JPH0854325A - Method and device for sampling gas for thermal analysis - Google Patents

Method and device for sampling gas for thermal analysis

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JPH0854325A
JPH0854325A JP19033494A JP19033494A JPH0854325A JP H0854325 A JPH0854325 A JP H0854325A JP 19033494 A JP19033494 A JP 19033494A JP 19033494 A JP19033494 A JP 19033494A JP H0854325 A JPH0854325 A JP H0854325A
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JP
Japan
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gas
sample
thermal analysis
thermal
change
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Application number
JP19033494A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Fukuyuu
昭彦 福雄
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MAC SCI KK
Original Assignee
MAC SCI KK
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Publication date
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Publication of JPH0854325A publication Critical patent/JPH0854325A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a method and device for sampling gas for thermal analysis by which gas sampling can be always performed with a high efficiency at a desired effective timing. CONSTITUTION:During the course of TG-DTA analysis at a TG-DTA section 1, the gas discharged from a sample 12b in a sample chamber 12 is collected by adsorption into the gas adsorbing tubes 21a, 21b, 21c, and 21d of a gas sampling section 2 through a gas collecting tube 4 by sucking the gas by means of a rotary pump 25. The gas collecting timing of each tube 21a, 21b, 21c, and 21d is controlled by opening a solenoid valve 22a, 22b, 22c, or 22d by means of a central controller which detects the state where the temperature of the sample 12b becomes a specific value, when the differential thermal change becomes a specific state, or the amount decreasing rate becomes a specific value.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、試料の温度を変化させ
たときに生ずる試料の熱的変化を測定する示差熱分析や
熱重量分析等の熱分析過程において試料から放出される
ガスをサンプリングする熱分析におけるガスサンプリン
グ方法及びその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention samples a gas released from a sample in a thermal analysis process such as a differential thermal analysis or a thermogravimetric analysis for measuring a thermal change of the sample which occurs when the temperature of the sample is changed. Gas sampling method and apparatus for thermal analysis.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、試料と標準試料とを一定の昇
・降温速度で昇・降温させて両者の温度差である示差熱
を測定する示差熱分析法、あるいは、試料の温度に依存
して変化する重量変化である熱重量変化を測定する熱重
量分析法等の熱分析法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a differential thermal analysis method in which a sample and a standard sample are heated and cooled at a constant temperature rising and cooling rate to measure a differential heat which is a temperature difference between the two, or a method which depends on the temperature of the sample Thermal analysis methods such as a thermogravimetric analysis method for measuring a thermogravimetric change which is a change in weight due to a change in weight are known.

【0003】この熱分析の過程における熱的変化、例え
ば、示差熱分析であれば吸熱や発熱等の熱的変化、ある
いは、熱重量分析であれば熱重量変化等の熱的変化の過
程においては、試料からガスが発生する場合も少なくな
い。特に熱重量変化がある場合には必ず何等かのガスが
発生する。また、示差熱分析においても脱水や分解によ
る吸熱反応の場合、あるいは、燃焼による発熱反応の場
合等には熱重量変化とともにガスが発生する。
In the process of thermal change in the process of thermal analysis, for example, in the process of thermal change such as endothermic or exothermic in the case of differential thermal analysis, or in the process of thermal change such as thermogravimetric change in the case of thermogravimetric analysis. In many cases, gas is generated from the sample. Especially when there is a thermogravimetric change, some gas is always generated. Also in the differential thermal analysis, in the case of an endothermic reaction due to dehydration or decomposition, or in the case of an exothermic reaction due to combustion, a gas is generated together with a change in thermogravimetric change.

【0004】このような熱的変化をより詳しく測定する
ために、その熱的変化の過程で発生したガスをサンプリ
ングしてガスクロマトグラフ装置や質量分析装置等によ
って成分分析を行えるようにしたガスサンプリング装置
が従来から提案されている。
In order to measure such a thermal change in more detail, a gas sampling device which samples the gas generated in the process of the thermal change and enables component analysis by a gas chromatograph device, a mass spectrometer or the like. Has been proposed in the past.

【0005】この提案にかかる従来のガスサンプリング
装置は、熱分析測定の開始と同時に一定の時間間隔のサ
ンプリングを開始するものであった。
The conventional gas sampling apparatus according to this proposal starts sampling at regular time intervals at the same time when the thermal analysis measurement is started.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、熱分析測定
の開始と同時に一定の時間間隔のサンプリングを開始す
る方法では、ガスが発生しない状態のときも一様にサン
プリングを行うことになる。このため、各サンプリング
毎にガス発生の有無を確認することはできるが、例え
ば、各サンプリング毎にサンプリングしたガスをそれぞ
れ別個の容器に採取しておいて、後でその容器に採取し
たガスをガスクロマトグラフ装置等によって分析するよ
うな場合には、所望のサンプリングができなくなるとい
うおそれがあった。すなわち、試料からのガスが発生し
ている間で必要なサンプリング点数を確保しようとする
と、測定の全体ではサンプリング点数が膨大な数になる
ことが少なくなく、これにともなってガス採取のために
用意すべき容器の数が膨大なものとなって非現実的なも
のになる場合も少なくない。
However, in the method of starting sampling at a constant time interval at the same time when the thermal analysis measurement is started, the sampling is performed uniformly even when the gas is not generated. For this reason, it is possible to check the presence or absence of gas generation for each sampling, but for example, the gas sampled for each sampling should be collected in a separate container, and the gas collected in that container later should be analyzed by the gas chromatograph. There is a risk that desired sampling may not be possible in the case of analysis using a tograph device or the like. In other words, if you try to secure the required number of sampling points while the gas from the sample is being generated, the number of sampling points will often be enormous in the entire measurement, and along with this, prepare for gas sampling. In many cases, the number of containers to be used becomes huge and becomes unrealistic.

【0007】このため、例えば、サンプリング開始時点
を熱分析開始時点からずらして熱的変化の開始される直
前に設定する方法も考えられるが、熱的変化がいつ起こ
るか不明な未知の試料については、予め、予備測定をし
て熱的変化の起こる時点を調べてからでないと測定がで
きない。しかし、熱分析はいわゆる破壊試験であるため
に、その未知の試料が貴重なものである場合には予備測
定が困難な場合もある。また、熱的変化の起こる時間は
昇温速度に依存するので、ある昇温速度で予備測定をし
ても、これと異なる昇温速度での熱的変化の起こる時間
を正確に特定することは困難である場合も少なくない。
このため、昇温速度毎の予備測定をしなければならない
場合も生ずる。
Therefore, for example, a method may be considered in which the sampling start time point is shifted from the thermal analysis start time point and set immediately before the thermal change is started. However, for an unknown sample whose thermal change is unknown, The measurement cannot be performed unless preliminary measurement is performed in advance and the time point at which the thermal change occurs is checked. However, since thermal analysis is a so-called destructive test, preliminary measurement may be difficult when the unknown sample is valuable. In addition, since the time when the thermal change occurs depends on the heating rate, even if preliminary measurement is performed at a certain heating rate, it is not possible to accurately specify the time when the thermal change occurs at a heating rate different from this. It is often difficult.
Therefore, there may be a case where preliminary measurement must be performed for each heating rate.

【0008】このように、従来の時間を指定するガスサ
ンプリング方法では、所望のサンプリングができない場
合が少なくなかった。
As described above, in the conventional gas sampling method for designating the time, there are many cases where desired sampling cannot be performed.

【0009】本発明は上述の背景のもとでなされたもの
であり、ガスサンプリングを常に所望の有効なタイミン
グで効率よく行えるようにした熱分析におけるガスサン
プリング方法及びその装置を提供することを目的とした
ものである。
The present invention has been made under the background described above, and an object of the present invention is to provide a gas sampling method in thermal analysis and an apparatus therefor, which can always perform gas sampling efficiently at a desired and effective timing. It is what

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明にかかる熱分析におけるガスサンプリング
方法は、(構成1) 試料の温度を変化させたときに生
ずる試料の熱的変化を測定する熱分析過程において試料
から放出されるガスをサンプリングする熱分析における
ガスサンプリング方法において、前記ガスサンプリング
を、試料の温度が特定の1又は2以上の温度となったと
きに行うようにしたことを特徴とする構成、並びに、
(構成2) 試料の温度を変化させたときに生ずる試料
の熱的変化を測定する熱分析過程において試料から放出
されるガスをサンプリングする熱分析におけるガスサン
プリング方法において、前記ガスサンプリングを、熱分
析における試料の熱的変化が特定の1又は2以上の状態
となったときに行うようにしたことを特徴とする構成と
し、上記構成2の態様として、(構成3) 構成2の熱
分析におけるガスサンプリング方法において、前記熱分
析が、試料の重量変化を測定する熱重量分析であり、前
記熱的変化が試料の熱重量変化に依存する物理量である
ことを特徴とする構成とし、構成1ないし3のいずれか
の態様として(構成4) 構成1ないし3のいずれかの
熱分析におけるガスサンプリング方法において、前記ガ
スサンプリングは、ガスを一旦吸着保持するが一定の処
理を施すことにより吸着したガスを再度放出する物質を
充填した1又は2以上のガス吸着管に試料から放出され
るガスを各ガスサンプリングの都度それぞれ導入するよ
うにしたことを特徴とする構成とした。
In order to solve the above-mentioned problems, the gas sampling method in the thermal analysis according to the present invention is (Structure 1): the thermal change of the sample caused when the temperature of the sample is changed. In a gas sampling method in a thermal analysis for sampling a gas released from a sample in a thermal analysis process for measurement, the gas sampling is performed when the temperature of the sample reaches a specific temperature of 1 or 2 or more. And a configuration characterized by
(Structure 2) In the gas sampling method in the thermal analysis for sampling the gas released from the sample in the thermal analysis process for measuring the thermal change of the sample that occurs when the temperature of the sample is changed, the gas sampling is performed by the thermal analysis. The configuration is characterized in that it is carried out when the thermal change of the sample in 1) becomes a specific one or two or more states. As an aspect of the above-mentioned configuration 2, (configuration 3) gas in the thermal analysis of configuration 2 In the sampling method, the thermal analysis is a thermogravimetric analysis for measuring a weight change of the sample, and the thermal change is a physical quantity depending on the thermogravimetric change of the sample. (Configuration 4) In the gas sampling method for thermal analysis according to any one of Configurations 1 to 3, the gas sampling is The gas released from the sample is introduced into each of one or more gas adsorption tubes filled with a substance that once adsorbs and holds the adsorbed gas, but releases the adsorbed gas again by performing a certain process. The configuration is characterized by the above.

【0011】また、本発明にかかる熱分析におけるガス
サンプリング装置は、(構成5) 試料から放出される
ガスを外部に取り出せるようにした試料室、該試料室内
の試料の温度を制御する温度制御手段及び試料の熱的変
化を測定する熱的変化測定手段を備えた熱分析装置と、
前記熱分析装置の試料室にそのガス導入端を接続可能に
したガス吸着管であって、ガスを一旦吸着保持するが加
熱処理をすることにより再度放出する物質を充填した1
又は2以上のガス吸着管と、前記ガス吸着管のガス導入
端と反対側の端部に吸引側を接続可能にしたした吸引装
置と、前記ガス吸着管と吸引装置との間の流路に設けて
吸引の開閉を制御する電磁弁装置と、前記試料の熱的変
化が特定の1又は2以上の状態となったことをそれぞれ
検知して前記電磁弁装置の開閉制御を行う制御装置とを
備えたことを特徴とする構成とし、この構成5の態様と
して、(構成6) 構成5の熱分析におけるガスサンプ
リング装置において、前記熱分析装置が試料の熱重量変
化を測定する熱天秤装置であり、前記熱的変化が試料の
熱重量変化であることを特徴とする構成としたものであ
る。
Further, the gas sampling apparatus in the thermal analysis according to the present invention is (Structure 5): A sample chamber capable of taking out the gas released from the sample to the outside, and a temperature control means for controlling the temperature of the sample in the sample chamber. And a thermal analysis device having a thermal change measuring means for measuring the thermal change of the sample,
A gas adsorption tube having a gas introduction end connectable to a sample chamber of the thermal analysis apparatus, which is filled with a substance that adsorbs and holds a gas but releases it again by heat treatment.
Alternatively, two or more gas adsorption pipes, a suction device having a suction side connectable to the end of the gas adsorption pipe opposite to the gas introduction end, and a flow path between the gas adsorption pipe and the suction device. An electromagnetic valve device that is provided to control the opening and closing of the suction and a control device that respectively detects that the thermal change of the sample has reached one or more specific states and controls the opening and closing of the electromagnetic valve device. A configuration characterized by being provided, and as an aspect of this configuration 5, (configuration 6), in the gas sampling device in the thermal analysis of configuration 5, the thermal analysis device is a thermobalance device for measuring a thermogravimetric change of the sample. The thermal change is a thermogravimetric change of the sample.

【0012】[0012]

【作用】上述の構成1は、ガスサンプリングを、試料の
温度が特定の1又は2以上の温度となったときに行うよ
うにしたものである。すなわち、換言すると、ガスサン
プリングのタイミングを時間ではなく温度によって指定
するようにしたものである。これによれば、ガスサンプ
リングのタイミングを時間によって指定していた従来の
場合に比較して、試料からのガスが発生している間に必
要なサンプリング点数を確保することが容易に可能にな
る。すなわち、熱分析過程においては、ガス発生を伴う
熱的変化が起こる時間を予め正確に指定することは困難
であるが、熱的変化の起こる温度は比較的正確に指定す
ることが可能であるからである。
In the above-mentioned structure 1, the gas sampling is performed when the temperature of the sample reaches a specific temperature of 1 or 2. That is, in other words, the gas sampling timing is specified by temperature rather than time. According to this, it becomes possible to easily secure the required number of sampling points while the gas from the sample is generated, as compared with the conventional case in which the timing of gas sampling is designated by time. That is, in the thermal analysis process, it is difficult to accurately specify in advance the time at which the thermal change accompanied by gas generation occurs, but the temperature at which the thermal change occurs can be specified relatively accurately. Is.

【0013】また、構成2によれば、より確実に試料か
らのガスが発生している間に必要なサンプリング点数を
確保することを可能にする。しかもこの場合には、実質
的にガス発生の情況に応じて最適なタイミングでサンプ
リングすることも可能になる。すなわち、ガスの発生と
試料の熱的変化とは密接な関係を有するので、例えば、
試料の熱的変化、例えば示差熱変化あるいは熱重量変化
が所定の状態になったことを検知してその状態のときに
サンプリングすることにすれば、確実に所望のサンプリ
ングを行うことが可能になる。
Further, according to the configuration 2, it becomes possible to more reliably ensure the required number of sampling points while the gas from the sample is being generated. Moreover, in this case, it is possible to perform sampling at an optimum timing substantially according to the situation of gas generation. That is, since there is a close relationship between the generation of gas and the thermal change of the sample, for example,
By detecting that the thermal change of the sample, such as differential thermal change or thermogravimetric change, has reached a predetermined state and sampling is performed in that state, it is possible to reliably perform the desired sampling. .

【0014】構成3は、熱分析が、試料の重量変化を測
定する熱重量分析であり、前記熱的変化が試料の熱重量
変化に依存する物理量である場合である。熱重量分析に
おける熱的変化である熱重量変化は、ガス発生と特に密
接な関係を有するものであるから、この熱重量変化が特
定の状態、例えば、減量率が1%、3%、10%、…と
いうように特定の値になったときにサンプリングするよ
うにしておけば、少ないサプリング点数で効率的なガス
サンプリングを行うことが可能になるとともに、未知の
試料についても予備測定しなくてもガス発生のタイミン
グを逃すことなく確実なサンプリングをすることが可能
になる。
Structure 3 is a case where the thermal analysis is thermogravimetric analysis for measuring the weight change of the sample, and the thermal change is a physical quantity depending on the thermogravimetric change of the sample. Since the thermogravimetric change, which is a thermal change in thermogravimetric analysis, has a particularly close relationship with gas generation, this thermogravimetric change has a specific state, for example, a weight loss rate of 1%, 3%, 10%. By sampling when a specific value is reached, such as, it becomes possible to perform efficient gas sampling with a small number of sampling points, and even if preliminary measurement is performed on unknown samples. It is possible to perform reliable sampling without missing the timing of gas generation.

【0015】構成4によれば、各サンプリング時点での
ガスを各吸着管に保存しておき、熱分析測定終了後に、
各吸着管に加熱等の一定の処理を施して吸着されている
ガスを放出することによりガスクロマトグラフ装置その
他の分析に供することができる。
According to the configuration 4, the gas at each sampling time is stored in each adsorption tube, and after completion of the thermal analysis measurement,
By subjecting each adsorption tube to a certain treatment such as heating to release the adsorbed gas, the adsorption tube can be used for analysis of a gas chromatograph or the like.

【0016】構成5及び6によれば、構成1ないし4の
方法を実施できる装置を得ることができる。
According to the configurations 5 and 6, it is possible to obtain an apparatus capable of implementing the method of the configurations 1 to 4.

【0017】[0017]

【実施例】図1は本発明の一実施例にかかる熱分析にお
けるガスサンプリング装置の構成を示す図である。以
下、図1を参照にしながら一実施例にかかる熱分析方法
及び装置を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a gas sampling apparatus for thermal analysis according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a thermal analysis method and apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIG.

【0018】図1において、符号1は熱分析装置を構成
する熱重量示差熱同時測定装置(TGーDTA)部、符
号2はガスサンプリング装置部、符号3は中央制御装置
である。この装置は、要するに、TGーDTA部1にお
けるTGーDTA測定の際に試料から発生したガスをガ
スサンプリング部2に内蔵する吸着管にサンプリングす
るものである。
In FIG. 1, reference numeral 1 is a thermogravimetric / differential thermal analyzer (TG-DTA) unit constituting a thermal analyzer, reference numeral 2 is a gas sampling device portion, and reference numeral 3 is a central control unit. In short, this device is for sampling the gas generated from the sample at the time of TG-DTA measurement in the TG-DTA section 1 into the adsorption tube built in the gas sampling section 2.

【0019】TGーDTA部1は、天秤室部11、この
天秤室部11の一方の端部上方に設けられた試料室部1
2、この試料室12を加熱する加熱炉13等で構成され
ている。
The TG-DTA section 1 is a balance chamber section 11, and a sample chamber section 1 provided above one end of the balance chamber section 11.
2. It is composed of a heating furnace 13 for heating the sample chamber 12.

【0020】天秤室部11は、天秤室11aと、この天
秤室11a内に立設された支柱11bと、この支柱11
bによって支持された天秤11cとで構成されている。
The balance chamber section 11 includes a balance chamber 11a, a support 11b standing upright in the balance chamber 11a, and a support 11b.
It is composed of a balance 11c supported by b.

【0021】天秤11cは天秤竿11dと、この天秤竿
11dの中央部に設けられた支点部11eと、天秤竿1
1eの両端に懸架される錘11f,11fとを有する。
さらに、天秤竿11eの一端部、すなわち、図中右端部
に懸架される錘11fは、この錘11fが懸架される天
秤竿11eの端部にその下端部を回動自在に支持されて
垂直に立設される支持杆11gの下端に重量が印加され
てされるようになっている。すなわち、支持杆11gは
錘11fの重量によって天秤竿11dの一端部に回動自
在でかつ垂直に立設されるようになっているものであ
る。
The balance 11c includes a balance rod 11d, a fulcrum 11e provided at the center of the balance rod 11d, and the balance rod 1
It has weights 11f and 11f suspended at both ends of 1e.
Further, the weight 11f suspended at one end of the balance rod 11e, that is, the right end in the figure, has its lower end rotatably supported at the end of the balance rod 11e on which this weight 11f is suspended, and is vertically supported. Weight is applied to the lower end of the upright supporting rod 11g. That is, the support rod 11g is rotatably and vertically erected on one end of the balance rod 11d by the weight of the weight 11f.

【0022】支持杆11gは、天秤室11aの上部に設
けられた貫通孔11hを通じて試料室部12に向けて立
設されており、その上端部には示差熱検出部12aが設
けられている。
The support rod 11g is provided upright toward the sample chamber portion 12 through a through hole 11h provided in the upper portion of the balance chamber 11a, and a differential heat detecting portion 12a is provided at the upper end portion thereof.

【0023】示差熱検出部12aは、試料12bと標準
試料12cとをそれぞれ載置する試料載置部及び標準試
料載置部が設けられており、これら互いの温度差を検知
する熱電対等の温度検出手段等が設けられている。
The differential heat detecting section 12a is provided with a sample placing section and a standard sample placing section for placing the sample 12b and the standard sample 12c, respectively, and the temperature of a thermocouple or the like for detecting the temperature difference between them. Detection means and the like are provided.

【0024】すなわち、このTGーDTA部1は、試料
12bの重量変化を天秤11cによって検知し、同時に
示差熱を示差熱検出部12aによって検知する。なお、
天秤11cは、支点部11e内に内蔵される傾き検出手
段及び傾きを電磁コイルと磁石等を用いた傾き是正手段
によって是正し、そのときに要した電流から重量変化を
検知する重量変化検知手段を備えている。そして、示差
熱検出部12aは支持杆11g及び天秤竿11dを通し
て支点部11eに接続され、支点部11eから重量変化
検知手段とともに可撓導線によってコネクタ11jに接
続され、TGーDTA回路15に接続されるようになっ
ている。
That is, the TG-DTA unit 1 detects the weight change of the sample 12b by the balance 11c, and at the same time, detects the differential heat by the differential heat detection unit 12a. In addition,
The balance 11c is provided with a tilt detecting means and a weight change detecting means incorporated in the fulcrum portion 11e for correcting the tilt by a tilt correcting means using an electromagnetic coil and a magnet, and detecting a weight change from a current required at that time. I have it. The differential heat detection unit 12a is connected to the fulcrum portion 11e through the support rod 11g and the balance rod 11d. From the fulcrum portion 11e, the weight change detecting means is connected to the connector 11j by a flexible conductor, and the TG-DTA circuit 15 is connected. It has become so.

【0025】また、示差熱検出部12aは、ガスフロー
用保護管12d内に収納されるようになっており、この
ガスフロー用保護管12d内に示差熱検出部12aを設
けた部分が試料室部12を構成する。この試料室12は
加熱炉13内に設置される。この加熱炉13は試料12
bの温度を温度コントローラ16によって制御するもの
である。
Further, the differential heat detection part 12a is housed in a gas flow protection tube 12d, and the portion where the differential heat detection part 12a is provided in the gas flow protection tube 12d is the sample chamber. The part 12 is configured. The sample chamber 12 is installed in the heating furnace 13. This heating furnace 13 is a sample 12
The temperature of b is controlled by the temperature controller 16.

【0026】ガスフロー用保護管12dは、石英ガラス
製で略円筒形状をなし、上・下端がともに解放端になっ
ているが、上部解放端は小径に形成されている。そし
て、下部解放端部が天秤室11aの一端部上方に設けら
れた保護管支持孔11iにOリング等を介して密封状態
で嵌合支持されるようになっている。
The gas flow protection tube 12d is made of quartz glass and has a substantially cylindrical shape. Both upper and lower ends are open ends, but the upper open end is formed to have a small diameter. The lower open end is fitted and supported in a sealed state in a protective tube support hole 11i provided above one end of the balance chamber 11a via an O-ring or the like.

【0027】また、ガスフロー用保護管12dの上部解
放端の外周部には分岐接続金具14の下端部が嵌合され
るようになっている。この分岐接続金具14は、ガスフ
ロー用保護管12dの上部解放端の外径にその内径が略
等しい両端解放の円筒形状をなし、その側部に分岐口1
4aを備えたもので、下端部が上記ガスフロー用保護管
12dの上部解放端に嵌合され、上端部にはガス採取管
4の先端部が嵌合され、さらに、分岐口14aにはガス
排出管14bが接続されている。なお、熱分析測定中
は、ガスフロー用保護管12d内に、天秤室11の後端
部に設けられたフローガス導入口11kから配管11l
を通じて図示しない不活性ガス等のフローガス源から供
給されるフローガスが常時流され、分岐口14aを通じ
て外部に排出されるようになっている。これにより、ガ
ス採取管4の先端部には、常に試料12bから発生した
新しいガスのみが到達するようにし、過去に発生したガ
スは外部に排出されるようにして、ガス発生の各時点の
ガスを採取できるようにしている。
Further, the lower end portion of the branch connecting fitting 14 is fitted to the outer peripheral portion of the upper open end of the gas flow protection tube 12d. The branch connection fitting 14 has a cylindrical shape of which both ends are opened, the inner diameter of which is substantially equal to the outer diameter of the upper open end of the gas flow protection tube 12d, and the branch port 1 is provided on the side thereof.
4a, the lower end is fitted to the upper open end of the gas flow protection tube 12d, the leading end of the gas sampling tube 4 is fitted to the upper end, and the branch port 14a is further fitted with gas. The discharge pipe 14b is connected. During the thermal analysis measurement, the flow gas inlet 11k provided at the rear end of the balance chamber 11 is connected to the pipe 11l in the gas flow protection tube 12d.
A flow gas supplied from a flow gas source such as an inert gas (not shown) is constantly flowed through and is discharged to the outside through the branch port 14a. As a result, only the new gas generated from the sample 12b always reaches the tip of the gas sampling tube 4, and the gas generated in the past is discharged to the outside so that the gas at each time of gas generation is discharged. It is possible to collect.

【0028】ガス採取管4は、4本のキャビラリー管4
a,4b,4c,4dを束ねてその一端部を栓体4eに
貫通させて固定したものである。栓体4eは上記分岐接
続金具14の上部解放端に密封状態で挿入される。これ
により、各キャピラリー管の先端部が試料室12内の試
料の上方部に位置するようになり、試料12bから放出
されたガスの採取を適格に行うことが可能になる。
The gas sampling pipes 4 are four cavity tubes 4
The a, 4b, 4c, and 4d are bundled, and one end thereof is fixed to the plug body 4e. The plug 4e is hermetically inserted into the upper open end of the branch connection fitting 14. As a result, the tip of each capillary tube is located above the sample in the sample chamber 12, and the gas released from the sample 12b can be properly collected.

【0029】ガスサンプリング部2は、ガス採取管4の
各キャピラリー管4a,4b,4c,4dのそれぞれの
後端部がそのガス入口部端に接続されるガス吸着管21
a,21b,21c,21dと、これらガス吸着管のガ
ス出口端にそれぞれ接続される電磁弁22a,22b,
22c,22dと、これら電磁弁の開閉制御を行なう電
磁弁制御回路26と、これら電磁弁のガス排出口の全部
がそのガス導入口に接続される活性炭等を内蔵するフィ
ルター23と、このフィルター23のガス排出口に接続
されたマスフローコントローラ24と、このマスフロー
コントローラ24に接続された真空排気用のロータリー
ポンプ25とを有する。すなわち、ロータリーポンプ2
5によって吸引しながら電磁弁のいずれかを開くとその
開いた電磁弁に接続された吸着管にキャピラリー管を通
じて試料12bから発生されたガスが導入されるように
なっている。
The gas sampling section 2 includes a gas adsorption tube 21 in which the rear ends of the respective capillary tubes 4a, 4b, 4c, 4d of the gas sampling tube 4 are connected to the gas inlet end.
a, 21b, 21c, 21d, and solenoid valves 22a, 22b connected to the gas outlet ends of these gas adsorption tubes, respectively.
22c, 22d, a solenoid valve control circuit 26 for controlling the opening and closing of these solenoid valves, a filter 23 having a built-in activated carbon or the like in which all the gas outlets of these solenoid valves are connected to the gas inlet, and this filter 23. It has a mass flow controller 24 connected to the gas exhaust port and a rotary pump 25 for vacuum exhaust connected to the mass flow controller 24. That is, the rotary pump 2
When any one of the solenoid valves is opened while being sucked by 5, the gas generated from the sample 12b is introduced into the adsorption tube connected to the opened solenoid valve through the capillary tube.

【0030】ガス吸着管21a,21b,21c,21
dは、ガスを一旦吸着保持するが加熱処理をすることに
より再度放出する物質(例えば、Enka Research Instit
ute社からTenax という商品名で販売されているものが
ある)が充填されているものである。
Gas adsorption tubes 21a, 21b, 21c, 21
d is a substance that once adsorbs and holds a gas but releases it again by heat treatment (for example, Enka Research Instit
Some are sold by ute under the trade name Tenax).

【0031】中央制御装置3は、マイクロプロセッサー
等の情報処理回路を内蔵するもので、所定のプログラム
にしたがって、TGーDTA回路15、温度コントロー
ラ16及び電磁弁制御回路26との間で信号の授受を行
ない、TGーDTAの分析の制御、並びに、そのTGー
DTA分析の際におけるTGの減量率が特定の値、例え
ば、0.5%、1%、3%、10%になったときに電磁
弁22a,22b,22c,22dを順次開き、ガス吸
着管21a,21b,21c,21dに各減量率の時点
の発生ガスを採取する制御を行なう。
The central controller 3 has a built-in information processing circuit such as a microprocessor, and sends and receives signals to and from the TG-DTA circuit 15, the temperature controller 16 and the solenoid valve control circuit 26 according to a predetermined program. Control of the TG-DTA analysis, and when the TG weight loss rate in the TG-DTA analysis reaches a specific value, for example, 0.5%, 1%, 3%, 10%. The solenoid valves 22a, 22b, 22c, 22d are sequentially opened, and the gas adsorption pipes 21a, 21b, 21c, 21d are controlled to collect the generated gas at each reduction rate.

【0032】上述の一実施例によれば、熱重量変化は、
ガス発生と特に密接な関係を有するものであるから、サ
ンプリングのタイミングを逃すことなく確実なサンプリ
ングをすることができる。また、少ないサプリング点数
で効率的なガスサンプリングを行うことが可能になると
ともに、未知の試料についても予備測定しなくてもガス
発生のタイミングを逃すことなく確実なサンプリングを
することが可能になる等の利点を有する。
According to one embodiment described above, the thermogravimetric change is
Since it has a particularly close relationship with gas generation, reliable sampling can be performed without missing the sampling timing. In addition, it is possible to perform efficient gas sampling with a small number of sampling points, and it is possible to perform reliable sampling of unknown samples without missing the timing of gas generation without preliminary measurement. Have the advantage of.

【0033】なお、上述の一実施例では、熱分析が熱重
量分析である場合を掲げたが、これは、他の熱分析、例
えば、示差熱分析、もしくは、示差走査熱量計等であっ
てもよい。また、熱重量変化が特定の値のときにサンプ
リングするようにしたが、これは、例えば、試料温度が
特定の温度になったときにサンプリングするようにして
もよい。
In the above-mentioned one embodiment, the case where the thermal analysis is thermogravimetric analysis is mentioned. However, this is not limited to other thermal analysis such as differential thermal analysis or differential scanning calorimeter. Good. Further, although the sampling is performed when the thermogravimetric change has a specific value, this may be performed, for example, when the sample temperature reaches a specific temperature.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかる熱
分析におけるガスサンプリング方法及びその装置は、ガ
スサンプリングを、試料の温度が特定の1又は2以上の
温度となったとき、あるいは、熱分析における試料の熱
的変化が特定の1又は2以上の状態となったときに行う
ようにしたものであり、これにより、ガスサンプリング
を常に所望の有効なタイミングで効率よく行えるように
したものである。
As described above in detail, the gas sampling method and apparatus in the thermal analysis according to the present invention performs gas sampling when the temperature of the sample reaches a specific temperature of 1 or 2 or This is to be performed when the thermal change of the sample in the thermal analysis reaches a specific one or more than two states, so that gas sampling can always be performed efficiently at a desired and effective timing. Is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例にかかる熱分析におけるガス
サンプリング装置の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a gas sampling apparatus in thermal analysis according to an example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…TGーDTA部、2…ガスサンプリング部、3…中
央制御装置、4…ガス採取管、11…天秤室部、12…
試料室部、12b…試料、13…加熱炉、21a,21
b,21c,21d…ガス吸着管、22a,22b,2
2c,22d…電磁弁、25…ロータリーポンプ。
1 ... TG-DTA section, 2 ... Gas sampling section, 3 ... Central control unit, 4 ... Gas sampling tube, 11 ... Balance chamber section, 12 ...
Sample chamber part, 12b ... Sample, 13 ... Heating furnace, 21a, 21
b, 21c, 21d ... Gas adsorption tubes, 22a, 22b, 2
2c, 22d ... Solenoid valve, 25 ... Rotary pump.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料の温度を変化させたときに生ずる試
料の熱的変化を測定する熱分析過程において試料から放
出されるガスをサンプリングする熱分析におけるガスサ
ンプリング方法において、 前記ガスサンプリングを、試料の温度が特定の1又は2
以上の温度となったときに行うようにしたことを特徴と
する熱分析におけるガスサンプリング方法。
1. A gas sampling method in thermal analysis for sampling a gas released from a sample in a thermal analysis process for measuring a thermal change of the sample that occurs when the temperature of the sample is changed. The specific temperature is 1 or 2
A gas sampling method in thermal analysis, characterized in that it is carried out when the above temperature is reached.
【請求項2】 試料の温度を変化させたときに生ずる試
料の熱的変化を測定する熱分析過程において試料から放
出されるガスをサンプリングする熱分析におけるガスサ
ンプリング方法において、 前記ガスサンプリングを、熱分析における試料の熱的変
化が特定の1又は2以上の状態となったときに行うよう
にしたことを特徴とする熱分析におけるガスサンプリン
グ方法。
2. A gas sampling method in a thermal analysis for sampling a gas released from a sample in a thermal analysis process for measuring a thermal change of the sample that occurs when the temperature of the sample is changed. A gas sampling method in thermal analysis, characterized in that it is carried out when the thermal change of the sample in the analysis reaches one or more specific states.
【請求項3】 請求項2に記載の熱分析におけるガスサ
ンプリング方法において、 前記熱分析が、試料の重量変化を測定する熱重量分析で
あり、前記熱的変化が試料の熱重量変化に依存する物理
量であることを特徴とする熱分析におけるガスサンプリ
ング方法。
3. The gas sampling method in thermal analysis according to claim 2, wherein the thermal analysis is thermogravimetric analysis for measuring a weight change of a sample, and the thermal change depends on a thermogravimetric change of the sample. A gas sampling method in thermal analysis characterized by being a physical quantity.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかに記載の熱
分析におけるガスサンプリング方法において、 前記ガスサンプリングは、ガスを一旦吸着保持するが一
定の処理を施すことにより吸着保持したガスを再度放出
する物質を充填した1又は2以上のガス吸着管に試料か
ら放出されるガスを各ガスサンプリングの都度それぞれ
導入するようにしたことを特徴とする熱分析におけるガ
スサンプリング方法。
4. The gas sampling method for thermal analysis according to claim 1, wherein in the gas sampling, the gas is once adsorbed and held, but a certain process is performed to release the adsorbed and held gas again. A gas sampling method in thermal analysis, characterized in that the gas released from the sample is introduced into one or more gas adsorption tubes filled with the substance to be charged at each gas sampling.
【請求項5】 試料から放出されるガスを外部に取り出
せるようにした試料室、該試料室内の試料の温度を制御
する温度制御手段及び試料の熱的変化を測定する熱的変
化測定手段を備えた熱分析装置と、 前記熱分析装置の試料室にそのガス導入端を接続可能に
したガス吸着管であって、ガスを一旦吸着保持するが一
定の処理をすることにより再度放出する物質を充填した
1又は2以上のガス吸着管と、 前記ガス吸着管のガス導入端と反対側の端部に吸引側を
接続可能にした吸引装置と、 前記ガス吸着管と吸引装置との間の流路に設けて吸引の
開閉を制御する電磁弁装置と、 前記試料の熱的変化が特定の1又は2以上の状態となっ
たことをそれぞれ検知して前記電磁弁装置の開閉制御を
行う制御装置とを備えたことを特徴とする熱分析におけ
るガスサンプリング装置。
5. A sample chamber which can take out gas emitted from the sample to the outside, temperature control means for controlling the temperature of the sample in the sample chamber, and thermal change measuring means for measuring the thermal change of the sample. A thermal analysis device and a gas adsorption tube whose gas introduction end can be connected to the sample chamber of the thermal analysis device, which is filled with a substance that once adsorbs and holds a gas but releases it again after a certain treatment. 1 or 2 or more gas adsorption tubes, a suction device capable of connecting a suction side to the end of the gas adsorption tube opposite to the gas introduction end, and a flow path between the gas adsorption tube and the suction device An electromagnetic valve device that is provided in the control unit to control the opening and closing of the suction; and a control device that detects the thermal change of the sample in one or more specific states and controls the opening and closing of the electromagnetic valve device. In thermal analysis characterized by having Gas sampling device.
【請求項6】 請求項5に記載の熱分析におけるガスサ
ンプリング装置において、 前記熱分析装置が試料の熱重量変化を測定する熱天秤装
置であり、前記熱的変化が試料の熱重量変化であること
を特徴とする熱分析におけるガスサンプリング装置。
6. The gas sampling device for thermal analysis according to claim 5, wherein the thermal analysis device is a thermobalance device for measuring a thermogravimetric change of the sample, and the thermal change is a thermogravimetric change of the sample. A gas sampling device in thermal analysis characterized by the above.
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