JPH08236662A - Resin sealed semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Resin sealed semiconductor device and manufacture thereof

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JPH08236662A
JPH08236662A JP4018095A JP4018095A JPH08236662A JP H08236662 A JPH08236662 A JP H08236662A JP 4018095 A JP4018095 A JP 4018095A JP 4018095 A JP4018095 A JP 4018095A JP H08236662 A JPH08236662 A JP H08236662A
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Abstract

PURPOSE: To reduce the lead impedance of power supply system and ground system between the electrode on a mounted IC chip and the tip of an outer lead as compared with conventional one. CONSTITUTION: Inner leads 5a, 5b, outer leads 6a, 6b and an island 4 are formed in conductor pattern on one surface of a flexible insulating board 1 having the other surface covered entirely, including an outer lead group but excepting a part of corner part, with one solid conductive layer pattern 2. The island 4, the solid conductive layer pattern 2 and the tip part of the outer lead 6b are connected through a through hole 8c and the ground potential supply electrode of a semiconductor chip 3 face-down mounted on the island is wire bonded to the island 4 through shortest route thus forming the current path of the ground system. Since the solid conductive layer pattern 2 having wide area is inserted farther than the island, the lead impedance is decreased as compared with conventional one the decreasing the impedance of resin sealed semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置に
係わり、特に搭載する半導体チップの電極とアウタリー
ドとの間の電気的特性を改善した樹脂封止型半導体装置
およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device, and more particularly to a resin-encapsulated semiconductor device having improved electrical characteristics between electrodes and outer leads of a semiconductor chip to be mounted and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体チップ(以下、ICチップ
と称する)の高集積化、多機能化に伴って入出力端子の
多端子化が進んでいる。これらのICチップを実装する
場合はDIP(Dual In−line Packa
ge)が標準的に用いられていたが、端子数、実装方
法、強度および価格等の制約から実装上困難な場合があ
り、種々の樹脂封止型パッケージまたは実装方法が開発
されてきた。
2. Description of the Related Art In recent years, the number of input / output terminals has been increased in accordance with higher integration and more functions of a semiconductor chip (hereinafter, referred to as an IC chip). When mounting these IC chips, use a DIP (Dual In-line Packa).
Ge) was used as a standard, but it was sometimes difficult to mount due to restrictions on the number of terminals, mounting method, strength, price, etc., and various resin-sealed packages or mounting methods have been developed.

【0003】前述したように、ICチップの高集積化、
多機能化に伴って入出力端子の多端子化が進んでおり、
例えば10〜15mm平方のICチップに約300〜6
00ピンの入出力端子を有するものもある。例えばフィ
ルムキャリアテープにインナリードボンディング(IL
B)されたICチップは、アウタリードボンディング
(OLB)によってプリント基板に実装されるが、約3
00〜600ピンという多ピンのICチップになると、
OLBの高精度化が必要となりOLBが難しくなってく
る。すなわち、リード強度および寸法精度の低下ととも
に、基板への実装時にハンダブリッジの不良が発生す
る。さらに多端子化とともに高機能化にともないリード
インダクタンスも問題となってきた。
As described above, high integration of IC chips,
With the increase in the number of functions, the number of input / output terminals is increasing.
For example, about 300 to 6 for an IC chip of 10 to 15 mm square
Some have a 00 pin input / output terminal. For example, inner lead bonding (IL
B) The mounted IC chip is mounted on a printed circuit board by outer lead bonding (OLB).
When it comes to a multi-pin IC chip with 100 to 600 pins,
The OLB needs to be highly accurate, and the OLB becomes difficult. That is, the lead strength and the dimensional accuracy are reduced, and the solder bridge is defective when mounted on the board. Furthermore, as the number of terminals increases and so does the functionality, lead inductance has become a problem.

【0004】そこでこのような電気的特性の改善を解決
するための一例が特開昭63−246851号公報に記
載されている。同公報記載の半導体装置を実装するリー
ドフレームの構成部材を説明する斜視図を示した図4
(a)、およびこのリードフレームを用いた樹脂封止半
導体装置の部分断面図を示した図4(b)を参照する
と、インナリード21の下面に接着される環状の絶縁性
テープ22と、その下に接着され電源電位供給層となる
金属板23と、さらにその下に接着される環状の絶縁性
テープ24と、その下に接着され接地電位供給層となる
金属板25とをそれぞれ有している。
An example for solving such an improvement in the electrical characteristics is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-246851. FIG. 4 is a perspective view illustrating constituent members of a lead frame for mounting the semiconductor device described in the publication.
4A, which shows a partial cross-sectional view of a resin-encapsulated semiconductor device using this lead frame, FIG. 4A shows an annular insulating tape 22 adhered to the lower surface of the inner lead 21, and FIG. It has a metal plate 23 bonded below as a power supply potential supply layer, an annular insulating tape 24 bonded thereunder, and a metal plate 25 bonded below as a ground potential supply layer. I have.

【0005】これらの金属板23,25はそれぞれの対
抗する2辺とコーナー部外縁に突起(タブ)26a,2
6b,27a,27bをもち、これら両方の金属板相互
ではこれらのタブが重ならないような辺とコーナー部に
設けられている。これらの部材が積層され、かつこれら
のタブ26a,26b,27a,27bが、内部リード
群21のうちの電源電位供給用リードおよび接地電位供
給用リードにそれぞれ電気溶接により接合されて(図4
(b)における符号26a参照)リードフレーム21が
形成される。
[0005] These metal plates 23, 25 are provided with projections (tabs) 26a, 2
6b, 27a, and 27b, and these metal plates are provided at sides and corners where these tabs do not overlap. These members are laminated, and the tabs 26a, 26b, 27a, 27b are respectively joined to the power supply potential supply lead and the ground potential supply lead of the internal lead group 21 by electric welding (FIG. 4).
(See reference numeral 26a in (b)) The lead frame 21 is formed.

【0006】上述したリードフレーム21にICチップ
28を搭載し、ICチップの各電極とインナリード群2
1がワイヤボンディングで接続されるが、このとき、電
源電位供給用電極は金属板23に、接地電位供給用電極
は金属板25にそれぞれワイヤボンディングされ、例え
ば金属板23はタブ26aによりインナリード29に電
気溶接され電気的に接合され、樹脂30により封止され
る。
An IC chip 28 is mounted on the above-mentioned lead frame 21, each electrode of the IC chip and the inner lead group 2
1 are connected by wire bonding. At this time, the power supply potential supply electrode is wire-bonded to the metal plate 23 and the ground potential supply electrode is wire-bonded to the metal plate 25. For example, the metal plate 23 is connected to the inner lead 29 by a tab 26a. Are electrically welded to each other, and are sealed by the resin 30.

【0007】この金属板の接合により電源系および接地
系のリードインダクタンスを低減するものである。
The joining of the metal plates reduces the lead inductance of the power supply system and the ground system.

【0008】一方、OLBの高精度化による困難さと電
気的特性の改善を解決するための他の例が特願平5−1
75067号に記載されている。その半導体装置の断面
図を示した図5を参照すると、可撓性絶縁基板1の両面
にそれぞれ導体層で形成したインナリードおよびアウタ
リードからなる金属配線層31,32および33,34
と、基板上面のリード33,34に囲まれた領域に電源
電位供給用または接地電位供給用のリードに接続される
金属板35を有し、金属板35およびリード31はスル
ーホール39で、リード33および36はスルーホール
37で、リード32および34はスルーホール38でそ
れぞれ貫通接続されることによって、同一直線上に第1
の接続部31aと第2の接続部36とを設けることによ
り、従来の2倍の外部アウタリードピッチを得ている。
On the other hand, another example for solving the difficulty and the improvement of the electric characteristics of the OLB with higher precision is disclosed in Japanese Patent Application No. Hei.
No. 75067. Referring to FIG. 5, which shows a cross-sectional view of the semiconductor device, metal wiring layers 31, 32 and 33, 34 each formed of an inner lead and an outer lead formed on both surfaces of a flexible insulating substrate 1 by a conductor layer.
And a metal plate 35 connected to a power supply potential supply or ground potential supply lead in a region surrounded by the leads 33 and 34 on the upper surface of the substrate. 33 and 36 are through-holes 37, and leads 32 and 34 are through-connected with through-holes 38, respectively.
By providing the connecting portion 31a and the second connecting portion 36, the external outer lead pitch twice as large as the conventional one is obtained.

【0009】さらに、基板裏面には半導体装置40がフ
ェイスダウンで搭載され、かつ半導体装置40の各電極
がワイヤ41によってリード31および32にボンディ
ング接続されて樹脂42で封止されている。
Further, a semiconductor device 40 is mounted face-down on the back surface of the substrate, and each electrode of the semiconductor device 40 is bonded to leads 31 and 32 by wires 41 and sealed with a resin 42.

【0010】上述した構成により、ハンダブリッジ不良
の改善と電源電位供給用または接地電位供給用のリード
インピーダンスの低減をするものである。
With the above-described configuration, the solder bridge defect is improved and the lead impedance for supplying the power supply potential or the ground potential is reduced.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の樹脂封
止型半導体装置では、電源系および接地系のリードイン
ダクタンスを低減させるための構成に注目してみると、
インダクタンスの大きいリード経路の一部をインダクタ
ンスの小さい平板上の金属板または金属層をリードの一
部として配設することによってその目的を達成しようと
するものである。
In the conventional resin-encapsulated semiconductor device described above, attention is paid to a structure for reducing the lead inductance of the power supply system and the ground system.
The object is achieved by disposing a part of a lead path having a large inductance as a part of a lead on a metal plate or a metal layer on a flat plate having a small inductance.

【0012】しかしながら、リードの一部として配設さ
れる金属板または金属層の大きさは、樹脂封止内に収容
されるため封止パッケージそのものの大きさに制限され
た面積になってしまうことになる。
However, the size of the metal plate or metal layer provided as a part of the lead is limited to the size of the sealing package itself because it is housed in the resin sealing. become.

【0013】そのため、リードの経路を補う効果は、全
リード経路に対して1/4から1/2程度となり、実際
のインダクタンスの低減効果は10〜50%程度とな
り、搭載したICチップの有する機能によってはまだイ
ンピーダンス低減が十分とはいえない場合があった。
Therefore, the effect of compensating for the lead path is about 4 to に 対 し て of the entire lead path, the actual inductance reduction effect is about 10 to 50%, and the function of the mounted IC chip is reduced. In some cases, impedance reduction has not yet been sufficient.

【0014】本発明の目的は、上述した欠点に鑑みなさ
れたものであり、搭載したICチップの電極からアウタ
リード先端部までの電源系および接地系におけるリード
インピーダンスを従来よりも低減した樹脂封止型半導体
装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a resin-sealed type in which the lead impedance in a power supply system and a grounding system from an electrode of a mounted IC chip to a tip end of an outer lead is reduced as compared with the prior art. It is to provide a semiconductor device.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置の特徴は、可撓性絶縁基板の一方面に導体パター
ンを用いてインナリード群とアウタリード群とアイラン
ドとが形成され、かつこのアイランドに搭載された半導
体チップの各電極が前記インナリード群とそれぞれワイ
ヤボンディング接続されるとともに前記アウタリード群
を除く内部領域を樹脂により封止した樹脂封止型半導体
装置において、前記他方面のコーナー部の一部分以外の
全面が一枚の導体層ベタパターンで覆われるとともに、
この導体層ベタパターンが前記電極群のうちのあらかじ
め定めた所定の電極にのみ電気的に接続されることにあ
る。
A feature of the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is that an inner lead group, an outer lead group, and an island are formed on one surface of a flexible insulating substrate by using a conductor pattern, and In the resin-encapsulated semiconductor device in which each electrode of the semiconductor chip mounted on the island is wire-bonded to the inner lead group and an internal region excluding the outer lead group is sealed with resin, While the entire surface other than a part of the part is covered with one conductor layer solid pattern,
The conductive layer solid pattern is to be electrically connected only to a predetermined electrode of the electrode group.

【0016】また、前記導体層ベタパターンは前記アウ
タリード群のうちの電源供給用リードまたは接地電位供
給用リードの各先端部と前記アイランドとにそれぞれス
ルーホール接続され、かつ前記アイランドが前記半導体
チップの電源電位供給用電極または接地電位供給用電極
のいずれかの電極とワイヤボンディング接続される。
Further, the conductive layer solid pattern is connected to each end of the power supply lead or the ground potential supply lead of the outer lead group and the island, respectively, and the island is connected to the semiconductor chip. It is wire-bonded to either the power supply potential supply electrode or the ground potential supply electrode.

【0017】さらに、前記他方面のコーナー部の一部以
外の全面が複数枚に分割形成された導体層ベタパターン
で覆われるとともに前記アイランドも前記複数枚に対応
して分割され、これら複数枚の導体層ベタパターンはあ
らかじめ定めた所定の前記アウタリード先端部と前記ア
イランドとにそれぞれスルーホール接続され、かつ複数
の前記アイランドのそれぞれが前記半導体チップの電源
電位供給用電極および接地電位供給用電極のうち対応す
る電極とワイヤボンディングされてもよい。
Further, the entire surface other than a part of the corner portion of the other surface is covered with a conductive layer solid pattern formed by dividing into a plurality of sheets, and the island is divided corresponding to the plurality of sheets. The conductor layer solid pattern is through-hole connected to the predetermined outer lead tip and the island, and each of the plurality of islands is one of the power supply potential supply electrode and the ground potential supply electrode of the semiconductor chip. It may be wire-bonded to the corresponding electrode.

【0018】さらにまた、前記半導体チップは、フェイ
スダウンの状態で前記導体パターンにより形成された前
記アイランドに絶縁性接着剤を用いて接着されて搭載さ
れる。
Furthermore, the semiconductor chip is mounted face down in a state of being bonded to the island formed by the conductor pattern using an insulating adhesive.

【0019】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
の特徴は、可撓性絶縁基板の一方面に導体パターンを用
いてインナリード群とアウタリード群とアイランドとを
形成し、かつこのアイランドに搭載する半導体チップの
各電極を前記インナリード群とそれぞれワイヤボンディ
ング接続するとともに前記アウタリード群を除く内部領
域を樹脂により封止する樹脂封止型半導体装置の製造方
法において、他方面のコーナー部の一部分以外の全面が
一枚の導体層ベタパターンで覆われるとともに、前記導
体層ベタパターンは前記アウタリード群のうちのあらか
じめ定めた所定のリード先端部と前記アイランドとにそ
れぞれスルーホール接続された前記可撓性絶縁基板を用
い、かつこの基板のアイランドに絶縁性接着剤により前
記半導体チップをフェイスダウンで接着する第1の工程
と、前記半導体チップの電極群および前記インナリード
群をワイヤボンディング接続する際に前記電極群の電源
電位供給用電極または接地電位供給用電極のいずれかと
前記アイランドとをそれぞれワイヤボンディング接続す
る第2の工程とを有することにある。
A feature of the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device of the present invention is that an inner lead group, an outer lead group, and an island are formed on one surface of a flexible insulating substrate by using a conductor pattern, and this island is formed. In a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which each electrode of a semiconductor chip to be mounted is wire-bonded to the inner lead group and the inner region except the outer lead group is sealed with resin, a part of a corner portion of the other surface is formed. The whole surface other than the above is covered with a single conductor layer solid pattern, and the conductor layer solid pattern is connected to the island by a predetermined predetermined lead tip portion of the outer lead group and through the flexible wire. Using a conductive insulating substrate and attaching the semiconductor chip to the island of this substrate with an insulating adhesive. A first step of bonding by means of paste-down, and when connecting the electrode group of the semiconductor chip and the inner lead group by wire bonding, either the power supply potential supply electrode or the ground potential supply electrode of the electrode group and the island are connected. And a second step of performing wire bonding connection.

【0020】また、前記他方面のコーナー部の一部分以
外の全面が複数枚に分割形成された導体層ベタパターン
でそれぞれ覆われるとともに前記アイランドも前記複数
枚に対応して分割され、これら複数枚の導体層ベタパタ
ーンは前記アウタリード群のうちのあらかじめ定めた所
定のリード先端部と前記アイランドとにそれぞれスルー
ホール接続された前記可撓性絶縁基板を用い、この基板
の前記分割されたアイランドを跨ぐようにして搭載する
前記半導体チップ裏面を絶縁性接着剤によりフェイスダ
ウンで接着する第1の工程と、前記半導体チップの電極
群および前記インナリード群をワイヤボンディング接続
する際に前記電極群のうちの電源電位供給用電極および
接地電位供給用電極のそれぞれを前記分割されたアイラ
ンドのうちの対応する方にそれぞれワイヤボンディング
接続する第2の工程とを有することができる。
Further, the entire surface other than a part of the corner portion of the other surface is respectively covered with a plurality of divided conductor layer solid patterns, and the islands are also divided corresponding to the plurality of sheets. The conductive layer solid pattern uses the flexible insulating substrate connected to the predetermined lead end portion and the island of the outer lead group and the island through holes, respectively, and straddles the divided islands of the substrate. A first step of bonding the back surface of the semiconductor chip to be mounted face down with an insulating adhesive, and a power supply of the electrode group when the electrode group of the semiconductor chip and the inner lead group are connected by wire bonding. Each of the potential supply electrode and the ground potential supply electrode corresponds to one of the divided islands. It may have a second step of each wire bonding towards that.

【0021】[0021]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0022】図1(a)は本発明の第1の実施例を示す
断面図であり、図2(b)はその部分斜視図である。図
2(a)は樹脂封止前の実施例を示す部分底面図であ
り、図2(b)はその部分平面図である。
FIG. 1A is a sectional view showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a partial perspective view thereof. FIG. 2A is a partial bottom view showing an embodiment before resin sealing, and FIG. 2B is a partial plan view thereof.

【0023】図1(a)および図2(a)を併せて参照
すると、可撓性絶縁基板1の上面には、基板裏面の導電
パターンで形成されたアウタリードの先端上側までの基
板形状に対応させて全面を覆う1枚の導電層ベタパター
ン2が配設されている。
Referring to FIGS. 1A and 2A, the upper surface of the flexible insulating substrate 1 corresponds to the substrate shape up to the upper end of the outer lead formed by the conductive pattern on the back surface of the substrate. Thus, one conductive layer solid pattern 2 covering the entire surface is provided.

【0024】可撓性絶縁基板1の下面には、中央部に搭
載するICチップ3の底部面積よりも広い所定の大きさ
で導電パターンによるアイランド4が配設される。この
アイランド4を囲むように導電パターンによるインナリ
ード5a,5bおよびアウタリード6a、6bがそれぞ
れ配設されている。
On the lower surface of the flexible insulating substrate 1, an island 4 of a predetermined size larger than the bottom area of the IC chip 3 mounted at the center is provided by a conductive pattern. Inner leads 5a, 5b and outer leads 6a, 6b having conductive patterns are arranged so as to surround the island 4, respectively.

【0025】さらに、アイランド4にフェイスダウンの
状態で搭載されたICチップ3の接地電位供給用電極を
除く各電極とイナリード5aとがワイヤ7aによりボン
ディング接続されている。
Further, each electrode except the ground potential supply electrode of the IC chip 3 mounted face down on the island 4 is bonded to the inner lead 5a by a wire 7a.

【0026】また、接地電位供給用電極のみは、アイラ
ンド4にワイヤ7bにより直接ボンディング接続され、
アイランド4は、基板表面の導電性ベタパターン2とを
貫通接続するために予め配設されているスルーホール8
aおよび8bによって接続されている。
Only the ground potential supply electrode is directly bonded to the island 4 by wire 7b.
The island 4 has a through hole 8 provided in advance for penetrating the conductive solid pattern 2 on the substrate surface.
a and 8b.

【0027】さらに、基板裏面の接地電位供給用のアウ
タリード6bの先端部においても予め配設されたスルー
ホール8cによって基板表面の導体層ベタパターン2に
貫通接続されている。
Further, the leading end of the outer lead 6b for supplying the ground potential on the back surface of the substrate is also penetrated to the conductor layer solid pattern 2 on the substrate surface by a through hole 8c provided in advance.

【0028】この状態で、インナリード6、アイランド
4を含む領域が樹脂9により封止されている。
In this state, the region including the inner leads 6 and the islands 4 is sealed with the resin 9.

【0029】図2(b)を参照すると、図2(a)のス
ルーホール8aに対応する導電層ベタパターン2のスル
ーホール8a、図2(a)のアウタリード6bに配設さ
れたスルーホール8cに対応する導電層ベタパターン2
のスルーホール8cが配設されていることを示してあ
る。
Referring to FIG. 2B, the through hole 8a of the conductive layer solid pattern 2 corresponding to the through hole 8a of FIG. 2A and the through hole 8c arranged in the outer lead 6b of FIG. 2A. Solid layer 2 corresponding to the conductive layer
Is provided.

【0030】この導電層ベタパターン2は、コーナー部
分を直角に切りとってあり、この切り欠き部分(4つの
コーナーにある)を介して基板1の両面が樹脂9により
一体となって充填されている。
This conductive layer solid pattern 2 has corners cut off at right angles, and both surfaces of the substrate 1 are integrally filled with resin 9 through the cutouts (at four corners). .

【0031】図1(b)を参照すると、上述した構成に
より、樹脂封止された半導体装置は、各辺から外部に突
き出たアウタリード6a,6bの上部がリード相互間の
すき間も含めて、基板を挟んで導体層ベタパターン2で
覆われ、かつアウタリード6bの先端部にアウタリード
6bと導電層ベタパターン2とを接続するスルーホール
8cが配設されていることが理解できる。
Referring to FIG. 1 (b), the semiconductor device sealed with the resin according to the above-described structure has a structure in which the upper portions of the outer leads 6a and 6b protruding to the outside from each side include the gaps between the leads. It can be understood that a through hole 8c that is covered with the conductor layer solid pattern 2 with the interposition therebetween and that connects the outer lead 6b and the conductive layer solid pattern 2 is provided at the tip of the outer lead 6b.

【0032】したがって、導体層ベタパターン2が、従
来のようにパッケージ内に限定されることなくアウタリ
ード6a,6b先端までも延長されているから、その結
果、接地系は面積の広い、したがって抵抗値が低い導電
性ベタパターン2がアウタリード6bの出力端と直列に
挿入され接地電位供給用リードとして使用されるので、
電極10からインナリード5bにワイヤボンディングし
アウタリード6bに至る接地系の経路よりもリードイン
ダクタンスは小さくなる。
Therefore, the conductor layer solid pattern 2 is extended to the ends of the outer leads 6a and 6b without being limited to the inside of the package as in the prior art. As a result, the grounding system has a large area, and therefore the resistance value is large. Is connected in series with the output end of the outer lead 6b and is used as a ground potential supply lead.
The lead inductance is smaller than that in a grounding system path from the electrode 10 to the inner lead 5b by wire bonding to the outer lead 6b.

【0033】そのリードインダクタンスは、例えば従来
の20nHに対して約2〜7nHと小さくなり、リード
インピーダンスを低減することが出来る。
The lead inductance becomes smaller, for example, about 2 to 7 nH compared to the conventional 20 nH, and the lead impedance can be reduced.

【0034】なお、副次効果として、基板上面を一面に
導体層ベタパターンで覆い、接地するので搭載する半導
体装置をシールドする効果もある。
As a side effect, since the upper surface of the substrate is entirely covered with a solid conductor layer pattern and grounded, the semiconductor device to be mounted is also shielded.

【0035】上述した構成では接地電位供給用電極10
をアイランド4とワイヤボンディング接続したが、電源
電位供給用電極に適用することも可能である。
In the above configuration, the ground potential supply electrode 10
Is connected to the island 4 by wire bonding, but may be applied to a power supply potential supply electrode.

【0036】次に、本発明の第2の実施例を部分底面図
で示した図3(a)、およびその部分平面図を示した図
3(b)を参照すると、これらの図は樹脂封止前の状態
を示してあり、第1の実施例との相違点は、第1の実施
例におけるアイランド4および導電層ベタパターン2が
少なくともそれぞれ2つの領域に分割され、一方の領域
が電源系の導体層として電源電位供給用アウタリードに
接続され、他方の領域が接地系として接地電位供給用ア
ウタリードに接続されていることである。
Next, referring to FIG. 3 (a) showing a second embodiment of the present invention in a partial bottom view and FIG. 3 (b) showing a partial plan view thereof, these figures show resin sealing. The state before the stop is shown. The difference from the first embodiment is that the island 4 and the conductive layer solid pattern 2 in the first embodiment are each divided into at least two regions, and one region is a power supply system. Is connected to the power supply potential supply outer lead as the conductor layer, and the other region is connected to the ground potential supply outer lead as the grounding system.

【0037】すなわち、アイランド4は接地系アイラン
ド4aと電源系アイランド4bの2つの領域からなり、
導電性ベタパターン2は接地系導電性ベタパターン2a
と電源系導電性ベタパターン2bの2つの領域からな
る。
That is, the island 4 consists of two regions, a grounding island 4a and a powering island 4b,
The conductive solid pattern 2 is a ground-type conductive solid pattern 2a.
And the power supply system conductive solid pattern 2b.

【0038】ICチップ3の接地電位供給用電極10
は、アイランド4aの任意の接続点11にワイヤボンデ
ィング接続され、スルーホール8aを介して導電層ベタ
パターン2aのスルーホール8aに接続される。導電層
ベタパターン2aはさらにスルーホール8cを介して基
板裏面側のアウタリード6bの先端部で接続される。
The electrode 10 for supplying the ground potential of the IC chip 3
Is wire-bonded to an arbitrary connection point 11 of the island 4a, and is connected to the through hole 8a of the conductive layer solid pattern 2a through the through hole 8a. The conductive layer solid pattern 2a is further connected to the front end of the outer lead 6b on the back surface of the substrate via a through hole 8c.

【0039】それ以外の構成要素は第1の実施例と同様
であり、同一構成要素には同一の符号を付して説明を省
略する。
The other components are the same as those of the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

【0040】上述した構成によれば、接地系は面積の広
い、したがって抵抗値が低い導電性ベタパターン2aが
アウタリード6bの先端部と直列に挿入され接地電位供
給用リードとして使用されるので、電極10からインナ
リード5bにワイヤボンディングしアウタリード6bに
至る接地系の経路よりもインピーダンスが低減出来る。
According to the above-described configuration, the grounding system has a large area, and therefore the conductive solid pattern 2a having a low resistance value is inserted in series with the tip of the outer lead 6b and used as a ground potential supply lead. The impedance can be reduced as compared with the path of the grounding system from the wire 10 to the inner lead 5b and to the outer lead 6b.

【0041】一方、ICチップ3の電源電位供給用電極
12は、アイランド4bの任意の接続点13にワイヤボ
ンディング接続され、アイランド4bのスルーホール1
4を介して導電層ベタパターン2bのスルーホール14
に接続される。導電層ベタパターン2bはさらにスルー
ホール15を介して基板裏面側のアウタリード6cの先
端部に接続される。
On the other hand, the power supply potential supply electrode 12 of the IC chip 3 is connected by wire bonding to an arbitrary connection point 13 of the island 4b, and the through-hole 1 of the island 4b is formed.
4 through hole 14 of conductive layer solid pattern 2b
Connected to. The conductive layer solid pattern 2b is further connected to the end of the outer lead 6c on the back surface of the substrate via the through hole 15.

【0042】この場合も、電源系は面積の広い、したが
って抵抗値が低い導電性ベタパターン2bがアウタリー
ド6cの先端部と直列に挿入され電源リードとして使用
されるので、電源電位供給用電極12からインナリード
5cにワイヤボンディングしアウタリード6cに至る電
源系の経路よりもインピーダンスが低減出来る。
Also in this case, the power supply system has a large area, and therefore the conductive solid pattern 2b having a low resistance value is inserted in series with the tip of the outer lead 6c and used as a power supply lead. The impedance can be reduced as compared with the path of the power supply system that is wire-bonded to the inner lead 5c and reaches the outer lead 6c.

【0043】以上説明した実施例の樹脂封止型半導体装
置の製造方法は、第1の実施例の場合は、コーナー部の
一部分以外の全面が一枚の導体層ベタパターン2で覆わ
れるとともに、導体層ベタパターン2はアウタリード6
bの先端部とアイランド4とにそれぞれ少なくとも一個
所がスルーホール接続された可撓性絶縁基板を用い、か
つこの基板のアイランド4に絶縁性接着剤により半導体
チップ3をフェイスダウンで接着する第1の工程の後
に、半導体チップ3の電極群およびインナリード群をワ
イヤボンディング接続する際に電極群の電源電位供給用
電極12または接地電位供給用電極10のいずれかとア
イランド4とをそれぞれワイヤボンディング接続する第
2の工程を施す。
In the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the above-described embodiment, in the case of the first embodiment, the entire surface other than a part of the corner portion is covered with one conductive layer solid pattern 2, and The conductor layer solid pattern 2 has outer leads 6
(b) a flexible insulating substrate in which at least one portion is connected to a tip portion of the island 4 and the island 4 at least one through hole, and the semiconductor chip 3 is bonded face down to the island 4 of the substrate by an insulating adhesive; After the step, when the electrode group and the inner lead group of the semiconductor chip 3 are connected by wire bonding, either the power supply potential supply electrode 12 or the ground potential supply electrode 10 of the electrode group and the island 4 are connected by wire bonding. A second step is performed.

【0044】第2の実施例の場合は、コーナー部の一部
分を除きアウタリード群を含む全面が2枚の導体層ベタ
パターン2a,2bで覆われるとともに、裏面のアイラ
ンドもアイランド4a,4bに分割され、導体層ベタパ
ターン2aはアウタリード6b先端部とアイランド4a
とにそれぞれ少なくとも一個所がスルーホール8cと8
aとで接続され、導体層ベタパターン2bはアウタリー
ド6cの先端部とアイランド4bとにそれぞれ少なくと
も一個所がスルーホール15と14とで接続された可撓
性絶縁基板1を用い、かつこの基板1のアイランド4
a,4bに跨がって絶縁性接着剤により半導体チップ3
をフェイスダウンで接着する第1の工程の後に、半導体
チップ3の電極群およびインナリード群をワイヤボンデ
ィング接続する際に電極群の接地電位供給用電極10と
アイランド4a、および電源電位供給用電極12とアイ
ランド4bとをそれぞれワイヤボンディング接続する第
2の工程を施す。
In the case of the second embodiment, the entire surface including the outer lead group except for a part of the corner portion is covered with the two solid conductive patterns 2a and 2b, and the island on the back surface is also divided into the islands 4a and 4b. The conductive layer solid pattern 2a is formed by the tip of the outer lead 6b and the island 4a.
And at least one of the through holes 8c and 8
a, and the conductor layer solid pattern 2b uses a flexible insulating substrate 1 in which at least one portion is connected to the tip of the outer lead 6c and the island 4b by through holes 15 and 14, respectively. Island 4
a, 4b, and the semiconductor chip 3 with an insulating adhesive.
After the first step of bonding the semiconductor chip 3 face down, when the electrode group and the inner lead group of the semiconductor chip 3 are connected by wire bonding, the ground potential supply electrode 10 and the island 4a of the electrode group and the power supply potential supply electrode 12 are formed. And the island 4b are connected by wire bonding.

【0045】その後、公知の樹脂封入技術により所定の
パッケージの形状に合せて形成されたキャビティ内に上
述した第2工程終了後の半導体装置が収容され、半導体
装置の切り欠いたコーナーの一方側から樹脂が封入され
る。その場合、コーナー部領域に形成された切り欠き部
を通って上面にも流入し、上下両面に万遍なく樹脂が注
入されるように工夫されている。
After that, the semiconductor device after the above-described second step is housed in a cavity formed according to a known resin encapsulation technique so as to conform to a predetermined package shape. Resin is enclosed. In that case, it is devised so that the resin also flows into the upper surface through the notch formed in the corner area and the resin is evenly injected into the upper and lower surfaces.

【0046】樹脂封入は、150°〜180°Cの高温
に加熱したパッケージ下金型および上金型で挟まれてセ
ットされ、モールドプレスで型締めし、流動性のある熱
可塑性樹脂を60〜120Kg/cm2 の低圧で金型内
に注入してパッケージをトランスファ成形した後リード
を成形をする。
The resin encapsulation is set by being sandwiched between a lower mold and an upper mold of a package heated to a high temperature of 150 ° to 180 ° C., the mold is clamped, and a fluid thermoplastic resin of 60 to It is injected into the mold at a low pressure of 120 Kg / cm 2 to transfer-mold the package, and then the leads are molded.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の樹脂封止
型半導体装置およびその製造方法は、可撓性絶縁基板上
の一方面にインナリードとアウタリードとアイランドと
が導体パターンで形成され、他方面にはコーナー部以外
の全面が一枚の導体層ベタパターンで覆われるととも
に、アイランドと導電層ベタパターンとアウタリード先
端部とはスルーホールにより接続され、かつアイランド
上にフェイスダウンで搭載された半導体チップの接地電
位供給用電極がアイランドに最短距離でワイヤボンディ
ングされることによって接地系の電流経路が形成される
構成と、アイランドおよび導電層ベタパターンはそれぞ
れ接地系および電源系アイランドの2つの領域からなる
とともにそれぞれの系のアイランドと導電層ベタパター
ンとアウタリード先端部とはスルーホールにより接続さ
れ、かつ電源電位供給用電極および接地電位供給用電極
がそれぞれの系のアイランドに最短距離でワイヤボンデ
ィングされることによって接地系および電源系の電流経
路が形成される構成とを有するので、電源電位供給用電
極および接地電位供給用電極のそれぞれから対応するア
ウトリード先端部までの経路のうち、アイランドから先
は面積の広い導電層ベタパターンが挿入されることによ
ってリードインダクタンスが従来よりも小さくなり、イ
ンピーダンスを低減することが出来る。
As described above, according to the resin-sealed semiconductor device and the manufacturing method thereof of the present invention, the inner lead, the outer lead and the island are formed in a conductor pattern on one surface of the flexible insulating substrate. On the other side, the entire surface except the corners was covered with a solid conductor layer solid pattern, and the island, conductive layer solid pattern, and outer lead tip were connected by through holes, and mounted face down on the island. A structure in which a grounding-system current path is formed by wire-bonding the ground potential supply electrode of the semiconductor chip to the island at the shortest distance, and the island and the conductive layer solid pattern have two regions of the grounding system and the power-supplying island, respectively. Consists of islands of each system, conductive layer solid pattern and outer lead destination And the power supply potential supply electrode and the ground potential supply electrode are wire-bonded to the islands of the respective systems at the shortest distance to form current paths for the ground system and the power system. In the path from each of the power supply potential supply electrode and the ground potential supply electrode to the corresponding end of the outlead, a large area conductive layer solid pattern is inserted from the island to the lead inductance. Becomes smaller than before, and the impedance can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)本発明の第1の実施例を示す断面図であ
る。 (b)その部分斜視図である。
FIG. 1A is a sectional view showing a first embodiment of the present invention. (B) is a partial perspective view thereof.

【図2】(a)樹脂封止前の実施例を示す部分底面図で
ある。 (b)その部分平面図である。
FIG. 2A is a partial bottom view showing the embodiment before resin sealing. (B) It is the fragmentary top view.

【図3】(a)第2の実施例の樹脂封止前の実施例を示
す部分底面図である。 (b)その部分平面図である。
FIG. 3 (a) is a partial bottom view showing the embodiment before the resin sealing of the second embodiment. (B) It is the fragmentary top view.

【図4】(a)従来の半導体装置を実装するリードフレ
ームの構成部材を説明用の斜視図である。 (b)このリードフレームを用いた樹脂封止半導体装置
の部分断面図である。
FIG. 4A is a perspective view for explaining constituent members of a lead frame on which a conventional semiconductor device is mounted. FIG. 3B is a partial cross-sectional view of the resin-sealed semiconductor device using the lead frame.

【図5】他の従来例の半導体装置を示した断面図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view showing another conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 可撓性樹脂基板 2 導体層ベタパターン 3,28,40 ICチップ 4,4a,4b アイランド 5a,5b,21 インナリード 6a,6b アウタリード 7a,7b,41 ワイヤ 8a,8b,8c,14,15,37,38,39
スルーホール 9,30,42 樹脂 10 接地電位供給用電極 11,13 アイランドの任意点 12 電源電位供給用電極 20 リードフレーム 22,24 絶縁性テープ 23 電源層となる金属板 25 接地層となる金属板 26a,26b,26c,27a,27b タブ 29 電源電位供給用リード 31,32,33,34 金属配線層 31a 第1の接続部 35 金属板 36 第2の接続部
1 Flexible Resin Substrate 2 Conductor Layer Solid Pattern 3, 28, 40 IC Chips 4, 4a, 4b Islands 5a, 5b, 21 Inner Leads 6a, 6b Outer Leads 7a, 7b, 41 Wires 8a, 8b, 8c, 14, 15 , 37, 38, 39
Through hole 9,30,42 Resin 10 Ground potential supply electrode 11,13 Arbitrary point of island 12 Power supply potential supply electrode 20 Lead frame 22,24 Insulating tape 23 Metal plate serving as power layer 25 Metal plate serving as ground layer 26a, 26b, 26c, 27a, 27b tab 29 power supply potential supply lead 31, 32, 33, 34 metal wiring layer 31a first connection portion 35 metal plate 36 second connection portion

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性絶縁基板の一方面に導体パターン
を用いてインナリード群とアウタリード群とアイランド
とが形成され、かつこのアイランドに搭載された半導体
チップの各電極が前記インナリード群とそれぞれワイヤ
ボンディング接続されるとともに前記アウタリード群を
除く内部領域を樹脂により封止した樹脂封止型半導体装
置において、前記他方面のコーナー部の一部分以外の全
面が一枚の導体層ベタパターンで覆われるとともに、こ
の導体層ベタパターンが前記電極群のうちのあらかじめ
定めた所定の電極にのみ電気的に接続されることを特徴
とする樹脂封止型半導体装置。
An inner lead group, an outer lead group and an island are formed on one surface of a flexible insulating substrate using a conductor pattern, and each electrode of a semiconductor chip mounted on the island is connected to the inner lead group. In the resin-encapsulated semiconductor device in which the internal regions other than the outer lead group are respectively sealed by resin while being wire-bonded and connected, the entire surface other than a part of the corner portion on the other surface is covered with a single conductive layer solid pattern. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein the conductive layer solid pattern is electrically connected only to predetermined electrodes of the electrode group.
【請求項2】 前記導体層ベタパターンは前記アウタリ
ード群のうちの電源供給用リードまたは接地電位供給用
リードの各先端部と前記アイランドとにそれぞれスルー
ホール接続され、かつ前記アイランドが前記半導体チッ
プの電源電位供給用電極または接地電位供給用電極のい
ずれかの電極とワイヤボンディング接続される請求項1
記載の樹脂封止型半導体装置。
2. The conductor layer solid pattern is connected to each end of a power supply lead or a ground potential supply lead of the outer lead group and the island, respectively, and the island is connected to the semiconductor chip. 2. A wire bonding connection to one of the power supply potential supply electrode and the ground potential supply electrode.
The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1.
【請求項3】 前記他方面のコーナー部の一部以外の全
面が複数枚に分割形成された導体層ベタパターンで覆わ
れるとともに前記アイランドも前記複数枚に対応して分
割され、これら複数枚の導体層ベタパターンはあらかじ
め定めた所定の前記アウタリード先端部と前記アイラン
ドとにそれぞれスルーホール接続され、かつ複数の前記
アイランドのそれぞれが前記半導体チップの電源電位供
給用電極および接地電位供給用電極のうち対応する電極
とワイヤボンディングされる請求項1記載の樹脂封止型
半導体装置。
3. The whole surface except a part of the corner portion of the other surface is covered with a conductive layer solid pattern formed by dividing into a plurality of sheets, and the island is divided corresponding to the plurality of sheets. The conductor layer solid pattern is through-hole connected to the predetermined outer lead tip and the island, and each of the plurality of islands is one of the power supply potential supply electrode and the ground potential supply electrode of the semiconductor chip. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, which is wire-bonded to a corresponding electrode.
【請求項4】 前記半導体チップは、フェイスダウンの
状態で前記導体パターンにより形成された前記アイラン
ドに絶縁性接着剤を用いて接着されて搭載される請求項
1、2または3記載の樹脂封止型半導体装置。
4. The resin encapsulation according to claim 1, wherein the semiconductor chip is mounted in a face-down state by bonding to the island formed by the conductor pattern using an insulating adhesive. Type semiconductor device.
【請求項5】 可撓性絶縁基板の一方面に導体パターン
を用いてインナリード群とアウタリード群とアイランド
とを形成し、かつこのアイランドに搭載する半導体チッ
プの各電極を前記インナリード群とそれぞれワイヤボン
ディング接続するとともに前記アウタリード群を除く内
部領域を樹脂により封止する樹脂封止型半導体装置の製
造方法において、他方面のコーナー部の一部分以外の全
面が一枚の導体層ベタパターンで覆われるとともに、前
記導体層ベタパターンは前記アウタリード群のうちのあ
らかじめ定めた所定のリード先端部と前記アイランドと
にそれぞれスルーホール接続された前記可撓性絶縁基板
を用い、かつこの基板のアイランドに絶縁性接着剤によ
り前記半導体チップをフェイスダウンで接着する第1の
工程と、前記半導体チップの電極群および前記インナリ
ード群をワイヤボンディング接続する際に前記電極群の
電源電位供給用電極または接地電位供給用電極のいずれ
かと前記アイランドとをそれぞれワイヤボンディング接
続する第2の工程とを有することを特徴とする樹脂封止
型半導体装置の製造方法。
5. An inner lead group, an outer lead group, and an island are formed on one surface of a flexible insulating substrate by using a conductor pattern, and each electrode of a semiconductor chip mounted on the island is respectively associated with the inner lead group. In the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device for performing wire bonding connection and sealing an internal region excluding the outer lead group with a resin, the entire surface other than a part of a corner portion on the other surface is covered with one conductive layer solid pattern. In addition, the conductive layer solid pattern uses the flexible insulating substrate which is connected to the predetermined lead end portion of the outer lead group and the island through holes, respectively, and has an insulating property on the island of the substrate. A first step of bonding the semiconductor chip face down with an adhesive; A second step of wire bonding connecting either the power supply potential supply electrode or the ground potential supply electrode of the electrode group and the island when the electrode group of the chip and the inner lead group are connected by wire bonding. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising:
【請求項6】 前記他方面のコーナー部の一部分以外の
全面が複数枚に分割形成された導体層ベタパターンでそ
れぞれ覆われるとともに前記アイランドも前記複数枚に
対応して分割され、これら複数枚の導体層ベタパターン
は前記アウタリード群のうちのあらかじめ定めた所定の
リード先端部と前記アイランドとにそれぞれスルーホー
ル接続された前記可撓性絶縁基板を用い、この基板の前
記分割されたアイランドを跨ぐようにして搭載する前記
半導体チップ裏面を絶縁性接着剤によりフェイスダウン
で接着する第1の工程と、前記半導体チップの電極群お
よび前記インナリード群をワイヤボンディング接続する
際に前記電極群のうちの電源電位供給用電極および接地
電位供給用電極のそれぞれを前記分割されたアイランド
のうちの対応する方にそれぞれワイヤボンディング接続
する第2の工程とを有する請求項5記載の樹脂封止型半
導体装置の製造方法。
6. An entire surface other than a part of a corner portion of the other surface is respectively covered with a plurality of conductor layer solid patterns formed separately, and the islands are also divided corresponding to the plurality of sheets. The conductive layer solid pattern uses the flexible insulating substrate connected to the predetermined lead end portion and the island of the outer lead group and the island through holes, respectively, and straddles the divided islands of the substrate. A first step of bonding the back surface of the semiconductor chip to be mounted face down with an insulating adhesive, and a power supply of the electrode group when the electrode group of the semiconductor chip and the inner lead group are connected by wire bonding. Each of the potential supply electrode and the ground potential supply electrode is connected to a corresponding one of the divided islands. 6. The method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to claim 5, further comprising a second step of performing wire bonding connection with each of them.
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