JPH0815149A - レーザ式ガス分析装置 - Google Patents
レーザ式ガス分析装置Info
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- JPH0815149A JPH0815149A JP14727894A JP14727894A JPH0815149A JP H0815149 A JPH0815149 A JP H0815149A JP 14727894 A JP14727894 A JP 14727894A JP 14727894 A JP14727894 A JP 14727894A JP H0815149 A JPH0815149 A JP H0815149A
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- laser light
- laser
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分析すべきガスの領域が広くなっても分析精
度が劣化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガ
ス分析装置を提供する。 【構成】 レーザ式ガス分析装置において、非防爆地域
Ｂ内に配置されレーザ光を発生するレーザ光源20と、非
防爆地域Ｂに配置されレーザ光源20の出力及び波長を制
御すると共に受光したレーザ光を分析するコントローラ
26と、入射端21ａがレーザ光源20に接続されると共に出
射端21ｂが防爆地域Ａ内に伸びるように配置される光フ
ァイバ21と、光ファイバ21の出射端21ｂに設けられ、光
ファイバ21からのレーザ光を平行光にして防爆地域Ａ内
のガスに照射するための光学系22と、防爆地域Ａ内に配
置され、平行にされた後ガスを透過したレーザ光を直接
受光する受光素子25と、受光素子25からの受光信号をコ
ントローラ26に伝送するための信号線27とを備えたこと
を特徴としている。
度が劣化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガ
ス分析装置を提供する。 【構成】 レーザ式ガス分析装置において、非防爆地域
Ｂ内に配置されレーザ光を発生するレーザ光源20と、非
防爆地域Ｂに配置されレーザ光源20の出力及び波長を制
御すると共に受光したレーザ光を分析するコントローラ
26と、入射端21ａがレーザ光源20に接続されると共に出
射端21ｂが防爆地域Ａ内に伸びるように配置される光フ
ァイバ21と、光ファイバ21の出射端21ｂに設けられ、光
ファイバ21からのレーザ光を平行光にして防爆地域Ａ内
のガスに照射するための光学系22と、防爆地域Ａ内に配
置され、平行にされた後ガスを透過したレーザ光を直接
受光する受光素子25と、受光素子25からの受光信号をコ
ントローラ26に伝送するための信号線27とを備えたこと
を特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ式ガス分析装置
に関し、特に防爆地域内のガスを分析するレーザ式ガス
分析装置に関する。
に関し、特に防爆地域内のガスを分析するレーザ式ガス
分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３はレーザ式ガス分析装置の従来例で
ある。
ある。
【０００３】同図において、１はレーザ光を発生するレ
ーザ光源であり、２はレーザ光源１からのレーザ光の光
路Ｌ1 を反射して折り返す鏡（コーナキューブミラー）
である。コーナキューブミラー２は互いに直交する３枚
の平面ミラーで構成されている。コーナキューブミラー
２に入射した光は必ずその入射光と平行な出射戻り光と
して反射される。３はコーナキューブミラー２で折り返
された光路Ｌ2 上のレーザ光を受光する受光素子からな
る受光部である。これらレーザ光源１、コーナキューブ
ミラー２及び受光部３は防爆地域Ａ（図では破線の右
側）内に配置されている。
ーザ光源であり、２はレーザ光源１からのレーザ光の光
路Ｌ1 を反射して折り返す鏡（コーナキューブミラー）
である。コーナキューブミラー２は互いに直交する３枚
の平面ミラーで構成されている。コーナキューブミラー
２に入射した光は必ずその入射光と平行な出射戻り光と
して反射される。３はコーナキューブミラー２で折り返
された光路Ｌ2 上のレーザ光を受光する受光素子からな
る受光部である。これらレーザ光源１、コーナキューブ
ミラー２及び受光部３は防爆地域Ａ（図では破線の右
側）内に配置されている。
【０００４】４はレーザ光源１の出力及び発振波長を制
御すると共に受光部３からの受光信号より防爆地域Ａ内
に存在する爆発性のガスの濃度や分布等を分析するコン
トローラであり、防爆地域Ａに隣接する非防爆地域Ｂ
（図では破線の左側）内に配置されている。レーザ光源
１及び受光部３と、コントローラ４とは信号線５で接続
されている。
御すると共に受光部３からの受光信号より防爆地域Ａ内
に存在する爆発性のガスの濃度や分布等を分析するコン
トローラであり、防爆地域Ａに隣接する非防爆地域Ｂ
（図では破線の左側）内に配置されている。レーザ光源
１及び受光部３と、コントローラ４とは信号線５で接続
されている。
【０００５】レーザ光源１で発生したレーザ光が防爆地
域Ａ内に存在するガスを照射し、ガスを透過したレーザ
光がコーナキューブミラー２で折り返されて再びガスを
照射し、透過したレーザ光が受光部３で受光される。コ
ントローラ４が受光部３からの受光信号よりガスの濃度
や分布等を分析する。
域Ａ内に存在するガスを照射し、ガスを透過したレーザ
光がコーナキューブミラー２で折り返されて再びガスを
照射し、透過したレーザ光が受光部３で受光される。コ
ントローラ４が受光部３からの受光信号よりガスの濃度
や分布等を分析する。
【０００６】図４はレーザ式ガス分析装置の他の従来例
である。尚、図３に示した部材と同様の部材には共通の
符号を用いた。
である。尚、図３に示した部材と同様の部材には共通の
符号を用いた。
【０００７】同図において、６は入射端がレーザ光源１
の出射口に接続され、出射端が防爆地域Ａ内に伸びるよ
うに配置された光ファイバであり、７は出射端から出射
されるレーザ光（発散光）８を平行光にする凸レンズで
ある。９は、コーナキューブミラー２で折り返され光路
Ｌ2 を通るレーザ光を受光して集光するための凸レンズ
である。１０は凸レンズ９で集光されたレーザ光（収束
光）１１を入射端で受光すると共に非防爆地域Ｂ内に伸
びるように配置された光ファイバである。光ファイバ１
０の出射端は受光部３の受光素子の受光面に接続されて
いる。
の出射口に接続され、出射端が防爆地域Ａ内に伸びるよ
うに配置された光ファイバであり、７は出射端から出射
されるレーザ光（発散光）８を平行光にする凸レンズで
ある。９は、コーナキューブミラー２で折り返され光路
Ｌ2 を通るレーザ光を受光して集光するための凸レンズ
である。１０は凸レンズ９で集光されたレーザ光（収束
光）１１を入射端で受光すると共に非防爆地域Ｂ内に伸
びるように配置された光ファイバである。光ファイバ１
０の出射端は受光部３の受光素子の受光面に接続されて
いる。
【０００８】レーザ光源１から出射したレーザ光が、光
ファイバ６で防爆地域Ａ内に伝送され凸レンズ７で平行
光にされ光路Ｌ1 を通ると共にガスを照射する。ガスを
透過したレーザ光がコーナキューブミラー２で折り返さ
れて光路Ｌ2 を通りガスを照射する。ガスを透過したレ
ーザ光は凸レンズ９で集光されて光ファイバ１０に入射
した後受光部３の受光素子で受光され、コントローラ４
で分析される。
ファイバ６で防爆地域Ａ内に伝送され凸レンズ７で平行
光にされ光路Ｌ1 を通ると共にガスを照射する。ガスを
透過したレーザ光がコーナキューブミラー２で折り返さ
れて光路Ｌ2 を通りガスを照射する。ガスを透過したレ
ーザ光は凸レンズ９で集光されて光ファイバ１０に入射
した後受光部３の受光素子で受光され、コントローラ４
で分析される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図３に示し
たレーザ式ガス分析装置は、レーザ光源１に防爆対策を
施さなければならない。防爆対策としては例えばレーザ
光源１の内部に爆発性のガスが浸入しないように密閉さ
れた強固な金属容器に格納し、レーザ光が透過するよう
十分な強度を採ったガラス室を設け、かつ内部に熱が蓄
積しないように冷却装置を設けることが挙げられる。こ
のため装置が複雑化、大型化し、製造工程が増加してし
まう。
たレーザ式ガス分析装置は、レーザ光源１に防爆対策を
施さなければならない。防爆対策としては例えばレーザ
光源１の内部に爆発性のガスが浸入しないように密閉さ
れた強固な金属容器に格納し、レーザ光が透過するよう
十分な強度を採ったガラス室を設け、かつ内部に熱が蓄
積しないように冷却装置を設けることが挙げられる。こ
のため装置が複雑化、大型化し、製造工程が増加してし
まう。
【００１０】他方、図４に示したレーザ式ガス分析装置
は、光ファイバを用いるので防爆対策が不要なものの光
ファイバ６，１０のコアの径はシングルモードの場合数
μｍ（マルチモードの場合でも百μｍ）しかなく、ビー
ム径が細いレーザ光を光ファイバの光軸に合わせるのは
非常に面倒である。特にレーザ光の光路Ｌ1 ，Ｌ2 の長
さを長くすることにより（数十ｍ）、広い範囲に亘って
防爆地域Ａ内のガスを分析しようとする場合、陽炎等の
大気ゆらぎの影響を受けて集光ビームスポットの位置が
変動して光ファイバ１０に入射したりしなかったりする
ので、ガスの分析精度が劣化する。また装置の周囲温度
が変化すると、コーナキューブミラー２や凸レンズ７，
９を支持する支持部材（図示せず）がわずかに伸縮し、
光軸がずれてガスを透過したレーザ光を光ファイバ１０
に入射できず分析できなくなることがある。
は、光ファイバを用いるので防爆対策が不要なものの光
ファイバ６，１０のコアの径はシングルモードの場合数
μｍ（マルチモードの場合でも百μｍ）しかなく、ビー
ム径が細いレーザ光を光ファイバの光軸に合わせるのは
非常に面倒である。特にレーザ光の光路Ｌ1 ，Ｌ2 の長
さを長くすることにより（数十ｍ）、広い範囲に亘って
防爆地域Ａ内のガスを分析しようとする場合、陽炎等の
大気ゆらぎの影響を受けて集光ビームスポットの位置が
変動して光ファイバ１０に入射したりしなかったりする
ので、ガスの分析精度が劣化する。また装置の周囲温度
が変化すると、コーナキューブミラー２や凸レンズ７，
９を支持する支持部材（図示せず）がわずかに伸縮し、
光軸がずれてガスを透過したレーザ光を光ファイバ１０
に入射できず分析できなくなることがある。
【００１１】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、分析すべきガスの領域が広くなっても分析精度が劣
化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガス分析
装置を提供することにある。
し、分析すべきガスの領域が広くなっても分析精度が劣
化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガス分析
装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、防爆地域内のガスにレーザ光を照射し、そ
のガスを透過したレーザ光を受光してそのガスを分析す
るレーザ式ガス分析装置において、非防爆地域内に配置
されレーザ光を発生するレーザ光源と、非防爆地域に配
置されレーザ光源の出力及び波長を制御すると共に受光
したレーザ光を分析するコントローラと、入射端がレー
ザ光源に接続されると共に出射端が防爆地域内に伸びる
ように配置される光ファイバと、光ファイバの出射端に
設けられ、光ファイバからのレーザ光を平行光にして防
爆地域内のガスに照射するための光学系と、防爆地域内
に配置され、平行にされた後ガスを透過したレーザ光を
直接受光する受光素子と、受光素子からの受光信号をコ
ントローラに伝送するための信号線とを備えたものであ
る。
に本発明は、防爆地域内のガスにレーザ光を照射し、そ
のガスを透過したレーザ光を受光してそのガスを分析す
るレーザ式ガス分析装置において、非防爆地域内に配置
されレーザ光を発生するレーザ光源と、非防爆地域に配
置されレーザ光源の出力及び波長を制御すると共に受光
したレーザ光を分析するコントローラと、入射端がレー
ザ光源に接続されると共に出射端が防爆地域内に伸びる
ように配置される光ファイバと、光ファイバの出射端に
設けられ、光ファイバからのレーザ光を平行光にして防
爆地域内のガスに照射するための光学系と、防爆地域内
に配置され、平行にされた後ガスを透過したレーザ光を
直接受光する受光素子と、受光素子からの受光信号をコ
ントローラに伝送するための信号線とを備えたものであ
る。
【００１３】
【作用】上記構成によれば、レーザ光源が非防爆地域内
に配置されているので、レーザ光源に対して防爆対策を
施す必要がなくなり、装置の大型化が防止されると共に
製造工程の増加が防止される。受光素子が防爆地域内に
配置されているので、ガスを透過したレーザ光を直接受
光することにより、大気ゆらぎの影響や光ファイバ内の
干渉による影響に起因する精度劣化が防止される。ま
た、受光素子の受光面は光ファイバのコアの断面より大
きいので、温度変化によってガスを透過したレーザ光の
光軸が変化しても、レーザ光が受光素子の受光面上を移
動するだけとなり受光素子で十分受光することができ、
分析精度の劣化が防止される。
に配置されているので、レーザ光源に対して防爆対策を
施す必要がなくなり、装置の大型化が防止されると共に
製造工程の増加が防止される。受光素子が防爆地域内に
配置されているので、ガスを透過したレーザ光を直接受
光することにより、大気ゆらぎの影響や光ファイバ内の
干渉による影響に起因する精度劣化が防止される。ま
た、受光素子の受光面は光ファイバのコアの断面より大
きいので、温度変化によってガスを透過したレーザ光の
光軸が変化しても、レーザ光が受光素子の受光面上を移
動するだけとなり受光素子で十分受光することができ、
分析精度の劣化が防止される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て詳述する。
て詳述する。
【００１５】図１は本発明のレーザ式ガス分析装置の一
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【００１６】同図において、２０はレーザ光を発生する
レーザ光源であり、２１は入射端２１ａがレーザ光源２
０に接続され、出射端２１ｂが防爆地域Ａ内に伸びるよ
うに配置された光ファイバである。２２は出射端２１ｂ
から出射されるレーザ光（発散光）２３を平行光にする
光学系としての凸レンズである。２４は、凸レンズ２２
で平行光にされ光路Ｌ3 を通るレーザ光を反射して光路
Ｌ3 と平行な方向に折り返すコーナキューブミラーであ
る。２５はコーナキューブミラー２４で折り返され、光
路Ｌ4 を通るレーザ光を受光する受光素子からなる受光
部（以下受光素子とする）である。これらレーザ光源２
０、コーナキューブミラー２４及び受光素子２５は防爆
地域Ａ内に配置されている。
レーザ光源であり、２１は入射端２１ａがレーザ光源２
０に接続され、出射端２１ｂが防爆地域Ａ内に伸びるよ
うに配置された光ファイバである。２２は出射端２１ｂ
から出射されるレーザ光（発散光）２３を平行光にする
光学系としての凸レンズである。２４は、凸レンズ２２
で平行光にされ光路Ｌ3 を通るレーザ光を反射して光路
Ｌ3 と平行な方向に折り返すコーナキューブミラーであ
る。２５はコーナキューブミラー２４で折り返され、光
路Ｌ4 を通るレーザ光を受光する受光素子からなる受光
部（以下受光素子とする）である。これらレーザ光源２
０、コーナキューブミラー２４及び受光素子２５は防爆
地域Ａ内に配置されている。
【００１７】他方、２６はレーザ光源２０の出力及び波
長を制御する制御信号を発生すると共に受光素子２５か
らの受光信号より防爆地域Ａ内の爆発性のガス（例えば
メタンガス）の濃度や分布等を分析するコントローラで
あり、非防爆地域Ｂ内に配置されている。２７は受光素
子２５からの受光信号をコントローラ２６に伝送するた
めの信号線であり、２８はコントローラ２６からの制御
信号を伝送するための信号線である。
長を制御する制御信号を発生すると共に受光素子２５か
らの受光信号より防爆地域Ａ内の爆発性のガス（例えば
メタンガス）の濃度や分布等を分析するコントローラで
あり、非防爆地域Ｂ内に配置されている。２７は受光素
子２５からの受光信号をコントローラ２６に伝送するた
めの信号線であり、２８はコントローラ２６からの制御
信号を伝送するための信号線である。
【００１８】このようなレーザ式ガス分析装置におい
て、レーザ光源２０からレーザ光が発生すると、レーザ
光は光ファイバ２１で防爆地域Ａ内に伝送されて光ファ
イバ２１の出射端２１ｂから発散し、凸レンズ２２で集
光されて平行光となり、光路Ｌ3 を通ると共に防爆地域
Ａ内に存在する爆発性のガスに照射される。ガスを透過
したレーザ光はコーナキューブミラー２４で反射して折
り返されて光路Ｌ4 を通り再びガスに照射される。ガス
を透過したレーザ光は受光素子２５で受光され、受光素
子２５から受光信号がコントローラ２６に伝送される。
コントローラ２６ではガスの濃度や分布等が分析され
る。分析結果はモニタに表示されたり、プリンタに記録
されるようになっている（いずれも図示せず）。
て、レーザ光源２０からレーザ光が発生すると、レーザ
光は光ファイバ２１で防爆地域Ａ内に伝送されて光ファ
イバ２１の出射端２１ｂから発散し、凸レンズ２２で集
光されて平行光となり、光路Ｌ3 を通ると共に防爆地域
Ａ内に存在する爆発性のガスに照射される。ガスを透過
したレーザ光はコーナキューブミラー２４で反射して折
り返されて光路Ｌ4 を通り再びガスに照射される。ガス
を透過したレーザ光は受光素子２５で受光され、受光素
子２５から受光信号がコントローラ２６に伝送される。
コントローラ２６ではガスの濃度や分布等が分析され
る。分析結果はモニタに表示されたり、プリンタに記録
されるようになっている（いずれも図示せず）。
【００１９】次に実施例の作用を述べる。
【００２０】レーザ式ガス分析装置は、レーザ光源２０
が非防爆地域Ｂ内に配置されているので、レーザ光源２
０に対して防爆対策を施す必要がなくなり、装置の大型
化が防止されると共に製造工程の増加が防止される。受
光素子２５が防爆地域Ａ内に配置されているので、ガス
を透過したレーザ光を直接受光することができ、大気ゆ
らぎの影響や光ファイバ２１内の干渉による影響に起因
する精度劣化が防止される。また、受光素子２５の受光
面の大きさは１ｍｍ以上あり、光ファイバ２１のコアの
断面の大きさは数μｍ程度しかないため、温度変化によ
ってコーナキューブミラー２４を支持する支持部材（図
示せず）が伸縮することにより、ガスを透過して光路Ｌ
4 を通り受光素子２５の受光面上のビームスポットの位
置が変動しても、ほとんど影響がなく、受光素子２５で
レーザ光を十分に受光することができる。このため分析
精度の劣化が防止される。
が非防爆地域Ｂ内に配置されているので、レーザ光源２
０に対して防爆対策を施す必要がなくなり、装置の大型
化が防止されると共に製造工程の増加が防止される。受
光素子２５が防爆地域Ａ内に配置されているので、ガス
を透過したレーザ光を直接受光することができ、大気ゆ
らぎの影響や光ファイバ２１内の干渉による影響に起因
する精度劣化が防止される。また、受光素子２５の受光
面の大きさは１ｍｍ以上あり、光ファイバ２１のコアの
断面の大きさは数μｍ程度しかないため、温度変化によ
ってコーナキューブミラー２４を支持する支持部材（図
示せず）が伸縮することにより、ガスを透過して光路Ｌ
4 を通り受光素子２５の受光面上のビームスポットの位
置が変動しても、ほとんど影響がなく、受光素子２５で
レーザ光を十分に受光することができる。このため分析
精度の劣化が防止される。
【００２１】本実施例のレーザ式ガス分析装置は、凸レ
ンズ２２、コーナキューブミラー２４間の距離（分析区
間、コーナキューブミラーと受光素子との距離）が２０
０ｍ程度でも精度劣化することなくガスの分析を行うこ
とができた（尚、分析区間はこの数値に限定されるもの
ではない）。
ンズ２２、コーナキューブミラー２４間の距離（分析区
間、コーナキューブミラーと受光素子との距離）が２０
０ｍ程度でも精度劣化することなくガスの分析を行うこ
とができた（尚、分析区間はこの数値に限定されるもの
ではない）。
【００２２】以上において本実施例ではレーザ光源及び
コントローラを非防爆地域に配置し、光ファイバの出射
端、凸レンズ、コーナキューブミラー及び受光素子を防
爆地域に配置したので、分析すべきガスを透過したレー
ザ光を受光素子で直接受光することができ、分析すべき
ガスの領域が広くなっても分析精度が劣化せず、しかも
装置の大きさが増加しないレーザ式ガス分析装置を実現
することができる。
コントローラを非防爆地域に配置し、光ファイバの出射
端、凸レンズ、コーナキューブミラー及び受光素子を防
爆地域に配置したので、分析すべきガスを透過したレー
ザ光を受光素子で直接受光することができ、分析すべき
ガスの領域が広くなっても分析精度が劣化せず、しかも
装置の大きさが増加しないレーザ式ガス分析装置を実現
することができる。
【００２３】図２は本発明のレーザ式ガス分析装置に用
いられる光学系の変形例を示す図である。
いられる光学系の変形例を示す図である。
【００２４】図１に示したレーザ式ガス分析装置に用い
られる光学系との相違点は、凸レンズの代わりに凹面鏡
を用いた点である。
られる光学系との相違点は、凸レンズの代わりに凹面鏡
を用いた点である。
【００２５】入射端２１ａがレーザ光源２０に接続され
た光ファイバ２１の出射端側２１ｂに、凹面鏡３０が配
置されている。凹面鏡３０は、光ファイバ２１から出射
したレーザ光３１を集光して平行光３２にすると共に、
この平行光３２がコーナキューブミラー２４に入射した
後受光素子２５（共に図１参照）に入射するように防爆
地域Ａ内に配置されている。
た光ファイバ２１の出射端側２１ｂに、凹面鏡３０が配
置されている。凹面鏡３０は、光ファイバ２１から出射
したレーザ光３１を集光して平行光３２にすると共に、
この平行光３２がコーナキューブミラー２４に入射した
後受光素子２５（共に図１参照）に入射するように防爆
地域Ａ内に配置されている。
【００２６】光学系に凹面鏡３０を用いることにより、
凸レンズ２２（図１参照）を用いたときに生じる透過損
失がない。尚、凹面鏡の代わりに放物面鏡を用いてもよ
く、この場合も透過損失がない。
凸レンズ２２（図１参照）を用いたときに生じる透過損
失がない。尚、凹面鏡の代わりに放物面鏡を用いてもよ
く、この場合も透過損失がない。
【００２７】尚、本実施例ではコーナキューブミラーを
用いてレーザ光の光路を折り返す場合で説明したが、こ
れに限定されるものではなく、ガスを透過したレーザ光
をコーナキューブミラーで折り返さずに直接受光素子で
受光するように構成してもよい。また、受光部を受光素
子で構成した場合で説明したが、受光素子と増幅回路と
で構成してもよい。
用いてレーザ光の光路を折り返す場合で説明したが、こ
れに限定されるものではなく、ガスを透過したレーザ光
をコーナキューブミラーで折り返さずに直接受光素子で
受光するように構成してもよい。また、受光部を受光素
子で構成した場合で説明したが、受光素子と増幅回路と
で構成してもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
な優れた効果を発揮する。
【００２９】非防爆地域内に配置されたレーザ光源から
のレーザ光を分析すべきガスに照射し、透過したレーザ
光を防爆地域内に配置された受光素子で直接受光するの
で、分析すべきガスの領域が広くなっても分析精度が劣
化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガス分析
装置を実現することができる。
のレーザ光を分析すべきガスに照射し、透過したレーザ
光を防爆地域内に配置された受光素子で直接受光するの
で、分析すべきガスの領域が広くなっても分析精度が劣
化せず、しかも装置の大型化を抑えたレーザ式ガス分析
装置を実現することができる。
【図１】本発明のレーザ式ガス分析装置の一実施例を示
す図である。
す図である。
【図２】本発明のレーザ式ガス分析装置に用いられる光
学系の変形例を示す図である。
学系の変形例を示す図である。
【図３】レーザ式ガス分析装置の従来例である。
【図４】レーザ式ガス分析装置の他の従来例である。
２０ レーザ光源 ２１ 光ファイバ ２１ａ 入射端 ２１ｂ 出射端 ２２ 光学系（凸レンズ） ２５ 受光部（受光素子） ２６ コントローラ ２７ 信号線 Ａ 防爆地域 Ｂ 非防爆地域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 草葉 義夫 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 倉田 孝男 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内
Claims (4)
- 【請求項１】 防爆地域内のガスにレーザ光を照射し、
そのガスを透過したレーザ光を受光してそのガスを分析
するレーザ式ガス分析装置において、非防爆地域内に配
置されレーザ光を発生するレーザ光源と、非防爆地域に
配置されレーザ光源の出力及び波長を制御すると共に受
光したレーザ光を分析するコントローラと、入射端がレ
ーザ光源に接続されると共に出射端が上記防爆地域内に
伸びるように配置される光ファイバと、該光ファイバの
出射端に設けられ、光ファイバからのレーザ光を平行光
にして防爆地域内のガスに照射するための光学系と、上
記防爆地域内に配置され、平行にされた後上記ガスを透
過したレーザ光を直接受光する受光素子と、該受光素子
からの受光信号を上記コントローラに伝送するための信
号線とを備えたことを特徴とするレーザ式ガス分析装
置。 - 【請求項２】 上記光学系が、上記光ファイバの出射端
側に配置された凸レンズ又は凸レンズ系からなる請求項
１記載のレーザ式ガス分析装置。 - 【請求項３】 上記光学系が、上記光ファイバの出射端
側に配置された凹面鏡又は凹面鏡系からなる請求項１記
載のレーザ式ガス分析装置。 - 【請求項４】 上記光学系が、上記光ファイバの出射端
側に配置された放物面鏡からなる請求項１記載のレーザ
式ガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14727894A JPH0815149A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | レーザ式ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14727894A JPH0815149A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | レーザ式ガス分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815149A true JPH0815149A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15426601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14727894A Pending JPH0815149A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | レーザ式ガス分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0815149A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014171461A1 (ja) | 2013-04-17 | 2014-10-23 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 樹脂組成物及び成形品 |
| CN108548699A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-09-18 | 锦州华冠环境科技实业股份有限公司 | 氯化氢在线监测分析系统 |
-
1994
- 1994-06-29 JP JP14727894A patent/JPH0815149A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014171461A1 (ja) | 2013-04-17 | 2014-10-23 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 樹脂組成物及び成形品 |
| CN108548699A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-09-18 | 锦州华冠环境科技实业股份有限公司 | 氯化氢在线监测分析系统 |
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