JPH0836895A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0836895A
JPH0836895A JP17385694A JP17385694A JPH0836895A JP H0836895 A JPH0836895 A JP H0836895A JP 17385694 A JP17385694 A JP 17385694A JP 17385694 A JP17385694 A JP 17385694A JP H0836895 A JPH0836895 A JP H0836895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense amplifier
dummy
data line
section
memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP17385694A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Omiya
厚生 近江谷
Hiroaki Tayasu
浩昭 田保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP17385694A priority Critical patent/JPH0836895A/en
Publication of JPH0836895A publication Critical patent/JPH0836895A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor integrated circuit device in which a speed of read-out operation of a memory is increased, pulse generating timing deciding a read-out operation time shortened accompanied by increase of read-out operation speed is made easily adjustable, and stable read-out operation can be performed. CONSTITUTION:This device is constituted so that a gate potential of an N type MOS 10 being a switch for previously charging a sense amplifier 3 and a data line 2 falls to a fixed potential from a Vcc potential. And generation timing of a pulse generated at when read-out operation from a dummy memory section 17 and a dummy sense amplifier section 18 having the same circuit constitution as a memory section 1 and the sense amplifier section 3 is finished is made adjustable by making capacitor CM of a dummy data line 19 variable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
関するものであり、特に、半導体記憶装置の読み出し動
作を行う回路に利用して有効なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and in particular, it is effective when applied to a circuit for performing a read operation of a semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のROM(Read Only Memory)や、
RAM(Random Access Memory)等の半導体記憶装置で
は、メモリ電流の経路に直列に挿入されたMOSトラン
ジスタのソース・ドレイン間に発生する電圧がメモリ電
流の大小に応じて変化することを利用して、データの
“1”“0”を判別する方式のセンスアンプが用いられ
る。図5に上記センスアンプの回路図、図6にその動作
状態を示すタイミングチャートを示す。メモリ電流の経
路に直列に挿入されたN型MOS45のゲート電圧の初
期値は、接地電位である。N型MOS45は、データ線
36をプリチャージする場合、スイッチの役割を果たし
ている。N型MOS45のゲート電極は、センスアンプ
制御信号50で駆動するP型MOS39と、ゲート電極
にデータ線36を接続したN型MOS40からなるイン
バータ38の出力に接続されている。センスアンプ制御
信号50が、“Hi”から“Lo”になると、センスアンプ
は動作状態となり、P型MOS39がONすることによ
り、N型MOS45のゲート電位は、接地電位から立上
り始め、データ線36のプリチャージを開始する。同時
にデータ線36の電位も上昇し、インバータ38のP型
MOS39とN型MOS40の電流駆動能力が等しくな
った時点で安定し、N型MOS45の電流駆動能力が最
大となる。この時点から間もなくデータ線36のプリチ
ャージが完了し、データの読み出しが可能となる。デー
タ線36に流れる電流が小さい時は、メモリセルのしき
い値電圧が高い場合であり、その場合ノードBはP型M
OS44によりプリチャージされて電位が上昇し、V2
電位に到達する。データ線36に流れる電流が大きい時
は、メモリセルのしきい値電圧が低い場合であり、その
場合ノードBは、前者より低くなりV1電位となる。こ
の電位差により、データの“0”、“1”を判別する。
A conventional ROM (R ead O nly M emory ) and,
RAM with (R andom A ccess M emory) semiconductor memory device or the like, using the fact that the voltage generated between the source and drain of the MOS transistor inserted in series in the path of the memory current changes according to the magnitude of the memory current Then, a sense amplifier of a system for discriminating "1" or "0" of data is used. FIG. 5 shows a circuit diagram of the sense amplifier, and FIG. 6 shows a timing chart showing its operating state. The initial value of the gate voltage of the N-type MOS 45 inserted in series in the memory current path is the ground potential. The N-type MOS 45 plays a role of a switch when the data line 36 is precharged. The gate electrode of the N-type MOS 45 is connected to the output of an inverter 38 including a P-type MOS 39 driven by a sense amplifier control signal 50 and an N-type MOS 40 having a data line 36 connected to the gate electrode. When the sense amplifier control signal 50 changes from “Hi” to “Lo”, the sense amplifier is activated and the P-type MOS 39 is turned on, so that the gate potential of the N-type MOS 45 starts rising from the ground potential and the data line 36. To start precharging. At the same time, the potential of the data line 36 also rises and becomes stable when the current driving capabilities of the P-type MOS 39 and the N-type MOS 40 of the inverter 38 become equal, and the current driving capability of the N-type MOS 45 becomes maximum. Soon after this time, the precharge of the data line 36 is completed, and the data can be read. When the current flowing through the data line 36 is small, the threshold voltage of the memory cell is high. In that case, the node B is a P-type M
Precharged by OS44 and the potential rises, V2
Reach the potential. When the current flowing through the data line 36 is large, it means that the threshold voltage of the memory cell is low. In that case, the node B becomes lower than the former and becomes the V1 potential. Based on this potential difference, "0" or "1" of the data is discriminated.

【0003】メモリ回路には、ダミーメモリ部51、及
びダミーセンスアンプ部55が、通常のメモリ部35、
センスアンプ部37と同じ製造プロセスで同時に形成さ
れており、同じ動作特性であることを利用して、読み出
し動作が終了すると、センスアンプ読み出し終了を示す
パルス信号59を発生する。このパルス信号59は、セ
ンスアンプ制御信号50が選択状態でも、ダミーメモリ
部51、及びダミーセンスアンプ部55の読み出し動作
が終了した時点でセンスアンプ動作を終了させ、電力の
消費を抑えるものである。図6に従来のメモリ回路の動
作のタイミングチャートを示す。ダミーセンスアンプ5
5のプリチャージ開始からパルス発生までの時間は、ダ
ミーデータ線52のプリチャージ時間とパルス発生遅延
時間からなり、予め設定されたメモリ部35及びセンス
アンプ部37の読み出し動作時間t3に一致するように
設定される。読み出し動作時間t3は、読み出し動作の
安定化を図るため、一定時間のマージンを含めて設定さ
れる。従って、マージンを稼ぐために、例えばP型MO
S58の電流駆動能力を下げる等して、パルス発生遅延
時間を設定している。
In the memory circuit, a dummy memory section 51 and a dummy sense amplifier section 55, a normal memory section 35,
When the read operation is completed by utilizing the fact that it is formed in the same manufacturing process as the sense amplifier section 37 at the same time and has the same operation characteristic, the pulse signal 59 indicating the completion of the read operation of the sense amplifier is generated. This pulse signal 59 terminates the sense amplifier operation when the read operation of the dummy memory section 51 and the dummy sense amplifier section 55 is completed, even if the sense amplifier control signal 50 is in the selected state, and suppresses power consumption. . FIG. 6 shows a timing chart of the operation of the conventional memory circuit. Dummy sense amplifier 5
The time from the start of precharging of No. 5 to the generation of a pulse is composed of the precharge time of the dummy data line 52 and the pulse generation delay time so as to match the preset read operation time t3 of the memory unit 35 and the sense amplifier unit 37. Is set to. The read operation time t3 is set including a fixed time margin in order to stabilize the read operation. Therefore, in order to earn a margin, for example, a P-type MO
The pulse generation delay time is set by, for example, reducing the current drive capability of S58.

【0004】尚、メモリ電流の経路に直列に挿入された
MOSトランジスタのソース・ドレイン間に発生する電
圧がメモリ電流の大小に応じて変化することを利用し
て、データの“1”“0”を判別するメモリの読み出し
方式については、例えば、「VLSIテクノロジー入
門」(平凡社販売東京企画室発行)第212頁乃至第2
14頁等に開示されている。
Incidentally, the fact that the voltage generated between the source and drain of the MOS transistor inserted in series in the memory current path changes depending on the magnitude of the memory current is used to make the data "1""0". For the memory reading method for determining the memory, for example, "Introduction to VLSI Technology" (published by Tokyo Sales Office, Heibonsha Co., Ltd.), pages 212 to 2
It is disclosed on page 14 and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方式では、センスアンプ制御信号50が、P型MOS3
9をON状態にさせてから、N型MOS45のゲート電
極を接地電位から立上らせるため、データ線36のプリ
チャージが完了するまで、比較的長い時間を要してい
る。このため、読み出しの高速化を図る際、プリチャー
ジ時間の短縮が大きな課題となっている。従来は、この
回路において、読み出しの高速化を図るためには、イン
バータ38の消費電流を増加させ、N型MOS45のゲ
ート電位の立上りを早める方法が取られている。従っ
て、読み出し動作の消費電力が増大してしまうという問
題がある。
However, in the above method, the sense amplifier control signal 50 is the P-type MOS3.
Since the gate electrode of the N-type MOS 45 is raised from the ground potential after turning on 9 of the MOS transistor 9, it takes a relatively long time to complete the precharge of the data line 36. For this reason, shortening the precharge time is a major issue when increasing the read speed. Conventionally, in this circuit, in order to increase the reading speed, a method of increasing the current consumption of the inverter 38 and accelerating the rise of the gate potential of the N-type MOS 45 has been adopted. Therefore, there is a problem that the power consumption of the read operation increases.

【0006】一方、読み出し動作を終了する際にダミー
センスアンプから発生されるパルスのタイミングは、設
計値では、センスアンプからのデータ出力から遅れてパ
ルスが発生するように一定時間のマージンをとってい
る。読み出し動作を高速化させた場合、データ出力から
パルス発生までのマージンも短縮される。このため、マ
ージン幅に、設計値と実際のチップとで誤差が生じた場
合、短縮されたマージンに対して、誤差の割合は大きく
なる。従って、パルス発生のタイミングのずれは、読み
出し動作に大きな影響を与える。例えば、実際のチップ
でのパルス発生タイミングが、設計値よりも早くなって
しまった場合には、マージン幅が狭くなるため、読み出
し不良という問題が生じる場合がある。逆にタイミング
が設計値よりも遅くなった場合には、マージン幅が広く
なった分、長くセンスアンプを動作させることになり、
読み出し動作の消費電力が増大してしまうという問題が
ある。
On the other hand, the timing of the pulse generated from the dummy sense amplifier at the end of the read operation is designed to have a certain time margin so that the pulse is generated after the data output from the sense amplifier. There is. When the read operation is speeded up, the margin from data output to pulse generation is also shortened. Therefore, when an error occurs in the margin width between the design value and the actual chip, the error ratio becomes large with respect to the shortened margin. Therefore, the deviation of the timing of pulse generation has a great influence on the read operation. For example, when the pulse generation timing in the actual chip is earlier than the design value, the margin width becomes narrow, which may cause a problem of read failure. On the other hand, if the timing is later than the design value, the sense amplifier operates longer due to the wider margin width.
There is a problem that the power consumption of the read operation increases.

【0007】本発明者は、メモリの読み出し動作時間、
即ち、ダミーセンスアンプのプリチャージ開始からパル
ス発生迄の時間が、ダミーデータ線のプリチャージ時間
とパルス発生遅延時間からなり、プリチャージ時間がダ
ミーデータ線容量CMと抵抗によって決定することに着
目し、鋭意検討した。
The present inventor has
That is, attention is paid to the fact that the time from the start of precharge of the dummy sense amplifier to the generation of a pulse consists of the precharge time of the dummy data line and the pulse generation delay time, and the precharge time is determined by the dummy data line capacitance CM and the resistance. I examined it earnestly.

【0008】そこで、本発明は、メモリの読み出し動作
を高速化させるとともに、読み出し動作の高速化に伴っ
て短縮される読み出し動作時間を決定するパルス発生タ
イミングを容易に調整可能とし、安定した読み出し動作
が可能な半導体集積回路装置を提供することを目的とす
る。
Therefore, the present invention speeds up the read operation of the memory and makes it possible to easily adjust the pulse generation timing that determines the read operation time that is shortened as the read operation speeds up. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device capable of achieving the above.

【0009】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになる
であろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
のとおりである。すなわち、センスアンプを、データ線
をプリチャージするためのスイッチとなるN型MOSの
ゲート電位の初期値を電源電圧とし、読み出し動作開始
とともに安定電位まで立ち下げ、データ線をプリチャー
ジする回路構成とし、読み出し動作を終了させるパルス
発生回路は、メモリ部及びセンスアンプ部と同じ回路構
成からなるダミーメモリ部及びダミーセンスアンプ部か
ら構成し、ダミーデータ線容量を増減させることによっ
て、パルスを発生させるタイミングを調整可能とするも
のである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the sense amplifier has a circuit configuration in which the initial value of the gate potential of the N-type MOS, which serves as a switch for precharging the data line, is used as the power supply voltage, the potential is lowered to a stable potential at the start of the read operation, and the data line is precharged. The pulse generation circuit for terminating the read operation is composed of a dummy memory section and a dummy sense amplifier section having the same circuit configuration as the memory section and the sense amplifier section, and the timing for generating a pulse by increasing or decreasing the dummy data line capacitance. Is adjustable.

【0011】[0011]

【作用】メモリ部のデータ線をプリチャージするための
スイッチとなるMOSトランジスタのゲート電位を、電
源電位から安定電位へ立ち下げることにより、従来、プ
リチャージ開始後プリチャージスイッチとなるMOSト
ランジスタの電流能力が2次曲線的に増加するのに対
し、開始後最大の電流能力が得られるため、データ線の
プリチャージ時間を短縮できる。また、パルスの発生タ
イミングを、ダミーデータ線の容量を増加、または減少
させることで容易に調整できるので、高速になっても安
定した読み出し動作を図ることができる。
The current of the MOS transistor, which becomes the precharge switch after the start of the precharge in the past, is lowered by lowering the gate potential of the MOS transistor which becomes the switch for precharging the data line of the memory section from the power supply potential to the stable potential. While the capacity increases quadratically, the maximum current capacity is obtained after the start, so that the precharge time of the data line can be shortened. Further, the pulse generation timing can be easily adjusted by increasing or decreasing the capacity of the dummy data line, so that a stable read operation can be achieved even at high speed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の一実施例を、ROMに利用し
た例について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to a ROM will be described below.

【0013】図1は、ROMのメモリ部1とセンスアン
プ部3、及びダミーメモリ部17及びダミーセンスアン
プ部18の関係を示す回路図である。メモリ部1は、1
本のデータ線2につき、図示しない複数個のメモリセル
のドレイン電極が接続されている。センスアンプ部3
は、電源(Vcc)に接続され、接地電位をゲート電位
とするP型MOS5と、データ線2をゲート電極とする
N型MOS6とから構成されるインバータ4と、センス
アンプ制御信号16をゲート電位とするP型MOS9、
インバータ4の出力をゲート電位とするN型MOS1
0、及びセンスアンプ制御信号16をゲート電位とする
N型MOS12からなるインバータ8と、インバータ8
の出力部に接続され、センスアンプ制御信号16をゲー
ト電位とするN型MOS13とから構成される。ダミー
メモリ部17及びダミーセンスアンプ部18は、センス
アンプ部3での読み出し動作の終了を示すパルスを発生
させることにより、センスアンプ動作を終了させるもの
である。ダミーセンスアンプ部18からのパルス発生
は、センスアンプ3のデータ出力から遅延するように、
P型MOS25の駆動能力を下げて、マージンを稼いで
いる。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the relationship between the memory section 1 of the ROM, the sense amplifier section 3, the dummy memory section 17 and the dummy sense amplifier section 18. The memory unit 1 is 1
The drain electrodes of a plurality of memory cells (not shown) are connected to the data line 2 of the book. Sense amplifier section 3
Is an inverter 4 connected to a power supply (Vcc) and having a P-type MOS 5 having a ground potential as a gate potential and an N-type MOS 6 having a data line 2 as a gate electrode; and a sense amplifier control signal 16 having a gate potential. P-type MOS9,
N-type MOS 1 whose output is the gate potential of the inverter 4
0, and an inverter 8 including an N-type MOS 12 having a gate potential of the sense amplifier control signal 16;
Of the N-type MOS 13 which is connected to the output part of the N-type MOS transistor 13 and has the sense amplifier control signal 16 as the gate potential. The dummy memory section 17 and the dummy sense amplifier section 18 terminate the sense amplifier operation by generating a pulse indicating the end of the read operation in the sense amplifier section 3. The generation of pulses from the dummy sense amplifier section 18 is delayed from the data output of the sense amplifier 3,
The drive capability of the P-type MOS 25 is lowered to gain a margin.

【0014】本実施例では、一つのダミーセンスアンプ
部18に対して3本のデータ線単位でダミーメモリ部1
7a、17b、17cを設けている。
In this embodiment, the dummy memory unit 1 is provided in units of three data lines for one dummy sense amplifier unit 18.
7a, 17b, 17c are provided.

【0015】図2は、図1に示す回路図の動作を示すタ
イミングチャートである。センスアンプ部3の読み出し
動作は、センスアンプ制御信号16(φSAC)によっ
て動作を開始する。まず、センスアンプ制御信号16が
“1”から“0”へ変化すると、インバータ8のP型M
OS9がON状態となると同時に、インバータ8のN型
MOS12及びN型MOS13がOFF状態となる。一
方、インバータ4のP型MOS5の初期状態はON状態
であり、ノードAは電源電位となっている。また、デー
タ線2をゲート電極とするN型MOS6は、データ線2
がプリチャージされていないため、すぐには電流が流れ
ず、ノードAは電源電位から立ち下がる。そのため、N
型MOS10は、P型MOS9がON状態となる前にそ
の駆動能力が最大となるため、データ線2は即座にプリ
チャージされる。この段階で、データ線2のプリチャー
ジは完了する(tp)。プリチャージ完了後、データ線
2に流れる電流が小さい時は、メモリセルのしきい値電
圧が高い場合であり、その場合ノードBはP型MOS9
によりプリチャージされて電位が上昇し、V2電位に到
達する。データ線2に流れる電流が大きい時、メモリセ
ルのしきい値電圧が低い場合であり、その場合ノードB
は、前者より低くなりV1電位となる。この電位差によ
り、データの“0”、“1”を判別する。
FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the circuit diagram shown in FIG. The read operation of the sense amplifier unit 3 is started by the sense amplifier control signal 16 (φSAC). First, when the sense amplifier control signal 16 changes from "1" to "0", the P-type M of the inverter 8 is
At the same time when the OS 9 is turned on, the N-type MOS 12 and the N-type MOS 13 of the inverter 8 are turned off. On the other hand, the initial state of the P-type MOS 5 of the inverter 4 is ON, and the node A is at the power supply potential. Further, the N-type MOS 6 having the data line 2 as a gate electrode is
Is not precharged, no current flows immediately and the node A falls from the power supply potential. Therefore, N
Since the drive capability of the type MOS 10 is maximized before the P type MOS 9 is turned on, the data line 2 is immediately precharged. At this stage, the precharge of the data line 2 is completed (tp). When the current flowing through the data line 2 is small after the completion of precharge, it means that the threshold voltage of the memory cell is high. In that case, the node B is the P-type MOS 9
Is precharged by and the potential rises to reach the V2 potential. When the current flowing through the data line 2 is large, the threshold voltage of the memory cell is low. In that case, the node B
Becomes lower than the former and becomes V1 potential. Based on this potential difference, "0" or "1" of the data is discriminated.

【0016】上記のように、ノードAの初期電位を電源
電位に設定しておくことにより、データ線のプリチャー
ジするスイッチとなるN型MOS10はセンスアンプ制
御信号16を変化させた直後に最大の駆動能力が得られ
るため、データ線のプリチャージ時間を、消費電流を単
純に増加させることなく短縮させることができる。
As described above, by setting the initial potential of the node A to the power supply potential, the N-type MOS 10 serving as a switch for precharging the data line becomes the maximum immediately after the sense amplifier control signal 16 is changed. Since the drivability is obtained, the precharge time of the data line can be shortened without simply increasing the current consumption.

【0017】一方、ダミーメモリ部17及びダミーセン
スアンプ部18も、メモリ部1およびセンスアンプ部3
と同じ動作を行うが、センスアンプ部3のデータ出力タ
イミングから若干のマージンをとってパルス信号が発生
するように、P型MOS25の駆動能力を、例えばチャ
ンネル長を長くする等して下げている。但し、センスア
ンプ部3のプリチャージ時間が短縮されるため、パルス
発生までのマージンも同様に短縮されている。従って、
パルス発生のタイミングずれが、短縮されたマージンに
対してその割合が大きくなるため、タイミングを補正す
る必要がある。本実施例では、パルス発生のタイミング
ずれを補正するために、1つのダミーセンスアンプ18
に対し、複数列、ここでは3列のダミーメモリ部17
a、17b、17cを設けた。これは、ダミーメモリ部
17のプリチャージ時間が、ダミーデータ線容量CM及
び抵抗RMによって決まることを利用し、3列のダミー
メモリ部のうち、ダミーメモリ部17b及び17cを最
終の配線工程において、マスタスライス部22でダミー
データ線19に接続するかしないかによって、パルス発
生タイミングを調整可能にしている。図3にメモリ部1
の読み出し時間t1(プリチャージ開始からパルス発生
まで)でのパルス発生タイミングの調整方法を示す。
尚、ここでは、設計段階でダミーメモリ部17bはダミ
ーデータ線19に接続されているものとする。ダミーデ
ータ線プリチャージ時間(tdp)とダミーセンスアン
プ遅延時間(tdl)との和は、メモリ部1の読み出し
時間t1と同等になるように設計される。しかしなが
ら、例えばパルス発生までのマージンを稼ぐために駆動
能力を低下させたP型MOS25に起因して、tdl
が、チップ段階で設計値より長くなる場合、あるいは短
くなる場合が生じる。本発明では、ダミーデータ線容量
CMを、マスタスライス法によって増減させることによ
り、パルス発生タイミングを調整する。例えば、tdl
が設計値より長い場合は、最終配線工程で、ダミーメモ
リ部17bのマスタスライス部22aを絶縁するように
変更し、tdlが設計値より長い分(ta)、tdpを
短く調整することで、パルス発生タイミングを設計値と
ほぼ一致させることができる。逆にtdlが設計値より
短い場合は、最終配線工程で、ダミーメモリ部17bの
マスタスライス部22a及びダミーメモリ部17cのマ
スタスライス部22bを接続するように変更し、tdl
が設計値より短い分(tb)、tdpを長く調整するこ
とで、パルス発生タイミングを設計値とほぼ一致させる
ことができる。これにより、センスアンプ部3のデータ
線プリチャージ時間の短縮に伴う読み出し時間短縮に対
応して、適当なタイミングでパルスを発生させることが
できる。
On the other hand, the dummy memory section 17 and the dummy sense amplifier section 18 also include the memory section 1 and the sense amplifier section 3.
The same operation is performed, but the drive capability of the P-type MOS 25 is lowered by, for example, increasing the channel length so that the pulse signal is generated with a slight margin from the data output timing of the sense amplifier unit 3. . However, since the precharge time of the sense amplifier unit 3 is shortened, the margin until the pulse generation is also shortened. Therefore,
Since the ratio of the timing deviation of the pulse generation to the shortened margin is large, it is necessary to correct the timing. In the present embodiment, in order to correct the timing deviation of pulse generation, one dummy sense amplifier 18
On the other hand, a plurality of columns, here three columns of dummy memory units 17 are provided.
a, 17b and 17c are provided. This is because the precharge time of the dummy memory unit 17 is determined by the dummy data line capacitance CM and the resistance RM, and the dummy memory units 17b and 17c of the three columns of dummy memory units are connected in the final wiring step. The pulse generation timing can be adjusted depending on whether or not the master slice unit 22 is connected to the dummy data line 19. The memory unit 1 shown in FIG.
A method of adjusting the pulse generation timing at the read time t1 (from the start of precharge to the pulse generation) will be described.
In this case, it is assumed that the dummy memory section 17b is connected to the dummy data line 19 at the design stage. The sum of the dummy data line precharge time (tdp) and the dummy sense amplifier delay time (tdl) is designed to be equal to the read time t1 of the memory section 1. However, due to, for example, the P-type MOS 25 whose driving capability is lowered in order to gain a margin until a pulse is generated, tdl
May become longer or shorter than the design value at the chip stage. In the present invention, the pulse generation timing is adjusted by increasing or decreasing the dummy data line capacitance CM by the master slice method. For example, tdl
Is longer than the designed value, in the final wiring step, the master slice section 22a of the dummy memory section 17b is changed to be insulated, and tdl is adjusted to be shorter than the designed value (ta). The generation timing can be made to substantially match the design value. On the contrary, when tdl is shorter than the design value, the final wiring step is changed to connect the master slice section 22a of the dummy memory section 17b and the master slice section 22b of the dummy memory section 17c, and tdl is changed.
By adjusting tdp to be longer by a value shorter than the design value (tb), the pulse generation timing can be made to substantially match the design value. As a result, the pulse can be generated at an appropriate timing in response to the shortening of the read time accompanying the shortening of the data line precharge time of the sense amplifier unit 3.

【0018】以下、本実施例の作用効果について説明す
る。
The operation and effect of this embodiment will be described below.

【0019】(1)読み出し開始の際、データ線をプリ
チャージするスイッチとなるN型MOSのゲート電位を
電源電位から立ち下げることにより、そのN型MOSの
駆動能力がセンスアンプ制御信号を変化させた直後に高
くなるため、データ線のプリチャージ時間を短縮させる
ことができる。
(1) At the start of reading, the gate potential of the N-type MOS that serves as a switch for precharging the data line is lowered from the power supply potential, so that the driving capability of the N-type MOS changes the sense amplifier control signal. Since it becomes high immediately after the start, the precharge time of the data line can be shortened.

【0020】(2)データ線のプリチャージ時間を短縮
させることができるので、メモリの読み出し動作時間を
短縮させることができる。
(2) Since the precharge time of the data line can be shortened, the read operation time of the memory can be shortened.

【0021】(3)メモリの読み出し動作を終了させる
パルスを発生するダミーメモリ部及びダミーセンスアン
プ部のダミーデータ線容量を増減することにより、パル
ス発生タイミングを調整することができる。
(3) The pulse generation timing can be adjusted by increasing or decreasing the dummy data line capacitance of the dummy memory section and the dummy sense amplifier section that generate the pulse for ending the memory read operation.

【0022】(4)パルス発生タイミングを調整するこ
とができるので、メモリの読み出し動作を高速化して
も、安定した読み出し動作を図ることができる。
(4) Since the pulse generation timing can be adjusted, a stable read operation can be achieved even if the memory read operation is speeded up.

【0023】(5)マスタスライス法やヒューズ切断等
により容易にダミーデータ線容量を増減することが可能
なため、TAT(ターン・アラウンド・タイム)の短縮
を図ることができる。
(5) Since the dummy data line capacitance can be easily increased / decreased by the master slicing method or fuse cutting, TAT (turn around time) can be shortened.

【0024】(6)プリチャージ時間を短縮し、パルス
発生タイミングを調整可能としたので、ほぼ設計値どう
りの読み出し時間とすることができ、高速化及び低消費
電力化を図ることができる。
(6) Since the precharge time is shortened and the pulse generation timing can be adjusted, the read time can be set almost according to the design value, and the speed and power consumption can be reduced.

【0025】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、
上記実施例では、マスタスライス法によりパルス発生タ
イミングを調整したが、図4に示すように、ダミーセン
スアンプ部291つに対し、ダミーメモリ部27を1列
のみとし、ダミーデータ線28に接続されているダミー
メモリセル31のドレイン領域32の不純物濃度を増減
させることで、ダミーデータ線容量CM(ドレイン−基
板間容量)を可変とすることができる。この場合、ダミ
ーセンスアンプ部291つに対し、ダミーメモリ部27
を1列のみとするので、面積を増加させずに、パルス発
生タイミングを調整可能とすることができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example,
In the above-described embodiment, the pulse generation timing is adjusted by the master slice method, but as shown in FIG. 4, the dummy memory amplifier 27 has only one column for one dummy sense amplifier portion 291, and the dummy memory portion 27 is connected to the dummy data line 28. The dummy data line capacitance CM (drain-substrate capacitance) can be made variable by increasing / decreasing the impurity concentration of the drain region 32 of the dummy memory cell 31. In this case, the dummy memory unit 27
Since there is only one column, it is possible to adjust the pulse generation timing without increasing the area.

【0026】また、パルスの発生タイミングは、ダミー
センスアンプ部の駆動能力を下げずに、ダミーデータ線
容量の増減のみで調整してもよいことは勿論である。
Of course, the pulse generation timing may be adjusted only by increasing or decreasing the dummy data line capacitance without lowering the driving capability of the dummy sense amplifier section.

【0027】尚、本発明は、ROMやRAMのデータ読
み出し回路だけではなく、信号発生回路を有する、種々
の半導体集積回路装置に適用できるものである。
The present invention can be applied to various semiconductor integrated circuit devices having a signal generating circuit as well as a ROM or RAM data reading circuit.

【0028】[0028]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0029】すなわち、メモリ部のデータ線をプリチャ
ージするためのスイッチとなるMOSトランジスタのゲ
ート電位を、Vcc電位から一定電位へ立ち下げること
により、データ線のプリチャージ時間を短縮できる。ま
た、パルスの発生タイミングを、ダミーデータ線の容量
を増加、または減少させることで容易に調整できるの
で、高速になっても安定した読み出し動作を図ることが
できる。
That is, the precharge time of the data line can be shortened by lowering the gate potential of the MOS transistor, which serves as a switch for precharging the data line of the memory section, from the Vcc potential to a constant potential. Further, the pulse generation timing can be easily adjusted by increasing or decreasing the capacity of the dummy data line, so that a stable read operation can be achieved even at high speed.

【0030】[0030]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるROMのメモリ部1と
センスアンプ部3、及びダミーメモリ部17及びダミー
センスアンプ部18の関係を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a relationship between a memory unit 1 and a sense amplifier unit 3, a dummy memory unit 17 and a dummy sense amplifier unit 18 of a ROM which is an embodiment of the present invention.

【図2】図1の回路の動作を示すタイミングチャートで
ある。
FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the circuit of FIG.

【図3】メモリ部1の読み出し時間t1(プリチャージ
開始からパルス発生まで)でのパルス発生タイミングの
調整方法を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a method of adjusting a pulse generation timing at a read time t1 of the memory unit 1 (from the start of precharge to the pulse generation).

【図4】(a)は、本発明の他の実施例をであるROM
のメモリ部とセンスアンプ部、及びダミーメモリ部27
及びダミーセンスアンプ部28の関係を示す回路図、
(b)は、ダミーメモリセル31の拡大断面図である。
FIG. 4A is a ROM showing another embodiment of the present invention.
Memory unit and sense amplifier unit, and dummy memory unit 27
And a circuit diagram showing the relationship between the dummy sense amplifier section 28,
FIG. 3B is an enlarged cross-sectional view of the dummy memory cell 31.

【図5】従来のROMのメモリ部35とセンスアンプ部
37、及びダミーメモリ部51及びダミーセンスアンプ
部55の関係を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a relationship between a memory section 35, a sense amplifier section 37, a dummy memory section 51, and a dummy sense amplifier section 55 of a conventional ROM.

【図6】図5の回路の動作を示すタイミングチャートで
ある。
6 is a timing chart showing the operation of the circuit of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……メモリ部,2……データ線,3……センスアンプ
部,4……インバータ,5……P型MOS,6……N型
MOS,7……インバータ出力,8……インバータ,9
……P型MOS,10……N型MOS,11……プリチ
ャージ出力,12……N型MOS,13……N型MO
S,14……インバータ,15……センスアンプ出力,
16センスアンプ制御信号,17a、17b、17c…
…ダミーメモリ部,18……ダミーセンスアンプ部,1
9a、19b、19c……ダミーデータ線,20……ダ
ミーワード線,21……ダミーメモリセル,22a、2
2b……マスタースライス部,23……P型MOS,2
4……N型MOS,25……N型MOS,26……パル
ス信号,27……ダミーメモリ部,28……ダミーデー
タ線,29……ダミーセンスアンプ部,30……ダミー
ワード線,31……ダミーメモリセル,32……ドレイ
ン領域,33……パルス信号,34……基板,35……
メモリ部,36……データ線,37……センスアンプ
部,38……インバータ,39……P型MOS,40…
…N型MOS,41……インバータ出力,42……N型
MOS,43……インバータ,44……P型MOS,4
5……N型MOS,46……プリチャージ出力,47…
…N型MOS,48……インバータ,49……センスア
ンプ出力,50……センスアンプ制御信号,51……ダ
ミーメモリ部,52……ダミーデータ線,53……ダミ
ーワード線,54……ダミーメモリセル,55……ダミ
ーセンスアンプ部,56……P型MOS,57……N型
MOS,58……P型MOS,59……パルス信号,
1 ... Memory part, 2 ... Data line, 3 ... Sense amplifier part, 4 ... Inverter, 5 ... P-type MOS, 6 ... N-type MOS, 7 ... Inverter output, 8 ... Inverter, 9
... P-type MOS, 10 ... N-type MOS, 11 ... Precharge output, 12 ... N-type MOS, 13 ... N-type MO
S, 14 ... Inverter, 15 ... Sense amplifier output,
16 sense amplifier control signals, 17a, 17b, 17c ...
… Dummy memory section, 18 …… Dummy sense amplifier section, 1
9a, 19b, 19c ... Dummy data line, 20 ... Dummy word line, 21 ... Dummy memory cell, 22a, 2
2b ... Master slice part, 23 ... P-type MOS, 2
4 ... N-type MOS, 25 ... N-type MOS, 26 ... Pulse signal, 27 ... Dummy memory section, 28 ... Dummy data line, 29 ... Dummy sense amplifier section, 30 ... Dummy word line, 31 ...... Dummy memory cell, 32 ...... Drain region, 33 ...... Pulse signal, 34 ...... Substrate, 35 ......
Memory part, 36 ... Data line, 37 ... Sense amplifier part, 38 ... Inverter, 39 ... P-type MOS, 40 ...
... N-type MOS, 41 ... Inverter output, 42 ... N-type MOS, 43 ... Inverter, 44 ... P-type MOS, 4
5 ... N-type MOS, 46 ... Precharge output, 47 ...
... N-type MOS, 48 ... Inverter, 49 ... Sense amplifier output, 50 ... Sense amplifier control signal, 51 ... Dummy memory section, 52 ... Dummy data line, 53 ... Dummy word line, 54 ... Dummy Memory cell, 55 ... Dummy sense amplifier section, 56 ... P-type MOS, 57 ... N-type MOS, 58 ... P-type MOS, 59 ... Pulse signal,

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のメモリセルから成り、“1”又は
“0”の情報を記憶するメモリ部と、センスアンプ制御
信号を選択状態にすることにより、前記メモリ部から
“1”又は“0”の情報を伝達するデータ線をプリチャ
ージし、“1”又は“0”の情報を読み出し動作するセ
ンスアンプ部と、該センスアンプ部の読み出し動作が終
了した後にパルスを発生することにより、前記センスア
ンプ制御信号を非選択状態に戻すパルス発生回路とを有
する半導体集積回路装置であって、前記センスアンプ部
は、前記データ線に直列に接続され、ゲート電圧の初期
値が電源電圧に設定されたN型MOSトランジスタと、
該N型MOSトランジスタに直列に接続され、前記セン
スアンプ制御信号によってON状態、OFF状態を制御
されるP型MOSトランジスタとからなるインバータを
有し、該インバータの出力がセンスアンプ出力につなげ
る回路方式となっており、前記パルス発生回路は、前記
メモリ部及び前記センスアンプ部と同じ回路構成からな
るダミーメモリ部及びダミーセンスアンプ部から構成さ
れ、ダミーデータ線容量を増減させることによって前記
パルスを発生させるタイミングを調整可能としたことを
特徴とする半導体集積回路装置。
1. A memory section comprising a plurality of memory cells, which stores information of "1" or "0", and a sense amplifier control signal is set to a selected state, whereby "1" or "0" is output from the memory section. By precharging the data line for transmitting the information of "" and generating a pulse after the read operation of the sense amplifier unit for reading out the information of "1" or "0" is completed, A semiconductor integrated circuit device having a pulse generation circuit for returning a sense amplifier control signal to a non-selected state, wherein the sense amplifier section is connected in series to the data line, and an initial value of a gate voltage is set to a power supply voltage. N-type MOS transistor,
A circuit system having an inverter connected to the N-type MOS transistor in series and comprising a P-type MOS transistor whose ON state and OFF state are controlled by the sense amplifier control signal, and connecting the output of the inverter to the sense amplifier output. The pulse generation circuit includes a dummy memory section and a dummy sense amplifier section having the same circuit configuration as the memory section and the sense amplifier section, and generates the pulse by increasing or decreasing the dummy data line capacitance. A semiconductor integrated circuit device characterized in that the timing of the operation is adjustable.
【請求項2】前記ダミーメモリ部は、1個のダミーセン
スアンプ部につき複数設けられ、それぞれのダミーデー
タ線を並列に接続するか絶縁するかを製造工程で変える
ことにより、ダミーデータ線容量を増減し、前記パルス
を発生させるタイミングを調整可能としたことを特徴と
する請求項1記載の半導体集積回路装置。
2. A plurality of the dummy memory units are provided for each dummy sense amplifier unit, and the dummy data line capacitance is changed by changing whether each dummy data line is connected in parallel or insulated in the manufacturing process. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the timing of generating the pulse can be adjusted by increasing or decreasing.
【請求項3】前記ダミーメモリ部は、前記ダミーセンス
アンプ部に接続された1本のデータ線に、MOSトラン
ジスタから成る複数のメモリセルのドレイン領域が接続
されており、それぞれのドレイン領域の不純物濃度を可
変させることによって、ダミーデータ線容量を増減し、
前記パルスを発生させるタイミングを調整可能としたこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
3. In the dummy memory section, the drain regions of a plurality of memory cells each composed of a MOS transistor are connected to one data line connected to the dummy sense amplifier section, and the impurity in each drain region is connected. By changing the density, increase or decrease the dummy data line capacitance,
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the timing of generating the pulse is adjustable.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7639559B2 (en) 2006-03-16 2009-12-29 Panasonic Corporation Semiconductor memory device
JP2010225257A (en) * 2009-03-25 2010-10-07 Fujitsu Semiconductor Ltd Semiconductor memory and system

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