JPH08239530A - Styrene-based resin composition - Google Patents

Styrene-based resin composition

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JPH08239530A
JPH08239530A JP4310995A JP4310995A JPH08239530A JP H08239530 A JPH08239530 A JP H08239530A JP 4310995 A JP4310995 A JP 4310995A JP 4310995 A JP4310995 A JP 4310995A JP H08239530 A JPH08239530 A JP H08239530A
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JP
Japan
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styrene
block
copolymer
mol
group
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Withdrawn
Application number
JP4310995A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Miyanaga
俊明 宮永
Masahiko Takeuchi
正彦 竹内
Kiichi Yonetani
起一 米谷
Shinji Inaba
真司 稲葉
Sukeji Yoshihara
資二 吉原
Kazutoshi Terada
和俊 寺田
Toshiaki Sato
寿昭 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Nippon Steel Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To obtain the subject composition, excellent in permanent antistatic properties, preventing properties of dust sticking, impact resistance, printability, etc., and useful as interior automobile trims and household appliances by blending a styrene-based resin with a specific diblock copolymer in a specific proportion. CONSTITUTION: This resin composition is obtained by blending (A) 100 pts.wt. styrene-based resin with (B) 0.3-30 pts.wt. diblock copolymer comprising (B1 ) a block prepared by copolymerizing 30-100mol% aromatic vinyl with 70-0mol% vinylic unsaturated monomer copolymerizable therewith and (B2 ) a block containing 10-100mol% structure unit of the formula R1 is H or methyl; R2 is an (OH-substituted)alkylene; R3 to R5 are each H, an alkyl or a (substituted) benzyl; X is COO, CONH, SO2 NH or C6 H4 SO2 NH; Y is a halogen or a group of the formula ROSO3 [R is an (OH-substituted)alkyl], an ROSO2 , an RSO3 or an R-C6 H4 -SO3 or an (RO)2 PO2 }.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、良好な永久帯電防止性
を有し、かつ高い機械的物性を有しながら、印刷性およ
びホットスタンプ性や接着性などの2次加工性に優れる
スチレン系樹脂組成物に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a styrene-based resin which has good permanent antistatic property and high mechanical properties, and is excellent in printability and secondary processability such as hot stamping property and adhesive property. It relates to a resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、熱可塑性樹脂からなる射出成形
品は電気的抵抗が大きく、かつ容易に静電気を発生する
ために、摩擦による帯電が生じやすく、そのために、ホ
コリが付着しやすいとの欠点を有する。このような、ホ
コリの付着は、射出成形品の外観を損ねるばかりでな
く、電気・電子部品等の静電破損を引き起こす要因にも
なり得るため、近年、熱可塑性樹脂の帯電防止性を高め
る研究が盛んである。熱可塑性樹脂の帯電防止性を高め
る手段としては、一般に、界面活性剤型の帯電防止剤を
添加する方法(例えば、特開昭48−80142号公
報)が汎用的であるが、この場合、射出成形後の短時間
的な帯電防止性には優れるものの、その後の長期的な帯
電防止性の維持が難しく、特に、雑巾等での拭き取り後
や、水洗後では、その帯電防止性が急激に低下するとい
う問題が生ずる。
2. Description of the Related Art Generally, an injection-molded article made of a thermoplastic resin has a large electric resistance and easily generates static electricity, so that it is liable to be charged by friction, and as a result, dust is likely to adhere to it. Have. Such adhesion of dust not only impairs the appearance of injection-molded products, but can also be a factor that causes electrostatic damage to electric and electronic parts, etc.Therefore, in recent years, research has been conducted to improve the antistatic property of thermoplastic resins. Is thriving. As a means for improving the antistatic property of the thermoplastic resin, generally, a method of adding a surfactant type antistatic agent (for example, JP-A-48-80142) is generally used. Although excellent in short-time antistatic properties after molding, it is difficult to maintain long-term antistatic properties after that, and especially after wiping with a dust cloth or after washing with water, the antistatic properties drop sharply. The problem arises.

【0003】そこで、上記のような現象を改善し、帯電
防止性の永久化を目指す研究が試みられており、例え
ば、ポリアミドエラストマーの導電特性を応用した、ポ
リエーテルアミドエラストマーと変性ビニル系重合体を
用いる方法(特公平4−72855号公報)や、ポリエ
ーテルアミドエラストマーとマレイミド系共重合体樹脂
を用いる方法(特開昭63−227648号公報)およ
び、ポリアミドイミドエラストマーと変性スチレン系樹
脂を用いる方法(特開平2−255850号公報)が知
られており、また、ポリアルキレンオキサイドの導電特
性を応用した数平均分子量5万〜100万のポリエチレ
ンオキサイドとスルホン酸塩を用いる方法(特開平2−
233743号公報)や、平均分子量200万〜500
万のポリエチレンオキサイドと有機スルホン酸金属塩を
用いる方法(特開平4−218555号公報)、分子量
5000以上のポリエチレングリコールとスチレンを2
0%以上グラフトさせたポリエチレンワックスを用いる
方法(特開平4−23847号公報)等が知られてい
る。
Therefore, studies have been attempted to improve the above-mentioned phenomenon and to make the antistatic property permanent. For example, a polyether amide elastomer and a modified vinyl-based polymer, which apply the conductive characteristics of a polyamide elastomer, have been tried. (Japanese Patent Publication No. 4-72855), a method using a polyetheramide elastomer and a maleimide copolymer resin (Japanese Patent Laid-Open No. 63-227648), and a polyamideimide elastomer and a modified styrene resin. A method (Japanese Patent Laid-Open No. 2-255850) is known, and a method using polyethylene oxide having a number average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and a sulfonate is applied by applying the conductive property of polyalkylene oxide (Japanese Patent Laid-Open No. 2-255850).
No. 233743) and an average molecular weight of 2,000,000 to 500
The method of using various polyethylene oxides and organic sulfonic acid metal salts (JP-A-4-218555), polyethylene glycol having a molecular weight of 5000 or more and styrene
A method using a polyethylene wax grafted with 0% or more (JP-A-4-23847) is known.

【0004】しかしながら、ポリアミドエラストマーや
ポリエチレンオキサイドを用いて静電気の発生およびそ
れに伴うホコリの付着を防ぐには、これらの樹脂を大量
に添加しないと効果が現れないため、熱可塑性樹脂の各
種特性に大きな低下を生ずると共に、材料価格が高くな
ってしまうという問題がある。また、ポリアミドエラス
トマーやポリエチレンオキサイドによる帯電防止発現の
機構は、これらの樹脂の吸湿速度に支配されるため、成
形直後からの帯電防止効果が発現し難いという問題があ
る。
However, in order to prevent the generation of static electricity and the accompanying adhesion of dust by using a polyamide elastomer or polyethylene oxide, the effect will not be exhibited unless a large amount of these resins is added, and therefore various properties of the thermoplastic resin are greatly affected. There is a problem that the material price will increase as well as decrease. In addition, the mechanism of antistatic manifestation by polyamide elastomer or polyethylene oxide is governed by the moisture absorption rate of these resins, so that there is a problem that the antistatic effect is difficult to manifest immediately after molding.

【0005】そこで、成形直後からの帯電防止効果を発
現させるための方法として、熱可塑性樹脂に第4級アン
モニウム塩基とこれと共重合可能なビニル単量体又はビ
ニリデン単量体からなるランダム共重合体を添加する方
法(特開昭63−54467号公報)が知られている。
しかしながら、熱可塑性樹脂に前記ランダム共重合体を
添加する方法は、成形条件や成形品形状の影響を受けや
すく、射出成形用熱可塑性樹脂組成物の帯電防止効果を
高めるためには、熱可塑性樹脂に対して前記ランダム共
重合体を多量に添加しなければ充分な効果が得られない
ことから、コスト面での問題や熱可塑性樹脂の機械的特
性が低下するという欠点がある。また、成形品表面に第
4級アンモニウム塩基等の極性官能基を高濃度に存在せ
しめることが困難であり、樹脂組成物の印刷性およびホ
ットスタンプ性や接着性などの2次加工性を向上させる
ことが難しいという欠点がある。
Therefore, as a method for exhibiting an antistatic effect immediately after molding, a random copolymerization of a quaternary ammonium salt group and a vinyl monomer or vinylidene monomer copolymerizable therewith with a thermoplastic resin is used. A method of adding coalescence (Japanese Patent Laid-Open No. 63-54467) is known.
However, the method of adding the random copolymer to the thermoplastic resin is easily affected by the molding conditions and the shape of the molded product, and in order to enhance the antistatic effect of the thermoplastic resin composition for injection molding, the thermoplastic resin On the other hand, since sufficient effects cannot be obtained unless a large amount of the random copolymer is added, there are disadvantages in terms of cost and deterioration of mechanical properties of the thermoplastic resin. In addition, it is difficult to allow a polar functional group such as a quaternary ammonium salt group to be present on the surface of a molded article in a high concentration, which improves the printability of the resin composition and the secondary workability such as hot stamping and adhesiveness. It has the drawback of being difficult.

【0006】一方、特開平6−136210号公報には
(a)ポリスチレン系樹脂および(b)A成分が(メ
タ)アクリル酸エステル類単位からなる重合体であり、
B成分が芳香族ビニル単位を50重量%以上含有する重
合体であるA−B型ブロック共重合体からなるポリスチ
レン系樹脂組成物が開示されている。この提案されたも
のは、耐衝撃性に優れ、高温下での流動性に富み、常温
下で高いモジュラスと強度を有し、かつ常温付近でブロ
ッキングしにくい新規なポリスチレン系樹脂組成物に関
するものであり、帯電防止性に関する開示は一切見られ
ず、また、該公報に開示のポリスチレン系樹脂組成物で
は帯電防止効果は全く不十分なものでしかない。
On the other hand, JP-A-6-136210 discloses that (a) a polystyrene resin and (b) a component is a polymer composed of (meth) acrylic acid ester units.
A polystyrene resin composition is disclosed in which the B component is an AB block copolymer, which is a polymer containing 50% by weight or more of an aromatic vinyl unit. This proposed one relates to a novel polystyrene resin composition having excellent impact resistance, excellent fluidity at high temperature, high modulus and strength at room temperature, and hard to block at around room temperature. However, no disclosure concerning antistatic properties is found at all, and the polystyrene-based resin composition disclosed in this publication has an insufficient antistatic effect.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、充分に安価な価格を維持しながら、かつ機
械的物性バランスを損なうことなく、永久帯電防止性を
満足し、さらに、印刷性やホットスタンプ性および接着
性などの2次加工性に優れるスチレン系樹脂組成物を提
供することである。
The problem to be solved by the present invention is to satisfy the permanent antistatic property while maintaining a sufficiently inexpensive price and without impairing the balance of mechanical properties, and further To provide a styrene-based resin composition having excellent secondary processability such as heat resistance, hot stamping property, and adhesive property.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、スチレン系樹脂と
特殊な第4級アンモニウム塩構造単位を含有するジブロ
ック共重合体とを組み合わせることによって、永久帯電
防止性等を満足し得ることを見いだし、本発明を完成し
た。即ち本発明は、スチレン系樹脂(A)100重量部
に対して、芳香族ビニル30〜100モル%およびそれ
と共重合可能なビニル系不飽和単量体の1種以上70〜
0モル%を(共)重合せしめてなるブロック(a)およ
び、下記一般式(I)で表される第4級アンモニウム塩
構造単位を10〜100モル%含有するブロック(b)
から構成されるジブロック共重合体(B)0.3〜30
重量部を含有してなるスチレン系樹脂組成物。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that a styrene resin and a diblock copolymer containing a special quaternary ammonium salt structural unit are used. It was found that by combining them, the permanent antistatic property and the like can be satisfied, and the present invention was completed. That is, the present invention relates to 100 to 100 parts by weight of the styrene resin (A), 30 to 100 mol% of aromatic vinyl, and one or more 70 to 70 of vinyl unsaturated monomer copolymerizable therewith.
A block (a) obtained by (co) polymerizing 0 mol% and a block (b) containing 10 to 100 mol% of a quaternary ammonium salt structural unit represented by the following general formula (I).
A diblock copolymer (B) composed of 0.3 to 30
A styrene-based resin composition containing parts by weight.

【0009】[0009]

【化2】 (式中のR1 は水素原子またはメチル基を、R2 はアル
キレン基または少なくとも1つ以上の−OH基を含むア
ルキレン基を、R3 〜R5 はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示
す。Xは−COO−、−CONH−、−SO2NH−ま
たは−C64SO2NH−を、Yはハロゲン原子、RO
SO3 、ROSO2 、RSO3 、R−C64−SO3
(RO)2PO2(Rはアルキル基または少なくとも1つ
以上の−OH基を含むアルキル基を表す。)を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group or an alkylene group containing at least one —OH group, and R 3 to R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a substituent, respectively. Represents a benzyl group which may have X is —COO—, —CONH—, —SO 2 NH— or —C 6 H 4 SO 2 NH—, Y is a halogen atom, RO
SO 3, ROSO 2, RSO 3 , R-C 6 H 4 -SO 3,
(RO) 2 PO 2 (R represents an alkyl group or an alkyl group containing at least one —OH group). )

【0010】以下、本発明を具体的に説明する。本発明
におけるスチレン系樹脂(A)とは、スチレン残基また
は置換スチレン残基(以下、合わせてスチレン系残基と
呼ぶ)を必須構成成分として10重量%以上含有するも
のであり、好ましくは50重量%以上含有するものであ
る。該スチレン系残基を形成するスチレン系不飽和単量
体としては、スチレン又はα−メチルスチレンやp−メ
チルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、3,4
−ジメチルスチレン等の置換スチレンが挙げられ、これ
らは1種のみならず、2種以上を併用することもでき
る。また、スチレン系樹脂は、スチレンまたは置換スチ
レンと共重合可能な1種以上の他のビニル系不飽和単量
体と共重合されていてもよい。
Hereinafter, the present invention will be described specifically. The styrene-based resin (A) in the present invention is one containing 10% by weight or more of a styrene residue or a substituted styrene residue (hereinafter collectively referred to as a styrene-based residue) as an essential constituent component, and preferably 50%. The content is at least wt%. Examples of the styrenic unsaturated monomer forming the styrenic residue include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 3,4.
-Substituted styrene such as dimethyl styrene may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more. The styrene resin may be copolymerized with one or more other vinyl unsaturated monomers copolymerizable with styrene or substituted styrene.

【0011】スチレン系不飽和単量体と共重合可能なビ
ニル系不飽和単量体としては、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル等のシアン化ビニル単量体、アクリル酸
またはメタクリル酸のメチル、エチル、プロピル、n−
ブチル、i−ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、
ドデシル、オクタデシルなどのC1 〜C18のアルキルエ
ステルおよびエチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、ブタンジオ−ル等のエステル、酢酸、プロピオン酸
などのC1 〜C6 のカルボン酸のビニルエステル、アク
リル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和カルボン
酸、無水マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸無水物、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルア
クリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、マレイミ
ド、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N
−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド
等のN置換マレイミドおよびブタジエン等の共役ジエン
が好ましく挙げられ、なかでもアクリロニトリル、メタ
クリル酸メチル、アクリル酸ブチル、N−フェニルマレ
イミド、無水マレイン酸およびブタジエンが好ましい。
これらの不飽和単量体は1種のみならず、2種以上を併
用してもよい。
The vinyl unsaturated monomer copolymerizable with the styrene unsaturated monomer includes vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, and methyl, ethyl and propyl acrylic acid or methacrylic acid. , N-
Butyl, i-butyl, hexyl, 2-ethylhexyl,
C 1 -C 18 alkyl esters such as dodecyl and octadecyl, and ethylene glycol and propylene glycol
And esters such as vinyl butanediol, vinyl esters of C 1 to C 6 carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid, and unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride. (Meth) acrylamides such as acid anhydrides, acrylamides, methacrylamides, N, N-dimethylacrylamides, maleimides, N-methylmaleimides, N-ethylmaleimides, N
N-substituted maleimides such as -phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide, and conjugated dienes such as butadiene are preferred, and acrylonitrile, methyl methacrylate, butyl acrylate, N-phenylmaleimide, maleic anhydride and butadiene are preferred.
These unsaturated monomers may be used alone or in combination of two or more.

【0012】また、該スチレン系樹脂(A)は、ゴム質
重合体を含有したゴム含有ポリスチレン樹脂であっても
よい。ここでいうゴム質重合体とは、ガラス転移温度が
好ましくは0℃以下、より好ましくは−20℃以下のも
のであり、ポリブタジエン、スチレン/ブタジエン共重
合体、30重量%までの(メタ)アクリル酸低級アルキ
ルエステルを含有するスチレン/ブタジエン系共重合
体、ポリイソプレン、ポリクロロプレン等のジエン系ゴ
ムが好ましいものとして挙げられる。他の適当なゴム質
重合体の例としては、アクリル酸C1 〜C8 アルキル、
特にアクリル酸エチル、ブチルおよびエチルヘキシルを
ベ−スとするアクリル酸アルキルゴムが挙げられる。ア
クリル酸アルキルゴムは、30重量%までの酢酸ビニ
ル、メタクリル酸メチル、スチレン、アクリロニトリ
ル、ビニルエ−テルなどが共重合されていてもよく、さ
らに5重量%以下のアルキレンジオ−ル(メタ)アクリ
レ−ト、ジビニルベンゼン、シアヌル酸トリアリル等の
架橋性不飽和単量体が共重合されていてもよい。
The styrene resin (A) may be a rubber-containing polystyrene resin containing a rubbery polymer. The rubbery polymer as referred to herein is one having a glass transition temperature of preferably 0 ° C. or lower, more preferably −20 ° C. or lower, polybutadiene, styrene / butadiene copolymer, and (meth) acryl up to 30% by weight. A styrene / butadiene copolymer containing an acid lower alkyl ester, and a diene rubber such as polyisoprene or polychloroprene are preferred. Examples of other suitable rubbery polymers include C 1 -C 8 alkyl acrylates,
In particular, alkyl acrylate rubbers based on ethyl acrylate, butyl and ethylhexyl are mentioned. The alkyl acrylate rubber may be copolymerized with up to 30% by weight of vinyl acetate, methyl methacrylate, styrene, acrylonitrile, vinyl ether, and the like, and further 5% by weight or less of an alkylenediol (meth) acrylate. And a crosslinkable unsaturated monomer such as divinylbenzene, triallyl cyanurate and the like may be copolymerized.

【0013】アクリル酸アルキルゴムは芯体として1種
または2種以上の架橋ジエンゴム、例えばポリブタジエ
ン、ブタジエン/スチレン共重合体、アクリロニトリル
/ブタジエン共重合体を含有する芯−鞘型ゴムであって
もよい。その他の好ましいゴム質重合体としては、エチ
レン/プロピレン/エチリデンノルボルネン共重合体等
のエチレン/プロピレン/非共役ジエン系共重合体、水
添スチレン/ブタジエンブロック共重合体、水添スチレ
ン/イソプレンブロック共重合体などが挙げられる。こ
れらのゴムのうち、特に好ましいものとして、ポリブタ
ジエン、スチレン/ブタジエン共重合体、ポリアクリル
酸ブチル系ゴムおよび、エチレン/プロピレン/非共役
ジエン共重合体が挙げられる。これらのゴムは、必要に
応じて2種類以上を併用してもよい。また、これらのゴ
ムは、マトリックス樹脂に応じて各種の不飽和単量体が
グラフト(共)重合されていてもよい。グラフト共重合
される不飽和単量体としては、スチレン系樹脂(A)を
形成する不飽和単量体が挙げられる。
The alkyl acrylate rubber may be a core-sheath type rubber containing, as a core, one or more cross-linked diene rubbers such as polybutadiene, butadiene / styrene copolymer and acrylonitrile / butadiene copolymer. . Other preferred rubbery polymers include ethylene / propylene / ethylidene norbornene copolymers and other ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymers, hydrogenated styrene / butadiene block copolymers, hydrogenated styrene / isoprene block copolymers. Examples thereof include polymers. Among these rubbers, polybutadiene, styrene / butadiene copolymers, polybutyl acrylate rubbers, and ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymers are particularly preferable. Two or more kinds of these rubbers may be used in combination, if necessary. Further, these rubbers may be graft (co) polymerized with various unsaturated monomers depending on the matrix resin. Examples of the unsaturated monomer that is graft-copolymerized include unsaturated monomers that form the styrene resin (A).

【0014】該スチレン系樹脂(A)の好ましい具体例
としては、ポリスチレン、ゴム含有ポリスチレン、アク
リロニトリル/スチレン共重合体、ゴム含有アクリロニ
トリル/スチレン共重合体、スチレン/メタクリル酸メ
チル共重合体、ゴム含有スチレン/メタクリル酸メチル
共重合体、スチレン/アクリル酸ブチル共重合体、ゴム
含有スチレン/アクリル酸ブチル共重合体、スチレン−
ブタジエンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−
スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−ス
チレンブロック共重合体等のスチレン/ジエンブロック
共重合体およびその水添物が挙げられる。これらの樹脂
は1種のみならず、2種以上ブレンドして使用してもよ
い。これらのなかでも、ゴム含有ポリスチレン樹脂およ
びゴム含有アクリロニトリル/スチレン共重合体樹脂
が、各種の物性バランスの面から好ましいものとして挙
げられる。
Preferred specific examples of the styrene resin (A) are polystyrene, rubber-containing polystyrene, acrylonitrile / styrene copolymer, rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer, styrene / methyl methacrylate copolymer, rubber-containing. Styrene / methyl methacrylate copolymer, styrene / butyl acrylate copolymer, rubber-containing styrene / butyl acrylate copolymer, styrene-
Butadiene block copolymer, styrene-butadiene-
Examples thereof include styrene / diene block copolymers such as styrene block copolymers and styrene-isoprene-styrene block copolymers, and hydrogenated products thereof. These resins may be used alone or in combination of two or more. Among these, the rubber-containing polystyrene resin and the rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer resin are preferable from the viewpoint of balance of various physical properties.

【0015】本発明におけるゴム含有ポリスチレン樹脂
の好ましい具体例としては、ポリスチレンと、スチレン
系不飽和単量体がグラフトされていてもよいポリブタジ
エンゴム(PB)、スチレン/ブタジエンランダム共重
合体(SB)、スチレン/ブタジエンブロック共重合
体、水添スチレン/イソプレンブロック共重合体および
スチレン/イソプレンブロック共重合体から選択される
少なくとも1種以上のゴムからなる樹脂または樹脂組成
物が代表的であり、なかでもポリスチレンとスチレンが
グラフトされたPBよりなるハイインパクトポリスチレ
ン(HIPS)が、各種の物性バランスの面から最も好
ましい。
Preferred specific examples of the rubber-containing polystyrene resin in the present invention include polystyrene, polybutadiene rubber (PB) which may be grafted with a styrene unsaturated monomer, and styrene / butadiene random copolymer (SB). A resin or resin composition comprising at least one rubber selected from the group consisting of a styrene / butadiene block copolymer, a hydrogenated styrene / isoprene block copolymer, and a styrene / isoprene block copolymer is typical. However, high-impact polystyrene (HIPS) composed of polystyrene and PB grafted with styrene is most preferable from the viewpoint of balance of various physical properties.

【0016】また、本発明におけるゴム含有アクリロニ
トリル/スチレン共重合体樹脂の好ましい具体例として
は、アクリロニトリル/スチレン共重合体と、スチレン
系不飽和単量体および共重合可能な他の不飽和単量体が
グラフトされていてもよいPB、SB、ポリアクリル酸
ブチル系ゴム、エチレン/プロピレン/非共役ジエン共
重合体から選択される少なくとも1種以上のゴムからな
る樹脂または樹脂組成物が代表的であり、なかでもアク
リロニトリル/スチレン共重合体(AS)とアクリロニ
トリル/スチレンがグラフト共重合されたPBよりなる
アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(A
BS)が、各種の物性バランスの面から最も好ましい。
Preferred examples of the rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer resin in the present invention include acrylonitrile / styrene copolymer, styrene unsaturated monomer and other copolymerizable unsaturated monomer. A resin or resin composition comprising at least one rubber selected from the group consisting of PB, SB, polybutyl acrylate rubber, ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymer, which may be grafted, is typical. Among them, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (A) composed of acrylonitrile / styrene copolymer (AS) and PB graft-copolymerized with acrylonitrile / styrene
BS) is most preferable from the viewpoint of balance of various physical properties.

【0017】本発明においてスチレン系樹脂(A)にゴ
ムを含有したポリスチレンを使用する場合、ゴム含有ポ
リスチレンやゴム含有アクリロニトリル/スチレン共重
合体が汎用的なものとして例示される。ここで、使用す
る樹脂中の好ましいゴムの含有量は、ゴム含有ポリスチ
レンを使用する場合、ゴム含有ポリスチレンの1〜30
重量%、更には3〜20重量%であることが好ましい。
また、ゴム含有アクリロニトリル/スチレン共重合体の
場合であれば、そのゴム含有量は1〜60重量%、更に
は5〜50重量%であることが好ましい。
When polystyrene containing rubber in the styrene resin (A) is used in the present invention, rubber-containing polystyrene and rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer are exemplified as general-purpose products. Here, when the rubber-containing polystyrene is used, the preferable rubber content in the resin used is 1 to 30 of the rubber-containing polystyrene.
It is preferably in the range of% by weight, more preferably 3 to 20% by weight.
In the case of a rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer, the rubber content is preferably 1 to 60% by weight, more preferably 5 to 50% by weight.

【0018】さらに、前記のHIPS樹脂は、通常、マ
トリックスであるポリスチレンの重量平均分子量が10
0,000〜500,000であるものが用いられる
が、200,000〜400,000であるものがより
好ましい。また、前記のABS樹脂は、通常、マトリッ
クスであるアクリロニトリル/スチレン共重合体の重量
平均分子量が50,000〜300,000であるもの
が用いられるが、70,000〜250,000である
ものがより好ましい。なお、前記のスチレン系樹脂は、
様々な公知の方法で製造することができ、例えば、塊状
重合法、懸濁重合法、乳化重合法等によって製造するこ
とができる。また、前記の樹脂組成物やブレンド物は、
ヘンシェルミキサーやバンバリーミキサー、単軸押出
機、2軸押出機等の公知の混練機によって得ることがで
きる。
Further, in the above HIPS resin, the weight average molecular weight of polystyrene, which is a matrix, is usually 10
Those having a weight ratio of 50,000 to 500,000 are used, and those having a weight loss of 200,000 to 400,000 are more preferable. As the ABS resin, one having a weight-average molecular weight of acrylonitrile / styrene copolymer as a matrix of 50,000 to 300,000 is usually used, and one having a weight average molecular weight of 70,000 to 250,000 is used. More preferable. The styrene resin is
It can be produced by various known methods, for example, a bulk polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method and the like. In addition, the above resin composition or blend,
It can be obtained by a known kneader such as a Henschel mixer, a Banbury mixer, a single-screw extruder or a twin-screw extruder.

【0019】本発明におけるジブロック共重合体(B)
とは、芳香族ビニル30〜100モル%およびそれと共
重合可能なビニル系不飽和単量体の1種以上70〜0モ
ル%を(共)重合せしめてなるブロック(a)および、
一般式(I)で表される第4級アンモニウム塩構造単位
を10〜100モル%含有するブロック(b)から構成
されるものである。前記ブロック(a)における芳香族
ビニルとしては、スチレン、α−メチルスチレン、p−
メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、3,
4−ジメチルスチレン等が挙げられ、中でもスチレンが
好ましい。また、芳香族ビニルと共重合可能なビニル系
単量体としては、該スチレン系樹脂(A)の項における
スチレン系不飽和単量体と共重合可能なビニル系不飽和
単量体と同等なものが挙げられ、中でもアクリロニトリ
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、N,N−ジメチルアク
リルアミド等が好ましく挙げられる。
Diblock copolymer (B) in the present invention
The block (a) obtained by (co) polymerizing 30 to 100 mol% of aromatic vinyl and 70 to 0 mol% of one or more vinyl unsaturated monomers copolymerizable therewith, and
It is composed of the block (b) containing 10 to 100 mol% of the quaternary ammonium salt structural unit represented by the general formula (I). As the aromatic vinyl in the block (a), styrene, α-methylstyrene, p-
Methyl styrene, p-tert-butyl styrene, 3,
4-dimethylstyrene and the like can be mentioned, with styrene being preferred. The vinyl-based monomer copolymerizable with the aromatic vinyl is equivalent to the vinyl-based unsaturated monomer copolymerizable with the styrene-based unsaturated monomer in the section of the styrene-based resin (A). Among them, acrylonitrile, methyl methacrylate, butyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide and the like are preferable.

【0020】また、該ブロック(a)は、芳香族ビニル
30〜100モル%およびそれと共重合可能なビニル系
不飽和単量体の1種以上70〜0モル%を(共)重合せ
しめてなることが好ましいが、芳香族ビニル50〜10
0モル%およびそれと共重合可能なビニル系不飽和単量
体の1種以上50〜0モル%を(共)重合せしめてなる
ことがより好ましい。該ブロック(a)中の芳香族ビニ
ルの割合が30モル%未満になると、スチレン系樹脂と
ジブロック共重合体(B)との相溶性が低下するため
に、機械的物性の低下が生じ好ましくない。
The block (a) is formed by (co) polymerizing 30 to 100 mol% of aromatic vinyl and 70 to 0 mol% of one or more vinyl unsaturated monomers copolymerizable therewith. Aromatic vinyl 50 to 10 is preferable.
It is more preferable to (co) polymerize 0 mol% and 50 to 0 mol% of one or more vinyl unsaturated monomers copolymerizable therewith. When the proportion of the aromatic vinyl in the block (a) is less than 30 mol%, the compatibility between the styrene resin and the diblock copolymer (B) is lowered, so that the mechanical properties are lowered, which is preferable. Absent.

【0021】また、該ブロック(b)は、一般式(I)
で表される第4級アンモニウム塩構造単位を10〜10
0モル%含有していることが必須であり、より望ましく
は、一般式(I)で表される第4級アンモニウム塩構造
単位を30〜100モル%、最も好ましくは50〜10
0モル%含有する重合体であることが好ましい。ブロッ
ク(b)の第4級アンモニウム塩構造単位が10モル%
未満となると、充分な帯電防止効果が得られず好ましく
ない。
The block (b) has the general formula (I)
The quaternary ammonium salt structural unit represented by
It is essential to contain 0 mol%, more preferably 30 to 100 mol%, most preferably 50 to 10 mol% of the quaternary ammonium salt structural unit represented by the general formula (I).
It is preferably a polymer containing 0 mol%. The quaternary ammonium salt structural unit of the block (b) is 10 mol%
If it is less than the above range, a sufficient antistatic effect cannot be obtained, which is not preferable.

【0022】[0022]

【化3】 本発明でいう一般式(I)で表される第4級アンモニウ
ム塩構造単位とは、式中のR1 が水素原子またはメチル
基であり、R2 がアルキレン基または少なくとも1つ以
上の−OH基を含むアルキレン基であり、R3 〜R5
それぞれ水素原子、アルキル基または置換基を有してい
てもよいベンジル基であり、また、Xは−COO−、−
CONH−、−SO2NH−または−C64SO2NH−
であり、Yはハロゲン原子、ROSO3、ROSO2
RSO3 、R−C64−SO3 、(RO)2PO2 (R
はアルキル基または少なくとも1つ以上の−OH基を含
むアルキル基を表す。)である第4級アンモニウム塩構
造単位である。ここで、一般式(I)中のR2 は好まし
くは、炭素数1〜10のアルキレン基がよく、R3〜R5
は好ましくはそれぞれ水素原子または炭素数1〜10
のアルキル基がよく、Rは好ましくは炭素数1〜10の
アルキル基または少なくとも1つ以上の−OH基を有す
る炭素数1〜10のアルキル基がよい。
Embedded image The quaternary ammonium salt structural unit represented by the general formula (I) in the present invention means that R 1 in the formula is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkylene group or at least one or more —OH. Is an alkylene group containing a group, R 3 to R 5 are each a hydrogen atom, an alkyl group or a benzyl group which may have a substituent, and X is —COO—, —
CONH -, - SO 2 NH- or -C 6 H 4 SO 2 NH-
And Y is a halogen atom, ROSO 3 , ROSO 2 ,
RSO 3, R-C 6 H 4 -SO 3, (RO) 2 PO 2 (R
Represents an alkyl group or an alkyl group containing at least one or more —OH groups. ) Is a quaternary ammonium salt structural unit. Here, R 2 in the general formula (I) is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 to R 5
Is preferably a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 10
Is preferable, and R is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one or more —OH group.

【0023】該ブロック(b)は一般式(I)で表され
る第4級アンモニウム塩構造単位のみからなっていても
よいが、該第4級アンモニウム塩構造単位を10モル%
以上含有していれば、その他の構造単位を含むことも差
し支えない。このような構造単位としては、スチレン、
α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−ter
t−ブチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン等の芳
香族ビニルや該スチレン系樹脂(A)の項におけるスチ
レン系不飽和単量体と共重合可能なビニル系不飽和単量
体と同様の単量体から誘導される構造単位が挙げられ
る。中でもスチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−
エチルヘキシル、メタクリル酸ドデシル、酢酸ビニル、
ビニルアルコール、アクリルアミド、N,N−ジメチル
アクリルアミド、β−ヒドロキシエチルメタクリレート
等が好ましく挙げられる。これらの構造単位は本発明の
樹脂組成物の帯電防止性能、成形性、耐衝撃性、2次加
工特性等の観点から適宜選ばれる。
The block (b) may be composed of only the quaternary ammonium salt structural unit represented by the general formula (I), but the quaternary ammonium salt structural unit is 10 mol%.
Other structural units may be contained as long as the above content is contained. Such structural units include styrene,
α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-ter
Aromatic vinyl such as t-butyl styrene and 3,4-dimethyl styrene, and a monomer similar to the vinyl unsaturated monomer copolymerizable with the styrene unsaturated monomer in the section of the styrene resin (A). Structural units derived from the monomers are mentioned. Among them, styrene, acrylonitrile, methyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-methacrylic acid
Ethylhexyl, dodecyl methacrylate, vinyl acetate,
Preferable examples include vinyl alcohol, acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, β-hydroxyethyl methacrylate and the like. These structural units are appropriately selected from the viewpoints of antistatic performance, moldability, impact resistance, secondary processing characteristics and the like of the resin composition of the present invention.

【0024】また、該ブロック(b)は一般式(II)で
示される該第4級アンモニウム塩構造単位の4級化前の
構造単位を含んでいてよい。
Further, the block (b) may contain a structural unit before quaternization of the quaternary ammonium salt structural unit represented by the general formula (II).

【化4】 (式中のR1 は水素原子またはメチル基を、R2 はアル
キレン基または少なくとも1つ以上の−OH基を含むア
ルキレン基を、R3 、R4はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示
す。Xは−COO−、−CONH−、−SO2NH−ま
たは−C64SO2NH−を示す。)
[Chemical 4] (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group or an alkylene group containing at least one or more —OH groups, and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a substituent, respectively. .X showing a benzyl group that may have is -COO -, - CONH -, - shows the SO 2 NH- or -C 6 H 4 SO 2 NH-) .

【0025】ブロック(b)における一般式(II)で示
される4級化前の構造単位の割合は30モル%以下が好
ましい。ここで、一般式(II)中のR2 は好ましくは、
炭素数1〜10のアルキレン基または少なくとも1つ以
上の−OH基を有する炭素数1〜10のアルキレン基が
よく、R3 、R4 は好ましくはそれぞれ水素原子または
炭素数1〜10のアルキル基がよい。
The proportion of the structural unit before quaternization represented by the general formula (II) in the block (b) is preferably 30 mol% or less. Here, R 2 in the general formula (II) is preferably
An alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms having at least one or more —OH group is preferable, and R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, respectively. Is good.

【0026】該ジブロック共重合体(B)の製造法とし
ては特に制限はないが、ブロック(a)(または
(b))を構成する単量体成分をラジカル重合する際
に、チオールカルボン酸あるいは、2−アセチルチオエ
チルチオール、10−アセチルチオデカンチオール等の
分子内にチオエステル基とメルカプト基を含有する化合
物を共存させて重合し、得られた重合体を水酸化ナトリ
ウムやアンモニア等のアルカリまたは、塩酸、硫酸等の
酸で処理して、片末端にメルカプト基を有する重合体と
し、その存在下でブロック(b)(または(a))を構
成する単量体成分をラジカル重合して得る方法が、簡便
かつ高効率で好ましい方法である。なお、この製造方法
は特開平58−62671号公報に詳述されている。ま
た、該製造法において、ブロック(b)を構成する第4
級アンモニウム塩構造単位を与える単量体を用いる替わ
りに、該単量体の4級化前の単量体を用い、得られた重
合体を4級化して該ジブロック共重合体を得る方法も、
簡便かつ高効率で好ましい。
The method for producing the diblock copolymer (B) is not particularly limited, but a thiolcarboxylic acid is used when radically polymerizing the monomer component constituting the block (a) (or (b)). Alternatively, a compound containing a thioester group and a mercapto group in the molecule such as 2-acetylthioethylthiol, 10-acetylthiodecanethiol, etc. is allowed to coexist and polymerized, and the obtained polymer is alkali such as sodium hydroxide or ammonia. Alternatively, it is treated with an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid to give a polymer having a mercapto group at one end, and in the presence thereof, a monomer component constituting the block (b) (or (a)) is radically polymerized. The method of obtaining is a simple, highly efficient and preferable method. This manufacturing method is described in detail in Japanese Patent Laid-Open No. 58-62671. In addition, in the manufacturing method, a fourth component which constitutes the block (b) is used.
A method for obtaining the diblock copolymer by quaternizing the obtained polymer by using a monomer before quaternization of the monomer instead of using the monomer which gives a quaternary ammonium salt structural unit. Also,
It is preferable because it is simple and highly efficient.

【0027】また、本発明においては、該ジブロック共
重合体(B)におけるブロック(a)の数平均重合度M
は4〜1000であることが好ましく、6〜700であ
ることがより好ましい。一方、ブロック(b)の数平均
重合度Nは4〜3000であることが好ましく、10〜
2000であることがより好ましい。さらに、該ジブロ
ック(B)におけるブロック(a)とブロック(b)の
数平均重合度の比率M/Nは0.01〜10であること
が好ましく、0.02〜9であることがより好ましい。
In the present invention, the number average degree of polymerization M of the block (a) in the diblock copolymer (B) is M.
Is preferably 4 to 1000, and more preferably 6 to 700. On the other hand, the number average degree of polymerization N of the block (b) is preferably 4 to 3000,
It is more preferably 2000. Further, the ratio M / N of the number average polymerization degrees of the block (a) and the block (b) in the diblock (B) is preferably 0.01 to 10, and more preferably 0.02 to 9. preferable.

【0028】該ジブロック共重合体(B)は、スチレン
系樹脂(A)100重量部に対して、0.3〜30重量
部を用いることが必要であり、1〜20重量部を使用す
ることが好ましい。ジブロック共重合体(B)の使用量
が0.3重量部未満になると、充分な帯電防止効果が得
られず、また、30重量部より多くなると、機械的物性
や印刷性、ホットスタンプ性およびシ−ル密着性などの
2次加工性が低下する。
The diblock copolymer (B) must be used in an amount of 0.3 to 30 parts by weight, and 1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the styrene resin (A). It is preferable. When the amount of the diblock copolymer (B) used is less than 0.3 parts by weight, a sufficient antistatic effect cannot be obtained, and when it is more than 30 parts by weight, mechanical properties, printability and hot stamping property are increased. And the secondary workability such as seal adhesion is deteriorated.

【0029】本発明のスチレン系樹脂組成物において
は、発明の目的を阻害しない範囲で、ガラス繊維、炭素
繊維、セラミックファイバ−、マイカ、タルク、炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム等の無機フィラ−充填剤を添加
することができる。使用する無機充填剤の種類には特に
制限は無いが、上記無機フィラー充填剤の中でも硫酸バ
リウムや炭酸カルシウムがよく使用される。本発明にお
いてはこの他に、さらに、各種の目的で、可塑剤、離型
剤、耐候剤、酸化防止剤、難燃剤、着色剤、安定剤等を
併用しても、本発明の目的を何ら妨げるものではない。
本発明のスチレン系樹脂組成物の製造方法としては、特
に制限はないが、一般に知られる汎用の単軸押出機や2
軸押出機で、混練溶融させて製造されることが好まし
い。
In the styrenic resin composition of the present invention, an inorganic filler such as glass fiber, carbon fiber, ceramic fiber, mica, talc, calcium carbonate, barium sulfate, etc. is added within a range not impairing the object of the invention. It can be added. The type of inorganic filler used is not particularly limited, but barium sulfate and calcium carbonate are often used among the above inorganic filler fillers. In addition to the above, in the present invention, even if a plasticizer, a release agent, a weather resistance agent, an antioxidant, a flame retardant, a colorant, a stabilizer, and the like are used in combination for various purposes, the purpose of the present invention is not limited. It does not hinder.
The method for producing the styrene-based resin composition of the present invention is not particularly limited, but a commonly known general-purpose single-screw extruder or 2
It is preferably produced by kneading and melting with a shaft extruder.

【0030】[0030]

【実施例】以下、実施例および比較例に基づいて本発明
を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例およ
び比較例に限定されるものではない。なお、本発明の実
施例は次の評価方法に基づき評価した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples and Comparative Examples. The examples of the present invention were evaluated based on the following evaluation methods.

【0031】・表面抵抗値Y1 の評価 表面抵抗値Y1 の測定は、射出成形により作成した10
0mm×100mm×3mmの平板を、23℃、50R
H%(相対湿度)条件下に約1日放置した後、(株)東
亜電波工業製の超絶縁計(SM8203型)にて、印加
電圧1000V、帯電時間10秒の条件で行った。
[0031] Surface Measurement of the evaluation surface resistivity Y 1 of the resistance value Y 1 were prepared by injection molding 10
0 mm x 100 mm x 3 mm flat plate at 23 ° C, 50R
After left for about 1 day under H% (relative humidity) conditions, it was measured with a super insulation meter (SM8203 type) manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. under the conditions of applied voltage of 1000 V and charging time of 10 seconds.

【0032】・表面抵抗値Y2 の評価 表面抵抗値Y2 の測定は、射出成形により作成した10
0mm×100mm×3mmの平板を、23℃、50R
H%(相対湿度)条件下に約1日放置した後、水道水に
て水洗し、次に、表面の水分を拭き取ってから、さら
に、室内下で1時間乾燥させた後、(株)東亜電波工業
製の超絶縁計(SM8203型)にて、印加電圧100
0V、帯電時間10秒の条件で行った。
[0032] Surface Measurement of the evaluation surface resistance value Y 2 of the resistance value Y 2 was prepared by injection molding 10
0 mm x 100 mm x 3 mm flat plate at 23 ° C, 50R
After leaving it under H% (relative humidity) conditions for about 1 day, rinse it with tap water, then wipe off the water on the surface, and further dry it in the room for 1 hour. Applied voltage of 100 with a super insulation meter (SM8203 type) manufactured by Denpa Kogyo.
It was performed under the conditions of 0 V and a charging time of 10 seconds.

【0033】・表面抵抗値Y3 の評価 表面抵抗値Y3 の測定は、射出成形により作成した10
0mm×100mm×3mmの平板を、23℃、50R
H%(相対湿度)条件下に約3ヵ月放置した後、(株)
東亜電波工業製の超絶縁計(SM8203型)にて、印
加電圧1000V、帯電時間10秒の条件で行った。
[0033] Surface Measurement of the evaluation surface resistance Y 3 of the resistance value Y 3 were prepared by injection molding 10
0 mm x 100 mm x 3 mm flat plate at 23 ° C, 50R
After leaving it under H% (relative humidity) condition for about 3 months,
A super insulation meter (SM8203 type) manufactured by Toa Denpa Kogyo was used under the conditions of an applied voltage of 1000 V and a charging time of 10 seconds.

【0034】・タバコの灰付着性による評価 その他、タバコの灰付着性による帯電防止性の評価を行
った。評価は、射出成形により作成した100mm×1
00mm×3mmの平板を室内に約1時間放置し、その
平板の表面を乾いた綿布で10回擦って摩擦を与えた
後、タバコの灰がしきつめられたトレ−の上に、5mm
の間隔をあけて、5秒間保持し、そのタバコの灰付着度
を目視により評価した。 ○・・灰付着が全く生じない。 △・・若干の灰付着が生ずる。 ×・・多量の灰が付着する。
Evaluation by Tobacco Ash Adhesion In addition, the antistatic property was evaluated by the cigarette ash adhesion. Evaluation is 100 mm x 1 created by injection molding
A flat plate of 00 mm x 3 mm is left in the room for about 1 hour, and the surface of the flat plate is rubbed by rubbing it with a dry cotton cloth 10 times to give a rub on it.
The interval was maintained for 5 seconds, and the ash adhesion of the tobacco was visually evaluated. ○ ・ ・ No ash adhesion occurs. △ ... Slight ash adhesion occurs. ×: A large amount of ash adheres.

【0035】・機械的物性の評価 機械的物性として、樹脂組成物の落錘衝撃強度を評価し
た。落錘衝撃強度の評価は、射出成形により作成した1
60mm×160mm×3mmの平板を23℃、50R
H%(相対湿度)条件下に約1日放置した後、JIS−
K7211に準じて行った。
Evaluation of Mechanical Properties As the mechanical properties, the falling weight impact strength of the resin composition was evaluated. The drop weight impact strength was evaluated by injection molding 1
A plate of 60 mm x 160 mm x 3 mm is 23 ° C and 50R
After leaving it under H% (relative humidity) condition for about 1 day, JIS-
It carried out according to K7211.

【0036】・印刷性の評価 印刷性の評価は、シルクスクリ−ン印刷の密着性の強さ
から評価した。評価は、まず、ポリスチレン用の印刷イ
ンキを用いて、射出成形により作成した160mm×1
60mm×3mmの平板上にシルクスクリ−ン印刷を行
ない、90℃で1時間乾燥してから、さらに室温下で1
日放置した後、次に、カッタ−でこの平板上の印刷面に
碁盤目状のキズを付けてからセロハンテ−プを貼り、指
の力で充分に押して密着させた後、表面より45°の角
度で一気に引張ることによって、その印刷面の剥離状況
から目視により評価した。 ○・・印刷面の剥離が全く生じない。 △・・印刷面が僅かに剥離する。 ×・・印刷面が広い範囲で剥離する。
Evaluation of printability The printability was evaluated based on the strength of adhesion in silk screen printing. First, the evaluation was performed by using a printing ink for polystyrene, 160 mm x 1 prepared by injection molding.
Perform silk screen printing on a 60 mm x 3 mm plate, dry at 90 ° C for 1 hour, and then at room temperature for 1 hour.
After leaving it for a day, next, after making a checkerboard-like scratch on the printing surface of this flat plate with a cutter, a cellophane tape was attached, and it was pressed sufficiently with the finger force to bring it into close contact, and then 45 ° from the surface. By pulling at once at an angle, the peeling condition of the printed surface was visually evaluated. ○ ・ ・ Peeling of the printed surface does not occur at all. Δ: The printed surface is slightly peeled off. × ・ Peels off a wide area on the printed surface.

【0037】実施例1〜4、比較例1〜4 ゴム含有率が6重量%のHIPS樹脂100重量部に対
して、下記に示すジブロックポリマーおよびランダム共
重合体を表1に示す割合でドライブレンドした後、
(株)池貝製の30mmφ−2軸押出機を用いて、シリ
ンダ−温度210℃の条件で混練し、目的のスチレン系
樹脂組成物のペレットを得た。得られたペレットを予備
乾燥した後、(株)日本製鋼所製の100tの射出成形
機を用いて100mm×100mm×3mmの平板を作
成し、上記方法による表面抵抗値とタバコの灰付着テス
ト、印刷性の評価および落錘衝撃強度の測定を行った。
なお、各種物性評価の際、物性に対する射出速度の影響
を確認すべく、平板は下記に示す3つの射出速度条件に
て射出成形して作成した。結果を表1に示す。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 A diblock polymer and a random copolymer shown below were dried at a ratio shown in Table 1 with respect to 100 parts by weight of a HIPS resin having a rubber content of 6% by weight. After blending
Using a 30 mmφ twin-screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd., the mixture was kneaded at a cylinder temperature of 210 ° C. to obtain pellets of a target styrene resin composition. After pre-drying the obtained pellets, a flat plate of 100 mm x 100 mm x 3 mm was prepared using a 100 t injection molding machine manufactured by Japan Steel Works, Ltd., and a surface resistance value and a cigarette ash adhesion test according to the above method, The printability was evaluated and the falling weight impact strength was measured.
In the evaluation of various physical properties, in order to confirm the influence of the injection speed on the physical properties, the flat plate was injection molded under the following three injection speed conditions. The results are shown in Table 1.

【0038】(1)ジブロックポリマー1 スチレン単位100モル%からなる数平均重合度10の
ブロック(a)部と、式(III)に示す第4級アンモニ
ウム塩単位100モル%からなる数平均重合度60のブ
ロック(b)部から構成されるジブロックポリマー。
(1) Diblock Polymer 1 A number average polymerization comprising a block (a) part having a number average degree of polymerization of 10 composed of 100 mol% of styrene units and 100 mol% of a quaternary ammonium salt unit represented by the formula (III). A diblock polymer composed of a block (b) part of 60 degrees.

【0039】(2)ジブロックポリマー2 スチレン単位100モル%からなる数平均重合度10の
ブロック(a)部と、式(III)に示す第4級アンモニ
ウム塩単位60モル%およびメタクリル酸メチル単位4
0モル%からなる数平均重合度60のブロック(b)部
から構成されるジブロックポリマー。
(2) Diblock Polymer 2 A block (a) part having a number average degree of polymerization of 10 consisting of 100 mol% of styrene units, 60 mol% of a quaternary ammonium salt unit represented by the formula (III) and a methyl methacrylate unit. Four
A diblock polymer composed of 0 part of a block (b) having a number average degree of polymerization of 60.

【0040】(3)ランダム共重合体1 スチレン単位15モル%および一般式(III)に示す第
4級アンモニウム塩単位85モル%からなる数平均重合
度70のランダム共重合体。
(3) Random Copolymer 1 A random copolymer having a number average degree of polymerization of 70 and comprising 15 mol% of styrene units and 85 mol% of quaternary ammonium salt units represented by the general formula (III).

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】・射出速度条件 平板の作成においては、高速、中速および低速充填速度
の3つの射出速度条件にて射出成形を行った。 高速充填:射出時間0.15秒 中速充填:射出時間0.50秒 低速充填:射出時間1.50秒
-Injection speed conditions In the production of the flat plate, injection molding was performed under three injection speed conditions of high speed, medium speed and low filling speed. High speed filling: injection time 0.15 seconds Medium speed filling: injection time 0.50 seconds Low speed filling: injection time 1.50 seconds

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1より、ジブロックポリマーの添加量が
0.3未満の範囲では、表面抵抗値が高く、かつタバコ
の灰付着が多量に生ずることがわかる。一方、ジブロッ
クポリマーの添加量が30重量部より大きくなると、落
錘衝撃値が低下するばかりでなく、印刷性も大きく低下
し、好ましい2次加工特性が得られない。また、ランダ
ム共重合体添加の場合、各種物性の発現性に対する射出
速度条件の依存性が大きく、高速充填では良好な表面抵
抗値は得られるものの印刷性は低下し、逆に、低速充填
の場合には、印刷性は向上するものの良好な表面抵抗値
が得られないため、両方の物性バランスを維持すること
が難しい。これに対して、ジブロックポリマーの添加量
が本発明の範囲内では、表面抵抗値が低く、かつタバコ
の灰付着も生じない良好な帯電防止性を実現できること
がわかる。また、落錘衝撃値にも優れ、且つ良好な2次
加工特性を実現できることがわかる。以上のことから、
スチレン系樹脂に対して、特定の第4級アンモニウム塩
基を含有するジブロックポリマーを、本発明の方法に従
って添加した材料では、良好な帯電防止性と機械的物性
および2次加工特性が得られることがわかる。
It can be seen from Table 1 that when the amount of the diblock polymer added is less than 0.3, the surface resistance is high and a large amount of ash adheres to the tobacco. On the other hand, when the addition amount of the diblock polymer is more than 30 parts by weight, not only the drop weight impact value is lowered but also the printability is greatly lowered, and a preferable secondary processing property cannot be obtained. In addition, in the case of adding a random copolymer, the dependency of the injection speed condition on the manifestation of various physical properties is large, and although a good surface resistance value can be obtained with high-speed filling, the printability decreases, but conversely, with low-speed filling. , The printability is improved, but a good surface resistance value cannot be obtained, and thus it is difficult to maintain the balance of physical properties of both. On the other hand, when the amount of the diblock polymer added is within the range of the present invention, it can be seen that the surface resistance value is low and good antistatic property that does not cause ash adhesion of tobacco can be realized. Further, it can be seen that the falling weight impact value is excellent and good secondary processing characteristics can be realized. From the above,
A material obtained by adding a diblock polymer containing a specific quaternary ammonium salt group to a styrenic resin according to the method of the present invention has good antistatic properties, mechanical properties and secondary processing properties. I understand.

【0045】実施例5〜16、比較例5〜7 ゴム含有率が6重量%のHIPS樹脂100重量部に対
して、下記に示すジブロックポリマ−を5重量部添加
し、ドライブレンドした後、(株)池貝製の30mmφ
−2軸押出機を用いて、シリンダ−温度210℃の条件
で混練し、目的のスチレン系樹脂組成物のペレットを得
た。得られたペレットを予備乾燥した後、(株)日本製
鋼所製の100tの射出成形機を用いて100mm×1
00mm×3mmの平板を作成し、上記方法による表面
抵抗値とタバコの灰付着テスト、印刷性の評価および落
錘衝撃値の測定を行った。合成した各種ジブロックポリ
マーの種類と結果を表2に示す。
Examples 5 to 16 and Comparative Examples 5 to 7 To 100 parts by weight of a HIPS resin having a rubber content of 6% by weight, 5 parts by weight of a diblock polymer shown below was added and dry blended. 30mmφ made by Ikegai Co., Ltd.
-Using a twin-screw extruder, the mixture was kneaded at a cylinder temperature of 210 ° C to obtain pellets of the target styrene resin composition. After pre-drying the obtained pellets, 100 mm x 1 using a 100 t injection molding machine manufactured by Japan Steel Works, Ltd.
A flat plate of 00 mm × 3 mm was prepared, and the surface resistance value and cigarette ash adhesion test by the above method, printability evaluation, and falling weight impact value were measured. Table 2 shows the types of various diblock polymers synthesized and the results.

【0046】(4)ジブロックポリマー3〜10 ブロック(a)部がスチレン単位100モル%からな
り、ブロック(b)部が式(IV)に示す第4級アンモニ
ウム塩単位80モル%およびメタクリル酸エチル単位2
0モル%からなると共に、各ブロックが表2に示す各種
の数平均重合度を有するジブロックポリマー。
(4) Diblock polymer 3 to 10 Block (a) part consists of 100 mol% of styrene unit, block (b) part contains 80 mol% of quaternary ammonium salt unit represented by the formula (IV) and methacrylic acid. Ethyl unit 2
A diblock polymer comprising 0 mol% and each block having various number average degrees of polymerization shown in Table 2.

【0047】[0047]

【化6】 (式中、Phはフェニレン基を表す。)[Chemical 6] (In the formula, Ph represents a phenylene group.)

【0048】(5)ジブロックポリマー11 ブロック(a)部がスチレン単位100モル%からな
り、ブロック(b)部が式(IV)に示す第4級アンモニ
ウム塩単位70モル%およびメタクリル酸メチル単位3
0モル%からなると共に、各ブロックが表2に示す数平
均重合度を有するジブロックポリマー。
(5) Diblock Polymer 11 Block (a) part consists of 100 mol% of styrene unit, and block (b) part contains 70 mol% of quaternary ammonium salt unit shown in formula (IV) and methyl methacrylate unit. Three
A diblock polymer consisting of 0 mol% and each block having a number average degree of polymerization shown in Table 2.

【0049】(6)ジブロックポリマー12 ブロック(a)部がスチレン単位75モル%およびアク
リロニトリル単位25モル%からなり、ブロック(b)
部が式(IV)に示す第4級アンモニウム塩単位60モル
%およびスチレン単位40モル%からなると共に、各ブ
ロックが表2に示す数平均重合度を有するジブロックポ
リマー。
(6) Diblock Polymer 12 Block (a) part consists of 75 mol% of styrene units and 25 mol% of acrylonitrile units, and block (b)
A diblock polymer in which each part comprises 60 mol% of a quaternary ammonium salt unit represented by the formula (IV) and 40 mol% of a styrene unit, and each block has a number average degree of polymerization shown in Table 2.

【0050】(7)ジブロックポリマー13 ブロック(a)部がスチレン単位75モル%およびメタ
クリル酸メチル単位25モル%からなり、ブロック
(b)部が式(IV)に示す第4級アンモニウム塩単位3
0モル%およびN,N−ジメチルアクリルアミド単位7
0モル%からなると共に、各ブロックが表2に示す数平
均重合度を有するジブロックポリマー。
(7) Diblock Polymer 13 The block (a) part is composed of 75 mol% of styrene units and 25 mol% of methyl methacrylate units, and the block (b) part is a quaternary ammonium salt unit represented by the formula (IV). Three
0 mol% and N, N-dimethylacrylamide units 7
A diblock polymer consisting of 0 mol% and each block having a number average degree of polymerization shown in Table 2.

【0051】(8)ジブロックポリマー14 ブロック(a)部がスチレン単位75モル%およびアク
リロニトリル単位25モル%からなり、ブロック(b)
部が式(IV)に示す第4級アンモニウム塩単位70モル
%および式(V)に示す3級アミン単位30モル%から
なると共に、各ブロックが表2に示す数平均重合度を有
するジブロックポリマー。
(8) Diblock Polymer 14 Block (a) part consists of 75 mol% of styrene units and 25 mol% of acrylonitrile units, and block (b)
A diblock in which each part comprises 70 mol% of a quaternary ammonium salt unit represented by the formula (IV) and 30 mol% of a tertiary amine unit represented by the formula (V), and each block has a number average degree of polymerization shown in Table 2. polymer.

【0052】[0052]

【化7】 [Chemical 7]

【0053】(9)ジブロックポリマー15 ブロック(a)部がスチレン単位100モル%からな
り、一方、ブロック(b)部が式(V)に示す3級アミ
ン単位100モル%からなり、各ブロックが表2に示す
数平均重合度を有するジブロックコポリマー。
(9) Diblock Polymer 15 Block (a) part consists of 100 mol% of styrene unit, while block (b) part consists of 100 mol% of tertiary amine unit represented by the formula (V), and each block A diblock copolymer having the number average degree of polymerization shown in Table 2.

【0054】(10)ジブロックポリマー16〜17 ブロック(a)部がスチレン単位100モル%からな
り、一方、ブロック(b)部がアクリル酸ブチル単位1
00モル%からなると共に、各ブロックが表2に示す各
種の数平均重合度を有するジブロックポリマー。
(10) Diblock polymer 16 to 17 Block (a) part consists of 100 mol% of styrene unit, while block (b) part consists of butyl acrylate unit 1
A diblock polymer consisting of 00 mol% and each block having various number average degrees of polymerization shown in Table 2.

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】表2より、スチレン系樹脂に対して、特定
の第4級アンモニウム塩基を含有するジブロックポリマ
ーでは、良好な帯電防止性が実現できることはもちろ
ん、落錘衝撃値にも優れ、かつ良好な2次加工特性も実
現できることがわかる。また、ブロック(a)の数平均
重合度M、ブロック(b)の数平均重合度Nおよびブロ
ック(a)とブロック(b)の数平均重合度の比率M/
N値を特定の範囲に選べば、さらなる物性バランスの向
上を実現できることがわかる。一方、ブロック(b)部
に第4級アンモニウム塩基を含まないジブロックポリマ
ーでは、永久帯電防止性、落錘衝撃値および印刷性等の
2次加工特性の物性バランスが良好に保てなくなり、好
ましい材料とは言えなくなる。
From Table 2, it can be seen that the diblock polymer containing a specific quaternary ammonium salt group can realize good antistatic property with respect to the styrene resin, and also has an excellent drop weight impact value. It can be seen that excellent secondary processing characteristics can also be realized. Further, the number average degree of polymerization M of the block (a), the number average degree of polymerization N of the block (b) and the ratio M / of the number average degree of polymerization of the block (a) and the block (b).
It can be seen that if the N value is selected within a specific range, further improvement in physical property balance can be realized. On the other hand, a diblock polymer that does not contain a quaternary ammonium salt group in the block (b) part is preferable because it cannot maintain a good balance of physical properties such as permanent antistatic property, falling weight impact value and printability. It cannot be called a material.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の樹脂組成物によれば、永久帯電
防止性に優れた効果を発揮して、射出成形品の表面のホ
コリの付着防止に優れるばかりでなく、落錘衝撃値等の
耐衝撃特性および、印刷性等の2次加工特性においても
優れた特性を有するスチレン系樹脂組成物よりなる射出
成形用材料を提供することができる。このため、本発明
のスチレン系樹脂組成物よりなる射出成形用材料は、特
に、自動車内装部品や家電製品に使用されるプラスチッ
ク材料として極めて有用なものである。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the resin composition of the present invention, not only is it excellent in permanent antistatic property and is excellent in preventing dust from adhering to the surface of an injection-molded product, It is possible to provide an injection molding material made of a styrene-based resin composition having excellent impact resistance and secondary processing characteristics such as printability. Therefore, the injection molding material comprising the styrene resin composition of the present invention is extremely useful particularly as a plastic material used for automobile interior parts and home electric appliances.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲葉 真司 神奈川県横浜市緑区鴨居4−61−4 (72)発明者 吉原 資二 岡山県倉敷市酒津1621 株式会社クラレ内 (72)発明者 寺田 和俊 大阪府大阪市北区梅田1−12−39 株式会 社クラレ内 (72)発明者 佐藤 寿昭 岡山県倉敷市酒津1621 株式会社クラレ内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shinji Inaba 4-61-4 Kamoi, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture (72) Inventor, Shiji Yoshihara 1621 Sakata, Kurashiki, Okayama (72) Inventor, Terada Kazutoshi 1-12-39 Umeda, Kita-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Kuraray Co., Ltd. (72) Inventor Toshiaki Sato 1621 Sakata, Kurashiki-shi, Okayama Kuraray Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スチレン系樹脂(A)100重量部に対
して、芳香族ビニル30〜100モル%および芳香族ビ
ニルと共重合可能なビニル系不飽和単量体の1種以上7
0〜0モル%を(共)重合せしめてなるブロック(a)
および、下記一般式(I)で表される第4級アンモニウ
ム塩構造単位を10〜100モル%含有するブロック
(b)から構成されるジブロック共重合体(B)0.3
〜30重量部を配合してなるスチレン系樹脂組成物。 【化1】 (式中のR1 は水素原子またはメチル基を、R2 はアル
キレン基または少なくとも1つ以上の−OH基を含むア
ルキレン基を、R3 〜R5 はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示
す。Xは−COO−、−CONH−、−SO2NH−ま
たは−C64SO2NH−を、Yはハロゲン原子、RO
SO3 、ROSO2 、RSO3 、R−C64−SO3
(RO)2PO2(Rはアルキル基または少なくとも1つ
以上の−OH基を含むアルキル基を表す。)を示す。)
1. One or more kinds of vinyl unsaturated monomers copolymerizable with 30 to 100 mol% of aromatic vinyl and aromatic vinyl based on 100 parts by weight of styrene resin (A) 7.
Block (a) formed by (co) polymerizing 0 to 0 mol%
And a diblock copolymer (B) 0.3 composed of a block (b) containing 10 to 100 mol% of a quaternary ammonium salt structural unit represented by the following general formula (I).
A styrene-based resin composition containing 30 to 30 parts by weight. Embedded image (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group or an alkylene group containing at least one —OH group, and R 3 to R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a substituent, respectively. Represents a benzyl group which may have X is —COO—, —CONH—, —SO 2 NH— or —C 6 H 4 SO 2 NH—, Y is a halogen atom, RO
SO 3, ROSO 2, RSO 3 , R-C 6 H 4 -SO 3,
(RO) 2 PO 2 (R represents an alkyl group or an alkyl group containing at least one —OH group). )
【請求項2】 スチレン系樹脂(A)が、ポリスチレ
ン、ゴム含有ポリスチレン、アクリロニトリル/スチレ
ン共重合体、ゴム含有アクリロニトリル/スチレン共重
合体、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体、ゴム含
有スチレン/メタクリル酸メチル共重合体、スチレン/
アクリル酸ブチル共重合体、ゴム含有スチレン/アクリ
ル酸ブチル共重合体、スチレン/ジエンブロック共重合
体およびその水添物から選択される1種以上であること
を特徴とする請求項1記載のスチレン系樹脂組成物。
2. The styrene resin (A) is polystyrene, rubber-containing polystyrene, acrylonitrile / styrene copolymer, rubber-containing acrylonitrile / styrene copolymer, styrene / methyl methacrylate copolymer, rubber-containing styrene / methacrylic acid. Methyl copolymer, styrene /
The styrene according to claim 1, which is one or more selected from a butyl acrylate copolymer, a rubber-containing styrene / butyl acrylate copolymer, a styrene / diene block copolymer and a hydrogenated product thereof. -Based resin composition.
【請求項3】 ジブロック共重合体(B)におけるブロ
ック(a)の数平均重合度Mが4〜1000であり、ブ
ロック(b)の数平均重合度Nが4〜3000であり、
かつ、ブロック(a)とブロック(b)の数平均重合度
の比率M/Nが0.01〜10であることを特徴とする
請求項1または請求項2記載のスチレン系樹脂組成物。
3. The number average degree of polymerization M of the block (a) in the diblock copolymer (B) is 4 to 1000, and the number average degree of polymerization N of the block (b) is 4 to 3000.
Moreover, the ratio M / N of the number average degree of polymerization of the block (a) and the block (b) is 0.01 to 10, and the styrene resin composition according to claim 1 or claim 2.
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US6962956B2 (en) 2002-01-31 2005-11-08 Atofina Antistatic strenique polymer compositions

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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