JPH08162262A - Heating body and manufacture thereof - Google Patents

Heating body and manufacture thereof

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JPH08162262A
JPH08162262A JP6321438A JP32143894A JPH08162262A JP H08162262 A JPH08162262 A JP H08162262A JP 6321438 A JP6321438 A JP 6321438A JP 32143894 A JP32143894 A JP 32143894A JP H08162262 A JPH08162262 A JP H08162262A
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JP
Japan
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heating
resistor
heating element
patterns
resistors
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JP6321438A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasumasa Otsuka
康正 大塚
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent a heating body from cracking, enlarge the heating surface area satisfy withstand voltage standards with the minimum width of the heating body, and provide satisfactory fixing function by installing a plurality of resistors for heating on a heater substrate and forming an electrically insulating layer. CONSTITUTION: A first and a second resistor patterns 2a, 2b are formed in one face of a ceramic substrate 3 of alumina. etc., in parallel along the longitudinal direction of the substrate. One end parts of the patterns 2a, 2b are respectively connected with electricity supplying electrode patterns 1a, 1b through conductor patterns 4a. 4b. The other ends of the patterns 2a, 2 are connected with a conductor pattern 4c. The resistor formed parts of the substrate 3 are coated with a glass layer 6 as an electrically insulating layer. The patterns 2a, 2b are formed by, for example, printing a resistor paste prepared by mixing a metal e.g. Ag, Pd, etc., with a glass paste into thin stripe patterns with prescribed width and thickness by screen printing and sintering the patterns. The glass layer 6 is also formed by screen-printing a glass paste and then sintering the paste.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ヒータ基材(基板)
と、該ヒータ基材上に形成具備させた抵抗体(抵抗発熱
体、通電発熱抵抗体)を基本構成体とし、該抵抗体に通
電して発熱させるタイプの加熱体、及び該加熱体の製造
方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a heater base material (substrate).
And a heating element of a type which has a resistor (a resistance heating element, an energization heating resistor) formed and equipped on the heater base material as a basic constituent body and energizes the resistor to generate heat, and a manufacturing method of the heating element. Regarding the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば、電子写真複写機・プリン
タ・ファクシミリ等の画像形成装置において、電子写真
・静電記録・磁気記録等の適宜の画像形成プロセス手段
により加熱定着性の顕画剤(トナー)を用いて被記録材
(転写材シート・印刷紙・エレクトロファックスシート
・静電記録シートなど)の面に間接(転写)方式もしく
は直接方式で形成担持させた目的の画像情報に対応した
未定着顕画剤像を被記録材面に加熱定着させるための加
熱装置(画像加熱定着装置)としては、一般に、熱ロー
ラー方式の装置が多用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in an image forming apparatus such as an electrophotographic copying machine, a printer, a facsimile, etc., a heat-fixing developing agent (e.g., a heat-fixing agent) by an appropriate image forming process means such as electrophotography, electrostatic recording, magnetic recording, etc. Undefined corresponding to the intended image information that is formed and carried by the indirect (transfer) method or the direct method on the surface of the recording material (transfer material sheet, printing paper, electrofax sheet, electrostatic recording sheet, etc.) using toner As a heating device (image heating and fixing device) for heating and fixing the image of the developer image on the surface of the recording material, a heat roller type device is generally widely used.

【0003】この熱ローラー方式の加熱装置は、ハロゲ
ンヒータ等の内蔵熱源の発熱により所定の加熱温度に維
持させた加熱ローラー(定着ローラー)と、これに圧接
させた弾性加圧ローラーとの圧接ニップ部(定着ニップ
部)に被加熱材としての被記録材を導入して挟持搬送さ
せることで加熱ローラーの熱で被記録材面の未定着顕画
剤像を加熱定着させるものである。
This heating device of the heating roller type is a pressure contact nip between a heating roller (fixing roller) maintained at a predetermined heating temperature by heat generated by a built-in heat source such as a halogen heater and an elastic pressure roller pressed against the heating roller. A recording material as a material to be heated is introduced into a portion (fixing nip portion) and is nipped and conveyed to heat and fix the unfixed developer image on the surface of the recording material by the heat of the heating roller.

【0004】しかしこの熱ローラー方式の画像加熱定着
装置としての加熱装置は、いつでもすぐに画像出力がな
されるようにするために加熱ローラーの温度を常時高温
に維持しておかなければならず、そのために消費エネル
ギーが大きく、また待機中も機内に熱を放出するため機
内昇温の問題も発生していた。また電源を投入してから
加熱ローラーが被加熱材としての被記録材を加熱するの
に適した所定温度に昇温するまでにかなりの待ち時間
(ウエイトタイム)を要する。
However, in the heating device as the image heating and fixing device of the heat roller system, the temperature of the heating roller must be constantly maintained at a high temperature so that an image can be output immediately at any time. It consumes a lot of energy, and heat is released into the machine even during standby, causing a problem of temperature rise inside the machine. In addition, a considerable waiting time (wait time) is required after the power is turned on until the heating roller heats up to a predetermined temperature suitable for heating the recording material as the material to be heated.

【0005】最近では、フィルム加熱方式の加熱装置が
提案され、実用化されている(特開昭63−31318
2号公報・特開平1−263679号公報・特開平2−
157878号公報・特開平4−44075〜4408
3号公報・特開平4−204980〜204984号公
報)。
Recently, a film heating type heating device has been proposed and put into practical use (Japanese Patent Laid-Open No. 63-31318).
No. 2, JP-A-1-263679, JP-A-2-
No. 157878 / JP-A-4-44075-4408
No. 3, Japanese Patent Laid-Open No. 4-204980-204984).

【0006】この加熱装置は、加熱体として、電気絶縁
性・耐熱性のヒータ基材と、該ヒータ基材上に形成具備
させた抵抗体を基本構成体とし、該抵抗体に通電して発
熱させるタイプの加熱体を用い、該加熱体に耐熱フィル
ムを介して被加熱材を密着させ、加熱体と耐熱フィルム
とを相対移動させて加熱体の熱を耐熱フィルムを介して
被加熱材へ与える方式・構成のものであり、未定着顕画
剤像を該画像を担持している被記録材面に永久固着画像
として加熱定着処理する手段として活用できる。
This heating device has, as a heating body, an electrically insulating and heat resistant heater base material and a resistor formed and provided on the heater base material as a basic constituent body, and the resistor is energized to generate heat. Using a heating element of the type, a material to be heated is brought into close contact with the heating element via a heat-resistant film, and the heat of the heating element and the heat-resistant film are relatively moved to give the heat of the heating element to the material to be heated via the heat-resistant film. It is of a system and configuration, and can be utilized as a means for heat-fixing an unfixed developer image as a permanently fixed image on the surface of a recording material carrying the image.

【0007】また、例えば、画像を担持した被記録材を
加熱して艶などの表面性を改質する装置、仮定着処理す
る装置、その他、シート状の被加熱材を加熱処理する手
段として広く使用できる。
In addition, for example, it is widely used as a device for heating a recording material carrying an image to improve surface properties such as gloss, a hypothetical adhesion processing device, and other means for heating a sheet-shaped heating material. Can be used.

【0008】このようなフィルム加熱方式の加熱装置
は、昇温の速い低熱容量の加熱体や薄膜の耐熱フィルム
を用いることができるために短時間に加熱体の温度が上
昇し、待機中に加熱体の通電加熱を行なう必要がなくな
り、被加熱材としての被記録材をすぐに通紙しても該被
記録材が定着部位に到達するまでに加熱体を所定温度ま
で十分に昇温させることができ、省電力化やウェイトタ
イムの短縮化(クイックスタート性)が可能となる、画
像形成装置等の本機の機内昇温を低めることができる等
の利点を有し、効果的なものである。
[0008] In such a film heating type heating device, since a heating body having a low heat capacity or a thin heat-resistant film that quickly heats up can be used, the temperature of the heating body rises in a short time, and the heating is performed during standby. It is not necessary to heat the body by heating, and even if the recording material as the material to be heated is immediately passed, the heating body is sufficiently heated to a predetermined temperature before the recording material reaches the fixing portion. It is possible to save power and shorten the wait time (quick start property), and to lower the temperature rise inside the machine such as the image forming apparatus. is there.

【0009】図22にフィルム加熱方式の加熱装置とし
ての画像加熱定着装置の一例の要部の拡大横断面模型図
を示した。
FIG. 22 shows an enlarged cross-sectional model view of the essential part of an example of an image heating and fixing device as a film heating type heating device.

【0010】5は加熱体としてのセラミックヒータであ
り、図面に垂直な方向を長手とする横長部材である。1
0はこのセラミックヒータ5を下面に保持させた耐熱性
・断熱性のヒータホルダである。11は耐熱フィルム
(定着フィルム)である。12は弾性加圧ローラーであ
り、上記のセラミックヒータ5の下面に対して耐熱フィ
ルム11を挟ませて加圧当接させてある。Nは耐熱フィ
ルム11を挟んでセラミックヒータ5と弾性加圧ローラ
ー12との間に形成される圧接ニップ部(定着ニップ
部)である。
Reference numeral 5 denotes a ceramic heater as a heating element, which is a laterally elongated member having a length in a direction perpendicular to the drawing. 1
Reference numeral 0 denotes a heat-resistant / heat-insulating heater holder that holds the ceramic heater 5 on its lower surface. 11 is a heat resistant film (fixing film). Reference numeral 12 is an elastic pressure roller, and the heat resistant film 11 is sandwiched and pressed against the lower surface of the ceramic heater 5. N is a pressure contact nip portion (fixing nip portion) formed between the ceramic heater 5 and the elastic pressure roller 12 with the heat-resistant film 11 interposed therebetween.

【0011】耐熱フィルム11は、厚さ例えば40μm
〜100μm程度のポリイミド等のエンドレスベルト状
フィルムあるいは円筒状フィルムあるいはロール巻の長
尺の有端フィルムであり、不図示のフィルム駆動手段あ
るいは弾性加圧ローラー12を駆動部材として、圧接ニ
ップ部Nにおいてセラミックヒータ5の下面に対して密
着状態を保持されてセラミックヒータ下面を摺動しなが
ら矢示の方向に所定の速度で回動あるいは回転あるいは
走行駆動される。
The heat-resistant film 11 has a thickness of, for example, 40 μm.
It is an endless belt-shaped film or a cylindrical film of polyimide or the like having a thickness of about 100 μm or a long end film wound with a roll, and uses a film drive means (not shown) or an elastic pressure roller 12 as a drive member in the pressure contact nip portion N. While being kept in close contact with the lower surface of the ceramic heater 5, the lower surface of the ceramic heater 5 is rotated, rotated, or driven at a predetermined speed in the direction of the arrow while sliding on the lower surface of the ceramic heater.

【0012】セラミックヒータ5は後述する抵抗体2に
対する通電により該抵抗体の発熱で迅速に昇温する。
When the ceramic heater 5 is energized to the resistor 2 which will be described later, the temperature of the ceramic heater 5 is rapidly raised by the heat generated by the resistor.

【0013】耐熱フィルム11をセラミックヒータ下面
に密着摺動移動させ、また抵抗体2に対する通電により
加熱体5を所定に昇温させた状態において、圧接ニップ
部Nの耐熱フィルム11と弾性加圧ローラー12との間
に、被加熱材としての画像定着すべき被記録材Pを導入
して耐熱フィルム11と一緒に圧接ニップ部Nを挟持搬
送させることにより、加熱体としてセラミックヒータ5
の抵抗体2の発熱及び該抵抗体2の発熱で加熱されたヒ
ータ基材3の熱が耐熱フィルム11を介して被記録材P
に付与されて被記録材P上の未定着顕画像Tが被記録材
P面に加熱定着される。圧接ニップ部Nを通った被記録
材Pは耐熱フィルム11の面から分離されて搬送され
る。
The heat-resistant film 11 in the pressure contact nip portion N and the elastic pressure roller are moved in a state where the heat-resistant film 11 is closely slid on the lower surface of the ceramic heater and the heating element 5 is heated to a predetermined temperature by energizing the resistor 2. A recording material P to be image-fixed as a material to be heated is introduced between the heating element 12 and the heat-resistant film 11, and the pressure contact nip portion N is nipped and conveyed.
The heat of the resistor 2 and the heat of the heater base material 3 heated by the heat of the resistor 2 are transferred to the recording material P via the heat resistant film 11.
And the unfixed visible image T on the recording material P is heated and fixed on the surface of the recording material P. The recording material P passing through the pressure nip portion N is separated from the surface of the heat resistant film 11 and conveyed.

【0014】図23は、加熱体としてのセラミックヒー
タ5の耐熱フィルム密着摺動面側の一部切欠き平面模型
図である。
FIG. 23 is a partially cutaway plan view of the ceramic heater 5 as a heating element on the heat resistant film contact sliding surface side.

【0015】該セラミックヒータ5は、電気絶縁性・耐
熱性・低熱容量のヒータ基材としてのアルミナ(Al2
3 )等の横長のセラミック基材3、該セラミック基材
3の一面側に該基材長手に沿って細帯状に形成具備させ
た銀パラジューム(Ag/Pb)等の抵抗体パターン
2、給電路としての導電体パターン4・4a(以下、導
電体パターンと称す),給電電極としての導電体パター
ン1a・1b(以下給電電極パターンと称す)、抵抗体
パターン2と給電路としての導電体パターン4部分を被
覆させたガラス層などの電気絶縁性の表面被覆層6等よ
りなる。
The ceramic heater 5 is made of alumina (Al 2 as a heater base material having electric insulation, heat resistance and low heat capacity).
O 3 ), a horizontally long ceramic substrate 3, a resistor pattern 2 such as silver palladium (Ag / Pb) formed on one side of the ceramic substrate 3 in the form of a strip along the length of the substrate, and power feeding. Conductor patterns 4 and 4a (hereinafter referred to as conductor patterns) as paths, conductor patterns 1a and 1b (hereinafter referred to as power supply electrode patterns) as power supply electrodes, resistor pattern 2 and conductor patterns as power supply paths It is composed of an electrically insulating surface coating layer 6 such as a glass layer which covers four portions.

【0016】導電体パターン4は抵抗体パターン2に略
並行させて細帯状にセラミック基材面長手に沿って形成
してある。
The conductor pattern 4 is formed in parallel with the resistor pattern 2 in a strip shape along the length of the ceramic substrate surface.

【0017】2つの給電電極パターン1a・1bはセラ
ミック基材2の一端部側の面部分に並べて具備させてあ
る。
The two power supply electrode patterns 1a and 1b are provided side by side on the surface portion of the ceramic base material 2 on the one end side.

【0018】抵抗体パターン2の一端部側は上記2つの
給電電極パターン1a・1bの一方の給電電極パターン
1aと導電体パターン4aを介して導通させてある。ま
た導電体パターン4の一端部は他方の給電電極パターン
1bに導通させてある。抵抗体パターン2と導電体パタ
ーン4の他端部は互いに導通させてある。
One end portion side of the resistor pattern 2 is electrically connected to one of the two power feeding electrode patterns 1a and 1b and the power feeding electrode pattern 1a through the conductor pattern 4a. Further, one end of the conductor pattern 4 is electrically connected to the other power feeding electrode pattern 1b. The other ends of the resistor pattern 2 and the conductor pattern 4 are electrically connected to each other.

【0019】上記の互いに略並行の抵抗体パターン2と
導電体パターン4はセラミック基材3の長手方向一端側
に設けた2つの給電電極パターン1a・1b間で加熱体
長手に関して通電の往路と復路を形成している。
The resistor pattern 2 and the conductor pattern 4 which are substantially parallel to each other are forward and backward of energization with respect to the length of the heating body between the two power supply electrode patterns 1a and 1b provided on one end side in the longitudinal direction of the ceramic base material 3. Is formed.

【0020】給電電極パターン1a・1b間に不図示の
給電回路から給電することにより抵抗体パターン2が長
手全長にわたって発熱する。導電体パターン4・4aは
低抵抗で発熱しない。加熱体としてのセラミックヒータ
5は上記の抵抗体パターン2の発熱で迅速に昇温し、そ
の昇温が不図示の検温素子で検知され、その検知温度が
不図示の温度制御回路へフィードバックされてセラミッ
クヒータ5の温度が所定の温度に維持されるように抵抗
体パターン2への通電が制御される。
By supplying power from a power supply circuit (not shown) between the power supply electrode patterns 1a and 1b, the resistor pattern 2 generates heat over the entire length. The conductor patterns 4 and 4a have low resistance and do not generate heat. The ceramic heater 5 as a heating element quickly raises the temperature by the heat generated by the resistor pattern 2, and the temperature rise is detected by a temperature detecting element (not shown), and the detected temperature is fed back to a temperature control circuit (not shown). The energization of the resistor pattern 2 is controlled so that the temperature of the ceramic heater 5 is maintained at a predetermined temperature.

【0021】上記例の加熱体5のように、ヒータ基材3
上に、通電往路としての抵抗体パターン2と、これに並
行させて通電復路としての導電体パターン4を具備させ
て2つの給電電極部1a・1bをヒータ基材3の長手一
端部側に配設した構成のものは、加熱体5に対する給電
用コネクタを加熱体5の長手一端部側だけとすることが
でき、給電用配線の引きまわしが合理化され、また配線
作業が容易となる等の利点がある。
Like the heating element 5 in the above example, the heater base material 3
On the upper side, a resistor pattern 2 serving as an energization forward path and a conductor pattern 4 serving as an energization return path are provided in parallel with the resistor pattern 2 so that the two power supply electrode portions 1a and 1b are arranged on one longitudinal end portion side of the heater substrate 3. In the installed structure, the power supply connector for the heating body 5 can be provided only on the one longitudinal end side of the heating body 5, the wiring of the power supply wiring can be rationalized, and the wiring work can be facilitated. There is.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来例の
加熱体5の場合は、 .加熱体幅方向(加熱体長手に直交する方向)に関し
て、発熱する抵抗体パターン2が存在している通電往路
側部分と、発熱しない導電体パターン4が存在している
通電復路側部分とで熱膨張率の差が生じて、加熱体が割
れやすくなるといった問題があった。
However, in the case of the heating element 5 of this conventional example, In the width direction of the heating body (direction orthogonal to the longitudinal direction of the heating body), heat is generated between the energization forward path side portion in which the resistor pattern 2 that generates heat is present and the energization return path side portion in which the conductor pattern 4 that does not generate heat is present. There has been a problem that a difference in expansion coefficient occurs and the heating body is easily cracked.

【0023】.また、抵抗体パターン2の幅に絶縁耐
圧からの制限が加わり、十分な加熱面積が得られないと
いう問題もあった。
.. Further, there is a problem that the width of the resistor pattern 2 is limited by the withstand voltage and a sufficient heating area cannot be obtained.

【0024】.さらには、このような加熱体5の抵抗
体パターン2は、ヒータ基材としてのセラミック基材3
上に抵抗体ペーストの印刷と焼成によって形成される
が、わずかな印刷幅の変化や厚みの変化が大きく発熱分
布に影響をおよぼしており、所望の分布を得るために
は、焼成後にパターンの抵抗値を測定しつつ、幅を削る
といった調整が必要となり、歩留まりを悪くしたり、完
成までの時間が長くなるといった生産上の不都合も生じ
た。
[0024]. Further, such a resistor pattern 2 of the heating element 5 has a ceramic base material 3 as a heater base material.
It is formed by printing and firing the resistor paste on top, but slight changes in the print width and thickness greatly affect the heat generation distribution.In order to obtain the desired distribution, the resistance of the pattern after firing Adjustments such as cutting the width while measuring the value were required, which resulted in production inconveniences such as poor yield and long completion time.

【0025】.また、このような加熱体5を用いた加
熱装置においては、加熱体5の取り付け位置精度が重要
になり、わずかの誤差で加熱能力に大きく変化が生じた
りして、扱いづらいものとなった。
[0025]. Further, in such a heating device using the heating element 5, the accuracy of the mounting position of the heating element 5 becomes important, and the heating capacity is greatly changed with a slight error, which makes it difficult to handle.

【0026】.さらには、このような加熱体5を用い
る加熱装置において、加熱体の抵抗分布の影響がでるこ
とがある。たとえば、このような加熱装置を電子写真方
式のプリンタの画像加熱定着装置に用いた場合には、抵
抗分布によって加熱ムラが生じると、定着画像に光沢が
生じたり、耐熱フィルムや被記録材にシワが発生するこ
とがあり、その防止のために、加熱体の抵抗分布を管理
しなければならなくなる。
.. Furthermore, in a heating device using such a heating element 5, the resistance distribution of the heating element may be affected. For example, when such a heating device is used for an image heating and fixing device of an electrophotographic printer, if uneven heating occurs due to the resistance distribution, the fixed image becomes glossy, and the heat-resistant film and the recording material have wrinkles. May occur, and in order to prevent it, the resistance distribution of the heating element must be controlled.

【0027】.このような加熱体は、ヒータ基材とし
て、加熱体を複数個取りできる大判1枚のセラミック基
材に対して、個々の加熱体に対応する複数の抵抗体パタ
ーン、導電体パターン、被覆層を形成した後に、その大
判のセラミック基材を個々の加熱体に複数に分割して製
造していた。従って加熱体一本毎の幅が狭い方が、同じ
サイズの大判一枚のセラミック基材から一度に製造でき
る加熱体本数が多いため、コスト、材料取りに優れてい
た。
[0027] In such a heating element, as a heater substrate, one large-sized ceramic substrate capable of taking a plurality of heating elements is provided with a plurality of resistor patterns, conductor patterns, and coating layers corresponding to individual heating elements. After being formed, the large-sized ceramic substrate was divided into a plurality of individual heating elements to be manufactured. Therefore, when the width of each heating element is narrower, the number of heating elements that can be manufactured from one large-sized ceramic substrate of the same size at one time is large, and thus the cost and material taking are excellent.

【0028】しかしながら、1本の加熱体の幅はいくら
でも細くできる訳ではなく、絶縁耐圧の規制と印刷の精
度限界からその幅は限られてくる。
However, the width of one heating element cannot be made as thin as possible, and the width is limited due to regulation of withstand voltage and accuracy limit of printing.

【0029】一方で、画像加熱定着装置にあっては、定
着性を向上させるためには、加熱体の発熱体としての抵
抗体の幅を広くすると良い事が分かっている。しかし、
単純に抵抗体の幅を広げたのでは、先ほどのコスト、材
料取りからの要求である加熱体の幅を狭くすることに反
する。
On the other hand, in the image heating and fixing device, it has been found that it is preferable to widen the width of the resistor as the heating element of the heating element in order to improve the fixing property. But,
Simply widening the width of the resistor is contrary to the cost and the narrowing of the width of the heating body, which is a requirement from material preparation.

【0030】そこで本発明は、この種の加熱体につい
て、上記〜のような問題点を解消した加熱体、及び
その製造方法を提供するものである。
Therefore, the present invention provides a heating element which solves the above problems (1) to (3) and a method for producing the heating element of this type.

【0031】即ち、加熱体割れを防止し、かつ加熱面積
を大きくとれる加熱体及びその製造方法を提供するもの
である。
That is, the present invention provides a heating element capable of preventing the heating element from cracking and having a large heating area, and a method for producing the heating element.

【0032】最小の加熱体幅で、絶縁耐圧規格を満足さ
せ、材料取り、画像加熱定着装置にあっては定着性をも
満足させる、即ち加熱体幅に関する耐圧規制、印刷精度
の限界、定着性、コストを鑑みて最も幅を細くできる加
熱体の製造法を提案するものである。
With the minimum width of the heating element, the insulation withstand voltage standard is satisfied, and the fixing property is also satisfied in the case of the material heating and image heating fixing device, that is, the pressure regulation on the heating element width, the limit of the printing accuracy, and the fixing property. In view of the cost, the present invention proposes a method for manufacturing a heating element that can be made the narrowest.

【0033】抵抗体パターンが複数存在する加熱体にお
いて抵抗分布抵抗値の最適な調整方法を提案し、画像加
熱定着装置にあってはオフセット・定着不良等を防止す
るものである。
The present invention proposes an optimum method for adjusting the resistance distribution resistance value in a heating element having a plurality of resistor patterns, and prevents an offset / fixing failure in an image heating and fixing device.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】本発明は下記の構成を特
徴とする加熱体及びその製造方法である。
The present invention is a heating body characterized by the following constitution and a method for producing the same.

【0035】(1)ヒータ基材と、該ヒータ基材上に形
成具備させた通電により発熱する複数本の抵抗体と、該
ヒータ基材の抵抗体形成部を被覆させた電気絶縁性層を
基本構成体とすることを特徴とする加熱体。
(1) A heater base material, a plurality of resistors which are formed on the heater base material and generate heat when energized, and an electrically insulating layer which covers the resistor forming portion of the heater base material. A heating body characterized by having a basic structure.

【0036】(2)ヒータ基材がセラミック基材である
ことを特徴とする(1)に記載の加熱体。
(2) The heating element according to (1), wherein the heater base material is a ceramic base material.

【0037】(3)ヒータ基材上に抵抗体に対する通電
用の導電体部を有する(1)に記載の加熱体 (4)電気絶縁性被覆層がガラス層であることを特徴と
する(1)に記載の加熱体。
(3) The heating element according to (1), which has a conductor portion for energizing a resistor on a heater substrate. (4) The electrically insulating coating layer is a glass layer (1) ) The heating element described in.

【0038】(5)抵抗体同士の向き合う内側部に、抵
抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整したトリミング
部があることを特徴とする(1)に記載の加熱体。
(5) The heating element according to (1), characterized in that there is a trimming portion in which the total resistance value of the resistors or the resistance distribution is adjusted, in the inner portions where the resistors face each other.

【0039】(6)加熱体に対する被加熱材の搬送方向
の下流側にある抵抗体に、抵抗体の総抵抗値、或いは抵
抗分布を調整したトリミング部があることを特徴とする
(1)に記載の加熱体。
(6) The resistor located on the downstream side of the heating member in the conveying direction of the material to be heated has a trimming portion whose total resistance value or resistance distribution is adjusted. The heating element described.

【0040】(7)画像加熱定着装置用加熱体であるこ
とを特徴とする(1)乃至(6)の何れかに記載の加熱
体。
(7) The heating element according to any one of (1) to (6), which is a heating element for an image heating and fixing device.

【0041】(8)ヒータ基材に抵抗体を印刷した後、
レーザートリミングないし研磨により該抵抗体を分割し
て複数本の抵抗体にすることを特徴とする(1)乃至
(7)の何れかに記載の加熱体の製造方法。
(8) After printing the resistor on the heater substrate,
The method for producing a heating element according to any one of (1) to (7), wherein the resistor is divided into a plurality of resistors by laser trimming or polishing.

【0042】(9)レーザートリミングないし研磨によ
る分割によって複数本の抵抗体が異なる幅に分けられる
ことを特徴とする(8)に記載の加熱体の製造方法。
(9) The method for manufacturing a heating element according to (8), wherein the plurality of resistors are divided into different widths by division by laser trimming or polishing.

【0043】(10)複数本の抵抗体を形成具備させた
加熱体の抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整する
ためのトリミングを抵抗体同士の向き合う内側において
レーザートリミングないし研磨で行うことを特徴とする
(1)乃至(7)の何れかに記載の加熱体の製造方法。
(10) Trimming for adjusting the total resistance value or the resistance distribution of the resistors of the heating element having a plurality of resistors formed therein is performed by laser trimming or polishing inside the resistors facing each other. The method for manufacturing a heating element according to any one of (1) to (7), characterized in that

【0044】(11)複数本の抵抗体を形成具備させた
加熱体の抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整する
ためのトリミングを加熱体に対する被加熱材の搬送方向
の下流側にある抵抗体にレーザートリミングないし研磨
で行うことを特徴とする(1)乃至(7)の何れかに記
載の加熱体の製造方法。
(11) Trimming for adjusting the total resistance value or resistance distribution of the resistors of the heating element provided with a plurality of resistors is provided on the downstream side in the transport direction of the material to be heated with respect to the heating element. The method for producing a heating element according to any one of (1) to (7), characterized in that the resistor is subjected to laser trimming or polishing.

【0045】[0045]

【作用】ヒータ基材上に形成具備させて通電により発熱
させる抵抗体を複数本にしてヒータ基材上の通電路の往
路・復路とも抵抗体とすることでその両路の抵抗体が共
に発熱するので、加熱体幅方向に関して通電往路側部分
と通電復路側部分とにおける熱膨張率の差をなくする若
しくは少なくすることができでき、熱膨張率の差による
歪みで加熱体が割れるのを防止することが可能となる。
[Function] By forming a plurality of resistors that are formed on the heater base material and generate heat by energization, both forward and return paths of the energization path on the heater base material become resistors, and the resistors in both paths generate heat. Therefore, it is possible to eliminate or reduce the difference in the coefficient of thermal expansion between the energization forward path side portion and the energization return path side portion in the width direction of the heating element, and prevent the heating element from cracking due to strain due to the difference in the thermal expansion coefficient. It becomes possible to do.

【0046】また、この複数本の抵抗体の存在で加熱面
積ないし加熱時間を多くすることが可能となる。これに
よって被加熱材に対する加熱効率を向上することが可能
となる。
The presence of the plurality of resistors makes it possible to increase the heating area or heating time. This makes it possible to improve the heating efficiency for the material to be heated.

【0047】ヒータ基材に抵抗体を印刷した後、レーザ
ートリミングないし研磨により該抵抗体を分割して複数
本の抵抗体にすることにより、とくにレーザーを使って
分割することで、分割された抵抗体パターン間の隙間を
非常に狭くすることができる。この結果、絶縁耐圧のよ
い被覆層を選べば抵抗体間の離間距離は小さいものにせ
ばめることが可能となった。加熱体幅を小さくしてヒー
タ基材原板からは原板の無駄無くかつ多くの加熱体を一
度に製造できる可能性が高くなる。
After the resistors are printed on the heater substrate, the resistors are divided by laser trimming or polishing into a plurality of resistors, particularly by using a laser to divide the resistors. The gap between body patterns can be made very narrow. As a result, the distance between the resistors can be reduced by selecting a coating layer having a high withstand voltage. By narrowing the width of the heating element, there is a high possibility that many heating elements can be manufactured from the heater base material original sheet without wasting the original sheet.

【0048】その複数の抵抗体の幅を異ならせて個々の
抵抗体の発熱量を変えることで、加熱効率を改善した
り、あるいは、加熱終了時の被加熱材の分離をよくした
りすることが可能となる。
By varying the width of the plurality of resistors to change the heat generation amount of each resistor, the heating efficiency is improved, or the material to be heated is separated at the end of heating. Is possible.

【0049】複数本の抵抗体を形成具備させた加熱体の
抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整するためのト
リミングを抵抗体同士の向き合う内側においてレーザー
トリミングないし研磨で行うことで、トリミングで飛び
散った抵抗体の残滓は抵抗体パターン上に付くため、抵
抗体間の絶縁耐圧が電気絶縁性被覆層によってとれてい
れば問題ない。
Trimming for adjusting the total resistance value or resistance distribution of the resistors of the heating element provided with a plurality of resistors is performed by laser trimming or polishing inside the resistors facing each other. Since the residue of the resistor scattered in step 3 is attached on the resistor pattern, there is no problem if the withstand voltage between the resistors is taken by the electrically insulating coating layer.

【0050】複数本の抵抗体を形成具備させた加熱体の
抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整するためのト
リミングを加熱体に対する被加熱材の搬送方向の下流側
にある抵抗体にレーザートリミングないし研磨で行うこ
とで、画像加熱定着装置にあっては被加熱材としての被
記録材(紙)が加熱部内で達する最終温度で定着性とオ
フセットの発生が決まり、そのためには下流側の抵抗体
の抵抗分布が一様であれば、加熱部をでる際の紙温度が
加熱部幅全長にわたって均一なとなり、定着性とオフセ
ットのない状態が実現できる。さらにはトナーの溶け方
も均一化し、光沢ムラをなくせる。またこの方法ではあ
れば、部分トリミングで調整するものは下流側の抵抗体
だけ良く、工程が短時間で済むので生産性が上がるとい
う利点がある。
Trimming for adjusting the total resistance value or the resistance distribution of the resistors of the heating element having a plurality of resistors formed therein is applied to the resistors on the downstream side of the heating element in the conveying direction of the material to be heated. By performing laser trimming or polishing, in the image heating and fixing device, the fixing temperature and the occurrence of the offset are determined by the final temperature at which the recording material (paper) as the material to be heated reaches in the heating section. If the resistance distribution of the resistor is uniform, the paper temperature when leaving the heating unit becomes uniform over the entire width of the heating unit, and the fixing property and the state without offset can be realized. Furthermore, the way the toner melts is made uniform, and uneven gloss can be eliminated. Further, with this method, only the resistor on the downstream side needs to be adjusted by partial trimming, and the process can be completed in a short time, so that there is an advantage that productivity is increased.

【0051】[0051]

【実施例】【Example】

〈実施例1〉(図1〜図3) 図1は本発明に従う加熱体5(セラミックヒータ)を用
いた加熱装置としてのフィルム加熱方式の画像加熱定着
装置の要部の横断面模型図である。前述した図22・図
23の装置と共通する構成部材部分には同一の符号を付
して再度の説明を省略する。図2は加熱体5の耐熱フィ
ルム密着摺動面側の一部切欠き平面模型図である。図3
はこの加熱体5の拡大横断面模型図である。
<Embodiment 1> (FIGS. 1 to 3) FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part of a film heating type image heating and fixing device as a heating device using a heating body 5 (ceramic heater) according to the present invention. . Constituent members common to those of the above-described apparatus of FIGS. 22 and 23 are designated by the same reference numerals, and repetitive description will be omitted. FIG. 2 is a partially cutaway plan view of the heating element 5 on the sliding surface side of the heat resistant film. FIG.
Is an enlarged cross-sectional model view of the heating body 5.

【0052】この加熱体5は、電気絶縁性・耐熱性・低
熱容量のヒータ基材としてのアルミナ(Al23 )等
の横長のセラミック基材3の一面側に該基材長手に沿っ
て互いに略並行に第1と第2の2条の抵抗体パターン2
a・2bを形成具備させてある。2つの給電電極パター
ン1a・1bをセラミック基材3の一端側の面に並べて
具備させてある。第1の抵抗体パターン2aの一端部側
は上記2つの給電電極パターン1a・1bの一方の給電
電極パターン1aと導電体パターン4aを介して導通さ
せてある。また第2の抵抗体パターン2bの一端部は他
方の給電電極パターン1bに導電体パターン4bを介し
て導通させてある。そして該第1と第2の両抵抗体パタ
ーン2a・2bの他端部は互いに導電体パターン4cで
導通させてある。セラミック基材3の抵抗体形成部は電
気絶縁性層としてのガラス層6(ガラスコート)で被覆
してある。
This heating element 5 is provided on one surface side of a horizontally long ceramic base material 3 such as alumina (Al 2 O 3 ) as a heater base material having electric insulation, heat resistance and low heat capacity, along the length of the base material. First and second two-element resistor patterns 2 substantially parallel to each other
a and 2b are formed and provided. Two power supply electrode patterns 1a and 1b are provided side by side on one end side surface of the ceramic base material 3. One end side of the first resistor pattern 2a is electrically connected to one of the two power feeding electrode patterns 1a and 1b through the power feeding electrode pattern 1a through the conductor pattern 4a. Further, one end of the second resistor pattern 2b is electrically connected to the other power feeding electrode pattern 1b through the conductor pattern 4b. The other ends of the first and second resistor patterns 2a and 2b are electrically connected to each other by a conductor pattern 4c. The resistor forming portion of the ceramic substrate 3 is covered with a glass layer 6 (glass coat) as an electrically insulating layer.

【0053】第1と第2の2条の抵抗体パターン2a・
2bは例えば銀とパラジウム等の金属をガラスペースト
に混ぜた抵抗体ペーストを所定の幅と厚みの細帯状パタ
ーンとしてスクリーン印刷後、およそ800°Cで焼成
されて形成される。
The first and second two resistor pattern 2a.
2b is formed, for example, by screen-printing a resistor paste in which a metal such as silver and palladium is mixed with a glass paste into a strip-shaped pattern having a predetermined width and thickness, and then firing at about 800 ° C.

【0054】上記の導電体パターン4a・4b・4c、
2つの給電電極パターン1a・1bはいずれもAg等の
導電体ペーストをスクリーン印刷後、焼成して形成した
ものである。
The above conductor patterns 4a, 4b, 4c,
Each of the two feeding electrode patterns 1a and 1b is formed by screen-printing a conductor paste such as Ag and then firing.

【0055】ガラス層6もガラスペーストをスクリーン
印刷後、焼成して形成したものである。被覆層としての
ガラス層6は4フッ化エチレン樹脂などのフッ素系樹脂
等の耐熱性樹脂、その他の電気絶縁性・耐熱性セラミッ
クなどの層にすることもできる。
The glass layer 6 is also formed by screen-printing a glass paste and firing it. The glass layer 6 as the coating layer may be a layer of heat-resistant resin such as fluororesin such as tetrafluoroethylene resin, or other electrically insulating / heat-resistant ceramic.

【0056】.第1と第2の2条の抵抗体パターン2
a・2b、 .導電体パターン4b・4c・4dと2つの給電電極
パターン1a・1b、 .ガラス層6 の各形成は、・・を個々に順次に印刷・焼成して
形成してもよいし、とを印刷した後その両印刷パタ
ーンを一緒に焼成し、次にを印刷・焼成する手順でも
よいし、・・を印刷した後その・・を一度
に焼成する手順でもよい。
.. First and second two-element resistor pattern 2
a.2b ,. The conductor patterns 4b, 4c, 4d and the two feeding electrode patterns 1a, 1b ,. Each formation of the glass layer 6 may be carried out by printing and firing each of them in sequence, or after printing and, both print patterns are fired together, and then printing and firing of Alternatively, the procedure of printing .. and then firing the.

【0057】上記の互いに略並行の第1と第2の2条の
抵抗体パターン2aと2bはセラミック基材3の長手方
向一端側に導通させて設けた2つの給電電極パターン1
a・1b間で加熱体長手に関して通電の往路と復路を形
成している。
The first and second two resistor patterns 2a and 2b, which are substantially parallel to each other, are electrically connected to one end of the ceramic base material 3 in the longitudinal direction.
An energization forward path and a return path are formed between a and 1b with respect to the length of the heating body.

【0058】この加熱体5は、給電電極パターン1a・
1b間に不図示の給電回路から給電することにより上記
の第1と第2の2条の抵抗体パターン2aと2bが共に
長手全長にわたって発熱することで昇温し、その昇温が
不図示の検温素子で検知され、その検知温度が不図示の
温度制御回路へフィードバックされて加熱体5の温度が
所定の温度に維持されるように通電が制御される。
This heating element 5 is composed of the feeding electrode pattern 1a.
By supplying power from a power supply circuit (not shown) between 1b, both the first and second two resistor patterns 2a and 2b generate heat over the entire length, and the temperature rises. The temperature is detected by the temperature detecting element, the detected temperature is fed back to a temperature control circuit (not shown), and the energization is controlled so that the temperature of the heating element 5 is maintained at a predetermined temperature.

【0059】第1と第2の抵抗体パターン2a・2bの
折り返し点は導電体パターン4cとし、低抵抗にするこ
とでここでの発熱を防止している。
The turning point of the first and second resistor patterns 2a and 2b is a conductor pattern 4c, which has a low resistance to prevent heat generation here.

【0060】本実施例では通電の往路と復路を形成して
いる第1と第2の2条の抵抗体パターン2aと2bの双
方が同程度の発熱して、加熱体幅方向の関して通電往路
側部分と通電復路側部分とにおける熱膨張率の差をなく
する若しくは少なくすることができでき、熱膨張率の差
による歪みで加熱体5が割れるのを防止することが可能
となる。
In this embodiment, both the first and second two-element resistor patterns 2a and 2b forming the forward and return paths of energization generate heat to the same extent and energize in the width direction of the heating element. It is possible to eliminate or reduce the difference in the coefficient of thermal expansion between the forward path side portion and the energization return path side portion, and it is possible to prevent the heating element 5 from cracking due to strain due to the difference in the thermal expansion coefficient.

【0061】また、この第1と第2の複数の抵抗体2a
・2bの存在で加熱面積ないし加熱時間を多くすること
が可能となる。これによって被加熱材Pに対する加熱効
率を向上することが可能となる。即ち、加熱体5の幅方
向に被加熱材Pが移動する場合には、抵抗体パターンの
幅で加熱時間が決まることになるので、前述図22・図
23の加熱体に比べて本実施例の加熱体の方がより高い
加熱効果を得ることができる。 この様に本実施例の加
熱体5を用いることで、従来に比べて格段の加熱効果が
得られ、温度を下げることも可能となり、ヒータホルダ
10の熱劣化といった問題も解消される。
The first and second plurality of resistors 2a are also provided.
The presence of 2b makes it possible to increase the heating area or heating time. This makes it possible to improve the heating efficiency for the material P to be heated. That is, when the material P to be heated moves in the width direction of the heating element 5, since the heating time is determined by the width of the resistor pattern, this embodiment is different from the heating elements of FIGS. The above heating body can obtain a higher heating effect. As described above, by using the heating element 5 of the present embodiment, a remarkable heating effect can be obtained as compared with the conventional case, the temperature can be lowered, and the problem of heat deterioration of the heater holder 10 can be solved.

【0062】〈実施例2〉(図4〜図12) 図4は本実施例の加熱体5の耐熱フィルム密着摺動面側
の一部切欠き平面模型図である。図5はこの加熱体5の
拡大横断面模型図である。
<Embodiment 2> (FIGS. 4 to 12) FIG. 4 is a partially cutaway plan view of the heating element 5 of this embodiment on the sliding surface side of the heat-resistant film. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional model view of the heating body 5.

【0063】本実施例の加熱体5は前記実施例1の加熱
体の第1と第2の抵抗体パターン2a・2bを、はじめ
この第1と第2の両抵抗体パターン2a・2bの合体幅
の幅広の抵抗体パターンをセラミック基材上に印刷・焼
成して形成具備させ、この幅広の抵抗体パターンをその
幅方向中央部において長手に沿ってレーザートリミング
ないし研磨により分割して第1と第2の2本の抵抗体パ
ターン2a・2bにしたものである。他の構成は実施例
1の加熱体5と同じである。
The heating element 5 of the present embodiment is obtained by combining the first and second resistor element patterns 2a and 2b of the heating element of the first embodiment, and first of all, combining the first and second resistor element patterns 2a and 2b. A wide resistor pattern is formed by printing and firing on a ceramic substrate, and the wide resistor pattern is divided by laser trimming or polishing along the length at the center in the width direction to form a first resistor pattern. The second two resistor patterns 2a and 2b are formed. The other structure is the same as that of the heating body 5 of the first embodiment.

【0064】本例の加熱体5は、実施例1の加熱体と同
様の性能を具備している他に、実施例1の加熱体よりも
加熱体幅を小さくすることができ、加熱体幅に関する耐
圧規制・印刷精度の限界・定着性・コストを鑑みて、最
小の加熱体幅で、絶縁耐圧規格を満足させ、材料取り、
画像加熱定着装置にあっては定着性をも満足させること
ができる。
The heating element 5 of this example has the same performance as that of the heating element of the first embodiment, and the heating element width can be made smaller than that of the heating element of the first embodiment. In consideration of pressure regulation, limit of printing accuracy, fixability, and cost, the minimum width of the heating element satisfies the dielectric strength standard,
In the image heating and fixing device, the fixing property can also be satisfied.

【0065】図6〜図12は本実施例の加熱体5の複数
個取り製造方法の要領を説明するものである。
FIGS. 6 to 12 explain the outline of a method for manufacturing a plurality of heating elements 5 according to this embodiment.

【0066】(a)図6において、14は加熱体5を複
数個取りできる大判1枚のセラミック基板(以下、原板
と称する)である。本例の原板14は例えば厚さ1mm
・幅70mm・長さ240mmのアルミナ板であり、加
熱体5を11個取りする。この原板14には爾後に個々
の加熱体に分割・分離しやすいようにレーザートスクラ
イブや金型によってあらかじめ等間隔(約6.36m
m)で分割用の溝ないしミシン目7が付けてある。
(A) In FIG. 6, reference numeral 14 designates a large-sized ceramic substrate (hereinafter referred to as an original plate) on which a plurality of heating elements 5 can be taken. The original plate 14 of this example has a thickness of 1 mm, for example.
-It is an alumina plate with a width of 70 mm and a length of 240 mm, and 11 heating elements 5 are taken. The original plate 14 is preliminarily equidistant (about 6.36 m) with a laser scribe or a mold so that it can be easily divided and separated into individual heating elements after the original.
A dividing groove or perforation 7 is provided in m).

【0067】15はこの原板14を保持させる支持台で
ある。この支持台15上に原板14を所定に位置決めし
て載置セットし、その状態を背面から真空で引きつける
などして位置ズレが生じないように安定に保持させる。
Reference numeral 15 is a support base for holding the original plate 14. The original plate 14 is positioned and set on the support base 15 in a predetermined manner, and the state is stably held by pulling a vacuum from the back surface so that the positional deviation does not occur.

【0068】16は抵抗体パターン印刷用のスクリー
ン、17はこのスクリーンをテンションをかけて張設保
持させたスクリン枠である。18は該スクリーン16の
印刷パターン部であり、加熱体11個取りの原板14の
個々の加熱体部分にそれぞれ対応する所定の面位置に、
第1と第2の両抵抗体パターン2a・2bの合体幅の幅
広の抵抗体パターンを印刷する合計11本の並行ストラ
イプパターンである。スクリーン16のこの印刷パター
ン部18だけ目が粗くなっており、この部分18だけ抵
抗体ペーストが透過できる。
Reference numeral 16 is a screen for printing the resistor pattern, and 17 is a screen frame in which the screen is tensioned and held. Reference numeral 18 denotes a print pattern portion of the screen 16, which is provided at a predetermined surface position corresponding to each heating body portion of the original plate 14 for collecting 11 heating bodies.
It is a total of 11 parallel stripe patterns for printing a wide resistor pattern having a combined width of the first and second resistor patterns 2a and 2b. Only the printed pattern portion 18 of the screen 16 has a rough mesh, and only this portion 18 can transmit the resistor paste.

【0069】19はスクリーン16上で抵抗体ペースト
を延ばして、スクリーンの印刷パターン部18の目から
抵抗体ペーストを一定の厚みでセラミック基材面に付着
させるための絞り器である。
Numeral 19 is a squeezer for spreading the resistor paste on the screen 16 and adhering the resistor paste to the surface of the ceramic substrate with a constant thickness from the eyes of the print pattern portion 18 of the screen.

【0070】20はディスペンサーであり、絞り器19
の移動方向の前に抵抗体ペーストを一定量供給するため
のものである。ディスペンサー20には不図示のタンク
より抵抗体ペーストが供給されるようになっている。
Reference numeral 20 is a dispenser, and a squeezing device 19
This is for supplying a certain amount of resistor paste before the moving direction of. The resistor paste is supplied to the dispenser 20 from a tank (not shown).

【0071】(b)そして、原版14を位置決めセット
した支持台15上に、図7のようにスクリン16を位置
決めして重ね合わせ、絞り器19の前に抵抗体ペースト
をディスペンサー20で供給した後に絞り器19を矢印
S方向に移動させることで、加熱体11個取りの原板1
4の個々の加熱体部分にそれぞれ対応する所定の面位置
に、第1と第2の両抵抗体パターン2a・2bの合体幅
の幅広の抵抗体パターンを印刷し、乾燥する。
(B) Then, as shown in FIG. 7, the screen 16 is positioned and superposed on the support base 15 on which the original plate 14 is positioned and set, and after the resistor paste is supplied by the dispenser 20 before the squeezer 19. By moving the squeezer 19 in the direction of the arrow S, the original plate 1 containing 11 heating elements can be obtained.
A wide resistor pattern having a combined width of the first and second resistor patterns 2a and 2b is printed at a predetermined surface position corresponding to each of the individual heating body portions 4 and dried.

【0072】図8はその印刷後の原板14の平面模型図
である。図12の(a)はその一部の拡大横断面模型図
である。2Aが原板14の個々の加熱体部分にそれぞれ
対応する所定の面位置に印刷形成された、第1と第2の
両抵抗体パターン2a・2bの合体幅の幅広の抵抗体パ
ターンである。
FIG. 8 is a plan model view of the original plate 14 after the printing. FIG. 12A is an enlarged cross-sectional model view of a part thereof. 2A is a wide resistor pattern having a combined width of the first and second resistor patterns 2a and 2b, which are formed by printing at predetermined surface positions corresponding to the individual heating body portions of the original plate 14.

【0073】(c)次に、この印刷後の原板14に対し
て、図には省略したけれども、原板14の個々の加熱体
部分にそれぞれ対応する所定の面位置に、導電体パター
ン4a・4b・4cと2つの給電電極パターン1a・1
bを印刷するためのスクリーンを重ね合わせて、導電体
ペーストを用いてそれらのパターン4a・4b・4c,
1a・1bを印刷する。図9はその印刷後の原板14の
平面図である。
(C) Next, although not shown in the figure, the conductor patterns 4a and 4b are formed on the printed original plate 14 at predetermined surface positions respectively corresponding to the individual heating elements of the original plate 14.・ 4c and two feeding electrode patterns 1a ・ 1
The screens for printing b are overlapped, and those patterns 4a, 4b, 4c,
Print 1a and 1b. FIG. 9 is a plan view of the original plate 14 after the printing.

【0074】(d)上記(b)・(c)のようにして、
原板14の個々の加熱体部分にそれぞれ対応する所定の
面位置に、抵抗体パターン2A、導電体パターン4a・
4b・4cと2つの給電電極パターン1a・1bを印刷
した原板14を所定の温度・時間で焼成処理する。
(D) As in (b) and (c) above,
The resistor pattern 2A, the conductor pattern 4a, and the conductor pattern 4a are provided at predetermined surface positions respectively corresponding to the individual heating body portions of the original plate 14.
The original plate 14 on which 4b and 4c and two power supply electrode patterns 1a and 1b are printed is fired at a predetermined temperature and time.

【0075】(e)次に、この焼成後の原板14の個々
の加熱体部分にそれぞれ対応する各幅広の抵抗体パター
ン2Aについて、それぞれその中央部において長手に沿
ってレーザートリミングないし研磨により分割して第1
と第2の2本の抵抗体パターン2a・2bにする。
(E) Next, the wide resistor patterns 2A corresponding to the individual heating elements of the original plate 14 after firing are divided by laser trimming or polishing along the length at the center thereof. First
And the second two resistor patterns 2a and 2b.

【0076】図10はこの分割トリミング処理後の原板
14の平面模型図である。図12の(b)はその一部の
拡大横断面模型図である。2cは分割トリミング線であ
る。
FIG. 10 is a schematic plan view of the original plate 14 after the division trimming process. FIG. 12B is an enlarged cross-sectional model view of a part thereof. Reference numeral 2c is a division trimming line.

【0077】(f)次に、この分割トリミング処理後の
原板14に対して、図には省略したけれども、原板14
の個々の加熱体部分にそれぞれ対応する所定の面位置
に、電気絶縁性層としてのガラス層6を印刷被覆するた
めのスクリーンを重ね合わせて、ガラスペーストを用い
てガラス層パターン6を印刷し、次いで所定の温度・時
間で焼成処理する。
(F) Next, with respect to the original plate 14 after the division trimming process, although not shown in the drawing, the original plate 14
A screen for printing and covering the glass layer 6 as an electrically insulating layer is laid on a predetermined surface position corresponding to each individual heating element part of, and the glass layer pattern 6 is printed using a glass paste, Then, firing treatment is performed at a predetermined temperature and time.

【0078】図11はこのガラス層パターン6の印刷・
焼成後の原板14の一部切欠き平面模型図である。図1
2の(c)はその一部の拡大横断面模型図である。
FIG. 11 shows the printing of this glass layer pattern 6.
FIG. 4 is a partially cutaway plan view of the original plate 14 after firing. FIG.
2 (c) is an enlarged cross-sectional model view of a part thereof.

【0079】(g)次に、この原板14を分割用の溝な
いしミシン目7にそって個々の加熱体1本ずつに割って
分離して、合計11本の加熱体5を完成する。
(G) Next, the original plate 14 is divided along the dividing grooves or the perforations 7 into individual heating elements, and separated to complete a total of 11 heating elements 5.

【0080】上記の一連の製造工程において、幅広の抵
抗体パターン2Aを印刷して焼成し、これをレーザート
リミングないし研磨により第1と第2の2本の抵抗体パ
ターン2a・2bに分割トリミング2cした後、導電体
パターン4a・4b・4cと2つの給電電極パターン1
a・1bを印刷・焼成、あるいは導電体パターン4a・
4b・4cと2つの給電電極パターン1a・1b及びガ
ラス層パターン6の印刷をして焼成処理するような手順
にしてもよい。
In the series of manufacturing steps described above, a wide resistor pattern 2A is printed and fired, and this is divided and trimmed into two first and second resistor patterns 2a and 2b by laser trimming or polishing. After that, the conductor patterns 4a, 4b, 4c and the two feeding electrode patterns 1
a ・ 1b is printed / fired or conductor pattern 4a ・
4b and 4c, two feeding electrode patterns 1a and 1b, and the glass layer pattern 6 may be printed and fired.

【0081】次に、加熱体5の幅寸法に関して説明す
る。前述実施例1の図3の加熱体5と、本実施例の図5
の加熱体5において、 ・W1とW2は、第1と第2の抵抗体パターン2a・2
bの幅寸法 ・Aは、第1と第2の抵抗体パターン2a・2bの間の
離間距離 ・Bは、ガラス層6の、第1と第2の各抵抗体パターン
2a・2bの長手に沿う外側縁部よりも外側のセラミッ
ク基材面を覆う部分の幅寸法 ・Cは、ガラス層6の長手に沿う縁部とセラミック基材
分割溝7との間のセラミック基材余裕代の幅寸法 である。余裕代Cは、セラミック基材分割溝7にガラス
層6のガラスが入るのを防止するために持たせている。
即ち、セラミック基材分割溝7にガラス層6のガラスが
入るとセラミック基材14の分割分離の際に割れ方が不
安定になり、不良を生じやすくなるので、これを防止す
るためである。
Next, the width dimension of the heating element 5 will be described. The heating element 5 of FIG. 3 of the first embodiment and the heating element 5 of the present embodiment.
In the heating element 5 of: W1 and W2 are the first and second resistor pattern 2a.
Width dimension of b-A is the distance between the first and second resistor patterns 2a and 2b-B is the length of the first and second resistor patterns 2a and 2b of the glass layer 6. The width dimension of the portion covering the ceramic base material surface outside the outer edge portion along the line C is the width dimension of the ceramic base material allowance between the edge portion along the length of the glass layer 6 and the ceramic base material dividing groove 7. Is. The margin C is provided to prevent the glass of the glass layer 6 from entering the ceramic base dividing groove 7.
That is, when the glass of the glass layer 6 enters the ceramic base material dividing groove 7, the cracking becomes unstable when the ceramic base material 14 is divided and separated, and a defect is likely to occur, which is for preventing this.

【0082】従って、加熱体5の幅は 加熱体幅=A+2B+2C+W1+W2 のように決まる。Therefore, the width of the heating element 5 is determined as follows: heating element width = A + 2B + 2C + W1 + W2.

【0083】安全性の面からUL1950,CSA95
0,IEC950などでACライン間の距離やACとグ
ランド間の距離に関しては決められている。抵抗体パタ
ーン2a・2b間離間距離Aは1次ACの異極間同士で
あるので、1KVの耐圧が抜き取り試験で持てばよい。
From the viewpoint of safety, UL1950, CSA95
0, IEC950, etc., determine the distance between AC lines and the distance between AC and ground. Since the distance A between the resistor patterns 2a and 2b is between the different poles of the primary AC, the withstand voltage of 1 KV may be obtained by the sampling test.

【0084】上記の各寸法において、Bは100V用で
最小でも1.6mm、200V用では2.0mmとれば
良い。
In each of the above dimensions, B should be 1.6 mm at the minimum for 100V and 2.0 mm at 200V.

【0085】Cは0.3mm程度持たせる必要がある。C needs to be about 0.3 mm.

【0086】前記実施例1の加熱体5(図3)のよう
に、第1と第2の2本の抵抗体パターン2a・2bをそ
れぞれはじめから印刷で形成するようにした場合には、
この各抵抗体パターン2a・2bの幅方向の印刷にじみ
は経験上0.2mm以上ずつ見込まなければならない。
さらにガラス層6の耐圧を維持するためには、ガラスの
幅は最低0.1mmは必要であり、図3のような印刷精
度で抵抗体パターン2a・2b間の距離と絶縁耐圧を保
証しようとする作り方では上記の離間距離Aは0.5m
mは必要であった。
As in the heating element 5 (FIG. 3) of the first embodiment, when the first and second two resistor patterns 2a and 2b are formed by printing from the beginning, respectively,
As a result of experience, it is necessary to allow 0.2 mm or more for each print smear in the width direction of each of the resistor patterns 2a and 2b.
Further, in order to maintain the withstand voltage of the glass layer 6, the width of the glass must be at least 0.1 mm, and it is necessary to ensure the distance between the resistor patterns 2a and 2b and the withstand voltage with the printing accuracy as shown in FIG. The distance A above is 0.5m.
m was needed.

【0087】従って、定着から第1及び第2の抵抗体パ
ターン2a・2bの幅寸法W1・W2としてともに1.
2mm必要とした場合に、実施例1の加熱体5の場合の
加熱体幅は最低でも A+2B+2C+W1+W2 =0.5 mm+2 ×1.6 mm+2 ×0.3 mm+1.2 mm+
1.2 mm =6.7 mm 必要である。
Therefore, from the fixing, the width dimensions W1 and W2 of the first and second resistor patterns 2a and 2b are both 1.
When 2 mm is required, the heating element width of the heating element 5 of Example 1 is at least A + 2B + 2C + W1 + W2 = 0.5 mm + 2 × 1.6 mm + 2 × 0.3 mm + 1.2 mm +
1.2 mm = 6.7 mm is required.

【0088】そしてこの加熱体の場合には、幅70mm
のセラミック基材原板14からは10本の加熱体を製造
して、不要な原板捨て代が3mmでる。
In the case of this heating element, the width is 70 mm.
10 heating bodies are manufactured from the ceramic base plate 14 of, and the unnecessary plate discarding margin is 3 mm.

【0089】一方、本実施例の加熱体5のように、はじ
め第1と第2の両抵抗体パターン2a・2bの合体幅の
幅広の抵抗体パターン2Aをセラミック基材上に印刷・
焼成して形成具備させ、この幅広の抵抗体パターン2A
をレーザートリミング2cないし研磨により分割して第
1と第2の2本の抵抗体パターン2a・2bにする方式
にすると、とくにレーザーを使って分割することで、分
割された第1と第2の抵抗体パターン2a・2bとの隙
間を非常に狭くすることができる。この結果、絶縁耐圧
のよいガラス層6を選べば第1と第2の2本の抵抗体パ
ターン2a・2b間の離間距離Aは0.1mmまでせば
めることが可能となった。
On the other hand, like the heating element 5 of this embodiment, first, a wide resistor pattern 2A having a combined width of the first and second resistor patterns 2a and 2b is printed on a ceramic substrate.
This wide resistor pattern 2A is formed by firing and forming.
Is divided into the first and second resistor patterns 2a and 2b by laser trimming 2c or polishing, the first and second divided resistor patterns 2a and 2b are divided by using a laser. The gap between the resistor patterns 2a and 2b can be made very narrow. As a result, if the glass layer 6 having a high withstand voltage is selected, the distance A between the first and second resistor patterns 2a and 2b can be reduced to 0.1 mm.

【0090】従って、加熱体幅は6.36mm(≒70
mm÷11)でよく、この結果、幅70mmのセラミッ
ク基材原板14からは11本の加熱体を製造でき、セラ
ミック基材原板の無駄無くかつ多くの加熱体を一度に製
造できる可能性が高くなる。
Therefore, the width of the heating element is 6.36 mm (≈70)
mm 11), and as a result, 11 heating bodies can be manufactured from the ceramic base material 14 having a width of 70 mm, and there is a high possibility that many heating bodies can be manufactured at one time without waste of the ceramic base material. Become.

【0091】〈実施例3〉(図13〜図15) 上記の実施例2では、幅広に形成した抵抗体パターン2
Aを略均等幅に2分割して第1と第2の抵抗体パターン
2a・2bを形成させたが、不均一に分割しても良い。
<Embodiment 3> (FIGS. 13 to 15) In Embodiment 2 described above, the resistor pattern 2 having a wide width is formed.
Although A is divided into two substantially equal widths to form the first and second resistor patterns 2a and 2b, they may be divided non-uniformly.

【0092】例えば、図13の(a)のように、耐熱フ
ィルム移動方向上流側の第1の抵抗体パターン2aの幅
W1を下流側の第2の抵抗体パターン2bの幅W2より
も狭くすると、上流側の温度が高くなり抵抗体の上流側
のセラミック基板部分の温度が上昇し、この部分からも
耐熱フィルム11に熱が伝わるので、定着性が向上す
る。
For example, as shown in FIG. 13A, if the width W1 of the first resistor pattern 2a on the upstream side in the heat-resistant film moving direction is made narrower than the width W2 of the second resistor pattern 2b on the downstream side. The temperature on the upstream side rises and the temperature on the ceramic substrate portion on the upstream side of the resistor rises, and heat is transferred to the heat-resistant film 11 also from this portion, so the fixability is improved.

【0093】逆に図13の(b)のように、下流側の第
2の抵抗体パターン2bの幅W2を上流側の第1の抵抗
体パターン2aの幅W1狭くすると、上流側での加熱が
緩やかになり、急な加熱による被記録材Pとしての紙の
中の水分が蒸気になりトナーを後方へ吹き飛ばすことで
発生する、画像の尾引き現象を防止することが可能とな
る。
On the contrary, as shown in FIG. 13B, when the width W2 of the second resistor pattern 2b on the downstream side is narrowed by the width W1 of the first resistor pattern 2a on the upstream side, heating on the upstream side is performed. The image trailing phenomenon, which occurs when the moisture in the paper as the recording material P due to abrupt heating becomes vapor and the toner is blown off backward, can be prevented.

【0094】このように、目的に応じて幅広に形成した
抵抗体パターン2Aを任意の幅で分割することが可能で
ある。
As described above, it is possible to divide the resistor pattern 2A formed wide according to the purpose into arbitrary widths.

【0095】さらには図14のように、幅広に形成した
抵抗体パターン2Aを曲線状に分割して第1と第2の抵
抗体パターン2a・2bを構成させることで、抵抗体全
体の中央と端部とで加熱の総加熱量は同じにし、かつ最
高温度部分が耐熱フィルム11・被記録材Pが圧接ニッ
プ部Nニップ内を通過するに従って中興から端部に移動
する様になっている。この結果被記録材Pとしての紙の
熱膨張が徐々に端にむかって起こるのと、一度に大きな
熱膨張が生じないためにシワが出にくくなる。また、蒸
気の発生も中央から端部に向かって徐々におこるので、
尾引きに対しても良い。
Further, as shown in FIG. 14, the wide resistor pattern 2A is divided into curved lines to form the first and second resistor patterns 2a and 2b. The total heating amount of the end portions is the same, and the highest temperature portion moves from the center to the end portion as the heat-resistant film 11 and the recording material P pass through the pressure contact nip portion N nip. As a result, the thermal expansion of the paper as the recording material P gradually occurs toward the end, and wrinkles are less likely to occur because a large thermal expansion does not occur at one time. Also, since steam is generated gradually from the center to the end,
Good for tailing.

【0096】図15は幅広に形成した抵抗体パターン2
Aを斜めに分割して第1と第2の抵抗体パターン2a・
2bを構成させたもので、この場合も上記図14のもの
と同様な効果が得られる。
FIG. 15 shows a wide resistor pattern 2 formed.
A is divided diagonally and the first and second resistor patterns 2a.
In this case, the same effect as that of FIG. 14 can be obtained.

【0097】〈実施例4〉(図16・図17) 抵抗体2a・2bを印刷したのみでは、あるいは幅広の
抵抗体2Aを分割したのみでは、必要な値の抵抗値を得
ることが難しいこと、抵抗の分布も精度良くできないこ
とから。この結果として、部分的な熱量不足による定着
不良や熱量過多によるオフセットが発生しやすい。
<Embodiment 4> (FIGS. 16 and 17) It is difficult to obtain the required resistance value only by printing the resistors 2a and 2b or by dividing the wide resistor 2A. , Because the distribution of resistance cannot be accurately measured. As a result, defective fixing due to a partial lack of heat and offset due to excessive heat are likely to occur.

【0098】本実施例では抵抗体をトリミングすること
で、抵抗値と分布を所定の値に調整する。
In this embodiment, the resistance value and distribution are adjusted to predetermined values by trimming the resistors.

【0099】この場合に、抵抗体の外側をトリミングす
ると、実効的な加熱幅W1+W2+Aが狭くなる事と、
トリミング後の抵抗の残滓が清掃でとりきれずガラス層
6による絶縁耐圧を保証するためには、トリミングで飛
び散った限界に対してガラスの幅Bをとらなければなら
なかった。そのため、加熱体の幅が大きくならざるを得
なかった。
In this case, trimming the outside of the resistor reduces the effective heating width W1 + W2 + A.
In order to ensure the dielectric strength of the glass layer 6 because the residue of the resistance after trimming cannot be completely removed by cleaning, the width B of the glass must be taken against the limit scattered by trimming. Therefore, the width of the heating element must be increased.

【0100】本実施例ではトリミングを2本の抵抗体2
a・2bの内側で行うものである。この結果、トリミン
グで飛び散った抵抗体の残滓は抵抗体パターン上に付く
ため、抵抗体2a・2b間の絶縁耐圧がガラス層6によ
ってとれていれば問題ない。
In this embodiment, trimming is performed by using two resistors 2.
It is performed inside a and 2b. As a result, since the residue of the resistor scattered by trimming is attached to the resistor pattern, there is no problem as long as the withstand voltage between the resistors 2a and 2b is secured by the glass layer 6.

【0101】図16は、前記実施例2のように幅広の抵
抗体パターン2Aをレーザーで分割トリミング2cして
第1と第2の抵抗体パターン2a・2aを形成するとと
もに、部分トリミング2dして部分抵抗を調整する様子
を示している。
In FIG. 16, the wide resistor pattern 2A is divided and trimmed 2c by a laser to form the first and second resistor patterns 2a and 2a as in the second embodiment, and the partial trimming 2d is performed. It shows how to adjust the partial resistance.

【0102】(a)は幅広の抵抗体パターン2Aを第1
と第2の抵抗体パターン2a・2aに分割トリミングす
る前の状態を示す。
(A) shows the wide resistor pattern 2A as the first pattern.
And the state before the trimming is performed on the second resistor patterns 2a and 2a.

【0103】(b)は幅広の抵抗体パターン2Aを第1
と第2の抵抗体パターン2a・2aに分割トリミング2
cした状態を示す。
(B) shows the wide resistor pattern 2A as the first pattern.
And the second resistor pattern 2a, divided into two trimmings 2a
The state of c is shown.

【0104】(c)・(d)は部分抵抗を調整するため
に、分割後の抵抗体パターン2bに対して短い長さで往
復しながら抵抗体を部分トリミング2dしていく様を示
している。
(C) and (d) show that the resistors are partially trimmed 2d while reciprocating with a short length with respect to the divided resistor pattern 2b in order to adjust the partial resistance. .

【0105】図17は、トリミング用レーザーの移動の
様子(軌跡)を示すものである。
FIG. 17 shows the movement (trajectory) of the trimming laser.

【0106】(a)は分割トリミング2cののち片側か
ら往復しながら、部分トリミング2dで抵抗分布を調整
しはじめた最初の様子をしめしている。
(A) shows the first state in which the resistance distribution is adjusted by the partial trimming 2d while reciprocating from one side after the division trimming 2c.

【0107】(b)は部分トリミング2dの様子で、抵
抗分布の差が目立たない幅10mmから25mmの部分
トリミング2dが終了すると、次に破線の様にレーザー
が移動し、隣の部分抵抗を調整する様を示している。
(B) is a state of partial trimming 2d. When the partial trimming 2d with a width of 10 mm to 25 mm where the difference in resistance distribution is not noticeable is finished, the laser moves next as shown by the broken line to adjust the adjacent partial resistance. It is shown to do.

【0108】(c)はこの分割トリミング2dを抵抗体
パターン2aの全長に渡って繰り返す様を示している。
途中の部分で部分抵抗が所定の値の場合は、トリミング
をしない事もある。
(C) shows that this division trimming 2d is repeated over the entire length of the resistor pattern 2a.
When the partial resistance is a predetermined value in the middle part, trimming may not be performed.

【0109】最後に(d)では抵抗パターン2aと2b
の間にある分割トリミング2cにおける残滓を、再度抵
抗体パターン全長(分割トリミング2c全長)に渡って
再トリミング2eすることで、蒸発させて抵抗体パター
ン2a・2b間の絶縁を確実にとるようにしている。こ
の(d)の工程は不必要であれば省いても良い。
Finally, in (d), the resistance patterns 2a and 2b are used.
By re-trimming 2e of the residue in the divided trimming 2c between the two over the entire length of the resistor pattern (total length of the divided trimming 2c), it is evaporated to ensure the insulation between the resistor patterns 2a and 2b. ing. This step (d) may be omitted if unnecessary.

【0110】また、実施例1の加熱体5のように第1と
第2の抵抗体2a・2bを元々印刷で2本に形成してあ
る場合は(c)・(d)の工程だけでも良い。
In the case where the first and second resistors 2a and 2b are originally formed by printing as in the heating element 5 of the first embodiment, only the steps (c) and (d) are required. good.

【0111】〈実施例5〉(図18・図19) 2本の抵抗体パターン2a・2bがある場合にどちらの
抵抗体パターンの抵抗を調整するべきかという問題があ
るが、これについては、定着装置のニップNの下流側に
くる第2の抵抗体パターン2bを部分トリミングするほ
うが好ましい。この理由は被記録材としての紙がニップ
部N内で達する最終温度で定着性とオフセットの発生が
決まり、そのためには下流側の第2の抵抗体パターン2
bの抵抗分布が一様であれば、ニップ部Nをでる際の紙
温度がニップ部幅全長にわたって均一なとなり、定着性
とオフセットのない状態が実現できるからである。さら
にはトナーの溶け方も均一化し、光沢ムラをなくせる。
<Embodiment 5> (FIGS. 18 and 19) When there are two resistor patterns 2a and 2b, there is a problem of which resistor pattern the resistance should be adjusted. It is preferable to partially trim the second resistor pattern 2b located on the downstream side of the nip N of the fixing device. The reason for this is that the fixing temperature and the occurrence of offset are determined by the final temperature at which the paper as the recording material reaches in the nip portion N, and for that reason, the second resistor pattern 2 on the downstream side is required.
This is because if the resistance distribution of b is uniform, the paper temperature when exiting the nip portion N will be uniform over the entire width of the nip portion, and the fixing property and the state without offset can be realized. Furthermore, the way the toner melts is made uniform, and uneven gloss can be eliminated.

【0112】図18はニップ部N内を通過する被記録材
としての紙の温度変化を時間をおって示したものであ
る。下流側の第2の抵抗体パターン2bの抵抗分布は均
一にしている。線Bは上流側の抵抗体パターン2aの抵
抗分布が高めの部分を示しており、線Cは標準的な部
分、線Dは抵抗が低めの部分を示している。
FIG. 18 shows the temperature change of the paper as a recording material passing through the nip portion N over time. The resistance distribution of the second resistor pattern 2b on the downstream side is made uniform. A line B shows a portion where the resistance distribution of the resistor pattern 2a on the upstream side is high, a line C shows a standard portion, and a line D shows a portion where the resistance is low.

【0113】この結果から下流側の第2の抵抗体パター
ン2bによって、紙の温度がならされていることがわか
る。
From this result, it can be seen that the temperature of the paper is smoothed by the second resistor pattern 2b on the downstream side.

【0114】一方、図19は上流側の第1の抵抗体パタ
ーン2aの抵抗分布を均一になるようトリミングしたも
のである。線Eは下流側の第2の抵抗体パターン2bの
抵抗分布が高めの部分を示しており、線Fは標準的な部
分、線Gは抵抗が低めの部分を示している。
On the other hand, in FIG. 19, the resistance distribution of the first resistor pattern 2a on the upstream side is trimmed so as to be uniform. A line E shows a portion where the resistance distribution of the second resistor pattern 2b on the downstream side is high, a line F shows a standard portion, and a line G shows a portion where the resistance is low.

【0115】この結果から分かるように、ニップ部Nを
出てくる紙の温度は部分部分でまちまちとなり、定着不
良とオフセットが発生した。
As can be seen from these results, the temperature of the paper coming out of the nip portion N was uneven in each part, resulting in defective fixing and offset.

【0116】この方法ではあれば、抵抗体パターンが2
本になっていても、部分トリミングで調整するものは下
流側の第2の抵抗体パターン2bだけ良く、工程が短時
間で済むので生産性が上がるという利点がある。 〈実施例6〉(図20) 以上の実施例1〜5の加熱体5の抵抗体パターンが2本
であるが、3本以上形成具備させることもできる。
With this method, if the resistor pattern is 2
Even if it is a book, only the second resistor pattern 2b on the downstream side needs to be adjusted by partial trimming, and the process can be completed in a short time, so that there is an advantage that productivity is increased. <Embodiment 6> (FIG. 20) Although the heating element 5 of the above-described Embodiments 1 to 5 has two resistor patterns, three or more resistor patterns can be provided.

【0117】図20はその一例である。本例は加熱体の
非通紙部昇温を防止もしくは緩和するために、抵抗体パ
ターンを、図のように、メインの抵抗体パターン21
と、このメインの抵抗体パターン21 の途中の所定位置
よりそれぞれ分岐させた第1・第2・第3の分岐抵抗体
パターン22 ・23 ・24 とからなる形態にしたもので
ある。各抵抗体パターン21 〜24 は実施例2のように
レーザートリミングで分割して複数本にしたものであ
る。2cはその分割トリミング線である。Oは片側通紙
搬送基線である。
FIG. 20 shows an example thereof. In this example, in order to prevent or reduce the temperature rise in the non-sheet passing portion of the heating element, the resistor pattern is set to the main resistor pattern 2 1 as shown in the figure.
And the first, second and third branch resistor patterns 2 2 , 2 3 and 2 4 which are branched from predetermined positions in the middle of the main resistor pattern 2 1 , respectively. . Each of the resistor patterns 2 1 to 2 4 is divided by laser trimming into a plurality of lines as in the second embodiment. 2c is the division trimming line. O is a one-sided sheet feeding base line.

【0118】給電電極aと同bとの間に電圧を印加する
と、メインの抵抗体パターン21 が全長kに渡って所定
の発熱量で発熱してA3サイズの被記録材Pの加熱がで
きる。
When a voltage is applied between the power supply electrodes a and b, the main resistor pattern 2 1 generates heat with a predetermined heat generation amount over the entire length k to heat the recording material P of A3 size. .

【0119】給電電極aと同b・cとの間に電圧を印加
すると、メインの抵抗体パターン21 が第1の分岐抵抗
体パターン22 の分岐点までの長さ部分jが所定の発熱
量で発熱してB4サイズの被記録材Pの加熱ができる。
非通紙部(k−j)の発熱量はこの部分のメインの抵抗
体パターン21 と第1の分岐抵抗体パターン22 が並列
通電となることで発熱量が少なくなり、非通紙部昇温が
抑えられる。
When a voltage is applied between the power supply electrodes a and b and c, the main resistor pattern 2 1 has a predetermined heat generation in the length j to the branch point of the first branch resistor pattern 2 2. The recording material P of B4 size can be heated by generating heat in an amount.
The heat generation amount of the non-sheet passing portion (k-j) is reduced by the parallel conduction of the main resistor pattern 2 1 and the first branch resistor pattern 2 2 in this portion, and the heat generating amount is reduced. Temperature rise is suppressed.

【0120】給電電極aと同b・dとの間に電圧を印加
すると、メインの抵抗体パターン21 が第2の分岐抵抗
体パターン23 の分岐点までの長さ部分iが所定の発熱
量で発熱してA4サイズの被記録材Pの加熱ができる。
非通紙部(k−i)の発熱量はこの部分のメインの抵抗
体パターン21 と第2の分岐抵抗体パターン23 が並列
通電となることで発熱量が少なくなり、非通紙部昇温が
抑えられる。
When a voltage is applied between the power supply electrodes a and b and d, the main resistor pattern 2 1 generates a predetermined amount of heat in the length i of the second branch resistor pattern 2 3 up to the branch point. The recording material P of A4 size can be heated by generating heat according to the amount.
The heat generation amount of the non-sheet passing portion (ki) is reduced by the parallel energization of the main resistor pattern 2 1 and the second branch resistor pattern 2 3 of this portion, and the heat generating amount is reduced. Temperature rise is suppressed.

【0121】給電電極aと同b・eとの間に電圧を印加
すると、メインの抵抗体パターン21 が第3の分岐抵抗
体パターン24 の分岐点までの長さ部分hが所定の発熱
量で発熱してB5サイズの被記録材Pの加熱ができる。
非通紙部(k−h)の発熱量はこの部分のメインの抵抗
体パターン21 と第3の分岐抵抗体パターン24 が並列
通電となることで発熱量が少なくなり、非通紙部昇温が
抑えられる。
When a voltage is applied between the power supply electrodes a and b and e, the main resistor pattern 2 1 has a predetermined heat generation in the length h to the branch point of the third branch resistor pattern 2 4. The recording material P of B5 size can be heated by generating heat in an amount.
The heat generation amount of the non-sheet passing portion (kh) is reduced by the parallel energization of the main resistor pattern 2 1 and the third branch resistor pattern 2 4 in this portion, and the heat generating amount is reduced. Temperature rise is suppressed.

【0122】〈実施例7〉(図21) 図21は本発明に従う加熱体を用いたフィルム加熱方式
の加熱装置を画像加熱定着装置8としてを組み込んだ画
像形成装置の一例の概略構成を示している。本例の画像
形成装置は原稿台往復動型・回転ドラム型・転写式・プ
ロセスカートリッジ着脱方式の電子写真複写装置であ
る。
<Embodiment 7> (FIG. 21) FIG. 21 shows a schematic structure of an example of an image forming apparatus in which a film heating type heating device using a heating body according to the present invention is incorporated as an image heating and fixing device 8. There is. The image forming apparatus of this embodiment is a reciprocating platen type, a rotary drum type, a transfer type, and a process cartridge attaching / detaching type electrophotographic copying apparatus.

【0123】100は装置機筐、101はその装置機筐
の上面板102上に配設したガラス板等の透明板部材よ
りなる往復動型の原稿載置台であり、機筐上面板102
上を図面上右方a、左方a′に夫々所定の速度で往復移
動駆動される。
Reference numeral 100 denotes an apparatus casing, 101 denotes a reciprocating type document placing table made of a transparent plate member such as a glass plate disposed on the upper surface plate 102 of the apparatus casing, and the apparatus casing upper surface plate 102.
The upper part is driven to reciprocate to the right a and the left a'in the drawing at a predetermined speed.

【0124】Gは原稿であり、複写すべき画像面側を下
向きにして原稿載置台101の上面に所定の載置基準に
従って載置し、その上に原稿圧着板103をかぶせて押
え込むことによりセットされる。
Reference numeral G denotes an original, which is placed on the upper surface of the original placing table 101 with the image surface side to be copied facing downward in accordance with a predetermined placing reference, and the original pressure plate 103 is placed on the original placing plate 103 and pressed down. Set.

【0125】104は機筐上面板102面に原稿載置台
101の往復移動方向とは直角の方向(紙面に垂直の方
向)を長手として開口された原稿照明部としてのスリッ
ト開口部である。
Reference numeral 104 denotes a slit opening serving as a document illuminating section which is opened on the surface of the upper surface plate 102 of the machine casing with a direction perpendicular to the reciprocating direction of the document placing table 101 (direction perpendicular to the paper surface) as a longitudinal direction.

【0126】原稿載置台101上に載置セットした原稿
Gの下向き画像面は原稿載置台101の右方aへの往復
移動過程で右辺側から左辺側にかけて順次にスリット開
口部104の位置を通過していき、その通過過程でラン
プ105の光Lをスリット開口部104、透明な原稿載
置台101を通して受けて照明走査され、その照明走査
光の原稿面反射光が像素子アレイ106によって感光ド
ラム107面に結像露光される。
The downward image surface of the document G placed and set on the document placing table 101 sequentially passes through the position of the slit opening 104 from the right side to the left side in the reciprocating process of the document placing table 101 to the right a. In the course of the passage, the light L of the lamp 105 is received through the slit opening 104 and the transparent original placing table 101 to be illuminated and scanned, and the original surface reflected light of the illumination scanning light is reflected by the image element array 106 by the photosensitive drum 107. The image is exposed on the surface.

【0127】感光ドラム107は例えば酸化亜鉛感光層
・有機半導体感光層等の感光層が被覆処理され、中心支
軸108を中心に所定の周速度で矢示bの時計方向に回
転駆動され、その回転過程で帯電器109により正極性
又は不極性の一様な帯電処理を受け、その一様帯電面に
前記の原稿画像の結像露光(スリット露光)を受けるこ
とにより感光ドラム107面には結像露光した原稿画像
に対応した静電潜像が順次に形成されていく。
The photosensitive drum 107 is coated with a photosensitive layer such as a zinc oxide photosensitive layer or an organic semiconductor photosensitive layer, and is rotated in the clockwise direction indicated by the arrow b at a predetermined peripheral speed around the central support shaft 108. During the rotation process, the charging device 109 receives a uniform charging process of positive polarity or non-polarity, and the uniformly charged surface is subjected to the image formation exposure (slit exposure) of the original image, so that the surface of the photosensitive drum 107 is formed. An electrostatic latent image corresponding to the image-exposed original image is sequentially formed.

【0128】この静電潜像は現像器110により加熱で
軟化溶融する樹脂等よりなるトナーにて順次に顕画化さ
れ、該顕像たるトナー画像が転写部としての転写放電器
111の配設部位へ移行していく。
This electrostatic latent image is sequentially visualized by the developing device 110 with toner made of resin or the like that is softened and melted by heating, and the toner image as the visualized image is provided with a transfer discharger 111 as a transfer portion. It moves to the part.

【0129】Sは被記録材としての転写材シートPを積
載収納したカセットであり、該カセット内のシートが給
送ローラー112の回転により1枚宛繰出し給送され、
次いでレジストローラー113により、ドラム107上
のトナー画像形成部の先端が転写放電器111の部位に
到達したとき転写材シートPの先端も転写放電器111
と感光ドラム107との間位置に丁度到達して両者一致
するようにタイミングどりされて同期給送される。
Reference numeral S denotes a cassette in which transfer material sheets P as recording materials are stacked and housed, and the sheets in the cassette are fed and fed one by one by the rotation of the feeding roller 112,
Next, when the leading edge of the toner image forming portion on the drum 107 reaches the transfer discharger 111 portion by the registration roller 113, the leading edge of the transfer material sheet P is also transferred.
And the photosensitive drum 107 are just moved to a position between the photosensitive drum 107 and the photosensitive drum 107.

【0130】そのてその給送シートの面に対して転写放
電器111により感光ドラム107側のトナー画像が順
次に転写されていく。
The toner images on the photosensitive drum 107 side are sequentially transferred by the transfer discharger 111 onto the surface of the fed sheet.

【0131】転写部でトナー画像転写を受けたシートは
不図示の分離手段で感光ドラム107面から順次に分離
されて搬送装置114によって定着装置8に導かれて担
持している未定着トナー画像の加熱定着を受け、画像形
成物(コピー)として排出ローラー116を通って機外
の排紙トレイ117上に排出される。
The sheet to which the toner image has been transferred at the transfer portion is sequentially separated from the surface of the photosensitive drum 107 by separation means (not shown), and is guided to the fixing device 8 by the conveying device 114 to form the unfixed toner image carried thereon. The image is heated and fixed, and is discharged as an image-formed product (copy) onto the discharge tray 117 outside the apparatus through the discharge roller 116.

【0132】画像転写後の感光ドラム107の面はクリ
ーニング装置118により転写残りトナー等の付着汚染
物の除去を受けて繰り返して画像形成に使用される。
The surface of the photosensitive drum 107 after the image transfer is subjected to removal of adhered contaminants such as transfer residual toner by the cleaning device 118, and is repeatedly used for image formation.

【0133】PCは装置本体100内のカートリッジ着
脱部120に着脱されるプロセスカートリッジであり、
本例の場合は、像担持体としての感光ドラム107、帯
電器109、現像器110、クリーニング装置118の
4つのプロセス機器を包含させて一括して装置本体10
0に対して着脱交換自在としてある。
The PC is a process cartridge which is attached / detached to / from the cartridge attaching / detaching portion 120 in the apparatus main body 100.
In the case of the present example, the apparatus main body 10 including the four process devices of the photosensitive drum 107 as an image bearing member, the charging device 109, the developing device 110, and the cleaning device 118 together.
It is detachable and replaceable with respect to 0.

【0134】[0134]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の加熱体に
よれば、ヒータ基材と、該ヒータ基材上に形成具備させ
た抵抗体を基本構成体とし、該抵抗体に通電して発熱さ
せるタイプの加熱体について、加熱体割れを防止し、か
つ加熱面積を大きくとることができる。
As described above, according to the heating body of the present invention, the heater base material and the resistor formed and provided on the heater base material are used as basic components, and the resistor is energized. With respect to the heating element of the type that generates heat, cracking of the heating element can be prevented and a large heating area can be secured.

【0135】また本発明の加熱体の製造方法によれば、
最小の加熱体幅で、絶縁耐圧規格を満足させ、材料取
り、画像加熱定着装置にあっては定着性をも満足させ
る、即ち加熱体幅に関する耐圧規制、印刷精度の限界、
定着性、コストを鑑みて最も幅を細くでき、絶縁耐圧を
維持しつつより多くの本数を同時に印刷製造可能であ
る。
Further, according to the method for manufacturing a heating element of the present invention,
Satisfies the dielectric strength standard with a minimum width of the heating element, and material fixing, and also the fixing property in the image heating and fixing device, that is, the pressure regulation regarding the heating element width, the limit of printing accuracy,
The width can be minimized in view of fixing property and cost, and a larger number of prints can be simultaneously manufactured by printing while maintaining the dielectric strength.

【0136】また加熱体の抵抗体パターンの抵抗値や抵
抗分布を絶縁耐圧に影響せず、また加熱体幅に影響せず
に、最適に・簡易に調整可能であり、画像加熱定着装置
にあってはオフセット・定着不良等を防止することがで
きる。
Further, the resistance value and the resistance distribution of the resistor pattern of the heating element can be adjusted optimally and easily without affecting the withstand voltage and the width of the heating element. As a result, it is possible to prevent offset and defective fixing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に従う加熱体を用いた加熱装置としての
フィルム加熱方式の画像加熱定着装置の要部の横断面模
型図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part of a film heating type image heating and fixing device as a heating device using a heating body according to the present invention.

【図2】加熱体の耐熱フィルム密着摺動面側の一部切欠
き平面模型図
[FIG. 2] A partially cutaway plan view of the heating element on the sliding surface side of the heat-resistant film.

【図3】この加熱体の拡大横断面模型図[Fig. 3] Enlarged cross-sectional model view of this heating element

【図4】実施例2の加熱体の耐熱フィルム密着摺動面側
の一部切欠き平面模型図
FIG. 4 is a partially cutaway plan view of a heat-resistant film-contacting sliding surface side of the heating element of Example 2.

【図5】この加熱体の拡大横断面模型図[Figure 5] Enlarged cross-sectional model view of this heating element

【図6】ヒータ基材原板に対する抵抗体パターンの印刷
手段の斜視図
FIG. 6 is a perspective view of a means for printing a resistor pattern on a heater base plate.

【図7】印刷要領説明図[Fig. 7] Illustration of printing procedure

【図8】抵抗体パターン印刷後のヒータ基材原板の平面
模型図
FIG. 8 is a schematic plan view of a heater base plate after printing a resistor pattern.

【図9】これに導電体パターンを形成した後のヒータ基
材原板の平面模型図
FIG. 9 is a schematic plan view of a heater base plate after a conductor pattern is formed on it.

【図10】抵抗体パターンを分割トリミング処理した後
のヒータ基材原板の平面模型図
FIG. 10 is a plan view of a heater base material plate after the resistor pattern is divided and trimmed.

【図11】さらにガラス層を形成した後のヒータ基材原
板の一部切欠き平面模型図
FIG. 11 is a partially cutaway plan view of a heater base plate after a glass layer is further formed.

【図12】(a)・(b)・(c)は製造過程図12 (a), (b), and (c) are manufacturing process diagrams.

【図13】(a)・(b)はそれぞれ実施例3の加熱体
の一部切欠き平面模型図
13 (a) and 13 (b) are partially cutaway plan view model diagrams of the heating body of Example 3, respectively.

【図14】他の構成形態の加熱体の一部切欠き平面模型
FIG. 14 is a partially cutaway plan view model of a heating element having another configuration.

【図15】更に他の構成形態の加熱体の一部切欠き平面
模型図
FIG. 15 is a partially cutaway plan view model of a heating element of still another configuration.

【図16】(a)・(b)・(c)・(d)は実施例4
の加熱体の抵抗体パターンの分割トリミング及び部分ト
リミングの要領説明図
16 (a), (b), (c), and (d) show Example 4.
Explanation drawing of dividing and partial trimming of resistor pattern of heating element

【図17】(a)・(b)・(c)・(d)はトリミン
グ用レーザーの移動軌跡説明図
17 (a), (b), (c), and (d) are explanatory views of the movement trajectory of the trimming laser.

【図18】実施例5の加熱体の、ニップ部内を通過する
被記録材としての紙の温度変化を時間をおって示したグ
ラフ図
FIG. 18 is a graph showing the temperature change of the paper as a recording material passing through the nip portion of the heating body of Example 5 over time.

【図19】他の加熱体の、ニップ部内を通過する被記録
材としての紙の温度変化を時間をおって示したグラフ図
FIG. 19 is a graph showing a temperature change of another heating member, which is a recording material passing through the nip portion, over time.

【図20】実施例6の加熱体の一部切欠き平面模型図FIG. 20 is a partially cutaway plan view model of the heating body of Example 6.

【図21】本発明に従う加熱体を用いたフィルム加熱方
式の加熱装置を画像加熱定着装置としてを組み込んだ画
像形成装置の一例の概略構成図
FIG. 21 is a schematic configuration diagram of an example of an image forming apparatus in which a film heating type heating device using a heating body according to the present invention is incorporated as an image heating fixing device.

【図22】フィルム加熱方式の加熱装置としての画像加
熱定着装置の一例の要部の拡大横断面模型図
FIG. 22 is an enlarged cross-sectional model view of a main part of an example of an image heating and fixing device as a film heating type heating device.

【図23】加熱体としてのセラミックヒータの耐熱フィ
ルム密着摺動面側の一部切欠き平面模型図
FIG. 23 is a partially cutaway plan view of a ceramic heater as a heating element on a sliding surface of a heat-resistant film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 加熱体 1a・1b 給電用電極(導電体パターン) 2a・2b 第1及び第2の抵抗体パターン 3 ヒータ基材(セラミック基材) 4a・4b・4c 導電体パターン 6 電気絶縁性被覆層(ガラス層) 7 分割用の溝ないしミシン目線 10 ヒータホルダ 11 耐熱(定着)フィルム N 圧接(定着)ニップ部 P 被加熱材(被記録材) 5 Heater 1a ・ 1b Power supply electrode (conductor pattern) 2a ・ 2b First and second resistor pattern 3 Heater base material (ceramic base material) 4a ・ 4b ・ 4c Conductor pattern 6 Electric insulating coating layer ( Glass layer) 7 Dividing groove or perforation line 10 Heater holder 11 Heat resistant (fixing) film N Pressure contact (fixing) nip P Heated material (recorded material)

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ヒータ基材と、該ヒータ基材上に形成具
備させた通電により発熱する複数本の抵抗体と、該ヒー
タ基材の抵抗体形成部を被覆させた電気絶縁性層を基本
構成体とすることを特徴とする加熱体。
1. A heater base, a plurality of resistors formed on the heater base and generating heat when energized, and an electrically insulating layer covering a resistor forming portion of the heater base. A heating body characterized by being a constituent.
【請求項2】 ヒータ基材がセラミック基材であること
を特徴とする請求項1に記載の加熱体。
2. The heating element according to claim 1, wherein the heater base material is a ceramic base material.
【請求項3】 ヒータ基材上に抵抗体に対する通電用の
導電体部を有する請求項1に記載の加熱体
3. The heating body according to claim 1, further comprising a conductor portion for energizing the resistor on the heater base material.
【請求項4】 電気絶縁性被覆層がガラス層であること
を特徴とする請求項1に記載の加熱体。
4. The heating element according to claim 1, wherein the electrically insulating coating layer is a glass layer.
【請求項5】 抵抗体同士の向き合う内側部に、抵抗体
の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整したトリミング部が
あることを特徴とする請求項1に記載の加熱体。
5. The heating element according to claim 1, wherein a trimming portion in which the total resistance value of the resistors or the resistance distribution is adjusted is provided inside the resistors facing each other.
【請求項6】 加熱体に対する被加熱材の搬送方向の下
流側にある抵抗体に、抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分
布を調整したトリミング部があることを特徴とする請求
項1に記載の加熱体。
6. The resistor on the downstream side of the heating body in the conveying direction of the material to be heated has a trimming portion whose total resistance value or resistance distribution is adjusted. Heating body.
【請求項7】 画像加熱定着装置用加熱体であることを
特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載の加熱
体。
7. The heating element according to claim 1, which is a heating element for an image heating and fixing device.
【請求項8】 ヒータ基材に抵抗体を印刷した後、レー
ザートリミングないし研磨により該抵抗体を分割して複
数本の抵抗体にすることを特徴とする請求項1乃至請求
項7の何れかに記載の加熱体の製造方法。
8. The heater according to claim 1, wherein after the resistor is printed on the heater substrate, the resistor is divided into a plurality of resistors by laser trimming or polishing. The method for manufacturing a heating element according to.
【請求項9】 レーザートリミングないし研磨による分
割によって複数本の抵抗体が異なる幅に分けられること
を特徴とする請求項8に記載の加熱体の製造方法。
9. The method for manufacturing a heating element according to claim 8, wherein the plurality of resistors are divided into different widths by division by laser trimming or polishing.
【請求項10】 複数本の抵抗体を形成具備させた加熱
体の抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整するため
のトリミングを抵抗体同士の向き合う内側においてレー
ザートリミングないし研磨で行うことを特徴とする請求
項1乃至請求項7の何れかに記載の加熱体の製造方法。
10. Trimming for adjusting a total resistance value or a resistance distribution of the resistors of a heating element having a plurality of resistors formed therein is performed by laser trimming or polishing inside the resistors facing each other. The method for manufacturing a heating element according to any one of claims 1 to 7, which is characterized in that.
【請求項11】 複数本の抵抗体を形成具備させた加熱
体の抵抗体の総抵抗値、或いは抵抗分布を調整するため
のトリミングを加熱体に対する被加熱材の搬送方向の下
流側にある抵抗体にレーザートリミングないし研磨で行
うことを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れかに記
載の加熱体の製造方法。
11. A resistor located on the downstream side in the transport direction of the material to be heated with respect to the heating body, and trimming for adjusting the total resistance value or the resistance distribution of the resistors of the heating body having a plurality of resistors formed therein. The method for manufacturing a heating element according to any one of claims 1 to 7, wherein the heating is performed on the body by laser trimming or polishing.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5659867A (en) * 1995-11-28 1997-08-19 Hewlett-Packard Company Instant-on fuser roller structure
KR100316792B1 (en) * 1999-05-24 2001-12-12 윤철진 The manufacturing process of multi funtional plastic film heater
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