JPH0841200A - Polyimide silicone and its production - Google Patents

Polyimide silicone and its production

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JPH0841200A
JPH0841200A JP19800794A JP19800794A JPH0841200A JP H0841200 A JPH0841200 A JP H0841200A JP 19800794 A JP19800794 A JP 19800794A JP 19800794 A JP19800794 A JP 19800794A JP H0841200 A JPH0841200 A JP H0841200A
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JP
Japan
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formula
group
represented
general formula
same
Prior art date
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Pending
Application number
JP19800794A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideto Kato
英人 加藤
Satoshi Toyoda
聡志 豊田
Hideki Akiba
秀樹 秋葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication of JPH0841200A publication Critical patent/JPH0841200A/en
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To obtain a polyimide silicone excellent in adhesion, heat resistance and solvent resistance, too. CONSTITUTION:This silicone essentially consists of structural units represented by formula I (wherein X is a tetravalent organic group; Y is a bivalent organic group; and n is an integer of 1 or greater) and structural units represented by formula II (wherein R<1> is a 1-6 C monovalent organic group; (m) is an integer of 2-8; and (a)is an integer of 0-2).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、接着性及び耐熱性に優
れたポリイミドシリコーン及び該ポリイミドシリコーン
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide silicone having excellent adhesiveness and heat resistance and a method for producing the polyimide silicone.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドは、耐熱性、機械的強度、パ
ターン形成性などに優れており、高純度化が可能なこと
から電子工業分野での利用が広まりつつある。
2. Description of the Related Art Polyimide is excellent in heat resistance, mechanical strength, pattern formability, etc., and can be highly purified, so that it is widely used in the electronic industry field.

【0003】ポリイミドは、一般に、シリコーンウェハ
ー等の無機材料基板との接着性に劣るという欠点があ
る。無機材料基板への接着性が改善されたポリイミドと
して、骨格中にシロキサン結合が導入されたポリイミド
シリコーンが提案されている。例えば、米国特許第3,
325,450号明細書においては、ポリイミド製造の
出発原料であるジアミン成分として、ジアミノシロキサ
ンを使用し、該ジアミノシロキサンとテトラカルボン酸
成分とを反応させてポリイミドシリコーンを製造する方
法が開示されている。また、特開昭64−85220号
公報及び特開昭61−159425号公報には、テトラ
カルボン酸成分としてシロキサン結合を有するテトラカ
ルボン酸二無水物を使用し、該テトラカルボン酸二無水
物とジアミン成分とを反応させてポリイミドシリコーン
を製造する方法が開示されている。
Polyimide generally has a drawback that it has poor adhesion to an inorganic material substrate such as a silicone wafer. As a polyimide having improved adhesion to an inorganic material substrate, a polyimide silicone having a siloxane bond introduced into its skeleton has been proposed. For example, US Pat.
Japanese Patent No. 325,450 discloses a method for producing a polyimide silicone by using diaminosiloxane as a diamine component which is a starting material for producing a polyimide and reacting the diaminosiloxane with a tetracarboxylic acid component. . Further, in JP-A-64-85220 and JP-A-61-159425, a tetracarboxylic acid dianhydride having a siloxane bond is used as a tetracarboxylic acid component, and the tetracarboxylic acid dianhydride and diamine are used. A method of producing a polyimide silicone by reacting with components is disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法により得られるポリイミドシリコーンは、接着性は
改善されているものの、骨格中にシロキサン結合を含有
しないポリイミドと比較して耐熱性に劣るという問題が
ある。
However, although the polyimide silicone obtained by the above method has improved adhesiveness, it has a problem that it is inferior in heat resistance as compared with a polyimide having no siloxane bond in the skeleton. is there.

【0005】従って、本発明の課題は、接着性に優れ、
しかも、耐熱性に優れたポリイミドシリコーン及び該ポ
リイミドシリコーンの製造方法を提供することにある。
Therefore, the object of the present invention is to provide excellent adhesiveness,
Moreover, it is to provide a polyimide silicone having excellent heat resistance and a method for producing the polyimide silicone.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、少なくとも、下記一般式(1) :
In order to solve the above problems, the present invention provides at least the following general formula (1):

【化12】 (式中、Xは4価の有機基であり、Xが複数存在する場
合にはそれらは同一でも異なってもよい。Yは2価の有
機基であり、Yが複数存在する場合にはそれらは同一で
も異なってもよい。nは1以上の整数である。)で表さ
れる構成単位と、下記一般式(2) :
[Chemical 12] (In the formula, X is a tetravalent organic group, and when there are a plurality of X, they may be the same or different. Y is a divalent organic group, and when there are a plurality of Y, they are May be the same or different. N is an integer of 1 or more) and the following general formula (2):

【化13】 (式中、R1 は、炭素原子数1〜6の1価の有機基であ
り、R1 が複数存在する場合には、それらは同一でも異
なってもよい。mは2〜8の整数であり、特に3が好ま
しい。aは0〜2の整数である。)で表される構成単位
とを有するポリイミドシリコーンを提供する。
[Chemical 13] (In the formula, R 1 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and when plural R 1 are present, they may be the same or different. M is an integer of 2 to 8; And particularly preferably 3. a is an integer of 0 to 2) is provided.

【0007】また、本発明は、下記一般式(3) :The present invention also has the following general formula (3):

【化14】 (式中、Xは前記のとおりであり、Xが複数存在する場
合にはそれらは同一でも異なってもよい。Yは前記のと
おりであり、Yが複数存在する場合にはそれらは同一で
も異なってもよい。nは前記のとおりである。)で表さ
れるポリアミック酸と、下記一般式(4) :
Embedded image (In the formula, X is as described above, and when there are a plurality of X, they may be the same or different. Y is as described above, and when there are a plurality of Y, they are the same or different. And n is as described above.) And a polyamic acid represented by the following general formula (4):

【化15】 (式中、R1 は前記のとおりであり、R1 が複数存在す
る場合には、それらは同一でも異なってもよい。m及び
aも前記のとおりである。R2 及びR3 は、同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子又は炭素原子数1〜3
の1価の有機基である。但し、R2 及びR3 の少なくと
も一方は、水素原子である。)で表される単位を有する
ポリシロキサンとを混合して加熱することからなる、上
記ポリイミドシリコーンの製造方法を提供する。
[Chemical 15] (In the formula, R 1 is as described above, and when plural R 1 are present, they may be the same or different. M and a are also as described above. R 2 and R 3 are the same. Or may be different, and each has a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 to 3.
Is a monovalent organic group. However, at least one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom. And a polysiloxane having a unit represented by the formula (3) is mixed and heated.

【0008】更に、本発明は、上記一般式(1) 中、X
が、下記式(5) :
Further, the present invention provides X in the general formula (1).
However, the following equation (5):

【化16】 で表される基、下記式(6) :Embedded image A group represented by the following formula (6):

【化17】 で表される基、及び、下記式(7) :[Chemical 17] And a group represented by the following formula (7):

【化18】 で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の
基であり、Yが、下記式(8) :
Embedded image Is at least one group selected from the group consisting of groups represented by: and Y is the following formula (8):

【化19】 で表される基、及び、下記式(9) :[Chemical 19] And a group represented by the following formula (9):

【化20】 (式中、複数のR6 は同一でも異なってもよく、2価の
有機基であり、複数のR7 は同一でも異なってもよく、
1価の有機基である。)で表される基からなる群から選
ばれる少なくとも1種の基である上記ポリイミドシリコ
ーンの製造方法であって、下記一般式(10):
Embedded image (In the formula, a plurality of R 6 may be the same or different and are a divalent organic group, and a plurality of R 7 may be the same or different,
It is a monovalent organic group. ) A method for producing the above-mentioned polyimide silicone, which is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the following general formula (10):

【化21】 (式中、X' は、上記式(5) 〜(7) で表される基からな
る群から選ばれる少なくとも1種の基であり、Y' は、
上記式(8) 及び(9) で表される基からなる群から選ばれ
る少なくとも1種の基であり、nは前記のとおりであ
る。)で表されるポリイミドと、上記一般式(4) で表さ
れる単位を有するポリシロキサンとを混合して加熱する
ことからなる製造方法を提供する。
[Chemical 21] (In the formula, X'is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the above formulas (5) to (7), and Y'is
It is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the above formulas (8) and (9), and n is as described above. And a polysiloxane having a unit represented by the above general formula (4) is mixed and heated.

【0009】ポリイミドシリコーン 本発明のポリイミドシリコーンは、少なくとも上記一般
式(1) で表される構成単位と、上記一般式(2) で表され
る構成単位とを含有する。
Polyimide Silicone The polyimide silicone of the present invention contains at least the constitutional unit represented by the general formula (1) and the constitutional unit represented by the general formula (2).

【0010】上記一般式(1) 中のXは4価の有機基であ
り、Xが複数存在する場合には、それらは同一でも異な
ってもよい。Xの代表例としては、
X in the general formula (1) is a tetravalent organic group, and when a plurality of Xs are present, they may be the same or different. As a typical example of X,

【化22】 等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。[Chemical formula 22] However, the present invention is not limited to these.

【0011】上記一般式(1) 中のYは2価の有機基であ
り、Yが複数存在する場合にはそれらは同一でも異なっ
てもよい。Yとしては、例えば、下記一般式(11):
Y in the general formula (1) is a divalent organic group, and when a plurality of Y's are present, they may be the same or different. Examples of Y include, for example, the following general formula (11):

【化23】 (式中、複数のR4 は同一でも異なってもよく、−H、
−Cl、−CONH2 又は例えば、−CH3 、−C 2 H 5 、−C
3 H 7 等の炭素原子数1〜3のアルキル基である。)で
表される基、
[Chemical formula 23] (In the formula, plural R 4 s may be the same or different, and are —H,
-Cl, -CONH 2 or example, -CH 3, -C 2 H 5 , -C
It is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as 3 H 7 . ) Group represented by

【0012】下記一般式(12):The following general formula (12):

【化24】 (式中、複数のR4 は同一でも異なってもよく前記のと
おりである。R5 は、単結合、−O−、−SO2 −、−S
−又は例えば、−CH2 −、−C(CH3 ) 2 −、−C(CF3 )
2 −等の炭素原子数1〜3の置換若しくは非置換のアル
キレン基である。)で表される基、
[Chemical formula 24] (In the formula, a plurality of R 4 may be the same or different and are as described above. R 5 is a single bond, —O—, —SO 2 —, —S.
- or, for example, -CH 2 -, - C ( CH 3) 2 -, - C (CF 3)
It is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms such as 2-. ) Group represented by

【0013】下記一般式(13):The following general formula (13):

【化25】 (式中、複数のR4 は同一でも異なってもよく前記のと
おりであり、複数のR5は同一でも異なってもよく前記
のとおりである。)で表される基、
[Chemical 25] (In the formula, a plurality of R 4 may be the same or different as described above, and a plurality of R 5 may be the same or different as described above.),

【0014】下記一般式(14):The following general formula (14):

【化26】 (式中、複数のR4 は同一でも異なってもよく前記のと
おりであり、R5 は前記のとおりである。)で表される
基、
[Chemical formula 26] (In the formula, a plurality of R 4 may be the same or different and are as described above, and R 5 is as described above.),

【0015】下記一般式(15):The following general formula (15):

【化27】 (式中、複数のR6 は同一でも異なってもよく、例え
ば、炭素原子数3〜4のアルキレン基(例えば、−C 3
H 6 −、−C 4 H 8 −等)、フェニレン基、式:
[Chemical 27] (In the formula, a plurality of R 6 may be the same or different, and examples thereof include an alkylene group having 3 to 4 carbon atoms (eg, -C 3
H 6 -, - C 4 H 8 - , etc.), a phenylene group, the formula:

【化28】 で表される基等の2価の有機基である。複数のR7 は同
一でも異なってもよく、例えば、炭素原子数1〜3のア
ルキル基(例えば、−CH3 、−C 2 H 5 、−C 3H
7 等)、フェニル基等の1価の有機基である。kは1〜
40の整数である。)で表されるシロキサン結合を有する
基、
[Chemical 28] It is a divalent organic group such as a group represented by. A plurality of R 7's may be the same or different, and include, for example, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, —CH 3 , —C 2 H 5 , —C 3 H).
7 ), monovalent organic groups such as phenyl groups. k is 1
It is an integer of 40. Group having a siloxane bond represented by

【0016】下記一般式(16):The following general formula (16):

【化29】 (式中、複数のR7 は同一でも異なってもよく前記のと
おりである。R8 はエチレン基又はフェニレン基であ
る。複数のR9 は同一でも異なってもよく、例えば、−
C 3 H 6 −、−C 4 H 8 −等の炭素原子数3〜4のアル
キレン基である。)で表されるシルエチレン結合又はシ
ルフェニレン結合を有する基等が挙げられる。
[Chemical 29] (In the formula, a plurality of R 7 may be the same or different as described above. R 8 is an ethylene group or a phenylene group. A plurality of R 9 may be the same or different.
C 3 H 6 -, - an alkylene group having 3-4 carbon atoms, such as - C 4 H 8. And a group having a silethylene bond or a silphenylene bond.

【0017】上記一般式(1) 中のnは、1以上の整数で
あり、好ましくは4〜70の整数である。
In the above general formula (1), n is an integer of 1 or more, preferably 4 to 70.

【0018】上記一般式(2) 中のR1 は、炭素原子数1
〜6の1価の有機基であり、R1 が複数存在する場合に
は、それらは同一でも異なってもよい。R1 としては、
具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基等が例示
される。
R 1 in the general formula (2) is 1 carbon atom.
In the case where a plurality of R 1's are present, they may be the same or different. As R 1 ,
Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group and a phenyl group.

【0019】上記一般式(1) で表される構成単位の含有
割合は、通常、50〜99重量%であり、好ましくは7
5〜98重量%である。また、上記一般式(2) で表され
る構成単位の含有割合は、通常、1〜50重量%であ
り、好ましくは2〜25重量%である。
The content ratio of the structural unit represented by the above general formula (1) is usually 50 to 99% by weight, preferably 7
5 to 98% by weight. The content of the structural unit represented by the general formula (2) is usually 1 to 50% by weight, preferably 2 to 25% by weight.

【0020】本発明のポリイミドシリコーンは、上記一
般式(1) で表される構成単位及び一般式(2) で表される
構成単位の他に、例えば、下記に示す構成単位を有して
いてもよい。(R10b SiO(4-b)/2 単位(ここで、
複数のR10は同一でも異なってもよく、水素原子又は1
価の有機基であり、メチル基、エチル基、プロピル基等
のアルキル基、フェニル基等のアリール基である。bは
0〜3の整数である。)、
The polyimide silicone of the present invention has, in addition to the constitutional unit represented by the general formula (1) and the constitutional unit represented by the general formula (2), for example, the constitutional unit shown below. Good. (R 10 ) b SiO (4-b) / 2 units (where
A plurality of R 10's may be the same or different and each is a hydrogen atom or 1
It is a valent organic group, and is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group, or an aryl group such as a phenyl group. b is an integer of 0-3. ),

【化30】 単位(ここで、R1 、a及びmは前記のとおりであ
る。)、
Embedded image A unit (where R 1 , a and m are as described above),

【化31】 単位(ここで、Xは一般式(1) 中のXと同じであ
る。)、
[Chemical 31] A unit (where X is the same as X in the general formula (1)),

【化32】 単位(ここで、X,Yは一般式(1) 中のX,Yと同じで
ある。)。
Embedded image Unit (where X and Y are the same as X and Y in the general formula (1)).

【0021】本発明のポリイミドシリコーンの分子量
は、通常、1,000〜30,000の範囲であり、好
ましくは2,000〜20,000の範囲である。
The molecular weight of the polyimide silicone of the present invention is usually in the range of 1,000 to 30,000, preferably 2,000 to 20,000.

【0022】ポリイミドシリコーンの製造方法 本発明のポリイミドシリコーンは、例えば、上記一般式
(3) で表されるポリアミック酸と、上記一般式(4) で表
される単位を有するポリシロキサンとを、通常、250
〜400℃で0.5〜3時間加熱することにより製造す
ることができる。両反応成分は通常よく混合した状態で
反応に供される。
Method for Producing Polyimide Silicone The polyimide silicone of the present invention can be produced , for example, by the above general formula.
The polyamic acid represented by the formula (3) and the polysiloxane having the unit represented by the general formula (4) are usually used in the amount of 250
It can be produced by heating at ~ 400 ° C for 0.5 to 3 hours. Both reaction components are usually used in the reaction in a well mixed state.

【0023】ポリアミック酸 上記一般式(3) で表されるポリアミック酸は、常法に従
って製造することができる。例えば、下記一般式(17):
Polyamic Acid The polyamic acid represented by the above general formula (3) can be produced by a conventional method. For example, the following general formula (17):

【化33】 (式中、Xは前記のとおりである。)で表されるテトラ
カルボン酸二無水物と、下記一般式(18): H2 N−Y−NH2 (18) (式中、Yは前記のとおりである。)で表されるジアミ
ン化合物とを、前記ジアミン化合物1モル当たり、テト
ラカルボン酸二無水物を、通常、0.98〜1.02モ
ル、好ましくは0.99〜1.01モルとなるように適
当な不活性溶媒に溶解し、通常、0〜80℃、好ましく
は25〜40℃で混合攪拌すると、溶液の粘度がしだい
に上昇し、上記一般式(3) で表されるポリアミック酸が
生成する。但し、この製造方法に限定されるものではな
い。
[Chemical 33] (In the formula, X is as described above.) And a tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (18): H 2 N—Y—NH 2 (18) (In the formula, Y is the above. And a diamine compound represented by the formula (1), tetracarboxylic dianhydride is usually 0.98 to 1.02 mol, preferably 0.99 to 1.01 per 1 mol of the diamine compound. When dissolved in a suitable inert solvent so as to have a molar ratio and mixed and stirred at 0 to 80 ° C., preferably 25 to 40 ° C., the viscosity of the solution gradually rises and is represented by the above general formula (3). Polyamic acid is generated. However, the manufacturing method is not limited to this.

【0024】また、ポリアミック酸の製造に用いられる
前記不活性溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
トリエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクト
ン、ブチルセロソルブアセテート、ブチルアセテート、
エチルアセテート、N−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホルアミド、トルエン、キシレ
ン等が挙げられる。これらは、1種単独で又は2種以上
の組み合わせで用いられる。
Examples of the inert solvent used for producing the polyamic acid include tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether,
Triethylene glycol dimethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, γ-butyrolactone, butyl cellosolve acetate, butyl acetate,
Ethyl acetate, N-methyl-2-pyrrolidone, N,
Examples thereof include N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, hexamethylphosphoramide, toluene and xylene. These are used alone or in combination of two or more.

【0025】上記一般式(17)で表されるテトラカルボン
酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3’, 4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル]プロパン酸二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)パーフルオロプロパ
ン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
ジメチルシラン酸二無水物、1,3−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)スルホン等が挙げられ、これらは単独で又は2
種以上の組み合わせで使用することができる。
Examples of the tetracarboxylic dianhydride represented by the above general formula (17) include pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propanoic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4) -Dicarboxyphenyl) perfluoropropanoic acid dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Dimethylsilane dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone, etc. And these can be used alone or
Combinations of more than one species can be used.

【0026】上記一般式(18)で表されるジアミン化合物
としては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェ
ニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2’
−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、4,4’−ジ
アミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェ
ニルスルフィド、1,4−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,4−ビス(m−アミノフェニルスルホニ
ル)ベンゼン、1,4−ビス(p−アミノフェニルスル
ホニル)ベンゼン、1,4−ビス(m−アミノフェニル
チオエーテル)ベンゼン、1,4−ビス(p−アミノフ
ェニルチオエーテル)ベンゼン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2
−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−クロロ−4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、1,1
−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタ
ン、1,1−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕エタン、1,1−ビス〔3−クロロ
−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、
1,1−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕エタン、ビス〔4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−メチル−4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス
〔3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕メタン、ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕パーフルオ
ロプロパン等の芳香族ジアミン化合物;
Examples of the diamine compound represented by the above general formula (18) include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether and 2,2 '.
-Bis (4-aminophenyl) propane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-amino) Phenoxy)
Benzene, 1,4-bis (m-aminophenylsulfonyl) benzene, 1,4-bis (p-aminophenylsulfonyl) benzene, 1,4-bis (m-aminophenylthioether) benzene, 1,4-bis ( p-aminophenyl thioether) benzene, 2,2-bis [4-
(4-Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2
-Bis [3-methyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-chloro-4-
(4-Aminophenoxy) phenyl] propane, 1,1
-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [3-methyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [3-chloro-4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] ethane,
1,1-bis [3,5-dimethyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3-methyl-4
-(4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3-chloro-4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis Aromatic diamine compounds such as [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] perfluoropropane;

【0027】例えば、下記式:For example, the following formula:

【化34】 等のシロキサン結合を有するジアミン化合物;Embedded image A diamine compound having a siloxane bond such as

【0028】例えば、下記式:For example, the following formula:

【化35】 等のシルエチレン結合又はシルフェニレン結合を有する
ジアミン化合物等が例示されるが、これらに限定される
ものではない。また、これらは1種単独で、又は2種以
上の組み合わせで使用することができる。
Embedded image Examples thereof include diamine compounds having a silethylene bond or a silphenylene bond, but are not limited thereto. Moreover, these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

【0029】ポリシロキサン ポリシロキサンは、上記一般式(4) で表される単位を有
する。一般式(4) 中のR2 及びR3 は、それぞれ水素原
子又は炭素原子数1〜3の1価の有機基であり、1価の
有機基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基等のアルキル基;例えば、ビニル基、
アリル基等のアルケニル基等が例示される。1価の有機
基の中で好ましいものは、メチル基及びエチル基であ
る。また、R2 及びR3 は、同一でも異なってもよい
が、R2 及びR3 の少なくとも一方が水素原子である必
要がある。また、前記ポリシロキサンに上記一般式(4)
で表される単位が複数含まれる場合には、複数のR2
同一でも異なってもよく、また、複数のR3 も同一でも
異なってもよい。
Polysiloxane Polysiloxane has a unit represented by the above general formula (4). R 2 and R 3 in the general formula (4) are each a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms, and specific examples of the monovalent organic group include a methyl group. , An alkyl group such as an ethyl group and a propyl group; for example, a vinyl group,
An alkenyl group such as an allyl group is exemplified. Preferred among the monovalent organic groups are a methyl group and an ethyl group. R 2 and R 3 may be the same or different, but at least one of R 2 and R 3 must be a hydrogen atom. In addition, the above-mentioned general formula (4) is added to the polysiloxane.
When a plurality of units represented by are included, a plurality of R 2 may be the same or different, and a plurality of R 3 may be the same or different.

【0030】ポリシロキサンは、上記一般式(4) で表さ
れる単位を、全単位中、5モル%以上含有するのが好ま
しく、更に、20〜100モル%含有するのが好まし
い。
The polysiloxane preferably contains the unit represented by the general formula (4) in an amount of 5 mol% or more, and more preferably 20 to 100 mol% in all units.

【0031】また、ポリシロキサンは、上記一般式(4)
で表される単位以外に、例えば、下記一般式(19): (R10b SiO(4-b)/2 (19) (式中、複数のR10は同一でも異なってもよく、水素原
子又は1価の有機基であり、メチル基、エチル基、プロ
ピル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基であ
る。bは0〜3の整数である。)で表される単位を含有
することができる。
The polysiloxane is represented by the general formula (4) above.
In addition to the unit represented by, for example, the following general formula (19): (R 10 ) b SiO (4-b) / 2 (19) (In the formula, plural R 10 may be the same or different, An atom or a monovalent organic group, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group, an aryl group such as a phenyl group, and b is an integer of 0 to 3). can do.

【0032】ポリシロキサンは、例えば、下記一般式(2
0):
Polysiloxane can be obtained, for example, by the following general formula (2
0):

【化36】 (式中、R11は、炭素原子数1〜4のアルキル基であ
り、R11が複数存在する場合にはそれらは同一でも異な
ってもよい。R1 は前記のとおりであり、R1 が複数存
在する場合にはそれらは同一でも異なってもよい。a及
びmは前記のとおりである。)で表されるアルコキシシ
ランと、必要に応じて、例えば、下記一般式(21): (R10b Si(OR11(4-b) (21) (式中、R10は前記のとおりであり、R10が複数存在す
る場合にはそれらは同一でも異なってもよい。R11は前
記のとおりであり、R11が複数存在する場合にはそれら
は同一でも異なってもよい。bは前記のとおりであ
る。)で表されるアルコキシシランを、加水分解、縮合
することにより製造することができる。
Embedded image (In the formula, R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and when a plurality of R 11 are present, they may be the same or different. R 1 is as described above, and R 1 is When a plurality of them are present, they may be the same or different. A and m are as described above) and, if necessary, for example, the following general formula (21): (R 10) b Si (OR 11) (4-b) (21) ( wherein, R 10 is as defined above, may .R 11 or different from those of the same in the case where R 10 there are a plurality of As described above, when a plurality of R 11's are present, they may be the same or different. B is as described above.) It is produced by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane. be able to.

【0033】また、上記一般式(20)で表されるアルコキ
シシランは、
The alkoxysilane represented by the general formula (20) is

【化37】 Embedded image When

【化38】 (ここで、R1 、R11及びaは前記のとおりである。)
とを遷移金属触媒、特に白金系触媒でヒドロシリル化す
ることにより製造される。
[Chemical 38] (Here, R 1 , R 11 and a are as described above.)
It is produced by hydrosilylation of and with a transition metal catalyst, particularly a platinum-based catalyst.

【0034】本発明のポリイミドシリコーンは、上記の
一般式(3) で表されるポリアミック酸の1種又は2種以
上の組み合わせと、一般式(4) で表される単位を有する
ポリシロキサンの1種又は2種以上の組み合わせとを混
合して加熱することにより製造することできる。その場
合、前記ポリアミック酸100重量部当たり、前記ポリ
シロキサンを1〜50重量部とするのが好ましく、更
に、2〜25重量部とするのが好ましい。
The polyimide silicone of the present invention comprises one kind or a combination of two or more kinds of the polyamic acid represented by the general formula (3) and a polysiloxane having a unit represented by the general formula (4). It can be produced by mixing and heating the seeds or a combination of two or more kinds. In that case, the amount of the polysiloxane is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 2 to 25 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyamic acid.

【0035】前記ポリアミック酸と、前記ポリシロキサ
ンとは、加熱により、まず、それぞれ下記式(a) 及び
(b) :
When the polyamic acid and the polysiloxane are heated, first, the following formula (a) and
(b):

【化39】 のように反応し、その後、下記式(c) :[Chemical Formula 39] And then react with the following formula (c):

【化40】 のように反応してポリイミドシリコーンを生成するもの
と推定される。
[Chemical 40] It is presumed that they react with each other to produce polyimide silicone.

【0036】また、上記の一般式(3) で表されるポリア
ミック酸と、上記一般式(4) で表される単位を有するポ
リシロキサンとを適当な有機溶媒に溶解した溶液を予め
調製して保存しておくことも可能である。該溶液は、例
えば、上記のポリアミック酸の製造を行った溶液に前記
ポリシロキサンを有機溶媒に溶解した溶液を添加して混
合することにより調製される。
A solution of the polyamic acid represented by the general formula (3) and the polysiloxane having the unit represented by the general formula (4) in an appropriate organic solvent is prepared in advance. It is possible to save it. The solution is prepared, for example, by adding a solution prepared by dissolving the polysiloxane in an organic solvent to the solution prepared by producing the polyamic acid and mixing them.

【0037】上記有機溶媒としては、前記ポリアミック
酸及び前記ポリシロキサンが溶解するものであれば特に
制約なく使用することができ、例えば、上記のポリアミ
ック酸の製造で使用される不活性溶媒が挙げられる。該
有機溶媒は、1種単独で又は2種以上の混合溶媒として
使用される。該有機溶媒の使用量は、特に限定されるも
のではないが、前記ポリアミック酸と前記ポリシロキサ
ンとの合計濃度が、通常、1〜60重量%、好ましくは
3〜40重量%となるような量とする。また、該溶液の
25℃における粘度は、5〜15,000cPであるのが
好ましい。
Any organic solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve the polyamic acid and the polysiloxane, and examples thereof include inert solvents used in the production of the polyamic acid. . The organic solvent is used alone or as a mixed solvent of two or more kinds. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is such that the total concentration of the polyamic acid and the polysiloxane is usually 1 to 60% by weight, preferably 3 to 40% by weight. And Further, the viscosity of the solution at 25 ° C. is preferably 5 to 15,000 cP.

【0038】上記溶液は、調製後、3か月経過しても粘
度の変化がほとんどなく、ゲル化せず、保存安定性に優
れている。この溶液を、例えば、ガラス板等の基板上に
塗布し、100〜200℃で0.5〜3時間加熱乾燥
し、次いで250〜400℃で0.5〜3時間加熱硬化
することにより接着性及び耐熱性に優れたポリイミドシ
リコーン被膜を形成することができる。
The above solution has little change in viscosity even after 3 months from preparation, does not gel, and has excellent storage stability. This solution is applied to a substrate such as a glass plate, dried by heating at 100 to 200 ° C. for 0.5 to 3 hours, and then heat-cured at 250 to 400 ° C. for 0.5 to 3 hours to obtain adhesiveness. Also, a polyimide silicone coating having excellent heat resistance can be formed.

【0039】ポリイミドシリコーンの製造方法 本発明のポリイミドシリコーンの中で、一般式(1) 中の
Xが上記一般式(5) 〜(7) で表される基からなる群から
選ばれる少なくとも1種であり、Yが上記一般式(8) 及
び(9) で表される基からなる群から選ばれる少なくとも
1種であるポリイミドシリコーン(以下、ポリイミドシ
リコーンIIという。)は、上記一般式(10)で表されるポ
リイミドと、上記一般式(4) で表される単位を有するポ
リシロキサンとを混合し、通常、100〜300℃で
0.5〜4時間加熱することにより製造することができ
る。
Method for Producing Polyimide Silicone Among the polyimide silicones of the present invention, X in the general formula (1) is at least one selected from the group consisting of groups represented by the above general formulas (5) to (7). And Y is at least one selected from the group consisting of the groups represented by the general formulas (8) and (9) (hereinafter referred to as polyimide silicone II) is represented by the general formula (10). It can be produced by mixing the polyimide represented by the formula (1) and the polysiloxane having the unit represented by the general formula (4), and generally heating at 100 to 300 ° C. for 0.5 to 4 hours.

【0040】ポリイミド ポリイミドは、上記一般式(10)で表される。一般に、ポ
リイミドは、一部の高沸点有機溶媒を除く汎用的な有機
溶媒には不溶であるが、上記一般式(10)で表されるポリ
イミドは、種々の有機溶媒、例えば、前記ポリアミック
酸の製造で使用した不活性溶媒に対して可溶である。
Polyimide Polyimide is represented by the above general formula (10). Generally, polyimide is insoluble in general-purpose organic solvents except some high-boiling organic solvents, polyimide represented by the general formula (10), various organic solvents, for example, polyamic acid of the above. It is soluble in the inert solvent used in production.

【0041】上記一般式(10)で表されるポリイミドは、
常法に従って製造することができる。例えば、上記一般
式(17)中、Xが上記一般式(5) 、(6) 又は(7) で表され
る基であるテトラカルボン酸二無水物の少なくとも1種
と、上記一般式(18)中、Yが上記一般式(8) 又は(9) で
表される基であるジアミン化合物の少なくとも1種と
を、前記ジアミン化合物1モル当たり、テトラカルボン
酸二無水物が0.5〜0.99モル、好ましくは0.8
〜0.99モルとなるように前記ポリアミック酸の製造
で使用した不活性溶媒に溶解し、通常、−20〜80
℃、好ましくは0〜50℃で混合攪拌することによりポ
リアミック酸を製造し、該ポリアミック酸を、通常、1
00〜200℃で加熱して脱水閉環させることにより製
造される。脱水閉環させる場合、脱水を容易にするため
に、トルエン、キシレン等の共沸脱水剤を用いるのが好
ましい。
The polyimide represented by the general formula (10) is
It can be manufactured according to a conventional method. For example, in the general formula (17), X is at least one tetracarboxylic dianhydride which is a group represented by the general formula (5), (6) or (7), and the general formula (18) ), Y is at least one diamine compound represented by the general formula (8) or (9), and tetracarboxylic dianhydride is 0.5 to 0 per 1 mol of the diamine compound. 0.99 mol, preferably 0.8
It is dissolved in the inert solvent used in the production of the polyamic acid so as to be ˜0.99 mol, and usually -20 to 80
The polyamic acid is produced by mixing and stirring at 0 ° C., preferably 0 to 50 ° C.
It is produced by heating at 00 to 200 ° C. to perform dehydration ring closure. In the case of dehydration ring closure, it is preferable to use an azeotropic dehydrating agent such as toluene or xylene in order to facilitate dehydration.

【0042】ポリイミドシリコーンIIの製造において、
該ポリイミドの配合量は、該ポリイミドの末端アミノ基
のアミン当量と前記ポリシロキサンのカルボキシ当量の
比が1:2となる量であるのが好ましく、更に、前記ポ
リシロキサン100重量部当たり、100〜10000
重量部であるのが好ましく、特に300〜5000重量
部の範囲であるのが好ましい。
In the production of polyimide silicone II,
The amount of the polyimide compounded is preferably such that the ratio of the amine equivalent of the terminal amino group of the polyimide to the carboxy equivalent of the polysiloxane is 1: 2, and further 100 to 100 parts by weight of the polysiloxane. 10,000
The amount is preferably parts by weight, and particularly preferably in the range of 300 to 5000 parts by weight.

【0043】前記ポリイミドと、前記ポリシロキサンと
は、加熱により、まずポリシロキサンが上記式(a) のよ
うに反応し、その後、上記式(c) のように反応してポリ
イミドシリコーンIIを生成するものと推定される。
When the polyimide and the polysiloxane are heated, the polysiloxane first reacts as in the above formula (a) and then as in the above formula (c) to form polyimide silicone II. It is estimated that

【0044】また、上記一般式(10)で表されるポリイミ
ドと、前記ポリシロキサンとを適当な有機溶媒に溶解し
た溶液は、ワニスとして安定である。該溶液は、例え
ば、前記のポリイミドの製造を行った溶液に前記ポリシ
ロキサンを有機溶媒に溶解した溶液を添加することによ
り調製される。
A solution prepared by dissolving the polyimide represented by the general formula (10) and the polysiloxane in a suitable organic solvent is stable as a varnish. The solution is prepared, for example, by adding a solution prepared by dissolving the polysiloxane in an organic solvent to the solution used for producing the polyimide.

【0045】上記溶液を、基板上に塗布し、100〜2
00℃で0.5〜3時間加熱乾燥し、次いで100〜3
00℃で0.5〜2時間加熱硬化することにより、接着
性及び耐熱性に優れたポリイミドシリコーンIIの被膜を
形成することができる。
The above solution is coated on a substrate, and 100-2
Heat drying at 00 ° C for 0.5-3 hours, then 100-3
By heat-curing at 00 ° C. for 0.5 to 2 hours, a film of polyimide silicone II having excellent adhesiveness and heat resistance can be formed.

【0046】有用性 本発明のポリイミドシリコーンは、接着性及び耐熱性に
優れ、しかも、耐溶剤性に優れている。また、誘電率、
機械的強度、絶縁破壊強度、体積抵抗率等の物性も従来
のものと同様に優れている。従って、例えば、ダイオー
ド、トランジスタ、IC、LSI等の半導体素子表面の
ジャンクションコート膜、パッシベーション膜、バッフ
ァーコート膜、LSI等のα線遮蔽膜、多層配線の層間
絶縁膜、その他プリントサーキットボードのコンフォー
マルコート、液晶表示素子の配向膜、イオン注入マスク
など、電気・電子部品用の保護膜等としてきわめて有用
である。
Utility The polyimide silicone of the present invention is excellent in adhesiveness and heat resistance, and is also excellent in solvent resistance. Also, the dielectric constant,
Physical properties such as mechanical strength, dielectric breakdown strength, and volume resistivity are also excellent as in the conventional ones. Therefore, for example, a junction coat film, a passivation film, a buffer coat film, an α-ray shielding film such as an LSI, an interlayer insulating film of a multi-layer wiring, and a conformal printed circuit board on the surface of a semiconductor element such as a diode, a transistor, an IC, an LSI It is extremely useful as a coating, an alignment film for liquid crystal display devices, a protective film for electric / electronic parts such as an ion implantation mask, and the like.

【0047】[0047]

【実施例】以下に実施例と比較例を示して本発明を具体
的に説明するが、本発明は、これらの実施例に制限され
るものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0048】ポリシロキサンの製造 ポリシロキサンの製造 5−(3−トリメトキシシリルプロピル)−ビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物16.32gをメチルイソブチルケトン中で、
3倍モル量の水を加えて加水分解、縮合した。得られた
生成物を水洗、乾燥した。
Preparation of polysiloxane Preparation of polysiloxane 5- (3-trimethoxysilylpropyl) -bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride 16.32 g of methylisobutyl In ketones,
Hydrolysis and condensation were carried out by adding a 3-fold molar amount of water. The obtained product was washed with water and dried.

【0049】このようにして、下記式:Thus, the following formula:

【化41】 で表される単位からなるポリシロキサン10.8gが得
られた。該ポリシロキサンの重量平均分子量をGPCに
より測定した結果、約3,000であった。
Embedded image 10.8 g of polysiloxane having a unit represented by the following formula was obtained. The weight average molecular weight of the polysiloxane measured by GPC was about 3,000.

【0050】ポリシロキサンの製造 5−(3−トリメトキシシリルプロピル)−ビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物16.32gにメタノール4.8gを加え、8
0℃で1時間加熱した。反応生成物にメチルイソブチル
ケトン中で、2.7gの水を加えて加水分解、縮合し、
得られた生成物を水洗、乾燥した。
Preparation of polysiloxane 4.8 g of methanol was added to 16.32 g of 5- (3-trimethoxysilylpropyl) -bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid anhydride. , 8
Heated at 0 ° C. for 1 hour. 2.7 g of water was added to the reaction product in methyl isobutyl ketone for hydrolysis and condensation,
The obtained product was washed with water and dried.

【0051】このようにして、下記式:Thus, the following formula:

【化42】 及びEmbedded image as well as

【化43】 で表される単位からなるポリシロキサン9.2gが得ら
れた。該ポリシロキサンの重量平均分子量をGPCによ
り測定した結果、約2,800であった。
[Chemical 43] Thus, 9.2 g of polysiloxane having a unit represented by the following formula was obtained. The weight average molecular weight of the polysiloxane was about 2,800 as measured by GPC.

【0052】ポリシロキサンの製造 5−(3−トリメトキシシリルプロピル)−ビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物16.32gを、メチルイソブチルケトン中
で、3倍モル量の水を加えて加水分解・縮合した。得ら
れた生成物を水洗した。
Preparation of polysiloxane 16.32 g of 5- (3-trimethoxysilylpropyl) -bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid anhydride in methylisobutylketone. Hydrolysis / condensation was carried out by adding 3-fold molar amount of water. The obtained product was washed with water.

【0053】このようにして、式:Thus, the formula:

【化44】 で表される単位からなるポリシロキサン10.8gが得
られた。該ポリシロキサンの重量平均分子量をGPCに
より測定した結果、約3,000であった。
[Chemical 44] 10.8 g of polysiloxane having a unit represented by the following formula was obtained. The weight average molecular weight of the polysiloxane measured by GPC was about 3,000.

【0054】実施例1 N−メチル−2−ピロリドン75.0g中で、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物15.42gと、4,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル9.58gとを室温で反応させ、下記式:
Example 1 In 75.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 3,
15.42 g of 3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and 9.58 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether were reacted at room temperature to give the following formula:

【化45】 (式中、n1 は平均値が約26である。)で表されるポ
リアミック酸のN−メチル−2−ピロリドン溶液100
gを得た。
Embedded image (In the formula, n 1 has an average value of about 26.) N-methyl-2-pyrrolidone solution 100 of polyamic acid
g was obtained.

【0055】得られたポリアミック酸のN−メチル−2
−ピロリドン溶液に、ポリシロキサン1.25gをN
−メチル−2−ピロリドン5.0gに溶解した溶液を添
加し、室温で1時間攪拌することにより組成物を得た。
該組成物の不揮発分濃度は23.8重量%(200℃で
1時間加熱することにより測定)であり、25℃におけ
る粘度は6300cPであった。
N-methyl-2 of the obtained polyamic acid
-To the pyrrolidone solution, add 1.25 g of polysiloxane N
A solution obtained by dissolving 5.0 g of -methyl-2-pyrrolidone was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a composition.
The nonvolatile concentration of the composition was 23.8% by weight (measured by heating at 200 ° C. for 1 hour), and the viscosity at 25 ° C. was 6300 cP.

【0056】また、得られた組成物の保存安定性を調べ
るため、5℃で3か月保存した後の25℃における粘度
を測定した。その結果を表1に示す。
Further, in order to investigate the storage stability of the obtained composition, the viscosity at 25 ° C. after storing at 5 ° C. for 3 months was measured. Table 1 shows the results.

【0057】次に、得られた組成物を、基板上に塗布
し、150℃で1時間加熱し、更に、350℃で1時間
加熱することにより硬化させてポリイミドシリコーンフ
ィルムを形成した。尚、基板としては、ガラス板とシリ
コーンウェハを使用した。
Next, the obtained composition was applied onto a substrate, heated at 150 ° C. for 1 hour, and further heated at 350 ° C. for 1 hour to be cured to form a polyimide silicone film. A glass plate and a silicone wafer were used as the substrate.

【0058】得られたポリイミドシリコーンをIRスペ
クトルにより分析したところ、下記式:
The polyimide silicone obtained was analyzed by IR spectrum, and the following formula was obtained:

【化46】 (式中、n1 は前記のとおりである。)で表される構成
単位(93.5重量%)、下記式:
Embedded image (Wherein n 1 is as described above) (93.5% by weight), the following formula:

【化47】 で表される構成単位(1.8重量%)、下記式:[Chemical 47] The structural unit represented by (1.8% by weight), the following formula:

【化48】 及びEmbedded image as well as

【化49】 で表される構成単位(4.7重量%)からなることが確
認された。
[Chemical 49] It was confirmed to consist of the structural unit represented by (4.7% by weight).

【0059】得られたポリイミドシリコーンフィルムの
各基板に対する接着性を下記のような碁盤目剥離試験に
より調べた。その結果を表1に示す。
The adhesiveness of the obtained polyimide silicone film to each substrate was examined by a cross-cut peeling test as described below. Table 1 shows the results.

【0060】碁盤目剥離試験 JIS K 5400に従って、硬化被膜に、1mm間隔
で碁盤目状に100個の枡目を設け、粘着テープを張り
つけて引き剥がしたときに残存する枡目の数を計数し
た。
Cross-cut peeling test In accordance with JIS K 5400, 100 cross-cuts were provided on the cured film at intervals of 1 mm, and the number of squares remaining when the adhesive tape was attached and peeled off was counted. .

【0061】また、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表1に示す。
The heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined using a differential thermal balance. Table 1 shows the thermal decomposition start temperature.

【0062】実施例2 実施例1で使用したポリアミック酸のN−メチル−2−
ピロリドン溶液100gに、ポリシロキサン1.25
gをN−メチル−2−ピロリドン5.0gに溶解した溶
液を添加し、室温で1時間攪拌することにより組成物を
得た。該組成物の不揮発分濃度は23.9重量%(20
0℃で1時間加熱することにより測定)であり、25℃
における粘度は6320cPであった。
Example 2 N-methyl-2-polyamic acid used in Example 1
100 g of pyrrolidone solution, 1.25 polysiloxane
A solution obtained by dissolving 5.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone in 5.0 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a composition. The nonvolatile concentration of the composition is 23.9% by weight (20%
Measured by heating at 0 ° C for 1 hour), 25 ° C
The viscosity at was 6320 cP.

【0063】得られた組成物について、実施例1と同様
の方法で保存安定性を調べた。その結果を表1に示す。
The storage stability of the obtained composition was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0064】得られた組成物を用いて、実施例1と同様
の方法でポリイミドシリコーンフィルムを形成した。
A polyimide silicone film was formed in the same manner as in Example 1 by using the obtained composition.

【0065】得られたポリイミドシリコーンをIRスペ
クトルにより分析したところ、下記式:
The obtained polyimide silicone was analyzed by IR spectrum, and the following formula:

【化50】 (式中、n1 は前記のとおりである。)で表される構成
単位(93.6重量%)、下記式:
Embedded image (In the formula, n 1 is as described above.) A structural unit (93.6% by weight) represented by the following formula:

【化51】 で表される構成単位(1.8重量%)、下記式:[Chemical 51] The structural unit represented by (1.8% by weight), the following formula:

【化52】 及びEmbedded image as well as

【化53】 で表される構成単位(4.6重量%)からなることが確
認された。
Embedded image Was confirmed to consist of the structural unit represented by (4.6% by weight).

【0066】得られたポリイミドシリコーンフィルムの
各基板に対する接着性を実施例1と同様の方法で調べ
た。その結果を表1に示す。
The adhesion of the obtained polyimide silicone film to each substrate was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0067】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表1に示す。
Further, the heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined by using a differential thermal balance. Table 1 shows the thermal decomposition start temperature.

【0068】比較例1 実施例1で使用したポリアミック酸のN−メチル−2−
ピロリドン溶液100gに、3−アミノプロピルトリエ
トキシシラン1.25gをN−メチル−2−ピロリドン
5.0gに溶解した溶液を添加して組成物を調製した。
該組成物の25℃における粘度は5800cPであった。
Comparative Example 1 N-Methyl-2-polyamic acid used in Example 1
A composition prepared by adding 1.25 g of 3-aminopropyltriethoxysilane in 5.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone to 100 g of the pyrrolidone solution was prepared.
The viscosity of the composition at 25 ° C. was 5800 cP.

【0069】得られた組成物について、実施例1と同様
の方法で保存安定性を調べた。その結果を表1に示す。
The storage stability of the obtained composition was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0070】また、得られた組成物を用いて、実施例1
と同様の方法でポリイミドシリコーンフィルムを形成し
た。得られたポリイミドシリコーンフィルムの各基板に
対する接着性を実施例1と同様の方法で調べた。その結
果を表1に示す。
Further, using the obtained composition, Example 1
A polyimide silicone film was formed in the same manner as in. The adhesiveness of the obtained polyimide silicone film to each substrate was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0071】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表1に示す。
Further, the heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined by using a differential thermal balance. Table 1 shows the thermal decomposition start temperature.

【0072】比較例2 N−メチル−2−ピロリドン75.0g中で、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物15.42g、4,4’−ジアミノジフェニルエー
テル8.62g及び1,3−ビス(3−アミノプロピ
ル)テトラメチルジシロキサン1.19gを室温で反応
させて、下記式:
Comparative Example 2 In 75.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 3,
At room temperature, 15.42 g of 3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 8.62 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether and 1.19 g of 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane. The following formula:

【化54】 (式中、p、q及びrは1以上の整数であり、p:q=
9:1である)で表されるポリアミック酸のN−メチル
−2−ピロリドン溶液100gを得た。該溶液の25℃
における粘度は、6200cPであった。
[Chemical 54] (In the formula, p, q, and r are integers of 1 or more, and p: q =
100 g of an N-methyl-2-pyrrolidone solution of a polyamic acid represented by 9: 1) was obtained. 25 ° C of the solution
The viscosity at 6200 was 6200 cP.

【0073】前記溶液について、実施例1と同様の方法
で保存安定性を調べた。その結果を表1に示す。
The storage stability of the above solution was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0074】また、得られた溶液を用いて、実施例1と
同様の方法でポリイミドシリコーンフィルムを形成し
た。得られたポリイミドシリコーンフィルムの各基板に
対する接着性を実施例1と同様の方法で調べた。その結
果を表1に示す。
A polyimide silicone film was formed in the same manner as in Example 1 by using the obtained solution. The adhesiveness of the obtained polyimide silicone film to each substrate was examined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0075】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表1に示す。
Further, the heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined by using a differential thermal balance. Table 1 shows the thermal decomposition start temperature.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

【0077】実施例3 反応容器に、窒素雰囲気下、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)パーフルオロプロパン酸二無水物
22.7g(0.051 mol)及びジエチレングリコー
ルジメチルエーテル90gを添加し、続いて、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン24.6g(0.060 mol)をジエチレングリコー
ルジメチルエーテル70gに溶解した溶液を滴下し、得
られた混合物を12時間攪拌することによりポリアミッ
ク酸を得た。次に、前記反応容器に水分受容器付き還流
冷却器を取りつけた後、該反応容器内にキシレン20g
を添加し、該反応容器内の混合物を150℃に昇温し、
該温度で4時間加熱することによりポリアミック酸をイ
ミド化させた。反応終了後、前記反応容器内の溶液を冷
却後、メタノールで再沈した。
Example 3 22.7 g (0.051 mol) of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) perfluoropropanoic acid dianhydride and 90 g of diethylene glycol dimethyl ether were added to a reaction vessel under a nitrogen atmosphere. And then 2,2-
A solution of 24.6 g (0.060 mol) of bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane dissolved in 70 g of diethylene glycol dimethyl ether was added dropwise, and the resulting mixture was stirred for 12 hours to obtain a polyamic acid. . Next, after attaching a reflux condenser with a water receiver to the reaction vessel, 20 g of xylene was placed in the reaction vessel.
Was added, and the mixture in the reaction vessel was heated to 150 ° C.,
The polyamic acid was imidized by heating at this temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the solution in the reaction vessel was cooled and then reprecipitated with methanol.

【0078】このようにして、下記式:Thus, the following formula:

【化55】 (n2 は、平均約6である。)で表されるポリイミド化
合物45.2gを得た。
[Chemical 55] 45.2 g of a polyimide compound represented by (n 2 is about 6 on average) is obtained.

【0079】得られたポリイミド化合物40gを、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル160gに溶解した
後、これに、ポリシロキサン4.2gをテトラヒドロ
フラン15mlに溶解した溶液を添加し、均一になるまで
攪拌した。得られた組成物は均一な溶液であった。
After dissolving 40 g of the obtained polyimide compound in 160 g of diethylene glycol dimethyl ether, a solution of 4.2 g of polysiloxane in 15 ml of tetrahydrofuran was added thereto, and the mixture was stirred until it became uniform. The resulting composition was a homogeneous solution.

【0080】次に、得られた組成物を、基板上に塗布
し、150℃で1時間加熱し、更に、250℃で1時間
加熱することにより硬化させてポリイミドシリコーンフ
ィルムを形成した。尚、基板としては、シリコーンウェ
ハを使用した。
Next, the obtained composition was applied onto a substrate, heated at 150 ° C. for 1 hour, and further heated at 250 ° C. for 1 hour to be cured to form a polyimide silicone film. A silicon wafer was used as the substrate.

【0081】得られたポリイミドシリコーンをIRスペ
クトルにより分析したところ、下記式:
The polyimide silicone obtained was analyzed by IR spectrum, and the following formula was obtained:

【化56】 (n2 は、前記のとおりである。)で表される構成単位
(83.2重量%)、下記式:
[Chemical 56] (N 2 is as described above), a structural unit (83.2% by weight) represented by the following formula:

【化57】 で表される構成単位(9.2重量%)、下記式:[Chemical 57] The structural unit represented by (9.2% by weight), the following formula:

【化58】 及びEmbedded image as well as

【化59】 で表される構成単位(7.6重量%)からなることが確
認された。
Embedded image It was confirmed that the polymer was composed of a structural unit represented by (7.6% by weight).

【0082】得られたポリイミドシリコーンフィルムの
シリコーンウェハに対する接着性を下記のような碁盤目
剥離試験により調べた。その結果を表2に示す。
The adhesiveness of the obtained polyimide silicone film to a silicone wafer was examined by a cross-cut peeling test as described below. The results are shown in Table 2.

【0083】碁盤目剥離試験 JIS K 5400に従って、硬化被膜に1mm間隔で
碁盤目状に100個の枡目を設け、粘着テープを張りつ
けて引き剥がした時に残存する枡目の数を計数した。
Cross-cut peeling test According to JIS K 5400, 100 cross-cuts were formed on the cured film at 1 mm intervals, and the number of squares remaining when the adhesive tape was peeled off was counted.

【0084】また、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表2に示す。
The heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined using a differential thermal balance. Table 2 shows the thermal decomposition start temperature.

【0085】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐溶剤性を調べるために、ジエチレングリコール
メチルエーテルに浸漬し、溶解するか否かを肉眼で観察
した。その結果を表2に示す。
Further, in order to examine the solvent resistance of the obtained polyimide silicone film, it was immersed in diethylene glycol methyl ether, and whether or not it was dissolved was visually observed. The results are shown in Table 2.

【0086】比較例3 反応容器に、窒素雰囲気下、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)パーフルオロプロパン酸二無水物
22.2g(0.05 mol)及びジエチレングリコール
ジメチルエーテル80gを添加し、続いて、2,2−ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン
20.5g (0.05mol )をジエチレングリコールジメチルエ
ーテル60gに溶解した溶液を滴下し、得られた混合物
を12時間攪拌することによりポリアミック酸を得た。
次に、前記反応容器に水分受容器付き還流冷却器を取り
つけた後、該反応容器内にキシレン20gを添加し、該
反応容器内の混合物を150℃に昇温し、該温度で4時
間加熱することによりポリアミック酸をイミド化させ
た。反応終了後、前記反応容器内の溶液を冷却後、メタ
ノールで再沈した。
Comparative Example 3 Under a nitrogen atmosphere, 22.2 g (0.05 mol) of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) perfluoropropanoic acid dianhydride and 80 g of diethylene glycol dimethyl ether were added to a reaction vessel. And then 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane
A solution of 20.5 g (0.05 mol) dissolved in 60 g of diethylene glycol dimethyl ether was added dropwise, and the resulting mixture was stirred for 12 hours to obtain a polyamic acid.
Next, after attaching a reflux condenser with a water receiver to the reaction vessel, 20 g of xylene was added to the reaction vessel, the mixture in the reaction vessel was heated to 150 ° C., and heated at that temperature for 4 hours. By doing so, the polyamic acid was imidized. After the reaction was completed, the solution in the reaction vessel was cooled and then reprecipitated with methanol.

【0087】このようにして、下記式:Thus, the following formula:

【化60】 (n3 は、平均約18である。)で表されるポリイミド
化合物37.2gを得た。
Embedded image 37.2 g of a polyimide compound represented by (n 3 is about 18 on average) was obtained.

【0088】得られたポリイミド化合物10gをジエチ
レングリコールジメチルエーテル40gに溶解し、ポリ
イミド組成物溶液を調製した。
10 g of the obtained polyimide compound was dissolved in 40 g of diethylene glycol dimethyl ether to prepare a polyimide composition solution.

【0089】次に、得られた組成物を用いて、実施例3
と同様の方法でポリイミドシリコーンフィルムを形成し
た。得られたポリイミドシリコーンフィルムのシリコー
ンウェハに対する接着性を実施例3と同様の方法で調べ
た。その結果を表2に示す。
Next, using the composition thus obtained, Example 3 was used.
A polyimide silicone film was formed in the same manner as in. The adhesion of the obtained polyimide silicone film to a silicone wafer was examined in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 2.

【0090】また、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表2に示す。
The heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined using a differential thermal balance. Table 2 shows the thermal decomposition start temperature.

【0091】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐溶剤性を調べるために、ジエチレングリコール
メチルエーテルに浸漬し、溶解するか否かを肉眼で観察
した。その結果を表2に示す。
Further, in order to examine the solvent resistance of the obtained polyimide silicone film, it was immersed in diethylene glycol methyl ether, and whether or not it was dissolved was visually observed. The results are shown in Table 2.

【0092】比較例4 反応容器に、窒素雰囲気下、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)パーフルオロプロパン酸二無水物
22.2g(0.05 mol)にジエチレングリコールジ
メチルエーテル80gを添加し、続いて、2,2−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン1
4.37g(0.035 mol)と1,3−ビス(3−ア
ミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン3.73g(0.015 mol)をジエチレングリ
コールジメチルエーテル60gに溶解した溶液を滴下
し、得られた混合物を12時間攪拌することによりポリ
アミック酸を得た。次に、前記反応容器に水分受容器付
き還流冷却器を取りつけた後、キシレン20gを添加
し、該反応容器内の混合物を150℃に昇温し、該温度
で4時間加熱することによりポリアミック酸をイミド化
させた。反応終了後、前記反応容器内の溶液を冷却し、
メタノールで再沈した。
Comparative Example 4 Under a nitrogen atmosphere, 80 g of diethylene glycol dimethyl ether was added to 22.2 g (0.05 mol) of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) perfluoropropanoic acid dianhydride in a reaction vessel. And then 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane 1
4.37 g (0.035 mol) and 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane 3.73 g (0.015 mol) were dissolved in 60 g of diethylene glycol dimethyl ether. The solution was added dropwise, and the resulting mixture was stirred for 12 hours to obtain a polyamic acid. Next, after attaching a reflux condenser with a water receiver to the reaction vessel, 20 g of xylene was added, the mixture in the reaction vessel was heated to 150 ° C., and heated at that temperature for 4 hours to obtain a polyamic acid. Was imidized. After completion of the reaction, cool the solution in the reaction vessel,
It was reprecipitated with methanol.

【0093】このようにして、下記式:Thus, the following formula:

【化61】 (式中、s、t及びuは1以上の整数であり、ただし、
s:t=7:3である)で表されるポリイミド化合物3
2.5gを得た。
[Chemical formula 61] (In the formula, s, t, and u are integers of 1 or more,
s: t = 7: 3) polyimide compound 3 represented by
2.5 g was obtained.

【0094】得られたポリイミド化合物10gをジエチ
レングリコールジメチルエーテル40gに溶解し、ポリ
イミド組成物溶液を調製した。
10 g of the obtained polyimide compound was dissolved in 40 g of diethylene glycol dimethyl ether to prepare a polyimide composition solution.

【0095】次に、得られた組成物を用いて、実施例3
と同様の方法でポリイミドシリコーンフィルムを形成し
た。得られたポリイミドシリコーンフィルムのシリコー
ンウェハに対する接着性を実施例3と同様の方法で調べ
た。その結果を表2に示す。
Next, using the composition thus obtained, Example 3
A polyimide silicone film was formed in the same manner as in. The adhesion of the obtained polyimide silicone film to a silicone wafer was examined in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 2.

【0096】また、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐熱性を示差熱天秤を用いて調べた。熱分解開始
温度を表2に示す。
The heat resistance of the obtained polyimide silicone film was examined using a differential thermal balance. Table 2 shows the thermal decomposition start temperature.

【0097】更に、得られたポリイミドシリコーンフィ
ルムの耐溶剤性を調べるために、ジエチレングリコール
メチルエーテルに浸漬し、溶解するか否かを肉眼で観察
した。その結果を表2に示す。
Further, in order to examine the solvent resistance of the obtained polyimide silicone film, it was immersed in diethylene glycol methyl ether and visually observed whether or not it was dissolved. The results are shown in Table 2.

【0098】[0098]

【表2】 [Table 2]

【0099】[0099]

【発明の効果】本発明のポリイミドシリコーンは、接着
性及び耐熱性に優れ、しかも耐溶剤性にも優れている。
The polyimide silicone of the present invention is excellent in adhesiveness and heat resistance, and is also excellent in solvent resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋葉 秀樹 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hideki Akiba 1 Hitomi, Oita, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、下記一般式(1) : 【化1】 (式中、Xは4価の有機基であり、Xが複数存在する場
合にはそれらは同一でも異なってもよい。Yは2価の有
機基であり、Yが複数存在する場合にはそれらは同一で
も異なってもよい。nは1以上の整数である。)で表さ
れる構成単位と、下記一般式(2) : 【化2】 (式中、R1 は、炭素原子数1〜6の1価の有機基であ
り、R1 が複数存在する場合には、それらは同一でも異
なってもよい。mは2〜8の整数であり、aは0〜2の
整数である。)で表される構成単位とを有するポリイミ
ドシリコーン。
1. At least the following general formula (1): (In the formula, X is a tetravalent organic group, and when there are a plurality of X, they may be the same or different. Y is a divalent organic group, and when there are a plurality of Y, they are May be the same or different. N is an integer of 1 or more) and the following general formula (2): (In the formula, R 1 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and when plural R 1 are present, they may be the same or different. M is an integer of 2 to 8; And a is an integer of 0 to 2.).
【請求項2】 下記一般式(3) : 【化3】 (式中、Xは4価の有機基であり、Xが複数存在する場
合にはそれらは同一でも異なってもよい。Yは2価の有
機基であり、Yが複数存在する場合にはそれらは同一で
も異なってもよい。nは1以上の整数である。)で表さ
れるポリアミック酸と、下記一般式(4) : 【化4】 (式中、R1 は炭素原子数1〜6の1価の有機基であ
り、R1 が複数存在する場合には、それらは同一でも異
なってもよい。mは2〜8の整数であり、aは0〜2の
整数である。R2 及びR3 は、同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子又は炭素原子数1〜3の1価の有
機基である。但し、R2 及びR3 の少なくとも一方は、
水素原子である。)で表される単位を有するポリシロキ
サンとを加熱することからなる、請求項1に記載のポリ
イミドシリコーンの製造方法。
2. The following general formula (3): (In the formula, X is a tetravalent organic group, and when there are a plurality of X, they may be the same or different. Y is a divalent organic group, and when there are a plurality of Y, they are May be the same or different. N is an integer of 1 or more.) And a polyamic acid represented by the following general formula (4): (In the formula, R 1 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and when plural R 1 are present, they may be the same or different. M is an integer of 2 to 8; , a is .R 2 and R 3 is an integer of 0 to 2 may be the same or different, are each a monovalent organic group hydrogen atom or a carbon atoms 1-3. However, R 2 and R At least one of the three
It is a hydrogen atom. The method for producing a polyimide silicone according to claim 1, which comprises heating a polysiloxane having a unit represented by the formula (1).
【請求項3】 一般式(1) 中、Xが、下記式(5) : 【化5】 で表される基、下記式(6) : 【化6】 で表される基、及び、下記式(7) : 【化7】 で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の
基であり、Yが、下記式(8) : 【化8】 で表される基、及び、下記式(9) : 【化9】 (式中、複数のR6 は同一でも異なってもよく、2価の
有機基であり、複数のR7 は同一でも異なってもよく、
1価の有機基である。)で表される基からなる群から選
ばれる少なくとも1種の基である請求項1に記載のポリ
イミドシリコーンの製造方法であって、 下記一般式(10): 【化10】 (式中、X' は、上記式(5) 〜(7) で表される基からな
る群から選ばれる少なくとも1種の基であり、Y' は、
上記式(8) 及び(9) で表される基からなる群から選ばれ
る少なくとも1種の基であり、nは1以上の整数であ
る。)で表されるポリイミドと、下記一般式(4) : 【化11】 (式中、R1 は炭素原子数1〜6の1価の有機基であ
り、R1 が複数存在する場合には、それらは同一でも異
なってもよい。mは2〜8の整数であり、aは0〜2の
整数である。R2 及びR3 は、同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子又は炭素原子数1〜3の1価の有
機基である。但し、R2 及びR3 の少なくとも一方は、
水素原子である。)で表される単位を有するポリシロキ
サンとを混合して加熱することからなる製造方法。
3. In the general formula (1), X is the following formula (5): A group represented by the following formula (6): And a group represented by the following formula (7): Is at least one group selected from the group consisting of groups represented by: and Y is represented by the following formula (8): And a group represented by the following formula (9): (In the formula, a plurality of R 6 may be the same or different and are a divalent organic group, and a plurality of R 7 may be the same or different,
It is a monovalent organic group. The method for producing a polyimide silicone according to claim 1, which is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the following general formula (10): (In the formula, X'is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the above formulas (5) to (7), and Y'is
It is at least one group selected from the group consisting of groups represented by the above formulas (8) and (9), and n is an integer of 1 or more. ) And a polyimide represented by the following general formula (4): (In the formula, R 1 is a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and when plural R 1 are present, they may be the same or different. M is an integer of 2 to 8; , a is .R 2 and R 3 is an integer of 0 to 2 may be the same or different, are each a monovalent organic group hydrogen atom or a carbon atoms 1-3. However, R 2 and R At least one of the three
It is a hydrogen atom. ) A method for producing, which comprises mixing with a polysiloxane having a unit represented by the formula and heating.
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JP (1) JPH0841200A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006117710A (en) * 2004-10-19 2006-05-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Polyimide silicone resin composition

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