a stacked state until the transfer layer is removed by a chemical reaction treatment, the transfer layer and the back side of the upper original plate overlapped with each other. There is no peeling of the transfer layer due to the close contact, and as a result, the toner image is not lost (the printing plate characteristics are good). A more preferable ratio is resin (A 1 ) / resin (A
2 ) is 10 to 70/90 to 30 (weight ratio).

【0016】また、本発明の樹脂粒子(AL)中に含有
される少なくとの二種の樹脂(A1)及び樹脂(A2)は、
粒子内で任意に混在する状態又は樹脂(A1)が主たる部
分と樹脂(A2)が主たる部分とに分離した層構造を形成
する状態(即ち、コア−シェル構造の粒子)のいずれで
もよく、また、コア−シェル構造の場合には、コアとな
る部分が樹脂(A1)であっても樹脂(A2)であっても、
特に限定されるものではない。
Further, at least two kinds of resin (A 1 ) and resin (A 2 ) contained in the resin particles (AL) of the present invention are
It may be either in a state of being arbitrarily mixed in the particles or in a state of forming a layered structure in which a resin (A 1 ) main portion and a resin (A 2 ) main portion are separated (that is, particles having a core-shell structure). In the case of the core-shell structure, whether the core part is the resin (A 1 ) or the resin (A 2 ),
It is not particularly limited.

【0017】樹脂(A1)及び樹脂(A2)の重量平均分子
量は、それぞれ好ましくは1×10 3〜5×105、より
好ましくは3×103〜8×104の範囲である。ここで
分子量はGPC法で測定しポリスチレン換算したもので
あり、以下Mwと略記することもある。
Resin (A1) And resin (A2) Weight average molecule
The amount is preferably 1 x 10 3~ 5 x 10Five,Than
Preferably 3 × 103~ 8 × 10FourRange. here
The molecular weight is measured by the GPC method and converted into polystyrene.
Yes, and may be abbreviated as Mw below.

【0018】本発明の転写層は上記第1転写層(T1)の
上に設けられる第2転写層(T2)が樹脂(A2)を主とし
て含有することを更なる特徴とする。第1転写層(T1)
中の樹脂(A2)と第2転写層(T2)の樹脂(A2)とは、
同じでも異なってもよい。第2転写層(T2)に用いられ
る樹脂(A2)は第1転写層(T1)に供される樹脂粒子
(AL)中の樹脂(A1)よりガラス転移点又は軟化点が
2℃以上、特に5℃以上低いことが好ましい。更に、樹
脂粒子(AL)中の樹脂(A1)がガラス転移点25℃以
上又は軟化点35℃以上であり、第2転写層(T2)に含
有される樹脂(A 2)が樹脂(A1)よりガラス転移点又は
軟化点で10℃〜40℃の範囲で低い樹脂であることが
好ましい。
The transfer layer of the present invention is the first transfer layer (T1)of
The second transfer layer (T2) Is the resin (A2)
It is a further feature that the content is included. First transfer layer (T1)
Resin (A2) And the second transfer layer (T2) Resin (A2) Is
It may be the same or different. Second transfer layer (T2) Used for
Resin (A2) Is the first transfer layer (T1) Resin particles
Resin in (AL) (A1) From the glass transition point or softening point
It is preferably 2 ° C. or higher, particularly 5 ° C. or higher. Furthermore, the tree
Resin (A) in oil particles (AL)1) Is the glass transition temperature of 25 ° C or higher
The upper or softening point is 35 ° C. or higher, and the second transfer layer (T2)
Resin (A 2) Is the resin (A1) From the glass transition point or
The resin has a low softening point in the range of 10 ° C to 40 ° C.
preferable.

【0019】本発明の転写層を形成する樹脂(A)は、
上述の如く、化学反応処理で除去可能な樹脂である。化
学反応処理で除去可能な樹脂(A)は、化学反応処理に
より溶解及び/又は膨潤して除去される樹脂、並びに化
学反応処理により親水化されその結果溶解及び/又は膨
潤して除去される樹脂を包含する。
The resin (A) forming the transfer layer of the present invention is
As mentioned above, it is a resin that can be removed by a chemical reaction treatment. The resin (A) that can be removed by the chemical reaction treatment is a resin that is dissolved and / or swelled by the chemical reaction treatment to be removed, and a resin that is hydrophilized by the chemical reaction treatment and as a result is dissolved and / or swelled. Includes.

【0020】化学反応処理により除去される樹脂(A)
の1つの代表例は、アルカリ性処理液で除去し得る樹脂
であり、特に有用な樹脂は重合体成分に親水性基を含有
する樹脂である。
Resin (A) removed by chemical reaction treatment
Is a resin that can be removed with an alkaline treatment liquid, and a particularly useful resin is a resin containing a hydrophilic group in the polymer component.

【0021】また、他の代表例としては、親水性基を保
護基で保護した形で含有しており、化学反応により親水
性基を発現させ得る樹脂が挙げられる。官能基を親水性
基に変換し得る化学反応は、従来公知の加水分解反応、
加水素分解反応、加酸素分解反応、β−脱離反応、求核
置換反応等を利用した処理液による親水化反応、又は化
学的活性光線の照射を受けて分解反応することによる親
水化反応のいずれでもよい。
Another typical example is a resin containing a hydrophilic group protected by a protective group and capable of expressing the hydrophilic group by a chemical reaction. A chemical reaction capable of converting a functional group into a hydrophilic group is a conventionally known hydrolysis reaction,
Hydrophilic decomposition reaction by treatment solution using hydrogenolysis reaction, oxygen-oxygenation reaction, β-elimination reaction, nucleophilic substitution reaction, or hydrolytic reaction by decomposition reaction by irradiation of chemically active light Either is fine.

【0022】特に、前述の通り、転写層用熱可塑性樹脂
(A1)及び(A2)の各々が、下記の、特定の親水性基を
含有する重合体成分(a)及び化学反応で特定の親水性
基を生成する官能基を含有する重合体成分(b)のうち
の少なくともいずれか一方の重合体成分を含有する共重
合体であることが好ましい。
In particular, as described above, each of the transfer layer thermoplastic resins (A 1 ) and (A 2 ) is specified by the following polymer component (a) containing a specific hydrophilic group and a chemical reaction. It is preferable that the copolymer contains at least one of the polymer components (b) having a functional group that produces a hydrophilic group.

【0023】重合体成分(a):−CO2H基、−CH
O基、−SO3H基、−SO2H基、−P(=O)(OH)
1基{R1は−OH基、炭化水素基又は−OR2基(R2
は炭化水素基を表わす)を表わす}、フェノール性OH
基、酸環状無水物含有基、−CONHCOR3基(R3
炭化水素基を表わす)及び−CONHSO23基のうち
の少なくとも1つの基を含有する重合体成分。 重合体成分(b):化学反応で−CO2H基、−CHO
基、−SO3H基、−SO2H基、−P(=O)(OH)R
1基{R1は−OH基、炭化水素基又は−OR2基(R2
炭化水素基を表わす)を表わす}及び−OH基のうちの
少なくとも1つの基を生成する官能基を少なくとも1種
含有する重合体成分。
Polymer component (a): --CO 2 H group, --CH
O group, -SO 3 H group, -SO 2 H group, -P (= O) (OH )
R 1 group {R 1 is an -OH group, a hydrocarbon group or an -OR 2 group (R 2
Represents a hydrocarbon group), and phenolic OH
Group, the polymer component containing at least one group of the cyclic anhydride-containing group, -CONHCOR 3 groups (R 3 represents a hydrocarbon group) and a -CONHSO 2 R 3 group. Polymer component (b): -CO 2 H group in chemical reactions, -CHO
Group, -SO 3 H group, -SO 2 H group, -P (= O) (OH ) R
At least one functional group forming at least one group of 1 group {R 1 represents -OH group, hydrocarbon group or -OR 2 group (R 2 represents hydrocarbon group)} and -OH group. Seed-containing polymer component.

【0024】ここで、−P(=O)(OH)R1基は、下
記で表わされる基を示す。
Here, the -P (= O) (OH) R 1 group is a group represented by the following.

【0025】[0025]

【化1】 Embedded image

【0026】上記のR1、R2及びR3で示される炭化水
素基は、具体的には置換されていてもよい炭素数1〜1
8の脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−
メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、アリル
基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、、
メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベンジル
基、メトキシベンジル基等)又は置換されていてもよい
アリール基(フェニル基、トリル基、エチルフェニル
基、プロピル−メチル−フェニル基、ジクロロフェニル
基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセトア
ミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェニ
ル基等)等である。
The above-mentioned hydrocarbon groups represented by R 1 , R 2 and R 3 specifically have 1 to 1 carbon atoms which may be substituted.
8 aliphatic groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
Methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or optionally substituted aryl group (phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propyl-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group) , Cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.) and the like.

【0027】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、グルタコン
酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロぺンタン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.
2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。芳香族ジカルボン
酸無水物の例としては、フタル酸無水物環、ナフタレン
ジカルボン酸無水物環、ピリジンジカルボン酸無水物
環、チオフェンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、こ
れらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のア
ルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基等)等が置換されていてもよい。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride to be contained include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-
1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,
2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo [2.2.
2] Octanedicarboxylic acid anhydride ring and the like, and these rings are substituted with, for example, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group or a hexyl group. Good. Examples of the aromatic dicarboxylic acid anhydride include a phthalic acid anhydride ring, a naphthalene dicarboxylic acid anhydride ring, a pyridine dicarboxylic acid anhydride ring, a thiophene dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. Substituted with halogen atom such as bromine atom, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.) It may have been done.

【0028】転写層用熱可塑性樹脂として上記重合体成
分(a)を含有する樹脂を用いる場合、化学反応処理に
おける転写層の除去が容易かつ迅速に達成される点で好
ましく、他方上記重合体成分(b)を含有する樹脂を用
いる場合、樹脂自身の電気絶縁性の保持が容易となり、
電子写真特性の低下を生じることなく複写画像の再現性
が維持され、また樹脂自身のガラス転移点を低い温度範
囲内に調整することができる点で好ましい。
When a resin containing the above-mentioned polymer component (a) is used as the thermoplastic resin for the transfer layer, the removal of the transfer layer in the chemical reaction treatment is easily and rapidly achieved, while the above-mentioned polymer component is used. When a resin containing (b) is used, it becomes easy to maintain the electric insulation of the resin itself,
It is preferable in that the reproducibility of the copied image can be maintained without deteriorating the electrophotographic characteristics, and the glass transition point of the resin itself can be adjusted within a low temperature range.

【0029】樹脂(A)は重合体成分(a)及び重合体
成分(b)を含有してもよく、これら重合体成分を適当
に選択することにより、樹脂(A)の良好な電気絶縁性
及びガラス転移点が満足され、電子写真特性及び転写性
が著しく向上し、且つ転写層は印刷版としての非画像部
の親水性やトナー画像を劣化させることなく迅速且つ完
全に除去することができる。その結果、被転写材に転写
された複写画像の原画に対する再現性は極めて良好であ
り、また転写の条件も低温・低圧で容易に実施されるこ
とから転写装置の小型化が可能となる。また、印刷版と
して用いても、転写層の残存による非画像部の汚染は全
く見られず、且つ細線・細文字、網点階調部分等の高精
細なトナー画像部の欠落も殆ど生じなくなり好ましい。
The resin (A) may contain the polymer component (a) and the polymer component (b), and by appropriately selecting these polymer components, the resin (A) has good electrical insulation properties. And the glass transition point are satisfied, electrophotographic characteristics and transferability are remarkably improved, and the transfer layer can be removed quickly and completely without deteriorating the hydrophilicity of the non-image area as a printing plate or the toner image. . As a result, the reproducibility of the copied image transferred to the transfer material with respect to the original image is extremely good, and the transfer conditions are easily carried out at low temperature and low pressure, so that the transfer device can be downsized. Even when used as a printing plate, no contamination of the non-image area due to the residual transfer layer was observed, and there was almost no loss of high-definition toner image areas such as fine lines / fine characters and halftone dot areas. preferable.

【0030】重合体成分(a)及び(b)の存在量が少
なすぎると、転写層の化学反応処理による除去が難しく
なり、印刷版として印刷すると非画像部の地汚れとなっ
てしまう。他方、多すぎる場合には、樹脂(A)の他の
共重合成分をいかに調整しても樹脂(A)のガラス転移
点又は軟化点を適当な範囲にすることが困難となり、結
果として転写層の被転写材への転写性の悪化を生じた
り、転写層の電気的絶縁性が低下し電子写真感光体とし
ての帯電性が劣化し、複写画像の再現性が悪化するとい
う問題を生じる。
When the amount of the polymer components (a) and (b) present is too small, it becomes difficult to remove the transfer layer by a chemical reaction treatment, and when the printing plate is printed, the non-image area is stained. On the other hand, if the amount is too large, it will be difficult to control the glass transition point or softening point of the resin (A) to an appropriate range, no matter how the other copolymerization components of the resin (A) are adjusted, resulting in a transfer layer. And the reproducibility of the copied image is deteriorated, resulting in deterioration of the electrical insulation of the transfer layer and deterioration of the chargeability of the electrophotographic photosensitive member.

【0031】従って、樹脂(A)における重合体成分
(a)及び重合体成分(b)の含有量は以下の通りが好
ましい。特定の親水性基を含有する重合体成分(a)の
みを樹脂(A)に含有する場合には、樹脂(A)の全重
合体成分中好ましくは3〜50重量%、より好ましくは
5〜40重量%である。また、化学反応処理で親水性基
を生成する官能基を含有する重合体成分(b)のみを含
有する場合には、樹脂(A)の全重合体成分中好ましく
は3〜100重量%、より好ましくは5〜70重量%で
ある。更には、重合体成分(a)及び重合体成分(b)
を含有する場合には、樹脂(A)の全重合体成分中、重
合体成分(a)は好ましくは0.5〜30重量%、より
好ましくは1〜25重量%であり、重合体成分(b)は
好ましくは3〜99.5重量%、より好ましくは5〜5
0重量%である。
Therefore, the contents of the polymer component (a) and the polymer component (b) in the resin (A) are preferably as follows. When only the polymer component (a) containing a specific hydrophilic group is contained in the resin (A), preferably 3 to 50% by weight, more preferably 5 to 5% by weight based on the total polymer components of the resin (A). It is 40% by weight. Further, in the case of containing only the polymer component (b) containing a functional group capable of generating a hydrophilic group in the chemical reaction treatment, it is preferably 3 to 100% by weight in the total polymer components of the resin (A), It is preferably 5 to 70% by weight. Further, the polymer component (a) and the polymer component (b)
When the polymer component (a) is contained, the polymer component (a) is preferably 0.5 to 30% by weight, more preferably 1 to 25% by weight, based on the total polymer components of the resin (A). b) is preferably 3 to 99.5% by weight, more preferably 5 to 5
0% by weight.

【0032】次に、樹脂(A)中に含有され得る各重合
体成分について詳述する。重合体成分(a)は、前記し
た様な特定の親水性基を含有する共重合成分であればよ
く、特に限定されるものではない。親水性基は塩の形を
とってもよい。親水性基含有の共重合成分の具体例は、
かかる親水性基を含有するビニル系化合物であればいず
れでもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記載さ
れている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置
換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキ
シメチル体、α−(2−アミノ)エチル体、α−クロロ
体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリ
ル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α
−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、
メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、
イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカ
ルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−
ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセ
ン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、
マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニ
ルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビ
ニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類の
ビニル基又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらの
カルボン又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導
体の置換基中に親水性基を含有する化合物等が挙げられ
る。
Next, each polymer component that can be contained in the resin (A) will be described in detail. The polymer component (a) is not particularly limited as long as it is a copolymer component containing a specific hydrophilic group as described above. The hydrophilic groups may take the form of salts. Specific examples of the hydrophilic group-containing copolymer component include
Any vinyl compound containing such a hydrophilic group may be used, and it is described, for example, in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) ethyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -Fluoro compound, α-tributylsilyl compound, α-cyano compound, β-chloro compound, β-bromo compound, α
-Chloro-β-methoxy, α, β-dichloro, etc.),
Methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters,
Itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-
Hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid,
Maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acids, vinylbenzenesulfonic acids, vinylsulfonic acids, vinylphosphonic acids, half-ester derivatives of vinyl groups or allyl groups of dicarboxylic acids and their carvone or sulfonic acid Examples thereof include compounds having a hydrophilic group in the substituents of ester derivatives and amide derivatives.

【0033】以下に上記親水性基含有の共重合成分
(a)を例示する。ここで、R4は−H又は−CH3を示
し、R5は−H、−CH3又は−CH2COOCH3を示
し、R6は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R7は炭素
数1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示
し、eは1又は2の整数を示し、fは1〜3の整数を示
し、gは2〜11の整数を示し、hは1〜11の整数を
示し、iは2〜4の整数を示し、jは2〜10の整数を
示す。
Examples of the hydrophilic group-containing copolymer component (a) are shown below. Wherein, R 4 represents -H or -CH 3, R 5 is -H, indicates -CH 3 or -CH 2 COOCH 3, R 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 7 is It shows an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group or a phenyl group, e is an integer of 1 or 2, f is an integer of 1 to 3, g is an integer of 2 to 11, and h is 1 Indicates an integer of 1 to 11, i indicates an integer of 2 to 4, and j indicates an integer of 2 to 10.

【0034】[0034]

【化2】 Embedded image

【0035】[0035]

【化3】 [Chemical 3]

【0036】[0036]

【化4】 [Chemical 4]

【0037】[0037]

【化5】 [Chemical 5]

【0038】[0038]

【化6】 [Chemical 6]

【0039】[0039]

【化7】 [Chemical 7]

【0040】[0040]

【化8】 Embedded image

【0041】次に、重合体成分(b)について説明す
る。重合体成分(b)は、化学反応により少なくとも1
個の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有す
る重合体成分である。化学反応により1つの官能基から
生成する上記親水性基は1個でも2個以上でもよい。
Next, the polymer component (b) will be described. The polymer component (b) contains at least 1 by a chemical reaction.
It is a polymer component containing at least one kind of functional group that generates a hydrophilic group. The number of the hydrophilic groups generated from one functional group by a chemical reaction may be one or two or more.

【0042】まず、化学反応により少なくとも1つのカ
ルボキシル基を生成する官能基について説明する。本発
明の1つの好ましい態様によれば、カルボキシル基生成
官能基としては、例えば、下記一般式(I)で示される
官能基が挙げられる。 一般式(I) −COO−L1 一般式(I)において、L1は下記の基を表わす。
First, a functional group which produces at least one carboxyl group by a chemical reaction will be described. According to one preferred embodiment of the present invention, the carboxyl group-forming functional group includes, for example, a functional group represented by the following general formula (I). General formula (I) -COO-L 1 in formula (I), L 1 is represents the following group.

【0043】[0043]

【化9】 [Chemical 9]

【0044】ここで、R11及びR12は互いに同じでも異
なっていてもよく、水素原子又は炭化水素基を表わし、
Xは芳香族基を表わし、Zは水素原子、ハロゲン原子、
トリハロメチル基、アルキル基、−CN基、−NO
2基、−SO21基(Z1は炭化水素基を示す)、−CO
OZ2基(Z2は炭化水素基を示す)、−OZ3基(Z3
炭化水素基を示す)又は−COZ4基(Z4は炭化水素基
を示す)を表わし、n、mはそれぞれ0、1又は2を表
わす。但し、n及びmが共に0の場合、Zは水素原子を
表わさない。A1及びA2は同じでも異なっていてもよ
く、Hammetの置換基定数σ値が正の値を示す電子吸引性
基を表わす。R13は水素原子又は炭化水素基を表わす。
14、R15及びR16並びにR20及びR21は、互いに同じ
でも異なっていてもよく、各々炭化水素基又は−OZ5
基(Z5は炭化水素基を示す)を表わす。Y1は酸素原子
又はイオウ原子を表わし、R17、R18及びR19は同じで
も異なっていてもよく、各々水素原子、炭化水素基又は
−OZ7基(Z7は炭化水素基を示す)を表わし、pは3
又は4の整数を表わす。Y2は環状イミド基を形成する
有機残基を表わす。
Here, R 11 and R 12, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group,
X represents an aromatic group, Z is a hydrogen atom, a halogen atom,
Trihalomethyl group, alkyl group, -CN group, -NO
2 group, -SO 2 Z 1 group (Z 1 represents a hydrocarbon group), - CO
Represents an OZ 2 group (Z 2 represents a hydrocarbon group), an —OZ 3 group (Z 3 represents a hydrocarbon group) or a —COZ 4 group (Z 4 represents a hydrocarbon group), and n and m represent Represents 0, 1 or 2. However, when both n and m are 0, Z does not represent a hydrogen atom. A 1 and A 2 may be the same or different and each represents an electron-withdrawing group having a positive Hammet substituent constant σ value. R 13 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
R 14 , R 15 and R 16 and R 20 and R 21 may be the same or different from each other and each is a hydrocarbon group or —OZ 5
Represents a group (Z 5 represents a hydrocarbon group). Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 17 , R 18 and R 19 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a —OZ 7 group (Z 7 represents a hydrocarbon group). And p is 3
Or represents an integer of 4. Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group.

【0045】以下更に詳しく説明する。R11、R12は互
いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子
又は置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分枝
状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ヒドロキシエチル基、3−
クロロプロピル基等)を表わし、Xは好ましくは置換さ
れてもよい、フェニル基又はナフチル基(例えばフェニ
ル基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ジメチル
フェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル基等)
を表わし、Zは好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、フッ素原子等)、トリハロメチル基(例
えばトリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等)、
炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分枝状ア
ルキル基(例えばメチル基、クロロメチル基、ジクロロ
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、テトラフルオロエチル基、オクチル基、シアノエチ
ル基、クロロエチル基等)、−CN基、−NO2基、−
SO21基{Z1は脂肪族基(例えば炭素数1〜12の
置換されてもよいアルキル基、具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロエチル基、ペン
チル基、オクチル基等、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基、具体的にはベンジル基、フェネチル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、クロロフ
ェネチル基、メチルフェネチル基等)又は芳香族基(例
えば置換基を含有してもよいフェニル基又はナフチル
基、具体的にはフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル
基、アセチルフェニル基、アセトアミドフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、ナフチル基等)を表わ
す}、−COOZ2基(Z2は上記Z1と同義である)、
−OZ3基(Z3は上記Z1と同義である)又は−COZ4
基(Z4は上記Z1と同義である)を表わす。n、mは各
々0、1又は2を表わす。但し、n及びmが共に0の場
合、Zは水素原子を表わさない。
A more detailed description will be given below. R 11 and R 12 may be the same as or different from each other, preferably a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). , Chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, hydroxyethyl group, 3-
A phenyl group or a naphthyl group (eg, a phenyl group, a methylphenyl group, a chlorophenyl group, a dimethylphenyl group, a chloromethylphenyl group, a naphthyl group, etc.) which may be substituted.
Z is preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, fluorine atom, etc.), a trihalomethyl group (eg, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, etc.),
A linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, tetrafluoroethyl group, Octyl group, cyanoethyl group, chloroethyl group, etc.), -CN group, -NO 2 group,-
SO 2 Z 1 group {Z 1 is an aliphatic group (for example, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a chloroethyl group, a pentyl group, An aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted, such as an octyl group, specifically, a benzyl group, a phenethyl group, a chlorobenzyl group, a methoxybenzyl group, a chlorophenethyl group, a methylphenethyl group or the like or an aromatic group ( For example, a phenyl group or a naphthyl group which may have a substituent, specifically, a phenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, an acetylphenyl group, an acetamidophenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, a naphthyl group. Group, etc.)}, a —COOZ 2 group (Z 2 has the same meaning as Z 1 above),
-OZ 3 group (Z 3 has the same meaning as Z 1 above) or -COZ 4
Represents a group (Z 4 has the same meaning as Z 1 above). n and m each represent 0, 1 or 2. However, when both n and m are 0, Z does not represent a hydrogen atom.

【0046】R14、R15、R16及びR20、R21は互いに
同じでも異なっていてもよく、好ましくは、炭素数1〜
18の置換されてもよい脂肪族基{脂肪族基はアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基又は脂環式基を示し、
置換基としては例えばハロゲン原子、−CN基、−OZ
6基(Z6はアルキル基、アラルキル基、脂環式基、アリ
ール基を示す)等が挙げられる}、炭素数6〜18の置
換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、トリル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、アセトア
ミドフェニル基、ナフチル基等)又は−OZ5基(Z5
置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換さ
れてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されて
もよい炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜18
の置換されてもよい脂環式基、炭素数6〜18の置換さ
れてもよいアリール基を示す)を表わす。
R 14 , R 15 , R 16 and R 20 , R 21 may be the same or different from each other, and preferably have 1 to 1 carbon atoms.
18 optionally substituted aliphatic groups {The aliphatic group represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or an alicyclic group,
Examples of the substituent include a halogen atom, -CN group, -OZ
6 groups (Z 6 represents an alkyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group) and the like}, an optionally substituted aromatic group having 6 to 18 carbon atoms (for example, a phenyl group, a tolyl group, A chlorophenyl group, a methoxyphenyl group, an acetamidophenyl group, a naphthyl group, or the like, or an -OZ 5 group (Z 5 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an optionally substituted alkenyl having 2 to 12 carbon atoms). Group, optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, 5 to 18 carbon atoms
Represents an optionally substituted alicyclic group and an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms).

【0047】A1、A2は互いに同じでも異なっていても
よく、各々少なくとも一方が電子吸引基であり、A1
2のHammetのσp 値の和が0.45以上であればよ
い。ここで言う電子吸引基の例としては、例えばアシル
基、アロイル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アロイルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン
原子、ハロゲン化アルキル基、カルバモイル基等が挙げ
られる。Hammetのσp 値は、通常置換基の電子吸引・供
与の度合いを見積もる指標として用いられており、+側
に大きいほど強い電子吸引基として扱われる。各置換基
に対する具体的な数値については、稲本直樹著「ハメッ
ト則―構造と反応性」丸善(1984年刊)等に記載されて
いる。また、この系におけるHammetのσp 値は加成性が
成り立つと考えられ、A1、A2の両方が電子吸引基であ
る必要はない。従って、一方、例えばA1が電子吸引基
である場合、他方のA2の置換基は、A1、A2のσp値の
和が0.45以上になるものであればいずれでもよく、
特に制限されるところはない。
[0047] A 1, A 2 may be the same or different, are each at least one electron withdrawing group, A 1,
The sum of Hammet's σ p values of A 2 may be 0.45 or more. Examples of the electron withdrawing group referred to here include, for example, an acyl group, an aroyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group,
Examples thereof include aroylsulfonyl group, nitro group, cyano group, halogen atom, halogenated alkyl group, carbamoyl group and the like. Hammet's σ p value is usually used as an index for estimating the degree of electron withdrawal / donation of a substituent, and the larger it is on the + side, the stronger the electron withdrawing group. Specific numerical values for each substituent are described in Naoki Inamoto's "Hammett's Rule-Structure and Reactivity" Maruzen (1984). Further, it is considered that the Hammett σ p value in this system is additive, and it is not necessary that both A 1 and A 2 are electron withdrawing groups. Therefore, for example, when A 1 is an electron-withdrawing group, the other substituent of A 2 may be any as long as the sum of the σ p values of A 1 and A 2 is 0.45 or more,
There are no particular restrictions.

【0048】R13は炭素数1〜8の置換されていてもよ
い炭化水素基を表わし、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、アリル基、ベンジル基、フェネチル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキ
シエチル基、3−メトキシプロピル基、2−クロロエチ
ル基等が挙げられる。Y1は酸素原子又はイオウ原子を
表わす。
R 13 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, allyl group, benzyl group, phenethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2- A chloroethyl group etc. are mentioned. Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom.

【0049】R17、R18及びR19は互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよ
い炭素数1〜18の直鎖状又は分枝状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプ
ロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよ
い炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、
フエネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフ
ェニル基等)又は−OZ7基(Z7は炭化水素基を表わ
し、具体的には上記R17、R18、R 19の炭化水素基と同
一の置換基類を示す)を表わす。pは3又は4の整数を
表わす。
R17, R18And R19Are the same as each other but different
May be present, preferably a hydrogen atom, which may be substituted
A straight-chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg,
Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hex
Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group
Group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxy group
Ropyl group, etc.), an alicyclic group which may be substituted (eg
Lopentyl group, cyclohexyl group, etc.), may be substituted
An aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, a benzyl group,
Phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group
Etc.), an optionally substituted aromatic group (eg, a phenyl group,
Naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxy group
Phenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group
Phenyl group) or -OZ7Group (Z7Represents a hydrocarbon group
And specifically R above17, R18, R 19Same as hydrocarbon group of
Represents one substituent group). p is an integer of 3 or 4
Represent.

【0050】Y2は、環状イミド基を形成する有機残基
を表わす。好ましくは、一般式(A)又は一般式(B)
で示される有機残基を表わす。
Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, the general formula (A) or the general formula (B)
Represents an organic residue represented by.

【0051】[0051]

【化10】 [Chemical 10]

【0052】式(A)中、R22及びR23は各々同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換さ
れてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノ
エチル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホ
ニル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基
等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メト
キシベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基
等)、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基、2
−ヘキセニル基、4−プロピル−2−ペンテニル基、1
2−オクタデセニル基等)、−SZ8基{Z8は前記R22
又はR23のアルキル基、アラルキル基、アルケニル基と
同一の内容を表わす置換基、又は置換されてもよいアリ
ール基(例えばフェニル基、トリル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基等)を表わ
す}又は−NHZ9基(Z9は前記Z8と同一の内容を表
わす)を表わす。また、R22とR23で環を形成する残基
を表わしてもよい{例えば5又は6員環の単環(例えば
シクロペンチル環、シクロヘキシル環)、又は5又は6
員環のビシクロ環(例えばビシクロヘプタン環、ビシク
ロヘプタン環、ビシクロオクタン環、ビシクロオクテン
環等)、更にはこれらの環は置換されていてもよく、置
換基としてはR22、R23で前記した内容と同一のものを
含む}。qは2又は3の整数を表わす。
In the formula (A), R 22 and R 23 may be the same or different and each may be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.) or a C 1-18 substituent. Good alkyl groups (eg methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.), substituted with 7 to 12 carbon atoms Aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), which may be substituted with 3 to 18 carbon atoms Good alkenyl groups (eg allyl group, 3-methyl-2-propenyl group, 2
-Hexenyl group, 4-propyl-2-pentenyl group, 1
2-octadecenyl group, etc.), —SZ 8 group (Z 8 is the above R 22
Or a substituent having the same meaning as the alkyl group, aralkyl group or alkenyl group of R 23 , or an aryl group which may be substituted (eg, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group) Group, ethoxycarbonylphenyl group, etc.) or --NHZ 9 group (Z 9 has the same meaning as Z 8 ). In addition, a residue forming a ring by R 22 and R 23 may be represented (for example, a 5- or 6-membered monocyclic ring (eg, cyclopentyl ring, cyclohexyl ring), or 5 or 6
A membered bicyclo ring (for example, a bicycloheptane ring, a bicycloheptane ring, a bicyclooctane ring, a bicyclooctene ring, etc.), and these rings may be substituted, and the substituents are the same as those described above for R 22 and R 23 . Including the same as the contents}. q represents an integer of 2 or 3.

【0053】[0053]

【化11】 [Chemical 11]

【0054】式(B)中、R24、R25は同一でも異なっ
てもよく、前記R22、R23と同一の内容を表わす。更に
は、R24とR25は連続して芳香族環を形成する有機残基
を表わしてもよい(例えばベンゼン環、ナフタレン環
等)。
In the formula (B), R 24 and R 25 may be the same or different and have the same contents as R 22 and R 23 . Furthermore, R 24 and R 25 may represent an organic residue which continuously forms an aromatic ring (eg, benzene ring, naphthalene ring, etc.).

【0055】更に、本発明の好ましい他の1つの態様と
して、下記一般式(II)で示されるオキサゾロン環を挙
げることができる。
Further, another preferable embodiment of the present invention is an oxazolone ring represented by the following general formula (II).

【0056】[0056]

【化12】 [Chemical 12]

【0057】一般式(II)において、R26、R27は互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子若しくは
炭化水素基を表わすか、又はR26とR27とが一緒に環を
形成する。好ましくは、R26、R27は互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子、置換されていてもよい炭
素数1〜12の直鎖状又は分枝状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基等)、置換されていてもよい炭素数7〜12のアラル
キル基(例えばベンジル基、4−クロロベンジル基、4
−アセトアミドベンジル基、フェネチル基、4−メトキ
シベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数2〜1
2のアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプ
ロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等)、置換され
ていてもよい5〜7員環の脂環式基(例えばシクロペン
チル基、シクロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基
等)、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
クロロフェニル基、メトキシフェニル基、アセトアミド
フェニル基、メチルフェニル基、ジクロロフェニル基、
ニトロフェニル基、ナフチル基、ブチルフェニル基、ジ
メチルフェニル基等)を表わすか、又はR26とR27とが
一緒に環(例えばテトラメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキサメチレン基等)を形成してもよい。
In the general formula (II), R 26 and R 27 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, or R 26 and R 27 together form a ring. . Preferably, R 26 and R 27 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl group, butyl group, hexyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4
-Acetamidobenzyl group, phenethyl group, 4-methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted carbon number 2 to 1
2 alkenyl groups (eg vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, etc.), optionally substituted 5- to 7-membered alicyclic groups (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group, chlorocyclohexyl group) Groups, etc.), optionally substituted aromatic groups (eg phenyl groups,
Chlorophenyl group, methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, methylphenyl group, dichlorophenyl group,
Nitrophenyl group, naphthyl group, butylphenyl group, dimethylphenyl group, etc.) or R 26 and R 27 together form a ring (eg, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, etc.) Good.

【0058】また、化学反応により少なくとも1つのス
ルホ基を生成する官能基としては、例えば下記一般式
(III)又は(IV)で表される官能基が挙げられる。 一般式(III) −SO2−O−L2 一般式(IV) −SO2−S−L2 式(III)又は(IV)中、L2は、下記の基を表わす。
Examples of the functional group which produces at least one sulfo group by a chemical reaction include functional groups represented by the following general formula (III) or (IV). General formula (III) in -SO 2 -O-L 2 formula (IV) -SO 2 -S-L 2 formula (III) or (IV), L 2 represents a group shown below.

【0059】[0059]

【化13】 [Chemical 13]

【0060】ここで、R11、R12、X、Z、n、m、Y
2、R20及びR21はそれぞれ前記と同一の内容を表わ
す。R26′、R27′はそれぞれ水素原子又は炭化水素基
(R26の炭化水素基と同一内容)を表わす。
Here, R 11 , R 12 , X, Z, n, m and Y
2 , R 20 and R 21 have the same contents as described above. R 26 ′ and R 27 ′ each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group (the same content as the hydrocarbon group for R 26 ).

【0061】更に、化学反応により少なくとも1つのス
ルフィン酸基を生成する官能基としては、例えば下記一
般式(V)で表される官能基が挙げられる。
Further, examples of the functional group capable of forming at least one sulfinic acid group by a chemical reaction include a functional group represented by the following general formula (V).

【0062】[0062]

【化14】 Embedded image

【0063】式(V)中、A1、A2及びR13は、それぞ
れ前記と同一の内容を表わす。
In the formula (V), A 1 , A 2 and R 13 have the same contents as described above.

【0064】また、化学反応により−P(=O)(OH)
1基を生成する官能基としては、例えば下記一般式(V
Ia)又は(VIb)で表される官能基が挙げられる。
Further, by chemical reaction, -P (= O) (OH)
Examples of the functional group that forms the R 1 group include the following general formula (V
The functional group represented by Ia) or (VIb) may be mentioned.

【0065】[0065]

【化15】 [Chemical 15]

【0066】式(VIa)又は(VIb)中、L3、L4は同
じでも異なってもよく、それぞれ前記L1と同一の内容
を表わす。R1は前記と同一の内容を表わす。
In formula (VIa) or (VIb), L 3 and L 4 may be the same or different and each has the same meaning as L 1 . R 1 has the same meaning as described above.

【0067】更に、化学反応により−OH基を生成する
官能基としては、例えば下記一般式(VII)で表される官
能基が挙げられる。 一般式(VII) −O−L5 式(VII)中、L5は、下記の基を表わす。
Further, examples of the functional group which produces a —OH group by a chemical reaction include a functional group represented by the following general formula (VII). In the general formula (VII) -O-L 5 formula (VII), L 5 represents a group of the following.

【0068】[0068]

【化16】 Embedded image

【0069】ここで、R28は炭化水素基を表わし、具体
的にはR11と同一の内容を表わす。R14〜R19、Y1
びpはそれぞれ前記と同一の内容を表わす。
Here, R 28 represents a hydrocarbon group, and specifically has the same contents as R 11 . R 14 ~R 19, Y 1 and p each represent the same contents.

【0070】更に、化学反応により−OH基を生成する
官能基の他の好ましい態様によれば、ヒドロキシル基生
成官能基は、互いに立体的に近い位置にある少なくとも
2つのヒドロキシル基を1つの保護基で同時に保護した
形で有する官能基である。互いに立体的に近い位置にあ
る少なくとも2つのヒドロキシル基を1つの保護した形
で有する官能基の例としては例えば下記一般式(VIII)、
(IX)及び(X)で表される官能基を挙げることができ
る。
Further, according to another preferred embodiment of the functional group which produces a —OH group by a chemical reaction, the hydroxyl group-forming functional group has at least two hydroxyl groups located sterically close to each other as one protecting group. It is a functional group which is simultaneously protected with. Examples of the functional group having at least two hydroxyl groups sterically close to each other in one protected form include, for example, the following general formula (VIII),
The functional groups represented by (IX) and (X) may be mentioned.

【0071】[0071]

【化17】 [Chemical 17]

【0072】式(VIII)〜(X)中、R29及びR30は、互
いに同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、炭化
水素基又は−OZ10基(Z10は炭化水素基を示す)を表
わし、Uはヘテロ原子を介してもよい炭素―炭素結合を
表わす(但し、酸素原子間の原子数は5個以内であ
る)。
In formulas (VIII) to (X), R 29 and R 30 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a —OZ 10 group (Z 10 represents a hydrocarbon group. ), And U represents a carbon-carbon bond which may have a heteroatom (provided that the number of atoms between oxygen atoms is within 5).

【0073】上記官能基について更に詳しく説明する
と、R29、R30は、互いに同じでも異なっていてもよ
く、好ましくは水素原子、炭素数1〜12の置換されて
もよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、2−メトキシエチル
基、オクチル基等)、炭素数7〜9の置換されてもよい
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基
等)、炭素数5〜7の脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)又は置換されてもよいアリ
ール基(例えばフェニル基、クロロフェニル基、メトキ
シフェニル基、メチルフェニル基、シアノフェニル基
等)又は−OZ10基(Z10はR29、R30における炭化水
素基と同義である)を表わす。Uは、ヘテロ原子を介し
てもよい炭素―炭素結合を表わし、且つ酸素原子間の原
子数は5個以内である。
Explaining the above-mentioned functional group in more detail, R 29 and R 30 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg methyl group). Group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-methoxyethyl group, octyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, Methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) or an optionally substituted aryl group (eg, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, Table methylphenyl group, cyanophenyl group) or -OZ 10 group (Z 10 has the same meaning as the hydrocarbon group of R 29, R 30) It is. U represents a carbon-carbon bond which may pass through a hetero atom, and the number of atoms between oxygen atoms is 5 or less.

【0074】以下に前記した一般式(I)〜(X)で表
される各官能基の具体例(b−1)〜(b−67)を例
示する。但し、本発明の内容は、これらに限定されるも
のではない。なお、下記具体例において、各記号は下記
に示す通りである。
Specific examples (b-1) to (b-67) of the functional groups represented by the above general formulas (I) to (X) are shown below. However, the content of the present invention is not limited to these. In the following specific examples, each symbol is as shown below.

【0075】[0075]

【化18】 [Chemical 18]

【0076】[0076]

【化19】 [Chemical 19]

【0077】[0077]

【化20】 Embedded image

【0078】[0078]

【化21】 [Chemical 21]

【0079】[0079]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0080】[0080]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0081】本発明において用いることのできる、化学
反応により−CO2H基、−CHO基、−SO3H基、−
SO2H基、−P(=O)(OH)R1基及び−OH基のう
ちの少なくとも1つの親水性基を生成する官能基を含有
する重合体成分(b)は、特に限定されるものではな
い。好ましくは前記した重合体成分(a)の親水性基が
保護された重合体成分を例として挙げることができる。
A --CO 2 H group, a --CHO group, a --SO 3 H group, a --CO 2 H group, a --SO 3 H group, a
The polymer component (b) containing a functional group that forms at least one hydrophilic group of SO 2 H group, —P (═O) (OH) R 1 group and —OH group is particularly limited. Not a thing. Preferably, the polymer component in which the hydrophilic group of the polymer component (a) is protected can be mentioned as an example.

【0082】本発明に用いることのできる前記した様な
−CO2H基、−CHO基、−SO3H基、−SO2
基、−P(=O)(OH)R1基及び/又は−OH基を化
学反応で発現する官能基は、これらの親水性基を保護し
た官能基であり、これら保護基の該親水性基への化学結
合による導入の方法は、従来公知の方法によって、容易
に行うことができる。例えば、J. F. W. McOmie「Prote
ctive groups in Organic Chemistry」(Plenum Press.1
973年刊)、T. W. Greene「Protective groups in Orga
nic Synthesis」(Wiley-Interscience 1981年刊)、日
本化学会編「新実験化学講座、第14巻、有機化合物の合
成と反応」(丸善(株)1978年刊)、岩倉義男・栗田恵
輔著「反応性高分子」(講談社)等に記載された各単位
反応が用いられる。
The above-mentioned --CO 2 H group, --CHO group, --SO 3 H group and --SO 2 H which can be used in the present invention.
Group, a -P (= O) (OH) R 1 group and / or a functional group which expresses an -OH group by a chemical reaction is a functional group obtained by protecting these hydrophilic groups. The introduction method by a chemical bond to the group can be easily performed by a conventionally known method. For example, JFW McOmie "Prote
ctive groups in Organic Chemistry '' (Plenum Press.1
973), TW Greene "Protective groups in Orga
nic Synthesis "(Wiley-Interscience 1981), Chemical Society of Japan," New Experimental Chemistry Course, Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds "(Maruzen Co., Ltd. 1978), Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita" Reactivity " Each unit reaction described in "Polymer" (Kodansha) or the like is used.

【0083】これらの官能基を樹脂(A)中に導入する
方法としては、−CO2H基、−CHO基、−SO3
基、−PO32基、−SO2H基、−OH基等から選ば
れた少なくとも1種の親水性基を含有する重合体を、反
応によって各々の親水性基を保護した官能基に変換す
る、いわゆる高分子反応による方法、又は前記した一般
式(I)〜(X)で示される官能基を1種又はそれ以上
含有する1種又はそれ以上の単量体を合成した後、これ
と共重合し得る他の任意の単量体との重合反応により重
合体とする方法により得られる。
As a method for introducing these functional groups into the resin (A), --CO 2 H group, --CHO group and --SO 3 H group are used.
Group, -PO 3 H 2 group, -SO 2 H group, a polymer containing at least one hydrophilic group selected from -OH group, the functional group protecting the respective hydrophilic groups by reaction The method of converting by a so-called polymer reaction, or after synthesizing one or more monomers containing one or more functional groups represented by the general formulas (I) to (X) described above, It can be obtained by a method of forming a polymer by a polymerization reaction with any other monomer copolymerizable with.

【0084】重合体中に、本発明に必要な官能基を任意
に調整し得る、あるいは、不純物(高分子反応の場合、
用いる触媒あるいは副生物等)を混入しない等の理由か
ら、後者の方法(予め所望の単量体を得、その後重合反
応を行なう方法)により製造する事が好ましい。例えば
カルボキシル基を生成する官能基を導入する場合、具体
的には重合性二重結合を含むカルボン酸類又はその酸ハ
ライド類を、例えば前記した公知文献等に記載された方
法に従って、そのカルボキシル基を一般式(I)で示さ
れる官能基に変換した後、重合反応を行ない製造する方
法で行なうことができる。
The functional groups required for the present invention can be optionally adjusted in the polymer, or impurities (in the case of polymer reaction,
The latter method (a method for obtaining a desired monomer in advance and then carrying out a polymerization reaction) is preferably used for the reason that the used catalyst or by-product is not mixed. For example, in the case of introducing a functional group that generates a carboxyl group, specifically, a carboxylic acid containing a polymerizable double bond or an acid halide thereof, for example, according to the method described in the above-mentioned known literature, the carboxyl group After conversion into the functional group represented by the general formula (I), a polymerization reaction can be carried out for production.

【0085】また、化学反応によりカルボキシル基を生
成する官能基として前記一般式(II)で示されるオキサ
ゾロン環を含有する樹脂は、該オキサゾロン環を含有す
る1種又はそれ以上の単量体の、又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体の重合反応により重合体とす
る方法により得ることができる。このオキサゾロン環を
含有する単量体は、重合性不飽和結合を含有するN−ア
シロイル−α−アミノ酸類の脱水閉環反応により製造す
ることができる。具体的には、岩倉義男・栗田恵輔著
「反応性高分子」第3章(講談社刊)の総説引例の文献
記載の方法によって製造することができる。
The resin containing an oxazolone ring represented by the general formula (II) as a functional group which produces a carboxyl group by a chemical reaction is a resin containing one or more monomers containing the oxazolone ring. Alternatively, it can be obtained by a method of polymerizing the monomer and another monomer copolymerizable therewith. The oxazolone ring-containing monomer can be produced by a dehydration ring-closing reaction of N-acylloyl-α-amino acids having a polymerizable unsaturated bond. Specifically, it can be produced by the method described in the literature cited in the review article of “Reactive Polymer” by Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, Chapter 3 (published by Kodansha).

【0086】更に樹脂(A)は、第1転写層(T1)に用
いられる場合、上記の重合体成分(a)及び/又は
(b)とともに、樹脂(A)自身の剥離性を向上させる
作用を有する、フッ素原子及び/又はフッ素原子を含有
する置換基を含む重合体成分(c)を含有してもよい。
本発明では、該置換基は、重合体の高分子主鎖に組み込
まれていてもよく、あるいは高分子の側鎖の置換基とし
て存在していてもよい。好ましくは、重合体成分(c)
は樹脂(A)においてブロックとして含有される。ケイ
素原子及び/又はフッ素原子を含有する置換基を含む重
合体成分(c)は、樹脂(A)の全重合体成分中1〜2
0重量%で含有するものが好ましい。重合体成分(c)
が1重量%未満であると樹脂(A)の剥離性向上効果が
薄れてしまい、また20重量%を越えると樹脂(A)の
処理液との濡れ性が低下し、転写層の除去が不充分とな
ることがある。
When the resin (A) is used in the first transfer layer (T 1 ), it improves the releasability of the resin (A) itself together with the above-mentioned polymer components (a) and / or (b). You may contain the polymer component (c) which has a function and which has a fluorine atom and / or a substituent containing a fluorine atom.
In the present invention, the substituent may be incorporated in the polymer main chain of the polymer or may be present as a substituent of the side chain of the polymer. Preferably, the polymer component (c)
Is contained as a block in the resin (A). The polymer component (c) containing a substituent containing a silicon atom and / or a fluorine atom is 1 to 2 in all polymer components of the resin (A).
Those containing 0% by weight are preferable. Polymer component (c)
If it is less than 1% by weight, the effect of improving the releasability of the resin (A) will be weakened, and if it exceeds 20% by weight, the wettability of the resin (A) with the treatment liquid will be reduced and removal of the transfer layer will be inadequate. It may be sufficient.

【0087】重合体成分(c)の具体的な例は、後述の
樹脂(P)に含有され得るフッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する置換基を含む重合体成分(F)と全く同
様のものを挙げることができる。更に、重合体成分
(c)をブロックで含有する場合のブロック共重合体の
重合パターンの態様及び共重合体の合成方法も、後述の
重合体成分(F)を含有するブロック共重合体の場合と
全く同様である。
Specific examples of the polymer component (c) are the same as those of the polymer component (F) containing a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom which can be contained in the resin (P) described later. I can list things. Furthermore, the aspect of the polymerization pattern of the block copolymer when the polymer component (c) is contained in a block and the method for synthesizing the copolymer are also described in the case of the block copolymer containing the polymer component (F) described below. Is exactly the same as.

【0088】更に、樹脂(A)は、上記特定の重合体成
分(a)及び/又は(b)とともに、電気絶縁性及び熱
可塑性を保持するために他の重合体成分を含有する。他
の重合体成分としては、その重合体成分のホモ重合体の
ガラス転移点が130℃以下のものが好ましい。具体的
には、例えば、下記一般式(U)で示される繰り返し単
位の成分が挙げられる。
Further, the resin (A) contains, in addition to the above-mentioned specific polymer components (a) and / or (b), other polymer components in order to maintain electric insulation and thermoplasticity. As the other polymer component, one having a glass transition point of the homopolymer of the polymer component of 130 ° C. or lower is preferable. Specifically, for example, the component of the repeating unit represented by the following general formula (U) can be mentioned.

【0089】[0089]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0090】式(U)において、Vは−COO−、−O
CO−、−O−、−CO−、−C64−、−(CH2)n
COO−又は−(CH2)nOCO−を表わす。但し、n
は1〜4の整数を表わす。R60は炭素数1〜22の炭化
水素基を表わす。b1及びb2は同じでも異なっていても
よく、各々水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、シアノ基、トリフロロメチル基、炭素数1〜7の炭
化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基、ベンジ
ル基等)又は−COOZ11基(Z11は炭化水素基を表わ
し、具体的には上記炭素数1〜7の炭化水素基の具体的
内容と同じものが挙げられる)を表わす。
In the formula (U), V is -COO-, -O.
CO -, - O -, - CO -, - C 6 H 4 -, - (CH 2) n
COO- or - (CH 2) represents an n OCO-. However, n
Represents an integer of 1 to 4. R 60 represents a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. b 1 and b 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group). Group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, phenyl group, benzyl group, etc. or --COOZ 11 group (Z 11 represents a hydrocarbon group, specifically, a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms described above. The same as the specific contents of the) can be mentioned).

【0091】R60は好ましくは、炭素数1〜18の置換
されていてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2
−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数2〜18の置換さ
れてもよいアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル
基、イソプロぺニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、メチルベン
ジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよいシクロア
ルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよいアリール基(例えば、フェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、フロロフェニル基、メ
チルクロロフェニル基、ジフロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メ
チルカルボニルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、メタンスルホニ
ルフェニル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
式(U)で示される重合体成分は一種あるいは二種以上
用いられるが、その含有量は、樹脂(A)中30〜97
重量%であることが好ましい。
R 60 is preferably an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, Dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2
-Hydroxypropyl group etc.), alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.), carbon number 7 to 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group,
Methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.) or substitution having 6 to 12 carbon atoms Aryl groups which may be substituted (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, methylchlorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group) Group, dichlorophenyl group, methylcarbonylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, methanesulfonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) and the like.
The polymer component represented by the formula (U) is used alone or in combination of two or more, and the content thereof is 30 to 97 in the resin (A).
It is preferably in the weight%.

【0092】樹脂(A)は、特定の重合体成分及び一般
式(U)で示される重合体成分とともに、これらと共重
合可能な他の共重合成分を更に含有していてもよい。こ
のような他の共重合成分としては、例えば一般式(U)
で説明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステ
ル類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に
加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル
酸エステル類(例えばカルボン酸として、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン
酸等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニ
ルエーテル類、イタコン酸エステル類(例えばジメチル
エステル、ジエチルエステル等)、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン類(例えばスチレン、ビ
ニルトルエン、クロロスチレン、N,N−ジメチルアミ
ノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、メタ
ンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン等)、
ビニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含有化合物、
複素環ビニル類(例えばビニルピロリドン、ビニルピリ
ジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、ビニル
イミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、
ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。これら他の共重合成分は、樹脂(A)の転写性を
疎外しない範囲内で任意に用いることができるが、具体
的には樹脂(A)中の20重量%を越えないことが好ま
しい。
The resin (A) may further contain, in addition to the specific polymer component and the polymer component represented by the general formula (U), other copolymerizable components copolymerizable therewith. Examples of such other copolymerization component include, for example, the general formula (U)
In addition to methacrylic acid esters, acrylic acid esters, and crotonic acid esters containing a substituent other than those described above, α-olefins, vinyl carboxylates or allyl acid esters (for example, acetic acid and propionic acid as carboxylic acids). , Butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides,
Methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.),
Vinyl sulfone-containing compound, vinyl ketone-containing compound,
Heterocyclic vinyls (for example, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyldioxane,
Vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine, etc.), but not limited thereto. These other copolymerization components can be optionally used within a range that does not impair the transferability of the resin (A), but specifically, it is preferable that they do not exceed 20% by weight in the resin (A).

【0093】また、転写層には、樹脂(A)とともに、
必要に応じて他の樹脂を併用してもよい。但し、転写層
の溶出除去の性能を低下させないことより、転写層形成
の全樹脂100重量部中本発明に従う重合体成分(a)
及び(b)の存在割合が5重量%以上を満足することが
望ましい。併用され得る他の樹脂の例としては、例えば
塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、オレフィン−ス
チレン共重合体、アルカン酸ビニル系樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル系樹脂、メタクリ
ル系樹脂、セルローズ系樹脂、脂肪酸変性セルローズ系
樹脂等が挙げられる。
Further, in the transfer layer, together with the resin (A),
You may use together other resin as needed. However, the polymer component (a) according to the present invention is used in 100 parts by weight of the total resin for forming the transfer layer because the performance of elution and removal of the transfer layer is not deteriorated.
It is desirable that the abundance ratios of (b) and (b) satisfy 5% by weight or more. Examples of other resins that can be used in combination include vinyl chloride resin, polyolefin resin, olefin-styrene copolymer, vinyl alkanoate resin, polyester resin, polyether resin, acrylic resin, methacrylic resin, and cellulose resin. , Fatty acid-modified cellulose resins, and the like.

【0094】具体的には、例えば、日刊工業新聞社刊
「プラスチック材料講座シリーズ」第1巻〜18巻(1961
年)、近畿化学協会ビニル部会編「ポリ塩化ビニル」日
刊工業新聞社刊(1988年)、大森英三「機能性アクリル
樹脂」(株)テクノシステム刊(1985年)、滝山栄一郎
「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業社刊(1988
年)、湯木和男編「飽和ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」日刊工業新聞社刊(1989年)、高分子学会編「高分
子データハンドブック<応用編>」第1章培風館(1986
年)、原崎勇次編「最新・バインダー技術便覧」第2章
(株)総合技術センター(1985年)等に例示されてい
る。これら熱可塑性樹脂は、単独又は2種以上併用して
もよい。
Specifically, for example, Volumes 1 to 18 (1961) of "Plastic Materials Course Series" published by Nikkan Kogyo Shimbun
), "Polyvinyl chloride" edited by the Kinki Chemical Society Vinyl Section, published by Nikkan Kogyo Shimbun (1988), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Techno System Co., Ltd. (1985), Eiichiro Takiyama "Polyester Resin Handbook" Published by Nikkan Kogyosha (1988
), Kazuo Yuki, "Saturated Polyester Resin Handbook", published by Nikkan Kogyo Shimbun (1989), Polymer Society of Japan, "Polymer Data Handbook <Applications>", Chapter 1 Baifukan (1986
), Yuji Harazaki, "Handbook of Latest Binder Technology," Chapter 2, General Technology Center Co., Ltd. (1985). You may use these thermoplastic resins individually or in combination of 2 or more types.

【0095】更に転写層には、接着性、成膜性、膜強度
等種々の物理的特性を向上させるために、他の添加剤を
併用してもよい。例えば、接着性調整のためにロジン、
石油樹脂、シリコーンオイル等、感光体へのぬれ性の改
良や溶融粘度を低下させる可塑剤及び軟化剤としてボリ
ブテン、DOP、DBP、低分子スチレン樹脂、低分子
ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワック
ス、パラフインワックス等、また酸化防止剤として高分
子ヒンダード多価フェノール、トリアジン誘導体等を加
えることができる。詳しくは「ホットメルト接着の実
際」(深田寛著、高分子刊行会、1983年発行)29〜107
頁に記載がある。
Further, in the transfer layer, other additives may be used in combination in order to improve various physical properties such as adhesiveness, film forming property and film strength. For example, rosin for adjusting adhesion,
Petroleum resin, silicone oil, etc. as a plasticizer and a softening agent for improving the wettability to the photoreceptor and lowering the melt viscosity, boribten, DOP, DBP, low molecular weight styrene resin, low molecular weight polyethylene wax, microcrystalline wax, paraffin wax, etc. Further, a polymeric hindered polyhydric phenol, a triazine derivative or the like can be added as an antioxidant. For more information, see “Practice of Hot Melt Adhesion” (Hiroshi Fukada, Kobunshi Kobunkai, 1983), 29-107.
There is a description on the page.

【0096】転写層はその膜厚が薄すぎると転写不良が
起きやすくなり、厚すぎると電子写真プロセス上の障害
を招きやすく充分な画像濃度が得られなかったり、画質
の低下が起きやすい。従って、転写層の膜厚は全体とし
て、好ましくは0.1〜15μm、より好ましくは0.
5〜8μmの範囲である。第1転写層と第2転写層の膜
厚比は1〜8/9〜2、好ましくは2〜7/8〜3であ
る。
If the film thickness of the transfer layer is too thin, transfer defects are likely to occur, and if it is too thick, problems in the electrophotographic process are likely to occur, and a sufficient image density cannot be obtained, or image quality is likely to deteriorate. Therefore, the thickness of the transfer layer as a whole is preferably 0.1 to 15 μm, and more preferably 0.
It is in the range of 5 to 8 μm. The film thickness ratio of the first transfer layer and the second transfer layer is 1 to 8/9 to 2, preferably 2 to 7/8 to 3.

【0097】本発明では、以上述べた様な熱可塑性樹脂
を、特定のガラス転移点を有する樹脂(A1)及び樹脂
(A2)の少なくとも二種を同一粒子内に含有する樹脂粒
子(AL)の状態で感光体の表面上に電着塗布法により
付着させ、例えば加熱等により均一な薄膜を形成して第
1転写層(T1)とする。ここで電着塗布法とは、感光体
表面に樹脂粒子(AL)を静電的に付着又は電着させる
方法を意味する。従って、熱可塑性樹脂粒子(AL)
は、正電荷あるいは負電荷のいずれかの荷電を有してい
ることが必要であり、その検電性は組み合せる電子写真
感光体の帯電性によって任意に決定される。
In the present invention, the thermoplastic resin as described above is a resin particle (AL) containing at least two kinds of resin (A 1 ) and resin (A 2 ) having a specific glass transition point in the same particle. In the state of 1), it is adhered on the surface of the photoreceptor by the electrodeposition coating method, and a uniform thin film is formed by, for example, heating or the like to form the first transfer layer (T 1 ). Here, the electrodeposition coating method means a method of electrostatically attaching or electrodepositing the resin particles (AL) on the surface of the photoconductor. Therefore, thermoplastic resin particles (AL)
Must have either a positive charge or a negative charge, and its electroscopic property is arbitrarily determined by the chargeability of the electrophotographic photosensitive member to be combined.

【0098】樹脂粒子(AL)は、前記した物性を満た
す範囲のものであって、通常その平均粒径は、0.01
μm〜10μmの範囲であり、好ましくは0.05μm
〜5μm、より好ましくは0.1μm〜1μmの範囲で
ある。この粒子は粒子粉体(乾式)、非水系に分散され
た樹脂粒子(湿式)、あるいは常温で固体で加熱により
液体になる電気絶縁性有機物中に分散された樹脂粒子
(疑似湿式)のいずれの状態でもよい。好ましくは、剥
離用転写層の膜厚を均一厚みで薄膜まで調整することが
容易な非水系分散樹脂粒子である。本発明の微小径樹脂
粒子は、従来公知の機械的粉砕方法又は重合造粒方法に
よって製造することができる。これらの製造方法は、乾
式電着あるいは湿式電着のいずれの粒子に適用すること
ができる。
The resin particles (AL) are in a range satisfying the above-mentioned physical properties, and the average particle diameter thereof is usually 0.01.
μm to 10 μm, preferably 0.05 μm
˜5 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm. These particles are either particle powder (dry type), resin particles dispersed in a non-aqueous system (wet type), or resin particles dispersed in an electrically insulating organic substance that is solid at room temperature and becomes a liquid by heating (pseudo-wet type). It may be in a state. Preferably, the non-aqueous dispersion resin particles are capable of easily adjusting the film thickness of the transfer layer for peeling to a thin film with a uniform thickness. The fine resin particles of the present invention can be produced by a conventionally known mechanical grinding method or polymerization granulation method. These production methods can be applied to particles of either dry electrodeposition or wet electrodeposition.

【0099】乾式電着方法で用いられる微小粒子を製造
する場合において、機械的粉砕方法としては、従来公知
の粉砕機で直接粉砕し、微粒子とする方法(例えば、ボ
ールミル、ペイントシェーカー、ジェットミルを使用す
る方法等)が挙げられ、必要に応じて、樹脂粒子とする
材料を混合し、溶融、混練を経て粉砕したり、粉砕後粒
径をそろえるための分級又は粒子の表面を処理する後処
理等を適宜組合わせて行なうことができる。また、スプ
レードライ法も知られている。具体的には、(社)日本
粉体工業技術協会編「造粒ハンドブック」第II編(オー
ム社刊、1991年)、神奈川経営開発センター「最新造粒
技術の実際」(神奈川経営開発センター出版部、1984
年)、荒川正文等編「最新粉体の設計技術」(株)テク
ノシステム社、1988年)等の成書に詳細に記載された方
法を適宜用いて容易に製造することができる。
In the case of producing fine particles used in the dry electrodeposition method, as a mechanical pulverizing method, a method of directly pulverizing with a conventionally known pulverizer to obtain fine particles (for example, a ball mill, a paint shaker, a jet mill) is used. Method to be used, etc.), and if necessary, the materials to be resin particles are mixed, pulverized through melting and kneading, or post-treatment for classifying or treating the surface of the particles to make the particle diameter uniform after pulverization. Etc. can be appropriately combined and performed. A spray dry method is also known. Specifically, "Granulation Handbook", Part II (edited by Ohmsha, 1991), edited by Japan Powder Industrial Technology Association, Kanagawa Business Development Center, "Actual state of the latest granulation technology" (Published by Kanagawa Business Development Center) Department, 1984
Ed., Arakawa Masafumi et al., “Latest powder design technology” (Techno System Co., Ltd., 1988), etc., and can be easily manufactured by appropriately using the methods described in detail in the textbooks.

【0100】重合造粒方法としては、従来公知の、水系
で行なう乳化重合反応、シード重合反応、懸濁重合反
応、非水溶媒系で行なう分散重合反応で製造する方法等
が知られている。具体的には、室井宗一「高分子ラテッ
クスの化学」高分子刊行会(1970年)、奥田平、稲垣寛
「合成樹脂エマルジョン」高分子刊行会(1978年)、室
井宗一「高分子ラテックス入門」工文社(1983年)、I.
Piirma, P. C. Wang「EmulsionPolymerization」、I.
Piirma & J. L. Gardon, ACS symp. Sev. 24、p.34(1
974年)、北原文雄等「分散乳化系の化学」工学図書(1
979年)、室井宗一監修「超微粒子ポリマーの最先端技
術」C.M.C.(1991年)等の成書に記載されている方法で
粒子化した後、上記機械的方法に関する成書に記載の様
な各種の方式で補集し粉末化することで製造することが
できる。
As the polymerization granulation method, conventionally known methods such as an emulsion polymerization reaction carried out in an aqueous system, a seed polymerization reaction, a suspension polymerization reaction, and a dispersion polymerization reaction carried out in a non-aqueous solvent system are known. Specifically, Soichi Muroi "Chemistry of Polymer Latex" Polymer Publishing (1970), Taira Okuda, Hiroshi Inagaki "Synthetic Resin Emulsion" Polymer Publishing (1978), Soichi Muroi "Polymer Latex""Introduction" Kobunsha (1983), I.
Piirma, PC Wang "Emulsion Polymerization", I.
Piirma & JL Gardon, ACS symp. Sev. 24, p.34 (1
974), Fumio Kitahara et al. "Chemistry of Dispersion Emulsion System" Engineering Book (1
979), Soichi Muroi, "Cutting-edge technology of ultrafine particle polymer" CMC (1991), etc. It can be produced by collecting and pulverizing by various methods.

【0101】得られた微粒子粉体を乾式電着する方法
は、従来から公知の静電粉体の塗装方法、又は乾式静電
写真現像剤の現像方法を用いることができる。具体的に
は、J.F. Hughes著(長坂秀雄・緑川真知子訳)「静電
粉体塗装」等に記載の如く、コロナ帯電、摩擦帯電、イ
ンダクション帯電、イオン風帯電、逆イオン化現象利用
等の方法で帯電した微粒子を電着する方法、中村孝一編
「最近の電子写真現像システムとトナー材料の開発・実
用化」第1章(日本科学情報(株)、1985年)等の成書
に記載の如く、カスケード法、磁着ブラシ法、ファーブ
ラシ法、エレクトロスタチック法、インダクション法、
タッチダウン法、パウダークラウド法等の現像方法等を
用いて適宜行なうことができる。
As a method of dry electrodeposition of the obtained fine particle powder, a conventionally known coating method of electrostatic powder or a developing method of dry electrostatic photographic developer can be used. Specifically, as described in "Electrostatic Powder Coating" by JF Hughes (Translated by Hideo Nagasaka and Machiko Midorikawa), corona charging, friction charging, induction charging, ionic wind charging, reverse ionization, etc. are used. As described in the textbooks such as "Method of Electrodepositing Charged Fine Particles", Koichi Nakamura, "Development and Practical Use of Recent Electrophotographic Development System and Toner Material", Chapter 1 (Japan Science Information Co., Ltd., 1985). , Cascade method, magnetic brush method, fur brush method, electrostatic method, induction method,
This can be appropriately performed using a development method such as a touchdown method or a powder cloud method.

【0102】湿式電着方法で用いられる、非水系ラテッ
クスを製造する場合も、前記の如く機械的方法と重合造
粒方法のいずれでも製造することができる。例えば、分
散ポリマーを併用して、更に湿式分散機(例えば、ボー
ルミル、ペイントシェーカー、ケデイミル、ダイノミル
等)で分散する方法、樹脂粒子成分となる材料と、分散
補助ポリマー(又は被覆ポリマー)を予め混練して混練
物とした後粉砕し、次に分散ポリマーを共存させて分散
する方法等が挙げられる。具体的には、塗料又は静電写
真用現像剤の製造方法を利用することができ、例えば植
木憲二監訳「塗料の流動と顔料分散」共立出版(1971
年)、D. H. Solomon 「The Chemistry of Organic Fil
m Formers」John Wiles & Sons (1967)、「Paintand Su
rface Coating Theory and Practice」、原崎勇次「コ
ーティング工学」朝倉書店(1971年)、原崎勇次「コー
ティングの基礎科学」朝倉書店(1977年)等の成書に記
載されている。
When producing the non-aqueous latex used in the wet electrodeposition method, either the mechanical method or the polymerization granulation method can be used as described above. For example, a method in which a dispersion polymer is used in combination and further dispersed by a wet disperser (for example, a ball mill, a paint shaker, a eddy mill, a dyno mill, etc.), a material serving as a resin particle component and a dispersion assisting polymer (or a coating polymer) are kneaded in advance. And the like, and then pulverized, and then a dispersing polymer is coexisted and dispersed. Specifically, a method for producing a paint or a developer for electrostatic photography can be used.
), DH Solomon "The Chemistry of Organic Fil
m Formers '' John Wiles & Sons (1967), `` Paint and Su
rface Coating Theory and Practice ", Yuji Harazaki" Coating Engineering "Asakura Shoten (1971), Yuji Harasaki" Basic Science of Coating "Asakura Shoten (1977), etc.

【0103】また、重合造粒法として、シード重合法を
用いて容易に製造することができ、具体的には、前記し
た「超微粒子ポリマーの最新技術」第2章、「最近の電
子写真現像システムとトナー材料の開発・実用化」第3
章、K. E. J. Barvett「Dispersion Polymerization in
Organic Media」John Wiley(1975年)等の成書に記載
されている従来公知の非水系分散重合方法でまず樹脂
(A1)又は樹脂(A2)の微粒子を合成し、次に、この微
粒子をシードとして更に上記と同様にして樹脂(A2)又
は樹脂(A1)に相当する単量体類をフィードして重合さ
せることにより製造する方法が好ましい。
Further, as a polymerization granulation method, a seed polymerization method can be easily used. Specifically, the above-mentioned "state of the art of ultrafine particle polymer", Chapter 2, "Recent electrophotographic development" can be used. Development and practical application of systems and toner materials "
Chapter, KEJ Barvett “Dispersion Polymerization in
Organic Media "John Wiley (1975) et al., A conventionally known non-aqueous dispersion polymerization method is used to first synthesize fine particles of a resin (A 1 ) or a resin (A 2 ). It is preferable to use the above as a seed and to carry out the polymerization by feeding and polymerizing the resin (A 2 ) or monomers corresponding to the resin (A 1 ) in the same manner as above.

【0104】重合造粒法において、樹脂粒子に剥離性向
上のための重合体成分(c)を導入するには、樹脂粒子
となる有機溶媒には可溶で、重合することで不溶化する
単量体とともに、重合体成分(c)に相当する単量体を
共存させて重合反応を行うことで樹脂(A)中に共重合
され、ランダム共重合体の樹脂粒子が容易に得られる。
In the polymerization granulation method, in order to introduce the polymer component (c) into the resin particles for improving the releasability, a single amount which is soluble in the organic solvent forming the resin particles and which is insolubilized by polymerization is used. By carrying out a polymerization reaction in the presence of a monomer corresponding to the polymer component (c) together with the polymer, the resin is copolymerized in the resin (A), and the resin particles of the random copolymer are easily obtained.

【0105】更に、重合体成分(c)をブロックで導入
するには、用いる分散安定用樹脂に重合体成分(c)を
ブロックで含有するブロック共重合体を少なくとも用い
る方法、又は重合体成分(c)を主たる繰り返し単位と
して構成する重量平均分子量1×103〜2×104(好
ましくは3×103〜1.5×104)の一官能性マクロ
モノマーを共存させて単量体と共重合させる方法で容易
に行うことができる。また、他の方法としては、重合体
成分(c)を主たる繰り返し単位として含有する高分子
開始剤(アゾビス高分子開始剤又は過酸化物高分子開始
剤)を用いることでも同様にブロック共重合体の樹脂粒
子を得ることができる。
Furthermore, in order to introduce the polymer component (c) in blocks, a method of using at least a block copolymer containing the polymer component (c) in blocks in the dispersion stabilizing resin to be used, or the polymer component ( A monomer having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 (preferably 3 × 10 3 to 1.5 × 10 4 ) composed of c) as a main repeating unit is allowed to coexist. It can be easily carried out by a method of copolymerization. Further, as another method, a polymer initiator containing the polymer component (c) as a main repeating unit (azobis polymer initiator or peroxide polymer initiator) may be used to similarly obtain the block copolymer. Resin particles of can be obtained.

【0106】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、単独であるいは2種以上を混合し
て用いることができる。かかる有機溶媒の具体例は、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、フ
ッ化アルコール、ベンジルアルコール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル
等のカルボン酸エステル類、ヘキサン、オクタン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、シクロヘキサン、シクロオ
クタン等の炭素数6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素類、メチレンクロリド、ジクロロエタン、テトラ
クロロエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、ジ
クロロプロパン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類等が挙げられる。ただし、以上述べた化合物例に
限定されるものではない。これらの非水溶媒系で分散樹
脂粒子を分散重合法で合成することにより、樹脂粒子の
平均粒子径は容易に1μm以下となり、しかも粒子径の
分布が非常に狭く且つ単分散の粒子とすることができ
る。
The non-aqueous solvent used for producing the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles may be any organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, and may be used alone or in combination of two or more kinds. Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ketones such as diethyl ketone, diethyl ether,
Tetrahydrofuran, dioxane, and other ethers, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, and other carboxylic acid esters, hexane, octane, decane, dodecane, tridecane, cyclohexane, cyclooctane, and other fatty acids having 6 to 14 carbon atoms Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as group hydrocarbons, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane, and trichloroethane. However, it is not limited to the above-mentioned compound examples. By synthesizing dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by a dispersion polymerization method, the average particle diameter of the resin particles easily becomes 1 μm or less, and the particle diameter distribution is very narrow and monodisperse particles are obtained. You can

【0107】これらの非水系分散樹脂粒子は湿式静電写
真現像方法又は電界の印圧場で電気泳動させて電着され
る方法を行なうことから、電着時に用いられる分散媒と
しては電気抵抗108Ω・cm以上、且つ誘電率3.5以
下の非水溶媒系に調節されることが好ましい。具体的に
は、直鎖状もしくは分枝状の脂肪族炭化水素、脂環式炭
化水素又は芳香族炭化水素、及びこれらのハロゲン置換
体を用いることができる。例えばオクタン、イソオクタ
ン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカ
ン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、
シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レン、アイソパーE、アイソパーG、アイソパーH、ア
イソパーL(アイソパー;エクソン社の商品名)、シェ
ルゾール70、シェルゾール71(シェルゾール;シェ
ルオイル社の商品名)、アムスコOMS、アムスコ46
0溶剤(アムスコ;アメリカン・ミネラル・スピリッツ
社の商品名)等を単独あるいは混合して用いることがで
きる。従って、好ましくは、重合造粒時に用いる溶媒と
して、初めから、上記絶縁性有機溶媒を用いるが、これ
ら溶媒以外の溶媒で造粒した後、分散媒の置換をして調
節することもできる。
Since these non-aqueous dispersion resin particles are subjected to a wet electrostatic electrophotographic development method or a method of electrophoresing in a pressure field of an electric field, a dispersion medium used at the time of electrodeposition has an electric resistance of 10 It is preferable to adjust to a non-aqueous solvent system having a dielectric constant of 3.5 or less and 8 Ω · cm or more. Specifically, linear or branched aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons or aromatic hydrocarbons, and halogen-substituted products thereof can be used. For example, octane, isooctane, decane, isodecane, decalin, nonane, dodecane, isododecane, cyclohexane, cyclooctane,
Cyclodecane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, Isopar E, Isopar G, Isopar H, Isopar L (Isopar; trade name of Exxon), Shersol 70, Shersol 71 (Shellsol; trade name of Shell Oil), Amsco OMS, Amsco 46
0 solvent (Amsco; trade name of American Mineral Spirits, Inc.) and the like can be used alone or in combination. Therefore, the above-mentioned insulating organic solvent is preferably used from the beginning as the solvent used for the polymerization granulation, but it can also be adjusted by granulating with a solvent other than these solvents and then substituting the dispersion medium.

【0108】分散媒中の分散粒子を電気泳動で電着させ
るためには、粒子は正荷電又は負荷電の検電性粒子でな
ければならない。粒子に検電性を付与することは湿式静
電写真用現像剤の技術を適宜利用することで達成可能で
ある。具体的には、前記の「最近の電子写真現像システ
ムとトナー材料の開発・実用化」139〜148頁、電子写真
学会編「電子写真技術の基礎と応用」497〜505頁(コロ
ナ社、1988年刊)、原崎勇次「電子写真」16(No.2)、44
頁(1977年)等に記載の検電材料及び他の添加剤を用い
ることで行なわれる。例えば、英国特許893,429
号、同934,038号、米国特許1,122,397
号、同3,900,412号、同4,606,989
号、特開昭60−179751号、同60−18596
3号、特開平2−13965号等に記載されている。電
着に供せられる非水系ラテックスの構成としては、通常
少なくとも電気絶縁性分散媒1リットル中に、熱可塑性
樹脂を主として含有する粒子が0.1〜20g、分散安
定用樹脂は0.01〜50g、必要に応じて加える荷電
制御剤は、0.0001〜10gの範囲である。
In order to electrophoretically disperse dispersed particles in a dispersion medium, the particles must be positively or negatively charged electrophoretic particles. Providing the particles with electroscopic properties can be achieved by appropriately utilizing the technique of a developer for wet electrostatic photography. Specifically, "Recent Development and Practical Use of Electrophotographic Development Systems and Toner Materials" 139-148, "Basics and Applications of Electrophotographic Technology" edited by The Institute of Electrophotography, 497-505 (Corona Publishing Co., 1988 Annual), Yuji Harasaki "Electronic Photography" 16 (No.2), 44
Page (1977), etc. are used by using the electrophotographic material and other additives. For example, British Patent 893,429
No. 934,038, U.S. Pat. No. 1,122,397.
Issue 3,900,412, Issue 4,606,989
No. 60-179751, JP-A 60-18596.
3 and JP-A-2-13965. The composition of the non-aqueous latex used for electrodeposition is usually at least 0.1 to 20 g of particles mainly containing a thermoplastic resin in at least 1 liter of an electrically insulating dispersion medium, and 0.01 to 100 g of a dispersion stabilizing resin. 50 g, and the charge control agent to be added as necessary is in the range of 0.0001 to 10 g.

【0109】更に、粒子の分散安定性、荷電安定性の保
持等のために、他の添加剤を添加してもよく、例えば、
ロジン、石油樹脂、高級アルコール類、ポリエーテル
類、シリコーンオイル類、パラフィンワックス類、トリ
アジン誘導体等が挙げられる。しかし、これらに限定さ
れるものではない。これらの添加剤の総量は、電着用ラ
テックスの電気抵抗によってその上限が規制される。即
ち、電気抵抗が108Ω・cmより低くなると熱可塑性樹
脂粒子の付着量が充分得られ難くなるので、各添加剤の
添加量はこの限度内でコントロールされる。
Further, other additives may be added in order to maintain dispersion stability of particles, charge stability, and the like.
Examples thereof include rosin, petroleum resin, higher alcohols, polyethers, silicone oils, paraffin waxes, and triazine derivatives. However, it is not limited to these. The upper limit of the total amount of these additives is regulated by the electric resistance of the electrodeposition latex. That is, when the electric resistance is lower than 10 8 Ω · cm, it becomes difficult to obtain a sufficient amount of the thermoplastic resin particles to be attached, so the amount of each additive added is controlled within this limit.

【0110】このようにして微粒子化し荷電を付与して
電気絶縁性液体中に分散した熱可塑性樹脂粒子(AL)
は、電子写真湿式現像剤と同様の挙動を示す。よって例
えば前掲の「電子写真技術の基礎と応用」275〜285頁に
示される現像デバイス、例えばスリット現像電極装置を
用いて感光体表面に電気泳動させることができる。即
ち、熱可塑性樹脂を主として含有する粒子が、電子写真
感光体と対向して設置された対向電極の間に供給され、
外部電源より印加された電位勾配に従って電気泳動して
電子写真感光体に付着又は電着されて成膜される。
Thermoplastic resin particles (AL) which have been made into fine particles in this way and given an electric charge and dispersed in an electrically insulating liquid
Shows a behavior similar to that of the electrophotographic wet developer. Therefore, for example, it is possible to perform electrophoresis on the surface of the photoconductor by using the developing device described in "Basics and Applications of Electrophotographic Technology", pages 275 to 285, for example, the slit developing electrode device. That is, particles mainly containing a thermoplastic resin, are supplied between the counter electrode placed facing the electrophotographic photoreceptor,
Electrophoresis is performed according to a potential gradient applied from an external power source to adhere or electrodeposit on the electrophotographic photosensitive member to form a film.

【0111】一般的には粒子の荷電が正極性の場合には
感光体の導電性支持体と現像デバイスの現像電極との間
に、感光体側が負電位になるように外部電源から電圧を
印加し、粒子を静電気的に感光体表面へ電着させる。ま
た通常の電子写真プロセスにより湿式トナー現像によっ
て電着させることもできる。即ち前提の「電子写真技術
の基礎と応用」46〜79頁に示されるように、感光体を均
一帯電させた後露光を行なわず、又は不要領域のみに露
光を行なういわゆる焼き落としをし、次いで通常の湿式
トナー現像をする。
In general, when the particles are positively charged, a voltage is applied from an external power source between the conductive support of the photoconductor and the developing electrode of the developing device so that the photoconductor has a negative potential. Then, the particles are electrostatically electrodeposited on the surface of the photoreceptor. It is also possible to perform electrodeposition by wet toner development by a usual electrophotographic process. That is, as shown on the premise "Basics and Applications of Electrophotographic Technology", pages 46 to 79, so-called burn-off is performed in which the photosensitive member is uniformly charged and then not exposed or only unnecessary areas are exposed. Perform normal wet toner development.

【0112】他方、加熱により液化する媒体中に分散し
た樹脂粒子を用いる場合に供される該媒体としては、常
温で固体であり、加熱温度30〜80℃(好ましくは4
0〜70℃)で液体となる電気絶縁性の有機化合物であ
り、これに好適な化合物としては、凝固点30〜80℃
のパラフィン類、ロウ類、凝固点20〜80℃の低分子
量のポリプロピレン、凝固点20〜50℃の牛脂、凝固
点30〜80℃の硬化油等が挙げられ、これらを単独又
は組み合わせて用いることができる。その他必要な特性
は、上記湿式現像法に供される電着樹脂粒子分散物の場
合と同様である。
On the other hand, when the resin particles dispersed in a medium which is liquefied by heating are used, the medium is solid at ordinary temperature and the heating temperature is 30 to 80 ° C. (preferably 4 ° C.).
(0 to 70 ° C.) is an electrically insulating organic compound that becomes a liquid at 0 to 70 ° C., and a compound suitable for this is a freezing point of 30 to 80 ° C.
Paraffins, waxes, low-molecular-weight polypropylene having a freezing point of 20 to 80 ° C., beef tallow having a freezing point of 20 to 50 ° C., and hardened oil having a freezing point of 30 to 80 ° C., and these can be used alone or in combination. Other necessary characteristics are the same as those of the electrodeposition resin particle dispersion used in the wet development method.

【0113】更に、この疑似湿式法に供される本発明の
樹脂粒子は、供される媒体の液化する温度では軟化しな
い高ガラス転移点又は高軟化点の樹脂成分が粒子の外殻
を構成する、いわゆるコア−シェル型粒子(コア部にガ
ラス転移点の低い樹脂、シェル部にガラス転移点の高い
樹脂)とすることで分散された樹脂粒子が加熱で融着さ
れることがなく、安定に分散された状態を維持すること
が可能となる。
Further, in the resin particles of the present invention to be subjected to this pseudo-wet method, the resin component having a high glass transition point or a high softening point which does not soften at the liquefying temperature of the medium to be used constitutes the outer shell of the particles. , So-called core-shell type particles (resin having a low glass transition point in the core portion and resin having a high glass transition point in the shell portion) are used, so that the dispersed resin particles are not fused by heating and stably. It is possible to maintain a dispersed state.

【0114】感光体上の熱可塑性樹脂粒子の付着量は外
部バイアスの印加電圧、感光体の帯電電位及び現像時間
などにより任意に調節できる。電着後公知のゴムローラ
ー、ギャップローラ、リバースローラなどによるスクイ
ズで現像液を拭い去る。またコロナクイズやエアースク
イズなどの方法も公知である。更に冷風もしくは温風、
あるいは赤外線ランプなどにより乾燥し、好ましくは熱
可塑性樹脂粒子を皮膜化させて第1転写層(T1)とす
る。
The amount of the thermoplastic resin particles deposited on the photosensitive member can be arbitrarily adjusted by the applied voltage of the external bias, the charging potential of the photosensitive member, the developing time, and the like. After electrodeposition, the developer is wiped off by a squeeze using a known rubber roller, gap roller, reverse roller or the like. Methods such as corona quiz and air squeeze are also known. In addition, cold or warm air,
Alternatively, it is dried with an infrared lamp or the like, and preferably the thermoplastic resin particles are formed into a film to form the first transfer layer (T 1 ).

【0115】この感光体表面に形成された第1転写層
(T1)上に設けられる第2転写層(T 2)は通常の溶剤塗
布法に従い形成してもよいが、前記電子写真装置内で形
成する態様が低ランニングコスト化する上で好ましい。
第2転写層(T2)を第1転写層(T1)表面に形成する方
法としては、熱溶融塗布法、電着塗布法及び転写法が好
ましく用いられる。これらの方法により、電子写真装置
内で感光体上の第1転写層(T1)表面に第2転写層(T
2)を容易に形成することができる。
First transfer layer formed on the surface of this photoreceptor
(T1) A second transfer layer (T 2) Is a normal solvent coating
Although it may be formed according to the cloth method, it is formed in the electrophotographic apparatus.
The embodiment is preferable in terms of lower running cost.
Second transfer layer (T2) Is the first transfer layer (T1) Those who form on the surface
As the method, a hot melt coating method, an electrodeposition coating method and a transfer method are preferable.
It is used well. By these methods, electrophotographic apparatus
Inside the first transfer layer (T1) The second transfer layer (T
2) Can be easily formed.

【0116】以下、各々の方法について詳細に説明す
る。熱溶融塗布法は転写層組成物を公知の方法で熱溶融
塗布するものである。このためには無溶剤型塗布機、例
えば前記「ホットメルト接着の実際」197〜215頁に記載
のホットメルト接着剤用加熱溶融塗布装置(ホットメル
トコーター)の機構を第1転写層(T1)への塗布仕様に
して転用できる。例としては、ダイレクトロールコータ
ー、オフセットグラビアロールコーター、ロッドコータ
ー、エクストルージョンコーター、スロットオリフィス
コーター、カーテンコーター等が挙げられる。
Hereinafter, each method will be described in detail. In the hot melt coating method, the transfer layer composition is hot melt coated by a known method. For this purpose, a mechanism of a solventless coating machine, for example, a hot melt coating machine for hot melt adhesives (hot melt coater) described in "Actual of hot melt bonding" on pages 197 to 215 is used for the first transfer layer (T 1 ) Can be used as a coating specification. Examples include direct roll coaters, offset gravure roll coaters, rod coaters, extrusion coaters, slot orifice coaters, curtain coaters and the like.

【0117】塗布時の転写層を構成する樹脂の溶融温度
は用いる転写層を構成する樹脂の成分組成により最適化
するが、通常は40〜180℃の範囲である。密閉され
た自動温度制御手段を有する予備加熱装置を用いて予め
溶融した後、第1転写層に塗布する位置で短時間に適温
に上昇させることが望ましい。このようにすることで転
写層を構成する樹脂の熱酸化による変質や塗布ムラを防
止することができる。塗布スピードは、転写層を構成す
る樹脂の熱溶融時の流動性、コーター方式、塗布量等に
もよるが、1〜100mm/秒が適当であり、好ましくは
5〜40mm/秒の範囲である。
The melting temperature of the resin constituting the transfer layer at the time of coating is optimized depending on the component composition of the resin constituting the transfer layer used, but it is usually in the range of 40 to 180 ° C. It is desirable that the temperature be raised to an appropriate temperature in a short time at a position where it is applied to the first transfer layer after being preliminarily melted by using a closed preheating device having an automatic temperature control means. By doing so, it is possible to prevent alteration or coating unevenness due to thermal oxidation of the resin forming the transfer layer. The coating speed depends on the fluidity of the resin constituting the transfer layer at the time of heat melting, the coater system, the coating amount, etc., but is appropriately 1 to 100 mm / sec, and preferably 5 to 40 mm / sec. .

【0118】次に、転写法による転写層の形成について
説明する。この方法は離型紙で代表される離型性支持体
(以下、単に離型紙という)上に保持された転写層(T
2)を第1転写層(T1)表面に転写するものである。転写
層が形成された離型紙はロール状、シート状で転写装置
中に簡便に供給できる。本発明に供される離型紙は従来
公知のものがいずれでも使用でき、例えば、「粘着(粘
接着)の新技術とその用途・各種応用製品の開発資料」
(発行;経営開発センター出版部、昭和53年5月20
日)、「オールペーパーガイド紙の商品事典、上巻・文
化産業編」(発行;(株)紙業タイムス社、昭和58年12
月1日)等に記載のものが挙げられる。
Next, the formation of the transfer layer by the transfer method will be described. In this method, a transfer layer (T) held on a releasable support typified by release paper (hereinafter simply referred to as release paper) is used.
2 ) is transferred onto the surface of the first transfer layer (T 1 ). The release paper on which the transfer layer is formed can be easily supplied to the transfer device in the form of a roll or a sheet. As the release paper used in the present invention, any conventionally known release paper can be used. For example, “new technology of adhesive (adhesive) and its application / development material for various applied products”
(Issue: Management Development Center Publishing Department, May 20, 1978)
Sun), “All Paper Guide Paper Product Encyclopedia, First Volume / Culture Industry Edition” (Published; Paper Industry Times Co., Ltd., 1983 12)
Those described in (1st of a month) and the like.

【0119】具体的には、離型紙はシリコーンを主とす
る離型剤をポリエチレン樹脂をラミネートした末晒クル
パック紙、耐溶剤性の樹脂をプリコートした上級紙、ク
ラフト紙、アンダーコートを施したPETベースあるい
はグラシン紙等の基体上に塗布したものである。シリコ
ーンは一般に溶剤タイプのものが用いられ、上記基体上
に3〜7%の濃度でグラビアロール、リバースロール、
ワイヤーバー等で塗布・乾燥後、150℃以上で熱処理
され硬化される。塗布量は1g/m2 程度である。
Concretely, the release papers are unbleached Kurupack papers laminated with a polyethylene resin as a release agent mainly composed of silicone, high-grade papers precoated with a solvent-resistant resin, kraft papers, and undercoated PET. It is applied on a base or a substrate such as glassine paper. A silicone of a solvent type is generally used, and a gravure roll, a reverse roll, or a roll having a concentration of 3 to 7% is used on the substrate.
After coating and drying with a wire bar or the like, it is heat-treated at 150 ° C or higher to be cured. The coating amount is about 1 g / m 2 .

【0120】離型紙としては、製紙メーカーから一般に
市販されているテープ用、ラベル用、形成工業用及びキ
ャストコート工業用のものが使用できる。例えばセパレ
ート紙(王子製紙(株)製)、キングリーズ(四国製紙
(株)製)、サンリリース(山陽国策パルプ(株)
製)、NKハイレリーズ(日本加工製紙(株)製)など
があげられる。
As the release paper, tapes, labels, forming industries and cast coat industries which are generally commercially available from paper manufacturers can be used. For example, separate paper (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), King Lees (manufactured by Shikoku Paper Co., Ltd.), Sun Release (Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.)
Manufactured by Nippon Paper Industries Co., Ltd., and the like.

【0121】離型紙上に転写層(T2)を形成するには、
転写層を構成する樹脂を主成分とする転写層組成物を常
法に従って、バー塗布、スピン塗布、スプレー塗布等に
より塗布成膜することにより容易に行われる。離型紙上
の転写層(T2)を電子写真感光体上の第1転写層(T1)
上に熱転写するには通常の熱転写方法が利用できる。即
ち、転写層(T2)を保持した離型紙を電子写真感光体上
の第1転写層(T1)に圧着して転写層(T2)を熱転写す
ればよい。離型紙から転写層(T2)を第1転写層(T1)
表面へ転写する場合の条件は以下の通りが好ましい。ロ
ーラーのニップ圧力は0.1〜10kgf/cm2、より好ま
しくは0.2〜8kgf/cm2であり、転写時の温度は25
℃〜100℃、より好ましくは40℃〜80℃である。
搬送スピードは0.5〜200mm/秒、より好ましくは
3〜150mm/秒である。
To form the transfer layer (T 2 ) on the release paper,
This can be easily carried out by applying a transfer layer composition containing a resin constituting the transfer layer as a main component by bar coating, spin coating, spray coating or the like according to a conventional method. The transfer layer (T 2 ) on the release paper is replaced with the first transfer layer (T 1 ) on the electrophotographic photosensitive member.
For thermal transfer onto the surface, a conventional thermal transfer method can be used. That is, it is sufficient thermal transfer layer (T 2) transfer layer release paper holding the (T 2) and pressed on the first transfer layer on the electrophotographic photosensitive member (T 1). Transfer the release layer (T 2 ) from the release paper to the first transfer layer (T 1 ).
The conditions for transferring to the surface are preferably as follows. The roller nip pressure is 0.1 to 10 kgf / cm 2 , more preferably 0.2 to 8 kgf / cm 2 , and the transfer temperature is 25.
C. to 100.degree. C., more preferably 40.degree. C. to 80.degree.
The conveying speed is 0.5 to 200 mm / sec, more preferably 3 to 150 mm / sec.

【0122】電着塗布法は第1転写層(T1)の形成に関
して述べたものと実質的に同じである。第1転写層(T
1)を形成する樹脂粒子(AL)の代わりに、熱可塑性樹
脂(A2)を樹脂粒子(A2L)として用いればよい。
The electrodeposition coating method is substantially the same as that described for the formation of the first transfer layer (T 1 ). First transfer layer (T
Instead of the resin particles (AL) forming 1 ), the thermoplastic resin (A 2 ) may be used as the resin particles (A 2 L).

【0123】次に、本発明に供せられる電子写真感光体
について説明する。電子写真感光体としては、従来公知
のいずれのものでも用いることができる。重要なこと
は、感光体表面に設けられる転写層がトナー画像ととも
に後に容易に剥離できるように、感光体表面が転写層形
成時に剥離性を有することである。
Next, the electrophotographic photosensitive member used in the present invention will be described. As the electrophotographic photoreceptor, any conventionally known one can be used. What is important is that the surface of the photoconductor has releasability when the transfer layer is formed so that the transfer layer provided on the surface of the photoconductor can be easily peeled later together with the toner image.

【0124】即ち、本発明では、少なくとも樹脂粒子
(AL)の電着塗布法による成膜で転写層が形成される
時に、転写層と隣接することとなる電子写真感光体の表
面のJIS Z0237-1980「粘着テープ・粘着シート試験方
法」における粘着力を、好ましくは100gram・force
(g・f)以下、更に好ましくは80g・f以下、特に
好ましくは50g・f以下とすることが望ましい。これ
により、感光体と転写層との剥離性をより良好に発現す
ることができ、被転写材への転写時に転写層を感光体か
ら容易に剥離させることができる。
That is, in the present invention, JIS Z0237- on the surface of the electrophotographic photosensitive member which is adjacent to the transfer layer at least when the transfer layer is formed by the electrodeposition coating method of the resin particles (AL). 1980 "Adhesive tape / adhesive sheet test method", the adhesive force is preferably 100 gram force
(g · f) or less, more preferably 80 g · f or less, and particularly preferably 50 g · f or less. Thereby, the releasability between the photoconductor and the transfer layer can be better exhibited, and the transfer layer can be easily peeled off from the photoconductor at the time of transfer to the transfer material.

【0125】上記JIS Z 0237-1980 「粘着テープ・粘着
シート試験方法」による粘着力の測定は、8.3.1 の18
0度引きはがし法に従い、以下の修正を加えて行う。 「試験板」として転写層が形成されるべき電子写真感
光体を用いる。 「試験片」として6mm巾のJIS C 2338-1984 に従って
製造された粘着テープを用いる。 定速緊張形引張試験機を用い、120mm/分の速さで
引きはがす。 即ち、上記試験板に、上記試験片の粘着面を下側にし
て、試験片の上からローラを約300mm/分の速さで一
往復させて圧着する。圧着後20〜40分の間に、定速
緊張形引張試験機を用い、約25mmはがした後、120
mm/分の速さで引きはがす。20mmはがれるごとに力を
読み取り、計4回読み取る。試験は3枚の試験片につい
て行い、3枚の試験片から測定した12個の平均値を求
め、これを10mm巾当たりに比例換算する。
The measurement of the adhesive strength according to JIS Z 0237-1980 “Adhesive tape / adhesive sheet test method” described in 18 of 18
Follow the 0-degree peeling method with the following modifications. An electrophotographic photosensitive member on which a transfer layer is to be formed is used as a "test plate". As the “test piece”, an adhesive tape having a width of 6 mm and manufactured according to JIS C 2338-1984 is used. Peel at a speed of 120 mm / min using a constant speed tension type tensile tester. That is, with the adhesive surface of the test piece facing down, the roller is reciprocated once over the test piece at a speed of about 300 mm / min to the test plate. During 20 to 40 minutes after crimping, using a constant speed tension type tensile tester, after peeling off about 25 mm, 120
Peel off at a speed of mm / min. The force is read every time it is peeled off by 20 mm, and a total of 4 times is read. The test is performed on three test pieces, and an average value of twelve pieces measured from the three test pieces is obtained, and the average value is proportionally converted per 10 mm width.

【0126】この転写層に隣接することとなる表面に剥
離性を有する感光体を得る方法としては、表面自身が剥
離性を保持する感光体を用いる方法(第1の方法)、剥
離性を発現する化合物(S)を転写層形成前に感光体の
表面に適用させる方法(第2の方法)、及び、本発明の
樹脂粒子(AL)を絶縁性有機溶媒中に分散させた分散
液中に、剥離性を発現する化合物(S′)を共存させて
電着する方法(第3の方法)が挙げられる。また、これ
らの方法のいずれかを組み合わせて用いることもでき
る。
As a method for obtaining a photoreceptor having releasability on the surface adjacent to the transfer layer, a method using a photoreceptor having a releasability on the surface itself (first method), or expressing releasability Method (second method) in which the compound (S) to be applied is applied to the surface of the photoreceptor before the transfer layer is formed, and in a dispersion liquid in which the resin particles (AL) of the present invention are dispersed in an insulating organic solvent. A method (third method) in which a compound (S ') exhibiting releasability is coexistent and electrodeposition is performed. Also, any of these methods can be used in combination.

【0127】第1の方法に用いることができる感光体の
表面自身が剥離性を有するものとしては、アモルファス
シリコンの表面を剥離性に改質した光導電体が挙げられ
る。剥離性に改質する方法としては、フッ素原子及び/
又はケイ素原子を含有するカップリング剤(例えばシラ
ンカップリング剤、チタンカップリング剤等)でアモル
ファスシリコン表面を処理する方法があり、特開昭55
−89844号、特開平4−231318号、特開昭6
0−170860号、同59−102244号、同60
−17750号等に記載されている。また、他の方法と
しては、後述する化合物(S)、特にフッ素原子及び/
又はケイ素原子を置換基として含有する成分をブロック
で含有する化合物(例えばポリエーテル、カルボン酸、
アミノ基、カルビノール基等変性のポリジアルキルシリ
コン類等)を吸着固定する方法が挙げられる。更に、他
の光導電体を用いる場合には、感光体を構成する光導電
層の上にオーバーコート層を設け、このオーバーコート
層に剥離性を付与する方法、又は光導電層(光導電体単
一層及び光導電体積層のいずれでもよい)の最上層の表
面を剥離性が発現する状態に改質する方法が挙げられ
る。
The photoconductor in which the surface of the photoconductor which can be used in the first method has releasability is a photoconductor obtained by modifying the surface of amorphous silicon to have releasability. As a method for modifying the peelability, fluorine atoms and /
Alternatively, there is a method of treating the surface of amorphous silicon with a coupling agent containing a silicon atom (for example, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, etc.).
-89844, JP-A-4-231318, JP-A-6
0-170860, 59-102244, 60
No. 17750 and the like. Further, as another method, a compound (S) described later, particularly a fluorine atom and / or
Alternatively, a compound containing a component containing a silicon atom as a substituent in a block (for example, polyether, carboxylic acid,
Examples include a method of adsorbing and fixing modified polydialkylsilicones such as amino groups and carbinol groups. Further, when another photoconductor is used, a method of providing an overcoat layer on the photoconductive layer constituting the photoreceptor and imparting releasability to the overcoat layer, or a photoconductive layer (photoconductor There may be mentioned a method of modifying the surface of the uppermost layer (which may be either a single layer or a photoconductor laminate) to a state where peelability is exhibited.

【0128】オーバーコート層又は最上の光導電層に剥
離性を付与するには、層の結着樹脂としてケイ素原子及
び/又はフッ素原子含有の重合体を用いるか、又はケイ
素原子及び/又はフッ素原子含有の重合体成分から成る
重合体セグメントを含むブロック共重合体(表面偏在化
型ブロック共重合体)を他の結着樹脂とともに少量用い
る方法がある。かかるケイ素及び/又はフッ素原子含有
の樹脂は樹脂粒子の形で用いることもできる。なかで
も、オ−バ−コ−ト層を設ける場合には、光導電層とオ
ーバーコート層の密着性を充分に保持できることから、
上記の表面偏在化型ブロック共重合体を併用する方法が
好ましい。上記表面偏在化型共重合体は、通常オーバー
コート層全組成物100重量部中0.1〜20重量部の
割合で、他の結着樹脂と併用することが好ましい。
To impart releasability to the overcoat layer or the uppermost photoconductive layer, a polymer containing a silicon atom and / or a fluorine atom is used as a binder resin for the layer, or a silicon atom and / or a fluorine atom is used. There is a method of using a small amount of a block copolymer containing a polymer segment composed of the contained polymer component (surface uneven distribution type block copolymer) together with another binder resin. The resin containing silicon and / or fluorine atoms may be used in the form of resin particles. Among them, when the overcoat layer is provided, the adhesion between the photoconductive layer and the overcoat layer can be sufficiently maintained,
A method of using the above-mentioned surface unevenly distributed block copolymer in combination is preferable. The surface unevenly distributed copolymer is preferably used in combination with another binder resin in a proportion of usually 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition of the overcoat layer.

【0129】具体的には、乾式トナーを用いたPPC感
光体において、感光体の繰り返し使用に対する感光体表
面の耐久性を保持する1つの手段として公知となってい
る、感光体上に表面層を設けて保護する方法における該
保護層の内容と類似の方法を利用することができる。例
えばシリコーン系ブロック共重合体を利用した保護層に
関する技術としては、特開昭61−95358号、同5
5−83049号、同62−87971号、同61−1
89559号、同62−75461号、同62−754
61号、同62−139556号、同62−13955
7号、同62−208055号等に記載のものが挙げら
れる。また、フッ素系ブロック共重合体を利用した保護
層としては、特開昭61−116362号、同61−1
17563号、同61−270768号、同62−14
657号等に記載のものが挙げられる。更に、フッ素原
子含有重合体成分を含有する樹脂を粒子の形で併用する
保護層として、特開昭63−249152号及び同63
−221355号に記載のものが挙げられる。
Specifically, in a PPC photosensitive member using a dry toner, a surface layer is formed on the photosensitive member, which is known as one means for maintaining durability of the photosensitive member surface against repeated use of the photosensitive member. A method similar to the content of the protective layer in the method of providing and protecting can be used. For example, as a technique relating to a protective layer using a silicone block copolymer, there are disclosed in JP-A-61-95358 and JP-A-6-95358.
5-83049, 62-89771, 61-1
89559, 62-7541, 62-754.
No. 61, No. 62-139556, No. 62-13955.
No. 7, No. 62-208055, etc. are mentioned. Further, as a protective layer using a fluorine-based block copolymer, there are disclosed in JP-A-61-1116362 and JP-A-61-161.
No. 17563, No. 61-270768, No. 62-14
No. 657 etc. are mentioned. Further, as a protective layer in which a resin containing a fluorine atom-containing polymer component is also used in the form of particles, there are disclosed in JP-A-63-249152 and JP-A-63-152152.
The thing described in No. 221355 is mentioned.

【0130】また、最上層の光導電層の表面を剥離性が
発現した状態に改質する方法は、光導電体と結着樹脂と
を少なくとも用いたいわゆる分散型の感光体を用いる場
合に、特に有効に適用される。即ち、光導電層の最上層
を構成する層に、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有
の重合体成分を含有する重合体セグメントをブロックで
含有するブロック共重合体の樹脂、並びにフッ素原子及
び/又はケイ素原子含有の重合体成分を含有する樹脂粒
子の少なくともいずれか一方を共存させることにより、
これらの材料が表面に濃縮・移行して偏在するため、剥
離性表面に改質することができる。この共重合体及び樹
脂粒子については特開平5−197169号に記載され
るものと同様ものを挙げることができる。
Further, the method of modifying the surface of the uppermost photoconductive layer to a state in which releasability is exhibited is a method of using a so-called dispersion type photoconductor containing at least a photoconductor and a binder resin. It is applied particularly effectively. That is, in the layer constituting the uppermost layer of the photoconductive layer, a resin of a block copolymer containing a polymer segment containing a polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom in a block, and a fluorine atom and / or By coexisting at least one of the resin particles containing a polymer component containing a silicon atom,
Since these materials are concentrated / migrated to the surface and unevenly distributed, the material can be modified to have a peelable surface. As for the copolymer and the resin particles, the same as those described in JP-A-5-197169 can be mentioned.

【0131】更には、表面偏在化をより強固にするため
に、オーバーコート層や光導電層の結着樹脂として、フ
ッ素原子及び/又はケイ素原子含有の重合体セグメント
と、熱及び/又は光硬化性基含有成分を含有する重合体
セグメントとを少なくとも1種ずつブロックで結合して
成るブロック共重合体を用いることができる。かかる熱
及び/又は光硬化性基含有成分を含有する重合体セグメ
ントについては、特開平5−197169号に記載され
るものと同様ものを挙げることができる。あるいは、光
及び/又は熱硬化性樹脂を、フッ素原子及び/又はケイ
素原子含有樹脂とともに併用してもよい。
Further, in order to further strengthen the uneven distribution of the surface, as a binder resin for the overcoat layer or the photoconductive layer, a polymer segment containing a fluorine atom and / or a silicon atom, and a heat and / or photocurable resin are used. It is possible to use a block copolymer obtained by bonding at least one type of polymer segment containing a functional group-containing component in blocks. As the polymer segment containing such a heat and / or photocurable group-containing component, the same as those described in JP-A-5-197169 can be mentioned. Alternatively, a light and / or thermosetting resin may be used together with a resin containing a fluorine atom and / or a silicon atom.

【0132】電子写真感光体において、前記した方法に
より感光体表面を改質するのに有効な本発明のフッ素原
子及び/又はケイ素原子を含有する重合体成分を含有す
る重合体は、樹脂(以下樹脂(P)という)及び/又は
樹脂粒子(以下樹脂粒子(L)という)の形で構成され
る。
In the electrophotographic photosensitive member, the polymer containing the polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom of the present invention, which is effective for modifying the surface of the photosensitive member by the above-mentioned method, is It is configured in the form of resin (P) and / or resin particles (hereinafter referred to as resin particles (L)).

【0133】重合体が、ランダム共重合体である場合に
は、フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有する重合体
成分は、全重合体成分中少なくとも60重量%以上であ
ることが好ましく、より好ましくは80重量%以上であ
る。
When the polymer is a random copolymer, the content of the polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom is preferably at least 60% by weight based on the total polymer components, more preferably Is 80% by weight or more.

【0134】より好ましくは、フッ素原子及び/又はケ
イ素原子を含有する重合体成分を50重量%以上含有す
る重合体セグメント(α)とフッ素及び/又はケイ素原
子含有重合体成分を0〜20重量%含有する重合体セグ
メント(β)がブロックで結合して成るブロック共重合
体である。更に好ましくは、ブロック共重合体中のセグ
メント(β)中に光及び/又は熱硬化性官能基を少なく
とも1種含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
ブロック共重合体である。これらのブロック共重合体に
おいて、セグメント(β)中には、フッ素原子及び/又
はケイ素原子含有の重合体成分を全く含有しないものが
好ましい。
More preferably, the polymer segment (α) containing 50% by weight or more of the polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom and 0 to 20% by weight of the polymer component containing a fluorine and / or silicon atom. It is a block copolymer in which the polymer segments (β) contained therein are linked by blocks. More preferably, it is a block copolymer containing at least one polymer component containing at least one photo- and / or thermosetting functional group in the segment (β) in the block copolymer. In these block copolymers, the segment (β) preferably contains no fluorine atom and / or silicon atom-containing polymer component.

【0135】上記重合体においては、セグメント(α)
及びセグメント(β)を含有するブロック共重合体(表
面偏在型共重合体)とすることで、ランダム共重合体に
比べ、表面の剥離性自身の向上、更には、剥離性の維持
が保持される。即ち、上記のフッ素原子及び/又はケイ
素原子含有の樹脂(P)及び/又は樹脂粒子(L)を少
量共存させて塗膜を形成すると、塗布後の乾燥工程終了
までの間に、容易に樹脂(P)及び樹脂粒子(L)は、
膜の表面部に移行・濃縮され膜表面が剥離性を発現でき
る状態に改質されるものである。
In the above polymer, the segment (α)
By using a block copolymer containing (1) and a segment (β) (a surface unevenly distributed copolymer), the peelability of the surface itself is improved as compared with the random copolymer, and further the maintenance of the peelability is maintained. It That is, when a coating film is formed by coexisting a small amount of the above-mentioned resin (P) and / or resin particles (L) containing a fluorine atom and / or a silicon atom, the resin can be easily formed before the drying step after coating. (P) and the resin particles (L) are
It is transferred to and concentrated on the surface of the film and is modified so that the film surface can exhibit releasability.

【0136】前述の様に、フッ素原子及び/又はケイ素
原子含有の重合体セグメント(α)がブロック化されて
いる場合には、他方の重合体セグメント(β)(フッ素原
子及び/又はケイ素原子含有の重合体成分を含んでいて
も少ない)が膜形成の結着樹脂との相溶性が良好なこと
から、これと充分な相互作用を行ない、転写層の形成時
において、これらの樹脂は、転写層への更なる移行が抑
制もしくは解消されて、転写層と電子写真感光体との界
面を明確に形成維持することができる(即ち、アンカー
効果)。ブロック共重合体のセグメント(β)中に硬化
性基を含有する重合体を用いて成膜時に重合体間を架橋
することで、更に、感光体と転写層との界面の剥離性が
強固に維持される効果が発揮される。特に、表面剥離性
感光体を繰り返し使用し且つ液体現像剤と組み合わせて
用いる場合には、架橋された膜状態であることが好まし
い。
As described above, when the polymer segment (α) containing a fluorine atom and / or a silicon atom is blocked, the other polymer segment (β) (containing a fluorine atom and / or a silicon atom). However, even if it contains a small amount of the polymer component), the resin has a good compatibility with the binder resin for film formation, and therefore interacts sufficiently with this, and these resins are Further transfer to the layer can be suppressed or eliminated, and the interface between the transfer layer and the electrophotographic photosensitive member can be clearly formed and maintained (that is, the anchor effect). By using a polymer containing a curable group in the segment (β) of the block copolymer to crosslink between the polymers during film formation, the peeling property at the interface between the photoreceptor and the transfer layer is further strengthened. The effect is maintained. In particular, when the surface-peeling photoreceptor is repeatedly used and used in combination with a liquid developer, it is preferably in a crosslinked film state.

【0137】該重合体は、前記の如く、樹脂粒子(L)
として用いられてもよい。好ましい樹脂粒子(L)は、
非水溶媒中に分散される樹脂粒子である。かかる樹脂粒
子としては、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の重
合体成分を含有する非水溶媒に不溶な重合体セグメント
(α)と、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の重合
体成分を含有しても20%以下である非水溶媒に可溶性
の重合体セグメント(β)とを結合して成るものが挙げ
られる。樹脂粒子(L)の場合には、不溶化している重
合体部分の作用により、表面への移行・濃縮が行われ、
更に、粒子に結合した非水溶媒に可溶性の重合体部分
が、前記樹脂(P)の場合と同様に、結着樹脂と相互作
用してアンカー効果の作用を行なう。更には硬化性基を
重合体中又は結着樹脂中に含有することで、転写層への
移行が解消されるものである。
The polymer is the resin particles (L) as described above.
May be used as. Preferred resin particles (L) are
Resin particles dispersed in a non-aqueous solvent. Such resin particles include a polymer segment (α) insoluble in a non-aqueous solvent containing a polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom, and a polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom. And a polymer segment (β) soluble in a non-aqueous solvent of 20% or less is included. In the case of resin particles (L), the action of the insolubilized polymer portion causes migration and concentration on the surface,
Further, the non-aqueous solvent-soluble polymer portion bonded to the particles interacts with the binder resin to perform an anchor effect, as in the case of the resin (P). Furthermore, by containing a curable group in the polymer or in the binder resin, transfer to the transfer layer is eliminated.

【0138】フッ素原子及び/又はケイ素原子を含有す
る置換基、これらを含む重合体成分(F)、ブロック共
重合体の重合パターンの態様及び重合体の合成方法につ
いて具体的に説明する。
The substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom, the polymer component (F) containing these, the aspect of the polymerization pattern of the block copolymer and the method for synthesizing the polymer will be specifically described.

【0139】重合体成分(F)は、ケイ素原子及び/又
はフッ素原子を含有する置換基を含む重合体成分であ
る。この置換基は、重合体の高分子主鎖に組み込まれて
いても高分子の側鎖の置換基として含有されていてもよ
い。フッ素原子を含有する置換基としては、例えば、下
記の一価又は二価の有機残基等が挙げられる。
The polymer component (F) is a polymer component containing a substituent containing a silicon atom and / or a fluorine atom. This substituent may be incorporated in the polymer main chain of the polymer or may be contained as a substituent of the side chain of the polymer. Examples of the substituent containing a fluorine atom include the following monovalent or divalent organic residues.

【0140】[0140]

【化25】 [Chemical 25]

【0141】[0141]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0142】ケイ素原子含有の置換基としては、例えば
下記の一価又は二価の有機残基等が挙げられる。
Examples of the substituent containing a silicon atom include the following monovalent or divalent organic residues.

【0143】[0143]

【化27】 [Chemical 27]

【0144】但し、R31、R32、R33、R34及びR
35は、各々同じでも異なってもよく、置換されていても
よい炭化水素基又は−OR36基(R36は置換されてもよ
い炭化水素基を表わす)を表わす。
However, R 31 , R 32 , R 33 , R 34 and R
35, which may be the same or different, each represents an optionally substituted hydrocarbon group or an -OR 36 group (R 36 represents an optionally substituted hydrocarbon group).

【0145】R31〜R36の示す炭化水素基としては、具
体的には炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキ
サデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル
基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−シアノエ
チル基、3,3,3−トリフルオロプロピルエチル基、
2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2,2,2,2′,2′,
2′−ヘキサフルオロイソプロピル基等)、炭素数4〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メ
チル−1−プロペニル、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されて
いてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、
2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベン
ジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジ
ル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜1
2の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)等が挙げられる。
Specific examples of the hydrocarbon group represented by R 31 to R 36 include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-cyanoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group Ethyl group,
2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2,2,2,2 ', 2',
2'-hexafluoroisopropyl group, etc., 4 to 4 carbon atoms
18 optionally substituted alkenyl groups (eg, 2-methyl-1-propenyl, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2 -Hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic ring having 5 to 8 carbon atoms Formula group (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or C6 to C1
2 optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, Butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group,
Chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc. ) And the like.

【0146】また、該フッ素原子及びケイ素原子含有の
有機残基は、組み合わされて構成されてもよく、その場
合には、直接結合してもよいし更には他の連結基を介し
て組み合わされてもよい。連結する基として具体的には
二価の有機残基が挙げられ、−O−、−S−、−N(d
1)−、−CO−、−SO−、−SO2−、−COO−、
−OCO−、−CONHCO−、−NHCONH−、−
CON(d1)−、−SO2N(d1)−等から選ばれた結
合基を介在させてもよい、二価の脂肪族基もしくは二価
の芳香族基、又はこれらの二価の残基の組み合わせによ
り構成された有機残基を表わす。ここで、d1は前記R
31と同一の内容を表わす。
The fluorine atom- and silicon atom-containing organic residues may be constituted in combination, in which case they may be directly bonded or may be combined via another linking group. May be. Specific examples of the group to be linked include divalent organic residues, and -O-, -S-, -N (d
1) -, - CO -, - SO -, - SO 2 -, - COO-,
-OCO-, -CONHCO-, -NHCONH-,-
CON (d 1 )-, -SO 2 N (d 1 )-, etc., a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group which may intervene a bonding group selected from these groups, or a divalent group thereof. Represents an organic residue composed of a combination of residues. Where d 1 is the R
Indicates the same contents as 31 .

【0147】二価の脂肪族基として、例えば下記で示さ
れる基が挙げられる。
Examples of the divalent aliphatic group include the groups shown below.

【0148】[0148]

【化28】 [Chemical 28]

【0149】ここで、e1及びe2は、互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば、
塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜12のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメ
チル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基等)を表わす。Qは−O
−、−S−又は−N(d2)−を表わし、d2は炭素数1
〜4のアルキル基、−CH2Cl又は−CH2Brを表わ
す。
Here, e 1 and e 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom or a halogen atom (for example,
(Chlorine atom, bromine atom, etc.) or alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.) Represents Q is -O
-, - S- or -N (d 2) - represents, d 2 is 1 carbon atoms
To 4 alkyl group, a -CH 2 Cl or -CH 2 Br.

【0150】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種
含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を
有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキ
シ基、ブトキシ基等)が置換基の例としてあげられる。
複素環基としては、例えばフラン環、チオフエン環、ピ
リジン環、ピペラジン環、テトラヒドロフラン環、ピロ
ール環、テトラヒドロピラン環、1,3−オキサゾリン
環等が挙げられる。
Examples of the divalent aromatic group include a benzene ring group, a naphthalene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (as a hetero atom constituting the hetero ring, selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom). Containing at least one hetero atom). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.) can be given as examples of the substituent.
Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-oxazoline ring.

【0151】次に、以上のようなフッ素原子及び/又は
ケイ素原子を含有する置換基を有する繰り返し単位の具
体例を以下に示す。しかし、本発明の範囲がこれらに限
定されるものではない。以下の(F−1)〜(F−32)
における各具体例において、Rf は下記に示す(1)〜
(11)のいずれかの基を示し、bは水素原子又はメチル
基を表わす。
Specific examples of the repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom as described above are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these. Following (F-1) ~ (F-32)
In each specific example of R f , R f is as follows (1) to
It represents any group of (11), and b represents a hydrogen atom or a methyl group.

【0152】[0152]

【化29】 [Chemical 29]

【0153】但し、上記(1)〜(11)において、
f′は上記(1)〜(8)で示される基を示し、nは
1〜18の整数を示し、mは1〜18の整数を示し、l
は1〜5の整数を示す。
However, in the above (1) to (11),
R f ′ represents a group represented by the above (1) to (8), n represents an integer of 1 to 18, m represents an integer of 1 to 18, and l
Represents an integer of 1 to 5.

【0154】[0154]

【化30】 [Chemical 30]

【0155】[0155]

【化31】 [Chemical 31]

【0156】[0156]

【化32】 [Chemical 32]

【0157】[0157]

【化33】 [Chemical 33]

【0158】[0158]

【化34】 Embedded image

【0159】上記重合体成分(F)は、樹脂(P)中に
ブロックで含有されることが好ましい。樹脂(P)にお
いて好ましい態様であるブロック型共重合体を以下に説
明する。このブロック型共重合体は、フッ素原子及び/
又はケイ素原子含有の重合体成分がブロックで構成され
ていればいずれでもよい。ここでブロックで構成すると
は、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の重合体成分
を50重量%以上含有する重合体セグメントを重合体中
に有していることをいい、例えば下記に示すようなA−
B型ブロック、A−B−A型ブロック、B−A−B型ブ
ロック、グラフト型ブロックあるいはスター型ブロック
等が挙げられる。
The polymer component (F) is preferably contained in the resin (P) in blocks. The block copolymer, which is a preferred embodiment of the resin (P), will be described below. This block type copolymer has a fluorine atom and /
Alternatively, any polymer may be used as long as the silicon atom-containing polymer component is composed of blocks. Here, to be composed of blocks means that the polymer has a polymer segment containing 50% by weight or more of a polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom, for example, A as shown below. −
Examples thereof include B type blocks, ABA type blocks, BAB type blocks, graft type blocks and star type blocks.

【0160】[0160]

【化35】 Embedded image

【0161】これらの各種ブロック共重合体は、従来公
知の重合方法に従って合成することができる。例えば、
W. J. Burlant, A. S. Hoffman「Block and Graft poly
mers」(1986年、Reuhold)、R. J. Cevesa「Block and
Graft Copolymers」(1962年、Butterworths) 、D. C.
Allport, W. H. James「Block Copolymers」(1972年、
Applied Sci)、A. Noshay, J. E. McGrath「Block Copo
lymers」(1977年、Academis Press.)、G. Huvterg, D.
J. Wilson, G. Riess, NATO ASIser. SerE.1985,14
9、V. Perces, Applied. Polymer Sci. 285, 95 (198
5)等の成書、総説に記載されている。
These various block copolymers can be synthesized by a conventionally known polymerization method. For example,
WJ Burlant, AS Hoffman `` Block and Graft poly
mers ”(1986, Reuhold), RJ Cevesa“ Block and
Graft Copolymers "(1962, Butterworths), DC
Allport, WH James "Block Copolymers" (1972,
Applied Sci), A. Noshay, JE McGrath `` Block Copo
lymers '' (1977, Academicis Press.), G. Huvterg, D.
J. Wilson, G. Riess, NATO ASIser. SerE. 1985 , 14
9, V. Perces, Applied. Polymer Sci. 285, 95 (198
It is described in the books and reviews such as 5).

【0162】例えば、有機金属化合物(例えばアルキル
リチウム類、リチウムジイソプロピルアミド、アルカリ
金属アルコラート類、アルキルマグネシウムハライド
類、アルキルアルミニウムハライド類等)等を重合開始
剤とするイオン重合反応については、T. E. Hogeu-Esc
h, J. Smid「Recent Advances in Anion Polymerizatio
n」(1987年、Elsevier New York)、岡本佳男、高分
子、38、912 (1989)、澤本光男、高分子、38、1018(198
9)、成田正、高分子、37、252 (1988)、B. C. Anderson
et al., Macromolecules 14, 1601(1981)、S. Aoshim
a, T. Higasimura, Macromolecules 22, 1009(1989)等
に具体的に記載されている。
For example, regarding the ionic polymerization reaction using an organic metal compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkali metal alcoholate, alkylmagnesium halide, alkylaluminum halide, etc.) as a polymerization initiator, TE Hogeu- Esc
h, J. Smid `` Recent Advances in Anion Polymerizatio
n '' (1987, Elsevier New York), Okamoto Yoshio, Polymer, 38 , 912 (1989), Sawamoto Mitsuo, Polymer, 38 , 1018 (198)
9), Tadashi Narita, Polymer, 37 , 252 (1988), BC Anderson
et al., Macromolecules 14 , 1601 (1981), S. Aoshim
a, T. Higasimura, Macromolecules 22 , 1009 (1989) and the like.

【0163】また、ヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオ
ン重合反応については、T. Higasimura at al., Makrom
ol. Chem., Macromol. Symp., 1314, 457 (1988)、東
村敏延、沢本光男、高分子論文集 46, 189 (1989)等に
記載されている。グループ移動重合反応については、D.
Y. Sogah et al., Macromolecules, 20,1473(1987)、
O. W. Webster, D. Y. Sogah, 高分子、36、808 (198
7)、M. T.Reetg et al., Angew. Chem. Int. Ed. Engl.
25、9108(1986)、特開昭63−97609号等に記載
されている。
Regarding the ionic polymerization reaction with hydrogen iodide / iodine system, etc., see T. Higasimura at al., Makrom.
ol. Chem., Macromol. Symp ., 13/14, 457 (1988), Higashimura Satoshinobe, Mitsuo Sawamoto, by Kobunshi Ronbunshu 46, 189 (1989) and the like. For the group transfer polymerization reaction, see D.
Y. Sogah et al., Macromolecules, 20 , 1473 (1987),
OW Webster, DY Sogah, Polymer, 36 , 808 (198
7), MTReetg et al., Angew. Chem. Int. Ed. Engl.
25 , 9108 (1986), JP-A-63-97609 and the like.

【0164】金属ポルフィリン錯体を用いたリビング重
合反応については、T. Yasuda, T.Aida, S. Inoue, Mac
romolecules, 17, 2217(1984)、M. Kuroki, T. Aida,
S. Inoue, T. Ann. Chem. Soc.109,4737(1987)、M. Kur
oki et al., Macromolecules, 21, 3115(1988)、M. Kur
oki, I. Inoue、有機合成化学、47、1017(1989)等に記
載されている。
Regarding the living polymerization reaction using a metalloporphyrin complex, see T. Yasuda, T. Aida, S. Inoue, Mac.
romolecules, 17 , 2217 (1984), M. Kuroki, T. Aida,
S. Inoue, T. Ann. Chem. Soc. 109, 4737 (1987), M. Kur
oki et al., Macromolecules, 21 , 3115 (1988), M. Kur
oki, I. Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 47 , 1017 (1989).

【0165】更には、環状化合物の開環重合反応につい
ては、S. Kobayashi, T. Saegusa「Ring Opening Polym
erization」(1984年、Applied Scence Publishers Lt
d.)、W. Seeliger et al., Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l. 、875 (1966)、S. Kobayashi et al., Poly. Bul
l.13,447 (1985)、Y. Chujo et al., Macromolecules,
22, 1074(1989)等に記載されている。
Further, regarding ring-opening polymerization reaction of cyclic compounds, S. Kobayashi, T. Saegusa "Ring Opening Polym
erization ”(1984, Applied Scence Publishers Lt.
d.), W. Seeliger et al., Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l. 5 , 875 (1966), S. Kobayashi et al., Poly. Bul
l. 13 , 447 (1985), Y. Chujo et al., Macromolecules,
22 , 1074 (1989) and the like.

【0166】更には、ジチオカーバメイト化合物又はザ
ンテート化合物等を開始剤として用いる光リビング重合
反応については、大津隆行、高分子、37、248 (1988)、
檜森俊一、大津隆一、Polym. Rep. Jap. 37, 3508(198
8)、特開昭64−111号、特開昭64−26619
号、M. Niwa, Macromolecules, 189,、2187(1988)等に
記載されている。
Further, regarding the photoliving polymerization reaction using a dithiocarbamate compound, a xanthate compound or the like as an initiator, Takayuki Otsu, Kogaku, 37 , 248 (1988),
Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Polym. Rep. Jap. 37 , 3508 (198
8), JP-A 64-111, and JP-A 64-26619.
No., M. Niwa, Macromolecules, 189 , 2187 (1988) and the like.

【0167】他方、アゾ基又は過酸化基を含有する高分
子を開始剤とするラジカル重合反応によってブロック共
重合体を合成する方法が、上田明等、高分子論文集、33
931(1976)、上田明、大阪市立工業研究所報告 84(198
9)、O. Nuyken et al., Macromol. Chem., Rapid. Comm
un. 9, 671(1988)、森屋泰夫等「強化プラスチック」2
9, 907、小田良平「科学と工業」61、43(1987)等に記載
されている。
[0167] On the other hand, a method of synthesizing a block copolymer by radical polymerization reaction to polymeric initiator containing an azo group or a peroxide group, Ueda Akirato, polymer Proceedings, 33
931 (1976), Akira Ueda, Osaka City Research Institute Report 84 (198)
9), O. Nuyken et al., Macromol. Chem., Rapid. Comm.
un. 9, 671 (1988), Yasuo Moriya et al. "Reinforced plastic" 2
9 , 907, Ryohei Oda, "Science and Industry" 61 , 43 (1987).

【0168】グラフト型ブロック共重合体の合成につい
ては、前記した成書、総説に加えて、更に、井手文雄
「グラフト重合とその応用」(1977年、高分子刊行
会)、高分子学会編「ポリマー・アロイ」(1981年、東
京化学同人)等に記載されている。例えば、高分子鎖
を、重合開始剤、化学的活線(放射線、電子線等)、機
械的応用化でのメカノケミカル反応等で、グラフト化す
る方法、高分子鎖と高分子鎖の官能基を利用して、化学
結合(いわゆる高分子間反応)しグラフト化する方法、
及びマクロモノマーを用いて重合反応し、グラフト化す
る方法等が知られている。
Regarding the synthesis of the graft type block copolymer, in addition to the above-mentioned textbooks and reviews, Fumio Ide “Graft polymerization and its applications” (1977, Polymer Society of Japan), The Society of Polymer Science, eds. Polymer Alloy "(1981, Tokyo Kagaku Dojin) and the like. For example, a method of grafting a polymer chain with a polymerization initiator, chemical actinic rays (radiation, electron beam, etc.), mechanochemical reaction in mechanical application, etc., polymer chains and functional groups of polymer chains A method of grafting by utilizing chemical bonding (so-called interpolymer reaction),
Also known is a method of carrying out a polymerization reaction using a macromonomer and grafting.

【0169】高分子を用いてグラフト化する方法とし
て、具体的には、T. Shota et al., J. Appl. Polym. S
ci. 13、2447(1969)、W. H. Buck, Rubber Chemistry a
nd Technology, 50, 109 (1976)、遠藤剛、植沢勉、日
本接着協会誌、24、323 (1988)、遠藤剛、ibid. 25、40
9 (1989)等に記載されている。
As a method of grafting using a polymer, specifically, T. Shota et al., J. Appl. Polym. S
ci. 13 , 2447 (1969), WH Buck, Rubber Chemistry a
nd Technology, 50 , 109 (1976), Tsuyoshi Endo, Tsutomu Uezawa, Journal of Japan Adhesive Society, 24 , 323 (1988), Tsuyoshi Endo, ibid. 25 , 40
9 (1989) etc.

【0170】また、マクロモノマーを用いて重合反応し
グラフト化する方法として、具体的には、P. Dreyfuss
& R. P. Quirk, Encycl. Polym. Sci. Eng., , 551
(1987)、P. F. Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci.,
58, 1(19894) 、V. Percec、Appl. Poly. Sci., 285,
95 (1984)、R. Asami, M. Takari, Macromol. Chem.Sup
pl., 12、163 (1985)、P. Rempp. et al., Macromol. C
hem. Suppl., 8,3(1985)、川上雄資、化学工業、38、5
6(1987)、山下雄也、高分子、31、988 (1982)、小林四
郎、高分子、30、625 (1981)、東村敏延、日本接着協会
誌、18、536 (1982)、伊藤浩一、高分子加工、35、262
(1986)、東貴四郎、津田隆、機能材料、1987、No.10,
5、山下雄也編著「マクロモノマーの化学と工業」(198
9年、アイ・ピーシー(株))、遠藤剛編著「新しい機能
性高分子の分子設計」第4章(1991年、C.M.C.(株))、
Y. Yamashita et al., Polym. Bull. 5, 361(1981)等に
記載されている。
As a method of carrying out a polymerization reaction and grafting using a macromonomer, specifically, P. Dreyfuss
& RP Quirk, Encycl. Polym. Sci. Eng., 7 , 551
(1987), PF Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci.,
58 , 1 (19894), V. Percec, Appl. Poly. Sci., 285,
95 (1984), R. Asami, M. Takari, Macromol. Chem. Sup
pl., 12 , 163 (1985), P. Rempp. et al., Macromol. C
hem. Suppl., 8, 3 (1985), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 5
6 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31 , 988 (1982), Kobayashi Shiro, Polymer, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of Japan Adhesive Society, 18 , 536 (1982), Koichi Ito, Polymer processing, 35 , 262
(1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 , No.10,
5, Yuya Yamashita, "Chemistry and Industry of Macromonomers" (198
9 years, IPC Co., Ltd., Takeshi Endo "Molecular design of new functional polymers" Chapter 4 (1991, CMC Co., Ltd.),
Y. Yamashita et al., Polym. Bull. 5, 361 (1981).

【0171】スター型ブロック共重合体の合成方法は、
例えば、M. T. Reetz, Angew. Chem. Int. Ed. Engl.,
27, 1373(1988)、M. Sgwarc「Carbanions, Living Poly
mersand Electron Transfer Processes」(1968年、Wil
ey. New York)、B. Gordonet al., Polym. Bull. 11, 3
49 (1984)、R. B. Bates et al., J. Org. Chem. 44, 3
800(1979)、Y. Sogah, A. C. S. Polym. Rapr. 1988、N
o.2, 3、J. W. Mays. Polym. Bull.23, 247 (1990)、I.
M. Khan et al., Macromolecules, 21、2684(1988)、
A. Morikawa, Macromolecules, 24、3469(1991)、上田
明、永井透、高分子、39、202 (1990)、T. Otsu, Poly
m. Bull. 11、135 (1984)等に記載されている。しかし
ながら、ブロック共重合体の合成法はこれらの方法に限
定されるものではない。
The synthesis method of the star type block copolymer is as follows:
For example, MT Reetz, Angew. Chem. Int. Ed. Engl.,
27 , 1373 (1988), M. Sgwarc `` Carbanions, Living Poly
mersand Electron Transfer Processes "(1968, Wil
ey. New York), B. Gordon et al., Polym. Bull. 11 , 3
49 (1984), RB Bates et al., J. Org. Chem. 44 , 3
800 (1979), Y. Sogah, ACS Polym. Rapr. 1988 , N
o.2, 3, JW Mays. Polym. Bull. 23 , 247 (1990), I.
M. Khan et al., Macromolecules, 21 , 2684 (1988),
A. Morikawa, Macromolecules, 24 , 3469 (1991), Akira Ueda, Toru Nagai, Kogaku, 39 , 202 (1990), T. Otsu, Poly
m. Bull. 11 , 135 (1984), etc. However, the method for synthesizing the block copolymer is not limited to these methods.

【0172】上記樹脂(P)及び樹脂粒子(L)におい
て、いわゆる表面偏在型共重合体である場合を説明す
る。ケイ素原子及び/又はケイ素原子含有の重合体成分
を含有するセグメント(α)において、重合体成分
(F)は、セグメント(α)全体の総量のうち、少なく
とも50重量%を含み、好ましくは70重量%以上、よ
り好ましくは80重量%以上である。また、セグメント
(β)においては、フッ素原子及び/又はケイ素原子含
有の重合体成分(F)はセグメント(β)全体総量の内
20重量%以下であり、好ましくは0重量%である。
The case where the resin (P) and the resin particles (L) are so-called surface unevenly distributed copolymers will be described. In the segment (α) containing a silicon atom and / or a silicon atom-containing polymer component, the polymer component (F) contains at least 50% by weight, preferably 70% by weight, of the total amount of the entire segment (α). % Or more, more preferably 80% by weight or more. In the segment (β), the content of the fluorine atom and / or silicon atom-containing polymer component (F) is 20% by weight or less, preferably 0% by weight, of the total amount of the segment (β).

【0173】セグメント(α)とセグメント(β)の重
量比は、好ましくは1〜95対5〜99、より好ましく
は5〜90対10〜95である。この範囲において、樹
脂(P)及び樹脂粒子(L)ともに、最上層部表面への
濃縮効果及びアンカー効果が有効に発揮される。
The weight ratio of the segment (α) to the segment (β) is preferably 1 to 95: 5 to 99, more preferably 5 to 90:10 to 95. In this range, both the resin (P) and the resin particles (L) can effectively exert the concentration effect and the anchor effect on the surface of the uppermost layer.

【0174】また、樹脂(P)の重量平均分子量は、好
ましくは5×103〜1×106、より好ましくは1×1
4〜5×105である。一方、樹脂(P)におけるセグ
メント(α)部の重量平均分子量は、少なくとも1×1
3であることが好ましい。樹脂粒子(L)は、その平
均粒径が好ましくは0.001〜1μm、より好ましく
は0.05〜0.5μmである。
The weight average molecular weight of the resin (P) is preferably 5 × 10 3 to 1 × 10 6 , and more preferably 1 × 1.
It is 0 4 to 5 × 10 5 . On the other hand, the weight average molecular weight of the segment (α) in the resin (P) is at least 1 × 1.
It is preferably 0 3 . The average particle diameter of the resin particles (L) is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.05 to 0.5 μm.

【0175】次に樹脂粒子(L)についての好ましい態
様について説明する。前記の如く、樹脂粒子(L)は、
好ましくは、非水溶媒に不溶なフッ素原子及び/又はケ
イ素原子含有のセグメント(α)と、この溶媒に可溶性
の、フッ素原子及び/又はケイ素原子を殆ど含有しない
セグメント(β)とから成るものである。更には、樹脂
粒子(L)の不溶性部分を構成するセグメント(α)部
は、架橋構造を形成していてもよい。
Next, a preferable embodiment of the resin particles (L) will be described. As described above, the resin particles (L) are
Preferably, it is composed of a segment (α) containing a fluorine atom and / or a silicon atom which is insoluble in a non-aqueous solvent, and a segment (β) containing almost no fluorine atom and / or a silicon atom, which is soluble in this solvent. is there. Furthermore, the segment (α) part constituting the insoluble portion of the resin particle (L) may form a crosslinked structure.

【0176】樹脂粒子(L)を製造する好ましい方法と
しては、後に非水系分散樹脂粒子の製造に関して述べる
非水系分散重合方法が挙げられる。非水溶媒系分散樹脂
粒子の製造に用いられる非水溶媒としては、沸点200
℃以下の有機溶媒であればいずれでもよく、単独で又は
2種以上を混合して用いることができる。
As a preferred method for producing the resin particles (L), there may be mentioned the non-aqueous dispersion polymerization method which will be described later on the production of the non-aqueous dispersion resin particles. The non-aqueous solvent used for producing the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles has a boiling point of 200.
Any organic solvent may be used as long as it is at a temperature of not more than 0 ° C., and they can be used alone or in combination of two or more.

【0177】この有機溶媒の具体例は、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、フッ化アルコー
ル、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケト
ン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エ
ステル類、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ト
リデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の炭素数
6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレ
ンクロリド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、
トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げら
れる。ただし、以上述べた化合物例に限定されるもので
はない。これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散重合
法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は容易
に1μm以下となり、しかも粒子径の分布が非常に狭く
且つ単分散の粒子とすることができる。
Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, and benzyl alcohol, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ketone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, carboxylic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, hexane, octane, decane, dodecane, tridecane , Aliphatic hydrocarbons having 6 to 14 carbon atoms such as cyclohexane and cyclooctane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane,
Examples include halogenated hydrocarbons such as trichloroethane. However, it is not limited to the above-mentioned compound examples. By synthesizing dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by a dispersion polymerization method, the average particle diameter of the resin particles easily becomes 1 μm or less, and the particle diameter distribution is very narrow and monodisperse particles are obtained. You can

【0178】具体的には、セグメント(α)を構成する
重合体成分に相当する単量体(a)、セグメント(β)
を構成する重合体成分に相当する単量体(b)とを、単
量体(a)は溶解するが重合すると不溶となる非水溶媒
を用いて、過酸化物(例えば過酸化ベンゾイル、過酸化
ラウロイル等)、アゾビス化合物(例えばアゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等)、有
機金属化合物(例えば、ブチルリチウム等)等の重合開
始剤の存在下に加熱重合させればよい。又は、上記単量
体(a)、セグメント(β)から成る重合体(Pβ)と
を、上記と同様にして重合させればよい。
Specifically, the monomer (a) and the segment (β) corresponding to the polymer component constituting the segment (α)
And a monomer (b) corresponding to the polymer component constituting the monomer, and a non-aqueous solvent in which the monomer (a) dissolves but becomes insoluble when polymerized, using a peroxide (for example, benzoyl peroxide, peroxide). It may be carried out by heat polymerization in the presence of a polymerization initiator such as lauroyl oxide), an azobis compound (eg azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile etc.), an organometallic compound (eg butyllithium etc.). Alternatively, the monomer (a) and the polymer (Pβ) composed of the segment (β) may be polymerized in the same manner as above.

【0179】更には、樹脂粒子(L)の不溶化した重合
体粒子の内部が架橋構造を有していてもよい。これらの
架橋構造を形成させるには、従来公知の方法のいずれを
も用いることができる。即ち、セグメント(α)を含
有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によって架
橋する方法、セグメント(α)に相当する単量体
(a)を少なくとも含有させて重合反応を行う際に、重
合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体又は多官
能性オリゴマーを共存させることにより、分子間に網目
構造を形成する方法、及びセグメント(α)と反応性
基を含有する成分を含む重合体類とを重合反応あるいは
高分子反応によって架橋させる方法等によって行うこと
ができる。
Furthermore, the inside of the insolubilized polymer particles of the resin particles (L) may have a crosslinked structure. Any conventionally known method can be used to form these crosslinked structures. That is, a method of cross-linking a polymer containing a segment (α) with various crosslinking agents or curing agents, and a polymerization reaction when a monomer (a) corresponding to the segment (α) is contained in the polymerization reaction. A method for forming a network structure between molecules by allowing a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer containing two or more functional groups to coexist, and a component containing a segment (α) and a reactive group. It can be carried out by a method of cross-linking the contained polymers with a polymerization reaction or a polymer reaction.

【0180】上記の方法の架橋剤としては、通常架橋
剤として用いられる化合物を挙げることができる。具体
的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」
大成社刊(1981年)、高分子学会編「高分子データハン
ドブック、基礎編」培風館(1986年)等に記載されてい
る化合物を用いることができる。例えば、有機シラン系
化合物(例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のシラン
カップリング剤等)、ポリイソシアナート系化合物(例
えば、トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタン
ジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナ
ート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘキ
サメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナ
ート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系化
合物(例えば、1,4−ブタンジオール、ポリオキシプ
ロピレングリコール、ポリオキシエチレングリコール、
1,1,1−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン
系化合物(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシ
プロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、
変性脂肪族ポリアミン類等)、チタネートカップリング
系化合物(例えばテトラブトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、イソプロピルトリステアロイルチ
タネート等)、アルミニウムカップリング系化合物(例
えばアルミニウムブチレート、アルミニウムアセチルア
セテート、アルミニウムオキシドオクテート、アルミニ
ウムトリス(アセチルアセテート)等)、ポリエポキシ
基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著
「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著
「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載
された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一郎、
松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社
(1969年刊)等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)
クリレート系化合物(例えば、大河原信、三枝武夫、東
村敏延編「オリゴマー」講談社(1976年刊)、大森英三
「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)
等に記載された化合物類)が挙げられる。
As the cross-linking agent in the above method, compounds usually used as cross-linking agents can be mentioned. Specifically, "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko.
The compounds described in Taiseisha (1981), "Polymer Data Handbook, Basic Edition" edited by The Polymer Society of Japan, Baifukan (1986), etc. can be used. For example, organic silane compounds (for example, silane coupling agents such as vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane). Etc.), polyisocyanate compounds (for example, toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, high molecular polyisocyanate) Nato, etc.), a polyol compound (for example, 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene glycol,
1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine,
Modified aliphatic polyamines, etc.), titanate coupling compounds (eg tetrabutoxy titanate, tetrapropoxy titanate, isopropyl tristearoyl titanate etc.), aluminum coupling compounds (eg aluminum butyrate, aluminum acetyl acetate, aluminum oxide octate, Aluminum tris (acetyl acetate), etc., polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, "New Epoxy Resin" by Hiroshi Kakiuchi Shokoido (1985), Kuniyuki Hashimoto "Epoxy Resin" Nikkan Kogyo Shimbun (1969) ) Etc.), melamine resin (for example, Ichiro Miwa,
"Uria Melamine Resin" edited by Hideo Matsunaga, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), poly (meta)
Crylate compounds (eg Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura, "Oligomer" Kodansha (1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Techno System (1985)
And the like).

【0181】また、上記の方法で共存させる重合性官
能基を2個以上含有する多官能性単量体〔以下多官能性
単量体(d)とも称する〕又は多官能性オリゴマーの重
合性官能基としては、具体的には、CH2=CHCH
2−、CH2=CHCOO−、CH2=CH−、CH2=C
(CH3)−COO−、CH(CH3)=CHCOO−、C
2=CHCONH−、CH2=C(CH3)−CONH
−、CH(CH3)=CHCONH−、CH2=CHOC
O−、CH2=C(CH3)−OCO−、CH2=CHCH
2OCO−、CH2=CHNHCO−、CH2=CHCH2
NHCO−、CH2=CHSO2−、CH2=CHCO
−、CH2=CHO−、CH2=CHS−等を挙げること
ができる。これらの重合性官能基の同一のものあるいは
異なったものを2個以上有する単量体あるいはオリゴマ
ーであればよい。
In addition, a polyfunctional monomer containing two or more polymerizable functional groups coexisting in the above method [hereinafter also referred to as a polyfunctional monomer (d)] or a polyfunctional oligomer polymerizable functional group. As the group, specifically, CH 2 ═CHCH
2 -, CH 2 = CHCOO-, CH 2 = CH-, CH 2 = C
(CH 3) -COO-, CH ( CH 3) = CHCOO-, C
H 2 = CHCONH-, CH 2 = C (CH 3) -CONH
-, CH (CH 3) = CHCONH-, CH 2 = CHOC
O-, CH 2 = C (CH 3) -OCO-, CH 2 = CHCH
2 OCO-, CH 2 = CHNHCO-, CH 2 = CHCH 2
NHCO-, CH 2 = CHSO 2 - , CH 2 = CHCO
-, CH 2 = CHO-, can be mentioned CH 2 = CHS-like. Any monomer or oligomer having two or more of these same or different polymerizable functional groups may be used.

【0182】重合性官能基を2個以上有する単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール#20
0、#400、#600、1,3−ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
ど)、又はポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキ
ノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)
のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル
類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸
(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸
等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルア
ミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチレ
ンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブ
チレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, divinylbenzene, trivinylbenzene, and other styrene derivatives: polyhydric alcohol as a monomer or oligomer having the same polymerizable functional group. (For example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 20
0, # 400, # 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc., or polyhydroxyphenols (eg hydroquinone, resorcin, catechol) And their derivatives)
Methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (eg malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) Vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups (eg methacrylic acid, acryl) Acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.) and the like.

【0183】また、異なる重合性官能基を有する単量体
あるいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有
するカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メ
タクリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイル
プロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロ
イル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無
水物等)とアルコール又はアミンの反応体等のビニル基
を含有するエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメ
タクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニ
ル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン
酸アルリ、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイル
プロピオン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリ
ル、アクリル酸ビニルオキシカルボキシルメチルエステ
ル、アクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカ
ルボニルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミ
ド、N−アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン
酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド
等)又はアミノアルコール類(例えばアミノエタノー
ル、1−アミノプロパノール、1−アミノブタノール、
1−アミノヘキサノール、2−アミノブタノール等)と
ビニル基を含有するカルボン酸との縮合体などが挙げら
れる。本発明に用いられる2個以上の重合性官能基を有
する単量体又はオリゴマーは、単量体(a)及び共存す
る他の単量体との総量に対して10モル%以下、好まし
くは5モル%以下用いて重合し、樹脂を形成する。
Examples of the monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include vinyl group-containing carboxylic acids (for example, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, and arylloyl). Propionic acid, itaconiloyl acetic acid, itaconiloyl propionic acid, carboxylic acid anhydride, etc.) and ester or amide derivatives containing vinyl groups such as alcohol or amine reactants (eg vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconic acid) , Allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, methacryloyl vinyl acetate, vinyl methacryloyl propionate, allyl methacryloyl propionate, vinyl oxycarboxyl methyl acrylate, vinyl acrylate Luoxycarbonylmethyloxycarbonylethylene ester, N-allylacrylamide, N-allylmethacrylamide, N-allylitaconic acid amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc.) or amino alcohols (eg aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-amino) Butanol,
1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a condensate of a carboxylic acid containing a vinyl group. The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is 10 mol% or less, preferably 5 mol% or less based on the total amount of the monomer (a) and other coexisting monomers. Polymerization is carried out using less than mol% to form a resin.

【0184】更には、上記の方法の高分子間の反応性
基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋架け
を行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と同様
に行うことができる。分散重合において、粒子の粒径が
揃った単分散性の粒子が得られること及び0.5μm以
下の微小粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の
方法としては多官能性単量体を用いるの方法が好まし
い。即ち、前記した単量体(a)、単量体(b)及び/
又は重合体(Pβ)に更に、多官能性単量体(d)を共
存させて重合造粒反応を行なうことで合成することがで
きる。更に、上記したセグメント(β)で構成される重
合体(Pβ)を用いる場合は、重合体(Pβ)の高分子
主鎖中の側鎖あるいは主鎖の片末端に、単量体(a)と
共重合可能な重合性二重結合基を有して成る重合体(P
β′)が好ましい。
Furthermore, in the case of forming a chemical bond by the reaction of reactive groups between polymers and bridging between polymers in the above-mentioned method, it is carried out in the same manner as the reaction of a normal organic low molecular compound. be able to. In dispersion polymerization, since monodisperse particles having a uniform particle size are obtained and fine particles of 0.5 μm or less are easily obtained, a polyfunctional monomer is used as a method for forming a network structure. The method used is preferred. That is, the above-mentioned monomer (a), monomer (b) and /
Alternatively, it can be synthesized by polymerizing the polymer (Pβ) further with the polyfunctional monomer (d) to carry out a polymerization granulation reaction. Further, when the polymer (Pβ) composed of the above-mentioned segment (β) is used, the monomer (a) is attached to a side chain in the polymer main chain of the polymer (Pβ) or one end of the main chain. A polymer having a polymerizable double bond group copolymerizable with (P
β ′) is preferred.

【0185】重合性二重結合基としては、上記の様に単
量体(a)と共重合性を有すればいずれでもよいが、具
体的な例としては、CH2=C(Q)−COO−、C
(CH3)H=CH−COO−、CH2=C(CH2COO
H)−COO−、CH2=C(Q)−CONH−、CH2
=C(Q)−CONHCOO−、CH2=C(Q)−C
ONHCONH−、C(CH3)H=CHCONH−、C
2=CHCO−、CH2=CH(CH2)g−OCO−
(gは0又は1〜3の整数)、CH2=CHO−、CH 2
=CHC64−等が挙げられる(ここでQは−H又は−
CH3を表わす)。
The polymerizable double bond group is a single bond as described above.
Any one may be used as long as it has copolymerizability with the monomer (a).
As a physical example, CH2= C (Q) -COO-, C
(CH3) H = CH-COO-, CH2= C (CH2COO
H) -COO-, CH2= C (Q) -CONH-, CH2
= C (Q) -CONHCOO-, CH2= C (Q) -C
ONHCONH-, C (CH3) H = CHCONH-, C
H2= CHCO-, CH2= CH (CH2)g-OCO-
(G is 0 or an integer of 1 to 3), CH2= CHO-, CH 2
= CHC6HFourAnd the like (wherein Q is -H or-)
CH3Represents).

【0186】これらの重合性基は、高分子鎖に直接結合
してもよいし、他の二価の有機残基を介して結合しても
よい。これら重合体の具体的態様については、例えば特
開昭61−43757号、特開平1−257969号、
同2−74956号、同1−282566号、同2−1
73667号、同3−15862号、同4−70669
号等に記載されている。重合性化合物の総量は非水溶媒
100重量部に対して5〜80重量部程度であり、好ま
しくは10〜50重量部である。重合開始剤の量は、重
合性化合物の総量の0.1〜5重量%である。また、重
合温度は30〜180℃程度であり、好ましくは40〜
120℃である。反応時間は1〜15時間が好ましい。
These polymerizable groups may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded via another divalent organic residue. Specific embodiments of these polymers are described in, for example, JP-A 61-43757, JP-A 1-257969,
No. 2-74956, No. 1-282566, No. 2-1
No. 73667, No. 3-15862, No. 4-70669.
No. etc. The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight, preferably 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the non-aqueous solvent. The amount of the polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of the polymerizable compounds. The polymerization temperature is about 30 to 180 ° C., preferably 40 to
It is 120 ° C. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.

【0187】次に、光及び/又は熱硬化性基を、樹脂
(P)中に重合体成分として含有する場合、又は光及び
/又は熱硬化性基含有樹脂を樹脂(P)と併用する場合
を説明する。
Next, when a photo and / or thermosetting group is contained in the resin (P) as a polymer component, or when a photo and / or thermosetting group-containing resin is used in combination with the resin (P) Will be explained.

【0188】樹脂(P)中に含有され得る、光及び/又
は熱硬化性基を少なくとも1種含有して成る重合体成分
としては、前記の如き公知文献に記載のものを挙げるこ
とができ、より具体的には例えば前記重合性官能基とし
て記載したものと同様のものが挙げられる。これらの重
合体において含有され得る、光及び/又は硬化性基を少
なくとも1種含有する重合体成分の含有量は、ブロック
共重合体である樹脂(P)の重合体セグメント(β)1
00重量部中好ましくは1〜95重量部、より好ましく
は10〜70重量部である。更には、樹脂(P)全体の
重合体成分の全量100重量部において5〜40重量部
含有していることが好ましい。上記含有量の範囲内にお
いて、光導電層の成膜後の硬化が充分に進行し、転写層
塗膜時に電子写真感光体表面との膜界面の保持効果が充
分であり、転写層は良好な剥離性となる。また、光導電
層の結着樹脂としての電子写真特性も良好に保たれる。
これらの光及び/又は熱硬化性基を含有する樹脂(P)
は、全結着樹脂100重量部中40重量部以下使用する
ことが好ましい。樹脂(P)が40重量部を越えると電
子写真特性の劣化が生じることがある。
Examples of the polymer component containing at least one photo- and / or thermo-curable group which can be contained in the resin (P) include those described in the above-mentioned known documents, More specifically, for example, the same as those described as the polymerizable functional group can be mentioned. The content of the polymer component containing at least one light and / or curable group that can be contained in these polymers is such that the polymer segment (β) 1 of the resin (P) which is a block copolymer.
The amount is preferably 1 to 95 parts by weight, more preferably 10 to 70 parts by weight, out of 00 parts by weight. Furthermore, it is preferable to contain 5 to 40 parts by weight in the total 100 parts by weight of the polymer component of the entire resin (P). When the content is within the above range, the curing of the photoconductive layer after the film formation is sufficiently advanced, the effect of holding the film interface with the surface of the electrophotographic photoreceptor at the time of coating the transfer layer is sufficient, and the transfer layer is good. It becomes peelable. In addition, the electrophotographic characteristics of the photoconductive layer as the binder resin can be kept good.
Resin (P) containing these light and / or thermosetting groups
Is preferably 40 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total binder resin. When the amount of the resin (P) exceeds 40 parts by weight, electrophotographic characteristics may deteriorate.

【0189】また、フッ素原子及び/又はケイ素原子含
有樹脂とともに光及び/又は熱硬化性樹脂(D)を併用
してもよい。光及び/又は熱硬化性樹脂(D)として
は、従来公知の硬化性樹脂のいずれでもよく、例えば、
上記ブロック共重合体で説明した如き硬化性基を含有す
る樹脂が挙げられる。更に従来公知の樹脂を併用でき
る。後述の感光体に用いられ得る結着樹脂で具体的に記
載された各樹脂を例として挙げることができる。
Further, a light and / or thermosetting resin (D) may be used in combination with the fluorine atom and / or silicon atom containing resin. The light and / or thermosetting resin (D) may be any conventionally known curable resin, for example,
The resin containing a curable group as described in the above block copolymer may be mentioned. Further, conventionally known resins can be used together. Each of the resins specifically described as the binder resin that can be used in the photoreceptor described below can be given as an example.

【0190】以上の如く、本発明の予め剥離性を有する
感光体の一つの態様として、感光体の最上層、例えばオ
ーバーコート層又は光導電層は、ケイ素原子及び/又は
フッ素原子を含有する樹脂、及び必要により、他の結着
樹脂(以下結着樹脂(B)と称することもある)を含有
するが、更には、膜の硬化を向上させるために光及び/
又は熱硬化性樹脂(D)及び/又は架橋剤を少量共存さ
せるのが好ましい。その使用量は、全結着樹脂中0.0
1〜20重量%、好ましくは0.1〜15重量%であ
る。その使用量が0.01重量%未満では、膜の硬膜化
向上の効果が薄れてしまう。一方、20重量%を越える
と電子写真特性に悪影響を及ぼすことがある。
As described above, as one embodiment of the pre-peeling photoreceptor of the present invention, the uppermost layer of the photoreceptor, for example, the overcoat layer or the photoconductive layer, is a resin containing a silicon atom and / or a fluorine atom. , And, if necessary, other binder resin (hereinafter sometimes referred to as binder resin (B)), but further contains light and / or light in order to improve the curing of the film.
Alternatively, it is preferable to allow a small amount of the thermosetting resin (D) and / or the crosslinking agent to coexist. The amount used is 0.0 in all binder resins.
It is 1 to 20% by weight, preferably 0.1 to 15% by weight. If the amount used is less than 0.01% by weight, the effect of improving the hardening of the film will be diminished. On the other hand, if it exceeds 20% by weight, electrophotographic characteristics may be adversely affected.

【0191】また、架橋剤を併用することが好ましく、
通常架橋剤として用いられる化合物を使用することがで
きる。具体的には、山下普三、金子東助編「架橋剤ハン
ドブック」大成社刊(1981年)、高分子学会編「高分子
データハンドブック基礎編」培風館(1986年)等に記載
されてきいる化合物を用いることができる。具体的に
は、前記の架橋剤として記載した化合物が挙げられ、更
に、多官能重合性基含有の単量体(例えばビニルメタク
リレート、アクリルメタクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、ジビニルコハク酸エステル、ジビニルアジピン酸
エステル、ジアクリルコハク酸エステル、2−メチルビ
ニルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、ジビニルベンゼン、ペンタエリスリトール
ポリアクリレート等)等が挙げられる。
Further, it is preferable to use a crosslinking agent in combination,
The compound normally used as a crosslinking agent can be used. Specifically, compounds that have been described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Fuzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), and "Polymer Data Handbook Basic Edition" edited by the Polymer Society of Japan, Baifukan (1986). Can be used. Specific examples thereof include the compounds described as the cross-linking agent, and further, a monomer having a polyfunctional polymerizable group (for example, vinyl methacrylate, acryl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinic acid). Ester, divinyl adipate ester, diacryl succinate ester, 2-methyl vinyl methacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, divinyl benzene, pentaerythritol polyacrylate and the like).

【0192】感光体の最上層(転写層と隣接する層)
は、成膜後に硬化されることが好ましい。本発明に供せ
られる結着樹脂(B)、表面偏在型共重合体(P)、硬
化性樹脂(D)及び架橋剤は、高分子間が化学結合しや
すい官能基同志の組合せで用いることが好ましい。例え
ば官能基の組合せによる高分子反応として通常よく知ら
れたものが挙げられ、具体的には下基表−Aに示す様な
A群の官能基とB群の官能基の組合せが例示される。但
し、これに限定されるものではない。
The uppermost layer of the photoreceptor (layer adjacent to the transfer layer)
Is preferably cured after film formation. The binder resin (B), the surface unevenly distributed copolymer (P), the curable resin (D), and the cross-linking agent used in the present invention are used in a combination of functional groups in which polymers are easily chemically bonded to each other. Is preferred. For example, a well-known polymer reaction due to a combination of functional groups can be mentioned, and specifically, a combination of a functional group of group A and a functional group of group B as shown in the following group table-A is exemplified. . However, it is not limited to this.

【0193】[0193]

【表1】 [Table 1]

【0194】本発明では、感光層膜中での架橋反応を促
進させるために、必要に応じて反応促進剤を添加しても
よい。架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様
式の場合には、例えば有機酸類(酢酸、プロピオン酸、
酪酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸
等)、フェノール類(フェノール、クロロフェノール、
ニトロフェノール、シアノフェノール、ブロモフェノー
ル、ナフトール、ジクロロフェノール等)、有機金属化
合物(アセチルアセトナートジルコニウム塩、アセチル
アセトンジルコニウム塩、アセチルアセトコバルト塩、
ジラウリン酸ジブトキシスズ等)、ジチオカルバミン酸
化合物(ジエチルジチオカルバミン酸塩等)、チウラム
ジスルフィド化合物(テトラメチルチウラムジスルフィ
ド等)、カルボン酸無水物(無水フタル酸、無水マレイ
ン酸、無水コハク酸、ブチルコハク酸無水物、3,
3′,4,4′−テトラカルボン酸ベンゾフェノンジ無
水物、トリメリット酸無水物等)等が挙げられる。架橋
反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過酸化
物、アゾビス系化合物等が挙げられる。
In the present invention, a reaction accelerator may be added, if necessary, in order to accelerate the crosslinking reaction in the photosensitive layer film. When the crosslinking reaction is a reaction mode in which a chemical bond between functional groups is formed, for example, organic acids (acetic acid, propionic acid,
Butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc., phenols (phenol, chlorophenol,
Nitrophenol, cyanophenol, bromophenol, naphthol, dichlorophenol, etc.), organometallic compounds (acetylacetonate zirconium salt, acetylacetone zirconium salt, acetylacetocobalt salt,
Dilauric acid dibutoxytin, etc.), dithiocarbamic acid compound (diethyldithiocarbamate, etc.), thiuram disulfide compound (tetramethylthiuram disulfide, etc.), carboxylic acid anhydride (phthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, butylsuccinic anhydride, Three
3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid benzophenone dianhydride, trimellitic acid anhydride, etc.) and the like. When the crosslinking reaction is in a polymerizable reaction mode, a polymerization initiator (peroxide, azobis compound, etc. may be mentioned.

【0195】本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布
した後、光及び/又は熱硬化されることが好ましい。熱
硬化を行なうためには、例えば、乾燥条件を従来の感光
体作製時の乾燥条件より厳しくする。例えば、乾燥条件
を高温度及び/又は長時間とすればよい。あるいは塗布
溶剤の乾燥後更に加熱処理することが好ましい。例えば
60℃〜150℃で5〜120分間処理する。上述の反
応促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理するこ
とができる。
The binder resin of the present invention is preferably light-cured and / or heat-cured after the photosensitive layer-formed product is applied. In order to carry out heat curing, for example, the drying conditions are set to be more severe than the conventional drying conditions for producing a photoreceptor. For example, the drying conditions may be high temperature and / or long time. Alternatively, it is preferable to further heat-treat after drying the coating solvent. For example, the treatment is performed at 60 ° C. to 150 ° C. for 5 to 120 minutes. When the above reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions.

【0196】本発明の樹脂中の特定の官能基を光照射で
硬化するには、化学的活性光線で光照射する工程を入れ
る様にすればよい。本発明に用いられる化学的活性光線
としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X
線、γ線、α線などいずれでもよいが、好ましくは紫外
線が挙げられる。より好ましくは波長310nmから波長
500nmの範囲の光線である。一般には低圧、高圧又は
超高圧の水銀ランプ、ハロゲンランプ等が用いられる。
光照射の処理は通常5cm〜50cmの距離から10秒〜1
0分間の照射で充分に行うことができる。
In order to cure the specific functional group in the resin of the present invention by irradiation with light, a step of irradiation with chemically active light may be included. Examples of the chemical actinic rays used in the present invention include visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, and X rays.
Any of rays such as rays, γ rays and α rays may be used, but ultraviolet rays are preferable. More preferably, it is a light ray having a wavelength of 310 nm to a wavelength of 500 nm. Generally, a low-pressure, high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp or the like is used.
The light irradiation process is usually 10 seconds to 1 from a distance of 5 cm to 50 cm.
Irradiation for 0 minutes is sufficient.

【0197】次に、剥離性表面を有する感光体を得る第
2の方法である、転写層形成の前に、通常の電子写真感
光体の表面に剥離性を発現する化合物(S)を吸着又は
付着させて感光体表面に剥離性を付与する方法について
説明する。
Next, before the transfer layer formation, which is the second method for obtaining a photoreceptor having a releasable surface, a compound (S) exhibiting a releasability is adsorbed or adsorbed on the surface of an ordinary electrophotographic photoreceptor. A method of adhering and imparting releasability to the photoreceptor surface will be described.

【0198】化合物(S)としては、フッ素原子及び/
又はケイ素原子を少なくとも含有する化合物が挙げら
れ、電子写真感光体表面の剥離性を改善するものであれ
ば、その構造は特に限定されるものではなく、低分子化
合物、オリゴマー、ポリマーのいずれでもよい。オリゴ
マー又はポリマーの場合、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する置換基は、重合体の主鎖に組み込まれて
いてもよく、あるいは重合体の側鎖の置換基として存在
していてもよい。好ましくは、オリゴマー又はポリマー
において、この置換基を含有する繰り返し単位をブロッ
クで含有するものが挙げられ、電子写真感光体表面への
吸着性及び剥離性を特に有効に発現する。
The compound (S) includes a fluorine atom and /
Or a compound containing at least a silicon atom, and the structure thereof is not particularly limited as long as it improves the releasability of the surface of the electrophotographic photoreceptor, and may be a low molecular compound, an oligomer or a polymer. . In the case of an oligomer or a polymer, the substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom may be incorporated in the main chain of the polymer, or may be present as a substituent on the side chain of the polymer. Preferred are oligomers and polymers that contain the repeating unit containing the substituent in a block, and the adsorbability and the releasability on the surface of the electrophotographic photosensitive member are particularly effectively exhibited.

【0199】これらのフッ素原子及び/又はケイ素原子
を含有する置換基例は、前記感光体において用いられ得
る樹脂(P)に関連して述べたものと同様である。
Examples of these substituents containing a fluorine atom and / or a silicon atom are the same as those described in relation to the resin (P) that can be used in the above-mentioned photoreceptor.

【0200】本発明で用いられるフッ素原子及び/又は
ケイ素原子含有の化合物(S)としては、具体的には、
吉田時行等編「新版・界面活性剤ハンドブック」工学図
書(株)刊(1987年)、刈米孝夫監修「最新・界面活性
剤応用技術」(株)シーエムシー(1990年)、伊藤邦雄
編「シリコーン・ハンドブック」日刊工業新聞社刊(19
90年)、刈米孝夫監修「特殊機能界面活性剤」(株)C.
M.C.(1986年)、A. M. Schwartz et al.「Surface Act
ive Agents and Detergents vol.II」等に記載のフッ素
系及び/又はケイ素系有機化合物が挙げられる。更に
は、石川延男「フッ素化合物の合成と機能」(株)C.M.
C.(1987年)、平野二郎等編「含フッ素有機化合物−そ
の合成と応用−」(株)技術情報協会(1991年)、石川
満夫監修「有機ケイ素戦略資料」第3章(株)サイエン
スフォーラム(1991年)等の文献に記載の合成方法を利
用して、化合物(S)を合成することができる。
Specific examples of the fluorine atom- and / or silicon atom-containing compound (S) used in the present invention include:
Toshiyuki Yoshida et al., "New Edition Surfactant Handbook," published by Engineering Book Co., Ltd. (1987), supervised by Takao Karime, "Latest Surfactant Application Technology," CMC Co., Ltd. (1990), Kunio Ito "Silicone Handbook", published by Nikkan Kogyo Shimbun (19
90), "Special Function Surfactant" supervised by Takao Karimei C.
MC (1986), AM Schwartz et al. "Surface Act"
ive Agents and Detergents vol. II ”and the like, and fluorine-based and / or silicon-based organic compounds. Furthermore, Nobuo Ishikawa “Synthesis and Function of Fluorine Compounds” CM
C. (1987), edited by Jiro Hirano, “Fluorine-Containing Organic Compounds-Synthesis and Application-”, Technical Information Institute Co., Ltd. (1991), Mitsuo Ishikawa, “Organic Silicon Strategy Data” Chapter 3, Science Co. Compound (S) can be synthesized by using the synthetic method described in the literature such as Forum (1991).

【0201】また、オリゴマー又はポリマーとしてフッ
素原子及び/又はケイ素原子を含有する置換基を含む重
合体成分の具体例としては、前記樹脂(P)に記載され
た重合体成分(F)を挙げることができる。
Specific examples of the polymer component containing a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom as the oligomer or polymer include the polymer component (F) described in the resin (P). You can

【0202】上記化合物(S)がいわゆるブロック共重
合体である場合については、フッ素原子及び/又はケイ
素原子含有の重合体成分がブロックで構成されていれば
よい。ここでブロックで構成するとは、フッ素原子及び
/又はケイ素原子を有する重合体成分を70重量%以上
含有する重合体セグメントを重合体中に有していること
をいう。例えば前記樹脂(P)で述べたと同様の、A−
B型ブロック、A−B−A型ブロック、B−A−B型ブ
ロック、グラフト型ブロックあるいはスター型ブロック
等が挙げられる。これらは前記と同様の方法で合成する
ことができる。
When the compound (S) is a so-called block copolymer, the polymer component containing a fluorine atom and / or a silicon atom may be composed of a block. Here, "to be composed of a block" means that the polymer has a polymer segment containing 70% by weight or more of a polymer component having a fluorine atom and / or a silicon atom. For example, as in the case of the resin (P), A-
Examples thereof include B type blocks, ABA type blocks, BAB type blocks, graft type blocks and star type blocks. These can be synthesized by the same method as described above.

【0203】電子写真感光体の表面に化合物(S)を適
用することにより、その表面は所望の剥離性を有する様
に改質される。電子写真感光体の表面に化合物(S)を
適用するとは、化合物(S)を電子写真感光体表面に供
給して感光体表面に化合物(S)が吸着又は付着した状
態を形成することをいう。
By applying the compound (S) to the surface of the electrophotographic photosensitive member, the surface is modified so as to have a desired releasability. Applying the compound (S) to the surface of the electrophotographic photosensitive member means supplying the compound (S) to the surface of the electrophotographic photosensitive member to form a state in which the compound (S) is adsorbed or attached to the surface of the photosensitive member. .

【0204】以上の様な化合物(S)を電子写真感光体
表面に適用するには、従来公知のいずれの方法を用いて
よい。例えば、原崎勇次「コーティング工学」(株)朝
倉書店(1971年刊)、原崎勇次「コーティング方式」槇
書店(1979年刊)、深田寛「ホットメルト接着の実際」
(株)高分子刊行会(1979年刊)等に記載のエアドクタ
ーコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、スク
イズコーター、含浸コーター、リバースロールコータ
ー、トランスファーロールコーター、グラビアコータ
ー、キスロールコーター、スプレイコーター、カーテン
コーター、カレンダーコーター等の各方式が挙げられ
る。
In order to apply the compound (S) as described above to the surface of the electrophotographic photosensitive member, any conventionally known method may be used. For example, Yuji Harazaki "Coating Engineering" Asakura Shoten Co., Ltd. (published in 1971), Yuji Harazaki "Coating Method" Maki Shoten (1979), Hiroshi Fukada "Practice of Hot Melt Adhesion"
Air doctor coater, blade coater, knife coater, squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss roll coater, spray coater, curtain described in Polymer Publishing Co., Ltd. (1979). Each method such as a coater or a calendar coater can be used.

【0205】また、化合物(S)を含浸させた布、紙、
フェルト等を感光体に密接させる方法、化合物(S)を
含浸させた硬化性樹脂を感光体に圧接させる方法、化合
物(S)を溶解した非水溶媒で感光体を濡らした後、溶
媒を乾燥させる方法、化合物(S)を分散させた非水溶
媒を前述の電着塗布法と同様にして電気泳動させて感光
体に付着させる方法等も挙げられる。
Also, cloth, paper impregnated with the compound (S),
A method in which a felt or the like is brought into close contact with the photoconductor, a method in which a curable resin impregnated with the compound (S) is brought into pressure contact with the photoconductor, and the photoconductor is wetted with a non-aqueous solvent in which the compound (S) is dissolved, and then the solvent is dried. And a method in which a nonaqueous solvent in which the compound (S) is dispersed is electrophoresed and adhered to the photoconductor in the same manner as the above-mentioned electrodeposition coating method.

【0206】更には、インキジェット方式により化合物
(S)の非水溶液を感光体表面に一様に供給した後、乾
燥させることにより吸着又は付着させることができる。
インキジェット方式による方法は、例えば大野信編集
「ノンインパクトプリンティング」(株)C.M.C.(1986
年刊)記載の原理及び手段によって達成される。例えば
連続噴射型のSweet方式、Hertz方式、間欠噴射型のWins
ton方式、インクオンデマンド型のパルスジェット方
式、バブルジェット方式、インキミスト型のミスト方式
などが挙げられる。
Furthermore, the non-aqueous solution of the compound (S) can be uniformly supplied to the surface of the photoconductor by the ink jet method and then dried to be adsorbed or attached.
The ink jet method is described in, for example, Shin Ohno, “Non-Impact Printing”, CMC (1986).
It is achieved by the principles and means described in the annual publication. For example, continuous injection type Sweet method, Hertz method, intermittent injection type Wins
The ton method, the ink-on-demand type pulse jet method, the bubble jet method, the ink mist type mist method and the like can be mentioned.

【0207】いずれもインキの代わりに化合物(S)を
直接あるいは溶媒に希釈して、インキタンク及び/又は
インキヘッドカートリッジ部に充填して用いる。通常液
の粘度は1〜10cP、表面張力は30〜60dyne/cm
で、必要により界面活性剤等を加えても良く、また液を
加熱しても良い。従来のインキジェットプリンターは、
文字描画精細化のためにヘッドのオリフィス系を30〜
100μm程度としており、飛翔インキの粒径も同程度
となっているが、本発明においてはこれよりも大きくと
も良い。この場合には液の吐出量が多くなるので、塗布
にかかる時間を短縮できる。更にマルチノズル化するこ
とも塗布時間短縮のために極めて有効である。
In each case, the compound (S) is used instead of the ink directly or after being diluted with a solvent and filled in the ink tank and / or the ink head cartridge portion. Normal liquid viscosity is 1-10cP, surface tension is 30-60dyne / cm
Then, if necessary, a surfactant or the like may be added, or the liquid may be heated. Conventional ink jet printers
The orifice system of the head is 30-
It is about 100 μm, and the particle diameter of the flying ink is about the same, but in the present invention, it may be larger than this. In this case, the discharge amount of the liquid increases, so that the time required for coating can be shortened. Further, the use of multiple nozzles is also extremely effective for shortening the coating time.

【0208】一方、化合物(S)としてシリコーンゴム
を用いることもできる。好ましくは金属芯ローラーに巻
いてシリコーンゴムローラーとし、これを直接感光体表
面に押し当てても良い。ニップ圧は0.5〜10kgf/cm
2、接触時間は1秒〜30分間で良い。又この時感光体
及び/又はシリコーンゴムローラーは150℃以下に加
熱されていても良い。押圧によりシリコーンゴム内の低
分子量成分の一部が、ローラー表面から感光体表面へ転
移するものと思われる。また、シリコーンゴムはシリコ
ーンオイルで膨潤されたものでも良い。シリコーンゴム
はスポンジ状であっても、そのスポンジローラーに更に
シリコーンオイル、シリコーン界面活性剤溶液等を含浸
させてあってもよい。
On the other hand, silicone rubber can be used as the compound (S). Preferably, it may be wound on a metal core roller to form a silicone rubber roller, which may be directly pressed onto the surface of the photoreceptor. Nip pressure is 0.5-10kgf / cm
2. The contact time may be 1 second to 30 minutes. At this time, the photoconductor and / or the silicone rubber roller may be heated to 150 ° C. or lower. It is considered that a part of the low molecular weight component in the silicone rubber is transferred from the roller surface to the photoreceptor surface by pressing. The silicone rubber may be swollen with silicone oil. The silicone rubber may be sponge-like, or the sponge roller may be further impregnated with silicone oil, a silicone surfactant solution or the like.

【0209】本発明では、これらの方法は特に限定され
るものでなく、用いる化合物(S)の状態(液体、ワッ
クス状体、固体)によって各種方式が選択され、必要な
らば加熱媒体を併用して、用いる化合物(S)の流動性
を調整することもできる。化合物(S)の適用は、用い
る感光体及び化合物(S)の吸着もしくは付着による剥
離性を保持できる能力及びその手段の組合せに従って適
宜行えばよい。化合物(S)の適用は本発明に用いられ
る電子写真装置内に容易に組み込まれる態様で行うのが
好ましい。
In the present invention, these methods are not particularly limited, and various methods are selected depending on the state of the compound (S) to be used (liquid, waxy substance, solid), and if necessary, a heating medium is used in combination. Thus, the fluidity of the compound (S) used can be adjusted. The application of the compound (S) may be appropriately performed according to the photoconductor to be used and the ability to maintain the releasability by adsorption or adhesion of the compound (S) and the means thereof. The compound (S) is preferably applied in such a manner that it can be easily incorporated in the electrophotographic apparatus used in the present invention.

【0210】化合物(S)を感光体表面へ適用する量は
特に規定されるものではなく、感光体の電子写真特性へ
の悪影響が実用上問題とならない範囲で行えばよい。通
常塗膜膜厚で1μm以下で充分であり、本発明の剥離性
付与のためには「Weakboundary Layer」(Bikerman "The
Science of Adhesive Joints" Academic Press(1961年
刊) により定義)の状態で充分である。即ち、転写層の
形成時に、化合物(S)が電子写真感光体上に吸着又は
付着してその表面に剥離性を付与し、好ましくは表面の
粘着力が100g・f以下となればよく、本発明の方法
において、常にこの工程を繰り返す必要はない。
The amount of the compound (S) applied to the surface of the photoconductor is not particularly limited, and may be set within a range where the adverse effect on the electrophotographic characteristics of the photoconductor does not pose a practical problem. Usually, a coating film thickness of 1 μm or less is sufficient, and “Weak boundary Layer” (Bikerman “The
The state of "Science of Adhesive Joints" Academic Press (defined in 1961) is sufficient. That is, during formation of the transfer layer, the compound (S) is adsorbed or adhered on the electrophotographic photosensitive member and peeled off on its surface. It is sufficient that the surface adhesion is 100 g · f or less, and it is not always necessary to repeat this step in the method of the present invention.

【0211】本発明において、感光体に剥離性を付与す
る第3の方法は、第1転写層(T1)を電着塗布法で形成
する場合に用いる本発明の樹脂粒子(AL)を含有する
分散液中に、剥離性を発現する化合物(S′)を共存さ
せて処理するものである。即ち、従来公知の電子写真感
光体に、化合物(S′)を含有する電着用分散液を電着
塗布することで、感光体表面が剥離性を発現するもので
ある。
In the present invention, the third method for imparting releasability to the photoreceptor comprises the resin particles (AL) of the present invention used when the first transfer layer (T 1 ) is formed by the electrodeposition coating method. The compound (S ') exhibiting releasability is coexisted in the dispersion liquid. That is, a conventionally known electrophotographic photoreceptor is electrodeposited with an electrodeposition dispersion liquid containing a compound (S ′), whereby the photoreceptor surface exhibits releasability.

【0212】具体的には、比誘電率が3.5以下の電気
絶縁性有機溶媒中に、剥離性を発現する化合物(S′)
を少なくとも1種含有し、且つ本発明の樹脂粒子(A
L)を分散した電着用分散液を用いて、樹脂粒子(A
L)を電気泳動により電子写真感光体表面に電着又は付
着させて成膜することにより、感光体への剥離性付与と
剥離可能な転写層の形成とを行うことができる。上記転
写層形成用の電着用分散液中に含有される化合物
(S′)は、分散樹脂粒子(AL)が電気泳動して感光
体表面に電着される前に感光体に吸着又は付着するた
め、結果的に転写層の形成前に剥離性を有する感光体と
なるものである。
Specifically, the compound (S ') exhibiting releasability in an electrically insulating organic solvent having a relative dielectric constant of 3.5 or less.
Containing at least one of the resin particles of the present invention (A
L) is used to disperse the resin particles (A
By depositing L) onto the surface of the electrophotographic photosensitive member by electrophoresis to form a film, it is possible to impart releasability to the photosensitive member and form a transfer layer capable of peeling. The compound (S ′) contained in the electrocoating dispersion liquid for forming the transfer layer is adsorbed or attached to the photoreceptor before the dispersed resin particles (AL) are electrophoresed and electrodeposited on the photoreceptor surface. Therefore, as a result, a photoreceptor having a peeling property before the formation of the transfer layer is obtained.

【0213】化合物(S′)としては、前記第2の方法
で用いられる化合物(S)と同様のものが挙げられ、よ
り具体的には、樹脂粒子(AL)を分散してなる分散溶
媒1リットル中に0.05g以上溶解するものであれば
よい。好ましくは、分散溶媒1リットル中に0.1g以
上溶解するものである。化合物(S′)の電気絶縁性有
機溶媒中の添加量は、使用される化合物(S′)及び電
気絶縁性有機溶媒により異なるが、樹脂粒子の電気泳動
に悪影響(液抵抗の低下、粘度の上昇等)を及ぼさない
範囲で添加される。好ましくは、0.05g/リットル
〜20g/リットル程度である。
The compound (S ') may be the same as the compound (S) used in the second method, and more specifically, the dispersion solvent 1 in which the resin particles (AL) are dispersed. Any substance that can be dissolved in 0.05 g or more in liter may be used. Preferably, 0.1 g or more is dissolved in 1 liter of the dispersion solvent. The addition amount of the compound (S ′) in the electrically insulating organic solvent varies depending on the compound (S ′) and the electrically insulating organic solvent used, but adversely affects the electrophoresis of the resin particles (reduction of liquid resistance, viscosity It is added to the extent that it does not increase). It is preferably about 0.05 g / liter to 20 g / liter.

【0214】本発明に供せられる電子写真感光体の構成
及び材料は、従来公知のいずれでもよく、限定されるも
のではない。例えば、R. M. Schaffert,「Electrophoto
graphy」Focal Press London(1980)、S. W. Ing, M. D.
Tabak, W. E. Haas,「Electrophotography Fourth Int
ernational Conference」SPSE(1983)、篠原功、土田英
俊、草川英昭編「記録材料と感光性樹脂」(株)学会出
版センター刊(1979年)、小門宏、化学と工業、39(3),
161 (1986年)、総合技術資料集感光体「最近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」日本科学情報(株)出版
部(1985年)、電子写真学会編「電子写真技術の基礎と
応用」コロナ社(株)(1988年)、電子写真学会編「電子
写真用有機感光体の現状シンポジウム」予稿集(1985
年)等の成書、総説に記載の各種感光体が挙げられる。
即ち、光導電性化合物自身から成る単独層、又は、光導
電性化合物を結着樹脂中に分散した光導電層が挙げら
れ、分散された光導電層は、単一層型でもよいし、積層
型でもよい。
The constitution and materials of the electrophotographic photosensitive member provided in the present invention may be any conventionally known ones and are not limited. For example, RM Schaffert, “Electrophoto
graphy '' Focal Press London (1980), SW Ing, MD
Tabak, WE Haas, `` Electrophotography Fourth Int
"Ernational Conference" SPSE (1983), Isao Shinohara, Hidetoshi Tsuchida, Hideaki Kusakawa "Recording Materials and Photosensitive Resins" Published by Japan Society Publishing Center (1979), Hiroshi Komon, Kagaku to Kogyo, 39 (3),
161 (1986), Comprehensive technical data collection Photoconductor "Recent development of photoconductive materials and photoconductors" And Applications ”Corona Publishing Co., Ltd. (1988), Electrophotographic Society of Japan,“ Presentation Symposium on Organic Photoreceptors for Electrophotography ”Proceedings (1985
Years) etc. and various photoconductors described in reviews.
That is, a single layer composed of the photoconductive compound itself or a photoconductive layer in which the photoconductive compound is dispersed in a binder resin can be mentioned. The dispersed photoconductive layer may be a single layer type or a laminated type. But it's okay.

【0215】また、本発明において用いられる光導電性
化合物は無機化合物あるいは有機化合物のいずれでもよ
い。本発明の光導電性化合物として用いられる無機化合
物としては、例えばアモルファスシリコン、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、セレン、セレ
ン−テルル、硫化鉛等従来公知の無機光導電性化合物が
挙げられる。これらは結着成樹脂とともに光導電層を形
成してもよいし、また、蒸着又はスパッタリング等によ
り単独で光導電層を形成してもよい。光導電性化合物と
して、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機光導電性化合物を
用いる場合は、無機光導電性化合物100重量部に対し
て、結着樹脂を10〜100重量部なる割合、好ましく
は15〜40重量部なる割合で使用する。
The photoconductive compound used in the present invention may be either an inorganic compound or an organic compound. Examples of the inorganic compound used as the photoconductive compound of the present invention include amorphous silicon, zinc oxide,
Conventionally known inorganic photoconductive compounds such as titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, selenium, selenium-tellurium, and lead sulfide can be used. These may form a photoconductive layer together with a binder resin, or may be independently formed by vapor deposition or sputtering. When an inorganic photoconductive compound such as zinc oxide or titanium oxide is used as the photoconductive compound, the binder resin is contained in an amount of 10 to 100 parts by weight, preferably 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the inorganic photoconductive compound. Used in a proportion of -40 parts by weight.

【0216】一方、有機化合物を用いた光導電層として
は、従来公知のいずれでもよく、具体的には、特公昭3
7−17162号、同62−51462号、特開昭52
−2437号、54−19803号、同56−1072
46号、同57−161863号などに記載のような、
有機光導電性化合物、増感染料、結合樹脂を主体とする
光導電層、特開昭56−146145号、同60−17
751号、同60−17752号、同60−17760
号、同60−254142号、同62−54266号な
どに記載のような電荷発生剤、電荷輸送剤、結合樹脂を
主体とする光導電層、及び特開昭60−230147
号、同60−230148号、同60−238853号
などに記載のような電荷発生剤と電荷輸送剤とをそれぞ
れ別の層に含有した二層構成の光導電層が挙げられる。
本発明の電子写真感光体は光導電層のいずれの形態をと
っていてもよい。
On the other hand, the photoconductive layer using an organic compound may be any of those known in the art.
7-17162, 62-51462, JP-A-52
-24437, 54-19803, 56-1072.
No. 46, No. 57-161863, etc.,
A photoconductive layer mainly composed of an organic photoconductive compound, a sensitizing dye, and a binder resin, JP-A-56-146145 and 60-17.
No. 751, No. 60-17752, No. 60-17760
No. 60-254142, No. 62-54266, and the like, and a photoconductive layer mainly composed of a charge generating agent, a charge transporting agent, and a binding resin, and JP-A-60-230147.
No. 60-230148, No. 60-238853, and the like, and a photoconductive layer having a two-layer structure containing a charge generating agent and a charge transporting agent in separate layers.
The electrophotographic photoreceptor of the present invention may have any form of a photoconductive layer.

【0217】本発明における有機光導電性化合物として
は、(a) 米国特許3,112,197号等に記載のトリ
アゾール誘導体、(b) 米国特許3,189,447号等
に記載のオキサジアゾール誘導体、(c) 特公昭37−1
6096号に記載のイミダゾール誘導体、(d) 米国特許
3,615,402号、同3,820,989号、同
3,542,544号、特公昭45−555号、同51
−10983号、特開昭51−93224号、同55−
108667号、同55−156953号、同56−3
6656号等に記載のポリアリールアルカン誘導体、
(e) 米国特許3,180,729号、同4,278,7
46号、特開昭55−88064号、同55−8806
5号、同49−105537号、同55−51086
号、同56−80051号、同56−88141号、同
57−45545号、同54−112637号、同55
−74546号等に記載のピラゾリン誘導体及びピラゾ
ロン誘導体、(f) 米国特許3,615,404号、特公
昭51−10105号、同46−3712号、同47−
28336号、特開昭54−83435号、同54−1
10836号、同54−119925号等に記載のフェ
ニレンジアミン誘導体、
Examples of the organic photoconductive compound in the present invention include (a) triazole derivatives described in US Pat. No. 3,112,197 and (b) oxadiazoles described in US Pat. No. 3,189,447. Derivative, (c) Japanese Patent Publication No.37-1
Imidazole derivatives described in 6096, (d) U.S. Pat. Nos. 3,615,402, 3,820,989, 3,542,544, and JP-B-45-555 and 51.
No. 10983, JP-A Nos. 51-93224 and 55-
108667, 55-156953, 56-3
Polyarylalkane derivatives described in No. 6656,
(e) US Pat. Nos. 3,180,729 and 4,278,7
46, JP-A-55-88064 and JP-A-55-8806.
5, No. 49-105537, No. 55-51086.
No. 56-80051, No. 56-88141, No. 57-45545, No. 54-112637, No. 55.
-74546 and other pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, (f) U.S. Pat. No. 3,615,404, Japanese Patent Publication Nos. 51-10105, 46-3712 and 47-
28336, JP-A-54-83435, and JP-A-54-1.
No. 10836, No. 54-119925 and the like, phenylenediamine derivatives,

【0218】(g) 米国特許3,567,450号、同
3,180,703号、同3,240,597号、同
3,658,520号、同4,232,103号、同
4,175,961号、同4,012,376号、特公
昭49−35702号、西独国特許(DAS)1,11
0,518号、特公昭39−27577号、特開昭55
−144250号、同56−119132号、同56−
22437号等に記載のアリールアミン誘導体、(h) 米
国特許3,526,501号等に記載のアミノ置換カル
コン誘導体、(i) 米国特許3,542,546号等に記
載のN,N−ビカルバジル誘導体、(j) 米国特許3,2
57,203号等に記載のオキサゾール誘導体、(k) 特
開昭56−46234号等に記載のスチリルアントラセ
ン誘導体、(l) 特開昭54−110837公報等に記載
のフルオレノン誘導体、(m) 米国特許3,717,46
2号、特開昭54−59143号(米国特許4,15
0,987号に対応)、特開昭55−52063号、同
55−52064号、同55−46760号、同55−
85495号、同57−11350号、同57−148
749号、同57−104144号等に記載のヒドラゾ
ン誘導体、
(G) US Pat. Nos. 3,567,450, 3,180,703, 3,240,597, 3,658,520, 4,232,103, and 4, 175,961; 4,012,376; JP-B-49-35702; West German Patent (DAS) 1,11.
0,518, Japanese Examined Patent Publication No. 39-27577, JP-A-55.
-144250, 56-119132, 56-
22437 and the like, arylamine derivatives, (h) U.S. Pat. No. 3,526,501 and the like, amino-substituted chalcone derivatives, (i) U.S. Pat. No. 3,542,546 and the like, N, N-bicarbazyl Derivative, (j) US Patent 3,2
57,203, etc., (k) styrylanthracene derivatives described in JP-A-56-46234, (l) fluorenone derivatives described in JP-A-54-110837, (m) United States Patent 3,717,46
No. 2, JP-A-54-59143 (U.S. Pat.
0-987), JP-A-55-52063, JP-A-55-52064, JP-A-55-46760, and JP-A-55-520.
No. 85495, No. 57-11350, No. 57-148.
749, 57-104144 and the like, hydrazone derivatives,

【0219】(n) 米国特許4,047,948号、同
4,047,949号、同4,265,990号、同
4,273,846号、同4,299,897号、同
4,306,008号等に記載のベンジジン誘導体、
(o) 特開昭58−190953号、同59−95540
号、同59−97148号、同59−195658号、
同62−36674号等に記載のスチルベン誘導体、
(p) 特公昭34−10966号に記載のポリビニルカル
バゾール及びその誘導体、(q) 特公昭43−18674
号、同43−19192号に記載のポリビニルピレン、
ポリビニルアントラセン、ポリ−2−ビニル−4−
(4′−ジメチルアミノフェニル)−5−フェニル−オ
キサゾール、ポリ−3−ビニル−Nエチルカルバゾール
等のビニル重合体、(r) 特公昭43−19193号に記
載のポリアセナフチレン、ポリインデン、アセナフチレ
ンとスチレンの共重合体等の重合体、(s) 特公昭56−
13940号等に記載のピレン−ホルムアルデヒド樹
脂、ブロムピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカル
バゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の縮合樹脂、(t) 特
開昭56−90833号、同56−161550号に記
載の各種のトリフェニルメタンポリマー、などがある。
なお本発明において、有機光導電性化合物は、(a)〜(t)
に挙げられた化合物に限定されず、これまで公知の全て
の有機光導電性化合物を用いることができる。これらの
有機光導電性化合物は場合により2種類以上併用するこ
とができる。有機光導電性化合物は電荷輸送剤としても
用いられる。
(N) US Pat. Nos. 4,047,948, 4,047,949, 4,265,990, 4,273,846, 4,299,897, and 4, Benzidine derivatives described in No. 306,008,
(o) JP-A-58-190953 and 59-95540
No. 59-97148, 59-195658,
Stilbene derivatives described in JP-A-62-36674,
(p) Polyvinylcarbazole and its derivatives described in JP-B-34-10966, (q) JP-B-43-18674
, Polyvinylpyrene described in No. 43-19192,
Polyvinyl anthracene, poly-2-vinyl-4-
Vinyl polymers such as (4'-dimethylaminophenyl) -5-phenyl-oxazole and poly-3-vinyl-N-ethylcarbazole; (r) polyacenaphthylene, polyindene, acenaphthylene described in JP-B-43-19193. Polymers such as copolymers of styrene and styrene, (s) JP-B-56-
Condensed resins such as pyrene-formaldehyde resin, bromopyrene-formaldehyde resin and ethylcarbazole-formaldehyde resin described in 13940 and the like, and (t) various triphenylmethanes described in JP-A-56-90833 and 56-161550. Polymers, etc.
In the present invention, the organic photoconductive compound, (a) ~ (t)
The compound is not limited to the compounds listed in 1 above, and all known organic photoconductive compounds can be used. Two or more kinds of these organic photoconductive compounds may be used in combination depending on the case. Organic photoconductive compounds are also used as charge transport agents.

【0220】光導電層に含有される増感色素としては、
電子写真感光体に使用される従来公知の増感色素が使用
可能である。これらは、「電子写真」12、9 (1973)、
「有機合成化学」24(11)、1010(1966)等に記載されてい
る。例えば米国特許3,141,770号、同4,28
3,475号、特開昭48−25658号、同62−7
1965号等に記載のピリリウム系染料、Applied Opti
cs Supplement 3, 50 (1969)、特開昭50−39548
号等に記載のトリアリールメタン系染料、米国特許3,
597,196号等に記載のシアニン系染料、特開昭6
0−163047号、同59−164588号、同60
−252517号等に記載のスチリル系染料などが有利
に使用される。
As the sensitizing dye contained in the photoconductive layer,
Conventionally known sensitizing dyes used for electrophotographic photoreceptors can be used. These are "Electrographs" 12 , 9 (1973),
“Organic Synthetic Chemistry” 24 (11), 1010 (1966) and the like. For example, U.S. Patents 3,141,770 and 4,28
3,475, JP-A-48-25658, 62-7.
Pyrylium dyes described in 1965, Applied Opti
cs Supplement 3, 50 (1969), JP-A-50-39548
Triarylmethane dyes described in U.S. Pat.
Cyanine dyes described in JP-A No.
0-163047, 59-164588, 60
The styryl dyes described in No. 252517 and the like are advantageously used.

【0221】光導電層に含有される電荷発生剤として
は、電子写真感光体において従来公知の有機及び無機の
各種の電荷発生剤が使用できる。例えば、セレン、セレ
ン−テルル、硫化カドミウム、酸化亜鉛、及び以下(1)
〜(9)に示す有機顔料を使用することができる。
As the charge generating agent contained in the photoconductive layer, various organic and inorganic charge generating agents known in the prior art for electrophotographic photoreceptors can be used. For example, selenium, selenium-tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and the following (1)
The organic pigments shown in to (9) can be used.

【0222】(1) 米国特許4,436,800号、同
4,439,506号、特開昭47−37543号、同
58−123541号、同58−192042号、同5
8−219263号、同59−78356号、同60−
179746号、同61−148453号、同61−2
38063号、特公昭60−5941号、同60−45
664号等に記載のモノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ顔
料等のアゾ顔料、(2) 米国特許3,397,086号、
同4,666,802号、特開昭51−90827号、
同52−55643号に記載の無金属あるいは金属フタ
ロシアニン等のフタロシアニン顔料、(3) 米国特許3,
371,884号、特開昭47−30330号等に記載
のペリレン系顔料、(4) 英国特許2,237,680
号、特開昭47−30331号等に記載のインジゴ、チ
オインジゴ誘導体、(5) 英国特許2,237,679
号、特開昭47−30332号等に記載のキナクリンド
ン系顔料
(1) U.S. Pat.
8-219263, 59-78356, 60-
179746, 61-148453, 61-2
No. 38063, Japanese Patent Publication No. 60-5941, No. 60-45
Azo pigments such as monoazo, bisazo, and trisazo pigments described in US Pat. No. 664, (2) US Pat. No. 3,397,086,
No. 4,666,802, JP-A-51-90827,
Phthalocyanine pigments such as metal-free or metal phthalocyanines described in JP-A No. 52-55643, (3) US Pat.
371,884, perylene pigments described in JP-A-47-30330, (4) British Patent 2,237,680
And indigo and thioindigo derivatives described in JP-A-47-30331, (5) British Patent 2,237,679
And quinacridone pigments described in JP-A-47-30332

【0223】(6) 英国特許2,237,678号、特開
昭59−184348号、同62−28738号、同4
7−18544号等に記載の多環キノン系顔料、(7) 特
開昭47−30331号、同47−18543号等に記
載のビスベンズイミダゾール系顔料、(8) 米国特許4,
396,610号、同4,644,082号等に記載の
スクアリウム塩系顔料、(9) 特開昭59−53850
号、同61−212542号等に記載のアズレニウム塩
系顔料、などである。これらは単独もしくは2種以上を
併用して用いることもできる。
(6) British Patent 2,237,678, JP-A-59-184348, 62-28738 and 4
7-18544 and other polycyclic quinone pigments, (7) JP-A-47-30331, JP-A-47-18543 and other bisbenzimidazole pigments, (8) US Pat.
396,610, 4,644,082, and the like, squalium salt pigments, (9) JP-A-59-53850
And the azurenium salt-based pigments described in JP-A-61-212542 and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0224】また、有機光導電性化合物と結合樹脂の混
合比は、有機光導電性化合物と結合樹脂との相溶性によ
って有機光導電性化合物の含有率の上限が決まり、これ
を上回る量を添加すると有機光導電性化合物の結晶化が
起こり好ましくない。有機光導電性化合物の含有量が少
ないほど電子写真感度は低下するので、有機光導電性化
合物の結晶化が起こらない範囲で、できるだけ多くの有
機光導電性化合物を含有させるのが好ましい。有機光導
電性化合物の含有率としては、結合樹脂100重量部に
対し、有機光導電性化合物5〜120重量部、好ましく
は10〜100重量部である。
In addition, the mixing ratio of the organic photoconductive compound and the binding resin determines the upper limit of the content of the organic photoconductive compound due to the compatibility between the organic photoconductive compound and the binding resin. Then, crystallization of the organic photoconductive compound occurs, which is not preferable. Since the electrophotographic sensitivity decreases as the content of the organic photoconductive compound decreases, it is preferable to include as many organic photoconductive compounds as possible within the range where crystallization of the organic photoconductive compound does not occur. The content of the organic photoconductive compound is 5 to 120 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin.

【0225】本発明の感光体に用いることのできる前記
特定の樹脂以外の結着樹脂(B)は、従来公知の電子写
真感光体に用いられる樹脂のいずれでもよく、重量平均
分子量は好ましくは5×103〜1×106、より好まし
くは2×104〜5×105のものである。また、結着樹
脂のガラス転移点は好ましくは−40℃〜200℃、よ
り好ましくは−10℃〜140℃である。これら従来公
知の電子写真感光層用の結着樹脂としては、例えば、柴
田隆治、石渡次郎、高分子、第17巻、第278頁(1968
年)、宮本晴視、武井秀彦、イメージング、1973(No.
8)、中村孝一編「記録材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.M.C.出版(1985年)、電子写真学会編「電子写
真用有機感光体の現状シンポジウム」予稿集(1985
年)、小門宏編「最近の光導電材料と感光体の開発・実
用化」日本科学情報(株)(1986年)、電子写真学会編
「電子写真技術の基礎と応用」第5章、コロナ社(株)
(1988年)、D. Tatt, S. C.Heidecker, Tappi, 49(No.1
0), 439(1966)、E. S. Baltazzi, R. G. Blanclotteet
al., Phot. Sci. Eng. 16(No.5), 354(1972)、グエン・
チャン・ケー、清水勇、井上英一、電子写真学会誌18(N
o.2), 22(1980)等の成書・総説に記載の化合物等が挙げ
られる。
The binder resin (B) other than the above-mentioned specific resin that can be used in the photoreceptor of the present invention may be any of the resins used in conventionally known electrophotographic photoreceptors, and the weight average molecular weight is preferably 5 × 10 3 ~1 × 10 6, and more preferably from 2 × 10 4 ~5 × 10 5 . The glass transition point of the binder resin is preferably -40 ° C to 200 ° C, more preferably -10 ° C to 140 ° C. Examples of conventionally known binder resins for electrophotographic photosensitive layers include, for example, Ryuji Shibata, Jiro Ishiwatari, Kogaku, Vol. 17, p. 278 (1968).
), Miyamoto Harumi, Takei Hidehiko, Imaging, 1973 (No.
8), Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Recording Materials", Part 1
Chapter 10, CMC Publishing (1985), Proceedings of "Current State Symposium on Organic Photoreceptors for Electrophotography" edited by The Institute of Electrophotography (1985)
), Hiroshi Komon, "Recent Development and Practical Use of Photoconductive Materials and Photoconductors", Japan Science Information Co., Ltd. (1986), Electrophotographic Society, "Basics and Applications of Electrophotographic Technology", Chapter 5, Corona Co., Ltd.
(1988), D. Tatt, SCHeidecker, Tappi, 49 (No.1
0), 439 (1966), ES Baltazzi, RG Blanclotteet
al., Phot. Sci. Eng. 16 (No. 5), 354 (1972), Nguyen
Jang Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Journal of The Institute of Electrophotography 18 (N
o.2), 22 (1980) and the like, compounds and the like described in reviews.

【0226】具体的には、オレフィン重合体及び共重合
体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ア
ルカン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル
重合体及び共重合体、スチレン及びその誘導体の重合体
及び共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプ
レン−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽和カルボン
酸エステル共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタ
クリロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重
合体、アクリル酸エステル重合体及び共重合体、メタク
リル酸エステル重合体及び共重合体、スチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステ
ル共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及び共重合
体、無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド共重合
体、メタクリルアミド共重合体、水酸基変性シリコン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル
樹脂、シリコン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル
共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、窒
素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素環
として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオ
フェン環、ジオキサン環、ジオキソフラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジ
オキセタン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and Polymers and copolymers of the derivatives, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers. Polymers, acrylic acid ester polymers and copolymers, methacrylic acid ester polymers and copolymers, styrene-acrylic acid ester copolymers, styrene-methacrylic acid ester copolymers, itaconic acid diester polymers and copolymers , Maleic anhydride copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide Polymer, hydroxyl group modified silicone resin, polycarbonate resin, ketone resin, polyester resin, silicone resin, amide resin, hydroxyl group and carboxyl group modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylic acid ester copolymer, ring Rubber-acrylic acid ester copolymer, a copolymer containing a nitrogen atom-free heterocycle (as a heterocycle, for example, furan ring, tetrahydrofuran ring, thiophene ring, dioxane ring, dioxofuran ring, lactone ring, benzofuran ring, Benzothiophene ring, 1,3-dioxetane ring, etc.), epoxy resin and the like.

【0227】更に具体的には、遠藤剛「熱硬化性高分子
の精密化」(C.M.C.(株) 1986年刊)、原崎勇次「最新バ
インダー技術便覧」第II−1章(総合技術センター1985
年刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途
開発」(中部経営開発センター出版部1985年刊)、大森
英三「機能性アクリル系樹脂」(テクノシステム1985年
刊)等の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられ
る。
More concretely, Takeshi Endo “Refinement of thermosetting polymer” (CMC Co., Ltd., published in 1986), Yuji Harazaki “Latest binder technology handbook”, Chapter II-1 (General Technology Center 1985)
Annual publication), Takayuki Otsu "Synthesis and design of acrylic resin and new application development" (published by Chubu Business Development Center in 1985), Eizo Omori "Functional acrylic resin" (Technosystem published in 1985), etc. A conventionally known resin is used.

【0228】特に、光導電体の結着樹脂(B)として、
カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基等の酸性基を含
有する比較的低分子量(103〜104程度)の樹脂を併
用することで、静電特性を良化することができる。例え
ば、特開昭63−217354号に記載の酸性基含有重
合成分が重合体主鎖にランダムに存在する樹脂、特開昭
64−70761号に記載の重合体主鎖の片末端に酸性
基を結合してなる樹脂、特開平2−67563号、同2
−236561号、同2−238458号、同2−23
6562号及び同2−247656号等に記載の、酸性
基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合してなる樹脂
又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有す
る樹脂、特開平3−181948号に記載の酸性基をブ
ロックで含有するAB型ブロック共重合体が挙げられ
る。
In particular, as the binder resin (B) for the photoconductor,
The electrostatic characteristics can be improved by using a resin having a relatively low molecular weight (about 10 3 to 10 4 ) containing an acidic group such as a carboxyl group, a sulfo group, and a phosphono group together. For example, a resin in which the acidic group-containing polymerization component described in JP-A-63-217354 is randomly present in the polymer main chain, or an acidic group is added to one end of the polymer main chain described in JP-A-64-70761. Resin formed by bonding, JP-A-2-67563, 2
-2365651, 2-238458, 2-23
No. 6562 and No. 2-247656, etc., a resin having an acidic group bonded to the main chain end of the graft copolymer, or a resin containing an acidic group in the graft portion of the graft copolymer, JP The AB type block copolymer containing the acidic group in a block as described in JP-A-3-181948 can be mentioned.

【0229】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用することが好ましい。例
えば、特開平2−68561号に記載のポリマー間に架
橋構造を形成する熱硬化性樹脂、特開平2−68562
号に記載の一部が架橋構造を有する樹脂、特開平2−6
9759号に記載の酸性基をグラフト型共重合体の主鎖
末端に結合してなる樹脂等が挙げられる。また、特定の
中〜高分子量の樹脂を用いることで、環境が著しく変動
した場合でも安定した性能を維持することができ、例え
ば、特開平3−29954号、同3−77954号、同
3−92861号及び同3−53257号に記載の酸性
基をグラフト型共重合体のグラフト部の末端に結合する
樹脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含
有する樹脂、特開平3−206464号及び同3−22
3762号記載の酸性基含有のAブロックと酸性基非含
有のBブロックとからなるABブロック型共重合体をグ
ラフト部に含有するグラフト型共重合体を挙げることが
できる。これらの特定の樹脂を用いることで、光導電体
を均一に分散させ、平滑性良好な光導電層を形成するこ
とができ、また環境の変化や半導体レーザー光を用いた
スキャニング露光方式を用いた場合においても、優れた
静電特性を維持することができる。
Further, in order to make the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient by using only these low molecular weight resins,
It is preferable to use another resin having a medium to high molecular weight together. For example, a thermosetting resin forming a crosslinked structure between polymers described in JP-A-2-68561, JP-A-2-68562.
Part of the resin described in JP-A No. 2-6 has a crosslinked structure.
The resin etc. which connect the acidic group of 9759 to the main chain terminal of a graft type copolymer are mentioned. Further, by using a specific medium to high molecular weight resin, stable performance can be maintained even when the environment is significantly changed. For example, JP-A-3-29954, JP-A-3-77954, and JP-A-3-77954. Nos. 92861 and 3-53257, a resin for binding an acidic group to the end of the graft portion of the graft copolymer or a resin containing an acidic group in the graft portion of the graft copolymer, JP-A-3-206464. No. and 3-22
Examples thereof include a graft type copolymer containing an AB block type copolymer consisting of an acidic group-containing A block and an acidic group-free B block described in No. 3762 in a graft portion. By using these specific resins, it is possible to uniformly disperse the photoconductor and form a photoconductive layer with good smoothness. In addition, a scanning exposure method using a change in environment or a semiconductor laser beam was used. Even in this case, excellent electrostatic characteristics can be maintained.

【0230】光導電層の厚さは1〜100μm、特には
10〜50μmが好適である。また、電荷発生層と電荷
輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光導電層を使
用する場合は電荷発生層の厚さは0.01〜5μm、特
には、0.05〜2μmが好適である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 μm, particularly preferably 10 to 50 μm. When the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 5 μm, and particularly preferably 0.05 to 2 μm. Is.

【0231】本発明では、可視光の露光又は半導体レー
ザー光の露光等光源の種類によって必要に応じて各種の
色素を分光増感剤として併用することができる。例え
ば、宮本晴視、武井秀彦;イメージング1973(No.8)第12
頁、C. J. Young 等:RCA Review 15, 469頁(1954
年)、清田航平等:電気通信学会論文誌、J63-C (No.
2)、97頁(1980年)、原崎勇次等、工業化学雑誌、66
78及び188頁(1963年)、谷忠昭、日本写真学会誌 3
5、208頁(1972年)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げられ
る。
In the present invention, various dyes can be used together as a spectral sensitizer depending on the kind of light source such as visible light exposure or semiconductor laser light exposure. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei; Imaging 1973 (No.8) No. 12
Page, CJ Young et al .: RCA Review 15 , 469 pages (1954
,) Kyohei Kiyota: Transactions of the Institute of Electrical Communication, J63-C (No.
2), p. 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Journal of Industrial Chemistry, 66 ,
78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 3
5 , Carbonate dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, etc.
Examples thereof include xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

【0232】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとして、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許3,052,540号、同4,054,450
号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げら
れる。
[0232] More specifically, as those mainly containing carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes and phthalein dyes, Japanese Patent Publication No. 51-45.
2, JP-A-50-90334 and JP-A-50-11422.
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,450
And JP-A-57-16456.

【0233】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F. M. Hamer「The Cyanine Dyes and Related Co
mpounds」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具
体的には、米国特許3,047,384号、同3,11
0,591号、同3,121,008号、同3,12
5,447号、同3,128,179号、同3,13
2,942号、同3,622,317号、英国特許1,
226,892号、同1,309,274号、同1,4
05,898号、特公昭48−7814号、同55−1
8892号等に記載の色素が挙げられる。更に、700
nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光増感するポリ
メチン色素として、特開昭47−840号、同47−4
4180号、特公昭51−41061号、特開昭49−
5034号、同49−45122号、同57−4624
5号、同56−35141号、同57−157254
号、同61−26044号、同61−27551号、米
国特許3,619,154号、同4,175,956
号、「Research Disclosure」1982年、216、第117〜118
頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は、種
々の増感色素を併用させてもその性能が増感色素により
変動しにくい点においても優れている。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include FM Hamer “The Cyanine Dyes and Related Co
The dyes described in "mpounds" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,11.
0,591, 3,121,008, 3,12
5,447, 3,128,179 and 3,13
2,942, 3,622,317, British Patent 1,
No. 226,892, No. 1,309,274, No. 1,4
05,898, Japanese Patent Publication No. 48-7814, 55-1
Examples thereof include dyes described in No. 8892. Furthermore, 700
Polymethine dyes that spectrally sensitize the near infrared to infrared light region having a long wavelength of not less than nm are disclosed in JP-A-47-840 and 47-4.
No. 4180, Japanese Patent Publication No. 51-41061, Japanese Patent Laid-Open No. 49-
No. 5034, No. 49-45122, No. 57-4624.
No. 5, No. 56-35141, No. 57-157254.
No. 61-26044, No. 61-27551, and U.S. Pat. Nos. 3,619,154 and 4,175,956.
Issue, "Research Disclosure", 1982, 216, 117-118.
Examples include those described on pages. The photoconductor of the present invention is also excellent in that its performance does not easily change depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination.

【0234】更には、必要に応じて、従来知られている
種々の電子写真感光体用添加剤を併用することができ
る。これらの添加剤としては、電子写真感度を改良する
ための化学増感剤、皮膜性を改良するための各種の可塑
剤、界面活性剤などが含まれる。化学増感剤としては、
例えばハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、フルオラ
ニル、ブロマニル、ジニトロベンゼン、アントラキノ
ン、2,5−ジクロロベンゾキノン、ニトロフェノー
ル、無水テトラクロロフタル酸、無水フタル酸、無水マ
レイン酸、N−ヒドロキシマレイミド、N−ヒドロキシ
フタルイミド、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベ
ンゾキノン、ジニトロフルオレノン、トリニトロフルオ
レノン、テトラシアノエチレン、ニトロ安息香酸、ジニ
トロ安息香酸等の電子吸引性化合物、小門宏等「最近の
光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:
日本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のポリ
アリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール化合
物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。ま
た、特開昭58−65439号、同58−102239
号、同58−129439号、同62−71965号等
に記載の化合物等も挙げることができる。
If desired, various conventionally known additives for electrophotographic photoreceptors can be used in combination. These additives include chemical sensitizers for improving electrophotographic sensitivity, various plasticizers for improving film properties, surfactants and the like. As a chemical sensitizer,
For example, halogen, benzoquinone, chloranil, fluoranyl, bromanil, dinitrobenzene, anthraquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, nitrophenol, tetrachlorophthalic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, N-hydroxymaleimide, N-hydroxyphthalimide, Electron-withdrawing compounds such as 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone, dinitrofluorenone, trinitrofluorenone, tetracyanoethylene, nitrobenzoic acid, dinitrobenzoic acid, Hiroshi Komon et al. "Recent Photoconductive Materials and Photosensitization Development and practical use of the body ”Chapters 4 to 6:
A polyarylalkane compound, a hindered phenol compound, a p-phenylenediamine compound, and the like, which are cited as references in the publication of Japan Scientific Information Co., Ltd. (1986), may be mentioned. Further, JP-A-58-65439 and JP-A-58-102239.
No. 58-129439, No. 62-71965, and the like.

【0235】可塑剤としては、例えばジメチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジフ
ェニルフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジイ
ソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセ
バケート、ラウリン酸ブチル、メチルフタリールグリコ
レート、ジメチルグリコールフタレートなどを光導電層
の可撓性を向上するために添加できる。これらの可塑剤
は光導電層の静電特性を劣化させない範囲で含有させる
ことができる。これら各種添加剤の添加量は、特に限定
的ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.
001〜2.0重量部である。
Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diphenyl phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methyl phthalyl glycolate, dimethyl glycol phthalate. Can be added to improve the flexibility of the photoconductive layer. These plasticizers can be contained in a range that does not deteriorate the electrostatic properties of the photoconductive layer. The addition amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.1% with respect to 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight.

【0236】光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般的に電子写真感光層の支持体は導電
性であることが好ましく、導電性支持体としては、従来
と全く同様、例えば金属、紙、プラスチックシート等の
基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電処理した
もの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面)に導電
性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的で少なく
とも1層以上をコートしたもの、前記支持体の表面に耐
水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層に必要に
応じて少なくとも1層以上のプレコート層を設けたも
の、アルミニウム等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等が使用できる。具体的に、
導電性基体あるいは導電化材料の例として、坂本幸男、
電子写真、14(No.1)、2〜11頁(1975年刊)、森賀弘之
「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(1975年刊)、M.
F. Hoover, J. Macromol. Sci. Chem, A-4(6), 1327〜1
417頁(1970年刊)等に記載されているもの等を用いる
ことができる。
The photoconductive layer can be provided on a conventionally known support. Generally, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, a substrate such as metal, paper or plastic sheet is impregnated with a low resistance substance. And conductive treatment is applied to the back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) of the substrate, and at least one layer is coated for the purpose of preventing curling. Those provided with a water-resistant adhesive layer on the surface, those provided with at least one precoat layer as required on the surface layer of the above-mentioned support, those obtained by laminating electroconductive plastic substrate on which aluminum or the like is deposited on paper, etc. Can be used. Specifically,
As an example of a conductive substrate or conductive material, Yukio Sakamoto,
Electrophotography, 14 (No.1), pp. 2-11 (Published in 1975), Hiroyuki Moriga "Introduction to Special Paper Chemistry" Polymer Publishing (1975), M.
F. Hoover, J. Macromol. Sci. Chem, A-4 (6), 1327 ~ 1
Those described on page 417 (published 1970) can be used.

【0237】本発明では、前記の如くして剥離性表面を
発現させた感光体上に、本発明に従うガラス転移点の異
なる少なくとも二種の樹脂を同一粒子内に含有する樹脂
粒子(AL)を電着塗布法により電着又は付着させて成
膜することで第1転写層(T 1)を形成し、更にこの上に
樹脂(A2)を含む第2転写層(T2)を形成した後、通常
の電子写真プロセスを経て、トナー画像を形成する。即
ち、帯電−露光−現像−定着の各プロセスを従来公知の
方法によって行う。第1転写層(T1)及び/又は第2転
写層(T2)の形成と電子写真プロセスとは同一の装置で
行っても別個の装置で行ってもよい。本発明では、電子
写真プロセスによってトナー画像を形成するには従来公
知の方法及び装置を適宜用いることができる。
In the present invention, the peelable surface is formed as described above.
On the developed photoreceptor, the difference in glass transition point according to the present invention is
A resin containing at least two kinds of resins in the same particle
Particles (AL) are formed by electrodeposition or adhesion by the electrodeposition coating method.
By forming a film, the first transfer layer (T 1) Is formed, and further on this
Resin (A2Second transfer layer (T)2), Then usually
To form a toner image. Immediately
The charging-exposure-developing-fixing process is conventionally known.
By method. First transfer layer (T1) And / or second roll
Layer (T2) Formation and electrophotographic process in the same equipment
It may be performed by a separate device. In the present invention, the electronic
To form a toner image by the photographic process
Known methods and devices can be used as appropriate.

【0238】本発明に供される現像剤は、従来公知の静
電写真用現像剤を使用することができ、静電写真用乾式
現像剤及び液体現像剤のいずれでもよい。例えば、前述
の「電子写真技術の基礎と応用」497〜505頁、中村孝一
監修「トナー材料の開発・実用化」第3章(日本科学情
報社刊、1985年)、町田元「記録用材料と感光性樹脂」
107〜127頁(1983年刊)、(株)学会出版センター、電
子写真学会「イメージング No.2〜5 電子写真の現像
・定着・帯電・転写」等に具体的な態様が示されてい
る。乾式現像剤としては、一成分磁性トナー、二成分ト
ナー、一成分非磁性トナーあるいはカプセルトナー等が
実用されており、これらのいずれも利用することができ
る。
The developer used in the present invention may be a conventionally known developer for electrostatic photography, and may be either a dry developer for electrostatic photography or a liquid developer. For example, "Basics and Applications of Electrophotographic Technology", pages 497 to 505, "Development and Practical Use of Toner Material", supervised by Koichi Nakamura, Chapter 3 (published by Nihon Kagaku Information Co., Ltd., 1985), Moto Machida "Recording Materials" And photosensitive resin "
Practical modes are shown in pages 107 to 127 (published in 1983), Academic Society Publishing Center, Electrophotographic Society, "Imaging No. 2 to 5, electrophotographic development, fixing, charging and transfer". As the dry developer, a one-component magnetic toner, a two-component toner, a one-component non-magnetic toner, a capsule toner and the like have been put into practical use, and any of these can be used.

【0239】具体的な液体現像剤の基本構成としては、
電気絶縁性有機溶媒{例えばイソパラフィン系脂肪族炭
化水素:アンソパーH、アイソパーG(エッソ社製)シ
ェルゾール70、シェルゾール71(シェルオイル社
製)、IP−ソルベント1620(出光石油化学製)
等}を分散媒として、着色剤である無機又は有機の顔料
あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ロジン等の分散
安定性、定着性、荷電性を付与するための樹脂とを分散
し、且つ、荷電特性の強化あるいは画像特性の改良等の
ために所望により種々の添加剤を加えて成るものであ
る。
The basic constitution of a concrete liquid developer is as follows.
Electrically insulating organic solvent {for example, isoparaffin-based aliphatic hydrocarbon: Ansoper H, Isopar G (manufactured by Esso) Shellsol 70, Shellsol 71 (manufactured by Shell Oil), IP-solvent 1620 (manufactured by Idemitsu Petrochemical)
Etc. as a dispersion medium, a resin for imparting dispersion stability, fixability and chargeability to an inorganic or organic pigment or dye as a colorant and an alkyd resin, an acrylic resin, a polyester resin, a styrene butadiene resin, a rosin, etc. Is dispersed, and various additives are added, if desired, for the purpose of enhancing charging characteristics or improving image characteristics.

【0240】上記着色剤としては、公知の染料・顔料が
任意に選択されるが、例えば、ベンジジン系、アゾ系、
アゾメチン系、キサンテン系、アントラキノン系、フタ
ロシアニン系(含金属を含む)、チタンホワイト、ニグ
ロシン、アニリンブラック、カーボンブラック等の染料
あるいは顔料等である。また、他の添加剤としては、例
えば原崎勇次「電子写真」第16巻、第2号、44頁に具体
的に記載されているものが用いられる。例えば、ジ−2
−エチルヘキシルスルホコハク酸金属塩、ナフテン酸金
属塩、高級脂肪酸金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸
金属塩、アルキルリン酸金属塩、レシチン、ポリ(ビニ
ルピロリドン)、半マレイン酸アミド成分を含む共重合
体、クマロンインデン樹脂、高級アルコール類、ポリエ
ーテル類、ポリシロキサン、ワックス類等が挙げられ
る。しかし、これらに限定されるものではない。
Known dyes and pigments can be arbitrarily selected as the colorant, and examples thereof include benzidine type, azo type, and
Examples include dyes or pigments such as azomethine-based, xanthene-based, anthraquinone-based, phthalocyanine-based (including metal-containing), titanium white, nigrosine, aniline black and carbon black. As the other additives, those specifically described in Yuji Harazaki, "Electrophotography" Vol. 16, No. 2, p. 44 are used. For example, di-2
-Ethylhexyl sulfosuccinic acid metal salt, naphthenic acid metal salt, higher fatty acid metal salt, alkylbenzene sulfonic acid metal salt, alkylphosphoric acid metal salt, lecithin, poly (vinylpyrrolidone), copolymer containing semi-maleic acid amide component, coumarone Examples thereof include indene resins, higher alcohols, polyethers, polysiloxanes, waxes and the like. However, it is not limited to these.

【0241】これら液体現像剤の主要な各組成分の量に
ついては通常下記の通りである。樹脂(及び所望により
用いられる着色剤)を主成分として成るトナー粒子は、
担体液体1000重量部に対して0.5重量部〜50重
量部が好ましい。0.5重量部未満であると画像濃度が
不足し、50重量部を超えると非画像部へのカブリを生
じ易い。さらに、前記の分散安定用の担体液体可溶性樹
脂も必要に応じて使用され、担体液体1000重量部に
対して0.5重量部〜100重量部程度加えることがで
きる。上述の様な荷電調節剤は、担体液体1000重量
部に対して0.001重量部〜1.0重量部が好まし
い。更に所望により各種添加剤を加えても良く、それら
添加物の総量は、現像剤の電気抵抗によってその上限が
規制される。即ち、トナー粒子を除去した状態の液体現
像剤の電気抵抗が109Ω・cmより低くなると良質の連
続階調像が得られ難くなるので、各添加物の各添加量
は、この限度内でコントロールされている。
The amount of each main component of these liquid developers is usually as follows. Toner particles composed mainly of a resin (and optionally a coloring agent) are
0.5 to 50 parts by weight is preferable for 1000 parts by weight of the carrier liquid. If it is less than 0.5 parts by weight, the image density will be insufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, fog will easily occur in the non-image area. Further, the carrier liquid-soluble resin for stabilizing the dispersion is also used as necessary, and can be added in an amount of about 0.5 to 100 parts by weight with respect to 1000 parts by weight of the carrier liquid. The charge control agent as described above is preferably 0.001 to 1.0 parts by weight with respect to 1000 parts by weight of the carrier liquid. If desired, various additives may be added, and the upper limit of the total amount of these additives is restricted by the electric resistance of the developer. That is, if the electric resistance of the liquid developer with the toner particles removed is lower than 10 9 Ω · cm, it becomes difficult to obtain a good continuous tone image. It is controlled.

【0242】また、液体現像剤の製造方法の具体例とし
ては、着色剤及び樹脂をサンドミル、ボールミル、ジェ
ットミル、アトライター等の分散機を用いて機械的に分
散して着色粒子を製造する方法が、例えば特公昭35−
5511号、同35−13424号、同50−4001
7号、同49−98634号、同58−129438
号、特開昭61−180248号等に記載されている。
As a specific example of the method for producing a liquid developer, a method for producing colored particles by mechanically dispersing a colorant and a resin using a disperser such as a sand mill, a ball mill, a jet mill or an attritor. However, for example, Japanese Patent Publication 35-
5511, 35-13424, 50-4001.
No. 7, No. 49-98634, No. 58-129438.
And JP-A-61-180248.

【0243】他の着色粒子の製造方法としては、例えば
分散樹脂粒子を微小粒径で単分散性の良好なものとして
得る非水系分散重合方法を用いて製造し、該樹脂粒子を
着色する方法が挙げられる。着色の方法の1つとして
は、特開昭57−48738号などに記載されている如
く、分散樹脂を好ましい染料で染色する方法がある。ま
た、他の方法として、特開昭53−54029号に開示
されている如く、分散樹脂と染料を化学的に結合させる
方法、又は、特公昭44−22955号等に記載されて
いる如く、重合造粒法で製造する際に、予め色素を含有
した単量体を用い、色素含有の共重合体とする方法等が
ある。
As another method for producing colored particles, for example, a method of producing dispersed resin particles by a non-aqueous dispersion polymerization method which gives fine particles having good monodispersity and coloring the resin particles is used. Can be mentioned. As one of the coloring methods, there is a method of dyeing a dispersed resin with a preferable dye as described in JP-A-57-48738. Further, as another method, as disclosed in JP-A-53-54029, a method of chemically bonding a dispersion resin and a dye, or a polymerization method as described in JP-B-44-22955 and the like. In the case of producing by a granulation method, there is a method of using a dye-containing monomer in advance to obtain a dye-containing copolymer.

【0244】デジタル情報に基づいて露光するレーザー
光によるスキャニング露光方式及び液体現像剤を用いる
現像方式の組合せが、高精細な画像を形成できることか
ら有効なプロセスである。その一例を以下に示す。ま
ず、感光材料をフラットベット上にレジスターピン方式
による位置決めを行った後背面よりエアーサクションに
より吸引して固定する。次いで、例えば「電子写真技術
の基礎と応用」(電子写真学会編、コロナ社、昭和63年
6月15日発行)212頁以降に記載の帯電デバイスにより、
感光材料を帯電する。コロトロン又はスコトロン方式が
一般的である。この時感光材料の帯電電位検出手段から
の情報に基づき、常に所定の範囲の表面電位となるよ
う、フィードバックをかけ、帯電条件をコントロールす
ることも好ましい。その後例えば同じく上記引用資料の
254頁以降に記載の方式を用いてレーザー光源による走
査露光を行う。
A combination of the scanning exposure method using laser light which is exposed based on digital information and the developing method using a liquid developer is an effective process because a high-definition image can be formed. An example is shown below. First, the photosensitive material is positioned on the flat bed by the register pin method, and then sucked and fixed by air suction from the back surface. Then, for example, by using the charging device described in "Basics and Applications of Electrophotographic Technology" (edited by the Electrophotographic Society, Corona Publishing Co., Ltd., June 15, 1988), pages 212 and thereafter.
Charge the photosensitive material. The corotron or scotron system is common. At this time, it is also preferable to control the charging condition by giving feedback so that the surface potential is always within a predetermined range based on the information from the charging potential detection means of the photosensitive material. After that, for example,
Scanning exposure with a laser light source is performed using the method described on page 254 and thereafter.

【0245】次いで液体現像剤を用いてトナー現像を行
う。フラットベット上で帯電、露光した感光材料は、そ
こからはずして同上引用資料の275頁以降に示された直
接法の湿式現像法を用いることができる。この時の露光
モードは、トナー画像現像モードに対応して行われ、例
えば反転現像の場合はネガ画像、即ち画像部にレーザー
光を照射し、感光材料を帯電した時の電荷極性と同じ電
荷極性を持つトナーを用い、現像バイアス電圧を印加し
て、露光部にトナーが電着するようにする。原理の詳細
は同上引用資料の157頁以降に説明がある。現像後に余
剰の現像液を除くために、同資料283頁に示されるよう
なスクイーズを行った後乾燥する。スクイーズ前に現像
剤の担体液体のみでリンスをすることも好ましい。
Next, toner development is performed using the liquid developer. The light-sensitive material charged and exposed on a flat bed can be removed from it and the direct wet development method shown on page 275 and after of the cited document can be used. The exposure mode at this time corresponds to the toner image development mode. For example, in the case of reversal development, a negative image, that is, an image portion is irradiated with laser light to charge the photosensitive material with the same charge polarity. The toner having the above is used to apply a developing bias voltage so that the toner is electrodeposited on the exposed portion. The details of the principle are explained on pages 157 and after of the above cited material. After development, in order to remove the excess developer, squeeze as shown on page 283 of the same document is performed, and then dried. It is also preferable to rinse only with the carrier liquid of the developer before squeezing.

【0246】次に、感光体上のトナー画像を転写層ごと
被転写材に熱転写する。転写層の被転写材への熱転写
は、上記転写層形成工程及び電子写真工程と同一装置内
で行っても別個の装置で行ってもいずれでもよい。例え
ば、加熱手段内蔵の一対のゴム被覆金属ローラー間に所
定のニップ圧力を印加しながら駆動することにより、容
易に転写層をトナー画像ごと被転写材上に熱転写するこ
とができる。
Next, the toner image on the photoconductor is thermally transferred together with the transfer layer to the transfer material. The thermal transfer of the transfer layer to the material to be transferred may be performed in the same apparatus as the transfer layer forming step and the electrophotographic step or in a separate apparatus. For example, the transfer layer together with the toner image can be easily thermally transferred onto the transfer target material by driving while applying a predetermined nip pressure between a pair of rubber-coated metal rollers having a built-in heating means.

【0247】この時のローラーの表面温度は好ましくは
30〜150℃、より好ましくは40〜120℃、ロー
ラー間のニップ圧力は好ましくは0.2〜20kgf/c
m2、より好ましくは0.5〜10kgf/cm2、搬送スピー
ドは好ましくは10mm/秒以上、より好ましくは50mm
/秒以上である。これらの条件設定は使用している感光
材料、即ち剥離層、感光層、支持体の材料の物性により
最適化することは当然である。ローラーの表面温度は公
知の表面温度検出手段及び温度コントローラーによって
所定の範囲内に保つことが好ましい。更に加熱ローラー
部前に感光材料の予熱手段、後に冷却手段を設けること
もできる。また、ローラー間加圧手段としては少なくと
も一方のローラーの、軸の両端にスプリング又は圧縮空
気を用いるエアーシリンダーを使うことができる。
The surface temperature of the rollers at this time is preferably 30 to 150 ° C., more preferably 40 to 120 ° C., and the nip pressure between the rollers is preferably 0.2 to 20 kgf / c.
m 2 , more preferably 0.5 to 10 kgf / cm 2 , transport speed is preferably 10 mm / sec or more, more preferably 50 mm
/ Sec or more. It is natural that these condition settings are optimized depending on the physical properties of the photosensitive material used, that is, the material of the peeling layer, the photosensitive layer and the support. The surface temperature of the roller is preferably kept within a predetermined range by a known surface temperature detecting means and temperature controller. Further, a preheating means for the photosensitive material may be provided in front of the heating roller portion, and a cooling means may be provided afterwards. Further, as the inter-roller pressing means, a spring or an air cylinder using compressed air at both ends of the shaft of at least one roller can be used.

【0248】本発明に用いられる被転写材は、従来オフ
セット印刷版に供される支持体をそのまま用いることが
できる。具体的には、プラスチックシート又は特に耐刷
性を施した紙、アルミニウム、板、亜鉛板、銅−アルミ
ニウム板、銅−ステンレス板、クロム−銅板等のバイメ
タル板、クロム−銅−アルミニウム板、クロム−鉛−鉄
板、クロム−銅−ステンレス板等のトライメタル板等の
親水性表面を有する基板が用いられ、その厚さは0.1
〜3mmが好ましく、特に0.1〜1mmが好ましい。
As the transfer material used in the present invention, a support conventionally used for an offset printing plate can be used as it is. Specifically, a plastic sheet or a paper with a particularly printing durability, aluminum, a plate, a zinc plate, a copper-aluminum plate, a copper-stainless plate, a bimetal plate such as a chromium-copper plate, a chromium-copper-aluminum plate, a chromium plate. A substrate having a hydrophilic surface such as a lead-iron plate, a chrome-copper-stainless plate, or a trimetal plate is used, and the thickness thereof is 0.1.
-3 mm is preferable, and 0.1-1 mm is particularly preferable.

【0249】アルミニウムの表面を有する支持体の場合
には、砂目立て処理、ケイ酸ナトリウム、フッ化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、又
は陽極酸化処理等の表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2,714,066号に記載さ
れている如く、砂目立てしたのちにケイ酸ナトリウム水
溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭47−5
125号に記載されているように、アルミニウム板を陽
極酸化処理したのちに、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液
に浸漬処理したものも好適に使用される。
In the case of a support having an aluminum surface, it is subjected to surface treatment such as graining treatment, dipping treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodization treatment. Is preferred. Further, as described in U.S. Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate which has been grained and then dipped in an aqueous sodium silicate solution, JP-B-47-5.
As described in No. 125, an aluminum plate subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used.

【0250】上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロ
ム酸、硫酸、ほう酸等の無機酸、もしくはシュウ酸、ス
ルファミン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非
水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でア
ルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施さ
れる。また、米国特許3,658,662号に記載され
ているようなシリケート電着も有効である。西独特許公
開1,621,478号に記載のポリビニルスルホン酸
による処理も適当である。
The anodizing treatment is carried out, for example, by using an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid or the like, or an organic acid such as oxalic acid, sulfamic acid or the like, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of one or more of them. It is carried out by passing an electric current using an aluminum plate as an anode in the combined electrolytic solution. Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. The treatment with polyvinylsulfonic acid described in West German Patent Publication No. 1,621,478 is also suitable.

【0251】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外は、その上に設けられる
トナ−画像との密着性の向上のために施されるものであ
る。また、支持体とトナー画像を形成した転写層との間
との接着性を調節するために、支持体表面に表面層を設
けて特性を改良することもできる。プラスチックシート
又は紙を支持体とする場合には、当然のことながら、ト
ナー画像部層以外が親水性でなければならないことか
ら、親水性を有する表面層を設けたものが供される。具
体的には、公知の直描型平版印刷用原版又は該原版の画
像受理層と同様の内容を有する被転写材を用いることが
できる。
These hydrophilization treatments are carried out to improve the adhesion to the toner image provided thereon, in addition to the treatment for making the surface of the support hydrophilic. . Further, in order to adjust the adhesion between the support and the transfer layer on which the toner image is formed, a surface layer may be provided on the surface of the support to improve the characteristics. When a plastic sheet or paper is used as the support, it is needless to say that a layer other than the toner image part layer must be hydrophilic, so that a surface layer having hydrophilicity is provided. Specifically, a known transferable lithographic printing plate precursor or a transfer material having the same contents as the image receiving layer of the plate can be used.

【0252】本発明においては、以上のようにして得ら
れた被転写材上の転写層を化学反応処理して、転写層を
完全に除去することで、オフセット用印刷版を作成する
ことができる。転写層を除去するためには、処理液によ
る反応の他に化学的光学活線による脱保護反応を用いて
もよく、また併用してもよい。
In the present invention, the transfer layer on the transfer material obtained as described above is subjected to a chemical reaction treatment to completely remove the transfer layer, whereby an offset printing plate can be prepared. . In order to remove the transfer layer, a deprotection reaction by a chemical optical hot line may be used in addition to the reaction by the treatment liquid, or may be used in combination.

【0253】処理液は、所定のpHに調整された水溶性
溶液を用いる。pHの調整は、公知のpH調整剤を用い
ることができる。適用されるpH域は酸性〜中性〜アル
カリ性のいずれでもよいが、処理液の防錆性又は転写層
の溶出除去性を勘案すると、pH8以上のアルカリ性領
域で用いることが好ましい。アルカリ性処理液とする化
合物としては、従来公知の無機化合物又は行き化合物の
いずれでもよく、例えば、炭酸塩、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、
有機アミン化合物等いずれでもよく、また、単独又は混
合して用いることができる。
As the processing liquid, an aqueous solution adjusted to a predetermined pH is used. A known pH adjuster can be used to adjust the pH. The pH range to be applied may be any of acidic to neutral to alkaline, but considering the rustproof property of the treatment liquid or the elution and removability of the transfer layer, it is preferably used in the alkaline region of pH 8 or more. The compound to be used as the alkaline treatment liquid may be any conventionally known inorganic compound or bound compound, for example, carbonate, sodium hydroxide,
Potassium hydroxide, potassium silicate, sodium silicate,
Any organic amine compound or the like may be used, and they may be used alone or in combination.

【0254】更には、親水性反応を迅速化するために併
用できる化合物として、パーソン(Pearson)の求核定数
n〔R. G. Pearson, H. Sobel, J. Amer. Chem. Soc.,
90,319 (1968)〕が5.5以上の値を有する置換基を含
有し、且つ蒸留水100重量部中に1重量部以上溶解す
る親水性化合物が挙げられる。具体的な化合物として
は、例えばヒドラジン、ヒドロキシルアミン、亜硫酸塩
(アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩
等)、チオ硫酸塩等が挙げられ、また、分子内にヒドロ
キシル基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、ア
ミノ基から選ばれた少なくとも1つの極性基を含有する
メルカプト化合物、ヒドラジド化合物、スルフィン酸化
合物、第1級アミン化合物、第2級アミン化合物等が挙
げられる。
Furthermore, as a compound which can be used in combination for accelerating the hydrophilic reaction, Pearson's nucleophilic constant n [RG Pearson, H. Sobel, J. Amer. Chem. Soc.,
90,319 (1968)] contains a substituent having a value of 5.5 or more, and is a hydrophilic compound soluble in 1 part by weight or more in 100 parts by weight of distilled water. Specific compounds include, for example, hydrazine, hydroxylamine, sulfites (ammonium salt, sodium salt, potassium salt, zinc salt, etc.), thiosulfate salt, and the like, and hydroxyl group, carboxyl group, sulfo group in the molecule. Examples thereof include a mercapto compound, a hydrazide compound, a sulfinic acid compound, a primary amine compound, and a secondary amine compound containing at least one polar group selected from a group, a phosphono group and an amino group.

【0255】例えばメルカプト化合物として、2−メル
カプトエタノール、2−メルカプトエチルアミン、N−
メチル−2−メルカプトエチルアミン、N−(2−ヒド
ロキシエチル)−2−メルカプトエチルアミン、チオグ
リコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、メルカプ
トベンゼンカルボン酸、2−メルカプトエンスルホン
酸、2−メルカプトエチルホスホン酸、メルカプトベン
ゼンスルホン酸、2−メルカプトプロピオニルアミノ酢
酸、2−メルカプト−1−アミノ酢酸、1−メルカプト
プロピオニルアミノ酢酸、1,2−ジメルカプトプロピ
オニルアミノ酢酸、2,3−ジヒドロキシプロピルメル
カプタン、2−メチル−2−メルカプト−1−アミノ酢
酸等を、スルフィン酸化合物として、2−ヒドロキシエ
チルスルフィン酸、3−ヒドロキシプロパンスルフィン
酸、4−ヒドロキシブタンスルフィン酸、カルボキシベ
ンゼンスルフィン酸、ジカルボキシベンゼンスルフィン
酸等を、ヒドラジド化合物として、2−ヒドラジノエタ
ノールスルホン酸、4−ヒドラジノブタンスルホン酸、
ヒドラジノベンゼンスルホン酸、ヒドラジノベンゼンス
ルホン酸、ヒドラジノ安息香酸、ヒドラジノベンゼンカ
ルボン酸等を、第1級又は第2級アミン化合物として、
例えばN−(2−ヒドロキシエチル)アミン、N,N−
ジ(2−ヒドロキシエチル)アミン、N,N−ジ(2−
ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、トリ(2−ヒド
ロキシエチル)エチレンジアミン、N−(2,3−ジヒ
ドロキシプロピル)アミン、N,N−ジ(2,3−ジヒ
ドロキシプロピル)アミン、2−アミノプロピオン酸、
アミノ安息香酸、アミノピリジン、アミノベンゼンジカ
ルボン酸、2−ヒドロキシエチルモルホリン、2−カル
ボキシエチルモルホリン、3−カルボキシピペラジン等
を挙げることができる。これら処理液中の求核性化合物
の存在量は0.05〜10モル/リットル、好ましくは
0.1〜5モル/リットルである。また、処理液のpH
は8以上が好ましい。
For example, as a mercapto compound, 2-mercaptoethanol, 2-mercaptoethylamine, N-
Methyl-2-mercaptoethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2-mercaptoethylamine, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, mercaptobenzenecarboxylic acid, 2-mercaptoenesulfonic acid, 2-mercaptoethylphosphonic acid, Mercaptobenzenesulfonic acid, 2-mercaptopropionylaminoacetic acid, 2-mercapto-1-aminoacetic acid, 1-mercaptopropionylaminoacetic acid, 1,2-dimercaptopropionylaminoacetic acid, 2,3-dihydroxypropylmercaptan, 2-methyl- 2-Mercapto-1-aminoacetic acid and the like as a sulfinic acid compound, 2-hydroxyethylsulfinic acid, 3-hydroxypropanesulfinic acid, 4-hydroxybutanesulfinic acid, carboxybenzenesulfinic acid The dicarboxylate benzene sulfinic acid, a hydrazide compound, 2- hydrazino ethanol sulfonic acid, 4-hydrazino butanoic acid,
Hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzenesulfonic acid, hydrazinobenzoic acid, hydrazinobenzenecarboxylic acid, etc. as a primary or secondary amine compound,
For example, N- (2-hydroxyethyl) amine, N, N-
Di (2-hydroxyethyl) amine, N, N-di (2-
Hydroxyethyl) ethylenediamine, tri (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N- (2,3-dihydroxypropyl) amine, N, N-di (2,3-dihydroxypropyl) amine, 2-aminopropionic acid,
Examples thereof include aminobenzoic acid, aminopyridine, aminobenzenedicarboxylic acid, 2-hydroxyethylmorpholine, 2-carboxyethylmorpholine and 3-carboxypiperazine. The amount of the nucleophilic compound present in these treatment liquids is 0.05 to 10 mol / liter, preferably 0.1 to 5 mol / liter. Also, the pH of the treatment liquid
Is preferably 8 or more.

【0256】処理液は、上記した求核性化合物及びpH
調整剤以外に、他の化合物を含有してもよい。例えば、
水に可溶性の有機溶媒を、水100重量部中に1〜50
重量部含有してもよい。このような水に可溶性の有機溶
媒としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、プロパギルアルコール、ベンジ
ルアルコール、フェネチルアルコール等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルテトン、シクロヘキサノン、
アセトフェノン等)、エーテル類(ジオキサン、トリオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメ
チルエ−テル、プロピレングリコールジエチルエ−テ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ピロリドン、
N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等)、エ
ステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、ギ酸エチル、スル
ホラン、テトラメチル尿素等)等が挙げられ、これらは
単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
The treatment liquid is composed of the above-mentioned nucleophilic compound and pH.
In addition to the regulator, other compounds may be contained. For example,
A water-soluble organic solvent is added in an amount of 1 to 50 in 100 parts by weight of water.
You may contain a weight part. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propanol alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl tetone, cyclohexanone,
Acetophenone), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, pyrrolidone,
N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide and the like), esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, sulfolane, tetramethylurea and the like) and the like can be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.

【0257】また、界面活性剤を水100重量部中に
0.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤として
は、従来公知のアニオン性、カチオン性又はノニオン性
の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新界面
活性剤」(1975年刊)三共出版(株)、小田良平、寺村
一広「界面活性剤の合成とその応用」(1980年刊)槇書
店等に記載される化合物を用いることができる。更に、
該処理液の保存時の防腐性、防黴性向上の為に、従来公
知の防腐性化合物、防黴性化合物を併用してもよい。処
理の条件は温度15〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分
間が好ましい。更に処理時に、超音波下に行う又は機械
的な摺動(ブラシ等でこする等)等の物理的操作を併用
してもよい。
Further, the surfactant may be contained in 100 parts by weight of water in an amount of 0.1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic or nonionic surfactants. For example, use the compounds described in Hiroshi Horiguchi "New Surfactant" (1975) Sankyo Publishing Co., Ltd., Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura "Synthesis of Surfactants and Their Applications" (1980) Maki Shoten. be able to. Furthermore,
In order to improve antiseptic properties and antifungal properties during storage of the treatment liquid, conventionally known antiseptic compounds and antifungal compounds may be used in combination. The treatment conditions are preferably a temperature of 15 to 60 ° C. and an immersion time of 10 seconds to 5 minutes. Further, during the treatment, a physical operation such as performing under ultrasonic waves or mechanical sliding (rubbing with a brush or the like) may be used in combination.

【0258】他方、化学的活性光線の照射により脱保護
反応する場合に用いられる光線としては、可視光線、紫
外線、遠紫外線、電子線、X線、γ線、α線等いずれで
もよいが、好ましくは紫外線が挙げられる。より好まし
くは波長310nm〜波長500nmの範囲での光線であ
る。一般には高圧又は超高圧の水銀ランプ等が用いられ
る。光照射の処理は通常5cm〜50cmの距離から10秒
〜10分間の照射で充分に行うことができる。この様に
して光照射した後、上記の様な水溶性溶液中に浸漬する
ことで容易に転写層を除去することができる。
On the other hand, the light used in the deprotection reaction by irradiation with chemically active light may be visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, γ-ray, α-ray or the like, but is preferable. Is ultraviolet light. More preferably, it is a light beam having a wavelength of 310 nm to a wavelength of 500 nm. Generally, a high pressure or ultra high pressure mercury lamp or the like is used. The light irradiation treatment can usually be performed sufficiently by irradiation for 10 seconds to 10 minutes from a distance of 5 cm to 50 cm. After irradiating with light in this way, the transfer layer can be easily removed by immersing in the water-soluble solution as described above.

【0259】以下に本発明の電子写真式製版印刷版の作
成方法を添付図面をもって詳細に説明する。図2は本発
明の方法を実施するための好適態様である、転写層の形
成、電子写真プロセス及び転写層の熱転写を同一装置内
で行うことのできる、電子写真式製版印刷原版作成装置
の概略図である。
The method for producing the electrophotographic plate-making printing plate of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 2 is a schematic view of an electrophotographic plate-making printing plate making apparatus, which is a preferred embodiment for carrying out the method of the present invention, in which the transfer layer formation, the electrophotographic process and the thermal transfer of the transfer layer can be performed in the same apparatus. It is a figure.

【0260】前述のように、表面が剥離性に改質された
電子写真感光体11を用いる場合には、そのまま感光体
11上に第1転写層12T1を形成する。また、感光体
11表面の剥離性が不十分な場合には、前述のように、
第1転写層12T1の形成前に前記化合物(S)を吸着
又は付着させる装置を設ける(第2の方法)か、又は本
発明の転写層形成用樹脂粒子(AL)を含有する電着分
散液の中に前記化合物(S′)を含有させる(第3の方
法)ことにより、感光体11表面に剥離性を付与するこ
とができる。第2の方法の場合には、前記した具体的態
様のいずれかの方式を用いた化合物(S)塗布装置10
を適宜設けることにより、感光体11表面に化合物
(S)を供給する。化合物(S)を感光体表面に適用す
る装置10は固定及び可動式のいずれでもよい。
As described above, when the electrophotographic photosensitive member 11 whose surface is modified to have peelability is used, the first transfer layer 12T 1 is directly formed on the photosensitive member 11. If the surface of the photoreceptor 11 is not sufficiently peeled, as described above,
An apparatus for adsorbing or adhering the compound (S) before the formation of the first transfer layer 12T 1 is provided (second method), or electrodeposition dispersion containing the transfer layer-forming resin particles (AL) of the present invention. By containing the compound (S ′) in the liquid (third method), it is possible to impart releasability to the surface of the photoreceptor 11. In the case of the second method, the compound (S) coating apparatus 10 using any one of the methods of the specific embodiments described above.
Is appropriately provided to supply the compound (S) to the surface of the photoreceptor 11. The device 10 for applying the compound (S) to the surface of the photoreceptor may be fixed or movable.

【0261】熱可塑性樹脂粒子(AL)の分散液12a
は可動式の液体現像ユニットセット14内にある第1転
写層用電着ユニット13aに供給されている。まず電着
ユニット13aを感光体表面11に接近させ、電着ユニ
ット13aの現像電極との距離が1mmとなるように固定
する。このギャップ間に分散液12aを供給し、図示し
ていない外部電源から電圧を印加しながら回転させ、感
光体表面11の画像形成領域全面に樹脂粒子(AL)が
電着するようにする。電着ユニット13aに内蔵してあ
るスクイズ装置で感光体表面11に付着している分散液
12aを除き、次いで吸排気ユニット15下を通過させ
乾燥し、予熱手段17aにより熱可塑性樹脂粒子(A
L)を熱溶融させて皮膜化した熱可塑性樹脂の第1転写
層12T1を得る。
Dispersion 12a of thermoplastic resin particles (AL)
Is supplied to the first transfer layer electrodeposition unit 13a in the movable liquid developing unit set 14. First, the electrodeposition unit 13a is brought close to the photoreceptor surface 11 and fixed so that the distance between the electrodeposition unit 13a and the developing electrode is 1 mm. The dispersion liquid 12a is supplied into this gap and rotated while applying a voltage from an external power source (not shown) so that the resin particles (AL) are electrodeposited on the entire surface of the image forming area on the surface 11 of the photoconductor. The squeeze device built in the electrodeposition unit 13a removes the dispersion liquid 12a adhering to the surface 11 of the photoconductor, and then passes it under the intake / exhaust unit 15 for drying, and the thermoplastic resin particles (A
L) is heat-melted to obtain a first transfer layer 12T 1 of thermoplastic resin which is formed into a film.

【0262】熱可塑性樹脂からなる第1転写層12T1
が形成された感光体11は、次いで熱溶融塗布法、電着
塗布法、転写法のいずれかの方法により第2転写層12
2を形成する。電着塗布法で熱可塑性樹脂粒子(A
2L)の分散液12bを用いる場合には、図2に示すよ
うに、第2転写層用電着ユニット13bを液体現像ユニ
ットセット14内に設けて、第1転写層12T1の形成
と同様にして行なうことができる。その後必要に応じて
図示していない吸排気ユニット15に類似の冷却装置に
て感光体外側からか又は感光体ドラム内部から所定の温
度まで冷却する。
First transfer layer 12T 1 made of thermoplastic resin
The photoreceptor 11 on which is formed is then subjected to the second transfer layer 12 by any one of a hot melt coating method, an electrodeposition coating method and a transfer method.
Form T 2 . Thermoplastic resin particles (A
2 L) of the dispersion liquid 12b is used, as shown in FIG. 2, the second transfer layer electrodeposition unit 13b is provided in the liquid developing unit set 14, and the same process as the formation of the first transfer layer 12T 1 is performed. You can Thereafter, if necessary, a cooling device (not shown) similar to the intake / exhaust unit 15 is used to cool the photosensitive member from the outside or the inside of the photosensitive drum to a predetermined temperature.

【0263】熱可塑性樹脂からなる第1転写層及び第2
転写層が形成された感光体は次いで電子写真プロセスに
入る。感光体11はコロナ帯電装置18で、例えばプラ
スに一様帯電された後、露光装置19、例えば半導体レ
ーザーで画像情報に基づき画像露光されると、露光部の
電位が低減され、未露光部との間に電位コントラストが
得られる。プラスの静電荷を有する粒子が電気絶縁性分
散媒中に分散している液体現像剤を含む液体現像ユニッ
ト14Lを感光体表面11に接近させギャップを1mmに
して固定する。
First transfer layer and second layer made of thermoplastic resin
The photoconductor on which the transfer layer is formed then enters an electrophotographic process. When the photoconductor 11 is uniformly charged positively, for example, by the corona charging device 18, and then imagewise exposed by the exposure device 19, for example, a semiconductor laser based on image information, the potential of the exposed portion is reduced and the unexposed portion is exposed. A potential contrast is obtained during the period. A liquid developing unit 14L containing a liquid developer in which particles having a positive electrostatic charge are dispersed in an electrically insulating dispersion medium is brought close to the photoreceptor surface 11 and fixed with a gap of 1 mm.

【0264】まず感光体11は液体現像ユニットに具備
されたプレバス手段によりプレバスされ、次いで図には
示されていないバイアス電源及び電気結線により感光体
と現像電極の間に現像バイアス電圧を印加しながら液体
現像剤を感光体表面に供給する。この時のバイアス電圧
は現像電極側を正に、感光体側を負になるように接続
し、印加電圧は未露光部の表面電位よりもやや低くす
る。印加電圧が低すぎると充分なトナー画像濃度が得ら
れない。
First, the photosensitive member 11 is pre-bused by the pre-bus means provided in the liquid developing unit, and then a developing bias voltage is applied between the photosensitive member and the developing electrode by a bias power source and electric connection not shown. A liquid developer is supplied to the surface of the photoconductor. At this time, the bias voltage is connected so that the developing electrode side is positive and the photoconductor side is negative, and the applied voltage is slightly lower than the surface potential of the unexposed portion. If the applied voltage is too low, a sufficient toner image density cannot be obtained.

【0265】その後現像ユニットセット14に内蔵して
あるリンス手段により感光体表面に付着した現像液を洗
い落とし、続いてスクイズ手段により感光体表面に付着
したリンス液を除いてから、吸排気ユニット15下を通
過させることにより乾燥させる。この間熱転写手段17
は感光体表面より離して置く。プレバス液及びリンス液
には通常液体現像液のキャリヤー液体を用いる。
After that, the developing solution attached to the surface of the photoconductor is washed off by the rinsing means built in the developing unit set 14, and subsequently the rinsing solution adhering to the surface of the photoconductor is removed by the squeeze means. To dry. During this time, the thermal transfer means 17
Is placed away from the surface of the photoconductor. A carrier liquid of a liquid developer is usually used as the prebath liquid and the rinse liquid.

【0266】トナー画像3を感光体11の転写層12
(12T1及び12T2)上に形成した後、転写手段17
により被転写材16へ熱転写する。即ち、トナー画像3
を保持する転写層12は、熱転写のための予熱手段17
aにより所定の予熱をし、ついで被転写材16を介し
て、転写用バックアップローラー17bとして温度制御
手段を有した発熱体を内蔵するゴムで被覆した金属ロー
ラーを圧接し、さらに剥離用バックアップローラー17
cとして冷却ローラー下を通過させて冷却して感光体1
1上のトナー画像3を転写層12ごと被転写材16へ熱
転写し一連の印刷原版作成工程を終了する。
The toner image 3 is transferred onto the transfer layer 12 of the photoconductor 11.
After forming on (12T 1 and 12T 2 ), transfer means 17
Is thermally transferred to the transfer material 16. That is, toner image 3
The transfer layer 12 holding the pre-heating means 17 for thermal transfer.
A predetermined preheating is carried out by a, and then a metal roller coated with a rubber containing a heating element having a temperature control means is pressed as a transfer backup roller 17b through the transfer target material 16, and further, a peeling backup roller 17
As c, the photoconductor 1 is cooled by passing under a cooling roller.
The toner image 3 on 1 is transferred together with the transfer layer 12 to the transfer material 16, and a series of printing original plate forming steps is completed.

【0267】予熱手段17aは非接触の例えば赤外線ラ
インヒーター又はフラッシュヒーター等を用い、加熱ロ
ーラー17bによって得られる感光層表面温度以上にな
らない範囲で予備加熱する。加熱ローラー17bによる
感光層の加熱表面温度は好ましくは30〜150℃、よ
り好ましくは40〜120℃である。
As the preheating means 17a, a non-contact type infrared line heater or flash heater is used, and preheating is performed within a range not exceeding the surface temperature of the photosensitive layer obtained by the heating roller 17b. The surface temperature of the photosensitive layer heated by the heating roller 17b is preferably 30 to 150 ° C, more preferably 40 to 120 ° C.

【0268】冷却ローラー17cの材質は例えばアルミ
ニウム、銅等の熱良導体金属にシリコーンゴム被覆を施
し、ローラー内部もしくは被転写材に接しない外周部に
冷却手段を用いて放熱する事が望ましい。冷却手段はク
ーリングファン、冷媒循環又は電子冷却素子などを用
い、温度コントローラーと組合せて所定の温度範囲に保
つことが好ましい。
As the material of the cooling roller 17c, it is desirable that a heat conductive metal such as aluminum or copper is coated with silicone rubber, and heat is radiated to the inside of the roller or the outer peripheral portion not in contact with the material to be transferred by using a cooling means. It is preferable to use a cooling fan, a cooling medium circulation device, an electronic cooling element, or the like as the cooling means, and to keep it in a predetermined temperature range in combination with a temperature controller.

【0269】これらローラーのニップ圧力は0.2〜2
0kgf/cm2、より好ましくは0.5〜10kgf/cm2であ
り、図には示していないがローラー加圧手段としてはロ
ーラー軸の両端にスプリングもしくは圧縮空気を用いる
エアーシリンダーを使うことができる。搬送スピードは
好ましくは10mm/秒以上、より好ましくは50mm/秒
以上であり、電子写真工程と熱転写工程で異なっていて
もよい。
The nip pressure of these rollers is 0.2 to 2
0 kgf / cm 2, more preferably 0.5~10kgf / cm 2, as the have not but roller pressing means shown in Figure can be used an air cylinder using a spring or compressed air to both ends of the roller shaft . The conveying speed is preferably 10 mm / sec or more, more preferably 50 mm / sec or more, and may be different in the electrophotographic process and the thermal transfer process.

【0270】以上の条件設定は、使用している感光体、
転写層、さらに被転写材の物性により最適化することは
当然である。特に熱転写工程における予熱、ローラー加
熱、冷却条件は転写層のガラス転移点、軟化温度、流動
性、粘着性、皮膜性、膜厚などの要因を加味して決定す
ることが重要である。即ち予熱手段である程度軟化した
転写層が加熱ローラー下を通過することにより粘着性が
増し被転写材に密着する。次いで冷却ローラー下を通過
した後では、温度が下がり、流動性や粘着性が低減して
皮膜のままトナーごと感光層表面から剥離するように条
件を設定すべきである。また、転写層12を形成した状
態で装置を停止することにより、次の装置稼働時にはす
ぐ電子写真プロセスからスタートでき、感光層表面を保
護し外的環境からの影響による特性劣化を防止すること
ができる。
The above conditions are set according to the photosensitive member used,
It is natural to optimize the transfer layer and the physical properties of the material to be transferred. In particular, it is important to determine the preheating, roller heating, and cooling conditions in the thermal transfer step in consideration of factors such as the glass transition point of the transfer layer, the softening temperature, the fluidity, the tackiness, the film property, and the film thickness. That is, the transfer layer, which has been softened to some extent by the preheating means, passes under the heating roller to increase the tackiness and adhere to the material to be transferred. Then, after passing under the cooling roller, conditions should be set so that the temperature is lowered, the fluidity and the adhesiveness are reduced, and the toner as a film is peeled off from the surface of the photosensitive layer together with the toner. Further, by stopping the apparatus with the transfer layer 12 formed, the electrophotographic process can be started immediately when the apparatus is next operated, and the photosensitive layer surface can be protected and the characteristic deterioration due to the influence of the external environment can be prevented. it can.

【0271】以上のようにして作成された被転写材上の
転写層は次に化学反応処理により除去されオフセット用
印刷版が得られる。
The transfer layer formed on the transfer-receiving material as described above is then removed by a chemical reaction treatment to obtain an offset printing plate.

【0272】本発明の方法を実施するために好適なもう
1つの装置例を図3に示す。この例では第2転写層は熱
溶融塗布法で形成される。図3において、液体現像ユニ
ットセット14が待機位置まで移動した後、その場所
に、待機位置13wからホットメルトコーター13が移
動される。第2転写層用の熱可塑性樹脂12cはホット
メルトコーター13によりドラム周面の感光体11上の
第1転写層12T1上へ塗布され、吸排気ユニット15
下を通過することにより所定の温度まで冷却されて第2
転写層12T2が形成される。
Another example of a suitable apparatus for carrying out the method of the present invention is shown in FIG. In this example, the second transfer layer is formed by a hot melt coating method. In FIG. 3, after the liquid developing unit set 14 has moved to the standby position, the hot melt coater 13 is moved to that position from the standby position 13w. The thermoplastic resin 12c for the second transfer layer is applied by the hot melt coater 13 onto the first transfer layer 12T 1 on the photoconductor 11 on the peripheral surface of the drum, and the intake / exhaust unit 15
It is cooled down to a specified temperature by passing under the second
The transfer layer 12T 2 is formed.

【0273】更にもう1つの好適な装置例を図4に示
す。第2転写層の形成は転写法に従って行われる。図4
において、第2転写層12T2は感光体11上の第1転
写層12T1上に第2転写層転写装置117により簡便
に形成される。即ち、第2転写層12T2を設けた離型
紙20を加熱ローラー117bで加熱圧着させて第2転
写層12T2を第1転写層12T1の表面へ転写させる。
離型紙20は冷却ローラー117cで冷却されて回収さ
れる。必要に応じて、感光体11自身を予熱手段17a
で加熱して第2転写層12T2の加熱圧着による転写性
を向上させてもよい。
Yet another suitable apparatus example is shown in FIG. The second transfer layer is formed according to the transfer method. FIG.
In the above, the second transfer layer 12T 2 is simply formed on the first transfer layer 12T 1 on the photoconductor 11 by the second transfer layer transfer device 117. That is, the release paper 20 provided with the second transfer layer 12T 2 is heated and pressed by the heating roller 117b to transfer the second transfer layer 12T 2 to the surface of the first transfer layer 12T 1 .
The release paper 20 is cooled by the cooling roller 117c and collected. If necessary, the photoconductor 11 itself is heated by the preheating means 17a.
May be heated to improve the transferability of the second transfer layer 12T 2 by thermocompression bonding.

【0274】第2転写層転写装置117を組み入れる位
置は特に制限されない。可動式として、転写層12T1
及び12T2を被転写材16へ転写するために熱転写手
段17と入れ替えてもよい。あるいはこの装置117を
まず第2転写層12T2形成用に使用し、次に転写層1
2T1及び12T2の被転写材16への転写に用いること
もできる。図3及び図4における他の構成は図2におけ
るものと本質的に同じである。
The position where the second transfer layer transfer device 117 is incorporated is not particularly limited. As a movable type, the transfer layer 12T 1
And 12T 2 may be replaced with the thermal transfer means 17 for transferring 12T 2 to the transfer material 16. Alternatively, this device 117 is first used to form the second transfer layer 12T 2 and then the transfer layer 1
It can also be used for transferring 2T 1 and 12T 2 to the transfer material 16. Other configurations in FIGS. 3 and 4 are essentially the same as those in FIG.

【0275】[0275]

【実施例】以下に実施例を示し、更に詳しく本発明を説
明するが、これによって本発明が限定を受けるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the invention.

【0276】〔転写層用樹脂粒子の製造例〕 転写層用樹脂粒子(AL)の製造例1:(AL−1) 下記構造の分散安定用樹脂(Q−1)20g、メチルメ
タクリレート30g、メチルアクリレート55g、アク
リル酸15g、3−メルカプトプロピオン酸メチル1.
3g及びアイソパーH542gの混合溶液を窒素気流下
攪拌しながら温度60℃に加温した。重合開始剤として
2,2′−アゾビス(イソバレロニトリル)(略称A.I.V.
N.)0.8gを加え、2時間反応した。開始剤を添加し
て20分後に白濁を生じ、反応温度は88℃まで上昇し
た。開始剤を0.5g加え、2時間反応した後、更に開
始剤0.3gを加え、3時間反応した。冷却後、200
メッシュのナイロン布を通し得られた白色分散物は重合
率99%で平均粒径0.18μmの単分散性のラテック
スであった。粒径はCAPA−500(堀場製作所
(株)製)で測定した(以下同様)。
[Production Example of Transfer Layer Resin Particles] Production Example of Transfer Layer Resin Particles (AL) 1: (AL-1) 20 g of a dispersion stabilizing resin (Q-1) having the following structure, 30 g of methyl methacrylate, and methyl. Acrylate 55 g, acrylic acid 15 g, methyl 3-mercaptopropionate 1.
A mixed solution of 3 g and Isopar H542 g was heated to a temperature of 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. 2,2'-azobis (isovaleronitrile) as a polymerization initiator (abbreviation AIV
N.) 0.8 g was added and reacted for 2 hours. Twenty minutes after the addition of the initiator, white turbidity occurred and the reaction temperature rose to 88 ° C. After adding 0.5 g of the initiator and reacting for 2 hours, 0.3 g of the initiator was further added and reacted for 3 hours. 200 after cooling
The white dispersion obtained by passing through a mesh nylon cloth was a monodisperse latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.18 μm. The particle size was measured by CAPA-500 (manufactured by Horiba, Ltd.) (the same applies hereinafter).

【0277】[0277]

【化36】 Embedded image

【0278】上記樹脂粒子分散物(即ちシード粒子)全
量及び分散安定用樹脂(Q−1)10gの混合溶液を窒
素気流下攪拌しながら温度60℃に加温した。これに、
ベンジルメタクリレート85g、アクリル酸15g、3
−メルカプトプロピオン酸1.0g、A.I.V.N. 0.8
g及びアイソパーH200gの混合物を2時間で滴下
し、そのまま更に2時間反応した。次に、開始剤を0.
8g加え、温度70℃にして2時間反応し、更に開始剤
を0.6g加え3時間反応した。冷却後、200メッシ
ュナイロン布を通し、得られた白色分散物の重合率は9
8%で平均粒径0.25μmの単分散性良好なラテック
スであった。
A mixed solution of the entire amount of the above resin particle dispersion (that is, seed particles) and 10 g of the dispersion stabilizing resin (Q-1) was heated to a temperature of 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. to this,
Benzyl methacrylate 85g, acrylic acid 15g, 3
-Mercaptopropionic acid 1.0 g, AIVN 0.8
g and 200 g of Isopar H were added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for another 2 hours. Next, the initiator was added to 0.
8 g was added and the temperature was raised to 70 ° C. to react for 2 hours, and 0.6 g of an initiator was further added and reacted for 3 hours. After cooling, a 200 mesh nylon cloth was passed through, and the polymerization rate of the obtained white dispersion was 9
The latex was 8% and had an average particle size of 0.25 μm and good monodispersity.

【0279】次に、得られた樹脂粒子が単独の粒子とし
て形成されたか否かを走査型電子顕微鏡(SEM)を用
いてその状態を観察することで調べた。PETフィルム
上に樹脂粒子が分散した状態になる様に作製したフィル
ムを、温度50℃及び80℃に5分間加熱処理した後、
各サンプルをJSL−T330型 Scanning Microscope
(JEOL社製)を用いて、2万倍で観察した所、温度
50℃のサンプルは粒子状態が観察されたが、温度80
℃では観察されなかった。即ち、粒子が加熱により融解
していた。
Next, whether or not the obtained resin particles were formed as individual particles was examined by observing the state using a scanning electron microscope (SEM). After heat-treating the film produced so that the resin particles are dispersed on the PET film at a temperature of 50 ° C. and 80 ° C. for 5 minutes,
JSL-T330 Scanning Microscope for each sample
When observed at 20,000 times using (manufactured by JEOL), a particle state was observed in the sample at a temperature of 50 ° C., but a temperature of 80
Not observed at ° C. That is, the particles were melted by heating.

【0280】同様にして、本発明の樹脂粒子(AL−
1)を構成する二種の樹脂(共重合体)の各々からなる
樹脂粒子{それぞれ後述の比較用樹脂粒子(1)及び
(2)}及びこれら二種の樹脂粒子を1/1重量比で混
合した分散樹脂粒子について調べた。樹脂粒子(1)か
ら成るサンプルでは、加熱しないサンプルは粒子状態で
あったが、温度50℃で粒子状態が観察されなかった。
樹脂粒子(2)のサンプルは温度50℃で粒子状態であ
ったが温度80℃で粒子が見えなくなった。更に、混合
粒子からなるサンプルについて、加熱しないサンプルと
温度50℃のサンプルを調べた所、未加熱サンプルと比
べて温度50℃のものは粒子が見えなくなっている所が
確認された。
Similarly, the resin particles of the present invention (AL-
1) Resin particles composed of each of two kinds of resins (copolymers) constituting {1) (Comparative resin particles (1) and (2) described below respectively) and these two kinds of resin particles in a 1/1 weight ratio. The mixed dispersed resin particles were investigated. In the sample composed of the resin particles (1), the sample not heated was in a particle state, but the particle state was not observed at the temperature of 50 ° C.
The resin particle (2) sample was in a particle state at a temperature of 50 ° C., but no particles were visible at a temperature of 80 ° C. Further, when a sample made up of mixed particles and a sample not heated and a temperature of 50 ° C. were examined, it was confirmed that particles were not visible in the sample having a temperature of 50 ° C. as compared with the unheated sample.

【0281】以上の様に、粒子の熱挙動を目視観察した
結果、上記の様にして製造した本発明の樹脂粒子(AL
−1)は、二種類の樹脂粒子の混合されたものでなく、
一つの粒子中に二種の樹脂が含有されており、この場合
には高Tgの樹脂が外層に低Tgの樹脂が内層に各々分
配したコアーシェル粒子であることが確認された。
As described above, as a result of visual observation of the thermal behavior of the particles, the resin particles (AL of the present invention produced as described above (AL
-1) is not a mixture of two types of resin particles,
Two kinds of resins were contained in one particle, and in this case, it was confirmed that the resin having a high Tg was a core-shell particle in which the resin having a low Tg was distributed in the inner layer.

【0282】比較用樹脂粒子(1)の製造 分散安定用樹脂(Q−1)10g、メチルメタクリレー
ト15g、メチルアクリレート27.5g、アクリル酸
7.5g、3−メルカプトプロピオン酸メチル0.65
g及びアイソパーH329gの混合溶液を窒素気流下攪
拌しながら温度60℃に加温した。重合開始剤として、
A.I.V.N. 0.4gを加え2時間反応した。開始剤を添
加して20分後に白濁を生じ、反応温度は88℃まで上
昇した。開始剤を0.2g加え、2時間反応した後、更
に開始剤0.3gを加え、3時間反応した。冷却後20
0メッシュのナイロン布を通し、得られた白色分散物は
重合率99%で平均粒径0.25μmの単分散性のラテ
ックスであった。上記分散物の一部を遠心沈降機を用い
て粒子分を沈降させた後、沈降成分を取り出し、減圧乾
燥で乾燥させた。得られた樹脂分のガラス転移点を測定
したところ、38℃であった。
Production of Comparative Resin Particles (1) 10 g of dispersion stabilizing resin (Q-1), 15 g of methyl methacrylate, 27.5 g of methyl acrylate, 7.5 g of acrylic acid, 0.65 of methyl 3-mercaptopropionate.
A mixed solution of g and Isopar H329 g was heated to a temperature of 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. As a polymerization initiator,
AIVN 0.4g was added and reacted for 2 hours. Twenty minutes after the addition of the initiator, white turbidity occurred and the reaction temperature rose to 88 ° C. After adding 0.2 g of the initiator and reacting for 2 hours, 0.3 g of the initiator was further added and reacted for 3 hours. 20 after cooling
The white dispersion obtained through a 0-mesh nylon cloth was a monodisperse latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.25 μm. A part of the above-mentioned dispersion was allowed to settle with a centrifugal settling machine, and then the settled component was taken out and dried by vacuum drying. The glass transition point of the obtained resin component was measured and found to be 38 ° C.

【0283】比較用樹脂粒子(2)の製造 分散安定用樹脂(Q−1)10g、ベンジルメタクリレ
ート42.5g、アクリル酸7.5g、3−メルカプト
プロピオン酸0.5g及びアイソパーH326gの混合
溶液を、比較用樹脂粒子(1)の製造と同様の方法に従
って反応し、樹脂粒子を合成した。得られた白色分散物
は重合率98%で平均粒径0.24μmの単分散性のラ
テックスであった。また、樹脂分のガラス転移点は65
℃であった。
Preparation of Comparative Resin Particles (2) 10 g of the dispersion stabilizing resin (Q-1), 42.5 g of benzyl methacrylate, 7.5 g of acrylic acid, 0.5 g of 3-mercaptopropionic acid and 326 g of Isopar H were mixed. The resin particles were synthesized by reacting in the same manner as in the production of the comparative resin particles (1). The obtained white dispersion was a monodisperse latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.24 μm. Further, the glass transition point of the resin component is 65
° C.

【0284】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例2:
(AL−2) 分散安定用樹脂(Q−2)の合成 ドデシルメタクリレート99.5g、ジビニルベンゼン
0.5g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下
攪拌しながら温度80℃に加温した。2,2′−アゾビ
ス(イソブチロニトリル)(略称A.I.B.N.)2gを加え、
3時間反応し、更に A.I.B.N. 0.5gを加えて4時間
反応した。得られた重合体の固形分は33.3%(重
量)で、Mw4×104であった。
Production Example 2 of Resin Particles (AL) for Transfer Layer:
(AL-2) Synthesis of dispersion stabilizing resin (Q-2) A mixed solution of 99.5 g of dodecyl methacrylate, 0.5 g of divinylbenzene and 200 g of toluene was heated to 80 ° C while stirring under a nitrogen stream. Add 2 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (abbreviation AIBN),
After reacting for 3 hours, 0.5 g of AIBN was further added and reacted for 4 hours. The solid content of the obtained polymer was 33.3% (by weight), and the Mw was 4 × 10 4 .

【0285】粒子の合成 上記分散安定用樹脂(Q−2)18g(固形分量とし
て)、酢酸ビニル72g、クロトン酸8g、プロピオン
酸ビニル20g及びアイソパーH382gの混合溶液
を、窒素気流下攪拌しながら温度80℃に加温した。
A.I.V.N. 1.6gを加え1.5時間反応し、 A.I.V.N.
0.8gを加え2時間、更に A.I.V.N. 0.5gを加
え3時間反応した。次に、温度を100℃に上げ2時間
攪拌し、未反応のモノマーを留去した後、冷却して20
0メッシュのナイロン布を通し、白色分散物を重合率8
7%で得た。平均粒径0.17μmの単分散ラテックス
であった。
Synthesis of Particles A mixed solution of 18 g (as solid content) of the above resin (Q-2) for stabilizing dispersion, 72 g of vinyl acetate, 8 g of crotonic acid, 20 g of vinyl propionate and 382 g of Isopar H was stirred at a temperature of nitrogen while flowing. Warmed to 80 ° C.
Add AIVN 1.6g and react for 1.5 hours.
0.8 g was added for 2 hours, and AIVN 0.5 g was added for 3 hours. Next, the temperature was raised to 100 ° C. and the mixture was stirred for 2 hours to distill off unreacted monomers, and then cooled to 20
Polymerization rate of the white dispersion was 8 through a 0 mesh nylon cloth.
Obtained at 7%. It was a monodisperse latex having an average particle size of 0.17 μm.

【0286】上記樹脂粒子分散物(即ちシード粒子)全
量及び分散安定用樹脂(Q−2)20gの混合溶液を窒
素気流下攪拌しながら、温度60℃に加温した。これ
に、メチルメタクリレート50g、2−ブトキシエチル
メタクリレート35g、アクリル酸15g3−メルカプ
トプロピオン酸メチル2.6g、 A.I.V.N. 0.8g及
びアイソパーH200gの混合物を2時間で滴下し、そ
のまま1時間反応した。次に開始剤を0.8g加え、温
度75℃にして2時間反応し、更に開始剤を0.6g加
え3時間反応した。冷却後、200メッシュのナイロン
布を通し、得られた白色分散物は、重合率98%で平均
粒径0.23μmの単分散性良好なラテックスであっ
た。
A mixed solution of the entire amount of the resin particle dispersion (that is, seed particles) and 20 g of the dispersion stabilizing resin (Q-2) was heated to a temperature of 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, a mixture of 50 g of methyl methacrylate, 35 g of 2-butoxyethyl methacrylate, 15 g of acrylic acid, 2.6 g of methyl 3-mercaptopropionate, 0.8 g of AIVN and 200 g of Isopar H was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for 1 hour. Next, 0.8 g of an initiator was added, the temperature was raised to 75 ° C., and the reaction was performed for 2 hours. Further, 0.6 g of the initiator was added, and the reaction was performed for 3 hours. After cooling, a 200 mesh nylon cloth was passed through to obtain a white dispersion, which was a latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.23 μm and good monodispersity.

【0287】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例3:
(AL−3) 下記構造の分散安定用樹脂(Q−3)25g及びアイソ
パーH546gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら
温度60℃とした。この溶液に、ベンジルメタクリレー
ト50g、アクリル酸8g、下記構造の単量体(b−
1)42g、2−メルカプトエタノール1.8g、 A.
I.V.N. 1.0g及びアイソパーH200gの混合溶液
を1時間で滴下し、そのまま1時間反応した。次に A.
I.V.N. 0.8gを加えて2時間反応後、 A.I.V.N.
0.5gを加えて温度80℃にて2時間反応し、更に
A.I.B.N. 0.5gを加え3時間反応した。冷却後、2
00メッシュのナイロン布を通して得られた白色分散物
は、重合率98%で平均粒径0.17μmの単分散性良
好なラテックスであった。
Production Example 3 of Transfer Layer Resin Particles (AL):
(AL-3) A mixed solution of 25 g of a dispersion stabilizing resin (Q-3) having the following structure and Isopar H546 g was heated to 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 50 g of benzyl methacrylate, 8 g of acrylic acid, and a monomer (b-
1) 42 g, 2-mercaptoethanol 1.8 g, A.
A mixed solution of 1.0 g of IVN and 200 g of Isopar H was added dropwise over 1 hour, and the reaction was continued for 1 hour. Then A.
IVN 0.8g was added and reacted for 2 hours, then AIVN
0.5g was added and reacted at a temperature of 80 ° C for 2 hours.
AIBN 0.5g was added and reacted for 3 hours. After cooling, 2
The white dispersion obtained through a 00 mesh nylon cloth was a latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.17 μm and good monodispersity.

【0288】[0288]

【化37】 Embedded image

【0289】上記分散物に、分散安定用樹脂粒子(Q−
3)15gを加えた混合溶液を窒素気流下に攪拌しなが
ら、温度60℃とした。これに、メチルメタクリレート
52g、メチルアクリレート35g、アクリル酸13
g、3−メルカプトプロピオン酸2g、 A.I.V.N. 0.
8g及びアイソパーH564gの混合物を2時間滴下
し、そのまま更に2時間反応した。次に、開始剤として
A.I.B.N. 0.8gを加え、温度80℃にして2時間反
応し、更に開始剤を0.6g加え3時間反応した。冷却
後、200メッシュのナイロン布を通し、得られた白色
分散物は、重合率98%で平均粒径0.24μmの単分
散性良好なラテックスであった。
Dispersion-stabilizing resin particles (Q-
3) The temperature was set to 60 ° C while stirring the mixed solution containing 15 g under a nitrogen stream. To this, 52 g of methyl methacrylate, 35 g of methyl acrylate, 13 acrylic acid
g, 3-mercaptopropionic acid 2 g, AIVN 0.
A mixture of 8 g and Isopar H564 g was added dropwise for 2 hours, and the reaction was continued for another 2 hours. Then as an initiator
AIBN 0.8 g was added, the temperature was raised to 80 ° C., and the reaction was performed for 2 hours. Further, 0.6 g of an initiator was added, and the reaction was performed for 3 hours. After cooling, a 200-mesh nylon cloth was passed through, and the obtained white dispersion was a latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.24 μm and good monodispersity.

【0290】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例4:
(AL−4) 下記構造の分散安定用樹脂粒子(Q−4)25g、アイ
ソパーH300g及び酢酸エチル100gの混合溶液を
窒素気流下に攪拌しながら温度60℃とした。この溶液
中に2−ヒドロキシエチルメタクリレート8g、フェネ
チルメタクリレート65g、下記構造の単量体(b−
2)27g、チオグリコール酸1.5g、A.I.V.N.
0.6g及びアイソパーH199.5g及び酢酸エチル
66.5gの混合物を1時間で滴下した。そのまま1時
間反応し後、 A.I.V.N. 0.3gを加えて2時間、更に
A.I.V.N. 0.3gを加えて3時間反応した。次に、減
圧度30mmHgで酢酸エチルを留去し、留去した分量と同
量のアイソパーHを加えた後、冷却し、200メッシュ
のナイロン布で濾過して白色分散物を得た。重合率93
%、平均粒径0.20μmの単分散ラテックスであっ
た。
Production Example 4 of Resin Particles (AL) for Transfer Layer:
(AL-4) A mixed solution of 25 g of dispersion-stabilizing resin particles (Q-4) having the following structure, 300 g of Isopar H, and 100 g of ethyl acetate was stirred at a temperature of 60 ° C. under a nitrogen stream. In this solution, 8 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 65 g of phenethyl methacrylate, a monomer of the following structure (b-
2) 27 g, thioglycolic acid 1.5 g, AIVN
A mixture of 0.6 g, Isopar H (199.5 g) and ethyl acetate (66.5 g) was added dropwise over 1 hour. After reacting for 1 hour, AIVN 0.3g was added for 2 hours, then
AIVN 0.3g was added and it reacted for 3 hours. Next, ethyl acetate was distilled off under a reduced pressure of 30 mmHg, and the same amount of distilled off Isopar H was added, followed by cooling and filtering with a 200-mesh nylon cloth to obtain a white dispersion. Polymerization rate 93
%, And the average particle size was 0.20 μm.

【0291】[0291]

【化38】 [Chemical 38]

【0292】上記樹脂粒子分散物(即ちシード粒子)3
72g及び分散安定用樹脂(Q−1)16gの混合溶液
を窒素気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。これ
に、酢酸ビニル70g、下記構造の単量体(b−3)2
5g、クロトン酸5g、アイソパーH400g及び A.
I.V.N. 0.9gの混合物を2時間で滴下し、そのまま
更に2時間反応した。開始剤を0.8g加え、温度85
℃にして2時間反応し、更に開始剤として A.I.B.N.
0.6gを加え3時間反応した。冷却後、200メッシ
ュナイロン布を通し、得られた白色分散物の重合率は9
8%で平均粒径0.26μmの単分散性良好なラテック
スであった。
The above resin particle dispersion (that is, seed particles) 3
A mixed solution of 72 g and 16 g of the dispersion stabilizing resin (Q-1) was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this, 70 g of vinyl acetate and the monomer (b-3) 2 having the following structure
5 g, crotonic acid 5 g, Isopar H 400 g and A.
A mixture of 0.9 g of IVN was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for another 2 hours. Add 0.8g of initiator, temperature 85
React for 2 hours at ℃, then AIBN as an initiator
0.6 g was added and reacted for 3 hours. After cooling, a 200 mesh nylon cloth was passed through, and the polymerization rate of the obtained white dispersion was 9
The latex was 8% and had an average particle size of 0.26 μm and good monodispersity.

【0293】[0293]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0294】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例5〜1
1:(AL−5)〜(AL−11) 転写層用樹脂粒子(AL)の製造例1において、下記表
−Bに記載の各単量体を用いた他は、上記製造例1と全
く同様に操作して樹脂粒子(AL−5)〜(AL−11)
を製造した。得られた各ラテックス粒子の重合率は95
〜99%であり、平均粒径は0.20〜0.30μmの
範囲で各々単分散性は良好であった。
Production Examples 5-1 of Resin Particles (AL) for Transfer Layer
1: (AL-5) to (AL-11) In Production Example 1 of resin particles for transfer layer (AL), except that each monomer shown in the following Table-B was used, the above Production Example 1 was used at all. Perform the same operation to make resin particles (AL-5) to (AL-11).
Was manufactured. The degree of polymerization of each latex particle obtained was 95.
.About.99%, and the average particle size was in the range of 0.20 to 0.30 .mu.m.

【0295】[0295]

【表2】 [Table 2]

【0296】[0296]

【表3】 [Table 3]

【0297】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例12〜2
1:(AL−12)〜(AL−21) 転写層用樹脂粒子(AL)の製造例3において、単量体
(b−1)の代わりに、下記表−Cに記載の各単量体を
用いた他は、上記製造例3と全く同様に操作して本発明
の粒子(AL−12)〜(AL−21)を製造した。得られ
た各ラテックス粒子の重合率は95〜99%であり、平
均粒径は0.18〜0.28μmの範囲で各々単分散性
は良好であった。
Production Examples 12 to 2 of Transfer Layer Resin Particles (AL)
1: (AL-12) to (AL-21) In Production Example 3 of resin particles (AL) for transfer layer, instead of the monomer (b-1), each monomer shown in Table C below. Particles (AL-12) to (AL-21) of the present invention were produced by the same procedure as in Production Example 3 except that the above was used. The degree of polymerization of each latex particle obtained was 95 to 99%, and the average particle diameter was in the range of 0.18 to 0.28 μm.

【0298】[0298]

【表4】 [Table 4]

【0299】[0299]

【表5】 [Table 5]

【0300】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例22:
(AL−22) 分散安定用樹脂(Q−4)15g、メチルメタクリレー
ト48g、2,3−ジプロピオニルオキシプロピルメタ
クリレート40g、アクリル酸12g、3−メルカプト
プロピオン酸メチル2.0g及びアイソパーH549g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加温
した。重合開始剤として A.I.V.N. 0.8を加え、2時
間反応した。開始剤を添加して20分後に白濁を生じ、
反応温度は88℃まで上昇した。開始剤を0.5g加
え、2時間反応した後、更に開始剤0.3gを加え、3
時間反応した。冷却後、200メッシュのナイロン布を
通し、得られた白色分散物は重合率98%で平均粒径
0.18μmの単分散性ラテックスであった。
Production Example 22 of Transfer Layer Resin Particles (AL):
(AL-22) 15 g of dispersion stabilizing resin (Q-4), 48 g of methyl methacrylate, 40 g of 2,3-dipropionyloxypropyl methacrylate, 12 g of acrylic acid, 2.0 g of methyl 3-mercaptopropionate and 549 g of Isopar H.
The mixed solution of 1 was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. AIVN 0.8 was added as a polymerization initiator and reacted for 2 hours. 20 minutes after the addition of the initiator, a cloudiness was formed,
The reaction temperature rose to 88 ° C. After adding 0.5g of initiator and reacting for 2 hours, add 0.3g of initiator and add 3g.
Reacted for hours. After cooling, it was passed through a nylon cloth of 200 mesh, and the obtained white dispersion was a monodisperse latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.18 μm.

【0301】上記樹脂粒子分散物(即ちシード粒子)2
60g及び分散安定用樹脂(Q−1)14g、下記構造
のマクロモノマー(m−1)10g及びアイソパーH5
53gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度55℃
に加温した。これに、ベンジルメタクリレート75g、
アクリル酸10g、単量体(b−11)15g、3−メル
カプトプロピオン酸2g、2,2′−アゾビス(2−シ
クロプロピルプロピオニトリル)(略称:A.C.P.P.)1.
0g及びアイソパーH200gの混合溶液を1時間で滴
下した。そのまま1時間攪拌後、 A.C.P.P. 0.8gを
加え2時間反応した。更に A.I.B.N. 0.5gを加え、
温度を80℃に設定し、3時間反応した。冷却後、20
0メッシュナイロン布を通し得られた白色分散物の重合
率は97%で平均粒径0.24μmの単分散性良好なラ
テックスであった。
The above resin particle dispersion (that is, seed particles) 2
60 g, dispersion stabilizing resin (Q-1) 14 g, macromonomer (m-1) 10 g having the following structure, and Isopar H5
A temperature of 55 ° C. while stirring 53 g of the mixed solution under a nitrogen stream.
Warmed to. To this, 75 g of benzyl methacrylate,
Acrylic acid 10 g, monomer (b-11) 15 g, 3-mercaptopropionic acid 2 g, 2,2'-azobis (2-cyclopropylpropionitrile) (abbreviation: ACPP)
A mixed solution of 0 g and 200 g of Isopar H was added dropwise for 1 hour. After stirring for 1 hour as it was, 0.8 g of ACPP was added and reacted for 2 hours. Then add 0.5 g of AIBN,
The temperature was set to 80 ° C. and the reaction was performed for 3 hours. 20 after cooling
The white dispersion obtained through a 0 mesh nylon cloth had a polymerization rate of 97% and was a latex having an average particle size of 0.24 μm and good monodispersity.

【0302】[0302]

【化40】 [Chemical 40]

【0303】転写層用樹脂粒子(AL)の製造例23〜2
8:(AL−23)〜(AL−28) 樹脂粒子(AL)の製造例22において、マクロモノマー
(m−1)10gの代わりに下記表−Dの各マクロモノ
マー(Mwは8×103〜1×104の範囲)を用いた他
は上記製造例22と同様にして各樹脂粒子を合成した。各
粒子の重合率は98〜99%で、それらの粒子の平均粒
径は0.20〜0.25μmの範囲内で、粒子の粒度分
布も狭く、単分散性が良好であった。
Production Examples 23-2 of Resin Particles (AL) for Transfer Layer
8: (AL-23) to (AL-28) In Production Example 22 of resin particles (AL), instead of 10 g of macromonomer (m-1), each macromonomer (Mw is 8 × 10 3 ) shown in Table D below. Each resin particle was synthesized in the same manner as in Production Example 22 except that the resin particles were used in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 4 . The degree of polymerization of each particle was 98 to 99%, the average particle diameter of the particles was in the range of 0.20 to 0.25 μm, the particle size distribution of the particles was narrow, and the monodispersibility was good.

【0304】[0304]

【表6】 [Table 6]

【0305】[0305]

【表7】 [Table 7]

【0306】熱可塑性樹脂粒子(AL)の製造例29:
(AL−29) 下記構造の樹脂(A−1)20g及び下記構造の樹脂
(A−2)30gをテトラヒドロフラン100gを用い
て温度40℃で加熱溶解した後、溶媒を留去し、減圧乾
燥した。次にこの固形物を、トリオブレンダー(トリオ
サイエンス(株)製)を用いて粗粉砕した後、この粉砕
物20g、下記構造の分散安定用樹脂(Q−5)5g及
びアイソパーG80gからなる混合物をダイノミルにて
分散した。得られた粒子分散物は、平均粒径0.45μ
mのラテックスであった。
Production Example 29 of thermoplastic resin particles (AL):
(AL-29) 20 g of the resin (A-1) having the structure shown below and 30 g of the resin (A-2) having the structure shown below were dissolved by heating with 100 g of tetrahydrofuran at a temperature of 40 ° C., the solvent was distilled off, and the residue was dried under reduced pressure. . Next, after roughly pulverizing this solid substance using a trio blender (manufactured by Trio Science Co., Ltd.), a mixture consisting of 20 g of this pulverized substance, 5 g of a dispersion stabilizing resin (Q-5) having the following structure and 80 g of Isopar G is used. It was dispersed with a dyno mill. The obtained particle dispersion has an average particle size of 0.45μ.
m latex.

【0307】[0307]

【化41】 Embedded image

【0308】熱可塑性樹脂粒子(A2L)の合成例1:
(A2L−1) 分散安定用樹脂(Q−4)10g、下記構造のマクロモ
ノマー(m−10)20g及びアイソパーH560gの混
合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度65℃に加温し
た。これにメチルメタクリレート28g、3−エトキシ
プロピルメタクリレート40g、アクリル酸12g、3
−メルカプトプロピオン酸2.6g、A.I.V.N. 0.8
g及びアイソパーH200gの混合溶液を1時間で滴下
した。そのまま1時間攪拌後、 A.I.V.N. 0.8gを加
え2時間反応した。更に、 A.I.B.N. 0.5gを加え、
温度を80℃に設定し、3時間反応した。冷却後、20
0メッシュのナイロン布を通し得られた白色分散物は重
合率97%で、平均粒径0.20μmの単分散性ラテッ
クスであった。また、樹脂粒子分のMwは9×103
ガラス転移点は20℃であった。
Synthesis Example 1 of Thermoplastic Resin Particles (A 2 L) 1:
(A 2 L-1) A mixed solution of 10 g of the dispersion stabilizing resin (Q-4), 20 g of the macromonomer (m-10) having the following structure and 560 g of Isopar H was heated to a temperature of 65 ° C while stirring under a nitrogen stream. Methyl methacrylate 28g, 3-ethoxypropyl methacrylate 40g, acrylic acid 12g, 3
-2.6 g mercaptopropionic acid, AIVN 0.8
and a mixed solution of 200 g of Isopar H were added dropwise over 1 hour. After stirring for 1 hour as it was, 0.8 g of AIVN was added and reacted for 2 hours. Furthermore, add 0.5 g of AIBN,
The temperature was set to 80 ° C. and the reaction was performed for 3 hours. 20 after cooling
The white dispersion obtained by passing through a 0 mesh nylon cloth was a monodisperse latex having a polymerization rate of 97% and an average particle size of 0.20 μm. Further, the Mw of the resin particles is 9 × 10 3 ,
The glass transition point was 20 ° C.

【0309】[0309]

【化42】 Embedded image

【0310】熱可塑性樹脂粒子(A2L)の合成例2:
(A2L−2) 分散安定用樹脂(Q−1)15g(固形分量として)、
酢酸ビニル67g、プロピオン酸ビニル25g、クロト
ン酸8g及びアイソパーH275gの混合溶液を、窒素
気流下攪拌しながら温度80℃に加温した。 A.I.V.N.
1.6gを加え、1.5時間反応し、A.I.V.N.0.8g
を加え2時間、更にA.I.B.N.0.5gを加え4時間反応
した。次いで、温度を100℃に上げ2時間攪拌し、未
反応のモノマーを留去した後、冷却して200メッシュ
のナイロン布を通し、白色分散物を重合率88%で得
た。平均粒径0.25μmの単分散ラテックスであっ
た。また、樹脂粒子分のMwは5×104、ガラス転移
点は18℃であった。
Synthesis Example 2 of thermoplastic resin particles (A 2 L):
(A 2 L-2) 15 g of dispersion stabilizing resin (Q-1) (as solid content),
A mixed solution of 67 g of vinyl acetate, 25 g of vinyl propionate, 8 g of crotonic acid and 275 g of Isopar H was heated to a temperature of 80 ° C. with stirring under a nitrogen stream. AIVN
Add 1.6g and react for 1.5 hours, AIVN 0.8g
Was added for 2 hours, and AIBN 0.5 g was further added for 4 hours. Then, the temperature was raised to 100 ° C. and the mixture was stirred for 2 hours to distill off unreacted monomers, then cooled and passed through a nylon cloth of 200 mesh to obtain a white dispersion with a polymerization rate of 88%. It was a monodisperse latex having an average particle size of 0.25 μm. The Mw of the resin particles was 5 × 10 4 , and the glass transition point was 18 ° C.

【0311】熱可塑性樹脂粒子(A2L)の合成例3:
(A2L−3) 分散安定用樹脂(Q−4)18g及びアイソパーH56
0gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度55℃に
加温した。これに、ベンジルメタクリレート48g、2
−メトキシエチルメタクリレート40g、アクリル酸1
2g、3−メルカプトプロピオン酸メチル3.2g、
A.I.V.N. 0.8g及びアイソパーH200gの混合溶
液を1時間で滴下した。そのまま1時間攪拌後、 A.I.
V.N. 0.8gを加え2時間反応した。更に、 A.I.B.N.
0.5gを加え、温度を80℃に設定し、3時間反応
した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通し得ら
れた白色分散物は重合率97%で、平均粒径0.20μ
mの単分散性ラテックスであった。また、樹脂粒子分の
Mwは8.5×103、ガラス転移点は18℃であっ
た。
Synthesis Example 3 of thermoplastic resin particles (A 2 L):
(A 2 L-3) 18 g of dispersion stabilizing resin (Q-4) and Isopar H56
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 55 ° C. with stirring under a nitrogen stream. 48g of benzyl methacrylate, 2
-Methoxyethyl methacrylate 40 g, acrylic acid 1
2 g, methyl 3-mercaptopropionate 3.2 g,
A mixed solution of 0.8 g of AIVN and 200 g of Isopar H was added dropwise for 1 hour. After stirring for 1 hour, AI
0.8 g of VN was added and reacted for 2 hours. Furthermore, AIBN
0.5 g was added, the temperature was set to 80 ° C., and the reaction was performed for 3 hours. After cooling, the white dispersion obtained by passing through a 200-mesh nylon cloth had a polymerization rate of 97% and an average particle size of 0.20 μm.
It was a monodisperse latex of m. The Mw of the resin particles was 8.5 × 10 3 , and the glass transition point was 18 ° C.

【0312】熱可塑性樹脂粒子(A2L)の合成例4〜1
5:(A2L−4)〜(A2L−15) 樹脂粒子(A2L)の合成例3において用いた各単量体
の代わりに下記表−Eの各単量体を用いた他は、上記合
成例3と同様に操作して各樹脂粒子を製造した。各粒子
の重合率は93〜99%で、粒子の平均粒径は0.15
〜0.25μmの範囲内で、粒子の粒度分布も狭く、単
分散性が良好であった。樹脂粒子分のMwは8×103
〜1×104の範囲であり、Tgは10℃〜35℃の範
囲であった。
Synthesis Examples 4-1 of Thermoplastic Resin Particles (A 2 L)
5: (A 2 L-4) to (A 2 L-15) Each monomer shown in the following Table-E was used in place of each monomer used in Synthesis Example 3 of resin particles (A 2 L). Others were the same as in Synthesis Example 3 above to produce each resin particle. The polymerization rate of each particle is 93 to 99%, and the average particle diameter of the particles is 0.15.
Within the range of ˜0.25 μm, the particle size distribution of the particles was narrow and the monodispersity was good. Mw of resin particles is 8 × 10 3
˜1 × 10 4 and Tg ranged from 10 ° C. to 35 ° C.

【0313】[0313]

【表8】 [Table 8]

【0314】[0314]

【表9】 [Table 9]

【0315】[0315]

【表10】 [Table 10]

【0316】〔結着樹脂(P)の合成例〕 樹脂(P)の合成例1:(P−1) メチルメタクリレート80g、ジメチルシロキサンのマ
クロモノマー(FM−0725、チッソ(株)製、Mw
1×104)〔マクロモノマー(M−1)〕20g及びト
ルエン200gの混合溶液を、窒素気流下温度75℃に
加温した。これに A.I.B.N. 1.0gを加え4時間反応
し、更に A.I.B.N. 0.7gを加えて4時間反応した。
得られた共重合体のMwは5.8×104であった。
[Synthesis Example of Binder Resin (P)] Synthesis Example 1: Resin (P) 1: (P-1) 80 g of methyl methacrylate, macromonomer of dimethylsiloxane (FM-0725, manufactured by Chisso Corporation, Mw)
A mixed solution of 20 g of 1 × 10 4 ) [macromonomer (M-1)] and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. To this, 1.0 g of AIBN was added and reacted for 4 hours, and 0.7 g of AIBN was further added and reacted for 4 hours.
The Mw of the obtained copolymer was 5.8 × 10 4 .

【0317】[0317]

【化43】 [Chemical 43]

【0318】樹脂(P)の合成例2〜9:(P−2)〜
(P−9) 樹脂(P)の合成例1において、メチルメタクリレート
及びマクロモノマー(M−1)の代わりに、下記表−F
に記載の重合体成分に相当する各単量体を用いた他は、
上記合成例1と同様にして、各重合体を合成した。得ら
れた各重合体のMwは、4.5×104〜6×104の範
囲であった。
Synthesis Examples 2 to 9 of Resin (P): (P-2) to
(P-9) In Synthesis Example 1 of Resin (P), instead of methyl methacrylate and macromonomer (M-1), the following Table-F was used.
Other than using each monomer corresponding to the polymer component described in,
Each polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 above. The Mw of each polymer obtained was in the range of 4.5 × 10 4 to 6 × 10 4 .

【0319】[0319]

【表11】 [Table 11]

【0320】[0320]

【表12】 [Table 12]

【0321】樹脂(P)の合成例10:(P−10) 2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルメタク
リレート60g、メチルメタクリレートのマクロモノマ
ー(AA−6、東亜合成化学(株)製、Mw1×104)
40g、ベンゾトリフルオリド200gの混合溶液を窒
素気流下に温度75℃に加温した。これに A.I.B.N.
1.0gを加え4時間反応し、更に A.I.B.N. 0.5g
を加えて4時間反応した。得られた共重合体のMwは
6.5×10 4であった。
Synthesis Example 10 of Resin (P): (P-10) 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutylmethac
60 g of relate, macromonomer of methyl methacrylate
-(AA-6, manufactured by Toagosei Kagaku Co., Ltd., Mw 1 x 10Four)
A mixed solution of 40 g and benzotrifluoride 200 g is nitrified.
The temperature was raised to 75 ° C. under an elementary air stream. A.I.B.N.
1.0g was added and reacted for 4 hours, 0.5g of A.I.B.N.
Was added and reacted for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer is
6.5 x 10 FourMet.

【0322】[0322]

【化44】 [Chemical 44]

【0323】樹脂(P)の合成例11〜12:(P−11)〜
(P−12) 樹脂(P)の合成例10において用いた単量体及びマクロ
モノマーの代わりに、下記表−Gに記載の重合体成分に
相当する各単量体及び各マクロモノマーを用いた他は、
上記合成例10と同様にして、各共重合体を合成した。得
られた共重合体のMwは4.5×104〜6.5×104
の範囲であった。
Synthesis Examples 11 to 12 of Resin (P): (P-11) to
(P-12) Instead of the monomer and macromonomer used in Synthesis Example 10 of Resin (P), each monomer and each macromonomer corresponding to the polymer components shown in Table G below were used. The other is
Each copolymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 10 above. The Mw of the obtained copolymer was 4.5 × 10 4 to 6.5 × 10 4.
Was in the range.

【0324】[0324]

【表13】 [Table 13]

【0325】樹脂(P)の合成例13:(P−13) メチルメタクリレート67g、メチルアクリレート22
g、メタクリル酸1g及びトルエン200gの混合溶液
を、窒素気流下に温度80℃に加温した。これに下記構
造の高分子アゾビス開始剤(PI−1)10gを加えて
8時間反応した。反応終了後、メタノール1.5リット
ル中に再沈し、得られた沈澱物を補集、乾燥して、収量
75gでMw3×104の共重合体を得た。
Synthesis Example 13 of resin (P): (P-13) methyl methacrylate 67 g, methyl acrylate 22
A mixed solution of g, methacrylic acid 1 g and toluene 200 g was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. To this, 10 g of a polymeric azobis initiator (PI-1) having the following structure was added and reacted for 8 hours. After the reaction was completed, the precipitate was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the obtained precipitate was collected and dried to obtain a copolymer of Mw 3 × 10 4 in a yield of 75 g.

【0326】[0326]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0327】樹脂(P)の合成例14:(P−14) エチルメタクリレート50g、グリシジルメタクリレー
ト10g及びベンジルN,N−ジエチルジチオカーバメ
ート4.8gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、
温度50℃に加温した。これに、400Wの高圧水銀灯
で10cmの距離からガラスフィルターを通して、6時間
光照射し光重合した。これをテトラヒドロフラン100
gに溶解し、更に、下記単量体(M−1)40gを加え
た後、窒素置換し再び10時間光照射した。得られた反
応物をメタノール1リットルに再沈し、捕集、乾燥し
た。得られた重合体は、収量73gでMw4.8×10
4 であった。
Synthesis Example 14 of Resin (P): (P-14) A mixture of 50 g of ethyl methacrylate, 10 g of glycidyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate was sealed in a container under a nitrogen stream,
The temperature was raised to 50 ° C. This was irradiated with light from a high pressure mercury lamp of 400 W from a distance of 10 cm through a glass filter for 6 hours for photopolymerization. Tetrahydrofuran 100
After being dissolved in g, 40 g of the following monomer (M-1) was added, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light irradiation was again performed for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, collected and dried. The polymer obtained had a yield of 73 g and a Mw of 4.8 × 10.
Was 4 .

【0328】[0328]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0329】樹脂(P)の合成例15〜18:(P−15)〜
(P−18) 樹脂(P)の合成例14と同様にして、下記表−Hの各共
重合体を合成した。得られた重合体のMwは3.5×1
4〜6×104の範囲であった。
Synthesis Examples 15-18 of Resin (P): (P-15)-
(P-18) In the same manner as in Synthesis Example 14 of Resin (P), each copolymer shown in Table H below was synthesized. The Mw of the obtained polymer is 3.5 × 1.
It was in the range of 0 4 to 6 × 10 4 .

【0330】[0330]

【表14】 [Table 14]

【0331】樹脂(P)の合成例19:(P−19) 樹脂(P)の合成例14において、ベンジル N,N−ジ
エチルジチオカーバメイトの代わりに、下記構造の開始
剤(I−11)18gを用いた他は上記合成例14と同様に
合成し、Mw4.5×104の共重合体を得た。
Synthesis Example 19 of Resin (P): (P-19) In Synthesis Example 14 of Resin (P), 18 g of an initiator (I-11) having the following structure was used instead of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate. Was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 14 except that was used to obtain a copolymer having Mw of 4.5 × 10 4 .

【0332】[0332]

【化47】 [Chemical 47]

【0333】樹脂(P)の合成例20:(P−20) メチルメタクリレート68g、メチルアクリレート22
g、グリシジルメタクリレート10g及び下記構造の開
始剤(I−12)17.5g及びテトラヒドロフラン15
0gの混合溶液を窒素気流下に温度50℃に加温した。
この溶液に400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガ
ラスフィルターを通して10時間光照射し光重合した。
得られた反応物をメタノール1リットル中に再沈し、沈
澱物を補集し乾燥して、収量72gでMw4.0×10
4 の重合体を得た。この重合体70g、単量体(M−
2)30g及びテトラヒドロフラン100gの混合溶液
を、窒素気流下に温度50℃とし、上記と同条件で13
時間光照射した。次にこの反応物をメタノール1.5リ
ットル中に再沈し、沈澱物を捕集、乾燥して収量78g
でMw6×104の共重合体を得た。
Synthesis Example 20 of Resin (P): (P-20) Methyl Methacrylate 68 g, Methyl Acrylate 22
g, 10 g of glycidyl methacrylate, 17.5 g of an initiator (I-12) having the following structure and 15
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream.
This solution was irradiated with light from a high pressure mercury lamp of 400 W from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours to perform photopolymerization.
The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to give a yield of 72 g and a Mw of 4.0 × 10.
A polymer of 4 was obtained. 70 g of this polymer, monomer (M-
2) A mixed solution of 30 g and 100 g of tetrahydrofuran was heated under a nitrogen stream at a temperature of 50 ° C. under the same conditions as above.
Irradiated for hours. Next, the reaction product was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a yield of 78 g.
Thus, a copolymer having Mw of 6 × 10 4 was obtained.

【0334】[0334]

【化48】 [Chemical 48]

【0335】樹脂(P)の合成例21〜25:(P−21)〜
(P−25) 樹脂(P)の合成例20において、開始剤(I−12)1
7.5gの代わりに、下記表−Iの開始剤(I)0.0
31モルを用いた他は、該合成例20と同様の条件で操作
した。得られた各重合体の収量は70〜80gでMw4
×104〜6×104であった。
Synthesis Examples 21 to 25 of Resin (P): (P-21) to
(P-25) In the synthesis example 20 of the resin (P), the initiator (I-12) 1
Instead of 7.5 g, the initiator (I) 0.0
Operation was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 20 except that 31 mol was used. The yield of each polymer obtained was 70 to 80 g and Mw4.
It was x10 4 to 6x10 4 .

【0336】[0336]

【表15】 [Table 15]

【0337】[0337]

【表16】 [Table 16]

【0338】〔樹脂粒子(L)の合成例〕 樹脂粒子(L)の合成例1:(L−1) 下記構造の単量体(LM−1)40g、エチレングリコ
ールジメタクリレート2g、下記構造の分散安定用樹脂
(LP−1)4.0g及びメチルエチルケトン180g
の混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加温
した。 A.I.V.N. 0.3gを加え3時間反応した。更
に、 A.I.V.N. 0.1gを加えて4時間反応した。冷却
後、200メッシュのナイロン布を通して白色分散物を
得た平均粒子径0.25μmのラテックスであった。
[Synthesis Example of Resin Particles (L)] Synthesis Example 1: Resin Particles (L) 1: (L-1) 40 g of the monomer (LM-1) having the following structure, 2 g of ethylene glycol dimethacrylate, and the following structure Dispersion stabilizing resin (LP-1) 4.0 g and methyl ethyl ketone 180 g
The mixed solution of 1 was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. AIVN 0.3g was added and it reacted for 3 hours. Furthermore, AIVN 0.1g was added and it reacted for 4 hours. After cooling, it was a latex having a mean particle size of 0.25 μm, which was a white dispersion obtained through a 200-mesh nylon cloth.

【0339】[0339]

【化49】 [Chemical 49]

【0340】樹脂粒子(L)の合成例2:(L−2) 分散安定用樹脂としてブチルアクリレート単位から成る
一官能性マクロモノマー(AB−6、東亜合成(株)
製)5g及びメチルエチルケトン140gの混合溶液
を、窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加温した。こ
れに、下記構造の単量体(LM−2)40g、エチレン
グリコールジアクリレート1.5g、 A.I.V.N. 0.2
g及びメチルエチルケトン40gの混合溶液を1時間で
滴下した。そのまま2時間反応後、更に A.I.V.N. 0.
1gを加え3時間反応して、白色分散物を得た。冷却
後、200メッシュのナイロン布を通して得られた分散
物の平均粒径0.35μmであった。
Synthesis Example 2 of Resin Particles (L): (L-2) Monofunctional macromonomer consisting of butyl acrylate unit (AB-6, Toagosei Co., Ltd.) as a dispersion stabilizing resin.
5 g) and 140 g of methyl ethyl ketone were mixed and heated to a temperature of 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. 40 g of a monomer (LM-2) having the following structure, 1.5 g of ethylene glycol diacrylate, AIVN 0.2
g and a mixed solution of 40 g of methyl ethyl ketone were added dropwise over 1 hour. After reacting for 2 hours, AIVN 0.
1 g was added and reacted for 3 hours to obtain a white dispersion. After cooling, the resulting dispersion was passed through a nylon cloth of 200 mesh, and the average particle size was 0.35 μm.

【0341】[0341]

【化50】 Embedded image

【0342】樹脂粒子(L)の合成例3〜6:(L−
3)〜(L−6) 樹脂粒子(L)の合成例1において、単量体(LM−
1)、エチレングリコールジメタクリレート及びメチル
エチルケトンの代わりに下記表−Jの各化合物に代えた
他は、該合成例1と同様にして樹脂粒子を製造した。得
られた各樹脂粒子の平均粒径は0.15〜0.30μm
の範囲であった。
Synthesis Examples 3 to 6 of Resin Particles (L): (L-
3) to (L-6) In Synthesis Example 1 of the resin particles (L), the monomer (LM-
Resin particles were produced in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 1), ethylene glycol dimethacrylate, and methyl ethyl ketone were replaced with the compounds shown in Table J below. The average particle diameter of the obtained resin particles is 0.15 to 0.30 μm.
Was in the range.

【0343】[0343]

【表17】 [Table 17]

【0344】実施例1 X型無金属フタロシアニン(大日本インキ(株)製)2
g、下記構造の結着樹脂(B−1)8g、下記構造の化
合物(A)0.15g及びテトラヒドロフラン80gの
混合物を500mlのガラス容器にガラスビーズと共に入
れ、ペイントシェーカー(東洋精機製作所製)で60分
間分散し、更にこれに樹脂(P−2)2.0g、無水フ
タル酸0.03g及びo−クロロフェノール0.002
gを加えて2分間分散した後、ガラスビーズを濾別して
感光層分散液とした。
Example 1 X-type metal-free phthalocyanine (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 2
g, a mixture of 8 g of the binder resin (B-1) having the following structure, 0.15 g of the compound (A) having the following structure, and 80 g of tetrahydrofuran was placed in a 500 ml glass container together with glass beads, and a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) was used. Disperse for 60 minutes, and further add 2.0 g of resin (P-2), 0.03 g of phthalic anhydride and 0.002 of o-chlorophenol.
After adding g and dispersing for 2 minutes, the glass beads were filtered to obtain a photosensitive layer dispersion liquid.

【0345】[0345]

【化51】 [Chemical 51]

【0346】次いでこの分散液を脱脂処理を施した0.
2mm厚のアルミニウム版の上にワイヤーバーで塗布し、
指触乾燥した後、110℃の循環式オーブンで20秒間
加熱し、更に140℃で1時間加熱した。得られた感光
層の膜厚は8μmであった。感光体表面をJIS Z0237-19
80の「粘着テープ・粘着シート試験方法」により粘着力
を測定した所、3g・fであった。
Next, this dispersion was degreased to a density of 0.
Apply on a 2mm thick aluminum plate with a wire bar,
After being dried by touch, it was heated in a circulating oven at 110 ° C. for 20 seconds and further at 140 ° C. for 1 hour. The film thickness of the obtained photosensitive layer was 8 μm. The surface of the photoreceptor is JIS Z0237-19
When the adhesive force was measured by 80 "adhesive tape / adhesive sheet test method", it was 3 gf.

【0347】この感光体を図2に示す如き装置に装填
し、まず第1転写層(T1)を形成した。即ち、感光体表
面温度を60℃とし、感光体ドラムの周速度を10mm/
秒で回転させ感光体表面にスリット電着装置を用いて下
記内容の正荷電樹脂粒子を含む樹脂粒子分散液(L−
1)を供給しながら、感光体側を接地しスリット電着装
置の電極側に150Vの電圧を印加して樹脂粒子を電着
・定着した。この時の膜厚は1.2μmであった。 ・樹脂粒子分散液(L−1) 樹脂粒子(AL−1) 8 g(固形分量として) 正荷電用調節剤(CD−1) 0.02g オクタデシルビニルエーテル/N−ヘキサデシルマレイン酸 半アミド(1/1モル比)共重合体 荷電調整補助剤 0.1g ドデシルメタクリレート/メタクリル酸(94/6重量比)共重合体 をアイソパーGで全量1.0リットルになる様に調整し
た。
This photoconductor was loaded into a device as shown in FIG. 2 to first form a first transfer layer (T 1 ). That is, the surface temperature of the photoconductor is 60 ° C., and the peripheral speed of the photoconductor drum is 10 mm /
It is rotated for 2 seconds and a resin particle dispersion liquid (L-
While supplying 1), the photoreceptor side was grounded and a voltage of 150 V was applied to the electrode side of the slit electrodeposition apparatus to electrodeposit and fix the resin particles. The film thickness at this time was 1.2 μm. Resin particle dispersion liquid (L-1) Resin particles (AL-1) 8 g (as solid content) Positive charge control agent (CD-1) 0.02 g Octadecyl vinyl ether / N-hexadecyl maleic acid half amide (1 (1 mol ratio) Copolymer Charge control aid 0.1 g Dodecyl methacrylate / methacrylic acid (94/6 weight ratio) Copolymer was adjusted with Isopar G to a total volume of 1.0 liter.

【0348】この第1転写層(T1)上に、上記分散液
(L−1)において、樹脂粒子(AL−1)8gの代わ
りに樹脂粒子(A2L−1)8g(固形分量として)を
用いた他は同様にして調整した正荷電樹脂粒子を含む樹
脂粒子分散液(L−2)を用いて、上記と同様にして膜
厚1.2μmの第2転写層(T2)を形成した。
On the first transfer layer (T 1 ), in the above dispersion liquid (L-1), 8 g of resin particles (A 2 L-1) (as solid content) was used in place of 8 g of resin particles (AL-1). In the same manner as above, a second transfer layer (T 2 ) having a film thickness of 1.2 μm was prepared by using a resin particle dispersion liquid (L-2) containing positively charged resin particles prepared in the same manner as described above. Formed.

【0349】次に、この感光材料を用いて、以下の様に
してトナー画像の形成、被転写材への転写、印刷版の作
成及び印刷を行った。感光材料を+450Vにコロナ帯
電したのち、あらかじめ原稿からカラースキャナーによ
り読み取り、デジタル画像データとしてシステム内のハ
ードディスクに記憶させてあった情報をもとに、5mW出
力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発
振波長780nm)を用いて、感光材料表面上で30erg
/cm2の照射量下で、ピッチ25μm及びスキャン速度
300cm/秒のスピードで露光した。
Next, using this photosensitive material, a toner image was formed, transferred to a transfer material, a printing plate was prepared and printing was carried out as follows. After the photosensitive material is corona charged to +450 V, it is read from the original by a color scanner in advance, and based on the information stored in the hard disk in the system as digital image data, a 5 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation) 30 erg on the surface of the photosensitive material using a wavelength of 780 nm)
Exposure was performed at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 cm / sec under an irradiation amount of / cm 2 .

【0350】次に、下記方法で製造した液体現像剤(L
D−1)を用い、現像電極に+200Vのバイアス電圧
を印加し露光部にトナーが電着するようにした反転現像
を行ない、次いでアイソパーH単独浴中でリンスをして
非画像部の汚れを除いた。
Next, the liquid developer (L
D-1) was used to apply a bias voltage of +200 V to the developing electrode to carry out reversal development so that the toner was electrodeposited on the exposed area, and then rinsed in a bath of Isopar H alone to stain the non-image area. I removed it.

【0351】液体現像剤(LD−1)の調製 ・トナー粒子の合成 メチルメタクリレート70g、メチルアクリレート30
g、下記構造の分散ポリマー20g及びアイソパーH6
80gの混合溶液を窒素気流下に、攪拌しながら温度6
5℃に加温した。これに、2,2′−アゾビス(イソバ
レロニトリル)(A.I.V.N.)1.2gを加え2時間反応
し、更に A.I.V.N. 0.5gを加えて2時間反応し、更
に A.I.V.N. 0.5gを加えて2時間反応した。次に、
反応温度を90℃に上げて、30mmHgの減圧下に1時間
攪拌し、未反応単量体を除去した。室温に冷却後、20
0メッシュのナイロン布を通して濾過し、白色分散物を
得た。得られた分散物の単量体の反応率は95重量%で
樹脂粒子の平均粒径は0.25μmで且つ分散性良好な
ものであった(粒径はCAPA-500:堀場製作所製を使用し
て測定)。
Preparation of liquid developer (LD-1) -Synthesis of toner particles Methyl methacrylate 70 g, methyl acrylate 30
g, 20 g of a dispersion polymer having the following structure and Isopar H6
80 g of the mixed solution was stirred under a nitrogen stream at a temperature of 6
Warmed to 5 ° C. To this, 1.2 g of 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (AIVN) was added and reacted for 2 hours, 0.5 g of AIVN was further added and reacted for 2 hours, and 0.5 g of AIVN was added and further reacted for 2 hours. Reacted next,
The reaction temperature was raised to 90 ° C. and the mixture was stirred under reduced pressure of 30 mmHg for 1 hour to remove unreacted monomers. After cooling to room temperature, 20
Filtration through a 0 mesh nylon cloth gave a white dispersion. The reaction rate of the monomers in the obtained dispersion was 95% by weight, the average particle size of the resin particles was 0.25 μm, and the dispersibility was good (the particle size was CAPA-500: used by Horiba, Ltd. Then measured).

【0352】[0352]

【化52】 [Chemical 52]

【0353】・着色粒子の製造 テトラデシルメタクリレート/メタクリル酸(95/5
重量比)共重合体10g、ニグロシン10g及びアイソ
パーG30gをガラスビーズと共にペイントシェーカー
(東京精機(株)製)に入れ、4時間分散し、ニグロシ
ンの微小な分散物を得た。
Production of colored particles Tetradecyl methacrylate / methacrylic acid (95/5
(Weight ratio) 10 g of the copolymer, 10 g of nigrosine and 30 g of Isopar G were put together with glass beads in a paint shaker (manufactured by Tokyo Seiki Co., Ltd.) and dispersed for 4 hours to obtain a fine dispersion of nigrosine.

【0354】・液体現像剤の製造 上記トナー粒子の樹脂分散物45g、上記ニグロシン分
散物25g、ヘキサデセン/半マレイン酸オクタデシル
アミド共重合体0.6g及び分岐オクタデシルアルコー
ル(FOC−1800、日産化学(株)製)15gをア
イソパーG1リットルに希釈することにより静電写真用
液体現像剤を作製した。以上の様にして得られた製版後
の感光材料をヒートロールの定着方法で画像を定着し
た。
Manufacture of Liquid Developer 45 g of the resin dispersion of the toner particles, 25 g of the nigrosine dispersion, 0.6 g of hexadecene / semi-maleic acid octadecylamide copolymer and branched octadecyl alcohol (FOC-1800, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. A liquid developer for electrostatic photography was prepared by diluting 15 g of the above) to 1 liter of Isopar G. An image was fixed on the photosensitive material after plate making obtained as described above by a fixing method using a heat roll.

【0355】次に温度60℃とした上記現像後の感光材
料と表面温度100℃に常にコントロールされたゴムロ
ーラーとの間に、Fuji PSプレートFPD(富士写真
フイルム(株)製)に用いられるアルミ支持体を4kgf
/cm2の圧力下200mm/秒のスピードで通過させた
後、アルミ支持体を感光材料から引き剥がした。トナー
画像は転写層ごとアルミ支持体上に転写された。アルミ
支持体上に形成された画像(カブリ、画像の画質)を目
視評価した。感光材料上のトナーは転写層ごと全てアル
ミ支持体側に熱転写され、地カブリのない鮮明な画像が
得られ、原稿と比較し、画像品質の劣化は殆んど見られ
なかった。
Next, the aluminum used for the Fuji PS plate FPD (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was placed between the photosensitive material after the above development at a temperature of 60 ° C. and the rubber roller whose surface temperature was constantly controlled at 100 ° C. Support 4kgf
After passing under a pressure of / cm 2 at a speed of 200 mm / sec, the aluminum support was peeled off from the light-sensitive material. The toner image was transferred onto the aluminum support together with the transfer layer. The image (fog, image quality of the image) formed on the aluminum support was visually evaluated. The toner on the photosensitive material was thermally transferred to the aluminum support side together with the transfer layer, and a clear image with no background fog was obtained, and almost no deterioration in image quality was observed as compared with the original.

【0356】以上のことは、光導電層中に共存させたフ
ッ素原子含有の共重合体が光導電層形成時にその表面部
に濃縮移行し、更に結着樹脂(B)と樹脂(P)とが架
橋剤により相互に充分高分子間で化学結合して硬化膜が
形成されたことにより、剥離性良好な界面が明確に形成
され、且つ第1転写層(T1)と光導電層との接着力が小
さく更に第2転写層(T2)と被転写材(アルミ支持体)
との密着力が充分に大きくなったことによるものと考え
られる。他方、比較として、上記感光体において樹脂
(P−2)2.0gを除き、結着樹脂(B−1)10g
を用いた他は全く同様にして電子写真感光体を作成した
ところ、表面の粘着力は420g・fであった。上記と
同様にして転写層を形成し転写を行ったが、全く剥離性
を示さなかった。
As described above, the fluorine atom-containing copolymer coexisting in the photoconductive layer is concentrated and transferred to the surface portion of the photoconductive layer during the formation of the photoconductive layer, and the binder resin (B) and the resin (P) are further added. Are sufficiently chemically bonded to each other by a cross-linking agent to form a cured film, so that an interface with good releasability is clearly formed, and the first transfer layer (T 1 ) and the photoconductive layer are separated from each other. The adhesive strength is small and the second transfer layer (T 2 ) and the transferred material (aluminum support)
It is thought that this is because the adhesive strength with On the other hand, as a comparison, 10 g of the binder resin (B-1) except for 2.0 g of the resin (P-2) in the above photoreceptor
An electrophotographic photosensitive member was prepared in exactly the same manner as above, except that the surface adhesive force was 420 g · f. A transfer layer was formed and transferred in the same manner as above, but showed no peeling property at all.

【0357】次に、アルミ支持体に転写層を転写した版
(印刷原版)を不感脂化処理(即ち転写層除去)して印
刷版としての性能を調べた。即ち、この印刷原版を温度
25℃の下記処方の不感脂化処理液(E−1)中に30
秒間浸漬して転写層を除去し、充分水洗した後、ガム引
きしオフセット用印刷版を作成した。 ・不感脂化処理液(E−1) PS版用処理液(DP−4富士写真フイルム(株)製) 100g N−メチルアミノエタノール 10g を蒸留水で希釈し全量を1.0リットルにしpH12.
5に調整したもの。
Next, the plate (printing original plate) on which the transfer layer was transferred to the aluminum support was desensitized (that is, the transfer layer was removed), and the performance as a printing plate was examined. That is, 30% of this printing original plate was placed in a desensitizing solution (E-1) having the following formulation at a temperature of 25 ° C.
After dipping for 2 seconds to remove the transfer layer and washing thoroughly with water, gumming was performed to prepare an offset printing plate. Desensitizing treatment liquid (E-1) Treatment liquid for PS plate (DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 100 g N-methylaminoethanol 10 g was diluted with distilled water to a total volume of 1.0 liter and pH 12.
Adjusted to 5.

【0358】この様にして得た印刷版を200倍の光学
顕微鏡を用いて目視観察したところ、非画像部には転写
層の残存は認められず、且つ画像部の細線・細文字等の
高解像度域の欠落は認められなかった。この版を浸し水
としてPS版用浸し水(SG−23、東京インキ(株)
製)を蒸留水で130倍に希釈した水溶液(pH7.
0)を用い、印刷機としてオリバー94型((株)桜井製
作所製)を用い、印刷紙として中性紙を使用して、各種
オフセット印刷用色インキで印刷した。その結果、色イ
ンキの種類にかかわらず、いずれの場合も地汚れの発生
しない鮮明な画像印刷物が6万枚以上得られた。更に、
本発明の印刷版による印刷を行った後、通常の操作のま
ま、次に普通のPS版を用いて印刷したところ、何の問
題も生じなかった。即ち、同一の印刷機をPS版等の他
のオフセット印刷版と容易に共用できることが確認され
た。
When the printing plate thus obtained was visually observed using a 200 × optical microscope, no transfer layer remained in the non-image area, and high density of fine lines and fine characters in the image area was observed. No lack of resolution was observed. Immersion water for this PS plate as PS water (SG-23, Tokyo Ink Co., Ltd.)
Produced by diluting 130 times with distilled water (pH 7.
0), Oliver 94 type (manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) was used as a printing machine, and neutral paper was used as printing paper, and printing was performed with various color inks for offset printing. As a result, regardless of the type of color ink, in all cases, 60,000 or more clear image prints with no background stain were obtained. Furthermore,
After printing with the printing plate of the present invention, printing was then performed using a normal PS plate with the normal operation, and no problem occurred. That is, it was confirmed that the same printing machine could be easily shared with other offset printing plates such as PS plates.

【0359】比較として、以下の比較例1〜5の各転写
層を有する感光体を用いた場合を調べた。
For comparison, the case of using the photoconductors having the respective transfer layers of the following Comparative Examples 1 to 5 was examined.

【0360】比較例1 実施例1の樹脂粒子(AL−1)と樹脂粒子(A2L−
1)の二層(積層)構造から成る転写層の代わりに、樹
脂粒子(AL−1)のみから成る単層の転写層を膜厚
2.5μmで形成させた他は実施例1と全く同様に操作
して印刷版を作成し、印刷を行なった。
Comparative Example 1 Resin particles (AL-1) of Example 1 and resin particles (A 2 L-
The same as Example 1 except that a single-layer transfer layer composed only of resin particles (AL-1) was formed in a thickness of 2.5 μm instead of the transfer layer composed of the two-layer (laminated) structure of 1). A printing plate was prepared by operating the above and printed.

【0361】比較例2 実施例1の二層構造から成る転写層の代わりに、樹脂粒
子(A2L−1)のみから成る単層の転写層を膜厚2.
5μmとなる様に成膜した他は実施例1と全く同様に操
作して印刷版を作成し、印刷を行なった。
Comparative Example 2 Instead of the transfer layer having the two-layer structure of Example 1, a single-layer transfer layer consisting of resin particles (A 2 L-1) alone was used.
A printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a film having a thickness of 5 μm was formed, and printing was performed.

【0362】比較例3 実施例1の第1転写層用樹脂粒子分散液(L−1)にお
ける樹脂粒子(AL−1)の代わりに比較用樹脂粒子
(1)を用いた他は分散液(L−1)と同様にして転写
層全膜厚2.5μmとなる様に感光体上に二層構造の転
写層を形成した。それ後実施例1と全く同様に操作して
印刷版を作成し、印刷を行った。
Comparative Example 3 A dispersion liquid (Comparative Resin Particle (1) was used in place of the resin particles (AL-1) in the first transfer layer resin particle dispersion liquid (L-1) of Example 1). In the same manner as in L-1), a transfer layer having a two-layer structure was formed on the photoconductor so that the transfer layer had a total film thickness of 2.5 μm. Thereafter, the printing plate was prepared and printed in the same manner as in Example 1.

【0363】比較例4 実施例1の第1転写層用樹脂粒子分散液(L−1)にお
ける樹脂粒子(AL−1)の代わりに比較用樹脂粒子
(2)を用いた他は分散液(L−1)と同様にして転写
層全膜厚2.5μmとなる様に感光体上に二層構造の転
写層を形成した。その後実施例1と全く同様に操作して
印刷版を作成し、印刷を行った。
Comparative Example 4 A dispersion liquid (Comparative Resin Particle (2)) was used in place of the resin particles (AL-1) in the first transfer layer resin particle dispersion liquid (L-1) of Example 1, except that the dispersion liquid ( In the same manner as in L-1), a transfer layer having a two-layer structure was formed on the photoconductor so that the transfer layer had a total film thickness of 2.5 μm. After that, the printing plate was prepared and printed in the same manner as in Example 1.

【0364】比較例5 実施例1の第1転写層用樹脂分散液(L−1)における
樹脂粒子(AL−1)の代わりに比較用樹脂粒子(1)
及び(2)を1/1重量比で用いた他は分散液(L−
1)と同様にして転写層全膜厚2.5μmとなる様に感
光体上に二層構造の転写層を形成した。その後実施例1
と全く同様に操作して印刷版を作成し、印刷を行った。
Comparative Example 5 Comparative resin particles (1) were used in place of the resin particles (AL-1) in the resin dispersion (L-1) for the first transfer layer of Example 1.
And the dispersion (L-
In the same manner as in 1), a transfer layer having a two-layer structure was formed on the photoconductor so that the total thickness of the transfer layer was 2.5 μm. Then Example 1
A printing plate was prepared and printed in the same manner as in.

【0365】比較例1〜5においては、本発明の実施例
1の転写条件では、いずれも転写層の転写が不充分で感
光体上に転写残りが発生し、印刷原版上のトナー画像部
に転写不良による欠落が生じた。特に比較例2、3及び
4では著しい転写不良となった。
In Comparative Examples 1 to 5, under the transfer conditions of Example 1 of the present invention, the transfer of the transfer layer was insufficient, and the transfer residue was generated on the photosensitive member, and the toner image portion on the printing original plate was formed. Drops occurred due to poor transfer. In particular, in Comparative Examples 2, 3 and 4, remarkable transfer failure occurred.

【0366】次に、各比較例の転写層が完全に転写する
条件を調べた。実施例1の第1転写層(T1)を構成する
樹脂粒子(AL−1)のみの2.5μmの転写層から成
る比較例1は、感光体側の加熱温度70℃、転写スピー
ド100mm/秒で完全に転写した。また、本発明の実施
例1の第1転写層(T1)を形成する樹脂粒子(AL−
1)を構成する二種の樹脂それぞれ単独から成る、樹脂
粒子(1)と樹脂粒子(2)とを1/1重量比で混合し
た第1転写層1.2μmと、樹脂粒子(A2L−1)か
ら成る第2転写層とから構成される全膜厚2.5μmの
転写層である比較例5は、感光体側温度70℃、転写ス
ピード80mm/秒で完全に転写した。
Next, the conditions under which the transfer layer of each comparative example was completely transferred were examined. Comparative Example 1 of Example 1 comprising a 2.5 μm transfer layer containing only the resin particles (AL-1) constituting the first transfer layer (T 1 ) is a heating temperature on the photoreceptor side of 70 ° C., a transfer speed of 100 mm / sec. Completely transcribed. Further, the resin particles (AL- that form the first transfer layer (T 1 ) of Example 1 of the present invention are used.
1.2 μm of the first transfer layer, which is a mixture of the resin particles (1) and the resin particles (2) in a weight ratio of 1/1, and which is composed of each of the two types of resins constituting the resin particles (A 2 L). Comparative Example 5, which is a transfer layer having a total film thickness of 2.5 μm and composed of the second transfer layer consisting of -1), completely transferred at a temperature of 70 ° C. on the photoreceptor side and a transfer speed of 80 mm / sec.

【0367】他方、比較例2、3及び4の場合、実施例
1の様な加熱時に感光体とアルミ支持体とを剥離する方
法では完全に転写する条件は存在しなかった。そこで、
上記比較例2〜4において転写層の全膜厚を5.0μm
にして実施した。転写層の膜厚5.0μmとした比較例
2の感光体を温度60℃に加温し、温度100℃とした
ゴムローラーとの間にアルミ支持体を4kgf/cm2の圧力
下5.0mm/秒のスピードで通過させた。その後、室温
まで冷却し感光体とアルミ支持体を5.0mm/秒のスピ
ードで引き剥がした所、トナー画像は転写層ごとアルミ
支持体に完全に転写した。同様に、膜厚5.0μmとし
た比較例3及び4ともにこの方法により完全に転写し
た。また、膜厚5.0μmとした比較例4は、スピード
10mm/秒まで完全転写可能であった。これらの場合、
転写時間のみならず、冷却の時間が更に必要となった。
On the other hand, in the case of Comparative Examples 2, 3 and 4, the conditions for complete transfer did not exist in the method of separating the photosensitive member and the aluminum support during heating as in Example 1. Therefore,
In the above Comparative Examples 2 to 4, the total thickness of the transfer layer was 5.0 μm.
Was carried out. The photoreceptor of Comparative Example 2 having a transfer layer thickness of 5.0 μm was heated to a temperature of 60 ° C., and an aluminum support was placed between the rubber roller and a temperature of 100 ° C. under a pressure of 4 kgf / cm 2 to 5.0 mm. It was passed at a speed of / second. Then, after cooling to room temperature and peeling off the photosensitive member and the aluminum support at a speed of 5.0 mm / sec, the toner image was completely transferred to the aluminum support together with the transfer layer. Similarly, in Comparative Examples 3 and 4 having a film thickness of 5.0 μm, complete transfer was performed by this method. Further, in Comparative Example 4 in which the film thickness was 5.0 μm, complete transfer was possible up to a speed of 10 mm / sec. In these cases,
Not only the transfer time but also the cooling time was needed.

【0368】以上のことから、本発明の実施例1に比べ
て、比較例1は主として転写層と被転写材との密着力が
不足すること、比較例2は感光体と転写層との接着力が
大きいこと、比較例3〜5は感光体の接着力と被転写材
との密着力のバランスが悪く且つそのことで転写層の樹
脂の凝集破壊を生じてしまうことが、それぞれ転写性低
下の原因と推定される。感光体側と接する第1転写層と
して電着される樹脂粒子が、ガラス転移点又は軟化点の
異なる少なくとも二種の樹脂を同一粒子内に含有してな
り、且つ被転写材側と接する第2転写層として低Tgの
樹脂から構成される本発明の積層構造の転写層のみが薄
層でありながら、低温で迅速に転写される。
From the above, as compared with Example 1 of the present invention, Comparative Example 1 mainly lacks the adhesive force between the transfer layer and the material to be transferred, and Comparative Example 2 shows the adhesion between the photoreceptor and the transfer layer. In Comparative Examples 3 to 5, the adhesive force of the photoconductor and the adhesive force to the material to be transferred are unbalanced and the cohesive failure of the resin in the transfer layer is caused, which deteriorates the transferability. Is presumed to be the cause. The second transfer in which the resin particles to be electrodeposited as the first transfer layer in contact with the photoreceptor side contain at least two kinds of resins having different glass transition points or softening points in the same particle, and in contact with the transfer material side. Only the transfer layer of the laminated structure of the present invention composed of a resin having a low Tg as a layer is a thin layer and is rapidly transferred at a low temperature.

【0369】このように、本発明によって供されるオフ
セット印刷版は、半導体レーザー光スキャニング露光方
式によって得られる画像再現性が極めて良好で且つそれ
が印刷物に良好に再現されること、色インキ適性が充分
でインキ選択性がほとんど見られずフルカラー印刷が高
耐刷性で得られること、他のオフセット印刷版と任意に
印刷機を共用できること等極めて優れた性能を示すこと
が確認された。
As described above, the offset printing plate provided by the present invention has an extremely good image reproducibility obtained by the semiconductor laser light scanning exposure method, that it is well reproduced on a printed matter, and it is suitable for color ink. It has been confirmed that the ink composition is sufficiently excellent, almost no ink selectivity is observed, and that full-color printing can be obtained with high printing durability, and that it can exhibit an extremely excellent performance such as being able to optionally use a printing machine with other offset printing plates.

【0370】実施例2 図2に示す如き装置に電子写真感光体としてアモルファ
スシリコン感光体(京セラ(株)製)を装着した。この
感光体表面の粘着力は200g・fであった。この感光
体への剥離性付与はこの装置内で本発明の化合物(S)
を溶解した溶液に浸漬させること(浸漬法)で行なっ
た。即ち、下記化合物(S−1)1.0gをアイソパー
G(エッソ(株)製)1リットル中に溶解した溶液を入
れた浴に上記感光体を周速10mm/秒の回転速度で回転
し7秒間触れる様にして処理し、エアースクイズで乾燥
した。この様にして得られた感光体表面の粘着力を測定
した所3g・fで良好な剥離性を示した。
Example 2 An amorphous silicon photoconductor (manufactured by Kyocera Corp.) was mounted as an electrophotographic photoconductor on the apparatus shown in FIG. The adhesive force on the surface of the photoconductor was 200 g · f. In this device, the compound (S) of the present invention is added to the photoreceptor so that it can be peeled off.
Was immersed in a solution in which was dissolved (immersion method). That is, the photoreceptor was rotated at a peripheral speed of 10 mm / sec in a bath containing a solution prepared by dissolving 1.0 g of the following compound (S-1) in 1 liter of Isopar G (manufactured by Esso Corporation). It was treated by touching for 2 seconds and dried by air squeeze. The pressure-sensitive adhesive strength of the surface of the photoreceptor thus obtained was measured and found to be 3 g · f and good peelability.

【0371】[0371]

【化53】 Embedded image

【0372】次に、感光体の表面温度を50℃に設定
し、感光体ドラムを周速度10mm/秒で回転させ感光体
表面にスリット電着装置を用いて下記内容の正電荷樹脂
粒子を含む樹脂粒子分散液(L−3)を供給しながら、
感光体側を接地しスリット電着装置の電極側に130V
の電圧を印加して樹脂粒子を電着・定着した。得られた
第1転写層(T1)の膜厚は1.0μmであった。 ・樹脂粒子分散液(L−3) 樹脂粒子(AL−3) 7g (固形分量として) 正荷電用調節剤(CD−2) 0.018g 1-ヘキサデセン/N-デシルマレイン酸半アミド(1/1)モル比)共重合体 分枝テトラデシルアルコール 5g (FOC−1400、日産化学(株)製) をアイソパーGで全量1.0リットルになる様に調整し
た。
Next, the surface temperature of the photoconductor is set to 50 ° C., the photoconductor drum is rotated at a peripheral speed of 10 mm / sec, and the positive electrode resin particles having the following contents are contained on the photoconductor surface using a slit electrodeposition device. While supplying the resin particle dispersion (L-3),
The photoconductor side is grounded and 130V is applied to the electrode side of the slit electrodeposition device.
Voltage was applied to electrodeposit and fix the resin particles. The film thickness of the obtained first transfer layer (T 1 ) was 1.0 μm. Resin particle dispersion (L-3) Resin particles (AL-3) 7 g (as solid content) Positive charge control agent (CD-2) 0.018 g 1-hexadecene / N-decyl maleic acid half amide (1 / 1) Molar ratio) Copolymer Branched tetradecyl alcohol 5 g (FOC-1400, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.) was adjusted with Isopar G to a total volume of 1.0 liter.

【0373】更に、この第1転写層(T1)上に、樹脂粒
子分散液(L−3)において樹脂粒子(AL−3)7g
の代わりに、樹脂粒子(A2 L−2)7g(固形分量と
して)を用いた他は同様に調製した樹脂粒子分散液(L
−4)を用いて、印加電圧170Vで上記と同様の方法
で膜厚1.5μmの第2転写層(T2)を形成した。
Furthermore, on the first transfer layer (T 1 ), 7 g of resin particles (AL-3) in the resin particle dispersion liquid (L-3) was used.
In place of the resin particles (A 2 L-2) 7 g (as solid content), except that the resin particle dispersion liquid (L
-4) was used to form a second transfer layer (T 2 ) having a film thickness of 1.5 μm in the same manner as above with an applied voltage of 170V.

【0374】次に上記の感光材料を+700Vにコロナ
帯電した後、あらかじめ原稿からカラースキャナーによ
り読み取り、色分解しシステム特有の幾つかの色再現に
関わる補正を加えた後、デジタル画像データとしてシス
テム内のハードディスクに記憶させてあった情報をもと
に半導体レーザーを用いて780nmの光で露光した。露
光部の電位は+220Vで未露光部は+600Vであっ
た。続いて現像ユニットに組み込まれているプレバス装
置によりアイソパーG(エッソスタンダード石油製)に
てプレバスをしたのち、下記内容の液体現像剤(LD−
2)を現像ユニットから感光体表面へ供給した。この時
現像ユニット側へ50Vの現像バイアス電圧を印加し現
像を行なった。次いでアイソパーG単独浴中でリンスを
して非画像部の汚れを除き、吸排気ユニットにて乾燥し
た。
Next, after corona-charging the above photosensitive material to +700 V, the original is read by a color scanner in advance, color separation is performed, and some corrections relating to the color reproduction peculiar to the system are added. It was exposed to light of 780 nm using a semiconductor laser based on the information stored in the hard disk. The potential of the exposed portion was + 220V and that of the unexposed portion was + 600V. Then, after pre-bathing with Isopar G (manufactured by Esso Standard Petroleum) using a pre-bath device incorporated in the developing unit, a liquid developer (LD-
2) was supplied from the developing unit to the surface of the photoconductor. At this time, a developing bias voltage of 50 V was applied to the developing unit side to perform development. Then, the non-image area was cleaned by rinsing in a bath of Isopar G alone, and dried in an intake / exhaust unit.

【0375】・液体現像剤(LD−2) 被覆用樹脂としてオクタデシルメタクリレート/メチル
メタクリレート(9/1モル比)共重合体及びカーボン
ブラック(#40、三菱化成(株)製)を重量比2:1
にて充分に混合した後、140℃に加熱した三本ロール
ミルにて溶融混練した。この混練物12g、スチレン/
ブタジエン共重合体(ソルプレン1205、旭化成
(株)製)4g及びアイソパーG76gよりなる混合物
をダイノミルにて分散した。このようにして得たトナー
濃厚液を固形分濃度が6g/リットルとなるようにアイ
ソパーGにて希釈し、更にジオクチルスルホコハク酸ソ
ーダを1×10-4モル/リットル添加し現像剤とした。
Liquid developer (LD-2) Octadecyl methacrylate / methyl methacrylate (9/1 molar ratio) copolymer and carbon black (# 40, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) as a coating resin were used in a weight ratio of 2: 1
After sufficiently mixing in, the mixture was melt-kneaded in a three-roll mill heated to 140 ° C. 12 g of this kneaded material, styrene /
A mixture of 4 g of a butadiene copolymer (Sorprene 1205, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) and 76 g of Isopar G was dispersed with a Dynomill. The concentrated toner liquid thus obtained was diluted with Isopar G so that the solid content concentration became 6 g / liter, and 1 × 10 −4 mol / liter of sodium dioctylsulfosuccinate was added to obtain a developer.

【0376】つぎに赤外線ラインヒーターを点灯してそ
の下を通過させて感光材料の表面温度を放射温度計で測
定してほぼ60℃にしたのち、PSプレートFPD用ア
ルミ支持体と接触させ、表面温度が105℃にコントロ
ールされたゴムローラー下をニップ圧が4kgf/cm2 、ド
ラム周速が250mm/秒の条件下で通過さ、次いで感光
体とアルミ支持体を引き剥がした。トナー画像は転写層
ごとアルミ支持体上に全て転写した。このようにして得
られた印刷原版を、RICOH FUSERモデル59
2(リコー(株)製)を用いて更に加熱しトナー部を定
着した。200倍の光学顕微鏡を用いて目視観察したと
ころ、非画像部には汚染は認められず、且つ画像部の細
線・細文字等の高解像度域の欠落は認められなかった。
Then, the infrared line heater was turned on and passed under the infrared line heater to measure the surface temperature of the light-sensitive material with a radiation thermometer to about 60 ° C., and then contacted with the aluminum support for PS plate FPD, It was passed under a rubber roller controlled at a temperature of 105 ° C. under the conditions of a nip pressure of 4 kgf / cm 2 and a drum peripheral speed of 250 mm / sec, and then the photoreceptor and the aluminum support were peeled off. The toner image was transferred together with the transfer layer onto an aluminum support. The printing original plate thus obtained was used as a RICOH FUSER model 59.
2 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) was further heated to fix the toner portion. Upon visual observation using a 200 × optical microscope, no contamination was observed in the non-image area, and no loss of high-resolution areas such as fine lines and fine characters in the image area was observed.

【0377】この印刷原版を温度30℃の下記処方の不
感脂化処理液(E−2)中に20秒間浸漬し、且つその
間ゆるくこすりながら転写層を除去し、充分水洗した
後、ガム引きし、オフセット印刷版を作成した。 ・不感脂化処理液(E−2) PS版処理剤(DP−4、富士写真フイルム(株)製) 143g N,N−ジメチルエタノールアミン 15g を蒸留水で希釈し全量を1リットルにしたもの(pH1
3.1)。
This printing original plate was immersed in a desensitizing solution (E-2) having the following formulation at a temperature of 30 ° C. for 20 seconds, and during that time, the transfer layer was removed by gently rubbing, followed by thorough washing with water and gumming. , An offset printing plate was created. Desensitizing treatment liquid (E-2) PS plate treating agent (DP-4, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 143 g N, N-dimethylethanolamine 15 g was diluted with distilled water to make a total amount of 1 liter. (PH 1
3.1).

【0378】この様にして得た印刷版を200倍の光学
顕微鏡を用いて非画像部の転写層の有無及びトナー画像
部の欠落の有無を目視観察した。不感脂化処理性は良好
で転写層は完全に除去され地汚れは見られなかった。ま
た、画像部の細文字、細線及び網点連続階調の中間部等
の高精細な画像部においてもトナー画像の欠落は認めら
れず、画像部レジスト性は良好であった。この版を浸し
水としてPS版用浸し水(SG−23、東京インキ(株)
製)を蒸留水で130倍に希釈した水溶液(pH7.
0)を用い、印刷機としてオリバー94型((株)桜井製
作所製)を用い、印刷紙として中性紙を使用して、各種
オフセット印刷用色インキで印刷した。その結果、色イ
ンキの種類にかかわらず、いずれの場合も地汚れの発生
しない鮮明な画像の印刷物が6万枚以上得られた。
The printing plate thus obtained was visually observed with a 200 × optical microscope for the presence or absence of the transfer layer in the non-image area and the absence or absence of the toner image area. The desensitizing treatment was good, the transfer layer was completely removed, and no background stain was observed. Further, no toner image loss was observed in the high-definition image portion such as fine characters, fine lines and halftone dot continuous gradation in the image portion, and the resist property in the image portion was good. Immersion water for this PS plate as PS water (SG-23, Tokyo Ink Co., Ltd.)
Produced by diluting 130 times with distilled water (pH 7.
0), Oliver 94 type (manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) was used as a printing machine, and neutral paper was used as printing paper, and printing was performed with various color inks for offset printing. As a result, regardless of the type of color ink, in all cases, 60,000 or more printed materials with clear images free of background stains were obtained.

【0379】以上のように、トナー画像形成に用いる液
体現像剤の種類によっては、トナー画像部と被転写材と
の充分な密着性を保持させ、印刷時のトナー画像強度を
維持するためにトナー画像と転写層ごと転写した後に、
密着性向上手段を組み合わせてもよい。密着性向上手段
として、フラッシュ定着による方法あるいはヒートロー
ル定着によっても同様の効果が得られた。
As described above, depending on the type of liquid developer used for toner image formation, the toner may be used in order to maintain sufficient adhesion between the toner image area and the transfer material and maintain the toner image strength during printing. After transferring the image and transfer layer together,
Adhesion improving means may be combined. A similar effect was obtained by a method using flash fixing or heat roll fixing as a means for improving adhesion.

【0380】感光体表面に電子写真プロセスを行なう装
置内で化合物(S)を適用して感光体表面に剥離性を付
与する方法として、上記浸漬法に代えて、以下(1)〜(4)
の方法を行なった。
As a method of imparting releasability to the surface of the photoconductor by applying the compound (S) to the surface of the photoconductor in the apparatus for performing the electrophotographic process, the following (1) to (4) are used instead of the dipping method.
Method.

【0381】(1)化合物(S)塗布装置10において、
感光体に剥離性付与のため下記構造の化合物(S−2)
のオイルを入れた浴に接したシリコンゴム層を表面に有
するメタリングロールを感光体に接触させ、周速15mm
/秒の回転スピードで両ドラムを20秒間回転させた。
この処理により感光体表面の粘着力は5g・fとなっ
た。
(1) In the compound (S) coating apparatus 10,
A compound having the following structure (S-2) for imparting releasability to the photoreceptor
The peripheral speed of 15 mm is obtained by contacting the photoconductor with a metering roll that has a silicone rubber layer on the surface that is in contact with a bath containing oil.
Both drums were rotated for 20 seconds at a rotation speed of / sec.
By this treatment, the adhesive force on the surface of the photoconductor became 5 g · f.

【0382】[0382]

【化54】 [Chemical 54]

【0383】また、上記シリコンオイル浴に浸されたメ
タリングロールと感光体の間にスチレン−ブタジエンゴ
ム層を表面に有するトランスファーロールを介して処理
しても、上記と同様の結果が得られた。
Also, the same result as above was obtained when the treatment was carried out through a transfer roll having a styrene-butadiene rubber layer on the surface between the photoconductor and the metering roll immersed in the silicone oil bath. .

【0384】更には、上記メタリングロール/トランス
ファーロールを用いる方法において、図5に示す様にメ
タリングロール112とトランスファーロール111の
間に化合物(S−2)113を供給する方法を用いても
同様に良好な結果が得られた。
Further, in the method using the above-mentioned metering roll / transfer roll, the method of supplying the compound (S-2) 113 between the metering roll 112 and the transfer roll 111 as shown in FIG. Similarly good results have been obtained.

【0385】(2)化合物(S−3)、即ちジメチルシリ
コンオイル(KF−96L−2.0、信越シリコーン
(株)製)2gを均一に含浸させたAW処理フェルト
(厚み15mm×巾20mmのウール材質)を感光体に押圧
200gで圧接し感光体を周速20mm/秒の回転速度で
30秒間回転した。処理後の感光体表面の粘着力は5g
・fとなった。
(2) AW-treated felt (thickness 15 mm × width 20 mm) uniformly impregnated with 2 g of the compound (S-3), that is, dimethyl silicone oil (KF-96L-2.0, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.). Wool material) was pressed against the photoconductor with a pressure of 200 g and the photoconductor was rotated for 30 seconds at a peripheral speed of 20 mm / sec. The adhesion of the surface of the photoconductor after processing is 5g
・ It became f.

【0386】(3)加熱手段を内蔵したゴムローラーに、
化合物(S−4)、即ちフッ素系界面活性剤(サーフロ
ンS−141、旭硝子(株)製)を含浸させた布を巻き
つけたローラーを、表面温度60℃に加熱した後、感光
体と接触させ、両ドラムを周速度20mm/秒回転速度で
30秒間回転した。感光体表面の粘着力は12g・fに
なった。
(3) To a rubber roller having a built-in heating means,
A roller wound with a cloth impregnated with compound (S-4), that is, a fluorosurfactant (Surflon S-141, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is heated to a surface temperature of 60 ° C. and then contacted with a photoreceptor. Both drums were rotated for 30 seconds at a peripheral speed of 20 mm / second rotation speed. The adhesive force on the surface of the photoconductor became 12 g · f.

【0387】(4)金属芯ローラーにシリコンゴムを巻い
たシリコンゴムローラー((株)金陽社製)を感光体表面
にニップ圧500gf/cm2 で当接し、周速15mm/秒の
回転速度で10秒間回転した。これにより感光体表面の
粘着力は10g・fに低下した。
(4) A silicone rubber roller (manufactured by Kinyo Co., Ltd.) in which a silicone rubber is wound around a metal core roller is brought into contact with the surface of the photoconductor at a nip pressure of 500 gf / cm 2 , and the peripheral speed is 15 mm / sec. It spun for a second. As a result, the adhesive force on the surface of the photoconductor was lowered to 10 g · f.

【0388】感光体表面に剥離性を付与するための浸漬
法に代えて、上記(1)〜(4)の方法によって感光体表面に
剥離性を付与した他は、上述の方法と同様にして、トナ
ー画像形成、被転写材への転写、印刷版の作成及び印刷
を行なったところ、いずれも同様に良好な結果を示し
た。
In the same manner as the above-mentioned method except that the dipping method for imparting releasability to the surface of the photoreceptor is imparted with the releasability to the surface of the photoreceptor by the methods (1) to (4) above. When toner image formation, transfer to a transfer material, printing plate preparation and printing were carried out, all showed similarly good results.

【0389】実施例3 X型無金属フタロシアニン2g、下記構造の結着樹脂
(B−2)8g、下記構造の結着樹脂(B−3)2g、
下記構造の化合物(B)0.15g及びテトラヒドロフ
ラン80gの混合物を500mlのガラス容器にガラスビ
ーズと共に入れ、ペイントシェーカー(東洋精機製作所
製)で60分間分散した後、ガラスビーズを濾別して感
光層分散液とした。
Example 3 2 g of X-type metal-free phthalocyanine, 8 g of a binder resin (B-2) having the following structure, 2 g of a binder resin (B-3) having the following structure,
A mixture of 0.15 g of the compound (B) having the following structure and 80 g of tetrahydrofuran is put in a 500 ml glass container together with glass beads, dispersed for 60 minutes with a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho), and the glass beads are filtered off to disperse the photosensitive layer. And

【0390】[0390]

【化55】 [Chemical 55]

【0391】次いでこの分散液を導電性処理および耐溶
剤処理を施した0.2mm厚の紙版マスター用原紙の上に
ワイヤーバーで塗布し、指触乾燥した後、110℃循環
式オーブンで20秒間加熱した。得られた感光層の膜厚
は8μmであった。この感光層上に以下の様にして膜厚
1.5μmの剥離性表面層を設けた。 ・易剥離性表面層の形成 下記構造のシリコン樹脂10g、下記構造の架橋剤1g
及び架橋用触媒として白金0.1gをn−ヘキサン10
0g中に含有した塗布物をワイヤーラウンドロッドを用
いて塗布し、指触乾燥後、更に120℃で10分間加熱
した。得られた表面の粘着力は1g・f以下であった。
Next, this dispersion was applied onto a 0.2 mm thick base paper for a master for a printing plate, which had been subjected to a conductive treatment and a solvent resistance treatment, with a wire bar, and was dried by touch with a finger, and then was dried in a 110 ° C. circulation type oven at 20 ° C. Heated for seconds. The film thickness of the obtained photosensitive layer was 8 μm. A peelable surface layer having a film thickness of 1.5 μm was provided on the photosensitive layer as follows. -Formation of easily peelable surface layer 10 g of silicone resin having the following structure, 1 g of crosslinking agent having the following structure
And 0.1 g of platinum as n-hexane 10 as a crosslinking catalyst.
The coating material contained in 0 g was coated using a wire round rod, dried by touch with a finger, and further heated at 120 ° C. for 10 minutes. The adhesive strength of the obtained surface was 1 g · f or less.

【0392】[0390]

【化56】 [Chemical 56]

【0393】この感光体を実施例1と同様の装置に装着
し、実施例1と同様に操作して印刷版の作成及び印刷を
行なった。実施例1と同様に地汚れのない鮮明な印刷画
像の印刷物が6万枚以上得られた。
This photoconductor was mounted in the same apparatus as in Example 1 and operated in the same manner as in Example 1 to prepare and print a printing plate. As with Example 1, 60,000 or more printed matters having clear printed images without scumming were obtained.

【0394】実施例4 実施例2で用いたと同様のアモルファスシリコン感光体
を図3に示す装置に装着し、電着塗布法により感光体へ
の剥離性の付与と第1転写層の形成を同時に行なった。
即ち、下記樹脂粒子分散液(L−5)を用いて、実施例
1と同様の方法で感光体上に膜厚1.0μmの第1転写
層(T1)を形成した。 ・樹脂粒子分散液(L−5) 樹脂粒子(AL−4) 8g(固形分量として) 下記の荷電調整用化合物(D−2) 0.02g 下記の化合物(S−5) 0.8g を全量で1リットルになる様にアイソパーGで調整し
た。
Example 4 The same amorphous silicon photoconductor as that used in Example 2 was mounted in the apparatus shown in FIG. 3, and the electrophotographic coating method was used to simultaneously impart the releasability to the photoconductor and to form the first transfer layer. I did.
That is, the following resin particle dispersion (L-5) was used to form a first transfer layer (T 1 ) having a film thickness of 1.0 μm on a photoconductor in the same manner as in Example 1. Resin particle dispersion liquid (L-5) Resin particles (AL-4) 8 g (as solid content) 0.02 g of the following charge adjusting compound (D-2) Compound (S-5) 0.8 g It was adjusted with Isopar G so that it became 1 liter.

【0395】[0395]

【化57】 [Chemical 57]

【0396】次に、第2転写層(T2)を形成するため、
樹脂(A2)として下記構造の樹脂(A2−1)を用い
て、80℃設定のホットメルトコーター13により第1
転写層表面へ20mm/秒のスピードで塗布をし、冷却空
気を吸排気ユニット15から吹きつけて冷却した。得ら
れた第2転写層(T2)の膜厚は2.0μmであった。
Next, in order to form the second transfer layer (T 2 ),
The resin (A 2 ), which has the following structure, is used as the resin (A 2 ).
The transfer layer surface was coated at a speed of 20 mm / sec, and cooling air was blown from the intake / exhaust unit 15 to cool it. The thickness of the obtained second transfer layer (T 2 ) was 2.0 μm.

【0397】[0397]

【化58】 [Chemical 58]

【0398】この感光材料を用いて実施例2と同様にし
てトナー画像の形成、被転写材への転写、印刷版の作成
及び印刷を行った。実施例2と同様に地汚れのない鮮明
な画像の印刷物が6万枚以上得られた。
Using this photosensitive material, a toner image was formed, transfer to a transfer material, printing plate preparation and printing were carried out in the same manner as in Example 2. As with Example 2, 60,000 or more prints with clear images free of background stains were obtained.

【0399】実施例5 下記構造のビスアゾ顔料5g、テトラヒドロフラン95
g及びポリエステル樹脂(バイロン200、東洋紡積
(株)製)5gの混合物をボールミル中で充分に粉砕し
た。次いで、この混合物を取り出し、攪拌下にテトラヒ
ドロフラン520gを加えた。この分散物をワイヤーラ
ウンドロッドを用いて導電性支持体上(厚さ100μm
ポリエチレンテレフタレート支持体に酸化インジウムの
蒸着膜を有する。表面抵抗103Ω)上に塗布して約
0.7μmの電荷発生層を形成した。
Example 5 5 g of bisazo pigment having the following structure and tetrahydrofuran 95
and 5 g of a polyester resin (Vylon 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) were sufficiently pulverized in a ball mill. Then, this mixture was taken out, and 520 g of tetrahydrofuran was added with stirring. This dispersion was placed on a conductive support using a wire round rod (thickness 100 μm
A polyethylene terephthalate support has a vapor deposited film of indium oxide. It was coated on a surface resistance of 10 3 Ω) to form a charge generation layer of about 0.7 μm.

【0400】[0400]

【化59】 Embedded image

【0401】次に、下記構造式のヒドラゾン化合物20
g、ポリカーボネート樹脂(レキサン121、GE社
製)20g及びテトラヒドロフラン160gの混合溶液
をワイヤーラウンドロッドを用いて上記電荷発生層の上
に塗布し、60℃で30秒間乾燥し、更に温度100℃
で20秒間加熱して約18μmの電荷輸送層を形成し、
2層から成る感光層を有する電子写真感光体を得た。
Next, the hydrazone compound 20 of the following structural formula
g, 20 g of a polycarbonate resin (Lexan 121, manufactured by GE) and 160 g of tetrahydrofuran are applied onto the charge generation layer using a wire round rod, dried at 60 ° C. for 30 seconds, and further at a temperature of 100 ° C.
By heating for 20 seconds to form a charge transport layer of about 18 μm,
An electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer composed of two layers was obtained.

【0402】[0402]

【化60】 Embedded image

【0403】この感光層の上に剥離性を付与するための
表面層を形成するために、下記構造の樹脂(P−26)
13g、無水フタル酸0.2g、o−クロロフェノール
0.002g及びトルエン100gの溶液をワイヤーラ
ウンドロッドを用いて膜厚1μmになる様に塗布し、指
触乾燥後更に120℃で1時間加熱した。得られた感光
体の表面の粘着力は5g・fであった。
In order to form a surface layer for imparting releasability on this photosensitive layer, a resin having the following structure (P-26)
A solution of 13 g, 0.2 g of phthalic anhydride, 0.002 g of o-chlorophenol, and 100 g of toluene was applied using a wire round rod to a film thickness of 1 μm, dried by touch, and further heated at 120 ° C. for 1 hour. . The adhesive force on the surface of the obtained photoreceptor was 5 g · f.

【0404】[0404]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0405】上記感光体を図4に示す如き転写層形成装
置を組み込んだ装置に装填し、実施例1と同様にして下
記内容の正荷電樹脂粒子を含有する樹脂粒子分散液(L
−6)を用いて膜厚1.2μmの第1転写層(T1)を形
成した。 ・樹脂粒子分散液(L−6) 樹脂粒子(AL−4) 8g(固形分量として) 荷電調整用化合物(CD−1) 0.018g 分岐テトラデシルアルコール 10g (FOC−1400、日産化学(株)製) を全量で1リットルになる様にアイソパーGで調整し
た。
The above-mentioned photoreceptor was loaded into an apparatus incorporating a transfer layer forming apparatus as shown in FIG. 4, and a resin particle dispersion liquid (L) containing positively charged resin particles having the following contents was prepared in the same manner as in Example 1.
-6) was used to form a first transfer layer (T 1 ) having a thickness of 1.2 μm. Resin particle dispersion liquid (L-6) Resin particles (AL-4) 8 g (as solid content) Charge adjusting compound (CD-1) 0.018 g Branched tetradecyl alcohol 10 g (FOC-1400, Nissan Chemical Co., Ltd.) Was manufactured by Isopar G so that the total amount was 1 liter.

【0406】この上に離型紙からの転写法により第2転
写層(T2)を形成した。即ち、離型紙20としてサンリ
リース(山陽国策パルプ(株)製)を用い、この上に下
記構造の樹脂(A2−2)を2μmの膜厚で塗膜形成し
た紙を、図4に示すようにして第1転写層(T1)上に圧
接し、ローラー圧力3kgf/cm2 、表面温度60℃及び通
過スピード10mm/秒の条件下で第1転写層(T1)上に
膜厚2μmの第2転写層(T2)を形成した。
A second transfer layer (T 2 ) was formed on this by a transfer method from a release paper. That is, FIG. 4 shows a paper in which a resin (A 2 -2) having the following structure is formed into a coating film with a thickness of 2 μm by using Sun release (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.) as the release paper 20. pressed to on the first transfer layer (T 1) to a roller pressure of 3 kgf / cm 2, thickness 2μm on the first transfer layer under the conditions of a surface temperature 60 ° C. and passed through speed 10 mm / sec (T 1) The second transfer layer (T 2 ) of was formed.

【0407】[0407]

【化62】 Embedded image

【0408】この感光材料を表面電位500Vに帯電さ
せた後、He−Neレーザーを用いて633nmの光で版
面での露光量が30erg/cm2 になるように露光した他は
実施例1と同様に操作して印刷版を作成し、オフセット
印刷を行った。得られた結果は実施例1と同等の良好な
性能を示した。
This photosensitive material was charged to a surface potential of 500 V and then exposed to light of 633 nm using a He-Ne laser so that the exposure amount on the plate surface became 30 erg / cm 2 , and the same as Example 1. Was operated to prepare a printing plate, and offset printing was performed. The results obtained showed good performance equivalent to that of Example 1.

【0409】実施例6 光導電性酸化亜鉛100g、下記構造の結着樹脂(B−
4)20g、樹脂(P−23)3g、ウラニン0.01
g、ローズベンガル0.02g、ブロムフェノールブル
ー0.01g、無水マレイン酸0.15g及びトルエン
150gの混合物をホモジナイザー(日本精機(株)
製)に入れ回転数1×104 r.p.m.で10分間分散し
た。この分散物に無水フタル酸0.02g及びo−クロ
ロフェノール0.001gを加えて、更に回転数1×1
3 r.p.m.で1分間分散した。
Example 6 100 g of photoconductive zinc oxide, a binder resin (B-
4) 20 g, resin (P-23) 3 g, uranine 0.01
g, rose bengal 0.02 g, bromphenol blue 0.01 g, maleic anhydride 0.15 g and toluene 150 g, a homogenizer (Nippon Seiki Co., Ltd.)
Manufactured) and dispersed at a rotation speed of 1 × 10 4 rpm for 10 minutes. To this dispersion, 0.02 g of phthalic anhydride and 0.001 g of o-chlorophenol were added, and the number of revolutions was 1 × 1.
Dispersed at 0 3 rpm for 1 minute.

【0410】[0410]

【化63】 [Chemical formula 63]

【0411】次いでこの分散液を導電性処理及び耐溶剤
処理を施した0.2mm厚の紙版マスター用原紙の上に塗
布量25g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、指触
乾燥した後、120℃で循環式オーブンで1時間加熱し
た。この様にして得られた感光体表面の粘着力を測定し
たところ4g・fであった。
Next, this dispersion was applied onto a 0.2 mm thick base paper for a master for a printing plate, which had been subjected to a conductive treatment and a solvent resistance treatment, by a wire bar so as to have a coating amount of 25 g / m 2, and was dried by touch. After that, it was heated in a circulating oven at 120 ° C. for 1 hour. The adhesive force on the surface of the photoreceptor thus obtained was measured and found to be 4 g · f.

【0412】上記感光層の上に、実施例1と同様にして
第1転写層(T1)1.3μm及び第2転写層(T2)1.
5μmから成る積層構造の転写層を形成した。得られた
転写層電子写真感光材料を25℃、60%RHの条件下
に1晩静置した。この感光体をELP−404V製版機
(富士写真フイルム(株)製)で現像部のバイアス電圧
を100Vに設定し、液体現像剤として前記(LD−
1)を用いて複写画像を形成し、その後アイソパーGの
リンス浴を通してリンスを行った。得られた転写層上に
形成された複写画像は文字・細線・網点からなる連続階
調部等の高精細な画像部も鮮明で良好なものであり、非
画像部の地汚れも認められなかった。
On the above-mentioned photosensitive layers, in the same manner as in Example 1, the first transfer layer (T 1 ) 1.3 μm and the second transfer layer (T 2 ) 1.
A transfer layer having a laminated structure of 5 μm was formed. The transfer layer electrophotographic photosensitive material thus obtained was allowed to stand overnight under the conditions of 25 ° C. and 60% RH. The bias voltage of the developing portion of this photoconductor was set to 100 V by an ELP-404V plate making machine (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and the liquid developer was used as the above (LD-
1) was used to form a duplicate image and then rinsed through an Isopar G rinse bath. The copied image formed on the obtained transfer layer is clear and good even in high-definition image areas such as continuous tone areas consisting of characters, fine lines, and halftone dots, and scumming in non-image areas is also recognized. There wasn't.

【0413】以上の様にして製版された感光材料をスト
レートマスター(三菱製紙(株)製)と重ねてシリコー
ンゴムで被覆した中空ローラーの内部に赤外線ランプヒ
ーターを組み込んだ一対の加熱ローラーの間を通過させ
た。この時のローラーの表面温度は上下とも60℃、ロ
ーラー間のニップ圧力は3kgf/cm2 、搬送スピードは2
00mm/秒に設定した。通過後、感光体とストレートマ
スターを分離し、ストレートマスターに転写した転写層
の状態を目視評価した所、転写前の感光材料上の複写画
像と殆ど変わりなく画像の劣化は認められなかった。ま
た、転写後の感光体の表面上には転写層の残存は全く認
められず、転写性は極めて良好であった。
The photosensitive material plate-made as described above was laminated with a straight master (manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) and covered with silicone rubber. A hollow roller covered with an infrared lamp heater was provided between a pair of heating rollers. Let it pass. At this time, the surface temperature of the rollers is 60 ° C both above and below, the nip pressure between the rollers is 3 kgf / cm 2 , and the conveying speed is 2
It was set to 00 mm / sec. After passing, the photoreceptor and the straight master were separated, and the state of the transfer layer transferred to the straight master was visually evaluated. As a result, there was almost no difference from the copied image on the photosensitive material before transfer, and no image deterioration was observed. Further, no transfer layer remained on the surface of the photoreceptor after the transfer, and the transferability was extremely good.

【0414】他方、比較として、上記感光体において樹
脂(P−23)3gを用いない他は全く同様にして電子
写真感光体を作成したところ、表面の粘着力は400g
・f以上であった。上記と同様にして転写層を形成し転
写を行ったが、感光体表面と転写層との界面での剥離を
全く示さなかった。
On the other hand, as a comparison, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner except that 3 g of the resin (P-23) was not used in the above photosensitive member, and the surface adhesive force was 400 g.
・ F or more. A transfer layer was formed and transferred in the same manner as above, but no peeling was observed at the interface between the surface of the photoreceptor and the transfer layer.

【0415】次に、ストレートマスターに転写層を転写
した印刷原版を、不感脂化処理(即ち、転写層除去)し
て印刷版とし、その印刷性能を調べた。即ち、上記の印
刷版を温度25℃にてPS版処理剤(DP−4、富士写
真フイルム(株)製)を蒸留水で7倍に希釈した不感脂
化処理液(pH13.1)中に20秒間浸漬しゆるくこ
すりながら転写層を除去し、充分水洗した。この様にし
て得られた印刷版を200倍の光学顕微鏡を用いて目視
観察したところ、非画像部には転写層の残存は認められ
ず、且つ画像部の細線・細文字等の高解像度域の欠落は
認められなかった。
Next, the printing original plate having the transfer layer transferred to the straight master was desensitized (that is, the transfer layer was removed) to obtain a printing plate, and its printing performance was examined. That is, the above printing plate was placed in a desensitizing solution (pH 13.1) obtained by diluting a PS plate treating agent (DP-4, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 7 times with distilled water at a temperature of 25 ° C. The transfer layer was removed by immersing for 20 seconds while gently rubbing, and thoroughly washed with water. When the printing plate thus obtained was visually observed using a 200 × optical microscope, no transfer layer remained in the non-image area, and the high-resolution area such as fine lines and fine characters in the image area was observed. Was not observed.

【0416】この版を浸し水としてPS版用浸し水(S
G−23、東京インキ(株)製)を蒸留水で130倍に
希釈した水溶液(pH7.0)を用い、印刷機としてリ
ョービ320OMCD型(リョービ(株)製)を用い、
印刷紙として中性紙を使用して、各種オフセット印刷用
色インキで印刷した。その結果、色インキの種類にかか
わらず、いずれも地汚れの発生しない鮮明な画像の印刷
物が千枚以上得られた。他方、酸化亜鉛を用いた電子写
真感光体を酸性条件下でキレート化剤を主剤とする不感
脂化液で不感脂化して平版印刷版とする公知のシステム
では、中性紙を印刷用紙として使用すると、印刷枚数が
数百枚で非画像部に地汚れの発生が生じ、また墨以外の
オフセット印刷用色インキを用いるとやはり印刷枚数が
数百枚程度で地汚れの発生を生じた。これに対して、本
発明のオフセット印刷版の作成方法では同じ酸化亜鉛感
光体を利用しながらも従来の方式とは異なり極めて良好
な印刷性能を有する印刷版を提供することができる。
[0416] This plate was used as the immersion water for the PS plate.
An aqueous solution (pH 7.0) obtained by diluting G-23 and Tokyo Ink Co., Ltd. with distilled water 130 times was used, and Ryobi 320OMCD type (manufactured by Ryobi Co., Ltd.) was used as a printing machine.
Using neutral paper as the printing paper, printing was performed with various color inks for offset printing. As a result, regardless of the type of color ink, over 1,000 sheets of printed matter with clear images with no background stain were obtained. On the other hand, in a known system in which an electrophotographic photoreceptor using zinc oxide is desensitized with a desensitizing liquid containing a chelating agent as a main component under acidic conditions to form a lithographic printing plate, neutral paper is used as a printing paper. As a result, the number of printed sheets was several hundred, and the non-image area was stained, and when a color ink for offset printing other than the black ink was used, the number of printed sheets was about several hundred and the background was stained. On the other hand, the offset printing plate producing method of the present invention can provide a printing plate having extremely good printing performance, unlike the conventional method, while using the same zinc oxide photoreceptor.

【0417】実施例7 有機光導電性物質として4,4′−ビス(ジエチルアミ
ノ)−2,2′−ジメチルトリフェニルメタン5g、下
記構造の結着樹脂(B−5)4g、樹脂(P−12)
1.0g、下記構造式の色素(D−1)40mg、化学増
感剤として下記構造のアニリド化合物(C)0.2gを
メチレンクロライド30mlとエチレンクロライド30ml
との混合物に溶解し感光層分散液とした。
Example 7 4,4'-bis (diethylamino) -2,2'-dimethyltriphenylmethane (5 g) as an organic photoconductive substance, 4 g of a binder resin (B-5) having the following structure, and a resin (P- 12)
1.0 g, 40 mg of the dye (D-1) having the following structural formula, and 0.2 g of the anilide compound (C) having the following structure as a chemical sensitizer, 30 ml of methylene chloride and 30 ml of ethylene chloride.
To obtain a photosensitive layer dispersion liquid.

【0418】[0418]

【化64】 [Chemical 64]

【0419】この感光層分散液をワイヤーラウンドロッ
ドを用いて実施例5に記載の導電性透明支持体上に塗布
して約4μmの感光層を有する有機薄膜を得た。感光体
表面の粘着力は8g・fであった。この感光体を実施例
1で用いた感光体の代わりに用いた他は実施例1と同様
に操作して印刷版を形成した。得られた印刷物上の印刷
画像は地カブリのない鮮明なもので、且つ印刷版の耐刷
性も実施例1と同様に良好であった。
This photosensitive layer dispersion was applied onto the conductive transparent support described in Example 5 using a wire round rod to obtain an organic thin film having a photosensitive layer of about 4 μm. The adhesive force on the surface of the photoconductor was 8 g · f. A printing plate was formed in the same manner as in Example 1 except that this photoconductor was used instead of the photoconductor used in Example 1. The printed image on the obtained printed matter was clear without background fog, and the printing durability of the printing plate was good as in Example 1.

【0420】実施例8〜22 実施例2において、第1転写層(T1)及び第2転写層
(T2)を下記表−Kに示す各樹脂粒子を用いて形成する
他は実施例2と同様に操作して印刷版の作成及びょびオ
フセット印刷を行なった。得られた印刷物の画質及び耐
刷力はいずれも実施例2と同様に良好であった。
Examples 8 to 22 Example 2 is different from Example 2 except that the first transfer layer (T 1 ) and the second transfer layer (T 2 ) are formed by using the resin particles shown in Table K below. In the same manner as described above, a printing plate was prepared and offset printing was performed. The image quality and printing durability of the obtained printed matter were as good as in Example 2.

【0421】[0421]

【表18】 [Table 18]

【0422】実施例23〜25 実施例4において、第2転写層(T2)に用いた樹脂(A
2−1)の代わりに下記表−Lの樹脂(A2)を用いた他
は実施例4と同様にして印刷版を作成し、オフセット印
刷を行なった。得られた印刷物の画質及び耐刷性はいず
れも実施例4と同様に良好であった。
Examples 23 to 25 The resin (A) used for the second transfer layer (T 2 ) in Example 4 was used.
2 -1) was used following Table -L resin (A 2) in place in the same manner as in Example 4 to create a printing plate was subjected to offset printing. The image quality and printing durability of the obtained printed matter were as good as in Example 4.

【0423】[0423]

【表19】 [Table 19]

【0424】実施例26〜29 実施例5において、第2転写層(T2)に用いた樹脂(A
2−2)の代わりに下記表−Mの樹脂(A2)を用いた他
は実施例5と同様にして印刷版を作成し、オフセット印
刷を行なった。得られた印刷物の画質及び耐刷性はいず
れも実施例5と同様に良好であった。
Examples 26 to 29 Resins (A) used in the second transfer layer (T 2 ) in Example 5 were used.
2-2) except for using the following table -M resin (A 2) in place in the same manner as in Example 5 to create a printing plate was subjected to offset printing. The image quality and printing durability of the obtained printed matter were as good as in Example 5.

【0425】[0425]

【表20】 [Table 20]

【0426】実施例30〜37 実施例1において、樹脂(P−2)2.0gの代わりに
下記表−Nの樹脂(P)及び/又は樹脂粒子(L)を各
々用いた他は実施例1と同様にして電子写真感光体及び
印刷版を作成し、印刷を行なった。得られた印刷物の画
質及び耐刷性はいずれも実施例1と同様に良好であっ
た。
Examples 30 to 37 In Example 1, except that the resin (P) and / or the resin particles (L) shown in Table N below were used in place of 2.0 g of the resin (P-2), respectively. An electrophotographic photosensitive member and a printing plate were prepared and printed in the same manner as in 1. The image quality and printing durability of the obtained printed matter were as good as in Example 1.

【0427】[0427]

【表21】 [Table 21]

【0428】実施例38〜45 実施例1において、樹脂(P−2)、無水フタル酸及び
o−クロロフェノールの代わりに下記表−Oの各化合物
を各々用いた他は実施例1と同様に操作して印刷版を作
成し、印刷を行なった。得られた印刷物の画質及び耐刷
性はいずれも実施例1と同様に良好であった。
Examples 38 to 45 In the same manner as in Example 1 except that each compound of the following Table -O was used in place of the resin (P-2), phthalic anhydride and o-chlorophenol in Example 1. The operation was performed to prepare a printing plate, and printing was performed. The image quality and printing durability of the obtained printed matter were as good as in Example 1.

【0429】[0429]

【表22】 [Table 22]

【0430】実施例46〜57 実施例1〜45で作成した被転写材に転写した版(印刷
原版)を用いて不感脂化処理を下記の様に行ってオフセ
ット印刷版を作成した。下記表−Pの求核性化合物0.
2モル、有機溶媒30g及びニューコールB4SN(日
本乳化剤(株)製)1.0gに蒸留水を加え1リットル
とした後、混合物のpHを12.5に調整した。各印刷
原版を処理液中に温度35℃で30秒間浸漬しゆるくこ
すりながら不感脂化処理を行った。得られたプレートを
原実施例と同様の印刷条件で印刷した。各印刷版とも原
実施例と同等の良好な性能を示した。
Examples 46 to 57 Using the plate (printing original plate) transferred to the transfer material prepared in Examples 1 to 45, desensitizing treatment was carried out as follows to prepare offset printing plates. Nucleophilic compounds of Table-P below.
Distilled water was added to 2 mol, 30 g of an organic solvent and 1.0 g of Newcol B4SN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) to make 1 liter, and then the pH of the mixture was adjusted to 12.5. Each printing original plate was immersed in the treatment liquid at a temperature of 35 ° C. for 30 seconds and rubbed gently to perform desensitization. The obtained plate was printed under the same printing conditions as in the original example. Each printing plate showed good performance equivalent to that of the original example.

【0431】[0431]

【表23】 [Table 23]

【0432】実施例58〜74 実施例4において、化合物(S−5)0.8g/リット
ルの代わりに下記表−Qの各化合物(S)を用いた他は
実施例4と全く同様にして印刷物を得た。実施例4と同
様の良好な結果が得られた。即ち、これらの化合物
(S)を用いることで感光体表面の剥離性が有効に発現
した。
Examples 58 to 74 In the same manner as in Example 4, except that each compound (S) shown in the following Table-Q was used in place of 0.8 g / l of the compound (S-5) in Example 4. I got a print. Good results similar to those in Example 4 were obtained. That is, by using these compounds (S), the releasability of the surface of the photoconductor was effectively exhibited.

【0433】[0433]

【表24】 [Table 24]

【0434】[0434]

【表25】 [Table 25]

【0435】[0435]

【表26】 [Table 26]

【0436】[0436]

【表27】 [Table 27]

【0437】[0437]

【表28】 [Table 28]

【0438】[0438]

【発明の効果】本発明に従えば、転写層の転写が良好
で、感光体上に転写残りが発生せず、転写不良によるト
ナー画像の欠落の生じない、高精細、高画質の画像を有
する印刷版を簡便に得ることができる。更に、転写条件
を緩和しても充分な転写性を得ることができる。また、
剥離性化合物(S)を用いて感光体表面に剥離性を付与
することにより、通常の電子写真感光体を用いることが
できる。
According to the present invention, the transfer layer has a good transfer, no transfer residue is left on the photosensitive member, and a toner image is not missing due to a transfer failure. A printing plate can be easily obtained. Furthermore, sufficient transferability can be obtained even if the transfer conditions are relaxed. Also,
An ordinary electrophotographic photoreceptor can be used by imparting releasability to the surface of the photoreceptor with the release compound (S).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の方法を説明するための概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the method of the present invention.

【図2】第2転写層(T2)の形成法として、電着塗布法
を用いた本発明の方法を実施するための装置例を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of an apparatus for carrying out the method of the present invention using an electrodeposition coating method as a method for forming a second transfer layer (T 2 ).

【図3】第2転写層(T2)の形成法として、熱溶融塗布
法を用いた本発明の方法を実施するための装置例を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of an apparatus for carrying out the method of the present invention using a hot melt coating method as a method for forming a second transfer layer (T 2 ).

【図4】第2転写層(T2)の形成法として、転写法を用
いた本発明の方法を実施するための装置例を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing an example of an apparatus for carrying out the method of the present invention using a transfer method as a method for forming a second transfer layer (T 2 ).

【図5】剥離性化合物(S)付与の一例を示す装置図で
ある。
FIG. 5 is an apparatus diagram showing an example of applying a peeling compound (S).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 感光体の支持体 2 感光層 3 トナー画像 10 化合物(S)塗布装置 11 感光体 12 転写層 12a 熱可塑性樹脂粒子の分散物 12b 熱可塑性樹脂粒子の分散物 12c 熱可塑性樹脂 12T1 第1転写層 12T2 第2転写層 13a 第1転写層用電着ユニット 13b 第2転写層用電着ユニット 13 ホットメルトコーター 13w ホットメルトコーター待機位置 14 液体現像ユニットセット 14L 液体現像ユニット 15 吸排気ユニット 15a 吸気部 15b 排気部 16 被転写材 17 熱転写手段 17a 予熱手段 17b 転写用バックアップローラー 17c 剥離用バックアップローラー 18 コロナ帯電装置 19 露光装置 20 剥離紙 110 化合物(S)塗布装置 111 トランスファーロール 112 メタリングロール 113 化合物(S) 117 第2転写層転写装置 117b 加熱ローラー 117c 冷却ローラー1 Support of Photoreceptor 2 Photosensitive Layer 3 Toner Image 10 Compound (S) Coating Device 11 Photoreceptor 12 Transfer Layer 12a Dispersion of Thermoplastic Resin Particles 12b Dispersion of Thermoplastic Resin Particles 12c Thermoplastic Resin 12T 1 First Transfer Layer 12T 2 Second transfer layer 13a First transfer layer electrodeposition unit 13b Second transfer layer electrodeposition unit 13 Hot melt coater 13w Hot melt coater standby position 14 Liquid developing unit set 14L Liquid developing unit 15 Air intake / exhaust unit 15a Air intake Part 15b Exhaust part 16 Transferred material 17 Thermal transfer means 17a Preheating means 17b Transfer backup roller 17c Separation backup roller 18 Corona charging device 19 Exposure device 20 Release paper 110 Compound (S) coating device 111 Transfer roll 112 Metalling roll 113 Compound (S) 117 second transfer layer transfer device 117b heating roller 117c cooling roller

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子写真感光体の表面に、化学反応処理
で除去可能で且つ剥離可能な転写層を形成し、電子写真
プロセスにより該転写層上にトナー画像を形成し、該ト
ナー画像を転写層ごと、印刷時に平版印刷可能な親水性
表面となる被転写材に熱転写し、次いで、転写された被
転写材の転写層を化学反応処理により除去する電子写真
式製版印刷版の作成方法において、該転写層がガラス転
移点10〜140℃又は軟化点35℃〜180℃の樹脂
(A1)及びガラス転移点45℃以下又は軟化点60℃以
下の樹脂(A2)であって、樹脂(A1)のガラス転移点又
は軟化点が樹脂(A2)のそれよりも2℃以上高い少なく
とも二種の樹脂を同一粒子内に含有する熱可塑性樹脂粒
子(AL)を電着塗布法により成膜してなる第1転写層
(T1)と、この層の上に設けられた上記樹脂(A2)を主
として含有する第2転写層(T2)からなる積層構造であ
ることを特徴とする電子写真式製版印刷版の作成方法。
1. A transfer layer which is removable by a chemical reaction treatment and which can be peeled off is formed on the surface of an electrophotographic photoreceptor, a toner image is formed on the transfer layer by an electrophotographic process, and the toner image is transferred. In the method for producing an electrophotographic plate-making printing plate, in which each layer is heat-transferred to a transfer material that becomes a lithographically printable hydrophilic surface during printing, and then the transfer layer of the transferred transfer material is removed by a chemical reaction treatment, a transcription layer is the glass transition point 10 to 140 ° C. or a softening point 35 ° C. to 180 ° C. of the resin (a 1) and a glass transition point of 45 ° C. or less or a softening point 60 ° C. or less of the resin (a 2), the resin ( The thermoplastic resin particles (AL) containing at least two kinds of resins in which the glass transition point or softening point of A 1 ) is higher than that of the resin (A 2 ) by 2 ° C. or more by the electrodeposition coating method. first transfer layer formed by film with (T 1), the Electrophotographic plate making printing plate creation and wherein the second is a laminated structure comprising a transfer layer (T 2) which contains mainly the above resin (A 2) provided on the.
【請求項2】 樹脂(A1)及び樹脂(A2)がそれぞれ下
記の重合体成分(a)及び重合体成分(b)のうちの少
なくともいずれか一方を含有することを特徴とする請求
項1記載の電子写真式製版印刷版の作成方法。 重合体成分(a):−CO2H基、−CHO基、−SO3
H基、−SO2H基、−P(=O)(OH)R1基{R1
−OH基、炭化水素基又は−OR2基(R2は炭化水素基
を表わす)を表わす}、フェノール性OH基、酸環状無
水物含有基、−CONHCOR3基(R3は炭化水素基を
表わす)及び−CONHSO23基のうちの少なくとも
1つの基を含有する重合体成分 重合体成分(b):化学反応処理で−CO2H基、−C
HO基、−SO3H基、−SO2H基、−P(=O)(O
H)R1基{R1は−OH基、炭化水素基又は−OR2
(R2は炭化水素基を表わす)を表わす}及び−OH基
のうちの少なくとも1つの基を生成する官能基を少なく
とも1種含有する重合体成分
2. The resin (A 1 ) and the resin (A 2 ) each contain at least one of the following polymer component (a) and polymer component (b): 1. A method for producing the electrophotographic plate-making printing plate described in 1. Polymer component (a): - CO 2 H group, -CHO group, -SO 3
H group, -SO 2 H group, -P (= O) (OH ) R 1 group {R 1 represents a -OH group, a hydrocarbon group or -OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group)} , phenolic OH groups, acid cyclic anhydride-containing group, -CONHCOR 3 group (R 3 represents a hydrocarbon group) and a polymer component polymer component containing at least one of the radicals -CONHSO 2 R 3 group (b): -CO 2 H group in a chemical reaction process, -C
HO group, -SO 3 H group, -SO 2 H group, -P (= O) (O
H) R 1 group {R 1 represents an -OH group, a hydrocarbon group or an -OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group)} and a functional group forming at least one group of an -OH group. Polymer component containing at least one
【請求項3】 第2転写層(T2)が、熱溶融塗布法、電
着塗布法及び転写法のいずれかの方法により形成される
ことを特徴とする請求項1記載の電子写真式製版印刷版
の作成方法。
3. The electrophotographic printing plate according to claim 1, wherein the second transfer layer (T 2 ) is formed by any one of a hot melt coating method, an electrodeposition coating method and a transfer method. How to make a print version.
【請求項4】 樹脂粒子(AL)及び第2転写層(T2)
を電着塗布法で形成する際の樹脂粒子(A2L)が、各
々比誘電率3.5以下の電気絶縁性液体中に分散されて
供給されることを特徴とする請求項3記載の電子写真式
製版印刷版の作成方法。
4. Resin particles (AL) and second transfer layer (T 2 ).
4. The resin particles (A 2 L) used when the resin is formed by the electrodeposition coating method are dispersed in an electrically insulating liquid having a relative dielectric constant of 3.5 or less and supplied. How to make an electrophotographic printing plate.
【請求項5】 樹脂粒子(AL)及び樹脂粒子(A
2L)が、各々電子写真感光体と対向して設置された対
向電極の間に供給され、外部電源より印加された電位勾
配に従って電気泳動して電子写真感光体に付着又は電着
されて成膜されることを特徴とする請求項4記載の電子
写真式製版印刷版の作成方法。
5. Resin particles (AL) and resin particles (A
2 L) is supplied between the counter electrodes which are respectively installed facing the electrophotographic photosensitive member, and is electrophoresed according to the potential gradient applied from the external power source to be adhered or electrodeposited on the electrophotographic photosensitive member. The method for producing an electrophotographic plate-making printing plate according to claim 4, wherein the film is formed.
【請求項6】 電子写真感光体が、第1転写層(T1)が
形成される時にはJIS Z0237-1980の「粘着テープ・粘着
シート試験方法」による粘着力が100gram・force(g
・f)以下の表面剥離性を有することを特徴とする請求
項1〜5のいずれかに記載の電子写真式製版印刷版の作
成方法。
6. The electrophotographic photoreceptor has an adhesive force of 100 gram · force (g) according to JIS Z0237-1980 “Adhesive tape / adhesive sheet test method” when the first transfer layer (T 1 ) is formed.
F) The method for producing an electrophotographic plate-making printing plate according to any one of claims 1 to 5, which has the following surface releasability.
JP15493495A 1994-06-21 1995-06-21 Production of electrophotographic printing plate Pending JPH0869135A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007284617A (en) * 2006-04-19 2007-11-01 Toyota Motor Corp Vinyl polymer of monomer containing sulfone group, method for producing the same, polymer electrolyte, polymer electrolyte film and fuel cell

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