JPH08184959A - Damping waterless photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Damping waterless photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH08184959A
JPH08184959A JP32873094A JP32873094A JPH08184959A JP H08184959 A JPH08184959 A JP H08184959A JP 32873094 A JP32873094 A JP 32873094A JP 32873094 A JP32873094 A JP 32873094A JP H08184959 A JPH08184959 A JP H08184959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
groups
formula
photosensitive layer
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP32873094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noribumi Inno
紀文 因埜
Fumikazu Kobayashi
史和 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH08184959A publication Critical patent/JPH08184959A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a damping waterless planographic printing plate excellent in sensitivity, reproducibility of dots, printing durability and scratching resistance, and can be developed with a water-base developer by incorporating at least one kind of specified photopolymerizable monomer into a photopolymerizable photosensitive layer. CONSTITUTION: This printing plate is produced by successively depositing a photopolymerizable photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate. The photopolymerizable photosensitive layer contains at least one kind of photopolymerizable monomer expressed by the formula. In the formula, R1 , R2 are independently substd. or unsubstd. alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, aryloxy groups, aralkyl groups, aralkoxy groups, or halogen groups, (h) is an integer 0 to 4, (i) is an integer 0 to 4, and h+i<=4. L1 , L2 are independently substd. or unsubstd. alkylene groups, pheylene groups, or aralkylene groups, (j) is 0 or 1, (k) is 0 or 1, and R3 , R4 , R5 , R6 are hydrogen atoms, alkyl groups or the like.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は基板上に、光重合性感光
層、シリコーンゴム層をこの順に設け、感度、網点再現
性、耐刷性、及び耐傷性に優れ、水または水を主成分と
する有機溶剤の水溶液(以後、水系現像液と称す)で現
像可能な湿し水不要感光性平版印刷版(以後、水無し平
版印刷版と称す)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention provides a photopolymerizable photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate in this order, and is excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility, printing durability, and scratch resistance. The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require fountain solution and can be developed with an aqueous solution of an organic solvent as a component (hereinafter referred to as an aqueous developer) (hereinafter referred to as a waterless lithographic printing plate).

【0002】[0002]

【従来の技術】湿し水を用いないで平版印刷を行うため
の水無し平版印刷版に関しては種々のものが提案されて
いる。その中でも基板上に、感光層およびインキ反撥層
をこの順に塗設したものが極めて優れた性能を有してい
る。インキ反撥層としてシリコーンゴムを用いたものが
例えば、特公昭54−26923号、特公昭55−22
781号、特公昭56−23150号および特開平2−
236550号公報等に、弗素樹脂を用いたものが例え
ば、特開昭58−215411号および特開平2−10
3047号公報等に記載されているが、インキ反撥性の
観点よりシリコーンゴムを用いた方が好ましい。
2. Description of the Related Art Various waterless lithographic printing plates have been proposed for performing lithographic printing without using fountain solution. Among them, the one in which the photosensitive layer and the ink repellent layer are applied in this order on the substrate has extremely excellent performance. Those using silicone rubber as the ink repellent layer are disclosed, for example, in Japanese Examined Patent Publication Nos. 54-26923 and 55-22.
No. 781, Japanese Patent Publication No. 56-23150 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-150.
JP-A No. 58-215411 and JP-A No. 2-10, which use a fluororesin, are disclosed in Japanese Patent No. 236550.
Although described in Japanese Patent No. 3047, it is preferable to use silicone rubber from the viewpoint of ink repulsion.

【0003】感光層としては、ポジ型平版印刷版の場
合、露光によって硬化する光重合型感光性組成物が用い
られてきた。この層構成を有する感光性平版印刷版の画
像形成法において、非画像部は、露光によって感光層を
硬化させ、その上層のシリコーンゴム層との界面で光接
着させる事により両層間を強固に結合させ、次いで現像
液による浸透及び/又はそれに伴う感光層組成物の溶出
を抑制して、シリコーンゴム層により形成される。一
方、画像部はシリコーンゴム層を通して現像液を浸透さ
せ、未硬化状態の感光層組成物の一部または全部を現像
液により溶解せしめた後に、物理的な力でその上のシリ
コーンゴム層を除去して形成されるのが一般的である。
As the photosensitive layer, in the case of a positive type lithographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive composition which is cured by exposure has been used. In the image forming method of the photosensitive lithographic printing plate having this layer structure, the non-image portion is hardened by exposure to light and the photo-adhesion at the interface with the silicone rubber layer above it is performed to firmly bond both layers. Then, the silicone rubber layer is formed by suppressing the permeation by the developing solution and / or the accompanying elution of the photosensitive layer composition. On the other hand, in the image area, the developing solution is permeated through the silicone rubber layer, and a part or all of the uncured photosensitive layer composition is dissolved by the developing solution, and then the silicone rubber layer above is removed by physical force. Is generally formed.

【0004】このようにして画像形成される水無し平版
印刷版の現像方法としては、特公昭56−23150
号、特開昭57−13448号、特開昭59−1460
54号および特開昭63−52145号公報等が開示さ
れている。しかしながら、これらの現像方法では処理液
の主成分が有機溶剤であるため、高価であり、引火の危
険性等から取扱いに特別の配慮を必要とした。この問題
点を解決するために特開平1−159644号公報では
水を主成分とする現像液が開示されている。このような
水系現像液を用いるためには、感光層中の光重合性モノ
マーとして親水性を持つ化合物を添加する必要があり、
ポリエチレンオキシド鎖もしくはポリプロピレンオキシ
ド鎖を持つモノマーが、特開平4−174437号、特
開平4−338954号、特開平5−94007号、特
開平5−224415号、特開平6−118629号公
報等に記載されており、これらのモノマーを用いること
で良好な画像を得ることができる。
As a method for developing a waterless planographic printing plate on which an image is formed in this way, Japanese Patent Publication No. 56-23150 is available.
JP-A-57-13448 and JP-A-59-1460.
54 and JP-A-63-52145 are disclosed. However, these developing methods are expensive because the main component of the processing liquid is an organic solvent, and require special consideration in handling due to the risk of ignition. In order to solve this problem, JP-A-1-159644 discloses a developing solution containing water as a main component. In order to use such an aqueous developer, it is necessary to add a compound having hydrophilicity as a photopolymerizable monomer in the photosensitive layer,
Monomers having polyethylene oxide chains or polypropylene oxide chains are described in JP-A-4-174437, JP-A-4-338954, JP-A-5-94007, JP-A-5-224415, JP-A-6-118629 and the like. However, good images can be obtained by using these monomers.

【0005】しかし、水系現像液で現像される水無し平
版印刷版において、実用上、感度、網点再現性、耐刷
性、及び耐傷性を全て満足する水無し平版印刷版はこれ
までに得られていない。
However, in the waterless lithographic printing plate developed with an aqueous developer, a waterless lithographic printing plate satisfying all of sensitivity, halftone dot reproducibility, printing durability and scratch resistance has been obtained so far. Has not been done.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、感度、網点再現性、耐刷性、及び耐傷性に優れ、
水系現像液で現像可能な水無し平版印刷版を提供するこ
とである。
Therefore, the object of the present invention is to provide excellent sensitivity, halftone dot reproducibility, printing durability, and scratch resistance,
It is an object of the present invention to provide a waterless planographic printing plate that can be developed with an aqueous developer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、基板上
に、光重合性感光層、シリコーンゴム層をこの順に積層
し、該光重合性感光層が下記式(I)で表される光重合
性モノマーを少なくとも一種含有することを特徴とする
水無し平版印刷版によって、上記本発明の目的を達成す
るに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have laminated a photopolymerizable photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate in this order, and the photopolymerizable photosensitive layer is represented by the following formula (I). The above-mentioned object of the present invention has been achieved by a waterless lithographic printing plate characterized by containing at least one photopolymerizable monomer.

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】式(I)中、R1、R2は、各々独立に、置
換もしくは、無置換のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリーロキシ基、アラルキル基、アラルコキシ
基、ハロゲン基を表し、hは0〜4の整数、iは0〜4
の整数であり、h+i≦4である。L1、L2は、各々独
立に、置換もしくは、無置換のアルキレン基、フェニレ
ン基、アラルキレン基を表し、jは0又は1、kは0又
は1である。
In formula (I), R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkoxy group, halogen group, h Is an integer of 0 to 4, i is 0 to 4
Is an integer, and h + i ≦ 4. L 1 and L 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkylene group, phenylene group or aralkylene group, j is 0 or 1, and k is 0 or 1.

【0010】R3、R4、R5及びR6は、水素原子、アル
キル基又は、式(II)を表し、同じでも異なっていても
よいが、少なくとも2個は、式(II)である。
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group or the formula (II) and may be the same or different, but at least two of them are of the formula (II). .

【0011】[0011]

【化5】 Embedded image

【0012】式(II)中、R7は、、水素原子又は炭素数
1〜4のアルキル基を表し、Xは、−CO−又は、フェ
ニレン基を表す。R8、R9は、各々、水素原子又はメチ
ル基を表し、l個のR8及びn個のR9は、同じでも異な
っていてもよく、l=0〜15の整数、n=0〜15の
整数である。但し、R3、R4、R5およびR6の全てのl
およびnが、同時に0になることはない。
In the formula (II), R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X represents -CO- or a phenylene group. R 8 and R 9 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and 1 R 8 and n R 9 may be the same or different, and are an integer of 1 = 0 to 15 and n = 0 to 0. It is an integer of 15. However, all l of R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are
And n cannot be 0 at the same time.

【0013】また、式(II)中、Yは、下式(III) 、
(IV) 又は(V)を表し、mは0又は1である。
In the formula (II), Y is represented by the following formula (III),
Represents (IV) or (V), and m is 0 or 1.

【0014】[0014]

【化6】 [Chemical 6]

【0015】[0015]

【作用】本発明は、該光重合性感光層に、式(I)の化
合物を含有せしめることにより、画像露光後、非画像部
を形成する感光層は、式(I)の化合物から形成される
架橋高分子体の柔軟性により、傷及び高部数印刷に耐え
得る柔軟性を有する硬化感光層を形成させ、耐傷性及び
耐刷性を向上し、かつ、式(I)の化合物の親水性によ
り、水系現像液でも良好な画像形成を可能にすることに
より、本発明の目的を達成するに至った。
In the present invention, the photopolymerizable photosensitive layer contains the compound of formula (I) so that the photosensitive layer forming a non-image area after image exposure is formed of the compound of formula (I). Due to the flexibility of the cross-linked polymer, a cured photosensitive layer having flexibility capable of withstanding scratches and high number of copies printing is formed, scratch resistance and printing durability are improved, and hydrophilicity of the compound of formula (I) Thus, the object of the present invention was achieved by enabling good image formation even with an aqueous developer.

【0016】以下に、本発明を詳しく説明する。本発明
の水無し平版印刷版における基板は、通常の印刷機にセ
ットできる程度のたわみ性を有し、同時に印刷時にかか
る荷重に耐えるものでなければならない。従って、代表
的な基板としては、コート紙、アルミニウムのような金
属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチッ
クフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させたもの(例
えば、紙の上下をアルミニウムで挟んだ複合板)を挙げ
ることができ、より好ましくはアルミニウムおよびアル
ミニウム含有合金(例えば、珪素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなど
の金属とアルミニウムとの合金)である。
The present invention will be described in detail below. The substrate in the waterless lithographic printing plate of the present invention must have flexibility so that it can be set in an ordinary printing machine and at the same time withstand a load applied during printing. Therefore, as a typical substrate, coated paper, a metal plate such as aluminum, a plastic film such as polyethylene terephthalate, rubber or a combination thereof (for example, a composite plate in which the upper and lower sides of paper are sandwiched by aluminum) is used. Of these, aluminum and aluminum-containing alloys (for example, alloys of aluminum with metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel) are more preferable.

【0017】このような基板において、アルミニウム板
の表面の圧延油を除去する必要のある場合には、酸水溶
液のシャワーリング又は浸漬等による脱脂処理を行うこ
とができる。このとき用いられる酸は金属洗浄用の酸と
して知られているものであれば何でもよいが、好ましく
は硫酸又は燐酸である。またこの酸処理の後、適当な時
間水洗することが好ましい。脱脂処理の後、直接感光層
などの塗膜を設けてもよいが、更に砂目立て、陽極酸
化、珪酸ナトリウム又は珪酸カリウムなどの珪酸塩の水
溶液による処理(「シリケート処理」とも言う)といっ
た表面処理を行ってもよい。なかでもシリケート処理す
ることが好ましい。更に塗膜との密着性を向上させる目
的でこの支持体をシランカップリング剤で表面処理する
こともできる。
In such a substrate, when it is necessary to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, degreasing treatment can be performed by showering or dipping the acid aqueous solution. The acid used at this time may be any acid known as a metal cleaning acid, but is preferably sulfuric acid or phosphoric acid. After the acid treatment, it is preferable to wash with water for an appropriate time. After degreasing, a coating such as a photosensitive layer may be provided directly, but surface treatment such as graining, anodic oxidation, treatment with an aqueous solution of silicate such as sodium silicate or potassium silicate (also referred to as "silicate treatment") You may go. Of these, silicate treatment is preferable. Further, the support may be surface-treated with a silane coupling agent for the purpose of improving the adhesion to the coating film.

【0018】本発明の水無し平版印刷版における光重合
性感光層は下記式(I)の光重合性モノマーの少なく
とも一種を含有するものであり、また通常光重合開始
剤及びフィルム形成能を有する高分子化合物を含むも
のである。更に、必要に応じて、式(I)で表される
モノマー以外の重合可能なエチレン性不飽和基を含むモ
ノマーまたはオリゴマーを含んでいてもよい組成物から
なっている。
The photopolymerizable photosensitive layer in the waterless lithographic printing plate of the present invention contains at least one photopolymerizable monomer represented by the following formula (I), and usually has a photopolymerization initiator and a film forming ability. It includes a polymer compound. Further, it comprises a composition which may optionally contain a monomer or oligomer having a polymerizable ethylenically unsaturated group other than the monomer represented by the formula (I).

【0019】[0019]

【化7】 [Chemical 7]

【0020】式(I)中、R1、R2は、各々独立に、置
換もしくは、無置換のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリーロキシ基、アラルキル基、アラルコキシ
基、ハロゲン基を表す。アルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリーロキシ基、アラルキル基、アラルコキ
シ基の好ましい炭素数は1〜12であり、例えば、メチ
ル基、メトキシ基、ベンジル基が挙げられ、ハロゲン基
としては例えば塩素原子が挙げられる。アルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、アラルキル
基、アラルコキシ基の置換基としては、例えば、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、水酸
基、ハロゲン基等が挙げられ、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基の好ましい炭素数は1
〜6であり、ハロゲン原子の具体例としては塩素原子が
挙げられる。hは0〜4の整数、iは0〜4の整数であ
り、h+i≦4である。
In the formula (I), R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkoxy group or halogen group. The alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, and aralkoxy group preferably have 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, a methoxy group, and a benzyl group, and examples of the halogen group include a chlorine atom. Can be mentioned. Examples of the substituent of the alkyl group, the alkoxy group, the aryl group, the aryloxy group, the aralkyl group, and the aralkoxy group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen group, and the like. The preferred carbon number of the group, aralkyl group and alkoxy group is 1
And 6 and a chlorine atom is a specific example of the halogen atom. h is an integer of 0 to 4, i is an integer of 0 to 4, and h + i ≦ 4.

【0021】L1、L2は、各々独立に、置換もしくは、
無置換のアルキレン基、フェニレン基、アラルキレン基
を表し、好ましい炭索数は1〜12であり、例えばメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、キシリレン基が挙
げられる。置換基としては例えば、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン
基等が挙げられ、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基の好ましい炭素数は1〜6であり、ハ
ロゲン原子の具体例としては塩素原子が挙げられる。j
は0又は1、kは0又は1である。
L 1 and L 2 are each independently substituted or
It represents an unsubstituted alkylene group, a phenylene group or an aralkylene group, and the preferred carbon number is 1 to 12, and examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a xylylene group. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen group and the like, and an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group preferably have 1 to 6 carbon atoms, and a halogen atom. A chlorine atom is mentioned as a specific example of the atom. j
Is 0 or 1 and k is 0 or 1.

【0022】R3、R4,R5及びR6は、水素原子、アル
キル基(好ましくは、炭素数1〜10)又は、式(II)
を表し、同じでも異なっていてもよいが、少なくとも二
個は、式(II)であり、すべてが、式(II)の基である
ことが好ましい。
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 10) or the formula (II).
And may be the same or different, but at least two are preferably groups of formula (II) and all are groups of formula (II).

【0023】[0023]

【化8】 Embedded image

【0024】式(II)中、R7は、水素原子又は、炭素
数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基を
表す。)を表す。Xは、−CO−又は、フェニレン基を
表し、好ましくは、−CO−である。R8、R9は、各
々、水素原子又は、メチル基を表し、l個のR8及びn
個のR9は、同じでも異なっていてもよく、l=0〜1
5の整数、n=0〜15の整数である。但し、R3
4、R5およびR6の全てのlおよびnが、同時に0に
なることはなく、式(I)の分子中に含有されるエチレ
ンオキシド基あるいは、プロピレンオキシド基の総数
は、好ましくは60以下であり、さらに好ましくは30
以下であり、最も好ましくは2〜25である。
In the formula (II), R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group). X represents -CO- or a phenylene group, and preferably -CO-. R 8 and R 9 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and 1 R 8 and n
R 9's may be the same or different, and l = 0 to 1
It is an integer of 5 and n is an integer of 0 to 15. However, R 3 ,
All l and n of R 4 , R 5 and R 6 do not become 0 at the same time, and the total number of ethylene oxide groups or propylene oxide groups contained in the molecule of the formula (I) is preferably 60 or less. And more preferably 30
It is below, and most preferably 2 to 25.

【0025】また、式(II)中、Yは、下式(III) 、
(IV) 又は(V)を表し、mは0又は1である。
In the formula (II), Y is represented by the following formula (III),
Represents (IV) or (V), and m is 0 or 1.

【0026】[0026]

【化9】 [Chemical 9]

【0027】また、式(I)の光重合性モノマーは、単
独で用いても2種以上を混合してもよく、全光重合性感
光層組成物中の含有量は、1〜80重量%であり、好ま
しくは5〜60重量%であり、更に好ましくは10〜4
0重量%である。以下に、式(I)で表される光重合性
モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるもの
ではない。
The photopolymerizable monomer of the formula (I) may be used alone or in combination of two or more, and the content thereof in the total photopolymerizable photosensitive layer composition is 1 to 80% by weight. And preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 4
0% by weight. Specific examples of the photopolymerizable monomer represented by the formula (I) are shown below, but the photopolymerizable monomer is not limited thereto.

【0028】[0028]

【化10】 [Chemical 10]

【0029】[0029]

【化11】 [Chemical 11]

【0030】[0030]

【化12】 [Chemical 12]

【0031】[0031]

【化13】 [Chemical 13]

【0032】本発明の光重合性感光層において用いられ
る上記光重合開始剤としては、増感系、非増感系を問
わず、光によりラジカルを発生する化合物であればよ
い。代表的な例として次のようなものをあげることがで
きるが、これらに限定されるものではない。 (a)ベンゾフェノン誘導体、例えば、ベンゾフェノ
ン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ジエチルアミノベ
ンゾフェノン、キサントン、アンスロン、チオキサント
ン、アクリドン、2−クロロアクリドン、2−クロロ−
N−n−ブチルアクリドン、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、フルオレノン等 (b)ベンゾイン誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等 (c)キノン類、例えば、p−ベンゾキノン、β−ナフ
トキノン、β−メチルアントラキノン等 (d)イオウ化合物、例えば、ジベンジルジサルファイ
ド、ジ−n−ブチルジサルファイド等 (e)アゾあるいはジアゾ化合物、例えば、2−アゾビ
スイソブチロニトリル、1−アゾ−ビス−1−シクロヘ
キサンカルボニトリル、p−ジアゾベンジルエチルアニ
リン、コンゴーレッド等 (f)ハロゲン化合物、例えば、四臭化炭素、臭化銀、
α−クロロメチルナフタリン、トリハロメチル−s−ト
リアジン系化合物、トリハロメチルオキサジアゾール系
化合物等 (g)過酸化物、例えば、過酸化ベンゾイル等を挙げる
ことができる。
The photopolymerization initiator used in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention may be a compound capable of generating radicals by light, regardless of whether it is a sensitized system or a non-sensitized system. The following can be given as typical examples, but the present invention is not limited to these. (A) Benzophenone derivative, for example, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, diethylaminobenzophenone, xanthone, anthrone, thioxanthone, acridone, 2-chloroacridone, 2-chloro-
N-n-butylacridone, 2,4-diethylthioxanthone, fluorenone, etc. (b) Benzoin derivative, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, etc. (c) Quinones, for example, p-benzoquinone, β-naphthoquinone , Β-methylanthraquinone, etc. (d) Sulfur compounds, for example, dibenzyl disulfide, di-n-butyl disulfide, etc. (e) Azo or diazo compounds, for example, 2-azobisisobutyronitrile, 1-azo- Bis-1-cyclohexanecarbonitrile, p-diazobenzylethylaniline, Congo red, etc. (f) Halogen compounds such as carbon tetrabromide, silver bromide,
α-Chloromethylnaphthalene, trihalomethyl-s-triazine compounds, trihalomethyloxadiazole compounds, etc. (g) Peroxides such as benzoyl peroxide.

【0033】これらは単独で用いてもよく、組み合わせ
で用いてもよい。これらの光重合開始剤の添加量は全光
重合性感光層組成物に対して0.1〜25重量%、好ま
しくは3〜20重量%である。本発明の光重合性感光層
においては、フィルム形成の目的で上記フィルム形成
能を有する高分子化合物が用いられ、このような高分子
化合物としては、次のようなポリマー、コポリマーを使
用することができる。
These may be used alone or in combination. The amount of these photopolymerization initiators added is 0.1 to 25% by weight, preferably 3 to 20% by weight, based on the total photopolymerizable photosensitive layer composition. In the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention, a polymer compound having the above film-forming ability is used for the purpose of forming a film. As such a polymer compound, the following polymers and copolymers may be used. it can.

【0034】(1)ビニルポリマー、例えばポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、
ポリビニルメチルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリエチ
レン等、およびこれらのコポリマー。 (2)(メタ)アクリル酸エステルポリマーおよびアル
キル(メタ)アクリルアミドポリマー、例えばポリ(メ
タ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、ポリt−ブチルアクリルアミド、ポリジアセトンア
クリルアミド等、およびこれらのコポリマー、および
(メタ)アクリル酸とのコポリマー。
(1) Vinyl polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral,
Polyvinyl methyl ether, polyvinyl chloride, polyethylene, etc., and copolymers thereof. (2) (Meth) acrylic acid ester polymers and alkyl (meth) acrylamide polymers such as ethyl poly (meth) acrylate, butyl poly (meth) acrylate, poly t-butyl acrylamide, poly diacetone acrylamide, etc., and copolymers thereof. , And copolymers with (meth) acrylic acid.

【0035】(3)未加硫ゴム、例えば天然ゴム、ポリ
ブタジエン、ポリイソブチレン、ポリネオプレン等、お
よびこれらのコポリマー。 (4)ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポ
リプロピレンオキシド等 (5)ポリアミド、次に示すモノマー類のコポリマ−、
例えば、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミン、4,4’−ビス−アミノシクロヘキシル
メタン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸等。
(3) Unvulcanized rubber such as natural rubber, polybutadiene, polyisobutylene, polyneoprene, and copolymers thereof. (4) Polyether, such as polyethylene oxide, polypropylene oxide, etc. (5) Polyamide, copolymer of the following monomers,
For example, caprolactam, laurolactam, hexamethylenediamine, 4,4′-bis-aminocyclohexylmethane, 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, isophoronediamine, diglycols, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid and the like.

【0036】(6)ポリエステル、例えばテレフタル
酸、アジピン酸等とエチレングリコール、1,4−ブタ
ンジオール等との縮合物。 (7)ポリウレタン、例えばヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−I,
5−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ポリ
エステルジオール、ポリエーテルとのポリウレタン。ま
た、鎖延長剤としてイソホロンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン等を用いても良い。
(6) Polyester, for example, a condensate of terephthalic acid, adipic acid and the like with ethylene glycol, 1,4-butanediol and the like. (7) Polyurethane such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene-I,
Polyurethane of 5-diisocyanate, isophorone diisocyanate and the like with ethylene glycol, 1,4-butanediol, polyester diol and polyether. Further, isophoronediamine, hexamethylenediamine, or the like may be used as the chain extender.

【0037】更に、フィルム形成能を有する高分子化合
物として、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフ
ィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用す
ることができるが、これらに限定されるものではない。
また、これらの高分子化合物は単独で用いてもよく、組
み合わせて用いてもよい。上記高分子化合物は全光重合
性感光層組成物に対して、10〜90重量%、好ましく
は25〜75重量%で含有させることができる。
Further, as the polymer compound capable of forming a film, a polymer compound having a photopolymerizable or photocrosslinkable olefinic unsaturated double bond group in its side chain can be used. It is not limited.
Further, these polymer compounds may be used alone or in combination. The polymer compound may be contained in an amount of 10 to 90% by weight, preferably 25 to 75% by weight, based on the total photopolymerizable photosensitive layer composition.

【0038】本発明の水無し平版印刷版における光重合
性感光層においては、更にまた必要に応じて:一般式
(I)で表されるモノマー以外の重合可能なエチレン性
不飽和基を含むモノマー、またはオリゴマーを含有させ
ることができる。このようなモノマー、オリゴマーとし
ては、例えば、(A)アルコール類(例えば、グリセリ
ン、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ソルビトール、トリエチレングリコ
ール、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレ
ングリコール等、更にグリセリン、ヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソル
ビトール等のエチレンオキサイド、プロピンオキサイ
ド、またはそれらの混合付加物)のアクリル酸またはメ
タクリル酸エステル、(B)アミン類(例えば、エチル
アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、キシリレンジアミン、エタノー
ルアミン、アニリン等)とアクリル酸グリシジル、メタ
クリル酸グリシジルまたはアリルグルシジルとの反応生
成物、(C)カルボン酸類(例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸等)とアク
リル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジルまたはアリ
ルグリシジルとの反応生成物、(D)アミド誘導体(例
えば、メチレンビスアクリルアミド、キシリレンジアク
リルアミド等)、などを挙げることができる。
In the photopolymerizable photosensitive layer of the waterless lithographic printing plate of the present invention, further optionally: a monomer having a polymerizable ethylenically unsaturated group other than the monomer represented by the general formula (I). , Or an oligomer. Examples of such monomers and oligomers include (A) alcohols (eg, glycerin, hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, triethylene glycol, (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, and the like). Furthermore, glycerin, hexanediol,
Acrylic acid or methacrylic acid ester of ethylene oxide such as trimethylolpropane, pentaerythritol, and sorbitol, propyne oxide, or a mixed adduct thereof, (B) amines (eg, ethylamine, ethylenediamine, hexamethylenediamine,
Reaction products of diethylenetriamine, xylylenediamine, ethanolamine, aniline, etc. with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or allyl glucidyl, (C) carboxylic acids (eg acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, (Phthalic acid and the like) and glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or allyl glycidyl, a (D) amide derivative (eg, methylenebisacrylamide, xylylenediacrylamide, etc.), and the like.

【0039】更に具体的には、特公昭48−41708
号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193
号公報に記載されているようなウレタンアクリレート
類、特開昭48−64183号、特公昭49−4319
1号、特公昭52−30490号公報に記載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレート、米国特許第45
40649号明細書に記載のN−メチロールアクリルア
ミド誘導体を挙げることができる。更に、日本接着剤協
会Vol.20、No.7、300〜308ぺージ(1
984年)等に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとし
て記載されているものも使用することができる。ただ
し、これらに限定されるものではなく、多官能モノマー
において、不飽和基はアクリル、メタクリル、アリル、
ビニル基等が混合して存在していてもよい。また、これ
らは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
More specifically, Japanese Patent Publication No. 48-41708
No., JP-B-50-6034, JP-A-51-37193.
Urethane acrylates as described in JP-A-48-64183 and JP-B-49-4319
No. 1, polyester acrylates and epoxy resins described in JP-B-52-30490 and (meth)
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates reacted with acrylic acid, US Patent No. 45
The N-methylol acrylamide derivative described in No. 40649 can be mentioned. Furthermore, the Japan Adhesives Association Vol. 20, No. 7, 300 to 308 pages (1
Those described as photo-curable monomers and oligomers in (984) etc. can also be used. However, it is not limited to these, in the polyfunctional monomer, the unsaturated group is acrylic, methacrylic, allyl,
Vinyl groups and the like may be mixed and present. In addition, these may be used alone or in combination.

【0040】これらの光重合性モノマーの添加量は全
光重合性感光層組成物に対して0〜50重量%、好まし
くは0〜40重量%、更に好ましくは3〜30重量%で
ある。上記光重合性感光層においては、経時での安定性
をよくするために更に熱重合防止剤を加えておくことが
好ましく、熱重合防止剤としては例えばハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、4,
4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾ−
ル等が有用である。また、場合によっては光重合性感光
層の着色を目的として染料もしくは顔料を、更に焼きだ
し剤としてpH指示薬やロイコ染料を添加することもで
きる。目的によっては更に光重合性感光層中に少量のポ
リジメチルシロキサン、メチルスチレン変性ポリジメチ
ルシロキサン、オレフィン変性ポリジメチルシロキサ
ン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、シラン
カップリング剤、シリコーンジアクリレート、シリコー
ンジメタクリレート等のシリコーン化合物を添加しても
よい。塗布性向上のためにシリコーン系界面活性剤、フ
ッ素系界面活性剤を添加してもよい。更に光重合性感光
層と後述のプライマー層との接着性を改善させるために
ジアゾ樹脂を添加してもよい。その他、塗膜に柔軟性を
付与するための可塑剤(例えば、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、燐酸トリクレジル
等)、安定剤(例えば、燐酸等)を添加してもよい。
The amount of these photopolymerizable monomers added is 0 to 50% by weight, preferably 0 to 40% by weight, more preferably 3 to 30% by weight, based on the total photopolymerizable photosensitive layer composition. In the photopolymerizable photosensitive layer, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor in order to improve stability over time, and examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol and di-t-. Butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, 4,
4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-)
Butylphenol), 2-mercaptobenzimidazo-
Are useful. In some cases, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photopolymerizable photosensitive layer, and a pH indicator or a leuco dye may be added as a printing agent. Depending on the purpose, a small amount of polydimethylsiloxane, methylstyrene-modified polydimethylsiloxane, olefin-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, silane coupling agent, silicone diacrylate, silicone dimethacrylate, etc. may be further contained in the photopolymerizable photosensitive layer. You may add the silicone compound of. A silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant may be added to improve coatability. Further, a diazo resin may be added to improve the adhesion between the photopolymerizable photosensitive layer and the primer layer described later. In addition, a plasticizer (for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, tricresyl phosphate, etc.) and a stabilizer (for example, phosphoric acid) for imparting flexibility to the coating film may be added.

【0041】これらの添加剤の添加量は通常全光重合性
感光層組成物に対して10重量%以下である。場合によ
っては(メタ)アクリロイル基やアリル基含有シランカ
ップリング剤で処理した疎水性シリカ粉末を全光重合性
感光層組成物に対して10重量%以下の量添加してもよ
い。本発明に用いる上述の光重合性感光層組成物は、例
えば、水、2−メトキシエタノール、2−メトキシエチ
ルアセテート、プロピレングリコールメチルエチルアセ
テート、乳酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、エタノール、メチルエチルケト
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、ピルビン酸メチ
ル、ピルビン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチ
ル等の適当な溶剤の単独又はこれらの混合溶媒に溶解し
て、基板上に塗布される。その塗布重量は乾燥後の重量
で0.1〜20g/m2の範囲が適当であり、好ましくは
0.5〜10g/m2の範囲である。
The addition amount of these additives is usually 10% by weight or less based on the total photopolymerizable photosensitive layer composition. In some cases, a hydrophobic silica powder treated with a (meth) acryloyl group- or allyl group-containing silane coupling agent may be added in an amount of 10% by weight or less based on the total photopolymerizable photosensitive layer composition. The above-mentioned photopolymerizable photosensitive layer composition used in the present invention is, for example, water, 2-methoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate, propylene glycol methyl ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, ethanol, methyl ethyl ketone. , N, N-dimethylacetamide, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl 3-methoxypropionate or the like alone or dissolved in a mixed solvent thereof and coated on the substrate. Its coating weight may range by weight in a 0.1 to 20 g / m 2 after drying is is suitable, and preferably from 0.5 to 10 g / m 2.

【0042】本発明におけるシリコーンゴム層は、イン
キ反撥層であり、下記組成物A、またはBを硬化して形
成した皮膜を使用できる。 〔組成物A(縮合型)〕 (a)ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000〜200,000) 100重量部 (b)縮合型架橋剤 3〜70重量部 (c)触 媒 0.01〜40重量部 前記成分(a)のジオルガノポリシロキサンは、下記式
(イ)で示される繰り返し単位を有するポリマーで、R
10およひR11は炭素数1から10のアルキル基、ビニル
基、アリール基であり、またその他の置換基を有してい
ても良い。一般的にはR10およびR11の60%以上がメ
チル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲン化フェ
ニル基などであるものが好ましい。
The silicone rubber layer in the present invention is an ink repellent layer, and a film formed by curing the following composition A or B can be used. [Composition A (condensation type)] (a) Diorganopolysiloxane (having a number average molecular weight of 3,000 to 200,000) 100 parts by weight (b) Condensation type crosslinking agent 3 to 70 parts by weight (c) Catalyst 0 0.01 to 40 parts by weight The diorganopolysiloxane of the component (a) is a polymer having a repeating unit represented by the following formula (a),
10 and R 11 are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, vinyl groups and aryl groups, and may have other substituents. Generally, it is preferable that 60% or more of R 10 and R 11 are methyl groups, halogenated vinyl groups, halogenated phenyl groups, or the like.

【0043】[0043]

【化14】 Embedded image

【0044】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。ま
た、成分(a)は数平均分子量が3,000〜200,
000であり、より好ましくは、5,000〜100,
000である。成分(b)は縮合型のものであればいず
れであってもよいが、次の一般式(ロ)で示されるよう
なものが好ましい。
It is preferable to use a diorganopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends. The component (a) has a number average molecular weight of 3,000 to 200,
000, and more preferably 5,000 to 100,
000. The component (b) may be of any condensation type, but is preferably one represented by the following general formula (b).

【0045】[0045]

【化15】 [Chemical 15]

【0046】一般式(ロ)において、R12は炭素数1〜
10のアルキル基、ビニル基またはアリール基を表し、
Zは水素原子、ハロゲン原子(Cl,Br,Iなど)、
−OH、−OCOR13,−OR13(ここでR13は前記R
12と同義)、または下記式に記載の基(ここでR14、R
15、R16、R17は炭素数1〜10のアルキル基を示す)
を表し、aは0、1または2を表し、bは2、3または
4を表し、a+bは4である。
In the general formula (b), R 12 has 1 to 10 carbon atoms.
10 represents an alkyl group, a vinyl group or an aryl group,
Z is a hydrogen atom, a halogen atom (Cl, Br, I, etc.),
—OH, —OCOR 13 , —OR 13 (wherein R 13 is the above R
Synonymous with 12 ), or a group represented by the following formula (wherein R 14 , R
15 , R 16 and R 17 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms)
, A represents 0, 1 or 2, b represents 2, 3 or 4, and a + b is 4.

【0047】[0047]

【化16】 Embedded image

【0048】成分(c)は錫、亜鉛、鉛、カルシウム、
マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えば、ラウリン酸
ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、あるいは
塩化白金酸等のような公知の触媒があげられる。 〔組成物B(付加型)〕 (d)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000〜200,000) 100重量部 (e)オルガノハイドロジエンポリシロキサン 0.1〜10重量部 (f)付加触媒 0.00001〜1重量部 前記成分(d)の付加反応性官能基を有するジオルガノ
ポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原子に直接結合
したアルケニル基(より好ましくはビニル基)を少なく
とも2個有するオルガノポリシロキサン(数平均分子量
が3,000〜200,000)で、特願平4−238
497号明細書に記載されたものを用いることができ
る。アルケニル基は分子両末端、中間いずれにあっても
よく、アルケニル基以外の有機基としては、置換もしく
は無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アリール基で
ある。また、成分(d)には水酸基を微量有することも
任意である。成分(d)は、数平均分子量が3,000
〜200,000であり、より好ましくは、5,000
〜100,000である。
Component (c) is tin, zinc, lead, calcium,
Examples thereof include metal carboxylates such as manganese, for example, known catalysts such as dibutyl laurate, lead octylate, lead naphthenate, and chloroplatinic acid. [Composition B (addition type)] (d) Diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group (number average molecular weight is 3,000 to 200,000) 100 parts by weight (e) Organohydrogenpolysiloxane 0.1 -10 parts by weight (f) Addition catalyst 0.00001 to 1 part by weight The diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group of the component (d) is an alkenyl group directly bonded to a silicon atom in one molecule (more Organopolysiloxane having at least two (preferably vinyl groups) (number-average molecular weight of 3,000 to 200,000) is disclosed in Japanese Patent Application No. 4-238.
What was described in the specification of No. 497 can be used. The alkenyl group may be at both terminals or in the middle of the molecule, and the organic group other than the alkenyl group is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group. Further, it is optional that the component (d) has a small amount of hydroxyl groups. The component (d) has a number average molecular weight of 3,000.
˜200,000, more preferably 5,000
100 to 100,000.

【0049】成分(e)としては、両末端水素基のポリ
ジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチル
シロキサン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両
末端トリメチルシリル基のポリメチルシロキサン、特開
平4−68353号公報に開示されている両末端トリメ
チルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。
As the component (e), polydimethylsiloxane having hydrogen groups at both ends, α, ω-dimethylpolysiloxane, (methylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends, cyclic polymethylsiloxane, both Examples thereof include polymethylsiloxane having a terminal trimethylsilyl group and a (dimethylsiloxane) (methylsiloxane) copolymer having a trimethylsilyl group at both terminals disclosed in JP-A-4-68353.

【0050】成分(f)としては、公知のものの中から
任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白
金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金な
どが例示される。本発明の水無し平版印刷版におけるシ
リコーンゴム層においては、これらの組成物の硬化速度
を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニル)シロ
キサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、
炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルなどの架橋抑制剤を添加
することも可能である。
The component (f) is arbitrarily selected from known ones, but a platinum-based compound is particularly preferable, and platinum simple substance, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin coordinated platinum and the like are exemplified. In the silicone rubber layer of the waterless lithographic printing plate of the present invention, a vinyl group-containing organopolysiloxane such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane for the purpose of controlling the curing rate of these compositions,
It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as alcohol containing carbon-carbon triple bond, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether.

【0051】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物
の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップ
リング剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助
剤や光重合開始剤、特開平1−179047号公報に開
示されるような芳香族置換ポリジメチルシロキサン、更
に、シリコーンオイルを添加しても良い。
In the silicone rubber layer, if necessary, fine particles of an inorganic substance such as silica, calcium carbonate, titanium oxide, an adhesion aid such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent or an aluminum coupling agent. Further, a photopolymerization initiator, an aromatic-substituted polydimethylsiloxane as disclosed in JP-A No. 1-179047, and silicone oil may be added.

【0052】本発明においては、シリコーンゴムの硬化
性の点で付加型シリコーンゴムを用いる方が好ましい。
本発明におけるシリコーンゴム層からなるインキ反撥層
は、塗布量が少ないとインキ反撥性が低下し、傷が入り
やすい等の問題点があり、塗布量が多い場合、現像性が
悪くなるという点から、塗布量としては0.5〜5g/
m2が好ましく、1〜3g/m2がより好ましい。
In the present invention, it is preferable to use the addition type silicone rubber in view of the curability of the silicone rubber.
The ink repellent layer comprising the silicone rubber layer of the present invention has problems that the ink repellent property decreases when the coating amount is small and scratches easily occur, and the developability deteriorates when the coating amount is large. , The coating amount is 0.5 to 5 g /
m 2 is preferable, and 1 to 3 g / m 2 is more preferable.

【0053】本発明においては、基板と感光層との間に
プライマー層を設けてもよい。本発明に用いられるプラ
イマー層としては、基板と光重合性感光層間の接着性向
上、ハレーション防止、画像の染色や印刷特性向上のた
めに種々のものを使用することができる。例えば、特開
昭60−22903号公報に開示されているような種々
の感光性ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化
せしめたもの、特開昭62−50760号公報に開示さ
れているエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭6
3−133151号公報に開示されているゼラチンを硬
膜せしめたもの、更に特開平3−200965号公報に
開示されているウレタン樹脂とシランカップリング剤を
用いたものや特開平3−273248号公報に開示され
ているウレタン樹脂を用いたもの等を挙げることができ
る。この他、ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたもの
も有効である。更に、プライマー層を柔軟化させる目的
で、前記のプライマー層中に、ガラス転移温度が室温以
下であるポリウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジ
エンゴム、カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、
アクリロニトリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性ア
クリロニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、ア
クリレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン等のポリマーを添加しても良い。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲内であれば、添加剤だけでプライマー層を形成しても
良い。また、これらのプライマー層には前記の目的に沿
って、染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合開始剤、
接着助剤(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シラ
ンカップリング剤、チタネートカップリング剤やアルミ
ニウムカップリング剤)、顔料(例えば、TiO2)や
シリカ粉末等の添加物を含有させることもできる。ま
た、塗布後、露光によって硬化させることもできる。一
般に、プライマー層の塗布量は乾燥重量で0.1〜20
g/m2の範囲が適当であり、好ましくは1〜10g/m2
である。
In the present invention, a primer layer may be provided between the substrate and the photosensitive layer. As the primer layer used in the present invention, various types can be used for the purpose of improving the adhesion between the substrate and the photopolymerizable photosensitive layer, preventing halation, dyeing an image and improving printing characteristics. For example, various photosensitive polymers as disclosed in JP-A-60-22903, which are exposed and cured before laminating a photosensitive layer, are disclosed in JP-A-62-50760. Of epoxy resin that has been heat-cured
The one disclosed in JP-A-3-133151 in which gelatin is hardened, the one using the urethane resin and the silane coupling agent disclosed in JP-A-3-200965, and JP-A-3-273248. And the like using the urethane resin disclosed in. In addition, those obtained by hardening gelatin or casein are also effective. Further, for the purpose of softening the primer layer, polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber, carboxy-modified styrene / butadiene rubber having a glass transition temperature of room temperature or less, in the primer layer,
Acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / butadiene rubber, polyisoprene, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene,
A polymer such as chlorinated polypropylene may be added.
The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additive as long as it is within the range in which the film layer can be formed. In addition, these primer layers have a dye, a pH indicator, a printout agent, a photopolymerization initiator, and
Additives such as an adhesion aid (for example, a polymerizable monomer, a diazo resin, a silane coupling agent, a titanate coupling agent or an aluminum coupling agent), a pigment (for example, TiO 2 ) or a silica powder can be contained. Further, after coating, it can be cured by exposure. Generally, the coating amount of the primer layer is 0.1 to 20 by dry weight.
The range of g / m 2 is suitable, and preferably 1 to 10 g / m 2
Is.

【0054】また、本発明の水無し平版印刷版において
は、上記シリコーンゴム層からなるインキ反撥層の上に
更に種々のインキ反撥層を塗工しても良い。また、光重
合性感光層とインキ反撥層との間の接着力を上げる目
的、もしくはインキ反撥層組成物中の触媒の被毒を防止
する目的で、光重合性感光層とインキ反撥層との間に中
間層を設けても良い。
In the waterless lithographic printing plate of the present invention, various ink repellent layers may be further coated on the ink repellent layer composed of the silicone rubber layer. Further, in order to increase the adhesive force between the photopolymerizable photosensitive layer and the ink repellent layer, or to prevent poisoning of the catalyst in the ink repellent layer composition, the photopolymerizable photosensitive layer and the ink repellent layer are An intermediate layer may be provided between them.

【0055】更に、インキ反撥層の表面保護のために、
インキ反撥層上に透明なフィルム、例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタレ
ート、セロファン等をラミネートしたり、ポリマーのコ
ーティングを施してもよい。これらのフィルムは延伸し
て用いてもよい。更に、このフィルムには画像露光時の
焼き枠における真空密着性を改良するためマットを施し
てもよく、又、このフィルムの剥離性向上のためフィル
ムのインキ反撥層との接触面にコーティングを施しても
よい。
Furthermore, in order to protect the surface of the ink repellent layer,
A transparent film such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate or cellophane may be laminated on the ink repellent layer, or a polymer coating may be applied. These films may be used after being stretched. Further, this film may be matted to improve the vacuum adhesion in the baking frame at the time of image exposure, and a coating is applied to the contact surface of the film with the ink repellent layer to improve the peeling property of the film. May be.

【0056】本発明の水無し平版印刷版は透明原画を通
して露光した後画像部(未露光部)の感光層の一部ある
いは全部を溶解、または、膨潤しうる現像液、あるい
は、インキ反撥層を膨潤しうる現像液で現像される。こ
の場合、画像部の感光層およびインキ反撥層が除去され
る場合と画像部のインキ反撥層のみが除去される場合が
あり、これは現像液の強さによって制御することができ
る。
The waterless lithographic printing plate of the present invention comprises a developer capable of dissolving or swelling a part or all of the photosensitive layer in the image area (unexposed area) after being exposed through a transparent original image, or an ink repellent layer. Develop with a swellable developer. In this case, the photosensitive layer and the ink repellent layer in the image area may be removed or only the ink repellent layer in the image area may be removed, which can be controlled by the strength of the developing solution.

【0057】本発明において用いられる現像液として
は、水無し平版印刷版の現像液として公知のものが使用
できるが、特に、水系現像液が好適である。この水系現
像液の公知のものとしては、水(水道水、純水、蒸留水
等)または水を主成分とする有機溶剤の水溶液、例えば
下記の極性有機溶剤を水に添加したり、界面活性剤等を
用いて水に可溶化したもの等が挙げられ、更にアルカリ
剤(例えば、炭酸ナトリウム、ジエタノールアミン、水
酸化ナトリウム等)を添加してもよいが、安全性および
引火性等を考慮すると、特に水のみによる現像液が望ま
しい。
As the developing solution used in the present invention, those known as a developing solution for a waterless planographic printing plate can be used, but an aqueous developing solution is particularly preferable. Known examples of this water-based developer include water (tap water, pure water, distilled water, etc.) or an aqueous solution of an organic solvent containing water as a main component, such as the following polar organic solvent added to water or surface active Examples thereof include those solubilized in water using an agent and the like, and an alkaline agent (for example, sodium carbonate, diethanolamine, sodium hydroxide, etc.) may be added, but considering safety and flammability, Particularly, a developer containing only water is desirable.

【0058】極性有機溶剤としては、 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノー
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコ
ール等) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート等)があげられる。
The polar organic solvent includes: alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, etc. ・ Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.) ・ Esters (ethyl acetate, methyl lactate, butyl lactate,
Propylene glycol monomethyl ether acetate,
Diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, etc.)-Others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, etc.) can be mentioned.

【0059】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染料を現像
液に加えて、現像と同時に画像部の染色を行うことがで
きる。現像は、例えば現像用バットで上記のような現像
液に版を浸漬させながら版面をこすったり、現像液を版
面に注いだ後に水中にて現像ブラシでこするなど、公知
の方法で行うことができる。現像は任意の液温度で行え
るが、好ましくは10℃〜60℃である。これにより画
像部のインキ反撥層が除かれ、その部分がインキ受容部
となる。
Further, dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red can be added to the developing solution to dye the image area simultaneously with the development. The development can be performed by a known method such as rubbing the plate surface while immersing the plate in the developer as described above with a developing vat, or pouring the developer onto the plate surface and then rubbing with a developing brush in water. it can. Development can be carried out at any liquid temperature, but is preferably 10 ° C to 60 ° C. As a result, the ink repellent layer in the image area is removed, and that area becomes the ink receiving area.

【0060】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には、現像後に染色液で処理
される。染色液を柔らかいパッドにしみこませ、画像部
を軽くこすることにより、感光層の露出した画像部のみ
が染色され、これによりハイライト部まで現像が十分に
行われていることを確認できる。染色液としては、水溶
性の分散染料、酸性染料および塩基性染料のうちから選
ばれる1種または2種以上を水、アルコール類、ケトン
類、エーテル類などの単独または2種以上の混合液に溶
解または分散せしめたものが用いられる。染色性を向上
させるために、カルボン酸類、アミン類、界面活性剤、
染色助剤、消泡剤等を加えることも効果的である。
In the printing plate thus obtained, the exposed image portion can be dyed with a dyeing solution so as to be detected so as to confirm the image forming property. When the developer does not contain a dye for dyeing the exposed image area, it is treated with a dyeing solution after development. By soaking the dyeing solution in a soft pad and rubbing the image area lightly, only the exposed image area of the photosensitive layer is dyed, whereby it can be confirmed that the development is sufficiently performed up to the highlight area. As the dyeing solution, one or more selected from water-soluble disperse dyes, acid dyes and basic dyes can be used alone or in a mixture of two or more of water, alcohols, ketones and ethers. What is dissolved or dispersed is used. In order to improve the dyeability, carboxylic acids, amines, surfactants,
It is also effective to add a dyeing aid, an antifoaming agent and the like.

【0061】染色液により染色された刷版は、次いで水
洗し、その後乾燥することが好ましく、これにより非画
像部や版裏面に付着した染料を取り除いたり、版面のべ
とつきを抑えることができ、刷版の取扱性を向上させる
ことができる。また、このように処理された刷版を積み
重ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を
挿入し挟んでおくことが好ましい。
The printing plate dyed with the dyeing solution is preferably washed with water and then dried, whereby the dye adhering to the non-image area and the back surface of the plate can be removed and the stickiness of the plate surface can be suppressed. The handling of the plate can be improved. Further, when the printing plates thus treated are stacked and stored, it is preferable to insert and sandwich a slip sheet for protecting the printing plates.

【0062】以上のような現像処理と染色処理、又はそ
れに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うことが好
ましい。このような自動処理機の好ましいものは、特開
平2−220061号公報に記載されている。以下に、
実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は
これらの実施例に限定されるものではない。
It is preferable that the above-mentioned development and dyeing treatments, or subsequent washing and drying treatments are carried out by an automatic processor. A preferable example of such an automatic processor is described in JP-A-2-220061. less than,
The present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0063】[0063]

【実施例】【Example】

合成例(1) 化合物Aの合成 メタキシレンジアミン1モルにエチレンオキシド4モル
を付加させて得られるMXDA EO−4(三菱ガス化
学(株)製)6.25g(0.02モル)、トリエチル
アミン16g(0.16モル)、ジクロルメタン100
ml、ニトロベンゼン(0.5g)に、メタクリル酸クロ
ライド8.4g(0.08モル)を15℃以下で滴下し
た。
Synthesis Example (1) Synthesis of Compound A 6.25 g (0.02 mol) of MXDA EO-4 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) obtained by adding 4 mol of ethylene oxide to 1 mol of metaxylenediamine, 16 g of triethylamine ( 0.16 mol), dichloromethane 100
To ml and nitrobenzene (0.5 g), 8.4 g (0.08 mol) of methacrylic acid chloride was added dropwise at 15 ° C or lower.

【0064】滴下終了後、2時間撹拌した後、水100
mlを加え、ジクロルメタンで抽出した。溶媒留去後、化
合物A−1 11.3gを得た。同様にして、メタキシ
レンジアミン1モルにエチレンオキシドを6、10、1
5モル付加させて得られるMXDA EO−6、MXD
A EO−10、MXDA EO−15(三菱ガス化学
(株)製)(0.02モル)に、メタクリル酸クロライ
ド(0.08モル)を反応させることにより、化合物A
−2、A−3、A−4を合成した。 合成例(2) 化合物Bの合成 2−(2−(2−クロロエトキシ)エトキシ)エタノー
ル16.9g(0.1モル)、N−メチルピロリドン5
0g(0.5モル)、ジクロルメタン100ml、ニトロ
ベンゼン(0.5g)に、メタクリル酸クロライド1
0.5g(0.1モル)を15℃以下で滴下した。
After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours, and then water 100 was added.
ml was added, and the mixture was extracted with dichloromethane. After the solvent was distilled off, 11.3 g of compound A-1 was obtained. Similarly, ethylene oxide 6, 10, 1 was added to 1 mol of meta-xylene diamine.
MXDA EO-6 and MXD obtained by adding 5 mol
Compound A by reacting A EO-10 and MXDA EO-15 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) (0.02 mol) with methacrylic acid chloride (0.08 mol).
-2, A-3 and A-4 were synthesized. Synthesis Example (2) Synthesis of Compound B 2- (2- (2-chloroethoxy) ethoxy) ethanol 16.9 g (0.1 mol), N-methylpyrrolidone 5
0 g (0.5 mol), dichloromethane 100 ml, nitrobenzene (0.5 g), methacrylic acid chloride 1
0.5 g (0.1 mol) was added dropwise at 15 ° C or lower.

【0065】滴下終了後、8時間撹拌した後、水200
mlを加え、ジクロルメタンで抽出し、水洗、乾燥後、溶
媒留去してオイル状化合物22gを得た。得られた化合
物にメタキシレンジアミン3.4g(0.025モ
ル)、炭酸水素ナトリウム10g、およびエタノール1
00mlを加え、8時間還流させた。水300mlを加え、
ジクロルメタンで抽出した。
After completion of dropping, the mixture was stirred for 8 hours, and then water 200 was added.
ml was added, the mixture was extracted with dichloromethane, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain 22 g of an oily compound. 3.4 g (0.025 mol) of meta-xylenediamine, 10 g of sodium hydrogen carbonate, and ethanol 1 were added to the obtained compound.
00 ml was added and the mixture was refluxed for 8 hours. Add 300 ml of water,
It was extracted with dichloromethane.

【0066】溶媒留去後、化合物B−3 16.5gを
得た。2−(2−(2−クロロエトキシ)エトキシ)エ
タノールのかわりに、2−(2−クロロエトキシ)エタ
ノール、2−クロロエタノール(各0.02モル)を用
いて同様の反応を行い、化合物B−2、B−1を合成し
た。 合成例(3) 化合物Cの合成 メタキシレンジアミン1モルにエチレンオキシド4モル
を付加させて得られるMXDA EO−4(三菱ガス化
学(株)製)6.25g(0.02モル)と活性アルミ
ナ(中性、活性度I、和光純薬工業(株)製)1gをジ
メトキシエタン100ml中で撹拌しておき、そこにメタ
クリル酸グリシジル11.4g(0.08モル)及びヒ
ドロキノンモノメチルエーテル(0.07g)を加え5
時間加熱還流させた。
After the solvent was distilled off, 16.5 g of compound B-3 was obtained. Instead of 2- (2- (2-chloroethoxy) ethoxy) ethanol, 2- (2-chloroethoxy) ethanol and 2-chloroethanol (each 0.02 mol) were used to carry out the same reaction to give compound B. -2, B-1 were synthesized. Synthesis Example (3) Synthesis of Compound C 6.25 g (0.02 mol) of MXDA EO-4 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) obtained by adding 4 mol of ethylene oxide to 1 mol of metaxylenediamine and activated alumina ( Neutral, activity I, 1 g of Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was stirred in 100 ml of dimethoxyethane, and 11.4 g (0.08 mol) of glycidyl methacrylate and hydroquinone monomethyl ether (0.07 g) were stirred therein. ) Added 5
Heated to reflux for hours.

【0067】加熱終了後、水300mlを加え、ジクロル
メタンで抽出した。水洗、乾燥後、溶媒留去して化合物
C−1 17gを得た。同様にして、メタキシレンジア
ミン1モルにエチレンオキシドを6、10、15モル付
加させて得られるMXDA EO−6、MXDA EO
−10、MXDA EO−15(三菱ガス化学(株)
製)(0.02モル)に、メタクリル酸グリシジル
(0.08モル)を反応させることにより、化合物C−
2、C−3、C−4を合成した。 合成例(4) 化合物Dの合成 ブレンマーPE−90(ジエチレングリコールモノメタ
クリレート、日本油脂(株)製)17g(0.1モル)
と活性アルミナ(中性、活性度I、和光純薬工業(株)
製)1gをジメトキシエタン100ml中で撹拌してお
き、そこにTETRAD−X(三菱ガス化学(株)製)
9.0g(0.025モル)を加え5時間加熱還流させ
た。
After completion of heating, 300 ml of water was added and the mixture was extracted with dichloromethane. After washing with water and drying, the solvent was distilled off to obtain 17 g of Compound C-1. Similarly, MXDA EO-6 and MXDA EO obtained by adding 6, 10 and 15 mol of ethylene oxide to 1 mol of metaxylenediamine
-10, MXDA EO-15 (Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.)
Compound (C-) by reacting glycidyl methacrylate (0.08 mol) with (manufactured) (0.02 mol).
2, C-3 and C-4 were synthesized. Synthesis Example (4) Synthesis of Compound D 17 g (0.1 mol) of BLEMMER PE-90 (diethylene glycol monomethacrylate, manufactured by NOF CORPORATION)
And activated alumina (neutral, activity I, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
1 g) was stirred in 100 ml of dimethoxyethane, and TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) was added thereto.
9.0 g (0.025 mol) was added and the mixture was heated under reflux for 5 hours.

【0068】加熱終了後、水300mlを加え、酢酸エチ
ルで抽出した。水洗、乾燥後、溶媒留去して化合物D−
1 25gを得た。同様にして、ブレンマーPE−20
0(ポリエチレングリコールモノメタクリレート、日本
油脂(株)製)28g(0.1モル)に、TETRAD
−X(三菱ガス化学(株)製)9.0g(0.025モ
ル)を反応させることにより、化合物D−2を合成し
た。
After completion of heating, 300 ml of water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing with water and drying, the solvent was distilled off to give compound D-
125 g were obtained. Similarly, Bremmer PE-20
0 (polyethylene glycol monomethacrylate, manufactured by NOF CORPORATION) to 28 g (0.1 mol), TETRAD
Compound D-2 was synthesized by reacting 9.0 g (0.025 mol) of -X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.).

【0069】[0069]

【化17】 [Chemical 17]

【0070】実施例1〜9、比較例1〜4 〔プライマー層〕通常の方法で脱脂した0.3mm厚のJI
S A 1050材アルミ板をアミノシランカップリング剤であ
るKBM603(信越化学(株)製)1%水溶液に浸潰
させた後、室温で乾燥させた。このアルミ板上に乾燥重
量で4g/m2となるように、下記のプライマー層を塗布
し、140℃、2分間加熱し乾燥させた。 ・ポリウレタン樹脂 サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1重量部 ・TiO2 0.1重量部 ・界面活性剤 MCF323(大日本インキ化学工業(株)製) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部 その後、真空露光機(ヌアーク社製FT261V UDNS ULTRA-
PLUS FLIPTOP PLATE MAKER)を用いて、20カウント露
光した。 〔感光層〕上記プライマー層を塗設したアルミ板上に、
下記組成の光重合性感光液を、乾燥重量4g/m2となる
ように塗布し、100℃、1分乾燥した。 ・ポリウレタン樹脂 1.5重量部 〔イソホロンジイソシアネート/ポリエステル(アジピン酸 /1,4−ブタンジオール/テトラエチレングリコール) /イソホロンジアミン〕 ・下記表1に記載する光重合性の多官能モノマー 1.5重量部 ・エチルミヒラーズケトン 0.35重量部 ・2−クロルチオキサントン 0.10重量部 ・ビクトリアピュアブルーBOHのナフタレンスルホン酸塩 0.01重量部 ・MCF323(大日本インキ化学工業(株)製) 0.03重量部 ・メチルエチルケトン 10重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテル 25重量部 〔インキ反撥層〕上記光重合性感光層上に、下記のシリ
コーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2になるよう塗布
し、140℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・テトラシクロ(メチルビニル)シロキサン 0.3重量部 ・アイソパーG(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚
さ12μmの片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムをマット化されていない面がシリコーンゴム層と接
するようにラミネ一卜し、本発明の水無し平版印刷版を
得た。
Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 [Primer layer] 0.3 mm thick JI degreased by a conventional method.
An aluminum plate of SA 1050 material was immersed in a 1% aqueous solution of KBM603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is an aminosilane coupling agent, and then dried at room temperature. The following primer layer was applied on the aluminum plate so that the dry weight was 4 g / m 2, and the coating was dried by heating at 140 ° C. for 2 minutes. Polyurethane resin Sunprene IB1700D (Sanyo Kasei Co., Ltd.) 10 parts by weight p-diazo diphenyl amine and hexafluorophosphate salt 0.1 part by weight TiO 2 0.1 part by weight Surfactant of polycondensation products of paraformaldehyde Activator MCF323 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.03 parts by weight-Propylene glycol methyl ether acetate 50 parts by weight-Methyl lactate 20 parts by weight-Pure water 1 part by weight Then, a vacuum exposure machine (FT261V manufactured by Nuark) UDNS ULTRA-
PLUS FLIPTOP PLATE MAKER) was used for 20 count exposure. [Photosensitive layer] On an aluminum plate coated with the above primer layer,
A photopolymerizable photosensitive solution having the following composition was applied so as to have a dry weight of 4 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. Polyurethane resin 1.5 parts by weight [isophorone diisocyanate / polyester (adipic acid / 1,4-butanediol / tetraethylene glycol) / isophorone diamine] 1.5 parts by weight of a photopolymerizable polyfunctional monomer described in Table 1 below. Part-Ethyl Michler's ketone 0.35 part by weight 2-Chlorthioxanthone 0.10 part by weight-Victoria Pure Blue BOH naphthalene sulfonate 0.01 part by weight-MCF323 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0 0.03 parts by weight Methyl ethyl ketone 10 parts by weight Propylene glycol methyl ether 25 parts by weight [Ink repellent layer] The following silicone rubber composition liquid was applied on the above photopolymerizable photosensitive layer so that the dry weight was 2 g / m 2 . It was dried at 140 ° C. for 2 minutes.・ Α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (polymerization degree: about 700) 9 parts by weight ・ (CH 3 ) 3 -Si-O- (SiH (CH 3 ) -O) 8 -Si (CH 3 ) 3 0.5 part by weight Parts-polydimethylsiloxane (polymerization degree of about 8,000) 0.5 parts by weight-olefin-chloroplatinic acid 0.2 parts by weight-tetracyclo (methylvinyl) siloxane 0.3 parts by weight-ISOPAR G (Esso Chemical Co., Ltd.) 140 parts by weight A single-sided matt biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 12 μm is laminated on the surface of the silicone rubber layer obtained as described above so that the unmatted surface is in contact with the silicone rubber layer. A waterless planographic printing plate of the present invention was obtained.

【0071】これらの印刷版を1枚用意し、これを20
0線/インチの網点画像を有するポジフィルムと光学濃
度差0.15であるグレースケール(G/S)を重ね、
真空露光機(ヌアーク社製FT251V UDNS ULTRA-PLUS FLI
PT0P PLATE MAKER)を用いて50カウント露光した。そ
の後、ラミネートフィルムを剥し、直ちに下記現像処理
を行った。 〔現像処理〕印刷版を35℃の水に浸漬しつつ、現像パ
ッドによりこすって、未露光部のシリコーンゴム層を除
去した。引き続き、下記組成の染色液にて染色し、感度
(G/Sクリア感度)、網点再現性(再現可能なハイラ
イトの網点面積、単位:%)を評価した。 (染色液) ・クリスタルバイオレット 0.1重量部 ・ジエチレングリコールモノエチルエーテル 15重量部 ・純 水 85重量部 次いで、印刷前に予め、直径0.5mmのサファイヤ針を
用いて非画像部の引掻き試験(HEIDON−14引っ
掻き試験器、荷重100g〜500g)を行い、これら
の版を用いて、湿し水供給装置をはずしたハイデルベル
グGTO印刷機にて、アクアレスG墨インキ(東洋イン
ク製TOYO KING ULTRA TUK)により10万枚印刷し、非
画像部の引掻き傷が印刷物に現れはじめる傷の荷重(耐
傷性)、及び非画像部のシリコーンゴム層が破壊され、
印刷物が汚れてくるまでの印刷枚数(耐刷性)を評価し
た。
One of these printing plates was prepared and 20
A positive film having a halftone image of 0 lines / inch and a gray scale (G / S) having an optical density difference of 0.15 are overlaid,
Vacuum exposure machine (FT251V UDNS ULTRA-PLUS FLI manufactured by Nuark)
It was exposed for 50 counts using a (PT0P PLATE MAKER). Then, the laminate film was peeled off, and the following development processing was immediately performed. [Development Treatment] While immersing the printing plate in water at 35 ° C., it was rubbed with a development pad to remove the silicone rubber layer in the unexposed area. Subsequently, it was dyed with a dyeing solution having the following composition, and the sensitivity (G / S clear sensitivity) and halftone dot reproducibility (reproducible halftone dot area, unit:%) were evaluated. (Staining solution) -Crystal violet 0.1 part by weight-Diethylene glycol monoethyl ether 15 parts by weight-Pure water 85 parts by weight Then, before printing, a scratch test of a non-image area was performed in advance using a sapphire needle having a diameter of 0.5 mm ( HEIDON-14 scratch tester, load 100 g to 500 g) was used, and using these plates, in a Heidelberg GTO printing machine without a dampening water supply device, Aqualess G black ink (TOYO KING ULTRA TUK manufactured by Toyo Ink). ), 100,000 sheets are printed, scratches on the non-image area begin to appear on the printed matter (damage resistance), and the silicone rubber layer on the non-image area is destroyed.
The number of printed sheets (printing durability) until the printed matter became dirty was evaluated.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】表1より、本発明の水無し平版印刷版は、
良好な感度、網点再現性、耐刷性、耐傷性を示した。な
お、表1において比較例として使用した多官能モノマー
T,U,V,Wは次の式で表される。
From Table 1, the waterless planographic printing plate of the present invention is
It showed good sensitivity, halftone dot reproducibility, printing durability and scratch resistance. The polyfunctional monomers T, U, V and W used as comparative examples in Table 1 are represented by the following formulas.

【0074】[0074]

【化18】 Embedded image

【0075】また、上記と同様に露光した実施例1〜9
の印刷版を自動現像処理機TWL860K(東レ(株)
製)にて、現像液PP−1(東レ(株)製)及び染色液
PA−1(東レ(株)製)を使用して、現像処理したと
ころ、表1同様に良好な感度、網点再現性、耐刷性、耐
傷性を示した。
In addition, Examples 1 to 9 exposed in the same manner as above
Printing plate TWL860K (Toray Industries, Inc.)
Developed) using a developing solution PP-1 (manufactured by Toray Co., Ltd.) and a dyeing solution PA-1 (manufactured by Toray Co., Ltd.). It showed reproducibility, printing durability, and scratch resistance.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明による水無し平版印刷版によれ
ば、画像露光後の光硬化した感光層に柔軟性を持たせる
ことができ、耐刷性、耐傷性に優れ、かつ、水系現像液
で現像したときの感度及び網点再現性が良好な水無し平
版印刷版が得られる。
According to the waterless lithographic printing plate of the present invention, the photo-cured photosensitive layer after imagewise exposure can be made to have flexibility, and it has excellent printing durability and scratch resistance, and is an aqueous developer. A waterless lithographic printing plate excellent in sensitivity and halftone dot reproducibility when developed in 1. can be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、光重合性感光層、シリコーン
ゴム層をこの順に積層し、該光重合性感光層が下記式
(I)で表される光重合性モノマーを少なくとも一種含
有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版。 【化1】 式(I)中、R1、R2は、各々独立に、置換もしくは、
無置換のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ーロキシ基、アラルキル基、アラルコキシ基、ハロゲン
基を表し、hは0〜4の整数、iは0〜4の整数であ
り、h+i≦4である。L1、L2は、各々独立に、置換
もしくは、無置換のアルキレン基、フェニレン基、アラ
ルキレン基を表し、jは0又は1、kは0又は1であ
る。R3、R4、R5及びR6は、水素原子、アルキル基又
は下記式(II)を表し、同じでも異なっていてもよい
が、これらの少なくとも2個は、式(II)である。 【化2】 式(II)中、R7は、水素原子又は炭素数1〜4のアル
キル基を表し、Xは、−CO−又はフェニレン基を表
す。R8、R9は、各々、水素原子又はメチル基を表し、
l個のR8及びn個のR9は、同じでも異なっていてもよ
く、l=0〜15の整数、n=0〜15の整数である。
但し、R3、R4、R5およびR6の全てのlおよびnが、
同時に0になることはない。また、式(II)中、Yは、
下式(III)、(IV)又は(V)を表し、mは0又は1で
ある。 【化3】
1. A photopolymerizable photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated in this order on a substrate, and the photopolymerizable photosensitive layer contains at least one photopolymerizable monomer represented by the following formula (I). A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water. Embedded image In formula (I), R 1 and R 2 are each independently substituted or
It represents an unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an aralkyl group, an aralkoxy group, or a halogen group, h is an integer of 0 to 4, i is an integer of 0 to 4, and h + i ≦ 4. L 1 and L 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkylene group, phenylene group or aralkylene group, j is 0 or 1, and k is 0 or 1. R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group or the following formula (II) and may be the same or different, but at least two of them are the formula (II). Embedded image In formula (II), R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X represents a —CO— or a phenylene group. R 8 and R 9 each represent a hydrogen atom or a methyl group,
l R 8 and n R 9 may be the same or different and are an integer of 1 = 0 to 15 and an integer of n = 0 to 15.
However, all l and n of R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are
It cannot be 0 at the same time. Further, in the formula (II), Y is
It represents the following formula (III), (IV) or (V), and m is 0 or 1. Embedded image
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