JPH08291085A - Production of tolan compound - Google Patents

Production of tolan compound

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JPH08291085A
JPH08291085A JP7098359A JP9835995A JPH08291085A JP H08291085 A JPH08291085 A JP H08291085A JP 7098359 A JP7098359 A JP 7098359A JP 9835995 A JP9835995 A JP 9835995A JP H08291085 A JPH08291085 A JP H08291085A
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JP
Japan
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group
formula
compound
general formula
alkenyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP7098359A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Matsumoto
努 松本
Yukari Fujimoto
ゆかり 藤本
Masayoshi Minamii
正好 南井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication of JPH08291085A publication Critical patent/JPH08291085A/en
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

PURPOSE: To industrially and advantageously obtain a tolan compound excellent in refractive index anisotropy and useful for liquid crystal elements by reacting a specific acetylene compound with an alkenyl compound in the presence of a metal catalyst and a basic substance. CONSTITUTION: (C) A compound of formula I X<1> to<4> are each CH, CF or N; A is H, F, CF3 , OCF3 , CN, a group of the formula R<1> -(cycloalkyl) (R<1> is a 1-12C alkyl, a 3-12C alkenyl or a 3-12C alkynyl), a group of the formula R<1> -(cycloalkenyl) or a group of the formula R<1> -(O)m [(m) is 0 or 1]} is reacted with (D) a compound of formula II Y<1> to Y<4> are each X<1> ; R is R<1> or a 2-12C alkoxyalkyl; D is a halogen or a group of the formula SO2 R' [R' is an (F- substituted)lower alkyl or a (substituted)phenyl]} in the presence of a metal catalyst such as a palladium-based, nickel-based or rhodium-based metal catalyst to provide the objective compound of formula III.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶組成物の配合成分
として有用なトラン化合物の製造法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a tolan compound which is useful as a compounding ingredient of liquid crystal compositions.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示素子の高性能化は、情報
社会の到来に伴い不可欠となっている。液晶組成物の諸
物性のなかで、より高速化のため、さらには高性能化の
ためには、屈折率異方性に優れた材料が必要とされてい
る。しかしながら、現在のところ必ずしも充分な屈折率
異方性をもつ液晶材料は、見いだされていない。
2. Description of the Related Art In recent years, high performance of liquid crystal display devices has become indispensable with the advent of the information society. Among various physical properties of the liquid crystal composition, a material having excellent refractive index anisotropy is required for higher speed and higher performance. However, at present, a liquid crystal material having a sufficient refractive index anisotropy has not been found.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、屈折率異方
性に優れた液晶化合物の工業的有利な製造法を提供する
ことを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an industrially advantageous method for producing a liquid crystal compound having excellent refractive index anisotropy.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】このようなことから、本
発明者らは、屈折率異方性に優れた液晶化合物の製造方
法について鋭意検討を加えた結果、かかる化合物の有利
な製造法を見出し、本発明に至った。
In view of the above, the present inventors have conducted diligent studies on a method for producing a liquid crystal compound having excellent refractive index anisotropy, and as a result, have found an advantageous method for producing such a compound. Heading out, the present invention was reached.

【0005】すなわち、本発明は、一般式〔2〕That is, the present invention has the general formula [2]

【化6】 (式中、X1 、X2 、X3 およびX4 は同一または相異
なり、CH、CFまたはNを示し、Aは水素原子、フッ
素原子、トリフロロメチル基、トリフロロメトキシ基、
シアノ基、R1 −(シクロアルキル)基、R1 −(シク
ロアルケニル)基またはR1 −(O)m 基を示し、ここ
で、R1 はC1 〜C12のアルキル基、C3〜C12のアル
ケニル基またはC3 〜C12のアルキニル基を示し、mは
0または1である。)で示されるアセチレン化合物と一
般式〔3〕
[Chemical 6] (In the formula, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are the same or different and represent CH, CF or N, and A is a hydrogen atom, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group,
Cyano group, R 1- (cycloalkyl) group, R 1- (cycloalkenyl) group or R 1- (O) m group, wherein R 1 is a C 1 -C 12 alkyl group, C 3- A C 12 alkenyl group or a C 3 -C 12 alkynyl group is shown, and m is 0 or 1. ) And an acetylene compound represented by the general formula [3]

【化7】 (式中、Y1 、Y2 、Y3 およびY4 は同一または相異
なり、CH、CFまたはNを示し、RはC1 〜C12のア
ルキル基、C3 〜C12のアルケニル基、C3 〜C 12のア
ルキニル基またはC2 〜C12のアルコキシアルキル基を
示し、Dはハロゲン原子または−SO2 R’を示す。た
だし、R’はフッ素原子で置換されていてもよい低級ア
ルキル基、または置換されていてもよいフェニル基を示
す。)で示されるアルケニル化合物とを金属触媒および
塩基性物質の存在下に反応させ一般式〔1〕
[Chemical 7](In the formula, Y1, Y2, Y3And YFourAre the same or different
Represents CH, CF or N, and R is C1 ~ C12A
Rukiru group, C3~ C12Alkenyl group of C3~ C 12A
Lucinyl group or C2~ C12The alkoxyalkyl group of
, D is a halogen atom or -SO2R'is shown. Was
However, R'is a lower atom which may be substituted with a fluorine atom.
Is a phenyl group or an optionally substituted phenyl group.
You ) An alkenyl compound represented by
Reacting in the presence of a basic substance, the compound of the general formula [1]

【化8】 (式中、A、R、X1 、X2 、X3 、X4 、Y1
2 、Y3 およびY4 は、それぞれ前記と同じ意味を表
わす。)で示されるトラン化合物の製造法、ならびに一
般式〔4〕
Embedded image (In the formula, A, R, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , Y 1 ,
Y 2 , Y 3 and Y 4 each have the same meaning as described above. ) And a general formula [4]

【化9】 (式中、A、D、X1 、X2 、X3 およびX4 は、それ
ぞれ前記と同じ意味を表わす。)で示される芳香族化合
物と一般式〔5〕
[Chemical 9] (In the formula, A, D, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 have the same meanings as described above.) And the general formula [5].

【化10】 (式中、R、Y1 、Y2 、Y3 およびY4 は、それぞれ
前記と同じ意味を表わす。)で示されるアセチレン誘導
体とを金属触媒および塩基性物質の存在下に反応させる
ことを特徴とする前記一般式〔1〕で示されるトラン化
合物の製造法を提供するものである。
[Chemical 10] (Wherein R, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each have the same meaning as described above), and the reaction is carried out in the presence of a metal catalyst and a basic substance. The present invention provides a method for producing the tolan compound represented by the above general formula [1].

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
得られるトラン化合物〔1〕は、一般式〔2〕で示され
るアセチレン化合物と一般式〔3〕で示されるアルケニ
ル化合物とを金属触媒および塩基性物質の存在下に反応
させることにより、あるいは一般式〔4〕で示される芳
香族化合物と一般式〔5〕で示されるアセチレン誘導体
とを金属触媒および塩基性物質の存在下に反応させるこ
とにより得られる。
The present invention will be described in detail below. The tolan compound [1] obtained in the present invention is obtained by reacting an acetylene compound represented by the general formula [2] with an alkenyl compound represented by the general formula [3] in the presence of a metal catalyst and a basic substance. Alternatively, it can be obtained by reacting an aromatic compound represented by the general formula [4] with an acetylene derivative represented by the general formula [5] in the presence of a metal catalyst and a basic substance.

【0007】ここで原料のアセチレン化合物〔2〕は、
以下に示すような方法により合成することができる。
The raw material acetylene compound [2] is
It can be synthesized by the following method.

【化11】 [Chemical 11]

【0008】もう一方のアルケニル化合物〔3〕および
アセチレン誘導体〔5〕は、例えば以下に示すような方
法により合成することができる。
The other alkenyl compound [3] and acetylene derivative [5] can be synthesized, for example, by the method shown below.

【化12】 [Chemical 12]

【0009】アセチレン化合物〔2〕とアルケニル化合
物〔3〕とからトラン化合物〔1〕を得る反応に於い
て、アセチレン化合物〔2〕の使用量は、アルケニル化
合物〔3〕に対して通常、 0.9〜3倍当量であるが、好
ましくは、1〜2倍当量である。勿論化合物〔3〕を過
剰に用いることもできるが、一般に化合物〔3〕がより
高価であることから、化合物〔2〕を過剰量用いるほう
が好ましい。
In the reaction for obtaining the tolan compound [1] from the acetylene compound [2] and the alkenyl compound [3], the amount of the acetylene compound [2] used is usually 0.9 to the alkenyl compound [3]. It is 3 times equivalent, but preferably 1 to 2 times equivalent. Of course, the compound [3] can be used in excess, but since the compound [3] is generally more expensive, it is preferable to use the compound [2] in an excess amount.

【0010】芳香族化合物〔4〕とアセチレン誘導体
〔5〕とからトラン化合物〔1〕を得る反応に於いて、
芳香族化合物〔4〕の使用量は、アセチレン誘導体
〔5〕に対して通常、 0.9〜3倍当量であるが、好まし
くは、1〜2倍当量である。勿論アセチレン誘導体
〔5〕を過剰に用いることもできるが、一般にアセチレ
ン誘導体〔5〕がより高価であることから、芳香族化合
物〔4〕を過剰量用いるほうが好ましい。
In the reaction for obtaining the tolan compound [1] from the aromatic compound [4] and the acetylene derivative [5],
The amount of the aromatic compound [4] used is usually 0.9 to 3 times the equivalent amount of the acetylene derivative [5], but preferably 1 to 2 times the equivalent amount. Of course, the acetylene derivative [5] can be used in excess, but since the acetylene derivative [5] is generally more expensive, it is preferable to use the aromatic compound [4] in an excess amount.

【0011】金属触媒としては、パラジウム系では、塩
化パラジウム、酢酸パラジウム、トリフェニルホスフィ
ンパラジウム錯体、パラジウム/炭素などが用いられ、
ニッケル系およびロジウム系についても上記パラジウム
系と同様な触媒が用いられる。これらの金属触媒の使用
量は、原料の芳香族ハロゲン化物〔3〕またはアセチレ
ン誘導体〔5〕に対して通常、 0.001〜0.1 倍当量の範
囲である。
As the metal catalyst, in the palladium system, palladium chloride, palladium acetate, triphenylphosphine palladium complex, palladium / carbon, etc. are used.
The catalysts similar to those of the above palladium type are used for nickel type and rhodium type. The amount of these metal catalysts used is usually in the range of 0.001 to 0.1 times the equivalent of the raw material aromatic halide [3] or acetylene derivative [5].

【0012】この反応では、上記金属触媒の他に、助触
媒として、3価のリン化合物または3価のヒ素化合物を
用いてもよく、それらとしては、一般式〔8〕
In this reaction, in addition to the above metal catalyst, a trivalent phosphorus compound or a trivalent arsenic compound may be used as a cocatalyst.

【化13】 [Chemical 13]

【0013】(式中、Yはリン原子またはヒ素原子を示
し、R2 、R3 およびR4 は同一または相異なり、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
またはハロゲン原子を示す。)で示される化合物であっ
て、具体的にはトリ−n−ブチルホスフィン、トリフェ
ニルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−
o−トリルホスファイト、三塩化リン、トリフェニルヒ
素などが例示される。これらのリン化合物またはヒ素化
合物の使用量は、上記の金属触媒に対して 0.5〜50倍
当量、好ましくは1〜30倍当量である。
(In the formula, Y represents a phosphorus atom or an arsenic atom, and R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a halogen atom.) And specifically includes tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri-n-butylphosphine,
Examples include o-tolyl phosphite, phosphorus trichloride, triphenylarsenic and the like. The amount of the phosphorus compound or arsenic compound used is 0.5 to 50 times equivalent, preferably 1 to 30 times equivalent to the above metal catalyst.

【0014】さらにこれらの触媒に加え、銅触媒を用い
てもよく、かかる銅触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、
塩化銅、酸化銅、シアン化銅などが挙げられ、これらの
使用量は、原料のアルケニル化合物〔3〕またはアセチ
レン誘導体〔5〕に対して、通常、 0.001〜0.1 倍当量
の範囲である。勿論これ以上使用することも可能であ
る。
In addition to these catalysts, a copper catalyst may be used. Examples of such a copper catalyst include copper iodide, copper bromide,
Copper chloride, copper oxide, copper cyanide and the like can be mentioned, and the amount of these used is usually in the range of 0.001 to 0.1 times the equivalent of the starting alkenyl compound [3] or acetylene derivative [5]. Of course, it is possible to use more than this.

【0015】塩基性物質としては、アルカリ金属の炭酸
塩、カルボン酸塩、アルコキサイド、水酸化物などや有
機塩基が挙げられ、より具体的には、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等
の炭酸塩、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト等のアルコキサイド、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、ジ−イソプロピルエチルアミン、トリ−n−ブチ
ルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ジメチルア
ニリン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジ
ン、ピペリジン、ピロリジン等の有機塩基が好ましく用
いられる。塩基性物質の使用量は、アルケニル化合物
〔3〕またはアセチレン誘導体〔5〕に対して通常、1
〜5倍当量である。
Examples of the basic substance include alkali metal carbonates, carboxylates, alkoxides, hydroxides and the like, and organic bases, more specifically, hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. , Carbonates such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate and potassium hydrogen carbonate, alkoxides such as sodium methylate and sodium ethylate, diethylamine, triethylamine, di-isopropylethylamine, tri-n-butylamine, tetramethylethylenediamine, dimethyl. Organic bases such as aniline, N-methylmorpholine, N-methylpiperidine, piperidine and pyrrolidine are preferably used. The amount of the basic substance used is usually 1 with respect to the alkenyl compound [3] or the acetylene derivative [5].
~ 5 times equivalent.

【0016】上記反応では必要により、適当な溶媒、例
えば、トルエン、ピリジン、ピコリン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルアミド、N
−メチルピロリドン、メタノール、エタノール、2−プ
ロパノール、メチルエチルケトンなどを反応溶媒として
使用することができる。また、上記塩基を溶媒として用
いることもできる。これらの反応溶媒の使用量は特に制
限されない。また、塩基性物質が有機溶媒に不溶の場合
には、水を添加して均一系または不均一系で反応を行う
ことも可能である。
In the above reaction, if necessary, a suitable solvent such as toluene, pyridine, picoline, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphorylamide, N
-Methylpyrrolidone, methanol, ethanol, 2-propanol, methyl ethyl ketone and the like can be used as a reaction solvent. Further, the above base can be used as a solvent. The amount of these reaction solvents used is not particularly limited. Further, when the basic substance is insoluble in the organic solvent, it is possible to add water to carry out the reaction in a homogeneous system or a heterogeneous system.

【0017】該反応においては、反応温度を高めること
により目的とする化合物の収率を向上させることができ
るが、あまり高温では副生物が増加するので、通常反応
温度は15〜160℃であり、好ましくは30〜140
℃である。反応終了後、抽出、蒸留、再結晶等の通常の
手段により、トラン化合物〔1〕を得ることができる。
また、必要によりカラムクロマトグラフィーあるいは再
結晶等により精製することもできる。
In the reaction, the yield of the target compound can be improved by increasing the reaction temperature, but since the by-product increases at too high temperature, the reaction temperature is usually 15 to 160 ° C. Preferably 30-140
° C. After completion of the reaction, the tolan compound [1] can be obtained by an ordinary means such as extraction, distillation, recrystallization and the like.
If necessary, it can be purified by column chromatography or recrystallization.

【0018】以下、本発明で得られるトラン系化合物
〔1〕の具体例としては、例えば、一般式〔1〕におい
て、Aとしては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノ
ネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、プロピ
ニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニ
ル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデシニル、
ドデシニル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキ
シ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウ
ンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ビニルオキシ、プロ
ペニルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテニルオキシ、ヘ
キセニルオキシ、ヘプテニルオキシ、オクテニルオキ
シ、ノネニルオキシ、デセニルオキシ、プロピニルオキ
シ、ブチニルオキシ、ペンチニルオキシ、ヘキシニルオ
キシ、ヘプチニルオキシ、オクチニルオキシ、ノニリル
オキシ、ドデシニルオキシ、4ープロピルシクロヘキシ
ル、4ープロピルシクロヘキセニル、4ーペンチルシク
ロヘキシル、4ーペンチルシクロヘキセニル、フッ素原
子、トリフロロメチル基、トリフロロメトキシ基、シア
ノ基等があげられる。
Specific examples of the tolan compound [1] obtained in the present invention are, for example, in the general formula [1], A is methyl, ethyl, propyl, butyl,
Pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, propenyl, butenyl,
Pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, dodecenyl, propynyl, butynyl, pentynyl, hexynyl, heptynyl, octynyl, nonynyl, decynyl, undecynyl,
Dodecynyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, nonyloxy, decyloxy, undecyloxy, dodecyloxy, vinyloxy, propenyloxy, butenyloxy, pentenyloxy, hexenyloxy, heptenyloxy, octenyl. Oxy, nonenyloxy, decenyloxy, propynyloxy, butynyloxy, pentynyloxy, hexynyloxy, heptynyloxy, octynyloxy, nonylyloxy, dodecynyloxy, 4-propylcyclohexyl, 4-propylcyclohexenyl, 4-pentylcyclohexyl, 4-pentylcyclohexenyl, fluorine atom, Examples thereof include trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group and cyano group.

【0019】Rとしては、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、プロペニル、ブ
テニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテ
ニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニ
ル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、
ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデ
シニル、ドデシニル、メトキシメチル、エトキシメチ
ル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、ペンチルオキ
シメチル、ヘキシルオキシメチル、ヘプチルオキシメチ
ル、オクチルオキシメチル、ノニルオキシメチル、デシ
ルオキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、プ
ロポキシエチル、ブトキシエチル、ペンチルオキシエチ
ル、ヘキシルオキシエチル、ヘプチルオキシエチル、オ
クチルオキシエチル、ノニルオキシエチル、デシルオキ
シエチルメトキシプロピル、エトキシプロピル、プロポ
キシプロピル、ブトキシプロピル、ペンチルオキシプロ
ピル、ヘキシルオキシプロピル、ヘプチルオキシプロピ
ル、オクチルオキシプロピル、ノニルオキシプロピル、
デシルオキシプロピルメトキシブチル、エトキシブチ
ル、プロポキシブチル、ブトキシブチル、ペンチルオキ
シブチル、ヘキシルオキシブチル、ヘプチルオキシブチ
ル、オクチルオキシブチル、ノニルオキシブチル、デシ
ルオキシブチル、メトキシペンチル、エトキシペンチ
ル、プロポキシペンチル、ブトキシペンチル、ペンチル
オキシペンチル、ヘキシルオキシペンチル、ヘプチルオ
キシペンチル、オクチルオキシペンチル等が挙げられ
る。
R is methyl, ethyl, propyl,
Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, dodecenyl, propynyl, butynyl, pentynyl, hexenyl,
Heptinyl, octynyl, nonynyl, decynyl, undecynyl, dodecynyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, pentyloxymethyl, hexyloxymethyl, heptyloxymethyl, octyloxymethyl, nonyloxymethyl, decyloxymethyl, methoxyethyl. , Ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, pentyloxyethyl, hexyloxyethyl, heptyloxyethyl, octyloxyethyl, nonyloxyethyl, decyloxyethylmethoxypropyl, ethoxypropyl, propoxypropyl, butoxypropyl, pentyloxypropyl, hexyl Oxypropyl, heptyloxypropyl, octyloxypropyl, nonyloxypropyl,
Decyloxypropyl methoxybutyl, ethoxybutyl, propoxybutyl, butoxybutyl, pentyloxybutyl, hexyloxybutyl, heptyloxybutyl, octyloxybutyl, nonyloxybutyl, decyloxybutyl, methoxypentyl, ethoxypentyl, propoxypentyl, butoxypentyl. , Pentyloxypentyl, hexyloxypentyl, heptyloxypentyl, octyloxypentyl and the like.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、一般式〔1〕で示され
るトラン化合物を工業的有利に製造することが出来、こ
のものは液晶化合物として非常に優れた特性を有するた
め、液晶組成物として、さらにはこれを用いた液晶素子
として有効に利用することができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, the tolan compound represented by the general formula [1] can be industrially advantageously produced. Since this compound has very excellent properties as a liquid crystal compound, Further, it can be effectively used as a liquid crystal element using the same.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明を実施例により、更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0022】(実施例1)温度計、攪拌装置を付けた4
ツ口フラスコに、2−メチル−4−〔4−(1−trans
−ペンテニル)−フェニル〕−3−ブチン−2−オール
3.0g(13.1 ミリモル)、4−ブロモベンゾニトリル
3.1g (17.1ミリモル)、トルエン25g、水5g、水
酸化ナトリウム 1.1g (26.3ミリモル)、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム 0.1gを仕込み、80
℃で6時間攪拌した。反応終了後、分液し、油層を10
%塩酸、水、重曹水、水で順次洗浄した。油層を濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、4−〔4−(1−trans −ペンテニル)−フェニル
エチニル〕−ベンゾニトリル2.6 g (収率74%)を得
た。
(Example 1) 4 equipped with a thermometer and a stirrer
In a two-necked flask, 2-methyl-4- [4- (1-trans
-Pentenyl) -phenyl] -3-butyn-2-ol
3.0 g (13.1 mmol), 4-bromobenzonitrile
Charged 3.1 g (17.1 mmol), toluene 25 g, water 5 g, sodium hydroxide 1.1 g (26.3 mmol), tetrakistriphenylphosphine palladium 0.1 g, 80
The mixture was stirred at 0 ° C for 6 hours. After completion of the reaction, the liquid was separated and the oil layer was washed with 10
% Hydrochloric acid, water, aqueous sodium hydrogen carbonate, and water in that order. The oil layer was concentrated and then purified by silica gel column chromatography to obtain 4- [4- (1-trans-pentenyl) -phenylethynyl] -benzonitrile 2.6 g (yield 74%).

【0023】(実施例2)温度計、攪拌装置を付けた4
ツ口フラスコに、4−(4−フルオロ−フェニル)−2
−メチル−3−ブチン−2−オール 3.0g(16.9 ミリモ
ル)、1−ブロモ−4−(1−trans −ペンテニル)−
ベンゼン 2.7g (12.0ミリモル)、トルエン25g、水
5g、水酸化ナトリウム 1.0g (25.0ミリモル)、テト
ラキストリフェニルホスフィンパラジウム 0.1gを仕込
み、80℃で6時間攪拌した。反応終了後、分液し、油
層を10%塩酸、水、重曹水、水で順次洗浄した。油層
を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、4−〔4−(1−trans −ペンテニル)−フェ
ニルエチニル〕−1−フルオロ−ベンゼン2.3 g (収率
73%)を得た。
(Example 2) 4 equipped with a thermometer and a stirrer
In a two-necked flask, 4- (4-fluoro-phenyl) -2
-Methyl-3-butyn-2-ol 3.0 g (16.9 mmol), 1-bromo-4- (1-trans-pentenyl)-
2.7 g (12.0 mmol) of benzene, 25 g of toluene, 5 g of water, 1.0 g (25.0 mmol) of sodium hydroxide and 0.1 g of tetrakistriphenylphosphine palladium were charged, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the layers were separated, and the oil layer was washed successively with 10% hydrochloric acid, water, aqueous sodium hydrogen carbonate and water. The oil layer was concentrated and then purified by silica gel column chromatography to obtain 4- [4- (1-trans-pentenyl) -phenylethynyl] -1-fluoro-benzene (2.3 g, yield 73%).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 17/263 C07C 17/263 22/08 22/08 25/24 25/24 43/23 7419−4H 43/23 C 255/49 255/49 C07D 237/08 C07D 237/08 239/26 239/26 241/12 241/12 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C07C 17/263 C07C 17/263 22/08 22/08 25/24 25/24 43/23 7419- 4H 43/23 C 255/49 255/49 C07D 237/08 C07D 237/08 239/26 239/26 241/12 241/12 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式〔2〕 【化1】 (式中、X1 、X2 、X3 およびX4 は同一または相異
なり、CH、CFまたはNを示し、Aは水素原子、フッ
素原子、トリフロロメチル基、トリフロロメトキシ基、
シアノ基、R1 −(シクロアルキル)基、R1 −(シク
ロアルケニル)基またはR1 −(O)m 基を示し、ここ
で、R1 はC1 〜C12のアルキル基、C3〜C12のアル
ケニル基またはC3 〜C12のアルキニル基を示し、mは
0または1である。)で示されるアセチレン化合物と一
般式〔3〕 【化2】 (式中、Y1 、Y2 、Y3 およびY4 は同一または相異
なり、CH、CFまたはNを示し、RはC1 〜C12のア
ルキル基、C3 〜C12のアルケニル基、C3 〜C 12のア
ルキニル基またはC2 〜C12のアルコキシアルキル基を
示し、Dはハロゲン原子または−SO2 R’を示す。た
だし、R’はフッ素原子で置換されていてもよい低級ア
ルキル基、または置換されていてもよいフェニル基を示
す。)で示されるアルケニル化合物とを金属触媒および
塩基性物質の存在下に反応させることを特徴とする一般
式〔1〕 【化3】 (式中、A、R、X1 、X2 、X3 、X4 、Y1
2 、Y3 およびY4 は、それぞれ前記と同じ意味を表
わす。)で示されるトラン化合物の製造法。
1. A general formula [2]:(In the formula, X1, X2, X3And XFourAre the same or different
Represents CH, CF or N, A is a hydrogen atom,
Elementary atom, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group,
Cyano group, R1 -(Cycloalkyl) group, R1 -(Siku
Alkenyl) group or R1 Indicates a-(O) m group, where
And R1 Is C1 ~ C12Alkyl group of C3~ C12Al
Kenyl group or C3~ C12Is an alkynyl group of
It is 0 or 1. ) With an acetylene compound
General formula [3](In the formula, Y1, Y2, Y3And YFourAre the same or different
Represents CH, CF or N, and R is C1 ~ C12A
Rukiru group, C3~ C12Alkenyl group of C3~ C 12A
Lucinyl group or C2~ C12The alkoxyalkyl group of
, D is a halogen atom or -SO2R'is shown. Was
However, R'is a lower atom which may be substituted with a fluorine atom.
Is a phenyl group or an optionally substituted phenyl group.
You ) An alkenyl compound represented by
Generally characterized by reacting in the presence of a basic substance
Formula [1](In the formula, A, R, X1, X2, X3, XFour, Y1,
Y2, Y3And YFourRespectively have the same meaning as above.
I forgot. ) The manufacturing method of the tolan compound shown by these.
【請求項2】一般式〔4〕 【化4】 (式中、A、D、X1 、X2 、X3 およびX4 は、それ
ぞれ前記と同じ意味を表わす。)で示される芳香族化合
物と一般式〔5〕 【化5】 (式中、R、Y1 、Y2 、Y3 およびY4 は、それぞれ
前記と同じ意味を表わす。)で示されるアセチレン誘導
体とを金属触媒および塩基性物質の存在下に反応させる
ことを特徴とする前記一般式〔1〕で示されるトラン化
合物の製造法。
2. A general formula [4]: (In the formula, A, D, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each have the same meaning as described above.) And an aromatic compound represented by the general formula [5] (Wherein R, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each have the same meaning as described above), and the reaction is carried out in the presence of a metal catalyst and a basic substance. The method for producing a tolan compound represented by the above general formula [1].
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