JPH083176A - Polysiloxane oligomer and its production - Google Patents

Polysiloxane oligomer and its production

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JPH083176A
JPH083176A JP9529495A JP9529495A JPH083176A JP H083176 A JPH083176 A JP H083176A JP 9529495 A JP9529495 A JP 9529495A JP 9529495 A JP9529495 A JP 9529495A JP H083176 A JPH083176 A JP H083176A
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JP
Japan
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polysiloxane oligomer
tetraalkoxysilane
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less
alcohol
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Withdrawn
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JP9529495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichiro Tanaka
誠一朗 田中
Takeshi Sawai
毅 沢井
Koichi Adachi
浩一 足立
Nobuyuki Matsuzoe
信行 松添
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To produce a polysiloxane oligomer reduced in impurities, having a long pot life and useful for a film-forming composition. CONSTITUTION:This polysiloxane oligomer is produced by reacting metal silicon with an alcohol to synthesize a tetraalkoxysilane and conducting a hydrolytic dehydration polycondensation of the resultant tetraalkoxysilane. In this polysiloxane oligomer, the content of chlorine is <=10ppm and the content of transition metal is <=100ppm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ポリシロキサンオリゴ
マー及びその製造法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a polysiloxane oligomer and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来テトラアルコキシシランを加水分解
脱水重縮合してポリシロキサンオリゴマーを得る際、ま
ずフェロシリコン、ケイ砂等と塩素ガスを反応させ塩化
珪素を得、引き続きアルコールと反応させて得られたテ
トラアルコキシシランモノマーを加水分解脱水縮合する
ことにより得ていた。こうして得られるポリシロキサン
オリゴマー(式1)は、水と反応させると
2. Description of the Related Art Conventionally, when a tetrasiloxane silane is hydrolyzed, dehydrated and polycondensed to obtain a polysiloxane oligomer, it is obtained by first reacting ferrosilicon, silica sand or the like with chlorine gas to obtain silicon chloride, and then by reacting with alcohol. It was obtained by hydrolyzing, dehydrating and condensing the tetraalkoxysilane monomer. The polysiloxane oligomer (formula 1) thus obtained is reacted with water.

【0003】[0003]

【化1】 Embedded image

【0004】シリカ(SiO2 )を生じるため、プラス
チック材料、セラミック材料などのハードコート剤、半
導体の電気絶縁皮膜材として利用されている。これらハ
ードコート剤等は、ポリシロキサンオリゴマーをアルコ
ールの様な水溶性の有機溶剤で希釈し、必要量の水およ
び硬化剤(主として、鉱酸、有機酸等の酸類)を加えて
調合されている。
Since silica (SiO 2 ) is produced, it is used as a hard coating agent for plastic materials, ceramic materials, etc., and as an electric insulating film material for semiconductors. These hard coating agents and the like are prepared by diluting a polysiloxane oligomer with a water-soluble organic solvent such as alcohol, and adding a necessary amount of water and a curing agent (mainly acids such as mineral acid and organic acid). .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ハードコート剤はポットライフが短いという難点を有
し、通常数時間、長くても1日間程度でゲル化(固型
化)するという問題があった。このため、ポリシロキサ
ンオリゴマーと水を、使用の都度混合調製するハードコ
ート剤の2液化や、調合液を冷却してポットライフを伸
すなどの方法が採られているが、いずれも使用上極めて
不便であった。また不純物として塩素、及び遷移金属等
が半導体の電気絶縁皮膜に残存すると誤操作の原因とな
っていた。
However, the conventional hard coating agent has a short pot life, and usually has a problem of gelation (solidification) in several hours, and in a maximum of about one day. It was For this reason, methods such as liquefying a hard coating agent in which a polysiloxane oligomer and water are mixed and prepared each time they are used and extending the pot life by cooling the prepared solution are used. It was inconvenient. Further, if chlorine, a transition metal, or the like remains as impurities in the electric insulating film of the semiconductor, it causes a malfunction.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、これら問
題点に鑑み、ハードコート剤、電気絶縁皮膜剤のポット
ライフ、及び塩素等の不純物の低減について検討した結
果、金属珪素とアルコールの直接反応により得られたテ
トラアルコキシシランを用いることにより、不純物量を
著しく低減でき、またポリシロキサンオリゴマー中に残
存するモノマー即ちテトラアルコキシシランの含有量を
減らすことで該ポットライフが著しく伸びる事を見出し
本発明に達した。
In view of these problems, the present inventors have studied the pot life of hard coating agents, electric insulation coating agents, and the reduction of impurities such as chlorine. It was found that the amount of impurities can be significantly reduced by using the tetraalkoxysilane obtained by the direct reaction, and that the pot life can be significantly extended by reducing the content of the monomer remaining in the polysiloxane oligomer, that is, tetraalkoxysilane. The present invention has been reached.

【0007】すなわち、本発明の要旨は、テトラアルコ
キシシランモノマーの含有量が1重量%以下、塩素量が
10ppm以下で且つ、遷移金属量が100ppm以下
であるポリシロキサンオリゴマー並びに金属珪素とアル
コールを反応させて得られたテトラアルコキシシランを
加水分解脱水重縮合して、塩素量が10ppm以下、遷
移金属量が100ppm以下であるポリシロキサンオリ
ゴマーを得ることを特徴とするポリシロキサンオリゴマ
ーの製造法にある。
That is, the gist of the present invention is to react a polysiloxane oligomer having a tetraalkoxysilane monomer content of 1% by weight or less, a chlorine content of 10 ppm or less and a transition metal content of 100 ppm or less, and a metal silicon with an alcohol. The tetraalkoxysilane thus obtained is hydrolyzed, dehydrated and polycondensed to obtain a polysiloxane oligomer having a chlorine content of 10 ppm or less and a transition metal content of 100 ppm or less.

【0008】以下本発明を詳細に説明する。本発明で用
いるテトラアルコキシシランは、下式(II)で表される
化合物であり、本発明においては金属珪素とアルコール
とを反応させることにより得られる。反応は、通常塩化
銅等の触媒下で200℃以上、2時間以上直接反応さ
せ、引き続きアルコールを更に添加し、40℃以上、1
時間以上反応させる。ついで蒸留でアルコールを分離
し、塩素、遷移金属等の不純物除去が行われ、高純度の
テトラアルコキシシランモノマーが得られる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The tetraalkoxysilane used in the present invention is a compound represented by the following formula (II), and in the present invention, it is obtained by reacting metallic silicon with alcohol. The reaction is usually carried out by directly reacting at 200 ° C. or higher for 2 hours or more with a catalyst such as copper chloride, and then further adding alcohol to 40 ° C. or higher, 1
React for more than time. Then, the alcohol is separated by distillation to remove impurities such as chlorine and transition metal, and a high-purity tetraalkoxysilane monomer is obtained.

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】(ここで、Rはメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル等のC1〜6のアルキル基である) このようなテトラアルコキシシランモノマーの製造例と
して次のような方法があげられる。まず金属珪素を粉砕
し反応面積を増やす。粉砕された粒径は10〜300μ
mが好ましい。ついで触媒として塩化物等を金属珪素量
に対し1〜10重量%、好ましくは3〜6重量%添加す
る。触媒としては塩化銅が特に好ましい。次いでドテシ
ルベンゼン等の溶媒を添加する。添加量は、金属珪素量
に対し、100〜500重量部、好ましくは100〜3
00重量部添加し、通常100℃以上、好ましくは15
0〜250℃とする。更に、アルコールを金属珪素に対
し、100〜500重量部、好ましくは200〜300
重量部添加し、1時間以上、好ましくは6時間以上反応
させる。
(Here, R is a C1-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.) Examples of the production of such a tetraalkoxysilane monomer include the following methods. First, metallic silicon is pulverized to increase the reaction area. The crushed particle size is 10-300μ
m is preferred. Then, as a catalyst, chloride or the like is added to the amount of metallic silicon in an amount of 1 to 10% by weight, preferably 3 to 6% by weight. Copper chloride is particularly preferred as the catalyst. Then, a solvent such as dodecylbenzene is added. The amount of addition is 100 to 500 parts by weight, preferably 100 to 3 with respect to the amount of metallic silicon.
It is added at 100 parts by weight, and is usually 100 ° C or higher, preferably 15
The temperature is 0 to 250 ° C. Further, alcohol is 100 to 500 parts by weight, preferably 200 to 300 parts by weight with respect to metallic silicon.
Add parts by weight and react for 1 hour or longer, preferably 6 hours or longer.

【0011】アルコールとしてはメタノール、エタノー
ル、ブタノール、イソプロパノール等或いはこれらの混
合物等を用いることができる。このようにして得られた
トリアルコキシシランを含む反応混合物にアルカリ土類
金属酸化物、例えば酸化カルシウム等を金属珪素に対
し、0.1〜5%添加、好ましくは1〜2%添加すると
反応の進行に望ましい。この反応混合物にアルコールを
更に添加することができる。添加量は反応混合物に対し
50〜500重量部、好ましくは50〜100重量部で
ある。再び1時間以上、好ましくは3時間以上反応させ
ることが好ましい。次いで蒸留を行い、脱アルコール、
不純物除去を行う。このようにして純度が99%以上の
テトラアルコキシシランモノマーを得ることができる。
As the alcohol, methanol, ethanol, butanol, isopropanol or the like or a mixture thereof can be used. When an alkaline earth metal oxide such as calcium oxide is added to the reaction mixture containing the trialkoxysilane thus obtained in an amount of 0.1 to 5%, preferably 1 to 2%, based on the amount of metal silicon, the reaction is completed. Desirable for progress. Further alcohol can be added to the reaction mixture. The amount added is 50 to 500 parts by weight, preferably 50 to 100 parts by weight, based on the reaction mixture. It is preferable to carry out the reaction again for 1 hour or more, preferably 3 hours or more. Then, distillation is carried out, dealcoholation is performed,
Remove impurities. In this way, a tetraalkoxysilane monomer having a purity of 99% or more can be obtained.

【0012】また、テトラアルコキシシランの加水分解
脱水重縮合により得られるポリシロキサンオリゴマー
は、式(I)で示される化合物である。
The polysiloxane oligomer obtained by hydrolytic dehydration polycondensation of tetraalkoxysilane is a compound represented by the formula (I).

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】(ここでR1 :C1〜6のアルキル基、
n:2〜10) ポリシロキサンオリゴマーは、重合度nの異なるオリゴ
マーの混合物である。本発明のポリシロキサンオリゴマ
ーは、該オリゴマー中に未反応のまま残存するテトラア
ルコキシシランを1重量%以下、塩素量は10ppm以
下、遷移金属量は各々100ppm以下とすることが特
徴である。また、これら塩素量、遷移金属量は金属珪素
及びアルコールを原料として使用することにより著しく
抑えられるが、これらの原料として高純度のものを用い
ることにより更に抑えることができる。半導体絶縁材に
使用する場合、塩素量は1ppm以下、遷移金属量を1
0ppm以下とするのが望ましい。
(Where R 1 is an alkyl group of C1-6,
n: 2 to 10) The polysiloxane oligomer is a mixture of oligomers having different degrees of polymerization n. The polysiloxane oligomer of the present invention is characterized in that the tetraalkoxysilane remaining unreacted in the oligomer is 1% by weight or less, the chlorine content is 10 ppm or less, and the transition metal content is 100 ppm or less. The chlorine content and the transition metal content can be remarkably suppressed by using metallic silicon and alcohol as raw materials, but can be further suppressed by using high-purity materials as these raw materials. When used as a semiconductor insulation material, the chlorine content is 1 ppm or less and the transition metal content is 1
It is desirable to set it to 0 ppm or less.

【0015】ポリシロキサンオリゴマーの製造は、前記
のテトラアルコキシシランモノマー中に必要量の水と触
媒を加え、反応によって生じるアルコール(加えた水の
2倍モル生じる)を除去することによって行なわれる。
ここで必要な水の量は、希望する加水分解率から決定さ
れる。加水分解率とは(III),(IV)式に従って計算され
る値である。
The polysiloxane oligomer is produced by adding the required amount of water and a catalyst to the tetraalkoxysilane monomer, and removing the alcohol (two moles of the added water) generated by the reaction.
The amount of water required here is determined from the desired hydrolysis rate. The hydrolysis rate is a value calculated according to the formulas (III) and (IV).

【0016】[0016]

【化4】 [Chemical 4]

【0017】即ち、テトラアルコキシシランの全てのア
ルコキシ基が分解したものは、加水分解率100%、2
つのアルコキシ基が分解したものは加水分解率50%と
して表す。加水分解は100%まで可能であるが、10
0%加水分解品は完全なSiO2 の固体であり、加水分
解率が70%をこえるものはゼラチン状のゲルもしくは
固体であり、また加水分解率が65〜70%までのもの
は粘度が高く、さらに空気中の僅かな水分と反応しゲル
化してしまい貯蔵安定性が悪く取扱いが非常に困難であ
る。したがって、加水分解率は0〜65%までが適当で
あり、好ましくは、10〜65%、さらに好ましくは3
0〜60%である。
That is, when all the alkoxy groups of tetraalkoxysilane are decomposed, the hydrolysis rate is 100%, 2
Decomposition of two alkoxy groups is expressed as a hydrolysis rate of 50%. Hydrolysis is possible up to 100%, but 10
A 0% hydrolyzed product is a completely solid SiO 2 , a gel with a hydrolysis rate of more than 70% is a gelatinous gel or a solid, and a hydrolyzate with a hydrolysis rate of 65 to 70% has a high viscosity. Furthermore, it reacts with a small amount of water in the air to form a gel, which has poor storage stability and is very difficult to handle. Therefore, the hydrolysis rate is suitably 0 to 65%, preferably 10 to 65%, more preferably 3
It is 0 to 60%.

【0018】テトラアルコキシシランと水を反応させる
際には溶媒を使用するとよい。溶媒としては、アルコー
ル、エーテル、ケトン等の水溶性の有機溶媒を用いる
が、加水分解により生じるアルコールと同じアルコール
を溶媒として用いるのが最も好ましい。溶媒の使用量と
しては、テトラアルコキシシランに対して0.1〜10
重量倍、好ましくは、0.1〜0.5重量倍である。加
水分解脱水重縮合には、反応を円滑に進めるために触媒
を用いることもできるが、これは必ずしも必須ではな
い。
A solvent may be used when reacting the tetraalkoxysilane with water. As the solvent, a water-soluble organic solvent such as alcohol, ether or ketone is used, but it is most preferable to use the same alcohol as the alcohol generated by hydrolysis as the solvent. The amount of solvent used is 0.1 to 10 relative to tetraalkoxysilane.
It is a weight times, preferably 0.1 to 0.5 times by weight. In the hydrolysis dehydration polycondensation, a catalyst may be used to promote the reaction smoothly, but this is not always essential.

【0019】触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等の無機酸、カルボン酸、スルホン酸等の有機酸、また
アンモニア、苛性ソーダ、アミン等の塩基性物性などが
用いられるが反応終了後、蒸留操作によりポリシロキサ
ンオリゴマーから除去できるという利点から塩酸が好適
である。
As the catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as carboxylic acid and sulfonic acid, and basic physical properties such as ammonia, caustic soda and amine are used. Hydrochloric acid is preferred because it can be removed from the polysiloxane oligomer by distillation.

【0020】塩酸の使用量は、HClとして、テトラア
ルコキシシランの1×10-6〜1×10-1モル倍量、
好ましくは1×10-5〜1×10-2モル倍量である。
テトラアルコキシシランとしてテトラメトキシシランを
用いた場合は、テトラメトキシシランの1×10-6
1×10-2モル倍量、好ましくは1×10-5〜1×1
-3モル倍量である。
The amount of hydrochloric acid used is 1 × 10 −6 to 1 × 10 −1 mole times that of tetraalkoxysilane, which is HCl.
It is preferably 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2 molar amount.
When tetramethoxysilane is used as the tetraalkoxysilane, 1 × 10 −6 of tetramethoxysilane is used.
1 × 10 −2 molar amount, preferably 1 × 10 −5 to 1 × 1
0 -3 mol times the amount.

【0021】次に、低モノマー含有率のポリシロキサン
オリゴマーの製造方法を説明する。撹拌機付の反応器に
テトラアルコキシシランモノマーと溶媒のアルコール
(モノマーのアルコキシと同じアルコール)を加え、十
分撹拌しながら、所定量の水と触媒の混合物を加える。
その後、その溶液を加熱して昇温し、還流状態で加水分
解脱水重縮合反応を進行させる。還流温度は溶媒の沸点
を近い温度となる。還流状態での反応時間は、触媒の種
類にもよるが通常0.5〜10時間、好ましくは、1〜
5時間である。
Next, a method for producing a polysiloxane oligomer having a low monomer content will be described. A tetraalkoxysilane monomer and a solvent alcohol (the same alcohol as the monomer alkoxy) are added to a reactor equipped with a stirrer, and a predetermined amount of a mixture of water and a catalyst is added with sufficient stirring.
Then, the solution is heated to raise the temperature, and the hydrolysis dehydration polycondensation reaction is allowed to proceed in the reflux state. The reflux temperature is a temperature close to the boiling point of the solvent. The reaction time in the reflux state depends on the type of catalyst, but is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to
5 hours.

【0022】次に、この加水分解脱水重縮合時よりも高
温として、反応で生じたアルコールを反応器外へ留出さ
せる。この方法としては、各種の蒸留、蒸発操作が適用
できる。すなわち、常圧又は減圧下で溶媒と反応で生じ
たアルコールの沸点以上に溶液を加熱して留出させる方
法、又は沸点未満であっても窒素、炭酸ガス、アルゴ
ン、ヘリウム等の不活性ガスを導入して留出させる方法
などがある。工業的には、常圧で80〜200℃、好ま
しくは120〜180℃まで溶液で加熱、留去させる方
法が適している。テトラアルコキシシランとしてテトラ
メトキシシランを用い、ポリメトキシポリシロキサンと
する場合は、この際の温度は80〜130℃、好ましく
は100〜120℃である。また、この留去の時間は、
特に制限はないが通常1〜5時間である。工業的実施を
行う場合は、この範囲の温度まで昇温し、その後、その
ままの温度で0.5〜10時間、好ましくは、1〜5時
間保ち、反応を完結させることとすれば、反応系の温度
を均一にすることができるので、生成物の組成を均一と
することができ、好適である。この際、モノマーの残存
量は加水分解率10〜50%の時5〜10%濃度とな
る。
Next, the alcohol produced by the reaction is distilled out of the reactor at a temperature higher than that during the hydrolysis dehydration polycondensation. As this method, various distillation and evaporation operations can be applied. That is, a method of heating and distilling the solution above the boiling point of the alcohol generated by the reaction with the solvent under normal pressure or reduced pressure, or nitrogen, carbon dioxide gas, argon, helium and the like inert gas even if it is less than the boiling point. There is a method of introducing and distilling. Industrially, a method in which the solution is heated to normal temperature at 80 to 200 ° C., preferably 120 to 180 ° C. and distilled off is suitable. When tetramethoxysilane is used as the tetraalkoxysilane and polymethoxypolysiloxane is used, the temperature at this time is 80 to 130 ° C, preferably 100 to 120 ° C. In addition, the time for this removal is
Although not particularly limited, it is usually 1 to 5 hours. In the case of industrial implementation, the temperature is raised to this range, and then the temperature is kept as it is for 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 5 hours to complete the reaction. Since the temperature can be made uniform, the composition of the product can be made uniform, which is preferable. At this time, the residual amount of the monomer is 5 to 10% when the hydrolysis rate is 10 to 50%.

【0023】次に、このモノマーを留去する事により、
ポリシロキサンオリゴマー中のモノマー濃度を下げる。
方法としては、該反応溶液中でモノマーが最も低沸点物
であるため、溶媒留去と同じく、各種の蒸留、蒸発操作
が適用できる。すなわち、常圧又は減圧下でモノマー沸
点以上に溶液を加熱して留出させる方法、又は沸点未満
の加熱であっても窒素、炭酸ガス、アルゴン、ヘリウム
等の不活性ガスを導入して留去させる方法などがある。
しかし、工業的にはモノマーを1重量%以下の濃度とす
るには、モノマー沸点以上の濃度でかつ不活性ガスをS
V1〜100(1/Hr)で吹き込む方法が最も適して
いる。この際の温度は200℃以上とすると、ポリシロ
キサンオリゴマーが解重合反応を起こし、モノマーが生
成するため、100〜250℃好ましくは、120〜2
00℃である。テトラアルコキシシランとしてテトラメ
トキシシランを用い、ポリシロキサンオリゴマーとして
ポリメトキシポリシロキサンオリゴマーとする場合は、
この際の温度は130〜200℃、好ましくは140〜
170℃である。
Next, by distilling off this monomer,
Lower the monomer concentration in the polysiloxane oligomer.
As the method, since the monomer has the lowest boiling point in the reaction solution, various distillation and evaporation operations can be applied as in the solvent distillation. That is, a method of heating and distilling the solution above the boiling point of the monomer under atmospheric pressure or reduced pressure, or nitrogen, carbon dioxide gas, argon, even if heated below the boiling point, an inert gas such as helium is introduced and distilled off. There is a way to do it.
However, industrially, in order to reduce the concentration of the monomer to 1% by weight or less, the concentration of the monomer is not less than the boiling point of the monomer and the inert gas is S
The method of blowing at V1 to 100 (1 / Hr) is most suitable. If the temperature at this time is 200 ° C. or higher, the polysiloxane oligomer undergoes a depolymerization reaction to produce a monomer, so 100 to 250 ° C., preferably 120 to 2 ° C.
It is 00 ° C. When tetramethoxysilane is used as the tetraalkoxysilane and polymethoxypolysiloxane oligomer is used as the polysiloxane oligomer,
The temperature at this time is 130 to 200 ° C., preferably 140 to
It is 170 ° C.

【0024】この様にしてテトラアルコキシシランの含
有量が1重量%以下のポリシロキサンオリゴマーを得
る。尚、前記製造方法はその代表的な手法を示したもの
であり、他の手法で低モノマーのポリシロキサンオリゴ
マーを得ても良い事は言うまでもない。又、本発明にお
けるポリシロキサンオリゴマーのテトラアルコキシシラ
ンのテトラアルコキシシラン含有量は、好ましくは0.
001〜0.2重量%以下である。上記値が0.2重量
%以下において、本発明の効果は以下実施例にも示した
ように良好であり、又、0.001以下にした場合は、
その効果の向上を見ないばかりか工業的には煩雑で不都
合が生じる。
In this manner, a polysiloxane oligomer having a tetraalkoxysilane content of 1% by weight or less is obtained. Incidentally, the above-mentioned production method shows a typical method, and it goes without saying that the low-monomer polysiloxane oligomer may be obtained by another method. The tetraalkoxysilane content of the tetraalkoxysilane of the polysiloxane oligomer in the present invention is preferably 0.
It is 001-0.2 weight% or less. When the above value is 0.2% by weight or less, the effect of the present invention is good as shown in the following examples, and when it is 0.001 or less,
Not only is the effect not improved, but it is industrially complicated and inconvenient.

【0025】以上の様な方法でモノマーを除去した後の
溶液は、塩素、遷移金属等の不純物が少なく、そのまま
ポリシロキサンオリゴマーとして、ハードコート剤、半
導体等の電気絶縁皮膜材等の原料に用いる事ができる。
The solution obtained by removing the monomer by the above-mentioned method has a small amount of impurities such as chlorine and transition metal, and is used as it is as a polysiloxane oligomer as a raw material for a hard coating agent, an electric insulating coating material for a semiconductor or the like. I can do things.

【0026】また、本発明のポリシロキサンオリゴマー
は、アルコールOH換算OH基の含有量が0.5重量%
以下、好ましくは0.1重量%以下、アルキル基の含有
量が0.01〜0.2重量%、好ましくは0.012〜
0.17重量%とするのが望ましい。ここで、アルコー
ルOH換算OH基における「アルコール」は、ポリシロ
キサンオリゴマーの有するアルコキシ基に対応するアル
コール、すなわち前記式(I)におけるRと同じRを有
するR−OHで表されるアルコールである。アルコール
OH換算OH基をこの範囲とすることにより、ポリシロ
キサンオリゴマーの貯蔵安定性が特に優れたものとな
る。また、アルキル基の含有量が0.2重量%を超える
と、ポリシロキサンオリゴマーをハードコートとした時
の基板との密着性、硬度、耐熱性等の特性に問題が生じ
ることがある。一方、アルキル基の含有量が0.01重
量%未満の場合、貯蔵安定性がやや劣る傾向にある。な
お、ケイ素とアルコールとの反応により得られるテトラ
アルコキシシランであってしかもアルキル基含有量が
0.1〜1重量%のテトラアルコキシシランを用いるこ
とにより、得られるポリシロキサン中のアルキル基の含
有量を上記の範囲とすることにより、特に貯蔵安定性向
上の効果に優れたものとすることができる。ここでアル
コールOH換算OH基の含有量は、以下のようにして測
定することができる。OH基の含有量の測定に際して
は、正確を期すためには感度の高いフーリエ変換型赤外
吸収スペクトル測定装置(FT−IR)を使用して、ポ
リシロキサンオリゴマーの吸収スペクトルから含有アル
コールの吸収スペクトルを差し引く、差スペクトル法を
用いて、シラノール基の吸光係数としてアルコールの水
酸基の吸光係数を用いて計算することができる。また、
アルキル基の含有量は、NMR等公知の方法により測定
してもよいし、また例えばテトラアルコキシシランを加
水分解脱水重縮合してポリシロキサンオリゴマーとする
場合はテトラアルコキシシラン中のアルキル基含有量を
求め換算すれば、容易に求めることができる。
The polysiloxane oligomer of the present invention has an OH group content in terms of alcohol OH of 0.5% by weight.
Below, preferably 0.1% by weight or less, the content of the alkyl group is 0.01 to 0.2% by weight, preferably 0.012
It is preferably 0.17% by weight. Here, the "alcohol" in the OH group converted into alcohol OH is an alcohol corresponding to the alkoxy group of the polysiloxane oligomer, that is, an alcohol represented by R-OH having the same R as R in the formula (I). By setting the OH group in terms of alcohol OH within this range, the storage stability of the polysiloxane oligomer becomes particularly excellent. Further, if the content of the alkyl group exceeds 0.2% by weight, problems may occur in properties such as adhesion to a substrate, hardness and heat resistance when the polysiloxane oligomer is used as a hard coat. On the other hand, when the content of the alkyl group is less than 0.01% by weight, the storage stability tends to be slightly inferior. The content of the alkyl group in the polysiloxane obtained by using tetraalkoxysilane obtained by the reaction of silicon and alcohol and having an alkyl group content of 0.1 to 1% by weight. By setting the above range, it is possible to obtain a particularly excellent effect of improving storage stability. Here, the content of OH group in terms of alcohol OH can be measured as follows. When measuring the content of OH groups, in order to ensure accuracy, a highly sensitive Fourier transform infrared absorption spectrometer (FT-IR) is used to determine the absorption spectrum of the contained alcohol from the absorption spectrum of the polysiloxane oligomer. Can be calculated by using the absorption spectrum of the alcohol hydroxyl group as the absorption coefficient of the silanol group using the difference spectrum method. Also,
The content of the alkyl group may be measured by a known method such as NMR, or when the tetraalkoxysilane is hydrolyzed, dehydrated and polycondensed to form a polysiloxane oligomer, the content of the alkyl group in the tetraalkoxysilane may be determined. It can be easily calculated by conversion.

【0027】本発明のポリシロキサンオリゴマーはま
た、20℃での粘度が60cp(センチポイズ)以下、
好ましくは40cp以下とすることが望ましい。60c
pを超えるものは、増粘、ゲル化しやすい傾向にあるた
めである。このような本発明のポリシロキサンオリゴマ
ーは、非常に貯蔵安定性に優れ、−5℃〜60℃、乾燥
窒素ガス等の不活性ガスで容器内の気体を置換し密閉下
で6カ月保持した場合、粘度の増加は100cp以下、
更には50cp以下とすることもできる。また室温密閉
下で1年以上も実質的に粘度変化のないものとすること
もできる。
The polysiloxane oligomer of the present invention also has a viscosity at 20 ° C. of 60 cp (centipoise) or less,
It is desirable to set it to 40 cp or less. 60c
This is because those exceeding p tend to thicken and gel easily. Such a polysiloxane oligomer of the present invention is very excellent in storage stability, and when the gas in the container is replaced with an inert gas such as dry nitrogen gas at −5 ° C. to 60 ° C. and kept for 6 months under sealing. , The increase in viscosity is 100 cp or less,
Further, it can be 50 cp or less. It is also possible that the viscosity does not substantially change even after one year or more under the sealed room temperature.

【0028】[0028]

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例によってその範囲を制約されるものではない。 〔実施例1〕「テトラアルコキシシランの製造」 金属製(JIS SUS304)の冷却器を有する抽出
管、アルコール導入管、金属製(JIS SUS30
4)の撹拌機及び温度計を有する1リットル金属製(J
IS SUS304)反応器に金属珪素粉末(粒径20
〜100μm、純度99%)210g、触媒として塩化
第一銅3.7gおよびドテシルベンゼン410mlを仕
込んだ。次いで反応器を加熱して内液温が220℃に達
した時に300ml/時間の速度でメチルアルコールを
導入し、反応温度220℃で6時間反応させ、抽出液を
ガラス容器に集合したところ、総量1720gの抽出物
(反応混合物)が得られた。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the scope of the present invention is not limited by the following examples unless it exceeds the gist. [Example 1] "Production of tetraalkoxysilane" An extraction tube having a metal (JIS SUS304) cooler, an alcohol introduction tube, a metal (JIS SUS30)
4) 1 liter metal (J) with stirrer and thermometer
IS SUS304) reactor with metallic silicon powder (particle size 20
˜100 μm, purity 99%) 210 g, cuprous chloride 3.7 g as catalyst and dodecylbenzene 410 ml were charged. Next, when the reactor was heated and the internal liquid temperature reached 220 ° C, methyl alcohol was introduced at a rate of 300 ml / hour, the reaction was performed at a reaction temperature of 220 ° C for 6 hours, and the extract was collected in a glass container. 1720 g of extract (reaction mixture) was obtained.

【0029】このようにして得られた反応混合物172
0gを、ジムロートコンデンサー及び撹拌機をそなえた
3リットルガラスコルベンに仕込み、酸化カルシウム2
gを添加した。ついでメチルアルコールを1000ml
添加し、反応混合物と反応させた。反応時間は3時間、
還流状態(60℃)で行った。
The reaction mixture 172 thus obtained
Charge 0 g into a 3 liter glass Kolben equipped with a Dimroth condenser and stirrer, and add 2 g of calcium oxide.
g was added. Then 1000 ml of methyl alcohol
It was added and reacted with the reaction mixture. The reaction time is 3 hours,
It was carried out under reflux (60 ° C).

【0030】次いで内径3cmの10段オルダショウ型
蒸留塔を上記コルベンに付け、常圧化、還流比2の条件
で蒸留を行い、沸点120〜121℃の成分1008g
を得た。これをガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、純度99%のテトラメトキシシランモノマーであ
り、メチルトリメトキシシランが0.5%含有されてい
た。これはメチル基に換算すると0.055重量%に相
当する。ガスクロマトグラフィーの分析条件は以下の通
りである。
Next, a 10-stage Oldershaw type distillation column having an inner diameter of 3 cm was attached to the Kolben, and distillation was carried out under the conditions of normal pressure and a reflux ratio of 2, and 1008 g of a component having a boiling point of 120 to 121 ° C.
I got When this was analyzed by gas chromatography, it was a tetramethoxysilane monomer having a purity of 99% and contained 0.5% of methyltrimethoxysilane. This corresponds to 0.055% by weight when converted to a methyl group. The analysis conditions of gas chromatography are as follows.

【0031】装置:島津製作所 GC−7A カラム:J&W社製 ヒューズドシリカメガポアカラム
DB−5(内径0.53mm×長さ30mm) キャリヤーガス:ヘリウム 8ml/min(マスフロ
ーコントロール) 温度:カラム槽 50℃から250℃まで8℃/min
で昇温 注入口 250℃ 検出器 270℃ 検出器:FID検出器 ピークの拡がりを抑えるためカラム出口にヘリウムガス
を60ml/minでメークアップガスとして導入し
た。 内標:m−キシレン(サンプル/内標=10/1重量
比) 注入量:0.5μl(ダイレクト注入法)
Equipment: Shimadzu GC-7A Column: J & W Fused Silica Megapore Column DB-5 (inner diameter 0.53 mm x length 30 mm) Carrier gas: Helium 8 ml / min (mass flow control) Temperature: Column tank 50 8 ℃ / min from ℃ to 250 ℃
Temperature rise Injection port 250 ° C. detector 270 ° C. detector: FID detector Helium gas was introduced as a make-up gas at 60 ml / min at the column outlet in order to suppress the spread of the peak. Internal standard: m-xylene (sample / internal standard = 10/1 weight ratio) Injection volume: 0.5 μl (direct injection method)

【0032】「ポリシロキサンオリゴマーの製造」撹拌
器、ジムロートコンデンサー、温度計および窒素吹き込
み管を備えた3リットル5ツ口コルベンにテトラメトキ
シシラン1520g、メタノール480gを仕込み5分
間撹拌した後、水144g(加水分解率40%)、20
%塩酸0.36gを加えた。その後、還流状態(65
℃)となるまで加熱し、65℃で4時間反応させた。次
に、ジムロートコンデンサーをリ−ビッヒコンデンサー
と受器を付けたト字管に取り換え、内温度が130℃に
なるまで加熱しながらメタノールを留去させ、ポリメト
キシポリシロキサンを得た。2時間かけてメタノールを
留去させた。この段階で、内容液を一部サンプリングし
て、ガスクロマトグラフィーでモノマー濃度を分析した
ところ5.7%であった。その後、この内容液を130
℃に加熱したフラスコに入れ、150℃まで昇温し、内
温を150℃に保ちながら、吹き込み管より、窒素ガス
をSV50の条件で導入し、モノマーの留去を行なっ
た。
"Production of Polysiloxane Oligomer" Tetramethoxysilane (1520 g) and methanol (480 g) were charged into a 3-liter, 5-necked Korben equipped with a stirrer, Dimroth condenser, thermometer and nitrogen blowing tube, and the mixture was stirred for 5 minutes, and then 144 g of water ( Hydrolysis rate 40%), 20
% Hydrochloric acid 0.36 g was added. Then, the return state (65
(° C), and reacted at 65 ° C for 4 hours. Next, the Dimroth condenser was replaced with a L-shaped tube equipped with a Liebig condenser and a receiver, and methanol was distilled off while heating until the internal temperature reached 130 ° C to obtain polymethoxypolysiloxane. The methanol was distilled off over 2 hours. At this stage, a part of the content liquid was sampled and the monomer concentration was analyzed by gas chromatography to find that it was 5.7%. Then, this content liquid
The mixture was placed in a flask heated to ℃, heated up to 150 ℃, while maintaining the internal temperature at 150 ℃, nitrogen gas was introduced under the condition of SV50 from the blowing tube to distill off the monomer.

【0033】3時間窒素ガスを吹き込んだ後、内容液を
一部サンプリングし、モノマー濃度を分析したところ
0.1%以下であった。この様にして得られたポリメト
キシポリシロキサンは、密度1.2g/cm3 、粘度5
cp、SiO2 含有量52.0%であった。ガスクロマ
トグラフィーで、重合度2〜8のオリゴマーが確認さ
れ、標準ポリスチレン換算GPCによる重量平均分子量
は550であった。
After bubbling nitrogen gas for 3 hours, a part of the content liquid was sampled and the monomer concentration was analyzed and found to be 0.1% or less. The polymethoxypolysiloxane thus obtained has a density of 1.2 g / cm 3 and a viscosity of 5
The cp and SiO 2 contents were 52.0%. An oligomer having a degree of polymerization of 2 to 8 was confirmed by gas chromatography, and the weight average molecular weight by standard polystyrene conversion GPC was 550.

【0034】また塩素量は1ppmの検出限界以下、ク
ロム量0.02ppm、ニッケル量0.01ppm以
下、鉄0.1ppm以下であった。更に、このポリメト
キシポリシロキサンのメタノールOH換算OH基含有量
を、フーリエ変換型赤外吸収スペクトル測定装置(FT
−IR)を用い、以下の測定条件により測定した。
The chlorine content was below the detection limit of 1 ppm, the chromium content was 0.02 ppm, the nickel content was 0.01 ppm or less, and the iron content was 0.1 ppm or less. Furthermore, the OH group content of this polymethoxypolysiloxane converted to methanol OH was measured by Fourier transform infrared absorption spectrum measuring apparatus (FT
-IR) was used and the measurement was performed under the following measurement conditions.

【0035】 FT−IR装置:Analect AQS−20M 測定条件:サンプル走査回数 64 ブランク走査回数 64 検出器 TGS(triglycerine sulf
ate) サンプル調製法:サンプルを四塩化炭素で10倍希釈
(重量/容量)する。 計算式:メタノールOH換算OH基含有量(重量%)=
(吸光度×希釈率(ml/g))/(セル長(cm)×
2.8(L/g・cm)×10)
FT-IR device: Analect AQS-20M Measurement conditions: Number of sample scans 64 Number of blank scans 64 Detector TGS (triglycerine sulf)
ate) Sample preparation method: A sample is diluted 10-fold (weight / volume) with carbon tetrachloride. Calculation formula: OH group content (wt%) in terms of methanol OH =
(Absorbance x dilution rate (ml / g)) / (cell length (cm) x
2.8 (L / g · cm) × 10)

【0036】この結果、ポリメトキシポリシロキサン中
のメタノールOH換算OH基含有量は、0.02重量%
であった。同様の方法によりポリメトキシポリシロキサ
ンを15kg製造した。これをポリエチレン内袋の18
リットル石油缶に入れ、内部の空気を乾燥窒素ガスで置
換してから封印した。これを1年間倉庫内で保管した。
倉庫内の温度は1年間で−5〜35℃にわたり変化した
が、1年後取り出したポリメトキシポリシロキサンに
は、粘度変化は見られず5cpであった。
As a result, the OH group content in terms of methanol OH in the polymethoxypolysiloxane was 0.02% by weight.
Met. 15 kg of polymethoxypolysiloxane was produced by the same method. 18 of this in a polyethylene bag
It was put in a liter petroleum can, and the air inside was replaced with dry nitrogen gas, and then sealed. This was stored in the warehouse for 1 year.
The temperature in the warehouse changed over −5 to 35 ° C. in one year, but the polymethoxypolysiloxane taken out one year later showed no change in viscosity and was 5 cp.

【0037】〔実施例2〕水の量を151g(加水分解
率50%)とした以外は、〔実施例1〕「ポリシロキサ
ンオリゴマーの製造」と同様の方法により、ポリメトキ
シポリシロキサンを得た。得られたポリメトキシポリシ
ロキサンは、密度1.3g/cm3 、粘度36cp、S
iO2 含有量57.1%であった。ガスクロマトグラフ
ィーで、重合度2〜8のオリゴマーが確認され、標準ポ
リスチレン換算GPCによる重量平均分子量は1060
であった。
[Example 2] Polymethoxypolysiloxane was obtained by the same method as in "Example 1""Production of polysiloxane oligomer" except that the amount of water was 151 g (hydrolysis rate 50%). . The obtained polymethoxypolysiloxane has a density of 1.3 g / cm 3 , a viscosity of 36 cp, and an S
The iO 2 content was 57.1%. An oligomer having a degree of polymerization of 2 to 8 was confirmed by gas chromatography, and the weight average molecular weight by standard polystyrene conversion GPC was 1060.
Met.

【0038】また塩素量は2ppm、クロム量0.02
ppm、ニッケル量0.01ppm以下、鉄0.1pp
m以下であった。メタノールOH換算OH基含有量は、
0.09重量%であった。
The amount of chlorine is 2 ppm and the amount of chromium is 0.02.
ppm, nickel content 0.01ppm or less, iron 0.1pp
It was m or less. Methanol OH equivalent OH group content is
It was 0.09% by weight.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明により不純物が少なく、半導体の
電気絶縁皮膜等の用途に適したポリシロキサンオリゴマ
ーを得ることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a polysiloxane oligomer containing few impurities and suitable for use as an electric insulating film of a semiconductor can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松添 信行 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 三 菱化学株式会社新規事業開発室内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuyuki Matsuzoe 2-5-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Chemical Co., Ltd. New Business Development Office

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テトラアルコキシシランモノマーの含有
量が1重量%以下、塩素量が10ppm以下で且つ、遷
移金属量が100ppm以下であるポリシロキサンオリ
ゴマー。
1. A polysiloxane oligomer having a tetraalkoxysilane monomer content of 1% by weight or less, a chlorine content of 10 ppm or less, and a transition metal content of 100 ppm or less.
【請求項2】 テトラアルコキシシランがテトラメトキ
シシランであることを特徴とする請求項1記載のポリシ
ロキサンオリゴマー。
2. The polysiloxane oligomer according to claim 1, wherein the tetraalkoxysilane is tetramethoxysilane.
【請求項3】 アルコールOH換算OH基含有量が0.
5重量%以下であることを特徴とする請求項1又は2記
載のポリシロキサンオリゴマー。
3. The OH group content in terms of alcohol OH is 0.
The polysiloxane oligomer according to claim 1, which is 5% by weight or less.
【請求項4】 アルキル基の含有量が0.01〜0.2
重量%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
に記載のポリシロキサンオリゴマー。
4. The content of alkyl group is 0.01 to 0.2.
The polysiloxane oligomer according to any one of claims 1 to 3, wherein the polysiloxane oligomer is in a weight percentage.
【請求項5】 20℃での粘度が60cp以下であるこ
とを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリシ
ロキサンオリゴマー。
5. The polysiloxane oligomer according to claim 1, wherein the viscosity at 20 ° C. is 60 cp or less.
【請求項6】 −5〜60℃、密閉下で6カ月保持した
時の粘度の増加が100cp以下であることを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載のポリシロキサンオリ
ゴマー。
6. The polysiloxane oligomer according to claim 1, which has an increase in viscosity of 100 cp or less when kept at −5 to 60 ° C. for 6 months in a sealed condition.
【請求項7】 金属珪素とアルコールを反応させて得ら
れたテトラアルコキシシランを加水分解脱水重縮合する
ことを特徴とする、塩素量が10ppm以下、遷移金属
量が100ppm以下であるポリシロキサンオリゴマー
の製造法。
7. A polysiloxane oligomer having a chlorine content of 10 ppm or less and a transition metal content of 100 ppm or less, characterized by hydrolyzing, dehydrating, and polycondensing tetraalkoxysilane obtained by reacting metallic silicon with an alcohol. Manufacturing method.
【請求項8】 テトラアルコキシシランの加水分解脱水
重縮合後、加水分解脱水重縮合時より高温に加熱してテ
トラアルコキシシランモノマーを除去することを特徴と
する請求項7記載のポリシロキサンオリゴマーの製造
法。
8. The method for producing a polysiloxane oligomer according to claim 7, wherein after the tetraalkoxysilane is hydrolyzed and dehydrated and polycondensed, the tetraalkoxysilane monomer is removed by heating to a temperature higher than that during the hydrolyzed and dehydrated polycondensation. Law.
【請求項9】 加熱がテトラアルコキシシランの沸点以
上の温度で行なわれることを特徴とする請求項7または
8記載のポリシロキサンオリゴマーの製造法。
9. The method for producing a polysiloxane oligomer according to claim 7, wherein the heating is performed at a temperature not lower than the boiling point of tetraalkoxysilane.
【請求項10】 加水分解脱水縮合時より高温に加熱す
る際の加熱温度が140〜170℃であることを特徴と
する請求項7〜9のいずれかに記載のポリシロキサンオ
リゴマーの製造法。
10. The method for producing a polysiloxane oligomer according to claim 7, wherein the heating temperature at the time of heating to a temperature higher than that at the time of hydrolysis dehydration condensation is 140 to 170 ° C.
【請求項11】 加熱が減圧下で行なわれることを特徴
とする請求項7〜10のいずれかに記載のポリシロキサ
ンオリゴマーの製造法。
11. The method for producing a polysiloxane oligomer according to claim 7, wherein the heating is performed under reduced pressure.
【請求項12】 加熱が溶液に不活性ガスを吹き込みな
がら行なわれることを特徴とする請求項7〜11のいず
れかに記載のポリシロキサンオリゴマーの製造法。
12. The method for producing a polysiloxane oligomer according to claim 7, wherein the heating is performed while blowing an inert gas into the solution.
【請求項13】 金属珪素とアルコールを反応させて得
られたテトラアルコキシシランが、アルキル基の含有量
が0.1〜1重量%のものであることを特徴とする請求
項7〜12のいずれかに記載のポリシロキサンオリゴマ
ーの製造法。
13. The tetraalkoxysilane obtained by reacting metallic silicon with alcohol has an alkyl group content of 0.1 to 1% by weight, according to any one of claims 7 to 12. The method for producing a polysiloxane oligomer according to item 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000078769A1 (en) * 1999-06-18 2000-12-28 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Process for producing silicone oligomer solution and organopolysiloxane film formed from the solution

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WO2000078769A1 (en) * 1999-06-18 2000-12-28 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Process for producing silicone oligomer solution and organopolysiloxane film formed from the solution
US6605683B1 (en) 1999-06-18 2003-08-12 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd Process for producing a silicone oligomer solution and organopolysiloxane film formed from the solution

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