JPH08287823A - Protection film forming method of ac gas discharge pannel - Google Patents

Protection film forming method of ac gas discharge pannel

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JPH08287823A
JPH08287823A JP7090752A JP9075295A JPH08287823A JP H08287823 A JPH08287823 A JP H08287823A JP 7090752 A JP7090752 A JP 7090752A JP 9075295 A JP9075295 A JP 9075295A JP H08287823 A JPH08287823 A JP H08287823A
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JP
Japan
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protective film
forming
paste
organic
gas discharge
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JP7090752A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Koiwa
一郎 小岩
Mitsuro Mita
充郎 見田
Takao Kanehara
隆雄 金原
Aya Yamanaka
綾 山中
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To improve performance of an AC-PDP pannel by forming a film for protecting a dielectric for accumulating wall electric charge of the AC-PDP by a screen printing method. CONSTITUTION: A paste for forming a protection film is prepared by mixing an organic Mg of monomolecule, organic polymer wall and organic solvent. The paste is printed on a dielectric for accumulating electric charge 16 and thereafter it is baked form a protection film 18 composed of MgO. With such a paste, an MgO protection film 18 can be formed without a pin hole and with high purity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、交流型ガス放電パネ
ルの壁電荷蓄積用誘電体を被覆する保護膜の形成方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a protective film for covering a wall charge storage dielectric of an AC gas discharge panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、交流型ガス放電パネルにあっ
ては、パネルの長寿命化及び特性の向上を目的として、
壁電荷蓄積用誘電体をMgO保護膜で被覆することが行
なわれている。MgO保護膜の形成方法としては、例え
ば文献:テレビジョン学会技術報告 IDY94−14
p1〜6にも開示されているように、薄膜形成技術や
スクリーン印刷法が用いられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in an AC type gas discharge panel, the purpose is to extend the life of the panel and improve its characteristics.
The wall charge storage dielectric is covered with a MgO protective film. As a method of forming the MgO protective film, for example, the literature: Technical Report of the Television Society, IDY94-14.
As disclosed in p1 to p6, a thin film forming technique or a screen printing method is used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら大画面表
示の交流型ガス放電パネルに用いるMgO保護膜を薄膜
形成技術で形成する場合には、大型の薄膜形成装置例え
ば蒸着装置が必要となる。大型の薄膜形成装置は高価で
あり、また大型の薄膜形成装置のランニングコストも高
価となる。これに対し、スクリーン印刷法によりMgO
保護膜を形成すれば、より安価な装置を用いることがで
き、また装置のランニングコストも安価になる。しかし
ながら従来方法でAC−PDPの保護膜を形成すると、
AC−PDPのパネル特性例えば放電開始電圧、放電維
持電圧及び発光効率が、陰極管(CRT)に比して劣
る。
However, in the case of forming the MgO protective film used in the AC type gas discharge panel of the large screen display by the thin film forming technique, a large thin film forming device such as a vapor deposition device is required. The large-sized thin film forming apparatus is expensive, and the running cost of the large-sized thin film forming apparatus is also high. On the other hand, by screen printing, MgO
If the protective film is formed, a cheaper device can be used and the running cost of the device can be reduced. However, when the protective film of AC-PDP is formed by the conventional method,
The panel characteristics of the AC-PDP, such as the discharge starting voltage, the discharge sustaining voltage and the luminous efficiency, are inferior to those of the cathode ray tube (CRT).

【0004】この発明の目的は上述した従来の問題点を
解決し、より良好なパネル特性を得ることのできる保護
膜を、スクリーン印刷法で形成するための方法を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a method for forming a protective film capable of obtaining better panel characteristics by a screen printing method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段及び作用】この目的を達成
するため、この発明の交流型ガス放電パネルの保護膜形
成方法は、交流型ガス放電パネルの壁電荷蓄積用誘電体
上に金属酸化物から成る保護膜を形成するに当り、保護
膜形成用のペーストとして、単一分子の有機金属化合物
と、有機ポリマーと、有機溶剤との混合溶液を用い、こ
のペーストを、壁電荷蓄積用誘電体上に印刷した後に焼
成して、保護膜を形成することを特徴とする。
In order to achieve this object, a method for forming a protective film for an AC type gas discharge panel according to the present invention comprises a metal oxide on a wall charge storage dielectric of the AC type gas discharge panel. In forming a protective film made of, a mixed solution of a single molecule of an organometallic compound, an organic polymer, and an organic solvent was used as a paste for forming the protective film, and this paste was used as a dielectric for wall charge storage. It is characterized in that the protective film is formed by printing on top and then baking.

【0006】このような方法によれば、単分子の有機金
属化合物と、有機ポリマーと、有機溶剤とを混合して保
護膜形成用のペーストを調製する。従ってこのペースト
を焼成することにより、有機金属化合物の金属成分を酸
化して、金属酸化物を生成し、この金属酸化物から成る
保護膜を得ることができる。
According to such a method, a monomolecular organometallic compound, an organic polymer and an organic solvent are mixed to prepare a paste for forming a protective film. Therefore, by firing this paste, it is possible to oxidize the metal component of the organometallic compound to generate a metal oxide and obtain a protective film made of this metal oxide.

【0007】また有機金属化合物、有機ポリマー及び有
機溶剤はそれぞれ有機物であり、これらの有機成分は、
ペースト焼成時の加熱によって、ガス化して焼成雰囲気
中へと散逸する。しかも有機金属化合物は、重合体では
なく単一分子であるので、ペースト焼成時の加熱によ
り、有機金属化合物の金属成分と有機成分とを容易に分
離でき、従ってペースト焼成時に有機金属化合物の有機
成分を容易にガス化できる。
Further, the organic metal compound, the organic polymer and the organic solvent are organic substances, and these organic components are
By heating the paste during firing, it is gasified and dissipated into the firing atmosphere. Moreover, since the organometallic compound is not a polymer but a single molecule, it is possible to easily separate the metal component and the organic component of the organometallic compound by heating during firing of the paste, and thus the organic component of the organometallic compound during firing of the paste. Can be easily gasified.

【0008】従って保護膜と成る金属酸化物中に残存す
る有機成分を減少させることができるので、保護膜と成
る金属酸化物の純度を高めることができる。また残存す
る有機成分を減少させることができるので、保護膜と成
る金属酸化物にピンホールが発生しにくくピンホールの
少ない保護膜を形成できる。
Therefore, since the organic components remaining in the metal oxide forming the protective film can be reduced, the purity of the metal oxide forming the protective film can be increased. Further, since the remaining organic components can be reduced, it is possible to form a protective film in which pinholes are less likely to occur in the metal oxide serving as the protective film and which have few pinholes.

【0009】さらに有機ポリマーを混合することにより
単一分子の有機金属化合物がゲル化するのを防止でき、
従ってそのゲル化によって保護膜形成用のペーストが印
刷しづらくなるのを、回避できる。
Further, by mixing an organic polymer, it is possible to prevent a single molecule of organometallic compound from gelling,
Therefore, it is possible to prevent the paste for forming the protective film from being hard to print due to the gelation.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

(第一実施例)まず第一実施例として、図1に示す交流
型ガス放電パネルのMgO保護膜を形成する例につき説
明する。
(First Embodiment) First, as a first embodiment, an example of forming the MgO protective film of the AC gas discharge panel shown in FIG. 1 will be described.

【0011】図1は、第一実施例に係る交流型ガス放電
パネルの基本構造を概略的に示す要部斜視図である。同
図に示す交流型ガス放電パネル(以下、AC−PDPと
称す)10は面放電型のパネルであって、このAC−P
DP10の背面板12上には、複数対の表示電極14
を、平行配置して設けてある。そしてこれら表示電極1
4を壁電荷蓄積用誘電体16で被覆し、さらに壁電荷蓄
積用誘電体16をその全面にわたって保護膜18で被覆
してある。またこのAC−PDP10の前面板20上に
は、蛍光体層22とバリアリブ(図示せず)とを設けて
ある。
FIG. 1 is a perspective view of a main part schematically showing the basic structure of an AC type gas discharge panel according to the first embodiment. An AC type gas discharge panel (hereinafter referred to as AC-PDP) 10 shown in the figure is a surface discharge type panel.
A plurality of pairs of display electrodes 14 are provided on the back plate 12 of the DP 10.
Are arranged in parallel. And these display electrodes 1
4 is covered with a wall charge storage dielectric 16 and the wall charge storage dielectric 16 is covered with a protective film 18 over the entire surface. A phosphor layer 22 and barrier ribs (not shown) are provided on the front plate 20 of the AC-PDP 10.

【0012】そしてこれら背面板12と前面板20と
を、放電空間24を介し向き合わせて封着し、この放電
空間24に放電ガスを封じ込める。
Then, the back plate 12 and the front plate 20 are opposed to each other through the discharge space 24 and sealed, and the discharge gas is sealed in the discharge space 24.

【0013】相対応する1対の表示電極14間に交流電
圧を印加すると、壁電荷蓄積用誘電体16に起因する壁
電荷が保護膜18上に蓄積され、そしてこの電荷が放電
空間24を介して放電される。この放電に起因して生じ
た紫外線により蛍光体22を励起発光させる。
When an AC voltage is applied between the pair of display electrodes 14 corresponding to each other, the wall charges caused by the wall charge storage dielectric 16 are accumulated on the protective film 18, and the charges are passed through the discharge space 24. Is discharged. The phosphor 22 is excited to emit light by the ultraviolet rays generated by this discharge.

【0014】次にこのAC−PDP10の製造工程の説
明と共に、MgO保護膜の形成方法について説明する。
Next, a method of forming the MgO protective film will be described together with a description of the manufacturing process of the AC-PDP 10.

【0015】まず、背面板12としてソーダライムガラ
スを用意する。そしてこの背面板12上に、Agペース
ト(エレクトロサイエンス ラボラトリーズ社製 ES
L−590)を印刷(印刷はスクリーン印刷法による。
以下、同じ。)して、表示電極端子を形成するための端
子パターンを形成する。然る後、端子パターンを150
℃で15分間加熱して乾燥させる。
First, soda lime glass is prepared as the back plate 12. Then, on the back plate 12, Ag paste (ES manufactured by Electro Science Laboratories, Inc.
L-590) is printed (printing is performed by a screen printing method.
same as below. Then, a terminal pattern for forming the display electrode terminal is formed. After that, change the terminal pattern to 150
Heat at 15 ° C for 15 minutes to dry.

【0016】次に端子パターン上に、Auペースト(エ
ヌ・イー ケムキャット社製 A−4615)を印刷し
て、表示電極14を形成するための電極パターンを形成
する。然る後、電極パターンを150℃で15分間加熱
して乾燥させる。次いで端子パターンと電極パターンと
を580℃で12.5分間加熱して焼成し、焼成した端
子パターンから成る表示電極端子と焼成した電極パター
ンから成る表示電極14とを得る。
Next, an Au paste (A-4615 manufactured by NE Chemcat) is printed on the terminal pattern to form an electrode pattern for forming the display electrode 14. Then, the electrode pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried. Next, the terminal pattern and the electrode pattern are heated and baked at 580 ° C. for 12.5 minutes to obtain a display electrode terminal including the baked terminal pattern and a display electrode 14 including the baked electrode pattern.

【0017】次に表示電極14上に、誘電体ペースト
(奥野製薬工業社製 G3−0496)を印刷して、壁
電荷蓄積用誘電体16を形成するための誘電体パターン
を形成する。然る後、誘電体パターンを150℃で15
分間加熱して乾燥させる。次いで誘電体パターンを58
0℃で12.5分間加熱して焼成し、焼成した誘電体パ
ターンから成る壁電荷蓄積用誘電体16を得る。
Next, a dielectric paste (G3-0496 manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) is printed on the display electrodes 14 to form a dielectric pattern for forming the wall charge storage dielectric 16. After that, apply the dielectric pattern at 150 ° C for 15
Heat for minutes to dry. Then, the dielectric pattern is
It is heated and baked at 0 ° C. for 12.5 minutes to obtain a wall charge storage dielectric 16 composed of the baked dielectric pattern.

【0018】次に表示電極端子上に、誘電体ペースト
(デュポン社製 9741)を印刷して、表示電極端子
のオーバーコートを形成するための誘電体パターンを形
成する。然る後、誘電体パターンを150℃で15分間
加熱して乾燥させる。次いで誘電体パターンを580℃
で12.5分間加熱して焼成し、焼成した誘電体パター
ンから成るオーバーコートを得る。
Next, a dielectric paste (9741 manufactured by DuPont) is printed on the display electrode terminals to form a dielectric pattern for forming an overcoat of the display electrode terminals. After that, the dielectric pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried. Next, the dielectric pattern is applied at 580 ° C.
And baked for 12.5 minutes to obtain an overcoat consisting of the baked dielectric pattern.

【0019】次に壁電荷蓄積用誘電体16上に、保護膜
形成用のペーストを印刷して、保護膜18を形成するた
めの保護膜パターンを形成する。
Next, a protective film forming paste is printed on the wall charge accumulating dielectric 16 to form a protective film pattern for forming the protective film 18.

【0020】保護膜形成用のペーストは単一分子の有機
金属化合物と、有機ポリマーと、有機溶剤との混合溶液
であり、このような保護膜形成用のペーストとして、こ
こではエポキシテクノロジー社製の金属ポリマー溶液を
用いる。この金属ポリマー溶液が含有する有機金属化合
物、有機ポリマー及び有機溶剤は、単一分子の有機Mg
化合物、エポキシポリマー及びm,n−ジメチルホルム
アミドである。
The protective film forming paste is a mixed solution of a single molecule of an organometallic compound, an organic polymer and an organic solvent. As such a protective film forming paste, a paste manufactured by Epoxy Technology Co., Ltd. is used here. A metal polymer solution is used. The organic metal compound, the organic polymer and the organic solvent contained in this metal polymer solution are composed of a single molecule of organic Mg.
Compounds, epoxy polymers and m, n-dimethylformamide.

【0021】次に保護膜パターンを150℃で15分間
加熱して乾燥させ、然る後、保護パターンを580℃で
12.5分間加熱して焼成し、焼成した保護パターンか
ら成る保護膜18を得、背面板12側のパネル形成工程
を終了する。
Next, the protective film pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried, and thereafter, the protective pattern is heated at 580 ° C. for 12.5 minutes and baked, and the protective film 18 made of the baked protective pattern is formed. Then, the panel forming process on the rear plate 12 side is completed.

【0022】ここで用いた保護膜形成用のペーストはエ
ポキシテクノロジー社製の金属ポリマー溶液であり、有
機金属化合物として有機Mg化合物を含有するので、こ
のペーストを印刷及び焼成することにより、MgOから
成る保護膜18を形成できる。
The paste for forming the protective film used here is a metal polymer solution manufactured by Epoxy Technology Co., Ltd. and contains an organic Mg compound as an organic metal compound. Therefore, this paste is made of MgO by printing and firing. The protective film 18 can be formed.

【0023】しかも有機Mg化合物は重合体ではなく単
一分子であり、従ってペースト中において単一分子の状
態で存在する。従ってこの有機Mg化合物の金属成分と
有機成分とを、焼成時の加熱によって容易に分離でき
る。これがため有機成分をガス化して焼成雰囲気中に散
逸させ、保護膜18となるMgO中に残存する有機成分
を減少させることができるので、純度の高いMgO保護
膜18を形成できる。さらに保護膜18となるMgO中
に残存する有機成分を減少させることができるので、M
gO保護膜18にピンホールが生じにくくなる。ピンホ
ールのより少ないMgO保護膜18を形成することによ
り、壁電荷蓄積用誘電体16の保護をより効果的に行な
え従って壁電荷蓄積用誘電体16の長寿命化を期待でき
る。
Moreover, the organic Mg compound is not a polymer but a single molecule and therefore exists in a single molecule state in the paste. Therefore, the metal component and the organic component of the organic Mg compound can be easily separated by heating during firing. Therefore, the organic component can be gasified and dissipated in the firing atmosphere, and the organic component remaining in the MgO forming the protective film 18 can be reduced, so that the MgO protective film 18 with high purity can be formed. Furthermore, since the organic components remaining in the MgO forming the protective film 18 can be reduced, M
Pinholes are less likely to occur in the gO protective film 18. By forming the MgO protective film 18 with fewer pinholes, the wall charge storage dielectric 16 can be protected more effectively, and thus the life of the wall charge storage dielectric 16 can be expected to be extended.

【0024】またここで保護膜形成用のペーストとして
用いたエポキシテクノロジー社製の金属ポリマー溶液は
エポキシポリマーを含有するので、単一分子の有機Mg
化合物のゲル化を防止でき、従って印刷を妨げないよう
に、このペーストの流動性を保持できる。
Since the metal polymer solution manufactured by Epoxy Technology Co., Ltd. used as the paste for forming the protective film contains an epoxy polymer, a single molecule of organic Mg is used.
The flowability of the paste can be maintained so that gelling of the compound can be prevented and thus not hinder printing.

【0025】一方、前面板20としてソーダライムガラ
スを用意する。そしてこの前面板20上に、誘電体ペー
スト(デュポン社製 9741)を印刷して、バリアリ
ブを形成するための下層リブパターンを形成する。然る
後、下層リブパターンを150℃で15分間加熱して乾
燥させる。次いで下層リブパターンを580℃で12.
5分間加熱して焼成し、焼成した下層リブパターンから
成る下層バリアリブを得る。
On the other hand, soda lime glass is prepared as the front plate 20. Then, a dielectric paste (9741 manufactured by DuPont) is printed on the front plate 20 to form a lower layer rib pattern for forming barrier ribs. Then, the lower layer rib pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried. Then, the lower layer rib pattern was formed at 580 ° C.
It is heated and baked for 5 minutes to obtain a lower layer barrier rib composed of the baked lower layer rib pattern.

【0026】次に下層バリアリブに隣接する領域の前面
板20上に、蛍光体ペースト(化成オプトニクス社製
P1−G1)を印刷して、蛍光体層22を形成するため
の蛍光体パターンを形成する。然る後、蛍光体パターン
を150℃で15分間加熱して乾燥させる。ここで用い
たオプトニクス社製の蛍光体ペーストは緑色の蛍光物質
Zn2 SiO4 :Mnを含有するペーストである。
Next, a phosphor paste (made by Kasei Optonix Co., Ltd.) is applied on the front plate 20 in a region adjacent to the lower barrier rib.
P1-G1) is printed to form a phosphor pattern for forming the phosphor layer 22. After that, the phosphor pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried. The phosphor paste manufactured by Optonics Co., Ltd. used here is a paste containing a green phosphor Zn 2 SiO 4 : Mn.

【0027】次に下層バリアリブ上に、誘電体ペースト
(デュポン社製 9741)を印刷して、バリアリブを
形成するための上層リブパターンを形成する。然る後、
上層リブパターンを150℃で15分間加熱して乾燥さ
せる。これら誘電体ペーストの印刷及び上層リブパター
ンの乾燥を繰り返し、上層リブパターンを所望の高さま
で積層したら、上層リブパターンを580℃で12.5
分間加熱して焼成し、焼成した上層リブパターンから成
る上層バリアリブを得る。このようにして下層及び上層
のバリアリブから成る2層構造のバリアリブを得て、前
面板側のパネル形成工程を終了する。
Next, a dielectric paste (9741 manufactured by DuPont) is printed on the lower barrier ribs to form an upper rib pattern for forming the barrier ribs. After that,
The upper rib pattern is heated at 150 ° C. for 15 minutes to be dried. Printing of the dielectric paste and drying of the upper layer rib pattern are repeated, and after the upper layer rib pattern is laminated to a desired height, the upper layer rib pattern is formed at 580 ° C. for 12.5.
It is heated and baked for a minute to obtain an upper barrier rib composed of the baked upper rib pattern. In this way, a barrier rib having a two-layer structure composed of lower and upper barrier ribs is obtained, and the panel forming process on the front plate side is completed.

【0028】背面板側及び前面板側のパネル形成工程を
終了したら、背面板12と前面板20とを放電空間24
を介して封着する。然る後、放電ガスをHe−5%Xe
ガス(He−5%Xeガスを95vol%及び5vol
%の割合で混合したガス)とし、放電空間24のガス圧
が500TorrとなるようにHe−5%Xeガスを放
電空間24に封入して、AC−PDP10を完成する。
After the panel forming process on the back plate side and the front plate side is completed, the back plate 12 and the front plate 20 are connected to the discharge space 24.
Seal through. After that, the discharge gas was He-5% Xe.
Gas (He-5% Xe gas 95 vol% and 5 vol
% Gas), and He-5% Xe gas is enclosed in the discharge space 24 so that the gas pressure in the discharge space 24 is 500 Torr to complete the AC-PDP 10.

【0029】図2は第一実施例に係るAC−PDP及び
比較のためのAC−PDPについて行なった特性試験の
結果を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the results of characteristic tests performed on the AC-PDP according to the first embodiment and the AC-PDP for comparison.

【0030】同図において、パネルNo.4000の第
一実施例に係るAC−PDPは、保護膜形成用のペース
トの焼成温度を580℃として上述の如く製造したAC
−PDP10である。No.4000にあっては、保護
膜形成用ペーストとして有機Mg化合物含有のエポキシ
テクノロジー社製 金属ポリマー溶液を1回印刷して、
膜厚3.6μm程度のMgO保護膜18を形成してい
る。
In the figure, the panel No. The 4000 AC-PDPs according to the first example were manufactured as described above by setting the firing temperature of the protective film forming paste to 580 ° C.
-It is PDP10. No. In 4000, a metal polymer solution containing an organic Mg compound and manufactured by Epoxy Technology Co., Ltd. was printed once as a protective film forming paste,
The MgO protective film 18 having a film thickness of about 3.6 μm is formed.

【0031】パネルNo.4001の第一実施例に係る
AC−PDPは、保護膜形成用のペーストの焼成温度を
460℃とするほかは、No.4000のパネルと同一
の製造条件で製造したAC−PDP10である。
Panel No. The AC-PDP according to the first example of No. 4001 is No. 4001 except that the firing temperature of the paste for forming the protective film is 460 ° C. AC-PDP 10 manufactured under the same manufacturing conditions as the 4000 panel.

【0032】パネルNo.643の比較のためのAC−
PDPは、保護膜18を形成しないほかは、No.40
00のパネルと同一の製造条件で製造したAC−PDP
である。
Panel No. AC for comparison of 643
In PDP, the protective film 18 is not formed, and No. 40
AC-PDP manufactured under the same manufacturing conditions as the 00 panel
Is.

【0033】比較のためのNo.753のパネルは、保
護膜形成用のペーストが異なるほかは、No.4000
のパネルと同一の製造条件で製造したAC−PDPであ
る。No.753で用いた保護膜形成用のペーストは、
粒径1000ÅのMgO微粉(宇部興産製)、エチルセ
ルロース、及び、ブチルカルビトールを、27wt%、
5wt%及び68wt%の混合割合で混合して得たペー
ストである。このMgO微粉は、Mg蒸気とO2 ガスと
の気相酸化反応により(気相法により)形成した単結晶
粒子であって、非常に純度が高い。従ってこのMgO微
粉含有のペーストを用いてMgO保護膜18を形成する
ことにより、AC−PDPのパネル特性として、MgO
保護膜を蒸着法で形成した場合とほぼ同等のパネル特性
を得ることができる。
No. for comparison The panel of No. 753 has a different paste for forming a protective film, and is No. 753. 4000
It is an AC-PDP manufactured under the same manufacturing conditions as the panel of. No. The protective film forming paste used in 753 is
27 wt% of MgO fine powder having a particle size of 1000 Å (manufactured by Ube Industries), ethyl cellulose, and butyl carbitol,
It is a paste obtained by mixing 5 wt% and 68 wt%. The MgO fine powder is a single crystal particle formed by a gas phase oxidation reaction of Mg vapor and O 2 gas (by a gas phase method) and has a very high purity. Therefore, by forming the MgO protective film 18 using the paste containing the MgO fine powder, the MgO protective film 18 has a characteristic of MgO as a panel characteristic of the AC-PDP.
It is possible to obtain panel characteristics that are substantially the same as those when the protective film is formed by the vapor deposition method.

【0034】そしてこれら各AC−PDPにつき、次に
述べるようにして特性試験を行なった。この特性試験に
おいては、相対応する一対の表示電極の一方に周波数2
0KHzの矩形パルスを印加すると共に他方にこの印加
タイミングから半波長ずらしたタイミングで周波数20
KHzの矩形パルスを印加して表示発光のためのプラズ
マ放電を形成する。そしてこのときの放電開始電圧Vf
[V]と、放電維持電圧Vs[V]と、輝度[cd/m
2 ]と、相対応する一対の表示電極の間を流れるセル電
流(表示セル1セル当りに流れるセル電流)[μA/c
ell]と、発光効率[lm/W]とを各パネル毎に調
べる。
A characteristic test was conducted on each of these AC-PDPs as described below. In this characteristic test, the frequency 2 was applied to one of the pair of corresponding display electrodes.
A rectangular pulse of 0 KHz is applied and a frequency of 20
A rectangular pulse of KHz is applied to form a plasma discharge for display light emission. The discharge start voltage Vf at this time
[V], discharge sustaining voltage Vs [V], and brightness [cd / m
2 ] and a cell current flowing between a pair of corresponding display electrodes (cell current flowing per display cell) [μA / c
ell] and luminous efficiency [lm / W] are examined for each panel.

【0035】第一実施例に係るNo.4000及びN
o.4001の各AC−PDPは双方ともに、比較のた
めのNo.643のAC−PDP(保護膜なし)より
も、優れた特性を示している。すなわち放電開始電圧V
f及び放電維持電圧Vsは第一実施例に係るAC−PD
Pの方がより低く、輝度は第一実施例に係るAC−PD
Pの方がより高く、セル電流は第一実施例に係るAC−
PDPの方がより低く、さらに発光効率は第一実施例に
係るAC−PDPの方がより高い。
No. 1 according to the first embodiment. 4000 and N
o. Each of the AC-PDPs 4001 is No. 4001 for comparison. It shows superior characteristics to the AC-PDP of 643 (no protective film). That is, the discharge start voltage V
f and the sustaining voltage Vs are the AC-PD according to the first embodiment.
P is lower and the brightness is AC-PD according to the first embodiment.
P is higher and the cell current is AC− according to the first embodiment.
The PDP is lower, and the luminous efficiency is higher in the AC-PDP according to the first embodiment.

【0036】また第一実施例に係るNo.4000のA
C−PDP(焼成温度580℃)の放電開始電圧Vfと
放電維持電圧Vsとは、比較のためのNo.753のA
C−PDPとほぼ等しいが、発光効率は比較のためのN
o.753のAC−PDPよりも若干劣る。
No. 1 according to the first embodiment. 4000 A
The discharge starting voltage Vf and the discharge sustaining voltage Vs of C-PDP (firing temperature 580 ° C.) are the same as those of No. 3 for comparison. 753 A
Almost equal to C-PDP, but the luminous efficiency is N for comparison.
o. It is slightly inferior to AC-PDP of 753.

【0037】また第一実施例に係るNo.4001のA
C−PDP(焼成温度460℃)の放電開始電圧Vf
は、比較のためのNo.753のAC−PDPよりも高
くなるが、放電維持電圧Vsは比較のためのNo.75
3のAC−PDPよりも低く、発光効率は比較のための
No.753のAC−PDPとほぼ同等である。
No. 1 according to the first embodiment. 4001 A
Discharge starting voltage Vf of C-PDP (baking temperature 460 ° C.)
Is a No. for comparison. The discharge sustaining voltage Vs is higher than that of the AC-PDP of No. 753, but the discharge sustaining voltage Vs. 75
3 is lower than that of AC-PDP, and the luminous efficiency is No. 3 for comparison. It is almost equivalent to the AC-PDP of 753.

【0038】これらNo.753のAC−PDPとの比
較結果によれば、保護膜形成用ペーストの焼成温度を調
整することにより、第一実施例に係るAC−PDPのパ
ネル特性を最適化できると考えられる。
These No. According to the result of comparison with AC-PDP of 753, it is considered that the panel characteristics of the AC-PDP according to the first embodiment can be optimized by adjusting the firing temperature of the protective film forming paste.

【0039】上述した第一実施例では、エポキシテクノ
ロジー社製の金属ポリマー溶液を、MgO保護膜形成用
のペーストに用いたが、このほか、次のようなペースト
をMgO保護膜形成用のペーストとして用いることがで
きる。
In the above-mentioned first embodiment, the metal polymer solution manufactured by Epoxy Technology Co., Ltd. was used as the paste for forming the MgO protective film. In addition to this, the following paste was used as the paste for forming the MgO protective film. Can be used.

【0040】例えば単一分子の有機金属化合物を、マグ
ネシウムジエトキシド、ナフテン酸マグネシウム、オク
チル酸マグネシウム、マグネシウムジメトキシド、マグ
ネシウムn−プロポキシド、マグネシウムi−プロポキ
シド及びマグネシウムn−ブトキシドのなかから選択し
たいずれかひとつとし、有機ポリマーをエポキシポリマ
ーとし、有機溶剤をm,n−ジメチルホルムアミド及び
2,4−ペンタジオンのなかから選択したいずれかひと
つとし、これら有機金属化合物、有機ポリマー及び有機
溶剤の混合溶液を、MgO保護膜形成用のペーストとし
て用いることができる。
For example, the monomolecular organometallic compound is selected from magnesium diethoxide, magnesium naphthenate, magnesium octylate, magnesium dimethoxide, magnesium n-propoxide, magnesium i-propoxide and magnesium n-butoxide. The organic polymer is an epoxy polymer, and the organic solvent is any one selected from m, n-dimethylformamide and 2,4-pentadione, and a mixture of the organometallic compound, the organic polymer and the organic solvent. The solution can be used as a paste for forming a MgO protective film.

【0041】(第二実施例)上述した第一実施例では、
保護膜形成用のペーストを、単一分子の有機Mg化合物
を混合した保護膜形成用のペーストを用いて、スクリー
ン印刷法により、MgO保護膜18を形成するようにした
が、この第二実施例では、有機アルカリ土類化合物及び
有機希土類化合物の2種の有機金属化合物を混合した保
護膜形成用のペーストを用いて、アルカリ土類及び希土
類を含有する複合酸化物から成る保護膜18を形成する。
(Second Embodiment) In the above-mentioned first embodiment,
As the paste for forming the protective film, the paste for forming the protective film in which the organic Mg compound of a single molecule is mixed is used to form the MgO protective film 18 by the screen printing method. Then, a protective film 18 made of a composite oxide containing alkaline earth and rare earth is formed by using a protective film forming paste in which two kinds of organic metal compounds of an organic alkaline earth compound and an organic rare earth compound are mixed. .

【0042】アルカリ土類及び希土類を含有する複合酸
化物としては、例えばAB24 型複合酸化物或はA1
X A21-X24 型複合酸化物を挙げることができ
る。ここで、A、A1、A2:アルカリ土類元素(2A
族元素)、B:希土類元素である。アルカリ土類元素
A、A1、A2としては例えばBa、Sr、Ca或はM
gを用い、希土類元素Bとしては例えばLa、Y、D
y、Gd或はYbを用いることができる。
The complex oxide containing alkaline earth and rare earth is, for example, AB 2 O 4 type complex oxide or A1.
Examples thereof include X A2 1-X B 2 O 4 type composite oxides. Here, A, A1, A2: alkaline earth elements (2A
Group element), B: Rare earth element. Examples of the alkaline earth elements A, A1 and A2 are Ba, Sr, Ca or M.
g, and the rare earth element B is, for example, La, Y, D
y, Gd or Yb can be used.

【0043】これらAB24 型及びA1X A21-X
24 型の複合酸化物はいずれもスピネル構造を有し、
これらスピネル構造の複合酸化物は結晶化温度が低いの
で結晶性の良好な保護膜18を形成でき、従ってAC−P
DPのパネル特性例えば放電開始電圧Vf、放電維持電
圧Vs及び発光効率を、より一層向上できると期待され
る。
These AB 2 O 4 type and A1 X A2 1-X B
Each of the 2 O 4 type complex oxides has a spinel structure,
Since these spinel-structured complex oxides have a low crystallization temperature, the protective film 18 having good crystallinity can be formed.
It is expected that the panel characteristics of DP, such as the discharge start voltage Vf, the discharge sustaining voltage Vs, and the light emission efficiency, can be further improved.

【0044】AB24 型の複合酸化物から成る保護膜
18を形成するための保護膜形成用ペーストとして、次に
挙げるものを用いることができる。
Protective film made of AB 2 O 4 type complex oxide
As the protective film forming paste for forming 18, the following can be used.

【0045】例えば、アルカリ土類元素Aを含有する有
機アルカリ土類化合物を、バリウムイソプロポキシド、
ストロンチウムイソプロポキシド、マグネシウムイソプ
ロポキシド及びカルシウムイソプロポキシドのなかから
選択したいずれか一つとし、希土類元素Bを含有する有
機希土類化合物を、ガドリニウムイソプロポキシド、イ
ットリウムイソプロポキシド、イットリビウムイソプロ
ポキシド、ディスプロシウムイソプロポキシド及びラン
タンイソプロポキシドのなかから選択したいずれか一つ
とし、有機ポリマーをエポキシポリマーとし、かつ有機
溶剤をm,n−ジメチルホルムアミド及び2,4−ペン
タジオンのなかから選択したいずれかひとつとし、これ
ら有機アルカリ土類化合物と有機希土類化合物と有機ポ
リマーと有機溶剤との混合溶液を、保護膜形成用ペース
トとして用いることができる。
For example, an organic alkaline earth compound containing an alkaline earth element A is barium isopropoxide,
Strontium isopropoxide, magnesium isopropoxide, and calcium isopropoxide are selected as one of the organic rare earth compounds containing the rare earth element B, and gadolinium isopropoxide, yttrium isopropoxide, ytribium isopropoxide are used. One of propoxide, dysprosium isopropoxide and lanthanum isopropoxide, the organic polymer is an epoxy polymer, and the organic solvent is m, n-dimethylformamide and 2,4-pentadione. Any one selected from the above, a mixed solution of these organic alkaline earth compound, organic rare earth compound, organic polymer, and organic solvent can be used as the protective film forming paste.

【0046】またA1X A21-X24 型の複合酸化
物から成る保護膜18を形成するための保護膜形成用ペー
ストとして、次に挙げるものを用いることができる。
The following paste can be used as the protective film forming paste for forming the protective film 18 made of the A1 x A2 1-x B 2 O 4 type composite oxide.

【0047】例えば、アルカリ土類元素A1及びA2を
含有する有機アルカリ土類化合物を、バリウムイソプロ
ポキシド、ストロンチウムイソプロポキシド、マグネシ
ウムイソプロポキシド及びカルシウムイソプロポキシド
のなかから選択した2種の異なる化合物とし、希土類元
素Bを含有する有機希土類化合物を、ガドリニウムイソ
プロポキシド、イットリウムイソプロポキシド、イット
リビウムイソプロポキシド、ディスプロシウムイソプロ
ポキシド及びランタンイソプロポキシドのなかから選択
したいずれか一つとし、有機ポリマーをエポキシポリマ
ーとし、かつ有機溶剤をm,n−ジメチルホルムアミド
及び2,4−ペンタジオンのなかから選択したいずれか
ひとつとし、これら2種の有機アルカリ土類化合物と有
機希土類化合物と有機ポリマーと有機溶剤との混合溶液
を、保護膜形成用ペーストとして用いることができる。
For example, an organic alkaline earth compound containing alkaline earth elements A1 and A2 is selected from two different kinds selected from barium isopropoxide, strontium isopropoxide, magnesium isopropoxide and calcium isopropoxide. As the compound, an organic rare earth compound containing a rare earth element B is selected from gadolinium isopropoxide, yttrium isopropoxide, ytterbium isopropoxide, dysprosium isopropoxide and lanthanum isopropoxide. The organic polymer is an epoxy polymer, and the organic solvent is any one selected from m, n-dimethylformamide and 2,4-pentadione, and these two organic alkaline earth compounds and organic rare earth compounds are used. A mixed solution of machine the polymer and the organic solvent may be used as a protective film-forming paste.

【0048】この発明は上述した実施例にのみ限定され
るものではなく、この発明の趣旨の範囲内において、各
構成成分の形状、寸法、配設位置、形成材料、組成、温
度及びそのほかを任意好適に変更できる。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and the shape, dimensions, arrangement position, forming material, composition, temperature, and others of each constituent component can be arbitrarily selected within the scope of the present invention. It can be changed appropriately.

【0049】例えばこの発明の保護膜は、図1に示す構
造以外の種々の構造のAC−PDPに適用できる。
For example, the protective film of the present invention can be applied to AC-PDPs having various structures other than the structure shown in FIG.

【0050】[0050]

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明の交流型ガス放電パネルの保護膜形成方法によれ
ば、保護膜形成用のペーストは有機金属化合物と有機ポ
リマーと有機溶剤との混合溶液である。これら有機金属
化合物、有機ポリマー及び有機溶剤は有機物であって、
これらの有機成分はペースト焼成時の加熱によって、ガ
ス化して焼成雰囲気中へと散逸する。しかも有機金属化
合物は、重合体ではなく単一分子であるので、ペースト
焼成時の加熱により、有機金属化合物の金属成分と有機
成分とを容易に分離でき、従ってペースト焼成時に有機
金属化合物の有機成分を容易にガス化できる。
As is apparent from the above description, according to the method of forming a protective film for an AC gas discharge panel of the present invention, the paste for forming a protective film comprises an organic metal compound, an organic polymer and an organic solvent. It is a mixed solution. These organometallic compounds, organic polymers and organic solvents are organic substances,
These organic components are gasified and dissipated into the firing atmosphere by heating during paste firing. Moreover, since the organometallic compound is not a polymer but a single molecule, it is possible to easily separate the metal component and the organic component of the organometallic compound by heating during firing of the paste, and thus the organic component of the organometallic compound during firing of the paste. Can be easily gasified.

【0051】従って保護膜と成る金属酸化物中に残存す
る有機成分を減少させることができるので、保護膜と成
る金属酸化物の純度を高めることができ、その結果、A
C−PDPのパネル特性例えば放電開始電圧、放電維持
電圧及び発光効率を向上できる。
Therefore, since the organic components remaining in the metal oxide forming the protective film can be reduced, the purity of the metal oxide forming the protective film can be increased. As a result, A
It is possible to improve the panel characteristics of the C-PDP, such as the discharge starting voltage, the discharge sustaining voltage, and the luminous efficiency.

【0052】また残存する有機成分を減少させることが
できるので、保護膜と成る金属酸化物にピンホールが発
生しにくい。従ってピンホールの少ない保護膜を形成で
きるので、AC−PDPの壁電荷蓄積用誘電体の保護を
より効果的に行なえる。
Further, since the remaining organic components can be reduced, pinholes are less likely to occur in the metal oxide forming the protective film. Therefore, since the protective film with few pinholes can be formed, the wall charge storage dielectric of the AC-PDP can be protected more effectively.

【0053】さらに有機ポリマーを混合することにより
単一分子の有機金属化合物がゲル化するのを防止でき、
従ってそのゲル化によって保護膜形成用のペーストが印
刷しづらくなるのを、回避できる。
Further, by mixing an organic polymer, it is possible to prevent a single molecule of organometallic compound from gelling,
Therefore, it is possible to prevent the paste for forming the protective film from being hard to print due to the gelation.

【0054】これがため、AC−PDPのパネル特性を
より向上できる保護膜を、スクリーン印刷法により形成
できる。スクリーン印刷法により保護膜を形成すること
により、AC−PDPをより安価に製造できる。
Therefore, the protective film capable of further improving the panel characteristics of the AC-PDP can be formed by the screen printing method. By forming the protective film by the screen printing method, the AC-PDP can be manufactured more inexpensively.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第一実施例に係るAC−PDPの基
本構造を概略的に示す要部斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a main part schematically showing the basic structure of an AC-PDP according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第一実施例に係るAC−PDPの特
性試験結果を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a characteristic test result of the AC-PDP according to the first embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:交流型ガス放電パネル(AC−PDP) 12:背面板 14:表示電極 16:壁電荷蓄積用誘電体 18:保護膜 20:前面板 24:放電空間 10: AC type gas discharge panel (AC-PDP) 12: Back plate 14: Display electrode 16: Wall charge storage dielectric 18: Protective film 20: Front plate 24: Discharge space

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山中 綾 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Aya Yamanaka 1-7-12 Toranomon, Minato-ku, Tokyo Oki Electric Industry Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 交流型ガス放電パネルの壁電荷蓄積用誘
電体上に金属酸化物から成る保護膜を形成するに当り、 保護膜形成用のペーストとして、単一分子の有機金属化
合物と、有機ポリマーと、有機溶剤との混合溶液を用
い、 該ペーストを、壁電荷蓄積用誘電体上に印刷した後に焼
成して、保護膜を形成することを特徴とする交流型ガス
放電パネルの保護膜形成方法。
1. When forming a protective film made of a metal oxide on a wall charge storage dielectric of an AC type gas discharge panel, a single-molecule organometallic compound and an organic compound are used as a protective film forming paste. Using a mixed solution of a polymer and an organic solvent, the paste is printed on the wall charge storage dielectric and then fired to form a protective film, thereby forming a protective film for an AC gas discharge panel. Method.
【請求項2】 請求項1記載の交流型ガス放電パネルの
保護膜形成方法において、 有機Mg化合物を混合した保護膜形成用のペーストを用
いて、Mg酸化物から成る保護膜を形成することを特徴
とする交流型ガス放電パネルの保護膜形成方法。
2. The method for forming a protective film for an AC gas discharge panel according to claim 1, wherein the protective film made of Mg oxide is formed using a protective film forming paste mixed with an organic Mg compound. A method for forming a protective film for an AC gas discharge panel, which is characterized.
【請求項3】 請求項1記載の交流型ガス放電パネルの
保護膜形成方法において、 有機アルカリ土類化合物及び有機希土類化合物の2種を
混合した保護膜形成用のペーストを用いて、アルカリ土
類及び希土類を含有する複合酸化物から成る保護膜を形
成することを特徴とする交流型ガス放電パネルの保護膜
形成方法。
3. The method for forming a protective film for an AC gas discharge panel according to claim 1, wherein an alkaline earth is formed by using a paste for forming a protective film in which two kinds of organic alkaline earth compound and organic rare earth compound are mixed. And a method of forming a protective film of an alternating-current gas discharge panel, which comprises forming a protective film made of a complex oxide containing a rare earth element.
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