JPH08160222A - Substrate for optical compensating film - Google Patents

Substrate for optical compensating film

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Publication number
JPH08160222A
JPH08160222A JP6300751A JP30075194A JPH08160222A JP H08160222 A JPH08160222 A JP H08160222A JP 6300751 A JP6300751 A JP 6300751A JP 30075194 A JP30075194 A JP 30075194A JP H08160222 A JPH08160222 A JP H08160222A
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JP
Japan
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substrate
film
optical compensation
bisphenol
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP6300751A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Uchiyama
昭彦 内山
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP6300751A priority Critical patent/JPH08160222A/en
Publication of JPH08160222A publication Critical patent/JPH08160222A/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain a substrate for optical compensating film having dimensional stability with excellent optical properties suitable for optical compensating film. CONSTITUTION: This substrate is composed of an aromatic polycarbonate, which is a copolymer of bisphenol A copolymerized with a bisphenol component constituted of a non-bisphenol A structure in the copolymerization ratio of 5-30mol% per bisphenol A and has >=30000 average molecular weight and >=150 deg.C glass transition point. The polymer film having intra-plane optical isotropy is used as the substrate for the optical compensating film obtained by forming the optical layer having optical compensating function on the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置等におい
て高視野角や高コントラスト等を実現するために用い
る、光学補償機能を有する光学層を形成してなる光学補
償フィルムにおける、光学補償フィルムを形成するため
の基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical compensation film in an optical compensation film formed by forming an optical layer having an optical compensation function, which is used for realizing a wide viewing angle and a high contrast in a liquid crystal display device or the like. And a substrate for forming the.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、薄型軽量、低消費電力
という大きな利点を持つ。このため、パーソナルコンピ
ュータやワードプロセッサ、携帯型電子手帳等の表示装
置に、近年積極的に用いられている。液晶表示素子の原
理は数多く提案されている。そうした中で、現在普及し
ている液晶表示素子のほとんどは、ねじれネマチック型
の液晶を用いている。このような液晶を用いた表示方式
は、複屈折モード(以下、STN方式)と旋光モード
(以下、TN方式)の2つの方式に大別される。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display elements have the great advantages of being thin and lightweight and of low power consumption. Therefore, it has been actively used in recent years in display devices such as personal computers, word processors, and portable electronic notebooks. Many principles of liquid crystal display devices have been proposed. Under such circumstances, most of the liquid crystal display elements that are currently widespread use twisted nematic liquid crystal. The display method using such a liquid crystal is roughly classified into a birefringence mode (hereinafter, STN method) and an optical rotation mode (hereinafter, TN method).

【0003】STN方式は、急峻な電気光学特性を持つ
ため、単純マトリックスで駆動できる。このため、比較
的低価格で市場に供給されている。しかしながらかかる
方式では、偏光板を介して直線偏光とした入射光が、液
晶セルによる複屈折で楕円偏光となる。このためそれを
偏光板を介して見た場合には、ディスプレイが着色して
見えるといった課題がある。
Since the STN system has steep electro-optical characteristics, it can be driven by a simple matrix. Therefore, it is supplied to the market at a relatively low price. However, in such a system, the incident light linearly polarized through the polarizing plate becomes elliptically polarized light due to birefringence by the liquid crystal cell. Therefore, when it is viewed through a polarizing plate, there is a problem that the display looks colored.

【0004】そこで液晶セル透過後の楕円偏光を直線偏
光に戻して着色を防止すべく、液晶セルと偏光板の間に
延伸フィルム等からなる光学補償フィルムを介在させる
F−STN(フィルム補償型STN)方式が提案されて
いる。この延伸フィルムを用いた光学補償フィルムは、
従来の補償セルを駆動セルに重ねた構成であるD−ST
N(ダブルセル型STN)に比べて安価であることから
広く普及することとなった。
Therefore, in order to return the elliptically polarized light after passing through the liquid crystal cell to the linearly polarized light and prevent coloring, an F-STN (film compensation type STN) system in which an optical compensation film made of a stretched film or the like is interposed between the liquid crystal cell and the polarizing plate. Is proposed. An optical compensation film using this stretched film,
D-ST having a configuration in which a conventional compensation cell is overlaid on a drive cell
Since it is cheaper than N (double-cell STN), it has become widely used.

【0005】一方TN方式は、応答速度が数十ミリ秒と
速く、高いコントラスト比と良好な階調表示性を示す点
が優れている。このため、薄膜トランジスター等のスイ
ッチング素子を各画素ごとに配備した液晶表示素子とし
て、液晶テレビ等の高精細、高速性が要求される用途で
使用されている。
On the other hand, the TN method is excellent in that it has a high response speed of several tens of milliseconds, a high contrast ratio and a good gradation display property. Therefore, it is used as a liquid crystal display device in which a switching element such as a thin film transistor is provided for each pixel, in applications such as a liquid crystal television that requires high definition and high speed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この延伸フィルム型光
学補償フィルムは、液晶の位相差を補償するところに特
徴がある。ところが、最近のSTNにおける高画質化の
要求に伴い光学補償フィルムに対し、この位相差の補償
だけでなく、波長による旋光分散、温度による液晶位相
差変化補償および膜厚方向の屈折率制御等、多様な特性
が要求されるようになった。それらの問題を解決する1
つの手段として、光学補償機能を有する高分子液晶を使
用したものが提案されている。かかる光学特性を発現す
る高分子液晶は一般に非常に薄いため、単独でフィルム
として扱うことは難しく、光学等方かつ透明基板等を必
要とする。
The stretched film type optical compensation film is characterized in that it compensates the retardation of liquid crystal. However, with the recent demand for higher image quality in STN, not only the compensation of the phase difference but also the optical compensation film, the optical dispersion according to the wavelength, the liquid crystal phase difference change compensation according to the temperature, the refractive index control in the film thickness direction, etc. Various characteristics have come to be required. Solving those problems 1
As one means, one using a polymer liquid crystal having an optical compensation function has been proposed. Since the polymer liquid crystal that exhibits such optical characteristics is generally very thin, it is difficult to handle it as a film by itself, and it requires an optically isotropic and transparent substrate.

【0007】また、スイッチング素子と組み合わせたT
N方式の液晶表示素子でも、見る方向によってはコント
ラスト比が変化するといった視角依存性を持つという課
題があった。この視角依存性を改善するための方法とし
て、光学補償フィルムの三次元屈折率(nx,ny,n
z)をnx=ny≠nzとすることにより、液晶表示装
置に斜めから入った光の位相差のみ補償するといった方
法が提案されている。かかる光学補償フィルムとして
は、例えば無機層状化合物を用いるといった方法等が提
案されているが、この無機層状化合物も単独ではフィル
ムとして取り扱うことが難しく、光学等方かつ透明基板
等を必要とする。
In addition, T combined with a switching element
The N-type liquid crystal display element also has a problem that it has a viewing angle dependency that the contrast ratio changes depending on the viewing direction. As a method for improving the viewing angle dependence, the three-dimensional refractive index (nx, ny, n
A method has been proposed in which z) is set to nx = ny ≠ nz to compensate only the phase difference of light obliquely entering the liquid crystal display device. As such an optical compensation film, for example, a method of using an inorganic layered compound has been proposed, but it is difficult to handle this inorganic layered compound alone as a film, and it requires an optically isotropic and transparent substrate.

【0008】前述したように、延伸フィルム型光学補償
フィルム以外にさらに高度な光学機能を有する光学補償
フィルムでは、光学等方かつ透明な基板を必要としてい
る。さらには、製造工程における熱処理等に耐える寸法
安定性、および液晶表示装置等に使用された場合でも、
その使用温度環境下でも耐える寸法安定性、耐久性が、
かかる基板には要求されている。しかし従来の光学補償
フィルム用基板では、かかる特性を有するものが得られ
ていないのが現状である。
As described above, in addition to the stretched film type optical compensation film, an optical compensation film having a higher optical function requires an optically isotropic and transparent substrate. Furthermore, even when used in liquid crystal display devices, etc., the dimensional stability withstands heat treatment in the manufacturing process,
Dimensional stability and durability that can withstand the operating temperature environment
There is a demand for such substrates. However, at present, no conventional substrate for an optical compensation film has such a characteristic.

【0009】本発明はかかる課題を解決して、光学補償
フィルムに適した良好な光学特性を備えつつ、寸法安定
性を有した光学補償フィルム用基板を得ることを目的と
する。すなわち光学特性としては、レターデーション値
が20nm以下、遅相軸角度分布の絶対値が15°以
下、かつヘイズ値が0.8%以下と言う特性を備えつ
つ、寸法安定性としては120℃で1時間の熱処理後で
も0.10%以下であり、かつ150℃で30分の熱処
理後でも0.15%以下であると言う特性を有した光学
補償フィルム用基板を得ることを目的とする。
It is an object of the present invention to solve the above problems and obtain a substrate for an optical compensation film having good optical characteristics suitable for the optical compensation film and having dimensional stability. That is, as the optical characteristics, the retardation value is 20 nm or less, the absolute value of the slow axis angle distribution is 15 ° or less, and the haze value is 0.8% or less, while the dimensional stability is 120 ° C. It is an object of the present invention to obtain an optical compensation film substrate having the characteristics that it is 0.10% or less even after heat treatment for 1 hour and 0.15% or less even after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の光学補償フィル
ム用基板は、非ビスフェノールA骨格からなるビスフェ
ノール成分を、ビスフェノールAに対して共重合比5〜
30mol%で共重合させたビスフェノールAの共重合
体であるところの、平均分子量30000以上かつガラ
ス転移点温度150℃以上の芳香族ポリカーボネートか
らなる、面内光学等方性のポリマーフィルムを、基板上
に光学補償機能を有する光学層を形成してなる光学補償
フィルムにおける基板として用いることを特徴としてい
る。
The substrate for an optical compensation film of the present invention comprises a bisphenol component having a non-bisphenol A skeleton and a bisphenol A copolymerization ratio of 5 to 5.
An in-plane optically isotropic polymer film made of an aromatic polycarbonate having an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C. or more, which is a copolymer of bisphenol A copolymerized at 30 mol%, is formed on a substrate. It is characterized in that it is used as a substrate in an optical compensation film formed by forming an optical layer having an optical compensation function.

【0011】あるいは本発明の光学補償フィルム用基板
は、テレフタル酸あるいはイソフタル酸あるいはその混
合物を、ビスフェノールAに対して共重合比5〜45m
ol%で共重合させたビスフェノールAの共重合体であ
るところの、平均分子量30000以上かつガラス転移
点温度150℃以上の芳香族ポリエステルカーボネート
からなる、面内光学等方性のポリマーフィルムを、基板
上に光学補償機能を有する光学層を形成してなる光学補
償フィルムにおける基板として用いることを特徴として
いるあるいは本発明の光学補償フィルム用基板は、パー
ヒドロイソホロン骨格あるいはフルオレン骨格からなる
ビスフェノール成分、およびテレフタル酸あるいはイソ
フタル酸あるいはその混合物を、ビスフェノールAに対
して共重合比5〜30mol%で共重合させた、ビスフ
ェノールAの共重合体からなる平均分子量30000以
上かつガラス転移温度150℃以上の芳香族ポリエステ
ルカーボネートのポリマーフィルムを、基板として用い
ることを特徴としている。
Alternatively, in the substrate for an optical compensation film of the present invention, a copolymerization ratio of terephthalic acid, isophthalic acid or a mixture thereof with bisphenol A is 5 to 45 m.
The in-plane optically isotropic polymer film made of an aromatic polyester carbonate having an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C. or more, which is a copolymer of bisphenol A copolymerized with ol%, is used as a substrate. A substrate for an optical compensation film, which is characterized in that it is used as a substrate in an optical compensation film having an optical layer having an optical compensation function thereon, or a substrate for an optical compensation film of the present invention is a bisphenol component composed of a perhydroisophorone skeleton or a fluorene skeleton, and Aromatic terephthalic acid, isophthalic acid, or a mixture thereof, which is copolymerized with bisphenol A at a copolymerization ratio of 5 to 30 mol% and has an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C or more. Polyester carbonate The Rimmer films, characterized by using as the substrate.

【0012】ところで、本発明の光学補償フィルム用基
板には、耐熱性としての寸法安定性が要求される。これ
は、高分子液晶等光学補償層を該基板上に形成させる製
造工程における、高温処理等に耐えるだけの寸法安定
性、および液晶表示装置等に使用された場合での温度環
境下での寸法安定性である。そしてこの寸法安定性を、
必要な光学特性を備えつつ達成することが要求されてい
る。
By the way, the optical compensation film substrate of the present invention is required to have dimensional stability as heat resistance. This is because the dimensional stability that can withstand high-temperature treatment in the manufacturing process of forming an optical compensation layer such as a polymer liquid crystal on the substrate, and the size under a temperature environment when used in a liquid crystal display device or the like. Stability. And this dimensional stability,
There is a demand to achieve it while providing the required optical properties.

【0013】この要求特性を満足させるための光学補償
フィルム用基板に必要な物性について検討したところ、
ポリカーボネートにおいてガラス転移温度が150℃以
上であればかかる要求特性を満足することが判った。す
なわち光学補償フィルム用基板のガラス転移温度が15
0℃以上であれば、光学補償フィルム製造プロセスにお
ける高分子液晶等光学層の基板上への塗工工程、および
熱処理工程等に十分耐えることができる。さらに、液晶
表示装置等に用いられた際の環境にも耐えることができ
る。
When the physical properties required for the substrate for the optical compensation film to satisfy the required characteristics were examined,
It has been found that the required properties are satisfied when the glass transition temperature of the polycarbonate is 150 ° C. or higher. That is, the glass transition temperature of the substrate for the optical compensation film is 15
If the temperature is 0 ° C. or higher, it can sufficiently withstand the step of coating an optical layer such as a polymer liquid crystal on a substrate and the heat treatment step in the optical compensation film manufacturing process. Furthermore, it can withstand the environment when used in a liquid crystal display device or the like.

【0014】そしてそのためには光学補償フィルム用基
板が、非ビスフェノールA骨格からなるビスフェノール
成分を、ビスフェノールAに対して共重合比5〜30m
ol%で共重合させたビスフェノールAの共重合体であ
るところの、平均分子量30000以上の芳香族ポリカ
ーボネートからなる、面内光学等方性のポリマーフィル
ムであることが必要となる。
For that purpose, the substrate for the optical compensation film comprises a bisphenol component having a non-bisphenol A skeleton and a bisphenol A copolymerization ratio of 5 to 30 m.
It is necessary to be an in-plane optically isotropic polymer film made of an aromatic polycarbonate having an average molecular weight of 30,000 or more, which is a copolymer of bisphenol A copolymerized with ol%.

【0015】あるいは光学補償フィルム用基板が、テレ
フタル酸あるいはイソフタル酸あるいはその混合物を、
ビスフェノールAに対して共重合比5〜45mol%で
共重合させたビスフェノールAの共重合体であるところ
の、平均分子量30000以上の芳香族ポリエステルカ
ーボネートからなる、面内光学等方性のポリマーフィル
ムであることが必要となる。
Alternatively, the substrate for the optical compensation film contains terephthalic acid, isophthalic acid, or a mixture thereof.
An in-plane optically isotropic polymer film comprising an aromatic polyester carbonate having an average molecular weight of 30,000 or more, which is a copolymer of bisphenol A copolymerized with bisphenol A at a copolymerization ratio of 5 to 45 mol%. It is necessary to have it.

【0016】あるいは光学補償フィルム用基板が、パー
ヒドロイソホロン骨格あるいはフルオレン骨格からなる
ビスフェノール成分、およびテレフタル酸あるいはイソ
フタル酸あるいはその混合物を、ビスフェノールAに対
して共重合比5〜30mol%で共重合させた、ビスフ
ェノールAの共重合体からなる平均分子量30000以
上の芳香族ポリエステルカーボネートのポリマーフィル
ムであることが必要となる。
Alternatively, the optical compensation film substrate is obtained by copolymerizing a bisphenol component having a perhydroisophorone skeleton or a fluorene skeleton, and terephthalic acid or isophthalic acid or a mixture thereof with a bisphenol A copolymerization ratio of 5 to 30 mol%. In addition, it is necessary to use a polymer film of an aromatic polyester carbonate having an average molecular weight of 30,000 or more, which is made of a bisphenol A copolymer.

【0017】その際平均分子量が30000未満では、
ガラス転移温度を150℃以上とすることが困難であ
り、その結果熱的耐久性に問題が生じる。ここで本発明
における平均分子量とは、数平均分子量のことであり、
GPC等の公知の測定手段により決定される。ここでは
数平均分子量の分布最大値を平均分子量として定めるだ
けであり、分子量の分布状態などについては何等制約は
無いものとする。
At that time, when the average molecular weight is less than 30,000,
It is difficult to set the glass transition temperature to 150 ° C. or higher, resulting in a problem in thermal durability. The average molecular weight in the present invention is a number average molecular weight,
It is determined by a known measuring means such as GPC. Here, only the maximum distribution of the number average molecular weight is determined as the average molecular weight, and there is no restriction on the distribution state of the molecular weight.

【0018】なお上記の芳香族ポリカーボネート共重合
体とは、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を5
〜30mol%含み、下記一般式(2)で示される繰り
返し単位を95〜70mol%含むものである。
The above-mentioned aromatic polycarbonate copolymer has 5 repeating units represented by the following general formula (1).
˜30 mol% and 95 to 70 mol% of the repeating unit represented by the following general formula (2).

【0019】[0019]

【化1】 Embedded image

【0020】[0020]

【化2】 Embedded image

【0021】ただし前記一般式(1)において、R1
4 は水素原子またはメチル基である。このメチル基に
は、ガラス転移点温度を低下させずに溶解性を上げる効
果がある。またXは、炭素数5〜10のシクロアルキレ
ン基、炭素数7〜15のアラアルキレン基、あるいは炭
素数1〜5のハロアルキレン基である。
However, in the general formula (1), R 1 to
R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. This methyl group has the effect of increasing the solubility without lowering the glass transition temperature. X is a cycloalkylene group having 5 to 10 carbon atoms, an araalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, or a haloalkylene group having 1 to 5 carbon atoms.

【0022】なおXはより具体的には、シクロアルキレ
ン基として1,1−シクロペンチレン、1,1−シクロ
ヘキシレン、1,1−(3,3,5−トリメチル)シク
ロヘキシレン、ノルボルナン−2,2−ジイル等、アラ
アルキレン基としては、フェニルメチレン、ジフェニル
メチレン、1,1−(1−フェニル)エチレン、9,9
−フルオレニレン等、ハロアルキレン基としては、2,
2−ヘキサフルオロプロピレン、2,2−(1,1,
3,3−テトラフルオロ−1,3−ジクロロ)プロピレ
ン等が好適に用いられる。これらは一種類でもよく二種
類以上でも良い。
More specifically, X is, as a cycloalkylene group, 1,1-cyclopentylene, 1,1-cyclohexylene, 1,1- (3,3,5-trimethyl) cyclohexylene, norbornane-2. , 2-diyl and the like, araalkylene groups include phenylmethylene, diphenylmethylene, 1,1- (1-phenyl) ethylene, 9,9.
-As a haloalkylene group such as fluorenylene, 2,
2-hexafluoropropylene, 2,2- (1,1,
3,3-Tetrafluoro-1,3-dichloro) propylene and the like are preferably used. These may be one kind or two or more kinds.

【0023】上記したビスフェノールから得られるポリ
カーボネートは、環構造に由来する剛直性のために、ガ
ラス転移点温度を上げる効果がある。
The polycarbonate obtained from the above-mentioned bisphenol has the effect of raising the glass transition temperature because of the rigidity derived from the ring structure.

【0024】これらによって光学特性としては、レター
デーション値が20nm以下、遅相軸角度分布の絶対値
が15°以下、かつヘイズ値が0.8%以下と言う特性
を備えつつ、寸法安定性としては120℃で1時間の熱
処理後でも0.10%以下であり、かつ150℃で30
分の熱処理後でも0.15%以下であると言う特性を得
ることができる。
As a result of these, as optical characteristics, the retardation value is 20 nm or less, the absolute value of the slow axis angle distribution is 15 ° or less, and the haze value is 0.8% or less. Is 0.10% or less even after heat treatment at 120 ° C for 1 hour, and at 30 ° C at 30 ° C.
Even after the heat treatment for a minute, it is possible to obtain the characteristic of being 0.15% or less.

【0025】なおレターデーションとは、フィルム面内
の屈折率異方性Δn、および膜厚d(nm)の積Δn・
d(nm)で表される。通常高分子フィルムはレターデ
ーションの波長依存性があり、測定波長400nmから
800nmにおいて前記したレターデーション値および
遅相軸角度分布であることが好ましいが、本発明での値
は590nmで測定した値により定義した。
The retardation is the product of the refractive index anisotropy Δn in the film plane and the film thickness d (nm) Δn ·
It is represented by d (nm). Usually, a polymer film has wavelength dependence of retardation, and it is preferable that the retardation value and the slow axis angle distribution are in the measurement wavelength of 400 nm to 800 nm. However, the value in the present invention depends on the value measured at 590 nm. Defined.

【0026】またレターデーション値および遅相軸角度
分布は、公知の測定技術である回転検光子法や偏光変調
法等により測定されるが、本測定では低リターデーショ
ン値を取り扱うことから低リターデーション値において
精度の良い測定法を選択することが好ましい。なお、本
測定においては偏光変調法を測定原理とする日本分光
(株)製の多波長複屈折率測定装置M−150で測定し
た。
The retardation value and the slow axis angle distribution are measured by a known measuring technique such as a rotation analyzer method and a polarization modulation method. In this measurement, since a low retardation value is handled, the low retardation value is handled. It is preferable to select an accurate measurement method for the values. In this measurement, a multi-wavelength birefringence measuring device M-150 manufactured by JASCO Corporation, which uses the polarization modulation method as a measurement principle, was used.

【0027】また寸法安定性は、幅1cm、長さ10c
mのサイズのフィルムサンプルをそれぞれフィルムの流
れ方向と幅方向に切り出し、電子マイクロメーターで長
さを精密に測定した後、所定の温度と時間で処理して更
に長さを精密に測定し、長さの差を元の長さで割った数
字を%で表し寸法安定性と定義した。
The dimensional stability is 1 cm in width and 10 c in length.
m size film samples are cut in the film flow direction and width direction respectively, the length is precisely measured with an electronic micrometer, and the length is precisely measured by processing at a predetermined temperature and time. The difference in length was divided by the original length, and the value was expressed as% and defined as dimensional stability.

【0028】前述の本発明における非ビスフェノールA
骨格からなるビスフェノール成分としては、パーヒドロ
イソホロン骨格あるいはフルオレン骨格からなることが
好ましい。特に好ましいパーヒドロイソホロン骨格およ
びフルオレン骨格を形成せしめるモノマー構造を、下記
一般式(3)と一般式(4)に示す。
The above-mentioned non-bisphenol A in the present invention
The bisphenol component having a skeleton preferably has a perhydroisophorone skeleton or a fluorene skeleton. Particularly preferred monomer structures for forming the perhydroisophorone skeleton and the fluorene skeleton are shown in the following general formulas (3) and (4).

【0029】[0029]

【化3】 Embedded image

【0030】[0030]

【化4】 [Chemical 4]

【0031】パーヒドロイソホロン骨格を有するポリカ
ーボネート共重合体は、特に光学特性において、フルオ
レン骨格を有するポリカーボネート共重合体に比べて短
波長領域における吸収係数が小さいので透明性に優れて
いる。一方、フルオレン骨格を有するポリカーボネート
共重合体は、特に耐熱性の点でパーヒドロイソホロン骨
格を有するポリカーボネート共重合体に比べて優れてい
る。これらの選択は要求特性に応じて選択される。
The polycarbonate copolymer having a perhydroisophorone skeleton is excellent in transparency because it has a smaller absorption coefficient in a short wavelength region than the polycarbonate copolymer having a fluorene skeleton particularly in optical characteristics. On the other hand, the polycarbonate copolymer having a fluorene skeleton is superior to the polycarbonate copolymer having a perhydroisophorone skeleton particularly in heat resistance. These choices are selected according to the required characteristics.

【0032】光学補償フィルム用基板は、その基板上に
高分子液晶等の光学層が形成される。このことから、よ
り光学的に光学層に影響を与えないことが望まれる。す
なわち、より異方性のないことおよびより透明であるこ
とが好ましい。すなわちフィルム面内のレターデーショ
ンは、15nm以下であることがより好ましい。フィル
ム面内のレターデーションが15nm以下であれば、人
間の視覚的に判別できる限界以下であることが判ってい
る。そしてさらにより好ましくは、レターデーション値
を10nm以下とすることである。
The optical compensation film substrate has an optical layer of polymer liquid crystal or the like formed on the substrate. Therefore, it is desired that the optical layer is not affected optically. That is, it is preferable that there is less anisotropy and that it is more transparent. That is, the retardation in the plane of the film is more preferably 15 nm or less. It is known that if the retardation in the film surface is 15 nm or less, it is below the limit that can be visually discriminated by humans. And even more preferably, the retardation value is 10 nm or less.

【0033】また、例えば高分子液晶等の光学層におけ
る光学軸と本発明における光学補償フィルム用基板の遅
相軸とを適切な角度により合わせ、より高度な光学特性
を発現させようとする場合や、少なくとも2枚以上の光
学補償フィルムを1つの液晶表示装置において使用する
場合等においては、光学補償フィルム用基板の遅相軸の
方向は非常に重要な光学特性となる。
In addition, for example, when the optical axis of the optical layer such as a polymer liquid crystal is aligned with the slow axis of the substrate for the optical compensation film of the present invention at an appropriate angle, a higher optical property may be exhibited. In the case of using at least two or more optical compensation films in one liquid crystal display device, the direction of the slow axis of the substrate for the optical compensation film becomes a very important optical characteristic.

【0034】例えば2枚の該光学補償フィルム用基板を
用いた光学補償フィルムを、遅相軸が平行となるように
積層した場合、2枚の光学補償フィルム用基板が光学特
性に与える影響は、それぞれの該基板におけるレターデ
ーションの和を与える結果となる。逆に遅相軸を直交さ
せた場合には差で表される。つまり同じ面内レターデー
ションを持っていたとしても、このように他の光学素子
との貼り合わせ角度により違った結果を与えてしまう。
つまり、レターデーションが同じでも面内で局所的に遅
相軸が異なっていた場合などには、光学特性を面内均一
とすることができない。
For example, when the optical compensation films using the two optical compensation film substrates are laminated so that the slow axes are parallel to each other, the influence of the two optical compensation film substrates on the optical characteristics is as follows. The result is to give the sum of retardations on each of the substrates. On the contrary, when the slow axis is made orthogonal, it is represented by the difference. That is, even if they have the same in-plane retardation, different results are given depending on the bonding angle with other optical elements.
That is, even if the retardation is the same, if the slow axes are locally different in the plane, the optical characteristics cannot be made uniform in the plane.

【0035】さらに、通常、光学補償フィルム用基板は
用途に応じて適当な大きさに裁断され使用されるため、
裁断における損失を最小にするためにも遅相軸はある範
囲内でより揃っていることが好ましい。
Further, since the substrate for the optical compensation film is usually cut into a suitable size according to the application, it is used.
In order to minimize the loss in cutting, it is preferable that the slow axes are more aligned within a certain range.

【0036】こうした遅相軸角度分布は、フィルムの流
れ方向を中心に上記振れ幅である必要はなく、フィルム
面内のある方向を中心として上記振れ幅であれば良い。
この方向は通常フィルム製膜工程、特に乾燥工程におけ
るフィルムの張力のかかり具合により決定される。これ
は後工程でフィルムを適当な大きさにカットして使用す
るためである。そして±10°以上の遅相軸角度分布で
はレターデーションが15nm以下であっても、使用法
によっては面内の不均一性が目立つ場合もある。こうし
たことから、遅相軸角度分布は±10°以下であること
がより好ましく、さらにより好ましくは遅相軸角度分布
を±7.5nm以下とすることである。
Such a slow axis angle distribution does not have to have the above-mentioned swing width around the film flow direction, but may have the above-mentioned swing width around a certain direction in the film plane.
This direction is usually determined by the tension applied to the film in the film forming process, particularly in the drying process. This is because the film is cut into an appropriate size and used in the subsequent step. In the slow axis angle distribution of ± 10 ° or more, even if the retardation is 15 nm or less, in-plane nonuniformity may be noticeable depending on the usage. Therefore, the slow axis angle distribution is more preferably ± 10 ° or less, and even more preferably the slow axis angle distribution is ± 7.5 nm or less.

【0037】光学補償フィルム用基板における光学特性
としては、透明であることも要求される。透明性は透過
率やヘイズ値によって評価される。このヘイズ値は、光
学補償フィルム用基板における光の散乱をも表現する。
しかしながらフィルムの不純物等による多重散乱は、偏
光を解消してしまう。特に偏光板を利用した液晶表示装
置において使用する場合には、偏光特性を変化させてし
まう。このためヘイズ値はできるだけ低い値に抑えるこ
とが好ましい。すなわち、ヘイズ値は0.6%以下であ
ることがより好ましい。
The optical characteristics of the optical compensation film substrate are required to be transparent. Transparency is evaluated by the transmittance and the haze value. This haze value also expresses the scattering of light on the substrate for the optical compensation film.
However, multiple scattering due to impurities in the film cancels the polarized light. In particular, when it is used in a liquid crystal display device using a polarizing plate, the polarization characteristics are changed. Therefore, it is preferable to keep the haze value as low as possible. That is, the haze value is more preferably 0.6% or less.

【0038】また透過率によっても評価は可能である
が、この場合には測定波長400nmから800nmに
おいて、透過率が85%以上であることが好ましく、よ
り好ましくは90%以上である。
The evaluation can be made by the transmittance, but in this case, the transmittance is preferably 85% or more, more preferably 90% or more in the measurement wavelength of 400 nm to 800 nm.

【0039】ポリカーボネートからフィルムを製膜する
方法としては、溶融押し出し法と溶液流延製膜法の2つ
の方法が、一般によく知られている。溶液流延製膜法
は、生産性においては溶融押し出し法に劣る。しかしな
がら、製膜されたフィルムに生じる欠点の少なさの点で
は、溶融押し出し法に比較してはるかに優れている。な
おここでの欠点とは、主に外観欠点となる異物などの異
常を云う。例えば、ダイライン、ゲル化物、フィッシュ
アイや炭化物は、溶融押し出しフィルム固有の欠点とい
うことができ、本発明のように光学補償フィルム用基板
として使用するためには、かかる欠点が少ないことが望
まれる。従って本発明の光学補償フィルム用基板におけ
るポリマーフィルムは、溶液流延法によって製膜するこ
とが好ましい。
As a method for forming a film from polycarbonate, two methods, a melt extrusion method and a solution casting film forming method, are generally well known. The solution casting film formation method is inferior to the melt extrusion method in productivity. However, it is far superior to the melt-extrusion method in that it has few defects in the formed film. In addition, the defect here mainly refers to an abnormality such as a foreign substance that becomes a defect in appearance. For example, die lines, gelled products, fish eyes, and carbides can be said to be defects inherent in melt-extruded films, and it is desired that such defects be small for use as a substrate for an optical compensation film as in the present invention. Therefore, the polymer film in the optical compensation film substrate of the present invention is preferably formed by a solution casting method.

【0040】この溶液流延法は、溶媒にポリマーを溶解
しダイから平面基板上に流延して製膜する方法であり、
溶媒に可溶であればほとんどのポリマーをフィルム化す
ることができる。このために溶液流延法であれば、ポリ
カーボネートの共重合体において平均分子量で〜800
00程度の樹脂でもフィルム化することができる。平均
分子量を高くすることは、ガラス転移温度を上昇させ熱
耐久性等に好ましい結果を与える。また、製造工程にお
いて溶融押し出し法では熱と張力がフィルムに作用する
程度が大きく、複屈折が大きくなるといった欠点がある
が、溶液流延法では影響が小さく、複屈折を低く抑える
ことが可能である。
The solution casting method is a method in which a polymer is dissolved in a solvent and cast from a die onto a flat substrate to form a film.
Most polymers can be formed into a film if they are soluble in a solvent. Therefore, if the solution casting method is used, the average molecular weight of the polycarbonate copolymer is about 800
A resin of about 00 can be formed into a film. Increasing the average molecular weight raises the glass transition temperature and gives favorable results such as thermal durability. Further, in the manufacturing process, the melt extrusion method has a drawback that heat and tension act on the film to a large extent and the birefringence becomes large, but the solution casting method has a small influence and can suppress the birefringence to a low level. is there.

【0041】溶液製膜法で、複屈折を制御する因子とし
ては、ダイの特性、ベルトの状況、乾燥条件およびフィ
ルム張力と搬送条件等が挙げられるが、溶融押し出しに
比較して高重合度の樹脂が使用できることと温度条件が
比較的温和なために生産性良く優れた複屈折特性を有す
るポリマーフィルムを製造することができる。
Factors that control the birefringence in the solution casting method include the characteristics of the die, the condition of the belt, the drying conditions, the film tension and the transport conditions, and the like. Since the resin can be used and the temperature condition is relatively mild, it is possible to manufacture a polymer film having excellent birefringence characteristics with good productivity.

【0042】また、かかる方法によれば、必要に応じて
紫外線吸収剤、帯電防止剤等添加物をフィルムに添加す
る場合においても、製膜溶媒に可溶な材料を選択し適当
量混合してフィルムに機能を付加させることも可能であ
る。この場合、添加物は1種類である必要はなく2種類
以上であってもよい。
Further, according to this method, even when additives such as an ultraviolet absorber and an antistatic agent are added to the film, if necessary, a material soluble in the film-forming solvent is selected and mixed in an appropriate amount. It is also possible to add a function to the film. In this case, the additive does not have to be one kind and may be two or more kinds.

【0043】溶液製膜で前記したポリカーボネート共重
合体を製膜した場合には、フィルム中に製膜に使用した
溶媒が残留する場合がある。残留溶媒はフィルムを可塑
化させ、ガラス転移点温度の低下および機械特性の低下
等をもたらす。このため残留溶媒は完全に除去すること
が好ましいが、生産性の点から残留溶媒量は0.3重量
%以下であることが好ましい。
When the above-mentioned polycarbonate copolymer is formed by solution film formation, the solvent used for film formation may remain in the film. The residual solvent plasticizes the film, resulting in a decrease in glass transition temperature and a decrease in mechanical properties. Therefore, it is preferable to completely remove the residual solvent, but from the viewpoint of productivity, the residual solvent amount is preferably 0.3% by weight or less.

【0044】溶媒としてはメチレンクロライド等公知の
ものを使用できる。ただし、この際には溶液安定性や製
膜性等を考慮し溶媒を選択する必要がある。残留溶媒量
を低減させる方法は、主に加熱処理であるが、効果と経
済性を考慮した場合にはメチレンクロライド等の低沸点
溶媒を溶液製膜の主溶媒にしておくことが好ましい。
As the solvent, known ones such as methylene chloride can be used. However, in this case, it is necessary to select a solvent in consideration of solution stability, film forming property and the like. The method of reducing the amount of residual solvent is mainly heat treatment, but in consideration of effects and economy, it is preferable to use a low boiling point solvent such as methylene chloride as the main solvent for solution casting.

【0045】この残留溶媒の測定法は公知の方法が利用
できるが、例えばフィルムを完全に乾燥させ重量変化よ
り測定する重量法、核磁気共鳴スペクトル法(NMR
法)等により測定される。
As a method for measuring the residual solvent, a known method can be used. For example, a weight method in which a film is completely dried and a weight change is measured, and a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR) is used.
Method) etc.

【0046】光学補償フィルム用基板のガラス転移温度
が150℃以上であれば、光学補償フィルム製造プロセ
スにおける高分子液晶等光学層の基板上への塗工工程、
および熱処理工程等に十分耐えることができる。さら
に、液晶表示装置等に用いられた際の環境にも耐えるこ
とができる。
If the glass transition temperature of the substrate for the optical compensation film is 150 ° C. or higher, the step of coating the optical layer such as polymer liquid crystal on the substrate in the optical compensation film manufacturing process,
And it can endure a heat treatment process etc. sufficiently. Furthermore, it can withstand the environment when used in a liquid crystal display device or the like.

【0047】また、光学補償フィルム製造プロセスにお
いて要求される寸法安定性は、100℃以上の温度でフ
ィルムの流れ方向と幅方向が均等な熱収縮をすることが
望まれる。そして基板の寸法安定性としては、120℃
で1時間熱処理後フィルムの流れ方向と幅方向のそれぞ
れが0.05%以下であり、かつ150℃で30分の熱
処理後のフィルムの流れ方向と幅方向のそれぞれが0.
1%であることがより好ましい。ロールツウロールで光
学補償フィルム用基板上に光学層を塗工あるいは転写等
により形成するという製造プロセスを用いる場合などに
おいて、基板上に良い特性の光学層を均一に得るために
は、この条件は重要となる。
In addition, the dimensional stability required in the optical compensation film manufacturing process is such that at the temperature of 100 ° C. or higher, the film is heat-shrinked uniformly in the machine direction and the width direction. The dimensional stability of the substrate is 120 ° C.
After heat treatment for 1 hour, the flow direction and width direction of the film are each 0.05% or less, and after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes, the flow direction and width direction of the film are both 0.
It is more preferably 1%. In order to uniformly obtain an optical layer having good characteristics on the substrate in the case of using a manufacturing process in which an optical layer is formed on the substrate for an optical compensation film by roll-to-roll by coating or transfer, etc., this condition is required. It becomes important.

【0048】ところで耐湿性については、該フィルムが
偏光板等他の光学素子との貼り合わせにより使用される
ことから特に規定しないが、温度60℃で湿度90%の
環境で1時間処理後、該基板の寸法変化は上記特性を満
足していることが好ましい。
Moisture resistance is not specified because the film is used by bonding it to other optical elements such as a polarizing plate, but after treatment for 1 hour in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%, The dimensional change of the substrate preferably satisfies the above characteristics.

【0049】また、光学補償フィルム用基板である前記
したポリカーボネート共重合体フィルムの厚みは、光学
補償フィルム製造プロセスや、他の位相差板、偏光板や
液晶セルとの貼り合わせ工程におけるハンドリング性、
レターデーションの大きさ等を考慮に入れると、50〜
200μmであることが好ましい。
Further, the thickness of the above-mentioned polycarbonate copolymer film which is the substrate for the optical compensation film has a handling property in the process of manufacturing the optical compensation film and the step of laminating with another retardation plate, a polarizing plate or a liquid crystal cell,
Considering the size of the retardation, etc.
It is preferably 200 μm.

【0050】厚みが50μm未満では、フィルムの張力
が低下し、光学補償フィルム製造工程およびその後の偏
光板等との貼り合わせ工程等で困難が生じる場合があ
る。また200μmより厚い場合には、光学特性、例え
ばレターデーションを小さくすること等が困難となり、
さらに溶液流延法による溶媒乾燥工程に長時間を要する
等生産性が低下する場合がある。
When the thickness is less than 50 μm, the tension of the film is lowered, which may cause difficulties in the optical compensation film manufacturing process and the subsequent laminating process with a polarizing plate or the like. If it is thicker than 200 μm, it becomes difficult to reduce optical properties such as retardation.
Further, the solvent drying step by the solution casting method may take a long time, which may reduce the productivity.

【0051】また基板の厚みムラは、基板上に形成され
る高分子液晶等光学層の膜厚に影響を与えることから、
基板の厚みムラは極力小さくすることが好ましい。すな
わち厚みムラは±5%以内であることが好ましい。さら
により好ましくは±2.5%以内である。またこの膜厚
ムラは局所的に急激に膜厚が変化することは好ましくな
い。なお、上記膜厚の測定は光学的な非接触な測定法
や、機械的な接触による測定法が用いられるが、正確に
測定できるならばいかなる方法でも構わない。
Further, since the unevenness of the thickness of the substrate affects the thickness of the optical layer such as polymer liquid crystal formed on the substrate,
It is preferable to minimize the thickness unevenness of the substrate. That is, the thickness unevenness is preferably within ± 5%. Even more preferably, it is within ± 2.5%. Further, it is not preferable that the unevenness of the film thickness locally and rapidly changes. The film thickness can be measured by an optical non-contact measurement method or a mechanical contact measurement method, but any method can be used as long as it can be accurately measured.

【0052】これら今まで記述してきたポリカーボネー
ト共重合体フィルムの特性は、フィルムのある部分のみ
で達成されているのではなく、フィルムの全面で達成さ
れていなければならない。フィルムの流れ方向と幅方向
での特性の均一化が本用途での重要項目となる。これは
本用途である光学補償フィルム用基板として使用する際
には、液晶パネルサイズに合わせてカットする必要があ
り、フィルムの流れ方向と幅方向での均一性が、生産性
に大きく影響を与えるからである。
The properties of the polycarbonate copolymer films described thus far must be achieved not only on certain parts of the film, but on the entire surface of the film. Uniformity of the properties in the film flow direction and width direction is an important item for this application. When using it as a substrate for an optical compensation film, which is this application, it is necessary to cut it according to the size of the liquid crystal panel, and the uniformity in the film flow direction and width direction greatly affects productivity. Because.

【0053】また、光学補償フィルム用基板上には、各
種の光学層を形成することができる。例えば、液晶状態
でネマチック配向する高分子液晶を、該基板上に形成し
ても良い。さらに、粘土系鉱物からなる無機層状化合物
をポリビニールアルコール等非イオン性親水性樹脂に分
散させたものを、該基板上に形成させても良い。
Various optical layers can be formed on the substrate for the optical compensation film. For example, a polymer liquid crystal that is nematically aligned in a liquid crystal state may be formed on the substrate. Furthermore, an inorganic layered compound composed of a clay mineral may be dispersed on a nonionic hydrophilic resin such as polyvinyl alcohol to form it on the substrate.

【0054】こうした光学層を形成する際、溶媒を使う
ためポリカーボネート共重合体フィルムに耐溶剤性を付
与させたい場合には、光学補償フィルム用基板の少なく
とも一方に、耐溶剤層を形成させることが好ましい。こ
の耐溶剤層は、公知の材料例えばシリコン樹脂系の架橋
構造を有するもの、アクリル系樹脂の架橋構造体および
エポキシ樹脂の架橋構造体等を公知の塗工および硬化方
法で形成させることができる。耐溶剤性は光学補償フィ
ルム基板上に光学層を形成させるプロセスにおける溶剤
やその他化学薬品に対する耐久性を付与することが目的
であり、メチレンクロライド、アセトン、N−メチルピ
ロリドン等の有機薬品に対する安定性を十分に確保でき
る材料と硬化条件の設定をすることが好ましい。
When a solvent is used to form such an optical layer, if a solvent resistance is desired to be imparted to the polycarbonate copolymer film, a solvent resistant layer may be formed on at least one of the optical compensation film substrates. preferable. This solvent resistant layer can be formed by a known coating and curing method using a known material, for example, a material having a silicone resin-based crosslinked structure, an acrylic resin-based crosslinked structure, an epoxy resin-based crosslinked structure, or the like. Solvent resistance is intended to impart durability to solvents and other chemicals in the process of forming an optical layer on an optical compensation film substrate, and stability to organic chemicals such as methylene chloride, acetone and N-methylpyrrolidone. It is preferable to set materials and curing conditions that can sufficiently secure the above.

【0055】また、上記光学層等を形成する際、基板と
の接着性を向上させるためには、接着層を該基板の少な
くとも片側に設けることが好ましい。この接着層として
は公知のものが使用できるが、これは光学層に用いられ
る材質により適切に選択される。また、この密着性向上
のためには、薬品、UV、オゾン、プラズマ処理等表面
性を改質するといったことで対応してもよい。
Further, when forming the above-mentioned optical layer and the like, it is preferable to provide an adhesive layer on at least one side of the substrate in order to improve the adhesiveness to the substrate. A known adhesive layer can be used as this adhesive layer, but this is appropriately selected depending on the material used for the optical layer. Further, in order to improve the adhesiveness, the surface property may be modified by chemicals, UV, ozone, plasma treatment or the like.

【0056】さらに、光学層を配向させるためには、配
向膜を形成しておくことが好ましい。この配向膜は前記
した耐溶剤層の上に形成しても良いし直接基板上に形成
させても良い。この配向膜は公知の材料であるポリイミ
ド、ポリビニールアルコール等を、スピンコート法等公
知の方法で形成させ、ラビング処理等を行うことによっ
て作製させる。
Further, in order to orient the optical layer, it is preferable to form an orientation film. This alignment film may be formed on the solvent resistant layer described above or may be formed directly on the substrate. This alignment film is formed by forming a known material such as polyimide or polyvinyl alcohol by a known method such as a spin coating method and performing a rubbing treatment or the like.

【0057】すなわち本発明の光学補償フィルム用基板
においては、ポリマーフィルムの少なくとも一方の面
に、耐溶剤層および/または接着層および/または配向
膜が施されていることが好ましい。
That is, in the substrate for an optical compensation film of the present invention, it is preferable that at least one surface of the polymer film is provided with a solvent resistant layer and / or an adhesive layer and / or an alignment film.

【0058】[0058]

【実施例1】ビスフェノールAとパーヒドロイソホロン
骨格を有するビスフェノールとを、ホスゲン法を用いて
共重合して、平均分子量35000の芳香族ポリカーボ
ネート樹脂を得た。その際の共重合比は、ビスフェノー
ルA成分に対して、パーヒドロイソホロン骨格を有する
ビスフェノールを15mol%とした。また、得られた
樹脂のガラス転移点温度は、164℃であった。
Example 1 Bisphenol A and bisphenol having a perhydroisophorone skeleton were copolymerized by a phosgene method to obtain an aromatic polycarbonate resin having an average molecular weight of 35,000. The copolymerization ratio at that time was 15 mol% of bisphenol having a perhydroisophorone skeleton with respect to the bisphenol A component. The glass transition temperature of the obtained resin was 164 ° C.

【0059】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が14重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度125℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
9%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 14% by weight, and at that time, it was peeled from the polyester film. The peeled film was adjusted to 0.0% residual solvent in a drying oven at a temperature of 125 ° C. while keeping the vertical and horizontal tension balance.
Dry to 9%.

【0060】こうして得られたフィルムの厚みは106
μmであり、幅方向の厚みムラは±3μmであった。フ
ィルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.5
%であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱
処理後が0.02%であり、150℃で30分の熱処理
後が0.06%であった。測定光590nmにおけるレ
ターデーション値は幅方向で7±2nmであり、流れ方
向を基準とした遅相軸の分布は±6°であった。
The thickness of the film thus obtained is 106.
The thickness unevenness in the width direction was ± 3 μm. The haze value of the film is 0.5 as measured by a haze meter.
%Met. The dimensional stability was 0.02% after heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.06% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 7 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 6 °.

【0061】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリイミドからなる配向膜を形成させ、フ
ィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicone resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyimide was formed thereon, and a rubbing treatment was performed in the film flow direction.

【0062】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比60/5)に対し7重量%溶かした。この溶液を、
前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、140
℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモノド
メインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, 7% by weight of a polyester type polymer liquid crystal which is a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/5). This solution
It was applied on the above-mentioned substrate with an alignment film. After application, 140
It heat-processed at 1 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0063】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
で測定したところそのねじれ角は250°であった。ま
た、80℃100時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観
察等行ったが、均一なモノドメインのねじれネマチック
構造を有しており初期値とほとんど変化がなかった。
When the optical element thus obtained was measured by ellipsometry, the twist angle was 250 °. Further, a heat resistance test at 80 ° C. for 100 hours was carried out, and observation under a polarizing microscope and the like were carried out. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0064】[0064]

【実施例2】ビスフェノールAとフルオレン骨格を有す
るビスフェノールとを、ホスゲン法を用いて共重合し
て、平均分子量36000の芳香族ポリカーボネート樹
脂を得た。その際の共重合比は、ビスフェノールA成分
に対して、フルオレン骨格を有するビスフェノールを1
6mol%とした。また、得られた樹脂のガラス転移点
温度は、170℃であった。
Example 2 Bisphenol A and bisphenol having a fluorene skeleton were copolymerized by the phosgene method to obtain an aromatic polycarbonate resin having an average molecular weight of 36000. The copolymerization ratio at that time was 1 for bisphenol having a fluorene skeleton with respect to bisphenol A component.
It was 6 mol%. The glass transition temperature of the obtained resin was 170 ° C.

【0065】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が12重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度124℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
6%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 12% by weight, at which point it was peeled from the polyester film. The peeled film was adjusted to 0.0% residual solvent in a drying oven at a temperature of 124 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions.
Dry to 6%.

【0066】こうして得られたフィルムの厚みは99μ
mであり、幅方向の厚みムラは±3μmであった。フィ
ルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.4%
であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱処
理後が0.03%であり、150℃で30分の熱処理後
が0.07%であった。測定光590nmにおけるレタ
ーデーション値は幅方向で8±2nmであり、流れ方向
を基準とした遅相軸の分布は±7°であった。
The thickness of the film thus obtained is 99 μm.
The thickness unevenness in the width direction was ± 3 μm. The haze value of the film is 0.4% as measured by a haze meter.
Met. The dimensional stability was 0.03% after heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.07% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 8 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 7 °.

【0067】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリビニールアルコールからなる配向膜を
形成させ、フィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicone resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyvinyl alcohol was formed thereon and rubbed in the film flow direction.

【0068】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比60/12)に対し8重量%溶かした。この溶液
を、前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、1
50℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモ
ノドメインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, 8% by weight of a polyester type polymer liquid crystal which is a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/12). This solution was applied onto the above-mentioned substrate with an alignment film. After application 1
It heat-processed at 50 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0069】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
により633nmの測定波長で測定したところ、レター
デーションは360nmであった。また、80℃100
時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観察等行ったが、均
一なモノドメインのねじれネマチック構造を有しており
初期値とほとんど変化がなかった。
The optical element thus obtained was measured by an ellipsometry at a measurement wavelength of 633 nm, and the retardation was 360 nm. Also, 80 ℃ 100
A heat resistance test was conducted for a period of time, and observation with a polarizing microscope was conducted. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0070】[0070]

【実施例3】ビスフェノールAとテレフタル酸とを共重
合し、平均分子量33000の芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂を得た。その際の共重合比は、ビスフェノ
ールA成分に対して、テレフタル酸成分が23mol%
とした。また、得られた樹脂のガラス転移点温度は、1
66℃であった。
Example 3 Bisphenol A and terephthalic acid were copolymerized to obtain an aromatic polyester carbonate resin having an average molecular weight of 33,000. The copolymerization ratio at that time was 23 mol% of the terephthalic acid component with respect to the bisphenol A component.
And The glass transition temperature of the obtained resin is 1
It was 66 ° C.

【0071】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が15重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度127℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
5%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 15% by weight, at which point it was peeled from the polyester film. The peeled film was adjusted to a residual solvent content of 0.0 in a drying oven at a temperature of 127 ° C. while maintaining a vertical and horizontal tension balance.
Dry to 5%.

【0072】こうして得られたフィルムの厚みは109
μmであり、幅方向の厚みムラは±3μmであった。フ
ィルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.4
%であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱
処理後が0.04%であり、150℃で30分の熱処理
後が0.08%であった。測定光590nmにおけるレ
ターデーション値は幅方向で6±2nmであり、流れ方
向を基準とした遅相軸の分布は±6°であった。
The thickness of the film thus obtained is 109
The thickness unevenness in the width direction was ± 3 μm. The haze value of the film is 0.4 as measured by a haze meter.
%Met. The dimensional stability was 0.04% after heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.08% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 6 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 6 °.

【0073】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリイミドからなる配向膜を形成させ、フ
ィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicone resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyimide was formed thereon, and a rubbing treatment was performed in the film flow direction.

【0074】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比60/10)に対し9重量%溶かした。この溶液
を、前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、1
50℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモ
ノドメインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, 9% by weight of a polyester type polymer liquid crystal which is a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/10). This solution was applied onto the above-mentioned substrate with an alignment film. After application 1
It heat-processed at 50 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0075】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
で測定したところそのねじれ角は260°であった。ま
た、80℃100時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観
察等行ったが、均一なモノドメインのねじれネマチック
構造を有しており初期値とほとんど変化がなかった。
When the optical element thus obtained was measured by ellipsometry, the twist angle was 260 °. Further, a heat resistance test at 80 ° C. for 100 hours was carried out, and observation under a polarizing microscope and the like were carried out. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0076】[0076]

【実施例4】ビスフェノールAとイソフタル酸とを共重
合し、平均分子量36000の芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂を得た。その際の共重合比は、ビスフェノ
ールA成分に対して、イソフタル酸成分を20mol%
とした。また、得られた樹脂のガラス転移点温度は、1
68℃であった。
Example 4 Bisphenol A and isophthalic acid were copolymerized to obtain an aromatic polyester carbonate resin having an average molecular weight of 36000. The copolymerization ratio at that time was 20 mol% of the isophthalic acid component with respect to the bisphenol A component.
And The glass transition temperature of the obtained resin is 1
It was 68 ° C.

【0077】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が14重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度128℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
4%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 14% by weight, at which point it was peeled from the polyester film. The peeled film was treated with a residual solvent of 0.0% in a drying oven at a temperature of 128 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions.
Dry to 4%.

【0078】こうして得られたフィルムの厚みは101
μmであり、幅方向の厚みムラは±3μmであった。フ
ィルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.3
%であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱
処理後が0.03%であり、150℃で30分の熱処理
後が0.07%であった。測定光590nmにおけるレ
ターデーション値は幅方向で7±2nmであり、流れ方
向を基準とした遅相軸の分布は±8°であった。
The thickness of the film thus obtained is 101.
The thickness unevenness in the width direction was ± 3 μm. The haze value of the film is 0.3 as measured by a haze meter.
%Met. The dimensional stability was 0.03% after heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.07% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 7 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 8 °.

【0079】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリイミドからなる配向膜を形成させ、フ
ィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicone resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyimide was formed thereon, and a rubbing treatment was performed in the film flow direction.

【0080】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比60/11)に対し9重量%溶かした。この溶液
を、前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、1
50℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモ
ノドメインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, a polyester type polymer liquid crystal as a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in 9% by weight in phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/11). This solution was applied onto the above-mentioned substrate with an alignment film. After application 1
It heat-processed at 50 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0081】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
で測定したところそのねじれ角は245°であった。ま
た、80℃100時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観
察等行ったが、均一なモノドメインのねじれネマチック
構造を有しており初期値とほとんど変化がなかった。
When the optical element thus obtained was measured by ellipsometry, the twist angle was 245 °. Further, a heat resistance test at 80 ° C. for 100 hours was carried out, and observation under a polarizing microscope and the like were carried out. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0082】[0082]

【実施例5】パーヒドロイソホロン骨格からなるビスフ
ェノール、テレフタル酸、およびビスフェノールAとを
共重合して、平均分子量38000の芳香族ポリエステ
ルカーボネート樹脂を得た。その際の共重合比は、それ
ぞれ5:5:90(mol%)とした。また、得られた
樹脂のガラス転移点温度は、166℃であった。
Example 5 A bisphenol having a perhydroisophorone skeleton, terephthalic acid, and bisphenol A were copolymerized to obtain an aromatic polyester carbonate resin having an average molecular weight of 38,000. The copolymerization ratio at that time was 5: 5: 90 (mol%), respectively. The glass transition temperature of the obtained resin was 166 ° C.

【0083】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が17重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度129℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
4%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 17% by weight, at which point it was peeled from the polyester film. The peeled film was adjusted to 0.0% residual solvent in a drying oven at a temperature of 129 ° C. while maintaining a vertical and horizontal tension balance.
Dry to 4%.

【0084】こうして得られたフィルムの厚みは107
μmであり、幅方向の厚みムラは±3μmであった。フ
ィルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.3
%であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱
処理後が0.03%であり、150℃で30分の熱処理
後が0.08%であった。測定光590nmにおけるレ
ターデーション値は幅方向で5±2nmであり、流れ方
向を基準とした遅相軸の分布は±8°であった。
The thickness of the film thus obtained is 107.
The thickness unevenness in the width direction was ± 3 μm. The haze value of the film is 0.3 as measured by a haze meter.
%Met. The dimensional stability was 0.03% after the heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.08% after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 5 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 8 °.

【0085】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリイミドからなる配向膜を形成させ、フ
ィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicon resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyimide was formed thereon, and a rubbing treatment was performed in the film flow direction.

【0086】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比60/10)に対し10重量%溶かした。この溶液
を、前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、1
50℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモ
ノドメインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, a polyester type polymer liquid crystal which is a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in 10% by weight in phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/10). This solution was applied onto the above-mentioned substrate with an alignment film. After application 1
It heat-processed at 50 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0087】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
で測定したところそのねじれ角は265°であった。ま
た、80℃100時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観
察等行ったが、均一なモノドメインのねじれネマチック
構造を有しており初期値とほとんど変化がなかった。
When the optical element thus obtained was measured by ellipsometry, the twist angle was 265 °. Further, a heat resistance test at 80 ° C. for 100 hours was carried out, and observation under a polarizing microscope and the like were carried out. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0088】[0088]

【実施例6】フルオレン骨格からなるビスフェノール、
イソフタル酸、およびビスフェノールAとを共重合し
て、平均分子量39000の芳香族ポリエステルカーボ
ネート樹脂を得た。その際の共重合比は、それぞれ7:
5:88(mol%)とした。また、得られた樹脂のガ
ラス転移点温度は、168℃であった。
Example 6 Bisphenol having a fluorene skeleton,
By copolymerizing isophthalic acid and bisphenol A, an aromatic polyester carbonate resin having an average molecular weight of 39000 was obtained. The copolymerization ratio in that case is 7: respectively.
It was set to 5:88 (mol%). The glass transition temperature of the obtained resin was 168 ° C.

【0089】この樹脂を、メチレンクロライドに20重
量%溶解した。この溶液をダイコーティング法により、
厚さ175μmのポリエステルフィルム上に流延した。
これを乾燥炉によって残留溶媒が17重量%近くなるま
で乾燥し、その時点でポリエステルフィルムから剥離し
た。この剥離したフィルムを、縦横の張力バランスをと
りながら、温度130℃の乾燥炉中で残留溶媒が0.0
4%になるまで乾燥した。
20% by weight of this resin was dissolved in methylene chloride. This solution is die-coated,
It was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm.
This was dried in a drying oven until the residual solvent was close to 17% by weight, at which point it was peeled from the polyester film. The peeled film was adjusted to 0.0% residual solvent in a drying oven at a temperature of 130 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions.
Dry to 4%.

【0090】こうして得られたフィルムの厚みは104
μmであり、幅方向の厚みムラは±4μmであった。フ
ィルムのヘイズ値は、ヘイズメーターの測定値で0.4
%であった。また寸法安定性は、120℃で1時間の熱
処理後が0.02%であり、150℃で30分の熱処理
後が0.08%であった。測定光590nmにおけるレ
ターデーション値は幅方向で6±2nmであり、流れ方
向を基準とした遅相軸の分布は±7°であった。
The thickness of the film thus obtained is 104.
The thickness unevenness in the width direction was ± 4 μm. The haze value of the film is 0.4 as measured by a haze meter.
%Met. The dimensional stability was 0.02% after heat treatment at 120 ° C. for 1 hour and 0.08% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. The retardation value in the measurement light of 590 nm was 6 ± 2 nm in the width direction, and the distribution of the slow axis based on the flow direction was ± 7 °.

【0091】かかるフィルム基板上に、リバースロール
コーターを用いてシリコン系樹脂を塗布乾燥した。さら
にその上に、ポリイミドからなる配向膜を形成させ、フ
ィルム流れ方向にラビング処理した。
A silicone resin was applied and dried on the film substrate using a reverse roll coater. Further, an alignment film made of polyimide was formed thereon, and a rubbing treatment was performed in the film flow direction.

【0092】次に主鎖型高分子液晶であるポリエステル
系高分子液晶を、フェノール/テトラクロロエタン(重
量比50/10)に対し10重量%溶かした。この溶液
を、前記の配向膜つき基板上に塗布した。塗布後は、1
50℃で1時間熱処理した。その後冷却して、均一なモ
ノドメインのねじれネマチック構造を固定化した。
Next, a polyester type polymer liquid crystal which is a main chain type polymer liquid crystal was dissolved in 10% by weight with respect to phenol / tetrachloroethane (weight ratio 50/10). This solution was applied onto the above-mentioned substrate with an alignment film. After application 1
It heat-processed at 50 degreeC for 1 hour. It was then cooled to immobilize the uniform monodomain twisted nematic structure.

【0093】こうして得られた光学素子を、偏光解析法
で測定したところそのねじれ角は275°であった。ま
た、80℃100時間の耐熱試験を行い、偏光顕微鏡観
察等行ったが、均一なモノドメインのねじれネマチック
構造を有しており初期値とほとんど変化がなかった。
When the optical element thus obtained was measured by ellipsometry, the twist angle was 275 °. Further, a heat resistance test at 80 ° C. for 100 hours was carried out, and observation under a polarizing microscope and the like were carried out. As a result, it had a uniform monodomain twisted nematic structure and showed almost no change from the initial value.

【0094】[0094]

【比較例1】ビスフェノールAからなるポリカーボネー
ト樹脂(平均分子量24000)から、溶融押し出し法
で厚さ125μmのポリカーボネートフィルムを製膜し
た。
[Comparative Example 1] A polycarbonate resin having a thickness of 125 µm was formed from a polycarbonate resin made of bisphenol A (average molecular weight 24000) by a melt extrusion method.

【0095】かかるフィルムの測定光590nmで測定
したレターデーション値は、幅方向で平均値として約3
0nmであり、流れ方向を基準とした遅相軸の分布は±
20°であった。このフィルムをクロスニコル下に置
き、フィルム流れ方向の観察を行ったが、場所によって
光の漏れがあることを肉眼で観察した。
The retardation value of such a film measured with measuring light of 590 nm is about 3 as an average value in the width direction.
0 nm, and the slow axis distribution based on the flow direction is ±
It was 20 °. This film was placed under crossed Nicols, and the film flow direction was observed. It was visually observed that light leaked at some places.

【0096】さらにかかるフィルム上に実施例1と同様
の加工を行おうことを試みた。しかしながら、高分子液
晶塗布後140℃で熱処理する際に、基板フィルムが収
縮および波打ちし、均一なモノドメインのねじれネマチ
ック構造を形成することが困難となった。
Further, an attempt was made to perform the same processing as in Example 1 on such a film. However, when heat-treated at 140 ° C. after application of the polymer liquid crystal, the substrate film contracted and wavy, which made it difficult to form a uniform monodomain twisted nematic structure.

【0097】[0097]

【発明の効果】本発明は、液晶表示装置において優れた
光学補償効果を発現する光学補償フィルムにおいて、特
定された物性値および特定された共重合組成からなるポ
リカーボネートフィルムを光学補償フィルム用基板とし
て用いることによって、非常に特性の良いかつ経済性に
優れた光学補償フィルムを提供することができるといっ
た効果を有する。すなわち光学特性としては、レターデ
ーション値が20nm以下、遅相軸角度分布の絶対値が
15°以下、かつヘイズ値が0.8%以下と言う特性を
備えつつ、寸法安定性としては120℃で1時間の熱処
理後でも0.10%以下であり、かつ150℃で30分
の熱処理後でも0.15%以下であると言う特性を有し
た光学補償フィルム用基板を得ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention uses a polycarbonate film having a specified physical property value and a specified copolymerization composition as a substrate for an optical compensation film in an optical compensation film exhibiting an excellent optical compensation effect in a liquid crystal display device. As a result, there is an effect that it is possible to provide an optical compensation film having very good characteristics and excellent economical efficiency. That is, as the optical characteristics, the retardation value is 20 nm or less, the absolute value of the slow axis angle distribution is 15 ° or less, and the haze value is 0.8% or less, while the dimensional stability is 120 ° C. It is possible to obtain a substrate for an optical compensation film having the characteristics that it is 0.10% or less even after heat treatment for 1 hour and 0.15% or less even after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非ビスフェノールA骨格からなるビスフ
ェノール成分を、ビスフェノールAに対して共重合比5
〜30mol%で共重合させたビスフェノールAの共重
合体であるところの、平均分子量30000以上かつガ
ラス転移点温度150℃以上の芳香族ポリカーボネート
からなる、面内光学等方性のポリマーフィルムを、基板
上に光学補償機能を有する光学層を形成してなる光学補
償フィルムにおける基板として用いることを特徴とする
光学補償フィルム用基板。
1. A copolymerization ratio of a bisphenol component consisting of a non-bisphenol A skeleton to bisphenol A is 5
A bisphenol A copolymerized with 30 mol% to 30 mol%, an in-plane optically isotropic polymer film made of an aromatic polycarbonate having an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C. or more as a substrate. A substrate for an optical compensation film, which is used as a substrate in an optical compensation film having an optical layer having an optical compensation function formed thereon.
【請求項2】 非ビスフェノールA骨格からなるビスフ
ェノール成分が、パーヒドロイソホロン骨格からなるこ
とを特徴とする請求項1記載の光学補償フィルム用基
板。
2. The substrate for an optical compensation film according to claim 1, wherein the bisphenol component having a non-bisphenol A skeleton has a perhydroisophorone skeleton.
【請求項3】 非ビスフェノールA骨格からなるビスフ
ェノール成分が、フルオレン骨格からなることを特徴と
する請求項1記載の光学補償フィルム用基板。
3. The substrate for an optical compensation film according to claim 1, wherein the bisphenol component having a non-bisphenol A skeleton has a fluorene skeleton.
【請求項4】 テレフタル酸あるいはイソフタル酸ある
いはその混合物を、ビスフェノールAに対して共重合比
5〜45mol%で共重合させたビスフェノールAの共
重合体であるところの、平均分子量30000以上かつ
ガラス転移点温度150℃以上の芳香族ポリエステルカ
ーボネートからなる、面内光学等方性のポリマーフィル
ムを、基板上に光学補償機能を有する光学層を形成して
なる光学補償フィルムにおける基板として用いることを
特徴とする光学補償フィルム用基板。
4. A copolymer of bisphenol A obtained by copolymerizing terephthalic acid, isophthalic acid or a mixture thereof with bisphenol A at a copolymerization ratio of 5 to 45 mol%, having an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition. An in-plane optically isotropic polymer film made of an aromatic polyester carbonate having a point temperature of 150 ° C. or higher is used as a substrate in an optical compensation film formed by forming an optical layer having an optical compensation function on the substrate. Substrate for optical compensation film.
【請求項5】 パーヒドロイソホロン骨格あるいはフル
オレン骨格からなるビスフェノール成分、およびテレフ
タル酸あるいはイソフタル酸あるいはその混合物を、ビ
スフェノールAに対して共重合比5〜30mol%で共
重合させた、ビスフェノールAの共重合体からなる平均
分子量30000以上かつガラス転移温度150℃以上
の芳香族ポリエステルカーボネートのポリマーフィルム
を、基板として用いることを特徴とする光学補償フィル
ム用基板。
5. A copolymer of bisphenol A obtained by copolymerizing a bisphenol component having a perhydroisophorone skeleton or a fluorene skeleton and terephthalic acid, isophthalic acid or a mixture thereof with a bisphenol A copolymerization ratio of 5 to 30 mol%. A substrate for an optical compensation film, comprising a polymer film of an aromatic polyester carbonate having an average molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C. or more made of a polymer as a substrate.
【請求項6】 基板として用いるポリマーフィルムは、
レターデーション値が15nm以下、遅相軸角度分布が
±10°以下、かつヘイズ値が0.6%以下であること
を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光学補償
フィルム用基板。
6. The polymer film used as the substrate is
The retardation value is 15 nm or less, the slow axis angle distribution is ± 10 ° or less, and the haze value is 0.6% or less, and the substrate for an optical compensation film according to any one of claims 1 to 5. .
【請求項7】 基板として用いるポリマーフィルムは、
溶液流延法で製膜されたことを特徴とする請求項1〜6
のいずれかに記載の光学補償フィルム用基板。
7. The polymer film used as the substrate is
The film is formed by a solution casting method.
The substrate for an optical compensation film according to any one of 1.
【請求項8】 基板として用いるポリマーフィルムは、
残存溶媒濃度が0.3重量%以下であることを特徴とす
る請求項1〜7のいずれかに記載の光学補償フィルム用
基板。
8. The polymer film used as the substrate is
The optical compensation film substrate according to claim 1, wherein the residual solvent concentration is 0.3% by weight or less.
【請求項9】 基板として用いるポリマーフィルムは、
120℃で1時間熱処理後フィルムの流れ方向と幅方向
それぞれ寸法安定性が0.05%以下であり、かつ15
0℃で30分の熱処理後のフィルムの流れ方向と幅方向
それぞれで寸法安定性が0.1%以下であることを特徴
とする請求項1〜8のいずれかに記載の光学補償フィル
ム用基板。
9. The polymer film used as the substrate is
After heat treatment at 120 ° C. for 1 hour, the dimensional stability of the film is 0.05% or less in each of the flow direction and the width direction, and 15
The substrate for optical compensation film according to any one of claims 1 to 8, which has a dimensional stability of 0.1% or less in each of a flow direction and a width direction of the film after heat treatment at 0 ° C for 30 minutes. .
【請求項10】 基板として用いるポリマーフィルム
は、厚さが50〜200μmであり、厚みムラが±5%
以内であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに
記載の光学補償フィルム用基板。
10. The polymer film used as a substrate has a thickness of 50 to 200 μm and a thickness unevenness of ± 5%.
It is within the limits, The board | substrate for optical compensation films in any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned.
【請求項11】 基板として用いるポリマーフィルムの
少なくとも一方の面に、耐溶剤層および/または接着層
および/または配向膜が施されていることを特徴とする
請求項1〜10のいずれかに記載の光学補償フィルム用
基板。
11. The polymer film used as a substrate is provided with a solvent resistant layer and / or an adhesive layer and / or an alignment film on at least one surface thereof. Substrate for optical compensation film.
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