JPH08154031A - Surface acoustic wave device - Google Patents

Surface acoustic wave device

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JPH08154031A
JPH08154031A JP29465894A JP29465894A JPH08154031A JP H08154031 A JPH08154031 A JP H08154031A JP 29465894 A JP29465894 A JP 29465894A JP 29465894 A JP29465894 A JP 29465894A JP H08154031 A JPH08154031 A JP H08154031A
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JP
Japan
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electrode
comb
electrodes
ground potential
surface acoustic
Prior art date
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Application number
JP29465894A
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Japanese (ja)
Inventor
Mamoru Sengoku
守 仙石
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Publication of JPH08154031A publication Critical patent/JPH08154031A/en
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Abstract

PURPOSE: To provide a surface acoustic wave device by which the measurement of characteristics is stabilized and simplified. CONSTITUTION: This device is provided with interdigital electrodes 2 and 3 consisting of comb-like electrodes 2a and 3a at a signal side potential and comb-like electrodes 2b and 3b at a ground potential on the surface of a rectangular piezoelectric substrate 1. A common electrode film 5 to be connected with the respective electrodes 2b and 3b on the ground potential side is formed at one terminal side of the rectangular piezoelectrode substrate 1 at least, the ground potential is made common, and the number of contact positions of probes for ground potential are made one in the case of characteristic measurement.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は弾性表面波装置に関し、
特に特性のチェックに優れた弾性表面波装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device,
In particular, the present invention relates to a surface acoustic wave device excellent in checking characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、弾性表面波装置は、ビデオの映
像信号のフィルタとして、通信機器の搬送信号の周波数
変換のフィルタとして、また、各種電子機器の高周波発
振回路の共振素子として用いられていた。
2. Description of the Related Art For example, a surface acoustic wave device has been used as a filter for a video signal of a video, as a filter for frequency conversion of a carrier signal of a communication device, and as a resonance element of a high frequency oscillation circuit of various electronic devices. .

【0003】弾性表面波装置は、チタン酸ジルコン酸鉛
などの圧電性セラミック基板や水晶、タンタル酸リチウ
ム、ニオブ酸リチウム、四ほう酸リチウムなどの圧電性
単結晶基板上に、弾性表面波を発生されたり、また、弾
性表面波を励振されたり、また弾性表面波を反射させた
りする各種電極が形成されて構成されている。
The surface acoustic wave device generates surface acoustic waves on a piezoelectric ceramic substrate such as lead zirconate titanate or a piezoelectric single crystal substrate such as quartz, lithium tantalate, lithium niobate, or lithium tetraborate. In addition, various electrodes that excite surface acoustic waves and reflect surface acoustic waves are formed.

【0004】典型的なフィルタの電極構成の一例とし
て、例えば四ほう酸リチウムの矩形状の単結晶体基板上
に、信号側の櫛歯電極とそれに噛み合う用に配置された
アース側の櫛歯電極から成る入力側インタディジタル電
極、アース電極、出力側インタディジタル電極とが配置
されていた。
As an example of the electrode configuration of a typical filter, for example, a comb-teeth electrode on the signal side and a comb-teeth electrode on the ground side arranged to mesh with the comb-teeth electrode on the rectangular side are formed on a rectangular single crystal substrate of lithium tetraborate. The input side interdigital electrode, the ground electrode, and the output side interdigital electrode are arranged.

【0005】このような弾性表面波装置の概略製造方法
は以下のとおりである。
The method of manufacturing such a surface acoustic wave device is as follows.

【0006】まず、鏡面加工を施された複数素子が複数
抽出できる圧電性材料のウエハーを用意する。
First, a wafer of a piezoelectric material from which a plurality of mirror-finished elements can be extracted is prepared.

【0007】次に、各素子領域にアルミニウムなどを薄
膜技術で、励振、送受信などを行う、例えばインタディ
ジタル電極などの各種電極を形成する。
Next, various electrodes such as interdigital electrodes for performing excitation, transmission / reception, etc. are formed in each element region by a thin film technique such as aluminum.

【0008】次に、各素子領域毎に特性をチェックす
る。この時、特性測定装置の各プローブを所定電極、例
えば信号電位側のプローブを各信号側電極の入出力用パ
ッドに、アース電位側のプローブを各アース側の電極の
アース用パッドに接触させて行う。この結果、特性不良
の素子に対しては、その素子領域に不良を示すマーキン
グを行う。
Next, the characteristics are checked for each element region. At this time, each probe of the characteristic measuring device is brought into contact with a predetermined electrode, for example, the probe on the signal potential side is brought into contact with the input / output pad of the electrode on the signal side, and the probe on the ground potential side is brought into contact with the ground pad of the electrode on the ground side. To do. As a result, with respect to the element having the defective characteristic, marking indicating the defect is performed on the element region.

【0009】次に、各素子の境界に沿って、ダイヤモン
ドソーなどで切断し、個々の素子とする。
Next, along the boundary of each element, it is cut into individual elements by cutting with a diamond saw or the like.

【0010】そして、不良マーキングされた素子を除去
する。
Then, the defectively marked element is removed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従来の構造では、各素
子毎の特性をチェックを行う場合、信号側とアース側の
櫛歯電極から成る入力側、出力側のインタディジタル電
極があり、さらに、アース電極があり、夫々のアース電
位の各電極が分散しているためには、特性測定装置のプ
ローブは入力信号用、出力信号用、3つのアース電位用
を用意して、各電極の一部、例えばパッド部分にプロー
ブを接触させなければならなかった。
In the conventional structure, when checking the characteristics of each element, there are interdigital electrodes on the input side and the output side which are composed of comb-teeth electrodes on the signal side and the ground side. Since there is a ground electrode and each electrode of each ground potential is dispersed, the probe of the characteristic measuring device prepares an input signal, an output signal, and three ground potentials. For example, the probe had to be brought into contact with the pad portion.

【0012】これにより、複数のプローブ中1つでも接
触状態が不安定であると、確実な特性を測定することが
できない。
As a result, if even one of the plurality of probes has an unstable contact state, it is impossible to measure a reliable characteristic.

【0013】しかも、複数の素子領域が配置されたウェ
ハー上で、各素子領域ごとに確実に接触させるために、
プローブとパッドとの接触位置合わせが困難であった。
Moreover, in order to surely make contact with each element region on a wafer on which a plurality of element regions are arranged,
The contact alignment between the probe and the pad was difficult.

【0014】本発明は上述の課題に鑑みて案出されたも
のであり、その目的は特性チェックにおいて、各素子の
アース電位の各電極を共通化して、アース電位のプロー
ブをウェハー又は素子に対して、一箇所に接続するよう
にして、特性チェックにおけるプローブの接触を実質的
に信号側の入力用と出力用だけとして、特性測定の信頼
性を向上させるものである。
The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and the purpose thereof is to make each electrode of the ground potential of each element common in the characteristic check, and to connect the probe of the ground potential to the wafer or the element. Thus, the reliability of characteristic measurement is improved by connecting the probe at one location so that the probe contacts substantially only for input and output on the signal side in the characteristic check.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、矩形状の圧電
基板の表面に、信号側電位の櫛歯電極とアース電位の櫛
歯電極とからなるインタディジタル電極を複数配置して
成る弾性表面波装置において、前記矩形状の圧電基板の
少なくとも1端辺にアース電位側の各電極と接続する共
通アース電極膜を形成した弾性表面波装置である。
According to the present invention, an elastic surface is formed by arranging a plurality of interdigital electrodes each having a comb-teeth electrode having a signal side potential and a comb-teeth electrode having a ground potential on a surface of a rectangular piezoelectric substrate. In the wave device, a surface acoustic wave device in which a common ground electrode film connected to each electrode on the ground potential side is formed on at least one edge of the rectangular piezoelectric substrate.

【0016】[0016]

【作用】以上の構成により、例えば1素子を例にして説
明すれば、複数のアース電位側の各電極が共通アース電
極膜によって、共通化されているため、この共通アース
電極膜の一部に特性測定装置のアース電位のプローブを
接触又は接続させるだけで、素子の全てのアース電位の
各電極に接続させることができる。従って、実際の測定
にあたり、特性測定装置の信号電位側のプローブだけの
操作となるため、操作対象のプローブ数が減り、その位
置決めが容易となり、接触信頼性を向上させることがで
きる。
With the above structure, for example, in the case where one element is taken as an example, each electrode on the ground potential side is shared by the common ground electrode film. It is possible to connect all the electrodes of the ground potential of the device by simply contacting or connecting the probe of the ground potential of the characteristic measuring device. Therefore, in actual measurement, since only the probe on the signal potential side of the characteristic measuring device is operated, the number of probes to be operated is reduced, the positioning is facilitated, and the contact reliability can be improved.

【0017】また、特にアース電極膜が圧電基板の基板
の少なくとも1端辺、即ち切断線部分に形成されてい
る。従って、ウエハー状態では、共通アース電極膜が互
いに接続されることになるため、全てのウエハー上の素
子を特性チェックを行うにあたり、特性測定装置のアー
ス電位のプローブは、共通アース電極膜の任意の位置に
1箇所だけ接続すればよく、実際に特性チェック時は、
入力用、出力用のプーロブを操作するだけでよい。
Further, in particular, the ground electrode film is formed on at least one edge of the substrate of the piezoelectric substrate, that is, the cutting line portion. Therefore, in the wafer state, the common ground electrode films are connected to each other. Therefore, when performing the characteristic check on all the elements on the wafer, the probe of the ground potential of the characteristic measuring apparatus uses the common ground electrode film of any arbitrary value. Only one place needs to be connected to the position, and when actually checking the characteristics,
All you have to do is manipulate the input and output plobs.

【0018】また、圧電基板の端辺、ウエハーの切断線
部分に共通アース電極膜が形成されているため、切断工
程において、ソーの位置ずれをなくすことができる。
Further, since the common ground electrode film is formed on the edge of the piezoelectric substrate and the cutting line of the wafer, the saw can be prevented from being displaced in the cutting process.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明の弾性表面波装置を図面に基づ
いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The surface acoustic wave device of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1は弾性表面波装置の外観斜視図であ
り、図2は複数の素子が配置された状態のウエハーの一
部を示す平面図である。
FIG. 1 is an external perspective view of a surface acoustic wave device, and FIG. 2 is a plan view showing a part of a wafer in which a plurality of elements are arranged.

【0021】1は圧電基板、2は入力側のインタディジ
タル電極、3は出力側のインタディジタル電極、4はア
ース電極である。
Reference numeral 1 is a piezoelectric substrate, 2 is an input side interdigital electrode, 3 is an output side interdigital electrode, and 4 is a ground electrode.

【0022】圧電基板1は、チタン酸ジルコン酸鉛など
の圧電性セラミック基板や水晶、タンタル酸リチウム、
ニオブ酸リチウム、四ほう酸リチウムなどの圧電性単結
晶基板が例示できる。尚、圧電基板は、弾性波が発生す
るように分極処理(セラミック基板の場合)や所定カッ
ト処理(単結晶基板の場合)が施されている。
The piezoelectric substrate 1 is a piezoelectric ceramic substrate such as lead zirconate titanate, quartz, lithium tantalate, or the like.
A piezoelectric single crystal substrate such as lithium niobate or lithium tetraborate can be exemplified. The piezoelectric substrate is subjected to a polarization treatment (in the case of a ceramic substrate) or a predetermined cut treatment (in the case of a single crystal substrate) so that an elastic wave is generated.

【0023】インタディジタル電極2、3、アース電極
4は、アルミニウム、Auなどの金属材料をスパッタリ
ングなどの薄膜技術によって、所定形状、所定厚みによ
って形成されている。特に、インタディジタル電極2
は、信号電位の櫛歯電極2aと、この櫛歯電極2aと噛
み合うようアース電位の櫛歯電極2bとから成る。ま
た、出力側のインタディジタル電極3についも、櫛歯電
極3a、3bとから構成さられている。
The interdigital electrodes 2 and 3 and the ground electrode 4 are formed of a metal material such as aluminum or Au in a predetermined shape and a predetermined thickness by a thin film technique such as sputtering. In particular, the interdigital electrode 2
Comprises a comb-teeth electrode 2a having a signal potential and a comb-teeth electrode 2b having a ground potential so as to mesh with the comb-teeth electrode 2a. The interdigital electrode 3 on the output side is also composed of comb-teeth electrodes 3a and 3b.

【0024】所定形状とは、特にインタディジタル電極
2、3の隣接する櫛歯電極2a、2b、3aと3bのピ
ッチ、隣接する櫛歯電極2a、2b、3aと3bの対数
をいい、その他にその厚み、インタディジタル電極2、
3とアース電極4との間隔なども特性に応じて所定値に
制御されている。例えば、隣接する櫛歯電極2a、2
b、3aと3bのピッチは、圧電基板1に発生する弾性
波の1/4波長λに相当するように設定されており、隣
接する櫛歯電極2a、2b、3aと3bの対数や厚み
は、圧電材料が有する電気機械結合係数による弾性波に
よる励振強度を制御する。
The predetermined shape means, in particular, the pitch of adjacent comb-teeth electrodes 2a, 2b, 3a and 3b of interdigital electrodes 2 and 3, the number of pairs of adjacent comb-teeth electrodes 2a, 2b, 3a and 3b, and others. Its thickness, interdigital electrode 2,
The distance between the electrode 3 and the ground electrode 4 is also controlled to a predetermined value according to the characteristics. For example, the adjacent comb-teeth electrodes 2a, 2
The pitch of b, 3a and 3b is set so as to correspond to a quarter wavelength λ of the elastic wave generated on the piezoelectric substrate 1, and the logarithm and thickness of the adjacent comb tooth electrodes 2a, 2b, 3a and 3b are , Controls the excitation intensity by elastic waves due to the electromechanical coupling coefficient of the piezoelectric material.

【0025】また、入力側のインタディジタル電極2の
信号側の櫛歯電極2a、出力側のインタディジタル電極
3の信号側の櫛歯電極3aの一部には、外部回路と接続
する接続パッド21a、31aが形成されている。
A part of the signal-side comb-teeth electrode 2a of the input-side interdigital electrode 2 and the signal-side comb-teeth electrode 3a of the output-side interdigital electrode 3 has a connection pad 21a connected to an external circuit. , 31a are formed.

【0026】本発明の特徴的なことは、矩形状の圧電基
板1の4端辺のうち、少なくとも1端辺、図1では4端
辺ともに、共通アース電極膜5が形成されていることで
ある。
A characteristic of the present invention is that the common ground electrode film 5 is formed on at least one of the four sides of the rectangular piezoelectric substrate 1, that is, on the four sides in FIG. is there.

【0027】そして、入力側のインタディジタル電極2
のアース電位側の櫛歯電極2b、出力側のインタディジ
タル電極3のアース電位の櫛歯電極3b、アース電極4
は、夫々共通アース電極膜5に引き出し導体膜21b、
31b、41を介して電気的に接続されている。また、
引き出し導体膜21bの一部には、外部回路と接続する
アース電位用の接続パッド42が形成されている。
The interdigital electrode 2 on the input side
Ground potential side comb tooth electrode 2b, output side interdigital electrode 3 ground potential comb tooth electrode 3b, ground electrode 4
Are drawn out to the common ground electrode film 5 and the conductor film 21b,
It is electrically connected via 31b and 41. Also,
A connection pad 42 for ground potential that is connected to an external circuit is formed on a part of the lead conductor film 21b.

【0028】上述の構成の弾性表面波装置は、複数の装
置(素子)が抽出できる充分に大きいウエハーから作ら
れる。
The surface acoustic wave device having the above-mentioned structure is made from a wafer large enough to extract a plurality of devices (elements).

【0029】ウエハーは、例えば上述の圧電単結晶の引
き上げによって形成された直径3インチのインゴットよ
り所定カット角になるよに所定厚みで切り出され、さら
に鏡面加工が施されている。また、矩形状のウエハーで
あっても構わない。さらに、セラミック材料の場合、分
極処理されたものが用いられる。
The wafer is cut out from an ingot having a diameter of 3 inches formed by, for example, pulling up the above-mentioned piezoelectric single crystal to a predetermined cutting angle so as to have a predetermined cutting angle, and further mirror-finished. Further, it may be a rectangular wafer. Further, in the case of a ceramic material, a polarized material is used.

【0030】次に、各素子領域に対応して、薄膜技術に
よって、入出力用インタディジタル電極2、3、アース
電極4、引き出し導体膜21b、31b、41、共通ア
ース電極膜5、接続用パッド21a、22b、42を形
成する。
Next, corresponding to each element region, by the thin film technology, the input / output interdigital electrodes 2, 3, the ground electrode 4, the lead conductor films 21b, 31b, 41, the common ground electrode film 5, and the connection pad. 21a, 22b and 42 are formed.

【0031】薄膜技術とは、例えばウエハー上にアルミ
ニウム、Auなどの電極材料となる金属膜をスパッタリ
ングなどで被着して、その後、エッチング用レジストを
塗布・形成し、電極形状に応じて不要な部分の金属膜を
エッチング処理し、レジスト膜を剥離・洗浄する。
The thin film technology is, for example, a metal film which is an electrode material such as aluminum or Au is deposited on a wafer by sputtering or the like, and then an etching resist is applied and formed, which is unnecessary depending on the shape of the electrode. The metal film on the part is etched, and the resist film is removed and washed.

【0032】また、ウエハー上に電極の形状に対応し
て、開口を有するレジスト膜を形成し、アルミニウム、
Auなどの電極材料となる金属膜を被着して、その後、
レジストを剥離・洗浄して形成する。
Further, a resist film having openings corresponding to the shape of the electrodes is formed on the wafer, and aluminum,
After depositing a metal film such as Au as an electrode material,
It is formed by peeling and cleaning the resist.

【0033】この時、ウエハー10上に形成されたは共
通アース電極膜50は、図2に示すように、各素子領域
を区画するように縦横に形成され、素子領域の外側にお
いてはベタ状導体膜51に形成されている。即ち、各素
子領域を区画するように縦横に形成された共通アース電
極膜50はベタ状導体膜51に接続されている。
At this time, the common ground electrode film 50 formed on the wafer 10 is formed vertically and horizontally so as to partition each element region as shown in FIG. 2, and a solid conductor is formed outside the element region. It is formed on the film 51. That is, the common ground electrode film 50 formed vertically and horizontally so as to partition each element region is connected to the solid conductor film 51.

【0034】次に、各素子に対して特性チェックを行
う。具体的には、ウエハー10の外周側のベタ状導体膜
51に、特性測定用の測定装置のアース電位プローブを
接触、または接続させて、各素子領域の入出力側のイン
タディジタル電極2、3の接続パッド21a、31a
に、特性測定用の測定装置の信号側の入力用プローブ、
出力用プローブを接触させて、特性の測定を行う。ウエ
ハー10上に配置された他の素子領域の特性を測定する
場合には、特性測定用の測定装置の信号側の入力用プロ
ーブ、出力用プローブのみを他の素子領域の入出力側の
インタディジタル電極2、3の接続パッド21a、31
aに移動・接触させて、全素子について特性のチェック
を行う。この結果、特性が充分に満足されなかった素子
は、特性不良であることを示すマーキングが施される。
Next, the characteristics of each element are checked. Specifically, the solid conductor film 51 on the outer peripheral side of the wafer 10 is brought into contact with or connected to a ground potential probe of a measuring device for characteristic measurement, and the interdigital electrodes 2, 3 on the input / output side of each element region are connected. Connection pads 21a, 31a of
In addition, the input probe on the signal side of the measuring device for characteristic measurement,
The output probe is contacted and the characteristics are measured. When measuring the characteristics of other element regions arranged on the wafer 10, only the input probe and the output probe on the signal side of the measuring device for characteristic measurement are interdigital on the input and output sides of the other element regions. Connection pads 21a, 31 of electrodes 2, 3
The characteristics are checked for all elements by moving and contacting with a. As a result, the element whose characteristic is not sufficiently satisfied is marked with a mark indicating that the characteristic is defective.

【0035】尚、特性測定装置の信号側の入力用プロー
ブ、出力用プローブを、ウエハー10上に配置された全
素子領域に対応して複数連設させ、一括的または順次走
査して特性を測定して構わない。
It should be noted that a plurality of input probes and output probes on the signal side of the characteristic measuring device are arranged in a row corresponding to all element regions arranged on the wafer 10, and the characteristics are measured collectively or sequentially. I don't mind.

【0036】いずれの場合においても、各素子のアース
電位の各電極(櫛歯電極)は、ウエハー10の外周部に
形成したベタ状導体膜51と電気的に接続する共通アー
ス電極膜50に接続されているため、各素子領域上での
アース電位用のプーロブの移動・接触が省略されるた
め、素子とプローブとの接触部分が減少して、接触信頼
性が向上するとともに、特性チェックのプローブ数が減
少するため、迅速、且つ確実な操作が可能となる。
In any case, each electrode (comb-teeth electrode) at the ground potential of each element is connected to the common ground electrode film 50 electrically connected to the solid conductor film 51 formed on the outer peripheral portion of the wafer 10. Since the movement and contact of the ground potential for the probing on each element area is omitted, the contact area between the element and the probe is reduced, the contact reliability is improved, and the probe for the characteristic check is used. Since the number is reduced, quick and reliable operation becomes possible.

【0037】次に、ウエハーから各素子を切断する。具
体的には、図2に示す点線、即ち共通アース電極膜50
にに沿って、ダイシングソーなどを用いて切断する。
Next, each element is cut from the wafer. Specifically, the dotted line shown in FIG. 2, that is, the common ground electrode film 50.
Along the line, cut with a dicing saw or the like.

【0038】この切断工程において、各素子領域を区画
するように縦横に共通アース電極膜50が形成されてい
るため、ダイシング位置のズレを簡単に目視によって確
認することができ、ダイシングの位置ズレを簡単に修正
することができ、切断信頼性が飛躍的に向上することに
なる。
In this cutting step, since the common ground electrode film 50 is formed vertically and horizontally so as to partition each element region, it is possible to easily visually confirm the displacement of the dicing position, and the displacement of the dicing position can be confirmed. It can be easily corrected and the cutting reliability will be greatly improved.

【0039】最後に、特性チェック工程によって、特性
不良マーキングが付与された素子を除外して選別するこ
とによって、特性が良好な弾性表面波装置が得られるこ
とになる。
Finally, in the characteristic checking step, the surface acoustic wave device having excellent characteristics can be obtained by excluding and selecting the elements provided with the defective marking.

【0040】ここで、本発明の弾性表面波装置の矩形状
の圧電基板1の少なくとも一端辺に形成された共通アー
ス電極膜5とは、ウエハー10に形成した共通アース電
極膜50の一部であり、例えば、ダイシングを共通アー
ス電極膜50の中央部で切断した場合には、結果とし
て、矩形状の圧電基板1の4つの各端辺に形成され、例
えば共通アース電極膜50の一方側の端部に沿って切断
した場合には、ある端辺には、共通アース電極膜50の
一部が形成されていない場合もあるし、また、端辺から
中央側に入り込むこともあるし、また、共通アース電極
膜5が断続的な状態になることもあるが、これら全て包
含するものである。
Here, the common ground electrode film 5 formed on at least one end side of the rectangular piezoelectric substrate 1 of the surface acoustic wave device of the present invention is a part of the common ground electrode film 50 formed on the wafer 10. Yes, for example, when dicing is cut at the central portion of the common ground electrode film 50, as a result, it is formed on each of the four edges of the rectangular piezoelectric substrate 1, and, for example, on one side of the common ground electrode film 50. When cut along the edge, a part of the common ground electrode film 50 may not be formed on a certain edge, or may enter the center from the edge. The common ground electrode film 5 may be in an intermittent state, but this is all included.

【0041】上述の実施例において、入出力側のインタ
ディジタル電極2、3の信号側の櫛歯電極2a、3aに
形成した接続パッド21a、31aを利用して、測定用
のプローブを接触させているが、弾性波の伝搬に影響の
ない位置に、櫛歯電極2a、3aに接続するプローブ用
の接続パッドを別途設けても構わない。
In the above-described embodiment, the measuring pads are brought into contact with each other by utilizing the connection pads 21a and 31a formed on the comb-shaped electrodes 2a and 3a on the signal side of the interdigital electrodes 2 and 3 on the input and output sides. However, a connection pad for a probe connected to the comb-teeth electrodes 2a, 3a may be separately provided at a position that does not affect the propagation of elastic waves.

【0042】また、各電極の構造は、各種用途によって
種々の変更が可能であり、例えば共振器型フィルタの場
合に、圧電基板の中央に、入出力側のインタディジタル
電極を弾性波の伝搬方向に所定間隔において形成し、弾
性波の伝搬方向で入出力側のインタディジタル電極を挟
むように、すだれ状の反射電極を形成する。
Further, the structure of each electrode can be variously changed according to various uses. For example, in the case of a resonator type filter, an interdigital electrode on the input / output side is provided at the center of the piezoelectric substrate in the propagation direction of the elastic wave. And the interdigital electrodes on the input and output sides are sandwiched in the propagation direction of the elastic wave so that the interdigital electrodes are formed.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上、本発明によれば、矩形状の圧電基
板の端辺に共通アース導体膜を形成し、該共通アース電
極膜とアース電位となる各電極・櫛歯電極とを接続した
たため、特性チェックにおいて、特性測定装置のアース
電位のプローブを共通化することができるため、操作を
対象とするプローブが実質的に減少して、プローブの接
触信頼性が向上し、正確な特性を安定的に測定できる。
As described above, according to the present invention, the common ground conductor film is formed on the edge of the rectangular piezoelectric substrate, and the common ground electrode film is connected to each electrode / comb-tooth electrode which is at ground potential. Therefore, in the characteristic check, the ground potential probe of the characteristic measuring device can be used in common, so the number of probes targeted for operation is substantially reduced, the contact reliability of the probe is improved, and accurate characteristics are ensured. Can measure stably.

【0044】また、特性チェックはウエハ上に形成され
た各素子毎に測定されるが、ウエハー上に形成された複
数の素子が共通アース電極膜によって、共通的に接続さ
れているため、実質的には信号側のプローブの操作だけ
となるため、特性測定工程が大きく簡略化される。
The characteristic check is measured for each element formed on the wafer. However, since a plurality of elements formed on the wafer are commonly connected by the common ground electrode film, the characteristic check is substantially performed. Since only the probe on the signal side is operated, the characteristic measurement process is greatly simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の弾性表面波装置の外観斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view of a surface acoustic wave device of the present invention.

【図2】ウエハー状態の部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view of a wafer state.

【付号の説明】[Explanation of supplements]

1・・・圧電基板、 10・・ウエハー 2・・・入力側インタディジタル電極 2a・・信号電位の櫛歯電極 21a・・接続パッド 2b・・アース電位の櫛歯電極 21b・・引き出し導体膜 3・・・出力側インタディジタル電極 3a・・信号電位の櫛歯電極 31a・・接続パッド 3b・・アース電位の櫛歯電極 31b・・引き出し導体膜 4・・・・アース電極 41・・・引き出し導体膜 5、50・・・共通アース電極膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Piezoelectric substrate 10 ... Wafer 2 ... Input side interdigital electrode 2a ... Comb-shaped electrode 21a of signal potential ... Connection pad 2b ... Comb-shaped electrode 21b of ground potential ... Lead-out conductor film 3 ... Output side interdigital electrode 3a ... Comb-shaped electrode 31a of signal potential ... Connection pad 3b ... Comb-shaped electrode 31b of earth potential ... Lead conductor film 4 ... Ground electrode 41 ... Lead conductor Membrane 5, 50 ... Common earth electrode membrane

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 矩形状の圧電基板の表面に、信号側電位
の櫛歯電極とアース電位側の櫛歯電極とからなるインタ
ディジタル電極を配置して成る弾性表面波装置におい
て、 前記矩形状の圧電基板の少なくとも1端辺にアース電位
側の櫛歯電極と接続する共通アース電極膜を形成したこ
とを特徴とする弾性表面波装置。
1. A surface acoustic wave device comprising an interdigital electrode composed of a comb-teeth electrode having a signal-side potential and a comb-teeth electrode having a ground potential on a surface of a rectangular piezoelectric substrate. A surface acoustic wave device comprising a piezoelectric substrate and a common ground electrode film connected to a comb-teeth electrode on the ground potential side formed on at least one end of the piezoelectric substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010010812A (en) * 2008-06-24 2010-01-14 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Piezoelectric component and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010010812A (en) * 2008-06-24 2010-01-14 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Piezoelectric component and manufacturing method thereof
JP4664397B2 (en) * 2008-06-24 2011-04-06 日本電波工業株式会社 Piezoelectric component and manufacturing method thereof
US8332995B2 (en) 2008-06-24 2012-12-18 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Method of manufacturing a piezoelectric component

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