JPH08254698A - Reflection type liquid display element - Google Patents

Reflection type liquid display element

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JPH08254698A
JPH08254698A JP7268473A JP26847395A JPH08254698A JP H08254698 A JPH08254698 A JP H08254698A JP 7268473 A JP7268473 A JP 7268473A JP 26847395 A JP26847395 A JP 26847395A JP H08254698 A JPH08254698 A JP H08254698A
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liquid crystal
substrate
layer
crystal display
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Yuzo Hisatake
雄三 久武
Makiko Satou
摩希子 佐藤
Ryoichi Watanabe
良一 渡辺
Hitoshi Hado
仁 羽藤
Akio Murayama
昭夫 村山
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Abstract

PURPOSE: To provide a novel reflection type liquid crystal display element which is enhanced in the reflectivity over the entire part without relating to a normally black mode and normally white mode. CONSTITUTION: This liquid crystal display element includes first and second substrates 11, 12 which have first and second electrodes 13, 14 on their respective opposite surfaces, a liquid crystal compsn. layer 15 which is held between these first and second substrates 11 and 12, modulating parts which are the regions corresponding to the first electrodes 13 and where the liquid crystal compsn. 15 responds to modulate the reflection quantity of incident light by the voltage impressed between the first and second electrodes 13 and 14, non-modulating parts B which are the regions exclusive of these modulating parts, a light diffusion layer which is formed on the surface on the side opposite to the main surface formed with the first electrodes 13 of the first substrate 11 and a first reflection layer 20 which is formed in at least a part of the regions corresponding to the non-modulating parts B of the main surface formed with the first electrodes 13 of the first substrate 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する分野】本発明は、反射型液晶表示素子に
関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a reflective liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子(以下LCDと略称)は、
ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、投影形T
V、小型TV等に広く利用されている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display element (hereinafter abbreviated as LCD) is
Word processor, personal computer, projection T
Widely used in V, small TV, etc.

【0003】近年、バックライト不要の反射型LCDが
注目されている。反射型LCDは、OA機器等の表示に
おいてバックライトを必要としないため、消費電力の低
減が実現でき、携帯用に適している。反射型LCDは、
外光の光を利用しているため、LCD自体の反射率が高
くないと実用上問題となる。
In recent years, a reflective LCD that does not require a backlight has been receiving attention. The reflective LCD does not require a backlight for displaying on an OA device or the like, and thus can reduce power consumption and is suitable for portable use. The reflective LCD is
Since the light of the outside light is used, it poses a practical problem unless the reflectance of the LCD itself is high.

【0004】反射型LCDを、LCD自体の反射率の観
点から分類すると、偏光板を2枚用いる表示モード、1
枚用いる表示モード、用いない表示モードの3つに分類
できる。
When the reflective LCD is classified from the viewpoint of the reflectance of the LCD itself, a display mode using two polarizing plates,
It can be classified into three display modes, one using a sheet and one not using it.

【0005】偏光板を2枚用いる表示モードとしては、
例えば図1に示すTN型LCDがある。このTN型LC
Dでは、上下基板1,2は透明電極3,4をそれぞれ有
しており、これら基板間に液晶組成物層5を挟持してい
る。上下基板1,2外面に偏光板6a,6bが貼付さ
れ、下基板2側の偏光板6b外面に、拡散反射板7が貼
付されている。このTN型LCDの光路Lは、偏光板を
4回、基板を4回通過する。これらの透過率のうち、偏
光板の透過率は1回分の通過では、原理的に50%以下
であり、実数は40数%である。他の偏光板や基板にお
いてもそれ自身の吸収があるので、反射率は著しく低
い。
As a display mode using two polarizing plates,
For example, there is a TN type LCD shown in FIG. This TN type LC
In D, the upper and lower substrates 1 and 2 have transparent electrodes 3 and 4, respectively, and the liquid crystal composition layer 5 is sandwiched between these substrates. Polarizing plates 6a and 6b are attached to the outer surfaces of the upper and lower substrates 1 and 2, and a diffuse reflection plate 7 is attached to the outer surface of the polarizing plate 6b on the lower substrate 2 side. The optical path L of this TN LCD passes through the polarizing plate four times and passes through the substrate four times. Of these transmittances, the transmittance of the polarizing plate is 50% or less in principle after one pass, and the real number is 40%. Since other polarizing plates and substrates also have their own absorption, the reflectance is extremely low.

【0006】偏光板を1枚用いる表示モードとしては、
例えば図2に示す偏光板6のみをもつ偏光板1枚モード
ECB型LCDがある。前記図1のTN型LCDと比較
して、光路は、偏光板を2回、基板も2回しか通過しな
い。なお、以下、各図において同符号の部分は同様部分
を示す。前記TN型LCDと同様、偏光板の透過率は少
なくとも1回分は、原理的に50%以下であり、実際は
40数%である。しかしながら光路は、偏光板2回分、
基板2回分の光吸収を削減できることから、前記TN型
LCDよりは、若干反射率が高い。
As a display mode using one polarizing plate,
For example, there is a single-polarizer mode ECB type LCD having only the polarizer 6 shown in FIG. Compared with the TN LCD of FIG. 1, the optical path passes through the polarizing plate twice and the substrate only twice. Note that, hereinafter, in each of the drawings, the portions having the same reference numerals indicate the same portions. As in the case of the TN type LCD, the transmittance of the polarizing plate is 50% or less in principle at least once, and is actually 40% or more. However, the optical path is equivalent to two polarizing plates,
Since the light absorption for two times of the substrate can be reduced, the reflectance is slightly higher than that of the TN LCD.

【0007】これらと比較して偏光板を用いない表示モ
ードは、例えば図3に示すゲストホスト液晶の液晶組成
物層5aをもつ高分子ポリマーPC−GH型LCD、図
4に示すゲストホスト液晶組成物層5bをもつGH−H
OMO型LCD、および図5に示す2層のゲストホスト
液晶組成物層5bを共通基板8を介して重ねた2層型G
H−HOMO型LCD等がある。
In comparison with these, the display mode not using a polarizing plate is, for example, a polymer polymer PC-GH type LCD having a liquid crystal composition layer 5a of a guest-host liquid crystal shown in FIG. 3 and a guest-host liquid crystal composition shown in FIG. GH-H having the object layer 5b
OMO type LCD, and two-layer type G in which the two-layer guest-host liquid crystal composition layer 5b shown in FIG.
There is an H-HOMO type LCD and the like.

【0008】図3〜5に示すいずれの方式も偏光板を用
いないので、前記した偏光板を用いる表示モードのよう
に透過率が少なくとも1回の透過分は、透過率が原理的
に50%以下であり実際は40数%である偏光板を用い
ない分、明るくなる。また、前記偏光板1枚モードのE
CB型LCDと同様に、反射板をセル内面に設ければ、
基板2回分の光吸収を削減することができる。従って、
前記偏光板を用いる表示モードと比較して、反射率が著
しく高くなる。
Since no polarizing plate is used in any of the systems shown in FIGS. 3 to 5, the transmittance of at least one transmission like the display mode using the above-mentioned polarizing plate has a transmittance of 50% in principle. It is the following, and it becomes brighter because the polarizing plate, which is actually 40% or more, is not used. In addition, the E of the single-polarizer mode
Like the CB LCD, if a reflector is provided on the inner surface of the cell,
It is possible to reduce light absorption for two times of the substrate. Therefore,
The reflectance is significantly higher than that in the display mode using the polarizing plate.

【0009】また、図6に示す反射型LCDは、図4に
示すGH−HOMO型LCDの反射板7と液晶セルの間
に4分の1波長板9を挿入したものであり、液晶セルを
通過した入射光が、4分の1波長板9を透過し、反射板
7で反射され、再び4分の1波長板9を透過することに
よって、位相を2分の1波長ずらされ、再び液晶セルに
入射する機能を得るものである。
The reflection type LCD shown in FIG. 6 is a GH-HOMO type LCD shown in FIG. 4 in which a quarter wavelength plate 9 is inserted between the reflection plate 7 and the liquid crystal cell. The incident light that has passed through passes through the quarter-wave plate 9, is reflected by the reflection plate 7, and again passes through the quarter-wave plate 9 so that the phase is shifted by half a wavelength and the liquid crystal is again displayed. It obtains the function of entering the cell.

【0010】この構造は図5に示す2層型GH−HOM
O型LCDと同様の光制御が1層の液晶層、1層の液晶
セルで得られるものである。
This structure has a two-layer type GH-HOM shown in FIG.
The same light control as that of the O-type LCD is obtained with one liquid crystal layer and one liquid crystal cell.

【0011】さて、これら反射型LCDはディスプレー
であり、一般的には電極を用いて液晶層に電圧を印加す
る、若しくは電流を流す、磁界を印加するなどして表示
を行っている。電極を用いるので、必ず絶縁領域(電極
のないところ)が必要となる。特に、種々の文字や絵、
映像などのパターンを表示する素子の場合、マトリクス
状に電極を形成する。マトリクス状に電極を形成した場
合、一般的には前記液晶層に電圧を印加する等の目的と
した電極以外に配線も必要となる。マトリクスに電極を
形成しない場合でもパターンがある程度複雑な場合(例
えば、電卓、時計等に応用されている7セグメント表
示)は配線が必要となる。このようにLCDは液晶層に
電圧を印加する等の目的とした電極及び絶縁領域(電極
のないところ)及び場合によっては配線の3つの領域か
ら形成されている。
Now, these reflection type LCDs are displays, and generally display is performed by applying a voltage to the liquid crystal layer using an electrode, passing a current, or applying a magnetic field. Since electrodes are used, an insulating region (a place without electrodes) is always required. In particular, various letters and pictures,
In the case of an element that displays a pattern such as an image, electrodes are formed in a matrix. When electrodes are formed in a matrix, wiring is generally required in addition to the electrodes for the purpose of applying a voltage to the liquid crystal layer. Even if the electrodes are not formed in the matrix, if the pattern is complicated to some extent (for example, 7-segment display applied to calculators, watches, etc.), wiring is required. As described above, the LCD is formed by three regions of an electrode and an insulating region (where there is no electrode) for the purpose of applying a voltage to the liquid crystal layer, and a wiring in some cases.

【0012】本明細書では、液晶層に電圧を印加する等
の目的とした電極により液晶が応答し光反射層が変調す
る領域を変調部と称し、それ以外の領域を非変調部と称
し、この非変調部のうち、前記絶縁領域をスペース部と
称し、前記配線の設けられた領域を配線部と称すること
とする。
In the present specification, a region where the liquid crystal responds by the electrode for the purpose of applying a voltage to the liquid crystal layer and the light reflecting layer modulates is referred to as a modulation part, and the other region is referred to as a non-modulation part. In this non-modulation section, the insulating area is referred to as a space section, and the area where the wiring is provided is referred to as a wiring section.

【0013】ちなみに透過型LCDにおいては、前記非
変調部に遮光層を設けることが多い。この遮光層はマト
リクス表示素子の場合、一般的にブラックマトリクス
(BM)と呼ばれる。この遮光層は表示のコントラスト
比特性を向上させる目的で設けられているものである。
LCDの表示モードを表示制御の観点から分類すると
(透過型、反射型に限らず)、電圧等を印加していない
状態で明状態を得るノーマリーホワイトモード(NWモ
ードと称す)と、逆に電圧等を印加した状態で明状態で
得るノーマリーブラックモード(NBモードと称す)と
に大別できる。
Incidentally, in a transmissive LCD, a light shielding layer is often provided in the non-modulation portion. In the case of a matrix display device, this light shielding layer is generally called a black matrix (BM). This light shielding layer is provided for the purpose of improving the contrast ratio characteristic of display.
When the display modes of the LCD are classified from the viewpoint of display control (not limited to the transmissive type and the reflective type), it is opposite to the normally white mode (called NW mode) in which a bright state is obtained in the state where no voltage is applied. It can be roughly classified into a normally black mode (referred to as NB mode) which is obtained in a bright state when a voltage or the like is applied.

【0014】NWモードの場合、前記非変調部は変調部
の状態に拘らず、大略、常時明状態となる。よって、前
記遮光層を設けない場合、全体(変調部と非変調部)と
して、暗状態の輝度は、前記遮光層を設けた場合より高
い。よってコントラスト比(明状態の輝度/暗状態の輝
度)は遮光層を設けることによって向上する。NBモー
ドの場合、前記非変調部は変調部の状態に拘らず、大
略、常時暗状態となる。よって、NWモードと比較すれ
ば、全体(変調部と非変調部)としての暗状態の輝度は
暗くなる。しかしながら、一般に知られるNBモードの
暗状態は十分暗い表示が得られていない。このため、遮
光層を設けることによって、非変調部の輝度を確実にゼ
ロにし、高いコントラストを得ているのである。
In the NW mode, the non-modulation section is almost always in the bright state regardless of the state of the modulation section. Therefore, in the case where the light shielding layer is not provided, the luminance in the dark state as a whole (modulation portion and non-modulation portion) is higher than that in the case where the light shielding layer is provided. Therefore, the contrast ratio (brightness in the bright state / luminance in the dark state) is improved by providing the light shielding layer. In the NB mode, the non-modulation section is almost always in the dark state regardless of the state of the modulation section. Therefore, as compared with the NW mode, the brightness in the dark state as a whole (modulation section and non-modulation section) becomes darker. However, in the generally known dark state of the NB mode, a sufficiently dark display is not obtained. Therefore, by providing the light-shielding layer, the brightness of the non-modulation portion is surely reduced to zero and a high contrast is obtained.

【0015】しかしながら、この遮光層を設けること
は、全体の表示輝度(明るさ)を低下させることとな
る。これは欠点となるが、透過型LCDの場合、バック
ライトを用いているので、このバックライトの輝度を向
上させることにより、表示輝度(明るさ)を保つことが
できる。このように、コントラストを得るために遮光層
を設けることが多いわけである。
However, the provision of the light shielding layer lowers the overall display brightness (brightness). Although this is a drawback, in the case of a transmissive LCD, since a backlight is used, display brightness (brightness) can be maintained by improving the brightness of this backlight. Thus, a light-shielding layer is often provided to obtain contrast.

【0016】これに対し、反射型LCDでは、用いる光
が外光であり、ディスプレー側では、入射光量を制御で
きない。したがって、前記遮光層を反射型に適用する
と、表示輝度を著しく低下させてしまうため、一般的に
は用いられていない(駆動素子としてのTFTは光によ
り影響されるので、その影響を防止する目的で、非変調
部のうち必要な部分にだけ遮光層を設けることがあ
る。)。そもそも、反射型LCDの場合、用いる光は外
光であり、ディスプレー側では入射光量を制御できない
から、最も重要視される特性は明るさ(輝度)とされて
いる。これらのことから、一般的な従来の反射型LCD
は、非変調部に遮光層を設けていない。
On the other hand, in the reflective LCD, the light used is external light, and the amount of incident light cannot be controlled on the display side. Therefore, when the light-shielding layer is applied to the reflection type, it is not generally used because it significantly reduces the display brightness (the TFT as a driving element is affected by light. Therefore, the light shielding layer may be provided only in a necessary portion of the non-modulation portion.). In the first place, in the case of a reflective LCD, the light used is external light, and the amount of incident light cannot be controlled on the display side. Therefore, the most important characteristic is brightness (luminance). From these things, general conventional reflective LCD
Does not provide a light shielding layer on the non-modulation part.

【0017】しかしながら、遮光層がなくても、従来の
反射型LCDの表示輝度は十分な値が得られていない。
NWモードの場合、非変調部は大略常時明状態となるた
め、全体の表示輝度はある程度得られるが、反射型LC
Dは、いずれも暗状態を得るために偏光板や染料を用い
ており、実際には明状態に対してもある程度の光吸収が
避けられない。よって結果的には十分な明るさは得られ
ない。NBモードの場合は、非変調部は大略常時暗状態
となるため、全体の表示輝度は当然暗い。
However, even if the light-shielding layer is not provided, the display brightness of the conventional reflective LCD is not sufficiently high.
In the NW mode, the non-modulation part is almost always in the bright state, so that the display brightness of the whole can be obtained to some extent.
Each of D uses a polarizing plate and a dye in order to obtain a dark state, and in reality, some light absorption cannot be avoided even in a bright state. Therefore, as a result, sufficient brightness cannot be obtained. In the NB mode, the non-modulation section is almost always in the dark state, and the entire display brightness is naturally dark.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の反
射型液晶表示素子は、ディスプレーとして用いる場合、
非変調部においても反射率が低く、特にノーマリーブラ
ックモードの場合、その影響は著しく、全体の表示輝度
を著しく低下させていた。
As described above, the conventional reflection type liquid crystal display device, when used as a display,
The reflectance is low even in the non-modulation portion, and particularly in the normally black mode, the influence is remarkable, and the overall display brightness is significantly reduced.

【0019】本発明の目的は、ノーマリーブラックモー
ド、ノーマリーホワイトモードに関することなく、全体
の反射率を高くする新規な反射型液晶表示素子を提供す
ることにある。
It is an object of the present invention to provide a novel reflective liquid crystal display device which raises the overall reflectance regardless of normally black mode and normally white mode.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明(請求項1)は、観察される側に配置され、
一方の主面に第1の電極が形成された第1の基板と、前
記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面に対向
して配置され、その対向主面に第2の電極を有する第2
の基板と、前記第1及び第2の基板間に挟持された液晶
組成物層と、前記第1の電極に対応する領域であって、
前記第1及び第2の電極間に印加された電圧により前記
液晶組成物が応答し、入射する光の反射量を変調する変
調部と、この変調部以外の領域である非変調部と、前記
第1の基板の前記第1の電極が形成された主面とは反対
側の面に形成された光拡散層と、前記第1の基板の前記
第1の電極が形成された主面の、前記非変調部に対応す
る領域の少なくとも一部に形成された第1の反射層とを
具備する反射型液晶表示素子を提供する。
In order to solve such a problem, the present invention (Claim 1) is arranged on the observed side,
A first substrate having a first electrode formed on one main surface and a first substrate having a first electrode formed thereon are disposed so as to face each other, and a second substrate is provided on the opposite main surface. Second with different electrodes
A substrate, a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, and a region corresponding to the first electrode,
The liquid crystal composition responds to the voltage applied between the first and second electrodes and modulates a reflection amount of incident light; a non-modulation part other than the modulation part; A light diffusion layer formed on a surface of the first substrate opposite to the main surface on which the first electrode is formed; and a main surface of the first substrate on which the first electrode is formed, Provided is a reflective liquid crystal display device comprising a first reflective layer formed on at least a part of a region corresponding to the non-modulation part.

【0021】また、本発明(請求項2)は、観察される
側に配置され、一方の主面に第1の電極が形成された第
1の基板と、前記第1の基板の前記第1の電極が形成さ
れた主面に対向して配置され、その対向主面に第2の電
極を有する第2の基板と、前記第1及び第2の基板間に
挟持された液晶組成物層と、前記第1の電極に対応する
領域であって、前記第1及び第2の電極間に印加された
電圧により前記液晶組成物が応答し、入射する光の反射
量を変調する変調部と、この変調部以外の領域である非
変調部と、前記第1の基板の前記第1の電極が形成され
た主面に形成された光拡散層と、前記光拡散層上の、前
記非変調部に対応する領域の少なくとも一部に形成され
た第1の反射層とを具備する反射型液晶表示素子を提供
する。
According to the present invention (claim 2), a first substrate is provided on the side to be observed and has a first electrode formed on one main surface, and the first substrate is provided with the first substrate. And a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, the second substrate being disposed so as to face the main surface on which the electrode is formed and having a second electrode on the facing main surface. A modulator that is a region corresponding to the first electrode, and that the liquid crystal composition responds by a voltage applied between the first and second electrodes, and modulates a reflection amount of incident light; The non-modulation portion, which is a region other than the modulation portion, the light diffusion layer formed on the main surface of the first substrate on which the first electrode is formed, and the non-modulation portion on the light diffusion layer. And a first reflection layer formed on at least a part of a region corresponding to the above.

【0022】更に、本発明(請求項27)は、観察され
る側に配置され、一方の主面に第1の電極が形成された
第1の基板と、前記第1の基板の前記第1の電極が形成
された主面に対向して配置され、その対向主面に第2の
電極を有する第2の基板と、前記第1及び第2の基板間
に挟持された液晶組成物層と、前記第1の電極に対応す
る領域であって、前記第1及び第2の電極間に印加され
た電圧により前記液晶組成物が応答し、入射する光の反
射量を変調する変調部と、この変調部以外の領域である
非変調部と、前記第1の基板の前記第1の電極が形成さ
れた主面とは反対側の面に形成され、屈折率の異なる第
1及び第2の透明屈折率媒体を略平面的に配置してなる
回折格子からなる光拡散層と、前記第2の基板のいずれ
か一方の主面に形成された鏡面反射層とを具備する反射
型液晶表示素子を提供する。
Further, according to the present invention (claim 27), there is provided a first substrate which is disposed on the side to be observed and has a first electrode formed on one principal surface thereof, and the first substrate of the first substrate. And a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, the second substrate being disposed so as to face the main surface on which the electrode is formed and having a second electrode on the facing main surface. A modulator that is a region corresponding to the first electrode, and that the liquid crystal composition responds by a voltage applied between the first and second electrodes, and modulates a reflection amount of incident light; The first and second non-modulation parts, which are regions other than the modulation part, are formed on the surface of the first substrate opposite to the main surface on which the first electrode is formed and have different refractive indexes. A light diffusing layer formed of a diffraction grating in which a transparent refractive index medium is arranged in a substantially plane and a main surface of one of the second substrate and the light diffusing layer. To provide a reflection type liquid crystal display device comprising a specular reflective layer.

【0023】更にまた、本発明(請求項35)は、観察
される側に配置され、一方の主面に第1の電極が形成さ
れた第1の基板、前記第1の基板の前記第1の電極が形
成された主面に対向して配置され、その対向主面に第2
の電極を有する第2の基板、及び前記第1及び第2の基
板間に挟持され、黒色染料を含有する誘電異方性を示す
ネマティック液晶からなる液晶組成物層を備えた液晶セ
ルと、前記液晶セルの観察される側に配置され、表面に
反射防止膜が被着された光拡散板と、前記液晶組成物層
の観察される側とは反対側に配置された鏡面反射部材
と、前記液晶組成物層と前記鏡面反射部材との間に配置
され、通過する光の位相を1/4波長ずらす1/4波長
位相差板とを具備する反射型液晶表示素子を提供する。
Still further, according to the present invention (claim 35), the first substrate is arranged on the side to be observed and has a first electrode formed on one principal surface, and the first substrate is the first substrate. Is arranged so as to face the main surface on which the electrode of
A liquid crystal cell comprising a second substrate having an electrode, and a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates and made of a nematic liquid crystal exhibiting dielectric anisotropy containing a black dye; A light diffusing plate disposed on the observed side of the liquid crystal cell, having a surface coated with an antireflection film, and a specular reflection member disposed on the opposite side of the observed side of the liquid crystal composition layer, Provided is a reflective liquid crystal display device comprising a quarter-wave retardation plate which is disposed between a liquid crystal composition layer and the specular reflection member and which shifts the phase of light passing therethrough by a quarter wavelength.

【0024】また更に、本発明(請求項36)は、観察
される側に配置され、一方の主面に第1の電極が形成さ
れた第1の基板、前記第1の基板の前記第1の電極が形
成された主面に対向して配置され、その対向主面に第2
の電極を有する第2の基板、及び前記第1及び第2の基
板間に挟持され、誘電異方性を示すネマティック液晶か
らなる液晶組成物層を備えた液晶セルと、前記液晶セル
の観察される側に配置され、表面に反射防止膜が被着さ
れた光拡散板と、前記液晶組成物層と前記光拡散板との
間に配置された偏光板と、前記液晶組成物層の観察され
る側とは反対側に配置された鏡面反射部材と、前記偏光
板と前記液晶組成物層との間、又は前記液晶組成物層と
前記鏡面反射部材との間に配置され位相差板とを具備す
る反射型液晶表示素子を提供する。
Still further, according to the present invention (claim 36), the first substrate is disposed on the side to be observed, and the first electrode is formed on the one main surface, and the first substrate is the first substrate. Is arranged so as to face the main surface on which the electrode of
A liquid crystal cell having a second substrate having an electrode and a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates and made of a nematic liquid crystal exhibiting dielectric anisotropy; Of the liquid crystal composition layer and the polarizing plate arranged between the liquid crystal composition layer and the light diffusion plate, and the liquid crystal composition layer is observed. And a retardation plate disposed between the polarizing plate and the liquid crystal composition layer, or between the liquid crystal composition layer and the specular reflection member. Provided is a reflective liquid crystal display device.

【0025】以下、本発明の液晶表示素子の構成及び作
用について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各
図において、同符号の部分は、同様の部分を示す。
Hereinafter, the structure and operation of the liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the part of the same sign shows the same part.

【0026】本発明の第1の態様に係る液晶表示素子
は、非変調部の一部又は全部の領域に、白色反射層を設
けたことを特徴とする。
The liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention is characterized in that a white reflective layer is provided in a part or the whole of the non-modulation section.

【0027】かかる特徴を有する本発明の第1の態様に
係る液晶表示素子の具体的態様としては、以下のものが
挙げられる。
The following are specific examples of the liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention having the above characteristics.

【0028】(1)白色反射層は、第1の基板の前記第
1の電極が形成されている主面に形成されている反射型
液晶表示素子。
(1) In the reflective liquid crystal display element, the white reflective layer is formed on the main surface of the first substrate on which the first electrode is formed.

【0029】(2)白色反射層が、白色顔料を分散した
レジスト材料からなる反射型液晶表示素子。
(2) A reflective liquid crystal display device in which the white reflective layer is made of a resist material in which a white pigment is dispersed.

【0030】(3)(2)において、白色顔料が、Ti
2 を主成分としたものからなる反射型液晶表示素子。
(3) In (2), the white pigment is Ti
A reflection type liquid crystal display device composed mainly of O 2 .

【0031】(4)第1及び第2の基板の少なくとも一
方はカラーフィルターを有しており、このカラーフィル
ターの着色層以外の部分に対応する、基板の電極が形成
されている主面の側に、白色反射層が設けられている反
射型液晶表示素子。
(4) At least one of the first and second substrates has a color filter, and the side of the main surface of the substrate corresponding to the portion other than the colored layer of the substrate on which the electrodes are formed. A reflective liquid crystal display element in which a white reflective layer is provided on the.

【0032】(5)液晶組成物が、2色性染料を含有す
る反射型液晶表示素子。
(5) A reflective liquid crystal display device in which the liquid crystal composition contains a dichroic dye.

【0033】(6)液晶組成物が、黒色染料を含有する
正の誘電異方性を示すネマティック液晶であり、前記第
1及び第2の基板間においてホモジニアス分子配列して
おり、前記第2の基板の側に、4分の1波長板及び第2
の反射板が配置されている反射型液晶表示素子。
(6) The liquid crystal composition is a nematic liquid crystal containing a black dye and exhibiting positive dielectric anisotropy, and has homogeneous molecular alignment between the first and second substrates, and the second On the side of the substrate, a quarter wave plate and a second
A reflective liquid crystal display device in which the reflector of is arranged.

【0034】(7)白色反射層が、第1及び第2の基板
の間隙を制御する基板間隙材を兼ねることを特徴とする
反射型液晶表示素子。
(7) A reflective liquid crystal display device characterized in that the white reflective layer also serves as a substrate gap material for controlling the gap between the first and second substrates.

【0035】図7は、非変調部の一部または全部の領域
に前記白色反射層を設けた液晶セル構造を説明したもの
である。すなわち、観測側の上基板11は内面に白色反
射層20とストライプ状透明電極13を有し、対向基板
である下基板12は、面上にMIMスイッチング素子1
8をもつ画素電極14を多数配列している。両基板の電
極側の面には配向膜16,17が形成され、基板間に液
晶層15が挟持されている。さらに下基板12の外面に
拡散反射板30が貼付されて、反射型液晶表示素子10
が構成される。
FIG. 7 illustrates a liquid crystal cell structure in which the white reflective layer is provided in a part or the whole of the non-modulation part. That is, the upper substrate 11 on the observation side has the white reflective layer 20 and the stripe-shaped transparent electrode 13 on the inner surface, and the lower substrate 12, which is the counter substrate, has the MIM switching element 1 on the surface.
A large number of pixel electrodes 14 having 8 are arranged. Alignment films 16 and 17 are formed on the electrode-side surfaces of both substrates, and a liquid crystal layer 15 is sandwiched between the substrates. Further, a diffuse reflection plate 30 is attached to the outer surface of the lower substrate 12, and the reflection type liquid crystal display element 10
Is configured.

【0036】電極領域は、印加電圧により液晶が応答
し、光反射量を変調する領域であり、変調部Aを構成す
る。その他の部分は光反射量を制御できない領域であ
り、非変調部Bを構成する。この非変調部Bは、電極間
の間隙であるスペース部21と電極13を動作させる配
線部22の占める領域である。白色反射層20がこの非
変調部Bの上基板内面のストライプ状電極13間に設け
られる。
The electrode region is a region where the liquid crystal responds to the applied voltage and modulates the light reflection amount, and constitutes the modulation section A. The other part is a region where the amount of light reflection cannot be controlled, and constitutes the non-modulation part B. The non-modulation portion B is an area occupied by the space portion 21 which is a gap between the electrodes and the wiring portion 22 which operates the electrode 13. The white reflective layer 20 is provided between the striped electrodes 13 on the inner surface of the upper substrate of the non-modulation portion B.

【0037】白色反射層20は、例えばMgOを主成分
とした白色顔料であり、いわゆる完全拡散反射に近い反
射特性を示すものが望ましい。完全拡散反射とは、入射
光Liの入射角度によらず、反射光Lrが種々の角度に
均等に反射する反射特性のことを言い、環境(入射光の
方位別隔たり)によらず、どのような角度においても高
輝度を得る反射特性のことを言う。つまり、本発明の液
晶表示素子の非変調部の一部または全部の領域に用いる
白色反射層は従来の反射型LCDの非変調部(遮光層を
設けるか、何も設けない(配線や液晶層がその領域を占
める))より、高い反射率を得ることとなる。
The white reflective layer 20 is, for example, a white pigment containing MgO as a main component, and it is desirable that the white reflective layer 20 exhibit a reflection characteristic close to so-called perfect diffuse reflection. The perfect diffuse reflection refers to a reflection characteristic in which the reflected light Lr is uniformly reflected at various angles regardless of the incident angle of the incident light Li, regardless of the environment (distance of incident light depending on the direction). It refers to the reflection characteristic that obtains high brightness even at various angles. That is, the white reflective layer used in a part or the whole of the non-modulation part of the liquid crystal display element of the present invention is the non-modulation part of the conventional reflection type LCD (a light shielding layer is provided or nothing is provided (wiring or liquid crystal layer). Occupies the area))), a higher reflectance is obtained.

【0038】前述したように、反射型LCDに最も要求
される性能は、明るさ、つまり反射率である。従来、透
過型LCDにおいては、コントラスト比特性を高めるた
めに、非変調部には遮光層を設けるといったことを行っ
ているが、反射型LCDにおいて、この非変調部に対
し、明るさ、つまり反射率特性を高めるような策は取ら
れていなかった。このため、変調部と非変調部を合わせ
た全体の反射率は、低かった。
As described above, the most required performance of the reflective LCD is brightness, that is, reflectance. Conventionally, in a transmissive LCD, a light-shielding layer is provided in the non-modulation section in order to improve the contrast ratio characteristic. No measures were taken to improve the rate characteristics. Therefore, the total reflectance of the modulated portion and the non-modulated portion was low.

【0039】これに対し、本発明では前記非変調部に反
射率の著しく高い白色反射層を設けており、非変調部で
は、変調部の状態に拘らず、常に高い反射を得る。よっ
て、全体の反射率は、前記白色反射層を設けない場合と
比較して著しく向上する。
On the other hand, in the present invention, the non-modulation portion is provided with the white reflection layer having a remarkably high reflectance, and the non-modulation portion always obtains high reflection regardless of the state of the modulation portion. Therefore, the overall reflectance is significantly improved as compared with the case where the white reflective layer is not provided.

【0040】白色反射層は、前述したように従来の反射
型LCDの非変調部より高い反射率を得るように層厚や
配置を構成すれば、前述した効果が得られる。例えば、
図8に示すように、比較的表示パターンの大きい7セグ
メント23からなるキャラクター表示に応用する場合、
非変調部Bの観察側基板11の外面に十分な完全拡散反
射特性が得られる層厚で白色反射層20を設ければ良
い。しかしながら、表示パターンが基板11の板厚よ
り、微細な高精細パターンであるものにおいては、基板
厚による視差を防ぐために、図7に示すように基板内面
に白色反射層20を設けることが望ましい。
As described above, if the white reflective layer has a layer thickness and arrangement so as to obtain a reflectance higher than that of the non-modulation portion of the conventional reflective LCD, the above-described effect can be obtained. For example,
As shown in FIG. 8, when applied to a character display consisting of 7 segments 23 having a relatively large display pattern,
The white reflective layer 20 may be provided on the outer surface of the observation side substrate 11 of the non-modulation section B with a layer thickness that can obtain sufficient complete diffuse reflection characteristics. However, in the case where the display pattern is a high-definition pattern that is finer than the plate thickness of the substrate 11, it is desirable to provide the white reflective layer 20 on the inner surface of the substrate as shown in FIG. 7 in order to prevent parallax due to the substrate thickness.

【0041】前述したように、本発明の効果は従来の反
射型LCDの非変調部より高い反射率を得るように白色
反射層の層厚や配置を構成すれば、層厚に関わりなく得
られるものであるので、層厚は液晶層厚(基板間隙)に
及ぶ必要はなく、前記白色反射層を基板作成工程にて一
方の基板に形成する製造方法とする場合、液晶層での光
吸収を避けるために観察側の基板内面に設けた方が良
い。特に液晶層にて光吸収量の多い染料添加型反射型L
CDにおいては、前記構成とする効果が大きく、中でも
電圧無印加時に暗状態を示すNBモードでは、液晶層で
の光吸収量が極めて高いので、その効果は大である。
As described above, the effect of the present invention can be obtained irrespective of the layer thickness by configuring the layer thickness and arrangement of the white reflective layer so as to obtain a higher reflectance than the non-modulation part of the conventional reflective LCD. Therefore, the layer thickness does not have to reach the liquid crystal layer thickness (substrate gap), and when the manufacturing method in which the white reflective layer is formed on one of the substrates in the substrate manufacturing process, light absorption in the liquid crystal layer is prevented. In order to avoid it, it is better to provide it on the inner surface of the substrate on the observation side. Dye-added reflective type L, which absorbs a lot of light especially in the liquid crystal layer
In the CD, the above-mentioned effect is great, and in the NB mode, which shows a dark state when no voltage is applied, the amount of light absorption in the liquid crystal layer is extremely high, and therefore the effect is great.

【0042】また、本発明をマトリクス型LCDに応用
する場合、前記非変調部Bには、必然的に配線が設けら
れることとなる。ここに配線とは、変調部に電圧等を印
加するためにセル外部と変調部の電極を接続するために
設けられた導電体である。例えば単純マトリクス構造の
電極構成の場合、図9に示すように、一画素を構成する
領域24内の電極パターンのうち、上下電極13,14
の交差部(変調部A)以外の導電体領域131 ,141
のことを指す。
When the present invention is applied to a matrix type LCD, the non-modulation section B is necessarily provided with wiring. Here, the wiring is a conductor provided for connecting the outside of the cell and the electrode of the modulation section to apply a voltage or the like to the modulation section. For example, in the case of an electrode structure of a simple matrix structure, as shown in FIG. 9, the upper and lower electrodes 13 and 14 of the electrode pattern in the region 24 that constitutes one pixel are
Conductor regions 13 1 and 14 1 other than the intersecting portion (modulation portion A) of
Refers to.

【0043】前述した全体の反射率を最も向上させるに
は、前記白色反射層は、平面的に見て、表示領域内の非
変調部B全域に設ければ良いこととなる。
In order to maximize the above-mentioned overall reflectance, the white reflective layer should be provided in the entire non-modulation section B in the display area when seen in a plan view.

【0044】しかしながら、図10に示すような、MI
M素子18付きマトリクス基板11を用いる場合、一般
的には配線22には遮光性のある導電物(例えばAl)
を用いる。このように配線に遮光性のある材料を用い、
この基板に白色反射層20を表示領域内の非変調部B全
域に機能するように設けるためには、前記配線の下層に
白色反射層を設けなければならない。
However, MI as shown in FIG.
When the matrix substrate 11 with the M element 18 is used, the wiring 22 is generally made of a light-shielding conductive material (eg, Al).
To use. In this way, use a light-shielding material for the wiring,
In order to provide the white reflective layer 20 on this substrate so as to function over the entire non-modulation part B in the display area, the white reflective layer must be provided under the wiring.

【0045】しかしながら、前記配線の下層に設けるに
は、白色反射層20の上に配線層22を形成する必要が
あり、配線のパターン形成工程において、白色反射層材
料への耐性が求められる。したがって、マトリクス型L
CDにおいては、実用的に図10に示すように、表示領
域内の非変調部B(画素電極13以外の領域)の内、配
線部22以外の領域すなわちスペース部21にのみ、前
記白色反射層20を設けた構造とすると、配線のパター
ン形成工程での白色反射層材料への耐性を必要としなく
なる。
However, in order to provide the lower layer of the wiring, it is necessary to form the wiring layer 22 on the white reflective layer 20, and the resistance to the white reflective layer material is required in the wiring pattern forming step. Therefore, the matrix type L
In the CD, as shown in FIG. 10, practically, in the non-modulation section B (area other than the pixel electrode 13) in the display area, only in the area other than the wiring section 22, that is, in the space section 21, the white reflective layer is formed. With the structure provided with 20, it is not necessary to have resistance to the white reflective layer material in the wiring pattern forming step.

【0046】また、本発明に用いる白色反射層は、強い
拡散反射が得られるものであれば、効果が得られること
は言うまでもない。こうした、強い拡散反射が得られる
材料としては、アルミナ(酸化アルミニウム)、前述し
たMgO(酸化マグネシウム)等が適用できるが、特に
材料として白色顔料を分散したレジスト材料を用いれ
ば、前記白色反射層のパターン形成工程において、前記
白色反射層材料そのものを露光、現像するだけで形成で
きる。したがって、別途レジスト材料を用いて露光、現
像したのちに、エッチングを必要とする材料に比べ、工
程が簡略化できる。この白色顔料に用いる材料として
は、分散性の点でTiO2 が特に優れる。本発明の白色
反射層に白色顔料を分散したレジスト材料を用いる場合
も、同様にTiO2 が特に優れる。
It is needless to say that the white reflective layer used in the present invention can obtain the effect as long as it can obtain strong diffuse reflection. Alumina (aluminum oxide), the above-mentioned MgO (magnesium oxide), or the like can be applied as the material capable of obtaining such a strong diffuse reflection. Particularly, when a resist material in which a white pigment is dispersed is used as the material, the white reflective layer In the pattern forming step, the white reflective layer material itself can be formed simply by exposing and developing it. Therefore, the process can be simplified as compared with a material that requires etching after exposure and development using a resist material separately. As a material used for this white pigment, TiO 2 is particularly excellent in terms of dispersibility. TiO 2 is also particularly excellent when a resist material in which a white pigment is dispersed is used in the white reflective layer of the present invention.

【0047】また、カラーフィルターを用いてカラー表
示を行う反射型LCDに本発明を適用する場合、変調部
とほぼ同形の着色層を形成し、この着色層以外の領域に
前記白色反射層を設ければ、前記着色層の層厚により生
じる表面段差を、前記白色反射層で解消することが可能
となる。また、白色反射層を白色顔料を分散したレジス
ト材料にて形成する場合、前記着色層自体をフォトマス
クとして裏面露光によりパターニングすることも可能と
なる。また、着色層以外の領域に白色反射層を設けるこ
とにより、前述した全体の反射率を向上させる効果の
他、非変調部の色付きを防止できる効果も得られる。
Further, when the present invention is applied to a reflective LCD that performs color display using a color filter, a colored layer having substantially the same shape as the modulation portion is formed, and the white reflective layer is provided in a region other than this colored layer. In this case, it is possible to eliminate the surface step caused by the thickness of the colored layer by the white reflective layer. Further, when the white reflective layer is formed of a resist material in which a white pigment is dispersed, it is possible to perform patterning by back surface exposure using the colored layer itself as a photomask. Further, by providing the white reflective layer in the area other than the colored layer, in addition to the effect of improving the overall reflectance described above, the effect of preventing coloring of the non-modulated portion can be obtained.

【0048】本発明の第1の態様の効果は、種々の反射
型LCDにおいて得られるが、特に、液晶層に染料が添
加されている方式(液晶材料に染料を添加することから
一般的にゲストホスト(GH)型LCDと呼ばれる)に
応用すれば、その効果は大きい。液晶層に染料が添加さ
れている方式は、液晶層での光吸収度合いが、染料が添
加されている分、高いからである。
The effect of the first aspect of the present invention can be obtained in various reflective LCDs. In particular, a method in which a dye is added to the liquid crystal layer (because the dye is added to the liquid crystal material is generally used as a guest If it is applied to a host (GH) type LCD, the effect is great. The reason why the dye is added to the liquid crystal layer is that the degree of light absorption in the liquid crystal layer is high because the dye is added.

【0049】前述したように図3、4にも示した従来の
GH型LCDは、1層の液晶層(1枚のセル)で、高い
コントラスト比が得られ、且つ液晶層1層で表示を得る
機能をもっているので、変調部の反射率も高い。よっ
て、染料として黒色の染料を用い、4分の1波長板とし
て可視光波長全域に対して、各波長の4分の1波長の位
相差が得られる4分の1波長板(例えば異なる2種の材
料からなる延伸フィルムを光軸をずらして積層し、それ
ぞれの位相差の波長依存性をくみあわせて、すべての波
長に対し4分の1波長の位相差が得られるようにすれば
いい。)を用いれば、変調部では極めて高いコントラス
ト比と反射率が得られる。
As described above, in the conventional GH type LCD shown in FIGS. 3 and 4, a high contrast ratio is obtained with one liquid crystal layer (one cell), and display is performed with one liquid crystal layer. Since it has a function to obtain, the reflectance of the modulator is also high. Therefore, a black dye is used as the dye, and as the quarter wavelength plate, a quarter wavelength plate (for example, two different types) that can obtain a phase difference of a quarter wavelength of each wavelength with respect to the entire visible light wavelength range. It suffices to stack stretched films made of the above material by shifting the optical axis and combine the wavelength dependences of the respective retardations so that a quarter wavelength retardation can be obtained for all wavelengths. ), An extremely high contrast ratio and reflectance can be obtained in the modulator.

【0050】この表示モードの場合、非変調部は、変調
部の状態に拘らず、常時、暗状態である。つまり、NB
モードである。よって、本発明のように非変調部に白色
反射層を設けると、全体の反射率は著しく向上する。
In this display mode, the non-modulation section is always in the dark state regardless of the state of the modulation section. That is, NB
Mode. Therefore, when the white reflective layer is provided in the non-modulation portion as in the present invention, the overall reflectance is significantly improved.

【0051】図10に示す本発明の構成は、観察側の基
板11としてMIM素子付きドットマトリクス基板を用
い、配線部、変調部以外の領域、つまりスペース部21
全域に白色反射層20を設けているが、この白色反射層
20付き基板11を図11(a)〜図12(c)に示す
製法で作成する。
In the configuration of the present invention shown in FIG. 10, a dot matrix substrate with an MIM element is used as the substrate 11 on the observation side, and a region other than the wiring portion and the modulation portion, that is, the space portion 21.
Although the white reflective layer 20 is provided over the entire area, the substrate 11 with the white reflective layer 20 is prepared by the manufacturing method shown in FIGS. 11A to 12C.

【0052】工程(I) 観測側基板11の一表面にM
IM素子18および配線22を形成する(図11
(a))。
Step (I) M is formed on one surface of the observation side substrate 11.
The IM element 18 and the wiring 22 are formed (FIG. 11).
(A)).

【0053】工程(II) スパッタリング法によりイン
ジウムすず酸化物(ITO)膜13aを基板表面に成膜
する。このITO膜13a上にレジスト膜25aを塗布
により被着する(図11(b))。
Step (II) An indium tin oxide (ITO) film 13a is formed on the surface of the substrate by the sputtering method. A resist film 25a is applied on the ITO film 13a by coating (FIG. 11B).

【0054】工程(III ) レジスト膜25aをマスク
パターン26を介して紫外線UVで露光し、後工程で画
素電極13となるITO膜上のレジスト膜23のみを残
して現像する(図11(c))。
Step (III) The resist film 25a is exposed to ultraviolet UV through the mask pattern 26, and is developed while leaving only the resist film 23 on the ITO film which will be the pixel electrode 13 in the subsequent step (FIG. 11C). ).

【0055】工程(IV) 次にレジスト膜25をマスク
としてITO膜13aをエッチングして画素電極部分の
みからなる電極パターンを形成する(図12(a))。
Step (IV) Next, the ITO film 13a is etched by using the resist film 25 as a mask to form an electrode pattern consisting of only pixel electrode portions (FIG. 12A).

【0056】工程(V) 基板全面にTiO2 を混入し
たレジスト膜20aを塗布により被着する(図12
(b))。
Step (V) A resist film 20a containing TiO 2 is applied to the entire surface of the substrate by coating (FIG. 12).
(B)).

【0057】工程(VI) 画素電極13上のレジスト膜
25を剥離し、同時に画素電極上に塗布されたTiO2
を混入したレジスト膜20aを取り除く。この結果、画
素電極13上を除く領域すなわち非変調部Bに白色反射
層20が形成される(図12(c))。
Step (VI) The resist film 25 on the pixel electrode 13 is peeled off, and at the same time, TiO 2 is applied on the pixel electrode.
The resist film 20a mixed with is removed. As a result, the white reflective layer 20 is formed in the area other than the pixel electrode 13, that is, in the non-modulation portion B (FIG. 12C).

【0058】このように、配線22や、画素電極13の
パターン形成は、フォトリソグラフィーにておこなって
おり、用いているレジストはポジ型(紫外線が照射され
た領域のみが現像工程で除去されるタイプのレジスト)
である。図11(a)〜12(c)に示す製法の特徴
は、配線部、変調部のパターン形成工程に用いたレジス
トを剥離せず、この上に、白色反射層の材料を塗布し、
しかる後、前記配線部、変調部のパターン形成工程に用
いたレジストを剥離することにより、前記配線部、変調
部のパターン形成工程に用いたレジスト上の白色反射層
のみを前記レジストと同時に剥離することにより、配線
部、変調部以外の領域に前記白色反射層をパターン形成
することができる。
As described above, the pattern of the wiring 22 and the pixel electrode 13 is formed by photolithography, and the resist used is a positive type (a type in which only the region irradiated with ultraviolet rays is removed in the developing process). Resist)
Is. The features of the manufacturing method shown in FIGS. 11A to 12C are that the resist used in the pattern forming step of the wiring portion and the modulation portion is not peeled off, and the material of the white reflective layer is applied on the resist.
Then, by removing the resist used in the pattern forming process of the wiring part and the modulation part, only the white reflective layer on the resist used in the pattern forming process of the wiring part and the modulation part is removed simultaneously with the resist. As a result, the white reflective layer can be pattern-formed in the area other than the wiring portion and the modulation portion.

【0059】以上のように他のパターン形成工程に用い
たレジストを剥離せずその上に膜形成を行い、前記レジ
ストを剥離することによりその上に形成した膜のパター
ン形成を行うことを、一般的にはリフトオフ法と呼ばれ
ている。本発明の第1の態様に係る液晶表示素子におい
て、この方法を用いて前記白色反射層を形成すれば、白
色反射層のパターン形成のための現像、露光工程が必要
なくなるため、安い製造コストにて製造できるようにな
る。また、前記白色反射層のパターンと変調部、配線部
との合わせ精度も十分に得られる。これは、個々に現
像、露光工程をおこなっていないからである。このリフ
トオフ法は変調部以外の全域に白色反射層のパターン形
成を行う場合や、カラーフィルターの着色層以外の領域
にパターン形成を行う場合であっても、変調部やカラー
フィルターの着色層がポジ型レジストを用いたフォトリ
ソグラフィー法にて行うものであれば、同様の作用、効
果が得られる。
As described above, it is general practice to form a film on the resist used for the other pattern forming process without peeling it off, and to pattern the film formed thereon by peeling off the resist. Traditionally, it is called the lift-off method. In the liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention, if the white reflective layer is formed by using this method, the development and exposure steps for forming the pattern of the white reflective layer are not required, which leads to a low manufacturing cost. Can be manufactured. In addition, it is possible to sufficiently obtain the alignment accuracy of the pattern of the white reflective layer with the modulation section and the wiring section. This is because the development and exposure steps are not performed individually. In this lift-off method, even when the white reflective layer is patterned on the entire area other than the modulation section or when the pattern is formed on the area other than the coloring layer of the color filter, the modulation section and the coloring layer of the color filter are positive. The same action and effect can be obtained by the photolithography method using the mold resist.

【0060】また、図13に示すように、本発明に用い
る白色反射層20をセル内面に形成し、前記白色反射層
の層厚を所望の液晶組成物15の層厚とすれば、前記白
色反射層は基板間隙材の機能を得る。この場合、基板間
隙材としていわゆる粒状スペーサーを基板全域に散布す
る方式と比較して、工程が簡略化できる上、変調部への
影響が防止できる。
Further, as shown in FIG. 13, if the white reflective layer 20 used in the present invention is formed on the inner surface of the cell and the layer thickness of the white reflective layer is the desired layer thickness of the liquid crystal composition 15, the white layer is obtained. The reflective layer has the function of a substrate gap material. In this case, compared with a method in which so-called granular spacers are scattered as the substrate gap material over the entire substrate, the process can be simplified and the influence on the modulation portion can be prevented.

【0061】以上、本発明の第1の態様に係る液晶表示
装置の作用について、構成の一例等を用いて説明してき
たが、本発明の第1の態様の作用、効果はこれらの一例
にとらわれることがなく、本発明の第1の態様の特徴を
得る構成、材料、製法であれば、同様の作用、効果が得
られることは言うまでもない。例えば、用いる基板とし
ては、TFT素子の付いたドットマトリクス基板でも、
同様の作用、効果が得られる。また、白色反射層は多少
色みがかっていても、変調部の明状態の反射率または従
来技術の非変調部より高い反射率を得るものであれば、
一定の効果が得られることは本発明の作用から明白であ
る。本発明の第1の態様は、従来技術として代表的に説
明した種々の型の液晶表示素子に適用することができる
ものである。
The operation of the liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention has been described above by using an example of the configuration, but the operation and effect of the first aspect of the present invention are limited to these examples. Needless to say, the same action and effect can be obtained as long as the configuration, material, and manufacturing method obtain the characteristics of the first aspect of the present invention. For example, as the substrate to be used, even a dot matrix substrate with a TFT element,
Similar actions and effects can be obtained. In addition, even if the white reflective layer has a slight tint, if the reflectance of the modulated portion in the bright state or the reflectance higher than that of the conventional non-modulated portion is obtained,
It is clear from the operation of the present invention that a certain effect can be obtained. The first aspect of the present invention can be applied to various types of liquid crystal display elements typically described as the prior art.

【0062】以上説明したように、非変調部に白色の反
射層、つまり拡散反射層を設けることにより、素子の反
射率及びコントラスト比は向上するが、拡散反射層を分
離して、光拡散層と反射層とに分離したのが、第2及び
第3の態様である。これらの態様では、コントラスト比
が更に向上し、視角特性も向上する。
As described above, the reflectance and the contrast ratio of the element are improved by providing the white reflective layer, that is, the diffuse reflective layer in the non-modulation part. However, the diffuse reflective layer is separated and the light diffusing layer is separated. The second and third aspects are separated into a reflective layer and a reflective layer. In these modes, the contrast ratio is further improved and the viewing angle characteristics are also improved.

【0063】このうち、観察側(第1の)基板に光拡散
層を設け、対向側(第2の)基板に鏡面反射層を設けた
のが、第2の態様であり、観察側(第1の)基板に光拡
散層と鏡面反射層を設けたのが、第3の態様である。
Of these, in the second mode, the light diffusion layer is provided on the observation side (first) substrate, and the specular reflection layer is provided on the opposite side (second) substrate. In the third aspect, the light diffusion layer and the specular reflection layer are provided on the substrate (1).

【0064】本発明の第2の態様に係るGH型液晶表示
素子において、液晶組成物は、2色性黒色系染料を含有
する誘電率異方性を有するネマティック液晶であるが、
この液晶分子が、暗状態を得るとき、反射層または反射
板により反射し、1/4波長位相差板により直線偏光と
なった光を吸収する検光子としての機能を果たすので、
明暗のコントラストの高い表示が得られる。また、液晶
セルの表示観察側に光拡散板が配置されるとともに、表
示観察側から見て後方に光散乱性のない鏡面反射層また
は反射板が配置されているので、表示画面への背景の写
り込みが大幅に低減される。
In the GH type liquid crystal display device according to the second aspect of the present invention, the liquid crystal composition is a nematic liquid crystal having a dielectric anisotropy containing a dichroic black dye,
When the liquid crystal molecule obtains a dark state, it functions as an analyzer that reflects the light reflected by the reflection layer or the reflection plate and absorbs the linearly polarized light by the quarter-wave retardation plate.
A display with high contrast of light and dark can be obtained. Further, since the light diffusion plate is arranged on the display observation side of the liquid crystal cell, and the specular reflection layer or the reflection plate having no light scattering property is arranged behind the display observation side, the background of the display screen The reflection is greatly reduced.

【0065】また、液晶層と光拡散板との間に偏光板を
1枚だけ配置する場合、2枚の偏光板が使用された従来
の液晶表示素子に比べて、光の利用効率が高く、明るい
表示画面が得られるうえに、反射板として光散乱性のな
い鏡面反射層または鏡面反射板が用いられているので、
液晶セル内で偏光の乱れが生じず、コントラストの高い
表示が実現される。また、液晶セルの表示観察側に光拡
散板が配置されているので、画面への背景の写り込みが
大幅に低減され、視角依存性のない表示が得られる。
Further, when only one polarizing plate is arranged between the liquid crystal layer and the light diffusing plate, the light utilization efficiency is higher than that of the conventional liquid crystal display device using two polarizing plates. In addition to obtaining a bright display screen, since a specular reflection layer or a specular reflection plate with no light scattering property is used as a reflection plate,
Polarization is not disturbed in the liquid crystal cell, and high-contrast display is realized. Further, since the light diffusing plate is arranged on the display observation side of the liquid crystal cell, the reflection of the background on the screen is significantly reduced, and a display having no viewing angle dependency can be obtained.

【0066】更に、偏光板と液晶層(液晶セル)との間
または液晶層と鏡面反射層等との間に、位相差板が配置
さした場合には、位相差板のリタデーション値を液晶セ
ルのそれと適切に組合わせることにより、白黒表示を実
現することができる。
Further, when the retardation plate is arranged between the polarizing plate and the liquid crystal layer (liquid crystal cell) or between the liquid crystal layer and the specular reflection layer, the retardation value of the retardation plate is set to the liquid crystal cell. It is possible to realize black and white display by properly combining it with that.

【0067】次に、本発明の第2及び第3の態様に係る
液晶表示装置の具体的態様としては、以下のものが挙げ
られる。
The following are specific examples of the liquid crystal display device according to the second and third aspects of the present invention.

【0068】(1)第2の基板のいずれかの主面に形成
された第2の反射層を更に具備する反射型液晶表示素
子。
(1) A reflective liquid crystal display element further comprising a second reflective layer formed on any one of the main surfaces of the second substrate.

【0069】(2)(1)において、第2の反射層は、
第2の基板の第2の電極が形成されている主面の少なく
とも一部に形成されている反射型液晶表示素子。
(2) In (1), the second reflective layer is
A reflective liquid crystal display element formed on at least a part of a main surface of a second substrate on which a second electrode is formed.

【0070】(3)(2)において、第2の反射層は、
第2の電極が兼ねている反射型液晶表示素子。
(3) In (2), the second reflective layer is
A reflective liquid crystal display element that also serves as a second electrode.

【0071】(4)(1)において、第2の反射層は、
第2の電極上に形成されている反射型液晶表示素子。
(4) In (1), the second reflective layer is
A reflective liquid crystal display element formed on the second electrode.

【0072】(5)(1)において、第2の反射層は、
第2の基板の第2の電極が形成されている主面とは反対
側の主面の少なくとも一部に形成されている反射型液晶
表示素子。
(5) In (1), the second reflective layer is
A reflective liquid crystal display element formed on at least a part of a main surface of the second substrate opposite to the main surface on which the second electrode is formed.

【0073】(6)(1)において、第2の反射層は、
Al又はAgを主成分として含む反射型液晶表示素子。
(6) In (1), the second reflective layer is
A reflective liquid crystal display device containing Al or Ag as a main component.

【0074】(7)第1及び第2の基板のいずれか一方
の電極が形成されている側に、カラ−フィルタ−を具備
する反射型液晶表示素子。
(7) A reflective liquid crystal display device having a color filter on the side of one of the first and second substrates on which the electrode is formed.

【0075】(8)前記カラ−フィルタ−は、前記光拡
散層上に配置され、前記反射層は前記カラ−フィルタ−
上に配置されている反射型液晶表示素子。
(8) The color filter is arranged on the light diffusing layer, and the reflecting layer is the color filter.
A reflective liquid crystal display element arranged above.

【0076】(9)光拡散層は、屈折率の異なる第1及
び第2の透明屈折率媒体からなる反射型液晶表示素子。
(9) In the reflective liquid crystal display element, the light diffusing layer is composed of first and second transparent refractive index media having different refractive indexes.

【0077】(10)(9)において、第1の透明屈折
率媒体は、ポリスチレン、SiO2、及びポリイミドか
らなる群から選ばれた材料を主成分として含有し、前記
第2の透明屈折率媒体は、前記第1の透明屈折率媒体の
溶媒であるアクリル系材料を主成分として含有する反射
型液晶表示素子。
(10) In (9), the first transparent refractive index medium contains a material selected from the group consisting of polystyrene, SiO 2 , and polyimide as a main component, and the second transparent refractive index medium is Is a reflection type liquid crystal display device containing as a main component an acrylic material which is a solvent of the first transparent refractive index medium.

【0078】(11)(9)において、第1及び第2の
透明屈折率媒体は、前記液晶組成物の平均屈折率±10
%の範囲内の屈折率を有する反射型液晶表示素子。
(11) In (9), the first and second transparent refractive index media have an average refractive index of ± 10 of the liquid crystal composition.
A reflective liquid crystal display device having a refractive index within the range of%.

【0079】(12)(11)において、第1の透明屈
折率媒体は、前記液晶組成物の常光屈折率とほぼ等しい
か又は近似する屈折率を有し、第2の透明屈折率媒体
は、液晶組成物の異常屈折率とほぼ等しいか又は近似す
る屈折率を有する反射型液晶表示素子。
(12) In (11), the first transparent refractive index medium has a refractive index which is substantially equal to or close to the ordinary refractive index of the liquid crystal composition, and the second transparent refractive index medium is A reflective liquid crystal display device having a refractive index that is substantially equal to or close to the extraordinary refractive index of the liquid crystal composition.

【0080】(13)(11)において、光拡散層は、
第1及び第2の透明屈折率媒体を略平面的に配置してな
る回折格子である反射型液晶表示素子。
(13) In (11), the light diffusion layer is
A reflection type liquid crystal display element, which is a diffraction grating formed by arranging first and second transparent refractive index media substantially in a plane.

【0081】(14)(13)において、回折格子は、
第1及び第2の透明屈折率媒体をチェック状に配置して
なる反射型液晶表示素子。
(14) In (13), the diffraction grating is
A reflective liquid crystal display device comprising first and second transparent refractive index media arranged in a check pattern.

【0082】(15)(11)において、第1の透明屈
折率媒体は、ポリスチレン、SiO2 、及びポリイミド
からなる群から選ばれた材料を主成分として含有し、液
晶組成物の常光屈折率とほぼ等しいか又は近似する屈折
率を有し、第2の透明屈折率媒体は、ITO及び窒化珪
素からなる群から選ばれた材料を主成分として含有し、
第2の透明屈折率媒体の屈折率と第1の透明屈折率媒体
との差δnと光拡散層の層厚Dを乗じた値δnDが0.
1μm〜0.4μmであり、光拡散層は、第1及び第2
の透明屈折率媒体を平面的にチェック状に配置してなる
回折格子である反射型液晶表示素子。
(15) In (11), the first transparent refractive index medium contains as a main component a material selected from the group consisting of polystyrene, SiO 2 , and polyimide, and has the ordinary refractive index of the liquid crystal composition. The second transparent refractive index medium has a refractive index that is substantially equal to or close to that of the second transparent refractive index medium containing as a main component a material selected from the group consisting of ITO and silicon nitride,
A value δnD obtained by multiplying the difference δn between the refractive index of the second transparent refractive index medium and the first transparent refractive index medium by the layer thickness D of the light diffusion layer is 0.
1 μm to 0.4 μm, and the light diffusion layer includes the first and second light diffusion layers.
A reflective liquid crystal display element, which is a diffraction grating formed by arranging the transparent refractive index mediums in a check pattern on a plane.

【0083】(16)(1)において、第2の反射層
は、Al又はAgを主成分として含み、光拡散層は、2
種類の透明な屈折率媒体からなる反射型液晶表示素子。
(16) In (1), the second reflective layer contains Al or Ag as a main component, and the light diffusion layer is 2
A reflective liquid crystal display element made of a transparent index medium of one kind.

【0084】(17)液晶組成物は、二色性染料を含有
する反射型液晶表示素子。
(17) The liquid crystal composition is a reflective liquid crystal display device containing a dichroic dye.

【0085】(18)液晶組成物が、黒色染料を含有す
る正の誘電異方性を示すネマティック液晶であり、第1
及び第2の基板間においてホモジニアス分子配列してお
り、第2の基板の側に、4分の1波長板及び第2の反射
板が配置されている反射型液晶表示素子。
(18) The liquid crystal composition is a nematic liquid crystal containing a black dye and exhibiting positive dielectric anisotropy.
And a reflective liquid crystal display element in which homogeneous molecules are arranged between the second substrates, and a quarter-wave plate and a second reflecting plate are arranged on the second substrate side.

【0086】(19)(17)において、4分の1波長
板及び第2の反射板は、第2の基板の第2の電極が形成
されている主面の側に配置されている反射型液晶表示素
子。(20)液晶組成物は、光反射機能を有し、第1の
反射層を兼ねる反射型液晶表示素子。
(19) In (17), the quarter-wave plate and the second reflection plate are of the reflection type arranged on the side of the main surface of the second substrate on which the second electrode is formed. Liquid crystal display device. (20) The liquid crystal composition is a reflective liquid crystal display device having a light reflecting function and also serving as the first reflective layer.

【0087】(21)(20)において、液晶組成物
は、高分子分散型液晶組成物である反射型液晶表示素
子。
(21) In the reflective liquid crystal display device according to (20), the liquid crystal composition is a polymer dispersion type liquid crystal composition.

【0088】(22)(21)において、高分子分散型
液晶組成物は、エマルジョン型高分子分散型液晶組成物
である反射型液晶表示素子。
(22) In the reflective liquid crystal display device according to (21), the polymer dispersed liquid crystal composition is an emulsion polymer dispersed liquid crystal composition.

【0089】(23)薄膜タランジスタ及び薄膜ダイオ
−ドのいずれか一方を有するアクティブマトリックス型
液晶表示素子である反射型液晶表示素子。
(23) A reflective liquid crystal display device which is an active matrix liquid crystal display device having one of a thin film transistor and a thin film diode.

【0090】(24)(23)において、第1の反射層
は、薄膜タランジスタ及び薄膜ダイオ−ドのいずれか一
方の配線機能を有する反射型液晶表示素子。
(24) In the reflection type liquid crystal display element having the wiring function of either the thin film transistor or the thin film diode, the first reflecting layer is the thin film transistor.

【0091】(25)第2の基板の第2の電極が形成さ
れている主面とは反対側には、凹面鏡反射レンズからな
る反射板が配置されている反射型液晶表示素子。
(25) A reflection type liquid crystal display element in which a reflection plate composed of a concave mirror reflection lens is arranged on the side of the second substrate opposite to the main surface on which the second electrode is formed.

【0092】次に、本発明の第2及び第3の態様の原理
について説明する。
Next, the principles of the second and third aspects of the present invention will be described.

【0093】光拡散層は、入射した光を拡散させるため
のものである。入射した光を拡散させるためには、図3
5に示すように2種類以上の屈折率媒体を3次元的に配
置し、媒体間の屈折率の差によって光を折り曲げればよ
い。この3次元的な配置構成を多方位(ランダム)にす
ればするほど、拡散性は高まる。また、媒体間の屈折率
差がおおきいほど、光はおおきく折り曲がるので、拡散
性が高まる。拡散性が高いほど、液晶表示素子の視角特
性は高まる。但し、明るさは平均化されるので、一方位
から観察した場合の明るさは、低下する場合がある。
The light diffusion layer is for diffusing incident light. In order to diffuse the incident light,
As shown in FIG. 5, two or more kinds of refractive index media may be arranged three-dimensionally, and light may be bent according to the difference in the refractive index between the media. The more multi-directional (random) this three-dimensional arrangement is, the higher the diffusivity is. Further, the larger the difference in the refractive index between the media, the more the light is bent, so that the diffusivity is enhanced. The higher the diffusivity, the higher the viewing angle characteristics of the liquid crystal display element. However, since the brightness is averaged, the brightness when viewed from one side may decrease.

【0094】このように、2種以上の屈折率媒体を3次
元的に配置し、媒体間の屈折率差によって光を折り曲げ
る光拡散方法(屈折効果)を実行する例としては、主成
分がポリスチレン、SiOx、ポリイミド、ITO、S
iNx等からなる微粒子を、屈折率の異なる媒体(例え
ばアクリル樹脂)に分散させる手法がある。また、他の
例としては、PDLC等の高分子ポリマーに液晶を分散
させる手法がある。
In this way, as an example of executing the light diffusion method (refractive effect) in which two or more kinds of refractive index media are three-dimensionally arranged and light is bent by the refractive index difference between the media, the main component is polystyrene. , SiOx, polyimide, ITO, S
There is a method in which fine particles made of iNx or the like are dispersed in a medium having a different refractive index (for example, acrylic resin). Further, as another example, there is a method of dispersing a liquid crystal in a polymer such as PDLC.

【0095】一方、光を拡散させる別の手法として、2
種類以上の屈折率媒体を2次元的に配置し、媒体間で光
の回折現象を発生させる方法がある。例えば、図36に
示すように、2種の媒体間で位相が1ピッチずれるよう
に層厚と媒体の屈折率を制御すれば、回折格子効果によ
り光は拡散する。
On the other hand, as another method for diffusing light, 2
There is a method of arranging two or more kinds of refractive index media two-dimensionally and generating a light diffraction phenomenon between the media. For example, as shown in FIG. 36, if the layer thickness and the refractive index of the medium are controlled so that the phase shifts by one pitch between the two types of medium, the light diffuses due to the diffraction grating effect.

【0096】この回折格子効果による拡散については、
平面的(2次元的)な屈折率分布形状により光の拡散方
位が決定される。分布が2次元的に多方位であるほど、
拡散方位は多方位となる。よって、図37(a)〜
(c)に示すような、3角形、4角形を最小構成単位と
したチェック状の配置が好ましい。具体的な例として
は、前述した2種以上の屈折率媒体を3次元的に配置
し、媒体間の屈折率差によって光を折り曲げる光拡散方
法と同様に部材をパターン形成し、これと屈折率の異な
る媒体を膜として、その上に形成すればよい。
Regarding the diffusion due to the diffraction grating effect,
The diffusion direction of light is determined by the planar (two-dimensional) refractive index distribution shape. As the distribution is two-dimensionally multi-directional,
The diffusion direction is multi-direction. Therefore, FIG.
As shown in (c), a checkered arrangement in which a triangle and a quadrangle are the minimum constituent units is preferable. As a specific example, two or more kinds of refractive index mediums described above are three-dimensionally arranged, and a member is patterned in the same manner as in the light diffusion method of bending light by the difference in refractive index between the mediums. The different media may be formed as a film on the film.

【0097】これら光拡散層は、光を拡散させる機能を
得ればよいもので、この拡散層で光が反射するとコント
ラスト比が低下してしまう。液晶層による表示の制御に
関係なく光が反射すると、黒表示の輝度が上がってしま
い、結果的にコントラスト比が低下するためである。従
って、光拡散層を設計するには、反射が極力生じないよ
う設計するのが好ましい。
These light diffusion layers only have to have the function of diffusing light, and when light is reflected by this diffusion layer, the contrast ratio is lowered. This is because when the light is reflected regardless of display control by the liquid crystal layer, the brightness of black display is increased, and as a result, the contrast ratio is lowered. Therefore, in designing the light diffusing layer, it is preferable to design so that reflection does not occur as much as possible.

【0098】図38、図39は、前述した2種の光拡散
方法における光反射作用を説明したものである。図38
は屈折効果によるのもである。図39は回折効果による
ものである。光の反射作用は、いずれの場合も屈折率の
異なる媒体間の屈折率が大きい程、大きくなる。
38 and 39 illustrate the light reflecting action in the above-mentioned two types of light diffusing methods. Figure 38
Is due to the refraction effect. FIG. 39 is due to the diffraction effect. In any case, the light-reflecting effect becomes greater as the refractive index between media having different refractive indices becomes larger.

【0099】前記光拡散層は、観察基板の内外に配置さ
れることとなる。観察基板の内側(液晶層側)に配置し
た方が、光制御層(液晶層)との距離が近くなるので表
示のボケ(にじみ)がなくなるので好ましい。この場
合、前記屈折率の異なる媒体間の一つとして液晶層と光
拡散層間が生じ得る。反射を低減するためには双方の屈
折率差が小さいほどよい。
The light diffusion layer is arranged inside and outside the observation substrate. It is preferable to dispose on the inner side of the observing substrate (on the side of the liquid crystal layer) because the distance from the light control layer (the liquid crystal layer) becomes shorter and the display blurring (blurring) is eliminated. In this case, a liquid crystal layer and a light diffusion layer may be formed as one of the media having different refractive indexes. In order to reduce reflection, it is better that the difference between the two refractive indices is smaller.

【0100】ところで、図38にしめす屈折効果による
光拡散方法では、3次元的に2種類の屈折率媒体を分散
させ、屈折率差により光を拡散させている。このこと
は、前述した反射成分の度合いが屈折率差に依るもので
あることから、この方式は、光拡散性と反射成分の度合
い(=コントラスト比)がトレードオフになることを意
味する。
By the way, in the light diffusion method based on the refraction effect shown in FIG. 38, two types of refractive index media are three-dimensionally dispersed and light is diffused by the difference in the refractive index. This means that since the degree of the reflection component described above depends on the difference in the refractive index, this method makes a trade-off between the light diffusivity and the degree of the reflection component (= contrast ratio).

【0101】これに対し、図39に示す回折効果による
光拡散方法は、光入射方向に屈折率差を設ける必要がな
いので、光拡散性と反射成分の度合いは直接関連性がな
い。よって、回折効果による光拡散方法のほうが、より
好ましい光拡散層となる。
On the other hand, in the light diffusion method based on the diffraction effect shown in FIG. 39, since it is not necessary to provide a difference in refractive index in the light incident direction, the light diffusivity is not directly related to the degree of the reflection component. Therefore, the light diffusion method based on the diffraction effect becomes a more preferable light diffusion layer.

【0102】前述した光反射作用は光拡散層と他の部
材、つまり液晶層や配向膜、基板との間でも発生する。
ここでの光反射作用も小さい方が好ましい。前述したよ
うに、光反射作用は、双方の屈折率が異なる程大となる
ので、光拡散層と他の部材の屈折率差は小さいほどよ
い。光拡散層は、2種類以上の屈折率媒体からなり、拡
散効果を得るためには屈折率を必要とする。必要な屈折
率差の値については後述するが、最も好ましいのは、光
拡散層と隣接する部材(液晶層や配向膜、基板)が光拡
散層の2種の屈折率媒体の屈折率の平均率に等しくなっ
た時である。
The above-mentioned light reflecting action occurs also between the light diffusing layer and other members, that is, the liquid crystal layer, the alignment film and the substrate.
It is preferable that the light reflecting action here is also small. As described above, the light reflection effect becomes greater as the two refractive indexes differ, so the smaller the difference in refractive index between the light diffusion layer and the other member, the better. The light diffusion layer is composed of two or more kinds of refractive index media, and needs a refractive index to obtain a diffusion effect. The required value of the difference in refractive index will be described later, but the most preferable one is the average of the refractive indices of two types of refractive index media in which the member (liquid crystal layer, alignment film, substrate) adjacent to the light diffusion layer is the light diffusion layer. It is time to equal the rate.

【0103】なお、図38に示す屈折率効果による光拡
散方法によると、観察基板の内側(液晶層側)に配置し
た構成では、光拡散層と他の部材(=液晶層)の屈折率
差は、我々の実刑結果では液晶組成物の平均屈折率の±
10%以内にしないと反射成分が高くなりすぎることが
わかった。
According to the light diffusing method based on the refractive index effect shown in FIG. 38, in the structure arranged inside the observation substrate (on the liquid crystal layer side), the difference in the refractive index between the light diffusing layer and another member (= liquid crystal layer). Is the average refractive index of the liquid crystal composition ±
It was found that the reflection component becomes too high unless it is set within 10%.

【0104】図39に示す回折効果による光拡散方法を
用いる場合、その光拡散性は、次式(1)により決定さ
れる。Iの値が大きい程、光拡散性が高まる。
When the light diffusing method by the diffraction effect shown in FIG. 39 is used, the light diffusing property is determined by the following equation (1). The larger the value of I, the higher the light diffusivity.

【0105】 I〜sin2 (π・δn・D/λ)………………(1) I:光拡散性。I to sin 2 (π · δn · D / λ) (1) I: Light diffusivity.

【0106】δn:光拡散層(回折格子層)の2層の屈
折率媒体の屈折率差 D:光拡散層(回折格子層)の層厚 λ:入射光波長 入射する光、必要な光は可視光全域である。従って、δ
n・Dの設定は、可視光中心波長に合わせた設計にすれ
ばよい。λを550nmに設定すれば、式(1)の値が
25%以上となる(このことは入射光の25%以上が拡
散することを意味する)δn・Dの値は、0.1μm乃
至0.4μmとなる。本発明者らは、δn・Dがこの範
囲の値となれば、反射層が鏡面反射を得る反射層であっ
ても、光拡散機能が十分であることを実験により確認し
た。
Δn: Refractive index difference between two refractive index media of light diffusing layer (diffraction grating layer) D: Layer thickness of light diffusing layer (diffraction grating layer) λ: Incident light wavelength Incident light, necessary light is It is the entire visible light. Therefore, δ
The setting of n · D may be designed according to the central wavelength of visible light. When λ is set to 550 nm, the value of the equation (1) becomes 25% or more (which means that 25% or more of incident light is diffused), and the value of δn · D is 0.1 μm to 0 μm. It becomes 4 μm. The present inventors have confirmed by experiments that if δn · D has a value in this range, the light diffusion function is sufficient even if the reflective layer is a reflective layer that obtains specular reflection.

【0107】なお、反射層が拡散反射の場合、より光拡
散機能は高くなるので、δn・Dがこの範囲の値であれ
ば光拡散機能が十分となるのは明らかである。
Since the light diffusion function is higher when the reflection layer is diffuse reflection, it is clear that the light diffusion function is sufficient if δn · D is in this range.

【0108】また回折格子を形成する際、一方の屈折率
媒体を透明な導電物とすれば、媒体自身を電極に用いる
ことができる。具体例としては、ITO、SnOxなど
である。
When forming the diffraction grating, if one of the refractive index media is a transparent conductive material, the media itself can be used as an electrode. Specific examples are ITO and SnOx.

【0109】こうした光拡散層と反射層を分離した構成
とした場合、図39に示すように、非変調部の少なくと
も一領域の、光拡散層と液晶層の間に反射層を設けれ
ば、前述した白色の反射層を非変調部の少なくとも一領
域に設けた構成と同等の効果を得ることができる。この
場合、前述した光拡散層と反射層を分離した構成の効果
も同時に得られるので、双方の効果を得ることができ
る。
In the case where such a light diffusion layer and a reflection layer are separated, as shown in FIG. 39, if a reflection layer is provided between the light diffusion layer and the liquid crystal layer in at least one region of the non-modulation section, It is possible to obtain the same effect as the configuration in which the white reflective layer described above is provided in at least one region of the non-modulation portion. In this case, the effects of the above-described configuration in which the light diffusion layer and the reflection layer are separated can be obtained at the same time, so that both effects can be obtained.

【0110】以下、本発明の種々の実施例について、図
面を用いて詳細に説明する。
Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0111】実施例1 図14乃至図17に、本実施例の液晶表示素子を示す。Example 1 FIGS. 14 to 17 show a liquid crystal display device of this example.

【0112】0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、図
14(a)及び(b)に示すように、一方の観察側の上
基板11に、MIM素子18をもつ電極13のパターン
を作成した。図14(a)は一画素の電極形状を示して
おり、一画素は縦横180μm×180μmの寸法を有
している。図14(b)は上基板11の有効表示領域の
形状を示しており、各画素がマトリクス状に配列され
る。57.6mm×86.4mm内に画素数480×3
20が配列される。
Using two 0.7 mm thick glass substrates, as shown in FIGS. 14 (a) and 14 (b), a pattern of electrodes 13 having MIM elements 18 is formed on the upper substrate 11 on one observation side. did. FIG. 14A shows an electrode shape of one pixel, and each pixel has dimensions of 180 μm × 180 μm in length and width. FIG. 14B shows the shape of the effective display area of the upper substrate 11, in which the pixels are arranged in a matrix. Number of pixels 480 x 3 within 57.6 mm x 86.4 mm
Twenty are arranged.

【0113】図15に示すように、観察側の上基板11
にはMIM素子18と配線22および透明電極13が形
成され、透明電極13を除く領域、非変調部Bの位置に
白色反射層20が形成される。
As shown in FIG. 15, the upper substrate 11 on the observation side
The MIM element 18, the wiring 22, and the transparent electrode 13 are formed on the substrate, and the white reflective layer 20 is formed on the region excluding the transparent electrode 13 and the position of the non-modulation portion B.

【0114】一方、対向側の下基板12には複数のスト
ライプ状透明電極14が前記画素電極に対応させて平行
にならべて形成される。これら電極13,14上に配向
膜16,17が被着され、液晶組成物層15が基板間に
挟持される。
On the other hand, a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 14 are formed in parallel on the opposing lower substrate 12 so as to correspond to the pixel electrodes. Alignment films 16 and 17 are deposited on these electrodes 13 and 14, and the liquid crystal composition layer 15 is sandwiched between the substrates.

【0115】本実施例に係る液晶表示装置は、次のよう
にして製造される。
The liquid crystal display device according to this example is manufactured as follows.

【0116】即ち、まず、図14(a)に示す上基板1
1上に表面を酸化させた第1のTa層18a(表面に膜
厚1000オングストロームのTaO2 膜が設けられて
いる)を図示するようなパターンで形成し、しかる後、
第2のTa層22(膜厚1000A)を図示するように
一部が第1のTa膜18aにかかる配線パターンの形に
形成した。
That is, first, the upper substrate 1 shown in FIG.
A first Ta layer 18a whose surface is oxidized (a TaO 2 film having a film thickness of 1000 angstrom is provided on the surface) is formed on the surface of 1 in a pattern as shown in the drawing, and thereafter,
The second Ta layer 22 (thickness: 1000 A) was formed in the shape of a wiring pattern partially covering the first Ta film 18a as illustrated.

【0117】その後、基板全面にITOを2000Aの
膜厚に成膜し、レジスト材料としてポジ型のレジスト材
料(OFPR−5000、(株)東京応化製)を全面に
塗布し、60℃で30分の仮焼成を施した後、画素電極
パターンが形成できるようにマスクを用いて露光し、N
MD3溶液((株)東京応化製)で現像し、図14
(a)の参照数字13で示すITO膜の上にのみレジス
トパタ−ンが被覆した構成とした。
Thereafter, an ITO film having a thickness of 2000 A is formed on the entire surface of the substrate, and a positive resist material (OFPR-5000, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) is applied as the resist material on the entire surface, and the resist material is applied at 60 ° C. for 30 minutes. After calcination is performed, exposure is performed using a mask so that a pixel electrode pattern can be formed, and N
After development with MD3 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), FIG.
Only the ITO film indicated by reference numeral 13 in (a) is covered with the resist pattern.

【0118】次に、このレジストパタ−ンをマスクとし
て用いて、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1
・水10)によりITOのエッチングを行った。しかる
後、前記レジストパタ−ンを剥離せずに、図14(b)
の基板に示す有効表示領域11a全面にTiO2 を分散
したレジスト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴ
ム製)を膜厚2000Aとなるように印刷し、100℃
で30分仮焼成した後、図14Aに示すITO膜13の
上にのみ被覆したレジストをST10溶液((株)東京
応化製)にて剥離した。
Next, using this resist pattern as a mask, an aqueous solution of hydrochloric acid / nitric acid (mixing ratio hydrochloric acid 10 / nitric acid 1
-ITO was etched with water 10). After that, the resist pattern is not peeled off, and FIG.
A resist material (TiO 2 dispersion liquid: made by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) in which TiO 2 is dispersed is printed on the entire surface of the effective display area 11a shown in the substrate of FIG.
After calcination for 30 minutes, the resist coated only on the ITO film 13 shown in FIG. 14A was peeled off with an ST10 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.).

【0119】その結果、TiO2 を分散したレジスト材
料膜のうち、ITO膜13上のレジストの上にある部分
はレジストとともに除去され、それ以外の領域にのみレ
ジスト材料膜のパターンが形成できた。次いで、前記T
iO2 を分散したレジスト材料を完全に硬化させる目的
で、基板を180℃にて30分焼成し、基板裏面から見
て、有効表示領域内の画素電極(図14AのITO膜1
3)およびMIM18、配線部22以外の領域すなわち
非変調部Bの一部に、本発明の第1の態様の特徴である
白色反射層20を形成できた。
As a result, of the resist material film in which TiO 2 was dispersed, the portion above the resist on the ITO film 13 was removed together with the resist, and the pattern of the resist material film could be formed only in the other regions. Then, the T
For the purpose of completely curing the resist material in which io 2 was dispersed, the substrate was baked at 180 ° C. for 30 minutes, and when viewed from the back surface of the substrate, the pixel electrode in the effective display area (ITO film 1 in FIG.
3) and the area other than the MIM 18 and the wiring portion 22, that is, a part of the non-modulation portion B, the white reflective layer 20 which is the feature of the first aspect of the present invention can be formed.

【0120】また、対向する基板12として図14
(c)及び14(d)に示すITOストライプパターン
電極14を形成した基板を作成した。ここで、図14
(c)は,一画素に該当するパターン形状を示してお
り、図14(d)は、有効表示領域12aの形状を示し
ている。
Further, as the opposing substrate 12, FIG.
A substrate having the ITO stripe pattern electrode 14 shown in (c) and 14 (d) was prepared. Here, FIG.
FIG. 14C shows the pattern shape corresponding to one pixel, and FIG. 14D shows the shape of the effective display area 12a.

【0121】こうして得られた2枚の基板の有効表示領
域に、配向剤(AL−1051、(株)日本合成ゴム
製)を印刷、焼成して配向膜16,17を形成し、これ
ら配向膜16,17を前記ITOストライプパターンと
平行であり、且つ対向する基板同士で向きが180°逆
となる方向にラビングした。
Alignment agents (AL-1051, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) are printed and baked in the effective display areas of the two substrates thus obtained to form alignment films 16 and 17, and these alignment films are formed. 16 and 17 were rubbed in a direction parallel to the ITO stripe pattern and opposite to each other by 180 ° between facing substrates.

【0122】次いで、観察側基板に粒径5μmの基板間
隙材(ミクロパールSP、(株)積水ファインケミカル
製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基板の
有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シー
ルパターンをスクリーン印刷法にて形成した。ここで用
いたシール材料は、1液性エポキシ樹脂(XN−21、
三井東圧化学(株)製)である。
Next, a substrate interstitial material (Micropearl SP, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 5 μm was sprayed on the viewing side substrate at a spraying density of 100 / mm 2, and a width of 5 mm around the effective display area of the counter substrate. A peripheral seal pattern provided with the openings was formed by screen printing. The seal material used here is a one-component epoxy resin (XN-21,
Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.).

【0123】次に、前記2枚の基板11,12を電極1
3,14面が対向するようにして重ね合わせて、基板間
隙が前記基板間隙材の粒径と等しくなるよう加圧しなが
ら180℃で2時間焼成し、本実施例の液晶表示素子に
用いる空セルを得た。しかる後、前記空セルに液晶材料
として正の誘電異方性を示すネマティック液晶材料ZL
I−2293((株)メルクジャパン製)151に黒色
の染料LA103/4((株)三菱化成製)152を
2.0wt%添加したものを減圧注入法にて注入し、液
晶組成物層15とした。
Next, the two substrates 11 and 12 are connected to the electrode 1
The empty cells used in the liquid crystal display device of this embodiment are stacked so that the surfaces 3 and 14 face each other, and are baked at 180 ° C. for 2 hours while applying pressure so that the substrate gap becomes equal to the particle size of the substrate gap material. Got Thereafter, a nematic liquid crystal material ZL showing a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material in the empty cell.
I-2293 (manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) 151 to which 2.0 wt% of black dye LA103 / 4 (manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 152 was added was injected by a reduced pressure injection method to obtain a liquid crystal composition layer 15 And

【0124】その後、前記周辺シールパターンの開口部
を紫外線硬化樹脂UV−1000((株)ソニーケミカ
ル製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用いる液
晶セルを得た。しかる後、図15に示すように、基板1
2に4分の1波長板31、反射板30を張り合わせ、本
実施例の液晶表示素子を得た。ここで用いた反射板30
は、Al蒸着タイプの拡散反射板であるMタイプ拡散反
射板((株)日東電工製)であり、4分の1波長板31
は、積層タイプの全波長域4分の1波長板((株)日東
電工製)であり、それぞれ糊付きのものを用いた。
Then, the opening of the peripheral seal pattern was sealed with an ultraviolet curable resin UV-1000 (manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.) to obtain a liquid crystal cell used in the liquid crystal display device of this example. After that, as shown in FIG. 15, the substrate 1
A quarter-wave plate 31 and a reflection plate 30 were attached to 2 to obtain a liquid crystal display element of this example. Reflector 30 used here
Is an M type diffuse reflector (manufactured by Nitto Denko Corporation) which is an Al vapor deposition type diffuse reflector, and is a quarter wavelength plate 31.
Is a laminated type quarter-wave plate (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) in the entire wavelength range, and each has a paste.

【0125】本実施例の液晶表示素子の構造は、観察側
基板11のスペース部に白色反射層20を有し、その材
料はTiO2 からなる白色顔料のレジスト材料を用いて
いる。その製造方法は、画素ITO電極のパターン形成
工程に用いたレジストパターンを利用したリフトオフ法
によるものである。
The structure of the liquid crystal display element of this embodiment has a white reflective layer 20 in the space portion of the viewing side substrate 11, and the material thereof is a resist material of white pigment made of TiO 2 . The manufacturing method is a lift-off method using the resist pattern used in the pattern forming process of the pixel ITO electrode.

【0126】また、液晶表示モードとしては、染料を添
加した液晶組成物を用いたGH型のものであり、且つ4
分の1波長板を加えた図16(a)及び16(b)に示
す構成の表示モードである。即ち、電圧無印加状態で
は、図16(a)に示すように,非偏光の入射光Liは
液晶組成物層15を通過して直線偏光となり、4分の1
波長板31で円偏光となって,反射板30に至り,円偏
光のまま反射され、再び4分の1波長板31を通過する
が,このときの直線偏光の方向が入射時にたいして90
°回転するため、液晶組成物層15に遮られ,反射光L
rは遮断される。一方、電圧印加時は、図16(b)に
示すように、入射光Liの非偏光光は、液晶組成物層1
5を通過して直線偏光となり、4分の1波長板31で円
偏光となって,反射板30に至り,円偏光のまま反射さ
れ、再び4分の1波長板31を通過するのは電圧無印加
状態と同様であるが、4分の1波長板31を通過した反
射光Lrは、液晶組成物層15をそのまま通過する。
The liquid crystal display mode is a GH type using a liquid crystal composition to which a dye is added, and
It is a display mode of the configuration shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b) in which a one-half wavelength plate is added. That is, when no voltage is applied, the unpolarized incident light Li passes through the liquid crystal composition layer 15 and becomes linearly polarized light, as shown in FIG.
It becomes circularly polarized light at the wave plate 31, reaches the reflection plate 30, is reflected as it is circularly polarized light, and passes through the quarter wave plate 31 again, but the direction of the linearly polarized light at this time is 90 degrees at the time of incidence.
Since it rotates by °, it is blocked by the liquid crystal composition layer 15 and the reflected light L
r is blocked. On the other hand, when a voltage is applied, as shown in FIG. 16B, the non-polarized light of the incident light Li changes to the liquid crystal composition layer 1
5 becomes linearly polarized light, becomes quarterly polarized light at the quarter wavelength plate 31, reaches circularly polarized light at the reflection plate 30, is reflected as circularly polarized light, and again passes through the quarter wavelength plate 31 by the voltage. Similar to the non-applied state, the reflected light Lr that has passed through the quarter-wave plate 31 passes through the liquid crystal composition layer 15 as it is.

【0127】さて、以上により得られた本実施例の液晶
表示素子の反射率およびコントラスト比を図17に示す
測定装置で測定した。測定は、サンプルの中央から法線
方向の位置に距離30cmに輝度計40を配置し、ほぼ
同じ高さに前記法線方向と30°の角度をなす方向に図
示するように赤緑青3波長に発光する高演色形蛍光灯4
1,42を2灯、配置して、サンプル43部分の照度が
580ルクスとなるようにして、標準拡散板(MgO
板)の輝度を測定し、この輝度を反射率100%とし、
サンプルの反射率およびコントラストを測定した。
The reflectance and contrast ratio of the liquid crystal display device of this example obtained as described above were measured by the measuring device shown in FIG. The measurement is carried out by disposing a luminance meter 40 at a distance of 30 cm from the center of the sample in the direction of the normal line, and at the substantially same height in the direction forming an angle of 30 ° with the normal line, as shown in the figure, for three wavelengths of red, green and blue. High color rendering fluorescent lamp 4 that emits light
Two lamps 1 and 42 are arranged so that the illuminance of the sample 43 portion becomes 580 lux, and the standard diffusion plate (MgO
The brightness of the plate) is measured, and this brightness is set to 100% reflectance,
The reflectance and contrast of the sample were measured.

【0128】その結果を、後に示す他の実施例と合わせ
て下表に示す。
The results are shown in the table below together with other examples shown below.

【0129】[0129]

【表1】 [Table 1]

【0130】液晶層への印加電圧が4VとなるようMI
M素子を用いて全面(全画素)に電圧を印加した場合の
反射率は、80%と極めて高い値であり、また、液晶層
への印加電圧が0Vと4VとなるようMIM素子を用い
て全面(全画素)に電圧を印加してコントラスト比を測
定したところ、上記表に示すように、8:1と極めて高
い値であった。
MI so that the applied voltage to the liquid crystal layer becomes 4V.
When a voltage is applied to the entire surface (all pixels) using the M element, the reflectance is as high as 80%, and the MIM element is used so that the voltage applied to the liquid crystal layer is 0V and 4V. When a contrast ratio was measured by applying a voltage to the entire surface (all pixels), as shown in the above table, it was an extremely high value of 8: 1.

【0131】比較例1 実施例1において白色反射層の無い構造の液晶表示素子
を作成した。構造上は白色反射層を設けないこと以外同
一とし、材料、製法も実施例1同様にして作成した。実
施例1同様にして反射率及びコントラスト比を測定した
ところ、反射率は60%と実施例1と比較して著しく低
い値であった。また、コントラスト比も9:1であり、
実施例1の本発明の液晶表示素子は白色反射層を設けて
も十分な値を得ていることがわかった。
Comparative Example 1 A liquid crystal display device having a structure without the white reflective layer in Example 1 was prepared. The structure was the same except that the white reflective layer was not provided, and the material and manufacturing method were the same as in Example 1. When the reflectance and the contrast ratio were measured in the same manner as in Example 1, the reflectance was 60%, which was a remarkably low value as compared with Example 1. Also, the contrast ratio is 9: 1,
It was found that the liquid crystal display element of the present invention of Example 1 obtained a sufficient value even if the white reflective layer was provided.

【0132】実施例2 0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、一方の下基板1
2に図18(a)、18(b)に示すようなMIM素子
18付き基板を作成した。図18(a)は,一画素の電
極形状を示し、180μm×180μmの一画素領域に
イエロー用の電極14Y、マゼンタ用の電極14M、シ
アン用の電極14Cが配置される。図18(b)は有効
表示領域12bの形状を示している。画素数は480
(×3)×320である。この基板12は観察側基板の
対向基板として用いる。本実施例では、いずれのパター
ンもリフトオフ法は用いず、各々レジストを剥離するこ
とにより形成した。
Example 2 Two 0.7 mm thick glass substrates were used, and one lower substrate 1 was used.
A substrate with an MIM element 18 as shown in FIGS. 18 (a) and 18 (b) was prepared in FIG. FIG. 18A shows the electrode shape of one pixel, and the electrode 14Y for yellow, the electrode 14M for magenta, and the electrode 14C for cyan are arranged in one pixel region of 180 μm × 180 μm. FIG. 18B shows the shape of the effective display area 12b. 480 pixels
It is (× 3) × 320. This substrate 12 is used as a counter substrate of the observation side substrate. In this embodiment, neither pattern is formed by using the lift-off method, and the resist is peeled off.

【0133】次いで、観察側基板11として、図18
(c)、18(d)に示すカラーフィルター付き基板を
作成した。図18(c)、18(d)に示すようなイエ
ロー27Y、マゼンタ27M、シアン27Cの3着色層
からなるカラーフィルター27付き基板を用い、この基
板全面にITO膜を膜厚2000Aにて成膜した。カラ
ーフィルターの膜厚はいずれも18000Aである。
Next, as the observation side substrate 11, FIG.
Substrates with color filters shown in (c) and 18 (d) were prepared. A substrate with a color filter 27 consisting of three colored layers of yellow 27Y, magenta 27M, and cyan 27C as shown in FIGS. 18 (c) and 18 (d) was used, and an ITO film was formed to a thickness of 2000A on the entire surface of this substrate. did. The film thickness of each color filter is 18000A.

【0134】次に、レジスト材料としてポジ型のレジス
ト材料(OFPR−5000、(株)東京応化製)を全
面に塗布し、60℃、30分の仮焼成を施した後、図1
8(c)に図示する形状のITO膜13にパターン形成
できるようにマスクを用いて露光し、NMD3溶液
((株)東京応化製)で現像し、図18(c)に示すI
TO膜13の上をのみ被覆したレジストパタ−ンを形成
した後、このレジストパタ−ンをマスクとして用いて、
塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1・水10)
でエッチングを行った。
Next, as a resist material, a positive type resist material (OFPR-5000, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) was applied on the entire surface, and calcination was carried out at 60 ° C. for 30 minutes.
The ITO film 13 having the shape shown in FIG. 8C is exposed by using a mask so that it can be patterned, and developed with an NMD3 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), and I shown in FIG.
After forming a resist pattern covering only the TO film 13, the resist pattern is used as a mask,
Hydrochloric acid / nitric acid aqueous solution (mixture ratio hydrochloric acid 10 / nitric acid 1 / water 10)
Etching was carried out.

【0135】その後、図18(d)に示す有効表示領域
全面にTiO2 を分散したレジスト材料(TiO2 分散
液、(株)日本合成ゴム製)を、膜厚20000Aと成
るように印刷し、100℃で30分仮焼成した後、前記
図18(c)のITO膜13の上にのみ被覆したレジス
トパタ−ンをST10溶液((株)東京応化製)にて剥
離した。その結果、TiO2 を分散したレジスト材料の
うち、ITO膜13の上にある部分はレジストともに除
去され、それ以外の領域にのみレジスト材料膜のパター
ンが形成できた。
[0135] Thereafter, a resist material (TiO 2 dispersion, Ltd. Japan Synthetic Rubber) was dispersed TiO 2 enable the entire display area shown in FIG. 18 (d), and was printed to a thickness 20000 A, After calcination at 100 ° C. for 30 minutes, the resist pattern covering only the ITO film 13 in FIG. 18C was peeled off with ST10 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.). As a result, of the resist material in which TiO 2 was dispersed, the resist was removed together with the portion on the ITO film 13, and the pattern of the resist material film could be formed only in the other regions.

【0136】次いで、前記TiO2 を分散したレジスト
材料を完全に硬化させる目的で基板を180℃にて30
分焼成し、基板裏面から見て、有効表示領域内のカラー
フィルターの着色部以外の領域に本発明の第1の態様の
特徴である白色反射層20を形成できた。
Then, the substrate was heated at 180 ° C. for 30 minutes in order to completely cure the resist material in which the TiO 2 was dispersed.
After the partial baking, the white reflective layer 20, which is the feature of the first aspect of the present invention, could be formed in the area other than the colored portion of the color filter in the effective display area when viewed from the back surface of the substrate.

【0137】この基板の有効表示領域では、白色反射層
の膜厚もカラーフィルターの着色部の膜厚(カラーフィ
ルターの膜厚+ITOの膜厚)もともに20000Aで
あり、表面の段差は生じていない。このように、本実施
例では、白色反射層はカラーフィルターの着色部とそれ
以外の領域間の段差を解消する構成となっている。
In the effective display area of this substrate, both the film thickness of the white reflective layer and the film thickness of the colored portion of the color filter (film thickness of the color filter + film thickness of ITO) are 20000 A, and no surface step is formed. . As described above, in this embodiment, the white reflective layer is configured to eliminate the step between the colored portion of the color filter and the other regions.

【0138】こうして得られた2枚の基板を図19のよ
うに実施例1と同様の材料、製法にてセル化し、実施例
1と同様の、材料、製法にて4分の1波長板31、反射
板30を貼付し、液晶表示素子を得た。
The two substrates thus obtained were made into cells by the same material and manufacturing method as in Example 1 as shown in FIG. 19, and the quarter-wave plate 31 was made by the same material and manufacturing method as in Example 1. Then, the reflection plate 30 was attached to obtain a liquid crystal display element.

【0139】こうして得られた本実施例の液晶表示素子
の反射率およびコントラスト比を実施例1同様の方法に
て測定したところ、反射率は、カラーフィルターでの吸
収があるにも拘らず50%と極めて高い値であり、ま
た、コントラスト比を測定したところ、5:1と極めて
高い値であった。
The reflectance and the contrast ratio of the liquid crystal display device of the present example thus obtained were measured by the same method as in Example 1. The reflectance was 50% despite absorption by the color filter. It was a very high value, and when the contrast ratio was measured, it was a very high value of 5: 1.

【0140】比較例2 実施例2において白色反射層の無い構造の液晶表示素子
を作成した。構造上は白色反射層を設けないこと以外同
一とし、材料、製法も実施例2同様にして作成した。実
施例1同様にして反射率及びコントラスト比を測定した
ところ、反射率は25%と実施例2と比較して著しく低
い値であった。また、コントラスト比も6:1であり、
実施例2の本発明の液晶表示素子は、白色反射層を設け
ても十分な値を得ていることがわかった。
Comparative Example 2 A liquid crystal display device having a structure without a white reflective layer in Example 2 was prepared. The structure was the same except that the white reflective layer was not provided, and the material and the manufacturing method were the same as in Example 2. When the reflectance and the contrast ratio were measured in the same manner as in Example 1, the reflectance was 25%, which was a significantly low value as compared with Example 2. Also, the contrast ratio is 6: 1,
It was found that the liquid crystal display element of the present invention of Example 2 obtained a sufficient value even if the white reflective layer was provided.

【0141】(実施例3)0.7mm厚のガラス基板を
2枚用い、一方の基板11に図20(a)、20(b)
に示すようなTFT18付き基板を作成した。図20
(a)は一画素の電極形状を示し、図20(b)は有効
表示領域の形状を示す。一画素は180μm×180μ
m、画素数は480×320である。この基板11は観
察側基板として用いる。
(Embodiment 3) Two glass substrates having a thickness of 0.7 mm are used, and one substrate 11 has a structure shown in FIGS. 20 (a) and 20 (b).
A substrate with TFT 18 as shown in was prepared. FIG.
20A shows the shape of the electrode of one pixel, and FIG. 20B shows the shape of the effective display area. One pixel is 180μm × 180μ
m, and the number of pixels is 480 × 320. This substrate 11 is used as an observation side substrate.

【0142】まず、図14(a)に示すと同様に、基板
11上にTFTスイッチング素子18を形成し、しかる
後、基板全面にITO膜を膜厚2000Aにて成膜し、
レジスト材料としてポジ型のレジスト材料:OFPR−
5000((株)東京応化製)を全面に塗布し、60℃
30分の仮焼成を施した後、図示する正方形形状にパタ
ーン形成できるようにマスクを用いて露光し、NMD3
溶液((株)東京応化製)で現像し、電極として残すI
TO膜13の上にのみレジストパタ−ンが被覆した構成
とした。
First, similarly to the case shown in FIG. 14A, the TFT switching element 18 is formed on the substrate 11, and thereafter, an ITO film is formed to a film thickness of 2000 A on the entire surface of the substrate,
Positive resist material as a resist material: OFPR-
5000 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) is applied to the entire surface and 60 ° C
After pre-baking for 30 minutes, exposure is performed using a mask so that a square shape shown in the figure can be formed, and NMD3
Develop with solution (Tokyo Ohka Co., Ltd.) and leave as electrode I
Only the TO film 13 was covered with the resist pattern.

【0143】次に、このレジストパタ−ンをマスクとし
て用いて、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1
・水10)でITOのエッチングを行った。しかる後、
前記レジストパタ−ンを剥離せずに、図20(b)に示
す基板11の有効表示領域11c全面にTiO2 を分散
したレジスト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴ
ム製)を膜厚2000Aと成るように印刷し、100℃
で30分仮焼成した後、前記図20AのITO膜13の
上にのみ被覆したレジストパタ−ンをST10溶液
((株)東京応化製)にて剥離した。
Next, using this resist pattern as a mask, an aqueous hydrochloric acid / nitric acid solution (mixing ratio hydrochloric acid 10 / nitric acid 1
-ITO was etched with water 10). After a while
A resist material (TiO 2 dispersion liquid: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) in which TiO 2 is dispersed over the entire effective display area 11c of the substrate 11 shown in FIG. 20B without removing the resist pattern is formed into a film. Print at 2000A and 100 ℃
After calcination for 30 minutes, the resist pattern covering only the ITO film 13 of FIG. 20A was peeled off with an ST10 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.).

【0144】その結果、前記TiO2 を分散したレジス
ト材料膜のうち、ITO膜13上のレジストの上にある
部分はレジストとともに除去され、それ以外の領域にの
みレジスト材料膜のパターンを形成できた。次いで、前
記TiO2 を分散したレジスト材料を完全に硬化させる
目的で、基板を180℃にて30分焼成し、基板裏面か
ら見て、有効表示領域内の画素電極(図20(a)のI
TO膜13)および配線部(ゲート線、信号線)22、
TFT素子18以外のスペース領域に本発明の第1の態
様の特徴である白色反射層20を形成できた。
As a result, of the resist material film in which the TiO 2 was dispersed, the portion above the resist on the ITO film 13 was removed together with the resist, and the pattern of the resist material film could be formed only in the other regions. . Next, for the purpose of completely curing the resist material in which the TiO 2 is dispersed, the substrate is baked at 180 ° C. for 30 minutes, and when viewed from the back surface of the substrate, the pixel electrode in the effective display area (I in FIG.
TO film 13) and wiring portion (gate line, signal line) 22,
The white reflective layer 20, which is the feature of the first aspect of the present invention, could be formed in the space region other than the TFT element 18.

【0145】更に、対向基板としてITOベタ電極を有
する基板(図示せず)を用い、配向膜としてAL−10
51((株)日本合成ゴム製)を有効表示領域に印刷、
焼成し、対向する基板同士で向きが180°逆となる方
向にラピングして、しかる後、観察側基板に基板間隙材
として粒径8μmのミクロパールSP((株)積水ファ
インケミカル製)を散布密度100/mm2 にて散布
し、対向基板の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を
設けた周辺シールパターンをスクリーン印刷法にて形成
した。ここで用いたシール材料は1液性エポキシ樹脂で
あるXN−21(三井東圧化学(株)製)である。
Further, a substrate (not shown) having an ITO solid electrode was used as a counter substrate, and AL-10 was used as an alignment film.
51 (made by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) is printed in the effective display area.
After firing, lapping is performed in a direction in which the facing substrates are 180 ° opposite to each other, and then Micropearl SP (manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 8 μm is sprayed on the observing side substrate as a substrate gap material. It was sprayed at 100 / mm 2, and a peripheral seal pattern having an opening with a width of 5 mm was formed around the effective display area of the counter substrate by a screen printing method. The sealing material used here is XN-21 (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.), which is a one-component epoxy resin.

【0146】次に、前記2枚の基板を電極面が対向する
ようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙材の
粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時間焼
成し、本実施例の液晶表示素子に用いる空セルを得た。
しかる後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異方性
を示すネマティック液晶材料(ZLI−2293、
(株)メルクジャパン製)に、カイラル材(S101
1、(株)メルクジャパン製)を2wt%と、黒色の染
料(LA103/4、(株)三菱化成製)を2.0wt
%添加したものを減圧注入法にて注入し、前記周辺シー
ルパターンの開口部を紫外線硬化樹脂UV−1000
((株)ソニーケミカル製)にて封止し、本実施例の液
晶表示素子に用いる液晶セルを得た。
Next, the two substrates are stacked so that the electrode surfaces face each other, and baked at 180 ° C. for 2 hours while pressurizing so that the substrate gap becomes equal to the particle size of the substrate gap material, An empty cell used for the liquid crystal display element of the example was obtained.
Thereafter, a nematic liquid crystal material (ZLI-2293, which exhibits a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material in the empty cell, is provided.
Chiral material (S101 manufactured by Merck Japan Co., Ltd.)
1, 2% by weight of Merck Japan Co., Ltd., and 2.0% of black dye (LA103 / 4, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.)
% Addition is performed by a reduced pressure injection method, and the opening of the peripheral seal pattern is filled with an ultraviolet curable resin UV-1000.
A liquid crystal cell used in the liquid crystal display device of this example was obtained by sealing with (manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.).

【0147】本実施例にて作成した液晶表示素子は、P
C−GH型LCDであり、用いた液晶材料のヘリカルピ
ッチは1.4μmに設定(前記カイラル材の添加量で制
御)してある。ヘリカルピッチが液晶層厚(設定8μ
m)より、十分に短いため、螺旋軸は法線方向からず
れ、電圧を印加していない状態では実用的に染料分子の
方位がランダムとなり、十分な光吸収効果(暗状態を得
る効果)が得られる。
The liquid crystal display element produced in this example is P
It is a C-GH type LCD, and the helical pitch of the liquid crystal material used is set to 1.4 μm (controlled by the addition amount of the chiral material). The helical pitch is the liquid crystal layer thickness (setting 8μ
m), the spiral axis is deviated from the normal direction, and the orientation of dye molecules becomes practically random when no voltage is applied, resulting in a sufficient light absorption effect (effect of obtaining a dark state). can get.

【0148】こうして得られた液晶セルの対向基板外面
に実施例1同様、Mタイプ拡散反射板((株)日東電工
製)を貼り、本実施例の液晶表示素子を得た。
An M-type diffuse reflector (manufactured by Nitto Denko Corporation) was attached to the outer surface of the counter substrate of the liquid crystal cell thus obtained in the same manner as in Example 1 to obtain a liquid crystal display element of this example.

【0149】この液晶表示素子の反射率及びコントラス
ト比を実施例1同様の方法にて測定したところ、液晶層
への印加電圧が14VとなるようTFT素子を用いて全
面(全画素)に電圧を印加して反射率は80%と極めて
高い値であり、また、液晶層への印加電圧が0Vと14
VとなるようTFT素子を用いて全面(全画素)に電圧
を印加してコントラスト比を測定したところ、9:1と
極めて高い値であった。ここで、コントラスト比が実施
例1より、さらに高くなったのは、スイッチング素子と
してTFT素子を用いていることによるもので、本発明
の作用とは無関係である。
The reflectance and contrast ratio of this liquid crystal display element were measured by the same method as in Example 1. As a result, the voltage was applied to the entire surface (all pixels) by using the TFT element so that the applied voltage to the liquid crystal layer was 14V. When applied, the reflectance is as high as 80%, and the applied voltage to the liquid crystal layer is 0V and 14V.
When a contrast ratio was measured by applying a voltage to the entire surface (all pixels) using a TFT element so as to be V, it was an extremely high value of 9: 1. Here, the reason why the contrast ratio is higher than that of the first embodiment is that the TFT element is used as the switching element, which is irrelevant to the operation of the present invention.

【0150】(実施例4)実施例3において、白色反射
層を形成する白色顔料に用いる顔料として、MgOを用
いたことを除いて、実施例3と同じ材料、製法、構成に
て本実施例に係る液晶表示素子を作成した。
(Example 4) This example is the same as Example 3 except that MgO was used as the pigment used for the white pigment forming the white reflective layer. The liquid crystal display element concerning.

【0151】この液晶表示素子について、実施例3に係
る液晶表示素子と同様、駆動電圧14Vで、反射率およ
びコントラスト比を実施例1に記載したのと同様の方法
により測定したところ、反射率は78%と、実施例3と
比べても極めて高い値であり、コントラスト比を測定し
たところ、9:1と極めて高い値であった。
As with the liquid crystal display element according to Example 3, the liquid crystal display element was measured for reflectance and contrast ratio at the driving voltage of 14 V by the same method as described in Example 1. The value was 78%, which was an extremely high value as compared with Example 3, and when the contrast ratio was measured, it was an extremely high value of 9: 1.

【0152】(比較例3)実施例3において、白色反射
層の無い構造の液晶表示素子を作成した。構造上は白色
反射層を設けないこと以外、実施例3と同一とし、材
料、製法も実施例3と同様にして作成した。実施例1と
同様にして反射率及びコントラスト比を測定したとこ
ろ、反射率は60%と実施例3、4と比較して著しく低
い値であった。また、コントラスト比も10:1であ
り、実施例3、4の本発明の液晶表示素子は、白色反射
層を設けても十分な値を得ていることがわかった。
(Comparative Example 3) In Example 3, a liquid crystal display device having a structure without a white reflective layer was prepared. The structure was the same as in Example 3 except that the white reflective layer was not provided, and the material and manufacturing method were the same as in Example 3. When the reflectance and the contrast ratio were measured in the same manner as in Example 1, the reflectance was 60%, which was a remarkably low value as compared with Examples 3 and 4. Further, the contrast ratio was also 10: 1, and it was found that the liquid crystal display devices of Examples 3 and 4 of the present invention obtained a sufficient value even if the white reflective layer was provided.

【0153】(実施例5)0.7mm厚のガラス基板を
2枚用い、一方の基板に図20(a)、20(b)に示
すようなTFT素子付き基板を作成した。図20(a)
は一画素の電極形状を示し、図20(b)は有効表示領
域の形状を示す。画素数は480×320である。この
基板は観察側基板の対向基板として用いる。また、観察
側基板として、白色反射層をパターン形成し、その上に
ITOベタ電極を形成した基板を作成した。
Example 5 Two glass substrates having a thickness of 0.7 mm were used, and one substrate had a TFT element-attached substrate as shown in FIGS. 20 (a) and 20 (b). Figure 20 (a)
Shows the electrode shape of one pixel, and FIG. 20B shows the shape of the effective display area. The number of pixels is 480 × 320. This substrate is used as a counter substrate of the observation side substrate. A white reflective layer was pattern-formed and an ITO solid electrode was formed on the white reflective layer as an observation side substrate.

【0154】この観察側基板は、まず、基板上にアルミ
ナ(Al2 3 )を膜厚1000Aにて蒸着成膜し、し
かる後、これをフォトリソグラフィー法にて対向基板の
スペース部および配線の位置する非変調部領域に形成さ
れるようにパターニングし、しかる後、アルミナ膜を形
成した基板全面にITOを成膜することにより得てい
る。
For this observation-side substrate, first, alumina (Al 2 O 3 ) was vapor-deposited to a film thickness of 1000 A on the substrate, and then this was subjected to a photolithography method to form a space portion and wiring of the counter substrate. It is obtained by patterning so as to be formed in the non-modulation part region located, and then forming ITO on the entire surface of the substrate on which the alumina film is formed.

【0155】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例3、4同様の材料、製法、構造にて本発明の液晶表示
素子を得た。
Using the two substrates thus obtained, the liquid crystal display device of the present invention was obtained with the same materials, manufacturing methods and structures as in Examples 3 and 4.

【0156】本実施例は実施例3、4と比較して、パタ
ーン形成を従来のフォトリソグラフィー法により得てい
る点が異なる。これは白色反射層を観察側基板に設け、
(例えば素子の実装上の制約により)TFT基板を対向
基板とする必要がある場合に取り得る実施例である。パ
ターン形成に従来のフォトリソグラフィー法が必要とな
る反面、非変調部全域に前記白色反射層を設けることが
容易になり、その分高い反射率を得ることができる。
This example is different from Examples 3 and 4 in that pattern formation is obtained by a conventional photolithography method. This is a white reflective layer provided on the viewing side substrate,
This is an example that can be taken when it is necessary to use the TFT substrate as a counter substrate (for example, due to restrictions on mounting of elements). While the conventional photolithography method is required for pattern formation, it is easy to provide the white reflective layer over the entire non-modulation portion, and a high reflectance can be obtained accordingly.

【0157】実施例3と同様、駆動電圧14Vにて、反
射率及びコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定
したところ、反射率は85%と実施例3、4以上に極め
て高い値であり、コントラスト比を測定したところ、
9:1と極めて高い値であった。
Similar to the third embodiment, the reflectance and the contrast ratio were measured at the driving voltage of 14 V by the same method as the first embodiment. The reflectance was 85%, which was extremely high value as compared with the third and fourth embodiments. Yes, when I measured the contrast ratio,
It was an extremely high value of 9: 1.

【0158】(実施例6)2枚の0.7mm厚のガラス
基板11,12を用い、図21(a)にセグメント電極
パターン14を形成した対向基板12、図21(b)に
ITO膜の電極パターン13を形成した観察側基板11
を示す。これら基板の電極面に、図22に示すように配
向膜16,17として、AL−1051((株)日本合
成ゴム製)を有効表示領域に印刷、焼成し、図21
(a),21(b)に図示する矢印方向r1、r2(互
いに対向する基板間で向きが180°逆となる方向)に
ラビングして、しかる後、観察側基板11に基板間隙材
として粒径2.5μmの間隙剤(ミクロパールSP、
(株)積水ファインケミカル製)を散布密度100/m
2にて散布し、対向基板12の有効表示領域周辺に5
mm幅の開口部を設けた周辺シールパターンをスクリー
ン印刷法にて形成した。ここで用いたシール材料28は
1液性エポキシ樹脂(XN−21、三井東圧化学(株)
製)である。
(Embodiment 6) Two glass substrates 11 and 12 having a thickness of 0.7 mm are used, a counter substrate 12 having a segment electrode pattern 14 formed thereon in FIG. 21 (a) and an ITO film in FIG. 21 (b). Observation side substrate 11 on which electrode pattern 13 is formed
Indicates. As shown in FIG. 22, AL-1051 (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) is printed on the electrode surface of these substrates as alignment films 16 and 17 in the effective display area, and baked.
Rubbing is performed in the arrow directions r1 and r2 shown in (a) and (b) of FIG. 21 (directions in which the directions of the substrates facing each other are 180 ° opposite to each other). Pore agent with a diameter of 2.5 μm (Micropearl SP,
Sekisui Fine Chemical Co., Ltd. spraying density 100 / m
sprayed at m 2, 5 to enable the display region periphery of the counter substrate 12
A peripheral seal pattern provided with an opening having a width of mm was formed by a screen printing method. The sealing material 28 used here is a one-component epoxy resin (XN-21, Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.).
Made).

【0159】しかる後、図21(c)に示すように、前
記2枚の基板11,12を電極面が対向するようにして
重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙材の粒径と等し
くなるよう加圧しながら180℃で2時間焼成し、本実
施例の液晶表示素子に用いる空セルを得た。次に、前記
空セルに液晶材料として正の誘電異方性を示すネマティ
ック液晶材料(ZLI−2293、(株)メルクジャパ
ン製)を液晶組成物15として減圧注入法にて注入し、
前記周辺シールパターンの開口部を紫外線硬化樹脂(U
V−1000、(株)ソニーケミカル製)にて封止し、
本実施例の液晶表示素子に用いる液晶セルを得た。しか
る後、図22に示す構造となるよう、偏光板32として
LLC298−18SF((株)サンリッツ製)を、観
察側基板11外面に前記ラビング方向と45°の角度を
なす方向に吸収軸が来るように張り付け、反射板30と
してMタイプ拡散反射液((株)日東電工製)を対向基
板12外面に張り付け、しかる後、前記偏光板32表面
に、TiO2 を分散したレジスト材料(TiO2 分散
液:(株)日本合成ゴム製)をセグメント電極が見える
開口窓を形成して膜厚2000Aとなるように印刷し、
70℃で120分焼成し、平面的にみて非変調部である
領域で、断面的に見て前記偏光板表面に白色反射層20
を形成し、本実施例の液晶表示素子を得た。
After that, as shown in FIG. 21C, the two substrates 11 and 12 are superposed so that the electrode surfaces face each other, and the substrate gap becomes equal to the grain size of the substrate gap material. While pressurizing, it was baked at 180 ° C. for 2 hours to obtain an empty cell used in the liquid crystal display element of this example. Next, a nematic liquid crystal material (ZLI-2293, manufactured by Merck Japan Ltd.) showing a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material was injected into the empty cell as a liquid crystal composition 15 by a reduced pressure injection method,
The opening of the peripheral seal pattern is provided with an ultraviolet curable resin (U
Sealed with V-1000, manufactured by Sony Chemicals,
A liquid crystal cell used for the liquid crystal display element of this example was obtained. Then, LLC298-18SF (manufactured by Sanritz Co., Ltd.) is used as the polarizing plate 32 so that the absorption axis is formed on the outer surface of the observation side substrate 11 in a direction forming an angle of 45 ° with the rubbing direction so as to have the structure shown in FIG. And a M type diffuse reflection liquid (manufactured by Nitto Denko Corporation) as the reflection plate 30 is attached to the outer surface of the counter substrate 12, and then a resist material (TiO 2 dispersion) in which TiO 2 is dispersed is formed on the surface of the polarizing plate 32. Liquid: Made by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., printed so that a film thickness of 2000 A is formed by forming an opening window through which the segment electrodes can be seen.
It is baked at 70 ° C. for 120 minutes, and the white reflective layer 20 is formed on the surface of the polarizing plate in a cross-sectional view in a region which is a non-modulation part when viewed in plan.
Was formed to obtain a liquid crystal display element of this example.

【0160】本実施例は画素単位の表示パターンではな
いため、変調部と非変調部を一つの表示単位とみなして
観察することはできないので、変調部と非変調部を合わ
せたコントラスト比は議論の価値がない。よって、本実
施例では、実施例1と同様の方法にて反射率のみを測定
した。電圧を印加しない状態では、反射率50%と偏光
板を用いているにも拘らず極めて高い値であった。ま
た、5Vの電圧を印加して変調部を暗状態としたとこ
ろ、極めて視認性の良い表示であった。
In this embodiment, since the display pattern is not on a pixel-by-pixel basis, the modulation section and the non-modulation section cannot be regarded as one display unit for observation. Therefore, the contrast ratio of the modulation section and the non-modulation section is discussed. Not worth. Therefore, in this example, only the reflectance was measured by the same method as in Example 1. When no voltage was applied, the reflectance was 50%, which was an extremely high value despite the use of the polarizing plate. Further, when a voltage of 5 V was applied to make the modulation portion in a dark state, the display was extremely good in visibility.

【0161】(比較例4)実施例6において、偏光板上
の白色反射層を設けないことを除いて、実施例6と同様
の液晶表示素子を、実施例6と同様の条件、製法にて作
成した。実施例6同様に反射率を評価したところ、電圧
を印加しない状態では、反射率35%と実施例6に係る
液晶表示素子より著しく低い値であった。
(Comparative Example 4) A liquid crystal display device similar to that of Example 6 was prepared under the same conditions and method as Example 6, except that the white reflective layer on the polarizing plate was not provided. Created. When the reflectance was evaluated in the same manner as in Example 6, the reflectance was 35%, which was significantly lower than that of the liquid crystal display element according to Example 6, when no voltage was applied.

【0162】(実施例7)図23に、本実施例に係る液
晶表示素子を示す。
(Embodiment 7) FIG. 23 shows a liquid crystal display element according to the present embodiment.

【0163】実施例1に用いた2枚の電極付き基板1
1,12を用いた。観察側基板11の電極13周囲には
白色反射層20を有している。電極13,14面に配向
膜(AL−1051、(株)日本合成ゴム製)16,1
7を有効表示領域に印刷、焼成し、2枚の基板11,1
2を電極面が対向するよう重ね合わせたときラビング方
向が90°の角度をなすようにラビングして、しかる
後、観察側基板に基板間隙材として粒径4.5μmのミ
クロパールSP((株)積水ファインケミカル製)を散
布密度100/mm2 にて散布し、対向基板の有効表示
領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シールパター
ンを、スクリーン印刷法にて形成した。
Two electrode-equipped substrates 1 used in Example 1
1 and 12 were used. A white reflective layer 20 is provided around the electrode 13 of the observation side substrate 11. Alignment film (AL-1051, made by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 16, 1 on the surfaces of electrodes 13 and 14
7 is printed on the effective display area and baked, and two substrates 11 and 1 are printed.
2 are rubbed so that the rubbing directions form an angle of 90 ° when they are superposed so that the electrode surfaces face each other, and then, micropearl SP ((shares) with a particle size of 4.5 μm is used as a substrate gap material on the observation side substrate. Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) was sprayed at a spraying density of 100 / mm 2 to form a peripheral seal pattern having a 5 mm wide opening around the effective display area of the counter substrate by a screen printing method.

【0164】ここで用いたシール材料は、1液性エポキ
シ樹脂XN−21(三井東圧化学(株)製)である。
The sealing material used here is a one-component epoxy resin XN-21 (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.).

【0165】その後、前記2枚の基板を電極面が対向す
るようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙材
の粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時間
焼成し、本発明の液晶表示素子に用いる空セルを得た。
次いで、前記空セルに液晶材料として正の誘電異方性を
示すネマティック液晶材料ZLI−2293((株)メ
ルクジャパン製)を減圧注入法にて注入し、液晶組成物
層15を形成し、前記周辺シールパターンの開口部を紫
外線硬化樹脂(UV−1000、(株)ソニーケミカル
製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用いる液晶
セルを得た。
After that, the two substrates are superposed so that the electrode surfaces face each other, and baked at 180 ° C. for 2 hours while pressurizing so that the substrate gap becomes equal to the particle size of the substrate gap material. The empty cell used for the liquid crystal display element of was obtained.
Then, a nematic liquid crystal material ZLI-2293 (manufactured by Merck Japan Ltd.) exhibiting positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material is injected into the empty cell by a reduced pressure injection method to form a liquid crystal composition layer 15, and The opening of the peripheral seal pattern was sealed with an ultraviolet curable resin (UV-1000, manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.) to obtain a liquid crystal cell used for the liquid crystal display element of this example.

【0166】次に、偏光板(LLC298−18SF、
(株)サンリッツ製)32,33を2枚の基板外面に、
吸収軸が前記ラビング方向と平行となるように張り付
け、反射板30としてMタイプ拡散反射板((株)日東
電工製)を対向基板の偏光板外側に張り付け、本実施例
の液晶表示素子を得た。
Next, a polarizing plate (LLC298-18SF,
32, 33 made by Sanritz Co., Ltd. on the outer surface of the two substrates,
The liquid crystal display device of this example was obtained by sticking it so that the absorption axis was parallel to the rubbing direction and sticking an M type diffuse reflection plate (manufactured by Nitto Denko Corporation) as the reflection plate 30 on the outside of the polarizing plate of the counter substrate. It was

【0167】実施例1と同様、駆動電圧4Vにて、反射
率およびコントラスト比を、実施例1と同様の方法にて
測定したところ、偏光板を2枚も用いているにも拘ら
ず、反射率は40%と極めて高い値であり、コントラス
ト比を測定したところ、13:1と極めて高い値であっ
た。
As in Example 1, the reflectance and the contrast ratio were measured by the same method as in Example 1 at a driving voltage of 4 V. As a result, even though two polarizing plates were used, The ratio was 40%, which was an extremely high value, and the contrast ratio was 13: 1, which was an extremely high value when the contrast ratio was measured.

【0168】(比較例5)実施例7において、セル内面
の白色反射層を設けないことを除いて、実施例7と同様
の液晶表示素子を、実施例7と同様の条件、製法にて作
成した。実施例7と同様、駆動電圧4Vにて、反射率及
びコントラスト比を、実施例1と同様の方法にて測定し
たところ、反射率は30%と実施例7に係る液晶表示素
子より著しく低い値であり、コントラスト比を測定した
ところ、15:1であり、実施例7の本発明の液晶表示
素子は、白色反射層を設けても十分な値を得ていること
がわかった。
(Comparative Example 5) A liquid crystal display device similar to that of Example 7 was prepared under the same conditions and manufacturing method as in Example 7, except that the white reflective layer on the inner surface of the cell was not provided. did. When the reflectance and the contrast ratio were measured by the same method as in Example 1 at a driving voltage of 4 V as in Example 7, the reflectance was 30%, which was a value significantly lower than that of the liquid crystal display element according to Example 7. When the contrast ratio was measured, it was 15: 1, and it was found that the liquid crystal display element of the present invention of Example 7 obtained a sufficient value even if the white reflective layer was provided.

【0169】(実施例8)図24に示すように、0.7
mm厚のガラス基板11,12を2枚用い、一方の基板
12に図14(a),(b)に示すようなMIM素子付
き基板を作成した。この基板12は、図14(a)の基
板と異なり,観察側基板の対向基板として用いる。
(Embodiment 8) As shown in FIG. 24, 0.7
Two glass substrates 11 and 12 having a thickness of mm were used, and a substrate with an MIM element as shown in FIGS. 14A and 14B was formed on one substrate 12. Unlike the substrate shown in FIG. 14A, this substrate 12 is used as a counter substrate of the observation side substrate.

【0170】すなわち、本実施例は図14に示す実施例
1の構成で、セルの逆の面を観察側とするものである。
That is, the present embodiment has the configuration of the first embodiment shown in FIG. 14 and has the opposite surface of the cell as the observation side.

【0171】観察側基板11として、図14(c)、1
4(d)に示すITOストライプパターン電極基板を作
成した。本実施例では、いずれのパターンもリフトオフ
法は用いず、各々レジストを剥離しておこなった。次い
で、図14(c),14(d)に示すITOストライプ
パターン電極基板表面に,図14(d)に示す有効表示
領域全面にTiO2 を分散したレジスト材料(TiO2
分散液:(株)日本合成ゴム製)を膜厚2000Aと成
るように印刷し、60℃30分の仮焼成を施した後、対
向基板12の画素電極14(図14(a)のITO膜1
3)以外の領域が対向する図14(c)の観察基板の該
当領域にパターン形成できるよう(すなわち非変調部B
にのみパターン形成できるよう)マスクを用いて露光
し、NMD3溶液((株)東京応化製)で現像し、観察
側基板の非変調部全域に、本発明の白色反射層20を形
成した。
As the observation side substrate 11, FIG.
The ITO stripe pattern electrode substrate shown in FIG. 4 (d) was prepared. In this example, the lift-off method was not used for any of the patterns, and the resist was peeled off. Then, on the surface of the ITO stripe pattern electrode substrate shown in FIGS. 14 (c) and 14 (d), a resist material (TiO 2 ) in which TiO 2 is dispersed over the entire effective display area shown in FIG. 14 (d) is formed.
Dispersion liquid: manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. was printed so as to have a film thickness of 2000 A, and after calcination at 60 ° C. for 30 minutes, the pixel electrode 14 of the counter substrate 12 (the ITO film of FIG. 14A). 1
Patterns can be formed on the corresponding regions of the observation substrate of FIG.
(A pattern can be formed only on the substrate) and exposed with a NMD3 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) to form the white reflective layer 20 of the present invention on the entire non-modulated portion of the observation side substrate.

【0172】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図24
に示すような構成となるように実施例1と同様の4分の
1波長板31、反射板30を対向基板12外面に貼付
し、本実施例の液晶表示素子を得た。
Using the two substrates thus obtained, a liquid crystal cell was prepared using the same material and manufacturing method as in Example 1, and as shown in FIG.
The quarter-wave plate 31 and the reflection plate 30 similar to those in Example 1 were attached to the outer surface of the counter substrate 12 so as to obtain the structure as shown in FIG.

【0173】本実施例は、白色反射層20のパターン形
成にリフトオフ法を用いず、フォトリソグラフィー法を
用いていることにおいて、実施例1と相違する。製造プ
ロセスは増加するが、白色反射層を非変調部全域に容易
に設けることができ、さらなる反射率の向上が期待でき
るものである。
This example is different from Example 1 in that the lift-off method is not used for forming the pattern of the white reflective layer 20, but the photolithography method is used. Although the number of manufacturing processes increases, the white reflective layer can be easily provided over the entire non-modulation portion, and further improvement in reflectance can be expected.

【0174】また、実施例1と同様、駆動電圧4Vに
て、反射率及びコントラスト比を実施例1と同様の方法
にて測定したところ、反射率は85%と実施例1に係る
液晶表示素子が示す以上に極めて高い値であり、コント
ラスト比を測定したところ、7:1と極めて高い値であ
った。
Further, when the reflectance and the contrast ratio were measured by the same method as in Example 1 at a driving voltage of 4 V as in Example 1, the reflectance was 85% and the liquid crystal display device according to Example 1 was obtained. The value is extremely higher than that shown by, and when the contrast ratio was measured, it was an extremely high value of 7: 1.

【0175】(実施例9)実施例5に用いた観察側基板
を用い、対向基板として図25(a),25(b)に示
すようなTFT素子付き基板12を作成した。
Example 9 Using the observation side substrate used in Example 5, a TFT element-attached substrate 12 as shown in FIGS. 25A and 25B was prepared as a counter substrate.

【0176】まず、ガラス基板12の上にゲート配線2
2a、信号線配線22b、TFT素子18を形成し、し
かる後基板全面にAlを2000Aの膜厚にて成膜し、
表面を陽極酸化法にて酸化してアルミナ層を形成した
後、図示の方形形状の画素電極14となるように、Al
導電層34およびアルミナ層35をエッチングする。こ
のようにして画素電極14aがAl導電層34の上にア
ルミナ層35が形成された構造を有する拡散反射板の機
能を持つ対向基板を得た。
First, the gate wiring 2 is formed on the glass substrate 12.
2a, the signal line wiring 22b and the TFT element 18 are formed, and then Al is formed to a film thickness of 2000 A on the entire surface of the substrate,
After the surface is oxidized by an anodic oxidation method to form an alumina layer, Al is formed into the rectangular pixel electrode 14 shown in the drawing.
The conductive layer 34 and the alumina layer 35 are etched. In this way, a counter substrate having a function of a diffuse reflection plate in which the pixel electrode 14a had a structure in which the alumina layer 35 was formed on the Al conductive layer 34 was obtained.

【0177】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例5と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、反射板
等を貼らないで本実施例の液晶表示素子を得た。本実施
例は本発明を反射板の機能をセル内面の画素電極に設け
た構造の液晶セルに適用した例であり、画素電極に反射
板の機能を設ける手間がかかるものの、光路は、基板を
1枚しか通過しないで反射板で反射できることから、反
射板を対向基板外面に張り付ける他の構成より、反射率
の向上を達成することができるものである。
Using the two substrates thus obtained, a liquid crystal cell was prepared by using the same material and manufacturing method as in Example 5, and a liquid crystal display device of this example was obtained without attaching a reflector or the like. This example is an example in which the present invention is applied to a liquid crystal cell having a structure in which the function of a reflector is provided on the pixel electrode on the inner surface of the cell. Since only one sheet can be reflected by the reflection plate, the reflectance can be improved as compared with the other structure in which the reflection plate is attached to the outer surface of the counter substrate.

【0178】実施例5と同様、駆動電圧14Vにて、反
射率及びコントラスト比を実施例1と同様の方法にて測
定したところ、反射率は90%と実施例5以上に極めて
高い値であり、コントラスト比を測定したところ、1
0:1と極めて高い値であった。
When the reflectance and the contrast ratio were measured in the same manner as in Example 1 at a driving voltage of 14 V as in Example 5, the reflectance was 90%, which is an extremely high value as compared with Example 5. , When the contrast ratio was measured, it was 1
It was a very high value of 0: 1.

【0179】(比較例6)セル内面の白色反射層を設け
ないことを除いて、実施例9と同様の液晶表示素子を、
実施例9と同様の条件、製法にて作成した。実施例9と
同様、駆動電圧14Vにて、反射率及びコントラスト比
を、実施例1と同様の方法にて測定したところ、反射率
は70%と実施例9に係る液晶表示素子より著しく低い
値であり、コントラスト比を測定したところ、11:1
であり、実施例9の本発明の液晶表示素子は、白色反射
層を設けても十分な値を得ていることがわかった。
(Comparative Example 6) A liquid crystal display device similar to that of Example 9 was prepared except that the white reflective layer on the inner surface of the cell was not provided.
It was created under the same conditions and manufacturing method as in Example 9. When the reflectance and the contrast ratio were measured by the same method as in Example 1 at a driving voltage of 14 V as in Example 9, the reflectance was 70%, which was significantly lower than that of the liquid crystal display element according to Example 9. And the contrast ratio was measured to be 11: 1
Therefore, it was found that the liquid crystal display element of the present invention of Example 9 obtained a sufficient value even if the white reflective layer was provided.

【0180】(実施例10)図26(a)は対向基板1
2、26(b)は観測側基板11、26(c)はセル断
面をそれぞれ示す。対向基板12は、MIM素子18を
有するITO画素電極14をマトリクス配列したもの
で、上下に配列された画素電極14間には行方向に延長
された配線22があり、全面を配向膜17で被覆されて
いる。
(Embodiment 10) FIG. 26A shows a counter substrate 1.
2, 26 (b) shows the observation side substrate 11, and 26 (c) shows the cell cross section. The counter substrate 12 has ITO pixel electrodes 14 having MIM elements 18 arranged in a matrix, wirings 22 extending in the row direction are provided between the pixel electrodes 14 arranged vertically, and the entire surface is covered with an alignment film 17. Has been done.

【0181】観察側基板11は、ITOからなり、列方
向に延長された複数のストライプ電極13を有し、各ス
トライプ電極13を隔てる間隙に白色反射層20が形成
される。この白色反射層20は、基板間隙材を兼ねてお
り、液晶組成物15の層厚をきめる厚さを有している。
さらに、この上に基板全面にわたり配向膜16が被着さ
れる。
The observation side substrate 11 is made of ITO and has a plurality of stripe electrodes 13 extending in the column direction, and the white reflective layer 20 is formed in the gap separating the stripe electrodes 13. The white reflective layer 20 also serves as a substrate gap material, and has a thickness that determines the layer thickness of the liquid crystal composition 15.
Furthermore, an alignment film 16 is deposited on the entire surface of the substrate.

【0182】白色反射層20の形成は、ストライプ電極
13を形成した基板11の上に、TiO2 を分散したレ
ジスト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)
を膜厚5μmとなるように印刷し、60℃30分の仮焼
成を施した後、図26(b)に示す、部分的に切れた棒
状パターン形状となるようマスクを用いて露光し、NM
D3溶液((株)東京応化製)で現像し、150℃12
0分の焼成を行い、観察側基板の非変調部の一部に基板
間隙材の機能を有する本発明の白色反射層20を形成し
た。
The white reflective layer 20 is formed by forming a resist material in which TiO 2 is dispersed on the substrate 11 on which the stripe electrode 13 is formed (TiO 2 dispersion liquid: manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.).
Is printed to have a film thickness of 5 μm, and calcination is performed at 60 ° C. for 30 minutes, followed by exposure using a mask so as to form a partially cut rod-shaped pattern shown in FIG.
Develop with D3 solution (Tokyo Ohka Co., Ltd.), 150 ° C 12
Firing was performed for 0 minutes to form a white reflective layer 20 of the present invention having a function as a substrate gap material on a part of the non-modulation portion of the observation side substrate.

【0183】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図26
(c)に示すような構成となるように,実施例1と同様
の4分の1波長板31、反射板30を対向基板外面に張
り付け、本実施例の液晶表示素子を得た。
Using the two substrates thus obtained, a liquid crystal cell was prepared by using the same material and manufacturing method as in Example 1, and as shown in FIG.
The quarter-wave plate 31 and the reflection plate 30 similar to those in Example 1 were attached to the outer surface of the counter substrate so that the structure as shown in (c) was obtained, and the liquid crystal display element of this example was obtained.

【0184】実施例1と同様、駆動電圧4Vにて、反射
率及びコントラスト比を実施例1と同様の方法にて測定
したところ、反射率は45%と高い値であり、コントラ
スト比を測定したところ、6:1と極めて高い値であっ
た。
Similar to Example 1, the reflectance and the contrast ratio were measured at the driving voltage of 4 V by the same method as in Example 1. The reflectance was as high as 45%, and the contrast ratio was measured. However, it was an extremely high value of 6: 1.

【0185】また、液晶層厚を干渉膜厚計で測定したと
ころ、セル全面のバラツキは±0.05μmと殆ど均一
なセル厚となっていることがわかった。
Further, when the liquid crystal layer thickness was measured by an interference film thickness meter, it was found that the variation over the entire cell surface was ± 0.05 μm, which was an almost uniform cell thickness.

【0186】以上説明した、本発明の第1の態様にかか
る液晶表示素子は、暗状態において非変調部が白色反射
層になっていることにより、変調部の暗さ、黒さは際立
って見え、さらに明状態においても非変調部が白色反射
層となっていることにより、明るさが向上し、実際に見
た目に感じられるコントラスト比が顕著に高く、明るい
反射型液晶表示素子が得られる。
In the liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention described above, the darkness and blackness of the modulation portion are conspicuous because the non-modulation portion is the white reflective layer in the dark state. Further, even in the bright state, the non-modulation portion is the white reflective layer, so that the brightness is improved, and the contrast ratio actually perceived is remarkably high, and a bright reflective liquid crystal display element can be obtained.

【0187】以下、本発明の第2の態様に係る実施例に
ついて説明する。
Examples according to the second aspect of the present invention will be described below.

【0188】(実施例11)図27に示すように、厚さ
0.7mmのガラス基板51上にMIM(Metal−
Insulator−Metal)素子52を形成し、
画素数が480×320のMIM素子付き下基板を作製
した。また、厚さ0.7mmのガラス基板53上にIT
Oストライプパターン電極54を形成し、ITO透明電
極付き上基板を作製した。
(Embodiment 11) As shown in FIG. 27, MIM (Metal-Metal) is formed on a glass substrate 51 having a thickness of 0.7 mm.
Forming an Insulator-Metal) element 52,
A lower substrate with an MIM element having 480 × 320 pixels was manufactured. In addition, the IT is mounted on the glass substrate 53 having a thickness of 0.7 mm.
The O stripe pattern electrode 54 was formed, and the upper substrate with an ITO transparent electrode was produced.

【0189】次いで、こうして得られた上下基板51,
53の電極形成面に、それぞれポリイミド材(商品名A
L−1051、(株)日本合成ゴム社製)を塗布、焼成
して配向膜55を形成し、ラビング処理を行った後、上
基板にスペーサ(間隙材)として粒径8μmのミクロパ
ールSP((株)積水ファインケミカル社製)を散布密
度100/mm2 にて散布し、次いで、下基板の周辺に
5mm幅の開口部を除いて、1液性エポキシ樹脂(商品
名XN−21、三井東圧化学(株)社製)からなる周辺
シールパターンをスクリーン印刷により形成した。
Then, the upper and lower substrates 51, thus obtained,
The polyimide material (trade name A
L-1051 (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied and baked to form an alignment film 55, and after rubbing treatment, a micropearl SP (particle size 8 μm) as a spacer (spacer) on the upper substrate ( Sekisui Fine Chemical Co., Ltd. was sprayed at a spraying density of 100 / mm 2 , and then a 1-component epoxy resin (trade name XN-21, Mitsui Higashi) was used except for the 5 mm wide opening around the lower substrate. A peripheral seal pattern made of pressure chemical Co., Ltd. was formed by screen printing.

【0190】そして、これらの基板を各電極形成面が対
向するようにして重ね合わせ、基板間隙が間隙材の粒径
と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時間焼成し
た後、この空セル内に、正の誘電異方性を示すネマティ
ック液晶材料(商品名ZLI−4801−100、
(株)メルクジャパン社製)に2色性の黒色染料(商品
名LA103/4、(株)三菱化成社製)を2.0wt
%添加したものを減圧注入法により注入し、周辺シール
パターンの開口部を紫外線硬化樹脂(商品名UV−10
00、(株)ソニーケミカル社製)により封止して基板
間で液晶層56を挟持し、液晶セル57を作製した。
Then, these substrates were superposed so that the respective electrode forming surfaces face each other, and baked at 180 ° C. for 2 hours while pressurizing so that the substrate gap was equal to the grain size of the gap material, and then in this empty cell. , A nematic liquid crystal material exhibiting positive dielectric anisotropy (trade name: ZLI-4801-100,
2.0 wt% of dichroic black dye (trade name: LA103 / 4, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) in Merck Japan Co., Ltd.
% Added by a reduced pressure injection method, and the opening of the peripheral seal pattern is filled with an ultraviolet curable resin (trade name: UV-10
00, manufactured by Sony Chemical Co., Ltd., and the liquid crystal layer 56 was sandwiched between the substrates to form a liquid crystal cell 57.

【0191】次いでこうして得られた液晶セル57の下
面に、積層タイプの全波長域1/4波長位相差板
((株)日東電工社製)58と、ガラス基板表面に常温
でAlを300nmの厚さに蒸着した鏡面反射板59を
順に貼着した。一方、ガラス基板60の表面にスプレー
法によりSnO2 を凹凸状に被膜した後、その上にこれ
よりも屈折率の低いSnO2 の層61をスパッタリング
により形成することにより、拡散効果を有すると同時に
入射光の減衰を防止する光拡散板62を形成した。そし
て、この光拡散板62を前記液晶セル57の上に設置
し、液晶表示素子を作製した。
Next, on the lower surface of the liquid crystal cell 57 thus obtained, a laminated type full-wavelength quarter-wave retarder (manufactured by Nitto Denko Corporation) 58, and 300 nm of Al at room temperature on the glass substrate surface at room temperature. The specular reflection plate 59 vapor-deposited to a thickness was attached in order. On the other hand, SnO 2 is coated on the surface of the glass substrate 60 in a concavo-convex shape by a spray method, and then a layer 61 of SnO 2 having a lower refractive index than this is formed by sputtering to have a diffusion effect and at the same time. A light diffusing plate 62 that prevents the attenuation of incident light is formed. Then, the light diffusing plate 62 was placed on the liquid crystal cell 57 to manufacture a liquid crystal display element.

【0192】図28(a)及び28(b)は、こうして
得られた本実施例の液晶表示素子の動作を説明するもの
である。電圧無印加の暗状態では、図28(a)に示す
ように、非偏光入射光Liが、液晶層56を通過するこ
とにより一方向直線偏光となり、次いで1/4波長位相
差板58を通過して円偏光となり、鏡面反射板59で反
射された後、再び1/4波長位相差板58を通過するこ
とにより、最初の直線偏光に対して偏光方向が90°ず
れた直線偏光となる。そのため、再び液晶層56を通過
するときに、この直線偏光がゲスト染料(黒色染料)に
より吸収され、反射光として出射されない。
FIGS. 28 (a) and 28 (b) are for explaining the operation of the liquid crystal display device of this embodiment thus obtained. In the dark state in which no voltage is applied, as shown in FIG. 28A, the unpolarized incident light Li passes through the liquid crystal layer 56 to become one-way linearly polarized light, and then passes through the quarter-wave retardation plate 58. Then, the light becomes circularly polarized light, is reflected by the specular reflection plate 59, and then passes through the quarter-wave retardation plate 58 again to become linearly polarized light whose polarization direction is deviated from the initial linearly polarized light by 90 °. Therefore, when passing through the liquid crystal layer 56 again, this linearly polarized light is absorbed by the guest dye (black dye) and is not emitted as reflected light.

【0193】一方、図28(b)に示すように、電圧が
印加された明状態では、液晶層56のゲスト染料分子を
含む液晶分子配列が、基板の法線方向に平行となるた
め、基板の法線方向に入射された入射光Liは、偏光さ
れず、1/4波長位相差板58をそのまま通過して、鏡
面反射板59で反射される。そのため、再び液晶層56
を通過する際に、染料分子により吸収されることなく、
反射光Lrとして出射される。ここで、このまま反射光
Lrが出射すると、液晶表示素子の輝度は基板の法線方
向にのみ高くなってしまうが、表面が凹凸状に形成され
た光拡散板62を通過することにより、反射光Lrが拡
散されるので、視角依存性が無く、明るい表示が得られ
る。
On the other hand, as shown in FIG. 28B, in the bright state in which a voltage is applied, the liquid crystal molecule array including guest dye molecules of the liquid crystal layer 56 is parallel to the normal line direction of the substrate, The incident light Li that has entered in the normal direction is not polarized, passes through the quarter-wave retardation plate 58 as it is, and is reflected by the specular reflection plate 59. Therefore, again the liquid crystal layer 56
Without being absorbed by dye molecules when passing through
The reflected light Lr is emitted. Here, if the reflected light Lr is emitted as it is, the brightness of the liquid crystal display element is increased only in the normal direction of the substrate, but the reflected light is passed by passing through the light diffusion plate 62 having an uneven surface. Since Lr is diffused, there is no viewing angle dependency and a bright display can be obtained.

【0194】次に、このような動作により光制御する本
実施例の液晶表示素子について、反射率およびコントラ
スト比を、標準拡散板(MgO板)の輝度を反射率10
0%として常法により測定した。液晶層56への印加電
圧が4Vとなるように、全表示画素のMIM素子に電圧
を印加したところ、反射率が86%と極めて高い値が得
られた。また、液晶層56への印加電圧が0Vと4Vと
なるように、MIM素子を用いて全画素に電圧を印加し
てコントラスト比を測定したところ、20:1と極めて
高い値であった。
Next, regarding the liquid crystal display element of the present embodiment in which light control is performed by such an operation, the reflectance and the contrast ratio, and the brightness of the standard diffuser plate (MgO plate) are the reflectance 10
The value was set to 0% and measured by a conventional method. When a voltage was applied to the MIM elements of all the display pixels so that the voltage applied to the liquid crystal layer 56 was 4 V, the reflectance was 86%, which was an extremely high value. When the contrast ratio was measured by applying a voltage to all the pixels using an MIM element so that the applied voltage to the liquid crystal layer 56 was 0 V and 4 V, the contrast ratio was a very high value of 20: 1.

【0195】さらに、本実施例の液晶表示素子に、1ラ
イン置きに白黒を反転させたストライプパターンと、3
0画素×30画素の正方形形状を黒表示させたパターン
と、逆に前記正方形形状を白表示させたパターンの3種
のパターンを表示させ、これを正面から観察したとこ
ろ、視差は殆ど気にならない程度のものであった。
Furthermore, in the liquid crystal display element of this embodiment, a stripe pattern in which black and white are inverted every other line, and 3
When three types of patterns, that is, a pattern in which a square shape of 0 pixels × 30 pixels is displayed in black and a pattern in which the square shape is displayed in white, are displayed and observed from the front, parallax is hardly noticeable. It was of a degree.

【0196】(実施例12)図29に示すように、厚さ
1.1mmのガラス基板63上にAlを300nmの厚
さに蒸着した後、線幅300μm、線間10μm、ライ
ン長さ240mm、ライン数480本になるようにスト
ライプ状にパターニングし、鏡面反射板を兼ねた電極
(走査電極)64を形成した。また、厚さ1.1mmの
ガラス基板65上にITO被膜を形成し、線幅300μ
m、線間10μm、ライン長さ150mm、ライン数6
40本でストライプ状にパターニングし、ITOからな
る透明電極(信号電極)66を形成した。
Example 12 As shown in FIG. 29, Al was vapor-deposited to a thickness of 300 nm on a glass substrate 63 having a thickness of 1.1 mm, and then the line width was 300 μm, the line spacing was 10 μm, and the line length was 240 mm. Patterning was performed in stripes so that the number of lines was 480, and an electrode (scanning electrode) 64 that also served as a specular reflection plate was formed. In addition, an ITO film is formed on the glass substrate 65 having a thickness of 1.1 mm and the line width is 300 μm.
m, line spacing 10 μm, line length 150 mm, number of lines 6
The 40 electrodes were patterned in a stripe shape to form a transparent electrode (signal electrode) 66 made of ITO.

【0197】次いで、Alからなる電極64が形成され
た第1の基板(下基板)とITO透明電極66が形成さ
れた第2の基板(上基板)の電極形成面に、それぞれ一
塩基性クロム錯体を塗布して配向膜67を形成し、ラビ
ング処理を行った後、これらの基板をAl電極64とI
TO透明電極66とが互いに直交するように対向させ、
実施例11と同様にしてシール部68とスペーサ69を
それぞれ設けるとともに、上下基板間に液晶組成物を挟
持して液晶層70(厚さd 3.4μm)とし、駆動液
晶セル71を作製した。
Then, monobasic chrome is respectively formed on the electrode forming surfaces of the first substrate (lower substrate) on which the electrode 64 made of Al is formed and the second substrate (upper substrate) on which the ITO transparent electrode 66 is formed. After the complex is applied to form the alignment film 67 and the rubbing process is performed, these substrates are treated with the Al electrodes 64 and I.
The TO transparent electrode 66 and the TO transparent electrode 66 are opposed to each other at right angles,
In the same manner as in Example 11, the seal portion 68 and the spacer 69 were provided, and the liquid crystal composition was sandwiched between the upper and lower substrates to form the liquid crystal layer 70 (thickness d: 3.4 μm), and the driving liquid crystal cell 71 was produced.

【0198】ここで、第1および第2基板のラビング
は、矢印aおよびa′で示すように平行かつ反対向きに
施し、液晶層70の液晶分子は基板表面においてプレチ
ルト角約89°の垂直配向となっているようにした。ま
た、基板間に挟持される液晶として、負の誘電異方性を
示すZLI−2585((株)メルクジャパン社製)を
使用した。この液晶のΔn(屈折率異方性)は波長55
0nmで0.039であり、液晶セル71における液晶
層20のΔnと層厚dを乗じたリタデーション値は、
0.132μm(132nm)である。なお、波長55
0nmは、色感度的に目立つものを波長の代表的数値と
して挙げたものである。
Here, the rubbing of the first and second substrates is performed in parallel and in opposite directions as indicated by arrows a and a ′, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 70 are vertically aligned on the substrate surface with a pretilt angle of about 89 °. It has become. As the liquid crystal sandwiched between the substrates, ZLI-2585 (manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) showing negative dielectric anisotropy was used. Δn (refractive index anisotropy) of this liquid crystal is 55
It is 0.039 at 0 nm, and the retardation value obtained by multiplying Δn of the liquid crystal layer 20 in the liquid crystal cell 71 by the layer thickness d is
It is 0.132 μm (132 nm). The wavelength 55
0 nm is a typical numerical value of the wavelength that is conspicuous in terms of color sensitivity.

【0199】次いで、こうして得られた液晶セル71の
上に、図30に示すように、偏光板72を、その吸収軸
bがラビング方向a、a′に対して45°をなすように
配置した。一方、ガラス基板の表面にスプレー法により
SnO2 を凹凸状に被膜した後、その上にこれよりも屈
折率の低いSnO2 の層をスパッタリングにより形成す
ることにより、拡散効果を有すると同時に入射光の減衰
を防止する光拡散板73を形成した。そして、この光拡
散板73を前記偏光板72の上に設置し、液晶表示素子
を作製した。
Next, as shown in FIG. 30, a polarizing plate 72 was placed on the liquid crystal cell 71 thus obtained so that its absorption axis b was 45 ° with respect to the rubbing directions a and a '. . On the other hand, the surface of the glass substrate is coated with SnO 2 in a concavo-convex shape by a spray method, and then a layer of SnO 2 having a lower refractive index than this is formed by sputtering to have a diffusion effect and at the same time to provide incident light. The light diffusing plate 73 is formed to prevent the above attenuation. Then, the light diffusing plate 73 was placed on the polarizing plate 72 to manufacture a liquid crystal display element.

【0200】このようにして得られた液晶表示素子を1
/240dutyマルチプレクス駆動したところ、電圧
無印加時には液晶セル71のリタデーションがほぼ0と
なることから白表示、電圧印加時には液晶セル71のリ
タデーションがほぼ1/4波長となることから黒表示と
なり、コントラスト比が10対1、反射率が30%と視
認性に優れた液晶表示素子が実現できた。
A liquid crystal display device thus obtained was
/ 240duty multiplex drive, when no voltage is applied, the liquid crystal cell 71 has a retardation of almost 0, so white display is performed. When a voltage is applied, the liquid crystal cell 71 has a retardation of approximately 1/4 wavelength, which is a black display, resulting in a contrast. A liquid crystal display device having excellent visibility with a ratio of 10: 1 and a reflectance of 30% was realized.

【0201】(実施例13)液晶層70として、(株)
メルクジャパン社製の液晶ZLI−4850を用いる以
外は実施例12と同様な構成で、駆動液晶セル71を作
製した。この液晶のΔnは波長550nmで0.20
8、液晶層70の厚さdは4.2μmであり、液晶セル
71の液晶のΔnと層厚dを乗じたリタデーション値
は、0.874μm(874nm)である。
Example 13 As a liquid crystal layer 70,
A driving liquid crystal cell 71 was produced in the same configuration as in Example 12 except that the liquid crystal ZLI-4850 manufactured by Merck Japan Ltd. was used. The Δn of this liquid crystal is 0.20 at a wavelength of 550 nm.
8. The thickness d of the liquid crystal layer 70 is 4.2 μm, and the retardation value obtained by multiplying Δn of the liquid crystal of the liquid crystal cell 71 by the layer thickness d is 0.874 μm (874 nm).

【0202】次いで、こうして得られた液晶セル71の
上に、位相差板74と偏光板72とを図31に示すよう
な配置で組み合わせた。すなわち、液晶セル71の上
に、ポリカーボネイトを延伸してなるリタデーション値
が125nm(1/4波長)の位相差板74を、延伸軸
cがラビング方向a、a′に対して直交するように配置
し、さらにそのうえに、実施例12で使用したと同じ偏
光板72と光拡散板73を順に設置して、液晶表示素子
を作製した。
Next, on the liquid crystal cell 71 thus obtained, the retardation plate 74 and the polarizing plate 72 were combined in the arrangement as shown in FIG. That is, a retardation plate 74 having a retardation value of 125 nm (1/4 wavelength) formed by stretching polycarbonate is disposed on the liquid crystal cell 71 so that the stretching axis c is orthogonal to the rubbing directions a and a ′. Then, the same polarizing plate 72 and light diffusing plate 73 as those used in Example 12 were placed in that order, and a liquid crystal display element was produced.

【0203】このようにして得られた液晶表示素子を1
/240dutyマルチプレクス駆動したところ、電圧
無印加時には位相差板74と液晶セル71のリタデーシ
ョンの差がほぼ1/4波長となることから黒表示、電圧
印加時に位相差板74と液晶セル71のリタデーション
の差がほぼ3/2波長となることから白表示となる。そ
して、コントラスト比が13対1と実施例12に比べて
より大きく、反射率が28%と視認性に優れた液晶表示
素子が得られた。
The liquid crystal display device thus obtained was
/ 240duty multiplex drive, the retardation difference between the retardation plate 74 and the liquid crystal cell 71 is about 1/4 wavelength when no voltage is applied. Therefore, black display is performed, and the retardation between the retardation plate 74 and the liquid crystal cell 71 is applied when a voltage is applied. The difference is about 3/2 wavelength, so white display is performed. A liquid crystal display device having a contrast ratio of 13: 1, which is larger than that of Example 12, and a reflectance of 28%, which is excellent in visibility, was obtained.

【0204】(実施例14)位相差板74のリタデーシ
ョン値を250nmとした以外は、実施例13と同様の
構成で液晶表示素子を作製した。
(Example 14) A liquid crystal display device was produced in the same structure as in Example 13 except that the retardation value of the retardation plate 74 was set to 250 nm.

【0205】このようにして得られた液晶表示素子を1
/240dutyマルチプレクス駆動したところ、電圧
無印加状態で位相差板74と駆動液晶セル71とのリタ
デーションの差がほぼ1/2波長となることから白表
示、電圧印加状態で位相差板74と液晶セル71とのリ
タデーションの差が5/4波長となることから黒表示と
なり、コントラスト比が10対1、反射率が35%と視
認性に優れた液晶表示素子が得られた。
The liquid crystal display device thus obtained was
/ 240duty multiplex drive, the retardation difference between the retardation plate 74 and the driving liquid crystal cell 71 is about 1/2 wavelength when no voltage is applied, so white display is performed, and the retardation plate 74 and the liquid crystal are applied when voltage is applied. Since the difference in retardation from the cell 71 was 5/4 wavelength, black display was obtained, and a liquid crystal display device having excellent visibility with a contrast ratio of 10: 1 and a reflectance of 35% was obtained.

【0206】なお、以上の実施例では、光拡散板とし
て、ガラス基板上にSnO2 の凹凸被膜を形成したもの
を用いたが、入射光の減衰がなくかつ拡散効果の得られ
るものであれば、それ以外にも使用することができる。
すなわち、エッチングにより表面を粗面化したガラス板
等を好適に用いることができる。
In the above examples, the light diffusing plate having the SnO 2 uneven coating formed on the glass substrate was used, but any light diffusing plate that does not attenuate incident light and has a diffusing effect can be used. , Can be used for other purposes.
That is, a glass plate or the like whose surface is roughened by etching can be preferably used.

【0207】また、実施例12〜14においては、反射
板を兼ねたAl電極を走査電極とし、ITO透明電極を
信号電極としてマルチプレクス駆動を行ったが、電極構
成を反対にしても良い。さらにこれらの実施例では、垂
直配列させたECBモードの液晶セルを用いたが、水平
配列のECBモード、STN(Super Twist
ed Nematic)モードの液晶セル等を使用して
も、同様の効果を達成することができる。また、駆動方
式としてMIMやTFT(薄膜トランジスタ)からなる
スイッチング素子を用いた液晶表示素子や、カラーフィ
ルタを用いたカラー液晶表示素子においても、本発明の
構成を採ることにより同様の効果を上げることができ
る。
Further, in the twelfth to fourteenth embodiments, the multiplex driving is performed by using the Al electrode also serving as the reflecting plate as the scanning electrode and the ITO transparent electrode as the signal electrode, but the electrode structure may be reversed. Further, in these Examples, the vertically aligned ECB mode liquid crystal cells were used, but the horizontally aligned ECB mode, STN (Super Twist) was used.
Even if a liquid crystal cell of ed Nematic) mode is used, the same effect can be achieved. Further, also in a liquid crystal display element using a switching element composed of MIM or TFT (thin film transistor) as a driving method or a color liquid crystal display element using a color filter, the same effect can be obtained by adopting the configuration of the present invention. it can.

【0208】以上の説明から明らかなように、本発明の
第2の態様によれば、反射率およびコントラスト比が高
く視認性に優れた反射型の液晶表示素子を実現すること
ができる。
As is clear from the above description, according to the second aspect of the present invention, it is possible to realize a reflection type liquid crystal display device having a high reflectance and a high contrast ratio and excellent visibility.

【0209】以下、本発明の第3の態様に係る実施例に
ついて詳細に説明する。
Hereinafter, examples according to the third aspect of the present invention will be described in detail.

【0210】実施例15 図32〜34、及び実施例1の説明で参照した図14
(a)〜14(d)、図15(a)〜図17を参照し
て、本実施例の液晶表示素子を示す。
Example 15 FIGS. 32-34 and FIG. 14 referred to in the description of Example 1.
The liquid crystal display element of the present embodiment is shown with reference to (a) to 14 (d) and FIGS. 15 (a) to 17.

【0211】0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、一
方の観察側の上基板11に、SiOX 層19を600n
mの厚さに蒸着し、図32に示すパタ−ンAの形状にパ
タ−ニングし、その上に、図14(a)及び14(b)
に示すように、MIM素子18をもつ電極13のパター
ンを作成した。図14(a)は一画素の電極形状を示し
ており、一画素は縦横180μm×180μmの寸法を
有している。図14(b)は上基板11の有効表示領域
の形状を示しており、各画素がマトリクス状に配列され
る。57.6mm×86.4mm内に画素数480×3
20が配列される。
Two 0.7 mm thick glass substrates were used, and 600 n of SiO x layer 19 was formed on the upper substrate 11 on one observation side.
m, vapor-deposited, patterned in the shape of pattern A shown in FIG. 32, and formed on top of that as shown in FIGS. 14 (a) and 14 (b).
As shown in, a pattern of the electrode 13 having the MIM element 18 was created. FIG. 14A shows an electrode shape of one pixel, and each pixel has dimensions of 180 μm × 180 μm in length and width. FIG. 14B shows the shape of the effective display area of the upper substrate 11, in which the pixels are arranged in a matrix. Number of pixels 480 x 3 within 57.6 mm x 86.4 mm
Twenty are arranged.

【0212】図33に示すように、観察側の上基板11
にはMIM素子18と配線22および透明電極13が形
成される。図34に示すように、SiOX 層19とIT
O層13は、二次元的に分布している。それぞれの屈折
率は、SiOX が1.50、ITOが1.90であり、
屈折率差δnは、0.40である。双方の層厚Dは、6
00nmであるので、δnDは、0.24μmとなり、
この部分が回折格子となり、光拡散層として作用する。
As shown in FIG. 33, the upper substrate 11 on the observation side
The MIM element 18, the wiring 22, and the transparent electrode 13 are formed on the. As shown in FIG. 34, the SiO x layer 19 and the IT
The O layer 13 is two-dimensionally distributed. The refractive index of each is 1.50 for SiO x and 1.90 for ITO,
The refractive index difference δn is 0.40. The layer thickness D of both is 6
Since it is 00 nm, δnD is 0.24 μm,
This portion serves as a diffraction grating and acts as a light diffusion layer.

【0213】また、ITO層は画素電極であり、必須の
ものである。前述したように、ITOの屈折率は1.9
0と高く、他の層との界面で不要の反射を生ずる(例え
ば、ガラス基板、配向膜は、屈折率が1.90であり、
屈折率差が大きいため、界面反射を生じ易い。しかし、
本実施例では、ITO層の表面は凹凸状であるので、前
記反射成分は拡散され、表示のコントラストへの影響
は、従来よりも低減される。
The ITO layer is a pixel electrode and is essential. As mentioned above, the refractive index of ITO is 1.9.
It is as high as 0 and causes unnecessary reflection at the interface with other layers (for example, a glass substrate and an alignment film have a refractive index of 1.90,
Since the difference in refractive index is large, interface reflection is likely to occur. But,
In this embodiment, since the surface of the ITO layer is uneven, the reflection component is diffused and the influence on the display contrast is reduced as compared with the conventional case.

【0214】一方、対向側の下基板12には、複数のス
トライプ状透明電極14が、前記画素電極に対応させて
平行にならべて形成される。これら電極13,14上に
配向膜16,17が被着され、液晶組成物層15が基板
間に挟持される。
On the other hand, a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 14 are formed in parallel on the lower substrate 12 on the opposite side so as to correspond to the pixel electrodes. Alignment films 16 and 17 are deposited on these electrodes 13 and 14, and the liquid crystal composition layer 15 is sandwiched between the substrates.

【0215】本実施例に係る液晶表示装置は、次のよう
にして製造される。
The liquid crystal display device according to this example is manufactured as follows.

【0216】即ち、まず、図14(a)に示す上基板1
1上に表面を酸化させた第1のTa層18a(表面に膜
厚100nmのTaO2 膜が設けられている)を図示す
るようなパターンで形成し、しかる後、第2のTa層2
2(膜厚100nm)を図示するように一部が第1のT
a膜18aにかかる配線パターンの形に形成した。
That is, first, the upper substrate 1 shown in FIG.
A first Ta layer 18a whose surface is oxidized (a TaO 2 film having a film thickness of 100 nm is provided on the surface) is formed on the first layer 1 in a pattern as illustrated, and then the second Ta layer 2 is formed.
2 (thickness 100 nm) shows a part of the first T
The wiring pattern was formed on the a film 18a.

【0217】その後、基板全面にITOを200nmの
膜厚に成膜し、レジスト材料としてポジ型のレジスト材
料(OFPR−5000、(株)東京応化製)を全面に
塗布し、60℃で30分の仮焼成を施した後、画素電極
パターンが形成できるようにマスクを用いて露光し、N
MD3溶液((株)東京応化製)で現像し、図14
(a)の参照数字13で示すITO膜の上にのみレジス
トパタ−ンが被覆した構成とした。
Then, an ITO film having a thickness of 200 nm is formed on the entire surface of the substrate, and a positive resist material (OFPR-5000, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) is applied as the resist material on the entire surface, followed by heating at 60 ° C. for 30 minutes. After calcination is performed, exposure is performed using a mask so that a pixel electrode pattern can be formed, and N
After development with MD3 solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), FIG.
Only the ITO film indicated by reference numeral 13 in (a) is covered with the resist pattern.

【0218】次に、このレジストパタ−ンをマスクとし
て用いて、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1
・水10)によりITOのエッチングを行った。しかる
後、前記レジストパタ−ンを剥離した。
Next, using this resist pattern as a mask, an aqueous hydrochloric acid / nitric acid solution (mixing ratio hydrochloric acid 10 / nitric acid 1
-ITO was etched with water 10). Then, the resist pattern was peeled off.

【0219】また、対向する基板12として図14
(c)及び14(d)に示すITOストライプパターン
電極14を形成した基板を作成した。ここで、図14
(c)は,一画素に該当するパターン形状を示してお
り、図14(d)は、有効表示領域12aの形状を示し
ている。
Also, as the opposing substrate 12, FIG.
A substrate having the ITO stripe pattern electrode 14 shown in (c) and 14 (d) was prepared. Here, FIG.
FIG. 14C shows the pattern shape corresponding to one pixel, and FIG. 14D shows the shape of the effective display area 12a.

【0220】こうして得られた2枚の基板の有効表示領
域に、配向剤(AL−1051、(株)日本合成ゴム
製)を印刷、焼成して配向膜16,17を形成し、これ
ら配向膜16,17を前記ITOストライプパターンと
平行であり、且つ対向する基板同士で向きが180°逆
となる方向にラピングした。
Alignment agents (AL-1051, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) are printed and baked in the effective display areas of the two substrates thus obtained to form alignment films 16 and 17, and these alignment films are formed. 16 and 17 were lapped in a direction parallel to the ITO stripe pattern and facing each other by 180 ° opposite to each other.

【0221】次いで、観察側基板に粒径5μmの基板間
隙材(ミクロパールSP、(株)積水ファインケミカル
製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基板の
有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シー
ルパターンをスクリーン印刷法にて形成した。ここで用
いたシール材料は、1液性エポキシ樹脂(XN−21、
三井東圧化学(株)製)である。
Next, a substrate interstitial material (Micropearl SP, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 5 μm was sprayed on the observation side substrate at a spraying density of 100 / mm 2, and a width of 5 mm around the effective display area of the counter substrate. A peripheral seal pattern provided with the openings was formed by screen printing. The seal material used here is a one-component epoxy resin (XN-21,
Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.).

【0222】次に、前記2枚の基板11,12を電極1
3,14面が対向するようにして重ね合わせて、基板間
隙が前記基板間隙材の粒径と等しくなるよう加圧しなが
ら180℃で2時間焼成し、本実施例の液晶表示素子に
用いる空セルを得た。しかる後、前記空セルに液晶材料
として正の誘電異方性を示すネマティック液晶材料ZL
I−2293((株)メルクジャパン製)15aに黒色
の染料LA103/4((株)三菱化成製)15bを
2.0wt%添加したものを減圧注入法にて注入し、液
晶組成物層15とした。
Next, the two substrates 11 and 12 are connected to the electrode 1
The empty cells used in the liquid crystal display device of this embodiment are stacked so that the surfaces 3 and 14 face each other, and are baked at 180 ° C. for 2 hours while applying pressure so that the substrate gap becomes equal to the particle size of the substrate gap material. Got Thereafter, a nematic liquid crystal material ZL showing a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material in the empty cell.
I-2293 (manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) 15a to which 2.0% by weight of black dye LA103 / 4 (manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 15b was added was injected by a reduced pressure injection method to obtain a liquid crystal composition layer 15 And

【0223】その後、前記周辺シールパターンの開口部
を紫外線硬化樹脂UV−1000((株)ソニーケミカ
ル製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用いる液
晶セルを得た。しかる後、図33に示すように、基板1
2に4分の1波長板31、反射板30を張り合わせ、本
実施例の液晶表示素子を得た。ここで用いた反射板30
は、Al蒸着タイプの鏡面反射板である((株)日東電
工製)。4分の1波長板31は、積層タイプの全波長域
4分の1波長板((株)日東電工製)であり、それぞれ
糊付きのものを用いた。
Then, the opening of the peripheral seal pattern was sealed with an ultraviolet curable resin UV-1000 (manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.) to obtain a liquid crystal cell used in the liquid crystal display element of this example. Then, as shown in FIG. 33, the substrate 1
A quarter-wave plate 31 and a reflection plate 30 were attached to 2 to obtain a liquid crystal display element of this example. Reflector 30 used here
Is an Al vapor deposition type specular reflector (manufactured by Nitto Denko Corporation). The quarter-wave plate 31 is a laminated type quarter-wave plate (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) in the entire wavelength range, and each has a paste.

【0224】さて、以上により得られた本実施例の液晶
表示素子の反射率およびコントラスト比を図17に示す
測定装置で測定した。測定は、サンプルの中央から法線
方向の位置に距離30cmに輝度計40を配置し、ほぼ
同じ高さに前記法線方向と30°の角度をなす方向に図
示するように赤緑青3波長に発光する高演色形蛍光灯4
1,42を2灯、配置して、サンプル43部分の照度が
580ルクスとなるようにして、標準拡散板(MgO
板)の輝度を測定し、この輝度を反射率100%とし、
サンプルの反射率およびコントラストを測定した。
The reflectance and contrast ratio of the liquid crystal display device of this example obtained as described above were measured by the measuring device shown in FIG. The measurement is carried out by disposing a luminance meter 40 at a distance of 30 cm from the center of the sample in the direction of the normal line, and at the substantially same height in the direction forming an angle of 30 ° with the normal line, as shown in the figure, for three wavelengths of red, green and blue. High color rendering fluorescent lamp 4 that emits light
Two lamps 1 and 42 are arranged so that the illuminance of the sample 43 portion becomes 580 lux, and the standard diffusion plate (MgO
The brightness of the plate) is measured, and this brightness is set to 100% reflectance,
The reflectance and contrast of the sample were measured.

【0225】その結果、反射率80%、コントラスト比
20:1であった。
As a result, the reflectance was 80% and the contrast ratio was 20: 1.

【0226】実施例16 0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、一方の観察側の
上基板11に、SiOX 層19を600nmの厚さに蒸
着し、図32に示すパタ−ンAの形状にパタ−ニング
し、その上に、SiNX 層を600nmの厚さに蒸着し
た。このSiNX層は除去せずに、この上に、図14
(a)及び14(b)に示すように、MIM素子18を
もつ電極13のパターンを作成した。
Example 16 Two 0.7 mm thick glass substrates were used, and an SiO X layer 19 was vapor-deposited to a thickness of 600 nm on the upper substrate 11 on one observation side to form a pattern A shown in FIG. The pattern was patterned into a shape, and a SiN x layer was vapor-deposited thereon to a thickness of 600 nm. This SiN x layer was not removed, and the
As shown in (a) and 14 (b), a pattern of the electrode 13 having the MIM element 18 was created.

【0227】図14(a)は一画素の電極形状を示して
おり、一画素は縦横180μm×180μmの寸法を有
している。図14(b)は上基板11の有効表示領域の
形状を示しており、各画素がマトリクス状に配列され
る。57.6mm×86.4mm内に画素数480×3
20が配列される。
FIG. 14A shows an electrode shape of one pixel, and each pixel has dimensions of 180 μm × 180 μm in length and width. FIG. 14B shows the shape of the effective display area of the upper substrate 11, in which the pixels are arranged in a matrix. Number of pixels 480 x 3 within 57.6 mm x 86.4 mm
Twenty are arranged.

【0228】図33に示すように、観察側の上基板11
にはMIM素子18と配線22および透明電極13が形
成される。図34に示すように、SiOX 層19とIT
O層13は、二次元的に分布している。それぞれの屈折
率は、SiOX が1.50、SiNX が2.10であ
り、屈折率差δnは、0.60である。双方の層厚D
は、600nmであるので、δnDは、0.36μmと
なり、この部分が回折格子となり、光拡散層として作用
する。
As shown in FIG. 33, the upper substrate 11 on the observation side
The MIM element 18, the wiring 22, and the transparent electrode 13 are formed on the. As shown in FIG. 34, the SiO x layer 19 and the IT
The O layer 13 is two-dimensionally distributed. The respective refractive indexes are 1.50 for SiO x and 2.10 for SiN x , and the refractive index difference δn is 0.60. Both layer thickness D
Is 600 nm, δnD is 0.36 μm, and this portion serves as a diffraction grating and acts as a light diffusion layer.

【0229】更に、光拡散層の上(観察面からみた場
合、奥の方)には、MIMの配線としてTaのパタ−ン
が形成されており、これが前述した白色の反射層と同等
の効果が得られるようになっている。
Further, a Ta pattern is formed as the MIM wiring on the light diffusion layer (in the back side when viewed from the observation surface), which has the same effect as that of the white reflection layer described above. Is obtained.

【0230】以下、実施例15と同様にして、本実施例
に係る液晶表示素子を得た。この液晶表示素子につい
て、実施例15と同様にして評価したところ、反射率8
5%、コントラスト比20:1であった。
Thereafter, in the same manner as in Example 15, a liquid crystal display element according to this example was obtained. When this liquid crystal display element was evaluated in the same manner as in Example 15, the reflectance was 8
The ratio was 5% and the contrast ratio was 20: 1.

【0231】以上の説明から明らかなように、本発明の
第3の態様によれば、明るく、コントラスト比が高い、
優れた反射型の液晶表示素子を実現することができる。
As is clear from the above description, according to the third aspect of the present invention, the brightness is high and the contrast ratio is high.
It is possible to realize an excellent reflective liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の偏光板2枚を具備する反射型TN−LC
Dを示す断面図。
FIG. 1 is a reflection type TN-LC including two conventional polarizing plates.
Sectional drawing which shows D.

【図2】従来の偏光板1枚を具備する反射型ECB−L
CDを示す断面図。
FIG. 2 is a reflection type ECB-L having one conventional polarizing plate.
Sectional drawing which shows CD.

【図3】従来の反射型GH−PC−LCDを示す断面
図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a conventional reflective GH-PC-LCD.

【図4】従来の反射型GH−HOMO−LCDを示す断
面図。
FIG. 4 is a sectional view showing a conventional reflective GH-HOMO-LCD.

【図5】従来の2層型反射型GH−HOMO−LCDを
示す断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional two-layer reflective GH-HOMO-LCD.

【図6】従来の4分の1波長板を用いた反射型GH−H
OMO−LCDを示す断面図。
FIG. 6 is a reflection type GH-H using a conventional quarter-wave plate.
Sectional drawing which shows OMO-LCD.

【図7】本発明の液晶表示素子の一例を示す断面図。FIG. 7 is a sectional view showing an example of a liquid crystal display element of the present invention.

【図8】本発明の液晶表示素子の他の例を示す平面図。FIG. 8 is a plan view showing another example of the liquid crystal display element of the present invention.

【図9】本発明の液晶表示素子の変調部と非変調部の一
例を示す平面図。
FIG. 9 is a plan view showing an example of a modulation section and a non-modulation section of the liquid crystal display element of the present invention.

【図10】本発明の液晶表示素子の他の例を示す平面
図。
FIG. 10 is a plan view showing another example of the liquid crystal display element of the present invention.

【図11】本発明の液晶表示素子の製造工程を示す断面
図。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the liquid crystal display element of the present invention.

【図12】本発明の液晶表示素子の製造工程を示す断面
図。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the liquid crystal display element of the present invention.

【図13】本発明の液晶表示素子の他の例を示す断面
図。
FIG. 13 is a sectional view showing another example of the liquid crystal display element of the present invention.

【図14】本発明の実施例1に係る基板の電極構造を示
す平面図。
FIG. 14 is a plan view showing the electrode structure of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施例1に係る液晶表示素子を示す
断面図。
FIG. 15 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Example 1 of the present invention.

【図16】本発明の実施例の液晶表示素子の表示原理を
説明する図。
FIG. 16 is a diagram for explaining the display principle of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

【図17】液晶表示素子の反射率の測定系を示す図。FIG. 17 is a view showing a measurement system of reflectance of a liquid crystal display element.

【図18】本発明の実施例2に用いた基板の電極構造お
よびカラーフィルターの平面構造を示す平面図。
FIG. 18 is a plan view showing an electrode structure of a substrate and a planar structure of a color filter used in Example 2 of the present invention.

【図19】本発明の実施例2に係る液晶表示素子を示す
断面図。
FIG. 19 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Embodiment 2 of the present invention.

【図20】本発明の実施例3に用いた基板を示す平面
図。
FIG. 20 is a plan view showing a substrate used in Example 3 of the present invention.

【図21】本発明の実施例6に用いた基板の電極を示す
平面図。
FIG. 21 is a plan view showing electrodes of a substrate used in Example 6 of the present invention.

【図22】本発明の実施例6に係る液晶表示素子を示す
断面図。
FIG. 22 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Embodiment 6 of the present invention.

【図23】本発明の実施例7に係る液晶表示素子を示す
断面図。
FIG. 23 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Example 7 of the present invention.

【図24】本発明の実施例8に係る液晶表示素子を示す
断面図。
FIG. 24 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Example 8 of the present invention.

【図25】本発明の実施例9に用いた基板の電極の平面
図及び断面図。
FIG. 25 is a plan view and a cross-sectional view of an electrode of a substrate used in Example 9 of the present invention.

【図26】本発明の実施例10に用いた基板の電極の平
面図及び液晶表示素子の断面図。
26A and 26B are a plan view of electrodes of a substrate and a cross-sectional view of a liquid crystal display element used in Example 10 of the present invention.

【図27】本発明の実施例11に係る液晶表示素子を示
す断面図。
FIG. 27 is a sectional view showing a liquid crystal display element according to Example 11 of the present invention.

【図28】実施例11の液晶表示素子の動作を説明する
図。
FIG. 28 is a view for explaining the operation of the liquid crystal display element of Example 11.

【図29】本発明の液晶表示素子の実施例12〜14に
使用する液晶セルの断面図。
FIG. 29 is a cross-sectional view of a liquid crystal cell used in Examples 12 to 14 of the liquid crystal display element of the present invention.

【図30】実施例12に係る液晶表示素子の構成を概略
的に示す図。
FIG. 30 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal display element according to Example 12.

【図31】実施例13および14に係る液晶表示素子の
構成を概略的に示す図。
FIG. 31 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal display element according to Examples 13 and 14.

【図32】実施例15に係る液晶表示素子のSiOX
のパタ−ンの形状を示す図。
FIG. 32 is a diagram showing the shape of the pattern of the SiO X layer of the liquid crystal display element according to the fifteenth embodiment.

【図33】実施例15に係る液晶表示素子を示す図。FIG. 33 is a diagram showing a liquid crystal display element according to Example 15.

【図34】実施例15に係る液晶表示素子におけるSi
X 層とITO層とが二次元的に分布して回折格子を構
成している光拡散層を示す断面図。
FIG. 34 Si in the liquid crystal display element according to Example 15
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a light diffusion layer in which an O X layer and an ITO layer are two-dimensionally distributed to form a diffraction grating.

【図35】2種の屈折率媒体を3次元的に配置した光拡
散層を示す断面図。
FIG. 35 is a cross-sectional view showing a light diffusion layer in which two types of refractive index media are three-dimensionally arranged.

【図36】2種の屈折率媒体を2次元的に配置した光拡
散層の回折現象示す図。
FIG. 36 is a diagram showing a diffraction phenomenon of a light diffusion layer in which two types of refractive index media are two-dimensionally arranged.

【図37】2種の屈折率媒体の種々の分布形状を示す
図。
FIG. 37 is a diagram showing various distribution shapes of two types of refractive index media.

【図38】2種の屈折率媒体を3次元的に配置した光拡
散層の光反射現象を示す図。
FIG. 38 is a diagram showing a light reflection phenomenon of a light diffusion layer in which two types of refractive index media are three-dimensionally arranged.

【図39】2種の屈折率媒体を2次元的に配置した光拡
散層の光反射現象を示す図。
FIG. 39 is a diagram showing a light reflection phenomenon of a light diffusion layer in which two types of refractive index media are two-dimensionally arranged.

【図40】光拡散層と反射層を分離した液晶表示素子の
構成を示す断面図。
FIG. 40 is a cross-sectional view showing the configuration of a liquid crystal display element in which a light diffusion layer and a reflection layer are separated.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11…上基板、2,12…下基板、3,13…透明
電極、4,14…画素電極、5,15…液晶組成物、1
6,17…配向膜、18…MIMスイッチング素子、2
0…白色反射層、22…配線、30…反射板、31…4
分の1波長板、A…変調部、B…非変調部。
1, 11 ... Upper substrate, 2, 12 ... Lower substrate, 3, 13 ... Transparent electrode, 4, 14 ... Pixel electrode, 5, 15 ... Liquid crystal composition, 1
6, 17 ... Alignment film, 18 ... MIM switching element, 2
0 ... White reflective layer, 22 ... Wiring, 30 ... Reflector, 31 ... 4
Half-wave plate, A ... Modulation section, B ... Non-modulation section.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽藤 仁 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 村山 昭夫 埼玉県深谷市幡羅町1丁目9番2号 株式 会社東芝深谷電子工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Hitoshi Hato 8 Shinsita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside the Yokohama Works of Toshiba Corporation (72) Inventor Akio Murayama 1-2-9 Harara-cho, Fukaya-shi, Saitama Prefecture Stock Company Toshiba Fukaya Electronics Factory

Claims (36)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 観察される側に配置され、一方の主面に
第1の電極が形成された第1の基板と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面に対
向して配置され、その対向主面に第2の電極を有する第
2の基板と、 前記第1及び第2の基板間に挟持された液晶組成物層
と、 前記第1の電極に対応する領域であって、前記第1及び
第2の電極間に印加された電圧により前記液晶組成物が
応答し、入射する光の反射量を変調する変調部と、 この変調部以外の領域である非変調部と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面とは
反対側の面に形成された光拡散層と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面の、
前記非変調部に対応する領域の少なくとも一部に形成さ
れた第1の反射層とを具備する反射型液晶表示素子。
1. A first substrate disposed on the side to be observed and having a first electrode formed on one principal surface, and a principal surface of the first substrate having the first electrode formed thereon. A second substrate, which is arranged to face each other and has a second electrode on its main surface, a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, and which corresponds to the first electrode. A region where the liquid crystal composition responds to the voltage applied between the first and second electrodes and modulates the reflection amount of incident light; A modulation portion, a light diffusion layer formed on a surface of the first substrate opposite to a main surface on which the first electrode is formed, and the first electrode of the first substrate are formed. Of the main surface,
A reflective liquid crystal display device, comprising: a first reflective layer formed on at least a part of a region corresponding to the non-modulation section.
【請求項2】 観察される側に配置され、一方の主面に
第1の電極が形成された第1の基板と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面に対
向して配置され、その対向主面に第2の電極を有する第
2の基板と、 前記第1及び第2の基板間に挟持された液晶組成物層
と、 前記第1の電極に対応する領域であって、前記第1及び
第2の電極間に印加された電圧により前記液晶組成物が
応答し、入射する光の反射量を変調する変調部と、 この変調部以外の領域である非変調部と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面に形
成された光拡散層と、 前記光拡散層上の、前記非変調部に対応する領域の少な
くとも一部に形成された第1の反射層とを具備する反射
型液晶表示素子。
2. A first substrate disposed on the side to be observed and having a first electrode formed on one principal surface thereof, and a principal surface of the first substrate having the first electrode formed thereon. A second substrate, which is arranged to face each other and has a second electrode on its main surface, a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, and which corresponds to the first electrode. A region where the liquid crystal composition responds to the voltage applied between the first and second electrodes and modulates the reflection amount of incident light; A modulation portion, a light diffusion layer formed on the main surface of the first substrate on which the first electrode is formed, and at least a part of a region on the light diffusion layer corresponding to the non-modulation portion. A reflection-type liquid crystal display device comprising the formed first reflection layer.
【請求項3】 前記第2の基板のいずれかの主面に形成
された第2の反射層を更に具備する請求項1又は2に記
載の反射型液晶表示素子。
3. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a second reflective layer formed on any main surface of the second substrate.
【請求項4】 前記第2の反射層は、前記第2の基板の
前記第2の電極が形成されている主面の少なくとも一部
に形成されている請求項3に記載の反射型液晶表示素
子。
4. The reflective liquid crystal display according to claim 3, wherein the second reflective layer is formed on at least a part of a main surface of the second substrate on which the second electrode is formed. element.
【請求項5】 前記第2の反射層は、前記第2の電極が
兼ねている請求項4に記載の反射型液晶表示素子。
5. The reflective liquid crystal display element according to claim 4, wherein the second reflective layer also serves as the second electrode.
【請求項6】 前記第2の反射層は、前記第2の電極上
に形成されている請求項4に記載の反射型液晶表示素
子。
6. The reflective liquid crystal display element according to claim 4, wherein the second reflective layer is formed on the second electrode.
【請求項7】 前記第2の反射層は、前記第2の基板の
前記第2の電極が形成されている主面とは反対側の主面
の少なくとも一部に形成されている請求項3に記載の反
射型液晶表示素子。
7. The second reflective layer is formed on at least a part of a main surface of the second substrate opposite to a main surface on which the second electrode is formed. The reflective liquid crystal display device according to item 1.
【請求項8】 前記第2の反射層は、Al又はAgを主
成分として含む請求項3に記載の反射型液晶表示素子。
8. The reflective liquid crystal display device according to claim 3, wherein the second reflective layer contains Al or Ag as a main component.
【請求項9】 前記第1及び第2の基板のいずれか一方
の電極が形成されている側に、カラ−フィルタ−を具備
する請求項1又は2に記載の反射型液晶表示素子。
9. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a color filter on a side of the first or second substrate on which the electrode is formed.
【請求項10】 前記カラ−フィルタ−は、前記光拡散
層上に配置され、前記反射層は前記カラ−フィルタ−上
に配置されている請求項1又は2に記載の反射型液晶表
示素子。
10. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the color filter is arranged on the light diffusion layer, and the reflection layer is arranged on the color filter.
【請求項11】 前記光拡散層は、屈折率の異なる第1
及び第2の透明屈折率媒体からなる請求項1又は2に記
載の反射型液晶表示素子。
11. The first light diffusion layer has a different refractive index.
And the second transparent refractive index medium, wherein the reflective liquid crystal display device according to claim 1 or 2.
【請求項12】 前記第1の透明屈折率媒体は、ポリス
チレン、SiO2 、及びポリイミドからなる群から選ば
れた材料を主成分として含有し、前記第2の透明屈折率
媒体は、前記第1の透明屈折率媒体の溶媒であるアクリ
ル系材料を主成分として含有する請求項11に記載の反
射型液晶表示素子。
12. The first transparent refractive index medium contains a material selected from the group consisting of polystyrene, SiO 2 and polyimide as a main component, and the second transparent refractive index medium is the first transparent refractive index medium. 12. The reflective liquid crystal display element according to claim 11, which contains an acrylic material as a main component which is a solvent of the transparent refractive index medium.
【請求項13】 前記及び第2の透明屈折率媒体は、前
記液晶組成物の平均屈折率±10%の範囲内の屈折率を
有する請求項11に記載の反射型液晶表示素子。
13. The reflective liquid crystal display device according to claim 11, wherein the transparent refractive index medium and the second transparent refractive index medium have a refractive index within a range of an average refractive index of the liquid crystal composition of ± 10%.
【請求項14】 前記第1の透明屈折率媒体は、前記液
晶組成物の常光屈折率とほぼ等しいか又は近似する屈折
率を有し、前記第2の透明屈折率媒体は、前記液晶組成
物の異常屈折率とほぼ等しいか又は近似する屈折率を有
する請求項13に記載の反射型液晶表示素子。
14. The first transparent refractive index medium has a refractive index substantially equal to or close to the ordinary refractive index of the liquid crystal composition, and the second transparent refractive index medium is the liquid crystal composition. 14. The reflective liquid crystal display element according to claim 13, which has a refractive index substantially equal to or close to the extraordinary refractive index of.
【請求項15】 前記光拡散層は、前記第1及び第2の
透明屈折率媒体を略平面的に配置してなる回折格子であ
る請求項13に記載の反射型液晶表示素子。
15. The reflective liquid crystal display device according to claim 13, wherein the light diffusion layer is a diffraction grating formed by arranging the first and second transparent refractive index media in a substantially planar manner.
【請求項16】 前記回折格子は、前記第1及び第2の
透明屈折率媒体をチェック状に配置してなる請求項15
に記載の反射型液晶表示素子。
16. The diffraction grating has the first and second transparent refractive index media arranged in a check pattern.
The reflective liquid crystal display device according to item 1.
【請求項17】 前記第1の透明屈折率媒体は、ポリス
チレン、SiO2 、及びポリイミドからなる群から選ば
れた材料を主成分として含有し、前記液晶組成物の常光
屈折率とほぼ等しいか又は近似する屈折率を有し、前記
第2の透明屈折率媒体は、ITO及び窒化珪素からなる
群から選ばれた材料を主成分として含有し、前記第2の
透明屈折率媒体の屈折率と前記第1の透明屈折率媒体と
の差δnと前記光拡散層の層厚Dを乗じた値δnDが
0.1μm〜0.4μmであり、前記光拡散層は、前記
第1及び第2の透明屈折率媒体を平面的にチェック状に
配置してなる回折格子である請求項13に記載の反射型
液晶表示素子。
17. The first transparent refractive index medium contains a material selected from the group consisting of polystyrene, SiO 2 and polyimide as a main component, and is substantially equal to the ordinary refractive index of the liquid crystal composition, or The second transparent refractive index medium having a similar refractive index contains as a main component a material selected from the group consisting of ITO and silicon nitride, and has a refractive index of the second transparent refractive index medium The value δnD obtained by multiplying the difference δn from the first transparent refractive index medium by the layer thickness D of the light diffusing layer is 0.1 μm to 0.4 μm, and the light diffusing layer has the first and second transparent layers. 14. The reflective liquid crystal display device according to claim 13, which is a diffraction grating in which refractive index media are arranged in a check pattern in a plane.
【請求項18】 前記第2の反射層は、Al又はAgを
主成分として含み、前記光拡散層は、2種類の透明な屈
折率媒体からなる請求項3に記載の反射型液晶表示素
子。
18. The reflective liquid crystal display device according to claim 3, wherein the second reflective layer contains Al or Ag as a main component, and the light diffusion layer is composed of two kinds of transparent refractive index media.
【請求項19】 前記液晶組成物は、二色性染料を含有
する請求項1又は2に記載の反射型液晶表示素子。
19. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal composition contains a dichroic dye.
【請求項20】前記4分の1波長板及び第2の反射板
は、前記第2の基板の前記第2の電極が形成されている
主面の側に配置されている請求項19に記載の反射型液
晶表示素子。
20. The quarter-wave plate and the second reflector are arranged on the side of the main surface of the second substrate on which the second electrode is formed. Reflective LCD device.
【請求項21】 前記液晶組成物は、光反射機能を有
し、前記第1の反射層を兼ねる請求項1又は2に記載の
反射型液晶表示素子。
21. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal composition has a light reflecting function and also serves as the first reflective layer.
【請求項22】 前記液晶組成物は、高分子分散型液晶
組成物である請求項21に記載の反射型液晶表示素子。
22. The reflective liquid crystal display device according to claim 21, wherein the liquid crystal composition is a polymer-dispersed liquid crystal composition.
【請求項23】 前記高分子分散型液晶組成物は、エマ
ルジョン型高分子分散型液晶組成物である請求項22に
記載の反射型液晶表示素子。
23. The reflective liquid crystal display device according to claim 22, wherein the polymer dispersed liquid crystal composition is an emulsion polymer dispersed liquid crystal composition.
【請求項24】 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオ−ド
のいずれか一方を有するアクティブマトリックス型液晶
表示素子である請求項1又は2に記載の反射型液晶表示
素子。
24. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, which is an active matrix liquid crystal display device having one of a thin film transistor and a thin film diode.
【請求項25】 前記第1の反射層は、前記薄膜トラン
ジスタ及び薄膜ダイオ−ドのいずれか一方の配線機能を
有する請求項24に記載の反射型液晶表示素子。
25. The reflective liquid crystal display device according to claim 24, wherein the first reflective layer has a wiring function of one of the thin film transistor and the thin film diode.
【請求項26】 前記第2の基板の前記第2の電極が形
成されている主面とは反対側には、凹面鏡反射レンズか
らなる反射板が配置されている請求項1又は2に記載の
反射型液晶表示素子。
26. The reflection plate formed of a concave mirror reflection lens is arranged on the opposite side of the main surface of the second substrate on which the second electrode is formed. Reflective liquid crystal display device.
【請求項27】 観察される側に配置され、一方の主面
に第1の電極が形成された第1の基板と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面に対
向して配置され、その対向主面に第2の電極を有する第
2の基板と、 前記第1及び第2の基板間に挟持された液晶組成物層
と、 前記第1の電極に対応する領域であって、前記第1及び
第2の電極間に印加された電圧により前記液晶組成物が
応答し、入射する光の反射量を変調する変調部と、 この変調部以外の領域である非変調部と、 前記第1の基板の前記第1の電極が形成された主面とは
反対側の面に形成され、屈折率の異なる第1及び第2の
透明屈折率媒体を略平面的に配置してなる回折格子から
なる光拡散層と、 前記第2の基板のいずれか一方の主面に形成された鏡面
反射層とを具備する反射型液晶表示素子。
27. A first substrate, which is disposed on the side to be observed and has a first electrode formed on one main surface thereof, and a main surface of the first substrate on which the first electrode is formed. A second substrate, which is arranged to face each other and has a second electrode on its main surface, a liquid crystal composition layer sandwiched between the first and second substrates, and which corresponds to the first electrode. A region where the liquid crystal composition responds to the voltage applied between the first and second electrodes and modulates the reflection amount of incident light; The modulator and the first and second transparent refractive index media, which are formed on the surface of the first substrate opposite to the main surface on which the first electrode is formed, and which have different refractive indexes, are formed in a substantially planar manner. A light diffusing layer formed of a diffraction grating arranged and a specular reflection layer formed on one of the main surfaces of the second substrate. A reflective liquid crystal display device.
【請求項28】 前記回折格子は、3角形及び4角形の
いずれか一方の形状を有する最小構成単位をチェック状
に平面配置してなる請求項27に記載の反射型液晶表示
素子。
28. The reflection type liquid crystal display device according to claim 27, wherein the diffraction grating is formed by arranging minimum constituent units having one of a triangular shape and a quadrangular shape in a check pattern.
【請求項29】 前記鏡面反射層は、前記第2の基板の
前記第2の電極が形成された主面に形成されている請求
項27に記載の反射型液晶表示素子。
29. The reflective liquid crystal display element according to claim 27, wherein the specular reflection layer is formed on a main surface of the second substrate on which the second electrode is formed.
【請求項30】 前記鏡面反射層は、前記第2の電極が
兼ねている請求項29に記載の反射型液晶表示素子。
30. The reflective liquid crystal display element according to claim 29, wherein the specular reflection layer also serves as the second electrode.
【請求項31】 前記鏡面反射層は、Al又はAgを主
成分として含む請求項29に記載の反射型液晶表示素
子。
31. The reflective liquid crystal display device according to claim 29, wherein the specular reflection layer contains Al or Ag as a main component.
【請求項32】 前記第1及び第2の透明屈折率媒体の
いずれか一方は、ITO及び窒化珪素からなる群から選
ばれた一種からなる透明導電体であり、この透明導電体
は、他方の透明屈折率媒体により凹凸面を有し、かつ前
記透明導電体は前記第2の電極が兼ねている請求項27
に記載の反射型液晶表示素子。
32. One of the first and second transparent refractive index media is a transparent conductor made of a kind selected from the group consisting of ITO and silicon nitride, and the transparent conductor is the other one. 28. The transparent conductive medium has an uneven surface, and the transparent conductor also serves as the second electrode.
The reflective liquid crystal display device according to item 1.
【請求項33】 前記第1の透明屈折率媒体は、ポリス
チレン、SiO2 、及びポリイミドからなる群から選ば
れた材料を主成分として含有し、前記液晶組成物の常光
屈折率とほぼ等しいか又は近似する屈折率を有し、前記
第2の透明屈折率媒体は、ITO及び窒化珪素からなる
群から選ばれた材料を主成分として含有し、前記第2の
透明屈折率媒体の屈折率と前記第1の透明屈折率媒体と
の差δnと前記光拡散層の層厚Dを乗じた値δnDが
0.1μm〜0.4μmである請求項27に記載の反射
型液晶表示素子。
33. The first transparent refractive index medium contains a material selected from the group consisting of polystyrene, SiO 2 and polyimide as a main component, and is substantially equal to the ordinary refractive index of the liquid crystal composition, or The second transparent refractive index medium having a similar refractive index contains as a main component a material selected from the group consisting of ITO and silicon nitride, and has a refractive index of the second transparent refractive index medium The reflective liquid crystal display device according to claim 27, wherein a value δnD obtained by multiplying a difference δn from the first transparent refractive index medium by a layer thickness D of the light diffusion layer is 0.1 μm to 0.4 μm.
【請求項34】 前記液晶組成物が、黒色染料を含有す
る正の誘電異方性を示すネマティック液晶であり、前記
第1及び第2の基板間においてホモジニアス分子配列し
ており、前記第2の基板の側に、4分の1波長板及び第
2の反射板が配置されている請求項1、2、又は27に
記載の反射型液晶表示素子。
34. The liquid crystal composition is a nematic liquid crystal containing a black dye and exhibiting positive dielectric anisotropy, and has a homogeneous molecular arrangement between the first and second substrates. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, 2 or 27, wherein a quarter-wave plate and a second reflection plate are arranged on the side of the substrate.
【請求項35】 観察される側に配置され、一方の主面
に第1の電極が形成された第1の基板、前記第1の基板
の前記第1の電極が形成された主面に対向して配置さ
れ、その対向主面に第2の電極を有する第2の基板、及
び前記第1及び第2の基板間に挟持され、黒色染料を含
有する誘電異方性を示すネマティック液晶からなる液晶
組成物層を備えた液晶セルと、 前記液晶セルの観察される側に配置され、表面に反射防
止膜が被着された光拡散板と、 前記液晶組成物層の観察される側とは反対側に配置され
た鏡面反射部材と、 前記液晶組成物層と前記鏡面反射部材との間に配置さ
れ、通過する光の位相を1/4波長ずらす1/4波長位
相差板とを具備する反射型液晶表示素子。
35. A first substrate, which is disposed on the observed side and has a first electrode formed on one principal surface thereof, and which opposes the principal surface of the first substrate on which the first electrode is formed. A second substrate having a second electrode on the opposite main surface thereof, and a nematic liquid crystal having a black dye and exhibiting dielectric anisotropy, sandwiched between the first and second substrates. A liquid crystal cell provided with a liquid crystal composition layer, a light diffusing plate disposed on the observed side of the liquid crystal cell and having a surface coated with an antireflection film, and an observed side of the liquid crystal composition layer. A specular reflection member arranged on the opposite side; and a quarter wave retardation plate arranged between the liquid crystal composition layer and the specular reflection member for shifting the phase of light passing therethrough by a quarter wavelength. Reflective liquid crystal display device.
【請求項36】 観察される側に配置され、一方の主面
に第1の電極が形成された第1の基板、前記第1の基板
の前記第1の電極が形成された主面に対向して配置さ
れ、その対向主面に第2の電極を有する第2の基板、及
び前記第1及び第2の基板間に挟持され、誘電異方性を
示すネマティック液晶からなる液晶組成物層を備えた液
晶セルと、 前記液晶セルの観察される側に配置され、表面に反射防
止膜が被着された光拡散板と、 前記液晶組成物層と前記光拡散板との間に配置された偏
光板と、 前記液晶組成物層の観察される側とは反対側に配置され
た鏡面反射部材と、 前記偏光板と前記液晶組成物層との間、又は前記液晶組
成物層と前記鏡面反射部材との間に配置され位相差板と
を具備する反射型液晶表示素子。
36. A first substrate arranged on the side to be observed and having a first electrode formed on one main surface thereof, and facing the main surface of the first substrate having the first electrode formed thereon. A second substrate having a second electrode on the opposite main surface thereof, and a liquid crystal composition layer made of nematic liquid crystal exhibiting dielectric anisotropy, sandwiched between the first and second substrates. A liquid crystal cell provided, a light diffusing plate disposed on the observed side of the liquid crystal cell and having a surface coated with an antireflection film, and disposed between the liquid crystal composition layer and the light diffusing plate. A polarizing plate, a specular reflection member arranged on the side opposite to the observed side of the liquid crystal composition layer, between the polarizing plate and the liquid crystal composition layer, or between the liquid crystal composition layer and the specular reflection A reflection type liquid crystal display device, which is provided between the member and a retardation plate.
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