JPH08220299A - Target holding device - Google Patents

Target holding device

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Publication number
JPH08220299A
JPH08220299A JP5178495A JP5178495A JPH08220299A JP H08220299 A JPH08220299 A JP H08220299A JP 5178495 A JP5178495 A JP 5178495A JP 5178495 A JP5178495 A JP 5178495A JP H08220299 A JPH08220299 A JP H08220299A
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JP
Japan
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target
rotation
target holding
rotating
ion beam
Prior art date
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Application number
JP5178495A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiko Naito
儀彦 内藤
Tadasuke Obata
忠輔 小畑
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE: To form a complicated irradiation pattern by applying the constitution that a target is made to perform action expressed as the sum of vectors of the rotation of a holder and the rotation of a turntable, and the ion beam action is combined with a beam scan. CONSTITUTION: Ions generated in an ion source 13 are accelerated with an acceleration section 14 and turn into an ion beam I. This ion beam I is deflected at a separation and scanning section 15 and directed toward a target T. At the same time, the ion beam 1 is horizontally scanned at a constant speed. Also, the scanning process takes place unidirectionally from a center section to an end section. Thereafter, the ion beam I is neutralized at a neutralizing section 19, and turns into an atomic beam A. This beam A advances straight and is applied on the target T mounted on a turntable 1. In this case, the turntable 1 rotates in an arrow (a) direction, and a target holder 2 rotates in an arrow (b) direction, respectively at the same angular velocity, Thus, the holder 2 keeps the same attitude relative to a static system at all times. As a result, the uniformity of irradiation can be properly maintained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子を製
造する際のドーパントの注入のために用いられるイオン
ビーム注入装置や高速原子線注入装置のようなビーム照
射装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam irradiation device such as an ion beam implanter or a high speed atom beam implanter used for implanting a dopant in manufacturing a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の製造工程において、基板の上に
集積回路を形成するために、基板に異種元素を打ち込む
いわゆるドーピングが行われる。このための方法とし
て、イオン注入法が用いられ、また最近は、イオンビー
ム注入の種々の欠点を回避できる高速原子線注入法の採
用も考慮されている。これらの装置で半導体基板の全表
面を均等にドーピングを行うには、ビームの走行方向に
直交する方向に基板を相対移動させて、ターゲット表面
をビームで走査する必要がある。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, so-called doping is performed to implant a different element into a substrate in order to form an integrated circuit on the substrate. As a method for this purpose, an ion implantation method is used, and recently, adoption of a high-speed atomic beam implantation method which can avoid various drawbacks of the ion beam implantation has been considered. In order to uniformly dope the entire surface of the semiconductor substrate with these devices, it is necessary to relatively move the substrate in a direction orthogonal to the traveling direction of the beam and scan the target surface with the beam.

【0003】従来のこのための機構としては、ビームの
照射位置にビームとほぼ平行な、もしくはチャネリング
防止のために任意の角度を持たせた回転軸を持つ回転台
を設け、この回転台に周方向に複数のターゲットを固定
するようにしたものがある。このような装置において、
図8に示すように回転台31を回転させつつビームを回
転台31の中心と縁の間で径方向に走査し、ターゲット
Tの表面全体に不純物の注入を行うようにしている。
As a conventional mechanism for this purpose, a rotary table having a rotary shaft substantially parallel to the beam or having an arbitrary angle for preventing channeling is provided at a beam irradiation position, and the rotary table is provided with a rotary shaft. There is one that fixes a plurality of targets in a certain direction. In such a device,
As shown in FIG. 8, while rotating the turntable 31, the beam is scanned in the radial direction between the center and the edge of the turntable 31 so that impurities are implanted into the entire surface of the target T.

【0004】この際に、回転台31の回転とビームの走
査のそれぞれの速度設定の組み合わせのパターンとし
て、回転台31の回転速度を大きくし、ビーム走査速度
を遅くする場合と、逆の場合がある。回転台31の高速
回転は機械的に限界があり、ビームを高速度で走査する
方が原理的に無理がない。
At this time, as a pattern of the combination of the rotation of the rotary table 31 and the speed setting of the scanning of the beam, there are the case where the rotational speed of the rotary table 31 is increased and the beam scanning speed is slowed, and the opposite case. is there. The high speed rotation of the turntable 31 is mechanically limited, and it is theoretically reasonable to scan the beam at a high speed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなビームを高速で走査する従来の方法では、ビームの
ターゲットT上での走行方向は回転台の回転に伴い傾斜
し、一方向走査の場合は図9に示すように放射状になっ
てしまう。このため、上記従来から用いられている原理
的には無理がないこの走査方法においては、ターゲット
全面を均一に照射することが困難であるという問題点が
あった。
However, in the conventional method of scanning such a beam at a high speed, the traveling direction of the beam on the target T is inclined as the turntable rotates, and in the case of unidirectional scanning. It becomes radial as shown in FIG. For this reason, in this scanning method which has been used in the above-mentioned conventional method and is not unreasonable in principle, it is difficult to uniformly irradiate the entire surface of the target.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決するためになされたもので、請求項1の発明は、タ
ーゲットを保持するターゲット保持台を有し、ビームの
走行ライン上において該ビームラインとほぼ平行なもし
くは任意の角度を持つ回転軸回りに回転する回転台と、
上記ターゲット保持台を回転台に対して回転させる回転
機構とを設けたものである。請求項2の発明は、上記回
転機構が、回転台の回転をターゲット保持台に伝達する
伝達機構を有するものである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the invention of claim 1 has a target holding base for holding a target and is provided on a beam traveling line. A rotating table that rotates about a rotation axis that is almost parallel to the beam line or has an arbitrary angle,
And a rotating mechanism for rotating the target holding table with respect to the rotating table. According to a second aspect of the invention, the rotation mechanism has a transmission mechanism that transmits the rotation of the rotary table to the target holding table.

【0007】請求項3の発明は、上記回転機構が、回転
台の駆動機構とは機械的に独立の駆動装置を有するもの
である。請求項4の発明は、上記回転機構が、ターゲッ
ト保持台を回転台の回転と同期させて回転させるように
構成したものである。請求項5の発明は、上記構成のタ
ーゲット保持装置と、ビーム源と、上記ターゲット保持
装置に対してビームを走査するビーム走査機構を備えた
ものである。
According to a third aspect of the present invention, the rotating mechanism has a drive device that is mechanically independent of the drive mechanism of the turntable. According to a fourth aspect of the present invention, the rotating mechanism is configured to rotate the target holding table in synchronization with the rotation of the rotating table. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a target holding device having the above structure, a beam source, and a beam scanning mechanism for scanning the target holding device with a beam.

【0008】[0008]

【作用】請求項1の発明においては、ターゲットはター
ゲット保持台に取り付けられ、ターゲット保持台は回転
台に設けられているので、ターゲットは保持台の回転と
回転台の回転のそれぞれのベクトルの和として表される
運動をする。請求項2の発明においては、回転台の回転
が回転機構を介してターゲット保持台に伝達される。
According to the invention of claim 1, the target is attached to the target holding table, and the target holding table is provided on the rotating table. Therefore, the target is the sum of the respective vectors of the rotation of the holding table and the rotation of the rotating table. Exercise as In the invention of claim 2, the rotation of the rotary table is transmitted to the target holding table via the rotating mechanism.

【0009】請求項3の発明においては、ターゲット保
持台は回転台の駆動機構とは機械的に独立の駆動装置に
より駆動される。請求項4の発明においては、ターゲッ
ト保持台は回転台の回転と同期させて回転させられ、従
って、ターゲット保持台は静止系に対して常に同位相
で、つまり姿勢を変えずに回転する。請求項5の発明に
おいては、ビーム源において発生したビームは、ビーム
走査機構により走査され、ターゲット保持装置において
保持されたターゲットに照射される。ターゲットにおい
てビーム照射装は、ビーム走査、回転台の回転、及びタ
ーゲット保持台の回転の3つのベクトルの和として表さ
れるベクトルに沿って移動する。
In the third aspect of the present invention, the target holding table is driven by a driving device that is mechanically independent of the driving mechanism of the rotary table. In the invention of claim 4, the target holder is rotated in synchronization with the rotation of the rotary table, and therefore the target holder always rotates in the same phase with respect to the stationary system, that is, without changing its posture. In the invention of claim 5, the beam generated in the beam source is scanned by the beam scanning mechanism and is irradiated onto the target held in the target holding device. At the target, the beam irradiator moves along a vector represented as the sum of the three vectors of beam scanning, rotation of the turntable, and rotation of the target holder.

【0010】[0010]

【実施例】図1ないし図3は、本発明の一実施例のター
ゲット保持装置Hを示すもので、回転台とターゲット保
持台が機械的に連動する構造のものである。回転台1に
は、周方向90度間隔で4つのターゲット保持台2が設
けられている。保持台2は、回転台1の所定箇所に設け
られた凹所3に装着された円盤状部材で、表面にはター
ゲットTを固定するクランプ装置4を備えた凹所5が形
成されている。この保持台2の裏面には自転軸6が設け
られ、これは図示しない軸受装置により回転自在に支持
されるとともに、その下端には自転歯車7が取り付けら
れている。この自転歯車7は、回転台1の下面に設けら
れた中間歯車8に噛み合され、この中間歯車8は回転台
1の回転軸9を取り囲んで配置された固定歯車10に噛
み合っている。この固定歯車10は、回転台1の支持部
材(図示略)に連結されて固定されている。このよう
な、自転歯車7、中間歯車8及び固定歯車10からなる
遊星歯車構造により、回転台の回転を保持台に伝達する
伝達機構が構成されている。自転歯車7と固定歯車10
はギア比が1:1に設定され、従って、回転台1と保持
台2は同期しており、回転台1が一回転する間に保持台
2が逆向きに一回転する。つまり、保持台2は地面(静
止系)に対して常に同じ姿勢を保っている。
1 to 3 show a target holding device H according to one embodiment of the present invention, which has a structure in which a rotary table and a target holding table are mechanically interlocked. The rotary base 1 is provided with four target holding bases 2 at intervals of 90 degrees in the circumferential direction. The holding table 2 is a disk-shaped member mounted in a recess 3 provided at a predetermined position of the rotary table 1, and a recess 5 having a clamp device 4 for fixing the target T is formed on the surface thereof. A rotation shaft 6 is provided on the back surface of the holding table 2, which is rotatably supported by a bearing device (not shown), and a rotation gear 7 is attached to the lower end thereof. The rotating gear 7 meshes with an intermediate gear 8 provided on the lower surface of the rotary table 1, and the intermediate gear 8 meshes with a fixed gear 10 that surrounds a rotary shaft 9 of the rotary table 1. The fixed gear 10 is connected and fixed to a support member (not shown) of the rotary table 1. The planetary gear structure including the rotation gear 7, the intermediate gear 8, and the fixed gear 10 constitutes a transmission mechanism that transmits the rotation of the rotary table to the holding table. Rotating gear 7 and fixed gear 10
Has a gear ratio of 1: 1. Therefore, the rotary base 1 and the holding base 2 are synchronized, and the holding base 2 makes one rotation in the opposite direction while the rotary base 1 makes one rotation. That is, the holding table 2 always keeps the same posture with respect to the ground (stationary system).

【0011】図3は、この発明を高速原子線照射装置に
適用した例を示すもので、図中、符号11は、全体がほ
ぼL字型の真空チャンバであり、この内部は主ポンプ1
2によって排気されて所定の低圧に保たれている。この
真空チャンバ11の屈曲した一端側には、イオン源13
が設けられ、イオン源13の近傍には、高圧を印加され
た電極からなる加速部14が設けられている。真空チャ
ンバ11の屈曲部には、電磁石によって磁場を形成し、
これによってイオンビームIのうち所要のイオンのみを
所定の方向に偏向させ、他のイオンから分離するととも
に、磁場強度もしくは電場強度を変えてイオンビームを
回転台1の径方向に(図示例では、水平方向に)振るよ
うに走査する分離・走査部15が設けられている。
FIG. 3 shows an example in which the present invention is applied to a high-speed atomic beam irradiation apparatus. In the figure, reference numeral 11 indicates a substantially L-shaped vacuum chamber, the inside of which is the main pump 1.
It is exhausted by 2 and is kept at a predetermined low pressure. An ion source 13 is provided on one bent side of the vacuum chamber 11.
In the vicinity of the ion source 13, an accelerating unit 14 including an electrode to which a high voltage is applied is provided. A magnetic field is formed in the bent portion of the vacuum chamber 11 by an electromagnet,
As a result, only the desired ions of the ion beam I are deflected in a predetermined direction to be separated from other ions, and the magnetic field strength or the electric field strength is changed to move the ion beam in the radial direction of the turntable 1 (in the illustrated example, A separating / scanning unit 15 that scans by shaking is provided.

【0012】真空チャンバ11の長手部中央には、中性
化装置Nが設けられており、これは、3つのガスセル1
6,17,18からなる中性化室19を有している。こ
の3つのガスセルは、ターボ分子ポンプ20,21によ
り差圧が形成され、中央のガスセル17が高圧になって
おり、イオンビームIはこの中でガスとの接触により電
荷交換を行って原子線Aとなる。中性化室19の出口側
には、磁力により残留イオンを偏向させて取り除く残留
イオン除去装置22が設けられている。
At the center of the longitudinal portion of the vacuum chamber 11, there is provided a neutralizer N, which comprises three gas cells 1.
It has a neutralization chamber 19 composed of 6, 17, and 18. In these three gas cells, a differential pressure is formed by the turbo molecular pumps 20 and 21, and the central gas cell 17 has a high pressure. The ion beam I exchanges electric charge by contacting with the gas in the atom beam A. Becomes A residual ion removing device 22 that deflects and removes residual ions by magnetic force is provided on the outlet side of the neutralization chamber 19.

【0013】なお、上述したようにイオンビームIは左
右に走査されるので、中性化室19のガスセルに設けら
れた狭窄部(開口部)23の位置を可変とする機構を設
けてもよく、また、狭窄部23をその方向にある程度の
長さを持って形成するようにしてもよい。また、この図
では、残留イオンの除去される方向が磁石の配置と対応
していないが、これは図示の便宜上のものである。真空
チャンバ11の他端部には、上述したターゲット保持装
置Hが設けられている。
Since the ion beam I is scanned left and right as described above, a mechanism for changing the position of the narrowed portion (opening) 23 provided in the gas cell of the neutralization chamber 19 may be provided. Also, the narrowed portion 23 may be formed with a certain length in that direction. Also, in this figure, the direction in which the residual ions are removed does not correspond to the arrangement of the magnets, but this is for convenience of illustration. The target holding device H described above is provided at the other end of the vacuum chamber 11.

【0014】次に、上記のように構成された高速原子線
照射装置の作用について説明する。イオン源13で発生
したイオンは加速部14によって加速されてイオンビー
ムIとなり、分離・走査部15において偏向させられ
て、ターゲットの方向に向けられると同時に、一定の速
度で水平方向に走査される。走査の仕方は、この例では
中心近傍から縁部に向かう一方通行のいわゆる鋸波状に
行われる。イオンビームIは中性化部19において中性
化されて原子線Aとなり、直進して回転台1に取り付け
られたターゲットTに照射される。
Next, the operation of the high-speed atomic beam irradiation apparatus constructed as above will be described. Ions generated in the ion source 13 are accelerated by the accelerating unit 14 to become an ion beam I, which is deflected in the separating / scanning unit 15 to be directed toward the target and, at the same time, is horizontally scanned at a constant speed. . In this example, the scanning is performed in a so-called sawtooth shape with one-way passage from the vicinity of the center toward the edge. The ion beam I is neutralized in the neutralization unit 19 to become an atomic beam A, which travels straight and is applied to a target T attached to the rotary table 1.

【0015】ここにおいて、図4に示すように、回転台
1は矢印aの方向に、ターゲット保持台2は矢印bの方
向に同じ角速度で同期して回転するので、保持台2は常
に静止系に対して同じ姿勢を取る。従って、ビームの照
射パターンは図5に示すように平行になる。この図で
は、ビームの走査速度と回転台1の回転速度の比が大き
な場合で、ビームパターンの向きが水平になっている
が、速度比がより小さい場合は左上がりの傾斜したパタ
ーンとなる。しかし、傾斜角度は一定なので平行である
ことは変わらない。このようにビーム照射パターンが平
行であるので、照射パターンのピッチを許容度に合わせ
て設定するという簡単な方法で照射の均一性を確保でき
る。
Here, as shown in FIG. 4, since the rotary table 1 rotates in the direction of arrow a and the target holder 2 rotates in the direction of arrow b at the same angular velocity in synchronization, the table 2 is always stationary. Take the same attitude against. Therefore, the beam irradiation pattern becomes parallel as shown in FIG. In this figure, the direction of the beam pattern is horizontal when the ratio of the scanning speed of the beam and the rotation speed of the rotary base 1 is large, but when the speed ratio is smaller, the pattern tilts upward to the left. However, since the inclination angle is constant, it remains parallel. Since the beam irradiation patterns are parallel, the irradiation uniformity can be ensured by a simple method of setting the pitch of the irradiation pattern in accordance with the tolerance.

【0016】なお、この装置において、回転台1の回転
速度を大きくし、ビーム速度を小さくするような方法を
採用することもできる。この場合は、従来は同心円状の
照射パターンとなったが、この装置によれば平行直線状
のパターンとなるので均一性の確保が容易である。
In this apparatus, a method of increasing the rotation speed of the rotary table 1 and decreasing the beam speed can be adopted. In this case, a concentric irradiation pattern has been used in the past, but with this apparatus, a parallel linear pattern is formed, so that it is easy to ensure uniformity.

【0017】図6及び図7は、この発明の他の実施例を
示すもので、それぞれのターゲット保持台2の自転軸6
の下端側には駆動モータ24が設けられている。このモ
ータ24は、図示しない制御装置に接続されており、図
4に示すように回転台1の回転軸9と同期して回転する
ように制御されている。この例では、モータ24は個々
の保持台2に設けられているが、回転台1の所定位置に
駆動モータを取り付け、これを各保持台2の軸と連動さ
せる伝達機構を設けても良い。いずれの場合において
も、全ての保持台2を同時に回転させる必要はなく、ビ
ーム照射位置にある時だけ間欠的に回転させるようにし
てもよい。
FIGS. 6 and 7 show another embodiment of the present invention, in which the rotation shaft 6 of each target holding base 2 is rotated.
A drive motor 24 is provided on the lower end side of the. The motor 24 is connected to a control device (not shown) and is controlled so as to rotate in synchronization with the rotary shaft 9 of the rotary base 1 as shown in FIG. In this example, the motor 24 is provided on each holding table 2, but a drive motor may be attached to a predetermined position of the rotary table 1 and a transmission mechanism that links this with the shaft of each holding table 2 may be provided. In any case, it is not necessary to rotate all the holding bases 2 at the same time, and they may be rotated intermittently only when they are in the beam irradiation position.

【0018】また、図6,7の実施例においては、回転
台1と保持台2の回転を全く独立に制御できるので、上
記のような平行な照射パターンのみでなく、所望の照射
ビームパターンに適合するような回転速度制御パターン
を設定できる。例えば、1回の走査が終了した時点で保
持台を90度回転し、ビーム照射パターンを格子状にす
るような制御が可能であり、この他、次行程に合わせて
適宜のパターンを得るような制御が可能である。
Further, in the embodiments of FIGS. 6 and 7, since the rotations of the rotary table 1 and the holding table 2 can be controlled completely independently, not only the parallel irradiation pattern as described above but also a desired irradiation beam pattern can be obtained. A suitable rotation speed control pattern can be set. For example, it is possible to rotate the holder 90 degrees at the end of one scanning to control the beam irradiation pattern into a grid pattern. In addition to this, an appropriate pattern can be obtained according to the next process. It can be controlled.

【0019】なお、上記実施例は、原子線を照射する装
置について説明したが、この発明はこれに限られるもの
ではなく、他のビーム照射装置、例えば従来から用いら
れているイオンビーム照射装置に適用してもよく、ま
た、半導体製造装置だけでなく、スパッタリング装置、
エッチング装置、ビームによる加工装置など、ビームを
利用する種々の装置に適用可能である。
Although the above embodiment has described the apparatus for irradiating an atomic beam, the present invention is not limited to this, and other beam irradiating apparatuses such as an ion beam irradiating apparatus conventionally used can be used. It may be applied, and not only semiconductor manufacturing equipment, but also sputtering equipment,
It can be applied to various devices using a beam, such as an etching device and a beam processing device.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、ターゲットは保持台の回転と回転台の回転のそ
れぞれのベクトルの和として表される動きをするので、
これをビームの走査と組み合わせてより複雑な照射パタ
ーンを形成することができ、ビーム照射装置の設計や使
用の自由度を高めることができる。請求項2の発明によ
れば、回転台の回転が回転機構を介してターゲット保持
台に伝達されるので、回転台の回転駆動源をそのまま使
うことができ、しかも、機械的伝達機構により両者の連
動が確保される。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the target moves as the sum of the respective vectors of the rotation of the holding table and the rotation of the rotating table.
This can be combined with beam scanning to form a more complicated irradiation pattern, and the degree of freedom in designing and using the beam irradiation device can be increased. According to the invention of claim 2, since the rotation of the rotary table is transmitted to the target holding table via the rotary mechanism, the rotary drive source of the rotary table can be used as it is, and the mechanical transmission mechanism can be used for both of them. Interlocking is secured.

【0021】請求項3の発明によれば、ターゲット保持
台が回転台の駆動機構とは機械的に独立の駆動装置によ
り駆動されるので、装置が使用される目的や状況に適合
した照射パターンを得ることができる。請求項4の発明
によれば、ターゲット保持台が静止系に対して姿勢を変
えずに回転するので、ビームの走査が直線的である場
合、照射パターンも直線的になり、ターゲットの全面を
均一に処理することが容易となる。請求項5の発明によ
れば、上述した効果を奏するビーム照射装置を得ること
ができる。
According to the third aspect of the present invention, since the target holding table is driven by a driving device that is mechanically independent of the driving mechanism of the rotating table, an irradiation pattern suitable for the purpose and situation of the device is used. Obtainable. According to the invention of claim 4, since the target holder rotates without changing its posture with respect to the stationary system, when the beam scanning is linear, the irradiation pattern is also linear and the entire surface of the target is uniform. It is easy to process. According to the invention of claim 5, it is possible to obtain a beam irradiation device that exhibits the above-described effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例のターゲット保持装置
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a target holding device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第1の実施例のターゲット保持装置
を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a target holding device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第1の実施例のターゲット保持装置
を用いたビーム照射装置の模式図である。
FIG. 3 is a schematic view of a beam irradiation device using the target holding device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第1の実施例のターゲット保持装置
の作用を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the target holding device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第1の実施例のターゲット保持装置
を用いた場合のビームの照射パターンを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a beam irradiation pattern when the target holding device according to the first embodiment of the present invention is used.

【図6】この発明の第2の実施例のターゲット保持装置
を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a target holding device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】この発明の第2の実施例のターゲット保持装置
を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a target holding device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】従来のターゲット保持装置の作用を説明する図
である。
FIG. 8 is a diagram illustrating the operation of a conventional target holding device.

【図9】従来のターゲット保持装置を用いた場合のビー
ムの照射パターンを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a beam irradiation pattern when a conventional target holding device is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 回転台 2 保持台 6 自転軸 7 自転歯車 8 中間歯車 10 固定歯車 13 イオン源 15 分離・走査部 24 駆動モータ A 原子線 I イオンビーム H 保持台 T ターゲット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 rotary table 2 holding table 6 rotating shaft 7 rotating gear 8 intermediate gear 10 fixed gear 13 ion source 15 separation / scanning section 24 drive motor A atomic beam I ion beam H holding table T target

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ターゲットを保持するターゲット保持台
を有し、ビームの走行ライン上において該ビームライン
とほぼ平行なもしくは任意の角度を持つ回転軸回りに回
転する回転台と、 上記ターゲット保持台を回転台に対して回転させる回転
機構とを有することを特徴とするターゲット保持装置。
1. A rotary table having a target holding table for holding a target, the rotary table rotating on a traveling line of a beam around a rotation axis substantially parallel to the beam line or having an arbitrary angle, and the target holding table. A target holding device, comprising: a rotating mechanism for rotating the rotating table.
【請求項2】 上記回転機構は、回転台の回転をターゲ
ット保持台に伝達する伝達機構を有することを特徴とす
る請求項1に記載のターゲット保持装置。
2. The target holding device according to claim 1, wherein the rotation mechanism has a transmission mechanism that transmits the rotation of the turntable to the target holding table.
【請求項3】 上記回転機構は、回転台の駆動機構とは
機械的に独立の駆動装置を有することを特徴とする請求
項1に記載のターゲット保持装置。
3. The target holding device according to claim 1, wherein the rotating mechanism has a driving device that is mechanically independent of a driving mechanism of the rotating table.
【請求項4】 上記回転機構は、ターゲット保持台を回
転台の回転と同期させて回転させることを特徴とする請
求項1に記載のターゲット保持装置。
4. The target holding apparatus according to claim 1, wherein the rotating mechanism rotates the target holding table in synchronization with the rotation of the rotating table.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載のタ
ーゲット保持装置と、ビーム源と、上記ターゲット保持
装置に対してビームを走査するビーム走査機構を備えた
ことを特徴とするビーム照射装置。
5. A beam irradiation apparatus comprising: the target holding device according to claim 1; a beam source; and a beam scanning mechanism for scanning the target holding device with a beam. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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