JPH0864402A - Thin film resistor - Google Patents

Thin film resistor

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JPH0864402A
JPH0864402A JP6201782A JP20178294A JPH0864402A JP H0864402 A JPH0864402 A JP H0864402A JP 6201782 A JP6201782 A JP 6201782A JP 20178294 A JP20178294 A JP 20178294A JP H0864402 A JPH0864402 A JP H0864402A
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Abstract

PURPOSE: To enable further free and easy selection of a resistance value of a thin resistor formed by using a resistance material such as a film type, a sheet type and a thin plate type material. CONSTITUTION: The title resistor is formed by forming electrodes 2a, 2b in opposed two surfaces which are vertical to a thickness direction of a thin film resistance material 1 and an area of a conductor part of at least one of the electrodes 2a, 2b in contact with a thin film resistance material 1 is smaller than that of the opposed two surfaces. An electrode in such a thin film resistor can be arranged to make just a part thereof overlap each other. At least one of the electrodes can be formed by providing a dotted or linear electrode conductor-free part or can be formed put on an insulator or a high resistance conductor with an area which is smaller than that of an electrode. An electrode of a thin film resistor can be also formed by overlaying at least two striped conductor patterns.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電気回路に用いられる
抵抗体であって、薄膜状の抵抗材料の両面に電極が設け
られ、電流が薄膜状抵抗材料の厚さ方向に流れる薄膜抵
抗体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resistor used in an electric circuit, in which electrodes are provided on both sides of a thin film resistance material, and a current flows in the thickness direction of the thin film resistance material. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の電気回路に用いられる抵抗体の多
くは、プレーナ型に代表されるような抵抗体の面に沿っ
た方向に電流が流れる形式のものであった。最も良く用
いられる炭素被膜抵抗は、その代表例である。一方、抵
抗体の厚さ方向に電流が流れるサンドイッチ型の抵抗体
の代表例としては、正特性サーミスタ(PTC)があげ
られる。
2. Description of the Related Art Most of resistors used in conventional electric circuits are of a type in which a current flows in a direction along a surface of the resistor as represented by a planar type. The most commonly used carbon film resistor is a typical example. On the other hand, as a typical example of a sandwich type resistor in which a current flows in the thickness direction of the resistor, there is a PTC thermistor.

【0003】図9に一般的な薄膜抵抗体の従来例を模式
的に示す。図示されているように、薄板状の抵抗材料1
の上下両面に、それぞれ電極2a,2bを形成する。薄
板状の抵抗材料1がシート状またはフィルム状であって
も同様である。これらの電極はそれぞれ図示しない外部
の電気回路に接続される。ここで、抵抗体の外形寸法が
規定されていれば、抵抗値Rは、抵抗材料の厚みをt、
電極面積をS、抵抗材料の体積抵抗率をρとすると、R
=ρ(t/S)により計算される。
FIG. 9 schematically shows a conventional example of a general thin film resistor. As shown in the figure, a sheet-shaped resistance material 1
Electrodes 2a and 2b are formed on the upper and lower surfaces of the above. The same applies to the case where the thin plate resistance material 1 has a sheet shape or a film shape. Each of these electrodes is connected to an external electric circuit (not shown). Here, if the external dimensions of the resistor are defined, the resistance value R is the thickness t of the resistor material,
Let S be the electrode area and ρ be the volume resistivity of the resistive material, then R
= Ρ (t / S).

【0004】図10には、図9の薄膜抵抗体に比べ、抵
抗材料の厚みを薄くし、抵抗値をより小さく設定した薄
膜抵抗体を示す。図9および図10に示すように、従来
は、板状抵抗材料1の上下面の全面にわたって電極が設
けられていた。
FIG. 10 shows a thin film resistor in which the resistance material is made thinner and the resistance value is set smaller than that of the thin film resistor shown in FIG. As shown in FIGS. 9 and 10, conventionally, electrodes are provided over the entire upper and lower surfaces of the plate-shaped resistance material 1.

【0005】これらの電気回路に用いられる抵抗体にお
いて、抵抗値の設定および調整は、材料の体積抵抗率を
変えるか、スリット等により実質的に抵抗体の縦横寸法
を変えることにより行っていた。一方、フィルムやシー
トのような薄膜抵抗材料の厚み方向に通電する構造の抵
抗体においては、材料の体積抵抗率を自由に変更するこ
とは、材料固有の特性のため変更不可であったり、材料
を変更しようとするとコストの面からとりわけ困難であ
り、抵抗体の寸法は外形の制約から変更ができない場合
が多い。従って、抵抗値を自由に変更するための方法
は、実質的になかった。
In the resistors used in these electric circuits, the resistance value is set and adjusted by changing the volume resistivity of the material or by substantially changing the vertical and horizontal dimensions of the resistors by slits or the like. On the other hand, in the case of a resistor having a structure in which current flows in the thickness direction of a thin film resistance material such as a film or sheet, it is impossible to change the volume resistivity of the material freely because of the unique characteristics of the material, However, it is difficult to change the size of the resistor, and it is often impossible to change the size of the resistor due to the limitation of the outer shape. Therefore, there has been virtually no method for freely changing the resistance value.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑み、特に、平面電極で挟まれた薄い抵抗体の抵抗
値を自由に選択できるようにすることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention, in particular, to allow the resistance value of a thin resistor sandwiched by plane electrodes to be freely selected.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、フィルム
状、シート状、薄板状などの抵抗材料を用いて電流を厚
さ方向に流す薄い抵抗体を形成するとき、材料の厚み
や、抵抗率を変えることに加えて、上下の電極の実質的
な有効面積を変えることを組み合わせることにより、任
意の抵抗値をより自由に選択できることに想到した。
Means for Solving the Problems When the present inventors form a thin resistor in which a current flows in the thickness direction by using a resistive material such as a film, a sheet, or a thin plate, the thickness of the material, By changing the effective resistivity of the upper and lower electrodes in combination with changing the resistivity, it has been conceived that an arbitrary resistance value can be selected more freely.

【0008】本発明によれば、薄膜抵抗材料の厚さ方向
に垂直な対向する2面にそれぞれ電極を形成してなり、
該電極の少なくとも一の、該薄膜抵抗材料に接する導体
部分の面積が、該対向する2面の面積よりも小さい薄膜
抵抗体が提供される。このような薄膜抵抗体における電
極は、これらの電極の一部のみが重なり合うように配置
することができる。また、電極のうちの少なくとも一
に、点状または線状の電極導体のない部分を設けること
ができる。この電極導体のない部分は、粒度の荒い導体
を溶射することによっても形成できる。また、電極の少
なくとも一を、前記薄膜抵抗材料の上に置かれた、該電
極より小さい面積を有する絶縁体または高抵抗導体の上
に重ねて形成することができる。本発明の薄膜抵抗体の
電極は、複数の細長い帯状の導体部をほぼ平行に並べて
なる縞状の導体パターンを少なくとも2回重ねて形成す
ることもできる。
According to the present invention, electrodes are formed on two opposing surfaces of the thin film resistance material which are perpendicular to the thickness direction,
There is provided a thin film resistor in which at least one conductor portion of the electrode, which is in contact with the thin film resistor material, has an area smaller than the area of the two opposing surfaces. The electrodes in such a thin film resistor can be arranged such that only some of these electrodes overlap. Further, at least one of the electrodes can be provided with a portion without a dot-shaped or linear electrode conductor. The part without the electrode conductor can also be formed by spraying a conductor having a coarse grain size. Further, at least one of the electrodes can be formed by being stacked on an insulator or a high resistance conductor which has an area smaller than that of the electrode and which is placed on the thin film resistance material. The electrode of the thin film resistor of the present invention may be formed by stacking a striped conductor pattern formed by arranging a plurality of elongated strip-shaped conductor portions substantially in parallel at least twice.

【0009】また、本発明によれば、複数の薄膜抵抗材
料を重ねた構造を有しており、薄膜抵抗材料の厚さ方向
に垂直な外面にある電極および薄膜抵抗材料間に設けら
れた電極の少なくとも一の、薄膜抵抗材料に接する導体
部分の面積が、薄膜抵抗材料の面積よりも小さいことを
特徴とする抵抗体が提供される。このようにして抵抗体
を複合化することにより、より広い抵抗レンジの設定が
可能となる利点がある。また、一定の厚さの抵抗材料を
用いて、所望の厚さを有する薄膜抵抗体を形成すること
ができる。
Further, according to the present invention, it has a structure in which a plurality of thin film resistance materials are stacked, and an electrode provided on an outer surface perpendicular to the thickness direction of the thin film resistance material and an electrode provided between the thin film resistance materials. Is provided, wherein the area of at least one of the conductor portions in contact with the thin film resistance material is smaller than the area of the thin film resistance material. By combining the resistors in this way, there is an advantage that a wider resistance range can be set. Moreover, a thin film resistor having a desired thickness can be formed by using a resistor material having a constant thickness.

【0010】さらに、本発明によれば、薄膜抵抗材料の
厚さ方向に垂直な対向する2面の少なくとも一方に、薄
膜抵抗材料の厚さより大きな間隔を置いて2以上の電極
を設け、対向する2個の電極から構成される抵抗素子が
複数個直列に接続される構成を有することを特徴とする
薄膜抵抗体が提供される。このような構成を採用するこ
とにより、一単位の抵抗体の厚さの中で、実質的に複数
の抵抗体を形成することができ、これらの抵抗体の直列
の接続により、より広い抵抗レンジを設定することがで
きる。したがって、抵抗値の選択の自由度が向上すると
いう利点がある。
Further, according to the present invention, at least one of two opposing surfaces perpendicular to the thickness direction of the thin film resistance material is provided with two or more electrodes spaced apart by a distance larger than the thickness of the thin film resistance material and facing each other. There is provided a thin-film resistor having a structure in which a plurality of resistance elements each including two electrodes are connected in series. By adopting such a configuration, it is possible to substantially form a plurality of resistors within the thickness of one resistor, and by connecting these resistors in series, a wider resistance range can be obtained. Can be set. Therefore, there is an advantage that the degree of freedom in selecting the resistance value is improved.

【0011】上記の構成を採用することにより、材料面
での制約が多い、薄い材料を用いた薄膜抵抗体におい
て、目標の抵抗値を容易に実現することができる。フィ
ルム状の薄い抵抗材料の上下面に電極を形成し、抵抗値
を自由に調整しつつ、小さな抵抗体を実現することがで
きる。このような薄い抵抗材料自体にパターンを形成し
ようとすると、非常に細かい打ち抜き加工が要求され、
材料や抵抗値によっては、任意の抵抗値の設定が困難な
場合が生じるが、本発明によれば、このようなパターン
加工が不要となり、小さな抵抗体の形成が容易になる。
本発明の抵抗体を応用して実現できる様々の機能を、下
記の実施例を参照しつつ詳細に説明する。
By adopting the above structure, it is possible to easily realize the target resistance value in the thin film resistor using a thin material, which has many restrictions in terms of material. By forming electrodes on the upper and lower surfaces of a film-shaped thin resistance material and freely adjusting the resistance value, a small resistor can be realized. When trying to form a pattern on such a thin resistance material itself, very fine punching is required,
Depending on the material and the resistance value, it may be difficult to set an arbitrary resistance value, but according to the present invention, such pattern processing is unnecessary and a small resistor can be easily formed.
Various functions that can be realized by applying the resistor of the present invention will be described in detail with reference to the following examples.

【0012】なお、本発明の薄膜抵抗材料の形状は、フ
ィルム状、シート状、または薄板状などである。また、
上記の抵抗材料としては、薄い形状のもの、または薄く
加工できる材料であればよく、ポリアセン、ポリアニリ
ン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性の高分子
体や、カーボン等の微細な粒子を分散させたポリエステ
ル、ポリイミド、ポリエーテル・サルフォン、ポリエー
テル・エーテル・ケトン等の高分子体や、モリブデンシ
リサイド、酸化ルテニウム、PTC材料としてのチタン
酸バリウム等の酸化半導体セラミックス等を用いること
ができる。また、電極は、たとえば銀ペーストまたは銅
ペーストのようなペースト状の材料を印刷する印刷法に
より形成することができ、化学的なメッキ法によっても
形成可能である。さらに、真空中で蒸発させた金属を定
着させる物理的な蒸着法や、溶融金属粉体などを用いた
溶射法によって形成することもできる。さらに、本発明
において用いられる絶縁体としては、特に限定されない
が、例えば、ポリイミド系合成樹脂がある。
The thin film resistance material of the present invention has a film shape, a sheet shape, a thin plate shape, or the like. Also,
The above-mentioned resistance material may be a thin shape or a material that can be thinly processed, and it is a conductive polymer such as polyacene, polyaniline, polypyrrole, or polythiophene, or polyester in which fine particles such as carbon are dispersed. Polymers such as polyimide, polyether / sulfone, polyether / ether / ketone, molybdenum silicide, ruthenium oxide, and oxide semiconductor ceramics such as barium titanate as a PTC material can be used. Further, the electrodes can be formed by a printing method of printing a paste-like material such as silver paste or copper paste, and can also be formed by a chemical plating method. Further, it can be formed by a physical vapor deposition method for fixing the metal evaporated in a vacuum or a thermal spraying method using a molten metal powder or the like. Further, the insulator used in the present invention is not particularly limited, but there is, for example, a polyimide-based synthetic resin.

【0013】[0013]

【実施例】図1から8に、本発明の好ましい実施例を模
式的に示す。これらの図面においては、発明の理解を容
易にするため、上下および横方向の縮尺は必ずしも同一
ではない。これらの実施例を、図9および10の一般的
な薄膜抵抗体の構成例と対比して説明する。
1 to 8 schematically show a preferred embodiment of the present invention. In these drawings, the vertical and horizontal scales are not necessarily the same in order to facilitate understanding of the invention. These examples will be described in comparison with the configuration examples of the general thin film resistors of FIGS. 9 and 10.

【0014】図1に、本発明の実施例1を模式的に示
す。図9および10に示したように、本発明の各実施例
の薄膜抵抗体は、薄膜抵抗材料1とその上下両面にそれ
ぞれ設けられた電極2a、2bとからなっている。薄板
状の抵抗材料1がシート状またはフィルム状であっても
よいのは、従来例と同様である。これらの電極2a、2
bはそれぞれ図示しない外部の電気回路に接続される。
FIG. 1 schematically shows a first embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 9 and 10, the thin film resistor of each embodiment of the present invention comprises a thin film resistor material 1 and electrodes 2a and 2b provided on the upper and lower surfaces thereof, respectively. As in the conventional example, the thin resistance material 1 may be in the form of a sheet or a film. These electrodes 2a, 2
Each b is connected to an external electric circuit (not shown).

【0015】図示されているように、上下の電極2a、
2bの面積が異なっている。すなわち上面の電極2aの
面積は、下面の電極2bよりも小さい。このように電極
の大きさを変化させることにより、抵抗体の電気抵抗と
して実際に機能する部分の大きさは小さくなり、抵抗値
は増大する。また、小さい方の電極2aを精度よく形成
すれば、薄膜抵抗体全体の面積精度はさほど高くなくて
も、正確な抵抗値を得ることができる。図2に、本発明
の実施例2を示す。ここでは、抵抗材料に形成する電極
2a、2bの位置を変え、重なりあう面積を変えること
により、抵抗として機能する抵抗材料部分の大きさを小
さくして、抵抗値を大きな値に設定することができる。
図3および4に、実施例3を示す。ここでは、抵抗材料
上に形成する電極2aに点状の導体がない部分3を複数
設け、有効な電極面積を減少させることにより、抵抗体
全体の大きさを変更することなく、抵抗値を大きな値に
設定することができる。このように電極の有効面積を減
少させることは、溶射法により電極を形成する場合に
は、例えば、ニッケル合金やステンレス合金、コバルト
系合金、アルミニウム、または、それらとZnOなどの
半導体またはアルミナ、MgO、スピネル、ムライト、
ジルコニアといった絶縁体粉末の混合物といった電極用
材料の粒子を大きくすることによって、実現することが
できる。図4には、実施例3に用いることができる電極
パターンの一例を示す。
As shown, the upper and lower electrodes 2a,
The areas of 2b are different. That is, the area of the upper electrode 2a is smaller than that of the lower electrode 2b. By changing the size of the electrode in this way, the size of the portion of the resistor that actually functions as the electrical resistance becomes smaller and the resistance value increases. Further, if the smaller electrode 2a is formed with high accuracy, an accurate resistance value can be obtained even if the area accuracy of the whole thin film resistor is not so high. Example 2 of the present invention is shown in FIG. Here, by changing the positions of the electrodes 2a and 2b formed on the resistance material and changing the overlapping area, it is possible to reduce the size of the resistance material portion functioning as a resistance and set the resistance value to a large value. it can.
Example 3 is shown in FIGS. Here, the electrode 2a formed on the resistance material is provided with a plurality of portions 3 having no point-like conductor to reduce the effective electrode area, thereby increasing the resistance value without changing the size of the entire resistor. Can be set to a value. In order to reduce the effective area of the electrode in this way, when the electrode is formed by the thermal spraying method, for example, nickel alloy, stainless alloy, cobalt alloy, aluminum, or a semiconductor such as ZnO or alumina, MgO or the like is used. , Spinel, mullite,
This can be achieved by enlarging the particles of the electrode material such as a mixture of insulating powder such as zirconia. FIG. 4 shows an example of an electrode pattern that can be used in the third embodiment.

【0016】図5には、実施例4を示す。ここでは、複
数の細長い帯状の導体部をほぼ平行に並べてなる縞状の
導体パターンを少なくとも2回重ねて形成している。こ
の縞状の導体パターン4a、4bを重ねて電極を形成す
る際に、縞の向きを変更することにより、重なりの面積
を変更することができ、電極の有効面積を変更および調
節することができる。導体パターンを重ねる回数は、本
実施例においては2としたが、3またはそれ以上の導体
パターンを重ねることもできる。重ねる導体パターン
は、同一でも、異なったものでも良い。図6には、実施
例5を示す。ここでは、まず、抵抗材料の表面に、島状
の不導体パターンを形成し、その不導体パターンの上
に、電極導体を形成するものである。図6(a)では、
抵抗材料の上に島状の不導体のパターン5が形成されて
いる。図6(b)では、その上に形成された電極導体
が、不導体のパターンを覆い隠している様子を示す。実
施例3と同様に、有効な電極面積を小さくすることがで
きるので、抵抗体全体の大きさを変更することなく、抵
抗値を高めることができる。
FIG. 5 shows a fourth embodiment. Here, a striped conductor pattern formed by arranging a plurality of elongated strip-shaped conductor portions substantially in parallel is formed at least twice. When the electrodes are formed by overlapping the striped conductor patterns 4a and 4b, the overlapping area can be changed by changing the direction of the stripes, and the effective area of the electrodes can be changed and adjusted. . The number of times the conductor patterns are superposed is two in the present embodiment, but three or more conductor patterns can be superposed. The conductor patterns to be overlapped may be the same or different. Example 5 is shown in FIG. Here, first, an island-shaped non-conductor pattern is formed on the surface of the resistance material, and an electrode conductor is formed on the non-conductor pattern. In FIG. 6 (a),
An island-shaped non-conductor pattern 5 is formed on the resistance material. FIG. 6B shows a state in which the electrode conductor formed thereon covers the non-conductor pattern. As in the third embodiment, the effective electrode area can be reduced, so that the resistance value can be increased without changing the size of the entire resistor.

【0017】なお、上記のこれらの実施例において、電
極の材質や、構造によっては、電極を形成した後、レー
ザ等によって、電極に小さな点状または線状の欠落部を
形成することができる。これにより抵抗値の調整を電極
形成後に行うことができる。
In the above-mentioned embodiments, depending on the material and structure of the electrode, after forming the electrode, it is possible to form a small dot-shaped or linear cut-out portion on the electrode by laser or the like. Thereby, the resistance value can be adjusted after the electrodes are formed.

【0018】図7に、実施例6を示す。ここでは、抵抗
材料11a、11bを2層に積層してあり、上層11a
の大きさは、下層11bよりも小さくなっている。上層
の抵抗材料の上面と下層の抵抗材料の下面に電極12
a、12bが設けられているほか、2層の抵抗材料の間
にも導体からなる電極13が設けられている。このよう
な構成を採用することにより、複数の抵抗体を複合化
し、より広い抵抗レンジの設定ができるという効果があ
る。これらの電極12a、12b、13は、上記の実施
例1から5と同様にして形成することができる。また、
好ましくは、2層の抵抗材料11a、11bの間に挟ま
れている電極13は、それぞれの抵抗材料で発生するジ
ュール熱を拡散し、局部的な温度上昇を防止するため、
2層の抵抗材料の表面に密着するように形成される。抵
抗材料の積層数は、2に限定されるものではなく、必要
に応じて3以上であってもよい。
Embodiment 6 is shown in FIG. Here, the resistance materials 11a and 11b are laminated in two layers, and the upper layer 11a
Is smaller than the lower layer 11b. Electrodes 12 are formed on the upper surface of the upper resistance material and the lower surface of the lower resistance material.
In addition to a and 12b, an electrode 13 made of a conductor is also provided between the two layers of resistance material. By adopting such a configuration, there is an effect that a plurality of resistors are combined and a wider resistance range can be set. These electrodes 12a, 12b, 13 can be formed in the same manner as in the above-described first to fifth embodiments. Also,
Preferably, the electrode 13 sandwiched between the two layers of resistance materials 11a and 11b diffuses Joule heat generated in each resistance material and prevents a local temperature rise.
It is formed so as to be in close contact with the surfaces of the two layers of resistance material. The number of laminated resistance materials is not limited to two, and may be three or more as required.

【0019】図8に、実施例7を示す。ここでは、抵抗
材料21の一つの面(図中の下面)に広い第1の電極2
2を設け、抵抗材料21の厚さに比較して十分大きな間
隔、例えば、厚さの約2倍以上の間隔をおいて、第2お
よび第3の二つの電極23、24を他方の面(図中の上
面)に形成する。このような構成を採用することによ
り、第2電極23と第1電極22との間、および、第1
電極22と第3電極24の間で、それぞれ抵抗体素子が
形成され、第1電極22によりこれらの抵抗体素子が直
列に接続されて1個の抵抗体を形成している。このよう
な構成を採用することにより、一抵抗体単位の厚さの中
で、複数の抵抗体を形成し、より広い抵抗レンジを設定
できる利点がある。第2電極23および第3電極24に
図示しないリード線を接続することにより、外部回路に
接続することができるほか、第1電極22にもリード線
を接続して、異なる抵抗値を得ることもできる。本実施
例における各電極は、実施例3ないし5の電極を採用す
るのが好ましい。矢印25および26は、電流の向きの
一例を示す。図示はしないが、実施例6および7を組み
合わせることにより、平面状基板等に複数の素子を、抵
抗値を調整しつつ集積することも可能である。
FIG. 8 shows a seventh embodiment. Here, the wide first electrode 2 is formed on one surface (lower surface in the figure) of the resistance material 21.
2 is provided, and the second and third electrodes 23 and 24 are separated from each other at a sufficiently large interval as compared with the thickness of the resistance material 21, for example, at an interval of about twice the thickness or more. It is formed on the upper surface in the figure). By adopting such a configuration, between the second electrode 23 and the first electrode 22 and the first electrode
Resistor elements are formed between the electrode 22 and the third electrode 24, and these resistor elements are connected in series by the first electrode 22 to form one resistor. By adopting such a configuration, there is an advantage that a plurality of resistors can be formed within a thickness of one resistor unit and a wider resistance range can be set. By connecting a lead wire (not shown) to the second electrode 23 and the third electrode 24, it is possible to connect to an external circuit and also to connect a lead wire to the first electrode 22 to obtain different resistance values. it can. It is preferable to adopt the electrodes of Examples 3 to 5 as each electrode in this example. Arrows 25 and 26 indicate an example of the direction of current flow. Although not shown, by combining Examples 6 and 7, it is possible to integrate a plurality of elements on a planar substrate or the like while adjusting the resistance value.

【0020】[0020]

【発明の効果】上述のように、本発明によれば、フィル
ム状の薄い抵抗材料の上下に電極を形成し、抵抗値を自
由に調整しつつ、小さな抵抗体を実現することができ
る。打ち抜き加工を要する抵抗材料自体のパターン加工
が不要となり、材料や抵抗値の制限が少ない、小さな抵
抗体の形成が容易になる。
As described above, according to the present invention, a small resistor can be realized by forming electrodes above and below a film-shaped thin resistance material and freely adjusting the resistance value. The patterning of the resistance material itself, which requires punching, becomes unnecessary, and it becomes easy to form a small resistor with few restrictions on the material and the resistance value.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の薄膜抵抗体の実施例1を示す模式的斜
視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first embodiment of a thin film resistor of the present invention.

【図2】本発明の薄膜抵抗体の実施例2を示す模式的斜
視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a second embodiment of the thin film resistor of the present invention.

【図3】本発明の薄膜抵抗体の実施例3を示す模式的斜
視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing Example 3 of the thin film resistor of the invention.

【図4】図3の薄膜抵抗体に用いることができる電極の
一例を示す。
FIG. 4 shows an example of electrodes that can be used in the thin film resistor of FIG.

【図5】本発明の薄膜抵抗体の実施例4を示す模式的斜
視図である。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing a fourth embodiment of the thin film resistor of the present invention.

【図6】本発明の薄膜抵抗体の実施例5を示す斜視図で
ある。
FIG. 6 is a perspective view showing a fifth embodiment of the thin film resistor of the present invention.

【図7】本発明の薄膜抵抗体の実施例6を示す斜視図で
ある。
FIG. 7 is a perspective view showing a sixth embodiment of the thin film resistor of the present invention.

【図8】本発明の薄膜抵抗体の実施例7を示す斜視図で
ある。
FIG. 8 is a perspective view showing Example 7 of the thin film resistor of the invention.

【図9】従来の薄膜抵抗体の一例を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing an example of a conventional thin film resistor.

【図10】図9の従来の薄膜抵抗体の変形例を示す斜視
図である。
10 is a perspective view showing a modification of the conventional thin film resistor of FIG.

【符号の説明】 1 抵抗体 2a、2b 電極 3 導体のない部分 4a、4b 導体パターン 11a、11b 抵抗材料 12a、12b、13 電極 21 抵抗材料 22 第1電極 23 第2電極 24 第3電極 25、26 電流の向き[Explanation of reference numerals] 1 resistors 2a, 2b electrodes 3 portions without conductors 4a, 4b conductor patterns 11a, 11b resistance material 12a, 12b, 13 electrodes 21 resistance material 22 first electrode 23 second electrode 24 third electrode 25, 26 Direction of current

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜抵抗材料の厚さ方向に垂直な対向す
る2面にそれぞれ電極を形成してなり、該電極のうちの
少なくとも一の、該薄膜抵抗材料に接する導体部分の面
積が、該対向する2面の面積よりも小さい薄膜抵抗体。
1. An electrode is formed on each of two opposing surfaces of the thin film resistance material which are perpendicular to the thickness direction, and the area of at least one of the electrodes, which is in contact with the thin film resistance material, has an area of A thin film resistor that is smaller than the area of two opposing surfaces.
【請求項2】 前記電極が前記電極の一部のみが重なり
合うように配置されていることを特徴とする請求項1の
薄膜抵抗体。
2. The thin film resistor according to claim 1, wherein the electrodes are arranged so that only a part of the electrodes overlap each other.
【請求項3】 前記電極の少なくとも一に、点状または
線状の電極導体のない部分を設けたことを特徴とする請
求項1に記載の薄膜抵抗体。
3. The thin film resistor according to claim 1, wherein at least one of the electrodes is provided with a portion having no dot-shaped or linear electrode conductor.
【請求項4】 前記の電極導体のない部分が、粒度の荒
い導体を溶射することにより形成されることを特徴とす
る請求項3に記載の薄膜抵抗体。
4. The thin film resistor according to claim 3, wherein the portion without the electrode conductor is formed by spraying a conductor having a coarse grain size.
【請求項5】 前記電極の少なくとも一が、前記薄膜抵
抗材料の上に置かれた、該電極より小さい面積を有する
絶縁体または前記薄膜抵抗材料より高い抵抗値を有する
導体の上に重ねて形成されていることを特徴とする請求
項1に記載の薄膜抵抗体。
5. At least one of the electrodes is formed overlying an insulator having an area smaller than that of the electrode or a conductor having a resistance value higher than that of the thin film resistance material, which is placed on the thin film resistance material. The thin film resistor according to claim 1, wherein
【請求項6】 前記電極の少なくとも一が、複数の細長
い帯状の導体部をほぼ平行に並べてなる縞状の導体パタ
ーンを少なくとも2回重ねて形成されていることを特徴
とする請求項1に記載の薄膜抵抗体。
6. The electrode according to claim 1, wherein at least one of the electrodes has a striped conductor pattern formed by arranging a plurality of elongated strip-shaped conductor portions substantially parallel to each other at least twice. Thin film resistor.
【請求項7】 複数の薄膜抵抗材料を重ねた構造を有し
ており、該薄膜抵抗材料の厚さ方向に垂直な外面にある
電極および該薄膜抵抗材料間に設けられた電極のうちの
少なくとも一の、該薄膜抵抗材料に接する導体部分の面
積が、該薄膜抵抗材料の面積よりも小さいことを特徴と
する薄膜抵抗体。
7. An electrode having a structure in which a plurality of thin film resistance materials are stacked, and at least one of an electrode on an outer surface perpendicular to the thickness direction of the thin film resistance material and an electrode provided between the thin film resistance materials. 1. A thin film resistor, wherein the area of a conductor portion in contact with the thin film resistance material is smaller than the area of the thin film resistance material.
【請求項8】 薄膜抵抗材料の厚さ方向に垂直な対向す
る2面の少なくとも一方に、該薄膜抵抗材料の厚さより
大きな間隔を置いて2以上の電極を設け、対向する2個
の電極から構成される抵抗素子が複数個直列に接続され
る構成を有することを特徴とする薄膜抵抗体。
8. A thin film resistance material is provided with two or more electrodes at least one of two facing surfaces perpendicular to the thickness direction at a distance larger than the thickness of the thin film resistance material. A thin film resistor having a configuration in which a plurality of configured resistance elements are connected in series.
【請求項9】 前記薄膜抵抗材料が導電性のある高分子
体である請求項1から8のいずれか一に記載の薄膜抵抗
体。
9. The thin film resistor according to claim 1, wherein the thin film resistor material is a polymer having conductivity.
【請求項10】 前記薄膜抵抗材料が導電性のある微細
な粒子を分散させた高分子体である請求項1から8のい
ずれか一に記載の薄膜抵抗体。
10. The thin film resistor according to claim 1, wherein the thin film resistor material is a polymer in which conductive fine particles are dispersed.
【請求項11】 前記薄膜抵抗材料が導電性のある少な
くとも一種類のセラミックからなる請求項1から8のい
ずれか一に記載の薄膜抵抗体。
11. The thin film resistor according to claim 1, wherein the thin film resistor material is made of at least one kind of electrically conductive ceramic.
【請求項12】 前記電極が印刷法により形成されてい
る請求項1から11のいずれか一に記載の薄膜抵抗体。
12. The thin film resistor according to claim 1, wherein the electrode is formed by a printing method.
【請求項13】 前記電極がメッキ法により形成されて
いる請求項1から11のいずれか一に記載の薄膜抵抗
体。
13. The thin film resistor according to claim 1, wherein the electrode is formed by a plating method.
【請求項14】 前記電極が溶射法により形成されてい
る請求項1から11のいずれか一に記載の薄膜抵抗体。
14. The thin film resistor according to claim 1, wherein the electrode is formed by a thermal spraying method.
【請求項15】 前記電極が蒸着法により形成されてい
る請求項1から11のいずれか一に記載の薄膜抵抗体。
15. The thin film resistor according to claim 1, wherein the electrode is formed by a vapor deposition method.
【請求項16】 前記電極の形成後、欠落部を形成する
ことにより、抵抗値を調整して製造されていることを特
徴とする請求項1から15のいずれか一に記載の薄膜抵
抗体。
16. The thin film resistor according to claim 1, wherein the thin film resistor is manufactured by adjusting a resistance value by forming a missing portion after forming the electrode.
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