JPH08203446A - Inline-type cathode-ray tube - Google Patents

Inline-type cathode-ray tube

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JPH08203446A
JPH08203446A JP966995A JP966995A JPH08203446A JP H08203446 A JPH08203446 A JP H08203446A JP 966995 A JP966995 A JP 966995A JP 966995 A JP966995 A JP 966995A JP H08203446 A JPH08203446 A JP H08203446A
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JP
Japan
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electron beam
beam passage
electrode
ray tube
electron
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Application number
JP966995A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisakazu Yamane
久和 山根
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE: To improve a moire produced in both side parts of a screen in a low brightness region of a cathode-ray tube without deteriorating the focusing function from an average current region of electron beam to a high brightness region. CONSTITUTION: The ratio t/d of the thickness (t) of an accelerating electrode 2 of a tripole composed of a cathode 6, a control electrode 1, and the accelerating electrode 2 and the diameter (d) of an electron beam passing hole 2a formed in the accelerating electrode 2 is set to be within a range, 0.3<=t/d<=0.65.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、インライン型カラー
陰極線管の電子銃に係り、特に低輝度領域におけるモア
レ特性を、フォーカス特性を悪化させることなく改善し
た電子銃に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron gun of an in-line type color cathode ray tube, and more particularly to an electron gun having improved moire characteristics in a low luminance region without deteriorating focus characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は従来のインライン型陰極線管を示
す縦断面図である。図において、6a,6b,6cは同
一水平面に配置された陰極、17a,17b,17cは
それぞれの陰極内に挿入されたヒータ、1は3個の陰極
6a,6b,6cに対応した電子ビーム通過孔1a,1
b,1cを有する制御電極、2は同様に3個の電子ビー
ム通過孔2a,2b,2cを有する加速電極、3は同様
に6個の電子ビーム通過孔3a,3b,3c,3d,3
e,3fを有する集束電極、4は陽極電極でコンタクタ
16が取り付けられたシールドカップ5と溶接され、他
の電極1〜3と同様な電子ビーム通過孔4a,4b,4
cを有する。各電極は、図示しないガラスによって絶縁
保持されて電子銃を構成している。8は各電極1〜3に
電位を与えるステム、9はガラス外囲器、10は外付の
偏向ヨーク、11は陽極電圧を印加する為のアノードボ
タン、12は外囲器9の内面に塗付された内装グラファ
イト、13は外囲器9内に配置されたシャドーマスク、
14は内部磁気シールド、15はスクリーンの内面に塗
付された蛍光体である。
2. Description of the Related Art FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a conventional in-line type cathode ray tube. In the figure, 6a, 6b and 6c are cathodes arranged on the same horizontal plane, 17a, 17b and 17c are heaters inserted in the respective cathodes, and 1 is an electron beam passage corresponding to three cathodes 6a, 6b and 6c. Holes 1a, 1
b, 1c has a control electrode, 2 similarly has an acceleration electrode having three electron beam passage holes 2a, 2b, 2c, and 3 has similarly six electron beam passage holes 3a, 3b, 3c, 3d, 3
Focusing electrodes 4 having e, 3f are welded to a shield cup 5 to which a contactor 16 is attached by an anode electrode, and electron beam passage holes 4a, 4b, 4 similar to the other electrodes 1 to 3 are formed.
c. Each electrode is insulated and held by glass (not shown) to form an electron gun. Reference numeral 8 is a stem for applying a potential to each of the electrodes 1 to 3, 9 is a glass envelope, 10 is an external deflection yoke, 11 is an anode button for applying an anode voltage, and 12 is an inner surface of the envelope 9. Attached interior graphite, 13 is a shadow mask placed inside the envelope 9,
Reference numeral 14 is an internal magnetic shield, and 15 is a phosphor coated on the inner surface of the screen.

【0003】次に動作について説明する。ヒータ17
a,17b,17cによって所定の温度に加熱された陰
極6a,6b,6cから発生した電子は、制御電極1、
加速電極2により電子ビームに形成され、加速電極2と
集束電極3との間に発生するプリフォーカスレンズ、お
よびアノードボタン11、内装グラファイト12および
コンタクタ16を通して高電圧が印加される陽極電極4
と集束電極3との間に発生する主電子レンズにより集束
作用を受け、3本の電子ビーム7a,7b,7cとなっ
て、スクリーン上にスポットを結ぶ。このとき、3本の
電子ビーム7a,7b,7cはシャドーマスク13によ
り色選択され、それぞれの電子ビームに定められた色の
蛍光体15にあたって発光させる。通常は、電子ビーム
7aが赤、7bが緑、7cが青の蛍光体用の電子ビーム
である。
Next, the operation will be described. Heater 17
Electrons generated from the cathodes 6a, 6b, 6c heated to a predetermined temperature by a, 17b, 17c are generated by the control electrode 1,
A prefocus lens which is formed into an electron beam by the acceleration electrode 2 and is generated between the acceleration electrode 2 and the focusing electrode 3, and an anode electrode 4 to which a high voltage is applied through the anode button 11, the interior graphite 12 and the contactor 16.
Is focused by a main electron lens generated between the focusing electrode 3 and the focusing electrode 3 to form three electron beams 7a, 7b, 7c, which form a spot on the screen. At this time, the three electron beams 7a, 7b, and 7c are color-selected by the shadow mask 13, and the phosphors 15 of the colors defined by the respective electron beams are made to emit light. Usually, the electron beams 7a are red, 7b are green, and 7c are blue electron beams for phosphors.

【0004】電子銃により作り出された電子ビーム7
a,7b,7cは、偏向ヨーク10の作り出す水平偏向
磁界および垂直偏向磁界により図8中に示す7d,7
e,7fの3本の偏向された電子ビームのように偏向さ
れ画面各部の蛍光体15を発光させて画面を作り上げ
る。
Electron beam 7 produced by an electron gun
a, 7b, and 7c are 7d and 7 shown in FIG. 8 by the horizontal deflection magnetic field and the vertical deflection magnetic field which the deflection yoke 10 produces.
The fluorescent substance 15 in each part of the screen is made to emit light by being deflected like the three deflected electron beams e and 7f to complete the screen.

【0005】また、最近は、特別な回路補正がなくとも
3本の偏向された電子ビーム7d,7e,7fは画面の
各部で1点に集中させて画像を再現させる、自己集中シ
ステムを採用しているため、偏向ヨーク10の作り出す
磁界は、水平方向でピンクション状、垂直方向でバレル
状に非斉一に歪んでいる。電子銃で特に対策を施さない
場合、電子ビームのスポット形状は、図9(a)に示す
ように画面中央部では真円に近く絞れて高い解像度が得
られても、画面の両側部では垂直方向に過収束部分(以
下、「ハロー」という)が発生し、著しく解像度が劣化
する。
Recently, a self-focusing system is adopted in which the three deflected electron beams 7d, 7e and 7f are focused on one point in each part of the screen to reproduce an image without any special circuit correction. Therefore, the magnetic field generated by the deflection yoke 10 is distorted non-uniformly in the horizontal direction as a pinch shape and in the vertical direction as a barrel shape. If no special measures are taken with an electron gun, the spot shape of the electron beam is vertical on both sides of the screen even if a high resolution is obtained by narrowing it to a perfect circle at the center of the screen as shown in FIG. 9A. An overfocused portion (hereinafter referred to as “halo”) occurs in the direction, and the resolution is significantly deteriorated.

【0006】この為、電子銃に非点収差作用をもたせ、
図9(b)に示すように画面中央部の電子ビームスポッ
トの垂直方向を若干未収束状態(以下、「ブルーミン
グ」という)にさせ、水平端部のハローを軽減させて中
央部と端部の解像度の妥協を図っている。
For this reason, the electron gun is given an astigmatic effect,
As shown in FIG. 9B, the vertical direction of the electron beam spot in the center of the screen is slightly unconverged (hereinafter referred to as “blooming”) to reduce the halo at the horizontal end and reduce the halo at the center and the end. We are trying to compromise resolution.

【0007】さらに、従来の陰極線管用電子銃は、図1
0に示した電子ビーム光学モデルにおいて、主電子レン
ズから仮想物点までの距離aが、陰極から取り出す電子
の量(以下、ビーム電流」という)に応じて変化し、主
レンズから仮想物点までの距離aが図11に示すように
変化する。この結果、各ビーム電流におけるスポット径
を最小にする最適集束電極電圧(以下、「ジャストフォ
ーカス電圧」という)は図12は示すように変化する。
通常、ジャストフォーカス電圧の調整は、各電子ビーム
のビーム電流が約500〜600[μA]のとき(以
下、「平均電流」という)に行う為、ビーム電流が少な
い低輝度域(約10[μA])およびビーム電流が多い
高輝度域(約3000〜4000[μA])では、ジャ
ストフォーカス電圧(EF2)より実際に加わる電圧
(EF1)が高いことになる。
Further, the conventional electron gun for cathode ray tube is shown in FIG.
In the electron beam optical model shown in 0, the distance a from the main electron lens to the virtual object point changes depending on the amount of electrons extracted from the cathode (hereinafter referred to as the beam current), and from the main lens to the virtual object point. The distance a changes as shown in FIG. As a result, the optimum focusing electrode voltage (hereinafter referred to as “just focus voltage”) that minimizes the spot diameter at each beam current changes as shown in FIG.
Normally, the just focus voltage is adjusted when the beam current of each electron beam is about 500 to 600 [μA] (hereinafter, referred to as “average current”), so that the beam current is low in a low luminance region (about 10 [μA]). ]) And a high brightness region (about 3000 to 4000 [μA]) where the beam current is large, the voltage (EF1) actually applied is higher than the just focus voltage (EF2).

【0008】この状態は、ジャストフォーカスよりも未
収束状態になることを示しており、つまり、低輝度領域
および高輝度領域では、電子ビームスポットはブルーミ
ングとなる。このため、高輝度域では電子ビームの発散
角θが増大し、ハローが出やすくなることから、ハロー
を軽減させるという点では上記現象は都合がよい。逆
に、低輝度域では、発散角θが小さく、もともとハロー
が出にくいので、上記現象により、電子ビームスポット
は図9(c)に示すように水平端でほぼジャストフォー
カスの状態になる。
This state indicates that it is in an unfocused state rather than just focus, that is, the electron beam spot becomes blooming in the low luminance region and the high luminance region. For this reason, the divergence angle θ of the electron beam increases in the high brightness region, and the halo is likely to appear. Therefore, the above phenomenon is convenient in terms of reducing the halo. On the other hand, in the low luminance region, the divergence angle θ is small and the halo is difficult to appear from the beginning, so that the electron beam spot is in a just focus state at the horizontal end due to the above phenomenon, as shown in FIG. 9C.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来のインライン型陰
極線管の電子銃は以上のように構成されているので、平
均電流域から高輝度領域までのフォーカス特性は、問題
なく良好である反面、低輝度領域で画面両側部のビーム
スポット径が小さく絞れすぎる為に、図13に示すよう
にスジ状のモアレ(シャドーマスクのブリッジピッチと
走査線の干渉縞)が発生し、画質を劣化させるという問
題点があった。特に最近は、画面の縦横比が16:9の
ワイドテレビジョン受像機の普及に伴い、画面の垂直幅
を自由に可変出来るようになっているので、今までのよ
うに画面の垂直幅と走査線本数からモアレの最も目立た
ないシャドーマスクのブリッジピッチを設定するという
方法が取れなくなり、問題が大きくなっている。
Since the conventional electron gun of the in-line type cathode ray tube is constructed as described above, the focusing characteristics from the average current region to the high brightness region are good without any problem, but low. Since the beam spot diameters on both sides of the screen are too small in the brightness area, streak-shaped moire (bridge mask pitch of shadow mask and interference fringes of scanning lines) occurs as shown in FIG. 13, which deteriorates image quality. There was a point. In particular, recently, with the widespread use of wide-screen televisions with an aspect ratio of 16: 9, the vertical width of the screen can be freely changed. The problem of increasing the bridge pitch of the shadow mask, which is the most inconspicuous moiré pattern from the number of lines, cannot be taken.

【0010】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、従来の陰極線管と同様に、平均
電流域から高輝度領域までのフォーカス特性が良好で、
かつ、低輝度領域で画面両側部にモアレの発生しないイ
ンライン型陰極線管の電子銃を得ることを目的としてい
る。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and like the conventional cathode ray tube, the focusing characteristic from the average current region to the high brightness region is good,
Moreover, it is an object of the present invention to obtain an electron gun of an in-line type cathode ray tube in which moire does not occur on both sides of the screen in a low brightness area.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明に係るインライ
ン型陰極線管は、直線状に配置された複数の陰極と、こ
の複数の陰極に対向して設けられた複数の電子ビーム通
過孔をそれぞれ有する制御電極、加速電極、集束電極、
陽極が所定の間隔を隔てて順次配置された電子銃を備え
たインライン型陰極線管において、加速電極の電子ビー
ム通過孔部の板厚tと電子ビーム通過孔の孔径dの比t
/dが、0.3≦t/d≦0.65に形成されたもので
ある。
An in-line type cathode ray tube according to the present invention has a plurality of linearly arranged cathodes and a plurality of electron beam passage holes provided so as to face the plurality of cathodes. Control electrode, acceleration electrode, focusing electrode,
In an in-line type cathode ray tube equipped with an electron gun in which the anodes are sequentially arranged at a predetermined interval, a ratio t between a plate thickness t of the electron beam passage hole portion of the acceleration electrode and a hole diameter d of the electron beam passage hole.
/ D is formed so that 0.3 ≦ t / d ≦ 0.65.

【0012】また、加速電極の制御電極側に電子ビーム
通過孔の配列方向の長さが直角方向よりも長いスロツト
を設けたものである。
Further, a slot is provided on the control electrode side of the accelerating electrode in which the length of the electron beam passage holes in the arrangement direction is longer than that in the perpendicular direction.

【0013】また、制御電極の電子ビーム通過孔を電子
ビーム通過孔の配列方向の長さが直角方向よりも長い形
状に構成するとともに、当該制御電極加速電極側に電子
ビーム通過孔の配列方向よりも直角方向の方が長い形状
のスロットを設けたものである。
Further, the electron beam passage holes of the control electrode are formed to have a shape in which the length of the electron beam passage holes in the arrangement direction is longer than the right angle direction, and the electron beam passage holes are arranged closer to the control electrode acceleration electrode side than the arrangement direction of the electron beam passage holes. Is also provided with a slot having a shape longer in the right-angled direction.

【0014】また、集束電極の加速電極側に、電子ビー
ム通過孔の配列方向よりも直角方向の方が長いスロット
を設けたりしたものである。
Further, a slot is provided on the accelerating electrode side of the focusing electrode in the direction orthogonal to the arrangement direction of the electron beam passage holes.

【0015】[0015]

【作用】この発明によれば、電子銃の電子レンズ特性に
より低輝度領域における主電子レンズから仮想物点まで
の距離が、平均電流領域での主電子レンズから仮想物点
までの距離より大きいため、低輝度領域における画面両
端のフォーカス状態がハロー方向になる。従って、たと
え低輝度領域で電子ビームの発散角θが小さくても、偏
向磁界の影響を受け、画面両側部のビームスポット状態
がハローになり、スポット径が大きくなる。このため絞
れすぎのために発生していた低輝度領域の画面両側部の
モアレの発生が解消される。
According to the present invention, the distance from the main electron lens to the virtual object point in the low luminance region is larger than the distance from the main electron lens to the virtual object point in the average current region due to the electron lens characteristics of the electron gun. , The focus state at both ends of the screen in the low brightness area is in the halo direction. Therefore, even if the divergence angle θ of the electron beam is small in the low luminance region, the beam spot state on both sides of the screen becomes halo and the spot diameter becomes large due to the influence of the deflection magnetic field. Therefore, the occurrence of moire on both sides of the screen in the low-luminance region due to excessive narrowing is eliminated.

【0016】また、各電極に設けたスロットにより、電
子ビームの発散状態を調整することができ、画面両側の
解像度の劣化を改善することができる。
Further, the slot provided in each electrode can adjust the divergence state of the electron beam, and can improve the deterioration of the resolution on both sides of the screen.

【0017】[0017]

【実施例】【Example】

実施例1.以下、この発明の一実施例について説明す
る。図1は実施例1の電子銃の3極部の設定寸法を示す
縦断面図で、陰極6aを含む3極部のみを示している。
図において、L1は制御電極1と加速電極2との間隔、
L2は加速電極2と集束電極3との間隔、dは加速電極
2の電子ビーム通過孔の孔径、tは加速電極2の電子ビ
ーム通過孔部の板厚である。
Example 1. An embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing set dimensions of the three-pole portion of the electron gun of the first embodiment, showing only the three-pole portion including the cathode 6a.
In the figure, L1 is the distance between the control electrode 1 and the acceleration electrode 2,
L2 is the distance between the acceleration electrode 2 and the focusing electrode 3, d is the hole diameter of the electron beam passage hole of the acceleration electrode 2, and t is the plate thickness of the electron beam passage hole portion of the acceleration electrode 2.

【0018】発明者の解析および技術調査等によれば、
ビーム電流に対する電子レンズから仮想物点までの距離
の変化に最も影響のある寸法は、加速電極2の電子ビー
ム通過孔部の板厚tであることが判った。これは制御電
極1と加速電極2の付近に形成されるクロスオーバ、お
よび加速電極2と集束電極3の間に形成されるプリフォ
ーカスレンズの位置関係が、制御電極2の板厚tにより
変化する為であると考えられる。
According to the inventor's analysis and technical research,
It was found that the dimension most affecting the change in the distance from the electron lens to the virtual object point with respect to the beam current is the plate thickness t of the electron beam passage hole of the acceleration electrode 2. This is because the positional relationship between the crossover formed near the control electrode 1 and the acceleration electrode 2 and the prefocus lens formed between the acceleration electrode 2 and the focusing electrode 3 changes depending on the plate thickness t of the control electrode 2. It is thought to be for the reason.

【0019】通常使用されているL1=0.1〜0.3
mm、L2=0.7〜1.5mm、d=0.4〜0.6
4mmの範囲内で、ビーム電流に対する主電子レンズか
ら仮想物点までの距離をシミュレーションした結果を図
2に示す。従来の加速電極2の電子ビーム通過孔部の板
厚tは、孔径dで正規化した場合、0.65<t/dで
あり、図2中に実線で示した特性のようになり、平均電
流域における主電子レンズから仮想物点までの距離a1
に対し、低電流域での主電子レンズから仮想物点までの
距離a2はa2<a1となる。
Normally used L1 = 0.1-0.3
mm, L2 = 0.7 to 1.5 mm, d = 0.4 to 0.6
FIG. 2 shows the result of simulating the distance from the main electron lens to the virtual object point with respect to the beam current within the range of 4 mm. The plate thickness t of the electron beam passage hole portion of the conventional accelerating electrode 2 is 0.65 <t / d when normalized by the hole diameter d, and becomes the characteristic shown by the solid line in FIG. Distance a1 from the main electron lens to the virtual object point in the current range
On the other hand, the distance a2 from the main electron lens to the virtual object point in the low current region is a2 <a1.

【0020】これに対し、t/d≦0.65にすること
により、図2中に破線で示したように、低輝度領域での
主電子レンズから仮想物点までの距離a3はa3>a1
となることが判った。この現象は、先にものべたように
t/d≦0.65にすることにより従来例に比べて加速
電極2の電子ビーム通過孔部の板厚が薄くなり、加速電
極2と集束電極3との間に形成されるプリフォーカスが
クロスオーバに近づく為である。
On the other hand, by setting t / d ≦ 0.65, as shown by the broken line in FIG. 2, the distance a3 from the main electron lens to the virtual object point in the low luminance region is a3> a1.
It turns out that This phenomenon is caused by setting t / d ≦ 0.65, as described above, so that the plate thickness of the electron beam passage hole portion of the acceleration electrode 2 becomes thinner than that of the conventional example, and the acceleration electrode 2 and the focusing electrode 3 are This is because the prefocus formed during the period approaches the crossover.

【0021】次に、前記特性を、実際の陰極線管にてビ
ーム電流に対するジャストフォーカス電圧の変化を調べ
ることで確認した。その結果を図3に示す。従来例の
0.65<t/dの場合、やはり平均電流領域でのジャ
ストフォーカス電圧EF1に対し、低輝度領域のジャス
トフォーカス電圧EF2がEF2<EF1と低いのに対
し、実施例のt/d≦0.65の場合は低輝度領域のジ
ャストフォーカス電圧EF3がEF3>EF1と高くな
る。この時t/d<0.3となると、図3中に一点鎖線
で示すように、高輝度領域でジャストフォーカス電圧が
従来例の0.65<t/dに比べて高くなり、高輝度領
域でのフォーカス特性が劣化する。したがつて、0.3
≦t/d≦0.65にすることが望ましい。
Next, the above characteristics were confirmed by examining the change of the just focus voltage with respect to the beam current in an actual cathode ray tube. The result is shown in FIG. In the case of 0.65 <t / d in the conventional example, the just focus voltage EF2 in the low luminance region is low as EF2 <EF1 with respect to the just focus voltage EF1 in the average current region as well. In the case of ≤0.65, the just focus voltage EF3 in the low luminance region becomes high as EF3> EF1. At this time, when t / d <0.3, the just focus voltage becomes higher in the high-brightness region than 0.65 <t / d in the conventional example, as shown by a dashed line in FIG. The focus characteristics deteriorate at. Therefore, 0.3
It is desirable that ≦ t / d ≦ 0.65.

【0022】以上の結果、本実施例の0.3≦t/d≦
0.65の場合、陰極線管装置の集束電圧調整(以下、
「ジャストフォーカス調整」という)が平均電流領域で
行われるので、低輝度領域ではジャストフォーカス電圧
より低い電圧が印加されることになり、電子ビームスポ
ットの状態がハロー(過収束)状態になるのと電子銃の
非点収差特性が相まって、結局、低輝度領域での電子ビ
ームスポットの形状は、図4に示すように画面水平端部
での電子ビームスポット径が、ハローになる垂直方向が
劣化する。これにより、ビームスポットの絞れ過により
発生していた画面両側部のモアレは発生しなくなる。
As a result of the above, 0.3 ≦ t / d ≦ of this embodiment
In the case of 0.65, the focusing voltage adjustment of the cathode ray tube device (hereinafter,
Since "just focus adjustment" is performed in the average current region, a voltage lower than the just focus voltage is applied in the low brightness region, and the state of the electron beam spot becomes a halo (overfocus) state. As a result of the combination of the astigmatism characteristics of the electron gun, the shape of the electron beam spot in the low luminance region is deteriorated in the vertical direction in which the electron beam spot diameter at the horizontal edge of the screen becomes halo as shown in FIG. . As a result, the moire on both sides of the screen, which was caused by the excessive narrowing of the beam spot, does not occur.

【0023】また、これは、低輝度領域での水平両側部
の電子ビームスポット径が大きくなることを意味するの
で解像度の劣化が考えられるが、10[μA]程度の低
輝度領域での電子ビームスポット径は十分小さいので全
く問題にはならない。
Further, this means that the electron beam spot diameters on both sides in the horizontal direction in the low luminance region become large, so that the resolution may be deteriorated, but the electron beam in the low luminance region of about 10 [μA] is considered. Since the spot diameter is small enough, there is no problem at all.

【0024】また、平均電流領域以上の高輝度領域での
ビーム電流に対するジャストフォーカス電圧特性は、図
3に示すように従来例の場合とほとんど変わらず、高輝
度領域でのフォーカス特性はおおよそ維持される。
Further, the just focus voltage characteristic with respect to the beam current in the high luminance region above the average current region is almost the same as that of the conventional example as shown in FIG. 3, and the focus characteristic in the high luminance region is substantially maintained. It

【0025】実施例2.なお、上記実施例1では、高輝
度領域でのビーム電流に対するジャストフォーカス電圧
の変化は、従来例とほぼ同一であるが図10に示す電子
ビームの発散角θが若干大きくなる。この為、偏向磁界
の影響を受け易くなり、高輝度領域において画面周辺部
の電子ビームスポットの垂直方向にハローが発生し、解
像度が若干悪くなる。
Example 2. In Example 1, the change of the just focus voltage with respect to the beam current in the high brightness region is almost the same as that of the conventional example, but the divergence angle θ of the electron beam shown in FIG. 10 is slightly increased. Therefore, the deflection magnetic field is apt to be influenced, and a halo is generated in the vertical direction of the electron beam spot in the peripheral portion of the screen in the high luminance region, and the resolution is slightly deteriorated.

【0026】実施例2はこの問題点を解消するためのも
ので、加速電極2の電子ビーム通過孔部の板厚tを0.
3≦t/d≦0.65に維持したまま、図5(a)に示
すように、加速電極2の制御電極1側に電子ビーム通過
孔の配列方向(電子銃の配列方向)(以下、「水平方
向」という)の長さが、直角方向(以下、「垂直方向」
という)よりも長い長方形のスロット2dを設ければよ
い。図5(b)はスロット2dの形状を示す三面図であ
る。この水平方向に長いスロット2dを設けることによ
り、図5(c)に示すように電子ビームの垂直方向の発
散角θを押さえることができ、高輝度領域で画面両側部
の電子ビームスポットの垂直方向のハローを軽減できる
ので、解像度の劣化を防ぐことができる。
The second embodiment is intended to solve this problem, and the plate thickness t of the electron beam passage hole portion of the acceleration electrode 2 is set to 0.
While maintaining 3 ≦ t / d ≦ 0.65, as shown in FIG. 5A, the arrangement direction of the electron beam passage holes on the side of the control electrode 1 of the acceleration electrode 2 (the arrangement direction of the electron gun) (hereinafter, The length of the "horizontal direction" is the right angle direction (hereinafter "vertical direction")
It is sufficient to provide a rectangular slot 2d longer than the above). FIG. 5B is a trihedral view showing the shape of the slot 2d. By providing the slot 2d that is long in the horizontal direction, the divergence angle θ in the vertical direction of the electron beam can be suppressed as shown in FIG. 5C, and the vertical direction of the electron beam spots on both sides of the screen in the high brightness region can be suppressed. Since the halo of can be reduced, the deterioration of resolution can be prevented.

【0027】実施例3.図6はこの発明の実施例3を示
す図で、図6(a)は3極部の断面図、図6(b)は制
御電極1の加速電極2側に設けたスロツト1dの形状を
示す三面図である。この制御電極1は電子ビーム通過孔
1aを水平方向の長い長方形に形成するとともに、スロ
ット1dの形状を垂直方向が長い長方形に形成したもの
である。
Embodiment 3 FIG. 6A and 6B are views showing a third embodiment of the present invention. FIG. 6A shows a sectional view of a triode portion, and FIG. 6B shows a shape of a slot 1d provided on the acceleration electrode 2 side of the control electrode 1. FIG. In this control electrode 1, the electron beam passage hole 1a is formed in a rectangular shape having a long horizontal direction, and the slot 1d is formed in a rectangular shape having a long vertical direction.

【0028】この実施例3によれば、上記電子ビーム通
過孔1aとスロット1dの相乗効果により図6(c)に
示すように電子ビームの垂直方向の発散角θを実施例2
の場合よりも小さく押さえることができるので、高輝度
領域にかける画面両側部の電子ビームスポットの垂直方
向のハローを実施例2よりもさらに軽減でき、解像度の
劣化をさらに小さくすることができる。
According to the third embodiment, due to the synergistic effect of the electron beam passage hole 1a and the slot 1d, the vertical divergence angle θ of the electron beam as shown in FIG.
Since the vertical halo of the electron beam spots on both sides of the screen applied to the high-luminance region can be further reduced as compared with the second embodiment, the deterioration of resolution can be further reduced.

【0029】実施例4.図7はこの発明の実施例4を示
す図で、図7(a)は3極部の断面図、図7(b)は集
束電極3の加速電極2側に設けたスロット3dの形状を
示す三面図で、この集束電極3のスロット3dは、垂直
方向が水平方向よりも長い長方形に形成したものであ
る。
Example 4. 7A and 7B are views showing Embodiment 4 of the present invention. FIG. 7A is a sectional view of a three-pole portion, and FIG. 7B shows a shape of a slot 3d provided on the accelerating electrode 2 side of the focusing electrode 3. In the three views, the slot 3d of the focusing electrode 3 is formed in a rectangular shape in which the vertical direction is longer than the horizontal direction.

【0030】この実施例4によれば、電子ビームの垂直
方向の発散角θを、図7(c)に示すように実施例3の
場合よりも小さく押さえることができるので、高輝度領
域における画面両側部の電子ビームスポットの垂直方向
のハローをさらに軽減でき、解像度の劣化をさらに小さ
くすることができる。
According to the fourth embodiment, the divergence angle θ of the electron beam in the vertical direction can be suppressed to be smaller than that in the third embodiment as shown in FIG. The vertical halo of the electron beam spots on both sides can be further reduced, and the deterioration of resolution can be further reduced.

【0031】なお、上記各実施例では、各電極1,2,
3に設けたスロット1d,2d,3dの形状を長方形と
したが、長円形、だ円形などであっても同様の効果を奏
する。
In the above embodiments, the electrodes 1, 2,
Although the slots 1d, 2d, and 3d provided in No. 3 have a rectangular shape, the same effect can be obtained even if they are oval or elliptical.

【0032】また、上記実施例3では、スロット1dと
2dを設けたが、スロット1dのみをもうけた場合でも
一定の効果が得られる。また、上記実施例4では、スロ
ット1d,2dおよび3dを設けたが、スロット3dの
みを設けた場合でも一定の効果が得られる。
Further, although the slots 1d and 2d are provided in the third embodiment, a certain effect can be obtained even when only the slot 1d is provided. Further, although the slots 1d, 2d and 3d are provided in the fourth embodiment, a certain effect can be obtained even when only the slot 3d is provided.

【0033】また、上記各実施例は、ハイポテンシャル
形電子銃について説明したが、ユニポテンシャル形電子
銃、および多段集束形電子銃にも同様に適用して同様の
効果を得ることができる。
Although the above embodiments have been described with respect to the high potential type electron gun, the same effects can be obtained by applying the same to a unipotential type electron gun and a multi-stage focusing type electron gun.

【0034】[0034]

【発明の効果】この発明によれば、電子銃の3極部を構
成する加速電極の電子ビーム通過孔部の板厚tと電子ビ
ーム通過孔の孔径dの比t/dを0.3≦t/d≦0.
65となるようにしたので、電子ビームの平均電流域か
ら高輝度領域までのフォーカス特性が良く、かつ低輝度
領域において画面両側部分に生じるモアレを抑制できる
効果が得られる。
According to the present invention, the ratio t / d of the plate thickness t of the electron beam passage hole of the accelerating electrode constituting the three-pole portion of the electron gun and the hole diameter d of the electron beam passage hole is 0.3≤. t / d ≦ 0.
Since it is set to 65, the focusing characteristic from the average current region of the electron beam to the high luminance region is good, and the moire generated on both sides of the screen in the low luminance region can be suppressed.

【0035】また、加速電極の電子ビーム通過孔を電子
ビーム通過孔の配列方向の長さが直角方向より長い長方
形、長円形またはだ円形に形成するとともに、当該電極
の制御電極に対向する面に、電子銃配列方向の長さが直
角方向よりも長い長方形、長円形またはだ円形のスロッ
トを形成したので、高輝度領域で画面両端部の電子ビー
ムスポットの垂直方向のハローを軽減でき、加速電極の
板厚を小さくしたことにより発散角の増大に伴う解像度
の劣化を改善することができる。
Further, the electron beam passage holes of the accelerating electrode are formed in a rectangle, an ellipse, or an ellipse whose length in the arrangement direction of the electron beam passage holes is longer than the right angle direction, and the surface of the electrode facing the control electrode is formed. Since the rectangular, elliptical or elliptical slot whose length in the electron gun array direction is longer than the right angle direction is formed, the vertical halo of the electron beam spots at both edges of the screen can be reduced in the high brightness area, and the acceleration electrode By reducing the plate thickness of, the deterioration of resolution due to the increase of the divergence angle can be improved.

【0036】また、制御電極の加速電極に対向する面
に、電子ビーム通過孔の配列方向の長さよりも直角方向
が長い長方形、長円形またはだ円形のスロツトを形成し
たので、高輝度領域におけるフォーカス特性が向上す
る。
Further, since a rectangular, oval or elliptical slot having a direction perpendicular to the length in the arrangement direction of the electron beam passage holes is formed on the surface of the control electrode facing the accelerating electrode, the focus in the high brightness region is increased. The characteristics are improved.

【0037】また、集束電極の加速電極に対向する面
に、電子ビーム通過孔の配列方向よりも直角方向が長い
スロットを形成したので、高輝度領域におけるフォーカ
ス特性が向上する。
Further, since the slot which is longer in the direction perpendicular to the arrangement direction of the electron beam passage holes is formed on the surface of the focusing electrode facing the acceleration electrode, the focus characteristic in the high brightness region is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施例1の電子銃の3極部の縦断
面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view of a three-pole portion of an electron gun according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 実施例1のビーム電流に対する主レンズから
仮想物点までの距離の変化を示す特性図である。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing changes in the distance from the main lens to a virtual object point with respect to the beam current of Example 1.

【図3】 実施例1のビーム電流に対するジャストフォ
ーカス電圧特性を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a just focus voltage characteristic with respect to a beam current according to the first embodiment.

【図4】 実施例1の低輝度ビームスポットの形状を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a shape of a low-luminance beam spot according to the first embodiment.

【図5】 この発明の実施例2の電子銃の3極部の縦断
面図、加速電極の3面図および作用の説明図である。
5A and 5B are a longitudinal sectional view of a triode portion of an electron gun of Embodiment 2 of the present invention, a trihedral view of an accelerating electrode, and an explanatory view of the operation.

【図6】 この発明の実施例3の電子銃の3極部の縦断
面図、制御電極の3面図および作用の説明図である。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a three-pole portion of an electron gun according to a third embodiment of the present invention, a three-sided view of a control electrode, and an explanatory view of the operation.

【図7】 この発明の実施例4の電子銃の3極部の縦断
面図、集束電極の3面図および作用の説明図である。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a three-pole portion of an electron gun according to a fourth embodiment of the present invention, a three-sided view of a focusing electrode, and an explanatory view of the operation.

【図8】 インライン形陰極線管の縦断面図である。FIG. 8 is a vertical cross-sectional view of an in-line type cathode ray tube.

【図9】 両面上の収束状態を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a converged state on both sides.

【図10】 電子ビームの光学モデルを示した図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing an optical model of an electron beam.

【図11】 ビーム電流値に対する主レンズから仮想物
点までの距離の変化特性を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a change characteristic of a distance from a main lens to a virtual object point with respect to a beam current value.

【図12】 ビーム電流値に対するジャストフォーカス
電圧特性を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a just focus voltage characteristic with respect to a beam current value.

【図13】 低輝度領域において画面の両側に生じるモ
アレを示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing moire generated on both sides of the screen in a low brightness area.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 制御電極、1a,2a,3a 電子ビーム通過孔、
1d,2d,3d スロット、2 加速電極、3 集束
電極、6a 陰極。
1 control electrode, 1a, 2a, 3a electron beam passage hole,
1d, 2d, 3d slots, 2 acceleration electrodes, 3 focusing electrodes, 6a cathodes.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 直線状に配置された複数の陰極と、この
複数の陰極に対応して設けられた複数の電子ビーム通過
孔をそれぞれ有する制御電極、加速電極、集束電極、陽
極が所定の間隔を隔てて順次配置された電子銃を備えた
インライン型陰極線管において、上記加速電極の板厚t
と電子ビーム通過孔の孔径dの比t/dを、0.3≦t
/d≦0.65に形成したことを特徴とするインライン
型陰極線管。
1. A control electrode, an acceleration electrode, a focusing electrode, and an anode each having a plurality of linearly arranged cathodes and a plurality of electron beam passage holes provided corresponding to the plurality of cathodes, are arranged at predetermined intervals. In an in-line type cathode ray tube provided with an electron gun which is sequentially arranged with a space t, the plate thickness t of the accelerating electrode is
And the hole diameter d of the electron beam passage hole, t / d is 0.3 ≦ t
/D≦0.65, an in-line type cathode ray tube.
【請求項2】 加速電極の制御電極に対向する面に、電
子ビーム通過孔の配列方向の長さが直角方向の長さより
も長い方形、長円形またはだ円形のスロット上記電子ビ
ーム通過孔を取り囲んで形成し、上記電子ビーム通過孔
部の板厚をtとしたことを特徴とする請求項1記載のイ
ンライン型陰極線管。
2. A rectangular, oval or elliptical slot in which the length of the accelerating electrode facing the control electrode in the direction of arrangement of the electron beam passage holes is longer than the length in the direction orthogonal to the electron beam passage hole. 2. The in-line type cathode ray tube according to claim 1, wherein the electron beam passage hole is formed by a plate thickness t.
【請求項3】 制御電極の電子ビーム通過孔を、電子ビ
ーム通過孔の配列方向の長さが直角方向の長さよりも長
い方形に形成するとともに、当該制御電極の加速電極に
対向する面に、電子ビーム通過孔の配列方向の長さより
も直角方向の長さの方が長い方形、長円形またはだ円形
のスロットを上記電子ビーム通過孔を取り囲んで形成
し、上記電子ビーム通過孔部の板厚をtとしたことを特
徴とする請求項1記載のインライン型陰極線管。
3. An electron beam passage hole of the control electrode is formed in a rectangular shape in which the length of the electron beam passage hole in the arrangement direction is longer than the length in the orthogonal direction, and the surface of the control electrode facing the acceleration electrode is formed. A rectangular, oval or elliptical slot whose length in the direction perpendicular to the electron beam passage holes is longer than that in the arrangement direction is formed so as to surround the electron beam passage holes. 2. The in-line type cathode ray tube according to claim 1, wherein t is t.
【請求項4】 集束電極の加速電極に対向する面に、電
子ビーム通過孔の配列方向の長さよりも直角方向の長さ
の方が長い方形、長円形またはだ円形のスロットを形成
し、上記電子ビーム通過孔部の板厚をtとしたことを特
徴とする請求項1記載のインライン型陰極線管。
4. A rectangular, oval or elliptical slot whose length in a direction orthogonal to the arrangement direction of the electron beam passage holes is formed on a surface of the focusing electrode facing the accelerating electrode. The in-line type cathode ray tube according to claim 1, wherein the plate thickness of the electron beam passage hole portion is t.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002043101A1 (en) * 2000-11-21 2002-05-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Cathode ray tube
KR20030060616A (en) * 2002-01-10 2003-07-16 엘지.필립스디스플레이(주) Gun for Color CRT
KR100442953B1 (en) * 2002-07-25 2004-08-04 엘지.필립스디스플레이(주) Electron gun of color cathode ray tube
US6800991B2 (en) 2002-02-07 2004-10-05 Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. Cathode ray tube
US6833680B2 (en) 2002-02-28 2004-12-21 Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. Structure of electron gun for color cathode ray tube
KR100474356B1 (en) * 2002-06-12 2005-03-10 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 Electron gun for CRT

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002043101A1 (en) * 2000-11-21 2002-05-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Cathode ray tube
KR20030060616A (en) * 2002-01-10 2003-07-16 엘지.필립스디스플레이(주) Gun for Color CRT
US6800991B2 (en) 2002-02-07 2004-10-05 Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. Cathode ray tube
US6833680B2 (en) 2002-02-28 2004-12-21 Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. Structure of electron gun for color cathode ray tube
KR100474356B1 (en) * 2002-06-12 2005-03-10 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 Electron gun for CRT
KR100442953B1 (en) * 2002-07-25 2004-08-04 엘지.필립스디스플레이(주) Electron gun of color cathode ray tube

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Effective date: 20040309

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