JPH08245858A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

Info

Publication number
JPH08245858A
JPH08245858A JP7844795A JP7844795A JPH08245858A JP H08245858 A JPH08245858 A JP H08245858A JP 7844795 A JP7844795 A JP 7844795A JP 7844795 A JP7844795 A JP 7844795A JP H08245858 A JPH08245858 A JP H08245858A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
weight
block copolymer
general formula
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7844795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinya Hikita
真也 疋田
Kenji Nagai
健児 永井
Norihisa Ujigawa
典久 氏川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
Nippon Oil and Fats Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Oil and Fats Co Ltd filed Critical Nippon Oil and Fats Co Ltd
Priority to JP7844795A priority Critical patent/JPH08245858A/en
Publication of JPH08245858A publication Critical patent/JPH08245858A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain an epoxy resin composition reduced in stress and excellent in mechanical properties and heat resistance by mixing a composition mainly consisting of an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler with an A-B type block copolymer. CONSTITUTION: This epoxy resin composition mainly consists of an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler and an A-B type block copolymer composed of a polymer block A comprising recurring units of formula I and recurring units of formula II and a polymer block B comprising recurring units of formula III and recurring units of formula IV. In the formula, R is H or methyl; and n is 1-12, provided that the case in which n=4 is excluded when R is H. The weight-average molecular weight (in terms of styrene) of A-B type copolymer is 50,000-200,000. When the weight - average molecular weight is below 50,000 or above 200,000, the effect of reducing stress is insufficient.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低応力(即ち、熱的な
原因に基づく内部応力が緩和されている状態)で機械的
特性及び耐熱性に優れ、接着剤、塗料、電気・電子部品
等に用いるのに適したエポキシ樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is excellent in mechanical properties and heat resistance under low stress (that is, in a state where internal stress due to thermal causes is relaxed), and is used for adhesives, paints, electric / electronic parts. The present invention relates to an epoxy resin composition suitable for use in the above.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は電気絶縁性、機械的特性
等に優れているため、ダイオード、トランジスタ、集積
回路等の電子電気部品の封止や含浸等に信頼性の高い絶
縁材料として広く用いられている。特に半導体装置の封
止には、従来のガラス、金属、セラミックを用いたハー
メッチクシール方式の代わりに、前記の物性の向上や生
産性の向上、製造コストの低減などのためにエポキシ樹
脂による樹脂封止が中心となっている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Epoxy resin is widely used as a highly reliable insulating material for sealing and impregnating electronic and electrical parts such as diodes, transistors and integrated circuits because it has excellent electrical insulation and mechanical properties. ing. In particular, for sealing semiconductor devices, epoxy resin is used instead of the conventional hermetic seal method using glass, metal, or ceramic to improve the above-mentioned physical properties, productivity, and manufacturing cost. The main focus is resin encapsulation.

【0003】しかし、近年の半導体素子の高性能化に伴
う素子サイズの大型化傾向により、従来問題にならなか
った封止成形時の素子上への応力、即ち、はんだ処理等
の実装工程における熱による内部応力の問題が半導体の
信頼性に重要な影響を持つようになってきた。つまり熱
による内部応力によって半導体チップがダメージを受け
たり、チップと樹脂との界面に剥離が生じるという問題
がある。
However, due to the trend toward larger element sizes in recent years due to the higher performance of semiconductor elements, the stress on the element during sealing molding, which has not been a problem in the past, that is, heat in the mounting process such as soldering The problem of internal stress caused by the has come to have an important influence on the reliability of semiconductors. That is, there is a problem that the semiconductor chip is damaged by internal stress due to heat, or peeling occurs at the interface between the chip and the resin.

【0004】内部応力は一般に線膨張係数と弾性率の積
に比例する。線膨張係数を下げるために、無機充填材を
添加する方法が提案されている。
Internal stress is generally proportional to the product of the coefficient of linear expansion and the elastic modulus. In order to reduce the linear expansion coefficient, a method of adding an inorganic filler has been proposed.

【0005】一方、弾性率を低下させるために、シリコ
ンオイルやシリコンゴム等のシリコン化合物あるいはウ
レタンゴムやブタジエンゴム等を添加する方法が提案
[ジャーナル.アドヘジョン「J.Adhesion」
33巻、19頁(1990)]されている。
On the other hand, in order to reduce the elastic modulus, a method of adding a silicon compound such as silicone oil or silicone rubber, or urethane rubber or butadiene rubber is proposed [Journal. Adhesion "J. Adhesion"
33, p. 19 (1990)].

【0006】さらに、エポキシ樹脂との相溶性が良好な
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(例えば、ビー
・エフ・グッドリッチ「BF Goodrich」社
製、商品名:ハイカー「Hycar」 CTBN 13
00X13)を低応力化剤として配合する方法も提案
[コンポジット.サイエンス.テクノロジー「Comp
s.Sci.,Technol.」31巻、179頁
(1988)]されている。しかし、エポキシ樹脂との
相溶性が高すぎるためエポキシ樹脂自体の特徴である高
いガラス転移温度、機械的強度を損なう結果となってい
る。また合成ゴム類を添加することで、硬化時の架橋密
度が低下するため、耐熱性が低下するという問題があ
り、いずれの特性も満足する樹脂組成物は得られていな
いのが実状である。
Further, an acrylonitrile-butadiene copolymer having good compatibility with an epoxy resin (for example, manufactured by BF Goodrich "BF Goodrich", trade name: Hiker "Hycar" CTBN 13).
00X13) is also proposed as a method of blending as a stress reducing agent [Composite. Science. Technology "Comp
s. Sci. , Technol. 31: 179 (1988)]. However, since the compatibility with the epoxy resin is too high, the high glass transition temperature and the mechanical strength which are the characteristics of the epoxy resin itself are impaired. In addition, the addition of synthetic rubber causes a problem that the crosslink density at the time of curing is lowered, so that there is a problem that the heat resistance is lowered, and in reality, a resin composition satisfying all the properties has not been obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、エポキシ樹脂
に前記無機充填材を添加する方法は、多量に配合すると
機械的強度、流動性、耐湿性等が低下するという問題点
があった。またエポキシ樹脂に前記シリコン化合物やゴ
ムを添加する方法は、これらの低応力化剤はエポキシ樹
脂との相溶性が悪いため硬化時にブリードしてリードフ
レームや半導体素子との密着性が低下するという問題が
あった。さらに前記アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体を配合する方法は、エポキシ樹脂との相溶性が高す
ぎるためエポキシ樹脂自体の特徴である高いガラス転移
温度、機械的強度を損なう結果となっている。また合成
ゴム類を添加することで、硬化時の架橋密度が低下する
ため、耐熱性が低下するという問題があり、いずれの特
性も満足する樹脂組成物は得られていないのが実状であ
る。
However, the method of adding the above-mentioned inorganic filler to the epoxy resin has a problem that mechanical strength, fluidity, moisture resistance and the like are deteriorated when a large amount is blended. In addition, the method of adding the silicon compound or rubber to the epoxy resin has a problem that these stress-reducing agents have poor compatibility with the epoxy resin and bleed at the time of curing to reduce the adhesion with the lead frame or the semiconductor element. was there. Furthermore, the method of blending the acrylonitrile-butadiene copolymer has a result that the high glass transition temperature and the mechanical strength which are the characteristics of the epoxy resin itself are impaired because the compatibility with the epoxy resin is too high. In addition, the addition of synthetic rubber causes a problem that the crosslink density at the time of curing is lowered, so that there is a problem that the heat resistance is lowered, and in reality, a resin composition satisfying all the properties has not been obtained.

【0008】本発明の目的は上記に鑑み、硬化時のブリ
ードを抑え、硬化物の機械的特性と耐熱性を悪化させる
こと無く低応力化を図ることができるエポキシ樹脂組成
物を提供することである。
[0008] In view of the above, an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition capable of suppressing bleeding at the time of curing and reducing stress without deteriorating the mechanical properties and heat resistance of the cured product. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、エポキシ樹
脂、硬化剤及び無機充填材を主成分とする組成物(1)
(以下組成物(1)と略す)に対して、一般式(1)
The present invention provides a composition (1) containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler as main components.
(Hereinafter abbreviated as composition (1)), the general formula (1)

【化5】 で示される重合体単位と一般式(2)Embedded image And a polymer unit represented by the general formula (2)

【化6】 (式中、Rは水素又はメチル基であり、nは1〜12の
整数である。ただしRが水素の場合n=4を除く)で示
される重合体単位とから形成される重合体部分Aと、一
般式(3)
[Chemical 6] (In the formula, R is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 12. However, when R is hydrogen, n = 4 is excluded.) And the general formula (3)

【化7】 で示される重合体単位と一般式(4)[Chemical 7] And a polymer unit represented by the general formula (4)

【化8】 で示される重合体単位とから形成される重合体部分Bと
からなるA−B型ブロック共重合体を含有してなること
を特徴とするエポキシ樹脂組成物に関するものである。
Embedded image The present invention relates to an epoxy resin composition comprising an AB type block copolymer composed of a polymer unit B represented by and a polymer portion B formed from the polymer unit B.

【0010】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる組成
物(1)中のエポキシ樹脂としては公知の各種のものが
使用でき、その分子中にエポキシ結合を少なくとも2個
以上有するものであれば分子構造、分子量等に特に制限
はない。例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂等が挙げられるが、不純物や加水分解
性塩素の少ないものが望ましい。エポキシ樹脂は組成物
(1)中での割合が5〜90重量%、好ましくは15〜
70重量%である。5重量%未満では機械的特性が低下
し、90重量%を越えると成形性が悪く実用に適さな
い。
Various known epoxy resins can be used as the epoxy resin in the composition (1) used in the epoxy resin composition of the present invention, and the molecular structure thereof can be any one having at least two epoxy bonds in the molecule. The molecular weight is not particularly limited. Examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and the like, and those having less impurities and hydrolyzable chlorine are preferable. The proportion of the epoxy resin in the composition (1) is 5 to 90% by weight, preferably 15 to
It is 70% by weight. If it is less than 5% by weight, the mechanical properties are deteriorated, and if it exceeds 90% by weight, the moldability is poor and it is not suitable for practical use.

【0011】また、組成物(1)中の硬化剤としては、
例えばフェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラッ
ク樹脂等のフェノール系硬化剤、アミン系硬化剤及び酸
無水物系硬化剤等のエポキシ樹脂の硬化剤として従来公
知の各種のものが挙げられる。これらは2種以上を併用
してもよく、使用量については特に制限はないが、エポ
キシ基に対して化学量論加えることが必要である。
Further, as the curing agent in the composition (1),
For example, various conventionally known hardeners for epoxy resins such as phenolic hardeners such as phenol novolac resin and cresol novolac resin, amine hardeners and acid anhydride hardeners may be mentioned. Two or more of these may be used in combination, and the amount used is not particularly limited, but it is necessary to add stoichiometry to the epoxy group.

【0012】組成物(1)中の無機充填材としては、公
知のものが使用できる。例えば、水酸化アルミ、結晶質
シリカ、溶融シリカ、珪酸カルシウム、炭酸カルシウ
ム、タルク、硫酸バリウム等の粉体やガラス繊維等が挙
げられる。無機充填材の配合量としてはエポキシ樹脂、
硬化剤及び無機充填材の合計量に対して、内割りで15
〜90重量%、好ましくは20〜80重量%である。無
機充填材の配合量が15重量%未満の組成物(1)で
は、耐湿性、耐熱性、機械的特性及び成形性を損ない、
90重量%を越えると成形性が悪く実用に適さない。
Known inorganic fillers can be used as the inorganic filler in the composition (1). Examples thereof include powders of aluminum hydroxide, crystalline silica, fused silica, calcium silicate, calcium carbonate, talc, barium sulfate, and glass fibers. The amount of the inorganic filler compounded is epoxy resin,
15% of the total amount of curing agent and inorganic filler
˜90 wt%, preferably 20-80 wt%. The composition (1) containing less than 15% by weight of the inorganic filler impairs moisture resistance, heat resistance, mechanical properties and moldability,
If it exceeds 90% by weight, the moldability is poor and it is not suitable for practical use.

【0013】組成物(1)には必要に応じて例えば天然
ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸
アミド、エステル類、パラフィン類等の離型剤、塩素化
パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロムベンゼン、
三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベン
ガラ等の着色剤、シランカップリング剤、ベンジルジメ
チルアミン、イミダゾール等の硬化促進剤等を適宜添加
配合することもできる。組成物(1)中におけるその割
合は通常0.01〜20重量%である。好ましくは0.
2〜15重量%である。
If necessary, the composition (1) includes, for example, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of straight chain fatty acids, acid amides, esters, release agents such as paraffins, chlorinated paraffins, bromotoluene. , Hexabromobenzene,
A flame retardant such as antimony trioxide, a colorant such as carbon black and red iron oxide, a silane coupling agent, a curing accelerator such as benzyldimethylamine and imidazole may be appropriately added and blended. The proportion thereof in the composition (1) is usually 0.01 to 20% by weight. Preferably 0.
It is 2 to 15% by weight.

【0014】組成物(1)にはさらに必要に応じてエポ
キシ樹脂希釈剤を使用することもできる。希釈剤として
は例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、アルコー
ル、ケトン、セルソルブなどの有機溶剤や反応性希釈剤
と呼ばれるn−ブチルグリシジルエーテル、アリルグリ
シジルエーテル、メタクリル酸グリシジル、ジグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテル等を使用することが可能である。希釈剤は多量に
加えると架橋密度が減少するためエポキシ樹脂の効果特
性を低下させる傾向がある。従って、少量の添加量で所
定粘度まで減らすことができ、しかも硬化特性を損なわ
ないものが望ましい。エポキシ樹脂に対して通常1〜3
0重量%である。好ましくは5〜20重量%である。
If necessary, an epoxy resin diluent may be used in the composition (1). Examples of the diluent include organic solvents such as benzene, toluene, xylene, alcohol, ketone, and cellosolve, and n-butyl glycidyl ether called allyl glycidyl ether, reactive glycidyl ether, glycidyl methacrylate, diglycidyl ether, and trimethylolpropane trihydrate. It is possible to use glycidyl ether or the like. If a diluent is added in a large amount, the cross-linking density decreases, so that the effect characteristics of the epoxy resin tend to be deteriorated. Therefore, it is desirable that the viscosity can be reduced to a predetermined value with a small amount of addition and the curing characteristics are not impaired. Usually 1-3 for epoxy resin
0% by weight. It is preferably 5 to 20% by weight.

【0015】次に、本発明のエポキシ樹脂組成物に用い
るA−B型ブロック共重合体について詳しく説明する。
本発明のA−B型ブロック共重合体の重量平均分子量
(スチレン換算であり、以下同様である)は5万〜20
万、好ましくは7万〜15万である。重量平均分子量が
5万未満あるいは20万より大きい場合はいずれも低応
力の効果が不十分である。本発明におけるA−B型ブロ
ック共重合体において、重合体部分Aは、一般式(1)
で示される重合体単位と一般式(2)で示される重合体
単位とから形成されるランダム共重合体であり、一般式
(1)で示される重合体単位はアクリル酸ブチル、そし
て一般式(2)で示される重合体単位は(メタ)アクリ
ル酸エステルを出発原料として合成されるものである。
そして好ましくは重合体部分Aの1〜70重量%が一般
式(1)で示される重合体単位から形成されている。更
に好ましくは5〜50重量%である。一般式(1)で示
される重合体単位が70重量%を越える場合には、重合
体部分Aのガラス転移温度が低くなり硬化樹脂のガラス
転移温度が低くなる。また、A−B型ブロック共重合体
の製造時に重合体の合一が起こり、実質的に本発明に使
用可能なA−B型ブロック共重合体を製造することが困
難である。また、一般式(1)で示される重合体単位が
1重量%未満の場合には低応力化の効果が不充分であ
る。
Next, the AB block copolymer used in the epoxy resin composition of the present invention will be described in detail.
The weight average molecular weight (in terms of styrene, the same applies hereinafter) of the AB block copolymer of the present invention is 50,000 to 20.
10,000, preferably 70,000 to 150,000. When the weight average molecular weight is less than 50,000 or more than 200,000, the effect of low stress is insufficient. In the AB block copolymer of the present invention, the polymer portion A has the general formula (1)
Is a random copolymer formed from a polymer unit represented by the formula (1) and a polymer unit represented by the general formula (2), wherein the polymer unit represented by the general formula (1) is butyl acrylate and the general formula ( The polymer unit represented by 2) is synthesized from (meth) acrylic acid ester as a starting material.
And preferably 1 to 70% by weight of the polymer portion A is formed from the polymer unit represented by the general formula (1). It is more preferably 5 to 50% by weight. When the polymer unit represented by the general formula (1) exceeds 70% by weight, the glass transition temperature of the polymer portion A becomes low and the glass transition temperature of the cured resin becomes low. In addition, the coalescence of the polymers occurs during the production of the AB block copolymer, and it is substantially difficult to produce the AB block copolymer that can be used in the present invention. Further, when the polymer unit represented by the general formula (1) is less than 1% by weight, the effect of lowering the stress is insufficient.

【0016】本発明におけるA−B型ブロック共重合体
の重合体部分Bは、一般式(3)で示される重合体単位
と一般式(4)で示される重合体単位とから形成される
ランダム共重合体であり、一般式(3)で示される重合
体単位はメタクリル酸メチル、そして一般式(4)で示
される重合体単位はメタクリル酸グリシジルを出発原料
として合成されるものである。好ましくは重合体部分B
の70〜99重量%が一般式(3)で示される重合体単
位から形成されているが、更に好ましくは80〜90重
量%である。一般式(3)で示される重合体単位が70
重量%より少ない場合は、A−B型ブロック共重合体を
含むエポキシ樹脂硬化物の耐熱性が損なわれるし、逆に
99重量%より多い場合は低応力化効果が不充分とな
る。また必要に応じて、原料となる単量体中に(メタ)
アクリル酸エステルを配合することにより、一般式
(5)
The polymer portion B of the AB block copolymer in the present invention is a random unit formed from a polymer unit represented by the general formula (3) and a polymer unit represented by the general formula (4). It is a copolymer, and the polymer unit represented by the general formula (3) is synthesized by using methyl methacrylate, and the polymer unit represented by the general formula (4) is synthesized by using glycidyl methacrylate as a starting material. Preferably polymer portion B
70 to 99% by weight is formed from the polymer unit represented by the general formula (3), and more preferably 80 to 90% by weight. The polymer unit represented by the general formula (3) is 70
When the amount is less than wt%, the heat resistance of the epoxy resin cured product containing the AB block copolymer is impaired, and conversely, when the amount is more than 99 wt%, the stress reducing effect is insufficient. In addition, if necessary, (meth) may be added to the raw material monomer.
By adding an acrylate ester, the general formula (5)

【化9】 (式中、Rは水素又はメチル基であり、nは2〜12の
整数である。)で示される重合体単位を重合体部分Bの
中に10重量%以下の範囲で含ませることが可能であ
る。
[Chemical 9] (In the formula, R is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 2 to 12.) The polymer unit B can be contained in the polymer portion B in an amount of 10% by weight or less. Is.

【0017】重合体部分A及び重合体部分Bの形成に用
いられる(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ヘキ
シル、(メタ)アクリル酸ラウリルなどアクリル酸ブチ
ルを除く(メタ)アクリル酸エステルの炭素数1〜12
のアルキルエステルが挙げられる。
As the (meth) acrylic acid ester used for forming the polymer part A and the polymer part B, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate,
Propyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, etc. Excluding butyl acrylate (meth) acrylic acid ester having 1 to 12 carbon atoms
Alkyl ester of.

【0018】さらに、本発明におけるA−B型ブロック
共重合体においてA−Bの構成比率はA/Bが、好まし
くは1/99〜50/50重量%である。更に好ましく
は5/95〜40/60である。重合体部分Aが1重量
%未満の場合には低応力化の効果が不充分であり、50
重量%を越える場合には、A−B型ブロック共重合体の
軟化温度が低くなり乾燥時や保管時に合一が起こるため
重合体の取扱いが困難なため実用に適さない。本発明に
おいて、ランダム共重合体は使用できない。なぜなら低
応力化の効果が不十分となるからである。さらにコア−
シェルポリマーでもブロック体にくらべ低応力化効果が
小さいため適さない。アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体の場合は機械的強度が極端に低下するため適さな
い。
Further, in the AB type block copolymer of the present invention, the proportion of AB is A / B, preferably 1/99 to 50/50% by weight. More preferably, it is 5/95 to 40/60. When the polymer portion A is less than 1% by weight, the effect of lowering the stress is insufficient, and
If it exceeds 5% by weight, the softening temperature of the AB block copolymer becomes low and coalescence occurs during drying and storage, which makes the polymer difficult to handle and is not suitable for practical use. Random copolymers cannot be used in the present invention. This is because the effect of reducing the stress becomes insufficient. Further core
Shell polymers are also not suitable because they have a smaller stress lowering effect than block bodies. Acrylonitrile-butadiene copolymer is not suitable because the mechanical strength is extremely reduced.

【0019】本発明におけるA−B型ブロック共重合体
の含有量は、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を主
成分とする組成物(1)100重量部に対して、好まし
くは0.1〜10重量部である。更に好ましくは0.5
〜8重量部である。0.1重量部未満では低応力化効果
が不充分であり、10重量部を越えると機械的特性が損
なわれる傾向にある。
The content of the AB block copolymer in the present invention is preferably 0.1 based on 100 parts by weight of the composition (1) containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler as main components. 10 to 10 parts by weight. More preferably 0.5
~ 8 parts by weight. If it is less than 0.1 part by weight, the effect of reducing stress is insufficient, and if it exceeds 10 parts by weight, the mechanical properties tend to be impaired.

【0020】本発明におけるA−B型ブロック共重合体
は、重合開始剤としてポリメリックペルオキシドを用い
る二段階重合法として公知の製造プロセス(例えば、特
公昭60−3327号公報、特公昭63−30956号
公報記載)により製造される。この際、重合体部分Aあ
るいはBを構成するいずれか一方の単量体混合物の第一
段重合反応で生じた分子内にペルオキシ結合を有する重
合体は、中間体として反応系から取り出して次のブロッ
ク共重合体(混合物)の原料にすることもできるし、反
応系から取り出すことなく引き続いて第二段ブロック共
重合反応に供することもできる。また、重合方法として
は、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法または溶液重
合方法等の任意の重合方法が採用されるが、工業的には
懸濁重合法が最も好ましい。
The AB block copolymer in the present invention is a production process known as a two-step polymerization method using a polymeric peroxide as a polymerization initiator (for example, JP-B-60-3327 and JP-B-63-30956). It is manufactured by the method described in the publication. At this time, the polymer having a peroxy bond in the molecule generated in the first stage polymerization reaction of either one of the monomer mixtures constituting the polymer portion A or B is taken out from the reaction system as an intermediate and It can be used as a raw material of the block copolymer (mixture), or can be continuously used for the second stage block copolymerization reaction without being taken out from the reaction system. Further, as the polymerization method, any polymerization method such as a bulk polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method or a solution polymerization method is adopted, but the suspension polymerization method is most preferable industrially.

【0021】前記のポリメリックペルオキシドとして
は、各種のポリメリックペルオキシド(例えば、特公昭
60−3327号公報記載のもの)が使用され、これら
のうち一種又は二種以上が使用されるが、下記一般式
(6)及び(7)で示されるものが最も好ましい。
As the above-mentioned polymeric peroxide, various polymeric peroxides (for example, those described in Japanese Examined Patent Publication No. 60-3327) are used, and one or more of them are used. Most preferred are those represented by 6) and (7).

【0022】[0022]

【化10】 (nは2〜20の整数を示す。)[Chemical 10] (N represents an integer of 2 to 20.)

【0023】[0023]

【化11】 (nは2〜20の整数を示す。)[Chemical 11] (N represents an integer of 2 to 20.)

【0024】ポリメリックペルオキシドの使用量は、一
段重合反応に用いる前記重合体部分AあるいはBを構成
する単量体単独もしくは単量体混合物100重量部に対
して0.1〜10重量部、重合温度は第一段重合反応に
ついては40〜80℃、第二段重合反応については60
〜100℃でありかつ第二段重合反応における重合温度
は、第一段重合反応における重合温度より高いことが好
ましい。
The amount of the polymeric peroxide used is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer alone or the monomer mixture constituting the polymer portion A or B used in the one-step polymerization reaction, and the polymerization temperature. Is 40 to 80 ° C. for the first stage polymerization reaction and 60 for the second stage polymerization reaction.
It is preferable that the polymerization temperature is -100 ° C and the polymerization temperature in the second-stage polymerization reaction is higher than the polymerization temperature in the first-stage polymerization reaction.

【0025】ところで、A−B型ブロック共重合体の製
造時に単独重合体が副生するが、前記製造法によれば、
全重合物中に占める正味のA−B型ブロック共重合体の
割合、すなわちブロック率が80%以上と高いため、本
発明におけるエポキシ樹脂の低応力化剤として使用する
場合には、特に精製する必要なくそのまま用いることが
できる。
By the way, a homopolymer is by-produced during the production of the AB block copolymer. According to the above production method,
Since the ratio of the net AB block copolymer in the total polymer, that is, the block ratio is as high as 80% or more, it is particularly purified when used as a stress reducing agent for the epoxy resin in the present invention. It can be used as it is without need.

【0026】また、必要に応じて1−ドデカンチオール
等の連鎖移動剤を1重量%未満の範囲で使用することも
できる。
If necessary, a chain transfer agent such as 1-dodecanethiol may be used in the range of less than 1% by weight.

【0027】本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて成形
する方法は、用途に応じて通常の注型法、圧縮成形法、
射出成形法、トランスファー成形法、インジェクション
成形法等のいずれも使用できる。
The molding method using the epoxy resin composition of the present invention may be a usual casting method, compression molding method, or
Any of an injection molding method, a transfer molding method, an injection molding method and the like can be used.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、エポキシ樹脂に相溶す
るセグメントとゴムセグメントを有する特定のA−B型
ブロック共重合体を配合することにより、低応力で、機
械的特性、耐熱性に優れたエポキシ樹脂組成物が得られ
る。
According to the present invention, by incorporating a specific AB type block copolymer having a segment compatible with an epoxy resin and a rubber segment, low stress, mechanical properties and heat resistance can be obtained. An excellent epoxy resin composition is obtained.

【0029】[0029]

【実施例】以下、本発明を実施例、参考例及び比較例に
より具体的に説明する。なお、各例中、部及び%は特に
断らない限り重量部及び重量%を示す。また表1及び表
2中の化合物の略記号は次の化合物を示す。 BA :アクリル酸ブチル MMA:メタクリル酸メチル GMA:メタクリル酸グリシジル PMA:メタクリル酸プロピル HMA:メタクリル酸ヘキシル また試験法は次の方法である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples, Reference Examples and Comparative Examples. In addition, in each example, a part and% show a weight part and weight% unless there is particular notice. The abbreviations of the compounds in Table 1 and Table 2 indicate the following compounds. BA: Butyl acrylate MMA: Methyl methacrylate GMA: Glycidyl methacrylate PMA: Propyl methacrylate HMA: Hexyl methacrylate The test method is as follows.

【0030】〔エポキシ当量の測定法〕エポキシ当量
は、JIS K 7236に従い過塩素酸/酢酸溶液を
使用した滴定により測定する。
[Measurement Method of Epoxy Equivalent] Epoxy equivalent is measured by titration using a perchloric acid / acetic acid solution according to JIS K 7236.

【0031】〔歪み測定〕歪みゲージ(共和電業(株)
製、商品番号:KFG−5−120−C1−11L1M
2R)をテフロン板上に設置した内径80mm、高さ2
5mmのステンレス製リング中に固定する。その中にエ
ポキシ樹脂組成物を約100g注型し、常温硬化させ硬
化後の歪み値を測定した。なおここでは、数値が負に大
きいものほど歪みが大きいことを示す。
[Strain measurement] Strain gauge (Kyowa Denki Co., Ltd.)
Product number: KFG-5-120-C1-11L1M
2R) installed on a Teflon plate with an inner diameter of 80 mm and a height of 2
Fix in a 5 mm stainless ring. About 100 g of the epoxy resin composition was cast into the mold and cured at room temperature to measure the strain value after curing. Note that here, the larger the numerical value is, the larger the distortion is.

【0032】〔曲げ強さ〕〔曲げ弾性率〕 エポキシ樹脂組成物を注型法により80℃で4時間硬化
後、180℃で4時間後硬化させた80mmx10mm
x4mmの試験片を作製し、JIS K 6911に準
じて測定した。
[Flexural Strength] [Flexural Modulus] The epoxy resin composition was cured by a casting method at 80 ° C. for 4 hours and then at 180 ° C. for 4 hours to obtain 80 mm × 10 mm.
A test piece of x4 mm was prepared and measured according to JIS K 6911.

【0033】〔熱変形温度〕曲げ強さの測定と同様にし
て110mmx10mmx4mmの試験片を作成し、J
IS K 6911に準じて測定した。
[Heat Deformation Temperature] A test piece of 110 mm × 10 mm × 4 mm was prepared in the same manner as the measurement of the bending strength, and J
It was measured according to IS K 6911.

【0034】合成例1 〔A−B型ブロック共重合体の製造〕温度計、混合機及
びコンデンサーを備えたステンレス製反応器に水100
部、部分鹸化ポリビニルアルコール(日本化学工業
(株)製、商品名:ゴーセノールGH−20)1%水溶
液10部、オキシエチレン−オキシプロピレンブロック
ポリマー(日本油脂(株)製、商品名:プロノン20
8)の1%水溶液10部を懸濁液として仕込んだ。次に
前記一般式(5)で示されるポリメリックペルオキシド
0.5部、アクリル酸ブチル13.5部及びメタクリル
酸メチル13.5部を上記懸濁液中に仕込み、約30分
間分散させた。その後、ホモミキサー(特殊機化工業
(株)製、TKホモミキサー)にて10000rpmで
約10分間油滴を分散させた。次に窒素置換下、60℃
で4時間重合して第一段重合を完了した。次に、室温ま
で冷却後、反応器にメタクリル酸メチル63部、メタク
リル酸グリシジル10部を加えて室温下約1時間含浸操
作を行い、一段目同様ホモミキサーにて10000rp
mで1時間攪拌し、窒素置換下、第二段重合として80
℃で2時間、引き続き90℃で30分間重合を継続し
た。室温に冷却して重合操作を完了した後、得られた重
合物を濾別して充分な水洗を行い、風乾して白色パール
状のA−B型ブロック共重合体(重量平均分子量が8万
〜10万)を得た。JIS K 7236に従い過塩素
酸/酢酸溶液を使用した滴定により得られたA−B型ブ
ロック共重合体のエポキシ当量を測定した。結果を表1
に示した。
Synthesis Example 1 [Production of AB Block Copolymer] 100 ml of water was added to a stainless reactor equipped with a thermometer, a mixer and a condenser.
Part, partially saponified polyvinyl alcohol (Nippon Kagaku Kogyo KK, trade name: Gohsenol GH-20) 1% aqueous solution 10 parts, oxyethylene-oxypropylene block polymer (Nippon Oil & Fats Co., Ltd. trade name: Pronone 20)
10 parts of a 1% aqueous solution of 8) was charged as a suspension. Next, 0.5 parts of the polymeric peroxide represented by the general formula (5), 13.5 parts of butyl acrylate and 13.5 parts of methyl methacrylate were charged into the above suspension and dispersed for about 30 minutes. Then, the oil droplets were dispersed with a homomixer (TK homomixer manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) at 10,000 rpm for about 10 minutes. Next, under nitrogen substitution, 60 ℃
Polymerization was carried out for 4 hours to complete the first stage polymerization. Next, after cooling to room temperature, 63 parts of methyl methacrylate and 10 parts of glycidyl methacrylate were added to the reactor and impregnation operation was carried out at room temperature for about 1 hour, and 10000 rp with a homomixer as in the first stage.
The mixture was stirred for 1 hour at m.
Polymerization was continued at 2 ° C for 2 hours and then at 90 ° C for 30 minutes. After cooling to room temperature to complete the polymerization operation, the obtained polymer was filtered off, washed sufficiently with water, and air-dried to form a white pearl type AB block copolymer (weight average molecular weight: 80,000-10). Ten thousand). The epoxy equivalent of the AB block copolymer obtained by titration using a perchloric acid / acetic acid solution was measured according to JIS K 7236. The results are shown in Table 1.
It was shown to.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】合成例2 第一段重合時及び第二段重合時に、連鎖移動剤として1
−ドデカンチオールを0.5部添加した以外は合成例1
に準じて重合し、白色パール状のA−B型ブロック共重
合体を得た。結果を表1に示した。
Synthesis Example 2 1 as a chain transfer agent during the first-stage polymerization and the second-stage polymerization
-Synthesis example 1 except that 0.5 part of dodecanethiol was added
Polymerization was performed according to the procedure described above to obtain a white pearl type AB block copolymer. The results are shown in Table 1.

【0037】合成例3〜14 アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル及びメタクリル
酸グリシジルの仕込量を表1及び表2に示すように代え
た以外は合成例1に準じて重合し、白色パール状のA−
B型ブロック共重合体を得た。結果を表1及び表2に示
した。
Synthesis Examples 3 to 14 Polymerization was carried out according to Synthesis Example 1 except that the charged amounts of butyl acrylate, methyl methacrylate and glycidyl methacrylate were changed as shown in Tables 1 and 2, and white pearly A was polymerized. −
A B-type block copolymer was obtained. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0038】合成例15 第一段重合時においてメタクリル酸メチルのかわりにメ
タクリル酸プロピルを使用した以外は合成例1に準じて
重合し、白色パール状のA−B型ブロック共重合体を得
た。結果を表2に示した。
Synthesis Example 15 Polymerization was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that propyl methacrylate was used in place of methyl methacrylate in the first-stage polymerization to obtain a white pearl type AB block copolymer. . The results are shown in Table 2.

【0039】合成例16 第二段重合時にメタクリル酸メチル、メタクリル酸グリ
シジルの他にメタクリル酸ヘキシルを使用した以外は合
成例1に準じて重合し、白色パール状のA−B型ブロッ
ク共重合体を得た。結果を表2に示した。
Synthesis Example 16 White pearl type AB block copolymer was polymerized according to Synthesis Example 1 except that hexyl methacrylate was used in addition to methyl methacrylate and glycidyl methacrylate during the second stage polymerization. Got The results are shown in Table 2.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】合成例17 前記一般式(7)で示されるポリメリックペルオキシド
を使用する以外は、合成例1に準じて重合を行い、白色
パール状のA−B型ブロック共重合体を得た。結果を表
2に示した。
Synthesis Example 17 Polymerization was carried out according to Synthesis Example 1 except that the polymeric peroxide represented by the general formula (7) was used to obtain a white pearl type AB block copolymer. The results are shown in Table 2.

【0042】〔比較用低応力化剤の製造〕 合成例18 〔ランダム共重合体の製造〕温度計、混合機及びコンデ
ンサーを備えたステンレス製反応器に水500、部分鹸
化ポリビニルアルコール(日本化学工業(株)製、商品
名:ゴーセノールGH−20)の1%水溶液10部、オ
キシエチレン−オキシプロピレンブロックポリマー(日
本油脂(株)製、商品名:プロノン208)の1%水溶
液10部を懸濁液として仕込んだ。重合開始剤としてベ
ンゾイルパーオキサド0.3部を上記懸濁液中で室温下
約1時間分散させた後、アクリル酸ブチル13.5部、
メタクリル酸メチル76.5部及びメタクリル酸グリシ
ジル10部を仕込み、80℃で1.5時間、引き続き9
0℃で30分間重合を継続した。室温に冷却して重合操
作を完了した後、得られた重合物を濾別して十分な水洗
を行い、風乾して白色パール状のランダム共重合体を得
た。それを比較用低応力化剤とした。なお、得られたラ
ンダム共重合体の組成割合は合成例1のA−B型ブロッ
ク共重合体と同一である。
[Production of Comparative Stress Reducing Agent] Synthesis Example 18 [Production of Random Copolymer] In a stainless reactor equipped with a thermometer, a mixer and a condenser, water 500, partially saponified polyvinyl alcohol (Nippon Kagaku Kogyo) Suspended 10 parts of a 1% aqueous solution of trade name: Gohsenol GH-20) and 1% aqueous solution of oxyethylene-oxypropylene block polymer (NOF Corporation, trade name: Pronone 208). It was prepared as a liquid. 0.3 parts of benzoyl peroxide as a polymerization initiator was dispersed in the above suspension at room temperature for about 1 hour, and then 13.5 parts of butyl acrylate,
After charging 76.5 parts of methyl methacrylate and 10 parts of glycidyl methacrylate, the mixture was heated at 80 ° C. for 1.5 hours and then 9 parts.
Polymerization was continued at 0 ° C for 30 minutes. After cooling to room temperature to complete the polymerization operation, the obtained polymer was filtered off, washed sufficiently with water, and air-dried to obtain a white pearl-like random copolymer. It was used as a comparative stress reducing agent. The composition ratio of the obtained random copolymer is the same as that of the AB block copolymer of Synthesis Example 1.

【0043】合成例19 〔コア−シェル重合体の製造〕温度計、混合機及びコン
デンサーを備えたガラス製反応器に純水400部、ドデ
シルベンゼンスルホン酸(日本油脂(株)製、商品名:
ニューペレックスペーストH)5%水溶液5部を乳化液
として仕込んだ。アクリル酸ブチル13.5部及び1−
ドデシルメルカプタン0.5部を仕込み窒素置換下で7
5℃に昇温し、重合開始剤である過硫酸カリウムを投入
し、6時間重合して第一段重合を完了した。次に、その
乳化液と純水400部及びドデシルベンゼンスルホン酸
5%水溶液5部を加えて乳化させた。メタクリル酸メチ
ル76.5部、メタクリル酸グリシジル10部及び1−
ドデシルメルカプタン0.5部を仕込み、75℃に昇温
後過硫酸カリウムを0.6部投入し、6時間重合して窒
素置換下で第二段重合を完了した。得られた重合物を硫
酸アルミニウム1%水溶液で塩析し、濾別、風乾してポ
リアクリル酸ブチルがコアで、ポリメタクリル酸メチル
及びポリメタクリル酸グリシジルがシェルのコア−シェ
ル重合体を得た。なお、得られたランダム共重合体の組
成割合は合成例1のA−B型ブロック共重合体と同一で
ある。
Synthesis Example 19 [Production of core-shell polymer] 400 parts of pure water and dodecylbenzenesulfonic acid (trade name, manufactured by NOF CORPORATION) in a glass reactor equipped with a thermometer, a mixer and a condenser.
5 parts of a 5% aqueous solution of Nuperex paste H) was charged as an emulsion. Butyl acrylate 13.5 parts and 1-
Charge 0.5 parts of dodecyl mercaptan and replace under nitrogen with 7
The temperature was raised to 5 ° C., potassium persulfate as a polymerization initiator was added, and polymerization was carried out for 6 hours to complete the first stage polymerization. Next, the emulsion, 400 parts of pure water, and 5 parts of a 5% aqueous solution of dodecylbenzenesulfonic acid were added and emulsified. Methyl methacrylate 76.5 parts, glycidyl methacrylate 10 parts and 1-
0.5 part of dodecyl mercaptan was charged, 0.6 part of potassium persulfate was added after the temperature was raised to 75 ° C., and polymerization was carried out for 6 hours to complete the second stage polymerization under nitrogen substitution. The obtained polymer was salted out with a 1% aqueous solution of aluminum sulfate, filtered and air-dried to obtain a core-shell polymer having polybutyl acrylate as a core and polymethyl methacrylate and polyglycidyl methacrylate as a shell. . The composition ratio of the obtained random copolymer is the same as that of the AB block copolymer of Synthesis Example 1.

【0044】合成例20 アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(ビー・エフ・
グッドリッチ「BFGoodrich」社製、商品名:
ハイカー「Hycar」 CTBN 1300X13)
を比較用の低応力化剤とした。
Synthesis Example 20 Acrylonitrile-butadiene copolymer (B / F
Product made by Goodrich "BF Goodrich", product name:
Hiker "Hycar" CTBN 1300X13)
Was used as a stress reducing agent for comparison.

【0045】〔エポキシ樹脂組成物の調製及び硬化物の
作製〕 実施例1〜13,17〜23及び比較例1〜4 ビスフェノールAグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
(エポキシ当量;190)(油化シェルエポキシ(株)
製、商品名:エピコート828)58.5%、トリエチ
レンテトラミン(住友化学(株)製、商品名:トリエチ
レンテトラミン)10.5%、水酸化アルミ(昭和電工
(株)製、商品名:ハイジライトH−42)29.2%
及びステアリン酸亜鉛(日本油脂(株)製、商品名;ジ
ンクステアレート)1.8%からなる組成物100部に
対し、合成例で示した各A−B型ブロック共重合体及び
比較用の低応力化剤を表3〜表6に示した割合で加えた
後、混合及び脱泡しエポキシ樹脂組成物を調製した。こ
れらの組成物を用いて以下に示した方法により歪み測定
を行うと共に、得られた硬化物を用いて機械的特性につ
いて評価した結果について表3〜表6に示した。
[Preparation of Epoxy Resin Composition and Preparation of Cured Product] Examples 1 to 13, 17 to 23 and Comparative Examples 1 to 4 Bisphenol A glycidyl ether type epoxy resin (epoxy equivalent; 190) (oiled shell epoxy ( stock)
Made, trade name: Epicoat 828) 58.5%, triethylenetetramine (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: triethylenetetramine) 10.5%, aluminum hydroxide (Showa Denko KK, trade name: Heidilite H-42) 29.2%
And 100 parts of a composition consisting of 1.8% of zinc stearate (trade name; zinc stearate, manufactured by NOF CORPORATION), and each of the AB block copolymers shown in the synthesis examples and a comparative example. After adding the stress-reducing agent in the proportions shown in Tables 3 to 6, mixing and defoaming were performed to prepare epoxy resin compositions. Tables 3 to 6 show the results of strain measurement using these compositions by the method described below and evaluation of mechanical properties using the obtained cured products.

【0046】[0046]

【表3】 [Table 3]

【0047】[0047]

【表4】 [Table 4]

【0048】[0048]

【表5】 [Table 5]

【0049】[0049]

【表6】 [Table 6]

【0050】実施例14 充填材に溶融シリカを使用する以外は、実施例1に準じ
てエポキシ樹脂組成物を調製し、同様な方法で評価した
結果を表4に示した。
Example 14 An epoxy resin composition was prepared according to Example 1 except that fused silica was used as the filler, and the results of evaluation by the same method are shown in Table 4.

【0051】実施例15 フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
20)17.9%、フェノールノボラック樹脂(水酸基
当量110)8.9%、トリフェニルホスフィン1.8
%、三酸化アンチモン3.2%、カルナバワックス0.
4%、溶融シリカ67.8%からなる組成物100部に
対し、A−B型ブロック共重合体5部を添加し、70〜
100℃でロール混練し、冷却後粉砕し成形材料とし
た。得られた成形材料をタブレット化し、低圧トランス
ファー成形により成形し、同様な方法で評価し、結果を
表4に示した。
Example 15 Phenol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 2
20) 17.9%, phenol novolac resin (hydroxyl equivalent 110) 8.9%, triphenylphosphine 1.8
%, Antimony trioxide 3.2%, carnauba wax 0.
To 100 parts of a composition composed of 4% and fused silica of 67.8%, 5 parts of an AB block copolymer was added, and 70-
The mixture was roll-kneaded at 100 ° C., cooled and pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material was tabletted, molded by low-pressure transfer molding, and evaluated by the same method. The results are shown in Table 4.

【0052】実施例16 エポキシ樹脂としてクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂(エポキシ当量210)を使用した以外は実施例15
に準じて組成物を調製し、成形した。同様な方法で評価
し、結果を表4に示した。
Example 16 Example 15 except that a cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 210) was used as the epoxy resin.
The composition was prepared and molded according to. Evaluation was carried out by the same method, and the results are shown in Table 4.

【0053】以上の実施例と比較例を対比すれば、この
発明におけるA−B型ブロック共重合体をエポキシ樹脂
に配合することにより、低応力で、機械特性、耐熱性に
優れる硬化物を与えることは明らかである。
In comparison with the above examples and comparative examples, by blending the AB block copolymer of the present invention with an epoxy resin, a cured product having low stress, excellent mechanical properties and heat resistance can be obtained. That is clear.

【0054】なお、前記実施態様より把握される請求項
以外の技術思想について、以下に記載する。 (1)エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を主成分と
する組成物(1)100重量部に対して、一般式(1)
で示される重合体単位と一般式(2)で示される重合体
単位とから形成される重合体部分Aと、一般式(3)で
示される重合体単位と一般式(4)で示される重合体単
位とから形成される重合体部分BとからなるA−B型ブ
ロック共重合体0.1〜10重量部を含有してなること
を特徴とする請求項1記載のエポキシ樹脂組成物 。 (2)A−B型ブロック共重合体の重合体部分Aが、一
般式(1)で示される重合体単位が1〜70重量%であ
る請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 (3)A−B型ブロック共重合体の重合体部分Bの構成
割合は、一般式(3)で示される重合体単位が70〜9
9重量%、一般式(4)で示される重合体単位が1〜3
0重量%と一般式(9)で示される重合体単位が10重
量%以下である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 (4)A−B型ブロック共重合体の重合体部分Aと重合
体部分Bとの構成比率は重量比でA/Bが1/99〜5
0/50である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
The technical idea other than the claims grasped from the embodiment will be described below. (1) The composition represented by the general formula (1) based on 100 parts by weight of the composition (1) containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler as main components.
A polymer unit A formed from a polymer unit represented by the formula (1) and a polymer unit represented by the formula (2), a polymer unit represented by the formula (3) and a polymer unit represented by the formula (4). The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin composition comprises 0.1 to 10 parts by weight of an AB block copolymer composed of a polymer portion B formed of a unit. (2) The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the polymer portion A of the AB block copolymer has 1 to 70% by weight of the polymer unit represented by the general formula (1). (3) The proportion of the polymer portion B of the AB block copolymer is 70 to 9 for the polymer unit represented by the general formula (3).
9% by weight, the polymer unit represented by the general formula (4) is 1 to 3
The epoxy resin composition according to claim 1, wherein 0% by weight and the content of the polymer unit represented by the general formula (9) are 10% by weight or less. (4) The composition ratio of the polymer portion A and the polymer portion B of the AB type block copolymer is such that A / B is 1/99 to 5 by weight.
The epoxy resin composition according to claim 1, which is 0/50.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を
主成分とする組成物(1)に対して、一般式(1) 【化1】 で示される重合体単位と一般式(2) 【化2】 (式中、Rは水素又はメチル基であり、nは1〜12の
整数である。ただしRが水素の場合n=4を除く)で示
される重合体単位とから形成される重合体部分Aと、一
般式(3) 【化3】 で示される重合体単位と一般式(4) 【化4】 で示される重合体単位とから形成される重合体部分Bと
からなるA−B型ブロック共重合体を含有してなること
を特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. A composition represented by the general formula (1): embedded image with respect to the composition (1) containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler as main components. And a polymer unit represented by the general formula (2): (In the formula, R is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 12. However, when R is hydrogen, n = 4 is excluded.) And the general formula (3): And a polymer unit represented by the general formula (4): An epoxy resin composition comprising an AB type block copolymer comprising a polymer unit B formed from the polymer unit represented by
JP7844795A 1995-03-10 1995-03-10 Epoxy resin composition Pending JPH08245858A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7844795A JPH08245858A (en) 1995-03-10 1995-03-10 Epoxy resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7844795A JPH08245858A (en) 1995-03-10 1995-03-10 Epoxy resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08245858A true JPH08245858A (en) 1996-09-24

Family

ID=13662302

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7844795A Pending JPH08245858A (en) 1995-03-10 1995-03-10 Epoxy resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08245858A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092415A1 (en) * 2000-05-31 2001-12-06 Atofina Thermoset materials with improved impact resistance
JP2015002029A (en) * 2013-06-13 2015-01-05 パナック株式会社 Resin composition for solid polymer fuel cell sealing material, sealing material for solid polymer fuel cell using the resin composition, and solid polymer fuel cell using the sealing material
JP2018122427A (en) * 2017-02-03 2018-08-09 学校法人立命館 Method for producing polishing pad

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092415A1 (en) * 2000-05-31 2001-12-06 Atofina Thermoset materials with improved impact resistance
FR2809741A1 (en) * 2000-05-31 2001-12-07 Atofina THERMODURA MATERIALS IMPROVED IMPROVED SHOCK
US6894113B2 (en) 2000-05-31 2005-05-17 Atofina Thermoset materials with improved impact resistance
JP2015002029A (en) * 2013-06-13 2015-01-05 パナック株式会社 Resin composition for solid polymer fuel cell sealing material, sealing material for solid polymer fuel cell using the resin composition, and solid polymer fuel cell using the sealing material
JP2018122427A (en) * 2017-02-03 2018-08-09 学校法人立命館 Method for producing polishing pad

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0707042B1 (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and sealed semiconductor device using the same
JPH10226753A (en) Polyphenylene sulfide resin composition and resin-sealed semiconductor device produced by using the same
JP4028431B2 (en) Thermosetting adhesive film
Ho et al. Toughening of epoxy resins by modification with dispersed acrylate rubber for electronic packaging
JPH08245858A (en) Epoxy resin composition
WO2002100951A1 (en) Thermosetting resin composition
Ho et al. Low‐stress encapsulants by vinylsiloxane modification
JPH1180507A (en) Epoxy resin composition
JPH09316299A (en) Epoxy resin composition
JP4511553B2 (en) Polyphenylene sulfide thermoplastic resin composition
JPH0326716A (en) Production of modified epoxy composition
US5643975A (en) Epoxy resin compositions and cured products
JPH0420558A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JPH0881631A (en) Polyarylene sulfide resin composition
JPH06172661A (en) Thermosetting resin composition
JPH05339471A (en) Composition for casting material
EP0526895A2 (en) Epoxy resin composition for sealing
JP3941937B2 (en) Epoxy resin composition
JPH0931160A (en) Epoxy resin composition and resin-sealed semiconductor device
JPH06263841A (en) Epoxy resin composition
KR930002436B1 (en) Resin compositions for sealing semiconductors
JPS63189412A (en) Epoxy resin composition for sealing electronic part
JPS63196620A (en) Thermosetting epoxy resin composition
JPS62106948A (en) Ic sealing composition
JPS6245615A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor device