JPH08223355A - Original reader, method and device for adjusting position of image forming lens - Google Patents
Original reader, method and device for adjusting position of image forming lensInfo
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- JPH08223355A JPH08223355A JP7021512A JP2151295A JPH08223355A JP H08223355 A JPH08223355 A JP H08223355A JP 7021512 A JP7021512 A JP 7021512A JP 2151295 A JP2151295 A JP 2151295A JP H08223355 A JPH08223355 A JP H08223355A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、原稿読取装置及び結像
レンズの位置調整方法とその装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a document reading device, a method for adjusting the position of an imaging lens, and the device therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の原稿読取装置として、CCDライ
ンセンサを用いた透過型の原稿読取装置を例に挙げて説
明する。図11は、その原稿読取装置の読取光学系の構
成例を示すものである。読取光学系を構成する装置本体
1内の上部には照明手段としての光源2が設けられてお
り、この光源2から出射した光は、コールドミラー3に
より下方に折り返され、原稿4を照明する。この原稿4
はコンタクトガラス5と押圧ガラス6との間で隙間なく
挾持されている。そして、原稿4を透過した光束Aは、
ミラー7により折り返されて結像レンズ8に入射し、こ
れにより集光されて受光手段としてのCCDラインセン
サ9(以下、CCDという)に結像され、原稿画像の読
取りが行われる。結像レンズ8とCCD9との間の投影
距離は、Lとされている。なお、装置本体1の底面は、
ベース10とされている。2. Description of the Related Art As a conventional document reading device, a transmissive document reading device using a CCD line sensor will be described as an example. FIG. 11 shows an example of the configuration of the reading optical system of the document reading device. A light source 2 as an illuminating unit is provided in the upper part of the main body 1 of the reading optical system, and light emitted from the light source 2 is reflected downward by a cold mirror 3 to illuminate a document 4. This manuscript 4
Is sandwiched between the contact glass 5 and the pressing glass 6 without any gap. Then, the light flux A transmitted through the original 4 is
The light is reflected by the mirror 7 and is incident on the imaging lens 8, which is focused and focused on a CCD line sensor 9 (hereinafter, referred to as CCD) as a light receiving means to read an original image. The projection distance between the imaging lens 8 and the CCD 9 is L. The bottom of the device body 1 is
It is said to be base 10.
【0003】実際の読取動作としては、コンタクトガラ
ス5と押圧ガラス6とが一体となって構成されたキャリ
ッジ11による読取解像度に対応した速度での副走査方
向Zへの走査と、CCD9による主走査方向X(副走査
方向Zに直交するセンサ配列方向)への走査とよる2次
元的な読取走査が同時に行われることにより実際の読取
りがなされる。この場合、組付け調整された全ての光学
部材が設計位置(理想位置)に配置されていれば、光束
Aの光軸Bと結像レンズ8のレンズ光軸Cとは完全に一
致し、光束Aは結像レンズ8に対して垂直に入射するた
め、高品位な画像読取りを行うことができる。As an actual reading operation, the scanning in the sub-scanning direction Z at a speed corresponding to the reading resolution by the carriage 11 which is constructed by integrating the contact glass 5 and the pressing glass 6 and the main scanning by the CCD 9 are performed. Actual reading is performed by simultaneously performing two-dimensional reading scanning by scanning in the direction X (sensor array direction orthogonal to the sub-scanning direction Z). In this case, if all the assembled and adjusted optical members are arranged at the design position (ideal position), the optical axis B of the light flux A and the lens optical axis C of the imaging lens 8 are completely coincident, and the light flux Since A is incident on the image forming lens 8 vertically, high-quality image reading can be performed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】CCD9を用いたデジ
タルの原稿読取装置においては、画像品質を高めるため
の手段として、原稿4面上の読取ラインと、CCD9の
読取ラインとを一致させるように調整することが不可欠
である。特に近年では、高解像度を得るために、CCD
9を複数個読取ライン方向(主走査方向X)に配列して
読取画素数を増やした装置もある。このようなCCD9
が複数個配列された原稿読取装置においては、原稿4面
上の読取ラインと、CCD9の読取ラインとを一致させ
るために、副走査方向の読取ラインのつなぎ調整だけで
なく、主走査方向Xの読取ラインのつなぎ調整も必要と
なってくる。In a digital document reading device using the CCD 9, as a means for improving image quality, the reading line on the surface of the document 4 and the reading line of the CCD 9 are adjusted to match each other. Is essential. Especially in recent years, in order to obtain high resolution, CCD
There is also an apparatus in which a plurality of reading pixels are arranged by arranging a plurality of 9 in the reading line direction (main scanning direction X). CCD9 like this
In a document reading device in which a plurality of documents are arranged, in order to match the reading line on the surface of the document 4 with the reading line of the CCD 9, not only the connection adjustment of the reading lines in the sub-scanning direction but also the main scanning direction X is performed. It is also necessary to adjust the connection of the reading line.
【0005】このような読取ラインのつなぎ調整に関す
る公知例の代表的なものとしては、特公昭55−180
96号公報、特開昭59−122171号公報に記載さ
れた技術がある。この場合、特公昭55−18096号
公報の例では、各CCDと結像レンズとの相対位置を、
ネジとバネとを用いて主走査方向及び副走査方向に微調
整することによって読取ラインのつなぎ調整を行ってい
る。また、特開昭59−122171号公報の例では、
CCDと結像レンズとをモジュール化し、そのモジュー
ルの調整量を原稿面上の読取ラインのズレ量と等しくす
ることによって読取ラインのつなぎ調整を行っている。As a typical example of the publicly known examples relating to such connection adjustment of reading lines, Japanese Patent Publication No. 55-180.
There is a technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 96-122171. In this case, in the example of Japanese Patent Publication No. Sho 55-18096, the relative position between each CCD and the imaging lens is
The read line connection adjustment is performed by finely adjusting in the main scanning direction and the sub scanning direction using a screw and a spring. Further, in the example of JP-A-59-122171,
The CCD and the imaging lens are made into a module, and the adjustment amount of the module is made equal to the deviation amount of the reading line on the document surface to adjust the connection of the reading lines.
【0006】上述したような従来の原稿読取装置におい
ては、レンズ性能の範囲内で原稿面上のある点とCCD
とが相対的にズレていれば、結像レンズに対して斜めに
入射してレンズ光軸からズレていても読取りを行ってい
た。しかし、原稿面上のある点とCCDとを結ぶ主光線
は、結像レンズに対して垂直に入射してそのレンズ光軸
と一致していることが理想的であり、レンズ光軸からズ
レると、各結像レンズの収差のバラツキが大きくなり、
結像性能が劣化してしまう。このような結像性能の低下
は画像品質の低下を招き、高品位な画像読取りを必要と
する印刷や製版の分野では重大な問題となる。また、前
述した公知例のように1個の結像レンズに1個のCCD
を対応させたものを複数組用いたものでは、原稿面上の
読取ラインを分割して読取る場合、同一性能のレンズを
用いても各レンズを通る各光束の場所によって、結像性
能がバラツキ、分割した読取幅毎に画像品質の違いを生
じる。In the conventional document reading apparatus as described above, a certain point on the document surface and the CCD within the range of lens performance.
If and are relatively misaligned with each other, the reading is performed even if they are obliquely incident on the imaging lens and deviated from the lens optical axis. However, it is ideal that the chief ray that connects a certain point on the document surface to the CCD is incident perpendicularly to the imaging lens and coincides with the lens optical axis, and if it deviates from the lens optical axis. , The variation of the aberration of each imaging lens becomes large,
The imaging performance is deteriorated. Such a reduction in image forming performance causes a reduction in image quality, which is a serious problem in the fields of printing and plate making that require high-quality image reading. Further, as in the above-mentioned known example, one CCD is attached to one imaging lens.
In the case of using a plurality of sets corresponding to, when the reading line on the original surface is divided and read, even if lenses having the same performance are used, the imaging performance varies depending on the position of each light flux passing through each lens, A difference in image quality occurs for each divided reading width.
【0007】また、結像レンズとCCDとの間に直角ミ
ラーを入れ、1個の結像レンズに2個のCCDを対応さ
せ、原稿面上の読取ラインを2分割して読取るような場
合(特開昭57−87277号公報参照)は、原稿面上
における光源の照度ピーク位置、読取位置、レンズ光
軸、直角ミラーの頂点などが全て一致又は略一致してい
ないと、各CCDに入射する光束は結像性能だけでな
く、絶対光量、光量分布、読取幅などに違いを生じ、画
像品質をかなり低下させてしまう。In the case where a right-angle mirror is inserted between the image forming lens and the CCD and two CCDs are associated with one image forming lens so that the reading line on the original surface is divided into two and read ( According to Japanese Patent Laid-Open No. 57-87277), if the illuminance peak position of the light source on the document surface, the reading position, the lens optical axis, the vertex of the right-angled mirror, etc. are not all the same or substantially the same, the light is incident on each CCD. The light flux causes not only the imaging performance but also the absolute light amount, the light amount distribution, the reading width, and the like, which considerably deteriorates the image quality.
【0008】なお、特願平6−272076号に「原稿
読取装置及び結像レンズの光軸調整方法」として本出願
人により出願されているものがある。これは、結像レン
ズのレンズ光軸を装置本体の調整仮想光軸(設計位置)
に一致させることによって、読取り画像の品質を向上さ
せるようにしたものである。There is a patent application filed by the present applicant in Japanese Patent Application No. 6-272076 as "a method of adjusting the optical axis of a document reading device and an imaging lens". This is the virtual optical axis (design position) for adjusting the lens optical axis of the imaging lens of the device body.
To improve the quality of the read image.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、結像レンズを含む光学系のタンデンシャル面内でか
つその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光束の
調整仮想画角ライン上に波動光を発する波動光照明手段
を配設し、結像レンズを挾んで波動光照明手段とは反対
側のタンデンシャル面内でかつ結像レンズの有効光束の
調整仮想画角ライン上に波動光照明手段から発せられた
波動光を規制する微小開口部を有する第一の光束規制部
材を配設し、結像レンズの入出射の何れか一方側に配置
した波動光照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想画
角ライン上に波動光を規制する微小開口部を有する第二
の光束規制部材を少なくとも1個配設し、第一及び第二
の光束規制部材により発生した回折パターンを受光して
表示するパターン表示手段を設け、入射光束に対する結
像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段を設け
た。According to a first aspect of the present invention, an effective virtual light beam adjustment virtual image on the tangential plane of an optical system including an imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. An undulating light illuminating means for emitting undulating light is arranged on the angular line, and the effective light flux of the imaginary lens is adjusted in the tangential plane opposite to the undulating light illuminating means by sandwiching the imaging lens. A wave light illuminating device having a first light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illuminating device and arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Is an adjustment of the effective luminous flux on the opposite side. At least one second luminous flux regulating member having a minute opening for regulating the undulating light is arranged on the virtual line of view angle and generated by the first and second luminous flux regulating members. Pattern table for receiving and displaying diffraction patterns Means provided, provided an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens to the incident light beam.
【0010】請求項2記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のラジアル面内でかつその結像レンズの入出射
の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波
動光を発する波動光照明手段を配設し、結像レンズを挾
んで波動光照明手段とは反対側のラジアル面内でかつ結
像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光照
明手段から発せられた波動光を規制する微小開口部を有
する第一の光束規制部材を配設し、結像レンズの入出射
の何れか一方側に配置した波動光照明手段とは反対側の
有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光を規制する微
小開口部を有する第二の光束規制部材を少なくとも1個
配設し、第一及び第二の光束規制部材により発生した回
折パターンを受光して表示するパターン表示手段を設
け、入射光束に対する結像レンズの位置を調整する結像
レンズ調整手段を設けた。According to the second aspect of the present invention, the wave light is radiated on the virtual line of view for adjusting the effective luminous flux in the radial plane of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Emitting wave light illuminating means is arranged, and the wave light illuminating means is arranged in the radial plane opposite to the wave light illuminating means across the imaging lens and on the virtual angle of view adjustment of the effective light flux of the image forming lens. A first light flux regulating member having a minute opening for regulating the generated wave light is provided, and the effective light flux on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens is adjusted. At least one second light flux regulating member having a minute opening for regulating wave light is arranged on the virtual angle line, and the diffraction patterns generated by the first and second light flux regulating members are received and displayed. Providing pattern display means to prevent incident light flux It provided an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens.
【0011】請求項3記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面の各面内で
かつその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光束
の調整仮想画角ライン上に波動光を発する波動光照明手
段を各々配設し、結像レンズを挾んで各波動光照明手段
とは反対側のタンデンシャル面及びラジアル面の各面内
でかつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に
波動光照明手段から発せられた波動光を規制する微小開
口部を有する第一の光束規制部材を各々配設し、結像レ
ンズの入出射の何れか一方側に配置した波動光照明手段
とは反対側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光
を規制する微小開口部を有する第二の光束規制部材を少
なくとも1個配設し、第一及び第二の光束規制部材によ
り発生した回折パターンを受光して表示するパターン表
示手段を設け、入射光束に対する結像レンズの位置を調
整する結像レンズ調整手段を設けた。According to the third aspect of the present invention, an effective virtual light beam adjustment virtual image in each of the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Wave light illuminating means for emitting wave light is arranged on the angular line, respectively, and the illuminating means is sandwiched between the tangential surface and the radial surface on the side opposite to the wave light illuminating means. Adjustment of effective luminous flux First luminous flux regulating members each having a minute opening for regulating the undulating light emitted from the undulating light illuminating means are arranged on the virtual angle line, and either one of the entrance and exit of the imaging lens is arranged. At least one second light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light is arranged on the virtual angle line of adjustment of the effective light beam on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on the first side, and Diffraction pattern generated by the second light flux regulating member It provided a pattern display means for displaying by receiving over emissions, provided an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens to the incident light beam.
【0012】請求項4記載の発明では、請求項1,2又
は3記載の発明において、結像レンズの入出射の何れか
一方側の調整仮想光軸上に波動光を発する波動光照明手
段を配設し、結像レンズを挾んで波動光照明手段とは反
対側の結像レンズの調整仮想光軸上に波動光照明手段か
ら発せられた波動光を規制する微小開口部を有する光束
規制部材を配設した。According to a fourth aspect of the present invention, in the first, second or third aspect of the present invention, there is provided a wave light illumination means for emitting wave light on the adjusted virtual optical axis on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Adjustment of the imaging lens on the side opposite to the wave light illumination means across the imaging lens, and a light flux regulating member having a minute opening on the virtual optical axis for regulating the wave light emitted from the wave light illumination means. Was arranged.
【0013】請求項5記載の発明では、請求項1,2,
3又は4記載の発明において、光束規制部材を、結像レ
ンズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手段
と同じ側の有効光束の調整仮想画角ライン上に配設し
た。According to the invention of claim 5, claims 1, 2,
In the invention described in 3 or 4, the light flux restricting member is disposed on the adjustment virtual field angle line of the effective light flux on the same side as the wave light illuminating means disposed on either side of the entrance and exit of the imaging lens.
【0014】請求項6記載の発明では、請求項1,2,
3,4又は5記載の発明において、少なくとも1つの光
束規制部材を、結像レンズの略像面位置又はその像面距
離と略等しい位置に配設した。According to the invention of claim 6, claims 1, 2,
In the invention described in claim 3, 4 or 5, at least one light flux regulating member is arranged at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens or the image plane distance thereof.
【0015】請求項7記載の発明では、請求項1,2,
3,4,5又は6記載の発明において、少なくとも2つ
の光束規制部材で形成される各微小開口部の中心を結ぶ
線と結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインとを一
致又は略一致させる位置決め手段を、装置本体に取付け
た。According to the invention described in claim 7, claims 1, 2,
In the invention described in 3, 4, 5 or 6, the line connecting the centers of the minute apertures formed by at least two light flux regulating members and the adjusted virtual angle of view line of the effective light flux of the imaging lens are matched or substantially matched. The positioning means for making it attached was attached to the main body of the apparatus.
【0016】請求項8記載の発明では、請求項1,2,
3,4,5又は6記載の発明において、波動光照明手段
からの光束を規制する微小開口部を、結像レンズの有効
光束の調整仮想画角ラインと交差する位置の装置本体に
形成した。According to the invention described in claim 8, claims 1, 2,
In the invention described in 3, 4, 5 or 6, a minute opening for restricting the light flux from the wave light illuminating means is formed in the apparatus main body at a position intersecting the adjusted virtual angle of view line of the effective light flux of the imaging lens.
【0017】請求項9記載の発明では、請求項1,2,
3,4,5又は6記載の発明において、少なくとも1つ
の光束規制部材を、結像レンズの有効光束の調整仮想画
角ライン上でかつ装置本体外部の位置に配設した。According to the invention of claim 9, claims 1, 2 and
In the invention described in 3, 4, 5 or 6, at least one light flux restricting member is disposed on a position outside the main body of the apparatus on the virtual line of view for adjusting the effective light flux of the imaging lens.
【0018】請求項10記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8又は9記載の発明におい
て、結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと、微
小開口部を通過する波動光照明手段の光束の光軸とが一
致又は略一致するように、波動光照明手段の光束の光軸
を調整する波動光光軸調整手段を設けた。According to the invention of claim 10, claim 1
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9, the adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the imaging lens, and the optical axis of the light flux of the wave light illumination means passing through the minute opening portion. The wave light optical axis adjusting means for adjusting the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means is provided so that the light beams match or substantially match.
【0019】請求項11記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8又は9記載の発明におい
て、結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと、微
小開口部の中心位置とが一致又は略一致するように、微
小開口部の中心位置を調整する開口部中心位置調整手段
を設けた。According to the invention of claim 11, claim 1
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9, the adjusted virtual angle of view line of the effective light flux of the imaging lens and the central position of the minute aperture are matched or substantially matched. An opening center position adjusting means for adjusting the center position of the minute opening is provided.
【0020】請求項12記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のタンデンシャル面内でその結像レンズの有
効光束の調整仮想画角ラインと第一及び第二の光束規制
部材の各微小開口部の中心とが一致又は略一致するよう
に、第一及び第二の光束規制部材を装置本体に位置決め
する第一の位置調整工程と、各微小開口部の中心と波動
光を発する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致す
るように、波動光照明手段の位置を回折パターンを用い
て調整し位置決めする第二の位置調整工程と、結像レン
ズを調整仮想画角ライン上に配置させこの結像レンズを
介在させる前の回折パターンと介在させた後の回折パタ
ーンとを比較し両方の回折パターンが一致又は略一致す
るように結像レンズの位置決めを行う第三の位置調整工
程とを用いて結像レンズの位置調整を行うようにした。According to the twelfth aspect of the invention, in the tangential plane of the optical system including the imaging lens, the effective virtual beam angle line for adjusting the effective light flux of the imaging lens and each minute amount of the first and second light flux regulating members are adjusted. A first position adjusting step of positioning the first and second light flux regulating members on the apparatus main body so that the centers of the openings coincide or substantially coincide with each other; A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means by using a diffraction pattern so that the optical axis of the illuminating means is substantially or substantially the same, and the imaging lens is placed on the adjustment virtual angle of view line. A third position adjusting step in which the diffraction pattern before the interposition of the imaging lens and the diffraction pattern after the interposition are compared, and the imaging lens is positioned so that both diffraction patterns match or substantially match each other. Imaging with and And to adjust the position of the lens.
【0021】請求項13記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のラジアル面内でその結像レンズの有効光束
の調整仮想画角ラインと第一及び第二の光束規制部材の
各微小開口部の中心とが一致又は略一致するように、第
一及び第二の光束規制部材を装置本体に位置決めする第
一の位置調整工程と、各微小開口部の中心と波動光を発
する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致するよう
に、波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて調整
し位置決めする第二の位置調整工程と、結像レンズを調
整仮想画角ライン上に配置させこの結像レンズを介在さ
せる前の回折パターンと介在させた後の回折パターンと
を比較し両方の回折パターンが一致又は略一致するよう
に結像レンズの位置決めを行う第三の位置調整工程とを
用いて結像レンズの位置調整を行うようにした。In the thirteenth aspect of the present invention, the virtual line of view for adjusting the effective light flux of the imaging lens and the minute apertures of the first and second light flux regulating members are set within the radial plane of the optical system including the imaging lens. A first position adjusting step of positioning the first and second light flux regulating members on the apparatus main body so that the centers of the portions coincide or substantially coincide with each other, and a wave light illumination that emits wave light with the center of each minute opening. A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means using a diffraction pattern so that the optical axis of the means coincides with or substantially coincides with the means, and the imaging lens is arranged on the adjustment virtual angle-of-view line. A third position adjusting step of comparing the diffraction pattern before the interposition of this imaging lens with the diffraction pattern after the interposition, and positioning the imaging lens so that both diffraction patterns match or substantially match; Imaging lens using And to adjust the position.
【0022】請求項14記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面内でその
結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと第一及び
第二の光束規制部材の各微小開口部の中心とが一致又は
略一致するように、第一及び第二の光束規制部材を装置
本体に位置決めする第一の位置調整工程と、各微小開口
部の中心と波動光を発する波動光照明手段の光軸とが一
致又は略一致するように、波動光照明手段の位置を回折
パターンを用いて調整し位置決めする第二の位置調整工
程と、結像レンズを調整仮想画角ライン上に配置させこ
の結像レンズを介在させる前の回折パターンと介在させ
た後の回折パターンとを比較し両方の回折パターンが一
致又は略一致するように結像レンズの位置決めを行う第
三の位置調整工程とを用いて結像レンズの位置調整を行
うようにした。In the fourteenth aspect of the present invention, the effective virtual beam line of the effective light flux of the imaging lens and the first and second light flux regulating members are adjusted within the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens. The first position adjusting step of positioning the first and second light flux restricting members on the apparatus main body so that the centers of the respective minute openings coincide with each other, and the center of each minute opening and the wave light are adjusted. A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means by using a diffraction pattern so that the optical axis of the wave light illuminating means to be emitted coincides with or substantially coincides with the image forming lens. The diffraction pattern before the interposition of this imaging lens placed on the line and the diffraction pattern after the interposition are compared, and the imaging lens is positioned so that both diffraction patterns match or substantially match. Position adjustment process And to adjust the position of the imaging lens used.
【0023】請求項15記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のタンデンシャル面内でかつその結像レンズ
の入出射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライ
ン上に配設された波動光を発する波動光照明手段と、結
像レンズを挾んで波動光照明手段とは反対側のタンデン
シャル面内でかつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角
ライン上に配設された波動光照明手段から発せられた波
動光を規制する微小開口部を有する第一の光束規制部材
と、結像レンズの入出射の何れか一方側に配置した波動
光照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想画角ライン
上に少なくとも1個配設された波動光を規制する微小開
口部を有する第二の光束規制部材と、第一及び第二の光
束規制部材により発生した回折パターンを受光して表示
するパターン表示手段と、入射光束に対する結像レンズ
の位置を調整する結像レンズ調整手段とによって結像レ
ンズ位置調整装置を構成した。According to the fifteenth aspect of the present invention, it is arranged in the tangential surface of the optical system including the imaging lens and on the virtual line of view for adjusting the effective light flux on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The undulating light illuminating means for emitting the undulating wave light and the imaginary lens are arranged in a tandem surface opposite to the undulating light illuminating means and on the virtual angle of view line for adjusting the effective light flux of the imaging lens. Of the first light flux regulating member having a minute opening for regulating the wave light emitted from the wave light illumination means and the wave light illumination means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Adjustment of effective luminous flux A second luminous flux regulating member having at least one fine aperture for regulating wave light disposed on the virtual angle of view line, and a diffraction pattern generated by the first and second luminous flux regulating members are provided. Pattern display to receive and display light And stage constituted the imaging lens position adjustment apparatus by an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens to the incident light beam.
【0024】請求項16記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のラジアル面内でかつその結像レンズの入出
射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に
配設された波動光を発する波動光照明手段と、結像レン
ズを挾んで波動光照明手段とは反対側のラジアル面内で
かつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配
設された波動光照明手段から発せられた波動光を規制す
る微小開口部を有する第一の光束規制部材と、結像レン
ズの入出射の何れか一方側に配置した波動光照明手段と
は反対側の有効光束の調整仮想画角ライン上に少なくと
も1個配設された波動光を規制する微小開口部を有する
第二の光束規制部材と、第一及び第二の光束規制部材に
より発生した回折パターンを受光して表示するパターン
表示手段と、入射光束に対する結像レンズの位置を調整
する結像レンズ調整手段とによって結像レンズ位置調整
装置を構成した。According to the sixteenth aspect of the present invention, it is arranged in the radial plane of the optical system including the imaging lens and on the virtual line of view for adjusting the effective light flux on either side of the entrance and exit of the imaging lens. And a wave disposed in a radial plane on the opposite side of the wave light illumination means which emits wave light and the image formation lens and on the virtual angle line of the effective light flux of the image formation lens. A first light flux regulating member having a minute opening for regulating the wave light emitted from the light illuminating means, and an effective light flux opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Of the second light flux regulating member having at least one minute aperture for regulating the wave light arranged on the adjusted virtual angle of view line and the diffraction pattern generated by the first and second light flux regulating members. Incident pattern display means It was constructed an imaging lens position adjustment apparatus by an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens relative to the bundle.
【0025】請求項17記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面内でかつ
その結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光束の調
整仮想画角ライン上に配設された波動光を発する波動光
照明手段と、結像レンズを挾んで波動光照明手段とは反
対側のタンデンシャル面及びラジアル面内でかつ結像レ
ンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配設された波
動光照明手段から発せられた波動光を規制する微小開口
部を有する第一の光束規制部材と、結像レンズの入出射
の何れか一方側に配置した波動光照明手段とは反対側の
有効光束の調整仮想画角ライン上に少なくとも1個配設
された波動光を規制する微小開口部を有する第二の光束
規制部材と、第一及び第二の光束規制部材により発生し
た回折パターンを受光して表示するパターン表示手段
と、入射光束に対する結像レンズの位置を調整する結像
レンズ調整手段とによって結像レンズ位置調整装置を構
成した。In the seventeenth aspect of the present invention, on the virtual line angle of adjustment of the effective light flux in the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. And an imaginary angle of view of the effective luminous flux of the imaging lens in the tangential surface and the radial surface opposite to the undulating light illuminating means that emits the undulating light and the imaging lens. A first light flux regulating member having a minute opening for regulating the wave light emitted from the wave light illuminating means arranged on the line, and the wave light illumination arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Adjustment of effective luminous flux on the side opposite to the means, at least one second luminous flux regulating member disposed on the virtual line of view angle for regulating wave light, and first and second luminous flux regulating members The diffraction pattern generated by A pattern display means for displaying by light, was constructed an imaging lens position adjustment apparatus by an imaging lens adjusting means for adjusting the position of the imaging lens to the incident light beam.
【0026】[0026]
【作用】請求項1記載の発明においては、波動光照明手
段から発せられたレーザ光等の波動光は、タンデンシャ
ル面内で結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上
を進んでいき、波動光照明手段とは反対側の結像レンズ
の調整仮想画角ライン上に配置された第一及び第二の光
束規制部材の微小開口部に入射し回折パターンを発生さ
せ、この回折パターンはパターン表示手段に表示され
る。この場合、それら表示された回折パターンを単に観
察しながら、それら両方の回折パターンが一致するよう
に、光学系の各部材を移動調整することによって、結像
レンズを装置本体に組付ける前の段階における位置調整
を一段と簡単にかつ高精度に行うことができる。その
後、結像レンズを所定の位置に組付けた場合において
も、結像レンズ調整手段を用いて結像レンズの位置を簡
単にかつ高精度に調整することができる。これにより、
タンデンシャル面内での結像レンズの画角ラインを有効
光束の調整仮想画角ラインに完全に一致させ、実際の原
稿読取り時における読取り光束(結像レンズに対する入
射光束)の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち
結像レンズの有効光束の画角ラインに一致させる精度を
格段に向上させることができる。According to the first aspect of the invention, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means travels on the adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the imaging lens in the tangential plane. , A diffraction pattern is generated by being incident on the minute openings of the first and second light flux regulating members arranged on the adjusted virtual angle-of-view line of the imaging lens on the side opposite to the wave light illuminating means. It is displayed on the pattern display means. In this case, by simply observing the displayed diffraction patterns and moving and adjusting each member of the optical system so that the diffraction patterns of both of them coincide with each other, a step before assembling the imaging lens into the apparatus main body is performed. The position adjustment can be performed more easily and highly accurately. After that, even when the image forming lens is assembled at a predetermined position, the position of the image forming lens can be adjusted easily and highly accurately by using the image forming lens adjusting means. This allows
The angle-of-view line of the imaging lens in the tangential plane is completely matched with the adjustment virtual angle-of-view line of the effective light flux, and the angle-of-view line of the reading light flux (incident light flux with respect to the imaging lens) during actual document reading is It is possible to remarkably improve the accuracy of matching the adjusted virtual angle of view line, that is, the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens.
【0027】請求項2記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、ラジアル
面内で結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上を
進んでいき、波動光照明手段とは反対側の結像レンズの
調整仮想画角ライン上に配置された第一及び第二の光束
規制部材の微小開口部に入射し回折パターンを発生さ
せ、この回折パターンはパターン表示手段に表示され
る。この場合、それら表示された回折パターンを単に観
察しながら、それら両方の回折パターンが一致するよう
に、光学系の各部材を移動調整することによって、結像
レンズを装置本体に組付ける前の段階における位置調整
を一段と簡単にかつ高精度に行うことができる。その
後、結像レンズを所定の位置に組付けた場合において
も、結像レンズ調整手段を用いて結像レンズの位置を簡
単にかつ高精度に調整することができる。これにより、
ラジアル面内での結像レンズの画角ラインを有効光束の
調整仮想画角ラインに完全に一致させ、実際の原稿読取
り時における読取り光束(結像レンズに対する入射光
束)の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結像
レンズの有効光束の画角ラインに一致させる精度を格段
に向上させることができる。According to the second aspect of the present invention, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means travels on the adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the imaging lens in the radial plane, The diffraction pattern is generated by being incident on the minute apertures of the first and second light flux regulating members arranged on the adjusted virtual field angle line of the imaging lens on the side opposite to the wave light illumination means. It is displayed on the display means. In this case, by simply observing the displayed diffraction patterns and moving and adjusting each member of the optical system so that the diffraction patterns of both of them coincide with each other, a step before assembling the imaging lens into the apparatus main body is performed. The position adjustment can be performed more easily and highly accurately. After that, even when the image forming lens is assembled at a predetermined position, the position of the image forming lens can be adjusted easily and highly accurately by using the image forming lens adjusting means. This allows
Adjusting the angle of view line of the imaging lens in the radial plane perfectly matches the virtual angle of view line of the effective light flux, and adjusting the angle of view line of the reading light flux (incident light flux to the imaging lens) during actual document reading It is possible to remarkably improve the accuracy of matching with the virtual angle of view line, that is, the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens.
【0028】請求項3記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、タンデン
シャル面及びラジアル面内で結像レンズの有効光束の調
整仮想画角ライン上を進んでいき、波動光照明手段とは
反対側の結像レンズの調整仮想画角ライン上に配置され
た第一及び第二の光束規制部材の微小開口部に入射し回
折パターンを発生させ、この回折パターンはパターン表
示手段に表示される。この場合、それら表示された回折
パターンを単に観察しながら、それら両方の回折パター
ンが一致するように、光学系の各部材を移動調整するこ
とによって、結像レンズを装置本体に組付ける前の段階
における位置調整を一段と簡単にかつ高精度に行うこと
ができる。その後、結像レンズを所定の位置に組付けた
場合においても、結像レンズ調整手段を用いて結像レン
ズの位置を簡単にかつ高精度に調整することができる。
これにより、タンデンシャル面及びラジアル面内での結
像レンズの画角ラインを有効光束の調整仮想画角ライン
に完全に一致させ、実際の原稿読取り時における読取り
光束(結像レンズに対する入射光束)の画角ラインを、
調整仮想画角ラインすなわち結像レンズの有効光束の画
角ラインに一致させる精度を格段に向上させることがで
きる。According to the third aspect of the invention, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means is on the imaginary angle line of view for adjusting the effective light flux of the imaging lens in the tangential surface and the radial surface. Then, the diffraction pattern is generated by being incident on the minute openings of the first and second light flux regulating members arranged on the adjusted virtual angle-of-view line of the imaging lens on the side opposite to the wave light illumination means. The diffraction pattern is displayed on the pattern display means. In this case, by simply observing the displayed diffraction patterns and moving and adjusting each member of the optical system so that the diffraction patterns of both of them coincide with each other, a step before assembling the imaging lens into the apparatus main body is performed. The position adjustment can be performed more easily and highly accurately. After that, even when the image forming lens is assembled at a predetermined position, the position of the image forming lens can be adjusted easily and highly accurately by using the image forming lens adjusting means.
As a result, the angle-of-view line of the imaging lens in the tangential surface and the radial plane is completely matched with the adjusted virtual angle-of-view line of the effective light flux, and the reading light flux (incident light flux with respect to the imaging lens) during actual document reading. Angle of view line of
It is possible to remarkably improve the accuracy of matching the adjusted virtual angle of view line, that is, the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens.
【0029】請求項4記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像レン
ズの調整仮想光軸上を進んでいき、結像レンズの調整仮
想光軸上に配置された光束規制部材の微小開口部に入射
し、これにより発生した回折パターンはパターン表示手
段に表示され、結像レンズのレンズ光軸を調整仮想光軸
に完全に一致させることができる。これによって、実際
の原稿読取り時における読取り光束(結像レンズに対す
る入射光束)の光軸を調整仮想光軸すなわち結像レンズ
のレンズ光軸に一致させることが可能となる。According to the invention described in claim 4, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means travels on the adjustment virtual optical axis of the imaging lens, and the adjustment virtual optical axis of the imaging lens. The diffraction pattern incident on the minute aperture of the light flux regulating member disposed above is displayed on the pattern display means, and the lens optical axis of the imaging lens can be perfectly aligned with the adjusted virtual optical axis. . This makes it possible to match the optical axis of the reading light flux (incident light flux with respect to the imaging lens) during the actual document reading with the adjusted virtual optical axis, that is, the lens optical axis of the imaging lens.
【0030】請求項5記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像レン
ズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と
同じ側の調整仮想画角ライン上に配置された光束規制部
材の微小開口部を通過した後、結像レンズの入出射の波
動光照明手段とは反対側の調整仮想画角ライン上に配置
された光束規制部材の微小開口部を通過し、これにより
得られた回折パターンはパターン表示手段に表示され
る。このとき、結像レンズの入出射の波動光照明手段と
同じ側の調整仮想画角ライン上に配置された光束規制部
材の微小開口部によって、結像レンズの画角ライン調整
の基準となる波動光照明手段の位置が常にチェックされ
る。In the invention of claim 5, the wave light such as laser light emitted from the wave light illuminating means is on the same side as the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. After passing through the minute aperture of the light flux regulating member arranged on the adjusted virtual angle of view line, the light flux arranged on the adjusted virtual angle of view line on the side opposite to the incident / exited wave light illumination means of the imaging lens The diffraction pattern obtained by passing through the minute opening of the regulating member is displayed on the pattern display means. At this time, the wave as the reference for adjusting the angle-of-view line of the imaging lens is adjusted by the minute opening of the light flux regulating member arranged on the adjusted virtual angle-of-view line on the same side as the incoming / outgoing wave light illumination means of the imaging lens. The position of the light illumination means is constantly checked.
【0031】請求項6記載の発明においては、結像レン
ズの略像面位置又はその像面距離と略等しい位置に配設
された光束規制部材を通過して得られた回折パターンを
用いて結像レンズの画角ライン調整を行うことによっ
て、結像レンズのわずかな画角ズレを許容するような装
置に適応した調整が行える。According to the sixth aspect of the present invention, the diffraction pattern obtained by passing through the light flux regulating member disposed at the substantially image plane position of the imaging lens or at a position substantially equal to the image plane distance is used. By adjusting the angle-of-view line of the image lens, it is possible to perform adjustment suitable for a device that allows a slight angle-of-view deviation of the imaging lens.
【0032】請求項7記載の発明においては、装置本体
に取付けられた位置決め手段を用いて少なくとも2つの
光束規制部材を位置決めすることによって、それら位置
決めされた光束規制部材で形成される各微小開口部の中
心を結ぶ線を結像レンズの調整仮想画角ラインに一致又
は略一致させることができ、これにより、結像レンズの
画角ライン調整の基準となる調整仮想画角ラインを簡単
にしかも高精度に設定でき、目に見える状態とすること
ができる。According to the seventh aspect of the present invention, at least two light flux regulating members are positioned by using the positioning means attached to the apparatus main body, so that each minute opening formed by the positioned light flux regulating members. The line connecting the centers of the two can be matched or substantially matched with the adjustment virtual angle-of-view line of the imaging lens, which allows the adjustment virtual angle-of-view line, which is the reference for adjusting the angle-of-view line of the imaging lens, to be easily and highly adjusted. It can be set to accuracy and can be made visible.
【0033】請求項8記載の発明においては、波動光照
明手段からの光束は、装置本体に形成された微小開口部
から本体内部に進入し、結像レンズの調整仮想画角ライ
ンに沿って進んでいき、別の装置本体に形成された微小
開口部から本体外部に出射し、これにより発生した回折
パターンはパターン表示手段に表示される。このように
装置本体に微小開口部を形成することによって、光束規
制部材を本体内部に設置することなしに、いつでも結像
レンズの画角ライン調整を簡単に行える。In the invention described in claim 8, the light flux from the wave light illuminating means enters into the inside of the main body through a minute opening formed in the main body of the apparatus, and advances along the adjusted virtual angle of view line of the imaging lens. Then, the light is emitted to the outside of the main body from a minute opening formed in another apparatus main body, and the diffraction pattern generated thereby is displayed on the pattern display means. By forming the minute opening in the main body of the apparatus as described above, the angle-of-view line adjustment of the imaging lens can be easily performed at any time without installing the light flux regulating member inside the main body.
【0034】請求項9記載の発明においては、光束規制
部材を装置本体外部の位置に配設して結像レンズの画角
ライン調整を行うことによって、光束規制部材の調整仮
想画角ライン上への組付け作業性が容易となる。According to the ninth aspect of the present invention, the light flux regulating member is arranged at a position outside the main body of the apparatus to adjust the angle of view line of the imaging lens, thereby moving the light flux regulating member onto the adjusted virtual angle of view line. Assembling workability is easy.
【0035】請求項10記載の発明においては、波動光
光軸調整手段を用いて波動光照明手段から発せられる光
束の光軸を結像レンズの調整仮想画角ラインに一致又は
略一致させることによって、波動光照明手段の光束の出
射初期の段階における光軸ズレや、経時変化に伴って生
じる光軸ズレに対して、素早くしかも高精度に対応させ
ることができる。In the tenth aspect of the present invention, the optical axis of the light beam emitted from the wave light illuminating means is made to match or substantially match the adjusted virtual angle of view line of the imaging lens by using the wave light optical axis adjusting means. It is possible to quickly and highly accurately cope with the optical axis shift in the initial stage of the emission of the light flux of the wave light illuminating means and the optical axis shift caused by the change over time.
【0036】請求項11記載の発明においては、開口部
中心位置調整手段を用いて微小開口部の中心位置を結像
レンズの調整仮想画角ラインに一致又は略一致させるこ
とによって、画角ライン調整が一段と容易となり、簡単
に高精度な位置決めを行うことができる。In the eleventh aspect of the present invention, the angle-of-view line adjustment is performed by using the opening-center-position adjusting means to match or substantially match the center position of the minute opening with the adjusted virtual angle-of-view line of the imaging lens. Is much easier, and highly accurate positioning can be performed easily.
【0037】請求項12記載の発明においては、第一の
位置調整工程で第一の光束規制部材を装置本体内部に位
置決めし、結像レンズを含む光学系のタンデンシャル面
内での結像レンズの調整仮想画角ラインと第一の光束規
制部材の微小開口部の中心とを一致又は略一致させ、第
二の位置調整工程で第一の光束規制部材の微小開口部の
中心と波動光照明手段の光束の光軸とを一致又は略一致
させ、第三の位置調整工程で第二の光束規制部材を装置
本体内部又は装置本体外部のタンデンシャル面内での結
像レンズの調整仮想画角ライン上に配設し、第二の光束
規制部材の微小開口部の中心と波動光照明手段の光束の
光軸とを一致又は略一致させ、第四の位置調整工程で結
像レンズをタンデンシャル面内での結像レンズの調整仮
想画角ライン上に介在させる前と後との回折パターンを
比較して両方の回折パターンを一致又は略一致させるこ
とによって、タンデンシャル面内での結像レンズの位置
調整作業をスムーズにかつ効率的に行える。According to the twelfth aspect of the present invention, in the first position adjusting step, the first light flux regulating member is positioned inside the apparatus main body, and the imaging lens in the tangential surface of the optical system including the imaging lens. Adjustment virtual field angle line and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member are matched or substantially matched, and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member and the wave light illumination are adjusted in the second position adjusting step. The optical axis of the light flux of the means is matched or substantially matched, and the second light flux regulating member is adjusted in the third position adjusting step to adjust the virtual angle of view of the imaging lens inside the apparatus main body or within the tangential surface outside the apparatus main body. It is arranged on the line, and the center of the minute aperture of the second light flux regulating member and the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means are made to coincide or substantially coincide with each other, and the imaging lens is tandem in the fourth position adjusting step. Adjustment of the imaging lens in the plane On the virtual angle of view line By matching or substantially matching the diffraction pattern of both by comparing the diffraction pattern before and after that Zaisa, it can be efficiently performed to and smoothly the position adjustment of the imaging lens in Tandensharu plane.
【0038】請求項13記載の発明においては、第一の
位置調整工程で第一の光束規制部材を装置本体内部に位
置決めし、結像レンズを含む光学系のラジアル面内での
結像レンズの調整仮想画角ラインと第一の光束規制部材
の微小開口部の中心とを一致又は略一致させ、第二の位
置調整工程で第一の光束規制部材の微小開口部の中心と
波動光照明手段の光束の光軸とを一致又は略一致させ、
第三の位置調整工程で第二の光束規制部材を装置本体内
部又は装置本体外部のラジアル面内での結像レンズの調
整仮想画角ライン上に配設し、第二の光束規制部材の微
小開口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸とを一致
又は略一致させ、第四の位置調整工程で結像レンズをラ
ジアル面内での結像レンズの調整仮想画角ライン上に介
在させる前と後との回折パターンを比較して両方の回折
パターンを一致又は略一致させることによって、ラジア
ル面内での結像レンズの位置調整作業をスムーズにかつ
効率的に行える。In the thirteenth aspect of the present invention, the first light flux regulating member is positioned inside the main body of the apparatus in the first position adjusting step, and the image forming lens in the radial plane of the optical system including the image forming lens is formed. The adjusted virtual angle-of-view line and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member are made to coincide or substantially coincide with each other, and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member and the wave light illuminating means in the second position adjusting step. The optical axis of the luminous flux of
In the third position adjusting step, the second light flux regulating member is disposed on the adjustment virtual angle line of the imaging lens inside the apparatus main body or in the radial plane outside the apparatus main body, The center of the opening and the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means are made to coincide or substantially coincide with each other, and the image forming lens is interposed on the adjustment virtual view angle line of the image forming lens in the radial plane in the fourth position adjusting step. By comparing the diffraction patterns before and after and matching both diffraction patterns substantially or substantially, it is possible to smoothly and efficiently adjust the position of the imaging lens in the radial plane.
【0039】請求項14記載の発明においては、第一の
位置調整工程で第一の光束規制部材を装置本体内部に位
置決めし、結像レンズを含む光学系のタンデンシャル面
及びラジアル面内での結像レンズの調整仮想画角ライン
と第一の光束規制部材の微小開口部の中心とを一致又は
略一致させ、第二の位置調整工程で第一の光束規制部材
の微小開口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸とを
一致又は略一致させ、第三の位置調整工程で第二の光束
規制部材を装置本体内部又は装置本体外部のタンデンシ
ャル面及びラジアル面内での結像レンズの調整仮想画角
ライン上に配設し、第二の光束規制部材の微小開口部の
中心と波動光照明手段の光束の光軸とを一致又は略一致
させ、第四の位置調整工程で結像レンズをタンデンシャ
ル面及びラジアル面内での結像レンズの調整仮想画角ラ
イン上に介在させる前と後との回折パターンを比較して
両方の回折パターンを一致又は略一致させることによっ
て、タンデンシャル面内での結像レンズの位置調整作業
をスムーズにかつ効率的に行える。In the fourteenth aspect of the present invention, the first light flux regulating member is positioned inside the main body of the apparatus in the first position adjusting step, and the first light flux regulating member is positioned within the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens. The adjustment virtual angle-of-view line of the imaging lens and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member are made to coincide or substantially coincide with each other, and in the second position adjustment step, the center of the minute aperture of the first light flux regulating member is made The optical axis of the light flux of the wave light illuminating means is matched or substantially matched, and in the third position adjusting step, the second light flux regulating member is imaged on the tandem surface and the radial surface inside or outside the apparatus main body. The lens is arranged on the virtual line of view angle, and the center of the minute opening of the second light flux regulating member and the optical axis of the light flux of the wave light illumination means are matched or substantially matched, and in the fourth position adjusting step. The imaging lens is tangential and radial. Adjustment of the imaging lens in the inside By comparing the diffraction patterns before and after interposing on the virtual angle of view line and matching or substantially matching the diffraction patterns of both, the imaging lens in the tangential plane is adjusted. Position adjustment work can be performed smoothly and efficiently.
【0040】請求項15記載の発明においては、請求項
1記載の発明と同様にして、少なくとも2つの光束規制
部材を備えた光学系の各部材を移動調整することによっ
て、タンデンシャル面内での結像レンズの画角ラインを
有効光束の調整仮想画角ラインに完全に一致させること
ができ、これにより、実際の原稿読取り時における読取
り光束の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結
像レンズの有効光束の画角ラインに一致させる精度を格
段に向上させることができる。In the fifteenth aspect of the invention, similarly to the first aspect of the invention, by moving and adjusting each member of the optical system including at least two light flux regulating members, the tangential plane can be adjusted. The angle-of-view line of the imaging lens can be made to completely match the adjusted virtual angle-of-view line of the effective light beam, whereby the angle-of-view line of the read light beam at the time of actual document reading can be adjusted to the adjusted virtual angle-of-view line, that is, image formation. It is possible to remarkably improve the accuracy of matching the angle of view line of the effective light flux of the lens.
【0041】請求項16記載の発明においては、請求項
2記載の発明と同様にして、少なくとも2つの光束規制
部材を備えた光学系の各部材を移動調整することによっ
て、ラジアル面内での結像レンズの画角ラインを有効光
束の調整仮想画角ラインに完全に一致させることがで
き、これにより、実際の原稿読取り時における読取り光
束の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結像レ
ンズの有効光束の画角ラインに一致させる精度を格段に
向上させることができる。In the sixteenth aspect of the invention, similarly to the second aspect of the invention, by moving and adjusting each member of the optical system including at least two light flux regulating members, the connection in the radial plane is achieved. The angle-of-view line of the image lens can be made to completely coincide with the adjusted virtual angle-of-view line of the effective light beam, whereby the angle-of-view line of the read light beam at the time of actually reading the original is adjusted virtual-angle-of-view line, that is, the imaging lens. It is possible to remarkably improve the accuracy of matching with the angle of view line of the effective light flux.
【0042】請求項17記載の発明においては、請求項
3記載の発明と同様にして、少なくとも2つの光束規制
部材を備えた光学系の各部材を移動調整することによっ
て、タンデンシャル面及びラジアル面内での結像レンズ
の画角ラインを有効光束の調整仮想画角ラインに完全に
一致させることができ、これにより、実際の原稿読取り
時における読取り光束の画角ラインを、調整仮想画角ラ
インすなわち結像レンズの有効光束の画角ラインに一致
させる精度を格段に向上させることができる。In the seventeenth aspect of the invention, similarly to the third aspect of the invention, the tangential surface and the radial surface are adjusted by moving and adjusting each member of the optical system including at least two light flux regulating members. The angle-of-view line of the imaging lens in the inside can be made to completely coincide with the adjustment virtual angle-of-view line of the effective light flux. That is, it is possible to remarkably improve the accuracy of matching the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens.
【0043】[0043]
【実施例】本発明の第一の実施例を図1〜図3に基づい
て説明する(請求項1,2,3,4,12,13,1
4,15,16,17記載の発明に対応する)。本実施
例では、従来技術でも述べたようなCCD9を用いた透
過型の原稿読取装置(図11参照)を例に挙げて説明す
る。なお、読取光学系を構成する装置本体1内の同一部
分についての説明は省略する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3 (claims 1, 2, 3, 4, 12, 13, 1).
It corresponds to the invention described in 4, 15, 16, and 17). In this embodiment, a transmissive original reading device (see FIG. 11) using the CCD 9 as described in the related art will be described as an example. It should be noted that description of the same portion in the apparatus main body 1 that constitutes the reading optical system is omitted.
【0044】図1(a)(b)は、結像レンズ8の位置
調整を行う光学系の構成を示すものである。図1(a)
は光学系をラジアル面(Radial 面、以下、R面とい
う)側から見た図であり、図1(b)は光学系をタンデ
ンシャル面(Tangential 面、以下、T面という)側か
ら見た図である。結像レンズ8の入射側の光学系のT面
内には、波動光照明手段としてのレーザ光源12aが2
個配置されている。T面内に配置されたレーザ光源12
a間には、波動光照明手段としてのレーザ光源12a0
が配置されている。この場合、レーザ光源12aから発
せられるレーザ光の各レーザ光軸Daは、調整仮想画角
ラインとしての調整仮想入射画角ラインJa(設計位
置)上に位置している。また、レーザ光源12a0 のレ
ーザ光軸Da0 は、調整仮想光軸としての調整仮想入射
光軸Ja0 (設計位置)上に位置している。1A and 1B show the structure of an optical system for adjusting the position of the imaging lens 8. FIG. 1 (a)
Is a view of the optical system viewed from the radial surface (hereinafter referred to as R surface) side, and FIG. 1B is a view of the optical system viewed from the tangential surface (T surface) side. It is a figure. In the T-plane of the optical system on the incident side of the imaging lens 8, there are two laser light sources 12a as wave light illuminating means.
Individually arranged. Laser light source 12 arranged in the T plane
Between a, a laser light source 12a 0 as a wave light illuminating means.
Is arranged. In this case, each laser optical axis Da of the laser light emitted from the laser light source 12a is located on the adjusted virtual incident view angle line Ja (design position) as the adjusted virtual view angle line. Further, the laser beam axis Da 0 of the laser light source 12a 0 is located on the adjusting virtual adjusted virtual incident optical axis Ja 0 as the optical axis (design position).
【0045】また、結像レンズ8の出射側の光学系のT
面内には、第一の光束規制部材13(以下、ピンホール
13という)がベース10に固定されている。このピン
ホール13には、微小開口部としての1個の小孔14a
0 と2個の小孔14aとの計3個がT面内に形成されて
いる。このピンホール13の後方には、第二の光束規制
部材16(以下、ピンホール16という)がベース10
の外側に位置して配置されている。このピンホール16
には、微小開口部としての1個の小孔161 と2個の小
孔162 と2個の小孔163 との計5個がT面内に形成
されている。この場合、調整仮想光軸としての調整仮想
入射光軸Ja0 の延長線上には、ピンホール13の小孔
14a0 の中心と、ピンホール16の小孔161 の中心
とが位置している。2本の調整仮想入射画角ラインJa
の延長線上には、ピンホール13の小孔14a0 の中心
と、ピンホール16の小孔162 の中心とが位置してい
る。2本の調整仮想出射画角ラインJb(設計位置)の
延長線上には、ピンホール13の小孔14aの中心と、
ピンホール16の小孔163 の中心とが位置している。Further, the T of the optical system on the exit side of the imaging lens 8 is
A first light flux regulating member 13 (hereinafter referred to as pinhole 13) is fixed to the base 10 within the surface. This pinhole 13 has one small hole 14a as a minute opening.
A total of three holes, 0 and two small holes 14a, are formed in the T-plane. Behind the pinhole 13, a second light flux regulating member 16 (hereinafter referred to as the pinhole 16) is provided on the base 10.
It is located outside of. This pinhole 16
In this case, a total of five small holes 16 1 as small openings, two small holes 16 2 and two small holes 16 3 are formed in the T-plane. In this case, the center of the small hole 14a 0 of the pinhole 13 and the center of the small hole 16 1 of the pinhole 16 are located on the extension line of the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 as the adjusted virtual optical axis. . Two adjusted virtual incident field angle lines Ja
The center of the small hole 14a 0 of the pinhole 13 and the center of the small hole 16 2 of the pinhole 16 are located on the extension line of. On the extension line of the two adjusted virtual emission angle lines Jb (design position), the center of the small hole 14a of the pinhole 13 and
The center of the small hole 16 3 of the pinhole 16 is located.
【0046】ピンホール16の後方には、発生する回折
パターンKを受光して表示するパターン表示手段として
の観測板15が配置されている。また、結像レンズ8
は、スペーサやマイクロヘッド等の結像レンズ調整手段
(図示せず)によって移動自在に支持されている。この
結像レンズ調整手段によって、入射光束に対する結像レ
ンズ8の位置を調整仮想画角ラインに一致させるように
移動調整する。Behind the pinhole 16, an observation plate 15 as a pattern display means for receiving and displaying the generated diffraction pattern K is arranged. Further, the imaging lens 8
Are movably supported by an imaging lens adjusting means (not shown) such as a spacer or a micro head. By this image forming lens adjusting means, the position of the image forming lens 8 with respect to the incident light beam is moved and adjusted so as to match the adjusted virtual angle of view line.
【0047】なお、ここでいう調整仮想画角ラインと
は、実際には目に見えるものではなく、設計時や調整時
に便宜上用いている架空なものであり、この調整仮想画
角ラインが最終的には光源2からの光束Aの画角ライン
に相当する。また、ここでいう調整仮想光軸とは、実際
には目に見えるものではなく、設計時や調整時に便宜上
用いている架空なものであり、この調整仮想光軸が最終
的には光源2からの光束Aの光軸Bに相当する。It should be noted that the adjusted virtual angle-of-view line here is not actually visible, but is a fictitious one used for convenience in design and adjustment. Corresponds to the angle of view line of the light flux A from the light source 2. The adjusted virtual optical axis here is not actually visible, but is a fictitious one that is used for the convenience of design and adjustment. Corresponds to the optical axis B of the luminous flux A of.
【0048】このような構成において、まず、結像レン
ズ8における画角ラインの基本的な考え方を、図2
(a)(b)に基づいて述べる。図2(a)は結像レン
ズ8をT面から、図2(b)は結像レンズ8をR面から
それぞれ見たものである。図2(a)において、光学系
の理想的な配置では、入射する光束Aの光軸B及び入射
画角ラインGa,出射画角ラインGbは、結像レンズ8
のレンズ光軸C及び入射画角ラインHa,出射画角ライ
ンHbとそれぞれ一致している。図2(b)において、
光学系の理想的な配置(設計位置)では、入射する光束
Aの光軸B及び入射画角ラインGc,出射画角ラインG
dは、結像レンズ8のレンズ光軸C及び入射画角ライン
Hc,出射画角ラインHdと一致している。従って、一
般的に、結像レンズ8の画角ライン及び光軸を、その結
像レンズ8に入射する光束Aの画角ライン及び光軸にで
きる限り一致させることによって、より高品位な装置を
作ることができることになる。In such a structure, first, the basic concept of the angle of view line in the imaging lens 8 will be described with reference to FIG.
A description will be given based on (a) and (b). 2A is a view of the imaging lens 8 from the T surface, and FIG. 2B is a view of the imaging lens 8 from the R surface. In FIG. 2A, in the ideal arrangement of the optical system, the optical axis B of the incident light flux A, the incident field angle line Ga, and the exit field angle line Gb are the same as those of the imaging lens 8
The lens optical axis C and the incident field angle line Ha and the exit field angle line Hb respectively coincide with each other. In FIG. 2 (b),
In an ideal arrangement (design position) of the optical system, the optical axis B of the incident light beam A, the incident field angle line Gc, and the exit field angle line Gc
d coincides with the lens optical axis C of the imaging lens 8, the incident field angle line Hc, and the exit field angle line Hd. Therefore, generally, by matching the angle of view line and the optical axis of the imaging lens 8 with the angle line and the optical axis of the light flux A incident on the imaging lens 8 as much as possible, a higher-quality device is obtained. You will be able to make it.
【0049】そこで、本実施例では、以下、T面内にお
ける結像レンズ8の画角ラインHa,Hbを光束Aの画
角ラインGa,Gbに、T面内における結像レンズ8の
レンズ光軸Cを光束Aの光軸Bにそれぞれ一致させるた
めの結像レンズ8の位置調整方法について述べる。(第
一〜第四の位置調整工程)。このような結像レンズ8の
調整を行うために、ここでは、調整仮想入射画角ライン
Ja、調整仮想出射画角ラインJb、調整仮想入射光軸
Ja0 、調整仮想出射光軸Jb0 (設計位置)を用い
る。Therefore, in the present embodiment, hereinafter, the angle of view lines Ha and Hb of the image forming lens 8 in the T plane are set to the angle of view lines Ga and Gb of the light flux A, and the lens light of the image forming lens 8 in the T plane is described below. A method of adjusting the position of the imaging lens 8 for making the axis C coincide with the optical axis B of the light flux A will be described. (First to fourth position adjusting steps). In order to perform such adjustment of the imaging lens 8, here, the adjusted virtual incident view angle line Ja, the adjusted virtual exit view angle line Jb, the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 , the adjusted virtual exit optical axis Jb 0 (design Position).
【0050】まず、結像レンズ8を装置本体1に設置す
る前に調整を行う。すなわち、図1(b)において、ま
ず、ピンホール13をベース10の指定された位置(図
示しない穴等)に位置決めし固定する。このピンホール
13の位置決めによって、小孔14a0 の中心が調整仮
想入射光軸Ja0 及び調整仮想入射画角ラインJaに一
致し、小孔14aの中心が調整仮想出射画角ラインJb
に一致する(第一の光軸調整工程)。First, adjustment is performed before installing the imaging lens 8 in the apparatus main body 1. That is, in FIG. 1B, first, the pinhole 13 is positioned and fixed at a designated position (a hole (not shown) or the like) of the base 10. By the positioning of the pinhole 13, the center of the small hole 14a 0 coincides with the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident angle of view line Ja, and the center of the small hole 14a adjusts the adjusted virtual exit angle of view line Jb.
(First optical axis adjusting step).
【0051】次に、ピンホール13が固定されたベース
10から離れた前方・後方の位置に、レーザ光源12a
0 ,12a、観測板15をそれぞれ配置する。この状態
で、レーザ光源12a0 ,12aからのレーザ光をピン
ホール13の小孔14a0 に向けて出射し、これにより
発生した回折パターンKを観測板15に投影させる。そ
して、その投影された回折パターンKが同心円状の均等
な光量分布をもつ綺麗な回折パターンK(図3(a)参
照)であるか否かを調べる。同心円状の綺麗な回折パタ
ーンKであれば位置調整は不要であり、そうでなければ
レーザ光のレーザ光軸Da0 ,Daの調整を行う。この
調整は、観測板15上の回折パターンKを見ながら、レ
ーザ光源12a0 ,12aをシフト(X,Y方向)、傾
き(Xθ,Yθ方向へのT面内)の方向に移動させて行
う。このようにして位置調整を行うことにより、小孔1
4a0 の中心を通る調整仮想入射光軸Ja0 、調整仮想
入射画角ラインJaにレーザ光のレーザ光軸Da0 ,D
aを一致させることができる。(第二の位置調整工
程)。Next, the laser light source 12a is placed at the front and rear positions away from the base 10 to which the pinhole 13 is fixed.
0 , 12a and the observation plate 15 are arranged. In this state, laser light from the laser light sources 12a 0 , 12a is emitted toward the small hole 14a 0 of the pinhole 13, and the diffraction pattern K generated thereby is projected on the observation plate 15. Then, it is checked whether or not the projected diffraction pattern K is a clean diffraction pattern K (see FIG. 3A) having a concentric uniform light amount distribution. If the diffraction pattern K is a clean concentric circle, no position adjustment is necessary. If not, the laser optical axes Da 0 and Da of the laser light are adjusted. This adjustment is performed by observing the diffraction pattern K on the observation plate 15 and moving the laser light sources 12a 0 , 12a in the directions of shift (in the X and Y directions) and inclination (in the T plane in the Xθ and Yθ directions). . By adjusting the position in this way, the small hole 1
The adjusted virtual incident optical axis Ja 0 passing through the center of 4a 0 and the laser optical axes Da 0 and D of the laser light on the adjusted virtual incident field angle line Ja.
a can be matched. (Second position adjusting step).
【0052】次に、ピンホール16を、装置本体1の外
部のピンホール13と観測板15との間の所定位置に配
置させる。なお、一般に装置本体1の内外部を問わずピ
ンホールを設置して調整する場合には、必ず、基準とな
る光と一つ以上の基準となるピンホールとが必要であ
り、このようなことから、ここではピンホール13をそ
のまま設置しておいた。そして、このようにピンホール
16を配置した状態で、レーザ光源12a0 ,12aか
らのレーザ光をピンホール13,16に向けて照射し、
観測板15上に回折パターンKを投影させる。この投影
された回折パターンKが同心円状の綺麗な回折パターン
Kと一致しているか否かを判断し、一致していなければ
調整を行う。この調整は、回折パターンKを観察しなが
ら、ピンホール16をシフト(X,Y)方向に動かして
小孔161 ,162 の中心の位置調整を行うことにより
実行され、この位置調整後に固定する。これにより、ピ
ンホール16の小孔161 の中心は調整仮想入射光軸J
a0 すなわちレーザ光の光軸Da0 と一致し、ピンホー
ル16の小孔162 の中心は調整仮想入射画角ラインJ
aと一致する(第三の位置調整工程)。このようにして
初期設定が終了する。Next, the pinhole 16 is arranged at a predetermined position between the observation hole 15 and the pinhole 13 outside the apparatus main body 1. In general, when installing and adjusting the pinholes both inside and outside the apparatus body 1, it is always necessary to provide a reference light and one or more reference pinholes. Therefore, here, the pinhole 13 is installed as it is. Then, with the pinhole 16 thus arranged, the laser light from the laser light sources 12a 0 , 12a is directed toward the pinholes 13, 16 and
The diffraction pattern K is projected on the observation plate 15. It is judged whether or not the projected diffraction pattern K coincides with the beautiful concentric circular diffraction pattern K, and if they do not coincide, the adjustment is performed. This adjustment is performed by moving the pinhole 16 in the shift (X, Y) direction while observing the diffraction pattern K to adjust the positions of the centers of the small holes 16 1 and 16 2 and then fixing the position. To do. As a result, the center of the small hole 16 1 of the pinhole 16 is adjusted to the virtual incident optical axis J.
a 0, that is, the optical axis Da 0 of the laser beam, and the center of the small hole 16 2 of the pinhole 16 is the adjusted virtual incident field angle line J.
Matches a (third position adjusting step). In this way, the initial setting is completed.
【0053】次に、結像レンズ8を装置本体1に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、結像レンズ8をベース
10上の所定位置に取付け、観察板15上の回折パター
ンKを用いてレンズ光軸C及び入射画角ラインHa,出
射画角ラインHbの位置調整作業を行う。このような位
置調整作業は、前述した第二及び第三の位置調整工程と
同様に、レーザ光源12a0 ,12aからのレーザ光を
ピンホール13,16に向けて照射し、観測板15上に
回折パターンKを投影させて、回折パターンKを観察し
ながら、シフト(X,Y方向)、傾き(Yθ方向へのT
面内)の方向に移動させて行う。このような位置調整の
終了により、結像レンズ8のレンズ光軸C及びT面内に
おける入射画角ラインHa,出射画角ラインHbの調整
作業が完了する(第四の位置調整工程)。このようにし
て結像レンズ8の位置調整作業を行うことによって、T
面内における結像レンズ8の画角ラインHa,Hbを光
束Aの画角ラインGa,Gbに、T面内における結像レ
ンズ8のレンズ光軸Cを光束Aの光軸Bにそれぞれ一致
させることができる。Next, adjustment is performed with the imaging lens 8 installed in the apparatus main body 1. That is, the imaging lens 8 is attached to a predetermined position on the base 10, and the position adjustment work of the lens optical axis C and the incident field angle line Ha and the exit field angle line Hb is performed using the diffraction pattern K on the observation plate 15. In this position adjusting work, as in the second and third position adjusting steps described above, the laser light from the laser light sources 12a 0 and 12a is irradiated toward the pinholes 13 and 16, and the observation plate 15 is irradiated. While observing the diffraction pattern K by projecting the diffraction pattern K, shift (X, Y direction), inclination (T in the Yθ direction)
Move in the direction of (in-plane). Upon completion of such position adjustment, the adjustment work of the incident field angle line Ha and the exit field angle line Hb in the lens optical axes C and T planes of the imaging lens 8 is completed (fourth position adjusting step). By performing the position adjustment work of the imaging lens 8 in this way, the T
The angle-of-view lines Ha and Hb of the imaging lens 8 in the plane coincide with the angle-of-view lines Ga and Gb of the light beam A, and the lens optical axis C of the imaging lens 8 in the T-plane matches the optical axis B of the light beam A. be able to.
【0054】実際の画像読取り時には、光束Aの光軸B
は調整仮想入射光軸Ja0 上を進んでいき、その光軸B
が結像レンズ8のレンズ光軸Cと一致し、また、光束A
の入射画角ラインGaは調整仮想入射画角ラインJa上
を進んでいき、その入射画角ラインGaが結像レンズ8
の入射画角ラインHaと一致することになる。このよう
にT面内における結像レンズ8の光軸と、有効光束の画
角ラインとの両方を調整することによって、読取り画像
の劣化を一段と防いで高品位な画像を得ることができ
る。At the time of actual image reading, the optical axis B of the light flux A
Moves on the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 , and its optical axis B
Coincides with the lens optical axis C of the imaging lens 8, and the luminous flux A
The incident angle-of-view line Ga of is advanced on the adjusted virtual incident angle-of-view line Ja, and the incident angle-of-view line Ga is moved to the imaging lens 8.
The incident angle of view line Ha of In this way, by adjusting both the optical axis of the imaging lens 8 in the T-plane and the angle of view line of the effective light beam, it is possible to further prevent deterioration of the read image and obtain a high-quality image.
【0055】一般に、ピンホール13の基準位置(設計
位置)からのズレ量は、基準としたピンホール13で発
生させる観測板15上での回折パターンKの基準位置か
らのズレ量を観察するによって判断できるが、精度的に
十分であるとは言えない。そこで、上述したような位置
調整作業(第一〜第四の位置調整工程)を行い、結像レ
ンズ8を通過したレーザ光が調整仮想光軸及び調整仮想
画角ラインと一致しているピンホール13の小孔14a
0 ,14a、ピンホール16の小孔161 ,162 ,1
63 を通過するように、結像レンズ8の位置を移動調整
する。この場合、回折パターンKは、レーザ光が2つの
ピンホール16を通過しなければ発生しないため、観測
板15上の基準位置からのズレ量を厳密に測定する必要
がなくなり、そのパターン形状だけを観察しながら最終
的に図3(a)のような回折パターンKとなるように、
結像レンズ8のレンズ光軸C及び画角ラインHa,Hb
を移動調整する。これにより、ピンホール13を1個だ
け配置した場合に比べて結像レンズ8の位置調整精度を
一段と向上させることができる。なお、結像レンズ8の
出射側に配置するピンホール数は2個に限るものではな
く、観測板15の位置をさらに遠ざけて3個以上のピン
ホールを配置することにより、一段と高精度な光軸調整
が行える。ただし、この場合にはレーザ光源12の出力
パワーを高く設定する必要がある。Generally, the amount of deviation of the pinhole 13 from the reference position (design position) is determined by observing the amount of deviation of the diffraction pattern K from the reference position on the observing plate 15 which is generated in the reference pinhole 13. It can be judged, but it cannot be said that the accuracy is sufficient. Therefore, the above-described position adjustment work (first to fourth position adjustment steps) is performed, and the pinhole in which the laser light passing through the imaging lens 8 matches the adjusted virtual optical axis and the adjusted virtual angle of view line. 13 small holes 14a
0 , 14a, small holes 16 1 , 16 2 , 1 of the pinhole 16
The position of the imaging lens 8 is moved and adjusted so as to pass 6 3 . In this case, the diffraction pattern K does not occur unless the laser light passes through the two pinholes 16, so it is not necessary to strictly measure the amount of deviation from the reference position on the observation plate 15, and only the pattern shape can be determined. While observing, to finally obtain the diffraction pattern K as shown in FIG.
Lens optical axis C of imaging lens 8 and angle-of-view lines Ha, Hb
Move and adjust. As a result, the position adjustment accuracy of the imaging lens 8 can be further improved as compared with the case where only one pinhole 13 is arranged. Note that the number of pinholes arranged on the exit side of the imaging lens 8 is not limited to two, and by arranging three or more pinholes further away from the position of the observation plate 15, more accurate light can be obtained. The axis can be adjusted. However, in this case, it is necessary to set the output power of the laser light source 12 high.
【0056】上述したように、装置本体1のベース10
上のみにピンホール13を設置するのみならず、ベース
10の外部にピンホール16を設置し、第一〜第四の光
軸調整工程の手順に従って結像レンズ8の位置調整を行
うことによって、高品位な画像を得ることができると共
に、高精度な位置調整作業をスムーズにしかも効率良く
行うことができる。As described above, the base 10 of the apparatus body 1
Not only the pinhole 13 is installed only on the top, but the pinhole 16 is installed outside the base 10 and the position of the imaging lens 8 is adjusted according to the procedure of the first to fourth optical axis adjusting steps. It is possible to obtain a high-quality image and perform highly accurate position adjustment work smoothly and efficiently.
【0057】なお、本実施例では、T面内における結像
レンズ8のレンズ光軸C及び画角ラインHa,Hbの位
置調整について述べたが、これに限るものではなく、図
2(b)に示すようなR面内における結像レンズ8のレ
ンズ光軸C及び画角ラインHc,Hdの位置調整につい
ても同様な考え方により行うことができ、さらには、T
面及びR面の両方の面内における結像レンズ8のレンズ
光軸C及び画角ラインHa,Hb,Hc,Hdの位置調
整を行うことによって、一段と高品位な画像を得ること
ができる。また、画角ラインの調整に際して、結像レン
ズ8がシフトしているとそのレンズからの出射光は傾
き、傾いていると出射光はシフトするという光学的な性
質を考慮しながら調整を行うと、調整すべき方向や調整
量などを容易に把握することができるため作業効率を向
上させることができる。調整終了後は、光軸方向以外は
動かないように結像レンズ8を固定する。また、観測板
15の位置は特に限定しないが、投影された回折パター
ンKがよく認識でき、パターン状態の差がわかるような
位置におく。また、調整仮想出射画角ラインJb(設計
位置)と結像レンズ8の出射画角ラインHbとのズレ
は、調整仮想入射画角ラインJa(設計位置)と結像レ
ンズ8の入射画角ラインHaとを一致させれば、自動的
に一致するためその調整の必要はない。また、パターン
表示手段としては、回折パターンを単に受光して表示す
るものに限るものではなく、受光した回折パターンをデ
ータとして保存しディスプレイ等に表示するものも含ま
れる。Although the position adjustment of the lens optical axis C of the imaging lens 8 and the angle-of-view lines Ha and Hb in the T-plane has been described in this embodiment, the present invention is not limited to this, and FIG. The position adjustment of the lens optical axis C of the imaging lens 8 and the angle-of-view lines Hc and Hd within the R plane as shown in FIG.
By adjusting the positions of the lens optical axis C and the angle-of-view lines Ha, Hb, Hc, and Hd of the imaging lens 8 in both the surface and the R surface, a higher quality image can be obtained. Further, when adjusting the angle-of-view line, when the imaging lens 8 is shifted, the light emitted from the lens is tilted, and when the angle is tilted, the light is shifted. The work efficiency can be improved because the direction to be adjusted and the adjustment amount can be easily grasped. After the adjustment is completed, the imaging lens 8 is fixed so that it does not move except in the optical axis direction. The position of the observation plate 15 is not particularly limited, but it is set at a position where the projected diffraction pattern K can be recognized well and the difference in pattern state can be seen. In addition, the deviation between the adjusted virtual exit field angle line Jb (design position) and the exit field angle line Hb of the imaging lens 8 is due to the adjusted virtual entrance field angle line Ja (design position) and the incident field angle line of the imaging lens 8. If Ha is matched, it is automatically matched and no adjustment is necessary. Further, the pattern display means is not limited to one that merely receives and displays the diffraction pattern, but may also include one that stores the received diffraction pattern as data and displays it on a display or the like.
【0058】次に、本発明の第二の実施例を図4及び図
5に基づいて説明する(請求項5記載の発明に対応す
る)。なお、前述した第一の実施例と同一部分について
の説明は省略し、その同一部分については同一符号を用
いる。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5 (corresponding to the invention of claim 5). The description of the same parts as those in the first embodiment described above will be omitted, and the same reference numerals will be used for the same parts.
【0059】レーザ光源12a0 ,12aと結像レンズ
8の入射側との間のベース10上には、光束規制部材と
してのピンホール17が配置されている。このピンホー
ル17には、小孔171 と、2個の小孔172 とがT面
内に形成されている。この場合、小孔172 の中心位置
は、調整仮想画角ラインとしての調整仮想入射画角ライ
ンJaに一致している。また、小孔171 の中心位置
は、調整仮想光軸としての調整仮想入射光軸Ja0 に一
致している。なお、結像レンズ8の後方にはピンホール
13、観測板15が順次配置されている。On the base 10 between the laser light sources 12a 0 , 12a and the incident side of the imaging lens 8, a pinhole 17 as a light flux regulating member is arranged. The pinhole 17 has a small hole 17 1 and two small holes 17 2 formed in the T-plane. In this case, the center position of the small hole 17 2 coincides with the adjusted virtual incident view angle line Ja as the adjusted virtual view angle line. The center position of the small hole 17 1 coincides with the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 as the adjusted virtual optical axis. A pinhole 13 and an observation plate 15 are sequentially arranged behind the imaging lens 8.
【0060】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。今、レーザ光源12a0 ,12aから
のレーザ光がレンズ入射前のピンホール17と、レンズ
出射後のピンホール13とを通過しなければ、観測板1
5上には回折パターンKは投影されない。このことは、
言い替えると、結像レンズ8のレンズ光軸Cを調整仮想
入射光軸Ja0 に、結像レンズ8の入射画角ラインHa
を調整仮想入射画角ラインJaに、それぞれ一致させる
位置調整を行っている最中に、例えば予期せぬ外力や応
力によってレーザ光源12a0 ,12aが微妙に傾き、
この傾きが回折パターン形状の差となって現れることを
意味する。Hereinafter, the reason why the above-described constituent requirements are set will be described. Now, if the laser light from the laser light sources 12a 0 and 12a does not pass through the pinhole 17 before entering the lens and the pinhole 13 after exiting the lens, the observation plate 1
The diffraction pattern K is not projected onto the surface 5. This is
In other words, the lens optical axis C of the imaging lens 8 is adjusted to the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 , and the incident field angle line Ha of the imaging lens 8 is set.
The laser light sources 12a 0 , 12a are slightly tilted due to an unexpected external force or stress, for example, while the position adjustment is performed so as to match with the virtual incident view angle line Ja.
This means that this inclination appears as a difference in the diffraction pattern shape.
【0061】そこで、このようなことから、結像レンズ
8を外した状態にして、レーザ光源12a0 ,12aか
らのレーザ光を2つのピンホール17,13に通過さ
せ、回折パターンKを観察することによって、レーザ光
源12a0 ,12aのレーザ光軸Da0 ,Daが、調整
仮想入射光軸Ja0 、調整仮想入射画角ラインJaにそ
れぞれ一致しているか否かを常時確認することができ
る。これにより、その後行われる結像レンズ8の位置調
整を、一段と高精度にバラツキなく安定して行うことが
可能となる。また、ピンホール17とピンホール13と
の間隔が広くなればなるほど、レーザ光源12a0 ,1
2aの傾き調整の精度を一段と高く設定することができ
る。Therefore, in view of this, with the imaging lens 8 removed, the laser light from the laser light sources 12a 0 , 12a is passed through the two pinholes 17, 13 and the diffraction pattern K is observed. This makes it possible to always confirm whether or not the laser optical axes Da 0 and Da of the laser light sources 12a 0 and 12a match the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident field angle line Ja, respectively. As a result, the subsequent position adjustment of the imaging lens 8 can be performed more highly accurately and stably without variation. Further, the wider the distance between the pinhole 17 and the pinhole 13 is, the more the laser light sources 12a 0 , 1 are.
The accuracy of the inclination adjustment of 2a can be set to be much higher.
【0062】また、調整仮想入射光軸Ja0 、調整仮想
入射画角ラインJaに配置されるピンホール数は特に限
定されるものではなく、例えば、図1と図4とを組み合
わせた図5に示すような3個のピンホール13,16,
17を用いた構成(入射側に1個、出射側に2個)とす
ることによって、レーザ光源12の傾きを調整しながら
結像レンズ8の位置調整を行う構成の中で、ピンホール
数を最も少なく、レーザ光の光量減少割合も最も小さく
することができ、一段と高精度な結像レンズ8の位置調
整を行うことができる。Further, the number of pinholes arranged on the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident field angle line Ja is not particularly limited. For example, FIG. 5 which is a combination of FIG. 1 and FIG. 3 pinholes 13, 16 as shown,
The number of pinholes in the configuration in which the position of the imaging lens 8 is adjusted while adjusting the inclination of the laser light source 12 by adopting the configuration using 17 (one on the incident side and two on the emitting side). The ratio of the decrease in the light amount of the laser light can be minimized, and the position of the imaging lens 8 can be adjusted with higher accuracy.
【0063】次に、本発明の第三の実施例を図4に基づ
いて説明する(請求項6記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4 (corresponding to the invention of claim 6). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0064】結像レンズ8の像面距離Lと略等しい位置
(すなわち、CCD9の受光位置と等しい位置又は略等
しい位置)には、ピンホール13の小孔14a0 ,14
aが位置するように配置されている。The small holes 14a 0 , 14 of the pinhole 13 are located at positions substantially equal to the image plane distance L of the imaging lens 8 (that is, at positions equal to or substantially equal to the light receiving position of the CCD 9).
It is arranged so that a is located.
【0065】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。今、結像レンズ8の位置がズレて、光
源2からの光束Aの光軸BがCCD9に多少斜めから入
射したとしても(図11参照)、設計位置となるCCD
9の受光部に結像しさえすればよいという場合がある。
このような場合には、その要求に対応した配慮をしない
と、必要以上の調整をすることになり、オーバースペッ
クで作業コストが高いものとなってしまう。The reason why the above-mentioned structural requirements are adopted will be described below. Even if the position of the imaging lens 8 is displaced and the optical axis B of the light flux A from the light source 2 is incident on the CCD 9 at an angle (see FIG. 11), the CCD is at the design position.
In some cases, it is only necessary to form an image on the light receiving section of 9.
In such a case, unless consideration is given to the requirement, adjustment will be performed more than necessary, resulting in over-specification and high work cost.
【0066】そこで、像面距離(焦点距離)Lと略等し
い位置にピンホール13を配置して、ここでは位置的な
回折パターンKのズレは問題とせず、その形状だけを観
察しながら図3(a)のような回折パターンKとなるよ
うに調整する。また、ここでは、ピンホール13をCC
D9と同じ位置に配置したが、像面距離Lの関係が成り
立つならば、CCD9の位置とは別な箇所、例えばミラ
ー等で折り返した位置に配置してもよい。Therefore, the pinhole 13 is arranged at a position substantially equal to the image plane distance (focal length) L, and here, the positional deviation of the diffraction pattern K does not matter, and only the shape thereof is observed, as shown in FIG. The adjustment is made so that the diffraction pattern K as shown in FIG. In addition, here, the pinhole 13 is CC
Although it is arranged at the same position as D9, if the relationship of the image plane distance L is established, it may be arranged at a position different from the position of the CCD 9, for example, at a position folded by a mirror or the like.
【0067】次に、本発明の第四の実施例を図6に基づ
いて説明する(請求項7記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6 (corresponding to the invention of claim 7). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0068】装置本体1のベース10上の両端部には、
位置決め手段としてのピン181 ,182 が設けられて
いる。ピン181 の中心とピン182 の中心とを結ぶ線
は、調整仮想入射画角ラインJa上に位置し、ピン18
1 の中心とピン181 の中心とを結ぶ線は、調整仮想入
射光軸Ja0 上に位置している。そして、これらピン1
81 ,182 はピンホール13,17にそれぞれ形成さ
れた穴19と嵌合し、これによりピンホール13,17
は取外しが可能なように固定されている。従って、この
ようにして嵌合した状態では、ピンホール13の小孔1
4a0 の中心と、ピンホール17の小孔171 の中心と
を結ぶ線は、調整仮想入射光軸Ja0 と一致している。
また、ピンホール13の小孔14a0 の中心と、ピンホ
ール17の小孔172 の中心とを結ぶ線は、調整仮想入
射光軸Jaと一致している。At both ends on the base 10 of the apparatus main body 1,
Pins 18 1 and 18 2 are provided as positioning means. The line connecting the center of the pin 18 1 and the center of the pin 18 2 is located on the adjusted virtual incident angle-of-view line Ja.
1 and the center of the pin 18 1 of a line connecting the center is located on the adjusting virtual incident optical axis Ja 0. And these pins 1
8 1 and 18 2 are fitted into holes 19 formed in the pinholes 13 and 17, respectively.
Is fixed so that it can be removed. Therefore, in the fitted state in this way, the small hole 1 of the pinhole 13
A line connecting the center of 4a 0 and the center of the small hole 17 1 of the pinhole 17 coincides with the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 .
The line connecting the center of the small hole 14a 0 of the pinhole 13 and the center of the small hole 17 2 of the pinhole 17 coincides with the adjusted virtual incident optical axis Ja.
【0069】また、ベース10上の中央付近におけるピ
ン181 間を結ぶ線上には、ピン20が2個設けられて
いる。これらピン20は、結像レンズ8を保持するレン
ズ保持部材としてのレンズブロック21に形成された穴
21aと嵌合するようになっており、これにより結像レ
ンズ8のX方向とYθ方向への動きを規制することが可
能となる。Two pins 20 are provided on the line connecting the pins 18 1 near the center of the base 10. These pins 20 are adapted to fit into holes 21a formed in a lens block 21 serving as a lens holding member for holding the image forming lens 8, whereby the X direction and the Yθ direction of the image forming lens 8 are formed. It is possible to regulate the movement.
【0070】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。今、ピンホール13,17は結像レン
ズ8の位置調整作業の中で一番最初の調整基準となる箇
所であり、調整仮想入射光軸Ja0 上にピンホール1
3,17の小孔14a0 ,171 の中心を、調整仮想入
射画角ラインJa上にピンホール13,17の小孔14
a0 ,172 の中心を、それぞれ位置させる必要があ
る。このような調整仮想入射光軸Ja0 ,調整仮想入射
画角ラインJaは設計・調整上の架空なものであり、実
際には目に見えないが、調整時に基準となる位置がわか
らないと位置調整が行えない。Hereinafter, the reason why the above-mentioned constituent requirements are set will be described. Now, the pinholes 13 and 17 are the first adjustment reference points in the position adjustment work of the imaging lens 8, and the pinhole 1 is located on the adjusted virtual incident optical axis Ja 0.
The centers of the small holes 14a 0 and 17 1 of the pinholes 13 and 17 are arranged on the adjusted virtual incident field angle line Ja.
It is necessary to position the centers of a 0 and 17 2 respectively. The adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident angle-of-view line Ja as described above are fictitious in design and adjustment, and are invisible to the eyes, but the position is adjusted unless the reference position is known at the time of adjustment. Cannot be done.
【0071】そこで、ピン181 の中心とピン181 の
中心とを結ぶ線を調整仮想入射光軸Ja0 として扱い、
ピン181 の中心とピン182 の中心とを結ぶ線を調整
仮想入射画角ラインJaとして扱うことによって、調整
仮想入射光軸Ja0 、調整仮想入射画角ラインJaを目
に見える状態とした。従って、このように目に見える状
態に設定することによって、調整の基準光軸を簡単にし
かも高精度に設定することができる。これにより、結像
レンズ8の位置調整の高精度化を図ると同時に、調整作
業の効率化を一段と図ることができる。[0071] Therefore, treats a line connecting the centers of the pin 18 1 of the pin 18 1 as adjusted virtual incident optical axis Ja 0,
By treating the line connecting the center of the pin 18 1 and the center of the pin 18 2 as the adjusted virtual incident field angle line Ja, the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident field angle line Ja are made visible. . Therefore, by setting such a visible state, the reference optical axis for adjustment can be easily set with high accuracy. This makes it possible to improve the accuracy of the position adjustment of the imaging lens 8 and further improve the efficiency of the adjustment work.
【0072】次に、本発明の第五の実施例を図7に基づ
いて説明する(請求項8記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7 (corresponding to the invention of claim 8). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0073】結像レンズ8の調整仮想入射画角ラインJ
aと交差する位置の装置本体1の側板22,23には、
レーザ光源12aからのレーザ光を規制する微小開口部
としての小孔222 ,232 が形成されている。また、
結像レンズ8の調整仮想出射画角ラインJbと交差する
位置の装置本体1の側板22,23には、レーザ光を規
制する微小開口部としての小孔233 が形成されてい
る。さらに、結像レンズ8の調整仮想入射光軸Ja0 と
交差する位置の装置本体1の側板22,23には、レー
ザ光源12a0 からのレーザ光を規制する微小開口部と
しての小孔221,231 が形成されている。Adjustment of Imaging Lens 8 Virtual Incident Field Angle J
On the side plates 22 and 23 of the apparatus main body 1 at positions intersecting with a,
Small holes 22 2 and 23 2 are formed as minute openings that regulate the laser light from the laser light source 12a. Also,
Small holes 23 3 are formed in the side plates 22 and 23 of the apparatus main body 1 at positions intersecting with the adjusted virtual emission field angle line Jb of the imaging lens 8 as minute openings for restricting laser light. Further, in the side plates 22 and 23 of the apparatus main body 1 at the position intersecting with the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 of the imaging lens 8, a small hole 22 1 as a minute opening for restricting the laser light from the laser light source 12a 0. , 23 1 are formed.
【0074】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。前述した実施例のように、2つのピン
ホール17,13を用いる場合、レーザ光源12a0 ,
12aからのレーザ光は小孔171 ,172 を通過して
調整仮想入射光軸Ja0 、調整仮想入射画角ラインJa
に沿って進行していき、結像レンズ8を介して小孔14
a0 ,14aを通過し、調整仮想出射光軸Jb0 、調整
仮想出射画角ラインJbに沿って進行していくことによ
って、観測板15上に回折パターンKが投影される。こ
れらピンホール17,13を単に調整のためだけに用い
る場合には、装置本体1の組付け後に取外ずされるのが
一般的であり、そのような取付け、取外しの作業は面倒
である。Hereinafter, the reason why the above-mentioned constituent requirements are set will be described. When the two pinholes 17 and 13 are used as in the above-described embodiment, the laser light source 12a 0 ,
The laser light from 12a passes through the small holes 17 1 and 17 2 and the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 and the adjusted virtual incident field angle line Ja
Along the small hole 14 through the imaging lens 8.
The diffraction pattern K is projected onto the observation plate 15 by passing through a 0 and 14 a and proceeding along the adjusted virtual emission optical axis Jb 0 and the adjusted virtual emission angle of view line Jb. When these pinholes 17 and 13 are used only for adjustment, they are generally removed after the apparatus body 1 is assembled, and such attachment and detachment work is troublesome.
【0075】そこで、側板22,23に小孔221 ,2
22 ,231 ,232 ,233 をそれぞれ形成すること
によって、わざわざピンホール13,17を光路上に配
置しなくてもよくなり、何時でも結像レンズ8の位置調
整を行うことができる。これにより、組付け取外しの作
業性を一段と向上させることができる。なお、小孔22
1 ,222 ,231 ,232 ,233 が形成される装置
本体1の構成部材としては、側板22,23に限るもの
ではなく、調整仮想光軸及び調整仮想画角ラインと交差
する装置本体1の構成部材であれば何でもよい。Therefore, the small holes 22 1 , 2 are formed in the side plates 22, 23.
By forming 2 2 , 23 1 , 23 2 , and 23 3 , respectively, it becomes unnecessary to dispose the pinholes 13 and 17 on the optical path, and the position of the imaging lens 8 can be adjusted at any time. . As a result, the workability of assembling and dismounting can be further improved. The small hole 22
The constituent members of the device body 1 on which 1 , 22, 2 , 23 1 , 23 2 , 23 3 are formed are not limited to the side plates 22 and 23, but a device that intersects the adjusted virtual optical axis and the adjusted virtual angle of view line. Any constituent member of the main body 1 may be used.
【0076】次に、本発明の第六の実施例を図8に基づ
いて説明する(請求項9記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 8 (corresponding to the invention of claim 9). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0077】結像レンズ8の出射側における装置本体1
の外部には、光束規制部材としてのピンホール24が配
置されている。このピンホール24には、微小開口部と
しての小孔241 ,242 ,243 がT面内に形成され
ている。小孔243 の中心は調整仮想出射画角ラインJ
b上に、小孔242 の中心は調整仮想入射画角ラインJ
a上に、小孔241 の中心は調整仮想出射光軸Jb0 上
にそれぞれ一致している。なお、装置本体1内の結像レ
ンズ8の入射側のベース10上には、小孔171 ,17
2 を有するピンホール17が配置されている。Device body 1 on the exit side of the imaging lens 8
A pinhole 24 as a light flux restricting member is arranged outside the. Small holes 24 1 , 24 2 , 24 3 as minute openings are formed in the pinhole 24 in the T-plane. The center of the small hole 24 3 is the adjusted virtual emission angle line J
b, the center of the small hole 24 2 is adjusted virtual incident angle of view line J
On a, the center of the small hole 24 1 is aligned with the adjusted virtual emission optical axis Jb 0 . The small holes 17 1 and 17 are provided on the base 10 on the incident side of the imaging lens 8 in the apparatus body 1.
A pinhole 17 having 2 is arranged.
【0078】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。一般に、位置調整用のピンホールを装
置本体1の内部に設置しようとすると、取付け及び取外
し作業に時間がかかったり、装置の構造によっては内部
に配置できなかったり、設置できたとしても他の調整に
必要な部品が取付かなくなったり、位置調整後に取外す
ときに結像レンズ8が位置ズレしたりする場合がある。Hereinafter, the reason why the above-mentioned constituent requirements are set will be described. Generally, if a position-adjusting pinhole is to be installed inside the apparatus body 1, it takes time to install and remove it, and depending on the structure of the apparatus, it cannot be placed inside, or even if it can be installed, other adjustments can be made. In some cases, the necessary components may not be attached or the imaging lens 8 may be displaced when it is removed after position adjustment.
【0079】そこで、このような場合、ピンホール24
を少なくとも1個装置本体1の外部に配置することによ
って、ピンホール間隔を広くとることができる。これに
より、高精度な調整を行うことができ、作業時の諸問題
に対処することができる。また、全てのピンホールを装
置本体1の外部に配置すると共に、ピンホール17に代
わるピンホール(図示せず)を装置本体1の外部に設置
することによって、一段と高精度な位置調整を行うこと
ができる。また、これにより、位置調整時に装置本体1
の内部に手を挿入したり、ピンホールの取付け取外し作
業等がなくなるため、作業効率を向上させることができ
る。Therefore, in such a case, the pinhole 24
By arranging at least one of them on the outside of the device body 1, the pinhole interval can be widened. This makes it possible to perform highly accurate adjustments and deal with various problems during work. Further, by arranging all the pinholes outside the apparatus main body 1 and installing pinholes (not shown) in place of the pinholes 17 outside the apparatus main body 1, more highly accurate position adjustment can be performed. You can In addition, this allows the device body 1 to be adjusted during position adjustment.
Since there is no need to insert a hand into the inside of the body or to attach or remove the pinhole, work efficiency can be improved.
【0080】次に、本発明の第七の実施例を図9に基づ
いて説明する(請求項10記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 9 (corresponding to the invention of claim 10). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0081】レーザ光源12a0 ,12aには、波動光
光軸調整手段としての位置調整機構251 ,252 が取
付けられている。この場合、位置調整機構252 は、レ
ーザ光源12aのレーザ光軸Daが結像レンズ8の調整
仮想入射画角ラインJaに一致するように、レーザ光源
12aを微動させる。また、この位置調整機構25
1は、レーザ光源12a0 のレーザ光軸Da0 が結像
レンズ8の調整仮想入射光軸Ja0 に一致するように、
レーザ光源12a0 を微動させる。Position adjusting mechanisms 25 1 and 25 2 as wave light optical axis adjusting means are attached to the laser light sources 12 a 0 and 12 a. In this case, the position adjusting mechanism 25 2, so that the laser beam axis Da of the laser light source 12a matches the adjusted virtual incident angle line Ja of the imaging lens 8, slightly moving the laser light source 12a. In addition, this position adjusting mechanism 25
1, as the laser beam axis Da 0 of the laser light source 12a 0 is equal to the adjusted virtual incident optical axis Ja 0 of the imaging lens 8,
The laser light source 12a 0 is slightly moved.
【0082】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。今、レーザ光源12a0 ,12aが常
に所定位置にあるか否かは大変重要なことであり、何ら
かの理由により位置ズレしてしまった場合には正規の位
置に素早く戻す必要がある。Hereinafter, the reason why the above-mentioned constituent requirements are set will be described. Now, it is very important whether or not the laser light sources 12a 0 , 12a are always at the predetermined positions, and if the laser light sources 12a 0 , 12a are misaligned for some reason, it is necessary to quickly return them to the normal positions.
【0083】そこで、例えばレーザ光軸Daが調整仮想
入射画角ラインJaからズレたような場合でも、位置調
整機構252 を用いてレーザ光源12aを微動させ素早
く調整できるようにした。ここでは、レーザ光源12a
0 ,12aのシフト(X,Y方向)と、傾き(Xθ,Y
θ方向)の調整を行うことができる。具体的には、位置
ズレが生じたとき、結像レンズ8のみを取外し、回折パ
ターンKの位置と形状が元の状態になるように位置調整
機構251 ,252 を用いてレーザ光軸Da0,Daの
調整を行う。Therefore, for example, even when the laser optical axis Da deviates from the adjusted virtual incident field angle line Ja, the position adjusting mechanism 25 2 is used to finely move the laser light source 12a so that the laser light source 12a can be quickly adjusted. Here, the laser light source 12a
0 , 12a shift (X, Y direction) and inclination (Xθ, Y
(θ direction) can be adjusted. Specifically, when the position shift occurs, only the imaging lens 8 is removed, and the laser optical axis Da is adjusted by using the position adjusting mechanisms 25 1 and 25 2 so that the position and shape of the diffraction pattern K return to the original state. Adjust 0 and Da.
【0084】なお、このような位置調整機構251 ,2
52 は、ズレたときの補正だけでなく、結像レンズ8の
組付け作業の初期調整段階で、ピンホール13,17を
基準とし調整仮想入射光軸Ja0 、調整仮想入射画角ラ
インJaにレーザ光軸Da0,Daを一致させるような
場合にも役立たせることができる。また、このようなレ
ーザ光軸Da0 ,Daの調整においても、ピンホール1
3,17の間隔をできるだけ広くとることにより、一段
と高精度な光軸調整を行うことができる。また、ここで
は、調整の必要がなかったため、Z軸方向(光軸方向)
への調整機構は取付けなかったが、作業性の向上などの
必要に応じて付加させてもよい。Incidentally, such position adjusting mechanisms 25 1 , 2
5 2 not only correction when was shifted, the initial adjustment stage of assembling the imaging lens 8, adjust the virtual incident optical axis Ja 0 with respect to the pinhole 13 and 17, adjusting the virtual incident angle line Ja It can also be used in the case where the laser optical axes Da 0 and Da coincide with each other. In addition, even in such adjustment of the laser optical axes Da 0 , Da, the pinhole 1
By making the intervals of 3 and 17 as wide as possible, the optical axis can be adjusted with higher accuracy. In addition, since no adjustment was necessary here, the Z-axis direction (optical axis direction)
Although the adjusting mechanism is not attached to the above, it may be added if necessary for improving workability.
【0085】次に、本発明の第八の実施例を図10に基
づいて説明する(請求項11記載の発明に対応する)。
なお、前記各実施例と同一部分についての説明は省略
し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 10 (corresponding to the invention of claim 11).
It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0086】結像レンズ8の出射側の装置本体1の外部
にはピンホール24が配置されており、このピンホール
24には開口部中心位置調整手段としての位置調整機構
26が取付けられている。この場合、位置調整機構26
は、ピンホール24の小孔242 の中心が結像レンズ8
の調整仮想入射画角ラインJaに一致するように、ピン
ホール24を微動させると共に、ピンホール24の小孔
243 の中心が結像レンズ8の調整仮想出射画角ライン
Jbに一致するように、ピンホール24を微動させる。
また、この位置調整機構26は、ピンホール24の小孔
241 の中心が結像レンズ8の出射光軸Jb0 に一致す
るようにピンホール24を微動させる。A pinhole 24 is arranged outside the apparatus main body 1 on the exit side of the imaging lens 8, and a position adjusting mechanism 26 as an opening center position adjusting means is attached to the pinhole 24. . In this case, the position adjustment mechanism 26
Is located at the center of the small hole 24 2 of the pinhole 24.
The pinhole 24 is finely moved so as to coincide with the adjusted virtual incident view angle line Ja of, and the center of the small hole 24 3 of the pinhole 24 coincides with the adjusted virtual exit view angle line Jb of the imaging lens 8. , The pinhole 24 is finely moved.
Further, the position adjusting mechanism 26 finely moves the pinhole 24 so that the center of the small hole 24 1 of the pinhole 24 coincides with the emission optical axis Jb 0 of the imaging lens 8.
【0087】以下、上述したような構成要件とした理由
について述べる。今、装置本体1の内部に設けられるピ
ンホール13,17は、例えば前述したようなピン18
1 ,182 (図6参照)を用いることによって、簡単に
位置決め調整を行うことができる。しかし、装置本体1
の外部に配置されるピンホール24を無調整で位置決め
することは困難であり、精度的にも問題がある。The reason why the above-mentioned constituent requirements are set will be described below. Now, the pinholes 13 and 17 provided inside the apparatus body 1 are, for example, the pins 18 as described above.
The positioning adjustment can be easily performed by using 1 , 18 2 (see FIG. 6). However, the device body 1
It is difficult to position the pinhole 24 arranged outside the device without adjustment, and there is a problem in accuracy.
【0088】そこで、位置調整機構26を用いてピンホ
ール24の位置を調整できるようにした。ここでは、ピ
ンホール24はシフト(X,Y方向)のみが調整できる
ようになっている。このピンホール24の微動調整によ
って、ピンホール13,17だけを配置した場合に生じ
る基準の回折パターンKと、ピンホール24を付加配置
したときの回折パターンKとを一致させることができ
る。従って、このように位置調整機構26を用いてピン
ホール24の調整を行うことによって、調整作業が容易
となり、簡単に高精度な位置決めを行うことができる。
また、位置調整機構26はシフトのみの調整としたが、
必要に応じて傾き(Xθ,Yθ)の調整も行えるように
してもよい。さらに、位置調整機構26により装置本体
1の外部における調整だけでなく、装置本体1内部に設
置されるピンホール13,17を調整するようにしても
よい。Therefore, the position of the pinhole 24 can be adjusted by using the position adjusting mechanism 26. Here, the pinhole 24 can be adjusted only in the shift (X and Y directions). By finely adjusting the pinhole 24, it is possible to match the reference diffraction pattern K generated when only the pinholes 13 and 17 are arranged with the diffraction pattern K when the pinhole 24 is additionally arranged. Therefore, by adjusting the pinhole 24 using the position adjusting mechanism 26 in this manner, the adjustment work is facilitated, and highly accurate positioning can be performed easily.
Further, although the position adjusting mechanism 26 is adjusted only by shifting,
The inclination (Xθ, Yθ) may be adjusted if necessary. Further, the position adjusting mechanism 26 may adjust not only the outside of the apparatus main body 1 but also the pinholes 13 and 17 installed inside the apparatus main body 1.
【0089】なお、これまで述べてきた全ての実施例で
は、光束規制部材(ピンホール13,16,17,2
2,23,24)の微小開口部を円形(小孔14a0 ,
14a,161 ,162 ,163 ,171 ,172 ,2
21 ,222 ,231 ,232,233 ,241 ,242 ,
243 )としたが、この形状に限るものではなく、例え
ば、縦長又は横長のスリットや矩形状のものであっても
よい。また、微小開口部、例えば、ピンホール24では
小孔を計5箇所に設け一体としたが、必要に応じて小孔
のグループ毎に分割してもよいし、小孔毎にピンホール
24を5分割化して構成してもよい。また、結像レンズ
8の位置調整方法としては、結像レンズ8のレンズ光軸
C、入射画角ラインHa,Hc、出射画角ラインHb,
Hdを、調整仮想入射光軸Ja0 、調整仮想入射光軸J
b0 、調整仮想入射画角ラインJa、調整仮想出射画角
ラインJbに全て厳格に一致させるようなやり方である
が、その一致させる精度の割合は装置自体の性能、仕様
等によって決められるものであり、必ずしも厳格に設定
する必要はない。また、位置調整用の光学部材の配置位
置を、各実施例とは反対の位置(結像レンズ8の入射側
と射出側に配置した位置とは逆の位置)に設置しても同
様な調整を行うことができる。さらに、回折パターンK
を用いた結像レンズ8の位置調整方法は、原稿読取装置
に限定されるものではなく、結像レンズ8を備えた高品
位、高精度な装置に適用できる。In all the embodiments described so far, the light flux regulating member (pinholes 13, 16, 17, 2).
2, 23, 24) are circular (small holes 14a 0 ,
14a, 16 1 , 16 2 , 16 3 , 17 1 , 17 2 , 2
2 1 , 22 2 , 23 1 , 23 2 , 23 3 , 24 1 , 24 2 ,
Was 24 3) is not limited to this shape, for example, it may be of portrait or landscape slit or a rectangular shape. Further, the small openings, for example, the pinholes 24, are provided with small holes at a total of 5 locations, but they may be divided into groups of small holes as needed, or the pinholes 24 may be formed for each small hole. It may be divided into five parts. Further, as a method of adjusting the position of the imaging lens 8, the lens optical axis C of the imaging lens 8, the incident field angle lines Ha and Hc, the exit field angle line Hb,
Hd is adjusted virtual incident optical axis Ja 0 , adjusted virtual incident optical axis J
b 0 , the adjusted virtual incident angle of view line Ja, and the adjusted virtual outgoing angle of view line Jb are all strictly matched. Yes, there is no need to set it strictly. Also, the same adjustment can be performed by disposing the position adjusting optical member at a position opposite to that of each embodiment (a position opposite to the position on the entrance side and the exit side of the imaging lens 8). It can be performed. Furthermore, the diffraction pattern K
The method of adjusting the position of the imaging lens 8 using is not limited to the document reading device, but can be applied to a high-quality and highly accurate device including the imaging lens 8.
【0090】[0090]
【発明の効果】請求項1記載の発明は、波動光照明手段
と、光束を規制する微小開口部を有する第一の光束規制
部材とをタンデンシャル面内における結像レンズの有効
光束の調整仮想画角ライン上に配置させると共に、微小
開口部を有する少なくとも1つの第二の光束規制部材を
タンデンシャル面内における結像レンズの有効光束の調
整仮想画角ライン上に配置させ、これら少なくとも2つ
の光束規制部材により発生した回折パターンをパターン
表示手段に表示し、それら表示された回折パターンが互
いに一致するように組付調整を行うようにしたので、結
像レンズを装置本体に組付ける前の段階における各部材
の移動調整を一段と簡単にかつ高精度に行うことができ
る。また、結像レンズを装置本体の所定位置に設置して
結像レンズ調整手段を用いて調整する場合においても、
単に回折パターンを一致させることによって、一段と簡
単でかつ高精度な位置調整を行うことができる。これに
より、タンデンシャル面内における結像レンズの有効光
束の画角ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置
に一致させる精度を格段に向上させることができ、実際
の原稿読取り時における読取り光束の画角ラインが結像
レンズの画角ラインに対してズレるようなことがなくな
り、結像性能を一段と高め、画質がより高品位な原稿読
取装置を提供することができる。According to the first aspect of the present invention, the effective light flux of the imaging lens in the tangential plane is adjusted by the wave light illuminating means and the first light flux regulating member having a minute aperture for regulating the light flux. The at least one second light flux regulating member having a minute opening is arranged on the angle-of-view line, and is arranged on the adjustment virtual angle-of-view line of the effective light flux of the imaging lens in the tangential plane. The diffraction pattern generated by the light flux regulating member is displayed on the pattern display means, and the assembling adjustment is performed so that the displayed diffraction patterns match each other. The movement adjustment of each member can be performed more easily and highly accurately. Also, when the imaging lens is installed at a predetermined position of the apparatus main body and adjustment is performed using the imaging lens adjusting means,
By simply matching the diffraction patterns, the position adjustment can be performed more easily and with higher accuracy. As a result, the accuracy of matching the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens in the tangential plane with the adjusted virtual angle of view line, that is, the design position can be significantly improved, and the image of the read light flux during actual document reading can be improved. The angle line does not deviate from the angle-of-view line of the imaging lens, the imaging performance is further enhanced, and a document reading apparatus with higher image quality can be provided.
【0091】請求項2記載の発明は、波動光照明手段
と、光束を規制する微小開口部を有する第一の光束規制
部材とをラジアル面内における結像レンズの有効光束の
調整仮想画角ライン上に配置させると共に、微小開口部
を有する少なくとも1つの第二の光束規制部材をラジア
ル面内における結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラ
イン上に配置させ、これら少なくとも2つの光束規制部
材により発生した回折パターンをパターン表示手段に表
示し、それら表示された回折パターンが互いに一致する
ように組付調整を行うようにしたので、結像レンズを装
置本体に組付ける前の段階における各部材の移動調整を
一段と簡単にかつ高精度に行うことができる。また、結
像レンズを装置本体の所定位置に設置して結像レンズ調
整手段を用いて調整する場合においても、単に回折パタ
ーンを一致させることによって、一段と簡単でかつ高精
度な位置調整を行うことができる。これにより、ラジア
ル面内における結像レンズの有効光束の画角ラインを調
整仮想画角ラインすなわち設計位置に一致させる精度を
格段に向上させることができ、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束の画角ラインが結像レンズの画角ライン
に対してズレるようなことがなくなり、結像性能を一段
と高め、画質がより高品位な原稿読取装置を提供するこ
とができる。According to a second aspect of the present invention, the undulating light illuminating means and the first light flux restricting member having a minute aperture for restricting the light flux are used to adjust the effective light flux of the imaging lens in the radial plane. At least one second light flux restricting member having a minute opening is disposed on the adjustment virtual angle of view line of the effective light flux of the imaging lens in the radial plane, and these at least two light flux restricting members are provided. The generated diffraction pattern is displayed on the pattern display means, and the assembly adjustment is performed so that the displayed diffraction patterns match each other. Movement adjustment can be performed more easily and with high accuracy. Further, even when the imaging lens is installed at a predetermined position of the apparatus main body and is adjusted using the imaging lens adjusting means, the position adjustment can be performed more simply and with high accuracy by simply matching the diffraction patterns. You can As a result, it is possible to significantly improve the accuracy of matching the effective angle of view line of the imaging lens in the radial plane with the adjusted virtual angle of view line, that is, the design position. It is possible to provide a document reading device with higher image quality by further preventing the line from deviating from the line of view of the image forming lens and further improving the image forming performance.
【0092】請求項3記載の発明は、波動光照明手段
と、光束を規制する微小開口部を有する第一の光束規制
部材とをタンデンシャル面及びラジアル面内における結
像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配置させ
ると共に、微小開口部を有する少なくとも1つの第二の
光束規制部材をタンデンシャル面及びラジアル面内にお
ける結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配
置させ、これら少なくとも2つの光束規制部材により発
生した回折パターンをパターン表示手段に表示し、それ
ら表示された回折パターンが互いに一致するように組付
調整を行うようにしたので、結像レンズを装置本体に組
付ける前の段階における各部材の移動調整を一段と簡単
にかつ高精度に行うことができる。また、結像レンズを
装置本体の所定位置に設置して結像レンズ調整手段を用
いて調整する場合においても、単に回折パターンを一致
させることによって、一段と簡単でかつ高精度な位置調
整を行うことができる。これにより、タンデンシャル面
及びラジアル面内における結像レンズの有効光束の画角
ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置に一致さ
せる精度を格段に向上させることができ、実際の原稿読
取り時における読取り光束の画角ラインが結像レンズの
画角ラインに対してズレるようなことがなくなり、結像
性能を一段と高め、画質がより高品位な原稿読取装置を
提供することができる。According to a third aspect of the present invention, the effective light flux of the imaging lens is adjusted in the tangential surface and the radial surface by the wave light illuminating means and the first light flux regulating member having the minute aperture for regulating the light flux. While arranging on the virtual view angle line, at least one second light flux regulating member having a minute opening is arranged on the virtual view angle line for adjusting the effective light flux of the imaging lens in the tangential surface and the radial surface. The diffraction patterns generated by these at least two light flux regulating members are displayed on the pattern display means, and the assembling adjustment is performed so that the displayed diffraction patterns match each other. The movement adjustment of each member in the stage before attachment can be performed more easily and highly accurately. Further, even when the imaging lens is installed at a predetermined position of the apparatus main body and is adjusted using the imaging lens adjusting means, the position adjustment can be performed more simply and with high accuracy by simply matching the diffraction patterns. You can As a result, it is possible to remarkably improve the accuracy of matching the angle-of-view line of the effective light flux of the imaging lens in the tangential surface and the radial surface with the adjusted virtual angle-of-view line, that is, the design position, and reading during actual reading It is possible to provide a document reading apparatus with higher image quality, because the angle of view line of the light flux does not deviate from the angle of view line of the imaging lens, the imaging performance is further improved.
【0093】請求項4記載の発明は、波動光照明手段と
光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材とを、
結像レンズの調整仮想光軸上に配置させ、これにより発
生した回折パターンをパターン表示手段に表示させ、そ
の表示された回折パターンをもとに結像レンズ調整手段
を用いて結像レンズの位置を調整することによって、結
像レンズを調整仮想画角ライン上及び調整仮想光軸上に
介在させたときの回折パターンと介在させないときの回
折パターンとを一致させるようにしたので、結像レンズ
のレンズ光軸を調整仮想光軸すなわち設計位置に一致さ
せることができ、これにより、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束の光軸も結像レンズのレンズ光軸に対し
てズレるようなことがなくなるため、結像性能をより一
段と高めることができる。According to a fourth aspect of the present invention, the wave light illuminating means and the light flux regulating member having a minute opening for regulating the light flux are provided,
Adjustment of the imaging lens It is arranged on the virtual optical axis, the diffraction pattern generated thereby is displayed on the pattern display means, and the position of the imaging lens is adjusted by using the imaging lens adjustment means based on the displayed diffraction pattern. Is adjusted so that the diffraction pattern when the imaging lens is interposed on the adjusted virtual angle-of-view line and the adjusted virtual optical axis is made to coincide with the diffraction pattern when not interposed. The optical axis of the lens can be made to coincide with the adjusted virtual optical axis, that is, the designed position, so that the optical axis of the reading light flux at the time of actually reading the original does not deviate from the lens optical axis of the imaging lens. The imaging performance can be further improved.
【0094】請求項5記載の発明は、結像レンズの入出
射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と同じ側の
調整仮想光軸上に光束規制部材を配置して回折パターン
による結像レンズの光軸調整を行うようにしたので、光
軸調整の基準となる波動光照明手段の位置を常にチェッ
クすることができ、これにより、結像レンズの光軸調整
を高精度にしかもバラツキなく安定して行うことができ
る。According to a fifth aspect of the present invention, a light flux regulating member is arranged on the adjusted virtual optical axis on the same side as the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens, and a diffraction pattern is used. Since the optical axis of the imaging lens is adjusted, it is possible to always check the position of the wave light illuminating means, which serves as a reference for the optical axis adjustment. This allows the optical axis of the imaging lens to be adjusted with high accuracy. It can be performed stably without variation.
【0095】請求項6記載の発明は、結像レンズの略像
面位置又はその像面距離と略等しい位置に少なくとも1
つの光束規制部材を配置して結像レンズの画角ライン調
整を行うようにしたので、結像レンズのわずかな画角ズ
レを許容するような装置に適応した調整を行うことがで
き、必要以上の調整が不要となり、これにより、個々の
装置に対して最適な品位性能を最適なコストで提供する
ことができる。According to a sixth aspect of the present invention, at least 1 is provided at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens or its image plane distance.
Since two light flux regulating members are arranged to adjust the angle of view line of the imaging lens, it is possible to make adjustments suitable for a device that allows a slight angle of view deviation of the imaging lens. Therefore, it is possible to provide the optimum quality performance for each device at the optimum cost.
【0096】請求項7記載の発明は、位置決め手段を用
いて少なくとも2つの光束規制部材で形成される各微小
開口部の中心を結ぶ線を結像レンズの調整仮想画角ライ
ンに一致又は略一致させるようにしたので、画角ライン
調整の基準となる調整仮想画角ラインを簡単にしかも高
精度に設定できると共に実際に目に見える状態とするこ
とができ、これにより、結像レンズの画角ライン調整の
高精度化及び位置決め調整の作業効率化を図ることがで
きる。According to a seventh aspect of the invention, a line connecting the centers of the respective minute apertures formed by at least two light flux regulating members using the positioning means is matched or substantially matched with the adjusted virtual angle of view line of the imaging lens. Since the adjustment virtual angle-of-view line, which is the reference of the angle-of-view line adjustment, can be set easily and with high accuracy, and can be made visible actually. The precision of line adjustment and the work efficiency of positioning adjustment can be improved.
【0097】請求項8記載の発明は、回折パターンを発
生させる微小開口部を装置本体に形成して結像レンズの
画角ライン調整を行うようにしたので、光束規制部材を
本体内部に設置することなしにいつでも結像レンズの画
角ライン調整やその調整後の画角チェック等を簡単に行
うことができ、これにより、画角ライン調整の作業効率
化を図ることができると共に、装置のメンテナンス性や
信頼性を向上させることができる。According to the eighth aspect of the invention, since the minute opening for generating the diffraction pattern is formed in the apparatus main body to adjust the angle of view line of the imaging lens, the light flux regulating member is installed inside the main body. It is possible to easily adjust the angle of view of the imaging lens and check the angle of view after adjustment, at any time without having to worry about it. This makes it possible to improve the work efficiency of adjusting the angle of view and to maintain the device. The reliability and reliability can be improved.
【0098】請求項9記載の発明は、光束規制部材を装
置本体外部に配設して結像レンズの画角ライン調整を行
うようにしたので、光束規制部材を装置本体内部に組付
ける場合に比べて作業効率を大幅に向上させることがで
き、また、複数個の光束規制部材を配設するような場合
においても設置間隔を広くとることができるため、結像
レンズの画角ライン調整を一段と高精度に行うことがで
きる。According to the ninth aspect of the present invention, the light flux regulating member is arranged outside the main body of the apparatus to adjust the field angle line of the imaging lens. Therefore, when the light flux regulating member is assembled inside the main body of the apparatus. Compared with this, the working efficiency can be significantly improved, and the installation interval can be widened even when a plurality of light flux regulating members are arranged, so that the field angle line of the imaging lens can be adjusted further. It can be performed with high precision.
【0099】請求項10記載の発明は、波動光照明手段
から発せられる光束の光軸を結像レンズの調整仮想画角
ラインに一致又は略一致させるように、波動光光軸調整
手段を用いて波動光照明手段の光束の光軸を調整するよ
うにしたので、波動光照明手段の位置設定や、設定位置
からズレた時などに素早くしかも高精度に対応させるこ
とができ、これにより、結像レンズの画角ライン調整の
高精度化及び作業の効率化を一段と図ることができる。According to the tenth aspect of the present invention, the wave light optical axis adjusting means is used so that the light axis of the light beam emitted from the wave light illuminating means coincides or substantially coincides with the adjustment virtual angle of view line of the imaging lens. Since the optical axis of the luminous flux of the wave light illumination means is adjusted, it is possible to quickly and highly accurately respond to the position setting of the wave light illumination means or when the position is displaced from the set position. It is possible to further improve the accuracy of adjusting the angle of view line of the lens and the efficiency of the work.
【0100】請求項11記載の発明は、微小開口部の中
心位置を結像レンズの調整仮想画角ラインに一致又は略
一致させるように、開口部中心位置調整手段を用いて微
小開口部の中心位置を調整するようにしたので、その中
心位置調整が容易で簡単に高精度な位置決めを行うこと
ができ、これにより、結像レンズの画角ライン調整の高
精度化及び作業の効率化を一段と図ることができる。According to the eleventh aspect of the invention, the center of the minute opening is adjusted by using the opening center position adjusting means so that the center position of the minute opening coincides with or substantially coincides with the adjusted virtual angle of view line of the imaging lens. Since the position is adjusted, the center position can be easily adjusted, and high-precision positioning can be performed easily, which further improves the accuracy of the angle-of-view line adjustment of the imaging lens and the work efficiency. Can be planned.
【0101】請求項12記載の発明は、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面内において、第一の光束規
制部材を装置本体内部に配置させ、第二の光束規制部材
を装置本体内部又は外部に配置させた状態で、第一〜第
四の位置調整工程に従って順次回折パターンを用いた結
像レンズの位置調整を行うようにしたので、位置調整作
業をスムーズにかつ効率的に行え、所望とする位置精度
を容易に誰でも達成することができ、これにより、作業
が簡単でさらに高精度な結像レンズの位置調整方法を実
現することができる。According to the twelfth aspect of the invention, the first light flux regulating member is arranged inside the apparatus body and the second light flux regulating member is arranged inside the apparatus body in the tangential surface of the optical system including the imaging lens. Since the position of the imaging lens is sequentially adjusted by using the diffraction patterns according to the first to fourth position adjusting steps in the state of being arranged outside, the position adjusting work can be performed smoothly and efficiently. It is possible for anyone to easily achieve the above-mentioned position accuracy, which makes it possible to realize a highly accurate position adjustment method for the imaging lens that is easy to perform.
【0102】請求項13記載の発明は、結像レンズを含
む光学系のラジアル面内において、第一の光束規制部材
を装置本体内部に配置させ、第二の光束規制部材を装置
本体内部又は外部に配置させた状態で、第一〜第四の位
置調整工程に従って順次回折パターンを用いた結像レン
ズの位置調整を行うようにしたので、位置調整作業をス
ムーズにかつ効率的に行え、所望とする位置精度を容易
に誰でも達成することができ、これにより、作業が簡単
でさらに高精度な結像レンズの位置調整方法を実現する
ことができる。According to a thirteenth aspect of the present invention, the first light flux regulating member is arranged inside the apparatus body and the second light flux regulating member is arranged inside or outside the apparatus body within the radial plane of the optical system including the imaging lens. Since the position adjustment of the imaging lens using the diffraction patterns is sequentially performed according to the first to fourth position adjustment steps in the state of being arranged in the position, the position adjustment work can be performed smoothly and efficiently, Anyone can easily achieve the required position accuracy, which makes it possible to realize a highly accurate method of adjusting the position of the imaging lens that is easy to perform.
【0103】請求項14記載の発明は、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面内におい
て、第一の光束規制部材を装置本体内部に配置させ、第
二の光束規制部材を装置本体内部又は外部に配置させた
状態で、第一〜第四の位置調整工程に従って順次回折パ
ターンを用いた結像レンズの位置調整を行うようにした
ので、位置調整作業をスムーズにかつ効率的に行え、所
望とする位置精度を容易に誰でも達成することができ、
これにより、作業が簡単でさらに高精度な結像レンズの
位置調整方法を実現することができる。In the fourteenth aspect of the present invention, the first light flux regulating member is arranged inside the main body of the apparatus, and the second light flux regulating member is arranged in the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens. Since the position of the imaging lens is sequentially adjusted using the diffraction patterns according to the first to fourth position adjusting steps in the state of being arranged inside or outside the main body, the position adjusting work can be performed smoothly and efficiently. Anyone can easily achieve the desired position accuracy,
As a result, it is possible to realize a highly accurate method of adjusting the position of the imaging lens, which is simple in work.
【0104】請求項15記載の発明は、波動光照明手段
と、少なくとも2つの光束規制部材と、パターン表示手
段と、結像レンズ調整手段とによって構成された結像レ
ンズ位置調整装置を用いてタンデンシャル面内で結像レ
ンズの位置調整を行うようにしたので、結像レンズを装
置本体に組付け前・組付け後の段階における各部材の移
動調整を一段と簡単にかつ高精度に行うことができ、こ
れにより、タンデンシャル面内における結像レンズの有
効光束の画角ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計
位置に一致させる精度を格段に向上させることができ、
実際の原稿読取り時における読取り光束の画角ラインの
ズレをなくし、結像性能を一段と高めることができる。According to the fifteenth aspect of the present invention, the image forming lens position adjusting device including the wave light illuminating means, at least two light flux regulating members, the pattern displaying means, and the image forming lens adjusting means is used. Since the position of the imaging lens is adjusted within the dential plane, it is possible to more easily and highly accurately adjust the movement of each member before and after the assembly of the imaging lens into the apparatus body. This makes it possible to significantly improve the accuracy of matching the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens in the tangential plane with the adjusted virtual angle of view line, that is, the design position,
It is possible to further improve the imaging performance by eliminating the deviation of the angle of view line of the read light flux during the actual document reading.
【0105】請求項16記載の発明は、波動光照明手段
と、少なくとも2つの光束規制部材と、パターン表示手
段と、結像レンズ調整手段とによって構成された結像レ
ンズ位置調整装置を用いてラジアル面内で結像レンズの
位置調整を行うようにしたので、結像レンズを装置本体
に組付け前・組付け後の段階における各部材の移動調整
を一段と簡単にかつ高精度に行うことができ、これによ
り、ラジアル面内における結像レンズの有効光束の画角
ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置に一致さ
せる精度を格段に向上させることができ、実際の原稿読
取り時における読取り光束の画角ラインのズレをなく
し、結像性能を一段と高めることができる。According to a sixteenth aspect of the present invention, a radial arrangement is provided by using an image-forming lens position adjusting device including a wave light illuminating means, at least two light flux regulating members, a pattern display means, and an image-forming lens adjusting means. Since the position of the imaging lens is adjusted within the plane, it is possible to more easily and highly accurately adjust the movement of each member before and after assembling the imaging lens into the apparatus body. Thus, the accuracy of matching the angle of view line of the effective light flux of the imaging lens in the radial plane with the adjusted virtual angle of view line, that is, the design position can be significantly improved, and the image of the read light flux during actual document reading can be improved. It is possible to further improve the imaging performance by eliminating the deviation of the angle line.
【0106】請求項17記載の発明は、波動光照明手段
と、少なくとも2つの光束規制部材と、パターン表示手
段と、結像レンズ調整手段とによって構成された結像レ
ンズ位置調整装置を用いてタンデンシャル面及びラジア
ル面内で結像レンズの位置調整を行うようにしたので、
結像レンズを装置本体に組付け前・組付け後の段階にお
ける各部材の移動調整を一段と簡単にかつ高精度に行う
ことができ、これにより、タンデンシャル面及びラジア
ル面内における結像レンズの有効光束の画角ラインを調
整仮想画角ラインすなわち設計位置に一致させる精度を
格段に向上させることができ、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束の画角ラインのズレをなくし、結像性能
を一段と高めることができる。According to a seventeenth aspect of the present invention, the image forming lens position adjusting device including the wave light illuminating means, at least two light flux regulating members, the pattern displaying means, and the image forming lens adjusting means is used. Since the position of the imaging lens is adjusted in the dential surface and the radial surface,
It is possible to more easily and highly accurately adjust the movement of each member before and after the assembling of the imaging lens into the apparatus main body, which allows the imaging lens in the tangential surface and the radial surface to be adjusted. The angle of view line of the effective light flux is adjusted. The precision of matching the virtual angle of view line, that is, the design position, can be significantly improved. Can be increased.
【図1】本発明の第一の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見た平
面図である。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface.
【図2】(a)は結像レンズをT面から見た平面図、
(b)は結像レンズをR面から見た側面図である。FIG. 2A is a plan view of the imaging lens viewed from the T surface,
(B) is a side view of the imaging lens as viewed from the R surface.
【図3】(a)は同心円状の正常な回折パターンを示す
模式図、(b)は非対称な回折パターンを示す模式図で
ある。3A is a schematic diagram showing a normal concentric diffraction pattern, and FIG. 3B is a schematic diagram showing an asymmetric diffraction pattern.
【図4】本発明の第二及び第三の実施例を示すものであ
り、(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見
た平面図である。4A and 4B show second and third embodiments of the present invention, in which FIG. 4A is a side view seen from the R plane, and FIG. 4B is a plan view seen from the T plane.
【図5】本発明の第二の実施例の変形例を示すものであ
り、(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見
た平面図である。FIG. 5 shows a modified example of the second embodiment of the present invention, (a) is a side view seen from the R plane, and (b) is a plan view seen from the T plane.
【図6】本発明の第四の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はベース面をT面
から見た平面図である。FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface of the base surface.
【図7】本発明の第五の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見た平
面図である。FIG. 7 shows a fifth embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface.
【図8】本発明の第六の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見た平
面図である。FIG. 8 shows a sixth embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface.
【図9】本発明の第七の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見た平
面図である。FIG. 9 shows a seventh embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface.
【図10】本発明の第八の実施例を示すものであり、
(a)はR面から見た側面図、(b)はT面から見た平
面図である。FIG. 10 shows an eighth embodiment of the present invention,
(A) is a side view seen from the R surface, and (b) is a plan view seen from the T surface.
【図11】原稿読取装置の読取光学系を示す側面図であ
る。FIG. 11 is a side view showing a reading optical system of the document reading device.
2 照明手段 4 原稿 8 結像レンズ 9 受光手段 13 第一の光束規制部
材 14a,14a0 微小開口部 15 パターン表示手段 16 第二の光束規制部
材 161〜163 微小開口部 17 第二の光束規制部
材 171〜173 微小開口部 181,182 位置決め手段 22 装置本体側板 221,222 微小開口部 23 装置本体側板 231〜233 微小開口部 24 第二の光束規制部
材 241〜243 微小開口部 251,252 波動光光軸調整手
段 26 開口部中心位置調
整手段 Ja,Jb 調整仮想画角ライ
ン Ja0,Jb0 調整仮想光軸 T タンデンシャル面 R ラジアル面2 Illuminating means 4 Original document 8 Imaging lens 9 Light receiving means 13 First light flux regulating member 14a, 14a 0 Micro aperture 15 Pattern display means 16 Second light flux regulating members 16 1 to 16 3 Micro aperture 17 17 Second light flux Regulation member 17 1 to 17 3 Micro opening 18 1 and 18 2 Positioning means 22 Device body side plate 22 1 and 22 2 Micro aperture 23 Device body side plate 23 1 to 23 3 Micro aperture 24 Second light flux regulating member 24 1 -24 3 Micro apertures 25 1 and 25 2 Wave optical axis adjusting means 26 Aperture center position adjusting means Ja and Jb Adjusting virtual angle of view lines Ja 0 and Jb 0 Adjusting virtual optical axis T Tandem surface R Radial surface
Claims (17)
により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のタ
ンデンシャル面内でかつその結像レンズの入出射の何れ
か一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光を
発する波動光照明手段を配設し、前記結像レンズを挾ん
で前記波動光照明手段とは反対側の前記タンデンシャル
面内でかつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラ
イン上に前記波動光照明手段から発せられた前記波動光
を規制する微小開口部を有する第一の光束規制部材を配
設し、前記結像レンズの入出射の何れか一方側に配置し
た前記波動光照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想
画角ライン上に前記波動光を規制する微小開口部を有す
る第二の光束規制部材を少なくとも1個配設し、前記第
一及び第二の光束規制部材により発生した回折パターン
を受光して表示するパターン表示手段を設け、入射光束
に対する前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調
整手段を設けたことを特徴とする原稿読取装置。1. A document is illuminated by an illuminating means, a light flux containing read information of the document is guided to an imaging lens by this illumination, and the light flux imaged by the imaging lens is focused on a light receiving means. In the document reading device for reading the read information of the document by the adjustment virtual field angle line of the effective luminous flux in the tangential plane of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. An undulating light illuminating means for emitting undulating light is arranged in the tandem plane opposite to the undulating light illuminating means across the imaging lens, and an effective virtual beam angle of view of the imaging lens is adjusted. The first light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illuminating means is arranged on a line, and the first light flux restricting member is arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Wave light lighting hand Adjustment of effective luminous flux on the side opposite to the step At least one second luminous flux regulating member having a minute opening for regulating the undulating light is disposed on the virtual field angle line, and the first and second luminous flux regulation An original reading apparatus comprising: a pattern display unit for receiving and displaying a diffraction pattern generated by a member, and an imaging lens adjusting unit for adjusting a position of the imaging lens with respect to an incident light beam.
により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のラ
ジアル面内でかつその結像レンズの入出射の何れか一方
側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光を発する
波動光照明手段を配設し、前記結像レンズを挾んで前記
波動光照明手段とは反対側の前記ラジアル面内でかつ前
記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に前記
波動光照明手段から発せられた前記波動光を規制する微
小開口部を有する第一の光束規制部材を配設し、前記結
像レンズの入出射の何れか一方側に配置した前記波動光
照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想画角ライン上
に前記波動光を規制する微小開口部を有する第二の光束
規制部材を少なくとも1個配設し、前記第一及び第二の
光束規制部材により発生した回折パターンを受光して表
示するパターン表示手段を設け、入射光束に対する前記
結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段を設け
たことを特徴とする原稿読取装置。2. An original document is illuminated by illumination means, a light flux containing read information of the original document is guided to the imaging lens by this illumination, and the light flux imaged by the imaging lens is imaged on the light receiving means. In the document reading device for reading the read information of the document, the effective light flux adjustment virtual line angle line on the radial plane of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. A wave light illuminating means for emitting wave light is disposed, and the effective light flux of the image forming lens is adjusted on the virtual angle line in the radial plane opposite to the wave light illuminating means across the image forming lens. Is provided with a first light flux regulating member having a minute opening for regulating the wave light emitted from the wave light illumination means, and the wave light is arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Opposite to lighting means Of at least one second light flux regulating member having a minute opening for regulating the wave light is arranged on the virtual angle of view line, and diffraction generated by the first and second light flux regulating members An original reading apparatus comprising: a pattern display means for receiving and displaying a pattern, and an imaging lens adjusting means for adjusting a position of the imaging lens with respect to an incident light beam.
により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のタ
ンデンシャル面及びラジアル面の各面内でかつその結像
レンズの入出射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画
角ライン上に波動光を発する波動光照明手段を各々配設
し、前記結像レンズを挾んで前記各波動光照明手段とは
反対側の前記タンデンシャル面及びラジアル面の各面内
でかつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン
上に前記波動光照明手段から発せられた前記波動光を規
制する微小開口部を有する第一の光束規制部材を各々配
設し、前記結像レンズの入出射の何れか一方側に配置し
た前記波動光照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想
画角ライン上に前記波動光を規制する微小開口部を有す
る第二の光束規制部材を少なくとも1個配設し、前記第
一及び第二の光束規制部材により発生した回折パターン
を受光して表示するパターン表示手段を設け、入射光束
に対する前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調
整手段を設けたことを特徴とする原稿読取装置。3. An original document is illuminated by an illuminating means, a light flux containing read information of the original document is guided to the imaging lens by this illumination, and the luminous flux imaged by the imaging lens is imaged on the light receiving means. In the document reading apparatus for reading the read information of the document by means of the effective light flux on each of the tangential surface and the radial surface of the optical system including the imaging lens and on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Wave light illuminating means for emitting wave light are respectively arranged on the adjusted virtual angle of view lines, and each of the tangential surface and the radial surface on the side opposite to the wave light illuminating means is sandwiched between the imaging lenses. And a first light flux regulating member each having a minute opening for regulating the undulating light emitted from the undulating light illuminating means on the adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the imaging lens, Imaging lens A second light flux regulating member having a minute opening portion for regulating the wave light on the virtual line of view for adjusting the effective light flux on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the light. At least one is provided and pattern display means for receiving and displaying the diffraction pattern generated by the first and second light flux regulating members is provided, and the position of the imaging lens with respect to the incident light flux is adjusted. A document reading device, characterized in that a means is provided.
整仮想光軸上に波動光を発する波動光照明手段を配設
し、前記結像レンズを挾んで前記波動光照明手段とは反
対側の前記結像レンズの調整仮想光軸上に前記波動光照
明手段から発せられた前記波動光を規制する微小開口部
を有する光束規制部材を配設したことを特徴とする請求
項1,2又は3記載の原稿読取装置。4. A wave light illuminating means for emitting wave light is arranged on an adjusted virtual optical axis on either side of the entrance and exit of the image forming lens, and the wave light illuminating means is placed across the image forming lens. 2. A light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illuminating means is arranged on the adjusted virtual optical axis of the imaging lens on the opposite side. The document reading device described in 2 or 3.
何れか一方側に配設した波動光照明手段と同じ側の有効
光束の調整仮想画角ライン上に配設したことを特徴とす
る請求項1,2,3又は4記載の原稿読取装置。5. A light flux regulating member is disposed on an adjusted virtual angle-of-view line of the effective light flux on the same side as the wave light illumination means disposed on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The document reading device according to claim 1, 2, 3, or 4.
レンズの略像面位置又はその像面距離と略等しい位置に
配設したことを特徴とする請求項1,2,3,4又は5
記載の原稿読取装置。6. The at least one light flux regulating member is arranged at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens or the image plane distance thereof, 1, 2, 3, 4 or 5.
The document reading device described.
れる各微小開口部の中心を結ぶ線と結像レンズの有効光
束の調整仮想画角ラインとを一致又は略一致させる位置
決め手段を、装置本体に取付けたことを特徴とする請求
項1,2,3,4,5又は6記載の原稿読取装置。7. A positioning means for matching or substantially matching a line connecting the centers of the minute apertures formed by at least two light flux regulating members with an adjusted virtual angle of view line of the effective light flux of the imaging lens, the apparatus main body. 7. The document reading device according to claim 1, wherein the document reading device is attached to the document reading device.
小開口部を、結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライ
ンと交差する位置の装置本体に形成したことを特徴とす
る請求項1,2,3,4,5又は6記載の原稿読取装
置。8. A micro-aperture for restricting the luminous flux from the wave light illuminating means is formed in the main body of the apparatus at a position intersecting the adjusted virtual angle-of-view line of the effective luminous flux of the imaging lens. , 2, 3, 4, 5 or 6 document reading device.
レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上でかつ装置本
体外部の位置に配設したことを特徴とする請求項1,
2,3,4,5又は6記載の原稿読取装置。9. The at least one light flux regulating member is arranged at a position outside the main body of the apparatus on the virtual line of view for adjusting the effective light flux of the imaging lens.
The document reading device described in 2, 3, 4, 5 or 6.
ラインと、微小開口部を通過する波動光照明手段の光束
の光軸とが一致又は略一致するように、前記波動光照明
手段の光束の光軸を調整する波動光光軸調整手段を設け
たことを特徴とする請求項1,2,3,4,5,6,
7,8又は9記載の原稿読取装置。10. An adjusting virtual field angle line of an effective light flux of an imaging lens and a light flux of a light flux of a wave light illumination means passing through a minute opening are aligned or substantially aligned with each other, of the wave light illumination means. 7. A wave light optical axis adjusting means for adjusting the optical axis of a light beam is provided.
The document reading device according to item 7, 8 or 9.
ラインと、微小開口部の中心位置とが一致又は略一致す
るように、前記微小開口部の中心位置を調整する開口部
中心位置調整手段を設けたことを特徴とする請求項1,
2,3,4,5,6,7,8又は9記載の原稿読取装
置。11. An opening center position adjustment for adjusting the center position of the minute opening so that the adjustment virtual angle of view line of the effective light beam of the imaging lens and the center position of the minute opening coincide or substantially coincide with each other. A means is provided, Claim 1 characterized by the above-mentioned.
The document reading device described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9.
ャル面内でその結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラ
インと第一の光束規制部材の微小開口部の中心とが一致
又は略一致するように、前記第一の光束規制部材を装置
本体内部に位置決めする第一の位置調整工程と、前記第
一の光束規制部材の前記微小開口部の中心と波動光を発
する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致するよう
に、前記波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて
調整して位置決めする第二の位置調整工程と、前記第一
の光束規制部材が配設された位置とは異なる前記調整仮
想画角ライン上の前記装置本体内部又は装置本体外部に
第二の光束規制部材を配設し、この第二の光束規制部材
の微小開口部の中心と前記波動光照明手段の光束の光軸
とが一致又は略一致するように、前記第二の光束規制部
材の位置を調整して位置決めする第三の位置調整工程
と、前記結像レンズを前記調整仮想画角ライン上に配置
させこの結像レンズを介在させる前の前記回折パターン
と介在させた後の回折パターンとを比較し前記両方の回
折パターンが一致又は略一致するように前記結像レンズ
の位置調整を行う第四の位置調整工程とからなることを
特徴とする結像レンズの位置調整方法。12. An adjusted virtual angle-of-view line of the effective light flux of the imaging lens and a center of the minute aperture of the first light flux regulating member coincide with or substantially coincide with each other within a tangential plane of an optical system including the imaging lens. As described above, the first position adjusting step of positioning the first light flux regulating member inside the apparatus main body, and the center of the minute opening of the first light flux regulating member and the wave light illuminating means for emitting the wave light. A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means using a diffraction pattern so that the optical axis coincides or substantially coincides with the first light flux regulating member. A second light flux regulating member is disposed inside or outside the device body on the adjusted virtual angle of view line different from the position, and the center of the minute opening of the second light flux regulating member and the wave light illumination. The optical axis of the light flux of the means matches or substantially matches As described above, a third position adjusting step of adjusting and positioning the position of the second light flux restricting member, and arranging the imaging lens on the adjusted virtual angle-of-view line and interposing this imaging lens And a fourth position adjusting step of adjusting the position of the imaging lens so that the diffraction patterns of both of them are compared with each other and the diffraction patterns after the interposition are compared with each other. Adjusting the position of the imaging lens.
内でその結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと
第一の光束規制部材の微小開口部の中心とが一致又は略
一致するように、前記第一の光束規制部材を装置本体内
部に位置決めする第一の位置調整工程と、前記第一の光
束規制部材の前記微小開口部の中心と波動光を発する波
動光照明手段の光軸とが一致又は略一致するように、前
記波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて調整し
て位置決めする第二の位置調整工程と、前記第一の光束
規制部材が配設された位置とは異なる前記調整仮想画角
ライン上の前記装置本体内部又は装置本体外部に第二の
光束規制部材を配設し、この第二の光束規制部材の微小
開口部の中心と前記波動光照明手段の光束の光軸とが一
致又は略一致するように、前記第二の光束規制部材の位
置を調整して位置決めする第三の位置調整工程と、前記
結像レンズを前記調整仮想画角ライン上に配置させこの
結像レンズを介在させる前の前記回折パターンと介在さ
せた後の回折パターンとを比較し前記両方の回折パター
ンが一致又は略一致するように前記結像レンズの位置調
整を行う第四の位置調整工程とからなることを特徴とす
る結像レンズの位置調整方法。13. The adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the imaging lens and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member coincide with or substantially coincide with each other in the radial plane of the optical system including the imaging lens. As described above, the first position adjusting step of positioning the first light flux regulating member inside the apparatus main body, and the light of the wave light illumination means that emits the wave light with the center of the minute opening of the first light flux regulating member. A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means by using a diffraction pattern so as to match or substantially match the axis, and a position where the first light flux regulating member is arranged. A second light flux restricting member is disposed inside or outside the device main body on the adjusted virtual angle of view line different from, and the center of the minute opening of the second light flux restricting member and the wave light illumination means. The optical axis of the light flux of As described above, the third position adjusting step of adjusting and positioning the position of the second light flux regulating member, and the step of arranging the imaging lens on the adjusted virtual angle-of-view line and interposing the imaging lens therebetween A fourth position adjusting step of comparing the diffraction pattern with the diffraction pattern after the interposition and adjusting the position of the imaging lens so that both diffraction patterns match or substantially match each other. Position adjustment method of imaging lens.
ャル面及びラジアル面内でその結像レンズの有効光束の
調整仮想画角ラインと第一の光束規制部材の微小開口部
の中心とが一致又は略一致するように、前記第一の光束
規制部材を装置本体内部に位置決めする第一の位置調整
工程と、前記第一の光束規制部材の前記微小開口部の中
心と波動光を発する波動光照明手段の光軸とが一致又は
略一致するように、前記波動光照明手段の位置を回折パ
ターンを用いて調整して位置決めする第二の位置調整工
程と、前記第一の光束規制部材が配設された位置とは異
なる前記調整仮想画角ライン上の前記装置本体内部又は
装置本体外部に第二の光束規制部材を配設し、この第二
の光束規制部材の微小開口部の中心と前記波動光照明手
段の光束の光軸とが一致又は略一致するように、前記第
二の光束規制部材の位置を調整して位置決めする第三の
位置調整工程と、前記結像レンズを前記調整仮想画角ラ
イン上に配置させこの結像レンズを介在させる前の前記
回折パターンと介在させた後の回折パターンとを比較し
前記両方の回折パターンが一致又は略一致するように前
記結像レンズの位置調整を行う第四の位置調整工程とか
らなることを特徴とする結像レンズの位置調整方法。14. An adjustment virtual field angle line of an effective light flux of the imaging lens and a center of a minute opening of the first light flux regulating member coincide with each other in a tangential surface and a radial surface of an optical system including the imaging lens. Or, a first position adjusting step of positioning the first light flux regulating member inside the apparatus main body so that they substantially coincide with each other, and a wave light that emits a wave light with the center of the minute opening of the first light flux regulating member. A second position adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means using a diffraction pattern so that the optical axis of the illuminating means coincides or substantially coincides with the first light flux regulating member. A second light flux regulating member is disposed inside or outside the device body on the adjusted virtual angle-of-view line different from the installed position, and the center of the minute opening of the second light flux regulating member and the above The optical axis of the luminous flux of the wave light illumination means A third position adjusting step of adjusting and positioning the position of the second light flux regulating member so as to match or substantially match, and the imaging lens is arranged on the adjusted virtual angle-of-view line. Comparing the diffraction pattern before interposing and the diffraction pattern after interposing, and adjusting the position of the imaging lens so that both diffraction patterns match or substantially match, a fourth position adjusting step A method for adjusting the position of an imaging lens, wherein
ャル面内でかつその結像レンズの入出射の何れか一方側
の有効光束の調整仮想画角ライン上に配設された波動光
を発する波動光照明手段と、前記結像レンズを挾んで前
記波動光照明手段とは反対側の前記タンデンシャル面内
でかつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン
上に配設された前記波動光照明手段から発せられた前記
波動光を規制する微小開口部を有する第一の光束規制部
材と、前記結像レンズの入出射の何れか一方側に配置し
た前記波動光照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想
画角ライン上に少なくとも1個配設された前記波動光を
規制する微小開口部を有する第二の光束規制部材と、前
記第一及び第二の光束規制部材により発生した回折パタ
ーンを受光して表示するパターン表示手段と、入射光束
に対する前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調
整手段とを備えたことを特徴とする結像レンズ位置調整
装置。15. A wave light is emitted in a tangential plane of an optical system including an imaging lens and on an adjustment virtual field angle line of an effective light beam on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The wave light illuminating means and the imaging lens are disposed in the tandem surface on the opposite side of the wave light illuminating means and on the adjustment virtual field angle line of the effective light flux of the image forming lens. The first light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illuminating means and the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens are opposite. Adjustment of the effective light flux on the side, which is generated by the second light flux regulating member having at least one minute aperture for regulating the undulating light disposed on the virtual angle line of view, and the first and second light flux regulating members Receives and displays the diffraction pattern An image forming lens position adjusting device, comprising: a pattern display unit for adjusting the position of the image forming lens with respect to an incident light beam;
内でかつその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効
光束の調整仮想画角ライン上に配設された波動光を発す
る波動光照明手段と、前記結像レンズを挾んで前記波動
光照明手段とは反対側の前記ラジアル面内でかつ前記結
像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配設され
た前記波動光照明手段から発せられた前記波動光を規制
する微小開口部を有する第一の光束規制部材と、前記結
像レンズの入出射の何れか一方側に配置した前記波動光
照明手段とは反対側の有効光束の調整仮想画角ライン上
に少なくとも1個配設された前記波動光を規制する微小
開口部を有する第二の光束規制部材と、前記第一及び第
二の光束規制部材により発生した回折パターンを受光し
て表示するパターン表示手段と、入射光束に対する前記
結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段とを備
えたことを特徴とする結像レンズ位置調整装置。16. A wave which emits a wave light arranged in a radial plane of an optical system including an imaging lens and on an adjustment virtual field angle line of an effective light beam on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The wave light disposed in the radial plane on the opposite side of the light illumination means and the wave light illumination means across the imaging lens and on the virtual line of view for adjusting the effective light flux of the imaging lens. A first light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the illuminating means, and the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens on the opposite side. Adjustment of effective light flux At least one second light flux regulating member disposed on the virtual angle of view line and having a minute opening for regulating the wave light, and diffraction generated by the first and second light flux regulating members Pattern to receive and display the pattern An image forming lens position adjusting device comprising: a display unit and an image forming lens adjusting unit for adjusting a position of the image forming lens with respect to an incident light beam.
ャル面及びラジアル面内でかつその結像レンズの入出射
の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に配
設された波動光を発する波動光照明手段と、前記結像レ
ンズを挾んで前記波動光照明手段とは反対側の前記タン
デンシャル面及びラジアル面内でかつ前記結像レンズの
有効光束の調整仮想画角ライン上に配設された前記波動
光照明手段から発せられた前記波動光を規制する微小開
口部を有する第一の光束規制部材と、前記結像レンズの
入出射の何れか一方側に配置した前記波動光照明手段と
は反対側の有効光束の調整仮想画角ライン上に少なくと
も1個配設された前記波動光を規制する微小開口部を有
する第二の光束規制部材と、前記第一及び第二の光束規
制部材により発生した回折パターンを受光して表示する
パターン表示手段と、入射光束に対する前記結像レンズ
の位置を調整する結像レンズ調整手段とを備えたことを
特徴とする結像レンズ位置調整装置。17. A wave arranged in the tangential surface and radial surface of an optical system including an imaging lens and on an imaginary angle-of-view line for adjusting the effective light flux on either side of the entrance and exit of the imaging lens. A wave light illuminating means for emitting light and an imaginary angle line of adjustment of the effective light flux of the image forming lens in the tangential surface and the radial surface opposite to the wave light illuminating means sandwiching the image forming lens. A first light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illuminating means, and the wave arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. A second light flux regulating member having at least one fine aperture for regulating the undulating light, which is arranged on the virtual line of view for adjusting the effective light flux on the side opposite to the light illuminating means; Generated by the light flux regulating member of An image forming lens position adjusting device comprising: a pattern display unit for receiving and displaying the diffraction pattern and an image forming lens adjusting unit for adjusting the position of the image forming lens with respect to an incident light beam.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7021512A JPH08223355A (en) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Original reader, method and device for adjusting position of image forming lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7021512A JPH08223355A (en) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Original reader, method and device for adjusting position of image forming lens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08223355A true JPH08223355A (en) | 1996-08-30 |
Family
ID=12057032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7021512A Pending JPH08223355A (en) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Original reader, method and device for adjusting position of image forming lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08223355A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024210161A1 (en) * | 2023-04-06 | 2024-10-10 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | Manipulator positioning device and manipulator positioning method |
-
1995
- 1995-02-09 JP JP7021512A patent/JPH08223355A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024210161A1 (en) * | 2023-04-06 | 2024-10-10 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | Manipulator positioning device and manipulator positioning method |
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