JPH08286064A - Production of high-polymer optical waveguide - Google Patents
Production of high-polymer optical waveguideInfo
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- JPH08286064A JPH08286064A JP9377495A JP9377495A JPH08286064A JP H08286064 A JPH08286064 A JP H08286064A JP 9377495 A JP9377495 A JP 9377495A JP 9377495 A JP9377495 A JP 9377495A JP H08286064 A JPH08286064 A JP H08286064A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光通信分野、光情報処
理分野において使用される光デバイスを構成する導波路
型光学素子の作製方法に関するもので、特に屈曲性に富
む高分子材料を用いた高分子光導波路の作製方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a waveguide type optical element which constitutes an optical device used in the fields of optical communication and optical information processing, and particularly uses a polymer material having high flexibility. The present invention relates to a method for producing a polymer optical waveguide.
【0002】[0002]
【従来の技術】光通信分野、光情報処理分野において使
用される光デバイスを構成する導波路型光学素子は、石
英ガラス、誘電体結晶LNbO3 等の材料からなるもの
である。また、この導波路型光学素子の作成方法は、一
般にLSIプロセスでよく用いられるフォトリソグラフ
ィおよびドライエッチングプロセスの組合せにより微細
加工を施す工程を有する。したがって、高性能な導波路
型光素子を作製することが可能である(例えば文献:河
内正夫 Optical and Quantum E
lectronics 22巻391ページ(1990
年)参照せよ)。また、生産コストを下げることを目的
として、同様なプロセスで素子を作製する際に、より安
価な材料である高分子材料を用いる試みもなされている
(文献今村他 Electronics Letter
s 27巻1342ページ(1991年))。また、最
近、金型を用いた高分子材料を用いた光導波路の作製が
実施されている。2. Description of the Related Art A waveguide type optical element constituting an optical device used in the fields of optical communication and optical information processing is made of a material such as quartz glass and dielectric crystal LNbO 3 . In addition, this method of producing a waveguide type optical element has a step of performing fine processing by a combination of photolithography and dry etching processes which are generally used in an LSI process. Therefore, it is possible to manufacture a high-performance waveguide type optical element (for example, reference: Masao Kawauchi Optical and Quantum E).
electronics Vol. 22, page 391 (1990)
Year)). Further, in order to reduce the production cost, attempts have been made to use a polymer material, which is a cheaper material, when manufacturing an element by the same process (reference Imamura et al. Electronics Letter).
s 27: 1342 (1991)). In addition, recently, an optical waveguide using a polymer material using a mold has been manufactured.
【0003】ところで、近年のLSI作製プロセスの発
展は著しく、例えばシリコン基板上に作製された多数の
回路チップを切り放すための手段としてダイシングソー
が開発されている。このダイシングソーは高性能のシリ
コン切削機(例えば、ディスコ社製)として知られてい
る。また、最近では、このダイシングソーに用いられる
刃の厚さを、高精度に任意の厚さ(5μm程度)に制御
することが可能となっている。また切削位置精度も、
0.1μm程度まで制御できるようになった。By the way, in recent years, the LSI manufacturing process has made remarkable progress, and for example, a dicing saw has been developed as a means for cutting off a large number of circuit chips manufactured on a silicon substrate. This dicing saw is known as a high-performance silicon cutting machine (for example, manufactured by DISCO). In addition, recently, it has become possible to control the thickness of the blade used in this dicing saw to a desired thickness (about 5 μm) with high accuracy. Also, the cutting position accuracy
It has become possible to control up to about 0.1 μm.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の作
成方法は、製造プロセスが繁雑なこと、作製装置が高価
なことから、大量生産には適さず、また生産コストを大
幅に削減することは困難である。However, the above-mentioned conventional manufacturing method is not suitable for mass production because the manufacturing process is complicated and the manufacturing apparatus is expensive, and it is not possible to significantly reduce the production cost. Have difficulty.
【0005】ところで、最近、金型を用いた高分子材料
を用いた光導波路の作製も実施されている。しかし、金
型を用いた方法は、大量生産には適しているが、金型の
作製が高価で時問がかかる。したがって、少量多品極の
様々な用途に対応する方法としては適さない。By the way, recently, fabrication of an optical waveguide using a polymer material using a mold has been carried out. However, although the method using a mold is suitable for mass production, the mold is expensive to manufacture and time-consuming. Therefore, it is not suitable as a method for various purposes such as a small quantity and a large number of products.
【0006】さらに、無機材料を用いた光導波路に比
ベ、高分子材料が屈曲性に富むことから、高分子材料を
用いれば、フレキシブルな光導波路が作製できると考え
られていたが、実際には安価で簡便な方法でフレキシブ
ルな導波路を作製する方法はなかった。Further, since a polymeric material is more flexible than an optical waveguide using an inorganic material, it has been considered that a flexible optical waveguide can be manufactured by using a polymeric material. Has no method of making a flexible waveguide by an inexpensive and simple method.
【0007】したがって、本発明は上記問題点を解決
し、多様なニーズに合わせ、しかも、大量、少量生産に
関わり無く、高性能な導波路型光素子を安価で簡便に作
製できる作製法を提供することを目的とする。Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems and provides a method of manufacturing a high-performance waveguide type optical element that meets various needs and can be manufactured inexpensively and easily regardless of mass production or small quantity production. The purpose is to do.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第一の発明にもとづく高分子光導波路の作製方法
は、基板上にクラッドとなる高分子からなる第1層を形
成する工程と、該第1層よりも屈折率が高い高分子から
なる第2層を形成する工程と、該第2層の一部を機械的
に切削除去することによってコア部を形成する工程と、
該コア部より屈折率が低い高分子材料でコア部を覆う第
3層を形成する工程とを有することを特徴とする。In order to solve the above problems, a method of producing a polymer optical waveguide according to the first invention comprises a step of forming a first layer made of a polymer to be a clad on a substrate. A step of forming a second layer made of a polymer having a refractive index higher than that of the first layer, and a step of mechanically cutting and removing a part of the second layer to form a core portion,
And a step of forming a third layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion.
【0009】好ましくは、コア部より屈折率が低い高分
子材料でコア部を覆う第3層を形成する工程の後に、基
板を除去する工程が設けられている。Preferably, a step of removing the substrate is provided after the step of forming the third layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion.
【0010】好ましくは、第2層の一部を機械的に切削
除去することによってコア部を形成する工程では、ダイ
シングソーを用いて切削を行う。Preferably, in the step of forming the core portion by mechanically cutting and removing a part of the second layer, cutting is performed using a dicing saw.
【0011】また、上記課題を解決するために、第二の
発明にもとづく高分子光導波路の作製方法は、基板上に
クラッドとなる高分子よりなる第1層を形成する工程
と、該第1層の一部を機械的に切削除去して、該第1層
に溝部を形成する工程と、該溝部に該第1層よりも屈折
率が高いコア用高分子材料を流し込む工程と、該コア用
高分子材料の不要部分を除去してコア部を作製する工程
と、該コア部より屈折率が低い高分子材料でコア部を覆
う第2層を形成する工程とを有することを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method for producing a polymer optical waveguide according to the second invention comprises a step of forming a first layer made of a polymer serving as a clad on a substrate and the first step. A step of mechanically cutting and removing a part of the layer to form a groove in the first layer; a step of pouring a polymer material for core having a refractive index higher than that of the first layer into the groove; And a step of removing an unnecessary portion of the polymer material for producing a core part, and a step of forming a second layer covering the core part with a polymer material having a refractive index lower than that of the core part. .
【0012】好ましくは、コア部より屈折率が低い高分
子材料でコア部を覆う第2層を形成する工程の後に、基
板を除去する工程が設けられている。[0012] Preferably, a step of removing the substrate is provided after the step of forming the second layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion.
【0013】また、好ましくは、第1層の一部を機械的
に切削除去して該第1層に溝部を形成する工程では、ダ
イシングソーを用いて切削を行う。Further, preferably, in the step of mechanically cutting and removing a part of the first layer to form a groove portion in the first layer, cutting is performed using a dicing saw.
【0014】[0014]
【実施例】本発明にもとづく高分子光導波路の作製方法
は、(1)材料的にコストが低く、加工が容易な高分子
材料が用いられること、(2)素子を構成する導波路作
製ブロセスにおいて、大がかりな装置を必要としないこ
と、(3)光を導波させる導波路のコア部分を、ダイシ
ングソー等の機械的切削で直接作製すること等を特徴と
している。本発明では、好ましくはダイシングソーの位
置精度と刃の厚さ制御性に注目し、ダイシングソーを高
分子材料を用いた光材料の作製に用いる。EXAMPLES A method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention is as follows: (1) a polymer material that is low in material cost and easy to process is used; and (2) a process for producing a waveguide that constitutes an element. In (3), no large-scale device is required, and (3) the core portion of the waveguide for guiding light is directly manufactured by mechanical cutting with a dicing saw or the like. In the present invention, preferably, attention is paid to the positional accuracy of the dicing saw and the controllability of the thickness of the blade, and the dicing saw is used for producing an optical material using a polymer material.
【0015】図1は、本発明にもとづく高分子光導波路
の作成方法を説明するための模式的断面図である。図1
中、(a)は高分子層を基板上に積層する工程を説明す
るための図、(b)は所望の形状からなるコアを形成す
る工程を説明するための図、(c)は再びクラッド層を
設ける工程を説明するための図である。FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining a method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention. FIG.
In the figure, (a) is a diagram for explaining a step of laminating a polymer layer on a substrate, (b) is a diagram for explaining a step of forming a core having a desired shape, and (c) is a clad again. It is a figure for demonstrating the process of providing a layer.
【0016】本発明にもとづく高分子光導波路の作成方
法は、まず基板1上にスピンコート、デイッピング等の
手段を用いて屈曲性に富む高分子材料からなるクラッド
層2を積層する。つづいて、該クラッド層2上により一
層屈折率の高い高分子材料からなるクラッド層3を積層
する(図1(a))。つぎに、所望の形状のコア部分4
を残すように、コア部分の両側をダイシングソー5ある
いは、それと同等の機能を有する機械的切削法により除
去する(図1(b))。その後、作製された滞部分とコ
アの上方部分が覆われるように、再びクラッド材料6を
塗布する(図1(c))。In the method of producing a polymer optical waveguide according to the present invention, first, a clad layer 2 made of a polymer material having high flexibility is laminated on a substrate 1 by means of spin coating, dipping or the like. Subsequently, a clad layer 3 made of a polymer material having a higher refractive index is laminated on the clad layer 2 (FIG. 1A). Next, the core portion 4 having a desired shape
So that both sides of the core portion are removed by a dicing saw 5 or a mechanical cutting method having a function equivalent to that (FIG. 1B). After that, the clad material 6 is applied again so that the produced stagnant portion and the upper portion of the core are covered (FIG. 1C).
【0017】上記コア部分4の寸法は、光導波路の導波
特性に大きな影響を与える。光通信波長帯である1.3
μmおよび1.55μmにおいて使用するためには、マ
ルチモード導波路で数10μm角、シングルモード導波
路で数μm角の矩形のコアを有する導波路の作製が求め
られる。ところで、上記作製法では、コア部分4の寸法
は、ダイシングソーの刃の厚さ精度よりも、むしろ切削
する刃の位置精度に依存する。ダイシングソーの位置精
度は、0.1μm程度有り、コア作製に必要な精度とし
て十分である。コア形状は、ダイシングソーの切削断面
の形状に依存する。実際に、高分子をダイシングソーで
切削した断面の垂直性も良く、なめらかであり、矩形導
波路のコアとして使用可能である。The size of the core portion 4 has a great influence on the waveguide characteristics of the optical waveguide. Optical communication wavelength band 1.3
For use in μm and 1.55 μm, it is required to fabricate a waveguide having a rectangular core of several tens of μm square in a multimode waveguide and several μm square in a single mode waveguide. By the way, in the above manufacturing method, the size of the core portion 4 depends on the positional accuracy of the blade to be cut, rather than the accuracy of the thickness of the blade of the dicing saw. The positional accuracy of the dicing saw is about 0.1 μm, which is sufficient as the accuracy required for core production. The core shape depends on the shape of the cut cross section of the dicing saw. In fact, the cross section obtained by cutting a polymer with a dicing saw has good verticality, is smooth, and can be used as the core of a rectangular waveguide.
【0018】図2は、本発明にもとづく高分子光導波路
の作成方法の第2例を説明するための図である。図中、
(a)は高分子クラッド層を基板上に積層し、つづいて
所望の形状からなるコアを形成する工程を説明するため
の図、(b)はクラッド層の高分子よりも屈折率の高い
コア高分子を塗布する工程を説明するための図、(c)
はコア形成後にクラッド材料を塗布する工程を説明する
ための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a second example of the method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention. In the figure,
(A) is a figure for explaining a step of laminating a polymer clad layer on a substrate and then forming a core having a desired shape, and (b) is a core having a refractive index higher than that of the polymer of the clad layer. The figure for demonstrating the process of apply | coating a polymer, (c)
FIG. 4 is a diagram for explaining a step of applying a clad material after forming the core.
【0019】この作成方法では、まず基板7上にスピン
コート、デイッピング等の手段によりクラッドとして用
いる高分子8を塗布し、所望の形状のコア部分を、ダイ
シングソー9あるいは、それと同等の機能を有する機械
的切削法により除去する(図1(a))。次に、クラッ
ドの高分子より屈折率の高いコア用高分子10を、コア
部分が埋まるように、塗布する(図1(b))。そし
て、余分のコア用高分子を除去してコア11を形成す
る。その後、再びクラッド材料12を塗布する(図1
(c))。この作製法では、コアサイズは、ダイシング
ソーの刃の厚さ精度に依存する。ダイシングソーの刃の
厚さは、5μm程度から1μm程度の精度で任意の厚さ
のものを得ることが可能であり、コア作製の精度として
十分である。コア形状は、ダイシングソーの切削断面の
形状に依存する。実際に、高分子をダイシングソーで切
削した断面の垂直性も良く、また表面はなめらかであ
り、矩形導波路のコアとして使用可能である。また、切
削された、高分子溝の幅は、ダイシングソーの刃よりも
3〜5μm程度広くなる。これは、用いる刃と、切削さ
れる高分子の組合せによって異なるが、刃と実際に作製
された溝幅の関係を最初に求めておけば、再現性が良い
ため精度の良い加工が可能である。以上、図1および図
2を参照して、基板上に屈曲性のない光導波路を作製す
る方法について説明した。In this manufacturing method, the polymer 8 used as a clad is first coated on the substrate 7 by means such as spin coating or dipping, and the core portion having a desired shape has a dicing saw 9 or a function equivalent thereto. It is removed by a mechanical cutting method (FIG. 1 (a)). Next, the core polymer 10 having a refractive index higher than that of the clad polymer is applied so that the core portion is filled (FIG. 1B). Then, the excess polymer for core is removed to form the core 11. After that, the clad material 12 is applied again (see FIG. 1).
(C)). In this manufacturing method, the core size depends on the blade thickness accuracy of the dicing saw. The thickness of the blade of the dicing saw can be an arbitrary thickness with an accuracy of about 5 μm to about 1 μm, which is sufficient as the accuracy of core production. The core shape depends on the shape of the cut cross section of the dicing saw. In fact, the cross section obtained by cutting a polymer with a dicing saw has good verticality, and the surface is smooth, and it can be used as a core of a rectangular waveguide. Further, the width of the cut polymer groove is about 3 to 5 μm wider than that of the blade of the dicing saw. This depends on the combination of the blade used and the polymer to be cut, but if the relationship between the blade and the groove width actually created is first obtained, reproducibility is good and accurate processing is possible. . The method of manufacturing an inflexible optical waveguide on a substrate has been described above with reference to FIGS.
【0020】つぎに、屈曲性を有する光導波路の作製方
法について説明する。Next, a method of manufacturing an optical waveguide having flexibility will be described.
【0021】基板として、銅やアルミニウムを蒸着等で
積層した基板を用いる。そして、図1または図2に従っ
て光導波路を作製し、最後に、銅や、アルミニウムを溶
かして基板から、高分子導波路部分のみを剥離すればよ
い。銅は塩化第2鉄水溶液や塩酸溶液で、アルミニウム
はリン酸溶液中に浸せば、容易に溶けて、基板から高分
子導波路部分を剥離できる。これらの溶液は、多くの高
分子を変質させることがほとんどないため、光の導波特
性に影響を与えない。以下実施例により本発明を具体的
に述べる。As the substrate, a substrate in which copper or aluminum is laminated by vapor deposition or the like is used. Then, an optical waveguide is produced according to FIG. 1 or FIG. 2, and finally, only the polymer waveguide portion may be peeled off from the substrate by melting copper or aluminum. Copper is an aqueous ferric chloride solution or hydrochloric acid solution, and aluminum is easily dissolved by immersing it in a phosphoric acid solution, so that the polymer waveguide portion can be separated from the substrate. Since these solutions hardly change the quality of many polymers, they do not affect the waveguiding characteristics of light. The present invention will be specifically described below with reference to examples.
【0022】<実施例1>図1に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(シングルモード光導波路)を作製
する方法の一例を説明する。<Example 1> An example of a method for producing a polymer optical waveguide (single mode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG.
【0023】ここでは、光導波路を、波長1.3μm以
上でシングルモード動作させるため、比屈折率差△=
0.3%となるようにする。そのため、クラッド用高分
子としては、重水素化ポリメチルメタクリレートとフッ
素化メタクリレート(モル比=96.5:3.5)の共
重合体(屈折率:1.4777)、コア用高分子として
は重水素化ポリメチルメタクリレート(屈祈率:1.4
821)を用いた。この高分子を、それぞれ、クロロベ
ンゼンとキシレンの混合溶液に溶かし、溶液状とした。Here, since the optical waveguide is operated in a single mode at a wavelength of 1.3 μm or more, the relative refractive index difference Δ =
Make it 0.3%. Therefore, the polymer for the clad is a copolymer of deuterated polymethylmethacrylate and fluorinated methacrylate (molar ratio = 96.5: 3.5) (refractive index: 1.4777), and the polymer for the core is Deuterated polymethylmethacrylate (Survival rate: 1.4
821) was used. Each of these polymers was dissolved in a mixed solution of chlorobenzene and xylene to form a solution.
【0024】シリコン基板上に、クラッド用高分子を、
約25μm厚にスピンコートした。ベーク乾燥処理後、
コア用高分子を約8μm厚にスピンコートした。次に、
50μm幅のダイシングソーを用い、幅8μmのコア部
分が残るようにコア部分の両側を切削した。最後に、コ
ア部分を覆うように、25μm厚にクラッド用ポリマー
をスピンコートし、埋め込み型導波路を作製した。この
ようにしてできた光導波路を5cmの長さに切断し断面
を顕微鏡で観察したところ、高さ8μm、幅8μmのコ
ア部分の矩形パタンが見られた。波長1.3μmのレー
ザー光を入射し、導波路がシングルモード動作すること
を確認した。このときの伝搬損失は、0.74dBであ
り、良好な導波特性を示した。On the silicon substrate, the polymer for cladding is
It was spin-coated to a thickness of about 25 μm. After baking and drying,
The core polymer was spin-coated to a thickness of about 8 μm. next,
Using a dicing saw with a width of 50 μm, both sides of the core portion were cut so that a core portion with a width of 8 μm remained. Finally, a cladding polymer was spin-coated to a thickness of 25 μm so as to cover the core portion, and an embedded waveguide was produced. When the thus-formed optical waveguide was cut into a length of 5 cm and the cross section was observed with a microscope, a rectangular pattern of a core portion having a height of 8 μm and a width of 8 μm was observed. It was confirmed that the waveguide was operated in a single mode by injecting laser light having a wavelength of 1.3 μm. The propagation loss at this time was 0.74 dB, which showed good waveguide characteristics.
【0025】<実施例2>図1に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(シングルモード光導波路)フィル
ムを作製する。この実施例では、銅が200nm蒸着さ
れたシリコン基板を用いる。また、波長1.3μm以上
でシングルモード動作させるため、比屈折率差△=0.
3%となるように、クラッド用高分子としては重水素化
ポリメチルメタクリレートとフッ素化メタクリレート
(モル比=96.5:3.5)の共重合体(屈折率:
1.4777)、コア用高分子としては重水素化ポリメ
チルメタクリレート(屈折率:1.4821)を用い
た。この高分子を、それぞれ、クロロベンゼンとキシレ
ンの混合溶液に溶かし、溶液状とした。銅が200nm
蒸着されたシリコン基板上にクラッド用高分子を、約2
5μm厚にスピンコートした。ベーク乾燥処理後、コア
用高分子を約8μm厚にスピンコートした。次に、50
μm幅のダイシングソーを用い、幅8μmのコア部分が
残るようにコア部分の両側を切削した。最後に、コア部
分を覆うように、25μm厚にクラッド用ポリマーをス
ピンコートし、埋め込み型導波路を作製した。この導波
路を、20モル%の塩酸溶液中に浸し、銅を溶解してシ
リコン基板より剥離し、蒸留水で良く洗浄し乾燥した。
このようにしてできた光導波路フィルムを5cmの長さ
に切断し、断面を顕微鏡で観察したところ、高さ8μ
m、幅8μmのコア部分の矩形パタンが見られた。波長
1.3μmのレーザー光を人射し、導波路がシングルモ
ード動作することを確認した。このときの伝搬損失は、
0.75dBであり、良好な導波特性を示した。Example 2 A polymer optical waveguide (single mode optical waveguide) film is produced based on the steps shown in FIG. In this embodiment, a silicon substrate with 200 nm of copper deposited is used. Further, since the single mode operation is performed at a wavelength of 1.3 μm or more, the relative refractive index difference Δ = 0.
As a polymer for the clad, a copolymer of deuterated polymethylmethacrylate and fluorinated methacrylate (molar ratio = 96.5: 3.5) (refractive index:
1.4777), and deuterated polymethylmethacrylate (refractive index: 1.4821) was used as the core polymer. Each of these polymers was dissolved in a mixed solution of chlorobenzene and xylene to form a solution. Copper is 200nm
Approximately 2 parts of polymer for cladding is deposited on the vapor-deposited silicon substrate.
It was spin-coated to a thickness of 5 μm. After the baking and drying treatment, the core polymer was spin-coated to a thickness of about 8 μm. Then 50
A dicing saw having a width of μm was used to cut both sides of the core so that a core having a width of 8 μm remained. Finally, a cladding polymer was spin-coated to a thickness of 25 μm so as to cover the core portion, and an embedded waveguide was produced. This waveguide was dipped in a 20 mol% hydrochloric acid solution to dissolve copper, peeled off from the silicon substrate, thoroughly washed with distilled water, and dried.
The optical waveguide film thus formed was cut into a length of 5 cm, and the cross section was observed with a microscope.
A rectangular pattern of the core portion having a width of m and a width of 8 μm was observed. It was confirmed that the waveguide operated in single mode by irradiating a laser beam having a wavelength of 1.3 μm. The propagation loss at this time is
It was 0.75 dB, which showed a good waveguide characteristic.
【0026】<実施例3>図1に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(マルチモード光導波路)を作製す
る方法を説明する。クラッド用高分子としては、エポキ
シ系紫外線(UV)硬化樹脂(屈折率:1.511)、
コア用高分子としては屈折率の異なるエポキシ系UV硬
化樹脂(屈折率:1.560)を用いた。クラッド用高
分子を、約50μm厚にスピンコートし、UVを照射し
て硬化させた。次に、コア用高分子を約50μm厚にス
ピンコートし、UVを照射し硬化させた。次に、100
μm幅のダイシングソーを用い、幅50μmのコア部分
が残るようにコア部分の両側を切削した。最後に、コア
を覆うように、50μm厚にクラッド用ポリマーをスピ
ンコートし、UVを照射して硬化させ、埋め込み型導波
路を作製した。Example 3 A method for producing a polymer optical waveguide (multimode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG. As the polymer for the clad, an epoxy ultraviolet (UV) curing resin (refractive index: 1.511),
An epoxy UV curable resin (refractive index: 1.560) having a different refractive index was used as the core polymer. The clad polymer was spin-coated to a thickness of about 50 μm and irradiated with UV to cure it. Next, the core polymer was spin-coated to a thickness of about 50 μm and irradiated with UV to cure it. Then 100
A dicing saw having a width of μm was used to cut both sides of the core so that a core having a width of 50 μm remained. Finally, a clad polymer was spin-coated to a thickness of 50 μm so as to cover the core, and was irradiated with UV to be cured to prepare an embedded waveguide.
【0027】このようにしてできた光導波路を5cmの
長さに切断し断面を顕微鏡で観察したところ、高さ50
μm、幅50μmのコア部分の矩形パタンが見られた。
波長1.3μmのレーザー光を入射したときの伝搬損失
は、2.5dBであり、良好な導波特性を示した。The optical waveguide thus formed was cut into a length of 5 cm and the cross section was observed with a microscope.
A rectangular pattern of the core portion having a width of 50 μm and a width of 50 μm was observed.
Propagation loss when a laser beam with a wavelength of 1.3 μm was incident was 2.5 dB, which showed good waveguiding characteristics.
【0028】<実施例4>図1に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(マルチモード光導波路)アレイフ
ィルムを作製する方法を説明する。基板として、銅が2
00nm蒸着されたシリコン基板を用いた。また、クラ
ッド用高分子としては、エポキシ系紫外線(UV)硬化
樹脂(屈折率:1.511)を用い、一方コア用高分子
としては屈折率の異なるエポキシ系UV硬化樹脂(屈折
率:1.560)を用いた。はじめに、クラッド用高分
子を、約50μm厚にスピンコートし、UVを照射して
硬化させた。つぎに、コア用高分子を約50μm厚にス
ピンコートし、UVを照射し硬化させた。その後、20
0μm幅のダイシングソーを用い、250μmピッチで
5回、コア層部分を切削することによって、47μm幅
のコアを4本形成した。最後に、コアを覆うように、5
0μm厚にクラッド用ポリマーをスピンコートし、UV
を照射して硬化させ、埋め込み型導波路を作製した。こ
の導波路を、20モル%の塩酸溶液中に浸し、銅を溶解
してシリコン基板より剥離し、蒸留水で良く洗浄し乾燥
した。このようにしてできた光導波路アレイフィルムを
5cmの長さに切断し、その断面を顕微鏡で観察したと
ころ、高さ50μm、幅47μmのコア部分の矩形パタ
ンが4本見られた。波長1.3μmのレーザー光を入射
したときの各導波路の伝搬損失は、平均で2.5dBで
あり、良好な導波特性を示した。Example 4 A method for producing a polymer optical waveguide (multimode optical waveguide) array film will be described based on the steps shown in FIG. 2 copper as substrate
A silicon substrate with a thickness of 00 nm was used. An epoxy-based ultraviolet (UV) curable resin (refractive index: 1.511) is used as the clad polymer, while an epoxy-based UV curable resin having a different refractive index (refractive index: 1.11) is used as the core polymer. 560) was used. First, the clad polymer was spin-coated to a thickness of about 50 μm and irradiated with UV to be cured. Next, the core polymer was spin-coated to a thickness of about 50 μm and irradiated with UV to cure it. Then 20
Four cores having a width of 47 μm were formed by cutting the core layer portion five times at a pitch of 250 μm using a dicing saw having a width of 0 μm. Finally, 5 to cover the core
UV-coated with a cladding polymer to a thickness of 0 μm
Was irradiated and cured to prepare an embedded waveguide. This waveguide was dipped in a 20 mol% hydrochloric acid solution to dissolve copper, peeled off from the silicon substrate, thoroughly washed with distilled water, and dried. The optical waveguide array film thus formed was cut into a length of 5 cm, and its cross section was observed with a microscope. As a result, four rectangular patterns of a core portion having a height of 50 μm and a width of 47 μm were seen. The propagation loss of each waveguide when a laser beam having a wavelength of 1.3 μm was incident was 2.5 dB on average, and good waveguide characteristics were exhibited.
【0029】<実施例5>図2に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(シングルモード光導波路)を作製
する方法を説明する。波長1.3μm以上でシングルモ
ード動作させるため、比屈折率差△=0.3%となるよ
うに、クラッド用高分子としては、重水素化ボリメチル
メタクリレートとフッ素化メタクリレート(モル比=9
6.5:3.5)の共重合体(屈折率:1.477
7)、コア用高分子としては重水素化ポリメチルメタク
リレート(屈折率:1.4821)を用いた。この高分
子を、それぞれ、クロロベンゼンとキシレンの混合溶液
に溶かし、溶液状とした。<Example 5> A method for producing a polymer optical waveguide (single mode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG. Since the single mode operation is performed at a wavelength of 1.3 μm or more, the polymer for the clad has deuterated polymethylmethacrylate and fluorinated methacrylate (molar ratio = 9) so that the relative refractive index difference Δ = 0.3%.
6.5: 3.5) copolymer (refractive index: 1.477)
7), deuterated polymethylmethacrylate (refractive index: 1.4821) was used as the core polymer. Each of these polymers was dissolved in a mixed solution of chlorobenzene and xylene to form a solution.
【0030】シリコン基板上に、クラッド用高分子を、
約30μm厚にスピンコートした。ベーク乾燥処理後、
次に、5μm幅の刃を有するダイシングソーを用い、深
さ8/mの溝を作製した。実際に作製された溝は、幅8
μm、深さ8μmであった。コア用高分子を溝が埋まる
ように、スピンコートし、余分のコア用高分子を酸素の
プラズマエッチングによりに除去した。最後に、25μ
m厚にクラッド用ポリマーをスピンコートし、埋め込み
型導波路を作製した。このようにしてできた光導波路を
5cmの長さに切断し、断面を顕微鏡で観察したとこ
ろ、高さ8μm、幅8μmのコア部分の矩形パタンが見
られた。波長1.3μmのレーザー光を入射し、導波路
がシングルモード動作することを確認し、このときの伝
搬損失は、0.81dBであり、良好な導波特性を示し
た。On the silicon substrate, the polymer for cladding is
It was spin-coated to a thickness of about 30 μm. After baking and drying,
Next, a groove having a depth of 8 / m was prepared using a dicing saw having a blade having a width of 5 μm. The groove actually made has a width of 8
The depth was 8 μm. The core polymer was spin-coated so that the groove was filled, and the excess core polymer was removed by plasma etching with oxygen. Finally, 25μ
A cladding polymer was spin-coated to a thickness of m to prepare a buried waveguide. When the optical waveguide thus formed was cut into a length of 5 cm and the cross section was observed with a microscope, a rectangular pattern of a core portion having a height of 8 μm and a width of 8 μm was found. It was confirmed that the waveguide was operated in a single mode by injecting a laser beam having a wavelength of 1.3 μm, and the propagation loss at this time was 0.81 dB, showing a good waveguide characteristic.
【0031】<実施例6>図2に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(シングルモード光導波路)を作製
する方法を説明する。基板として、アルミニウムが20
0nm蒸着されたシリコン基板を用いる。波長1.3μ
m以上でシングルモード動作させるため、比屈折率差△
=0.3%となるように、クラッド用高分子としては、
重水素化ボリメチルメタクリレートとフッ素化メタクリ
レート(モル比=96.5:3.5)の共重合体(屈折
率:1.4777)を用い、一方コア用高分子としては
重水素化ボリメチルメタクリレート(屈折率:1.48
21)を用いた。この高分子を、それぞれ、クロロベン
ゼンとキシレンの混合溶液に溶かし、溶液状とした。ア
ルミニウムが200nm蒸着されたシリコン基板上に、
クラッド用高分子を、約30μm厚にスピンコートし
た。ベーク乾燥処理後、次に、5μm幅の刃を有するダ
イシングソーを用い、深さ8μmの溝を作製した。実際
に作製された溝は、幅8μm、深さ8μmであった。コ
ア用高分子を溝が埋まるように、スピンコートし、余分
のコア用高分子を酸素のプラズマエッチングによりに除
去した。最後に、25μm厚にクラッド用ポリマーをス
ピンコートし、埋め込み型導波路を作製し、20モル%
のリン酸溶液中に浸し、高分子光導波路部分をシリコン
基板より剥離し、蒸留水で良く洗浄し乾燥した。このよ
うにしてできた光導波路フィルムを5cmの長さに切断
し、断面を顕微鏡で観察したところ、高さ8μm、幅8
μmのコア部分の矩形パタンが見られた。波長1.3μ
mのレーザー光を入射し、導波路がシングルモード動作
することを確認した。このときの伝搬損失は、0.85
dBであり、良好な導波特性を示した。Example 6 A method for producing a polymer optical waveguide (single mode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG. Aluminum is used as the substrate.
A 0 nm evaporated silicon substrate is used. Wavelength 1.3μ
Since the single mode operation is performed at m or more, the relative refractive index difference Δ
= 0.3%, the polymer for cladding should be
A copolymer (refractive index: 1.4777) of deuterated polymethylmethacrylate and fluorinated methacrylate (molar ratio = 96.5: 3.5) was used, while deuterated polymethylmethacrylate was used as the core polymer. (Refractive index: 1.48
21) was used. Each of these polymers was dissolved in a mixed solution of chlorobenzene and xylene to form a solution. On a silicon substrate on which aluminum is deposited to a thickness of 200 nm,
The clad polymer was spin-coated to a thickness of about 30 μm. After the bake drying treatment, a dicing saw having a blade with a width of 5 μm was used to form a groove having a depth of 8 μm. The groove actually formed had a width of 8 μm and a depth of 8 μm. The core polymer was spin-coated so that the groove was filled, and the excess core polymer was removed by plasma etching with oxygen. Finally, the cladding polymer was spin-coated to a thickness of 25 μm to prepare a buried waveguide, and
The polymer optical waveguide part was peeled from the silicon substrate, thoroughly washed with distilled water and dried. The optical waveguide film thus formed was cut into a length of 5 cm, and the cross section was observed with a microscope to find that the height was 8 μm and the width was 8 μm.
A rectangular pattern of the core portion of μm was observed. Wavelength 1.3μ
It was confirmed that the waveguide operates in a single mode by injecting m laser light. The propagation loss at this time is 0.85.
It was dB and showed good waveguiding characteristics.
【0032】<実施例7>図2に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(マルチモード光導波路)を作製す
る方法を説明する。クラッド用高分子としては、エポキ
シ系紫外線(UV)硬化樹脂(屈折率:1.511)、
コア用高分子としては屈折率の異なるエポキシ系UV硬
化樹脂(屈折率:1.560)を用いた。クラッド用高
分子を、約100μm厚にスピンコートし、UVを照射
し硬化させた。次に、50μm幅の刃を有するダイシン
グソーを用い、深さ50μmの溝を作製した。実際に作
製された溝は、幅53μm、深さ50μmであった。コ
ア用高分子を溝が埋まるようにスピンコートし、UVを
照射し硬化させた後、余分のコア用高分子を酸素のプラ
ズマエッチングによりに除去した。最後に、50μm厚
にクラッド用ポリマーをスピンコートし、UVを照射し
硬化させ埋め込み型導波路を作製した。このようにして
できた光導波路を5cmの長さに切断し断面を顕微鏡で
観察したところ、高さ50μm、幅53μmのコア部分
の矩形パタンが見られた。波長1.3μmのレーザー光
を入射したときの伝搬損失は、2.7dBであり、良好
な導波特性を示した。Example 7 A method for producing a polymer optical waveguide (multimode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG. As the polymer for the clad, an epoxy ultraviolet (UV) curing resin (refractive index: 1.511),
An epoxy UV curable resin (refractive index: 1.560) having a different refractive index was used as the core polymer. The clad polymer was spin-coated to a thickness of about 100 μm and irradiated with UV to cure it. Then, a dicing saw having a blade with a width of 50 μm was used to form a groove having a depth of 50 μm. The actually formed groove had a width of 53 μm and a depth of 50 μm. The core polymer was spin-coated so as to fill the groove, and was irradiated with UV to be cured, and then the excess core polymer was removed by oxygen plasma etching. Finally, a clad polymer was spin-coated to a thickness of 50 μm, and was irradiated with UV to cure the polymer, thereby producing an embedded waveguide. When the thus-formed optical waveguide was cut into a length of 5 cm and the cross section was observed with a microscope, a rectangular pattern of a core portion having a height of 50 μm and a width of 53 μm was found. Propagation loss when a laser beam with a wavelength of 1.3 μm was incident was 2.7 dB, which showed good waveguiding characteristics.
【0033】<実施例8>図2に示す工程にもとづい
て、高分子光導波路(マルチモード光導波路)を作製す
る方法を説明する。クラッド用高分子としては、エポキ
シ系紫外線(UV)硬化樹脂(屈折率:1.51)、コ
ア用高分子としては屈折率の異なるエポキシ系UV硬化
樹脂(屈折率:1.560)を用いた。クラッド用高分
子を、約100μm厚にスピンコートし、UVを照射し
硬化させた。次に、50μm幅の刃を有するダイシング
ソーを用い、深さ50μmの溝を作製した。実際に作製
された溝は、幅53μm、深さ50μmであった。コア
用高分子を滞が埋まるようにスピンコートし、プラスチ
ック製のへらを用いて、溝部分に充填された以外の余分
なコア用高分子を除去した後、UVを照射して硬化させ
た。最後に、50μm厚にクラッド用ポリマーをスピン
コートし、UVを照射し硬化させ埋め込み型導波路を作
製した。このようにしてできた光導波路を5cmの長さ
に切断し断面を顕微鏡で観察したところ、高さ50μ
m、幅53μmのコア部分の矩形パタンが見られた。波
長1.3μmのレーザー光を入射したときの伝搬損失
は、2.8dBであり、良好な導波特性を示した。<Embodiment 8> A method for producing a polymer optical waveguide (multimode optical waveguide) will be described based on the steps shown in FIG. An epoxy-based ultraviolet (UV) curable resin (refractive index: 1.51) was used as the clad polymer, and an epoxy-based UV curable resin (refractive index: 1.560) having a different refractive index was used as the core polymer. . The clad polymer was spin-coated to a thickness of about 100 μm and irradiated with UV to cure it. Then, a dicing saw having a blade with a width of 50 μm was used to form a groove having a depth of 50 μm. The actually formed groove had a width of 53 μm and a depth of 50 μm. The core polymer was spin-coated so as to fill the gap, and a plastic spatula was used to remove excess polymer for the core other than that filled in the groove portions, followed by UV irradiation to cure the polymer. Finally, a clad polymer was spin-coated to a thickness of 50 μm, and was irradiated with UV to cure the polymer, thereby producing an embedded waveguide. The optical waveguide thus formed was cut into a length of 5 cm and the cross section was observed with a microscope.
A rectangular pattern of the core portion having a width of m and a width of 53 μm was observed. Propagation loss when a laser beam with a wavelength of 1.3 μm was incident was 2.8 dB, indicating good waveguiding characteristics.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上説明したように、本発明にもとづく
高分子光導波路の作製方法は、(1)材料的にコストが
低く、加工が容易な高分子材料が用いられること、
(2)素子を構成する導波路作製ブロセスにおいて、大
がかりな装置を必要としないこと、(3)光を導波させ
る導波路のコア部分を、ダイシングソー等の機械的切削
で直接作製すること等を特徴としている。また、本発明
では、好ましくはダイシングソーの位置精度と刃の厚さ
制御性に注目し、ダイシングソーを高分子材料を用いた
光材料の作製に用いる。したがって、本発明により作製
した光導波路は、良好な光導波特性を示し、多量、少量
に関わらず、高分子光導波路が、簡便に安価に作製する
ことが可能となる。As described above, in the method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention, (1) a polymer material that is low in cost and easy to process is used,
(2) A large-scale device is not required in the process of making a waveguide that constitutes an element, (3) The core part of the waveguide that guides light is directly made by mechanical cutting with a dicing saw, etc. Is characterized by. Further, in the present invention, preferably, attention is paid to the positional accuracy of the dicing saw and the controllability of the thickness of the blade, and the dicing saw is used for producing an optical material using a polymer material. Therefore, the optical waveguide manufactured according to the present invention exhibits good optical waveguide characteristics, and it is possible to easily and inexpensively manufacture the polymer optical waveguide regardless of a large amount or a small amount.
【図1】本発明にもとづく高分子光導波路の作成方法を
説明するための模式的断面図で、(a)は高分子層を基
板上に積層する工程を説明するための図、(b)は所望
の形状からなるコアを形成する工程を説明するための
図、(c)は再びクラッド層を設ける工程を説明するた
めの図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention, FIG. 1 (a) is a diagram for explaining a step of laminating a polymer layer on a substrate, and FIG. FIG. 4A is a diagram for explaining a step of forming a core having a desired shape, and FIG. 7C is a diagram for explaining a step of forming a cladding layer again.
【図2】本発明にもとづく高分子光導波路の作成方法の
第2例を説明するための図で、(a)は高分子クラッド
層を基板上に積層し、つづいて所望の形状からなるコア
を形成する工程を説明するための図、(b)はクラッド
層の高分子よりも屈折率の高いコア高分子を塗布する工
程を説明するための図、(c)はコア形成後にクラッド
材料を塗布する工程を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a second example of a method for producing a polymer optical waveguide according to the present invention, in which (a) is a core having a polymer clad layer laminated on a substrate and then having a desired shape; For explaining the step of forming the core, (b) for explaining the step of applying a core polymer having a refractive index higher than that of the polymer for the clad layer, and (c) for explaining the clad material after forming the core. It is a figure for demonstrating the process of apply | coating.
1 基板 2 クラッド用高分子 3 コア用高分子 4 コア 5 ダイシングソー 6 クラッド用高分子 7 基板 8 クラッド用高分子 9 ダイシングソー 10 コア用高分子 11 コア 12 クラッド用高分子 1 Substrate 2 Polymer for Clad 3 Polymer for Core 4 Core 5 Dicing Saw 6 Polymer for Clad 7 Substrate 8 Polymer for Clad 9 Dicing Saw 10 Polymer for Core 11 Core 12 Polymer for Clad
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今村 三郎 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Saburo Imamura 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Telegraph and Telephone Corporation
Claims (6)
第1層を形成する工程と、 該第1層よりも屈折率が高い高分子からなる第2層を形
成する工程と、 該第2層の一部を機械的に切削除去することによってコ
ア部を形成する工程と、 該コア部より屈折率が低い高分子材料で前記コア部を覆
う第3層を形成する工程とを有することを特徴とする高
分子光導波路の作製方法。1. A step of forming a first layer made of a polymer, which serves as a cladding, on a substrate, a step of forming a second layer made of a polymer having a refractive index higher than that of the first layer, and the second step. A step of forming a core portion by mechanically cutting and removing a part of the layer, and a step of forming a third layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion. A method for producing a characteristic polymer optical waveguide.
覆う第3層を形成する工程の後に、前記基板を除去する
工程が設けられたことを特徴とする高分子光導波路の作
製方法。2. The method according to claim 1, further comprising a step of removing the substrate after the step of forming a third layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion. A method for producing a polymer optical waveguide characterized by the above.
コア部を形成する工程では、ダイシングソーを用いて前
記切削を行うことを特徴とする高分子光導波路の作製方
法。3. The method according to claim 1, wherein in the step of mechanically cutting and removing a part of the second layer to form the core portion, the cutting is performed using a dicing saw. A method for producing a characteristic polymer optical waveguide.
第1層を形成する工程と、 該第1層の一部を機械的に切削除去して、該第1層に溝
部を形成する工程と、 該溝部に該第1層よりも屈折率が高いコア用高分子材料
を流し込む工程と、 該コア用高分子材料の不要部分を除去してコア部を作製
する工程と、 該コア部より屈折率が低い高分子材料で前記コア部を覆
う第2層を形成する工程とを有することを特徴とする高
分子光導波路の作製方法。4. A step of forming a first layer made of a polymer serving as a clad on a substrate, and a step of mechanically cutting and removing a part of the first layer to form a groove portion in the first layer. A step of pouring a polymer material for core having a refractive index higher than that of the first layer into the groove portion, a step of removing an unnecessary portion of the polymer material for core to produce a core portion, And a step of forming a second layer covering the core portion with a polymer material having a low refractive index.
覆う第2層を形成する工程の後に、前記基板を除去する
工程が設けられたことを特徴とする高分子光導波路の作
製方法。5. The method according to claim 4, further comprising a step of removing the substrate after the step of forming the second layer covering the core portion with a polymer material having a refractive index lower than that of the core portion. A method for producing a polymer optical waveguide characterized by the above.
部を形成する工程では、ダイシングソーを用いて前記切
削を行うことを特徴とする高分子光導波路の作製方法。6. The method according to claim 4 or 5, wherein in the step of mechanically cutting and removing a part of the first layer to form a groove in the first layer, the cutting is performed using a dicing saw. A method for producing a polymer optical waveguide, which is characterized by being performed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9377495A JPH08286064A (en) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | Production of high-polymer optical waveguide |
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JP9377495A JPH08286064A (en) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | Production of high-polymer optical waveguide |
Publications (1)
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JP9377495A Pending JPH08286064A (en) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | Production of high-polymer optical waveguide |
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