JPH08278513A - Optical sensor for liquid crystal mdium recording - Google Patents

Optical sensor for liquid crystal mdium recording

Info

Publication number
JPH08278513A
JPH08278513A JP8256895A JP8256895A JPH08278513A JP H08278513 A JPH08278513 A JP H08278513A JP 8256895 A JP8256895 A JP 8256895A JP 8256895 A JP8256895 A JP 8256895A JP H08278513 A JPH08278513 A JP H08278513A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
voltage
optical sensor
current
recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8256895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahito Okabe
岡部将人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP8256895A priority Critical patent/JPH08278513A/en
Publication of JPH08278513A publication Critical patent/JPH08278513A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE: To make it possible to execute image recording with recording characteristics meeting purposes by specifying the value of a base current when a specific voltage is impressed on an optical sensor to a specific vague. CONSTITUTION: A liquid crystal recording medium 20 successively formed with transparent electrodes 22 and a high polymer-liquid crystal composite layer 23 on a transparent base 21 and the optical sensor 10 successively laminated with transparent electrodes 12 and a photoconductive layer 13 on a transparent support-base 11 are arranged to face each other via an air gap. The optical sensor 10 is subjected to image exposing in the state of impressing the voltage between both electrodes. The electric field acting on liquid crystals changes according to the exposing light intensity and the liquid crystals are oriented according to the electric field. The image information meeting the exposing light intensity is thus recorded. The base current at the time of impressing 100V on the optical sensor 10 is specified to 1×10<-7> to 2×10<-5> A/cm<2> . The optical sensor current of the exposed parts when impressed with the voltage under such a condition under which the optical sensor current of the unexposed parts attains 2×10<-6> to 4×10<-6> A/cm<2> is preferably 0.5×10<-6> to 1.5×10<-6> A/cm<2> .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶媒体記録用光セン
サに係わり、特に記録する画像の特性に対応できるベー
ス電流の光センサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical sensor for recording a liquid crystal medium, and more particularly to an optical sensor for a base current which can cope with characteristics of an image to be recorded.

【0002】[0002]

【従来の技術】高分子−液晶複合体は、例えば、液晶と
樹脂を混合して共通溶媒に溶解させ、該溶液をスピンナ
ー等で塗布した後、溶媒を蒸発、乾燥させることによ
り、液晶相と樹脂相が相分離することにより作製できる
ことが知られている。高分子−液晶複合体の他の作製方
法としては、液晶と紫外線硬化型樹脂のモノマーまたは
オリゴマーを共通溶媒に溶解させ、液晶とモノマーの混
合物が等方相になる温度で乾燥させた状態で、紫外線を
照射し、モノマーを重合させることにより、樹脂相と液
晶相を相分離することにより作製することもできる。
2. Description of the Related Art A polymer-liquid crystal composite is formed, for example, by mixing a liquid crystal and a resin, dissolving them in a common solvent, coating the solution with a spinner or the like, and then evaporating and drying the solvent to form a liquid crystal phase. It is known that the resin phase can be produced by phase separation. As another method for producing a polymer-liquid crystal composite, a liquid crystal and a monomer or oligomer of an ultraviolet curable resin are dissolved in a common solvent, and the mixture of the liquid crystal and the monomer is dried at a temperature at which it becomes an isotropic phase, It can also be produced by subjecting a resin phase and a liquid crystal phase to phase separation by irradiating with ultraviolet rays and polymerizing a monomer.

【0003】液晶相と樹脂相の相分離の状態は、樹脂中
に、球状または他の形状の液晶相が分散されたものや、
液晶相の中に樹脂球が分散された形態のものがある。液
晶相の配向方向の屈折率は、樹脂の屈折率とほぼ等しく
なるように調整されている。無配向状態の屈折率は、樹
脂の屈折率と異なるため、液晶媒体を作製直後の無配向
状態では液晶相と樹脂との界面で光が散乱し、媒体の透
過率が低下する。液晶媒体に電界をかけて、液晶を媒体
平面と直交する方向に配向させると、散乱がなくなり光
が透過する。
The state of the phase separation of the liquid crystal phase and the resin phase is such that the liquid crystal phase having a spherical or other shape is dispersed in the resin,
There is a liquid crystal phase in which resin spheres are dispersed. The refractive index in the alignment direction of the liquid crystal phase is adjusted to be substantially equal to the refractive index of the resin. Since the refractive index in the non-aligned state is different from the refractive index of the resin, light is scattered at the interface between the liquid crystal phase and the resin in the non-aligned state immediately after manufacturing the liquid crystal medium, and the transmittance of the medium is lowered. When an electric field is applied to the liquid crystal medium to orient the liquid crystal in the direction perpendicular to the plane of the medium, light is transmitted without scattering.

【0004】液晶にメモリ性のあるスメクチック液晶を
使用すると、電界をかけて液晶を配向させた後、電界を
取り除いても配向状態は維持される。配向状態は、液晶
相が等方相になる温度に加熱することにより、冷却後、
無配向状態に戻すことができる。
When a smectic liquid crystal having a memory property is used as the liquid crystal, the alignment state is maintained even if the electric field is removed after the liquid crystal is aligned by applying an electric field. The orientation state is that after cooling by heating to a temperature at which the liquid crystal phase becomes an isotropic phase,
It can be returned to the non-oriented state.

【0005】液晶媒体への画像情報の記録方法として
は、図1に示すように、透明支持体21上に、順次、透
明電極22、高分子−液晶複合体層23を形成した液晶
記録媒体20と、透明支持体11上に、順次、透明電極
12、光導電層13を積層した光センサ10とを空気ギ
ャップを介して対向配置し、両電極間に電源30を用い
て電圧を印加した状態で光センサ10に画像露光し、露
光強度に応じて液晶にかかる電界が変化し、電界に応じ
て液晶を配向させることにより画像露光に応じた画像情
報を記録することができる。
As a method of recording image information on a liquid crystal medium, as shown in FIG. 1, a liquid crystal recording medium 20 in which a transparent electrode 22 and a polymer-liquid crystal composite layer 23 are sequentially formed on a transparent support 21. And a photosensor 10 in which a transparent electrode 12 and a photoconductive layer 13 are sequentially laminated on the transparent support 11 so as to face each other via an air gap, and a voltage is applied between both electrodes using a power supply 30. By performing image exposure on the optical sensor 10 by using, the electric field applied to the liquid crystal changes according to the exposure intensity, and by aligning the liquid crystal according to the electric field, image information corresponding to the image exposure can be recorded.

【0006】光センサを用いた液晶記録媒体への画像記
録の他の方法としては、図2(a)に示すように、透明
支持体11上に、透明電極12、光導電層13、高分子
−液晶複合体層23、上部電極22を順次積層した一体
型記録媒体、或いは、図2(b)に示すように、透明支
持体11上に、透明電極12、光導電層13、誘電体中
間層14、高分子−液晶複合体層23、上部電極22を
順次積層した一体型記録媒体を用いて、上記と同様にセ
ンサに画像露光し、電源30により両電極間に電圧を印
加することにより、液晶層に画像情報を記録することが
できる。
As another method of recording an image on a liquid crystal recording medium using an optical sensor, as shown in FIG. 2A, a transparent electrode 12, a photoconductive layer 13 and a polymer are formed on a transparent support 11. An integrated recording medium in which a liquid crystal composite layer 23 and an upper electrode 22 are sequentially laminated, or as shown in FIG. 2B, a transparent electrode 12, a photoconductive layer 13, and a dielectric intermediate layer on a transparent support 11. By using the integrated recording medium in which the layer 14, the polymer-liquid crystal composite layer 23, and the upper electrode 22 are sequentially laminated, the sensor is imagewise exposed in the same manner as described above, and a voltage is applied between the electrodes by the power source 30. Image information can be recorded on the liquid crystal layer.

【0007】液晶媒体に記録した画像情報は、図3に示
すような、画像読み取り装置で電気信号に変換すること
ができる。図3において、光源40、IRカットフィル
タ41、バンドパスフィルタ42、照明レンズ43から
なる光学系で、適当な波長が選択された照明光が液晶記
録媒体20に照射される。液晶媒体の透過光は、結像レ
ンズ44によりCCDラインセンサ50に結像するよう
に調節されている。液晶記録媒体は図示しない移動可能
なステージの上に設置され、該ステージはステッピング
モータで制御され、ステージの移動に合わせて透過光を
CCDセンサで電気信号に変換することで画像情報の読
み取りが行われる。電気信号に変換された画像信号は、
必要に応じてCRTやプリンタに出力される。
The image information recorded on the liquid crystal medium can be converted into an electric signal by an image reading device as shown in FIG. In FIG. 3, the liquid crystal recording medium 20 is irradiated with illumination light having an appropriate wavelength selected by an optical system including a light source 40, an IR cut filter 41, a bandpass filter 42, and an illumination lens 43. The light transmitted through the liquid crystal medium is adjusted by the imaging lens 44 so as to form an image on the CCD line sensor 50. The liquid crystal recording medium is installed on a movable stage (not shown), which is controlled by a stepping motor, and the transmitted light is converted into an electric signal by a CCD sensor according to the movement of the stage to read image information. Be seen. The image signal converted into an electrical signal is
It is output to a CRT or printer as needed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記の方法で画像を記
録しようとする場合、使用する光センサの特性により、
記録される画像の特性(ラチチュード)が変化し、例え
ば、広い露光レンジを記録しようとした場合に、記録ラ
チチュードが狭いと記録したい範囲が十分に記録できず
に、ハイライト部分やシャドウ部分がつぶれてしまう問
題がある。逆に、文字情報等の狭い露光レンジの画像を
記録する場合に、広い露光レンジを記録できる条件で記
録してしまうと、記録したい部分のS/Nが低下する問
題がある。このように、目的に対して異なる記録特性の
光センサを使用してしまうと、目的を満足するような良
好な画像情報を得ることができない。本発明はかかる点
に鑑みてなされたもので、目的に応じた記録特性で画像
記録を行える液晶媒体記録用光センサを提供することを
目的としている。
When recording an image by the above method, depending on the characteristics of the optical sensor used,
The characteristics (latitude) of the recorded image change, and for example, when trying to record a wide exposure range, if the recording latitude is narrow, the desired range cannot be recorded and the highlights and shadows are crushed. There is a problem that ends up. On the contrary, when recording an image of a narrow exposure range such as character information, if the recording is performed under the condition that the wide exposure range can be recorded, there is a problem that the S / N of the portion to be recorded is lowered. As described above, if the photosensors having different recording characteristics are used for the purpose, it is impossible to obtain good image information satisfying the purpose. The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an optical sensor for recording a liquid crystal medium capable of recording an image with recording characteristics according to the purpose.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、透明電極上に
光導電層を形成した光センサと、液晶と樹脂から高分子
−液晶複合体を電極上に形成した液晶記録媒体を空気ギ
ャップを介して対向させた分離型情報記録媒体の光セン
サに画像露光し、前記両電極間に電圧印加することによ
り、液晶を配向させて画像情報を記録するための光セン
サにおいて、100V印加時のベース電流が1×10-7
〜2×10-5A/cm2 であることを特徴とする。ま
た、本発明は、液晶媒体および光センサの容量により決
まる上限印加電圧V1と、液晶媒体のしきい値電圧、液
晶媒体の飽和電圧、液晶媒体の抵抗、光センサの抵抗に
より決まる下限印加電圧V2としたとき、V1>V2を
満たす膜厚とベース電流であることを特徴とする。ま
た、本発明は、上限印加電圧V1と下限印加電圧V2の
間に、未露光部分の光センサ電流(BD 電流)が2×1
-6〜4×10-6A/cm2 になるような印加電圧条件
が存在し、かつ、このような電圧印加条件で電圧印加し
たときの露光部分の光センサ電流(BL 電流)が0.5
×10-6〜1.5×10-6A/cm2であることを特徴
とする。また、本発明は、上限印加電圧V1と下限印加
電圧V2の間に、未露光部分の光センサ電流(BD
流)が2×10-6〜4×10-6A/cm2 になるような
印加電圧条件が存在し、かつ、この電圧印加条件で電圧
印加したときの露光部分の光センサ電流(BL 電流)が
1.5×10-6A/cm2 より大きいこと特徴とする。
According to the present invention, an optical sensor having a photoconductive layer formed on a transparent electrode and a liquid crystal recording medium having a polymer-liquid crystal complex formed of a liquid crystal and a resin on an electrode are provided with an air gap. In the optical sensor for recording the image information by aligning the liquid crystal by imagewise exposing the optical sensor of the separation-type information recording medium opposed to each other through the voltage application between both electrodes, the base when 100V is applied. Current is 1 × 10 -7
It is characterized in that it is ˜2 × 10 −5 A / cm 2 . Further, according to the present invention, the upper limit applied voltage V1 determined by the capacitance of the liquid crystal medium and the optical sensor, and the lower limit applied voltage V2 determined by the threshold voltage of the liquid crystal medium, the saturation voltage of the liquid crystal medium, the resistance of the liquid crystal medium, and the resistance of the optical sensor. Then, the film thickness and the base current satisfy V1> V2. Further, according to the present invention, the photosensor current ( BD current) in the unexposed portion is 2 × 1 between the upper limit applied voltage V1 and the lower limit applied voltage V2.
There is an applied voltage condition of 0 −6 to 4 × 10 −6 A / cm 2 , and the photosensor current ( BL current) of the exposed portion when voltage is applied under such voltage application condition is 0.5
It is characterized in that it is x10 -6 to 1.5 x 10 -6 A / cm 2 . Further, according to the present invention, the photosensor current ( BD current) in the unexposed portion is 2 × 10 −6 to 4 × 10 −6 A / cm 2 between the upper limit applied voltage V1 and the lower limit applied voltage V2. It is characterized in that there are various applied voltage conditions, and the photosensor current (B L current) in the exposed portion when a voltage is applied under this voltage application condition is larger than 1.5 × 10 −6 A / cm 2 .

【0010】[0010]

【作用】本発明は、光センサのベース電流が異なること
により、画像記録特性が変化することに着目し、光セン
サにかかる電圧の時間変化をシミュレーションして目的
に応じた最適なベース電流の光センサを選択し、目的に
応じた特性で画像記録を行うことが可能となる。
The present invention focuses on the fact that the image recording characteristic changes due to the difference in the base current of the optical sensor, and simulates the time change of the voltage applied to the optical sensor to determine the optimum base current light according to the purpose. It is possible to select a sensor and perform image recording with characteristics according to the purpose.

【0011】[0011]

【実施例】次に、図を用いて本発明の光センサを用いた
画像記録方法の説明をする。図4〜図6にベース電流値
の異なる光センサA〜Cに対して、電圧を変化させて光
照射時の電流を測定した結果を示す。図の横軸は露光強
度(対数表示)、縦軸はベース電流と光電流の合計の電
流(A/cm2 )を示している。光センサに流れる電流
は、例えば、図7に示すように、光センサの表面に金電
極15を形成し、電源30により、透明電極12との間
に電圧を印加して測定することができる。この場合、光
源51および光学シャッター52により、光センサの透
明電極側から、一定強度の光を一定時間照射したときの
測定結果は図8に示すようなものである。光センサには
一定電圧を印加した状態で33msec光照射を行っ
た。グラフ横軸の時間は光照射を開始した時間をt=0
とした。また、t=0のときの電流を暗電流(ベース電
流)値とし、グラフの電流値は単位面積(1cm2 )当
りの値で示してある。光照射開始後、電流値は、光照射
中は時間と共に増加し、光照射終了後はゆっくりと減衰
する。このように光電流は電圧印加中、常に変化し続け
るが、光照射時間33msecの場合、33msec後
に光電流が最大になり、光照射終了後緩やかに減衰す
る。このように、光電流は常に変化し一定ではないが、
以後、t=33msecのとき(電圧印加停止時)の光
電流の値を光電流値とする。光電流は、照射する光の強
度に依存し、強度が増加するにつれて増加する。
EXAMPLE An image recording method using the photosensor of the present invention will be described below with reference to the drawings. 4 to 6 show the results of measuring the current during light irradiation by changing the voltage for the photosensors A to C having different base current values. The horizontal axis of the figure shows the exposure intensity (logarithmic display), and the vertical axis shows the total current (A / cm 2 ) of the base current and the photocurrent. The current flowing through the optical sensor can be measured, for example, by forming a gold electrode 15 on the surface of the optical sensor as shown in FIG. 7 and applying a voltage between the gold electrode 15 and the transparent electrode 12 by the power supply 30. In this case, the measurement result obtained when the light source 51 and the optical shutter 52 radiate light of constant intensity for a certain period of time from the transparent electrode side of the optical sensor is as shown in FIG. The photosensor was irradiated with light for 33 msec while a constant voltage was applied. The time on the horizontal axis of the graph is t = 0 when the light irradiation is started.
And Further, the current at t = 0 is a dark current (base current) value, and the current value in the graph is a value per unit area (1 cm 2 ). After the light irradiation is started, the current value increases with time during the light irradiation, and gradually decreases after the light irradiation is completed. As described above, the photocurrent constantly changes during the voltage application, but when the light irradiation time is 33 msec, the photocurrent becomes maximum after 33 msec and is gradually attenuated after the light irradiation is completed. Thus, the photocurrent is constantly changing and not constant,
Hereinafter, the value of the photocurrent at t = 33 msec (when the voltage application is stopped) is referred to as the photocurrent value. The photocurrent depends on the intensity of the applied light and increases as the intensity increases.

【0012】図9〜図11は光センサA〜Cを用いたと
きの、液晶媒体にかかる電圧をシミュレーションした結
果を示す。図9は光センサAに対してシミュレーション
した結果である。特性L1は光照射時の液晶媒体にかか
る電圧変化、特性L2は未露光部分における液晶媒体の
電圧の時間変化をそれぞれ示している。同様に、特性M
1及びM2はそれぞれ、露光時、未露光時における光セ
ンサにかかる電圧の時間変化を示している。未露光部分
の液晶媒体の電圧がしきい値電圧に到達した瞬間に電圧
印加を停止するため、シミュレーションでは、未露光部
分の液晶媒体の電圧が200Vのとき露光部分の液晶媒
体の電圧が240Vになるように露光量を調整してい
る。
9 to 11 show the results of simulating the voltage applied to the liquid crystal medium when the optical sensors A to C are used. FIG. 9 shows the result of simulation for the optical sensor A. A characteristic L1 shows a voltage change applied to the liquid crystal medium during light irradiation, and a characteristic L2 shows a time change of the voltage of the liquid crystal medium in an unexposed portion. Similarly, the characteristic M
Reference numerals 1 and M2 respectively show changes with time in voltage applied to the photosensor during exposure and during non-exposure. Since the voltage application is stopped at the moment when the voltage of the liquid crystal medium in the unexposed portion reaches the threshold voltage, in the simulation, when the voltage of the liquid crystal medium in the unexposed portion is 200V, the voltage of the liquid crystal medium in the exposed portion becomes 240V. The exposure amount is adjusted so that

【0013】同様に図10、図11に光センサB、光セ
ンサCに対してシミュレーションした結果を示す。これ
ら図9〜図11のシミュレーション結果についてまとめ
ると、表1に示す通りである。 S :光センサA、B、C B電流 :光センサに100V印加した時のベース電流(A/cm2 ) (光センサごとに一定の値) 印加電圧:光センサと液晶媒体の電極間に印加する電圧(V) SD 電圧:未露光時光センサにかかる電圧(V) SL 電圧:露光時光センサにかかる電圧(V) BL 電流:電圧SL におけるベース電流(A/cm2 ) ところで、光センサ、液晶媒体各層の挙動は次式で表さ
れる。 IPS+CPS(dVPS/dt)=VLC/RLC+d(CV)LC/dt …(1) CLC∝1/d …(2) VLC∝d …(3) RLC∝d …(4) (1)式の左辺は光センサ層の電流、右辺は液晶層の電
流をそれぞれ示している。液晶を配向させるためには、
印加電圧停止時において、(1)式右辺で表される電流
値を光センサが供給する必要がある。液晶媒体の容量が
膜厚に反比例((2)式)し、飽和電圧が膜厚に比例
((3)式)、抵抗が膜厚に比例((4)式)するた
め、液晶媒体の膜厚が変化した場合でも(1)式右辺の
電流値は変化しない。したがって、液晶を配向させ画像
記録を行うためには、どのような膜厚の液晶媒体に対し
ても同程度の電流を光センサから供給する必要がある。
Similarly, FIGS. 10 and 11 show simulation results for the optical sensors B and C, respectively. The simulation results of FIGS. 9 to 11 are summarized in Table 1. S: Photosensor A, B, C B current: Base current when 100V is applied to the photosensor (A / cm 2 ) (constant value for each photosensor) Applied voltage: Applied between the photosensor and the electrode of the liquid crystal medium Voltage (V) S D voltage: voltage applied to the photosensor during non-exposure (V) S L voltage: voltage applied to the photosensor during exposure (V) B L current: base current at voltage S L (A / cm 2 ) The behavior of each layer of the optical sensor and the liquid crystal medium is expressed by the following equation. I PS + C PS (dV PS / dt) = V LC / R LC + d (CV) LC / dt (1) C LC ∝1 / d (2) V LC ∝d ... (3) R LC ∝d ... (4) The left side of the equation (1) shows the current of the photosensor layer, and the right side shows the current of the liquid crystal layer. To align the liquid crystal,
When the applied voltage is stopped, it is necessary for the optical sensor to supply the current value represented by the right side of the equation (1). Since the capacitance of the liquid crystal medium is inversely proportional to the film thickness (equation (2)), the saturation voltage is proportional to the film thickness (equation (3)), and the resistance is proportional to the film thickness (equation (4)), the film of the liquid crystal medium is Even if the thickness changes, the current value on the right side of the equation (1) does not change. Therefore, in order to align the liquid crystal and perform image recording, it is necessary to supply a similar current to the liquid crystal medium of any thickness from the optical sensor.

【0014】一般に、液晶媒体に比べて光センサの容量
は大きくなく、電圧の変化量も大きくないため、(1)
式左辺は光センサの電流値IPSに依るところが大きい。
PSはベース電流と光電流の合計であるが、光電流はベ
ース電流に依存する。
In general, the capacity of the optical sensor is not large and the amount of change in voltage is not large as compared with the liquid crystal medium.
The left side of the equation largely depends on the current value I PS of the optical sensor.
I PS is the sum of the base current and the photocurrent, but the photocurrent depends on the base current.

【0015】(1)式より、液晶媒体の配向を同じにす
るためには、電圧印加停止時における未露光部分の光セ
ンサの電流を等しくする必要があり、そのためにシミュ
レーションでは、印加電圧を表1のように調整した。こ
の場合、(1)式から求められる未露光部分の光センサ
電流値(BD 電流)としては、液晶媒体の抵抗率が2×
1011Ωcmであるとき、2×10-6〜4×10-6A/c
2 の条件が画像記録に適している。ここでは、仮にB
D 電流が2×10-6A/cm2 の場合を例にして説明す
る。
From the equation (1), in order to make the orientation of the liquid crystal medium the same, it is necessary to equalize the currents of the photosensors in the unexposed portion when the voltage application is stopped. Therefore, the simulation shows the applied voltage. Adjusted as 1. In this case, the resistivity of the liquid crystal medium is 2 × as the photosensor current value ( BD current) of the unexposed portion obtained from the equation (1).
When 10 11 Ωcm, 2 × 10 −6 to 4 × 10 −6 A / c
The condition of m 2 is suitable for image recording. Here, suppose B
The case where the D current is 2 × 10 −6 A / cm 2 will be described as an example.

【0016】本発明では、空気ギャップ層に放電破壊電
圧が約400Vかかっているものとし、液晶媒体及び光
センサには、印加電圧から400Vを差し引いた電圧が
分配されているものとする。例えば、表1の光センサA
に対しては、光センサ電流(BD 電流)が2×10-6
/cm2 となるSD 電圧は70Vであり、従って印加電
圧は、 印加電圧=70+200+400=670(V) となり、 SL 電圧=670−400−240=30(V) となる。なお、ベース電流BL の値は、このように求め
た光センサの電圧がSLのときに流れるベース電流の値
を示しており、例えば、光センサAに対しては、未露光
状態において光センサに30V電圧印加したときの電流
値を示している。同様にして光センサB、Cについても
求めて表1を作成した。
In the present invention, it is assumed that a discharge breakdown voltage is applied to the air gap layer of about 400V, and a voltage obtained by subtracting 400V from the applied voltage is distributed to the liquid crystal medium and the photosensor. For example, the optical sensor A in Table 1
, The optical sensor current ( BD current) is 2 × 10 −6 A
The S D voltage that is equal to / cm 2 is 70 V, and therefore the applied voltage is: applied voltage = 70 + 200 + 400 = 670 (V) and S L voltage = 670-400-240 = 30 (V). The value of the base current B L indicates the value of the base current that flows when the voltage of the photosensor obtained in this way is S L. The current value when a voltage of 30 V is applied to the sensor is shown. Similarly, the optical sensors B and C were obtained and Table 1 was prepared.

【0017】図4〜図6に戻って説明すると、例えば、
液晶媒体を完全に配向させるのに必要な光センサの電流
値が4×10-6A/cm2 であると仮定した場合(図4
〜図6の破線で示した値)、光センサA(図4)では、
表1より露光時の光センサ電圧は30Vであるので、こ
の電圧に対応する特性曲線と破線の交点として100ル
クスの露光強度であることが分かる。また、光センサB
(図5)では、表1より露光時の光センサ電圧は80V
であるので、この電圧に対応する特性曲線と破線の交点
として50ルクスの露光強度、光センサC(図6)で
は、表1より露光時の光センサ電圧は310Vであるの
で、この電圧に対応する特性曲線と破線の交点として1
5ルクスの露光強度であることが分かる。このように、
ベース電流(B電流)の異なる光センサでは、同じ光セ
ンサ電流を発生するための露光量が異なるので、光セン
サのベース電流を変化させることにより、記録する画像
の特性(ラチチュード)を変化させることができる。即
ち、光センサAでは露光レンジが広い(軟調)画像が得
られ、光センサCでは相対的に露光レンジの狭い(硬
調)画像が得られることになる。
Returning to FIGS. 4 to 6, for example,
Assuming that the current value of the photosensor required to completely orient the liquid crystal medium is 4 × 10 −6 A / cm 2 (see FIG. 4).
(Values indicated by broken lines in FIG. 6), in the optical sensor A (FIG. 4),
It can be seen from Table 1 that the photosensor voltage during exposure is 30 V, and therefore the exposure intensity is 100 lux as the intersection of the characteristic curve corresponding to this voltage and the broken line. Also, the optical sensor B
In Fig. 5, from Table 1, the optical sensor voltage during exposure is 80V.
Therefore, the exposure intensity of 50 lux is the intersection of the characteristic curve corresponding to this voltage and the broken line, and in the optical sensor C (FIG. 6), from Table 1, the optical sensor voltage at the time of exposure is 310 V, so it corresponds to this voltage. 1 as the intersection of the characteristic curve and the broken line
It can be seen that the exposure intensity is 5 lux. in this way,
Since the photosensors having different base currents (B currents) have different exposure amounts for generating the same photosensor current, the characteristics (latitude) of the image to be recorded can be changed by changing the base current of the photosensors. You can That is, the optical sensor A can obtain an image with a wide exposure range (soft contrast), and the optical sensor C can obtain an image with a relatively narrow exposure range (hard contrast).

【0018】光センサの光電流(露光したとき流れる電
流)は、ベース電流に依存し、ベース電流が大きいほど
光電流は大きくなり、ベース電流と合計した電流も大き
くなる。この光センサのベース電流を変化させる方法と
して、光センサの膜厚を変える方法がある。光センサの
電荷発生層は極く薄いので、実際には電荷輸送層の厚さ
を変化させることになる。図12は光センサの電荷輸送
層の厚さを4.5〜21μmの範囲で変化させたときの
ベース電流と印加電圧の関係を示している。図中、○は
4.5μm、●は8μm、□は12μm、■は21μm
の場合である。図のように、電荷輸送層の厚さが厚くな
るにつれて、ベース電流は小さくなる。また、例えば、
光センサ1(例えば、図4の光センサA)、光センサ2
(例えば、図6の光センサC))において、露光強度ー
電流特性がほぼ等しくなるような電圧を選ぶと図13
(a)に示すような関係が得られる。つまり、ベース電
流が等しくなるように印加電圧を設定すると、露光強度
に対する光電流は同じになり、このことから、図12に
示すような印加電圧とベース電流との関係を測定してお
き、図4〜図6のような特性をある光センサ1つに対し
て測定しておけば、ベース電流の異なる光センサの露光
強度−電流特性を求めることができる。
The photocurrent of the photosensor (current flowing upon exposure) depends on the base current. The larger the base current, the larger the photocurrent, and the larger the total current with the base current. As a method of changing the base current of the photosensor, there is a method of changing the film thickness of the photosensor. Since the charge generation layer of the optical sensor is extremely thin, the thickness of the charge transport layer is actually changed. FIG. 12 shows the relationship between the base current and the applied voltage when the thickness of the charge transport layer of the photosensor is changed within the range of 4.5 to 21 μm. In the figure, ○ is 4.5 μm, ● is 8 μm, □ is 12 μm, and ■ is 21 μm.
Is the case. As shown in the figure, the base current decreases as the thickness of the charge transport layer increases. Also, for example,
Optical sensor 1 (for example, optical sensor A in FIG. 4), optical sensor 2
13 (for example, the optical sensor C in FIG. 6), if a voltage is selected so that the exposure intensity-current characteristics are substantially the same as in FIG.
The relationship as shown in (a) is obtained. That is, if the applied voltage is set so that the base currents become equal, the photocurrent with respect to the exposure intensity becomes the same. Therefore, the relationship between the applied voltage and the base current as shown in FIG. If the characteristics shown in FIGS. 4 to 6 are measured for one photosensor, the exposure intensity-current characteristics of the photosensors having different base currents can be obtained.

【0019】なお、異なる光センサで、例えば、電荷発
生物質や電荷輸送剤が異なる場合、ベース電流の同じに
なるような電圧条件で光量を変化させて光電流を比較し
た結果、図13(b)に示すように、光電流の値が異な
る場合がある。この場合でも、光電流の対数を露光強度
(露光量)の対数に対してプロットすると、図のように
平行移動した形になり、これらの2つの光センサの違い
は感度の違いであり、ラティチュード(画像特性)に関
しては、これまで示してきた方法と同様に、光センサの
B電流(100V印加時のベース電流)を選択すること
により、制御することができる。
Note that when different photosensors, for example, different charge generating substances and charge transporting agents, the photocurrents are compared by changing the light amount under a voltage condition such that the base currents are the same. ), The photocurrent value may be different. Even in this case, when the logarithm of the photocurrent is plotted against the logarithm of the exposure intensity (exposure amount), it becomes a parallel translation form as shown in the figure. The difference between these two photosensors is the difference in sensitivity and the latitude. The (image characteristic) can be controlled by selecting the B current (base current when 100 V is applied) of the photosensor, as in the methods described above.

【0020】なお、光センサのベース電流を変化させる
方法としては、電荷輸送層の電荷輸送物質、例えば、移
動度の異なる電荷輸送剤を使用して抵抗値を変える方
法、電荷輸送層の電荷輸送剤とバインダー樹脂との混合
比を変化させて抵抗値を変える方法、電荷発生層のバイ
ンダーや電荷発生層の膜厚を変化させたり、電荷発生層
に添加剤を添加、或いは添加剤の混合比を変化させて電
荷注入の障壁を変える方法等でもよく、また、これらを
組み合わせることにより、光センサのベース電流の値を
変化させることができる。
As a method of changing the base current of the photosensor, a method of changing the resistance value by using a charge transport material of the charge transport layer, for example, a charge transport agent having a different mobility, and a charge transport of the charge transport layer are used. A method of changing the resistance value by changing the mixing ratio of the agent and the binder resin, changing the binder of the charge generation layer or the film thickness of the charge generation layer, adding an additive to the charge generation layer, or a mixing ratio of the additives. May be changed to change the barrier of charge injection, or by combining these, the value of the base current of the photosensor can be changed.

【0021】光センサのベース電流と階調特性の関係に
ついてさらに詳述する。本発明のシステムにおいては、
画像記録時における印加電圧は、液晶媒体のしきい値電
圧、飽和電圧と液晶媒体の抵抗値および光センサのベー
ス電流値により設定されるものである。まず、印加電圧
を設定する場合に関係するしきい値電圧、飽和電圧につ
いて説明する。図14は液晶媒体にかかる電圧を変化さ
せて液晶の配向状態(透過率)を測定する装置を示すも
のである。液晶媒体の表面に金電極(半透明)24を貼
り付けて透明電極22と金電極24間に電圧発生装置5
1で電圧を印加し、アルゴンレーザ(488nm)40
からレーザ光を照射して透過光をセンサ50で検出し、
検出結果をオシロスコープ52を用いてモニタした。測
定結果は、図15に示す通りである。図15において、
横軸は電圧、縦軸は変調度で、次式のように定義され
る。 変調度=(T−Toff)/(Ton−Toff) Ton :配向した状態の信号値 Toff:無配向状態の信号値 このように、測定結果を規格化したとき、変調度が0.
1となるときの液晶媒体の電圧Vthをしきい値電圧、変
調度が0.9となるときの液晶媒体の電圧VLC(sa)を飽
和電圧とする。
The relationship between the base current of the photosensor and the gradation characteristic will be described in more detail. In the system of the present invention,
The applied voltage during image recording is set by the threshold voltage of the liquid crystal medium, the saturation voltage, the resistance value of the liquid crystal medium, and the base current value of the optical sensor. First, the threshold voltage and the saturation voltage related to setting the applied voltage will be described. FIG. 14 shows an apparatus for measuring the alignment state (transmittance) of the liquid crystal by changing the voltage applied to the liquid crystal medium. A gold electrode (semitransparent) 24 is attached to the surface of the liquid crystal medium, and a voltage generator 5 is provided between the transparent electrode 22 and the gold electrode 24.
Voltage is applied at 1 and argon laser (488 nm) 40
Laser light is emitted from the sensor and transmitted light is detected by the sensor 50,
The detection result was monitored using the oscilloscope 52. The measurement result is as shown in FIG. In FIG.
The horizontal axis represents voltage and the vertical axis represents modulation factor, which is defined by the following equation. Modulation Degree = (T-Toff) / (Ton-Toff) Ton: Signal value in oriented state Toff: Signal value in non-oriented state In this way, when the measurement result is normalized, the modulation degree is 0.
The voltage V th of the liquid crystal medium when it becomes 1 is the threshold voltage, and the voltage V LC (sa) of the liquid crystal medium when the degree of modulation is 0.9 is the saturation voltage.

【0022】次に、本発明のシステムの最も単純な系で
ある分離型媒体(光センサと液晶媒体とを空隙を介して
対向配置するもの)を例にして、印加電圧の設定方法に
ついて説明する。本発明のシステムの印加電圧は次のよ
うにして、印加電圧の上限と下限が設定され、その範囲
の適当な電圧を印加して画像記録を行う。
Next, the method of setting the applied voltage will be described by taking as an example the separation type medium (the one in which the optical sensor and the liquid crystal medium are opposed to each other with a gap) which is the simplest system of the system of the present invention. . The upper and lower limits of the applied voltage of the system of the present invention are set as follows, and an appropriate voltage within that range is applied to perform image recording.

【0023】(a)印加電圧の下限の設定 印加電圧の下限については、下記、の2つの条件の
いずれか高い方の電圧である。 〔条件:飽和電圧と放電破壊電圧の合計値〕例えば、
放電破壊電圧が400V、飽和電圧が250Vであると
すると下限の印加電圧は650Vとなる。液晶媒体が飽
和電圧に到達し、完全に配向するためには、このとき光
センサの電圧が零以下ではないので、最低でも飽和電圧
と放電破壊電圧を加えた電圧を印加する必要がある。即
ち、光センサにかかる電圧が零では電流が流れないた
め、最低でもこれ以上の電圧を印加する必要がある。
(A) Setting of lower limit of applied voltage The lower limit of the applied voltage is a voltage whichever is higher of the following two conditions. [Condition: Sum of saturation voltage and discharge breakdown voltage] For example,
If the discharge breakdown voltage is 400V and the saturation voltage is 250V, the lower limit applied voltage is 650V. In order for the liquid crystal medium to reach the saturation voltage and be completely aligned, the voltage of the photosensor is not zero or less at this time, and therefore it is necessary to apply at least a voltage obtained by adding the saturation voltage and the discharge breakdown voltage. That is, when the voltage applied to the optical sensor is zero, no current flows, so it is necessary to apply a voltage higher than this.

【0024】〔条件:未露光部分の液晶媒体の電圧が
しきい値電圧に到達するために必要な最低限の電圧〕光
センサと液晶媒体を空気ギャップを介して対向配置させ
た状態で、暗所において両電極間に電圧を印加すると、
十分時間が経過すると、光センサの電流値と液晶媒体の
電流値が等しくなり、電圧が変化しない平衡状態に到達
する。このときの光センサおよび液晶媒体の電圧をそれ
ぞれVLC(eq)、VPS(eq)とすると次式が成り立つ。
[Condition: minimum voltage required for the voltage of the liquid crystal medium in the unexposed portion to reach the threshold voltage] With the photosensor and the liquid crystal medium facing each other with an air gap in between, When a voltage is applied between both electrodes at the place,
When a sufficient time has elapsed, the current value of the photosensor and the current value of the liquid crystal medium become equal, and the equilibrium state in which the voltage does not change is reached. When the voltages of the optical sensor and the liquid crystal medium at this time are respectively V LC (eq) and V PS (eq) , the following equation holds.

【0025】 VPS(eq)/RPS=VLC(eq)/RLC …(5) VPS(eq)+VLC(eq)=VAP−VAIR …(6) 本発明のシステムで画像記録を行うためには、平衡状態
において液晶媒体の電圧が、しきい値電圧よりも高くな
る必要がある。即ち、 VLC(eq)=VAP−VAIR −VPS(eq)≧VthAP≧Vth+VAIR +VPS(eq) …(7) したがって、液晶媒体のしきい値電圧、抵抗値、光セン
サの電流−電圧特性があらかじめわかっていれば、
(5)〜(7)式より印加電圧の下限を求めることがで
きる。
V PS (eq) / R PS = V LC (eq) / R LC (5) V PS (eq) + V LC (eq) = V AP −V AIR (6) Image by the system of the present invention In order to perform recording, the voltage of the liquid crystal medium needs to be higher than the threshold voltage in the equilibrium state. That, V LC (eq) = V AP -V AIR -V PS (eq) ≧ V th V AP ≧ V th + V AIR + V PS (eq) ... (7) Therefore, the threshold voltage of the liquid crystal medium, the resistance value If the current-voltage characteristics of the optical sensor are known in advance,
The lower limit of the applied voltage can be obtained from the equations (5) to (7).

【0026】(b)印加電圧の上限の設定 本発明のシステムでは、電圧印加後、数ミリ秒の短い時
間で、液晶媒体および光センサの各層にそれぞれの容量
に応じた電圧が分配される。 VLC(0)=(VAP−VAIR )・CPS/(CLC+CPS) …(8) 画像記録が可能なためには、初期に分配される電圧VLC
(0)がしきい値電圧以下である必要があり、好ましく
はしきい値電圧の1/2程度以下がよい。すなわち、 (VAP−VAIR )・CPS/(CLC+CPS)≦Vth/2 VAP≦(Vth/2){(CLC+CPS)/CPS}+VAIR …(9) となる。液晶媒体に初期に分配される電圧は、(8)式
で表されるため、液晶媒体および光センサの容量、つま
り膜厚としきい値電圧により決まり(9)式により印加
電圧の上限を設定することができる。
(B) Setting of Upper Limit of Applied Voltage In the system of the present invention, a voltage corresponding to each capacitance is distributed to each layer of the liquid crystal medium and the photosensor within a short time of several milliseconds after the voltage is applied. V LC (0) = (V AP −V AIR ) · C PS / (C LC + C PS ) ... (8) In order to be able to record an image, the voltage V LC initially distributed.
It is necessary that (0) is equal to or lower than the threshold voltage, preferably about 1/2 or less of the threshold voltage. That, (V AP -V AIR) · C PS / (C LC + C PS) ≦ V th / 2 V AP ≦ (V th / 2) {(C LC + C PS) / C PS} + V AIR ... (9) Becomes Since the voltage initially distributed to the liquid crystal medium is expressed by the equation (8), it is determined by the capacities of the liquid crystal medium and the optical sensor, that is, the film thickness and the threshold voltage, and the upper limit of the applied voltage is set by the equation (9). be able to.

【0027】なお、これらの物性値(光センサの電圧−
電流特性、液晶媒体の抵抗、容量)は、記録装置内部に
測定装置を用意しておき、実際の画像記録に際して測定
するようにしてもよい。
Incidentally, these physical property values (voltage of the optical sensor-
The current characteristics, the resistance of the liquid crystal medium, and the capacitance) may be measured at the time of actual image recording by preparing a measuring device inside the recording device.

【0028】このように上限、下限内に印加電圧を設定
した場合、光センサのベース電流(B電流)の値によ
り、記録される画像特性が異なる。本発明のシステムで
は、未露光部分に相当する液晶媒体の電圧がしきい値電
圧に到達し、液晶媒体が配向を開始するタイミングで印
加電圧を停止する。B電流の異なる光センサを用いて画
像記録を行う場合、上記の条件を満足するようにそれぞ
れの光センサに対して印加電圧を設定する。このとき、
印加電圧の停止時における未露光部の光センサのベース
電流がほぼ等しくなるように印加電圧を調整する。この
調整は、液晶の配向の立ち上がりを同じにするためであ
る。このように印加電圧を調整した場合、B電流の大き
な光センサは印加電圧が低く、B電流の小さい光センサ
は印加電圧が高くなる。
In this way, when the applied voltage is set within the upper and lower limits, the image characteristics to be recorded differ depending on the value of the base current (B current) of the photosensor. In the system of the present invention, the applied voltage is stopped at the timing when the voltage of the liquid crystal medium corresponding to the unexposed portion reaches the threshold voltage and the liquid crystal medium starts alignment. When image recording is performed using optical sensors having different B currents, the applied voltage is set to each optical sensor so as to satisfy the above conditions. At this time,
The applied voltage is adjusted so that the base currents of the photosensors in the unexposed portion are almost equal when the applied voltage is stopped. This adjustment is to make the rise of the alignment of the liquid crystal the same. When the applied voltage is adjusted in this manner, the applied voltage is low for the photosensor having a large B current, and the applied voltage is high for the photosensor having a small B current.

【0029】本発明のシステムにおいて、所望の露光レ
ンジの画像を記録するためには、このように印加電圧停
止時の光センサの電流値が所定の値になるように、印加
電圧を設定すればよいことになるが、印加電圧は、光セ
ンサのベース電流値、液晶媒体のしきい値、飽和電圧、
抵抗に基づいて設定されるものであり、このように設定
した電圧が必ずしも所望の露光レンジを記録するのに適
したものになるとは限らない。
In the system of the present invention, in order to record an image in a desired exposure range, the applied voltage is set so that the current value of the photosensor when the applied voltage is stopped becomes a predetermined value. The good thing is that the applied voltage depends on the base current value of the photosensor, the threshold value of the liquid crystal medium,
The voltage is set based on the resistance, and the voltage thus set is not always suitable for recording a desired exposure range.

【0030】例えば、100ルクスの露光強度に対し
て、光電流値4×10-6A/cm2 を得ようとする場
合、光センサAであれば30V、光センサB、Cに対し
てはそれぞれ、60V、240Vの電圧が光センサにか
かっている状態であればよいが、適正な印加電圧(液晶
媒体のしきい値、抵抗に基づいて設定)に対して、この
ような電圧が光センサにかかるようになるとは限らな
い。
For example, when an attempt is made to obtain a photocurrent value of 4 × 10 -6 A / cm 2 for an exposure intensity of 100 lux, the photosensor A is 30 V, and the photosensors B and C are It suffices if the voltages of 60 V and 240 V are applied to the optical sensor, respectively. However, for an appropriate applied voltage (set based on the threshold value and resistance of the liquid crystal medium), such a voltage is applied to the optical sensor. It does not always mean that

【0031】印加電圧は、前述したように、未露光部分
の液晶媒体の電圧がしきい値電圧に到達した時の未露光
部分の光センサ電流値(BD 電流)が2×10-6〜4×
10-6A/cm2 になるような印加電圧条件が好まし
い。この値は、液晶媒体の抵抗率が大きくなってもそれ
ほど変化しないが、液晶媒体の抵抗率が小さくなった場
合は変化する。しかし、その場合でも、その分を補正し
てBD 電流の範囲を設定すればよい。また、BD 電流は
液晶媒体の膜厚の変化に対しては変わらない。
As described above, the applied voltage is such that the photosensor current value ( BD current) in the unexposed portion when the voltage of the liquid crystal medium in the unexposed portion reaches the threshold voltage is 2 × 10 -6 . 4x
The applied voltage condition is preferably 10 −6 A / cm 2 . This value does not change so much even if the resistivity of the liquid crystal medium increases, but it changes when the resistivity of the liquid crystal medium decreases. However, even in that case, the range of the B D current may be set by correcting that amount. Further, the BD current does not change with the change in the film thickness of the liquid crystal medium.

【0032】風景画像や人物画像等を撮影するのに適し
た光センサは、このような印加電圧を設定した場合に、
印加電圧停止時、すなわち未露光部分の液晶媒体の電圧
がしきい値電圧に到達したとき、液晶媒体の電圧が飽和
電圧の部分に相当する光センサの電圧(電圧SL )に対
して、光センサのベース電流成分が1×10-6A/cm
2 程度、0.5〜1.5×10-6A/cm2 であるよう
な光センサである。
An optical sensor suitable for photographing a landscape image, a portrait image, etc., can be used when such an applied voltage is set.
When the applied voltage is stopped, that is, when the voltage of the liquid crystal medium in the unexposed portion reaches the threshold voltage, the voltage of the photosensor corresponding to the saturation voltage portion (voltage S L ) is Base current component of sensor is 1 × 10 -6 A / cm
The optical sensor is about 2 and has a density of 0.5 to 1.5 × 10 −6 A / cm 2 .

【0033】このことを模式的に図16により説明す
る。図において、横軸は電圧、縦軸はベース電流成分で
あり、a、b、cのB電流の異なる3種類の光センサ
(B電流はa>b>c)に対して、印加電圧は次のよう
に設定される。例えば、光センサbにおいて、ベース電
流値が2.0×10-6A/cm2 になる電圧がSD (光
センサaではSD ″、光センサcではSD ′)であると
すると、このとき使用する液晶媒体のしきい値電圧がV
thであるとき、印加電圧は(7)式を導いたのと同様に
考えて、次式のように設定される。
This will be schematically described with reference to FIG. In the figure, the horizontal axis is the voltage, and the vertical axis is the base current component. For three types of photosensors with different B currents a, b, and c (B current is a>b> c), the applied voltage is Is set as follows. For example, in the optical sensor b, if the voltage at which the base current value is 2.0 × 10 −6 A / cm 2 is S D (S D ″ in the optical sensor a, S D ′ in the optical sensor c), The threshold voltage of the liquid crystal medium used at this time is V
When th , the applied voltage is set as in the following equation, considering that the equation (7) is derived.

【0034】 VAP=SD +Vth+VAIR …(10) 電圧印加停止時の未露光部における液晶媒体と光センサ
各層の電圧は、それぞれVth、SD で、このとき、液晶
媒体の電圧が飽和電圧VLC(sa)の部分に対応する光セン
サの電圧をSL (光センサaではSL ″、光センサcで
はSL ′)は、 SL =VAP −VAIR −VLC(sa) すなわち、 SL =SD −(VLC(sa)−Vth) …(11) 液晶媒体の飽和電圧としきい値電圧の差VLC(sa)−Vth
は光センサに依らず一定値であるので、 SL −SD =SL ′−SD ′=SL ″−SD ″=一定 であり、図のようにB電流が大きいほど、SL のSD
対する割合は小さくなり、SL 、SL ′、SL ″におけ
るベース電流成分は小さくなる。
V AP = S D + V th + V AIR (10) The voltages of the liquid crystal medium and each layer of the photosensor in the unexposed portion when the voltage application is stopped are V th and S D , respectively, and at this time, the voltage of the liquid crystal medium Is S L (S L ″ for photo sensor a, S L ′ for photo sensor c ) corresponding to the saturation voltage V LC (sa) portion, S L = V AP −V AIR −V LC (sa) That is, S L = S D − (V LC (sa) −V th ) ... (11) Difference between saturation voltage and threshold voltage of liquid crystal medium V LC (sa) −V th
Since is a constant value regardless of the optical sensor, an S L -S D = S L ' -S D' = S L "-S D" = constant, as the B current is large as shown in FIG, S L percentage decreases for the S D, S L, S L ', the base current component of the S L "is small.

【0035】これまで示したように、液晶媒体を配向さ
せるのに必要な電流値(ベース電流と光電流の合計)は
膜厚によらずほぼ等しく、ベース電流成分が小さければ
光電流成分が大きくなければならず、したがって露光強
度を大きくする必要がある。そのため、図のa、b、c
の順に余計に光を照射する必要がある。適当な露光レン
ジの画像を記録するためには、SL 電圧に対するベース
電流が適当な範囲、0.5〜1.5×10-6A/cm2
程度である必要があり、このため光センサのベース電流
の値も限定される。
As shown so far, the current value (the total of the base current and the photocurrent) required for aligning the liquid crystal medium is almost the same regardless of the film thickness, and if the base current component is small, the photocurrent component is large. Therefore, it is necessary to increase the exposure intensity. Therefore, a, b, c in the figure
It is necessary to irradiate extra light in the order of. In order to record an image in an appropriate exposure range, the base current with respect to the S L voltage is in an appropriate range, 0.5 to 1.5 × 10 −6 A / cm 2.
It must be of the order of magnitude, which also limits the value of the base current of the photosensor.

【0036】図17、図18はある液晶媒体に対して、
画像記録に適したベース電流の光センサを限定する方法
について示したものである。図17(a)は液晶媒体の
膜厚6μm(しきい値電圧200V、飽和電圧250
V)と光センサの膜厚10μmの組み合わせに対して、
光センサのB電流(100V印加時)を変化させたとき
の、印加電圧の適正値を計算により求めた結果である
(ここで光センサの電流値は電圧に比例すると仮定して
計算を行った)。図中、○は液晶媒体の抵抗としきい値
電圧から(7)式により計算した印加電圧の下限であ
る。また、飽和電圧から計算される、印加電圧の下限は
650Vである(図の破線)ため、印加電圧として○の
電圧と650Vのいずれか高い方の電圧以上の電圧を設
定する必要がある。
17 and 18 show a liquid crystal medium
It shows a method of limiting the optical sensor of the base current suitable for image recording. FIG. 17A shows a film thickness of the liquid crystal medium of 6 μm (threshold voltage 200 V, saturation voltage 250
V) and the film thickness of the optical sensor of 10 μm,
This is the result of calculating the appropriate value of the applied voltage when the B current (when 100 V is applied) of the photosensor was changed (here, the calculation was performed assuming that the current value of the photosensor is proportional to the voltage). ). In the figure, ◯ is the lower limit of the applied voltage calculated from the resistance of the liquid crystal medium and the threshold voltage according to the equation (7). Further, since the lower limit of the applied voltage calculated from the saturation voltage is 650V (broken line in the figure), it is necessary to set the applied voltage to a voltage higher than the voltage of ◯ or 650V, whichever is higher.

【0037】また、印加電圧の上限は、液晶媒体にかか
る初期電圧が、しきい値電圧のほぼ1/2の電圧以下で
あることが望ましく、図17(a)において、印加電圧
の上限は820V(図の破線)である。図17(a)に
おいて、B電流が7〜8×10-7A/cm2 以下の光セ
ンサでは、○(下限電圧)が820V(上限電圧)をこ
えてしまい、適切な印加電圧を設定することができず、
このような光センサは使用することができない。また、
B電流が大きすぎる場合も、印加電圧が650V(下限
電圧)より低くなってしまうため使用することができな
い。また、図17(a)において、●及び◆は、それぞ
れ、液晶媒体の電圧がしきい値電圧に到達したときの未
露光部の光センサのベース電流(BD 電流)が、それぞ
れ2×10-6A/cm2 、4×10-6A/cm2 になる
ような印加電圧条件の場合であり、本システムでは、●
と◆の間になるように印加電圧を調整することが望まし
く、このような印加電圧条件の一部が、上限電圧と下限
電圧で限定される範囲に含まれるベース電流の光センサ
は、本システムに使用することができる。従って、この
ような光センサのベース電流の範囲の特定方法は、ベー
ス電流の上限は、◆と下限印加電圧の交点であり、約
1.0×10-5A/cm2 である。また、ベース電流の
下限は、●と上限印加電圧の交点であり、約8.0×1
-7A/cm2 である。すなわち、B電流が8.0×1
-7A/cm2 〜1.0×10-5A/cm2 の光センサ
が適している。
The upper limit of the applied voltage is preferably such that the initial voltage applied to the liquid crystal medium is not more than half the threshold voltage, and in FIG. 17A, the upper limit of the applied voltage is 820V. (Broken line in the figure). In FIG. 17 (a), in the photosensor with B current of 7 to 8 × 10 −7 A / cm 2 or less, ○ (lower limit voltage) exceeds 820 V (upper limit voltage), and an appropriate applied voltage is set. I can't
Such an optical sensor cannot be used. Also,
If the B current is too large, the applied voltage will be lower than 650 V (lower limit voltage), so that it cannot be used. Also, in FIG. 17A, ● and ◆ indicate that the base current ( BD current) of the photosensor in the unexposed portion when the voltage of the liquid crystal medium reaches the threshold voltage is 2 × 10, respectively. -6 A / cm 2 , 4 × 10 -6 A / cm 2 under applied voltage conditions.
It is desirable to adjust the applied voltage so that it is between the and ◆, and a part of such applied voltage condition is included in the range limited by the upper limit voltage and the lower limit voltage. Can be used for Therefore, in the method of specifying the range of the base current of such an optical sensor, the upper limit of the base current is the intersection of ♦ and the lower limit applied voltage, which is about 1.0 × 10 −5 A / cm 2 . Further, the lower limit of the base current is the intersection point of the ● and the upper applied voltage, and is about 8.0 × 1.
It is 0 −7 A / cm 2 . That is, the B current is 8.0 × 1
An optical sensor of 0 −7 A / cm 2 to 1.0 × 10 −5 A / cm 2 is suitable.

【0038】図17(b)は、図17(a)に示した電
圧印加条件で画像記録を行うときに、電圧印加停止時、
露光部分の光センサにかかる電圧(SL 電圧)とB電流
の関係をプロットしたものである。図17(b)におい
て、○は印加電圧の下限(平衡電圧がしきい値電圧に等
しくなる条件)、●と◆はそれぞれBD 電流が2×10
-6A/cm2 、4×10-6A/cm2 になるような印加
電圧条件で電圧印加した場合について計算した結果であ
る。ベース電流が大きい光センサでは、SL 電圧が負の
値になっているが、実際にはこのようなことは起こらな
い。
FIG. 17B shows that when the image recording is performed under the voltage application conditions shown in FIG.
It is a plot of the relationship between the voltage (S L voltage) applied to the photosensor in the exposed portion and the B current. In FIG. 17B, ◯ indicates the lower limit of the applied voltage (condition that the equilibrium voltage becomes equal to the threshold voltage), and ● and ◆ indicate BD current of 2 × 10, respectively.
6 is a result of calculation in the case of applying a voltage under an applied voltage condition of −6 A / cm 2 , 4 × 10 −6 A / cm 2 . In an optical sensor with a large base current, the S L voltage has a negative value, but this does not actually occur.

【0039】図18は、図17(b)に示したSL 電圧
に対応する光センサ電流(BL 電流)をプロットしたも
のである。本システムでは、風景画像や人物画像等の被
写体を適当なラチチュードで撮影するのに適した光セン
サは、BL 電流が約0.5〜1.5×10-6A/cm2
(図の斜線領域)の光センサが適している。図18よ
り、このような条件を満足する光センサは、●と1.5
×10-6A/cm2 との交点、◆と0.5×10-6A/
cm2 との交点から求められ、B電流が7×10-7〜8
×10-6A/cm2 (図の矢印で示す範囲)の光センサ
である。また、光センサは図17に示した条件を満足す
る必要があり、風景画像等の記録に適した光センサとし
ては、両方の条件を満足するB電流が8.0×10-7
/cm2 〜8×10-6A/cm2 の光センサであるとい
うことができる。
FIG. 18 is a plot of the photosensor current (B L current) corresponding to the S L voltage shown in FIG. 17B. In this system, an optical sensor suitable for photographing a subject such as a landscape image or a portrait image with an appropriate latitude has a BL current of about 0.5 to 1.5 × 10 −6 A / cm 2.
An optical sensor (hatched area in the figure) is suitable. From FIG. 18, it can be seen that the optical sensors satisfying such conditions are indicated by ● and 1.5.
× 10 -6 intersection of the A / cm 2, ◆ and 0.5 × 10 -6 A /
B current is 7 × 10 −7 to 8 obtained from the intersection with cm 2.
It is an optical sensor of × 10 −6 A / cm 2 (range indicated by an arrow in the figure). Further, the optical sensor needs to satisfy the conditions shown in FIG. 17, and as an optical sensor suitable for recording a landscape image, a B current satisfying both conditions is 8.0 × 10 −7 A.
It can be said that it is an optical sensor of / cm 2 to 8 × 10 -6 A / cm 2 .

【0040】次に、液晶媒体や光センサの膜厚が変化し
た場合について説明する。光センサ、液晶媒体の膜厚が
変化した場合には、各層の容量と液晶媒体のしきい値電
圧が変化するため、印加電圧の上限が変化する。図19
に、液晶媒体の膜厚6μm(○)、9μm(●)の各場
合に対して、光センサの膜厚を変化させたときの、印加
電圧の上限との関係を示す。光センサの膜厚を10μ
m、15μm、20μmとしたときの印加電圧の上限は
ほぼ850V、1010V、1200Vであり、光セン
サの膜厚が厚い方が印加電圧の上限電圧が高くなり、印
加電圧の設定範囲と、光センサのベース電流の範囲が広
くなる。なお、印加電圧の下限は液晶のしきい値、飽和
電圧で決まり、これらの値は液晶の膜厚に依存し、光セ
ンサの膜厚には依存しない。
Next, the case where the film thickness of the liquid crystal medium or the optical sensor is changed will be described. When the film thickness of the optical sensor or the liquid crystal medium changes, the capacitance of each layer and the threshold voltage of the liquid crystal medium change, so that the upper limit of the applied voltage changes. FIG.
Shows the relationship between the upper limit of the applied voltage and the upper limit of the applied voltage when the film thickness of the optical sensor was changed for the cases where the film thickness of the liquid crystal medium was 6 μm (◯) and 9 μm (). The thickness of the optical sensor is 10μ
m, 15 μm, and 20 μm, the upper limit of the applied voltage is approximately 850 V, 1010 V, and 1200 V. The thicker the film thickness of the optical sensor, the higher the upper limit voltage of the applied voltage becomes. The range of base current is widened. The lower limit of the applied voltage is determined by the threshold value of the liquid crystal and the saturation voltage, and these values depend on the film thickness of the liquid crystal and not the film thickness of the optical sensor.

【0041】次に、図20、図21に、液晶媒体の膜厚
が9μmの時の、印加電圧の適性値と画像記録に適した
光センサのベース電流の範囲を示す。図20(a)は光
センサのB電流と印加電圧の関係を示している。図17
(a)と同様に、○、●、◆はそれぞれ、印加電圧の下
限電圧、及びBD 電流が2×10-6A/cm2 、4×1
-6A/cm2 のときの印加電圧条件をそれぞれ示して
おり、印加電圧の下限は、放電破壊電圧飽和電圧できま
る780Vの大きい方となる。印加電圧の上限は、光セ
ンサの膜厚(電荷輸送層の膜厚)により異なり、光セン
サの膜厚が厚くなるにつれて、上限電圧も高くなり(膜
厚が20μm、15μm、10μmのときそれぞれほ
ぼ、1200V、1010V、870V)、使用できる
光センサのベース電流の範囲は、上限が◆と780Vの
交点、下限が●と各上限電圧の交点から求められ、B電
流の範囲は上限電圧とともに低電流側に広がる。B電流
の上限は、光センサの膜厚に寄らず6×10-6A/cm
2 である。図20(b)は、同様にこれらの電圧印加条
件に対するSL 電圧の値を示している。
Next, FIGS. 20 and 21 show the appropriate value of the applied voltage and the range of the base current of the photosensor suitable for image recording when the film thickness of the liquid crystal medium is 9 μm. FIG. 20A shows the relationship between the B current and the applied voltage of the optical sensor. FIG. 17
Similar to (a), ○, ●, and ◆ represent the lower limit voltage of the applied voltage and the BD current of 2 × 10 −6 A / cm 2 , 4 × 1 respectively.
The applied voltage conditions at 0 −6 A / cm 2 are shown, and the lower limit of the applied voltage is 780 V which is the discharge breakdown voltage saturation voltage, whichever is larger. The upper limit of the applied voltage depends on the film thickness of the photosensor (film thickness of the charge transport layer), and as the film thickness of the photosensor increases, the upper limit voltage also increases (at film thicknesses of 20 μm, 15 μm, and 10 μm, respectively). 1200V, 1010V, 870V), the range of the base current of the photosensor that can be used is determined from the intersection of the upper limit of ◆ and 780V, the lower limit of the intersection of ● and each upper voltage, and the range of B current is the lower current together with the upper limit voltage. Spread to the side. The upper limit of the B current is 6 × 10 −6 A / cm regardless of the film thickness of the optical sensor.
2 Similarly, FIG. 20B shows the value of the S L voltage under these voltage application conditions.

【0042】図21は、図20(b)に示したSL 電圧
に対するベース電流(BL 電流)とB電流の関係をプロ
ットしたものである。図18の場合と同様に、風景画像
等に対してのBL 電流の適正値は0.5〜1.5×10
-6A/cm2 であるので、このような光センサのベース
電流の範囲は、●と1.5×10-6A/cm2 との交
点、◆と0.5×10-6AA/cm2 との交点から求め
られ、B電流が4×10-7〜5×10-6A/cm2 (図
の矢印で示す範囲)の光センサである。
FIG. 21 is a plot of the relationship between the base current (B L current) and the B current with respect to the S L voltage shown in FIG. 20 (b). As in the case of FIG. 18, the appropriate value of the BL current for a landscape image or the like is 0.5 to 1.5 × 10.
Since it is −6 A / cm 2 , the range of the base current of such an optical sensor is the intersection of ● and 1.5 × 10 −6 A / cm 2, and ◆ and 0.5 × 10 −6 AA / cm 2. It is an optical sensor having a B current of 4 × 10 −7 to 5 × 10 −6 A / cm 2 (range indicated by an arrow in the figure), which is obtained from the intersection with cm 2 .

【0043】本システムに適した光センサは、図20と
図21の条件を同時に満たす光センサであり、例えば、
光センサの膜厚が15μmである場合、B電流が6×1
-7〜5×10-6A/cm2 の光センサである。光セン
サの膜厚が20μm程度であれば、4×10-7A/cm
2 の光センサも使用できる。
An optical sensor suitable for this system is an optical sensor which simultaneously satisfies the conditions of FIGS. 20 and 21, and for example,
When the film thickness of the optical sensor is 15 μm, the B current is 6 × 1
It is an optical sensor of 0 −7 to 5 × 10 −6 A / cm 2 . If the film thickness of the optical sensor is about 20 μm, 4 × 10 −7 A / cm
2 optical sensors can also be used.

【0044】このようにして得られる条件を同時に満足
する光センサが、画像記録に適している。このように、
画像記録に使用できる光センサは、ベース電流値からだ
けでなく、光センサの膜厚とB電流の関係から、液晶媒
体の特性に適した光センサの膜厚を設計し、作製するこ
とができる。ここで、光センサの膜厚変化について説明
すると、光センサの同一組成(電荷発生物質、電荷輸送
剤等)で電荷輸送層の膜厚のみを変化させた場合の電圧
とベース電流の関係は図12に示した通りである。一般
的には、光センサの膜厚(電荷輸送層の膜厚)を変化さ
せると、光センサのベース電流は膜厚変化に応じて減少
する。例えば、液晶媒体の膜厚が6μm、光センサの膜
厚が10μmである場合、B電流が2×10-6A/cm
2 の光センサは、図17、図18に示した条件を満たす
ために使用することができる。しかし、9μmの液晶媒
体に対しては、図21の条件を満たさないため、適した
光センサとは言えない。このように、例えば、液晶媒体
の膜厚が厚くなると、適したB電流の範囲が、低電流側
にシフトするため、同じ光センサでも使用できなくなる
場合がある。このような場合、光センサの膜厚を厚くす
ることにより、光センサのB電流が低下し、図21で示
される条件を満足することができ、図20において、使
用できる光センサの条件が低電流側に広がる(印加電圧
の上限が高くなる)ために、これら2つの条件を満足す
る光センサを作製することができる。こうして、光セン
サの膜厚とB電流の関係から、液晶媒体の特性に適した
光センサの膜厚を設計し、作製することができる。
An optical sensor that simultaneously satisfies the conditions thus obtained is suitable for image recording. in this way,
An optical sensor that can be used for image recording can be manufactured by designing a film thickness of the optical sensor suitable for the characteristics of the liquid crystal medium not only from the base current value but also from the relationship between the film thickness of the optical sensor and the B current. . Here, the change in film thickness of the photosensor will be described. The relationship between the voltage and the base current when only the film thickness of the charge transport layer is changed with the same composition of the photosensor (charge generation material, charge transport material, etc.) As shown in 12. In general, when the film thickness of the photosensor (film thickness of the charge transport layer) is changed, the base current of the photosensor decreases according to the film thickness change. For example, when the thickness of the liquid crystal medium is 6 μm and the thickness of the optical sensor is 10 μm, the B current is 2 × 10 −6 A / cm 2.
The optical sensor No. 2 can be used to satisfy the conditions shown in FIGS. 17 and 18. However, for a liquid crystal medium of 9 μm, the condition of FIG. 21 is not satisfied, and thus it cannot be said to be a suitable optical sensor. In this way, for example, when the film thickness of the liquid crystal medium becomes thick, the range of the suitable B current shifts to the low current side, so that it may not be possible to use even the same optical sensor. In such a case, by increasing the film thickness of the optical sensor, the B current of the optical sensor decreases, and the condition shown in FIG. 21 can be satisfied. In FIG. 20, the usable condition of the optical sensor is low. Since it spreads to the current side (the upper limit of the applied voltage increases), it is possible to manufacture an optical sensor that satisfies these two conditions. In this way, the film thickness of the optical sensor suitable for the characteristics of the liquid crystal medium can be designed and manufactured from the relationship between the film thickness of the optical sensor and the B current.

【0045】以上示したような方法で、画像記録(風
景、人物等)に適した光センサを選択することにより、
良好な画像を記録をすることができる。また、文字等の
階調性を必要としない情報を記録する場合には、上記の
L 電流の範囲0.5〜1.5A/cm2 より大きい
(B電流で言えば小さい)光センサ、即ち、BL 電流が
1.5A/cm2 より大きい光センサを使用することに
より、S/Nの良好な情報を記録することができる。
By selecting an optical sensor suitable for image recording (landscape, person, etc.) by the method described above,
A good image can be recorded. Further, in the case of recording information such as characters which does not require gradation, an optical sensor larger than the above B L current range of 0.5 to 1.5 A / cm 2 (small in terms of B current), That is, by using an optical sensor having a B L current of more than 1.5 A / cm 2, it is possible to record good S / N information.

【0046】〔画像読み取り方法〕読み取り装置の概略
を図22、図23で説明する。図22は透過型液晶媒体
の画像読み取り装置であり、図のように光源40、IR
カットフィルタ41、バンドパスフィルタ42、照明レ
ンズ43、結像レンズ44からなる光学系部分と、媒体
の透過率変化を電気信号に変換するセンサ部分50、及
び液晶媒体を移動させるステージ部分(図示せず)から
なる。液晶媒体の分光透過率特性から、適切な波長の読
み出し光を用いることにより、良好な画像信号を得るこ
とができる。このため、光源としては、キセノンラン
プ、水銀ランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ
等の白色光源やレーザ光が使用できるが、青色、紫外光
成分が強く、点光源に近いことから、キセノンランプを
光源とすることが望ましい。このような光源としては、
浜松ホトニクス(株)社製、L2274キセノンランプ
が使用できる。バンドパスフィルタは特定の波長の光を
照射するのに用いられ、中心波長340nm〜550n
m、半値幅が10〜40nmの範囲のものが使用でき
る。このようなフィルタとして、アンドーバー社製40
0FS−25−50(中心波長400nm、半値幅25
nm)を用いることにより、良好な画像を得ることがで
きる。結像レンズは、通常のスキャナ用のレンズが使用
できるが、紫外光を読み取り光として使用する場合に
は、紫外光用のレンズを使用することが望ましい。この
ようなレンズとして、(株)ニコン社製、UVニコール
105mm、F4.5がある。センサ50はCCDライ
ンセンサが使用でき、7×7μm/画素程度の画素サイ
ズで、5000画素/6ライン程度のものが使用でき
る。液晶媒体は、1軸方向に移動可能なステージ(図示
せず)上に設置され、ステッピングモータを用いて、媒
体上で1画素に相当する距離だけ移動するごとに1ライ
ンごと電気信号に変換しながら読み取っていく。
[Image Reading Method] The outline of the reading device will be described with reference to FIGS. 22 and 23. FIG. 22 shows an image reading apparatus for a transmissive liquid crystal medium.
An optical system portion including a cut filter 41, a bandpass filter 42, an illumination lens 43, and an imaging lens 44, a sensor portion 50 for converting a change in transmittance of the medium into an electric signal, and a stage portion (not shown) for moving the liquid crystal medium. No)). From the spectral transmittance characteristics of the liquid crystal medium, it is possible to obtain a good image signal by using the reading light having an appropriate wavelength. Therefore, as the light source, a white light source such as a xenon lamp, a mercury lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp or a laser beam can be used, but the blue and ultraviolet light components are strong and close to a point light source, so the xenon lamp is used as a light source. It is desirable to do. As such a light source,
L2274 xenon lamp manufactured by Hamamatsu Photonics KK can be used. The bandpass filter is used to emit light of a specific wavelength and has a central wavelength of 340 nm to 550 n.
m, and the half width of 10 to 40 nm can be used. As such a filter, 40 manufactured by Andover
0FS-25-50 (center wavelength 400 nm, half width 25)
nm) makes it possible to obtain a good image. A normal scanner lens can be used as the imaging lens, but when ultraviolet light is used as the reading light, it is desirable to use the ultraviolet light lens. As such a lens, there is UV Nicole 105 mm, F4.5 manufactured by Nikon Corporation. A CCD line sensor can be used as the sensor 50, and a pixel size of about 7 × 7 μm / pixel and a size of about 5000 pixels / 6 lines can be used. The liquid crystal medium is installed on a stage (not shown) that is movable in one axis direction, and a stepping motor is used to convert an electric signal for each line every time it moves a distance corresponding to one pixel on the medium. While reading.

【0047】図23は反射型液晶媒体の画像読み取り装
置であり、ハーフミラー45を用いて、光学系を図のよ
うに設置し、媒体を通過し、反射した光が、センサ50
に結像するように光学系を調整してある。このように、
反射光で読み取る場合には、記録媒体の一部に反射層を
形成する必要があり、図では、液晶媒体の電極層にA1
の蒸着膜を用いて、電極と反射層を兼ねる場合を示し
た。他にも、誘電体ミラー層を別途設けることもでき
る。
FIG. 23 shows an image reading apparatus for a reflection type liquid crystal medium. An optical system is installed using a half mirror 45 as shown in FIG.
The optical system is adjusted so as to form an image at. in this way,
When reading with reflected light, it is necessary to form a reflective layer on a part of the recording medium. In the figure, A1 is formed on the electrode layer of the liquid crystal medium.
The case where the vapor-deposited film was used as both the electrode and the reflective layer was shown. Besides, a dielectric mirror layer may be separately provided.

【0048】〔画像の記録方法〕次に、画像記録方法に
ついて説明する。図24に示すように、光センサ10と
液晶記録媒体20を約10μmの空気ギャップを介して
対向配置した状態で、グレースケール60を光センサの
電荷発生層上に33msec間投影露光し、両電極間に
720V、45msec電圧印加した後、光センサと液
晶記録媒体を引き離し、液晶媒体を観察したところ、グ
レースケールの透過率に応じて、液晶媒体の透過率が変
化しているのが確認された。一体型媒体について、上記
と同様にグレースケールを33msec投影露光し、両
電極間に400V、40msec電圧印加した後、媒体
を観察したところ、同様にグレースケールの透過率に応
じて一体型媒体の透過率が変化しているのが確認され
た。
[Image Recording Method] Next, an image recording method will be described. As shown in FIG. 24, in a state where the photosensor 10 and the liquid crystal recording medium 20 are opposed to each other with an air gap of about 10 μm, the gray scale 60 is projected and exposed on the charge generation layer of the photosensor for 33 msec, and both electrodes are exposed. After applying a voltage of 720 V for 45 msec, the optical sensor and the liquid crystal recording medium were separated from each other, and the liquid crystal medium was observed. As a result, it was confirmed that the transmittance of the liquid crystal medium was changed according to the grayscale transmittance. . The gray scale of the integrated medium was projected for 33 msec in the same manner as above, and after applying a voltage of 400 V and 40 msec between both electrodes, the medium was observed. Similarly, the transmission of the integrated medium was determined according to the transmittance of the gray scale. It was confirmed that the rate was changing.

【0049】〔光センサの作製方法1〕電荷発生物質と
して下記構造〔化1〕を有するフルオレノンアゾ顔料3
部と、ポリエステル樹脂1部とをジオキサン:シクロヘ
キサン=1:1の混合溶媒196部と混合し、混合機に
より十分混練を行い、塗布液を作製した。
[Method 1 for producing optical sensor] Fluorenone azo pigment 3 having the following structure [Chemical formula 1] as a charge generating substance
Parts and 1 part of polyester resin were mixed with 196 parts of a mixed solvent of dioxane: cyclohexane = 1: 1, and sufficiently kneaded with a mixer to prepare a coating liquid.

【0050】[0050]

【化1】 Embedded image

【0051】この溶液をITO透明電極(膜厚約500
Å、抵抗;80Ω/□)を薄くガラス基板上のITO側
の面に塗布し、100℃、1時間乾燥して膜厚0.3μ
mの電荷発生層を形成した。次に、電荷輸送物質とし
て、下記構造〔化2〕を有するパラジルメチルスチルベ
ン3部とポリスチレン樹脂1部とを、ジクロロメタン:
1、1、2−トリクロロエタン=68:102の混合溶
媒170部と混合、溶解し、塗布液を作製した。この溶
液を上記電荷発生層上に塗布し、80℃、2時間乾燥し
て膜厚10μmの電荷輸送層を形成した。
This solution was applied to an ITO transparent electrode (film thickness of about 500).
Å, resistance; 80Ω / □) is applied thinly on the ITO side surface of the glass substrate and dried at 100 ° C for 1 hour to give a film thickness of 0.3μ
m charge generating layer was formed. Next, as a charge-transporting substance, 3 parts of parazylmethylstilbene having the following structure [Chemical formula 2] and 1 part of a polystyrene resin were added to dichloromethane:
170 parts of a mixed solvent of 1,1,2-trichloroethane = 68: 102 was mixed and dissolved to prepare a coating liquid. This solution was applied on the charge generation layer and dried at 80 ° C. for 2 hours to form a charge transport layer having a film thickness of 10 μm.

【0052】[0052]

【化2】 Embedded image

【0053】〔光センサの作製方法2〕十分洗浄した厚
さ1.1mmのガラス基板上に、膜厚100nmのIT
O膜をスパッタリングにより成膜し、電極層を得た。そ
の電極上に電荷発生剤として下記構造〔化3〕を有する
ビスアゾ顔料(DPDD−3:大日精化工業(株)社
製)3重量部、ポリビニルブチラール1重量部1、4−
ジオキサン98重量部、シクロヘキサン98重量部を混
合し、ペイントシェーカーで6時間分散して塗布液とし
た後、100℃、1時間乾燥して、膜厚300nmの電
荷発生層を積層した。
[Manufacturing Method 2 of Optical Sensor] An IT film having a thickness of 100 nm is formed on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm that has been thoroughly washed.
An O film was formed by sputtering to obtain an electrode layer. 3 parts by weight of a bisazo pigment (DPDD-3: manufactured by Dainichiseika Kogyo KK) having the following structure [Chemical Formula 3] as a charge generating agent on the electrode, 1 part by weight of polyvinyl butyral 1,4-
98 parts by weight of dioxane and 98 parts by weight of cyclohexane were mixed and dispersed for 6 hours with a paint shaker to obtain a coating solution, which was then dried at 100 ° C. for 1 hour to laminate a charge generation layer having a film thickness of 300 nm.

【0054】[0054]

【化3】 Embedded image

【0055】この電荷発生層上に、電荷輸送剤として、
下記構造〔化4〕の化合物(DPDT−3:大日精化工
業(株)社製)を3重量部、ポリスチレン樹脂(電気化
学工業(株)製、HRM−3)2重量部、1、1、2−
トリクロロエタン22重量部、ジクロロメタン14重量
部を混合した塗布液をスピンナーにて400rpm、
0.4秒で塗布した後、80℃、2時間乾燥して電荷輸
送層を積層し、電荷発生層と電荷輸送層とからなる膜厚
20μmの光導電層を有する本発明の光センサを得た。
On this charge generation layer, as a charge transfer agent,
3 parts by weight of a compound having the following structure [Chemical Formula 4] (DPDT-3: manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.), 2 parts by weight of polystyrene resin (HRM-3 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 1, 1 , 2-
A coating solution prepared by mixing 22 parts by weight of trichloroethane and 14 parts by weight of dichloromethane was spun at 400 rpm,
After coating for 0.4 seconds, the coating is dried at 80 ° C. for 2 hours to stack a charge transport layer, and a photosensor of the present invention having a 20 μm-thick photoconductive layer including a charge generation layer and a charge transport layer is obtained. It was

【0056】[0056]

【化4】 [Chemical 4]

【0057】〔一体型媒体の作製〕光センサの作製方法
2と同様の方法で透明電極上に光センサを形成する。ポ
リビニルアルコール(AH−26:日本合成化学(株)
社製)を純水に対して5重量%の濃度で溶解させた溶液
をスピンナーを用いて、光センサの電荷輸送層上に塗布
し、80℃で1時間乾燥し、膜厚1.3μmの中間層を
形成した。液晶記録媒体の作製方法と同様の方法で、中
間層上に液晶記録層を6μmの厚さで形成し、さらに液
晶記録層上にITO電極をスパッタ法で形成し、一体型
媒体を作製した。
[Production of Integrated Medium] An optical sensor is formed on the transparent electrode by the same method as the optical sensor manufacturing method 2. Polyvinyl alcohol (AH-26: Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
A solution in which 5% by weight of pure water was dissolved in pure water was applied onto the charge transport layer of the photosensor using a spinner and dried at 80 ° C. for 1 hour to give a film having a thickness of 1.3 μm. An intermediate layer was formed. A liquid crystal recording layer having a thickness of 6 μm was formed on the intermediate layer, and an ITO electrode was formed on the liquid crystal recording layer by a sputtering method in the same manner as the method for producing the liquid crystal recording medium, to produce an integrated medium.

【0058】〔液晶記録媒体作製方法〕ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート4部、スメクチック液晶S
6(商品名;メルク社製)6部、ふっ素系活性剤フロラ
ードFC−430(商品名;3M社製)0.2部、光重
合開始剤「ダロキュア1173」(商品名;メルク社
製)0.2部の混合物をキシレンにて固形物30%に調
整した。この溶液をITO透明電極(膜厚約500Å、
抵抗;80Ω/□)を有するガラス基板上のITO側の
面に50μmのギャップ厚さブレードコーターで塗布
し、これを50℃に保持し、0.3J/cm2 のUV光
を照射して、膜厚約6μmの情報記録層を有する情報記
録媒体を作製した。この情報記録媒体断面を熱メタノー
ルを用いて液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型電子顕
微鏡(日立製作所(株)製、S−800、10000
倍)で内部構造を観察したところ、層の表面は0.6μ
m厚の紫外線硬化型樹脂で覆われ、層内部は、粒径0.
1μmの樹脂粒子が充填している構造を有していること
がわかった。この液晶記録媒体の断面を模式的に図25
に示す。図の21はガラス基板、22はITO透明電
極、23は液晶記録層をそれぞれ示している。液晶記録
層表面は、スキン層23−aで覆われ、表面から液晶が
染み出すのを防止する役目を果たしている。液晶層内部
は、ポリマーボール23−bが充填されていて、その間
が液晶相23−cで満たされている。
[Method for producing liquid crystal recording medium] 4 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, smectic liquid crystal S
6 (trade name; manufactured by Merck) 6 parts, fluorine-based activator Florard FC-430 (trade name; manufactured by 3M Company) 0.2 part, photopolymerization initiator “Darocur 1173” (trade name; manufactured by Merck) 0 .2 parts of the mixture was adjusted to 30% solids with xylene. This solution was applied to an ITO transparent electrode (film thickness about 500Å,
Resistance; 80 Ω / □) is applied to the surface of the glass substrate having ITO with a gap thickness of 50 μm with a blade coater, and this is held at 50 ° C. and irradiated with UV light of 0.3 J / cm 2 , An information recording medium having an information recording layer having a film thickness of about 6 μm was produced. A liquid crystal was extracted from the cross section of the information recording medium using hot methanol and dried, and then a scanning electron microscope (manufactured by Hitachi, Ltd., S-800, 10000).
When observing the internal structure, the surface of the layer is 0.6μ.
The inside of the layer is covered with a UV curable resin having a thickness of m.
It was found to have a structure in which resin particles of 1 μm were filled. A cross section of this liquid crystal recording medium is schematically shown in FIG.
Shown in In the figure, 21 is a glass substrate, 22 is an ITO transparent electrode, and 23 is a liquid crystal recording layer. The surface of the liquid crystal recording layer is covered with the skin layer 23-a, which serves to prevent the liquid crystal from seeping out from the surface. The inside of the liquid crystal layer is filled with polymer balls 23-b, and the space between them is filled with a liquid crystal phase 23-c.

【0059】〔具体例〕3種類のベース電流の異なる光
センサD、E、Fについて画像記録(グレースケール)
を行い、専用の画像読み取り装置でグレースケールの各
ステップと、読み取り信号の関係をプロットした結果を
図26に示す。各光センサのベース電流値と電圧印加条
件は以下の通りである。 光センサD(抵抗大)の画像は、露光レンジが約1.0
程度と狭く、風景画像等の記録には適さず、文字等の記
録に適している。光センサEの画像は露光レンジが2.
0以上と広く、高露光域では液晶媒体がほぼ完全に配向
しているため、S/Nの良好な画像が再生画像を得るこ
とができる。光センサF(抵抗小)は、高露光域でも液
晶が不完全にしか配向しておらず、画像記録に適してい
るとはいえない。
[Specific Example] Image recording (gray scale) for three types of optical sensors D, E, and F having different base currents
FIG. 26 shows the result of plotting the relationship between each step of gray scale and the read signal by the dedicated image reading device. The base current value and voltage application condition of each photosensor are as follows. The image of optical sensor D (large resistance) has an exposure range of about 1.0.
It is narrow and is not suitable for recording landscape images, etc., but is suitable for recording characters and the like. The image of the optical sensor E has an exposure range of 2.
It is as wide as 0 or more, and the liquid crystal medium is almost completely aligned in the high-exposure region, so that a reproduced image with a good S / N can be obtained. The optical sensor F (low resistance) cannot be said to be suitable for image recording because the liquid crystal is only incompletely aligned even in the high exposure area.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光センサ
のベース電流値を選択することにより、目的に応じた特
性で画像記録を行うことが可能となる。
As described above, according to the present invention, by selecting the base current value of the optical sensor, it becomes possible to perform image recording with the characteristics according to the purpose.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 分離型液晶媒体への画像記録方法を説明する
図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a method of recording an image on a separation type liquid crystal medium.

【図2】 一体型液晶媒体への画像記録方法を説明する
図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an image recording method on an integrated liquid crystal medium.

【図3】 画像読み取り方法を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an image reading method.

【図4】 電圧を変えたときの光センサ電流測定結果を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a photosensor current measurement result when a voltage is changed.

【図5】 電圧を変えたときの光センサ電流測定結果を
示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a photosensor current measurement result when a voltage is changed.

【図6】 電圧を変えたときの光センサ電流測定結果を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a photosensor current measurement result when a voltage is changed.

【図7】 光センサ電流測定方法を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an optical sensor current measuring method.

【図8】 一定強度の光を一定時間照射したときの光電
流測定結果を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a photocurrent measurement result when light having a constant intensity is irradiated for a predetermined time.

【図9】 液晶媒体、光センサにかかる電圧のシミュレ
ーション結果を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing simulation results of voltage applied to a liquid crystal medium and an optical sensor.

【図10】 液晶媒体、光センサにかかる電圧のシミュ
レーション結果を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing simulation results of voltage applied to a liquid crystal medium and an optical sensor.

【図11】 液晶媒体、光センサにかかる電圧のシミュ
レーション結果を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a simulation result of a voltage applied to a liquid crystal medium and an optical sensor.

【図12】 膜厚を変えたときの印加電圧とベース電流
の関係を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a relationship between an applied voltage and a base current when the film thickness is changed.

【図13】 露光強度に対する光電流の関係を示す図で
ある。
FIG. 13 is a diagram showing a relationship of photocurrent with respect to exposure intensity.

【図14】 液晶のしきい値電圧、飽和電圧の測定装置
を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an apparatus for measuring a threshold voltage and a saturation voltage of liquid crystal.

【図15】 測定結果を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing measurement results.

【図16】 光センサの電圧とベース電流の関係を示す
図である。
FIG. 16 is a diagram showing a relationship between a voltage of an optical sensor and a base current.

【図17】 光センサベース電流と光センサにかかる電
圧の関係を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a relationship between an optical sensor base current and a voltage applied to the optical sensor.

【図18】 光センサB電流とベース電流成分の関係を
示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a relationship between an optical sensor B current and a base current component.

【図19】 光センサ膜厚と印加電圧上限の関係を示す
図である。
FIG. 19 is a diagram showing a relationship between an optical sensor film thickness and an applied voltage upper limit.

【図20】 光センサB電流とベース電流成分の関係を
示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing a relationship between an optical sensor B current and a base current component.

【図21】 光センサベース電流と光センサにかかる電
圧の関係を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a relationship between an optical sensor base current and a voltage applied to the optical sensor.

【図22】 透過型液晶媒体の読み取り装置を説明する
図である。
FIG. 22 is a diagram illustrating a reading device of a transmissive liquid crystal medium.

【図23】 反射型液晶媒体の読み取り装置を説明する
図である。
FIG. 23 is a diagram illustrating a reading device for a reflective liquid crystal medium.

【図24】 グレースケールの記録を説明する図であ
る。
FIG. 24 is a diagram illustrating grayscale recording.

【図25】 液晶媒体の説明図である。FIG. 25 is an explanatory diagram of a liquid crystal medium.

【図26】 透過光濃度と読み取り信号の関係を示す図
である。
FIG. 26 is a diagram showing a relationship between transmitted light density and a read signal.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…光センサ、20…液晶媒体、30…電源、40…
光源、50…CCDセンサ。
10 ... Optical sensor, 20 ... Liquid crystal medium, 30 ... Power supply, 40 ...
Light source, 50 ... CCD sensor.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極上に光導電層を形成した光セン
サと、液晶と樹脂から高分子−液晶複合体を電極上に形
成した液晶記録媒体を空気ギャップを介して対向させた
分離型情報記録媒体の光センサに画像露光し、前記両電
極間に電圧印加することにより、液晶を配向させて画像
情報を記録するための光センサにおいて、 100V印加時のベース電流(B電流)が1×10-7
2×10-5A/cm2であることを特徴とする液晶媒体
記録用光センサ。
1. A separation type information in which a photosensor having a photoconductive layer formed on a transparent electrode and a liquid crystal recording medium having a polymer-liquid crystal complex formed of a liquid crystal and a resin on the electrode are opposed to each other through an air gap. In an optical sensor for recording image information by aligning liquid crystal by imagewise exposing an optical sensor of a recording medium and applying a voltage between both electrodes, a base current (B current) when 100 V is applied is 1 ×. 10 -7 ~
An optical sensor for recording a liquid crystal medium, wherein the optical sensor has a density of 2 × 10 −5 A / cm 2 .
【請求項2】 透明電極上に光導電層を形成した光セン
サと、液晶と樹脂から高分子−液晶複合体を電極上に形
成した液晶記録媒体を空気ギャップを介して対向させた
分離型情報記録媒体の光センサに画像露光し、前記両電
極間に電圧印加することにより、液晶を配向させて画像
情報を記録するための光センサにおいて、 液晶媒体および光センサの容量により決まる上限印加電
圧V1と、液晶媒体のしきい値電圧、液晶媒体の飽和電
圧、液晶媒体の抵抗、光センサの抵抗により決まる下限
印加電圧V2としたとき、V1>V2を満たす膜厚とベ
ース電流であることを特徴とする液晶媒体記録用光セン
サ。
2. A separation type information in which an optical sensor having a photoconductive layer formed on a transparent electrode and a liquid crystal recording medium having a polymer-liquid crystal complex formed of a liquid crystal and a resin on the electrode are opposed to each other through an air gap. An optical sensor for aligning liquid crystal to record image information by image-exposing an optical sensor of a recording medium and applying a voltage between the both electrodes. An upper limit applied voltage V1 determined by a capacity of the liquid crystal medium and the optical sensor. And the threshold voltage of the liquid crystal medium, the saturation voltage of the liquid crystal medium, the resistance of the liquid crystal medium, and the lower limit applied voltage V2 determined by the resistance of the optical sensor, the film thickness and the base current satisfy V1> V2. An optical sensor for recording liquid crystal media.
【請求項3】 請求項2記載の光センサにおいて、上限
印加電圧V1と下限印加電圧V2の間に、未露光部分の
光センサ電流(BD 電流)が2×10-6〜4×10-6
/cm2 になるような印加電圧条件が存在し、かつ、こ
のような電圧印加条件で電圧印加したときの露光部分の
光センサ電流(BL 電流)が0.5×10-6〜1.5×
10-6A/cm2 であることを特徴とする液晶媒体記録
用光センサ。
3. The photosensor according to claim 2, wherein the photosensor current ( BD current) in the unexposed portion is 2 × 10 −6 to 4 × 10 between the upper limit applied voltage V1 and the lower limit applied voltage V2. 6 A
/ Cm 2 to become such applied voltage condition exists, and the optical sensor current (B L current) 0.5 × 10 -6 to 1 of the exposed portion at the time of voltage application in such a voltage application condition. 5x
An optical sensor for recording a liquid crystal medium, characterized in that it is 10 −6 A / cm 2 .
【請求項4】 請求項2記載の光センサにおいて、上限
印加電圧V1と下限印加電圧V2の間に、未露光部分の
光センサ電流(BD 電流)が2×10-6〜4×10-6
/cm2 になるような印加電圧条件が存在し、かつ、こ
の電圧印加条件で電圧印加したときの露光部分の光セン
サ電流(BL 電流)が1.5×10-6A/cm2 より大きい
こと特徴とする液晶媒体記録用光センサ。
4. The photosensor according to claim 2, wherein the photosensor current ( BD current) in the unexposed portion is 2 × 10 −6 to 4 × 10 between the upper limit applied voltage V1 and the lower limit applied voltage V2. 6 A
There is an applied voltage condition that results in / cm 2 and the photosensor current (B L current) in the exposed portion when a voltage is applied under this voltage application condition is 1.5 × 10 -6 A / cm 2 Optical sensor for recording liquid crystal media characterized by being large.
JP8256895A 1995-04-07 1995-04-07 Optical sensor for liquid crystal mdium recording Pending JPH08278513A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8256895A JPH08278513A (en) 1995-04-07 1995-04-07 Optical sensor for liquid crystal mdium recording

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8256895A JPH08278513A (en) 1995-04-07 1995-04-07 Optical sensor for liquid crystal mdium recording

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08278513A true JPH08278513A (en) 1996-10-22

Family

ID=13778097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8256895A Pending JPH08278513A (en) 1995-04-07 1995-04-07 Optical sensor for liquid crystal mdium recording

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08278513A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004083946A1 (en) Medium for recording information and method of recording/reproducing information
JPH0713132A (en) Information recording medium
JP3315012B2 (en) Information recording method
JPH04362915A (en) Image forming method, recording medium and method for reproducing image made visible
JPH08278513A (en) Optical sensor for liquid crystal mdium recording
JPH0815009A (en) Photosensor and information recording method and apparatus
JPH0777700A (en) Method and device for information recording and reproduction with dynamic range expanding function
JP3289864B2 (en) Information recording method and apparatus
JPH1065136A (en) Optical sensor, apparatus for recording information and method for recording and reproducing information
JPH114011A (en) Photosensor
JP2908189B2 (en) Information recording apparatus and information recording / reproducing method
JP3623027B2 (en) Optical sensor, information recording apparatus, and information recording / reproducing method
JPH09113861A (en) Optical sensor, information recording device, and information recording and reproducing method
JPH08262479A (en) Method and device for photographing
JP2866801B2 (en) Optical sensor, information recording device and information recording method
JPH07199144A (en) Liquid crystal recording medium and its recording method
JPH08235343A (en) Image reader
JP3528938B2 (en) Information recording medium
JPH07325282A (en) Image reproducing method for liquid crystal recording medium
JPH07152282A (en) Information recording method and device therefor
JPH07333644A (en) Editing device
JPH06186543A (en) Production of information recording medium and information recording and reproducing method
JPH11328722A (en) Information recording element and its production
JPH06186545A (en) Production of information recording medium and informaiton recording and reproducing method
JPH08235342A (en) Image reading method

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Effective date: 20040109

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02