JPH08157724A - Production of semiconductive roll - Google Patents

Production of semiconductive roll

Info

Publication number
JPH08157724A
JPH08157724A JP33117594A JP33117594A JPH08157724A JP H08157724 A JPH08157724 A JP H08157724A JP 33117594 A JP33117594 A JP 33117594A JP 33117594 A JP33117594 A JP 33117594A JP H08157724 A JPH08157724 A JP H08157724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
roll
silicone rubber
pts
molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33117594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Nakamura
中村  勉
Sadao Hirabayashi
佐太央 平林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP33117594A priority Critical patent/JPH08157724A/en
Publication of JPH08157724A publication Critical patent/JPH08157724A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE: To industrially advantageously produce a semiconductive roll having low dispersion of surface resistivity and volume resistivity and therefore stable in quality. CONSTITUTION: This production process comprises compression-molding a silicone rubber composition comprising 100 pts.wt. organopolysiloxane represented by the average compositional formula: RSiO(4-n)/2 (wherein Rs, which may be the same or different from each other, are (un)substituted monovalent hydrocarbons; and (n) is a positive number of 1.98-2.02), 3-300 pts.wt. conductive material, 5-200 pts.wt. spherical silicone elastomer particles having a particle diameter of 0.1-100μm and 0.1-5 pts.wt. curing agent against the surface of a core metal at such a pressure that the internal pressure exerted on the composition is 70kgf/cm<2> or below, and vulcanizing the molding to form a semiconductive roll-like silicone rubber layer around the core metal.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導電領域での電気抵
抗の安定性に優れた半導電性ロールを工業的に有利に製
造することができる半導電性ロールの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a semiconductive roll capable of industrially producing a semiconductive roll excellent in stability of electric resistance in a semiconductive region.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】シリコ
ーンゴムは、環境安定性、耐圧縮永久歪性などに優れて
いることから複写機、プリンター、ファクシミリ等のロ
ール材料として使用されている。また、最近、耐オゾン
対策として接触式現像装置に使用されている帯電ロー
ル、現像ロール、転写ロール、クリーニングロール、搬
送ロールには、芯金とロール表面との間の抵抗が104
〜1010オーム程度の導電領域にあるシリコーンゴム成
形品の使用も検討されている。
2. Description of the Related Art Silicone rubber is used as a roll material for copying machines, printers, facsimiles and the like because it is excellent in environmental stability and compression set resistance. Further, recently, as a measure against ozone, a charging roll, a developing roll, a transfer roll, a cleaning roll, and a carrying roll used in a contact type developing device have a resistance between the core metal and the roll surface of 10 4.
The use of silicone rubber moldings in the conductive region of about -10 10 ohms is also being considered.

【0003】しかしながら、この現像回りの半導電性ロ
ールの抵抗は、極めて幅の狭い範囲にする必要があり、
製造が困難であった。更に、一般に芯金とロール表面と
の間に104〜1010オームの抵抗を有するシリコーン
ゴム層を得るには、シリコーンゴム組成物に導電性カー
ボンブラックを添加するが、この場合、体積抵抗を半導
電領域で安定させることは難しいなどの問題点があっ
た。
However, the resistance of the semiconductive roll around the development needs to be in an extremely narrow range,
It was difficult to manufacture. Further, generally, in order to obtain a silicone rubber layer having a resistance of 10 4 to 10 10 ohms between the core metal and the surface of the roll, conductive carbon black is added to the silicone rubber composition. There is a problem that it is difficult to stabilize in the semiconductive region.

【0004】また、特開平5−28691号公報には、
オルガノポリシロキサン、導電性材料、硬化剤からなる
導電性シリコーンゴム組成物を成型圧力30kgf/c
2で成型することが記載されているが、成型圧力が同
じであっても金型内のシリコーンゴム組成物の内部圧力
により抵抗のばらつきがあるという問題がある。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-28691 discloses that
Molding pressure of conductive silicone rubber composition consisting of organopolysiloxane, conductive material and curing agent 30 kgf / c
Although it is described that the molding is performed with m 2 , there is a problem that the resistance varies depending on the internal pressure of the silicone rubber composition in the mold even if the molding pressure is the same.

【0005】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたもので、半導電領域での電気抵抗のばらつきが小さ
く、安定な品質を有する半導電性ロールの製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductive roll having a stable quality and a small variation in electric resistance in the semiconductive region. To do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、 (A)下記平均組成式(1)で示されるオルガノポリシロキサン 100重量部 R SiO(4-n)/2 …(1) (但し、式中Rは同一又は異種の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、nは 1.98〜2.02の正数である。) (B)導電性材料 3〜300重量部 (C)平均粒子径が0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子 5〜200重量部 (D)硬化剤 0.1〜5重量部 を含有してなるシリコーンゴム組成物を芯金表面に組成
物にかかる内部圧力70kgf/cm2以下で圧縮成型
・加硫して半導電性ロール状シリコーンゴム層を形成す
ることにより、芯金とロール表面との間に104〜10
10オーム程度の抵抗を有し、かつこの半導電領域での電
気抵抗のばらつきが小さい半導電シリコーンゴム層を形
成することができ、安定な品質を有する半導電性ロール
を工業的に有利に製造できることを見出した。
Means and Actions for Solving the Problems
As a result of intensive studies to achieve the object, (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (1) R SiO(4-n) / 2 (1) (wherein R is the same or different, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number of 1.98 to 2.02.) (B) Conductive material 3 to 300 parts by weight (C) Spherical silicone elastomer particles having an average particle size of 0.1 to 100 μm 5 to 200 parts by weight (D) Curing agent 0.1 to 5 parts by weight Silicone rubber composition core Composition on gold surface
Internal pressure on the object 70kgf / cm2Compression molding with
・ Vulcanizes to form a semi-conductive roll-like silicone rubber layer
As a result, the gap between the cored bar and the roll surface is 10Four-10
TenIt has a resistance on the order of ohms, and the electric current in this semiconducting region is
Form a semi-conductive silicone rubber layer with a small variation in air resistance
Semi-conductive roll that can be made and has stable quality
Was found to be industrially advantageous.

【0007】即ち、圧縮成型はゴムの成型方法として最
も一般的な成形技術であり、更に低圧の圧縮成型技術
は、特に半導電性ロールを成形する上では効果的であ
る。従来、ロール成形品は、成型圧力の特性に与える影
響を十分に解明せず圧縮成形機やインジェクション成形
機を用いて成形していたが、この場合、成形に伴う圧力
が発生し、この圧力は導電性カーボンブラック等の導電
性材料の分散を変え、それ故、導電領域(104〜10
10オーム)の抵抗値を安定して得ることは不可能であっ
た。これに対して上記シリコーンゴム組成物をこの組成
物にかかる内部圧力70kgf/cm2以下で圧縮成型
した場合、材料内部に発生する内部圧力は硬化前までに
緩和される。従って、導電性材料の分散状態はロール全
体に均一であり、ばらつきが小さく、安定した表面抵抗
値及び体積抵抗値を得ることができることを知見し、本
発明をなすに至ったものである。
That is, the compression molding is the most general molding technique as a rubber molding method, and the low pressure compression molding technique is particularly effective for molding a semiconductive roll. Conventionally, roll molded products were molded using a compression molding machine or an injection molding machine without fully clarifying the effect of molding pressure on the characteristics, but in this case, the pressure associated with molding occurs, and this pressure is changing the dispersion of the conductive material such as conductive carbon black, therefore, the conductive region (10 4 to 10
It was impossible to obtain a stable resistance value of 10 ohms. On the other hand, when the silicone rubber composition is compression molded at an internal pressure of 70 kgf / cm 2 or less applied to the composition, the internal pressure generated inside the material is relaxed before the curing. Therefore, the inventors have found that the dispersed state of the electrically conductive material is uniform over the entire roll, the variation is small, and a stable surface resistance value and volume resistance value can be obtained, and the present invention has been completed.

【0008】従って、本発明は、 (A)上記平均組成式(1)で示されるオルガノポリシロキサン 100重量部 (B)導電性材料 3〜300重量部 (C)平均粒子径が0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子 5〜200重量部 (D)硬化剤 0.1〜5重量部 を含有してなるシリコーンゴム組成物を芯金表面に組成
物にかかる内部圧力70kgf/cm2以下で圧縮成型
・加硫して半導電性ロール状シリコーンゴム層を形成す
ることを特徴とする半導電性ロールの製造方法を提供す
る。
Therefore, according to the present invention, (A) 100 parts by weight of the organopolysiloxane represented by the above average composition formula (1) (B) 3 to 300 parts by weight of the conductive material (C) The average particle diameter is 0.1 to 0.1 parts by weight. A silicone rubber composition containing 100 μm spherical silicone elastomer particles 5 to 200 parts by weight (D) curing agent 0.1 to 5 parts by weight is compressed on the surface of a core metal at an internal pressure of 70 kgf / cm 2 or less applied to the composition. Provided is a method for producing a semiconductive roll, which comprises molding and vulcanizing to form a semiconductive roll-shaped silicone rubber layer.

【0009】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明の半導電性ロールの製造方法において、半導
電性ロール状シリコーンゴム層を形成するシリコーンゴ
ム組成物の(A)成分のオルガノポリシロキサンは、下
記平均組成式 R SiO(4-n)/2 …(1) (但し、式中Rは同一又は異種の非置換又は置換の一価
炭化水素基であり、nは1.98〜2.02の正数であ
る。)で示されるものである。
The present invention will be described in more detail below.
And in the method for producing a semiconductive roll of the present invention,
Silicone rubber forming an electrically conductive roll-shaped silicone rubber layer
The organopolysiloxane of component (A) of the
Average composition formula R SiO(4-n) / 2 (1) (wherein R is the same or different and is unsubstituted or substituted monovalent
It is a hydrocarbon group, and n is a positive number of 1.98 to 2.02.
It ).

【0010】ここで、上記式(1)においてRは、好ま
しくは炭素数1〜10、より好ましくは1〜8の非置換
又は置換の一価炭化水素基であり、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基等のアル
ケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フ
ェニル基、トリル基等のアリール基、これらの基の一部
又は全部の水素原子をハロゲン原子、シアノ基等で置換
したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノ
エチル基などから選ばれる基が挙げられる。また、Rの
うち0.001〜5モル%、特に0.01〜0.5モル
%がアルケニル基であることが好ましい。nは1.98
〜2.02の正数である。
In the above formula (1), R is preferably an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, Alkyl groups such as propyl group, alkenyl groups such as vinyl group, cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, aryl groups such as phenyl group and tolyl group, some or all hydrogen atoms of these groups are halogen atoms, cyano groups, etc. And a group selected from a chloromethyl group substituted with, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group, and the like. Further, it is preferable that 0.001 to 5 mol%, particularly 0.01 to 0.5 mol% of R is an alkenyl group. n is 1.98
Is a positive number of 2.02.

【0011】上記式(1)のオルガノポリシロキサン
は、基本的には直鎖状のものであるが、分岐状、環状で
もよく、また分子構造の異なる1種又は2種以上の混合
物であってもよいが、25℃における粘度が100cs
以上、特に100000〜10000000csの範囲
のものが好ましい。重合度としては100以上、特に3
000〜10000の範囲のものが好ましい。
The organopolysiloxane of the above formula (1) is basically linear, but may be branched or cyclic, and may be one kind or a mixture of two or more kinds having different molecular structures. The viscosity at 25 ℃ is 100 cs
Above all, the range of 100,000 to 10,000,000 cs is particularly preferable. The degree of polymerization is 100 or more, especially 3
The range of 000 to 10,000 is preferable.

【0012】上記オルガノポリシロキサンは、通常選択
されたオルガノハロシランの1種又は2種以上を(共)
加水分解することによって、又は環状ポリシロキサン
(シロキサンの3量体又は4量体など)をアルカリ性又
は酸性の触媒を用いて開環重合することによって得るこ
とができる。
The above-mentioned organopolysiloxane is (co) containing one or more kinds of usually selected organohalosilanes.
It can be obtained by hydrolysis or by ring-opening polymerization of a cyclic polysiloxane (such as a trimer or tetramer of siloxane) using an alkaline or acidic catalyst.

【0013】(B)成分の導電性材料としては、導電性
を付与できる物質であれば特に制限されるものではな
く、例えばカーボンブラック、グラファイト、銀、ニッ
ケル、銅等の各種金属粉、各種非導電性粉体、短繊維表
面を銀等の金属で表面処理したもの、炭素繊維、金属繊
維、導電性亜鉛華、導電性酸化チタン、酸化チタンの表
面をスズとアンチモンで処理したもの(例えば三菱マテ
リアル社のWP−10、ECM−S2)等が挙げられ
る。
The conductive material as the component (B) is not particularly limited as long as it is a substance capable of imparting conductivity, and for example, various metal powders such as carbon black, graphite, silver, nickel and copper, and various non-metals. Conductive powder, short fiber surface treated with metal such as silver, carbon fiber, metal fiber, conductive zinc oxide, conductive titanium oxide, titanium oxide surface treated with tin and antimony (eg Mitsubishi Materials WP-10, ECM-S2) and the like can be mentioned.

【0014】この場合、導電性材料としては導電性カー
ボンブラックが好適であり、導電性カーボンブラックと
しては、通常シリコーンゴムに配合されるものを使用す
ることができる。具体的には、アセチレンブラック、コ
ンダクティブファーネスブラック、コンダクティブチャ
ンネルブラック等を例示することができる。また、アセ
チレンブラックとして具体的には、電化アセチレンブラ
ック(電気化学社製)、ファーネスブラックの一種であ
るケッチャンブラックEC(ケッチャンブラックインタ
ーナーショナル社製)を用いることができる。なお、本
発明では、上記した導電性材料の二種類以上を混合して
添加しても差し支えない。
In this case, electroconductive carbon black is suitable as the electroconductive material, and as the electroconductive carbon black, those usually blended with silicone rubber can be used. Specific examples thereof include acetylene black, conductive furnace black, conductive channel black and the like. Further, as the acetylene black, specifically, electrified acetylene black (manufactured by Denki Kagaku) and Ketchan Black EC (manufactured by Ketchan Black International), which is a type of furnace black, can be used. In the present invention, two or more kinds of the above-mentioned conductive materials may be mixed and added.

【0015】上記導電性材料の添加量は使用する材質に
よって異なるが、通常(A)成分のオルガノポリシロキ
サン100部(重量部、以下同様)に対して3〜300
部、導電性カーボンの場合は(A)成分のオルガノポリ
シロキサン100部に対して3〜30部、特に5〜20
部、導電性亜鉛華及び導電性酸化チタンの場合は10〜
300部、特に50〜250部、ECM−S2の場合は
5〜40部、特に10〜30部が好ましい。導電性材料
の添加量が上記量に満たないと満足な導電性が得られ
ず、上記量を超えると導電性になりすぎて半導電領域と
ならないことがある。
The amount of the conductive material added varies depending on the material used, but is usually 3 to 300 relative to 100 parts (parts by weight, hereinafter the same) of 100 parts (A) of the organopolysiloxane.
Parts, in the case of conductive carbon, 3 to 30 parts, particularly 5 to 20 parts per 100 parts of the organopolysiloxane of component (A).
Parts, conductive zinc white and conductive titanium oxide are 10
300 parts, especially 50 to 250 parts, and in the case of ECM-S2, 5 to 40 parts, especially 10 to 30 parts are preferable. If the added amount of the conductive material is less than the above amount, satisfactory conductivity cannot be obtained, and if the added amount exceeds the above amount, it may become too conductive and the semiconductive region may not be formed.

【0016】(C)成分の球状シリコーンエラストマー
粒子は、電気抵抗を安定化するために配合するもので、
その平均粒子径が0.1〜100μm、好ましくは0.
5〜40μmであるものを使用する。平均粒子径が0.
1μm未満の粒子は、製造が困難であると共にその添加
効果が十分に得られ難く、100μmを超えるとゴム硬
化物の機械的強度が損なわれる。
The spherical silicone elastomer particles as the component (C) are blended to stabilize electric resistance.
The average particle size is 0.1 to 100 μm, preferably 0.1.
The one having a thickness of 5 to 40 μm is used. The average particle size is 0.
Particles having a particle size of less than 1 μm are difficult to produce, and it is difficult to sufficiently obtain the effect of addition thereof.

【0017】球状シリコーンエラストマー粒子は、上記
平均粒子径を有するオルガノポリシロキサンの硬化物で
かつ球状であればその種類やグレード、製造方法等に何
ら制限はない。具体的に球状シリコーンエラストマー粒
子としては、特に制限されるものではないが、硬化性オ
ルガノポリシロキサン組成物を120〜300℃のスプ
レードライヤー中で硬化させ、粒状のシリコーンエラス
トマーを得る方法(特開昭59−96122号公報記
載)、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、例えばビ
ニル基含有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンとからなる付加反応型のオルガノ
ポリシロキサン組成物を水中に界面活性剤を用いてエマ
ルジョン粒子が粒径20μm以下となるようにエマルジ
ョン化し、付加反応用の白金触媒を添加し、スプレード
ライ前又はスプレードライ終了までにこのエマルジョン
粒子中に含まれているオルガノポリシロキサンを硬化さ
せる方法(特開昭62−257939号公報記載)など
の方法によって得られたものを使用し得るが、特にビニ
ル基含有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサンとを界面活性剤を用いてエマルジョ
ンとし、白金触媒により付加反応させ硬化して製造され
たものが好ましい。なお、このエラストマー粒子として
その表面を予め又はその製造途中にシラン、シロキサン
等で処理したものを使用することもできる。
The spherical silicone elastomer particles are not limited in kind, grade, manufacturing method and the like as long as they are a cured product of an organopolysiloxane having the above-mentioned average particle diameter and have a spherical shape. Although the spherical silicone elastomer particles are not particularly limited, a method of obtaining a granular silicone elastomer by curing a curable organopolysiloxane composition in a spray dryer at 120 to 300 ° C. 59-96122), a curable organopolysiloxane composition, for example, an addition reaction type organopolysiloxane composition composed of a vinyl group-containing organopolysiloxane and an organohydrogenpolysiloxane in water using a surfactant. A method of emulsifying emulsion particles to a particle size of 20 μm or less, adding a platinum catalyst for addition reaction, and curing the organopolysiloxane contained in the emulsion particles before or after spray drying ( Japanese Patent Laid-Open No. 62-25793 It is possible to use those obtained by a method such as the method described in JP-A No. 1993-2000). Particularly, vinyl group-containing organopolysiloxane and organohydrogenpolysiloxane are made into an emulsion by using a surfactant, and the emulsion is subjected to an addition reaction with a platinum catalyst and cured. Those manufactured by the above method are preferable. As the elastomer particles, those whose surface is treated with silane, siloxane or the like in advance or during the production thereof can be used.

【0018】球状シリコーンエラストマー粒子の使用量
は、上記式(1)のオルガノポリシロキサン100部に
対して5〜200部、好ましくは10〜150部であ
り、使用量が5部に満たないと添加効果が得られず電気
抵抗が不安定になり、200部を超えると硬化物の機械
的強度が低下する。
The spherical silicone elastomer particles are used in an amount of 5 to 200 parts, preferably 10 to 150 parts, based on 100 parts of the organopolysiloxane of the above formula (1). If the effect is not obtained and the electrical resistance becomes unstable, and the amount exceeds 200 parts, the mechanical strength of the cured product decreases.

【0019】(D)成分の硬化剤としては、シリコーン
組成物の架橋反応機構に応じた従来公知のものを使用す
ることができる。具体的には、架橋剤の一種である有機
過酸化物、例えばベンゾイルパーオキサイド、2,4−
ジクロロベンゾイルパーオキサイド、2,5−ジメチル
−ビス(2,5−t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、p
−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキ
サイド、1,6−ビス(t−ブチルパーオキシカルボキ
シ)ヘキサン等が好適に使用される。
As the curing agent as the component (D), a conventionally known one depending on the crosslinking reaction mechanism of the silicone composition can be used. Specifically, an organic peroxide which is a kind of cross-linking agent, for example, benzoyl peroxide, 2,4-
Dichlorobenzoyl peroxide, 2,5-dimethyl-bis (2,5-t-butylperoxy) hexane, p
-Methylbenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, 1,6-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane and the like are preferably used.

【0020】硬化剤の添加量は、(A)成分のオルガノ
ポリシロキサン100部に対して0.1〜5部、好まし
くは0.2〜3部である。
The amount of the curing agent added is 0.1 to 5 parts, preferably 0.2 to 3 parts, per 100 parts of the component (A) organopolysiloxane.

【0021】また、(A)成分のオルガノポリシロキサ
ンが珪素原子に直結したアルケニル基を2個以上有する
ものである時は、硬化剤として1分子中に2個以上のS
iH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
を使用し、これらの付加反応(ヒドロシリル化反応)に
よって架橋を行わせることによりシリコーンゴム組成物
を硬化させることができる。
When the organopolysiloxane as the component (A) has two or more alkenyl groups directly bonded to silicon atoms, two or more S in one molecule as a curing agent.
The silicone rubber composition can be cured by using an iH group-containing organohydrogenpolysiloxane and crosslinking them by an addition reaction (hydrosilylation reaction) thereof.

【0022】この場合、オルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンは、直鎖状、分岐状、環状のいずれであっても
よいが、重合度が300以下のものが好ましい。具体的
には、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖さ
れたジオルガノポリシロキサン、ジメチルシロキサン単
位とメチルハイドロジェンシロキサン単位との共重合
体、ジメチルハイドロジェンシロキサン単位(H(CH
32SiO0.5単位)とSiO2単位とからなる低粘度流
体、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,
5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1−プ
ロピル−3,5,7−トリハイドロジェン−1,3,
5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,5
−ハイドロジェン−3,7−ジヘキシル−1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサンなどが挙げら
れる。
In this case, the organohydrogenpolysiloxane may be linear, branched or cyclic, but preferably has a degree of polymerization of 300 or less. Specifically, a diorganopolysiloxane whose end is blocked with a dimethylhydrogensilyl group, a copolymer of a dimethylsiloxane unit and a methylhydrogensiloxane unit, a dimethylhydrogensiloxane unit (H (CH
3 ) a low-viscosity fluid composed of 2 SiO 0.5 units) and SiO 2 units, 1,3,5,7-tetrahydrogen-1,3,3
5,7-Tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-propyl-3,5,7-trihydrogen-1,3
5,7-Tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,5
-Hydrogen-3,7-dihexyl-1,3,5
Examples thereof include 7-tetramethylcyclotetrasiloxane.

【0023】この硬化剤としてのオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサンは、(A)成分のオルガノポリシロキ
サンのアルケニル基に対してSiH基の水素原子が50
〜500モル%となる割合で使用することが好ましい。
The organohydrogenpolysiloxane as the curing agent has a hydrogen atom of SiH group of 50 relative to the alkenyl group of the organopolysiloxane of the component (A).
It is preferably used in a proportion of about 500 mol%.

【0024】なお、上記オルガノポリシロキサンとオル
ガノハイドロジェンポリシロキサンとの付加反応には公
知の白金系触媒を添加することが好ましく、具体的には
白金単体、白金化合物、白金複合体、塩化白金酸、各種
オレフィン類との錯体などが例示される。白金系触媒の
添加量は、(A)成分のオルガノポリシロキサンに対し
て白金原子として1〜2000ppmの範囲とすること
が好ましい。
A known platinum-based catalyst is preferably added to the addition reaction of the organopolysiloxane with the organohydrogenpolysiloxane, specifically, platinum simple substance, platinum compound, platinum complex, chloroplatinic acid chloride. , Complexes with various olefins, and the like. The amount of the platinum-based catalyst added is preferably in the range of 1 to 2000 ppm as platinum atom with respect to the organopolysiloxane of the component (A).

【0025】本発明に係る上記シリコーンゴム組成物に
は、上記必須成分以外に他の成分を配合することがで
き、例えばよく知られているシリカ系充填剤を配合して
もよい。シリカ系充填剤として使用される補強性シリカ
としては、従来からシリコーンゴムなどに配合されてい
る一般的なものを使用することができるが、特にBET
法で測定した比表面積が50m2/g以上、更により優
れた補強効果を得るためには比表面積が100m2/g
以上のものを使用することが好ましい。
The silicone rubber composition according to the present invention may contain other components in addition to the above essential components. For example, a well-known silica-based filler may be added. As the reinforcing silica used as the silica-based filler, general ones that have been conventionally compounded in silicone rubber and the like can be used.
The specific surface area measured by the method is 50 m 2 / g or more, and in order to obtain a further excellent reinforcing effect, the specific surface area is 100 m 2 / g.
It is preferable to use the above.

【0026】この補強性シリカは、その製造法により乾
式法と湿式法に大別される。乾式法により得られるシリ
カ(乾式シリカ)としては、Aerosil(日本アエ
ロジル社製)、Cabosil(キャボット社製)など
を用いることができる。湿式法により得られるシリカ
(湿式シリカ)としては、カープレックス(シオノギ社
製)、トクシール(徳山曹達社製)、ニプシール(ニホ
ンシリカ社製)などを挙げることができる。
The reinforcing silica is roughly classified into a dry method and a wet method depending on its manufacturing method. As silica obtained by the dry method (dry silica), Aerosil (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Cabosil (manufactured by Cabot Corp.), or the like can be used. Examples of silica obtained by the wet method (wet silica) include Carplex (manufactured by Shionogi), Tokusil (manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.), and Nipseal (manufactured by Nihon Silica).

【0027】補強性シリカの添加量は、上記(A)成分
100部に対して10〜200部、特に20〜80部の
範囲が望ましく、10部未満では十分な補強効果を得る
ことができない場合があり、200部を超えると満足で
きる強度及び耐久性を得られない場合がある。
The amount of reinforcing silica added is preferably in the range of 10 to 200 parts, particularly 20 to 80 parts, relative to 100 parts of component (A), and if less than 10 parts, a sufficient reinforcing effect cannot be obtained. If it exceeds 200 parts, satisfactory strength and durability may not be obtained.

【0028】また、耐候性改善や難燃性とするため、あ
るいはスポンジ形状とするために以下に示すような添加
剤及び発泡剤を併用してもよい。例えば添加剤として酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化鉄などの金属酸化
物、酸化カルシウム、マイカ粉、クレイ、タルク、石英
粉、セライト、水酸化アルミニウム、難燃剤、着色剤、
離型剤、紫外線吸収剤、分散剤、プロセスオイル、ステ
アリン酸、ラウリン酸などの高級脂肪酸、各種のカーボ
ンファンクショナルシラン類などが挙げられ、発泡剤と
しては、重炭酸ナトリウムなどの無機発泡剤、ニトロソ
化合物、アゾ化合物、スルホニルヒドラジドなどが例示
される。
Further, in order to improve weather resistance and flame retardancy, or to form a sponge, the following additives and foaming agents may be used in combination. For example, titanium oxide, aluminum oxide, metal oxides such as iron oxide as additives, calcium oxide, mica powder, clay, talc, quartz powder, celite, aluminum hydroxide, flame retardant, colorant,
Mold release agents, ultraviolet absorbers, dispersants, process oils, higher fatty acids such as stearic acid and lauric acid, various carbon functional silanes, and the like, and as the foaming agent, inorganic foaming agents such as sodium bicarbonate, Examples include nitroso compounds, azo compounds, sulfonyl hydrazides and the like.

【0029】本発明の組成物は、まず(A)乃至(C)
成分を一般的にゴム用に使用されるバンバリミキサー、
ニーダー、インターミキサー、二本ロールなどの混合機
を使用して混練りし、この際、必要であれば加熱処理又
は熟成を行った後、調製されたシリコーンゴムコンパウ
ンドに(D)成分である硬化剤をロール又はバンバリミ
キサーのような混練り機を使用して添加し、次に、これ
を芯金表面に圧縮成型・加硫することにより半導電性ロ
ールを得ることができる。
The composition of the present invention comprises (A) to (C)
Banbury mixer, whose ingredients are commonly used for rubber,
Kneading is performed using a kneader, intermixer, two-roll mixer or the like. At this time, if necessary, after heat treatment or aging, the prepared silicone rubber compound is cured as the component (D). A semiconductive roll can be obtained by adding the agent using a kneader such as a roll or a Banbury mixer, and then compression-molding and vulcanizing this on the surface of the cored bar.

【0030】この場合、半導電性シリコーンゴムロール
を形成する芯金としては、アルミニウム、スチール等が
好適に使用される。
In this case, aluminum, steel or the like is preferably used as the core metal forming the semiconductive silicone rubber roll.

【0031】また、シリコーンゴム組成物は、芯金表面
に所望の厚さ(通常0.5〜30mm)の層に形成する
ことが望ましい。
The silicone rubber composition is preferably formed in a layer having a desired thickness (usually 0.5 to 30 mm) on the surface of the cored bar.

【0032】更に、圧縮成型時のシリコーンゴム組成物
にかかる内部圧力は70kgf/cm2以下、好ましく
は50kgf/cm2以下とするもので、70kgf/
cm2を超えると内部圧力によりカーボンの分散が変化
する。その内部圧力は、インジェクション時の圧力や金
型仕込み時の圧力等によりコントロールできるがインジ
ェクション時でのコントロールが最も好ましい。また、
成型圧力は特に制限されないが低いほうが望ましく、成
型品に微発泡がなければその条件に下限はない。例えば
初期50kgf/cm2の圧力で成型後、10kgf/
cm2程度の低圧で成型してもよい。
The internal pressure applied to the silicone rubber composition during compression molding is 70 kgf / cm 2 or less, preferably 50 kgf / cm 2 or less.
If it exceeds cm 2 , the dispersion of carbon changes due to the internal pressure. The internal pressure can be controlled by the pressure at the time of injection, the pressure at the time of charging the mold, etc., but the control at the time of injection is most preferable. Also,
The molding pressure is not particularly limited, but is preferably low, and there is no lower limit to the conditions unless the molded product has fine foaming. For example, after molding at an initial pressure of 50 kgf / cm 2 , 10 kgf /
It may be molded at a low pressure of about cm 2 .

【0033】このようにして得られる半導電性ロール
は、芯金とロール表面との間に104〜1010オーム程
度の抵抗を有し、電気抵抗が半導電領域で安定である半
導電性シリコーンゴム層が芯金上に形成されたものであ
る。
The semiconductive roll thus obtained has a resistance of about 10 4 to 10 10 ohms between the core metal and the surface of the roll, and the electric resistance is stable in the semiconductive region. A silicone rubber layer is formed on a cored bar.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明の半導電性ロールの製造方法によ
れば、表面抵抗及び体積抵抗のばらつきが少なく、芯金
とロール表面との間に104〜1010オーム程度の抵抗
を有する半導電性シリコーンゴム層が形成され、安定な
品質を有する半導電性ロールを工業的に有利に製造する
ことができる。
According to the method for producing a semiconductive roll of the present invention, there is little variation in surface resistance and volume resistance, and a semiconductive roll having a resistance of about 10 4 to 10 10 ohms is provided between the core metal and the surface of the roll. A conductive silicone rubber layer is formed, and a semiconductive roll having stable quality can be industrially advantageously manufactured.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の部はいずれも重量部であ
る。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. All parts in each example are parts by weight.

【0036】〔実施例1〜3、比較例1〜4〕ジメチル
シロキサン単位99.825モル%、メチルビニルシロ
キサン単位0.15モル%及びジメチルビニルシロキサ
ン単位0.025モル%からなり、平均重合度が約80
00のメチルビニルポリシロキサン100部に、分散剤
としてのジフェニルシランジオール3部、末端シラノー
ル基ジメチルポリシロキサン(重合度10)4部及び比
表面積が200m2/gであるシリカ(日本アエロジル
社製)30部を添加し、ニーダーで150℃、2時間熱
処理してベースコンパウンドAを作った。
[Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 4] Dimethyl siloxane unit is 99.825 mol%, methyl vinyl siloxane unit is 0.15 mol% and dimethyl vinyl siloxane unit is 0.025 mol%. Is about 80
100 parts of methyl vinyl polysiloxane of 00, 3 parts of diphenylsilanediol as a dispersant, 4 parts of terminal silanol group dimethyl polysiloxane (polymerization degree of 10) and silica having a specific surface area of 200 m 2 / g (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). 30 parts were added and heat-treated at 150 ° C. for 2 hours with a kneader to prepare a base compound A.

【0037】上記ベースコンパウンドA100部に電化
アセチレンブラック(電気化学社製)、導電性亜鉛華F
X(本荘ケミカル社製)、球状シリコーンエラストマー
粒子(平均粒子径13μm、X−52−874、信越化
学工業社製)、硬化剤としてジクミルパーオキサイドを
表1,2に示す割合で配合した。
100 parts of the above-mentioned base compound A, electrified acetylene black (manufactured by Denki Kagaku) and conductive zinc flower F
X (manufactured by Honjo Chemical Co., Ltd.), spherical silicone elastomer particles (average particle size 13 μm, X-52-874, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and dicumyl peroxide as a curing agent were mixed in the ratios shown in Tables 1 and 2.

【0038】次に、直径6mmの金属(SUS)のシャ
フト上に、インジェクション成型機を用いてラムの油圧
により成型圧力を、フランジ圧力の調整により内部圧力
を調整し、表1,2に示す条件で圧縮成型し、直径20
mmのロールを得た。このロールを200℃で30分1
次加硫、200℃で4時間2次加硫後に電気抵抗を図1
に示す装置を用いて測定した。測定は、ロール1を7m
mの電極2に接触させ、電極2と芯金3との間の電気抵
抗を測定機4で測定した。測定電圧は100V、測定機
は(株)アドバンテストデジタル超抵抗計R8340を
用いた。
Next, on a metal (SUS) shaft having a diameter of 6 mm, the molding pressure was adjusted by the hydraulic pressure of the ram using an injection molding machine, and the internal pressure was adjusted by adjusting the flange pressure. Compression molded with a diameter of 20
A roll of mm was obtained. This roll at 200 ℃ for 30 minutes 1
Secondary vulcanization, electrical resistance after secondary vulcanization at 200 ° C for 4 hours
It measured using the apparatus shown in. The roll 1 is 7m
Then, the electrical resistance between the electrode 2 and the cored bar 3 was measured by the measuring machine 4. The measuring voltage was 100 V, and the measuring instrument was Advantest Digital Super Resistance Meter R8340.

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】表1,2の結果より、本発明の製造方法で
得られた半導電性ロール(実施例)は、電気抵抗のばら
つきが少なく安定な品質を有することが確認された。
From the results of Tables 1 and 2, it was confirmed that the semiconductive rolls (Examples) obtained by the manufacturing method of the present invention had stable quality with little variation in electric resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例で使用した電気抵抗測定装置の概略図で
ある。
FIG. 1 is a schematic view of an electric resistance measuring device used in Examples.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロール 2 電極 3 芯金 4 測定機器 1 roll 2 electrode 3 core metal 4 measuring instrument

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5/14 LRT // G03G 15/02 101 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display area C08K 5/14 LRT // G03G 15/02 101

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)下記平均組成式(1)で示されるオルガノポリシロキ サン 100重量部 R SiO(4-n)/2 …(1) (但し、式中Rは同一又は異種の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、nは 1.98〜2.02の正数である。) (B)導電性材料 3〜300重量部 (C)平均粒子径が0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子 5〜200重量部 (D)硬化剤 0.1〜5重量部 を含有してなるシリコーンゴム組成物を芯金表面に組成
物にかかる内部圧力70kgf/cm2以下で圧縮成型
・加硫して半導電性ロール状シリコーンゴム層を形成す
ることを特徴とする半導電性ロールの製造方法。
1. (A) 100 parts by weight of organopolysiloxane represented by the following average composition formula (1) R SiO(4-n) / 2 (1) (wherein R is the same or different, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number of 1.98 to 2.02.) (B) Conductive material 3 to 300 parts by weight (C) Spherical silicone elastomer particles having an average particle size of 0.1 to 100 μm 5 to 200 parts by weight (D) Curing agent 0.1 to 5 parts by weight Silicone rubber composition core Composition on gold surface
Internal pressure on the object 70kgf / cm2Compression molding with
・ Vulcanizes to form a semi-conductive roll-like silicone rubber layer
A method for manufacturing a semiconductive roll, comprising:
JP33117594A 1994-12-08 1994-12-08 Production of semiconductive roll Pending JPH08157724A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33117594A JPH08157724A (en) 1994-12-08 1994-12-08 Production of semiconductive roll

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33117594A JPH08157724A (en) 1994-12-08 1994-12-08 Production of semiconductive roll

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08157724A true JPH08157724A (en) 1996-06-18

Family

ID=18240730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33117594A Pending JPH08157724A (en) 1994-12-08 1994-12-08 Production of semiconductive roll

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08157724A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003141931A (en) * 2001-11-07 2003-05-16 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone rubber composition for semi-conductive roll and semi-conductive roll

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003141931A (en) * 2001-11-07 2003-05-16 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone rubber composition for semi-conductive roll and semi-conductive roll

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5725922A (en) Semiconductive silicone rubber compositions and semiconductive silicone rubber rolls
EP0609038B1 (en) Semiconductor rolls
JP2748215B2 (en) Silicone rubber roll
JPH0718184A (en) Silicone rubber composition
US6013201A (en) Semiconductive silicone rubber compositions and semiconductive silicone rubber rolls
JP3501055B2 (en) Semiconductive silicone rubber composition and silicone rubber roll
JPH07258548A (en) Conductive silicone rubber composition
JP2003176412A (en) Electrically conductive silicone rubber sponge-forming composition, electrically conductive silicone rubber sponge and method for producing them
JP3198847B2 (en) Manufacturing method of semiconductive roll
JP3158879B2 (en) Semiconductive silicone rubber members for office machines
JP2643747B2 (en) Method for producing conductive silicone rubber composition
JP3383536B2 (en) Semiconductive silicone rubber composition and silicone rubber roll
JPH03190964A (en) Rubber composition and rubber cured article and production of the same rubber composition
JP4766234B2 (en) High heat conductive heat fixing roll or thermosetting silicone rubber composition for fixing belt, fixing roll and fixing belt
JPH08157724A (en) Production of semiconductive roll
JP3319282B2 (en) Conductive silicone rubber roll for office machines
JP3277758B2 (en) Silicone rubber composition for insulator
JP3324413B2 (en) Conductive silicone rubber roll
JP3500927B2 (en) Semiconductive silicone rubber composition and semiconductive silicone rubber roll
JP3503454B2 (en) Semiconductive silicone rubber composition and semiconductive silicone rubber roll
JP4200625B2 (en) Manufacturing method of semiconductive roll
JP3408326B2 (en) Conductive silicone rubber composition and silicone rubber roll
JP2002338808A (en) Conductive silicone rubber composition for electrophotographic image formation apparatus
JPH08208995A (en) Semiconductive silicone elastomer composition and production thereof
JP3344233B2 (en) Silicone rubber composition for feeding roll or developing roll, and feeding roll and developing roll