JPH08203296A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

Info

Publication number
JPH08203296A
JPH08203296A JP7012887A JP1288795A JPH08203296A JP H08203296 A JPH08203296 A JP H08203296A JP 7012887 A JP7012887 A JP 7012887A JP 1288795 A JP1288795 A JP 1288795A JP H08203296 A JPH08203296 A JP H08203296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
redundant
address
signal
circuit
memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7012887A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3600647B2 (en
Inventor
Hiroshi Akamatsu
宏 赤松
Toru Ichimura
徹 市村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP01288795A priority Critical patent/JP3600647B2/en
Publication of JPH08203296A publication Critical patent/JPH08203296A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3600647B2 publication Critical patent/JP3600647B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a semiconductor storage device enabling external electrical discrimination of the existence or nonexistence of a redundant memory being used and the address of a failure bit. CONSTITUTION: When an address signal coincides with a failure address in a fail address memory 120, and a selection signal is outputted from an address comparing circuit 118 to a spare decoder 116 in the process of a redundant circuit test mode wherein a test mode signal te is outputted from a timing generation circuit 122, an output of an NAND circuit 132 turns to be at an 'L' level and a stepping-down operation of a voltage step-down circuit 126 stops. Only in the case where the failure address is accessed, accordingly, an operation is executed with an external voltage and the access time and others are changed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は製造中に発生する欠陥を
救済することが可能な半導体記憶装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device capable of relieving defects generated during manufacturing.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイナミック型ランダムアクセスメモリ
(以下、DRAMと呼ぶ)のような半導体記憶装置にお
いては、メモリセルアレイの大容量化が進むに従って、
チップ面積も増大し、不良ビットあるいはワード線の断
線もしくは短絡等のワード線不良による製造歩留りの低
下が問題となる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory device such as a dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM), as the capacity of a memory cell array increases,
The chip area also increases, and there is a problem that the manufacturing yield is reduced due to a defective bit or a word line defect such as disconnection or short circuit of the word line.

【0003】このため、チップ内に正規のメモリセルの
他に予備のメモリセル(以下、冗長ビットと呼ぶ)を予
め形成しておき、メモリセルアレイ内の不良ビットやワ
ード線不良を有する列または行を、予備のメモリ列また
はメモリ行と置換えることにより、不良ビットやワード
線不良を救済する冗長回路を設け、歩留りの向上を図る
ことが一般的である。
Therefore, in addition to the regular memory cells, spare memory cells (hereinafter referred to as redundant bits) are formed in advance in the chip, and columns or rows having defective bits or word line defects in the memory cell array are formed. Is generally replaced with a spare memory column or memory row to provide a redundant circuit for relieving a defective bit or word line defect to improve the yield.

【0004】ところで、メモリの不良解析等において
は、冗長ビットの使用の有無および救済された不良ビッ
トのアドレスを製品段階においても、分解検査等のよう
な非効率的な手段によらず知ることができれば便利であ
る。
By the way, in memory failure analysis and the like, it is possible to know whether or not a redundant bit is used and the address of the repaired defective bit without resorting to inefficient means such as disassembly inspection even at the product stage. It would be convenient if possible.

【0005】このような要請に応えるために、メモリ内
に冗長メモリセルが不良メモリセルの置換に用いられた
か否かを示す不揮発性記憶素子を設け、この不揮発性記
憶素子の状態を読出すことによって、このメモリが冗長
ビットを用いているか否かを知る技術が提案されてい
る。
In order to meet such a demand, a nonvolatile memory element indicating whether or not a redundant memory cell has been used for replacing a defective memory cell is provided in the memory, and the state of this nonvolatile memory element is read out. Has proposed a technique for knowing whether or not this memory uses redundant bits.

【0006】第1の従来例として、たとえば米国特許第
4,480,199号明細書に上記技術が開示されてい
る。
As a first conventional example, the above technique is disclosed, for example, in US Pat. No. 4,480,199.

【0007】図9に、上記冗長ビットの使用検出の回路
DTを示す。回路DTは、電源電圧VCCと内部回路CB
に接続した外部端子EXTとの間に固定記憶素子として
のヒューズFとダイオード接続されたMOSトランジス
タQ T1、QT2とを直列に含むように構成される。
FIG. 9 is a circuit for detecting the use of the redundant bit.
Shows DT. The circuit DT has a power supply voltage VCCAnd internal circuit CB
As a fixed memory element between the external terminal EXT connected to
MOS transistor which is diode-connected to the fuse F of
Q T1, QT2It is configured to include and in series.

【0008】冗長メモリセルが、正規のメモリセルアレ
イの不良メモリセルの機能的置換に用いられている場合
は、ヒューズFを切断し、そうでない場合はヒューズF
を非切断とする。このヒューズの切断はメモリのテスト
後に行なわれる。
The fuse F is blown if the redundant memory cell is used for the functional replacement of the defective memory cell of the normal memory cell array, and otherwise the fuse F.
Is not cut. The fuse is blown after the memory is tested.

【0009】通常の動作では外部端子EXTの電圧は、
電位VCCと接地電位の範囲内であり、トランジスタ
T1、QT2はオフとなり、ヒューズFを外部端子EXT
から電気的に分離する。このため、ヒューズFは通常動
作には全く影響を与えない。
In normal operation, the voltage at the external terminal EXT is
It is within the range of the potential V CC and the ground potential, the transistors Q T1 and Q T2 are turned off, and the fuse F is connected to the external terminal EXT.
Electrically separated from. Therefore, the fuse F does not affect the normal operation at all.

【0010】メモリが冗長メモリセルを用いているか否
かをチェックするときは、外部端子EXTに電源電位V
CCよりもトランジスタQT1およびQT2のしきい値の和分
だけ高い電圧を印加することによって、トランジスタQ
T1、QT2をオンとし、ヒューズFの断/非断状態を端子
EXTから端子VCCに至る電流の有無によって判定でき
る。
When checking whether or not the memory uses redundant memory cells, the power supply potential V is applied to the external terminal EXT.
By applying a voltage that is higher than CC by the sum of the threshold values of the transistors Q T1 and Q T2 ,
With T1 and Q T2 turned on, the blown / non-broken state of the fuse F can be determined by the presence / absence of a current from the terminal EXT to the terminal V CC .

【0011】しかし、この方法ではテスト時に通常の電
源電圧以上の高電圧を印加する必要があって、操作が複
雑であり、また、冗長ビットと置換されているアドレス
までを知ることはできない。
However, in this method, it is necessary to apply a high voltage higher than the normal power supply voltage at the time of testing, the operation is complicated, and it is not possible to know the address replaced with the redundant bit.

【0012】そこで、このような問題点を改善した第2
の従来例が、特開昭60−151899号公報に開示さ
れている。
[0012] Therefore, the second problem to solve the above problems
A conventional example of the above is disclosed in JP-A-60-151899.

【0013】図10は、この第2の従来例の構成を示す
概略ブロック図である。以下その構成とデータの読出動
作を簡単に説明する。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing the configuration of the second conventional example. The configuration and the data read operation will be briefly described below.

【0014】図10において、ロウアドレスバッファ1
a、カラムアドレスバッファ1bは外部からマルチプレ
クス方式で供給されるアドレス信号Axi、Ayiを受け
て、内部相補アドレス信号axi、/axiおよびayi、/
yiをそれぞれ形成する。
In FIG. 10, row address buffer 1
a, the column address buffer 1b receives the address signals A xi , A yi supplied from the outside by the multiplex method, and receives the internal complementary address signals a xi , / a xi and a yi , /
a yi are formed respectively.

【0015】また、ロウアドレスデコーダ2a、カラム
アドレスデコーダ2bは、上記内部相補アドレス信号を
受けて、ワード線選択信号とデータ線選択信号とをそれ
ぞれ形成する。
The row address decoder 2a and the column address decoder 2b receive the internal complementary address signal and form a word line selection signal and a data line selection signal, respectively.

【0016】ワード線選択信号はワード線ドライバ5に
供給され、アドレスAxiに対応するワード線ドライバを
選択し駆動可能にする。また、データ線選択信号はメモ
リアレイ6内の各データ線ごとに設けられたカラムスイ
ッチ7に供給される。
The word line selection signal is supplied to the word line driver 5 to select and drive the word line driver corresponding to the address A xi . Further, the data line selection signal is supplied to the column switch 7 provided for each data line in the memory array 6.

【0017】カラムアドレスデコーダ2bから出力され
る選択信号によってオンされたカラムスイッチ7を介し
て、アドレスAyiに対応された1本のデータ線のデータ
がセンスアンプ8によって増幅され、出力バッファ10
によって入出力用端子11に出力される。
The data of one data line corresponding to the address A yi is amplified by the sense amplifier 8 through the column switch 7 which is turned on by the selection signal output from the column address decoder 2b, and is output to the output buffer 10.
Is output to the input / output terminal 11.

【0018】一方、上記メモリアレイ6の一方の側に
は、予備のメモリ行6sが設けられている。
On the other hand, a spare memory row 6s is provided on one side of the memory array 6.

【0019】アドレス比較回路3は内部に欠陥ビットや
断線等の欠陥を有する不良ワード線のアドレスを、ヒュ
ーズのようなプログラム素子により記憶可能な不良アド
レス記憶手段(図示せず)を備え、外部から入力される
アドレス信号と内部に記憶されている不良アドレスとを
比較し、入力されたアドレスが不良アドレスと一致する
か否かを検出する。
The address comparison circuit 3 is provided with a defective address storage means (not shown) capable of storing an address of a defective word line having a defect such as a defective bit or a disconnection therein by a program element such as a fuse, and externally. The input address signal is compared with the defective address stored inside to detect whether the input address matches the defective address.

【0020】そして、入力されたアドレスと不良アドレ
スとが一致すると、冗長デコーダ4を動作させるような
信号φxij が形成され、冗長デコーダ4に供給されると
ともに、冗長デコーダ4からは、デコーダ禁止信号/φ
e が形成されてロウアドレスデコーダ2aに供給され
る。一方、冗長デコーダ4によって、予備メモリ行を選
択させるような“H”レベルの冗長選択信号φr が形成
され、冗長ワードドライバ5sに供給される。これによ
って、冗長ワードドライバ5sが駆動され、予備メモリ
行6sのワード線が選択レベルにされる。
When the input address matches the defective address, a signal φ xij for operating the redundant decoder 4 is formed and supplied to the redundant decoder 4, and the redundant decoder 4 outputs a decoder inhibit signal. / Φ
e is formed and supplied to the row address decoder 2a. On the other hand, by the redundant decoder 4, the redundancy selection signal phi r of "H" level, such as to select a spare memory row is formed, it is supplied to the redundant word driver 5s. As a result, the redundant word driver 5s is driven and the word line of the spare memory row 6s is set to the selection level.

【0021】また、冗長デコーダ4から出力されたデコ
ーダ禁止信号/φe によって、ロウアドレスデコーダ2
aのすべての動作が禁止され、ワード線ドライバ5が非
選択状態にされ、メモリアレイ6内の正規のワード線が
選択レベルにされないようになる。
Further, in accordance with the decoder inhibit signal / φ e output from the redundant decoder 4, the row address decoder 2
All the operations of a are prohibited, the word line driver 5 is deselected, and the regular word line in the memory array 6 is not set to the selected level.

【0022】一方、入力されたアドレスが不良アドレス
と一致しない場合には、冗長デコーダ4からハイレベル
の冗長選択信号φr が出力されないで、代わりにデコー
ダイネーブル信号φe が出力される。このイネーブル信
号φe がロウアドレスデコーダ2aに供給されて、デコ
ーダ2aが動作され、入力アドレスAxiに対応したワー
ド線ドライバ5が駆動されてメモリアレイ6内の正規の
ワード線が選択レベルにされるようになっている。
On the other hand, if the input address does not match the defective address, the redundancy decoder 4 does not output the high level redundancy selection signal φ r, but instead outputs the decoder enable signal φ e . The enable signal φ e is supplied to the row address decoder 2a, the decoder 2a is operated, the word line driver 5 corresponding to the input address A xi is driven, and the regular word line in the memory array 6 is set to the selection level. It has become so.

【0023】さらに、この第2の従来例では、外部から
供給されるチップセレクト信号/CS、ロウアドレスス
トローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号
/CASのような制御信号に基づいて、内部回路を制御
する信号φx 、φy 、φmaとを形成する内部信号発生回
路13が設けられている。さらに、チップセレクト信号
CSのような制御信号が入力されるコントロール端子1
4に印加される信号のレベルが、たとえば通常のメモリ
動作時の“H”レベル(+5V)よりも高いレベルにさ
れたような場合に、これを検知して所定の内部信号φc
を出力する特殊条件判定回路15が設けられている。
Further, in the second conventional example, the internal circuit is controlled based on the control signals such as the chip select signal / CS, the row address strobe signal / RAS, and the column address strobe signal / CAS supplied from the outside. An internal signal generating circuit 13 is provided for forming the signals φ x , φ y , and φ ma to be generated. Further, a control terminal 1 to which a control signal such as a chip select signal CS is input
When the level of the signal applied to 4 is higher than the "H" level (+ 5V) in the normal memory operation, for example, this is detected and a predetermined internal signal φ c is detected.
A special condition determination circuit 15 that outputs is provided.

【0024】この内部信号φc は、上記冗長デコーダ4
から出力される冗長選択信号φr とともにANDゲート
回路16に入力されている。また、上記特殊条件判定回
路15が接続されているコントロール端子14以外の他
のコントロール端子17と回路の接地点との間には、ス
イッチMOSFET18が接続され、このMOSFET
18は、上記ANDゲート回路16の出力信号によって
オン/オフ動作されるようになっている。
The internal signal φ c is supplied to the redundant decoder 4
It is input to the AND gate circuit 16 together with the redundancy selection signal φ r output from. A switch MOSFET 18 is connected between the control terminal 17 other than the control terminal 14 to which the special condition determination circuit 15 is connected and the ground point of the circuit.
18 is turned on / off by an output signal of the AND gate circuit 16.

【0025】したがって、/CS信号が印加されるチッ
プセレクト端子のようなコントロール端子14に、通常
よりも高いレベルの電圧を印加した状態で、アドレスA
x を次々と変化させながら、すべてのワード線をスキャ
ンさせるとともに、MOSFET18の接続されたコン
トロール端子17を監視する。
Therefore, with a voltage higher than usual applied to the control terminal 14 such as a chip select terminal to which the / CS signal is applied, the address A
While changing x one after another, all the word lines are scanned and the control terminal 17 connected to the MOSFET 18 is monitored.

【0026】このとき、不良アドレスがアクセスされる
と、ANDゲート回路16の出力レベルが“H”レベル
にされて、MOSFET18がオンされる。その結果、
コントロール端子17にリーク電流が流れるので、これ
を外付け装置によって検出してやれば、救済アドレス
(不良アドレス)を知ることができる。
At this time, when the defective address is accessed, the output level of the AND gate circuit 16 is set to the "H" level and the MOSFET 18 is turned on. as a result,
Since a leak current flows through the control terminal 17, the relief address (defective address) can be known by detecting this with an external device.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】従来の冗長メモリの使
用状態を判定可能な半導体記憶装置は、以上のような構
成であったので以下の問題点があった。
Since the conventional semiconductor memory device capable of judging the usage state of the redundant memory has the above-mentioned structure, it has the following problems.

【0028】すなわち、第1の従来例においては、第1
にはテストモードにおいて通常使用される電源電圧以上
の電圧を印加する必要があること、および、第2には不
良ビットの存在するアドレスを知ることができないこと
である。
That is, in the first conventional example, the first
It is necessary to apply a voltage higher than the power supply voltage normally used in the test mode, and secondly, it is impossible to know the address where the defective bit exists.

【0029】さらに、第2の従来例では、上記第2の問
題点は対策がとられているものの、第1および第2の従
来例とも製品段階でのテストにおいては、パッケージの
外部端子の1つを冗長ビットが使用されているか否かの
判定用として用いることが必要な点である。
Furthermore, in the second conventional example, although the above-mentioned second problem is taken as a countermeasure, in the tests at the product stage in both the first and second conventional examples, the external terminal 1 of the package is It is necessary to use one for determining whether the redundant bit is used or not.

【0030】DRAM等では商品規格上外部端子の数が
一定数に制限されている。一方で、メモリ容量の増大に
伴い、アドレス信号入力用やデータ入出力用に用いるべ
き外部端子数は増加し、空きの外部端子は事実上存在し
ない。このため、他の信号用に用いられている外部端子
を冗長ビット使用の判定用に流用せざるを得ない。した
がって、判定時には電源電圧以上の特別な電圧を必要と
し、またこの特別な電圧のためこの外部端子に接続され
る内部回路素子が損なわれたり、あるいは異常電流が生
じたり、メモリの信頼性を低下させるという問題を有し
ていた。
In the DRAM and the like, the number of external terminals is limited to a fixed number according to the product standard. On the other hand, as the memory capacity increases, the number of external terminals to be used for address signal input and data input / output increases, and there is virtually no empty external terminal. For this reason, the external terminals used for other signals have to be diverted to determine whether the redundant bits are used. Therefore, at the time of judgment, a special voltage higher than the power supply voltage is required, and the special voltage damages the internal circuit element connected to this external terminal or causes an abnormal current, which reduces the reliability of the memory. It had a problem of causing it.

【0031】この発明は、以上のような問題点を解決す
るためになされたもので、以下を目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems and has the following objects.

【0032】すなわち、冗長ビット判定時に他の目的に
供されている外部端子を流用する必要をなくし、ひいて
は、テスト中に電源電圧以上の特別な電圧を印加する必
要のない半導体記憶装置を提供することである。
That is, it is possible to provide a semiconductor memory device in which it is not necessary to divert an external terminal used for another purpose at the time of determining a redundant bit, and thus it is not necessary to apply a special voltage higher than a power supply voltage during a test. That is.

【0033】この発明の別の目的は、不良ビットの存在
するアドレスを、外部から電気的に判断し得る機能を有
する半導体記憶装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a function of externally electrically determining an address where a defective bit exists.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体記
憶装置は、入力アドレスと欠陥メモリセルの属する不良
アドレスとを比較するアドレス比較手段と、入力アドレ
スと不良アドレスとが一致する場合には予備メモリセル
列または行を選択する信号を発生する冗長メモリ選択信
号発生手段と、外部電源電圧を降圧して内部電源電圧を
供給する内部降圧回路とを備え、内部降圧回路は、降圧
動作状態と降圧動作停止状態とを切換える降圧回路制御
信号の入力端を含み、外部信号により設定された冗長回
路テストモードにおいては、冗長メモリ選択信号に応じ
て、冗長メモリ非選択時には降圧回路を降圧動作状態
に、冗長メモリ選択時には降圧回路を降圧動作停止状態
にする降圧回路制御信号を降圧回路制御信号入力端に入
力する降圧回路制御信号発生手段をさらに備えている。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, there is provided an address comparing means for comparing an input address with a defective address to which a defective memory cell belongs, and when the input address and the defective address match. A redundant memory selection signal generating means for generating a signal for selecting a spare memory cell column or a row, and an internal step-down circuit for stepping down an external power supply voltage to supply the internal power supply voltage are provided. In the redundant circuit test mode that includes the input terminal of the step-down circuit control signal that switches between the step-down operation stop state and the external signal, the step-down circuit is switched to the step-down operation state when the redundant memory is not selected in response to the redundant memory selection signal. , Step-down circuit control that inputs the step-down circuit control signal to the step-down circuit control signal input terminal to stop the step-down circuit when the redundant memory is selected Further comprising a No. generating means.

【0035】請求項2記載の半導体記憶装置は、不良ア
ドレスの有無を不揮発的に記憶する冗長機能記憶手段
と、入力アドレスと欠陥メモリセルの属する不良アドレ
スとを比較するアドレス比較手段と、入力アドレスと不
良アドレスとが一致する場合には予備メモリセル列また
は行を選択する冗長メモリ選択手段と、外部電源電圧を
降圧して内部電源電圧を供給する内部降圧回路とを備
え、内部降圧回路は、降圧動作状態と降圧動作停止状態
とを切換える降圧回路制御信号の入力端を含み、外部信
号により設定された冗長回路テストモードにおいては、
冗長機能記憶手段の記憶に応じて、冗長メモリ非使用時
には降圧回路を降圧動作状態に、冗長メモリ使用時には
降圧回路を降圧動作停止状態にする降圧回路制御信号を
降圧回路制御信号入力端に入力する降圧回路制御信号発
生手段をさらに備える。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, there is provided redundancy function memory means for storing the presence or absence of a defective address in a non-volatile manner, address comparing means for comparing an input address with a defective address to which a defective memory cell belongs, and an input address. And a defective address match, a redundant memory selecting means for selecting a spare memory cell column or row and an internal voltage down circuit for stepping down the external power supply voltage to supply the internal power supply voltage are provided. In the redundant circuit test mode including the input terminal of the step-down circuit control signal for switching between the step-down operation state and the step-down operation stop state, and the redundancy circuit test mode set by the external signal,
A step-down circuit control signal is input to the step-down circuit control signal input terminal to set the step-down circuit to the step-down operation state when the redundant memory is not used and to set the step-down circuit to the step-down operation stop state when the redundant memory is used, according to the storage of the redundant function storage means. It further comprises a step-down circuit control signal generating means.

【0036】請求項3記載の半導体記憶装置は、請求項
2記載の半導体記憶装置の構成に加えて、外部信号によ
り冗長回路テストモード指定信号を発生する手段をさら
に備え、冗長機能記憶手段は、第1の論理レベルに対応
する第1の電位の入力端と、第2の論理レベルに対応す
る第2の電位の入力端と、第1の電位の入力端と第2の
電位の入力端との間に直列に接続される抵抗体および不
揮発性スイッチ手段とを含み、降圧回路制御信号発生手
段は、冗長回路テストモード指定信号の入力する第1の
入力端と、抵抗体および不揮発性スイッチ手段の接続点
に接続する第2の入力端と、不揮発性スイッチ手段が遮
断状態の場合、冗長回路テストモード時は降圧動作を停
止状態とする信号を、冗長回路テストモード時以外は降
圧動作状態とする信号を出力し、不揮発性スイッチ手段
が導通状態の場合、冗長回路テストモード信号に関わり
なく、降圧動作状態とする信号を出力する出力端とを含
む。
According to a third aspect of the present invention, in addition to the configuration of the semiconductor memory device according to the second aspect, the semiconductor memory device further comprises means for generating a redundant circuit test mode designating signal in response to an external signal, and the redundant function memory means comprises: A first potential input end corresponding to the first logic level, a second potential input end corresponding to the second logic level, a first potential input end and a second potential input end A step-down circuit control signal generating means, the step-down circuit control signal generating means includes a first input terminal for inputting a redundant circuit test mode designating signal, and the resistor and non-volatile switching means. When the non-volatile switch means and the second input terminal connected to the connection point are disconnected, the signal for stopping the step-down operation in the redundant circuit test mode is changed to the step-down operation state except in the redundant circuit test mode. Do Outputs No., if the conductive state nonvolatile switching means, regardless of the redundancy circuit test mode signal, and an output terminal for outputting a signal to the step-down operation.

【0037】[0037]

【作用】請求項1記載の半導体記憶装置においては、冗
長回路テストモード中は、入力アドレスに応じて冗長メ
モリが選択されたときには、冗長メモリ選択信号に応じ
て内部降圧回路は降圧動作を停止し、外部電圧をそのま
ま供給する。
According to the semiconductor memory device of the present invention, in the redundant circuit test mode, when the redundant memory is selected according to the input address, the internal step-down circuit stops the step-down operation according to the redundant memory selection signal. , Supply the external voltage as it is.

【0038】請求項2記載の半導体記憶装置において
は、冗長回路テストモード中は、不良ビットが存在して
冗長メモリが使用されている場合には、予め不揮発性の
冗長機能記憶手段に記憶されている情報に応じて、内部
降圧回路は降圧動作を停止し外部電圧をそのまま供給す
る。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, in the redundant circuit test mode, if a defective bit exists and the redundant memory is used, it is stored in advance in the nonvolatile redundant function storage means. The internal voltage down circuit stops the voltage down operation and supplies the external voltage as it is according to the information.

【0039】請求項3記載の半導体記憶装置において
は、請求項2記載の半導体記憶装置における不揮発性の
冗長機能記憶手段は、第1の電位と第2の電位との間に
直列に接続された抵抗体および不揮発性スイッチ手段か
らなる。抵抗体とスイッチ手段の接続点の電位は、スイ
ッチ手段の開閉状態により、第1の電位あるいは第2の
電位を保持するので、これを記憶情報として請求項2と
同様の作用を奏する。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, the non-volatile redundancy function storage means in the semiconductor memory device of the second aspect is connected in series between the first potential and the second potential. It consists of a resistor and a non-volatile switch means. The electric potential at the connection point between the resistor and the switch means holds the first electric potential or the second electric potential depending on the open / close state of the switch means.

【0040】[0040]

【実施例】図1は、本発明の第1の実施例である半導体
記憶装置の構成を示す概略ブロック図である。
1 is a schematic block diagram showing the structure of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【0041】タイミング発生回路122は、ロウアドレ
スストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ
信号/CASおよびライトイネーブル信号/WEの特定
の組合せ、たとえば、WCBR(/WE、/CASビフ
ォア/RAS)で冗長回路テストモードに入る信号te
を出力する。ここで、WCBRとは、通常の動作状態で
はあり得ない、/RAS信号が“H”レベルから“L”
レベルへ立下がる前のタイミングで、/WE信号および
/CAS信号が“H”レベルから“L”レベルへ立下が
るという信号の組合せをいう。
Timing generation circuit 122 performs a redundancy circuit test with a specific combination of row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE, for example, WCBR (/ WE, / CAS before / RAS). Signal t e to enter mode
Is output. Here, WCBR means that the / RAS signal cannot be in a normal operation state from "H" level to "L".
A combination of signals in which the / WE signal and the / CAS signal fall from the "H" level to the "L" level at the timing before falling to the level.

【0042】ロウおよびコラムアドレスバッファ112
は、アドレス信号A0、A1、…、An に応じて、アド
レス比較回路118、行デコーダ106および列デコー
ダ104に内部アドレス信号を出力する。
Row and column address buffer 112
The address signals A0, A1, ..., in accordance with the A n, the address comparing circuit 118, and outputs an internal address signal to the row decoder 106 and column decoder 104.

【0043】アドレス比較回路118は、この内部アド
レス信号とフェールアドレスメモリ120に予めヒュー
ズ素子等により記憶されている不良アドレスとを比較す
る。両者が一致した場合は、アドレス比較回路118か
ら行デコーダ106に選択禁止信号が、スペアデコーダ
116に選択信号が出力される。列デコーダ104から
の信号により、選択された予備メモリアレイ114中の
メモリセルのビットデータは、センスアンプ108によ
り増幅され、出力バッファ130に出力され、最終的に
データ入出力端子に出力される。
The address comparison circuit 118 compares this internal address signal with a defective address stored in advance in the fail address memory 120 by a fuse element or the like. If they match, the address comparison circuit 118 outputs the selection prohibition signal to the row decoder 106 and the selection signal to the spare decoder 116. The bit data of the memory cell in the spare memory array 114 selected by the signal from the column decoder 104 is amplified by the sense amplifier 108, output to the output buffer 130, and finally output to the data input / output terminal.

【0044】書込動作は基本的に以上と逆の動作であ
る。ここで、冗長回路テストモード信号およびスペアデ
コーダ選択信号は、NAND回路132に入力する。冗
長回路テストモードに入り、かつ冗長メモリが選択され
たときのみ、両信号ともに“H”レベルとなって、NA
ND回路132の出力信号が“L”レベルとなる。NA
ND回路132の出力信号は、電圧降圧回路126に入
力する。この信号が“L”レベルの場合には、降圧回路
は降圧動作を停止して、外部電圧ext.VCCをそのま
ま出力する。
The write operation is basically the reverse operation to the above. Here, the redundant circuit test mode signal and the spare decoder selection signal are input to the NAND circuit 132. Only when the redundant circuit test mode is entered and the redundant memory is selected, both signals become "H" level and NA
The output signal of the ND circuit 132 becomes "L" level. NA
The output signal of the ND circuit 132 is input to the voltage down converter 126. When this signal is at "L" level, the step-down circuit stops the step-down operation, and external voltage ext. Output V CC as it is.

【0045】図2は、図1中のNAND回路132およ
び電圧降圧回路126のブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram of NAND circuit 132 and voltage down converter 126 in FIG.

【0046】信号te は、冗長セル使用判定の冗長回路
テストモード用の制御信号である。信号Bは、冗長セル
のアドレスデコード信号である。信号Cは内部降圧回路
の制御信号である。
The signal t e is a control signal for the redundant circuit test mode for determining the redundant cell use. The signal B is an address decode signal of the redundant cell. Signal C is a control signal for the internal voltage down converter.

【0047】また、図3はこの発明の動作を示すタイミ
ング図である。次に動作について説明する。冗長セル使
用判定用の冗長回路テストモードは、たとえば前述のW
CBRによってエントリし、CBRまたは/RASオン
リリフレッシュによって解除される。冗長回路テストモ
ードにエントリすると、制御信号te は“L”レベルか
ら“H”レベルに変化する。この信号te は、冗長回路
テストモード期間中は“H”レベルを維持し、特殊テス
トモード解除によって“H”レベルから“L”レベルに
変化する。また、通常動作時、スタンバイ時は、“L”
レベルのままである。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of the present invention. Next, the operation will be described. The redundant circuit test mode for determining the redundant cell use is, for example, the above-mentioned W.
It is entered by CBR and released by CBR or / RAS only refresh. When the redundant circuit test mode is entered, the control signal t e changes from "L" level to "H" level. The signal t e maintains the “H” level during the redundant circuit test mode, and changes from the “H” level to the “L” level when the special test mode is released. Also, during normal operation and standby, "L"
It remains at the level.

【0048】冗長セルのアドレスデコード信号Bは、冗
長セル使用時は/RASのセットによって“L”レベル
から“H”レベルになり、/RAS信号のリセットによ
って“H”レベルから“L”レベルになる。冗長メモリ
非選択時には、この信号Bは、“L”レベルのままで変
化しない。
The address decode signal B of the redundant cell changes from the "L" level to the "H" level by setting / RAS when the redundant cell is used, and changes from the "H" level to the "L" level by resetting the / RAS signal. Become. When the redundant memory is not selected, this signal B remains at "L" level and does not change.

【0049】次に信号Cは、内部降圧回路制御信号で、
この信号が“H”レベルのときは、内部降圧回路が動作
して、“L”レベルのときは、内部降圧回路は動作しな
い。図2から明らかなように、信号te 、Bが両方とも
“H”レベルのときに、信号Cは“L”レベルになり、
信号te 、Bのどちらか一方、あるいは両方ともが
“L”レベルのときには、信号Cは“H”レベルにな
る。すなわち、この冗長回路テストモードにおいて、冗
長メモリ選択時に限って、冗長回路テストモード期間中
に内部降圧回路の降圧動作が止まることになる。
Next, the signal C is an internal step-down circuit control signal,
When this signal is at "H" level, the internal step-down circuit operates, and when it is at "L" level, the internal step-down circuit does not operate. As is apparent from FIG. 2, when both the signals t e and B are at “H” level, the signal C goes to “L” level,
When either one or both of the signals t e and B are at “L” level, the signal C goes to “H” level. That is, in the redundant circuit test mode, the step-down operation of the internal step-down circuit is stopped during the redundant circuit test mode only when the redundant memory is selected.

【0050】内部降圧回路動作時は、(外部電圧ex
t.VCC)>(内部電圧int.VCC)であり、内部降
圧回路が止まれば、(外部電圧ext.VCC)=(内部
電圧int.VCC)となる。
During operation of the internal step-down circuit, (external voltage ex
t. V CC )> (internal voltage int.V CC ), and when the internal step-down circuit is stopped, (external voltage ext.V CC ) = (internal voltage int.V CC ).

【0051】よって、この冗長回路テストモード期間中
に冗長メモリセルが選択されている間は、降圧された電
源電圧でなく、外部電源電圧で動作することになるの
で、電源電流を測定したり、アクセスタイムを測定する
ことによって、その時の入力アドレスに応じて冗長メモ
リが選択されているかどうかを判別できる。
Therefore, while the redundant memory cell is selected during the redundant circuit test mode, the external power supply voltage is used instead of the stepped down power supply voltage, so that the power supply current can be measured or By measuring the access time, it is possible to determine whether the redundant memory is selected according to the input address at that time.

【0052】図4は、この発明の第2の実施例の構成を
示す概略ブロック図である。基本的な構成は、第1の実
施例と同様である。
FIG. 4 is a schematic block diagram showing the configuration of the second embodiment of the present invention. The basic configuration is similar to that of the first embodiment.

【0053】異なる点は、内部電圧降圧回路126の制
御信号を発生するのは、論理回路136であり、論理回
路136への入力信号が、冗長回路テストモード信号t
e と不揮発性記憶回路134の出力信号である点であ
る。
The difference is that it is the logic circuit 136 that generates the control signal of the internal voltage down converter 126, and the input signal to the logic circuit 136 is the redundancy circuit test mode signal t.
e and the output signal of the nonvolatile memory circuit 134.

【0054】不揮発性記憶回路134の記憶情報は、フ
ェールアドレスメモリ120に不良アドレス情報を設定
する際に、同時に設定される。
The information stored in the nonvolatile memory circuit 134 is set at the same time when the defective address information is set in the fail address memory 120.

【0055】図5は、図4中の不揮発性記憶回路134
および論理回路136のブロック図である。図5におい
て、高抵抗値の抵抗素子140とレーザトリミング用の
ヒューズ素子142とは直列に接続されている。NAN
D回路144の1つの入力端と、高抵抗素子140およ
びヒューズ素子142の接続点とは接続されている。N
AND回路144のもう1つの入力端には、第1の実施
例と同様冗長回路テストモード信号te が入力してい
る。
FIG. 5 shows the nonvolatile memory circuit 134 shown in FIG.
3 is a block diagram of a logic circuit 136. FIG. In FIG. 5, a high resistance resistance element 140 and a laser trimming fuse element 142 are connected in series. NAN
One input end of the D circuit 144 is connected to the connection point of the high resistance element 140 and the fuse element 142. N
The redundant circuit test mode signal t e is input to the other input terminal of the AND circuit 144 as in the first embodiment.

【0056】図6は、この第2の実施例の動作を示すタ
イミング図である。次に動作について説明する。まず第
1に、冗長メモリを使用するときには、レーザトリミン
グで冗長メモリに切換えるためのフェールアドレスメモ
リ120中のヒューズ素子を切断するが、そのときに図
5のヒューズ素子142も切断する。冗長メモリ未使用
時には、このヒューズ素子142は切断しない。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation of the second embodiment. Next, the operation will be described. First of all, when the redundant memory is used, the fuse element in the fail address memory 120 for switching to the redundant memory by laser trimming is cut, but the fuse element 142 of FIG. 5 is also cut at that time. The fuse element 142 is not cut when the redundant memory is not used.

【0057】図6に示したように、冗長メモリ未使用時
には高抵抗素子140によって、信号Bは“L”レベル
になり、信号te に関係なく信号Cは“H”レベルのま
まで、内部降圧回路は動作する。
As shown in FIG. 6, when the redundant memory is not used, the high resistance element 140 causes the signal B to be at "L" level and the signal C to remain at "H" level regardless of the signal t e. The step-down circuit operates.

【0058】次に冗長メモリ使用時には、ヒューズ素子
142が切断されるために、信号Bは“H”レベルにな
る。したがって、冗長回路テストモードエントリによっ
て、制御信号te が“L”レベルから“H”レベルにな
った場合には、信号Cは“H”レベルから“L”レベル
に変化して、内部降圧回路は停止する。冗長回路テスト
モード解除で、信号te が“H”レベルから“L”レベ
ルに変化すると、信号Cは“L”レベルから“H”レベ
ルに変化して、内部降圧回路は再び動作するようにな
る。
Next, when the redundant memory is used, the fuse element 142 is blown, so that the signal B becomes "H" level. Therefore, when the control signal t e changes from the “L” level to the “H” level by the redundant circuit test mode entry, the signal C changes from the “H” level to the “L” level, and the internal step-down circuit Will stop. When the signal t e changes from the “H” level to the “L” level in the redundancy circuit test mode release, the signal C changes from the “L” level to the “H” level and the internal step-down circuit operates again. Become.

【0059】したがって、冗長メモリを使用している場
合には、冗長回路テストモード中に内部降圧回路が動作
を停止し、外部電圧で動作するので、アクセスタイムや
消費電流が変化し、冗長メモリの使用の有無を電気的に
判別できる。
Therefore, when the redundant memory is used, the internal step-down circuit stops operating during the redundant circuit test mode and operates at the external voltage, so that the access time and current consumption change and the redundant memory Whether or not it is used can be electrically determined.

【0060】図7は、この発明の第2の実施例を変形し
た第3の実施例である。図7において、レーザトリミン
グ用のヒューズ素子142と高抵抗値の抵抗素子140
は直列に接続している。NAND回路144の1つの入
力端は、インバータ146を介して、ヒューズ素子14
2および高抵抗素子140の接続点と接続している。N
AND回路144のもう1つの入力端には、第1の実施
例と同様に冗長回路テストモード信号te が入力してい
る。
FIG. 7 shows a third embodiment which is a modification of the second embodiment of the present invention. In FIG. 7, a fuse element 142 for laser trimming and a resistance element 140 having a high resistance value
Are connected in series. One input terminal of the NAND circuit 144 is connected to the fuse element 14 via the inverter 146.
2 and the connection point of the high resistance element 140. N
The redundancy circuit test mode signal t e is input to the other input terminal of the AND circuit 144 as in the first embodiment.

【0061】図8は、この第3の実施例の動作を示すタ
イミング図である。次に動作について説明する。ヒュー
ズ素子142は第2の実施例と同様に冗長メモリ使用時
のみ切断するようにする。図8に示したように、冗長メ
モリ未使用時には高抵抗素子140によって、信号Bは
“L”レベルになり、信号Cは“H”レベルで内部降圧
回路は動作する(この場合、信号te には依存しな
い。)。
FIG. 8 is a timing chart showing the operation of the third embodiment. Next, the operation will be described. Like the second embodiment, the fuse element 142 is cut only when the redundant memory is used. As shown in FIG. 8, when the redundant memory is not used, the high resistance element 140 causes the signal B to be at "L" level and the signal C to be at "H" level to operate the internal step-down circuit (in this case, the signal t e). Does not depend on.).

【0062】次に、冗長メモリ使用時にはヒューズ素子
142が切断されているために、信号Bは“H”レベル
になる。したがって、冗長回路テストモードエントリに
よって、信号te が“H”レベルになると、信号Cは
“L”レベルになる。また、冗長回路テストモードが解
除されると、信号te は“L”レベルになるために、信
号Cは“H”レベルに戻ることになる。
Next, since the fuse element 142 is cut off when the redundant memory is used, the signal B becomes "H" level. Therefore, when the signal t e becomes "H" level by the redundant circuit test mode entry, the signal C becomes "L" level. Further, when the redundant circuit test mode is released, the signal t e becomes “L” level, so that the signal C returns to “H” level.

【0063】したがって、第2の実施例と同様に、冗長
メモリを使用している場合には、冗長回路テストモード
中は、外部電圧で動作することになり、アクセスタイム
や消費電流の変化から冗長メモリの使用の有無を判別で
きる。
Therefore, similar to the second embodiment, when the redundant memory is used, the redundant circuit test mode is operated by the external voltage, and the redundancy is caused by the change of the access time and the consumption current. Whether or not the memory is used can be determined.

【0064】[0064]

【発明の効果】請求項1記載の半導体記憶装置において
は、冗長回路テストモード中に、冗長メモリが選択され
ると内部降圧回路が動作を停止し、外部電圧で動作する
ので、不良ビットに対応するアドレスにおいてのみアク
セスタイムや消費電流が変化する。このため、電気的に
不良ビットのアドレスを判別できるだけでなく、外部端
子に規定値以外の電圧を印加したりする必要がない。
According to the semiconductor memory device of the present invention, when the redundant memory is selected in the redundant circuit test mode, the internal step-down circuit stops operating and operates at the external voltage, so that the defective bit is dealt with. The access time and the current consumption change only at the address to be used. Therefore, not only the address of the defective bit can be electrically determined, but also it is not necessary to apply a voltage other than the specified value to the external terminal.

【0065】請求項2記載の半導体記憶装置において
は、冗長メモリを使用している場合には、冗長回路テス
トモード中に内部降圧回路が動作を停止し、外部電圧で
動作するので、アクセスタイムや消費電流が変化する。
このため、電気的に冗長メモリの使用の有無を判別でき
るだけでなく、外部端子に規定値以外の電圧を印加した
りする必要がない。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, when the redundant memory is used, the internal step-down circuit stops operating during the redundant circuit test mode and operates at the external voltage. Current consumption changes.
Therefore, it is possible to electrically determine whether or not the redundant memory is used, and it is not necessary to apply a voltage other than the specified value to the external terminal.

【0066】請求項3記載の半導体記憶装置において
は、予め不揮発性の冗長機能記憶手段に記憶させた情報
を基に、冗長メモリを使用している場合には冗長回路テ
ストモード中に、内部降圧回路が動作を停止し外部電圧
で動作するので、請求項2と同様の効果を奏する。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, when the redundant memory is used, the internal voltage reduction is performed during the redundant circuit test mode based on the information previously stored in the nonvolatile redundant function storage means. Since the circuit stops operating and operates with the external voltage, the same effect as that of the second aspect is achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例の半導体記憶装置の概
略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 第1の実施例の要部ブロック図である。FIG. 2 is a block diagram of a main part of the first embodiment.

【図3】 第1の実施例の動作を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of the first embodiment.

【図4】 本発明の第2の実施例を示す概略ブロック図
である。
FIG. 4 is a schematic block diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図5】 第2の実施例の要部ブロック図である。FIG. 5 is a block diagram of essential parts of a second embodiment.

【図6】 第2の実施例の動作を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation of the second embodiment.

【図7】 本発明の第3の実施例の要部ブロック図であ
る。
FIG. 7 is a block diagram of an essential part of a third embodiment of the present invention.

【図8】 第3の実施例の動作を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 8 is a timing chart showing the operation of the third embodiment.

【図9】 第1の従来例の要部ブロック図である。FIG. 9 is a block diagram of a main part of a first conventional example.

【図10】 第2の従来例を示す概略ブロック図であ
る。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a second conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a ロウアドレスバッファ、1b カラムアドレスバ
ッファ、2a ロウアドレスデコーダ、2b カラムア
ドレスデコーダ、3 アドレス比較回路、4冗長デコー
ダ、5 ワード線ドライバ、5s 冗長ワードドライ
バ、6 メモリアレイ、6s 予備メモリ行、7 カラ
ムスイッチ、8 センスアンプ、9 メインアンプ、1
0 出力バッファ、11 入出力端子、12 入力バッ
ファ、13 内部信号形成回路、14 コントロール端
子、15 特殊条件判定回路、16 ANDゲート回
路、17 特定ピン(コントロール端子)、18 スイ
ッチ素子、100 半導体記憶装置、102 メモリセ
ルアレイ、104 列デコーダ、106 行デコーダ、
108 センスアンプ、110 入出力回路、112行
および列アドレスバッファ、114 予備メモリアレ
イ、116 スペアデコーダ、118 アドレス比較回
路、120 フェールアドレスメモリ、122タイミン
グ発生回路、124 基準電圧発生回路、126 電圧
降圧回路、128 入力バッファ、130 出力バッフ
ァ、132 NAND回路、134不揮発性記憶回路、
136 論理回路、140 高抵抗素子、142 ヒュ
ーズ素子、144 NAND回路、146 インバー
タ。
1a row address buffer, 1b column address buffer, 2a row address decoder, 2b column address decoder, 3 address comparison circuit, 4 redundancy decoder, 5 word line driver, 5s redundancy word driver, 6 memory array, 6s spare memory row, 7 column Switch, 8 sense amplifier, 9 main amplifier, 1
0 output buffer, 11 input / output terminal, 12 input buffer, 13 internal signal forming circuit, 14 control terminal, 15 special condition determination circuit, 16 AND gate circuit, 17 specific pin (control terminal), 18 switch element, 100 semiconductor memory device , 102 memory cell array, 104 column decoder, 106 row decoder,
108 sense amplifier, 110 input / output circuit, 112 row and column address buffer, 114 spare memory array, 116 spare decoder, 118 address comparison circuit, 120 fail address memory, 122 timing generation circuit, 124 reference voltage generation circuit, 126 voltage step-down circuit , 128 input buffer, 130 output buffer, 132 NAND circuit, 134 non-volatile memory circuit,
136 logic circuits, 140 high resistance elements, 142 fuse elements, 144 NAND circuits, 146 inverters.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 欠陥メモリセルを含む不良メモリセル列
または行を予備のメモリセル列または行と電気的に置換
するための冗長回路機能を有する半導体記憶装置であっ
て、 入力アドレスと欠陥メモリセルの属する不良アドレスと
を比較するアドレス比較手段と、 前記入力アドレスと前記不良アドレスとが一致する場合
には、前記予備メモリセル列または行を選択する信号を
発生する冗長メモリ選択信号発生手段と、 外部電源電圧を降圧して内部電源電圧を供給する内部降
圧回路とを備え、 前記内部降圧回路は、 降圧動作状態と降圧動作停止状態とを切換える降圧回路
制御信号の入力端を含み、 外部信号により設定された冗長回路テストモードにおい
ては、前記冗長メモリ選択信号に応じて、冗長メモリ非
選択時には降圧回路を降圧動作状態に、冗長メモリ選択
時には降圧回路を降圧動作停止状態にする前記降圧回路
制御信号を前記降圧回路制御信号入力端に入力する降圧
回路制御信号発生手段をさらに備える、半導体記憶装
置。
1. A semiconductor memory device having a redundant circuit function for electrically replacing a defective memory cell column or row including a defective memory cell with a spare memory cell column or row, wherein an input address and a defective memory cell are provided. An address comparing unit that compares a defective address to which the defective memory belongs to, and a redundant memory selection signal generating unit that generates a signal that selects the spare memory cell column or row when the input address and the defective address match. An internal step-down circuit for stepping down an external power supply voltage to supply an internal power supply voltage, wherein the internal step-down circuit includes an input terminal of a step-down circuit control signal for switching between a step-down operation state and a step-down operation stop state, In the set redundant circuit test mode, the step-down circuit operates in the step-down mode according to the redundant memory selection signal when the redundant memory is not selected. The semiconductor memory device further comprising: a step-down circuit control signal generating means for inputting the step-down circuit control signal to the step-down circuit control signal input terminal for bringing down the step-down circuit when the redundant memory is selected.
【請求項2】 欠陥メモリセルを含む不良メモリセル列
または行を予備のメモリセル列または行と電気的に置換
するための冗長回路機能を有する半導体記憶装置であっ
て、 不良アドレスの有無を不揮発的に記憶する冗長機能記憶
手段と、 入力アドレスと欠陥メモリセルの属する不良アドレスと
を比較するアドレス比較手段と、 前記入力アドレスと前記不良アドレスとが一致する場合
には、前記予備メモリセル列または行を選択する冗長メ
モリ選択手段と、 外部電源電圧を降圧して内部電源電圧を供給する内部降
圧回路とを備え、 前記内部降圧回路は、 降圧動作状態と降圧動作停止状態とを切換える降圧回路
制御信号の入力端を含み、 外部信号により設定された冗長回路テストモードにおい
ては、前記冗長機能記憶手段の記憶に応じて、冗長メモ
リ非使用時には降圧回路を降圧動作状態に、冗長メモリ
使用時には降圧回路を降圧動作停止状態にする前記降圧
回路制御信号を前記降圧回路制御信号入力端に入力する
降圧回路制御信号発生手段をさらに備える、半導体記憶
装置。
2. A semiconductor memory device having a redundant circuit function for electrically replacing a defective memory cell column or row including a defective memory cell with a spare memory cell column or row, wherein presence / absence of a defective address is nonvolatile. Redundant function storage means for memorizing the input address, address comparison means for comparing an input address with a defective address to which a defective memory cell belongs, and when the input address and the defective address match, the spare memory cell column or A redundant memory selecting means for selecting a row and an internal voltage down circuit for stepping down an external power supply voltage and supplying an internal power supply voltage are provided. The internal voltage down circuit switches a voltage down operation state and a voltage down operation stop state. In the redundant circuit test mode including the signal input terminal and set by an external signal, the redundancy function storage means stores a redundancy in accordance with the storage. It further comprises a step-down circuit control signal generating means for inputting the step-down circuit control signal to the step-down circuit control signal input terminal, which sets the step-down circuit to the step-down operation state when the memory is not used and sets the step-down circuit to the step-down operation stop state when the redundant memory is used. , Semiconductor memory device.
【請求項3】 前記外部信号により、冗長回路テストモ
ード指定信号を発生する手段をさらに備え、 前記冗長機能記憶手段は、 第1の論理レベルに対応する第1の電位の入力端と、 第2の論理レベルに対応する第2の電位の入力端と、 前記第1の電位の入力端と前記第2の電位の入力端との
間に直列に接続される抵抗体および不揮発性スイッチ手
段とを含み、 前記降圧回路制御信号発生手段は、 前記冗長回路テストモード指定信号の入力する第1の入
力端と、 前記抵抗体および不揮発性スイッチ手段の接続点に接続
する第2の入力端と、 前記不揮発性スイッチ手段が遮断状態の場合、前記冗長
回路テストモード時は降圧動作を停止状態とする信号
を、前記冗長回路テストモード時以外は降圧動作状態と
する信号を出力し、前記不揮発性スイッチ手段が導通状
態の場合、前記冗長回路テストモード信号に関わりな
く、降圧動作状態とする信号を出力する出力端とを含
む、請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. A means for generating a redundancy circuit test mode designating signal in response to the external signal, wherein the redundancy function storage means includes a first potential input terminal corresponding to a first logic level, and a second potential input terminal. A second potential input terminal corresponding to the logic level of, and a resistor and non-volatile switch means connected in series between the first potential input terminal and the second potential input terminal. The step-down circuit control signal generating means includes a first input terminal to which the redundant circuit test mode designating signal is input, a second input terminal to be connected to a connection point of the resistor and the nonvolatile switch means, When the nonvolatile switch means is in the cutoff state, it outputs a signal for stopping the step-down operation in the redundant circuit test mode and a signal for setting the step-down operation except in the redundant circuit test mode. If pitch means is conductive, regardless of the redundancy circuit test mode signal, and an output terminal for outputting a signal to the step-down operation state, the semiconductor memory device according to claim 2.
JP01288795A 1995-01-30 1995-01-30 Semiconductor storage device Expired - Fee Related JP3600647B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01288795A JP3600647B2 (en) 1995-01-30 1995-01-30 Semiconductor storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01288795A JP3600647B2 (en) 1995-01-30 1995-01-30 Semiconductor storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08203296A true JPH08203296A (en) 1996-08-09
JP3600647B2 JP3600647B2 (en) 2004-12-15

Family

ID=11817921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01288795A Expired - Fee Related JP3600647B2 (en) 1995-01-30 1995-01-30 Semiconductor storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3600647B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7672180B2 (en) 2007-05-31 2010-03-02 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor memory device capable of confirming a failed address and a method therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7672180B2 (en) 2007-05-31 2010-03-02 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor memory device capable of confirming a failed address and a method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JP3600647B2 (en) 2004-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6281739B1 (en) Fuse circuit and redundant decoder
KR100497164B1 (en) Circuit for semiconductor memory device and a method for operating the same
KR960002014B1 (en) Semiconductor memory device having fault repairing redundant
EP0249903B1 (en) Semiconductor memory device
US6301163B1 (en) Semiconductor memory device and method of checking same for defect
KR102117633B1 (en) Self repair device
US7440347B1 (en) Circuit and method to find wordline-bitline shorts in a DRAM
US5383156A (en) Semiconductor device for permitting easy external detection of use of redundant circuit and semiconductor memory device therefore
US5661729A (en) Semiconductor memory having built-in self-test circuit
JP3645296B2 (en) Burn-in control circuit for semiconductor memory device and burn-in test method using the same
US4862416A (en) Semiconductor memory device with redundant memory cell
JPH1074396A (en) Semiconductor storage device
US6160745A (en) Semiconductor storage device
JPH06275095A (en) Semiconductor memory and writing method for redundant address
US6501691B2 (en) Word-line deficiency detection method for semiconductor memory device
US6728158B2 (en) Semiconductor memory device
US6185137B1 (en) Semiconductor memory device with decreased current consumption
US4731759A (en) Integrated circuit with built-in indicator of internal repair
US5710737A (en) Semiconductor memory device
JP3166281B2 (en) Semiconductor integrated circuit and manufacturing method thereof
US6940767B2 (en) Semiconductor memory device having a plurality of signal lines for writing and reading data
US7672180B2 (en) Semiconductor memory device capable of confirming a failed address and a method therefor
US5708601A (en) Integrated circuitry for checking the utilization rate of redundancy memory elements in a semiconductor memory device
US20090116317A1 (en) Block repair apparatus and method thereof
US11335427B1 (en) Memory test circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040727

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040907

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040917

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924

Year of fee payment: 7

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees