JPH08280623A - Ophthalmologic apparatus - Google Patents

Ophthalmologic apparatus

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JPH08280623A
JPH08280623A JP7092162A JP9216295A JPH08280623A JP H08280623 A JPH08280623 A JP H08280623A JP 7092162 A JP7092162 A JP 7092162A JP 9216295 A JP9216295 A JP 9216295A JP H08280623 A JPH08280623 A JP H08280623A
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康文 福間
Hirohisa Nakao
浩久 中尾
Noriyuki Nagai
憲行 永井
Yasuhisa Ishikura
靖久 石倉
Takeshi Hayashi
健史 林
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Abstract

PURPOSE: To eliminate adjusting action of eyes to be inspected by a Placido pattern by providing a pattern projection means with an infrared projection means to project a Placido pattern on a cornea using infrared rays while a photodetecting means is so arranged to be sensitive to an infrared reflection image from the cornea. CONSTITUTION: An infrared light emitting diode of a Placido pattern projection system 100 and infrared light emitting diodes 122 and 132 of a mark projection optical system 120 are lit by manipulating an operating section and a light source 21 of a scale projection system 20 is turned ON. Luminous fluxes of a ring reflection image and a mark reflection image by reflection on a cornea EC of an eye to be inspected to form images on an area sensor 18 together with an anterior ocular segment image and the ring reflection image and the mark reflection image are displayed on a monitor together with the anterior ocular segment image. With the light source 21 of the scale projection system 20 ON, a scale image is formed on the area sensor 18 and the scale image is also displayed on the monitor. Thus, an inspector establishes an alignment viewing the scale image and the ring reflection image displayed on the monitor.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、眼屈折力と被検眼角
膜形状とを測定可能な眼科装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ophthalmologic apparatus capable of measuring the refractive power of an eye and the corneal shape of an eye to be examined.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の眼科装置には、例えば、眼屈折力
を他覚的に測定するオートレフラクトメータ(眼屈折
計)や被検眼角膜の曲率を測定するオートケラトメータ
(角膜曲率測定装置)がある。この両装置とも眼科医が
適切な診断を行うために必要なデータを提供するもので
ある。
2. Description of the Related Art Conventional ophthalmologic devices include, for example, an autorefractometer (eye refractometer) for objectively measuring the refractive power of the eye and an autokeratometer (corneal curvature measuring device) for measuring the curvature of the cornea of the eye to be examined. There is. Both of these devices provide the data necessary for the ophthalmologist to make an appropriate diagnosis.

【0003】ところで、近年、装置の設置面積の縮小,
検査時間の短縮,及び装置コストの削減等の為に、異な
る測定を行う複数の装置を組み合わせることが試みられ
ている。例えば、上述したオートレフラクトメータとオ
ートケラトメータの組み合せが試みられている。この組
み合せでは眼屈折力の測定と角膜曲率を一つの装置で測
定できるので、検査が容易となる。
By the way, in recent years, the installation area of the device has been reduced,
Attempts have been made to combine a plurality of devices that perform different measurements in order to shorten the inspection time and reduce the device cost. For example, a combination of the above-mentioned autorefractometer and autokeratometer has been attempted. With this combination, the eye refractive power and the corneal curvature can be measured with a single device, which facilitates the examination.

【0004】一方、白内障手術やその他の角膜にメスを
入れる手術を行う前には、精密に角膜の形状を測定する
必要がある。このため、角膜曲率を測定するオートケラ
トに比べてより広範囲に角膜の形状を測定することが求
められている。
On the other hand, it is necessary to precisely measure the shape of the cornea before performing cataract surgery or other surgery for inserting a knife into the cornea. For this reason, it is required to measure the shape of the cornea in a wider range as compared with the autokerato that measures the corneal curvature.

【0005】この角膜形状を精密に測定するための装置
としては、被検眼の角膜に向けて可視光によるプラチド
パターン即ち同心円状パターンを投影し、この同心円状
パターンの被検眼角膜からの反射形状が投影パターン形
状と比較してどの程度変化しているか否かを認識させ
て、この形状変化から角膜の形状を判断する角膜形状測
定装置が知られている。
As an apparatus for precisely measuring the corneal shape, a placido pattern, that is, a concentric circular pattern by visible light is projected onto the cornea of the eye to be inspected, and the reflection shape from the cornea of the eye to be inspected in this concentric circular pattern is projected. There is known a corneal shape measuring apparatus which recognizes how much the shape of the projected pattern changes and how much the shape of the cornea changes based on the shape change.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の角膜形
状測定装置では、可視光によるプラチドパターンを被検
眼角膜に投影していることに加え、プラチドパターンが
非常に大きいため、左右の被検眼のうち一方を測定する
際に、プラチドパターンの内の外側のパターンの一部が
他方の測定をしていない被検眼からも認識することがで
き、被検者の注意を惹くことになる。尚、プラチドパタ
ーンを投影していない状態でも、パターン板のプラチド
パターンが見えるために、被検者の注意を惹いていた。
However, in the conventional corneal shape measuring apparatus, in addition to projecting the placido pattern by visible light onto the cornea of the eye to be inspected, the placido pattern is very large. When measuring one of them, a part of the outer pattern of the Placido pattern can be recognized by the eye to be examined, which is not measuring the other, which attracts the subject's attention. It should be noted that the placido pattern on the pattern board was visible even when the placido pattern was not projected, which attracted the subject's attention.

【0007】これは被検者の視線が安定せず、角膜の形
状測定においては不都合があった。即ち、角膜の正反射
像を評価する装置においては、この様に視線が変わる
と、角膜上のパターン像の出現位置が変わってしまい、
角膜の各部の形状は現れない状態となり、好ましいもの
ではなかった。
This is because the subject's line of sight is not stable, which is inconvenient in measuring the shape of the cornea. That is, in the apparatus for evaluating the regular reflection image of the cornea, when the line of sight changes in this way, the appearance position of the pattern image on the cornea changes,
The shape of each part of the cornea did not appear, which was not preferable.

【0008】また、従来、被検眼角膜の手術が少なかっ
たために、角膜形状測定装置は単独で用いられていてオ
ートレフラクトメータとの組み合わせは考えられていな
かった。
Further, conventionally, since there have been few operations on the cornea of the eye to be inspected, the corneal shape measuring apparatus has been used alone, and a combination with an autorefractometer has not been considered.

【0009】しかし、最近では、白内障手術やその他の
角膜にメスを入れる手術が非常に普及してきたことに加
え、装置の設置面積の縮小,検査時間の短縮,及び装置
コストの削減等を考慮して、角膜形状測定装置とオート
レフラクトメータとを組み合せることが試みられてい
る。
However, in recent years, cataract surgery and other operations for inserting a knife into the cornea have become very popular, and in consideration of reduction of the installation area of the device, reduction of inspection time, reduction of the device cost, etc. Therefore, it has been attempted to combine a cornea shape measuring device and an autorefractometer.

【0010】ところが、上述したような角膜形状測定装
置におけるように、パターン板のプラチドパターンが見
えるために、被検者の注意が換気されると、被検眼の調
節作用が発生するので、このプラチドパターンを利用し
た角膜形状の測定に際して、被検眼の屈折力も同時に測
定しようとすると、正確な屈折力の測定ができない虞が
ある。
However, as in the corneal shape measuring apparatus as described above, since the placido pattern of the pattern plate is visible, when the subject's attention is ventilated, an adjusting action of the subject's eye occurs, so this placido If the refractive power of the subject's eye is also measured at the same time when the corneal shape is measured using the pattern, there is a possibility that the refractive power cannot be accurately measured.

【0011】そこで、この発明の主目的は、プラチドパ
ターンによる被検眼の調節作用が生じない眼科装置を提
供することにある。
Therefore, a main object of the present invention is to provide an ophthalmologic apparatus in which the action of adjusting the eye to be inspected by the Placido pattern does not occur.

【0012】また、この他の目的は、オートレフラクト
メータと角膜形状測定装置の構成を組み合わせても、眼
屈折力測定に際してプラチドパターンによる被検眼の調
節作用が生じない眼科装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an ophthalmologic apparatus which does not cause the accommodation action of the eye to be inspected by the Plactide pattern when measuring the eye refractive power even if the configurations of the autorefractometer and the corneal shape measuring apparatus are combined. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上述した主目的を達成す
るため、請求項1の発明では、パターン投影系によりプ
ラチドパターンを角膜に投影すると共に、前記角膜にお
けるプラチドパターンの反射光を受光光学系により受光
手段に案内して、前記受光手段の出力から前記角膜の形
状を演算手段により広範囲に求めるようにした眼科装置
において、前記パターン投影手段はプラチドパターンを
赤外光を用いて前記角膜に投影する赤外投影手段を有す
ると共に、前記受光手段は前記角膜からの赤外反射像に
感度を有する眼科装置としたことを特徴とするものであ
る。
In order to achieve the above-mentioned main object, in the invention of claim 1, the plactide pattern is projected onto the cornea by the pattern projection system, and the reflected light of the plactide pattern on the cornea is received by the optical system. In the ophthalmologic apparatus in which the shape of the cornea is obtained in a wide range from the output of the light receiving means by the calculating means, the pattern projection means projects the plactide pattern onto the cornea using infrared light. In addition to the infrared projection means, the light receiving means is an ophthalmologic apparatus having sensitivity to an infrared reflection image from the cornea.

【0014】上述した他の目的を達成するため、請求項
2の発明は、被検眼の眼底に眼屈折測定用の測定光束を
投影する測定光束投影光学系が設けられ、前記眼底から
反射光束を受光手段まで導く受光光学系が設けられ、前
記受光手段からの出力を基に前記被検眼の眼屈折力を求
める演算手段が設けられた眼科装置であって、前記被検
眼の角膜に向けて赤外プラチドパターンを投影するプラ
チドパターン投影系が設けられていると共に、前記演算
手段は前記角膜によるプラチドパターンの反射像から角
膜形状を演算する眼科装置としたことを特徴とするもの
である。
In order to achieve the above-mentioned other object, the invention of claim 2 is provided with a measurement light beam projection optical system for projecting a measurement light beam for eye refraction measurement onto the fundus of the eye to be inspected, and the light beam reflected from the fundus is reflected. An ophthalmologic apparatus which is provided with a light receiving optical system for guiding to a light receiving means, and which is provided with a computing means for obtaining an eye refractive power of the eye to be inspected based on an output from the light receiving means. A placido pattern projection system for projecting an outer placido pattern is provided, and the computing means is an ophthalmologic apparatus for computing a corneal shape from a reflection image of the placido pattern by the cornea.

【0015】請求項3の発明は、前記プラチドパターン
は、該プラチドパターンの中心を被検者の両眼のうち一
方の被検眼の光軸に合わせた状態で、前記両眼に臨む大
きさに形成されていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, the placido pattern has a size facing both eyes in a state where the center of the placido pattern is aligned with the optical axis of one of the two eyes of the subject. It is characterized by being formed.

【0016】請求項4の発明は、前記プラチドパターン
投影系はプラチドパターン板を備え、前記被検眼とプラ
チドパターン板との間には可視カット又は可視透過率の
低いフィルターを配設したことを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, the plactide pattern projection system comprises a plactide pattern plate, and a visible cut or a filter having a low visible transmittance is arranged between the eye to be examined and the plactide pattern plate. And

【0017】請求項5の発明は、前記フィルターの前記
被検眼側の面に反射防止コーティング層を設けたことを
特徴とする。
The invention of claim 5 is characterized in that an antireflection coating layer is provided on the surface of the filter on the eye side.

【0018】[0018]

【実施例】以下、この発明に係わる、プラチドパターン
(即ちプラチドリングパターン)を投影して角膜形状を
測定する角膜形状測定装置を一体化した眼科装置の実施
例を図面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an ophthalmologic apparatus according to the present invention, which is integrated with a corneal shape measuring apparatus for projecting a Placido pattern (that is, a Placido ring pattern) to measure a corneal shape, will be described below with reference to the drawings.

【0019】この図4(c)は、この発明にかかる眼科装
置1と被検者2との関係を示したものである。この眼科
装置1は、ベース3と、ベース3上に前後・左右動可能
に装着された装置本4と、装置本体4に装着されて装置
本体4を前後・左右動操作するジョイステックレバー5
(操作レバー)と、ベース3の前端部に装着されたフレ
ーム6と、フレーム6に上下動可能に設けられた顎受け
7と、フレーム6に保持されて顎受け7を上下動操作す
る操作ノブ8を有する。
FIG. 4 (c) shows the relationship between the ophthalmologic apparatus 1 according to the present invention and the subject 2. This ophthalmologic apparatus 1 includes a base 3, a device book 4 mounted on the base 3 so as to be movable back and forth and left and right, and a joystick lever 5 mounted on the device body 4 to move the device body 4 back and forth and left and right.
(Operating lever), frame 6 attached to the front end of the base 3, chin rest 7 provided on the frame 6 so as to be movable up and down, and operation knob for holding the frame 6 to move the chin rest 7 up and down. Have eight.

【0020】この装置本体1は、図1に示すように、被
検眼Eの前眼部を観察する前眼部観察光学系10と、被
検眼Eに固視標を投影する固視標投影光学系50と、被
検眼Eの眼底Erに眼屈折力を測定するための測定光を
投影する測定投影光学系70と、眼底Erで反射される
測定光を受光する受光光学系90と、被検眼Eの角膜E
cに角膜形状を測定するためのプラチドパターンを投影
するプラチドパターン投影系100と、作動距離検出用
のマークを角膜Ecに向けて投影するマーク投影光学系
120とを備えている。
As shown in FIG. 1, the apparatus main body 1 includes an anterior ocular segment observing optical system 10 for observing the anterior ocular segment of the eye E and a fixation target projection optics for projecting a fixation target on the eye E. A system 50, a measurement projection optical system 70 that projects measurement light for measuring eye refractive power onto a fundus Er of the eye E, a light receiving optical system 90 that receives measurement light reflected by the fundus Er, and an eye to be examined. Cornea E
It is provided with a placido pattern projection system 100 for projecting a placido pattern for measuring the shape of the cornea on c, and a mark projection optical system 120 for projecting a mark for detecting the working distance toward the cornea Ec.

【0021】前眼部観察光学系10は、対物レンズ11
と、ダイクロイックミラー60と、ミラー13と、リレ
ーレンズ14と、ダイクロイックミラー15と、リレー
レンズ16と、結像レンズ17と、受光手段としてのC
CDからなるエリアセンサ(撮像素子)18とを備えて
いる。
The anterior segment observation optical system 10 includes an objective lens 11
, A dichroic mirror 60, a mirror 13, a relay lens 14, a dichroic mirror 15, a relay lens 16, an imaging lens 17, and C as a light receiving means.
An area sensor (imaging device) 18 including a CD is provided.

【0022】また、前眼部観察光学系10には、エリア
センサ18上に十字状のスケール像P(図7参照)を形
成するスケール投影系20が設けられている。スケール
投影系20は、光源21と、コンデンサレンズ22と、
スケール(図示せず)が形成されたスケール板23とを備
え、光源21から射出された光はコンデンサレンズ22
に集光されてスケール板23を照射し、これによりスケ
ール板23から十字形状の光束がダイクロイックミラー
15,92(後述する)を介して結像レンズ17に達
し、この結像レンズ17 よりエリアセンサ18上
にスケール像Pが結像される。そして、このスケール像
Pが前眼部とともにモニタ202(図7参照)に表示さ
れる。
Further, the anterior segment observation optical system 10 is provided with a scale projection system 20 for forming a cross-shaped scale image P (see FIG. 7) on the area sensor 18. The scale projection system 20 includes a light source 21, a condenser lens 22,
A scale plate 23 having a scale (not shown) is provided, and the light emitted from the light source 21 is condensed by the condenser lens 22.
The scale plate 23 irradiates the scale plate 23 and the cross-shaped luminous flux reaches the imaging lens 17 via dichroic mirrors 15, 92 (described later). A scale image P is formed on the image 18. Then, the scale image P is displayed on the monitor 202 (see FIG. 7) together with the anterior segment.

【0023】固視標投影光学系50は、光源51と、赤
外をカットするフィルタFと、コンデンサレンズ52
と、固視標板53と、リレーレンズ54と、ミラーM1
と、ダイクロイックミラー55と、リレーレンズ56
と、ミラーM2と、リレーレンズ57と、ミラーM3と、
ダイクロイックミラー60と、対物レンズ11とを備え
ている。固視標板53は眼底Erと共役位置にあり、固
視標板53には固視標となるマーク(図示せず)が形成さ
れ、このマークが眼底Erに投影されるものである。こ
のマークの投影により被検眼Eを所定方向に向けるとと
もに雲霧視させる。
The fixation target projection optical system 50 includes a light source 51, an infrared cut filter F, and a condenser lens 52.
, Fixation target plate 53, relay lens 54, and mirror M1
, Dichroic mirror 55, relay lens 56
, Mirror M2, relay lens 57, mirror M3,
The dichroic mirror 60 and the objective lens 11 are provided. The fixation target plate 53 is at a conjugate position with the fundus Er, and a mark (not shown) serving as a fixation target is formed on the fixation target plate 53, and this mark is projected on the fundus Er. By projecting this mark, the eye E to be inspected is directed in a predetermined direction and is viewed as a cloud.

【0024】測定投影光学系70(測定光束投影系)
は、光源71と、コンデンサレンズ72と、円錐プリズ
ム73と、リング開口(図示せず)が形成されたリング開
口板74と、リレーレンズ75と、ミラー76と、リレ
ーレンズ77と、ダイクロイックミラー78と、ミラー
79と、ダイクロイックミラー80と、ダイクロイック
ミラー60と、対物レンズ11とを備えている。
Measurement projection optical system 70 (measurement light beam projection system)
Is a light source 71, a condenser lens 72, a conical prism 73, a ring aperture plate 74 having a ring aperture (not shown), a relay lens 75, a mirror 76, a relay lens 77, and a dichroic mirror 78. The mirror 79, the dichroic mirror 80, the dichroic mirror 60, and the objective lens 11.

【0025】円錐プリズム73は、コンデンサレンズ7
2によって集光された光源71から光をリング開口板7
4のリング開口に集光させるものである。リング開口板
74と眼底Erとは共役位置にあり、リング開口板74
のリング開口を透過する光束によりリング像(図示せず)
が眼底Erに投影される。
The conical prism 73 is a condenser lens 7
Light from the light source 71 collected by the ring aperture plate 7
The light is focused on the ring opening of No. 4. The ring aperture plate 74 and the fundus Er are in a conjugate position, and the ring aperture plate 74 is
Ring image (not shown) by the light flux that passes through the ring aperture of
Is projected onto the fundus Er.

【0026】この眼底Erに投影されたリング像の反射
光束は、対物レンズ11,ダイクロイックミラー60,ダ
イクロイックミラー80,ミラー79,ダイクロイックミ
ラー78,ダイクロイックミラー91,リレーレンズ5
7,ミラーM2,リレーレンズ56,ダイクロイックミラー
55,ダイクロイックミラー92,結像レンズ17を介し
てエリアセンサ18に結像してリング像が形成される。
このリング像から眼屈折力を後述する演算制御装置20
3が演算して求める。
The reflected light flux of the ring image projected on the fundus Er is the objective lens 11, the dichroic mirror 60, the dichroic mirror 80, the mirror 79, the dichroic mirror 78, the dichroic mirror 91, and the relay lens 5.
An image is formed on the area sensor 18 via the mirror 7, the mirror M2, the relay lens 56, the dichroic mirror 55, the dichroic mirror 92, and the imaging lens 17 to form a ring image.
An arithmetic and control unit 20 for calculating the eye refractive power from this ring image, which will be described later.
3 calculates and obtains.

【0027】そして、受光光学系90は、対物レンズ1
1と、ダイクロイックミラー60と、ダイクロイックミ
ラー80と、ミラー79と、ダイクロイックミラー7
8,91と、リレーレンズ57と、ミラーM2と、リレー
レンズ56と、ダイクロイックミラー55,92と、結
像レンズ17と、エリアセンサ18とから構成されてい
る。
Then, the light receiving optical system 90 includes the objective lens 1
1, dichroic mirror 60, dichroic mirror 80, mirror 79, dichroic mirror 7
8, 91, a relay lens 57, a mirror M2, a relay lens 56, dichroic mirrors 55, 92, an image forming lens 17, and an area sensor 18.

【0028】プラチドパターン投影系100は、図2に
示すように、円板状のパターン板101(プラチドパタ
ーン板)と、複数の赤外発光ダイオード102(光源
(光投影手段))と、可視カットフィルタ103等とか
ら構成されている。この複数の発光ダイオード102
は、後述するリングC1〜C9(透光リングパターン)に
沿ってPC板104(プリント基板)に取り付けられて
いる。
As shown in FIG. 2, the placido pattern projection system 100 includes a disc-shaped pattern plate 101 (placido pattern plate), a plurality of infrared light emitting diodes 102 (light source (light projection means)), and a visible cut. It is composed of a filter 103 and the like. The plurality of light emitting diodes 102
Are attached to the PC board 104 (printed circuit board) along rings C1 to C9 (light transmitting ring pattern) described later.

【0029】しかも、この赤外発光ダイオード102に
よりパターン板101のプラチドパターン(即ち、径の
異なる複数の同心リング(同心円)状の透光リングパタ
ーン)が被検眼に投影されても、プラチドパターンは赤
外光で投影されるため、被検眼の注意を換気するような
ことはなくなる。
Moreover, even if the infrared light emitting diode 102 projects a placido pattern (that is, a plurality of concentric ring (concentric circle) transparent ring patterns having different diameters) on the pattern plate 101 onto the eye to be examined, Because it is projected with infrared light, it does not ventilate the attention of the subject's eye.

【0030】また、このPC板104の赤外発光ダイオ
ード102が設けられた面(パターン板101に対向す
る側の面)には、白色の反射層(図示略)が設けられて
いる。この反射層は、PC板104(プリント基板)に
部品説明用の白色のシルク印刷を行う印刷手段を用い
て、PC板104(プリント基板)に白色の塗装を施す
ことにより簡易に形成できる。
A white reflective layer (not shown) is provided on the surface of the PC board 104 on which the infrared light emitting diode 102 is provided (the surface facing the pattern board 101). This reflective layer can be easily formed by applying a white coating on the PC board 104 (printed board) using a printing means for performing white silk printing on the PC board 104 (printed board) for the purpose of explaining the parts.

【0031】尚、可視カットフィルタ103は、可視透
過率の低いフィルタに代えてもよい。また、可視カット
フィルタ103の被検眼E側の面には、反射防止コーテ
ィング層103aが施されている。しかも、この様な可
視カットフィルタ103は、被検眼Eとパターン板10
1との間に配設されていて、室内照明光等の外光により
パターン板101のプラチドパターンが見えるのを防止
していると共に、反射防止コーティング層103aによ
り被検者自信が可視カットフィルタ103に映って反射
するのを防止している。
The visible cut filter 103 may be replaced with a filter having a low visible transmittance. An antireflection coating layer 103a is applied to the surface of the visible cut filter 103 on the eye E side. Moreover, such a visible cut filter 103 is used for the eye E and the pattern plate 10 to be inspected.
1 is provided to prevent the Placido pattern of the pattern plate 101 from being seen by outside light such as indoor illumination light, and the antireflection coating layer 103a prevents the subject's confidence from being visible. It is prevented from reflecting in the image.

【0032】これにより、眼屈折測定に際して、プラチ
ドパターンや被検者の像が被検眼の注意を惹いて、被検
眼の調節作用が発生するようなことはなくなり、正確な
眼屈折測定が可能となる。
Thus, in the eye refraction measurement, the placido pattern and the image of the subject do not attract the attention of the subject's eye and the accommodative action of the subject's eye does not occur, and accurate eye refraction can be measured. Become.

【0033】パターン板101のベースには光を透過拡
散可能な拡散板が用いられている。このパターン板10
1は、図4(c)に示した様に装置本体4の前端部の円筒
部4aに装着されていると共に、図1,図2及びから分
かるように、被検眼EC(一方の眼)を装置光軸Oに合
わせた状態で、縁部近傍の部分が他方の眼(反対眼)E
C´に臨む大きさに形成されている。これにより、被検
者2の両方の眼(両眼)EC,EC´がパターン板10
1に臨んでいる。
A diffusion plate capable of transmitting and diffusing light is used as the base of the pattern plate 101. This pattern board 10
1 is attached to the cylindrical portion 4a at the front end of the device body 4 as shown in FIG. 4 (c), and as can be seen from FIGS. 1 and 2, the eye EC (one eye) is In a state where it is aligned with the optical axis O of the apparatus, the portion near the edge is the other eye (opposite eye) E
It is formed so as to face C '. As a result, both eyes (both eyes) EC, EC ′ of the subject 2 are exposed to the pattern plate 10
Facing 1.

【0034】しかも、このパターン板101には、図3
に示すように、中心部に円形の孔101aが開いている
と共に、この孔101aの周囲に同心に設けた9つの同
心円状のリングC1〜C9(透光リングパターン)が形成
されている。
Moreover, the pattern plate 101 has a structure shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a circular hole 101a is opened in the center, and nine concentric rings C1 to C9 (light-transmitting ring patterns) concentrically provided around the hole 101a are formed.

【0035】このリングC1〜C9は、図4(a),(b)に示
すように、白色塗料層101c(白色反射層)と黒色塗
料層101d(黒色層)とからなる遮光部D1〜D9を
パターン板101の表面101bに同心に間隔をおいて
複数形成することにより、この遮光部D1〜D9の隣接
するもの同士間(すなわち塗料101c,101dが塗ら
れていない部分)に形成されたものである。
As shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b), the rings C1 to C9 are light-shielding portions D1 to D9 composed of a white paint layer 101c (white reflective layer) and a black paint layer 101d (black layer). Formed on the surface 101b of the pattern plate 101 at concentrically spaced intervals so that the light-shielding portions D1 to D9 are formed between adjacent ones (that is, portions where the paints 101c and 101d are not applied). Is.

【0036】これにより、複数の赤外発光ダイオード1
02から出た光のうちリングC1〜C9に向かう光は、遮
光部D1〜D9とPC板104の作用により図4(a),
(b)のL,L1,L2に示した様に拡散と反射を繰り返
す。即ち、この拡散と反射の作用をリングC1と一つの
赤外発光ダイオード102を用いて説明すると、赤外発
光ダイオード102からリング(透光リングパターン)
C1に向かう光束Lは、大半が拡散板であるパターン板
101を透過する際に拡散光L1としてリングC1を透
過し、残りが反射光L2としてPC板104側に反射す
る。この反射光L2及び赤外発光ダイオード102から
直接に遮光部D1〜D9に向かう光は、PC板104で
反射光L3として反射した後、白色塗料層(白色反射
層)101cの部分とPC板104との間で多数回反射
した後にリングC1〜C9のいずれかから被検眼E側に投
影される。これにより、赤外発光ダイオード102から
出た光は無駄なくプラチドパターン(プラチドリングパ
ターン)投影のために利用されると共に、このプラチド
パターンに均一な照明光を投影できる。
As a result, the plurality of infrared light emitting diodes 1
Of the light emitted from 02, the light traveling toward the rings C1 to C9 is generated by the action of the light shielding portions D1 to D9 and the PC board 104, as shown in FIG.
Diffusion and reflection are repeated as indicated by L, L1 and L2 in (b). That is, the effect of this diffusion and reflection will be described using the ring C1 and one infrared light emitting diode 102. From the infrared light emitting diode 102 to the ring (transparent ring pattern).
Most of the light flux L directed to C1 passes through the ring C1 as diffused light L1 when passing through the pattern plate 101 which is a diffuser, and the rest is reflected to the PC plate 104 side as reflected light L2. The reflected light L2 and the light directly traveling from the infrared light emitting diode 102 to the light shielding portions D1 to D9 are reflected as the reflected light L3 by the PC board 104, and then the white paint layer (white reflective layer) 101c and the PC board 104. After being reflected a number of times between and, the image is projected from one of the rings C1 to C9 to the eye E side. With this, the light emitted from the infrared light emitting diode 102 is used for projecting a placido pattern (placido ring pattern) without waste, and uniform illumination light can be projected on this placido pattern.

【0037】尚、本実施例では、パターン板101を拡
散板から形成しているが、必ずしもこれに限定されるも
のではない。例えば、パターン板と拡散板(図示せず)
を別体に形成して重ねあわせると共に、上述した遮光部
D1〜D9をパターン板と拡散板との間に形成してもよ
い。
In this embodiment, the pattern plate 101 is formed of the diffusion plate, but the present invention is not limited to this. For example, a pattern plate and a diffusion plate (not shown)
May be separately formed and overlapped with each other, and the light-shielding portions D1 to D9 described above may be formed between the pattern plate and the diffusion plate.

【0038】また、パターン板101には、水平方向に
並んだ2つの円形のマークQ1,Q2が形成されている。
このマークQ1,Q2も上記と同様に塗料101c,101d
が塗られていない部分である。
On the pattern plate 101, two circular marks Q1 and Q2 arranged in the horizontal direction are formed.
These marks Q1 and Q2 are also paints 101c and 101d as above.
Is the unpainted part.

【0039】赤外発光ダイオード102は、各リングC
1〜C9に対向するとともに各リングC1〜C9に沿って、
図5に示すように所定間隔毎にPC板104に取り付け
られている。PC板104はユニットベース105に固
定され、その表面104aは白色となって赤外光を前方
へ反射するようになっている。ユニットベース105は
対物レンズ11を保持した鏡筒部106に固定されてい
る。107はPC板104と可視カットフィルタ103
との間に配置した反射鏡である。
The infrared light emitting diode 102 is composed of each ring C.
1 to C9 and along each ring C1 to C9,
As shown in FIG. 5, they are attached to the PC board 104 at predetermined intervals. The PC board 104 is fixed to the unit base 105, and the surface 104a of the PC board 104 is white and reflects infrared light forward. The unit base 105 is fixed to the lens barrel portion 106 holding the objective lens 11. 107 is a PC board 104 and a visible cut filter 103
It is a reflector placed between and.

【0040】マーク投影光学系120は、パターン板1
01に形成されたマークQ1,Q2と、同一水平面に配設
された一対の平行投影ユニット121,131(図1参
照)とから構成され、各平行投影ユニット121,13
1は赤外発光ダイオード122,132と、この赤外発
光ダイオード122,132から射出された赤外光を平
行光束にしてマークQ1,Q2に向けて射出する投影レン
ズ123,133とを鏡筒125,135にそれぞれ備
えている。
The mark projection optical system 120 includes the pattern plate 1
01 and the pair of parallel projection units 121 and 131 (see FIG. 1) arranged on the same horizontal plane.
Reference numeral 1 denotes a lens barrel 125 including infrared light emitting diodes 122 and 132, and projection lenses 123 and 133 which convert the infrared light emitted from the infrared light emitting diodes 122 and 132 into parallel light beams and emit the parallel light beams toward the marks Q1 and Q2. , 135 respectively.

【0041】平行投影ユニット121,131の光軸1
21a,131aはマークQ1,Q2を通って被検眼角膜Ec
に向けられており、投影レンズ123,133による平
行光束によってマークQ1,Q2を無限遠の距離から被検
眼角膜Ecに向けて投影する状態となっている。すなわ
ち、パターン板101と異なる距離からマークQ1,Q2
を被検眼角膜Ecに向けて投影するものである。
Optical axis 1 of parallel projection units 121 and 131
21a and 131a pass through the marks Q1 and Q2 and the cornea Ec of the eye to be examined.
The marks Q1 and Q2 are projected from the infinity distance toward the cornea Ec of the eye to be inspected by the parallel light beams from the projection lenses 123 and 133. That is, the marks Q1 and Q2 from different distances from the pattern plate 101
Is projected onto the cornea Ec of the eye to be examined.

【0042】平行投影ユニット121のケース125
は、PC板104(プリント基板)の中心部に形成した
孔104bの凹部104cに挿入されているとともに鏡筒
部106にネジNにより固定されている。平行投影ユニ
ット131も上記と同様に鏡筒部106に固定されてい
る。
Case 125 of parallel projection unit 121
Is inserted into a recess 104c of a hole 104b formed at the center of the PC board 104 (printed circuit board) and is fixed to the lens barrel 106 with a screw N. The parallel projection unit 131 is also fixed to the lens barrel portion 106 as described above.

【0043】図6はこの眼科装置の制御系の構成を示し
たブロック図である。図6において201はエリアセン
サ18が受光する画像を記憶するフレームメモリ、20
2はエリアセンサ18が受光する画像を表示するモニ
タ、203はフレームメモリ201に記憶された画像の
各リング像Ca〜Ci(図7参照)から角膜形状を演算し
て求めるとともに、リング像Cbの径L1とマーク像Qa,
Qb間の距離L2との比から装置本体の作動距離を検出し
たり、この作動距離を基にして上記角膜形状を補正した
りする演算制御装置(演算手段)である。そして、演算
制御装置203は角膜形状演算手段と作動距離検出手段
と補正手段としての機能を有している。
FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the control system of this ophthalmologic apparatus. In FIG. 6, 201 is a frame memory for storing an image received by the area sensor 18, and 20 is a frame memory.
Reference numeral 2 is a monitor for displaying an image received by the area sensor 18, and 203 is a corneal shape calculated from each ring image Ca to Ci (see FIG. 7) of the image stored in the frame memory 201, and the ring image Cb is calculated. Diameter L1 and mark image Qa,
This is an arithmetic control device (arithmetic means) that detects the working distance of the apparatus main body from the ratio to the distance L2 between Qb and corrects the corneal shape based on this working distance. The arithmetic and control unit 203 has functions as a corneal shape calculating means, a working distance detecting means, and a correcting means.

【0044】そして、プラチドパターン投影系100
と、マーク投影光学系120と、前眼部観察光学系10
と、演算制御装置203とで角膜の形状を測定する角膜
形状測定装置が構成される。
Then, the Placido pattern projection system 100
, Mark projection optical system 120, and anterior segment observation optical system 10
And the arithmetic and control unit 203 constitute a cornea shape measuring device for measuring the shape of the cornea.

【0045】また、この演算制御装置203は、操作部
205の操作に基づいてプリンタ206,記録装置20
7,光源21,51,71,102,122,132等の制御
を行ったりする。また、演算制御装置203は眼底Er
に投影されたリング像から眼屈折力を演算するようにな
っている。
Further, the arithmetic and control unit 203 is configured so that the printer 206 and the recording unit 20 can be operated based on the operation of the operation unit 205.
7, controlling the light sources 21, 51, 71, 102, 122, 132 and the like. Further, the arithmetic and control unit 203 controls the fundus Er
The eye refractive power is calculated from the ring image projected on the eye.

【0046】次に、上記実施例の動作につて説明する。Next, the operation of the above embodiment will be described.

【0047】操作部205の操作によりプラチドパター
ン投影系100の赤外発光ダイオード102と、マーク
投影光学系120の赤外発光ダイオード122,132
を点灯する。また、スケール投影系20の光源21を点
灯する。
By operating the operation unit 205, the infrared light emitting diode 102 of the Placido pattern projection system 100 and the infrared light emitting diodes 122 and 132 of the mark projection optical system 120.
Lights up. Further, the light source 21 of the scale projection system 20 is turned on.

【0048】赤外発光ダイオード102の点灯によりパ
ターン板101のリングC1〜C9から可視カットフィル
タ103を介して赤外光によるリング光束が射出され、
このリング光束が被検眼角膜Ecに投影されてリングC1
〜C9による反射像が形成されることとなる。
When the infrared light emitting diode 102 is turned on, a ring luminous flux of infrared light is emitted from the rings C1 to C9 of the pattern plate 101 through the visible cut filter 103,
This ring luminous flux is projected onto the cornea Ec of the eye to be examined and the ring C1
A reflected image of C9 is formed.

【0049】同様に、赤外発光ダイオード122,13
2から射出された赤外光は投影レンズにより平行光束と
なってマークQ1,Q2を照射し、このマークQ1,Q2によ
り円形の平行光束となって被検眼角膜Ecに投影されて
マークQ1,Q2による反射像が形成される。
Similarly, the infrared light emitting diodes 122, 13
The infrared light emitted from 2 is converted into a parallel light beam by the projection lens and irradiates the marks Q1 and Q2, and is converted into a circular parallel light beam by the marks Q1 and Q2, and is projected onto the cornea Ec of the eye to be inspected to generate the marks Q1 and Q2. A reflected image is formed by.

【0050】そして、被検眼角膜Ecの反射によるリン
グ反射像およびマーク反射像の光束は、対物レンズ1
1,ダイクロイックミラー60,ミラー13,リレーレン
ズ14,ダイクロイックミラー15,リレーレンズ16,
ダイクロイックミラー92,結像レンズ17を介してエ
リアセンサ18に前眼部像とともに結像される。そし
て、モニタ202には、図7に示すように前眼部像Ea
とともにリング反射像Ca〜Ciおよびマーク反射像Qa,
Qbが表示される。
Then, the light fluxes of the ring reflection image and the mark reflection image due to the reflection of the cornea Ec of the eye to be examined are the objective lens 1
1, dichroic mirror 60, mirror 13, relay lens 14, dichroic mirror 15, relay lens 16,
The image is formed on the area sensor 18 together with the anterior segment image through the dichroic mirror 92 and the image forming lens 17. Then, as shown in FIG. 7, the anterior segment image Ea is displayed on the monitor 202.
Together with the ring reflection images Ca to Ci and the mark reflection image Qa,
Qb is displayed.

【0051】また、スケール投影系20の光源21の点
灯によりエリアセンサ18上にスケール像が結像される
ので、モニタ202にスケール像Pも表示される。
Since the scale image is formed on the area sensor 18 by turning on the light source 21 of the scale projection system 20, the scale image P is also displayed on the monitor 202.

【0052】検者はモニタ202に表示されるスケール
像Pとリング反射像Caとを見ながら、スケール像Pの
交点Paがリング反射像Caの中心に位置するように装置
本体を上下左右に移動させてXY方向のアライメントを
行う。また、マーク反射像Qa,Qbがリング反射像Cbと
がほぼ一致するように装置本体を前後方向に移動させて
Z方向のアライメントを行う。
While inspecting the scale image P and the ring reflection image Ca displayed on the monitor 202, the examiner moves the apparatus main body vertically and horizontally so that the intersection point Pa of the scale image P is located at the center of the ring reflection image Ca. Then, alignment in the XY directions is performed. Further, the apparatus main body is moved in the front-rear direction so that the mark reflection images Qa and Qb and the ring reflection image Cb substantially coincide with each other to perform Z-direction alignment.

【0053】これは、マークQ1,Q2が無限遠から投影
されていることにより、装置本体のZ方向の距離に拘ら
ずマーク反射像Qa,Qb間の距離L2は一定であり、他
方、リング反射像Cbの径L1がZ方向の距離によって変
化するので、図7に示したマーク反射像Qa,Qb間の距
離L2とリング反射像Cbの径L1の大きさとを比較する
ことにより、Z方向のアライメントを調整することがで
き、作動距離を求めることができる。
Since the marks Q1 and Q2 are projected from infinity, the distance L2 between the mark reflection images Qa and Qb is constant regardless of the distance in the Z direction of the apparatus body, while the ring reflection image is Since the diameter L1 of Cb varies depending on the distance in the Z direction, by comparing the distance L2 between the mark reflection images Qa and Qb shown in FIG. 7 and the diameter L1 of the ring reflection image Cb, the alignment in the Z direction is performed. Can be adjusted and the working distance can be determined.

【0054】このように、モニタ202にスケール像P
が表示されているので、アライメントはそのスケール像
Pを見て行えばよいので大変行い易いものとなる。
In this way, the scale image P is displayed on the monitor 202.
Is displayed, alignment can be performed by looking at the scale image P, which is very easy to perform.

【0055】これらアライメントが完了したら、操作部
205の測定スイッチ(図示せず)を押すと、図8に示す
ステップ2では図7に示す画像がフレームメモリ201
に記憶される。
After these alignments are completed, when the measurement switch (not shown) of the operation unit 205 is pressed, the image shown in FIG. 7 is displayed in the frame memory 201 in step 2 shown in FIG.
Is stored.

【0056】演算制御部203は、フレームメモリ20
1に記憶されたリング反射像Cbの径L1とマーク反射像
Qa,Qb間の距離L2との比を求め、この比から装置本体
の作動距離を演算する。そして、この作動距離と予め設
定されている設定作動距離との差、すなわちZ方向にお
けるアライメントの誤差を演算する(ステップ3)。こ
の誤差が所定範囲内であるか否かがステップ4で判断さ
れ、イエスであれば、フレームメモリ201に記憶され
たリング反射像Ca〜Ciから角膜形状を求め、さらに、
上記誤差に応じてその角膜形状を補正する(ステップ
5)。この補正により、Z方向のアライメントが正確に
行われなくとも正確な角膜形状が求められることとな
る。
The arithmetic control unit 203 is connected to the frame memory 20.
The ratio between the diameter L1 of the ring reflection image Cb stored in 1 and the distance L2 between the mark reflection images Qa and Qb is calculated, and the working distance of the apparatus main body is calculated from this ratio. Then, the difference between this working distance and the preset working distance, that is, the alignment error in the Z direction is calculated (step 3). Whether or not this error is within a predetermined range is determined in step 4, and if YES, the corneal shape is obtained from the ring reflection images Ca to Ci stored in the frame memory 201, and further,
The corneal shape is corrected according to the above error (step 5). By this correction, an accurate corneal shape can be obtained even if the alignment in the Z direction is not accurately performed.

【0057】補正前の角膜形状と補正後の角膜形状と作
動距離とがモニタ202に表示されるとともに、これら
データはプリンタ206によってプリントアウトされ、
記録装置207に図7に示す画像とともに記録される
(ステップ6)。
The corneal shape before correction, the corneal shape after correction, and the working distance are displayed on the monitor 202, and these data are printed out by the printer 206.
It is recorded in the recording device 207 together with the image shown in FIG. 7 (step 6).

【0058】このように、Z方向のアライメントが正確
に行われなくとも、アライメントの誤差が求められてそ
の誤差に基づいて角膜形状が補正されて正確な角膜形状
が求められるので、作動距離が短くてもアライメントの
許容範囲を広く設定することができ、しかも、正確な角
膜形状を求めることができる。
As described above, even if the alignment in the Z direction is not accurately performed, the alignment error is obtained, and the corneal shape is corrected based on the error to obtain the accurate corneal shape. Therefore, the working distance is short. However, it is possible to set a wide allowable range of alignment and to obtain an accurate corneal shape.

【0059】眼屈折力を測定する場合は、固視標投影光
学系50の光源51を点灯させて被検眼Eを所定方向に
向けさせるとともに雲霧視させる。そして、測定投影光
学系70の光源71を点灯して眼底Erにリング像(図示
せず)を投影し、このリング像を対物レンズ11,ダイク
ロイックミラー60,ダイクロイックミラー80,ミラー
79,ダイクロイックミラー78,ダイクロイックミラー
91,リレーレンズ57,ミラーM2,リレーレンズ56,
ダイクロイックミラー55,ダイクロイックミラー92,
結像レンズ17を介してエリアセンサ18に結像させ、
このリング像から眼屈折力を演算制御装置203が演算
して求める。
When the eye refractive power is measured, the light source 51 of the fixation target projection optical system 50 is turned on to direct the eye E to be examined in a predetermined direction and to make a cloudy vision. Then, the light source 71 of the measurement projection optical system 70 is turned on to project a ring image (not shown) on the fundus Er, and this ring image is objective lens 11, dichroic mirror 60, dichroic mirror 80, mirror 79, dichroic mirror 78. , Dichroic mirror 91, relay lens 57, mirror M2, relay lens 56,
Dichroic mirror 55, dichroic mirror 92,
Form an image on the area sensor 18 via the imaging lens 17,
The arithmetic control device 203 calculates the eye refractive power from this ring image.

【0060】上記実施例では、眼屈折力装置にプラチド
パターン投影系100を一体的に設けたものであるが、
例えば眼底カメラ等の眼科装置にプラチドパターン投影
系100を一体的に設けてもよいし、上記装置から眼屈
折測定の為の光学系を除いてプラチドパターンによる角
膜形状のみを測定する角膜形状測定装置としてもよい。
In the above embodiment, the placido pattern projection system 100 is integrally provided in the eye refractive power device.
For example, the placido pattern projection system 100 may be integrally provided in an ophthalmologic apparatus such as a fundus camera, or a corneal shape measuring apparatus that measures only the corneal shape based on the Placido pattern by removing the optical system for eye refraction measurement from the above apparatus. May be

【0061】また、上記実施例では、フレームメモリ2
01にスケール像Pも記憶させているが、測定スイッチ
を押した際に、スケール投影系20の光源21を消灯さ
せてスケール像Pがフレームメモリ201に記憶されな
いようにしてもよい。このようにすることにより、角膜
形状や作動距離を演算する際にスケール像Pが邪魔とな
らずに済む。また、マークQ1,Q2を無限遠の距離から
被検眼角膜Ecに向けて投影しているが、パターン板1
01と異なる距離からマークQ1,Q2を被検眼角膜Ecに
向けて投影するものであればよい。
In the above embodiment, the frame memory 2
Although the scale image P is also stored in 01, the light source 21 of the scale projection system 20 may be turned off when the measurement switch is pressed so that the scale image P is not stored in the frame memory 201. By doing so, the scale image P does not get in the way when calculating the corneal shape and working distance. Further, the marks Q1 and Q2 are projected from the infinite distance toward the cornea Ec of the eye to be examined.
The marks Q1 and Q2 may be projected onto the cornea Ec of the eye to be examined from a distance different from 01.

【0062】上記実施例では、測定スイッチを押した際
にフレームメモリ201に画像を取り込んで角膜形状や
作動距離を演算しているが、測定スイッチを押さずに、
常に画像を取り込むようにして、作動距離を演算し、こ
の作動距離が適正な範囲にあるとき、角膜形状を演算し
て出力するようにしてもよい。
In the above embodiment, when the measurement switch is pressed, an image is captured in the frame memory 201 to calculate the corneal shape and working distance. However, without pressing the measurement switch,
It is also possible to always capture an image, calculate the working distance, and when the working distance is within an appropriate range, calculate and output the corneal shape.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明で
は、パターン投影系によりプラチドパターンを角膜に投
影すると共に、前記角膜におけるプラチドパターンの反
射光を受光光学系により受光手段に案内して、前記受光
手段の出力から前記角膜の形状を演算手段により広範囲
に求めるようにした眼科装置において、前記パターン投
影手段はプラチドパターンを赤外光を用いて前記角膜に
投影する赤外投影手段を有すると共に、前記受光手段は
前記角膜からの赤外反射像に感度を有する構成としたの
で、赤外光によるプラチドパターンは被検眼に見えない
ために、角膜形状の測定に際して、プラチドパターンに
よる被検眼の視線の安定、惹いては測定精度の向上が得
られる。
As described above, according to the first aspect of the invention, the plactide pattern is projected onto the cornea by the pattern projection system, and the reflected light of the plactide pattern on the cornea is guided to the light receiving means by the light receiving optical system. In the ophthalmologic apparatus configured to obtain the shape of the cornea from the output of the light receiving means in a wide range by the calculation means, the pattern projection means has an infrared projection means for projecting a Placido pattern onto the cornea using infrared light. Along with that, since the light receiving means is configured to have sensitivity to an infrared reflection image from the cornea, since the placido pattern due to infrared light is not visible to the eye to be inspected, when measuring the corneal shape, the eye to be inspected by the placido pattern is measured. It is possible to obtain a stable line of sight and thus an improvement in measurement accuracy.

【0064】また、請求項2の発明では、被検眼の眼底
に眼屈折測定用の測定光束を投影する測定光束投影光学
系が設けられ、前記眼底から反射光束を受光手段まで導
く受光光学系が設けられ、前記受光手段からの出力を基
に前記被検眼の眼屈折力を求める演算手段が設けられた
眼科装置であって、前記被検眼の角膜に向けて赤外プラ
チドパターンを投影するプラチドパターン投影系が設け
られていると共に、前記演算手段は前記角膜によるプラ
チドパターンの反射像から角膜形状を演算する構成とし
たので、赤外光によるプラチドパターンは被検眼に見え
ないために、眼屈折力測定に際してプラチドパターンに
よる被検眼の調節作用が生じるのを少なくして、正確な
眼屈折力の測定ができる。
Further, in the invention of claim 2, a measurement light beam projection optical system for projecting a measurement light beam for eye refraction measurement is provided on the fundus of the eye to be inspected, and the light receiving optical system for guiding the reflected light beam from the fundus to the light receiving means is provided. An ophthalmologic apparatus which is provided with an arithmetic means for obtaining an eye refractive power of the eye to be inspected based on an output from the light receiving means, wherein a Placido pattern for projecting an infrared Placido pattern toward the cornea of the eye to be inspected. Since the projection system is provided and the computing means is configured to compute the corneal shape from the reflection image of the Placido pattern by the cornea, the Placido pattern by infrared light is invisible to the eye to be inspected. Accurate measurement of the eye refractive power can be achieved by reducing the adjustment action of the subject's eye due to the Plactide pattern during measurement.

【0065】請求項3の発明は、前記プラチドパターン
は、該プラチドパターンの中心を被検者の両眼のうち一
方の被検眼の光軸に合わせた状態で、前記両眼に臨む大
きさに形成されている構成であるが、赤外光によるプラ
チドパターンは被検眼に見えないために、角膜形状や眼
屈折力の測定に際して、プラチドパターンによる被検眼
の視線の安定、惹いては測定精度の向上が得られる。
According to a third aspect of the present invention, the size of the placido pattern is such that the center of the placido pattern is aligned with the optical axis of one of the two eyes of the subject and the two eyes are exposed. Although it is a configuration that is formed, since the placido pattern by infrared light is not visible to the eye to be inspected, when measuring the corneal shape and eye refractive power, the stability of the line of sight of the eye to be inspected by the placido pattern, and thus the measurement accuracy An improvement is obtained.

【0066】請求項4の発明は、前記プラチドパターン
投影系はプラチドパターン板を備え、前記被検眼とプラ
チドパターン板との間には可視カット又は可視透過率の
低いフィルターを配設した構成としたので、被検眼側か
らの外光(可視光)が入射する前にフィルターで吸収さ
れてパターン板に全く到達しかないか殆ど到達しないこ
ととなる。この結果、パターン板に設けられたプラチド
パターンが被検眼から見えなくなるので、眼屈折力測定
に際してプラチドパターンによる被検眼の調節作用が生
じるのをより少なくして、正確な眼屈折力の測定ができ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, the plactide pattern projection system comprises a plactide pattern plate, and a visible cut or a filter having a low visible transmittance is arranged between the eye to be inspected and the plactide pattern plate. Therefore, the external light (visible light) from the side of the eye to be examined is absorbed by the filter before reaching the pattern plate, or hardly reaches the pattern plate. As a result, since the Placido pattern provided on the pattern plate becomes invisible to the eye to be inspected, it is possible to reduce the adjustment action of the eye to be inspected due to the Plactide pattern during the measurement of the eye refractive power, and to measure the eye refractive power accurately .

【0067】更に、請求項5の発明は、前記フィルター
の前記被検眼側の面に反射防止コーティング層を設けた
構成としたので、室内照明等の外光によって被検者自信
の顔や目等をフィルターの表面に映し出されるようなこ
とはなくなり、眼屈折力測定に際してフィルター表面の
反射像による被検眼の調節作用が生じるのをより確実に
なくして、正確な眼屈折力の測定ができる。
Further, according to the invention of claim 5, since the antireflection coating layer is provided on the surface of the filter on the side of the eye to be inspected, the face and eyes of the person to be examined are confident due to external light such as indoor lighting. Is no longer reflected on the surface of the filter, and the eye refracting power can be accurately measured by more reliably eliminating the adjusting action of the eye to be inspected due to the reflection image of the filter surface when measuring the eye refractive power.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係わる眼科装置の光学系の配置を示
した光学配置図である。
FIG. 1 is an optical layout diagram showing the layout of an optical system of an ophthalmologic apparatus according to the present invention.

【図2】プラチドパターン投影系の構成を示した断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a Placido pattern projection system.

【図3】図2のプラチドパターン投影系のパターン板を
示した正面図である。
3 is a front view showing a pattern plate of the Placido pattern projection system of FIG.

【図4】(a)は図3のパターン板の構成の一部を示した
拡大断面図、(b)はパターン板とPC板との関係を示す
説明図、(c)はこの発明にかかる眼科装置と被検者との
関係を示す斜視図である。
4A is an enlarged cross-sectional view showing a part of the structure of the pattern board of FIG. 3, FIG. 4B is an explanatory view showing the relationship between the pattern board and the PC board, and FIG. It is a perspective view which shows the relationship between an ophthalmologic apparatus and a subject.

【図5】赤外発光ダイオードの配置を示したPC板の正
面図である。
FIG. 5 is a front view of a PC board showing an arrangement of infrared light emitting diodes.

【図6】眼科装置の制御系の構成を示したブロック図で
ある。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a control system of the ophthalmologic apparatus.

【図7】モニタに表示された画像を示した説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing an image displayed on a monitor.

【図8】眼科装置の動作を示したフロー図である。FIG. 8 is a flowchart showing the operation of the ophthalmologic apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 前眼部観察光学系 18 エリアセンサ(受光手段) 30 アライメント投影光学系(投影光学系) 70 測定投影光学系(測定光束投影光学系) 90 受光光学系 100 プラチドパターン投影系 101 パターン板(プラチドパターン板) 120 マーク投影光学系 202 モニタ 203 演算制御装置(演算手段) E 被検眼 Ec 角膜 10 Anterior Eye Observation Optical System 18 Area Sensor (Light Receiving Unit) 30 Alignment Projection Optical System (Projection Optical System) 70 Measurement Projection Optical System (Measurement Light Beam Projection Optical System) 90 Light Reception Optical System 100 Placido Pattern Projection System 101 Pattern Plate (Plactide) Pattern board) 120 mark projection optical system 202 monitor 203 arithmetic and control unit (arithmetic means) E eye to be examined Ec cornea

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石倉 靖久 東京都板橋区蓮沼町75番1号株式会社トプ コン内 (72)発明者 林 健史 東京都板橋区蓮沼町75番1号株式会社トプ コン内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Yasuhisa Ishikura 75-1 Hasunumacho, Itabashi-ku, Tokyo Topcon Co., Ltd. (72) Inventor Kenji Hayashi 75-1 Hasunumacho, Itabashi-ku, Tokyo Topcon Co., Ltd. Within

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パターン投影系によりプラチドパターン
を角膜に投影すると共に、前記角膜におけるプラチドパ
ターンの反射光を受光光学系により受光手段に案内し
て、前記受光手段の出力から前記角膜の形状を演算手段
により広範囲に求めるようにした眼科装置において、 前記パターン投影手段はプラチドパターンを赤外光を用
いて前記角膜に投影する赤外投影手段を有すると共に、
前記受光手段は前記角膜からの赤外反射像に感度を有す
ることを特徴とする眼科装置。
1. A pattern projection system projects a placido pattern onto a cornea, and the reflected light of the placido pattern on the cornea is guided to a light receiving means by a light receiving optical system, and the shape of the cornea is calculated from the output of the light receiving means. In an ophthalmologic apparatus adapted to obtain a wide range by means, the pattern projection means has an infrared projection means for projecting a placido pattern onto the cornea using infrared light,
The ophthalmologic apparatus, wherein the light receiving means is sensitive to an infrared reflection image from the cornea.
【請求項2】 被検眼の眼底に眼屈折測定用の測定光束
を投影する測定光束投影光学系が設けられ、前記眼底か
ら反射光束を受光手段まで導く受光光学系が設けられ、
前記受光手段からの出力を基に前記被検眼の眼屈折力を
求める演算手段が設けられた眼科装置であって、 前記被検眼の角膜に向けて赤外プラチドパターンを投影
するプラチドパターン投影系が設けられていると共に、
前記演算手段は前記角膜によるプラチドパターンの反射
像から角膜形状を演算することを特徴とする眼科装置。
2. A measurement light beam projection optical system for projecting a measurement light beam for eye refraction measurement is provided on the fundus of an eye to be inspected, and a light receiving optical system for guiding a reflected light beam from the fundus to a light receiving means is provided.
It is an ophthalmologic apparatus provided with a calculation unit for obtaining the eye refractive power of the eye to be inspected based on the output from the light receiving unit, wherein a Placido pattern projection system for projecting an infrared Placido pattern toward the cornea of the eye to be inspected is Is provided,
The ophthalmologic apparatus, wherein the calculating means calculates a corneal shape from a reflection image of a Placido pattern by the cornea.
【請求項3】 前記プラチドパターンは、該プラチドパ
ターンの中心を被検者の両眼のうち一方の被検眼の光軸
に合わせた状態で、前記両眼に臨む大きさに形成されて
いることを特徴とする請求項1又は2に記載の眼科装
置。
3. The plactide pattern is formed to have a size facing the two eyes in a state where the center of the plactide pattern is aligned with the optical axis of one of the two eyes of the subject. The ophthalmologic apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that.
【請求項4】 前記プラチドパターン投影系はプラチド
パターン板を備え、前記被検眼とプラチドパターン板と
の間には可視カット又は可視透過率の低いフィルターを
配設したことを特徴とする請求項1又は2に記載の眼科
装置。
4. The placido pattern projection system comprises a placido pattern plate, and a visible cut or low visible transmittance filter is arranged between the eye to be examined and the placido pattern plate. Or the ophthalmologic apparatus according to 2.
【請求項5】 前記フィルターの前記被検眼側の面に反
射防止コーティング層を設けたことを特徴とする請求項
4に記載の眼科装置。
5. The ophthalmologic apparatus according to claim 4, wherein an antireflection coating layer is provided on the surface of the filter on the eye side.
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