JPH08173778A - Manufacture of fluorine containing polyimide gas separating membrane - Google Patents

Manufacture of fluorine containing polyimide gas separating membrane

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JPH08173778A
JPH08173778A JP27405595A JP27405595A JPH08173778A JP H08173778 A JPH08173778 A JP H08173778A JP 27405595 A JP27405595 A JP 27405595A JP 27405595 A JP27405595 A JP 27405595A JP H08173778 A JPH08173778 A JP H08173778A
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JP
Japan
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fluorine
containing polyimide
separation membrane
gas separation
solvent
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JP27405595A
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Japanese (ja)
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Hisao Hachisuga
久雄 蜂須賀
Taira Jo
平 徐
Tomoumi Obara
知海 小原
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Abstract

PURPOSE: To provide a method for obtaining a fluorine containing polyimide gas separating membrane wherein high gas permeable flux is provided by a simple membrane making method, and it can be practically satisfied from the standpoint of cost. CONSTITUTION: A fluorine containing polyimide resin containing at least 3 fluorine atoms in a repeated molecular structural unit composing a polyimide resin layer, and an organic solvent (A) of at most 30 dielectric constant and at most 3.0D dipole moment are tubularly extruded or applied onto suitable based material. Then, it is dipped in solvent (B) which does not dissolve the fluorine containing polyimide resin and has compatibility with the organic solvent (B).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、気体分離用のフッ素含
有ポリイミド系気体分離膜に関するもので、詳しくは工
業上の混合気体から特定の成分例えば水素、メタン、炭
酸ガス、酸素、水蒸気、イオン等を分離・濃縮するため
に用いられる非対称膜あるいは複合膜の形態で使用され
るフッ素含有ポリイミド系分離膜の製造方法に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane for gas separation, and more specifically to specific components such as hydrogen, methane, carbon dioxide, oxygen, water vapor and ions from an industrial mixed gas. The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing polyimide-based separation membrane used in the form of an asymmetric membrane or a composite membrane used for separating and concentrating the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドは、高いガラス転移温度と剛
直な分子鎖構造を有するため、耐熱性、耐化学薬品性等
に優れた膜分離材料として知られており、種々のポリイ
ミドを用いた分離膜が検討されている。例えば、米国特
許第4378400 号公報や米国特許第4959151 号公報にはビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物を用いた芳香族ポリ
イミドが、特開平5−7749公報、米国特許第3822202 号
公報、米国特許第3899309 号公報、米国特許第4532041
号公報、米国特許第4645824 号公報、米国特許第470554
0 号公報、米国特許第4717393 号公報、米国特許第4717
394 号公報、米国特許第4838900 号公報、米国特許第48
97092 号公報、米国特許第4932982 号公報、米国特許第
4929405 号公報、米国特許第4981497 号公報、米国特許
第5042992号公報等には含フッ素系の芳香族ポリイミド
が開示されている。
2. Description of the Related Art Polyimide is known as a membrane separation material having excellent heat resistance and chemical resistance because it has a high glass transition temperature and a rigid molecular chain structure. Separation membranes using various polyimides are known. Is being considered. For example, in U.S. Pat. No. 4,378,400 and U.S. Pat. No. 4,959,151, aromatic polyimides using biphenyltetracarboxylic dianhydride are disclosed in JP-A-5-7749, U.S. Pat. No. 3,822,202, and U.S. Pat. Publication, U.S. Patent No. 4532041
U.S. Pat.No. 4,645,824, U.S. Pat.
No. 0, U.S. Pat.No. 4,717,393, U.S. Pat.
394, U.S. Pat.No. 4,838,900, U.S. Pat.
97092, U.S. Pat.No. 4932982, U.S. Pat.
4929405, U.S. Pat. No. 4,981,497, U.S. Pat. No. 5,042,992, etc. disclose fluorine-containing aromatic polyimides.

【0003】また、脂肪族や脂環族のテトラカルボン酸
二無水物を用いたポリイミド系に関しても 米国特許第
4964887 号公報や米国特許第4988371 号公報に開示され
ている。
A polyimide system using an aliphatic or alicyclic tetracarboxylic dianhydride is also disclosed in US Pat.
It is disclosed in Japanese Patent No. 4964887 and US Pat. No. 4,988,371.

【0004】さらに実用性を考慮した薄膜化や非対称膜
化も検討されている。米国特許第4929405 号公報には水
面展開法によりフッ素含有芳香族ポリイミド系均質膜の
膜厚を 400Å以下の薄膜に制御することが開示されてい
るが、支持膜層がないため実用的な機械的強度を持たな
い。そのため工業規模での製膜やモジュール化が困難で
ある。
Further, thinning and asymmetrical thinning have been studied in consideration of practicality. U.S. Pat.No. 4,929,405 discloses controlling the film thickness of a fluorine-containing aromatic polyimide-based homogeneous film to a thin film of 400 Å or less by a water surface expansion method, but it has no supporting film layer and is practically mechanical. It has no strength. Therefore, it is difficult to form a film on an industrial scale or to form a module.

【0005】実用的な機械的強度を分離膜に持たせる方
法として非対称化が効果的である。例えば米国特許第 4
240914号公報、米国特許第 4358378号公報、米国特許第
4385084 報、米国特許第 4410568号公報等には脂肪族ポ
リイミド非対称膜が開示されている。また、米国特許第
3925211号公報、米国特許第 4113628号公報、米国特許
第 4378324報、米国特許第 4440643号公報、米国特許第
4460526号公報、米国特許第 4474662号公報、米国特許
第 4485056報、米国特許第 4512893号公報、米国特許第
4532041号公報、米国特許第 4908134報、特開平4−22
7831号には、芳香族ポリイミド及び前駆体であるポリア
ミック酸の非対称膜化が開示されている。フッ素含有芳
香族ポリイミドの非対称膜に関しても米国特許第 47055
40号公報、米国特許第 4717394号公報、米国特許第 508
5676報、米国特許第 5178940報等に開示されている。
Asymmetrization is effective as a method for giving practical mechanical strength to the separation membrane. For example U.S. Patent No. 4
240914, U.S. Pat.No. 4358378, U.S. Pat.
4385084, U.S. Pat. No. 4,410,568 and the like disclose aliphatic polyimide asymmetric membranes. In addition, US patent
3925211, U.S. Pat.No. 4,113,628, U.S. Pat.No. 4,378,324, U.S. Pat.No. 4440643, U.S. Pat.
No. 4460526, U.S. Pat.No. 4474662, U.S. Pat.No. 4485056, U.S. Pat.No. 4512893, U.S. Pat.
4532041, U.S. Pat.No. 4,908,134, JP-A-4-22
No. 7831 discloses asymmetric film formation of an aromatic polyimide and a precursor polyamic acid. U.S. Pat. No. 47055 also relates to asymmetric membranes of fluorine-containing aromatic polyimide.
40, U.S. Pat.No. 4,717,394, U.S. Pat.No. 508
5676, US Pat. No. 5,178,940 and the like.

【0006】これらのLoeb型の非対称膜の製造方法とし
て、湿式の相転換法が用いられているが、分離性能を大
きく低下させるピンホールを形成しない非対称膜を製膜
できる方法とは言い難く、上記の開示された公報のう
ち、米国特許第 4717394号公報に記載されている非対称
膜は、高い分離透過性能を開示しているが、ガス透過性
支持体がない非対称膜の製造方法のため分離膜の機械的
強度が弱く実用的な取扱ができないこと、さらにアルコ
ールによる後処理工程が必要であることにより、工業的
レベルの製膜は困難であった。
As a method for producing these Loeb-type asymmetric membranes, a wet phase inversion method is used, but it is hard to say that it is a method capable of producing an asymmetric membrane that does not form pinholes that greatly deteriorate the separation performance. Among the above-disclosed publications, the asymmetric membrane described in U.S. Pat.No. 4,717,394 discloses high separation and permeation performance, but the separation is due to the method for producing an asymmetric membrane having no gas permeable support. Since the mechanical strength of the film is weak and it cannot be handled practically, and a post-treatment step with alcohol is required, it is difficult to form the film on an industrial level.

【0007】ピンホールがない非対称膜を形成させるた
めに、後処理(特開平5−049882号、特開平5−146651
号等)や前処理(特開平5−184887号等)、製膜工程の
改良(米国特許第 4902422号公報、米国特許第 5085676
報、米国特許第 5165963報等)といった方法が開示され
ている。しかしながら、これらの方法は、作業工程の増
加および複雑化、コスト高、工業レベルでの安定製膜が
困難といった問題点を有していた。
In order to form a pinhole-free asymmetric film, post-treatment (Japanese Patent Laid-Open No. 049882/1993, No. 5-146651)
Etc.), pretreatment (JP-A-5-184887, etc.), improvement of film forming process (US Pat. No. 4902422, US Pat. No. 5085676).
And U.S. Pat. No. 5,165,963). However, these methods have problems that the number of working steps is increased and complicated, the cost is high, and stable film formation on an industrial level is difficult.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ポリイミドの分離膜を
実用的な工業レベルで製造する場合、上記のような従来
技術では満足できるものではない。具体的には、第1に
製膜時にピンホールが形成し、そのピンホールのために
分離膜性能が低下し、ばらつき、不安定となる。第2に
は第1の欠点を補うために、製膜時の工程が複雑とな
り、コスト高となる。第3には製膜条件を厳しくしてピ
ンホールを出来るだけ少なくしようとするために、製膜
条件のコントロールが難しく、結果として安定した分離
性能と透過性能をバランス良く有する膜の製造ができな
い。
When the polyimide separation membrane is manufactured at a practical industrial level, the above-mentioned conventional techniques are not satisfactory. Specifically, firstly, a pinhole is formed during film formation, and the pinhole reduces the performance of the separation membrane, resulting in dispersion and instability. Secondly, in order to make up for the first drawback, the process of film formation becomes complicated and the cost becomes high. Thirdly, it is difficult to control the film-forming conditions because the film-forming conditions are made strict and the pinholes are made as small as possible, and as a result, it is impossible to manufacture a film having stable separation performance and permeation performance in good balance.

【0009】本発明はこれらの問題点を解決するために
なされたものであって、より簡便な製膜方法で、高い気
体透過流束を有し、コスト面で実用的に満足できる気体
分離膜を得るための方法を見い出し、本発明に至ったも
のである。
The present invention has been made in order to solve these problems, and it is a gas separation membrane which has a high gas permeation flux and is practically satisfactory in terms of cost by a simpler membrane forming method. The present invention has been accomplished by finding a method for obtaining the above.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、ドープ作
製のために特定の溶媒を用いることにより、湿式相転換
製膜法にて均質スキン層の厚みを一定値以下とし、且つ
分離性能を大きく低下させるピンホールを広範囲にわた
り形成しない非対称膜を製膜できる方法を見い出し、本
発明に至ったものである。
Means for Solving the Problems That is, according to the present invention, by using a specific solvent for preparing a dope, the thickness of the homogeneous skin layer is set to a certain value or less by the wet phase conversion film forming method, and the separation performance is improved. The present invention has been accomplished by finding a method capable of forming an asymmetric film that does not form a pinhole that greatly reduces in a wide range.

【0011】即ち本発明のフッ素含有ポリイミド系気体
分離膜の製造方法は、ポリイミド樹脂層を構成する繰り
返し分子構造単位中に少なくとも3個のフッ素原子を有
するフッ素含有ポリイミド樹脂と、分子構造単位中に少
なくとも2個のエーテル結合を有する有機溶媒(A) を、
チューブ状に押し出すか或いは適宜の支持体上に塗布
し、次いで上記フッ素含有ポリイミド樹脂を溶解しない
が、上記有機溶媒(A) と相溶性を有する溶剤(B) 中に浸
漬するという構成である。
That is, the method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane of the present invention comprises a fluorine-containing polyimide resin having at least 3 fluorine atoms in the repeating molecular structural unit constituting the polyimide resin layer and a molecular structural unit. An organic solvent (A) having at least two ether bonds,
The composition is such that it is extruded into a tube shape or coated on an appropriate support, and then the above-mentioned fluorine-containing polyimide resin is not dissolved, but is immersed in a solvent (B) compatible with the above organic solvent (A).

【0012】あるいは別の構成としては、本発明のフッ
素含有ポリイミド系気体分離膜の製造方法は、ポリイミ
ド樹脂層を構成する繰り返し分子構造単位中に少なくと
も3個のフッ素原子を有するフッ素含有ポリイミド樹脂
と、誘電率が30以下で双極子モーメントが3.0D以下
である有機溶媒(C) を、チューブ状に押し出すか或いは
適宜の支持体上に塗布し、次いで上記フッ素含有ポリイ
ミド樹脂を溶解しないが、上記有機溶媒(C) と相溶性を
有する溶剤(B) 中に浸漬するという構成である。
Alternatively, as another configuration, the method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane of the present invention comprises a fluorine-containing polyimide resin having at least three fluorine atoms in repeating molecular structural units constituting a polyimide resin layer. , An organic solvent (C) having a dielectric constant of 30 or less and a dipole moment of 3.0D or less is extruded in a tube shape or coated on an appropriate support, and then the above-mentioned fluorine-containing polyimide resin is not dissolved, It is configured to be immersed in a solvent (B) having compatibility with the organic solvent (C).

【0013】本発明に用いられるポリイミド樹脂層は気
体分離性能に寄与する層であり、ポリイミドを構成する
繰り返し分子構造単位中に少なくとも3個のフッ素原子
を有するフッ素含有ポリイミド樹脂からなるが、上記の
ポリイミド樹脂層を構成する繰り返し分子構造単位中に
少なくとも1つの−CF3基を有することが好ましい。更
には、フッ素含有ポリイミド薄膜中のフッ素含有量は6
個〜12個(繰り返し分子構造単位中のフッ素原子の個
数)であることが、実質的に安定した高品質を有する気
体用複合分離膜を得るのに好ましい。また12個を越え
ると原料コストが高くなり実用性が低下する。
The polyimide resin layer used in the present invention is a layer that contributes to gas separation performance, and is composed of a fluorine-containing polyimide resin having at least 3 fluorine atoms in the repeating molecular structural unit constituting the polyimide. it is preferred that at least one -CF 3 group in repeating molecular units constituting the polyimide resin layer. Furthermore, the fluorine content in the fluorine-containing polyimide thin film is 6
The number is preferably from 12 to 12 (the number of fluorine atoms in the repeating molecular structural unit) in order to obtain a gas composite separation membrane having substantially stable and high quality. On the other hand, when the number exceeds 12, the raw material cost becomes high and the practicality is lowered.

【0014】本発明に用いられるフッ素含有ポリイミド
樹脂は一般式〔化3〕
The fluorine-containing polyimide resin used in the present invention has a general formula:

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】(但し〔化3〕中のA1 とA2 は芳香族、
脂環族もしくは脂肪族炭化水素基からなる4価の有機基
を示し、R1 とR2 は2価の芳香族、脂環族もしくは脂
肪族炭化水素基、またはこれら炭化水素基が2価の有機
結合基で結合された2価の有機基を示し、A1 ,A2
1 ,R2 の内少なくとも一の有機基は、フッ素原子を
3個以上有する有機基である。なお、m,nは次の式に
従う。m+n=1,0≦m≦1,0≦n≦1) で表される繰り返し分子構造単位を主成分とすることが
好ましい。フッ素原子を少なくとも3個以上有する4価
の有機基としては、A1 あるいはA2 の4価の有機基の
プロトンがフッ素原子またはフッ素原子を含む基に置き
変わったものであれば特に限定されないが、より好まし
くは、A1 あるいはA2 の4価の有機基の少なくとも1
つのプロトンが1つの−CF3基に置き変わったものが用
いられ、例えば、式〔化4〕
(However, A 1 and A 2 in [Chemical Formula 3] are aromatic,
A tetravalent organic group consisting of an alicyclic or aliphatic hydrocarbon group is shown, wherein R 1 and R 2 are divalent aromatic, alicyclic or aliphatic hydrocarbon groups, or these hydrocarbon groups are divalent. A divalent organic group bonded by an organic bonding group is shown, and A 1 , A 2 ,
At least one of R 1 and R 2 is an organic group having 3 or more fluorine atoms. In addition, m and n follow the following formula. It is preferable that the main component is a repeating molecular structural unit represented by m + n = 1,0 ≦ m ≦ 1,0 ≦ n ≦ 1). The tetravalent organic group having at least three fluorine atoms is not particularly limited as long as the proton of the tetravalent organic group of A 1 or A 2 is replaced with a fluorine atom or a group containing a fluorine atom. , And more preferably at least one of the tetravalent organic groups of A 1 or A 2.
One in which one proton is replaced by one —CF 3 group is used.

【0017】[0017]

【化4】 [Chemical 4]

【0018】で表される4価の有機基などが好ましく用
いられる。フッ素原子を少なくとも3個以上有する2価
の有機基としては、R1 あるいはR2 の2価の有機基の
プロトンがフッ素原子またはフッ素原子を含む基に置き
変わったものであれば特に限定されないが、より好まし
くは、R1 あるいはR2 の2価の有機基の少なくとも1
つのプロトンが1つの−CF3基に置き変わったものが用
いられる。具体的には、式〔化5〕
A tetravalent organic group represented by and the like are preferably used. The divalent organic group having at least three fluorine atoms is not particularly limited as long as the proton of the divalent organic group of R 1 or R 2 is replaced with a fluorine atom or a group containing a fluorine atom. And more preferably at least one of divalent organic groups represented by R 1 or R 2.
Those One proton is changed every one of -CF 3 groups is used. Specifically, the formula [Formula 5]

【0019】[0019]

【化5】 Embedded image

【0020】で表される2価の有機基が好ましく用いら
れる。
A divalent organic group represented by: is preferably used.

【0021】さらに本発明に用いられるフッ素含有ポリ
イミド樹脂は実質的に、式〔化6〕
Further, the fluorine-containing polyimide resin used in the present invention has substantially the following formula:

【0022】[0022]

【化6】 [Chemical 6]

【0023】で表される繰り返し単位を主成分とするこ
とがより好ましい。また、式〔化6〕中の全てのイミド
環部位において、アミック酸の状態のままで部分的に残
存していたとしても、その存在比が30%以下、即ちイ
ミド化率70%以上であれば何ら問題はない。さらにp
値は50≦p≦500の範囲であることが好ましい。な
お、該存在比は全てのイミド環部位に対する残存−CO
OHの量を 1H−NMRを用いて定量化し、算出するこ
とによって求めた値である。該存在比が30%を越える
と、有機溶媒(A) と溶剤(B) 間の、あるいは有機溶媒
(C) と溶剤(B) 間の親和性(−COOHの増加による)
が増すために、ピンホール形成の原因になり、本来のフ
ッ素含有ポリイミド系気体分離膜の持つ分離性能が低下
する。
It is more preferable that the repeating unit represented by In addition, even if all of the imide ring moieties in the formula [Chemical Formula 6] partially remain in the state of the amic acid, the abundance ratio is 30% or less, that is, the imidization ratio is 70% or more. If there is no problem. Furthermore p
The value is preferably in the range of 50 ≦ p ≦ 500. In addition, the abundance ratio is the residual —CO for all imide ring sites.
It is a value obtained by quantifying the amount of OH using 1 H-NMR and calculating it. If the abundance ratio exceeds 30%, the ratio between the organic solvent (A) and the solvent (B) or the organic solvent
Affinity between (C) and solvent (B) (due to increase of -COOH)
Therefore, it causes formation of pinholes, and the original separation performance of the fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane deteriorates.

【0024】本発明に用いられるフッ素含有ポリイミド
樹脂は単独で用いられてもよいが、2種類以上の混合物
としても用いられる。更には、50モル%以下であれば
フッ素含有ポリイミド樹脂以外のポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホンなどのポリマーとの共重合体、もしくは
混合物であってもよい。
The fluorine-containing polyimide resin used in the present invention may be used alone, but may also be used as a mixture of two or more kinds. Further, if it is 50 mol% or less, it may be a copolymer with a polymer such as polysulfone or polyether sulfone other than the fluorine-containing polyimide resin, or a mixture thereof.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明で用いられるフッ素含有ポ
リイミド樹脂は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン
成分を用いて、例えば、米国特許第3959350 号公報に記
載されているような公知の重合方法で得られる。例え
ば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物をほぼ
等モル量を用い、極性溶媒中、約80℃以下の温度、好
ましくは、0〜60℃で攪拌し、ポリアミック酸を重合
する。ここで用いられる極性溶媒は特に限定されない
が、N-メチルピロリドン、ピリジン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
テトラメチル尿素、フェノール、クレゾールなどが好適
に用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The fluorine-containing polyimide resin used in the present invention is a known polymerization method using a tetracarboxylic dianhydride and a diamine component, for example, as described in US Pat. No. 3,959,350. Can be obtained at. For example, the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound are used in approximately equimolar amounts, and the polyamic acid is polymerized by stirring in a polar solvent at a temperature of about 80 ° C. or lower, preferably 0 to 60 ° C. The polar solvent used here is not particularly limited, but N-methylpyrrolidone, pyridine, dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethylsulfoxide,
Tetramethylurea, phenol, cresol and the like are preferably used.

【0026】上記ポリアミック酸を重合する際の極性溶
媒として、本発明で用いられる有機溶媒(A) を用いるこ
とによって、重合後にドープ用の溶媒に入れ替えること
なく、ドープ用溶媒として製造工程を進められるので好
適に用いられる。即ち、ドープ用溶媒である分子構造単
位中に少なくとも2個のエーテル結合を有する有機溶媒
(A) として例えば、1,2−ジメトキシエタン、1,2
−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
が重合する際の溶媒として好適に用いられる。これらは
単独で用いられる以外に、2種以上の混合溶媒としても
用いられる。
By using the organic solvent (A) used in the present invention as a polar solvent for polymerizing the above polyamic acid, the production process can be carried out as a dope solvent without being replaced with a dope solvent after the polymerization. Therefore, it is preferably used. That is, an organic solvent having at least two ether bonds in the molecular structural unit, which is a dope solvent
Examples of (A) include 1,2-dimethoxyethane, 1,2
-Diethoxyethane, 1,2-dibutoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether and the like are preferably used as a solvent for polymerization. Besides being used alone, they are also used as a mixed solvent of two or more kinds.

【0027】得られたポリアミック酸の極性溶媒溶液に
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第
3級アミン化合物、無水酢酸、塩化チオニル、カルボジ
イミドなどのイミド化促進剤を添加し、5〜150℃の
温度で攪拌し、イミド化率70%以上となるようにイミ
ド化する。イミド化反応を行う際、イミド化促進剤を添
加することなく、上記ポリアミック酸溶液を100〜4
00℃、好ましくは、120〜300℃で加熱してイミ
ド化してもよい。
A tertiary amine compound such as trimethylamine, triethylamine and pyridine, and an imidization promoter such as acetic anhydride, thionyl chloride and carbodiimide are added to the obtained polar solvent solution of polyamic acid at a temperature of 5 to 150 ° C. Stir to imidize so that the imidization ratio becomes 70% or more. When performing the imidization reaction, 100 to 4 of the polyamic acid solution was added without adding an imidization accelerator.
It may be imidized by heating at 00 ° C, preferably 120 to 300 ° C.

【0028】イミド化反応後、重合時の極性溶媒やイミ
ド化促進剤を除去するために、大量のアセトン、アルコ
ールまたは水等の溶液に滴下し精製したポリイミドを本
発明で用いられる分子構造単位中に少なくとも2個のエ
ーテル結合を有する有機溶媒(A) に再溶解して製膜用の
ドープとして用いる。即ち、本発明で用いられる上記有
機溶媒(A) を用いて重合した場合は、ドープ調整工程を
短縮するため、イミド化促進剤を除去することなく製膜
用ドープとして用いることができる。
After the imidization reaction, in order to remove the polar solvent and the imidization accelerator during the polymerization, a polyimide purified by dropping into a large amount of a solution of acetone, alcohol, water or the like in the molecular structural unit used in the present invention is used. Is redissolved in an organic solvent (A) having at least two ether bonds and used as a dope for film formation. That is, when polymerization is carried out using the above-mentioned organic solvent (A) used in the present invention, the dope adjusting step is shortened, so that it can be used as a film forming dope without removing the imidization accelerator.

【0029】あるいは、イミド化反応後、重合時の極性
溶媒やイミド化促進剤を除去するために、大量のアセト
ン、アルコールまたは水等の溶液に滴下し精製したポリ
イミドを本発明で用いられる誘電率が30以下で、双極
子モーメントが3.0D以下の有機溶媒(C) に再溶解して
製膜用のドープとして用いることもできる。
Alternatively, after the imidization reaction, in order to remove the polar solvent and imidization promoter during the polymerization, a polyimide purified by dropping into a large amount of a solution of acetone, alcohol or water is used in the present invention. It can also be used as a dope for film formation by re-dissolving in an organic solvent (C) having a dipole moment of 3.0 D or less and a dipole moment of 30 D or less.

【0030】また、イミド化促進剤を添加することな
く、イミド化反応を行う場合は、ポリアミック酸溶液を
多量のアセトン、またはアルコール等の溶液に滴下して
得られたポリアミック酸粉末やポリアミック酸溶液から
溶媒を蒸発させて得られたポリアミック酸の固体(蒸発
の際、沈殿剤等を加えてポリアミック酸粉末を形成さ
せ、濾別してもよい)を100〜400℃に加熱してイ
ミド化し、本発明で用いられる有機溶媒(A) あるいは有
機溶媒(C) に再溶解して製膜用のドープとして用いる。
When the imidization reaction is carried out without adding an imidization accelerator, a polyamic acid powder or a polyamic acid solution obtained by dropping a polyamic acid solution into a large amount of a solution of acetone, alcohol or the like. The solid of the polyamic acid obtained by evaporating the solvent from (which may be filtered during the evaporation to form a polyamic acid powder by adding a precipitating agent and the like) may be imidized by heating at 100 to 400 ° C. It is re-dissolved in the organic solvent (A) or the organic solvent (C) used in 1. and used as a dope for film formation.

【0031】本発明で用いられる分子構造単位中に少な
くとも2個のエーテル結合を有する有機溶媒(A) に再溶
解して製膜用ドープを調整する場合のポリイミド溶液濃
度は3〜40重量%、好ましくは10〜30重量%であ
る。また、製膜用ドープを調整する場合に、必要に応じ
て、膨潤剤、分散剤、増粘剤等を加えてもよい。
When the film-forming dope is prepared by re-dissolving in the organic solvent (A) having at least two ether bonds in the molecular structural unit used in the present invention, the concentration of the polyimide solution is 3 to 40% by weight, It is preferably 10 to 30% by weight. Moreover, when adjusting the dope for film formation, you may add a swelling agent, a dispersing agent, a thickener, etc. as needed.

【0032】本発明で用いられる有機溶媒(A) として
は、前記した具体例の通りであるが、その中でも特に、
ジエチレングリコールジメチルエーテルとジエチレング
リコールジエチルエーテルは好適に用いられ、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルとジエチレングリコール
ジエチルエーテルの二種を含む混合溶媒として用いられ
ることが最も好ましい。
The organic solvent (A) used in the present invention is as described in the above-mentioned specific examples. Among them, in particular,
Diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether are preferably used, and most preferably used as a mixed solvent containing two kinds of diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether.

【0033】また、用いるフッ素含有ポリイミドの溶解
度やドープの粘度を調整するために、N-メチル−2-ピロ
リドン(NMP)、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジ
メチルホルムアミド等の非プロトン系溶媒を加えてもよ
い。上記非プロトン系溶媒は、使用する溶媒によって適
宜選定されるが、本発明においては概ね40重量%以下
で用いられることが好ましい。
Further, in order to adjust the solubility of the fluorine-containing polyimide used and the viscosity of the dope, aprotic compounds such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide are used. A solvent may be added. The aprotic solvent is appropriately selected depending on the solvent used, but in the present invention, it is preferably used in an amount of about 40% by weight or less.

【0034】本発明で用いられる誘電率が30以下で、
双極子モーメントが3.0D以下の有機溶媒(C) に再溶解
して製膜用ドープを調整する場合のポリイミド溶液濃度
は3〜40重量%、好ましくは10〜30重量%であ
る。また、製膜用ドープを調整する場合に、必要に応じ
て、膨潤剤、分散剤、増粘剤等を加えてもよい。
The dielectric constant used in the present invention is 30 or less,
When adjusting the dope for film formation by re-dissolving in the organic solvent (C) having a dipole moment of 3.0 D or less, the concentration of the polyimide solution is 3 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight. Moreover, when adjusting the dope for film formation, you may add a swelling agent, a dispersing agent, a thickener, etc. as needed.

【0035】本発明で用いられる有機溶媒(C) の誘電率
は30以下で、双極子モーメントは3.0D以下である
が、上記誘電率は10以下であることがより好ましい。
本発明で用いられる有機溶媒(C) では、極性が小さいた
め、凝固液として用いる溶媒即ち溶剤(B) との親和性が
弱くなる。従って、湿式相転換製膜時のスキン層の形成
よりも、ドープ用溶媒が凝固液として用いる溶媒中へ浸
出する速度が十分小さいため、広範囲の均質スキン層に
はピンホールが形成されずに工業的規模で製膜すること
ができる。
The organic solvent (C) used in the present invention has a dielectric constant of 30 or less and a dipole moment of 3.0 D or less, and the dielectric constant is more preferably 10 or less.
Since the organic solvent (C) used in the present invention has a small polarity, it has a weak affinity with the solvent used as the coagulating liquid, that is, the solvent (B). Therefore, the rate of leaching of the dope solvent into the solvent used as the coagulating liquid is sufficiently slower than the formation of the skin layer at the time of wet phase conversion film formation, so that pinholes are not formed in a wide range of homogeneous skin layers and industrial Can be formed on a dynamic scale.

【0036】なお本発明で用いられる双極子モーメント
はμ(ベクトル)とした時、電荷(または磁荷)q1,
2,・・・・,qn (スカラー)が場所r1,2,・・・,
n(ベクトル)にある時、μ=Σqi ×ri で表され
る。また本発明で用いられる誘電率をε(スカラー)と
して、物質内部の巨視的電界E(ベクトル)を与えた
時、電束密度d(ベクトル)が定まるなら、d=εEに
よって与えられる量をその物質の誘電率という。
When the dipole moment used in the present invention is μ (vector), the charge (or magnetic charge) q 1, q
2, ..., q n (scalar) are locations r 1, r 2, ...,
When it is in r n (vector), it is represented by μ = Σq i × r i . Further, when the macroscopic electric field E (vector) inside the substance is given with the permittivity ε (scalar) used in the present invention, if the electric flux density d (vector) is determined, the amount given by d = εE It is called the dielectric constant of a substance.

【0037】本発明で用いられる有機溶媒(C) として
は、上記条件を満足していれば特に限定されないが、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル(誘電率は5.97、
双極子モーメントは1.97D)が好ましく、その他に1,
2−ジメトキシエタン(誘電率は5.50、双極子モーメン
トは1.79D)等が挙げられる。これらは単独で用いられ
る以外に、2種以上の混合溶媒としても用いられる。
The organic solvent (C) used in the present invention is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, but diethylene glycol dimethyl ether (dielectric constant: 5.97,
The dipole moment is preferably 1.97D),
2-dimethoxyethane (dielectric constant 5.50, dipole moment 1.79D) and the like. Besides being used alone, they are also used as a mixed solvent of two or more kinds.

【0038】また、用いるフッ素含有ポリイミドの溶解
度やドープの粘度を調整するために、30重量%を超え
ない範囲で、誘電率が30を超え、及び/または、双極
子モーメントが3.0Dを超える非プロトン系溶媒を加え
てもよい。上記非プロトン系溶媒を加えても良い量は、
使用する溶媒によって適宜選定されるが、本発明におい
て特に好ましく用いられる有機溶媒(C) としては、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルを60重量%以上1
00重量%以下含む有機溶媒である。例えば、67重量%
のジエチレングリコールジメチルエーテルと33重量%
N-メチルピロリドン(NMP)の混合溶液が例示され
る。
Further, in order to adjust the solubility of the fluorine-containing polyimide used and the viscosity of the dope, the dielectric constant exceeds 30 and / or the dipole moment exceeds 3.0 D within a range not exceeding 30% by weight. An aprotic solvent may be added. The amount in which the aprotic solvent may be added is
The organic solvent (C) which is particularly preferably used in the present invention is 60% by weight or more of diethylene glycol dimethyl ether, although it is appropriately selected depending on the solvent used.
It is an organic solvent containing less than 00% by weight. For example, 67% by weight
33% by weight of diethylene glycol dimethyl ether
A mixed solution of N-methylpyrrolidone (NMP) is exemplified.

【0039】上記ドープを用いた湿式相転換製膜法につ
いて以下に説明する。本発明における気体分離膜の製膜
法や膜形態は特に限定されないが、本発明で用いられる
有機溶媒(A) あるいは有機溶媒(C) のドープを押し出し
法、流延法等で凝固液即ち溶剤(B) 中に浸漬させること
でチューブ状(中空糸状を含む)、平膜状等の非対称膜
が得られる。
The wet phase conversion film forming method using the above dope will be described below. The film forming method and the film form of the gas separation membrane in the present invention are not particularly limited, but the coagulating liquid, that is, the solvent used in the present invention, such as the extrusion method of the organic solvent (A) or the organic solvent (C) dope, the casting method, etc. By immersing in (B), an asymmetric membrane such as a tubular shape (including hollow fiber shape) or a flat membrane shape can be obtained.

【0040】平膜状の場合はガス透過性支持体上に、ド
ープをキャスティングやディッピング等の方法で塗布
し、凝固液即ち溶剤(B) 中に浸漬し、非対称膜を複合膜
形態で得ることも機械的強度を高める点で好適である。
本発明に用いられる適宜の支持体としては平滑な表面
を有する硝子板や次に挙げるガス透過性支持体等が挙げ
られる。上記ガス透過性支持体としては、平滑な表面を
有する有機、無機、金属の多孔体質、織布、不織布等を
挙げることができる。これらのガス透過性支持体上への
ドープと塗布厚は25〜400μm好ましくは30〜2
00μmである。
In the case of a flat membrane, a dope is coated on a gas permeable support by a method such as casting or dipping and immersed in a coagulating liquid, that is, a solvent (B) to obtain an asymmetric membrane in the form of a composite membrane. Is also suitable in terms of increasing mechanical strength.
Examples of suitable supports used in the present invention include a glass plate having a smooth surface and the following gas-permeable supports. Examples of the gas-permeable support include organic, inorganic, and metallic porous materials having a smooth surface, woven cloth, non-woven cloth, and the like. The dope on the gas permeable support and the coating thickness are 25 to 400 μm, preferably 30 to 2
It is 00 μm.

【0041】本発明で用いられる有機溶媒(A) あるいは
有機溶媒(C) を用いたドープは−30〜80℃好ましく
は−20〜40℃の温度範囲で製膜される。
The dope using the organic solvent (A) or the organic solvent (C) used in the present invention is formed into a film at a temperature range of -30 to 80 ° C, preferably -20 to 40 ° C.

【0042】上記有機溶媒(A) あるいは有機溶媒(C) を
浸漬除去する際に用いられる凝固液即ち溶剤(B) として
は、用いるフッ素含有ポリイミド樹脂を溶解しないが、
上記有機溶媒(A) あるいは有機溶媒(C) と相溶性を有す
るものであれば、限定されないが、水やメタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類及
びこれらの混合液が用いられ、特に水が好適に用いられ
る。上記有機溶媒(A)あるいは有機溶媒(C) を浸漬除去
する時の凝固液即ち溶剤(B) の温度は特に限定されない
が、好ましくは0〜50℃の温度で行われる。
Although the fluorine-containing polyimide resin used is not dissolved as the coagulating liquid, that is, the solvent (B) used when the organic solvent (A) or the organic solvent (C) is removed by immersion,
It is not limited as long as it is compatible with the organic solvent (A) or the organic solvent (C), but water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and a mixed solution thereof are used, and particularly water is used. It is preferably used. The temperature of the coagulation liquid, that is, the solvent (B) when the organic solvent (A) or the organic solvent (C) is removed by immersion is not particularly limited, but it is preferably 0 to 50 ° C.

【0043】上記条件により非対称膜を製膜することに
より均質スキン層厚さを約1000Å以下でほぼ一定
で、広範囲にわたり分離性能を大きく低下させるピンホ
ールが存在しない気体分離膜を製造することができる。
By forming an asymmetric membrane under the above conditions, it is possible to produce a gas separation membrane having a uniform skin layer thickness of about 1000 Å or less, which is almost constant, and which does not have pinholes which greatly deteriorate the separation performance over a wide range. .

【0044】本発明で得られる気体分離膜は、さらにそ
のフッ素含有ポリイミド薄膜の表面をエラストマー重合
体を用いて塗布することが好ましい。エラストマー重合
体の薄膜を形成させて積層することは、上記気体分離膜
表面の欠陥を塞ぐと同時に表面に傷が付くことを防ぐ上
で好適である。上記エラストマー重合体としては、柔軟
なフィルム形成能を有する重合体をいい、具体例として
は、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エチレンープロ
ピレン共重合体、エチレンープロピレンージエン共重合
体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、クロロプレンゴ
ム、ポリ(4ーメチルーペンテンー1)、ブタジエンー
スチレン共重合体、イソプレンーイソブチレン共重合
体、またはポリイソブチレン等のようなエチレン性単量
体又は共役ジエン系単量体の単独重合体や共重合体、さ
らに上記単量体成分に加えて、アクリロニトリル、(メ
タ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸等のよう
な官能基を有する単量体成分を含有する共重合体、ある
いはポリエーテルポリオール、ポリウレタンポリエーテ
ル、ポリウレタンポリエステル又はポリアミドポリエー
テル等のような所謂ソフトセグメントとハードセグメン
トとを併せ有する共重合体を挙げることができる。さら
に、上記以外にも直鎖長鎖状の硬化剤によって硬化され
るエポキシ樹脂や、エチルセルロース、ブトキシ樹脂等
も、本発明においては前記エラストマー重合体として用
いることができる。
In the gas separation membrane obtained in the present invention, it is preferable that the surface of the fluorine-containing polyimide thin film is further coated with an elastomer polymer. Forming and laminating a thin film of an elastomer polymer is suitable for blocking defects on the surface of the gas separation membrane and at the same time preventing the surface from being scratched. The elastomer polymer refers to a polymer having a flexible film-forming ability, and specific examples thereof include polypropylene, polyvinyl chloride, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, polybutadiene and polyisoprene. Ethylene monomer or conjugated diene monomer alone such as chloroprene rubber, poly (4-methyl-pentene-1), butadiene-styrene copolymer, isoprene-isobutylene copolymer, or polyisobutylene Polymers and copolymers, further copolymers containing a monomer component having a functional group such as acrylonitrile, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid, etc. in addition to the above monomer components, Or polyether polyol, polyurethane polyether, polyurethane polyester or It can be mentioned a copolymer having both a so-called soft and hard segments, such as Li amide polyether. Further, in addition to the above, epoxy resin, ethyl cellulose, butoxy resin, etc., which are cured by a linear and long chain curing agent can also be used as the elastomer polymer in the present invention.

【0045】本発明においてエラストマー重合体として
は、架橋性シリコーン樹脂が特に好ましく用いられる。
かかる架橋性シリコーン樹脂は、架橋前は有機溶剤に可
溶性であるが、架橋後には有機溶剤に不溶性の樹脂とな
るシリコーン樹脂であり、例えば、特開昭59−225705号
公報に記載されている方法にしたがって製膜することが
できる。
In the present invention, a crosslinkable silicone resin is particularly preferably used as the elastomer polymer.
Such a crosslinkable silicone resin is a silicone resin that is soluble in an organic solvent before crosslinking, but becomes a resin insoluble in an organic solvent after crosslinking, for example, the method described in JP-A-59-225705. The film can be formed according to

【0046】[0046]

【作用】ドープ用溶媒として従来用いられているN-メチ
ル-2- ピロリドン(誘電率は32.0(25 ℃) 、双極子モー
メントは4.00D(30 ℃) )、N,N-ジメチルアセトアミド
(誘電率は37.8(25 ℃) 、双極子モーメントは3.72
D)、N,N-ジメチルホルムアミド(誘電率は36.7(25
℃) 、双極子モーメントは3.86D(25 ℃) )、ジメチル
スルホキシド(誘電率は48.9(20 ℃) 、双極子モーメン
トは4.30D)等の非プロトン極性溶媒を用いれば、誘電
率は32以上で、双極子モーメントは3.7D以上であ
り、凝固液として用いる溶媒、例えば水との親和性が強
いと考えられる。この親和性の強さに起因して、湿式相
転換製膜時のスキン層の形成よりも、ドープ用溶媒が凝
固液として用いる溶媒中へ浸出する速度の方が大きいた
め、広範囲の均質スキン層にはピンホールが形成され
る。
[Function] N-methyl-2-pyrrolidone (dielectric constant: 32.0 (25 ° C), dipole moment: 4.00 D (30 ° C)), N, N-dimethylacetamide (dielectric constant: Is 37.8 (25 ℃) and the dipole moment is 3.72
D), N, N-dimethylformamide (dielectric constant 36.7 (25
℃), dipole moment 3.86D (25 ℃)), dimethylsulfoxide (dielectric constant 48.9 (20 ℃), dipole moment 4.30D), etc. The dipole moment is 3.7 D or more, and it is considered that the dipole moment has a strong affinity with the solvent used as the coagulating liquid, for example, water. Due to the strength of this affinity, the dope solvent is leached into the solvent used as the coagulating liquid at a faster rate than in the formation of the skin layer at the time of wet phase conversion film formation. A pinhole is formed in the.

【0047】更に、従来用いられている上記のような非
プロトン極性溶媒であれば、湿式相転換製膜時、製膜用
ドープをガス透過性支持体にキャストまたは紡糸した
後、所定の温度で所定時間放置し溶媒の一部を蒸発させ
るが、水との親和性が強すぎるために空気中の水分を吸
収し、表面が白濁してピンホール形成を促進する。
Further, in the case of the aprotic polar solvent which has been conventionally used, during the wet phase inversion film formation, the dope for film formation is cast or spun on the gas permeable support and then at a predetermined temperature. Although it is left to stand for a predetermined period of time to evaporate a part of the solvent, it absorbs moisture in the air due to its too strong affinity with water, and the surface becomes cloudy to promote pinhole formation.

【0048】しかしながら、本発明で用いられるドープ
用溶媒である有機溶媒(A) はフッ素含有ポリイミド樹脂
の溶解性が高く、且つ、エーテル結合の影響により凝固
液として用いる溶媒との親和性が弱くなる。従って、湿
式相転換製膜時のスキン層の形成よりも、凝固液として
用いる溶媒中へ浸出するドープ用溶媒の速度が十分小さ
いため、広範囲の均質スキン層にはピンホールが形成さ
れずに工業的規模で製膜することができる。
However, the organic solvent (A), which is the dope solvent used in the present invention, has a high solubility for the fluorine-containing polyimide resin and has a weak affinity with the solvent used as the coagulating liquid due to the influence of the ether bond. . Therefore, since the speed of the dope solvent leaching into the solvent used as the coagulating liquid is sufficiently smaller than that of the skin layer during wet phase inversion film formation, pinholes are not formed in a wide range of homogeneous skin layers, and industrial Can be formed on a dynamic scale.

【0049】また、本発明で用いられるドープ用溶媒で
ある有機溶媒(C) は、フッ素含有ポリイミド樹脂の溶解
性が高く、且つ、誘電率が30以下で双極子モーメント
が3.0D以下であることの影響により凝固液として用い
る溶媒との親和性が弱くなる。従って、湿式相転換製膜
時のスキン層の形成よりも、凝固液として用いる溶媒中
へ浸出するドープ用溶媒の速度が十分小さいため、広範
囲の均質スキン層にはピンホールが形成されずに工業的
規模で製膜することができる。
The organic solvent (C), which is the dope solvent used in the present invention, has a high solubility of the fluorine-containing polyimide resin, a dielectric constant of 30 or less, and a dipole moment of 3.0D or less. As a result, the affinity with the solvent used as the coagulation liquid becomes weak. Therefore, since the speed of the dope solvent leaching into the solvent used as the coagulating liquid is sufficiently smaller than that of the skin layer during wet phase inversion film formation, pinholes are not formed in a wide range of homogeneous skin layers, and industrial Can be formed on a dynamic scale.

【0050】[0050]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples.

【0051】実施例1 式〔化6〕 で表される繰り返し単位とするフッ素含有ポリイミドを
以下の方法で合成した。2,2-ビス(4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン(BAAF)7.7部をジエ
チレングリコールジメチルエーテル(DEGDME)5
6.9部に溶解した溶液中に、窒素雰囲気下で5,5'-2,2,2
−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデ
ン−ビス−1,3−イソベンゾフランジオン(6FD
A)10.3部を加え、室温にて8時間攪拌し、合成を行
い、ポリアミック酸を得た。
Example 1 A fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] was synthesized by the following method. 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane (BAAF) was added to 7.7 parts diethylene glycol dimethyl ether (DEGDME) 5
In a solution dissolved in 6.9 parts, under nitrogen atmosphere, 5,5'-2,2,2
-Trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethylidene-bis-1,3-isobenzofurandione (6FD
A) 10.3 parts was added, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours for synthesis to obtain a polyamic acid.

【0052】この後、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテル(DEGDEE)12.6部を加え、溶液が均一にな
った後、イミド化促進剤であるピリジン5.5部と無水酢
酸部数7.0部を加え、室温にて12時間攪拌し、イミド
化反応を行った。反応後、得られた溶液は精製すること
なく、ドープとして濾過し、静置して十分に脱泡し、調
整した。ドープを0℃としてアプリケータを用いポリエ
ステル不織布上に、厚さ130μmでキャストし、凝固
液である溶剤(B) として47℃の水中に1時間浸漬し
た。この後、60℃の温風で乾燥し非対称膜である気体
分離膜を得た。得られた気体分離膜の透過性能を評価
し、結果を表1に示す。なお、式〔化6〕中のpは重量
平均分子量を基準として算出した場合、p=435であ
った。
After this, 12.6 parts of diethylene glycol diethyl ether (DEGDEE) was added, and after the solution became uniform, 5.5 parts of pyridine, which is an imidization accelerator, and 7.0 parts of acetic anhydride were added, and the mixture was allowed to stand at room temperature. The mixture was stirred for 12 hours to carry out imidization reaction. After the reaction, the obtained solution was filtered as a dope without refining, and allowed to stand to be sufficiently defoamed and adjusted. The dope was cast at a thickness of 130 μm on a polyester non-woven fabric using an applicator at 0 ° C., and immersed in water at 47 ° C. as a solvent (B) as a coagulating liquid for 1 hour. Then, it was dried with hot air at 60 ° C. to obtain a gas separation membrane which was an asymmetric membrane. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1. Note that p in the formula [Chemical Formula 6] was p = 435 when calculated based on the weight average molecular weight.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】実施例2 実施例1においてポリアミック酸を得た後に、DEGD
EE12.6部を加える所を17.4部に替え、結果として、
式〔化6〕で表される繰り返し単位とするフッ素含有ポ
リイミドの部数を18部から17部に替え、それ以外は
実施例1と同様にした。結果を表1に示す。
Example 2 After obtaining the polyamic acid in Example 1, DEGD was used.
The place where EE12.6 parts were added was changed to 17.4 parts, and as a result,
The number of parts of the fluorine-containing polyimide serving as the repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] was changed from 18 parts to 17 parts, and the other conditions were the same as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0055】実施例3 実施例1においてポリアミック酸合成時の溶媒をDEG
DME56.9部からDEGDMEとDEGDEEの混合
溶媒(34.7部と22.2部)に替えた以外は実施例1と
同様にした。結果を表1に示す。
Example 3 In Example 1, the solvent used in synthesizing the polyamic acid was DEG.
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 56.9 parts of DME was replaced with a mixed solvent of DEGDME and DEGDEE (34.7 parts and 22.2 parts). The results are shown in Table 1.

【0056】実施例4〜6 実施例1〜3で得られた乾燥前の気体分離膜表面をエラ
ストマー重合体である架橋性シリコーン樹脂溶液(GE
SiliconesのRTV615 のヘキサン3wt%溶液)で塗布
し、110℃で5分間熱処理することにより、エラスト
マー重合体の薄膜を形成させ、積層させた。得られた気
体分離膜の透過性能を評価し、結果を表1に示す。
Examples 4 to 6 The surfaces of the gas separation membranes obtained in Examples 1 to 3 before drying were crosslinked silicone resin solutions (GE) which were elastomeric polymers.
A 3 wt% solution of RTV615 from Silicones in hexane) was applied and heat-treated at 110 ° C. for 5 minutes to form a thin film of an elastomer polymer, which was then laminated. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0057】比較例1 BAAF7.7部をDEGDME56.9部に溶解した溶液
中に、窒素雰囲気下で6FDA10.3部を加え、室温に
て8時間攪拌した。この後、DEGDME12.6部を加
え、溶液が均一になった後、イミド化促進剤であるピリ
ジン5.5部と無水酢酸部数7.0部を加え、室温にて12
時間攪拌し、イミド化反応を行った。反応後、得られた
溶液は精製することなく、ドープ溶液として濾過し、静
置して十分に脱泡し、調整した。ドープ溶液を0℃とし
た後、アプリケータを用いポリエステル不織布上に、厚
さ130μmでキャストし、凝固液である溶剤(B) とし
て47℃の水中に1時間浸漬した。この後、60℃の温
風で乾燥し非対称膜である気体分離膜を得た。得られた
気体分離膜の透過性能を評価し、結果を表1に示す。
Comparative Example 1 To a solution prepared by dissolving 7.7 parts of BAAF in 56.9 parts of DEGDME was added 10.3 parts of 6FDA under a nitrogen atmosphere, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. After this, 12.6 parts of DEGDME was added to make the solution uniform, and then 5.5 parts of pyridine, which is an imidization promoter, and 7.0 parts of acetic anhydride were added, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 12 hours.
After stirring for an hour, an imidization reaction was performed. After the reaction, the obtained solution was filtered as a dope solution without being purified, and allowed to stand still for sufficient defoaming to be adjusted. After the dope solution was heated to 0 ° C., it was cast on a polyester non-woven fabric with an applicator to a thickness of 130 μm and immersed in water at 47 ° C. as a solvent (B) as a coagulating liquid for 1 hour. Then, it was dried with hot air at 60 ° C. to obtain a gas separation membrane which was an asymmetric membrane. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0058】比較例2 比較例1で得られた乾燥前の気体分離膜表面をエラスト
マー重合体である架橋性シリコーン樹脂溶液(GE Sil
iconesのRTV615 のヘキサン3wt%溶液)で塗布し、1
10℃で5分間熱処理することにより、エラストマー重
合体の薄膜を形成させ、積層させた。得られた気体分離
膜の透過性能を評価し、結果を表1に示す。
Comparative Example 2 The surface of the gas separation membrane before drying obtained in Comparative Example 1 was crosslinked silicone resin solution (GE Sil) which was an elastomer polymer.
3% by weight of RTV615 of icones in hexane)
By heat treatment at 10 ° C. for 5 minutes, a thin film of the elastomer polymer was formed and laminated. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0059】以下に示す実施例に用いた有機溶媒(C) は
ジエチレングリコールジメチルエーテルもしくはジエチ
レングリコールジメチルエーテルを含む混合液を用い
た。なお、ジエチレングリコールジメチルエーテルの誘
電率は5.97で、双極子モーメントが1.97Dであった。
As the organic solvent (C) used in the following examples, diethylene glycol dimethyl ether or a mixed solution containing diethylene glycol dimethyl ether was used. The dielectric constant of diethylene glycol dimethyl ether was 5.97 and the dipole moment was 1.97D.

【0060】実施例7 式〔化6〕で表される繰り返し単位とするフッ素含有ポ
リイミドを以下の方法で合成した。5,5'-2,2,2−トリフ
ルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン−ビス
−1,3−イソベンゾフランジオン(6FDA)0.1mol
と2,2-ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン(BAAF)0.1molをN-メチル−2-ピロリドン(N
MP)溶液中で4時間反応させポリアミック酸を得た。
Example 7 A fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] was synthesized by the following method. 5,5'-2,2,2-Trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethylidene-bis-1,3-isobenzofurandione (6FDA) 0.1 mol
And 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane (BAAF) 0.1 mol with N-methyl-2-pyrrolidone (N
MP) solution was reacted for 4 hours to obtain a polyamic acid.

【0061】この後、ピリジン0.3molと無水酢酸0.3mol
を加え、15時間イミド化反応を行った。反応後、更に
NMPを加えて8重量%に希釈し、過剰量の水中に上記
NMP溶液を滴下した後に精製し、式〔化5〕で表され
る繰り返し単位を構造単位とするフッ素含有ポリイミド
を得た。得られたフッ素含有ポリイミドの物性値は、ガ
ラス転移温度が301 ℃で、重量平均分子量は159,000 で
あった。
After this, 0.3 mol of pyridine and 0.3 mol of acetic anhydride
Was added and the imidization reaction was carried out for 15 hours. After the reaction, NMP was further added to dilute it to 8% by weight, and the NMP solution was added dropwise to an excess amount of water and purified to obtain a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 5] as a structural unit. Obtained. Regarding the physical properties of the obtained fluorine-containing polyimide, the glass transition temperature was 301 ° C. and the weight average molecular weight was 159,000.

【0062】式〔化6〕で表される繰り返し単位を構造
単位とするフッ素含有ポリイミド18重量部を希釈し、
有機溶媒(C) としてジエチレングリコールジメチルエー
テル82重量部を加え、100℃で6時間攪拌し溶解し
た。その後、濾過し、静置して十分に脱泡し、ドープを
調整した。ドープをアプリケータを用いポリエステル不
織布上に、幅20cm、厚さ300μmでキャストし、凝
固液である溶剤(B) として5℃の水中に1時間浸漬し
た。この後、水で洗浄し、室温で風乾することで非対称
膜である気体分離膜を得た。得られた気体分離膜の透過
性能を評価し、結果を表2に示す。
18 parts by weight of a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] as a structural unit was diluted,
82 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether was added as an organic solvent (C), and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours and dissolved. After that, the dope was filtered by allowing it to stand still to sufficiently defoam. The dope was cast on a polyester nonwoven fabric with a width of 20 cm and a thickness of 300 μm using an applicator, and immersed in water at 5 ° C. for 1 hour as a solvent (B) which was a coagulating liquid. Then, it was washed with water and air-dried at room temperature to obtain a gas separation membrane which was an asymmetric membrane. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 2.

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】実施例8 凝固液である溶剤(B) の水の温度を20℃にし、水で洗浄
した後、エタノールとヘキサンで1時間、脱水処理と溶
媒置換処理を行った以外は実施例6と同様にし、得られ
た気体分離膜の透過性能を評価し、結果を表2に示す。
Example 8 Example 6 was repeated except that the temperature of water of the solvent (B) as a coagulating liquid was adjusted to 20 ° C., the solution was washed with water, and then dehydration treatment and solvent substitution treatment were performed with ethanol and hexane for 1 hour. In the same manner as above, the permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 2.

【0065】実施例9 凝固液である溶剤(B) を22℃のメタノールにし、水で洗
浄した後、エタノールとヘキサンで1時間、脱水処理と
溶媒置換処理を行った以外は実施例7と同様にし、得ら
れた気体分離膜の透過性能を評価し、結果を表2に示
す。
Example 9 The same as Example 7 except that the solvent (B) as a coagulating liquid was changed to methanol at 22 ° C., washed with water, and then dehydrated and solvent-replaced with ethanol and hexane for 1 hour. Then, the permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 2.

【0066】実施例10 式〔化6〕で表される繰り返し単位を構造単位とするフ
ッ素含有ポリイミド16重量部を有機溶媒(C) としてジ
エチレングリコールジメチルエーテル74重量部とNM
P10重量部の混合溶液を加え溶解した。その後、濾過
し、静置して十分に脱泡し、ドープを調整した。ドープ
をアプリケータを用いポリエステル不織布上に、幅20
cm、厚さ300μmでキャストし、凝固液である溶剤
(B) として22℃の水中に1時間浸漬した。エタノールと
ヘキサンで1時間、脱水処理と溶媒置換処理を行った以
外は実施例7と同様にし、得られた気体分離膜の透過性
能を評価し、結果を表2に示す。
Example 10 16 parts by weight of a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chem. 6] as a structural unit was used as an organic solvent (C), and 74 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether and NM were used.
A mixed solution of 10 parts by weight of P was added and dissolved. After that, the dope was filtered by allowing it to stand still to sufficiently defoam. Width of dope on polyester non-woven fabric using applicator 20
cm, thickness 300 μm, cast, coagulating solvent
As (B), it was immersed in water at 22 ° C. for 1 hour. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated in the same manner as in Example 7 except that the dehydration treatment and the solvent substitution treatment were performed with ethanol and hexane for 1 hour, and the results are shown in Table 2.

【0067】実施例11 実施例10で得られた気体分離膜表面をエラストマー重
合体である架橋性シリコーン樹脂溶液(GE Silicones
のRTV615 のヘキサン3wt%溶液)で塗布し、110℃
で30分間熱処理することにより、エラストマー重合体
の薄膜を形成させ、積層させた。得られた気体分離膜の
透過性能を評価し、結果を表1に示す。
Example 11 The surface of the gas separation membrane obtained in Example 10 was treated with a crosslinkable silicone resin solution (GE Silicones) which is an elastomer polymer.
RTV615 of hexane 3wt% solution), 110 ℃
A thin film of an elastomeric polymer was formed by heat-treating for 30 minutes and laminated. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0068】実施例12 凝固液である溶剤(B) を22℃の10%エタノール水溶液
にした以外は実施例11と同様にし、得られた気体分離
膜の透過性能を評価し、結果を表1に示す。
Example 12 The gas separation membrane thus obtained was evaluated for permeation performance in the same manner as in Example 11 except that the solvent (B) as a coagulating liquid was changed to a 10% ethanol aqueous solution at 22 ° C., and the results are shown in Table 1. Shown in.

【0069】実施例13 式〔化6〕で表される繰り返し単位を構造単位とするフ
ッ素含有ポリイミド16重量部を有機溶媒(C) としてジ
エチレングリコールジメチルエーテル64重量部とNM
P20重量部の混合溶液を加え溶解した。その後、濾過
し、静置して十分に脱泡し、ドープを調整した。ドープ
をアプリケータを用いポリエステル不織布上に、幅20
cm、厚さ300μmでキャストし、凝固液である溶剤
(B) として22℃の水中に1時間浸漬した。エタノールと
ヘキサンで1時間、脱水処理と溶媒置換処理を行った後
風乾し、非対称膜である気体分離膜を得た。得られた気
体分離膜表面にエラストマー重合体である架橋性シリコ
ーン樹脂溶液(GE SiliconesのRTV615 のヘキサン
3wt%溶液)を塗布し、110℃で15分間熱処理するこ
とにより、エラストマー重合体の薄膜を形成させ、積層
させた。得られた気体分離膜の透過性能を評価し、結果
を表2に示す。透過性能を評価し、結果を表2に示す。
Example 13 16 parts by weight of a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] as a structural unit was used as an organic solvent (C) in an amount of 64 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether and NM.
A mixed solution of 20 parts by weight of P was added and dissolved. After that, the dope was filtered by allowing it to stand still to sufficiently defoam. Width of dope on polyester non-woven fabric using applicator 20
cm, thickness 300 μm, cast, coagulating solvent
As (B), it was immersed in water at 22 ° C. for 1 hour. After dehydration treatment and solvent substitution treatment with ethanol and hexane for 1 hour, the mixture was air-dried to obtain a gas separation membrane which is an asymmetric membrane. On the surface of the obtained gas separation membrane, a crosslinkable silicone resin solution which is an elastomer polymer (GE Silicones RTV615 hexane
3 wt% solution) was applied and heat-treated at 110 ° C. for 15 minutes to form a thin film of the elastomer polymer, which was laminated. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 2. The permeation performance was evaluated and the results are shown in Table 2.

【0070】実施例14 式〔化6〕で表される繰り返し単位を構造単位とするフ
ッ素含有ポリイミド8重量部と、式〔化7〕
Example 14 8 parts by weight of a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the formula [Chemical Formula 6] as a structural unit, and a formula [Chemical Formula 7]

【0071】[0071]

【化7】 [Chemical 7]

【0072】で表される繰り返し単位を構造単位とする
フッ素含有ポリイミド10重量部を有機溶媒(C) として
ジエチレングリコールジメチルエーテル55重量部とN
MP27重量部の混合溶液を加え溶解した。その後、濾
過し、静置して十分に脱泡し、ドープを調整した。ドー
プをアプリケータを用いポリエステル不織布上に、幅2
0cm、厚さ300μmでキャストし、凝固液である溶剤
(B) として5℃の水中に1時間浸漬した。この後、水で
洗浄し、130℃の熱風で乾燥して非対称膜である気体
分離膜を得た。得られた気体分離膜の透過性能を評価
し、結果を表2に示す。なお、式〔化7〕中のpは重量
平均分子量を基準として算出した場合、p=310であ
った。
Using 10 parts by weight of a fluorine-containing polyimide having a repeating unit represented by the structural unit as an organic solvent (C), 55 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether and N
A mixed solution of 27 parts by weight of MP was added and dissolved. After that, the dope was filtered by allowing it to stand still to sufficiently defoam. Width of dope on polyester non-woven fabric using applicator 2
A solvent that is a coagulating liquid cast with a thickness of 0 cm and a thickness of 300 μm
As (B), it was immersed in water at 5 ° C. for 1 hour. Then, it was washed with water and dried with hot air at 130 ° C. to obtain a gas separation membrane as an asymmetric membrane. The permeation performance of the obtained gas separation membrane was evaluated, and the results are shown in Table 2. Note that p in the formula [Formula 7] was p = 310 when calculated based on the weight average molecular weight.

【0073】試験例1 実施例8で得られた気体分離膜の透過性能を種々の気体
を用いて評価し、結果を表3に示す。
Test Example 1 The permeation performance of the gas separation membrane obtained in Example 8 was evaluated using various gases, and the results are shown in Table 3.

【0074】[0074]

【表3】 [Table 3]

【0075】比較例3 有機溶媒(C) をジエチレングリコールジメチルエーテル
からNMPに変更して調整したドープを用いた以外は実
施例7と同様にし、得られた気体分離膜の透過性能を評
価し、結果を表2に示す。得られた気体分離膜の炭酸ガ
ス/メタンガスの分離係数(α)は0.6 と低く、均質ス
キン層にピンホールの存在が認められた。
Comparative Example 3 The gas separation membrane thus obtained was evaluated for permeation performance in the same manner as in Example 7 except that the dope prepared by changing the organic solvent (C) from diethylene glycol dimethyl ether to NMP was used. It shows in Table 2. The carbon dioxide / methane gas separation coefficient (α) of the obtained gas separation membrane was as low as 0.6, and the presence of pinholes was recognized in the homogeneous skin layer.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明は、ドープ作製のために特定の溶
媒を用いることにより、湿式相転換製膜法にて均質スキ
ン層の厚みを一定値以下とし、且つ広範囲にわたり分離
性能を大きく低下させるピンホールを形成しないフッ素
含有ポリイミド樹脂系の非対称膜を製膜できる方法であ
るため、高い気体透過性及び気体選択性を有し、さらに
耐性面、コスト面においても優れた実用的に満足できる
気体分離膜を得ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, by using a specific solvent for producing a dope, the thickness of the homogeneous skin layer is set to a certain value or less by the wet phase conversion film forming method, and the separation performance is greatly reduced over a wide range. Since it is a method that can form a fluorine-containing polyimide resin-based asymmetric film that does not form pinholes, it has high gas permeability and gas selectivity, and is a gas that is practically satisfactory in terms of resistance and cost. A separation membrane can be obtained.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ポリイミド樹脂層を構成する繰り返し分子
構造単位中に少なくとも3個のフッ素原子を有するフッ
素含有ポリイミド樹脂と、分子構造単位中に少なくとも
2個のエーテル結合を有する有機溶媒(A) を、チューブ
状に押し出すか或いは適宜の支持体上に塗布し、次いで
上記フッ素含有ポリイミド樹脂を溶解しないが、上記有
機溶媒(A) と相溶性を有する溶剤(B) 中に浸漬すること
を特徴とするフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の製造
方法。
1. A fluorine-containing polyimide resin having at least three fluorine atoms in a repeating molecular structural unit constituting a polyimide resin layer, and an organic solvent (A) having at least two ether bonds in the molecular structural unit. Characterized in that it is extruded into a tube shape or coated on an appropriate support and then immersed in a solvent (B) which is compatible with the organic solvent (A) but does not dissolve the fluorine-containing polyimide resin. A method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane.
【請求項2】ポリイミド樹脂層を構成する繰り返し分子
構造単位中に少なくとも3個のフッ素原子を有するフッ
素含有ポリイミド樹脂と、誘電率が30以下で双極子モ
ーメントが3.0D以下である有機溶媒(C) を、チューブ
状に押し出すか或いは適宜の支持体上に塗布し、次いで
上記フッ素含有ポリイミド樹脂を溶解しないが、上記有
機溶媒(C) と相溶性を有する溶剤(B) 中に浸漬すること
を特徴とするフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の製造
方法。
2. A fluorine-containing polyimide resin having at least 3 fluorine atoms in repeating molecular structural units constituting a polyimide resin layer, and an organic solvent having a dielectric constant of 30 or less and a dipole moment of 3.0 D or less ( C) is extruded in a tube shape or coated on an appropriate support, and then immersed in a solvent (B) which does not dissolve the fluorine-containing polyimide resin but is compatible with the organic solvent (C). A method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane, comprising:
【請求項3】フッ素含有ポリイミド樹脂を構成する繰り
返し分子構造単位中に少なくとも1つの−CF3基を有す
ることを特徴とする請求項1または2記載のフッ素含有
ポリイミド系気体分離膜の製造方法。
3. The method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane according to claim 1, wherein the repeating molecular structural unit constituting the fluorine-containing polyimide resin has at least one --CF 3 group.
【請求項4】フッ素含有ポリイミド樹脂が実質的に〔化
1〕 【化1】 (但し〔化1〕中のA1 とA2 は芳香族、脂環族もしく
は脂肪族炭化水素基からなる4価の有機基を示し、R1
とR2 は2価の芳香族、脂環族もしくは脂肪族炭化水素
基、またはこれら炭化水素基が2価の有機結合基で結合
された2価の有機基を示し、A1 ,A2 ,R1 ,R2
内少なくとも一の有機基は、フッ素原子を3個以上有す
る有機基である。なお、m,nは次の式に従う。m+n
=1,0≦m≦1,0≦n≦1) で表される繰り返し単位を主成分とすることを特徴とす
る請求項1、2または3記載のフッ素含有ポリイミド系
気体分離膜の製造方法。
4. A fluorine-containing polyimide resin is substantially [Chemical Formula 1] (However, A 1 and A 2 in [Chemical Formula 1] represent a tetravalent organic group consisting of an aromatic, alicyclic or aliphatic hydrocarbon group, and R 1
And R 2 represent a divalent aromatic, alicyclic or aliphatic hydrocarbon group, or a divalent organic group in which these hydrocarbon groups are bonded by a divalent organic bonding group, A 1 , A 2 , At least one of R 1 and R 2 is an organic group having 3 or more fluorine atoms. In addition, m and n follow the following formula. m + n
The method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane according to claim 1, 2 or 3, wherein the main component is a repeating unit represented by the formula: 1,0≤m≤1,0≤n≤1). .
【請求項5】フッ素含有ポリイミド樹脂が実質的に〔化
2〕 【化2】 で表される繰り返し単位を主成分とすることを特徴とす
る請求項1、2または3記載のフッ素含有ポリイミド系
気体分離膜の製造方法。
5. A fluorine-containing polyimide resin is substantially [Chemical Formula 2] The method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane according to claim 1, 2 or 3, wherein the repeating unit represented by the formula is a main component.
【請求項6】有機溶媒(A) がジエチレングリコールジメ
チルエーテルとジエチレングリコールジエチルエーテル
の二種を含む混合溶媒であることを特徴とする請求項1
または3記載のフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の製
造方法。
6. The organic solvent (A) is a mixed solvent containing two kinds of diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether.
Alternatively, the method for producing a fluorine-containing polyimide-based gas separation membrane according to Item 3.
【請求項7】有機溶媒(C) の誘電率が10以下で双極子
モーメントが3.0D以下であることを特徴とする請求項
2または3記載のフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の
製造方法。
7. The method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane according to claim 2, wherein the organic solvent (C) has a dielectric constant of 10 or less and a dipole moment of 3.0 D or less.
【請求項8】溶剤(B) が水やアルコール類及びこれらの
混合液であることを特徴とする請求項1、2または3記
載のフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の製造方法。
8. The method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane according to claim 1, 2 or 3, wherein the solvent (B) is water, alcohols or a mixture thereof.
【請求項9】フッ素含有ポリイミド系気体分離膜上にエ
ラストマー重合体の薄膜を形成する請求項1、2または
3記載のフッ素含有ポリイミド系気体分離膜の製造方
法。
9. The method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane according to claim 1, 2 or 3, wherein a thin film of an elastomer polymer is formed on the fluorine-containing polyimide gas separation membrane.
【請求項10】エラストマー重合体の薄膜が架橋性シリ
コーン樹脂を架橋させて成る請求項9記載のフッ素含有
ポリイミド系気体分離膜の製造方法。
10. The method for producing a fluorine-containing polyimide gas separation membrane according to claim 9, wherein the thin film of the elastomer polymer is formed by crosslinking a crosslinkable silicone resin.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003062422A (en) * 2001-08-27 2003-03-04 Inst Of Physical & Chemical Res Gas separation membrane and method for manufacturing the same
WO2014084186A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 セントラル硝子株式会社 Gas separation membrane
WO2014084187A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 セントラル硝子株式会社 Gas separation membrane
US9050566B2 (en) 2012-11-28 2015-06-09 Central Glass Company, Limited Gas separation membrane
US9056285B2 (en) 2012-11-28 2015-06-16 Central Glass Company, Limited Gas separation membrane

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003062422A (en) * 2001-08-27 2003-03-04 Inst Of Physical & Chemical Res Gas separation membrane and method for manufacturing the same
WO2014084186A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 セントラル硝子株式会社 Gas separation membrane
WO2014084187A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 セントラル硝子株式会社 Gas separation membrane
JP2014128787A (en) * 2012-11-28 2014-07-10 Central Glass Co Ltd Gas separation membrane
JP2014128788A (en) * 2012-11-28 2014-07-10 Central Glass Co Ltd Gas separation membrane
US9050566B2 (en) 2012-11-28 2015-06-09 Central Glass Company, Limited Gas separation membrane
US9056285B2 (en) 2012-11-28 2015-06-16 Central Glass Company, Limited Gas separation membrane

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