JPH08313226A - Method of inspecting transparent object - Google Patents

Method of inspecting transparent object

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JPH08313226A
JPH08313226A JP7124720A JP12472095A JPH08313226A JP H08313226 A JPH08313226 A JP H08313226A JP 7124720 A JP7124720 A JP 7124720A JP 12472095 A JP12472095 A JP 12472095A JP H08313226 A JPH08313226 A JP H08313226A
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Seiji Hata
清治 秦
Kenichi Kaita
健一 戒田
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Kagawa University NUC
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Matsushita Kotobuki Electronics Industries Ltd
Kagawa University NUC
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Abstract

PURPOSE: To provide an inspection method in which the shape of a transparent object can be grasped even when the shape is irregular. CONSTITUTION: Pattern light 1 from a pattern-light projector 2 is projected onto a transparent object 4 on an opaque object 3. An imaged pattern which is monitored by a TV camera 5 is subjected to the influence of the transparent object 4 so as to be deformed. On the other hand, a pattern which may be obtained at a time when the pattern light is projected onto an initial model, in a three-dimensional shape, which has been prepared in advance is computed. Then, a pattern which is close to the actually imaged pattern is selected, a new model in which a model corresponding to them has been composed is created, and the shape of the transparent object 4 is estimated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は透明物体の検査方法に関
し、光学的手法を用いて非接触で取得する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a transparent object, and more particularly to a method for non-contact acquisition using an optical method.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明物体(ここでは透明に近い物体も含
む)の正確な形状を非接触で検査するための手法とし
て、従来開発されている光切断法やステレオ視などの手
法を用いようとすると、投影した光線の大半が、透明物
体の表面を透過し、透明物体表面で反射する光線が極め
て少ないため適用することができない。
2. Description of the Related Art As a method for inspecting an accurate shape of a transparent object (including an object that is almost transparent here) in a non-contact manner, it has been attempted to use a conventionally developed method such as a light-section method or stereo vision Then, most of the projected light rays are transmitted through the surface of the transparent object and very few light rays are reflected by the surface of the transparent object, so that they cannot be applied.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、従来
の検査手法では検査できなかった透明物体の形状を、非
接触で精度良く取得することのできる方法を提供するも
のであり、特に透明物体が不規則な形状をした場合であ
っても、その形状を把握することができるようにするこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention provides a method capable of accurately acquiring a shape of a transparent object which could not be inspected by a conventional inspection method, in a non-contact manner, and in particular, a transparent object. The purpose is to be able to grasp the shape even if the shape is irregular.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の透明物体の検査方法は、不透明物体上に配
置された透明の被検物体にパターン光を投影し、前記被
検物体を通して前記不透明物体上に投影された後、再び
前記被検物体を通してモニタされた撮像パターンを得る
第1のステップと、前記モニタされた撮像パターンにお
いて被検物体の存在領域を示す部分を底面とする立体形
状の初期モデルを多数作成する第2のステップと、得ら
れた各モデルにおいて、前記パターン光が照射されたと
きにモニタされるであろうサンプルパターンを計算によ
り作成する第3ステップと、前記各サンプルパターンと
前記撮像パターンとを比較し、前記撮像パターンに近い
サンプルパターンに対応するモデルのいくつかを選択す
る第4のステップと、前記選択されたモデルを合成する
第5のステップと、合成された立体形状のモデルについ
て、再び前記第3,第4のステップを繰り返して行い、
前記被検物体の形状を取得する第6のステップとからな
る。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for inspecting a transparent object according to the present invention comprises projecting pattern light onto a transparent object to be inspected arranged on an opaque object, and inspecting the object to be inspected. After being projected on the opaque object through the first step, a first step of obtaining an imaging pattern monitored through the object to be inspected again, and a portion showing a region where the object to be inspected in the monitored imaging pattern is a bottom surface A second step of creating a large number of three-dimensional initial models, a third step of creating a sample pattern that will be monitored in each obtained model when the pattern light is irradiated, Fourth step of comparing each sample pattern with the imaging pattern and selecting some of models corresponding to sample patterns close to the imaging pattern A fifth step of combining the selected model, a model for the combined three-dimensional shape performed again repeated the third, fourth step,
The sixth step of acquiring the shape of the object to be inspected.

【0005】[0005]

【作用】透明物体の形状が不規則であり予測できない形
状の場合、撮像パターンの変形量から解析的に形状を求
めることは出来ない。このため上記方法では、予め多数
のサンプルとなる初期モデルを生成しておき、その初期
モデルにおいてパターン光を投影した場合に得られるで
あろう、撮像パターンをサンプルパターンとして計算し
て求める。そして実際得られた撮像パターンに近いサン
プルパターンをいくつか選びだし、それらに対応するモ
デルを合成し新たなモデルを作成する。
When the shape of the transparent object is irregular and unpredictable, the shape cannot be analytically obtained from the deformation amount of the imaging pattern. Therefore, in the above method, an initial model that is a large number of samples is generated in advance, and an imaging pattern that would be obtained when the pattern light is projected in the initial model is calculated and obtained as a sample pattern. Then, some sample patterns close to the actually obtained imaging pattern are selected, and the models corresponding to them are synthesized to create a new model.

【0006】この新たなモデルについてもサンプルパタ
ーンを計算して、さらに実際の撮像パターンに近いサン
プルパターンを選び、さらに新たなモデルを合成する。
このようにして被検物体の形状を予測する。
A sample pattern is calculated for this new model, a sample pattern closer to the actual image pickup pattern is selected, and a new model is synthesized.
In this way, the shape of the test object is predicted.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明の透明物体の検査方法につい
て、図面を参照しながら具体的に説明する。図1は本発
明の第1の実施例を示すものであり、図において、不透
明物体3上に配置された透明物体4に、パターン光プロ
ジェクタ2からパターン光1(この場合、平行なスリッ
ト光)を投影する。投影されたパターン光1は透明物体
4の表面で屈折し、不透明物体3上に変形したパターン
を形作る。この変形パターンをTVカメラ5などの撮像
装置で撮影し、パターンの変形状態を画像処理装置6に
取り込む。TVカメラ5でモニタされる撮像パターン
は、図2に示すように、TVモニタ7には、透明物体4
の存在する領域が変形した撮像パターン8が映し出され
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The method for inspecting transparent objects according to the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In the figure, a pattern light projector 2 outputs a pattern light 1 (a parallel slit light in this case) to a transparent object 4 arranged on an opaque object 3. To project. The projected pattern light 1 is refracted on the surface of the transparent object 4 to form a deformed pattern on the opaque object 3. This deformation pattern is photographed by an image pickup device such as the TV camera 5, and the deformation state of the pattern is taken into the image processing device 6. The image pickup pattern monitored by the TV camera 5 is, as shown in FIG.
The image pickup pattern 8 in which the region in which is present is deformed is displayed.

【0008】なお不透明物体1上の変形パターン光がT
Vカメラ3に向かう際には、透明物体4の表面で再度屈
折されるが、不透明物体1の表面は多少の拡散反射成分
を持つため、一般にはTVカメラ3の位置は特に規定さ
れず観察が可能である。透明物体4の形状が不規則なも
のである場合、得られた撮像パターン8から透明物体4
の形状を解析することは困難である。そこで本実施例で
は、予め用意した様々な立体形状のサンプルに、パター
ン光を投影して得られるサンプルパターンを利用して、
透明物体4の形状を推定するものであり、以下その方法
を図3に示すフローチャートに従って説明する。
The deformed pattern light on the opaque object 1 is T
When moving toward the V camera 3, it is refracted again by the surface of the transparent object 4, but since the surface of the opaque object 1 has some diffuse reflection component, the position of the TV camera 3 is generally not specified and observation is not possible. It is possible. When the transparent object 4 has an irregular shape, the transparent object 4
It is difficult to analyze the shape of the. Therefore, in the present embodiment, sample patterns obtained by projecting pattern light on various three-dimensional samples prepared in advance are used,
The shape of the transparent object 4 is estimated, and the method will be described below with reference to the flowchart shown in FIG.

【0009】S0のステップでは、被検物体である透明
物体4にパターン光を投影して得られる撮像パターン
を、画像処理装置6に入力する。S1のステップでは、
撮像パターン7から透明物体4の存在範囲を決定する。
これは透明物体4を上方から見た場合の画面内の存在位
置を決定するものであり、TVモニタ7に示される画像
を解析し、透明物体が無い周辺部の直線パターンをまず
抽出する。そしてずれが大きい部分を透明物体4の外周
として抽出する。
In step S0, an image pickup pattern obtained by projecting the pattern light on the transparent object 4 which is the object to be inspected is input to the image processing device 6. In step S1,
The existence range of the transparent object 4 is determined from the imaging pattern 7.
This determines the existing position in the screen when the transparent object 4 is viewed from above, analyzes the image displayed on the TV monitor 7, and first extracts the linear pattern of the peripheral portion where there is no transparent object. Then, a portion having a large deviation is extracted as the outer circumference of the transparent object 4.

【0010】S2のステップでは、透明物体4の存在範
囲内に、初期モデルを生成する。初期モデルは図4
(a)に示すように、前記存在範囲を底面とし、その範
囲内のランダムに決定した位置に取った高さHの点9を
頂点とし、底面の縁を結んでできる錐とする。これをさ
らに図4(b)に示すように、透明物体領域内の各点の
高さに変換し、全体にスムージングを懸けてなめらかな
表面にする。頂点9の位置を変え、この様な初期モデル
を多数生成する。
In step S2, an initial model is generated within the existence range of the transparent object 4. The initial model is shown in Figure 4.
As shown in (a), the existence range is defined as a bottom surface, and a point 9 of height H taken at a randomly determined position within the range is defined as a vertex and a cone formed by connecting the edges of the bottom surface. Further, as shown in FIG. 4B, this is converted into the height of each point in the transparent object region, and smoothing is applied to the whole to form a smooth surface. The position of the apex 9 is changed, and a large number of such initial models are generated.

【0011】次にS3のステップにおいて、これら初期
モデルにパターン光を投影したときに得られるであろう
撮像パターンを計算により求める。この計算過程は、以
下(A),(B)及び(C)の3つの過程からなる。 (A)この過程では、プロジェクタから投影されるスリ
ット光が不透明物体14上のどの位置に投影されるかを
計算する。この計算手順を図5(a)を用いて説明す
る。モデル10に対して、パターン光プロジェクタ11
の3次元的配置が図1に示した構成と同様になるように
計算機上で配置されていると考える。次に、パターン光
プロジェクタ11から投影される多数のスリット光12
全てについて、適当な間隔でサンプリングし、スリット
光12を多数の光線13の集合とする。この光線13
は、モデル10の表面で屈折し、不透明物体14上のあ
る位置15へ投影されるか、あるいはモデル10を通過
せずに、直接不透明物体14上のある位置15へ投影さ
れる。この投影された位置15を、全ての光線13につ
いて、計算し投影位置データとする。
Next, in step S3, an image pickup pattern which will be obtained when the pattern light is projected on these initial models is calculated. This calculation process consists of the following three processes (A), (B) and (C). (A) In this process, the position on the opaque object 14 where the slit light projected from the projector is projected is calculated. This calculation procedure will be described with reference to FIG. Pattern light projector 11 for model 10
It is considered that the three-dimensional arrangement is arranged on the computer so that it becomes similar to the configuration shown in FIG. Next, a large number of slit lights 12 projected from the pattern light projector 11
All are sampled at appropriate intervals, and the slit light 12 is made into a set of many light rays 13. This ray 13
Is refracted at the surface of the model 10 and is projected to a position 15 on the opaque object 14 or directly to a position 15 on the opaque object 14 without passing through the model 10. The projected position 15 is calculated for all the light rays 13 and used as projection position data.

【0012】(B)この過程では、撮像カメラの各画素
に対応する視線が、不透明物体14上のどの位置に到達
するかを計算する。この計算手順を図5(b)を用いて
説明する。モデル10に対して、撮像カメラ16の3次
元的配置が図1に示した構成と同様になるように計算機
上で配置されていると考える。撮像カメラ16は、複数
の画素17を持っており、それぞれに対応した視線18
がある。この視線18は、それぞれ、モデル10の表面
で屈折し、不透明物体14上のある位置19へ到達する
か、モデル10を通過せずに、直接不透明物体14上の
ある位置19へ到達する。この位置19と投影位置デー
タ15とを照合((C)で説明する)することで、視線
18がパターン光プロジェクタ11から投影された光線
12を捉えるかどうかを決定できる。
(B) In this process, the position on the opaque object 14 where the line of sight corresponding to each pixel of the image pickup camera reaches is calculated. This calculation procedure will be described with reference to FIG. It is considered that the imaging camera 16 is arranged on the computer so that the three-dimensional arrangement of the imaging camera 16 is the same as that shown in FIG. The imaging camera 16 has a plurality of pixels 17 and has a line of sight 18 corresponding to each of the pixels 17.
There is. Each line of sight 18 is refracted at the surface of the model 10 to reach a certain position 19 on the opaque object 14 or directly to a certain position 19 on the opaque object 14 without passing through the model 10. By collating the position 19 with the projection position data 15 (described in (C)), it is possible to determine whether or not the line of sight 18 captures the light beam 12 projected from the pattern light projector 11.

【0013】(C)この過程では、光線12が投影され
た位置15が視線18によって、捉えられるかどうかを
判別する。この手順を図5(C)を用いて説明する。不
透明物体14表面上には、光線13の投影位置15が離
散的に分布する。この不透明物体14上に、ある視線1
4Aが位置19Aに到達したとすると、位置19Aの周
辺には投影位置15があるのでこの視線14Aは、光線
12を捉えたとする。また、別のある視線14Bが位置
19Bに到達したとすると、位置19Bの周辺には投影
位置15がないのでこの視線14Aは光線12を捉えて
いないとする。
(C) In this process, it is determined whether or not the position 15 where the light beam 12 is projected can be captured by the line of sight 18. This procedure will be described with reference to FIG. On the surface of the opaque object 14, the projection positions 15 of the light beam 13 are discretely distributed. A line of sight 1 on this opaque object 14
If 4A reaches the position 19A, it is assumed that the sight line 14A catches the light ray 12 because the projection position 15 exists around the position 19A. If another line of sight 14B reaches the position 19B, it is assumed that the line of sight 14A does not capture the light beam 12 because there is no projection position 15 around the position 19B.

【0014】以上の(B)、(C)の操作を全ての画素
17について行い、光線12を捉える視線18に対応す
る画素17を明るく、それ以外を暗く対応させること
で、モデル10から計算される撮像パターンを得ること
ができる。次にS4では、実際の撮像パターンと、S3
で計算された各モデルの撮像パターンについて、スリッ
ト光のラインごとに評価し、誤差が少ない初期モデルの
上位数分の1を選ぶ。撮像パターンの評価法を図6に示
す。不透明物体14上でスリット光の各ラインごとに、
実際の撮像パターンのライン16と、モデルの撮像パタ
ーン17とのずれ量18を計算する。この値をパターン
のラインすべてについて計算してその和をとり、モデル
の評価値とする。
The above operations (B) and (C) are performed for all the pixels 17, and the pixels 17 corresponding to the line of sight 18 that captures the light ray 12 are made bright, and the other pixels are made dark so that they are calculated from the model 10. It is possible to obtain the image pickup pattern. Next, in S4, the actual imaging pattern and S3
The imaging pattern of each model calculated in step 1 is evaluated for each line of the slit light, and a fraction of the upper number of the initial model with a small error is selected. FIG. 6 shows the evaluation method of the imaging pattern. For each line of slit light on the opaque object 14,
A shift amount 18 between the line 16 of the actual image pickup pattern and the image pickup pattern 17 of the model is calculated. This value is calculated for all the lines of the pattern, and the sum is taken to be the evaluation value of the model.

【0015】S5では、S4で選ばれたモデルの評価値
が予め設定しておいた基準値より小さい場合、このモデ
ルを透明物体の形状とする。しかし、たいていの場合は
この基準を満たさないので、S6でモデルの変形を行
う。S6では、S4での選ばれた複数のモデルを組み合
わせて多数の新しいモデルを作成する。この作成手法を
図7の平面図に示す。S4で選ばれた複数のモデルの中
から2つのモデル20、21を選び、次に、ランダムに
発生した縦横の線で同じ位置で4分割し、その内の1分
割分をランダムに入れ換え、新規モデル22とする。こ
れを複数モデル間で組み合わせて、多数の新規モデルを
得る。またこのとき接合部で段差が生じるので高さのス
ムージングにより、モデルを滑らかにする。
In S5, when the evaluation value of the model selected in S4 is smaller than the preset reference value, this model is made into the shape of a transparent object. However, in most cases, this criterion is not satisfied, so the model is deformed in S6. In S6, a number of new models are created by combining the plurality of models selected in S4. This preparation method is shown in the plan view of FIG. Two models 20 and 21 are selected from the plurality of models selected in S4, and then divided into four at the same position by randomly generated vertical and horizontal lines, and one of them is randomly replaced, and a new one is created. This is model 22. This is combined among multiple models to obtain many new models. At this time, a step is generated at the joint, so the model is smoothed by smoothing the height.

【0016】また上記のように組み合わせたいくつかの
モデルでは、物体表面の形状をわずかに変え、スムージ
ング処理により滑らかにしてモデルの変形を行う。この
組合せ、変形された多数のモデルについて、再度S3,
S4を実施し、評価の良いモデルをいくつか選択するこ
とでよりよい近似を行うことができる。このS6,S
3,S4の処理をS5の条件、すなわち、評価値が基準
値より小さくなれば、実際の透明物体4の形状に近似し
たモデルを画像処理装置上に得ることができる。なお、
S5において、S3からS6のステップが繰り返される
回数が規定回数を越えれば、計算時間を短くするため
に、処理を打ち切ることもできる。
In some of the models combined as described above, the shape of the object surface is slightly changed and smoothed by smoothing to deform the model. With respect to this combined and deformed large number of models, S3,
Better approximation can be performed by performing S4 and selecting some models with good evaluation. This S6, S
If the processing of S3 and S4 is performed under the condition of S5, that is, if the evaluation value is smaller than the reference value, a model approximating the actual shape of the transparent object 4 can be obtained on the image processing apparatus. In addition,
In S5, if the number of times the steps S3 to S6 are repeated exceeds the specified number, the process can be aborted to shorten the calculation time.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、透明物体
が不規則な形状をしたものであっても、その形状を把握
することができるようになる。
As described above, according to the present invention, even if the transparent object has an irregular shape, the shape can be grasped.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の透明物体の検査方法を用いた検査装置
の一実施例を示す斜視図
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an inspection apparatus using the transparent object inspection method of the present invention.

【図2】同装置においてモニタされる撮像パターンを示
す図
FIG. 2 is a diagram showing an imaging pattern monitored in the same apparatus.

【図3】本発明の透明物体の検査方法の検査過程を示す
フローチャート
FIG. 3 is a flowchart showing an inspection process of the transparent object inspection method of the present invention.

【図4】同方法において作成される初期モデルを示す斜
視図
FIG. 4 is a perspective view showing an initial model created by the same method.

【図5】同方法においてモデルを改良する過程の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of a process of improving the model in the same method.

【図6】同方法においてモデルを評価する過程の説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a process of evaluating a model in the same method.

【図7】同方法においてモデルを合成する過程を説明す
る平面図
FIG. 7 is a plan view illustrating a process of synthesizing models in the same method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,12 パターン光 2,11 パターン光プロジェクタ 3,14 不透明物体 4 透明物体 5 TVカメラ 6 画像処理装置 7 TVモニタ 8 撮像パターン 10 モデル 17 画素 1,12 pattern light 2,11 pattern light projector 3,14 opaque object 4 transparent object 5 TV camera 6 image processing device 7 TV monitor 8 imaging pattern 10 model 17 pixels

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】不透明物体上に配置された透明の被検物体
にパターン光を投影し、前記被検物体を通して前記不透
明物体上に投影された後、再び前記被検物体を通してモ
ニタされた撮像パターンを得る第1のステップと、 前記モニタされた撮像パターンにおいて被検物体の存在
領域を示す部分を底面とする立体形状の初期モデルを多
数作成する第2のステップと、 得られた各モデルにおいて、前記パターン光が照射され
たときにモニタされるであろうサンプルパターンを計算
により作成する第3ステップと、 前記各サンプルパターンと前記撮像パターンとを比較
し、前記撮像パターンに近いサンプルパターンに対応す
る前記モデルをいくつか選択する第4のステップと、 前記選択されたいくつかのモデルを合成する第5のステ
ップと、 合成された立体形状のモデルについて、再び前記第3,
第4のステップを繰り返して行い、前記被検物体の形状
を取得する第6のステップと、からなる透明物体の検査
方法。
1. An imaging pattern in which pattern light is projected on a transparent test object arranged on an opaque object, projected on the opaque object through the test object, and then monitored again through the test object. And a second step of creating a large number of three-dimensional initial models whose bottom surface is a portion indicating the existence area of the object to be inspected in the monitored imaging pattern, and in each obtained model, A third step of calculating a sample pattern that will be monitored when the pattern light is irradiated is compared with each of the sample patterns and the imaging pattern, and corresponds to a sample pattern close to the imaging pattern. A fourth step of selecting some of the models; a fifth step of combining the selected models; For the three-dimensional shape model of again the third,
A method of inspecting a transparent object, comprising: a sixth step of repeatedly performing the fourth step to acquire the shape of the object to be inspected.
JP12472095A 1995-05-24 1995-05-24 Inspection method for transparent objects Expired - Lifetime JP3487963B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002054905A (en) * 2000-08-11 2002-02-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Transparent liquid inspecting device, transparent liquid inspecting method and transparent liquid painting method

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JP2002054905A (en) * 2000-08-11 2002-02-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Transparent liquid inspecting device, transparent liquid inspecting method and transparent liquid painting method

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