JPH08325728A - Ion-beam sputtering device - Google Patents
Ion-beam sputtering deviceInfo
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- JPH08325728A JPH08325728A JP13399395A JP13399395A JPH08325728A JP H08325728 A JPH08325728 A JP H08325728A JP 13399395 A JP13399395 A JP 13399395A JP 13399395 A JP13399395 A JP 13399395A JP H08325728 A JPH08325728 A JP H08325728A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、イオンビームスパッ
タ装置に関し、特に、予備イオンガンを具備するイオン
ビームスパッタ装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion beam sputtering apparatus, and more particularly to an ion beam sputtering apparatus having a preliminary ion gun.
【０００２】[0002]
【従来の技術】イオンビームスパッタ装置の従来例を図
３および図４を参照して説明する。図３はイオンビーム
スパッタ装置を上から視たところを示す図であり、図４
はイオンビームスパッタ装置を横から視たところを示す
図である。図３および図４において、真空チャンバー１
には、その側壁にイオンガン２が気密に取り付けられて
いる。真空チャンバ１は真空ポンプ６により吸引されて
高真空の状態にある。イオンガン２は、本体２１と本体
の一方の端部に形成されたフランジ２２より成る。３は
イオンビームスパッタされるべき基板である。４はイオ
ンガン２から放射される電子ビームが撃ち当たるターゲ
ットであり、イオンビームを放射する。イオンガン２
は、レール５に連結した状態において、真空チャンバ１
に気密に取り付けられている。2. Description of the Related Art A conventional example of an ion beam sputtering apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a view showing a top view of the ion beam sputtering apparatus.
FIG. 3 is a diagram showing a side view of an ion beam sputtering apparatus. 3 and 4, the vacuum chamber 1
The ion gun 2 is hermetically attached to the side wall of the. The vacuum chamber 1 is sucked by the vacuum pump 6 and is in a high vacuum state. The ion gun 2 includes a main body 21 and a flange 22 formed at one end of the main body. 3 is a substrate to be ion beam sputtered. Reference numeral 4 is a target on which the electron beam emitted from the ion gun 2 strikes, and emits an ion beam. Ion gun 2
Is connected to the rail 5 in the vacuum chamber 1
It is attached airtightly to.
【０００３】図７は真空チャンバー１からイオンガン２
を取り外したところを示す斜視図である。イオンガン２
のフランジ２２内側面にはＯリング２４が取り付けられ
ている。２５はフランジ２２に穿設された開孔を示し、
取り付けボルト２６が挿通される。図６はイオンガン２
をレール５に連結する仕方を説明する斜視図である。５
１はレール５に形成された案内溝を示す。レール５の案
内溝５１には、イオンガン２のフランジ２２上部に形成
された連結部２３が嵌合している。イオンガン２を真空
チャンバー１に取り付けるには、レール５の案内溝５１
に連結部２３を嵌合した状態において、イオンガン２全
体をレール５により案内しながらイオンガン本体２１を
真空チャンバー１側壁の取り付け穴１１を介してチャン
バー内に進入させる。そして、イオンガン２のフランジ
２２内側面が真空チャンバー１側壁に衝合したところ
で、取り付けボルト２６を開孔２５を介してネジ孔１２
に螺合することにより、イオンガン２は真空チャンバー
１に気密に取り付けられるに到る。FIG. 7 shows a vacuum chamber 1 to an ion gun 2
It is a perspective view which shows the place which removed. Ion gun 2
An O-ring 24 is attached to the inner surface of the flange 22. Reference numeral 25 denotes an opening formed in the flange 22,
The mounting bolt 26 is inserted. Figure 6 shows the ion gun 2
It is a perspective view explaining the method of connecting a rail to the rail 5. 5
Reference numeral 1 denotes a guide groove formed in the rail 5. The connecting portion 23 formed on the upper portion of the flange 22 of the ion gun 2 is fitted in the guide groove 51 of the rail 5. To attach the ion gun 2 to the vacuum chamber 1, the guide groove 51 of the rail 5 is installed.
With the connecting portion 23 fitted in, the ion gun body 21 is guided into the chamber through the mounting holes 11 on the side wall of the vacuum chamber 1 while guiding the entire ion gun 2 by the rail 5. Then, when the inner surface of the flange 22 of the ion gun 2 collides with the side wall of the vacuum chamber 1, the mounting bolt 26 is screwed into the screw hole 12 through the opening 25.
The ion gun 2 is attached to the vacuum chamber 1 in an airtight manner by being screwed into.
【０００４】図５はイオンガン２の本体２１の内部を示
す図である。本体２１の内部にはフィラメントポスト２
１2 が４本植立しており、そしてこれらフィラメントポ
ストには分離支持体２１3 が取り付けられている。２１
1 はフィラメントであり、フィラメントポスト２１2 お
よび分離支持体２１3 に巻回取り付けられている。ここ
で、イオンビームスパッタ装置は、真空チャンバー１に
イオンガン２を具備してこれから放射される電子ビーム
をターゲット４に撃ち当ててターゲット物質を打ち出
し、このターゲット物質を基板３表面に成膜せしめる装
置である。FIG. 5 is a view showing the inside of the main body 21 of the ion gun 2. Inside the main body 21, the filament post 2
Four 1 2 are planted, and a separation support 21 3 is attached to these filament posts. 21
Reference numeral 1 denotes a filament, which is wound around and attached to the filament post 21 2 and the separation support 21 3 . Here, the ion beam sputtering apparatus is an apparatus that includes an ion gun 2 in a vacuum chamber 1, hits an electron beam emitted from the vacuum chamber 1 to a target 4 to eject a target material, and deposits the target material on the surface of the substrate 3. is there.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のイオン
ビームスパッタ装置は、現在使用中のイオンガン２を１
基のみ具備するものである。イオンガン２の電子ビーム
を放射するフィラメント２１1 は消耗性の部品であると
ころから、このフィラメントを保守交換するに際してイ
オンガン２を真空チャンバー１から取り外す必要があ
る。真空チャンバー１からイオンガン２を取り外すこと
により、真空チャンバー１は開放されてその内部は大気
に曝されることになる。真空チャンバー１の内部を大気
に曝された状態にしておくと、真空チャンバー１の内表
面には大気中の水分、塵埃、炭酸ガスその他の気体が吸
収吸着されるに到り、真空チャンバー１を真空ポンプ６
により吸引して、再度、高真空の状態に復帰させるに長
時間を要することとなる。イオンガン２の保守調整自体
にもかなりの長時間を要するところから、この時間と真
空チャンバー１を真空ポンプ６により吸引して高真空の
状態に復帰させるに要する時間の和により規定されるイ
オンビームスパッタ装置が稼動していない時間は長時間
に及ぶ。In the conventional ion beam sputtering apparatus described above, the ion gun 2 currently in use is
It has only a group. Since the filament 21 1 that emits the electron beam of the ion gun 2 is a consumable part, it is necessary to remove the ion gun 2 from the vacuum chamber 1 when performing maintenance and replacement of this filament. By removing the ion gun 2 from the vacuum chamber 1, the vacuum chamber 1 is opened and its interior is exposed to the atmosphere. When the inside of the vacuum chamber 1 is exposed to the atmosphere, moisture, dust, carbon dioxide gas and other gases in the atmosphere are absorbed and adsorbed on the inner surface of the vacuum chamber 1, and the vacuum chamber 1 is Vacuum pump 6
Therefore, it takes a long time to suck and then return to the high vacuum state again. Since the maintenance and adjustment itself of the ion gun 2 also takes a considerably long time, the ion beam sputtering defined by the sum of this time and the time required to return the vacuum chamber 1 to the high vacuum state by sucking the vacuum chamber 6 The equipment is not in operation for a long time.
【０００６】この発明は、上述の通りの問題を解消した
イオンビームスパッタ装置を提供するものである。The present invention provides an ion beam sputtering apparatus which solves the above problems.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】イオンビームスパッタ装
置を構成する真空チャンバー１内において現在使用状態
にあるイオンガン２の他に他の真空チャンバー７内に収
容される保守用の予備イオンガン８を具備するイオンビ
ームスパッタ装置を構成した。そして、イオンビームス
パッタ装置を構成する真空チャンバー１と他の真空チャ
ンバー７とはイオンガンを案内するレール５により結合
されているイオンビームスパッタ装置を構成した。In addition to an ion gun 2 which is currently in use in a vacuum chamber 1 which constitutes an ion beam sputtering apparatus, a spare ion gun 8 for maintenance which is housed in another vacuum chamber 7 is provided. An ion beam sputtering device was constructed. Then, the vacuum chamber 1 constituting the ion beam sputtering apparatus and the other vacuum chamber 7 are connected by the rail 5 for guiding the ion gun to constitute the ion beam sputtering apparatus.
【０００８】また、レール５は案内溝５１、５２が形成
され、イオンガンは連結部２３、８３を有してこれを案
内溝に嵌合摺動するものであるイオンビームスパッタ装
置を構成した。更に、イオンビームスパッタ装置を構成
する真空チャンバー１に固定されてこれから延伸するレ
ール５1 は他の真空チャンバー７に固定されてこれから
延伸するレール５2 の中間部に接続するものであるイオ
ンビームスパッタ装置を構成した。Further, the rail 5 has guide grooves 51 and 52 formed therein, and the ion gun has connecting portions 23 and 83, which constitute an ion beam sputtering apparatus which fits and slides in the guide grooves. Further, the rail 5 1 fixed to the vacuum chamber 1 constituting the ion beam sputtering apparatus and extending from this is connected to the intermediate portion of the rail 5 2 fixed to another vacuum chamber 7 and extending from this. Configured the device.
【０００９】[0009]
【実施例】この発明のイオンビームスパッタ装置の実施
例を図１および図２を参照して説明する。図１はイオン
ビームスパッタ装置を上から視たところを示す図であ
り、図２はイオンビームスパッタ装置を横から視たとこ
ろを示す図である。図１および図２においても、従来例
と同様に、真空チャンバー１には、その側壁にイオンガ
ン２が気密に取り付けられている。イオンガン２は、本
体２１と本体の一方の端部に形成されたフランジ２２よ
り成る。３はイオンビームスパッタされるべき基板であ
る。４はイオンガン２から放射される電子ビームが撃ち
当たるターゲットであり、イオンビームを放射する。イ
オンガン２は、レール５1 に連結した状態において、真
空チャンバ１に気密に取り付けられている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the ion beam sputtering apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a view showing the ion beam sputtering apparatus as viewed from above, and FIG. 2 is a view showing the ion beam sputtering apparatus as viewed from the side. Also in FIGS. 1 and 2, the ion gun 2 is hermetically attached to the side wall of the vacuum chamber 1 as in the conventional example. The ion gun 2 includes a main body 21 and a flange 22 formed at one end of the main body. 3 is a substrate to be ion beam sputtered. Reference numeral 4 is a target on which the electron beam emitted from the ion gun 2 strikes, and emits an ion beam. The ion gun 2 is hermetically attached to the vacuum chamber 1 while being connected to the rail 5 1 .
【００１０】この発明のイオンビームスパッタ装置の実
施例は、現在使用状態にあるイオンガン２の他に保守用
の予備イオンガン８を具備せしめるものである。保守用
の予備イオンガン８はイオンガン２と同一のものとす
る。保守用の予備イオンガン８は、真空ポンプ６により
高真空に吸引された真空チャンバ７に気密に取り付けら
れている。真空チャンバ７はその内部にスパッタ装置の
構成を具備してはいない単なる真空チャンバであり、予
備イオンガン８の内外表面に吸蔵吸着する物質を排気
し、これをイオンガン交換に際して直ちにイオンビーム
スパッタ装置に適用することができる態勢を保持するた
めのものである。The embodiment of the ion beam sputtering apparatus of the present invention is provided with a spare ion gun 8 for maintenance in addition to the ion gun 2 currently in use. The spare ion gun 8 for maintenance is the same as the ion gun 2. The spare ion gun 8 for maintenance is airtightly attached to the vacuum chamber 7 which is sucked into a high vacuum by the vacuum pump 6. The vacuum chamber 7 is a simple vacuum chamber that does not have the structure of a sputtering apparatus inside, and exhausts substances that are absorbed and adsorbed on the inner and outer surfaces of the preliminary ion gun 8 and immediately applies this to the ion beam sputtering apparatus when the ion gun is replaced. It is for keeping the posture that can be done.
【００１１】保守用の予備イオンガン８は、真空チャン
バー７の側壁に取り付けられているが、その取り付け方
はイオンガン２を真空チャンバー１の側壁に取り付ける
仕方と異なるところはない。即ち、イオンガン８は、そ
の本体８１と本体の一方の端部に形成されたフランジ８
２より成り、長尺のレール５2 に連結した状態におい
て、フランジ８２を介して真空チャンバ７に気密に取り
付けられる。The auxiliary ion gun 8 for maintenance is attached to the side wall of the vacuum chamber 7, but the attaching method is no different from the way of attaching the ion gun 2 to the side wall of the vacuum chamber 1. That is, the ion gun 8 includes a body 81 and a flange 8 formed at one end of the body.
Consists 2, in the connected state to the rail 5 2 long, attached in an airtight manner to the vacuum chamber 7 through the flange 82.
【００１２】先のレール５1 は長尺のレール５2 にその
中間部において接続し、レール５2の案内溝５２とレー
ル５1 の案内溝５１は連続しており、保守用の予備イオ
ンガン８を真空チャンバー７から真空チャンバー１に案
内する。長尺のレール５2 の中間部から下方の部分は保
守調整されるべきイオンガン２を退避させて保守調整す
る領域とされる。[0012] destination rails 5 1 is connected at its intermediate portion to the rail 5 2 long, the guide grooves 52 and the rail 5 1 of the guide groove 51 of the rail 5 2 is continuous, pre-ion gun for maintenance 8 Is guided from the vacuum chamber 7 to the vacuum chamber 1. Portion below the rail 5 second intermediate portion of the elongated is an area to maintain adjusted by retracting the ion gun 2 to be maintained adjusted.
【００１３】ここで、現在使用中のイオンガン２のフィ
ラメント２１1 が消耗してこれを保守交換する必要が生
ずると、取り付けボルト２６を緩めてイオンガン２を真
空チャンバー１から取り外す。そして、レール５1 の案
内溝５１に連結部２３を嵌合した状態においてイオンガ
ン２全体をレール５1 により左方に案内する。イオンガ
ン２がレール５1 の左端に到達したところで、今度はイ
オンガン２をレール５ 2 により下方に案内してここに退
避させ、保守調整する。Here, the ion gun 2 currently in use is
Lament 211 Is consumed and it is necessary to replace it for maintenance.
If it slips, loosen the mounting bolt 26 and make the ion gun 2 true.
Remove from empty chamber 1. And rail 51 Plan
When the connecting portion 23 is fitted in the inner groove 51,
Rail 2 for whole 21 Will guide you to the left. AEON moth
Rail 2 is rail 21 When you reach the left end of the
Ongun 2 and rail 5 2 To guide you down and leave here
Avoid and maintain and adjust.
【００１４】次に、同様に取り付けボルトを緩めて保守
用の予備イオンガン８を真空チャンバー７から取り外
す。そして、レール５2 の案内溝５２に連結部８３を嵌
合した状態において予備イオンガン８全体をレール５2
により下方に案内する。次いで、レール５1 により右方
に案内する。保守用の予備イオンガン８のフランジ８２
内側面が真空チャンバー１側壁に衝合したところで、予
備イオンガン８を真空チャンバー１に気密に取り付け
る。Then, similarly, the mounting bolts are loosened and the spare ion gun 8 for maintenance is removed from the vacuum chamber 7. The rails 5 2 the entire preliminary ion gun 8 in a state where the connecting portion 83 fitted in the guide groove 52 of the rail 5 2
Will guide you downward. Then, guide to the right by the rail 5 1 . Flange 82 of spare ion gun 8 for maintenance
When the inner surface hits the side wall of the vacuum chamber 1, the preliminary ion gun 8 is attached to the vacuum chamber 1 in an airtight manner.
【００１５】真空チャンバー１に対する予備イオンガン
８の気密取り付けが完了した状態において、真空チャン
バー１を真空ポンプ６により吸引して、再度、高真空の
状態に復帰させ、ここにおいてイオンビームスパッタ装
置は稼動状態とされる。最後に、退避させられているイ
オンガン２に対してフィラメント２１1 の交換その他の
保守調整を実施し、保守調整完了後のイオンガン２をレ
ール５2 により真空チャンバ７に案内してこれに気密に
取り付け、真空チャンバー７を真空ポンプ９により吸引
して、再度、高真空の状態に復帰させ、イオンガン２の
内外表面に吸蔵吸着する物質を排気する。このイオンガ
ン２が、今度は、イオンガン交換に際して直ちにイオン
ビームスパッタ装置に適用することができる態勢を保持
する保守用の予備イオンガンとされる。With the auxiliary ion gun 8 attached to the vacuum chamber 1 in a hermetically sealed state, the vacuum chamber 1 is sucked by the vacuum pump 6 and returned to the high vacuum state again, where the ion beam sputtering apparatus is in operation. It is said that Finally, replacement of the filament 21 1 and other maintenance adjustments are performed on the evacuated ion gun 2, and the ion gun 2 after completion of the maintenance adjustment is guided to the vacuum chamber 7 by the rail 5 2 and airtightly attached thereto. The vacuum chamber 7 is evacuated by the vacuum pump 9 to return to the high vacuum state again, and the substance occluded and adsorbed on the inner and outer surfaces of the ion gun 2 is exhausted. This ion gun 2 is now used as a spare ion gun for maintenance, which is ready to be applied to the ion beam sputtering apparatus immediately when the ion gun is replaced.
【００１６】[0016]
【発明の効果】以上の通りであって、イオンビームスパ
ッタ装置において、現在使用状態にあるイオンガンの他
に保守用の予備イオンガンを具備せしめることにより、
使用中のイオンガンを保守調整するに際してこれを真空
チャンバーから取り外した時に即時に予備イオンガンと
交換してこれを真空チャンバーに取り付けることができ
る。As described above, the ion beam sputtering apparatus is provided with the spare ion gun for maintenance in addition to the ion gun currently in use.
When maintaining and adjusting the ion gun in use, when it is removed from the vacuum chamber, it can be immediately replaced with a spare ion gun and attached to the vacuum chamber.
【００１７】予備イオンガンは既に保守調整済みとさ
れ、更に真空チャンバーにおいて吸蔵吸着されている物
質を排気しているので、イオンガンを保守調整する時間
は不要である。そして、使用中のイオンガンを真空チャ
ンバーから取り外した時に予備イオンガンを即時に真空
チャンバーに取り付けるので、真空チャンバーの内部が
大気に曝された状態とされている時間を大きく短縮する
ことができる。真空チャンバーを大気に曝す時間を短縮
することは、イオンガンの保守交換が終了して真空チャ
ンバーを吸引して再び高真空に復帰する時間を短縮する
ことにつながる。Since the preliminary ion gun has already been maintained and adjusted, and the substance that has been occluded and adsorbed in the vacuum chamber is exhausted, no time is required to maintain and adjust the ion gun. Then, since the preliminary ion gun is immediately attached to the vacuum chamber when the ion gun in use is removed from the vacuum chamber, the time during which the inside of the vacuum chamber is exposed to the atmosphere can be greatly shortened. Reducing the time for exposing the vacuum chamber to the atmosphere leads to shortening the time for completing the maintenance and replacement of the ion gun and sucking the vacuum chamber to return it to a high vacuum again.
【００１８】イオンガンの保守調整に要する時間は不要
であること、および真空チャンバーを真空ポンプ６によ
り吸引して高真空の状態に復帰させるに要する時間が大
きく短縮されることにより、これらの時間の和であるイ
オンビームスパッタ装置が稼動していない時間は大幅に
短縮され、結局、イオンビームスパッタ装置の稼動時間
は大きく増大することとなる。The time required for maintenance and adjustment of the ion gun is not necessary, and the time required to return the vacuum chamber to the high vacuum state by sucking it with the vacuum pump 6 is greatly shortened. That is, the time during which the ion beam sputtering apparatus is not in operation is significantly shortened, and eventually the operation time of the ion beam sputtering apparatus is greatly increased.
【００１９】そして、レール５1 は長尺のレール５2 に
その中間部において接続し、保守用の予備イオンガン８
を真空チャンバー７から真空チャンバー１に案内すると
共に長尺のレール５2 の中間部から下方の部分は保守調
整されるべきイオンガン２を退避させて保守調整する領
域とすることにより、イオンガンの保守調整交換の操作
を円滑に実施することができる。The rail 5 1 is connected to the long rail 5 2 at an intermediate portion thereof, and a spare ion gun 8 for maintenance is used.
With region portion below the rail 5 2 in the middle of the long is that retracts the ion gun 2 to be maintained adjusted to maintain adjusted with guides from the vacuum chamber 7 in the vacuum chamber 1, maintenance adjustment of the ion gun The replacement operation can be carried out smoothly.
【図１】実施例を上から視たところを示す図。FIG. 1 is a diagram showing a top view of an embodiment.
【図２】実施例を横から視たところを示す図。FIG. 2 is a diagram showing a side view of the embodiment.
【図３】従来例を上から視たところを示す図。FIG. 3 is a diagram showing a conventional example viewed from above.
【図４】従来例を横から視たところを示す図。FIG. 4 is a view showing a conventional example viewed from the side.
【図５】イオンガン本体の内部を示す図。FIG. 5 is a view showing the inside of the ion gun body.
【図６】イオンガンをレールに連結する仕方を説明する
斜視図。FIG. 6 is a perspective view illustrating a method of connecting the ion gun to a rail.
【図７】真空チャンバーからイオンガンを取り外したと
ころを示す斜視図。FIG. 7 is a perspective view showing a state where the ion gun is removed from the vacuum chamber.
１ 真空チャンバー ２ イオンガン ５ レール ５1 レール ５2 レール ７ 真空チャンバー ８ 保守用の予備イオンガン ２３ 連結部 ５１ 案内溝 ５２ 案内溝 ８３ 連結部1 Vacuum Chamber 2 Ion Gun 5 Rail 5 1 Rail 5 2 Rail 7 Vacuum Chamber 8 Spare Ion Gun for Maintenance 23 Connection Part 51 Guide Groove 52 Guide Groove 83 Connection Part
Claims (4)
空チャンバー内において現在使用状態にあるイオンガン
の他に他の真空チャンバー内に収容される保守用の予備
イオンガンを具備することを特徴とするイオンビームス
パッタ装置。1. An ion beam sputtering apparatus, comprising an ion gun currently in use in a vacuum chamber constituting an ion beam sputtering apparatus, and a spare ion gun for maintenance accommodated in another vacuum chamber. apparatus.
ッタ装置において、イオンビームスパッタ装置を構成す
る真空チャンバーと他の真空チャンバーとはイオンガン
を案内するレールにより結合されていることを特徴とす
るイオンビームスパッタ装置。2. The ion beam sputtering apparatus according to claim 1, wherein a vacuum chamber constituting the ion beam sputtering apparatus and another vacuum chamber are connected by a rail for guiding an ion gun. Beam sputtering equipment.
ッタ装置において、レールは案内溝が形成され、イオン
ガンは連結部を有してこれを案内溝に嵌合摺動するもの
であることを特徴とするイオンビームスパッタ装置。3. The ion beam sputtering apparatus according to claim 2, wherein the rail is formed with a guide groove, and the ion gun has a connecting portion and is fitted and slid in the guide groove. Ion beam sputtering equipment.
記載されるイオンビームスパッタ装置において、イオン
ビームスパッタ装置を構成する真空チャンバーに固定さ
れてこれから延伸するレールは他の真空チャンバーに固
定されてこれから延伸するレールの中間部に接続するも
のであることを特徴とするイオンビームスパッタ装置。4. The ion beam sputtering apparatus according to any one of claims 2 and 3, wherein a rail fixed to a vacuum chamber constituting the ion beam sputtering apparatus and extending therefrom is provided in another vacuum chamber. An ion beam sputtering apparatus, which is fixed and connected to an intermediate portion of a rail extending from this.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13399395A JPH08325728A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Ion-beam sputtering device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13399395A JPH08325728A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Ion-beam sputtering device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08325728A true JPH08325728A (en) | 1996-12-10 |
Family
ID=15117886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13399395A Pending JPH08325728A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Ion-beam sputtering device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08325728A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021048194A (en) * | 2019-09-17 | 2021-03-25 | キオクシア株式会社 | Etching device and etching method |
-
1995
- 1995-05-31 JP JP13399395A patent/JPH08325728A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021048194A (en) * | 2019-09-17 | 2021-03-25 | キオクシア株式会社 | Etching device and etching method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050425 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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