JPH0841168A - Liquid epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents

Liquid epoxy resin composition and semiconductor device

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JPH0841168A
JPH0841168A JP17528294A JP17528294A JPH0841168A JP H0841168 A JPH0841168 A JP H0841168A JP 17528294 A JP17528294 A JP 17528294A JP 17528294 A JP17528294 A JP 17528294A JP H0841168 A JPH0841168 A JP H0841168A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
epoxy
liquid epoxy
curing agent
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JP17528294A
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Japanese (ja)
Inventor
Taro Fukui
太郎 福井
Kenji Kitamura
賢次 北村
Naoki Ito
直樹 伊藤
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an epoxy resin compsn. which has a low viscosity and a good handleability, is suitable for forming a sealing resin layer by spot seafling, and gives a cured item free from bleeding and excellent in low-stress properties. CONSTITUTION:This compsn. is prepd. by compounding an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 260 or lower, a phenolic curative, a cure accelerator, and a filler. The oil pref. has a viscosity at 25 deg.C of 300 P or lower. The curative is a phenol novolak resin.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はベアチップ封止に使用さ
れる液状エポキシ樹脂組成物に関し、例えば、COB、
PGA、PLCC、BGA及びTAB等の用途に使用さ
れ、特に大面積半導体素子用の液状エポキシ樹脂組成物
及びそれを使用する半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid epoxy resin composition used for bare chip encapsulation, such as COB,
The present invention relates to a liquid epoxy resin composition used for applications such as PGA, PLCC, BGA and TAB, and particularly for a large area semiconductor element, and a semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂組成物は、優れた電気的性
能と接着力とを有するため、電気・電子分野の種々の用
途に使用されている。近年、エレクトロニクス分野で
は、高集積化が進み、ゲートアレイ等の特殊用途向集積
回路(ASIC)、メモリに代表されるチップでは、大
型化が著しい。これらのチップをチップオンボード(C
OB)、ピングリッドアレイ(PGA)、プラスチック
リーデッドチップキャリア(PLCC)、ボールグリッ
ドアレイ(BGA)及びテープオートメイテッドボンデ
ィング(TAB)等のパッケージに組み立てる際に、液
状エポキシ樹脂組成物を用いて封止を行う場合が多い。
この半導体封止用の液状エポキシ樹脂組成物には、低粘
度、低膨張、低不純イオン及び高密着等の性能が要求さ
れ、特に、大型素子封止用途の場合には、さらに、低応
力性及び高密着性等の特性が要求される。すなわち、チ
ップが大型化するほど、基板とチップとの熱膨張差に基
づく応力がチップと樹脂との界面に発生するため、上記
特性が悪い場合には、チップや樹脂のクラック、チップ
と樹脂との界面の剥離、樹脂の反りの増大等の不良に結
びつくという問題があった。
2. Description of the Related Art Epoxy resin compositions have excellent electrical performance and adhesive strength, and are therefore used in various applications in the electric and electronic fields. 2. Description of the Related Art In recent years, in the field of electronics, high integration has progressed, and chips such as gate arrays and other special-purpose integrated circuits (ASICs) and chips typified by memories have been significantly increased in size. These chips are chip-on-board (C
OB), Pin Grid Array (PGA), Plastic Leaded Chip Carrier (PLCC), Ball Grid Array (BGA), Tape Automated Bonding (TAB), etc. Is often done.
The liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is required to have properties such as low viscosity, low expansion, low impurity ions, and high adhesion. Also, characteristics such as high adhesion are required. That is, as the size of the chip increases, stress based on the difference in thermal expansion between the substrate and the chip occurs at the interface between the chip and the resin. However, there is a problem that it leads to defects such as peeling of the interface of the resin and increase of the warp of the resin.

【0003】液状エポキシ樹脂組成物は、その硬化に際
して、酸無水物、アミン系、フェノール系又はイミダゾ
ール類等種々の硬化剤を使用し、硬化剤の種類により硬
化物の性能が大きく異なることが知られており、用途に
よって硬化剤が使い分けられている。例えば、接着剤や
積層板の用途では接着性が最も重要視されるためにアミ
ン系の硬化剤が用いられ、注型材用途では電気的性能と
低粘度の点から酸無水物系が用いられ、封止材用途では
耐水性の点からフェノール系硬化剤が用いられる。
When curing the liquid epoxy resin composition, various curing agents such as acid anhydrides, amines, phenols, or imidazoles are used, and it is known that the performance of the cured material varies greatly depending on the type of the curing agent. The curing agent is used properly depending on the application. For example, in the use of adhesives and laminates, amine-based curing agents are used because adhesion is the most important, and in casting applications, acid anhydrides are used from the viewpoint of electrical performance and low viscosity. Phenolic curing agents are used for sealing materials from the viewpoint of water resistance.

【0004】従来、無溶剤型の接着剤、電気及び電子部
品用の封止材、塗料等の液状エポキシ樹脂組成物の硬化
剤としてアミン類及び酸無水物が知られている。フェノ
ール系硬化剤を用いる場合、一般にフェノールノボラッ
ク樹脂が使用され、その分子量が大きいことと、エポキ
シ樹脂に対する上記フェノールノボラック樹脂硬化剤の
添加量が50PHR以上であり、大きいことから、例え
ば、一般的な液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂を使
用した液状エポキシ樹脂組成物の場合、粘度が非常に高
くなって実用に供しなくなる。しかし、接着性、耐水
性、電気的性能等の物性バランスの点では、フェノール
系硬化剤が最も優れた硬化剤である。すなわち、液状化
が困難であるという理由からフェノール系硬化剤は一般
に固形の成形材料用途にしか使用できていない。アミン
系及び酸無水物系の硬化剤では、液状化は容易である
が、以下のような問題点を有している。すなわち、アミ
ン系硬化剤を用いた場合は、硬化物の架橋構造中に3級
アミン構造が存在するため、吸湿性が高くなる。酸無水
物系の硬化剤を用いた場合は、硬化物の架橋構造中のエ
ステル構造が化学的に加水分解され易いため長期耐水性
に劣る上に、硬化剤の酸無水物基とエポキシ樹脂のエポ
キシ基との反応によって、接着に寄与するアルコール性
水酸基が副生し難いことから、硬化物が密着性に劣る。
Conventionally, amines and acid anhydrides have been known as curing agents for liquid epoxy resin compositions such as solventless adhesives, sealing materials for electric and electronic parts, and coatings. When a phenol-based curing agent is used, a phenol novolac resin is generally used, and its molecular weight is large and the amount of the above-mentioned phenol novolac resin curing agent added to the epoxy resin is 50 PHR or more, which is large. In the case of a liquid epoxy resin composition using a liquid bisphenol A type epoxy resin, the viscosity becomes so high that it cannot be put to practical use. However, in terms of the balance of physical properties such as adhesiveness, water resistance, and electrical performance, the phenolic curing agent is the most excellent curing agent. That is, since it is difficult to liquefy, phenolic curing agents can generally be used only for solid molding materials. Amine-based and acid anhydride-based curing agents are easy to liquefy, but have the following problems. That is, when an amine-based curing agent is used, the hygroscopicity is high because a tertiary amine structure exists in the crosslinked structure of the cured product. When an acid anhydride-based curing agent is used, long-term water resistance is poor because the ester structure in the crosslinked structure of the cured product is easily chemically hydrolyzed, and the acid anhydride group of the curing agent and the epoxy resin The cured product is inferior in adhesiveness because the alcoholic hydroxyl group that contributes to adhesion is less likely to be by-produced by the reaction with the epoxy group.

【0005】最近の電子部品は高密度化・薄型化の傾向
にあるため、従来のトランスファー成形したパッケージ
から、ベアチップを実装して液状の封止材で封止する、
いわゆるチップオンボード(COB)やTAB(Tap
e Automated Bonding)という方式
に代わりつつある。従来の液状封止材としては、粘度面
の制限から、アミン系又は酸無水物系の硬化剤を用いた
エポキシ樹脂組成物が主流を占めている。しかし、アミ
ン系又は酸無水物系の硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成
物からなる液状封止材は、前述のフェノールノボラック
樹脂硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物からなるトラン
スファー成形材料に比べて、総合的な信頼性に劣る。そ
のため、液状封止材の信頼性の向上が強く望まれてい
る。そこで、フェノール系硬化剤を用いたエポキシ樹脂
組成物の高粘度という欠点を補うために、溶剤の使用、
アミン系硬化剤又は酸無水物系硬化剤との併用等が行わ
れてきて取扱い性は容易になったが、液状封止材の信頼
性の点では、満足する段階には至っていない。
Since recent electronic parts tend to be higher in density and thinner, a bare chip is mounted from a conventional transfer molded package and sealed with a liquid sealing material.
So-called chip-on-board (COB) and TAB (Tap)
e Automated Bonding) is being replaced. As a conventional liquid encapsulating material, an epoxy resin composition using an amine-based or acid anhydride-based curing agent is predominant because of its limited viscosity. However, the liquid encapsulant composed of the epoxy resin composition using the amine-based or acid anhydride-based curing agent is more than the transfer molding material composed of the epoxy resin composition using the phenol novolac resin curing agent described above. Poor overall reliability. Therefore, it is strongly desired to improve the reliability of the liquid sealing material. Therefore, in order to compensate for the drawback of high viscosity of the epoxy resin composition using a phenolic curing agent, the use of a solvent,
Although the handling of the liquid encapsulating material has been facilitated by using it together with an amine-based curing agent or an acid anhydride-based curing agent, the liquid sealing material has not yet reached a satisfactory stage.

【0006】また、低応力化を付与するために、非相溶
系のシリコーン変性が行われている。すなわち、エポキ
シ樹脂と相溶するシリコーン変性手法では、弾性率低下
効果が小さく、低応力性が小さいためである。ところ
が、上記非相溶系のシリコーン変性の手法を用いた液状
封止材では、粘度上昇がし易い上に、非相溶なシリコー
ン成分が樹脂硬化時に表面に浮き出てくる、いわゆるブ
リード現象が発生するという欠点があった。
[0006] Further, in order to impart a low stress, incompatible silicone modification is performed. That is, in the silicone modification method that is compatible with the epoxy resin, the effect of lowering the elastic modulus is small and the low stress property is small. However, in the liquid encapsulant using the incompatible silicone modification method, the viscosity tends to increase, and in addition, the so-called bleed phenomenon occurs in which the incompatible silicone component floats on the surface during resin curing. There was a drawback.

【0007】一方、プラスチック・ピングリッドアレイ
(PPGA)等の一部の用途では、シリコーンゲルを用
いて半導体チップを封止するという方法も知られてお
り、シリコーンゲルが非常に軟らかいゲル状の材料であ
るため、応力に起因する問題は起こらない。ところが、
この方法では、強度が小さいため、封止本来の目的の一
つである半導体チップの機械的保護ができないので、金
属製の蓋等が必要であり、吸湿時のリークを起こし易い
という欠点もあった。
On the other hand, in some applications such as a plastic pin grid array (PPGA), a method of encapsulating a semiconductor chip using silicone gel is also known, and the silicone gel is a very soft gel-like material. Therefore, the problem due to stress does not occur. However,
In this method, since the strength is low, it is not possible to mechanically protect the semiconductor chip, which is one of the original purposes of the encapsulation, so a metal lid or the like is required, and there is also a drawback that leakage during moisture absorption is likely to occur. It was

【0008】シリコーン系の樹脂で封止する試みもある
が、密着性及び耐湿性に劣るという問題があった。
Attempts have been made to seal with a silicone-based resin, but there was the problem of poor adhesion and moisture resistance.

【0009】さらに、TAB用途の半導体装置では、単
に低応力だけでなく、TABフィルムの変形に応じ、ポ
リイミドフィルムとの剥離を起こさないフレキシブルな
材料が求められている。
Further, in the semiconductor device for TAB, not only a low stress but also a flexible material which is not peeled off from the polyimide film due to the deformation of the TAB film is required.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の事実に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、低粘
度で取扱い性が良く、樹脂封止層をスポット封止で形成
するのに適し、ブリードが発生せず、低応力性に優れた
硬化物を与えることができる液状エポキシ樹脂組成物及
びこれを用いて性能が改善された半導体装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above facts, and an object thereof is to form a resin sealing layer by spot sealing with low viscosity and good handleability. A liquid epoxy resin composition which is suitable for use as a liquid epoxy resin composition and which does not cause bleeding and can give a cured product excellent in low stress, and a semiconductor device having improved performance using the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
液状エポキシ樹脂組成物は、エポキシ当量が260以下
のエポキシ変性シリコーンオイル、フェノール系硬化
剤、硬化促進剤及び充填剤を含有することを特徴とす
る。
The liquid epoxy resin composition according to claim 1 of the present invention contains an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 260 or less, a phenolic curing agent, a curing accelerator and a filler. Is characterized by.

【0012】本発明の請求項2に係る液状エポキシ樹脂
組成物は、上記エポキシ変性シリコーンオイルの粘度
が、25℃で300センチポイズ以下であることを特徴
とする。
A liquid epoxy resin composition according to a second aspect of the present invention is characterized in that the viscosity of the epoxy-modified silicone oil is 300 centipoise or less at 25 ° C.

【0013】本発明の請求項3に係る液状エポキシ樹脂
組成物は、上記フェノール系硬化剤がフェノールノボラ
ック樹脂であることを特徴とする。
A liquid epoxy resin composition according to a third aspect of the present invention is characterized in that the phenolic curing agent is a phenol novolac resin.

【0014】本発明の請求項4に係る半導体装置は、請
求項1乃至請求項3のいずれかに記載の液状エポキシ樹
脂組成物を用いて、封止されていることを特徴とする。
A semiconductor device according to a fourth aspect of the present invention is characterized by being sealed with the liquid epoxy resin composition according to any one of the first to third aspects.

【0015】本発明の請求項5に係る半導体装置は、上
記液状エポキシ樹脂組成物を用いて膜厚0.5mm以下
で封止されていることを特徴とする。
A semiconductor device according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that it is sealed with the liquid epoxy resin composition to a film thickness of 0.5 mm or less.

【0016】以下、本発明を詳しく説明する。ブリード
のない硬化物を得るために、本発明の液状エポキシ樹脂
組成物は、エポキシ当量が260以下のエポキシ変性シ
リコーンオイルを必須成分として含有する。エポキシ基
をシリコーン骨格に導入する方法については、種々の公
知の方法を用いることができる。例えば、ハイドロシリ
ル基を含有するシリコーンオイルに白金等の金属触媒下
でアリル基を含有するグリシジル化合物、例えば、アリ
ルグリシジルエーテルをヒドロシリル化反応させる方
法、ビニル基を含有するシリコーンオイルを過酸によ
り、エポキシ化する方法等を例示することができる。前
者の方法によって得られる代表的なエポキシ変性シリコ
ーンオイルは、下記の一般式で表される化合物(以下
化合物Aと記す)である。
The present invention will be described in detail below. In order to obtain a bleed-free cured product, the liquid epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 260 or less as an essential component. Various known methods can be used for introducing an epoxy group into the silicone skeleton. For example, a glycidyl compound containing an allyl group under a metal catalyst such as platinum in a silicone oil containing a hydrosilyl group, for example, a method of hydrosilylating an allyl glycidyl ether, a silicone oil containing a vinyl group by peracid, Examples of the epoxidizing method and the like can be given. A typical epoxy-modified silicone oil obtained by the former method is a compound represented by the following general formula (hereinafter referred to as compound A).

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】上記の一般式の中のnは、3以上の整数
である。例えば、n=3の場合には、エポキシ当量22
8、n=6の場合には、エポキシ当量201のエポキシ
変性シリコーンオイルが得られる。上記の化合物Aは、
ペンダントにエポキシ基を導入した例であるが、別の例
を示すと下記の一般式で表される化合物(以下化合物
Bと記す)のように両末端にエポキシ基を導入したエポ
キシ変性シリコーンオイルもある。
In the above general formula, n is an integer of 3 or more. For example, when n = 3, the epoxy equivalent is 22
When 8 and n = 6, an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 201 is obtained. The above compound A is
This is an example in which an epoxy group is introduced into the pendant, but another example is an epoxy-modified silicone oil in which epoxy groups are introduced into both terminals like a compound represented by the following general formula (hereinafter referred to as compound B). is there.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】上記の一般式の中のmが平均1.5の混
合物の場合には、エポキシ当量237のエポキシ変性シ
リコーンオイルになる。
In the case of a mixture in which m in the general formula is 1.5 on average, an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 237 is obtained.

【0021】上記の化合物A又は化合物B等のエポキシ
変性シリコーンオイルのエポキシ当量が260を越える
場合には、硬化剤等との相溶性が十分には得られず、硬
化物中で相分離してブリードの原因になるだけでなく、
エポキシ基が完全には硬化剤と反応ができないため、脆
い硬化物となり、好ましくない。上記の化合物A又は化
合物B等のエポキシ変性シリコーンオイルのエポキシ当
量が260以下の場合には、硬化物が均一層となり相分
離が起こらない。上記の化合物A又は化合物B等のエポ
キシ変性シリコーンオイルのエポキシ当量が240以下
であることが、より好ましい。さらに、本発明の液状エ
ポキシ樹脂組成物に含有されるエポキシ変性シリコーン
オイルの粘度が、25℃で300センチポイズ以下であ
ることが液状封止材として良好な粘度を持つ点で望まし
い。すなわち、エポキシ変性シリコーンオイルの粘度
が、25℃で300センチポイズを越える場合には、フ
ェノール系硬化剤を溶解させた際の液状エポキシ樹脂組
成物の粘度が急激に上昇し、充填剤を添加することによ
り、液状エポキシ樹脂組成物の粘度がさらに急激に上昇
してしまう。
When the epoxy equivalent of the above-mentioned epoxy-modified silicone oil such as compound A or compound B exceeds 260, compatibility with a curing agent or the like is not sufficiently obtained, and phase separation occurs in the cured product. Not only causes bleeding,
Since the epoxy group cannot completely react with the curing agent, it becomes a brittle cured product, which is not preferable. When the epoxy equivalent of the epoxy-modified silicone oil such as the compound A or the compound B is 260 or less, the cured product becomes a uniform layer and phase separation does not occur. It is more preferable that the epoxy equivalent of the epoxy-modified silicone oil such as the compound A or the compound B is 240 or less. Furthermore, it is desirable that the viscosity of the epoxy-modified silicone oil contained in the liquid epoxy resin composition of the present invention is 300 centipoise or less at 25 ° C. in order to have a good viscosity as a liquid sealing material. That is, when the viscosity of the epoxy-modified silicone oil exceeds 300 centipoise at 25 ° C., the viscosity of the liquid epoxy resin composition when the phenolic curing agent is dissolved increases sharply, and a filler should be added. As a result, the viscosity of the liquid epoxy resin composition increases more rapidly.

【0022】本発明の液状エポキシ樹脂組成物に用いる
エポキシ樹脂として、1分子中に2個以上のエポキシ基
を有するエポキシ樹脂であって、例えば、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂
又は脂環式エポキシ樹脂とエポキシ変性シリコーンオイ
ルとを併用してもよい。エポキシ変性シリコーンオイル
のエポキシ当量が260以下の場合には、上記エポキシ
樹脂を併用しても、相溶性が損なわれないためである。
ただし、粘度や低応力性等の面から、エポキシ変性シリ
コーンオイルの含有量が、エポキシ樹脂全量に対して5
0重量%以上であることが好ましい。
The epoxy resin used in the liquid epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, such as a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin or a fat. You may use together cyclic epoxy resin and epoxy modified silicone oil. This is because when the epoxy equivalent of the epoxy-modified silicone oil is 260 or less, the compatibility is not impaired even when the epoxy resin is used in combination.
However, from the viewpoint of viscosity and low stress, the content of epoxy-modified silicone oil is 5 relative to the total amount of epoxy resin.
It is preferably 0% by weight or more.

【0023】本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、硬化
剤としてフェノール系硬化剤を必須成分として含有す
る。すなわち、フェノール系硬化剤を用いたエポキシの
硬化により、低吸湿で密着性に優れる液状エポキシ樹脂
組成物の硬化物を得ることができる。フェノール系硬化
剤としては、1分子中にフェノール性水酸基を少なくと
も2個有するフェノール樹脂等の硬化剤であれば、いず
れの硬化剤でも用いることができ、例えば、フェノール
ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ピロガロ
ール及び多官能フェノール樹脂等がある。この硬化物の
架橋密度をできるだけ上げて、強靱性のある硬化物を得
るためには、フェノール系硬化剤の中でも、フェノール
ノボラック樹脂を含有することが好ましい。このフェノ
ールノボラック樹脂としては、アリル化フェノールノボ
ラック樹脂も包含される。硬化剤として他の化合物、例
えば、酸無水物、芳香族アミン又はイミダゾール類等と
併用してもよいが、フェノール系硬化剤を硬化剤全量に
対して50重量%以上含有することが、密着性の点から
好ましい。
The liquid epoxy resin composition of the present invention contains a phenolic curing agent as a curing agent as an essential component. That is, by curing an epoxy with a phenolic curing agent, a cured product of a liquid epoxy resin composition having low moisture absorption and excellent adhesion can be obtained. As the phenol-based curing agent, any curing agent such as a phenol resin having at least two phenolic hydroxyl groups in one molecule can be used. For example, phenol novolac resin, cresol novolac resin, pyrogallol And polyfunctional phenol resins. In order to increase the crosslink density of the cured product as much as possible and obtain a cured product having toughness, it is preferable to include a phenol novolac resin among the phenol-based curing agents. The phenol novolac resin also includes allylated phenol novolac resin. Although it may be used in combination with other compound as a curing agent, for example, an acid anhydride, an aromatic amine or imidazoles, it is necessary to contain 50% by weight or more of a phenolic curing agent based on the total amount of the curing agent. From the point of, it is preferable.

【0024】本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、硬化
促進剤を必須成分として含有する。硬化促進剤として
は、3級アミン、イミダゾール類の他にトリフェニルホ
スフィン等のリン系化合物等を例示できるが、特に限定
されるものではない。
The liquid epoxy resin composition of the present invention contains a curing accelerator as an essential component. Examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, and phosphorus compounds such as triphenylphosphine, but are not particularly limited.

【0025】本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、充填
剤を必須成分として含有する。この充填剤としては、結
晶シリカ、溶融シリカ又はアルミナ等を例示できるが、
低含有量で効果的に硬化物の熱膨張係数を抑えるために
は、溶融シリカを用いることが好ましい。充填剤の含有
量は、基板との膨張収縮を抑えるために、液状エポキシ
樹脂組成物の全量に対して20〜85重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは、40〜75重量%であ
る。すなわち、無機充填剤の含有量が液状エポキシ樹脂
組成物の全量に対して85重量%を越える場合には、液
状エポキシ樹脂組成物の粘度が高くなり過ぎ、20重量
%未満の場合には、熱膨張係数が大きくなってしまう。
The liquid epoxy resin composition of the present invention contains a filler as an essential component. Examples of this filler include crystalline silica, fused silica, alumina and the like,
In order to effectively suppress the thermal expansion coefficient of the cured product with a low content, it is preferable to use fused silica. The content of the filler is preferably 20 to 85% by weight, more preferably 40 to 75% by weight based on the total amount of the liquid epoxy resin composition in order to suppress expansion and contraction with the substrate. That is, when the content of the inorganic filler exceeds 85% by weight with respect to the total amount of the liquid epoxy resin composition, the viscosity of the liquid epoxy resin composition becomes too high, and when it is less than 20% by weight, the heat Expansion coefficient becomes large.

【0026】本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、必要
に応じて、反応希釈剤、難燃剤、顔料、染料、カップリ
ング剤、イオントラップ剤及び離型剤等を添加すること
ができる。
The liquid epoxy resin composition of the present invention may be added with a reaction diluent, a flame retardant, a pigment, a dye, a coupling agent, an ion trap agent, a release agent, etc., if necessary.

【0027】本発明の液状エポキシ樹脂組成物を用いて
COB型半導体装置及びTAB型半導体装置等の半導体
装置を封止することにより、温度サイクル及び屈曲性に
優れた半導体装置が得られる。特に、本発明の液状エポ
キシ樹脂組成物を用いてTAB型半導体装置を作る際に
は、膜厚0.5mm以下で塗布することが好ましい。す
なわち、膜厚が0.5mmを越える場合には、半導体装
置が厚くなり、薄型化ができないとともに、硬化膜の柔
軟性も低下し、TABフィルムの変形に硬化膜が追随で
きなくなってしまう。 本発明の液状エポキシ樹脂組成
物は、フェノール系硬化剤によるエポキシ硬化を適用し
ているため、密着性及び信頼性に優れているので、0.
5mm以下の膜厚でも十分に封止信頼性を確保すること
ができる。
By encapsulating a semiconductor device such as a COB type semiconductor device and a TAB type semiconductor device using the liquid epoxy resin composition of the present invention, a semiconductor device excellent in temperature cycle and flexibility can be obtained. In particular, when a TAB type semiconductor device is produced by using the liquid epoxy resin composition of the present invention, it is preferable to apply it with a film thickness of 0.5 mm or less. That is, when the film thickness exceeds 0.5 mm, the semiconductor device becomes thick and cannot be thinned, and the flexibility of the cured film is lowered, so that the cured film cannot follow the deformation of the TAB film. Since the liquid epoxy resin composition of the present invention uses epoxy curing with a phenol-based curing agent, it has excellent adhesiveness and reliability.
Even with a film thickness of 5 mm or less, sufficient sealing reliability can be ensured.

【0028】[0028]

【作用】本発明の請求項1に係る液状エポキシ樹脂組成
物は、エポキシ当量が260以下のエポキシ変性シリコ
ーンオイルを含有するので、硬化物が均一層となり相分
離が起こらない。すなわち、エポキシ変性シリコーンオ
イルのエポキシ当量が260を越える場合には、硬化剤
等との相溶性が十分には得られず、硬化物中で相分離し
てブリードの原因になるだけでなく、エポキシ基が完全
には硬化剤と反応ができないため、脆い硬化物となり、
好ましくない。
Since the liquid epoxy resin composition according to the first aspect of the present invention contains the epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 260 or less, the cured product becomes a uniform layer and phase separation does not occur. That is, when the epoxy equivalent of the epoxy-modified silicone oil exceeds 260, compatibility with a curing agent or the like cannot be sufficiently obtained, and not only causes phase separation in the cured product but causes bleeding. Since the group cannot completely react with the curing agent, it becomes a brittle cured product,
Not preferred.

【0029】本発明の請求項2に係る液状エポキシ樹脂
組成物は、エポキシ変性シリコーンオイルの粘度が、2
5℃で300センチポイズ以下であるので、液状封止材
として良好な粘度を持つ点で望ましい。すなわち、エポ
キシ変性シリコーンオイルの粘度が、25℃で300セ
ンチポイズを越える場合には、フェノール系硬化剤を溶
解させた際の液状エポキシ樹脂組成物の粘度が急激に上
昇し、充填剤を添加することにより、液状エポキシ樹脂
組成物の粘度がさらに急激に上昇してしまう。
In the liquid epoxy resin composition according to claim 2 of the present invention, the viscosity of the epoxy-modified silicone oil is 2
Since it is 300 centipoise or less at 5 ° C., it is desirable in that it has a good viscosity as a liquid sealing material. That is, when the viscosity of the epoxy-modified silicone oil exceeds 300 centipoise at 25 ° C., the viscosity of the liquid epoxy resin composition when the phenolic curing agent is dissolved increases sharply, and a filler should be added. As a result, the viscosity of the liquid epoxy resin composition increases more rapidly.

【0030】本発明の請求項3に係る液状エポキシ樹脂
組成物は、上記フェノール系硬化剤がフェノールノボラ
ック樹脂であるので、低吸湿で密着性に優れ、架橋密度
が上がり、強靱性のある液状エポキシ樹脂組成物の硬化
物を得ることができる。
In the liquid epoxy resin composition according to claim 3 of the present invention, since the phenolic curing agent is a phenol novolac resin, the liquid epoxy resin composition has low moisture absorption, excellent adhesiveness, increased crosslink density and toughness. A cured product of the resin composition can be obtained.

【0031】本発明の請求項4に係る半導体装置は、請
求項1乃至請求項3のいずれかに記載の液状エポキシ樹
脂組成物を用いて封止されているので、温度サイクル及
び屈曲性に優れる。
Since the semiconductor device according to claim 4 of the present invention is sealed with the liquid epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, it is excellent in temperature cycle and flexibility. .

【0032】本発明の請求項5に係る半導体装置は、上
記液状エポキシ樹脂組成物を用いて膜厚0.5mm以下
で封止されているので、硬化膜に柔軟性があり、TAB
フィルムの変形に硬化膜が追随できる。
Since the semiconductor device according to claim 5 of the present invention is sealed with the liquid epoxy resin composition to a film thickness of 0.5 mm or less, the cured film has flexibility.
The cured film can follow the deformation of the film.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明を実施例により、比較例と比較
しながら具体的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and comparison with Comparative Examples.

【0034】(実施例1〜実施例10)エポキシ変性シ
リコーンオイルとしては、上記化合物Aにおいて、nが
約6であるエポキシ当量198で、25℃での粘度60
センチポイズの側鎖エポキシ変性シリコーンオイル(以
下、エポキシ変性シリコーンAと記す)と、上記化合物
Bにおいて、nが約0.6であるエポキシ当量194
で、25℃での粘度10センチポイズの両末端エポキシ
変性シリコーンオイル(以下、エポキシ変性シリコーン
Bと記す)と、エポキシ当量200で、25℃での粘度
250センチポイズのエポキシ変性シリコーンオイル
(以下、エポキシ変性シリコーンCと記す)と、エポキ
シ当量220で、25℃での粘度800センチポイズの
エポキシ変性シリコーンオイル(以下、エポキシ変性シ
リコーンDと記す)とを用いた。エポキシ樹脂として
は、エポキシ当量175で、25℃での粘度4000セ
ンチポイズのビスフェノールA型エポキシ樹脂を用い
た。硬化剤としては、フェノールノボラック樹脂とフェ
ノール性水酸基当量120のアリル化フェノールノボラ
ック樹脂とピロガロールとヘキサヒドロ無水フタール酸
とを用いた。硬化促進剤としては、1,8ジアザ−ビシ
クロ−(5,4,0)ウンデセン−7〔DBU〕のオク
チル酸塩(SA102:サンアプロ社製)を用いた。充
填剤としては、溶融シリカを用いた。着色剤としては、
カーボンブラックを用いた。
(Examples 1 to 10) As the epoxy-modified silicone oil, the epoxy equivalent of 198 in which n is about 6 in the above compound A is 198, and the viscosity at 25 ° C. is 60.
Centipoise side chain epoxy-modified silicone oil (hereinafter referred to as epoxy-modified silicone A) and epoxy equivalent 194 in which n is about 0.6 in the above compound B
At 25 ° C., a viscosity of 10 centipoise at both ends epoxy-modified silicone oil (hereinafter referred to as epoxy-modified silicone B), and an epoxy equivalent of 200, an epoxy-modified silicone oil having a viscosity of 250 centipoise at 25 ° C. (hereinafter, epoxy-modified) Silicone C) and an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 220 and a viscosity of 800 centipoise at 25 ° C. (hereinafter referred to as epoxy-modified silicone D) were used. As the epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 175 and a viscosity at 25 ° C. of 4000 centipoise was used. As the curing agent, a phenol novolac resin, an allylated phenol novolac resin having a phenolic hydroxyl group equivalent of 120, pyrogallol, and hexahydrophthalic anhydride were used. As the curing accelerator, 1,8 diaza-bicyclo- (5,4,0) undecene-7 [DBU] octylate (SA102: manufactured by San-Apro) was used. Fused silica was used as the filler. As a colorant,
Carbon black was used.

【0035】表1に示したそれぞれの配合量を重量部で
表した配合に基づいてエポキシ変性シリコーンオイルや
ビスフェノールA型エポキシ樹脂と硬化剤とを100℃
で均一に溶解後、硬化促進剤、充填剤及び着色剤を配合
し、高速撹拌機を用いて、1000rpmで5分間混
合、混練し、液状エポキシ樹脂組成物を得た。
Epoxy-modified silicone oil or bisphenol A type epoxy resin and a curing agent were added at 100 ° C. based on the amounts shown in Table 1 in parts by weight.
After being uniformly dissolved in, a curing accelerator, a filler and a colorant were blended, and mixed and kneaded for 5 minutes at 1000 rpm using a high speed stirrer to obtain a liquid epoxy resin composition.

【0036】なお、いずれの実施例でもエポキシ変性シ
リコーンオイルやビスフェノールA型エポキシ樹脂と硬
化剤と硬化促進剤とを配合し硬化させた硬化物は透明で
あり、相溶が均一なものであった。
In each of the examples, the cured product obtained by mixing the epoxy-modified silicone oil or the bisphenol A type epoxy resin with the curing agent and the curing accelerator and curing was transparent and had a uniform compatibility. .

【0037】シリコーンウェハー上に5μm線幅のアル
ミパターンを形成したTEGチップをプリント基板上に
25μm金線を用いてワイヤボンディングした評価用C
OBに膜厚1.2mmで、得られた液状エポキシ樹脂組
成物を塗布し、120℃1時間でゲル化させた後、16
0℃で3時間熱処理して硬化させ、COB型半導体装置
を得た。また、同じチップを0.3mmピッチのアウタ
リードを有する208ピンTABに実装したものに、膜
厚0.4mmで、得られた液状エポキシ樹脂組成物を塗
布し、上記と同様の硬化条件でTAB型半導体装置を得
た。
An evaluation C in which a TEG chip having an aluminum pattern with a line width of 5 μm formed on a silicone wafer was wire-bonded to a printed circuit board using a gold line of 25 μm.
The liquid epoxy resin composition having a thickness of 1.2 mm was applied to OB and gelled at 120 ° C. for 1 hour.
A COB type semiconductor device was obtained by heat treatment at 0 ° C. for 3 hours and curing. Further, the same chip mounted on a 208-pin TAB having outer leads of 0.3 mm pitch was coated with the obtained liquid epoxy resin composition in a film thickness of 0.4 mm, and the TAB type was prepared under the same curing conditions as above. A semiconductor device is obtained.

【0038】なお、いずれの実施例でも液状エポキシ樹
脂組成物の硬化物には、全くブリードが見られなかっ
た。
No bleed was observed in the cured product of the liquid epoxy resin composition in any of the examples.

【0039】液状エポキシ樹脂組成物の25℃での粘度
を表1に示した。COB型半導体装置に−55℃〜室温
(約25℃)〜150℃の気相温度サイクル試験を実施
し、TEGのアルミ配線の断線及びTEG表面の超音波
顕微鏡観察による剥離の有無を評価し、表1に示した。
The viscosity of the liquid epoxy resin composition at 25 ° C. is shown in Table 1. A COB type semiconductor device was subjected to a vapor phase temperature cycle test at -55 ° C to room temperature (about 25 ° C) to 150 ° C to evaluate the disconnection of aluminum wiring of TEG and the presence or absence of peeling by ultrasonic microscope observation of the TEG surface, The results are shown in Table 1.

【0040】TAB型半導体装置については、上記と同
様の気相温度サイクル試験の他に、R=50mmの屈曲
繰り返し試験を実施し、表1に示した。
For the TAB type semiconductor device, in addition to the vapor phase temperature cycle test similar to the above, a bending repetition test of R = 50 mm was carried out, and shown in Table 1.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】(比較例1〜比較例3)比較例1〜比較例
3については、エポキシ当量300で、25℃での粘度
240センチポイズのエポキシ変性シリコーンオイル
(以下、エポキシ変性シリコーンEと記す)の他は、実
施例で用いたものを表2に示したそれぞれの配合量を重
量部で表した配合で用いた以外は、実施例と同様にし
て、エポキシ樹脂組成物、COB型半導体装置及びTA
B型半導体装置を得た。
Comparative Examples 1 to 3 In Comparative Examples 1 to 3, epoxy-modified silicone oil (hereinafter referred to as epoxy-modified silicone E) having an epoxy equivalent of 300 and a viscosity of 240 centipoise at 25 ° C. was used. Others were the same as in the examples except that the components used in the examples were used in the formulations shown in parts by weight in Table 2, the epoxy resin composition, the COB type semiconductor device and the TA.
A B type semiconductor device was obtained.

【0043】なお、比較例1のエポキシ変性シリコーン
オイルと硬化剤と硬化促進剤とを配合し硬化させた硬化
物は白濁しており、不均一なものであった。比較例1で
得られた液状エポキシ樹脂組成物の硬化物表面には、シ
リコーンオイルのブリードが見られたが、比較例3で得
られた液状エポキシ樹脂組成物の硬化物表面には、ブリ
ードが見られなかった。比較例2でビスフェノールA型
エポキシ樹脂と硬化剤とを100℃で均一に溶解させた
ところ、溶解物は、室温で流動性を持たなかった。
The cured product obtained by mixing the epoxy-modified silicone oil of Comparative Example 1, the curing agent and the curing accelerator and curing was cloudy and non-uniform. Although bleeding of silicone oil was observed on the surface of the cured product of the liquid epoxy resin composition obtained in Comparative Example 1, bleeding was observed on the surface of the cured product of the liquid epoxy resin composition obtained in Comparative Example 3. I couldn't see it. When the bisphenol A type epoxy resin and the curing agent in Comparative Example 2 were uniformly dissolved at 100 ° C., the solution did not have fluidity at room temperature.

【0044】実施例と同様の評価試験を行い表2に示し
た。
The same evaluation test as in the example was conducted and the results are shown in Table 2.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】上記表1及び表2に示す結果により、実施
例1〜実施例10のエポキシ樹脂組成物は、比較例1〜
比較例3に比べて、低粘度で取扱い性が良く、樹脂封止
層をスポット封止で形成するのに適し、ブリードが起こ
らず、柔軟性と密着性とを併せ持ち、温度サイクル信頼
性の高い低応力の硬化物を与えることができる液状エポ
キシ樹脂組成物であることが確認できた。
From the results shown in Tables 1 and 2 above, the epoxy resin compositions of Examples 1 to 10 are
Compared to Comparative Example 3, it has a low viscosity and good handleability, is suitable for forming a resin sealing layer by spot sealing, does not cause bleeding, has flexibility and adhesiveness, and has high temperature cycle reliability. It was confirmed that the liquid epoxy resin composition was capable of giving a cured product with low stress.

【0047】さらに、実施例で得られた半導体装置は、
比較例に比べて温度サイクル及び屈曲性に優れることが
確認できた。
Further, the semiconductor device obtained in the embodiment is
It was confirmed that the temperature cycle and flexibility were superior to those of the comparative example.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項3に係る液状
エポキシ樹脂組成物は上記のように構成されているの
で、本発明の請求項1〜請求項3に係る液状エポキシ樹
脂組成物によると、低粘度で取扱い性が良く、樹脂封止
層をスポット封止で形成するのに適し、ブリードが発生
せず、低応力性に優れた硬化物を与えることができる液
状エポキシ樹脂組成物が得られる。
Since the liquid epoxy resin compositions according to claims 1 to 3 of the present invention are configured as described above, the liquid epoxy resin compositions according to claims 1 to 3 of the present invention. According to the above, a liquid epoxy resin composition having low viscosity, good handleability, suitable for forming a resin sealing layer by spot sealing, bleeding-free, and capable of giving a cured product excellent in low stress Is obtained.

【0049】本発明の請求項4及び請求項5に係る半導
体装置は上記のように構成されているので、本発明の請
求項4及び請求項5に係る半導体装置によると、温度サ
イクル及び屈曲性に優れる。
Since the semiconductor device according to claims 4 and 5 of the present invention is configured as described above, according to the semiconductor device according to claims 4 and 5 of the present invention, the temperature cycle and the flexibility Excellent in.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ当量が260以下のエポキシ変
性シリコーンオイル、フェノール系硬化剤、硬化促進剤
及び充填剤を含有することを特徴とする液状エポキシ樹
脂組成物。
1. A liquid epoxy resin composition comprising an epoxy-modified silicone oil having an epoxy equivalent of 260 or less, a phenol-based curing agent, a curing accelerator and a filler.
【請求項2】 上記エポキシ変性シリコーンオイルの粘
度が、25℃で300センチポイズ以下であることを特
徴とする請求項1記載の液状エポキシ樹脂組成物。
2. The liquid epoxy resin composition according to claim 1, wherein the viscosity of the epoxy-modified silicone oil is 300 centipoise or less at 25 ° C.
【請求項3】 上記フェノール系硬化剤がフェノールノ
ボラック樹脂であることを特徴とする請求項1又は請求
項2記載の液状エポキシ樹脂組成物。
3. The liquid epoxy resin composition according to claim 1, wherein the phenol-based curing agent is a phenol novolac resin.
【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
の液状エポキシ樹脂組成物を用いて、封止されているこ
とを特徴とする半導体装置。
4. A semiconductor device, which is encapsulated with the liquid epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 上記液状エポキシ樹脂組成物を用いて膜
厚0.5mm以下で封止されていることを特徴とする請
求項4記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 4, which is encapsulated with the liquid epoxy resin composition to a film thickness of 0.5 mm or less.
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