JPH08500500A - 面の非点収差的なレーザ切除 - Google Patents

面の非点収差的なレーザ切除

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Abstract

(57)【要約】 面を非点収差的に再輪郭形成するレーザ面切除方法および装置が開示される。光学系(10)が標的面でのだ円レーザ照射パターン(30)の形成のため、円柱屈折形光学系(18)を含む。だ円照射の領域の連続的な変化により、非点収差的な複式屈折型の切除プロフィルが実現される。本発明は、エキシマーレーザ角膜形成、角膜曲率形成または他の切除眼科手術のためにエキシマーレーザと一緒に使用されることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】面の非点収差的なレーザ切除 発明の背景 本発明は一般的にはレーザにより面を侵食または切除するための方法および装 置に関するものである。詳述すると、本発明はレーザ角膜形成または角膜曲率形 成術を介して面を非点収差補正的ないし非点収差的に侵食しそして近視性乱視の 修正を行うための方法および装置に関するものである。 レーザは制御された態様で面を侵食する。これらの技術は知られておりそして 既知の波長およびエネルギ密度を有するレーザ放射と面構造体との間の相互作用 に依存する。さらに、レーザ放射による面切除は典型的には時間−速度依存性で あるが、この時間依存性は熱の蓄積および他の人工的産物により侵食深さに応じ て通常非直線的である。それゆえ、切除正確さはパルス作動レーザ放射の使用を 介して得られることが多い。短パルスが適用領域に制御された深さの侵食を提供 する。この制御は目の角膜が切除され近視などの一定の視覚欠陥を修正する角膜 形成または角膜曲率形成処置において特に重要である。角膜への注意深いレーザ 放射の適用により、医者は正確にそして露光過度による組織損傷なく患者の視覚 を手術的に改善できる。 面へのレーザパルスの連続的な適用によりそして照射を受ける領域の大きさの 変更により、湾曲ないし曲率が面上に発生されあるいは変化される。たとえば、 切除技術が大円形領域の照射により開始しそして露呈領域の半径を漸進的に減少 するとき、中央帯域は最も深い切除深さを有する。なぜならそこは最も長く照射 されるからである。これとは反対に、最も外側の領域は最小の切除深さを有する 。もし面が最初平坦であれば、結果的に生ずるプロフィルまたは輪郭は凹状であ ろう。もし面が最初凸状であれば、切除の程度に依存して面は平坦となされまた は曲率が低減される。角膜形成術または角膜曲率形成術において、角膜上の曲率 、換言すれば、角膜の理想曲率と患者の実際の角膜形状との間の差は修正される 。 非点収差的な形状の発生または除去のための面侵食技術は上首尾とはいえない 。非点収差的な面が複式屈折型(すなわち面を創成する2つの自然湾曲と直交湾 曲とがある)と定義される。変化する円形照射パターンが面上に単一の屈折力を 発生または除去するのみである。非点収差的な形状を侵食する既存の方法は実施 するのが複雑かつ困難である。 たとえば、“Method For Ophtalmological Surgery(眼科手術方法)”という 表題の付された米国特許第4,665,913号が、レーザ走査の使用を介して種々の非 点収差的な形状を提供する方法を開示する。ところが、この方法 は制御するのがとりわけ困難である。走査レーザを使用する、面(たとえば角膜 )上の再輪郭形成(reprofiling)操作の精密な制御は、レーザスポットがほぼ 一定の空間的強度を維持することをそして別途複雑な侵食パターンが注意深く追 従されることを必要とする。ところが、レーザスポットの強度はたいていガウス 型でありそして本来的に非均質性である。この非均質性および詳細な侵食パター ンは誤差の非常な余地を残しそれゆえ手術応用のため高価な保護手段を要求する 。さらに、これら方法は本来的に時間がかかる。なぜなら面の小部分だけがある 時点に侵食されるからである。 非点収差的な面を侵食するための別の方法が“SurfaceErosion Using Lasers (レーザを使用する面侵食)”という表題の付された米国特許第4,941,093号に 教示されている。その教示するところによれば、特定的に構成された光学要素ま たはスリットが、一軸線内での切除を提供する、換言すれば、侵食が点のまわり でなく線に関し選択的に進行するよう使用される。典型的には、この方法は適当 な全体湾曲が実現されるよう球面修正を行うために別の段階を要求する。 さらに別の方法が、標的面へのレーザ透過を変化させそれにより面に変化可能 な切除深さを誘導する強度勾配型のまたは光分解可能なマスク部材の使用を含む 。たとえば、“Laser Reprofiling Systems And Methods(レーザ再輪郭形成装 置および方法)”という表題の付された 米国特許第4,856,513号は侵食可能なマスク部材の使用を介して角膜を選択的に 侵食するための方法を教示する。マスク部材は、所望される面プロフィルの提供 のため角膜面の横断方向に変化する量にて面レーザ放射を吸収する。しかしなが ら、この技術は相補の物体、すなわち侵食可能なマスク部材の製造を要求しさら に標的面にわたる正確な相関的位置決めをも要求する。 それゆえ、本発明の目的は、新しい形状、好ましくは球面形状、を実現するた めに最初の複屈折型非点収差的な形状をもつ面を非点収差的に再輪郭形成を行う ためのより簡単な方法および装置を提供することである。 本発明の他の目的は、増大された制御である面形状に適用される非点収差的な 比を方向づけそしてこれを調整するための方法および装置を提供することである 。 本発明のさらに別の目的はレーザ角膜曲率形成処置において角膜切除を通じ近 視性乱視を修正するための方法および装置を提供することである。 本発明のこれらおよび他の目的は以下の説明で明瞭となろう。発明の要約 面に新しいプロフィルおよび曲率を付与するためにかかる面を非点収差的に切 除するための装置および方法が開示される。たとえば、迅速にパルス作動される レーザ放射源などのレーザ手段が面の標的帯域へ向う光路に沿って光侵食エネル ギパルスを提供するため面と整列され る。調整可能なアイリスまたは輪郭形成された(profiled)マスク部材などの光 制限手段が、標的面を照射するレーザ放射の範囲を空間的に制御するために光路 内に配置される。光路内には円柱光学系もまた配置され、標的面への伝達のため 対称レーザビームをだ円形状に修正するために調整される。 本発明の別の様相によれば、円柱屈折形光学系はレーザビーム軸線のまわりに 回転可能である。回転手段がだ円形状を標的面上で選択軸線に対して配向するた めに提供される。 本発明のさらに別の目的によれば、円柱屈折形光学系が、異なる非点収差的な 比の提供のため、標的面に適用されるだ円の一軸線の修正のためにレーザビーム 軸線方向に移動可能である。 本発明の別の様相が、円柱屈折形光学系の焦点距離を選択し、それにより標的 面へ適用されるとき変化する非点収差的な比の選択を許容する別途の段階を提供 する。 本発明のさらに別途の様相が、角膜曲率形成処置において角膜の非点収差を修 正するための方法を提供する。レーザ手段、好ましくはエキシマーレーザが整列 され、患者の角膜に向う光路に沿って光切除エネルギパルスを提供する。レーザ ビームおよび光路内に整列される調整可能なアイリスがレーザビームのための開 口絞りとして振舞い、角膜に照射するレーザ放射の物理的な範囲を空 間的に制御する。角膜への伝達のため対称レーザビームをだ円形状に修正するた めに、光路内には円柱光学系が整列されそして調整される。 角膜面へ適用されるときの非点収差比の変化のための種々の方法および手段が 開示される。一つの方法において、円柱屈折形光学系は非点収差比の変化のため レーザビームの光路方向に移動可能である。代替例として、種々のレンズまたは 他の光学要素(たとえば円柱ミラー)が互いに置換でき角膜面に適用されるとき に非点収差比を変化する。この様相において、円柱屈折形光学系の焦点距離は、 角膜に伝達される照射だ円の一つのディメンションを変化するために選択される 。 さらに別の様相において、本発明は、照射だ円軸線を患者の乱視ないし非点収 差軸線と逆方向の態様で一致するよう配向するために円柱屈折形光学系の回転方 法および手段を提供する。 本発明の別の様相によれば、面を非点収差的に侵食するためのレーザシステム において光切除エネルギの連続レーザ放射またはパルスレーザ放射発生のための レーザ手段が提供される。このレーザ放射は光切除のため標的面への伝達のため 光学的に整列される。ビーム制御機構が、コンピュータ手段により駆動されるの が好ましいアイリス絞りまたは同様物を通じてレーザ放射の空間的なディメンシ ョンを調整する。レーザエネルギは、レーザ放射の一軸線におけるビームディメ ンションを調整しそ れにより標的面上にだ円形状を形成するため、円柱光学手段を通じて別途整列さ れる。 別の様相において、円柱光学手段は、非点収差的な侵食軸線の選択および配向 のため、標的面でのレーザエネルギのだ円パターン回転のため転回できる。 さらに別の様相において、円柱光学手段は標的面でのレーザエネルギのだ円パ ターンの大きさを変化し、標的面での非点収差的な侵食比の選択のために軸線方 向に移動できる。 本発明の特徴および様相により提供される利益はいくつかある。詳述すると、 本発明は標的面にだ円照射パターンを提供し、同時的なそして複式屈折型の非点 収差的な侵食を可能にする。レーザ伝達系内の円柱屈折形光学系の包含は容易な 極配向および標的面での非点収差的な切除の選択を許容する。エキシマーレーザ 角膜曲率形成術などの応用は近視性角膜に適用される非点収差的な修正の適当な 軸線配向の保証により、本発明の十分な利益を受けられる。配向の正確さは、円 柱屈折形光学系が転回される正確さに対応する。さらにその上、種々の非点収差 比が円柱屈折形光学系の焦点距離の選択を通じて実現でき、変化可能なそして連 続する非点収差比がレーザビーム軸線方向の円柱光学系の軸線運動を通じて達成 できる。通常の角膜曲率形成処置は、所望される光学的修正を角膜上で達成する ために引き続きアイリス径の調整が続く。(本明細書で使用される「調整可能な アイリス 」という用語は、たとえば調整可能な絞り、アパーチャホイール、可動絞りおよ び他の光制限機構ならびにビームの均質性維持のためにこれらに関連付けられる 光学要素を含む、レーザビームの大きさを修正するための種々の系を包含する。 ) 本発明を一定の好ましい実施例との関連で述べるが、当業者であれば、本発明 の技術思想から逸脱することなく種々の付加、削除および改変が可能であること が明らかであろう。たとえば、本発明は先天的乱視または他の手術後(たとえば 白内障または侵入角膜形成術)の乱視との関連で使用できる。図面の簡単な説明 本発明のより完全な理解が図面の参照により得られる。 第1図は、本発明により標的面を非点収差的に侵食する方法を実施するための 装置の模式図である。 第2図は、面を非点収差的に侵食するのに使用されるだ円形のレーザビーム照 射を図示する。 第3A図〜第3F図は、だ円形照射で標的面を非点収差的に侵食するのに必要 とされる連続段階を模式的に図示する。 第4A図および第4B図はだ円形レーザ照射による面侵食を通じて直交軸線に 発生される湾曲ないし曲率を図示する。 第5A図および第5B図はそれぞれ再輪郭形成の前お よび後の乱視性近視角膜面の斜視図である。 第6図は、本発明によるレーザ切除システムのより詳細な模式図である。詳細な説明 第1図は、標的面へだ円形切除レーザエネルギビームを伝達するための本発明 によるシステム10を図示する。第1図において、レーザ手段11が、レーザビ ーム16の形状および寸法を修正するビーム制御光学系14へ放射出力12を伝 達する。このビームは、標的面22への伝達のためレーザビームの大きさおよび 形状の一軸線修正のために円柱屈折形光学系18と整列される。第1図は、レー ザビームがその種々の形状12、16、20へ変換されるときのレーザビームの 断面図24をも図示している。レーザ手段11から出たビーム12は典型的には 円形のビーム形状26を有する。ビーム制御光学系14から出たビーム16は典 型的には円形のビーム形状28を有する。円柱屈折形光学系18から出たビーム 20はその断面図32において図示されているように標的面22でだ円パターン 30を形成する。 光学系14および18は標的面22へ最適かつ無収差のスループットを提供す るようレーザビーム11と同軸整列されている。ミラー15、17、19はシス テムが折り畳まれた構成で動作するのを可能にする。レーザ手段11はビーム制 御光学系14に連続またはパルス作動レーザ放射出力12を提供できる。制御可 能な開口絞り を有するエイフォーカルまたは無限遠ビームエキスパンダ(expander)が、レー ザビーム12断面径をより大きなまたは小さな大きさ(たとえば、図示の28は より小さな大きさを示す)に変化しそして円柱屈折形光学系18のために高度に コリメートないし平行化された出力の提供のためビーム制御光学系14を包含で きる。この円柱光学系18は一軸線でのみ光学屈折力を提供し、そしてレーザビ ーム16を円形のプロフィル28からだ円形のプロフィル30へ修正する。系1 4および18は両方とも標的面22へ伝達されるビームのディメンションを調整 するために制御可能な開口絞りを有することができる。各系は一つのディメンシ ョンを制御する。2つの開口絞りの調整によってだ円ビーム30の長および短軸 線のディメンションが調整できそれにより標的面22の非点収差ディメンション と適合する。 第1図に図示されるシステムの構成はいくつかの方法で行われる。光学系14 および18は両方とも簡単な部材から作られる。たとえば、ビーム制御光学系は 対称的なビーム形状28を制御するよう配置される調整可能なアイリスを具備す る簡単なレンズを具備できる。代替例として、ビーム制御系14はさらにビーム クリッピング機構、光均質化手段および/またはビームエキスパンダをも包含で きあるいはこれらの機能は、所望されれば、光学系14におけるビーム賦形前に 個別の光学要素により遂行できる。同様に、円柱光学系18はミラーのかわ りに円柱レンズのような簡単なレンズから作られ、あるいは上と同様に追加のビ ーム条件設定要素を包含できる。この系18は標的面22でだ円形レーザプロフ ィル30の一つのディメンションを調整するのに使用できる。 円柱屈折形光学系18は一軸線にのみ光学的屈折力を提供するので、だ円のデ ィメンションを調整するという一つの方法が系18を軸線方向に移動することで ある。系18は、もし系18に負方向屈折力が付与されれば、ビーム16をして 発散せしめる。こうして、軸線方向の系18の移動はだ円30の一つのディメン ションをして標的面22で変化させる。なぜならビーム20はある距離にわたり 発散または収束し、面22に到達するからである。軸線方向の運動の正確な制御 で、だ円形状30の正確なサイジングないし寸法設定が実現できる。だ円形状は 面を非点収差的に侵食するための手段を提供する。 だ円30の定置ないし配向もまた本発明により提供される方法により制御可能 である。第1図に図示されるごとく、だ円30の長軸は水平である。図面におい て、かかるパターンは負方向の屈折力付与円柱光学系18を通じて水平軸線内に あるいは正方向の屈折力付与円柱光学系18を通じて垂直軸線内に発生できる。 いずれの場合でも、系18がレーザビーム16および20の光学軸線の周囲に転 回されるとき、だ円の配向もまた変化する。 この技術により、だ円は標的面22上で所望される非点収差軸線と適合するよう 配向できる。 系14および18はいくつかの実施で結合されることに注意されたい。結合光 学系は、少くとも一つの光学要素が非点収差的な屈折力を有することを単に要求 するであろう。結合系は同様の態様で軸線方向に移動されそして単一の開口絞り と一緒に配置され制御された態様でだ円30を発生する。代替例として、結合系 は静止状態でそしてたとえばホイールまたは同様物の上の一連の開口と組み合わ せて使用される。さらに結合系の回転が標的面22上のだ円配向をも調整する。 好ましい実施例において、第1図のシステム全体はエキシマーレーザ角膜曲率 形成術で使用できる。この好ましい実施例によれば、レーザ手段は迅速にパルス 作動される紫外レーザ源であり、標的面はレーザ手段と光学整列された人間の角 膜である。レーザ手段は、たとえばエキシマーレーザとし得そしてある好ましい 実施例において約193nmの特性放射波長を有するアルゴン−フッ化物レーザ である。他のパルス作動紫外レーザが、約157nmまでのより短い波長(たと えばフッ化物レーザ)そして約300nmまでのより長い波長を有する。 たとえば、(ArF エキシマーレーザから得られる波長である)波長193nm のエネルギにより角膜のボーマン氏膜または基質部分のいずれかを侵食する場合 、スレッショルド値は1パルス当たり約50mJ/cm2であ りそして限度値が1パルス当たり約250mJ/cm2である。角膜面での適当 なエネルギ密度が、193nmの波長について1パルス当たり50mJ/cm2 〜1J/cm2である。 スレッショルド値は波長と共に変化しそしてF2レーザから得られる波長であ る157nmでスレッショルド値は1パルス当たり約5mJ/cm2である。こ の波長で、角膜面における適当なエネルギ密度が1パルス当たり5mJ/cm2 〜1J/cm2である。 最も好ましくは、レーザシステムは、限界値よりもわずかに低い、侵食面での エネルギ密度を提供するのに使用される。かくして、193nmの波長(これよ りも低い条件で限界値は1パルス当たり250mJ/cm2である)で角膜を侵 食するとき、1パルス当たり100〜150mJ/cm2のエネルギ密度の角膜 パルスを提供するのが好ましい。典型的には、単一のパルスが角膜から0.1〜 1μmの範囲の深さの組織を侵食する。 レーザのためのパルス繰返し頻度は各所定の応用の必要性を満足するよう選択 可能である。通常、頻度は1秒当り1〜500パルス数であり、好ましくは1秒 当り1〜100パルス数である。ビームの大きさの変化が所望されるとき、レー ザパルスは停止可能である。代替例として、ビームの大きさはパルスを継続して いる間に変化可能である。もし測定装置が侵食の進行監視および自動的なレーザ 装置制御に使用されれば、ビームの大きさは パルスを中断することなく制御された割合で連続的に変化可能である。 適当な照射強度がレーザ波長および照射される対象物の性質に依存して変化す る。所与の材料に適用される所与の波長のレーザエネルギについて、一般的には 、それ以下では意味のある侵食が生じないエネルギ密度のスレッショルド値があ る。スレッショルド密度以上では、限界値に到達するまでに、それにわたって増 大エネルギ密度が増大する侵食深さを与えるところのエネルギ密度範囲がある。 限界値以上のエネルギ密度の増大について、意味のある侵食増大は生じない。 スレッショルド値および限界値はレーザエネルギの波長ごとにそして侵食面の 材料ごとに容易には予測できない態様で変化する。ところが、どの特定のレーザ およびどの特定の材料についても値は実験により容易に見出される。 再び第1図を参照すると、患者の非点収差軸線は円柱光学系18の回転を通じ てだ円形のビームプロフィル30と適合される。光学系14内に配置される開口 絞りが角膜標的面22でのだ円30の一つのディメンションを制御できる。円柱 光学系18の軸線方向の位置決めがだ円30の他のディメンションを別途制御で きる。システム10は、出力ビームの変化する大きさに拘らず単位面積当り実質 的に一定のエネルギを有する出力ビーム20を発生することもまた好ましい。基 本的なレーザ角膜曲 率形成装置および方法ならびに実質的に一定のエネルギ密度の保証のための技術 についての別途詳細に関しては、参考のため米国特許第4,941,093号および米国 特許第4,856,516号を参照されたい。 円柱屈折力を有する軸線に沿ってのだ円のディメンション制御は系18で特定 光学要素の選択および/または置換を介することによっても実現される。この実 施例によれば、第1図に図示のシステム内での置換のため異なる光屈折力(換言 すれば異なる焦点距離)を有する円柱要素の選択により、変化可能なだ円ディメ ンションが実現できる。この方法は系18の軸線配置の調整と等価である。 第2図は標的面34に当るレーザエネルギのだ円形32を図示する。だ円32 の長軸線36および短軸線38間の差は面を非点収差的に侵食するための手段を 提供する。所望される面侵食の発生のために、面34は切除性質を有するレーザ で照射されそしてだ円のディメンションが変化される。長軸線および短軸線間の 比は一定に維持されそしてだ円32の面積全体が変化される。 第3A図〜第3F図がだ円パターンがどのようにして面を非点収差的に侵食で きるかを図示する。標的面40はだ円レーザビーム42により照射される。ビー ムの主軸線44は、標的面40で従軸線46が照射するよりも広いディメンショ ンを照射する。所定の時間期間後、レーザビームは、照射を受けた標的面40の 部分48を侵 食する。順次、だ円の面積は主軸線44および従軸線46の寸法を低減するとと もに同時に2つの定数間の比を維持することにより修正される。典型的には、レ ーザビーム42はシャッターにより休止または阻止されそして露呈面積が調整さ れる。別の時間期間の後、標的面の別の部分50がレーザ侵食を通じて除去され る。だ円の面積は、標的面40から別の部分52を侵食するために、第1図で叙 述したごとく再び調整される。第3A図〜第3C図はだ円ビームの一方の軸線方 向の累積的効果をそして第3D図〜第3F図は他方の軸線方向の累積的効果を図 示する。 第4A図および第4B図は、平坦標的面54での連続的なだ円形照射をもつ第 3A図〜第3F図に叙述のプロセスの最終結果を図示する。標的面は標的面はだ 円の長軸線により照射される軸線方向でより長い径56の侵食パターンをそして だ円の短軸線上のより短い径58の侵食パターンを有する。制御された態様でだ 円面積を制御することによりそして長軸線および短軸線間の比を固定状態に維持 することにより、2つの明瞭な光学屈折力が標的面54上に発生される。第4A 図に図示されるごとく、長軸線はより長い曲率半径60を有しそして第4B図に 図示されるごとく、短軸線はより短い曲率半径62を有する。2つの半径間の差 64は、レーザ侵食を通じて面54に発生される非点収差的な屈折力のほぼ線形 関数である。 第5A図および第5B図は、所望される光学屈折力および球面屈折の達成のた めどのようにして乱視性近視眼の角膜が再輪郭形成されるかを図示する。各層は レーザおよび物質に依存して一つまたはそれ以上のレーザパルスで除去される。 ある層の除去後、引き続く照射において異なる寸法の層の除去のため照射面積が 変化される。逐次の層侵食を通じての角膜面でのレーザ照射の大きさの制御が第 5B図に図示されるごとく所望されるプロフィル74を発生する。第5A図およ び第5B図の両方に図示の輪郭線はそれぞれ処置前および処置後の角膜面での等 地形高さの線を表わす。 連続レーザ照射の変化する開口プロフィルは幾何学的である。一つの軸線につ いて t=R−√R2−(D2/4) (1) ここで、tは(直径Dで眼を横切るベース面から測定される)眼表面の高さで あり、Dは切除される面領域の外径であり、そしてRは面66の結果的に得られ る一次元的な半径である。関心のある面66の唯一の部分がディメンションDで あり、これは最初にレーザ照射を受ける。tが決定されると、各層を除去するた めのだ円の連続的な寸法が決定される。たとえば、一つのレーザパルスが標的面 66から厚さΔtを侵食できるとき、tをt−Δtで置換することにより、より 小さな直線的なディメンションDが決定される。 だ円形の露呈領域の寸法の変化割合は面侵食のための 選択される曲率半径76に依存する。一つのディメンションについて、面屈折力 は、視力修正のための典型用語であるディオプトリー(1/メートル単位)によ って記述される。ディオプトリーは、 として定義される。ここで、nおよびn’は、それぞれ標的面66の前方および 標的面66内部の波長依存性光学屈折率である。Rは面半径である。エキシマー レーザ角膜形成または角膜曲率形成処置において、入射媒体屈折率nは約1の屈 折率を持つ空気である。平均的な人間の角膜の屈折率、すなわちn’、は可視光 について約1.376である。もし患者が−3.0ディオプトリーの修正を必要 とすれば、面侵食半径は約125.33mmである。それゆえ、角膜での連続照 射は面侵食のため寸法が先の半径に調整される。 もし患者が近視性単乱視、またはより普通には乱視性近眼と呼ばれる、を有す るのであれば、角膜の両方の軸線が複式屈折形侵食を行うために同時侵食される 。たとえば、もし−3.0ディオプトリーの修正が一方の軸線で必要とされそし て−3.9ディオプトリーの修正が角膜の直交軸線で必要とされれば、だ円形エ キシマーレーザビームの対応する照射寸法はそれぞれ約4.6mmおよび約4. 1mmである。切除中に除去される角膜の厚 さtは再輪郭形成される光学帯域の寸法に依存して変化する。処置は、所望され れば、再輪郭形成のため小さな光学帯域の選択により、角膜のボーマン氏層の侵 食に主として限定できる。代替例として、大きな光学帯域が所望されてもよく、 かかる場合に、角膜の基質帯域への侵入が典型的に生ずる。一般に、いずれにし ても100〜200ミクロン以上の角膜の切除を避けることが好ましい。 第6図は、本発明の一実施例の詳細図である。レーザビーム78が、ビーム7 8と光学整列されるビーム制御光学系80に入る。ビーム制御光学系80は無限 遠系であり、ビーム寸法に拘らず実質的に一定のエネルギ密度を維持しながら、 入力と異なる半径のコリメート放射を発生する。正のレンズ82および負のレン ズ84それぞれの焦点距離の相に等しい距離で配置される正レンズ82および負 レンズ84がかかる系を作ることができる。開口86がビーム制御光学系80を 通じて伝達されるレーザビーム78の径の大きさ88を制限する。円柱屈折形光 学系90に入射するレーザビーム78はコリメートされそして円形であり、ここ でそれは標的面92への伝達のため一軸線にて修正される。開口絞り86はいく つかの方法でレーザビーム78の径を変化できる。たとえば、コンピュータ駆動 機構を介して、開口径は、たとえば調整可能なアイリス絞りまたは同様物により 変化される。あるいは等価的に、開口86の軸方向運動はビーム 制御光学系80を退出するビーム78の径を変化させる。 第6図はさらに円柱屈折形光学系90の構成を図示する。一方の軸線96はレ ーザビーム78の大きさまたは形状を変化しない。他方の軸線98は円柱状修正 屈折要素を包含する。変化する非点収差比は軸線方向に要素90の位置を調整す ることにより達成される。 眼におけるだ円の極配向は、面の非点収差軸線との適合のためまたはたとえば 角膜形成または角膜曲率形成手術において近視患者の非点収差軸線との適合のた め、レーザビーム78の軸線のまわりでの円柱屈折形光学系90の回転を通じて 調整できる。 第7図は、本発明の別の実施例であり、システム100は標的面102へのだ 円形切除レーザ放射ビームを伝達するだけでなく、像平面が(円柱レンズ110 および112の配向によって画定されるごとき)両方の光学軸線について変化さ れないことも保証する。レーザビーム104がビーム制御光学系80(これは開 口87を有する調整可能なアイリス86として簡単に図示されているけれども、 それは第6図に図示されるごとき整合された正および負のレンズなどの追加の要 素またはレンズおよび調整可能な絞りの組合せを包含してもよい)に入射し、ビ ームの大きさに拘らず実質的に一定のエネルギ密度を維持しつつ入力と異なる半 径のコリメートされた放射出力を発生する。 第7図において、円柱屈折形光学系120が開口面と実質的に平行(たとえば ビーム軸線に対して垂直)な面内にビーム制御系80の開口の像を結ぶために使 用される。図示されるごとく、円柱屈折形光学系120は、球面レンズ108、 負の焦点屈折力110を持つ円柱レンズ110および正の焦点屈折力を持つ相補 円柱レンズ112を包含する。(レンズ108および110は、もちろん、一つ の面が球面でそして他方が円柱状である単一のレンズとして設計できる。この簡 略化は構成部品数を低減しそしてより少ないビームエネルギの損失をもたらす。 しかし、基礎をなす原理の図解および説明の目的のため、レンズ108および1 10は2つの個別の要素として図示されている。) 説明の便宜のため、レンズ108および110は、単一のユニットとして形成 されるかまたは無視できる距離だけ離間されていると仮定する。円柱レンズ11 0および112により影響されないX軸上の倍率Mxは以下の式により画定され る。 好ましい実施例において、球面レンズ108および円柱レンズ110が、それ らの組み合わされたY軸上の焦点屈折力がL1に等しいよう選択される。もしレ ンズ1 08および110が互いに近接していれば、(負である)円柱レンズ110の焦 点距離は以下の式により画定される。 これは、第1の(負の)円柱レンズ110および第2の(正の)円柱レンズ1 12との間の帯域でY軸線方向の「平行ビーム処理動作」を生ずる。レンズ11 0および112間の距離ΔLはレンズ112と標的間の最終的なスパン距離L2Y が選択されるよう順次選択される。 レンズ110および112間の距離ΔLは、レンズ112と標的間の残された 距離L2Yが以下のごとく画定されるよう選択され、 そしてY軸線方向の倍率Mxであり、常にMxよりも小さい。 球面レンズ108および2つの円柱レンズ110および112の使用は、臨床 医が、開口87の面と実質的に平行な面における開口の像を維持しつつZ軸の回 りに円 柱軸線を回転するのを可能にする。一般に、反対方向の屈折力の2つの円柱レン ズの使用は両方の円柱レンズが互いに十分離間されるあいだこの無限遠拡大効果 を許容する。 像スポット122は、Y軸線における像寸法がX軸線における寸法よりも小さ いことを示す。全組立体120の回転により、非対称性はいずれの特定の非点収 差軸にも適合され、角膜を選択的に切除しそして特定の非点収差の問題を修正す る。 像の倍率Myの変化が、上述の条件を満足すべく、一つまたはそれ以上のレン ズ要素の軸線方向の運動または一方の円柱レンズ(たとえばレンズ112)と異 なる焦点屈折力を有する別のものとの交換およびレンズの位置決めにより達成さ れることも明らかであろう。本質において、レンズ110とレンズ112との間 の空間はY軸倍率の変化に適合するための緩衝手段である。 レンズ要素112と別の分離したレンズ要素との交換は実施が困難であるかま たは時間がかかるかもしれないので、Myの連続変化は簡単なレンズ112を変 化可能な円柱ズームレンズで置換することにより達成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クロポテク,ピーター ジェイ. アメリカ合衆国 01701 マサチューセッ ツ,フラミンガム,ベイベリー レイン 2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)レーザエネルギにより面を非点収差的に切除するための方法において、 当面へ向うパスに沿って光切除性レーザエネルギパルスからなるビームを伝達 するよう動作可能であるレーザ手段と前記面とを整列させ、 ビームの大きさを変化させ、 円柱屈折力をビームに適用し、上記領域に時間変化型のだ円形エネルギ分布を 形成する諸段階を具備する方法。 (2)円柱屈折形光学系を回転し、非点収差的な侵食のため前記面で直交軸線配 向を選択する段階を含む請求項1の方法。 (3)前記円柱屈折力を適用する段階は、ビームに沿って円柱光学系を位置決め し、非点収差的な切除のため前記面での非点収差比を選択する段階を含む請求項 1の方法。 (4)円柱屈折形光学系の焦点距離を調整し、非点収差的な侵食のため前記面で の非点収差比を選択する段階を別途含む請求項3の方法。 (5)近視性乱視の修正のため眼の角膜領域へ非点収差的な切除を提供する方法 において、 角膜へ向うパスに沿って光切除性レーザエネルギパルスからなるビームを伝達 するよう動作可能なレーザ手段 に関して眼を固定し、 ビームの大きさを変化させ、 円柱屈折力をビームに適用し、前記角膜に時間変化型のだ円形エネルギ分布を 形成する諸段階を具備する方法。 (6)円柱屈折形光学系を回転し、前記近視性乱視の角膜軸線と適合させること を含む請求項5の方法。 (7)前記円柱屈折力を適用する段階が、ビームに沿って円柱屈折形光学系を位 置決めし、角膜での光切除非点収差比を選択する段階を含む請求項5の方法。 (8)前記円柱屈折形光学系の焦点距離を調整し、前記角膜での非点収差比を選 択する段階を別途含む請求項7の方法。 (9)前記レーザ手段がエキシマーレーザを使用する請求項5の方法。 (10)前記円柱屈折形光学系が円柱レンズである請求項5の方法。 (11)面を非点収差的に再輪郭形成するためのレーザシステムにおいて、 レーザ光のパルスが面に吸収され光切除を誘導するよう、あるエネルギレベル でビーム路に沿ってレーザ光パルスを発生するためのレーザ手段と、 前記面でビームのディメンションを制御するためのビム制御手段と、 前記面に非点収差的な照射パターンを発生するために 一軸線におけるビームディメンションを調整するための円柱屈折形光学手段とを 具備するレーザシステム。 (12)ビーム制御手段が前記レーザビーム径の制御のため調整可能なアイリス を含む請求項11のレーザシステム。 (13)円柱屈折形光学手段が、少くとも一つの円柱屈折形光学要素を回転し、 前記面で非点収差軸線を配向するための手段を別途具備する請求項11のレーザ システム。 (14)円柱屈折形光学手段が、前記面に適用される非点収差比の選択のため、 少くとも一つの円柱屈折形光学要素を軸線方向に移動するための手段を別途具備 する請求項11のレーザシステム。 (15)前記ビーム制御手段は無限遠に像点があり(afocal)、前記面に 適用されるレーザビーム径の制御のためレーザビーム軸線に沿って移動可能であ るビーム絞りを別途含む請求項11のレーザシステム。 (16)前記レーザ手段がエキシマーレーザである請求項11のレーザシステム 。 (17)前記エキシマーレーザがアルゴンフッ化物レーザである請求項16のレ ーザシステム。
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