JPH0791282B2 - Method for purifying ethylene oxide - Google Patents

Method for purifying ethylene oxide

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JPH0791282B2
JPH0791282B2 JP61171831A JP17183186A JPH0791282B2 JP H0791282 B2 JPH0791282 B2 JP H0791282B2 JP 61171831 A JP61171831 A JP 61171831A JP 17183186 A JP17183186 A JP 17183186A JP H0791282 B2 JPH0791282 B2 JP H0791282B2
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ethylene oxide
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conduit
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雅行 沢田
宣明 梶本
勇 木口
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、エチレンオキシドの精製方法に関するもので
ある。エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
と接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有す
る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収
液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりの
ガスはエチレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシ
ドを含むエチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシ
ド放散塔へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂からエチ
レンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水
を含む留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質
分分離塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精
留塔でエチレンオキシドを精留する工程よりなるエチレ
ンオキシドの精製方法において、エチレンオキシド精留
塔および/または軽質分分離塔の加熱エネルギーを低減
させるエチレンオキシドの精製方法に関するものであ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for purifying ethylene oxide. In the presence of a silver catalyst, a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic gas-phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas is introduced into an ethylene oxide absorption tower and brought into countercurrent contact with the absorption liquid, and the ethylene oxide absorption tower top The gas is circulated to the ethylene oxidation reaction step, the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower containing ethylene oxide is supplied to the ethylene oxide diffusion tower, ethylene oxide is diffused from the top of the ethylene oxide diffusion tower, the distillate containing ethylene oxide and water is condensed, and the dehydration tower In a method for purifying ethylene oxide, which comprises the steps of separating water with a light fraction separator, separating light fraction with a light fraction separator, and then rectifying ethylene oxide with an ethylene oxide fractionator, heating the ethylene oxide fractionator and / or the light fraction separator. Energy-saving ethylene oxide It relates to the purification process.

(従来の技術) エチレンオキシドは一般につぎにようにして精製され
る。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触
気相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸
収液と向流接触させエチレンオキシド水溶液として回収
し、ついでエチレンオキシド放散塔へ送りエチレンオキ
シド放散塔底部を加熱蒸気で加熱することによってエチ
レンオキシドを水溶液から放散させエチレンオキシド放
散塔底部より実質的にエチレンオキシドを含まない水溶
液は吸収液として循環使用し、エチレンオキシド放散塔
頂部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化炭
素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン)の
他ホルムアルデヒド等の低沸点不純物およびアセトアル
デヒド、酢酸等の高沸点不純物を含む放散物を脱水工
程、軽質分分離工程および重質分分離工程の各々を経て
精製しエチレンオキシドを製造することができる。エチ
レンオキシドの回収方法については種々の提案がされて
いる。たとえば、 米国特許第3,165,539号、米国特許第2,771,473号、米国
特許第4,028,070号、米国特許第3,097,215号、米国特許
第3,217,466号、米国特許第3,745,092号、米国特許第3,
729,899号、米国特許第3,766,714号および米国特許第3,
964,980号等が挙げられる。
(Prior Art) Ethylene oxide is generally purified as follows. A reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic gas-phase oxidation of ethylene and a gas containing molecular oxygen on a silver catalyst is introduced to an ethylene oxide absorption tower and countercurrently contacted with an absorption liquid mainly composed of water to recover as an ethylene oxide aqueous solution. Then, it is sent to an ethylene oxide stripping tower and ethylene oxide is stripped from the aqueous solution by heating the bottom of the ethylene oxide stripping tower with heating steam, and the aqueous solution containing substantially no ethylene oxide from the bottom of the ethylene oxide stripping tower is circulated and used as an absorption liquid. Dehydration process of light emission products including ethylene oxide, water, carbon dioxide, inert gas (nitrogen, argon, methane, ethane) and other low boiling point impurities such as formaldehyde and high boiling point impurities such as acetaldehyde and acetic acid released from the top. Separation process and Purification over each quality component separation step can be produced ethylene oxide. Various proposals have been made regarding a method for recovering ethylene oxide. For example, U.S. Patent No. 3,165,539, U.S. Patent No. 2,771,473, U.S. Patent No. 4,028,070, U.S. Patent No. 3,097,215, U.S. Patent No. 3,217,466, U.S. Patent No. 3,745,092, U.S. Patent No. 3,
729,899, U.S. Pat.No. 3,766,714 and U.S. Pat.
964,980 and the like.

従来公知の方法を具体的に説明すると、例えば第1図に
おいてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
により接触気相酸化して生成するエチレンオキシドを含
む反応生成ガスを導管1を通して、充填塔あるいは棚段
塔型式のエチレンオキシド吸収塔2の下部へ供給し、導
管3よりエチレンオキシド吸収塔2の上部へ吸収液を導
入し、反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の
99重量%以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオ
キシド吸収塔2の塔頂より吸収しなかったエチレン、酸
素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン)アルデヒド類、酸性物質等のガスは導管4
を通して二酸化炭素吸収工程および/または酸化反応工
程へ循環される。この吸収工程においてエチレンオキシ
ドの他、エチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒
素、アルゴン、メタン、エタン、)ならびにエチレン酸
化反応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純
物、アセトアルデヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実
質量が同時に吸収される。エチレンオキシド吸収塔2の
塔底液を導管5を通して熱交換器6へ送りエチレンオキ
シド放散塔底液と熱交換して温度70〜110℃に高め、導
管7によりフラッシュタンク8へ送られ一部エチレンオ
キシド、水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管9によ
り分離される。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収
液を導管10を通して塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2G、塔頂温度
85〜120℃のエチレンオキシド放散塔11の上部へ供給
し、エチレンオキシド放散塔11の加熱器12より水蒸気ま
たはダウサム(ダウ社、熱媒体商品)等の加熱媒体で導
管13を通して加熱するか、または直接エチレンオキシド
放散塔11の底部へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱
し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量%以
上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔11の底部より
エチレンオキシドを実質的に含まない温度110〜150℃の
エチレンオキシド放散塔底液の一部は導管14および導管
15を通して熱交換器6でエチレンオキシド吸収塔2の塔
底液と熱交換し、導管16を通して、さらに導管18および
導管19に冷却水が通る冷却器17により冷却し、ついで吸
収液中のエチレングリコール濃度を調節するため新鮮な
水を導管21を通して導入し、必要により、吸収液中のpH
を調節するため水酸化カリウム水溶液を添加し、吸収液
中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤をエチレンオキシ
ド吸収塔2へそれぞれ導入することができる。エチレン
を分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキシ
ド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水との
加水反応で生成する副生エチレングリコールおよびホル
ムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよ
び酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレンオキ
シド放散塔11の塔底部より導管14および22を通してエチ
レンオキシド放散塔11の底液を抜き出し、副生エチレン
グリコール濃縮工程に送られる。
The conventionally known method will be described in detail. For example, in FIG. 1, a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic gas phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst is charged through a conduit 1 to fill the reaction product gas. It is supplied to the lower part of a tower or plate tower type ethylene oxide absorption tower 2, and the absorption liquid is introduced from the conduit 3 to the upper part of the ethylene oxide absorption tower 2, and is brought into countercurrent contact with the reaction product gas, thereby
99% by weight or more of ethylene oxide was recovered, and gases such as ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gases (nitrogen, argon, methane, ethane) aldehydes, and acidic substances that were not absorbed from the top of the ethylene oxide absorption tower 2 Conduit 4
Through the carbon dioxide absorption step and / or the oxidation reaction step. In this absorption process, in addition to ethylene oxide, ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gases (nitrogen, argon, methane, ethane, etc.) and low boiling impurities such as formaldehyde produced in the ethylene oxidation reaction process, high boiling points such as acetaldehyde and acetic acid. A substantial amount of impurities is absorbed at the same time. The bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower 2 is sent to the heat exchanger 6 through the conduit 5 to exchange heat with the ethylene oxide diffusion tower bottom liquid to raise the temperature to 70 to 110 ° C., which is sent to the flash tank 8 through the conduit 7 and partially ethylene oxide and water. An inert gas light component gas containing is separated by the conduit 9. The remaining absorption liquid after flushing the light gas is passed through the conduit 10 to obtain a top pressure of 0.1 to 2 Kg / cm 2 G and a top temperature.
It is supplied to the upper part of the ethylene oxide stripping tower 11 at 85 to 120 ° C., and heated from a heater 12 of the ethylene oxide stripping tower 11 with a heating medium such as steam or Dowsome (Dow Company, a heating medium product) through a conduit 13 or direct ethylene oxide. It is heated by a heating method of introducing water vapor into the bottom of the desorption tower 11 to disperse 99% by weight or more of ethylene oxide contained in the absorption liquid, and a temperature 110-150 at which ethylene oxide is not substantially contained from the bottom of the ethylene oxide desorption tower 11. Part of bottom liquid of ethylene oxide stripping tower at ℃
Heat is exchanged with the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower 2 through the heat exchanger 6 through 15, and cooled by the cooler 17 through which the cooling water passes through the conduit 16 and the conduits 18 and 19, and then the ethylene glycol concentration in the absorbent is Fresh water is introduced through conduit 21 to adjust the
The aqueous solution of potassium hydroxide can be added to adjust the temperature, and the antifoaming agent can be introduced into the ethylene oxide absorption tower 2 to adjust the concentration of the defoaming agent in the absorbing liquid. Low boiling point impurities such as by-produced ethylene glycol and formaldehyde, and high boiling points such as acetaldehyde and acetic acid, which are produced by the hydrolysis reaction of ethylene oxide and water in the absorption liquid between the oxidation step of oxidizing ethylene with molecular oxygen and the ethylene oxide emission step In order to prevent the increase of impurities, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower 11 is extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping tower 11 through conduits 14 and 22 and sent to the by-product ethylene glycol concentration step.

一方、エチレンオキシド放散塔11の塔頂部より放散され
るエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、
導管25および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝
縮液は導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供
給される。
On the other hand, the emitted vapor containing ethylene oxide which is emitted from the top of the ethylene oxide stripping tower 11 passes through the conduit 23,
The cooling water is sent to the condenser 24 through which the conduits 25 and 26 are passed, the condensate is refluxed to the top of the ethylene oxide stripping column 11 through the conduit 27, and the uncondensed vapor is supplied to the dehydration column 29 through the conduit 28.

脱水塔29の加熱器30により水蒸気またはダウサム(ダウ
社商品)等の加熱媒体で導管31を通して加熱するか、ま
たは直接脱水塔29の下部へ水蒸気を導入する加熱方式に
より加熱し、脱水塔29の塔底部より導管32を通して実質
的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出される。
The dehydrator 29 is heated by a heater 30 of the dehydration tower 29 with steam or a heating medium such as Dowsome (commercial product of Dow Company) through a conduit 31 or by a heating method of directly introducing steam to the lower part of the dehydration tower 29. Water that is substantially free of ethylene oxide is withdrawn from the bottom of the column through conduit 32.

脱水塔29の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は導
管33を通して、導管35および導管36に冷却水またはブラ
インが通る凝縮器34へ送り、凝縮液は導管37を通して脱
水塔29の塔頂部へ還流し、凝縮器34の未凝縮蒸気は導管
39を通して再エチレンオキシド吸収塔(図示していな
い)へ供給される。凝縮器34の凝縮液の他部は導管38を
通して軽質分分離塔40へ供給される。
The vapor containing ethylene oxide from the top of the dehydration tower 29 is sent through the conduit 33 to the condenser 34 through which cooling water or brine passes through the conduits 35 and 36, and the condensate is refluxed through the conduit 37 to the top of the dehydration tower 29, The uncondensed vapor in the condenser 34 is a conduit
It is supplied through 39 to a re-ethylene oxide absorption column (not shown). The other part of the condensate of the condenser 34 is supplied to the light fraction separation column 40 through a conduit 38.

軽質分分離塔40の加熱器41により水蒸気またはダウサム
(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管42を通して加熱する
方式により加熱し、軽質分分離塔40の塔頂部より軽質分
を含むエチレンオキシド蒸気は導管43を通して凝縮器44
へ送り、凝縮液は導管47を通して軽質分分離塔40の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管48を通してエチレンオキ
シドを回収するため再エチレンオキシド吸収塔(図示し
てない)へ供給される。
The light source separation tower 40 is heated by a heater 41 of the light content separation tower 40 with a heating medium such as steam or Dowsome (commercial product of Dow Company) through a conduit 42, and the ethylene oxide vapor containing the light fraction is supplied from the top of the light content separation tower 40 through a conduit. 43 through condenser 44
To the recycle ethylene oxide absorber column (not shown) for recovery of ethylene oxide via conduit 48.

一方軽質分を分離されたエチレンオキシドは軽質分分離
塔40の塔底部より導管49を通してエチレンオキシド精留
塔50へ供給される。
On the other hand, the ethylene oxide from which the light components have been separated is supplied to the ethylene oxide rectification column 50 from the bottom of the light components separation column 40 through a conduit 49.

エチレンオキシド精留塔50の加熱器58へ導管59より圧力
0.5〜3.0Kg/cm2Gの水蒸気を供給し、エチレンオキシド
精留塔50の塔底温度35〜85℃、エチレンオキシド精留塔
底圧力1.2〜8.2Kg/cm2Gで精留を行ない、エチレンオキ
シド精留塔頂部より塔頂温度29〜81℃、塔頂圧力1.0〜
8.0Kg/cm2Gのエチレンオキシド蒸気を導管51を通し
て、凝縮器52へ送りエチレンオキシド蒸気は液化し、液
化した液の一部は導管56を通してエチレンオキシド精留
塔50の塔頂部へ還流液として導入し、液化した液の他部
は導管57を通してエチレンオキシド製品として抜き出さ
れる。
Pressure from conduit 59 to heater 58 of ethylene oxide rectification column 50
0.5 to 3.0 kg / cm 2 G of steam is supplied, the bottom temperature of the ethylene oxide rectification column 50 is 35 to 85 ° C., and the bottom pressure of the ethylene oxide rectification column is 1.2 to 8.2 kg / cm 2 G to perform rectification. From the top of the distillation column, the temperature at the top of the column is 29-81 ℃, the pressure at the top of the column is 1.0-
8.0 kg / cm 2 G of ethylene oxide vapor was sent to the condenser 52 through the conduit 51, the ethylene oxide vapor was liquefied, and a part of the liquefied liquid was introduced as the reflux liquid to the top of the ethylene oxide rectification column 50 through the conduit 56. The other portion of the liquefied liquid is withdrawn as ethylene oxide product through conduit 57.

エチレンオキシド精留塔50の凝縮器52の未凝縮蒸気は導
管55を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレ
ンオキシド吸収塔(図示してない)へ供給される。
The uncondensed vapor in condenser 52 of ethylene oxide rectification column 50 is fed through conduit 55 to a re-ethylene oxide absorber (not shown) for recovery of ethylene oxide.

エチレンオキシド精留塔50の塔底液はアセトアルデヒ
ド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のた
め必要により導管67を通して抜き出される。
The bottom liquid of the ethylene oxide rectification column 50 is withdrawn through a conduit 67 as necessary for separating heavy components such as acetaldehyde, water, and high-boiling impurities such as acetic acid.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、このようなエチレンオキシドの精製方法
は、エチレンオキシド放散塔頂蒸気の凝縮熱の回収やエ
チレンオキシド放散塔底部より抜き出された液が有する
熱エネルギーを回収する点については十分でなく、大量
の熱量が系外に廃棄されるという問題があった。従来の
方法は100〜150℃のエチレンオキシド放散塔底液をエチ
レンオキシド吸収塔底液と熱交換させ、熱量の回収を行
なった後、冷却してエチレンオキシド吸収塔の吸収液と
していた。また、エチレンオキシドの精製方法はエチレ
ンオキシド精留塔及び軽質分分離塔における加熱蒸気量
を多量に消費する問題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, such a method for purifying ethylene oxide is such that the heat of condensation of the vapor of the ethylene oxide stripping tower and the heat energy of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping tower are collected. However, there was a problem that a large amount of heat was discarded outside the system. In the conventional method, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower at 100 to 150 ° C. is heat-exchanged with the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower, and after recovering the heat quantity, it is cooled to obtain the absorption liquid of the ethylene oxide absorption tower. Further, the method for purifying ethylene oxide has a problem that a large amount of heating vapor is consumed in the ethylene oxide rectification column and the light fraction separation column.

したがって、本発明の目的は、エチレンオキシドの新規
な精製方法を提供することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a novel method for purifying ethylene oxide.

本発明の他の目的は、エチレンオキシド放散塔底液の有
するエネルギー有効利用をはかったエチレンオキシドの
精製方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for purifying ethylene oxide, which utilizes the energy of the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower effectively.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸
化して生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接
触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエチ
レン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含むエ
チレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ
供給してエチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキシ
ドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留出
液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離塔で
軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエチ
レンオキシドを精留する工程よりなるエチレンオキシド
の精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部から
放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に
使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された
液の一部はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換した後
エチレンオキシド精留塔の加熱源および/または軽質分
分離塔の加熱源に使用することを特徴とするエチレンオ
キシドの精製方法に関するものである。これらの諸目的
は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して
生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエ
チレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流接触さ
せ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスの一部はエ
チレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔
へ供給し、エチレンオキシド放散塔頂部からエチレンオ
キシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む
留出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離
塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔で
エチレンオキシドを精製する工程よりなるエチレンオキ
シドの精製方法において、エチレンオキシド放散塔頂部
から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱
源に使用し、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源および
/または軽質分分離の加熱源に使用することを特徴とす
るエチレンオキシドの精製方法により達成される。
(Means for Solving Problems) The present invention introduces a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic vapor-phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas into an ethylene oxide absorption tower to countercurrently flow with an absorption liquid. The gas from the top of the ethylene oxide absorption tower is circulated to the ethylene oxidation reaction step, and the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower containing ethylene oxide is supplied to the ethylene oxide diffusion tower to diffuse the ethylene oxide from the top of the ethylene oxide absorption tower, containing ethylene oxide and water. In the method for purifying ethylene oxide, which comprises the steps of condensing a distillate, separating water in a dehydration tower, separating light components in a light fraction separating tower, and then rectifying ethylene oxide in an ethylene oxide rectifying tower, the top of the ethylene oxide stripping tower From the ethylene oxide Used as a heat source for the distillation column, part of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping column is heat-exchanged with the bottom liquid of the ethylene oxide absorption column, and then the heat source of the ethylene oxide rectification column and / or the heat source of the light fraction separation column. The present invention relates to a method for purifying ethylene oxide, which is characterized by being used for. These various purposes were to introduce a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic vapor-phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas into an ethylene oxide absorption tower to make countercurrent contact with the absorbing liquid, Part of the gas is circulated to the ethylene oxidation reaction step, the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower containing ethylene oxide is supplied to the ethylene oxide diffusion tower, ethylene oxide is diffused from the top of the ethylene oxide diffusion tower, and the distillate containing ethylene oxide and water is condensed. In the method for purifying ethylene oxide, which comprises separating the water in the dehydration tower, separating the light fraction in the light fraction separation tower, and then purifying ethylene oxide in the ethylene oxide rectification tower, the emission products emitted from the top of the ethylene oxide diffusion tower As a heating source for the ethylene oxide rectification column And use, part of the liquid extracted from the ethylene oxide stripper bottom is achieved by the purification process of ethylene oxide, characterized in that it uses the heat source of the heat sources and / or light fraction separation of ethylene fractionator.

第1図は、公知のエチレンオキシドの精製方法の一例を
示すフローチャートであり、 第2〜5図は、本発明によるエチレンオキシドの精製方
法の実施態様を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flow chart showing an example of a known method for purifying ethylene oxide, and FIGS. 2 to 5 are flow charts showing an embodiment of the method for purifying ethylene oxide according to the present invention.

本発明においてエチレンオキシド吸収塔へ供給される吸
収液の温度は5〜40℃、好ましくは10〜35℃であり、吸
収液の組成はpHが5〜12、好ましくは6〜11、エチレン
グリコール濃度が1〜40重量%、好ましくは5〜30重量
%、消泡剤濃度が0.1ppm以上、好ましくは1〜100ppm、
残り水の範囲に制御される。吸収液中のエチレングリコ
ール濃度を一定に保持するためエチレンオキシド吸収塔
とエチレンオキシド放散塔とを循環する吸収液の一部を
エチレンオキシド放散塔底部から抜き出し副生エチレン
グリコール濃縮塔へ送り、必要により新鮮な水が導入さ
れ制御される。pHの調節は、たとえばカリウム、ナトリ
ウムのようなアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収
液に溶解する化合物を添加することにより行うのが好ま
しく、添加剤は具体的には水酸化カリウムまたは水酸化
ナトリウムが好ましい。
In the present invention, the temperature of the absorption liquid supplied to the ethylene oxide absorption tower is 5 to 40 ° C, preferably 10 to 35 ° C, and the composition of the absorption liquid has a pH of 5 to 12, preferably 6 to 11, and an ethylene glycol concentration of 1 to 40% by weight, preferably 5 to 30% by weight, the antifoaming agent concentration is 0.1 ppm or more, preferably 1 to 100 ppm,
It is controlled by the range of the remaining water. In order to keep the ethylene glycol concentration in the absorption liquid constant, a part of the absorption liquid that circulates in the ethylene oxide absorption tower and the ethylene oxide diffusion tower is withdrawn from the bottom of the ethylene oxide diffusion tower and sent to the by-product ethylene glycol concentration tower, with fresh water if necessary. Are introduced and controlled. The pH is preferably adjusted by adding a compound that is soluble in an absorbing solution such as a hydroxide or carbonate of an alkali metal such as potassium or sodium, and the additive is specifically potassium hydroxide or Sodium hydroxide is preferred.

消泡剤は、エチレンオキシド、副生エチレングリコール
等に不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであ
ればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例としては
水溶性シリコンエマルションが吸収液への分散性、希釈
安定性、熱安定性が優れているので効果的である。
The defoaming agent is inert to ethylene oxide, by-product ethylene glycol, etc., and any defoaming agent can be used as long as it has the defoaming effect of the absorbing liquid. As a typical example, water-soluble silicone emulsion is absorbed. It is effective because it has excellent dispersibility in a liquid, dilution stability, and thermal stability.

エチレンオキシド吸収塔の操作条件は、反応生成ガス中
のエチレンオキシド濃度が0.5〜5容量%、好ましくは
1.0〜4容量%であり、エチレンオキシド吸収塔の操作
圧は2〜40Kg/cm2G、好ましくは10〜30Kg/cm2Gであ
る。エチレンオキシド放散塔の操作条件は、エチレンオ
キシド放散塔頂圧力0.1〜2Kg/cm2G、好ましくは0.3〜
0.6Kg/cm2G、エチレンオキシド放散塔頂温度85〜120
℃、エチレンオキシド放散塔底温度100〜150℃、エチレ
ンオキシド放散塔底エチレンオキシド濃度は10ppm以
下、好ましくは0.5ppm以下である。
The operating conditions of the ethylene oxide absorption tower are that the concentration of ethylene oxide in the reaction product gas is 0.5 to 5% by volume, preferably
It is 1.0 to 4% by volume, and the operating pressure of the ethylene oxide absorption tower is 2 to 40 Kg / cm 2 G, preferably 10 to 30 Kg / cm 2 G. The operating conditions of the ethylene oxide stripping tower are such that the ethylene oxide stripping tower top pressure is 0.1 to 2 kg / cm 2 G, preferably 0.3 to
0.6Kg / cm 2 G, ethylene oxide stripping tower top temperature 85-120
C., the bottom temperature of the ethylene oxide diffusion column is 100 to 150.degree. C., and the ethylene oxide concentration at the bottom of the ethylene oxide diffusion column is 10 ppm or less, preferably 0.5 ppm or less.

本発明の第1の特徴は、エチレンオキシド放散塔での塔
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。本発明の第2の特徴
は、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された液の
一部をエチレンオキシド吸収塔底部よりの液と熱交換し
た後、エチレンオキシド精留塔および軽質分分離塔の加
熱源として利用するすることによってエチレンオキシド
精留塔および軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらす
ものである。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液
を冷却するための冷却水の熱負荷が低減されるものであ
る。
The first feature of the present invention is to introduce the vapor emitted from the top of the ethylene oxide stripping column into the heater of the ethylene oxide rectifying column so that the heating amount from the outside required to heat the ethylene oxide rectifying column can be increased. It exerts the effect that it can be greatly reduced. Furthermore, by carrying out this method, the heat load of the cooling water for cooling the vapor phase generated at the top of the ethylene oxide stripping tower is reduced. The second feature of the present invention is that after a part of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping column is heat-exchanged with the liquid from the bottom of the ethylene oxide absorption column, it is used as a heating source for the ethylene oxide rectification column and the light fraction separation column. By doing so, the heating vapor of the ethylene oxide rectification column and the light fraction separation column can be reduced. Further, the heat load of the cooling water for cooling the absorption liquid to the ethylene oxide absorption tower is reduced.

本発明においてエチレンオキシド脱水塔へ供給される供
給蒸気の温度は5〜60℃、好ましくは10〜50℃であり、
供給蒸気のエチレンオキシド濃度は80〜98重量%の範囲
である。
In the present invention, the temperature of the supply steam supplied to the ethylene oxide dehydration tower is 5 to 60 ° C, preferably 10 to 50 ° C,
The ethylene oxide concentration of the feed steam is in the range of 80-98% by weight.

エチレンオキシド脱水塔の操作条件は、脱水塔頂点圧力
0〜2Kg/cm2G、好ましくは0.3〜0.6Kg/cm2G、脱水塔
頂温度10〜40℃、脱水塔底温度100〜130℃の範囲であ
る。脱水塔底エチレンオキシド濃度は100ppm以下、好ま
しくは10ppm以下の範囲である。
The operating conditions of the ethylene oxide dehydration tower are such that the dehydration tower top pressure is 0 to 2 kg / cm 2 G, preferably 0.3 to 0.6 kg / cm 2 G, the dehydration tower top temperature is 10 to 40 ° C., and the dehydration tower bottom temperature is 100 to 130 ° C. Is. The ethylene oxide concentration in the bottom of the dehydration column is 100 ppm or less, preferably 10 ppm or less.

本発明においてエチレンオキシド軽質分分離塔へ供給さ
れる供給液の温度は0〜50℃、好ましくは5〜30℃であ
り、供給液の組成は大部分がエチレンオキシドで、わず
かのホルムアルデヒド等のアルデヒド類及び水を含んで
いる。
In the present invention, the temperature of the feed liquid supplied to the ethylene oxide light fraction separation column is 0 to 50 ° C., preferably 5 to 30 ° C., and the composition of the feed liquid is mostly ethylene oxide, and a small amount of aldehydes such as formaldehyde and Contains water.

軽質分分離塔の操作条件は、軽質分分離塔頂圧力1〜10
Kg/cm2G好ましくは3〜7Kg/cm2G、軽質分分離塔頂温
度30〜90℃、軽質分分離塔底温度30〜90℃の範囲であ
る。
The operating conditions of the light separation column are:
Kg / cm 2 G preferably 3~7Kg / cm 2 G, light fraction separating column head temperature 30 to 90 ° C., in the range of light fraction separating column bottom temperature 30 to 90 ° C..

軽質分分離塔底エチレンオキシド濃度は99.5重量%以
上、好ましくは99.95重量%以上の範囲である。
The ethylene oxide concentration at the bottom of the light fraction separation column is 99.5% by weight or more, preferably 99.95% by weight or more.

本発明においてエチレンオキシド精留塔は棚段塔型式お
よび充填塔型式がある。
In the present invention, the ethylene oxide rectification column includes a plate column type and a packed column type.

棚段塔型式の蒸留塔の棚段としては種々あるがバブルキ
ャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボグリッド
トレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シーブトレ
イ、バラストトレイ等が挙げられる。また、充填塔型式
の精留塔の充填物としては、ラシヒリング、ポールリン
グ、サドル型リング、スパイラルリング、マクマホンパ
ッキング、インターロックスメタルパッキング、一論理
段数あたり10mmHg以下の圧力損失を有する充填物、織物
または編物構造の金網積層板等が挙げられる。
There are various trays of the tray column type distillation column, and examples thereof include a bubble cap tray, a uniflux tray, a turbo grid tray, a lip tray, a flexi tray, a sieve tray, and a ballast tray. As the packing of the packed column type rectification tower, Raschig ring, pole ring, saddle type ring, spiral ring, McMahon packing, interlock metal packing, packing having a pressure loss of 10 mmHg or less per logical stage, woven fabric Alternatively, a wire mesh laminated plate having a knit structure may be used.

本発明においてエチレンオキシド精留塔および軽質分分
離塔は一理論段数あたり20mmHg以下、好ましくは15mmHg
以下の圧力損失を有する棚段塔形式および充填塔形式が
好ましい。
In the present invention, the ethylene oxide rectification column and the light fraction separation column are 20 mmHg or less per one theoretical plate, preferably 15 mmHg.
The plate column type and packed column type having the following pressure loss are preferable.

本発明においてエチレンオキシド精留塔へ供給される供
給液の温度は30〜90℃、好ましくは50〜70℃であり、供
給液の組成はエチレンオキシド濃度が99.5重量%以上、
好ましくは99.95重量%以上の範囲に制御される。
The temperature of the feed liquid supplied to the ethylene oxide rectification column in the present invention is 30 to 90 ° C, preferably 50 to 70 ° C, and the composition of the feed liquid has an ethylene oxide concentration of 99.5% by weight or more,
It is preferably controlled in the range of 99.95% by weight or more.

エチレンオキシドの精留塔の操作条件は、精留塔頂圧力
1.0〜8.0Kg/cm2G、好ましくは1.2〜5.0Kg/cm2G、精留
塔頂温度29〜81℃、精留塔底温度35〜85℃、エチレンオ
キシド精留塔底エチレンオキシド濃度は30〜90重量%、
好ましくは40〜80重量%の範囲である。
The operating conditions of the ethylene oxide rectification column are the top pressure of the rectification column.
1.0 to 8.0 Kg / cm 2 G, preferably 1.2 to 5.0 Kg / cm 2 G, rectification column top temperature 29 to 81 ° C., rectification column bottom temperature 35 to 85 ° C., ethylene oxide rectification column bottom ethylene oxide concentration is 30 to 90% by weight,
It is preferably in the range of 40 to 80% by weight.

本発明において、エチレンオキシド精留塔底液はエチレ
ンオキシドの他にアセトアルデヒド、水および酢酸等の
高沸点不純物からなる。
In the present invention, the bottom liquid of the ethylene oxide rectification column is composed of high boiling impurities such as acetaldehyde, water and acetic acid in addition to ethylene oxide.

したがって前記特徴は、エチレンを銀触媒の存在下、分
子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレン
オキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸
収塔へ導入し、吸収液と向流接触させ、エチレンオキシ
ド吸収塔頂部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工程
へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸
収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレン
オキシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液の一
部は熱交換器にてエチレンオキシド吸収塔底部と熱交換
した後、冷却器にて冷却した後、エチレンオキシド吸収
塔へ導き吸収液として循環使用し、残部はその液に含ま
れるエチレングリコールを濃縮するため副生エチレング
リコール濃縮塔へ送る工程において、エチレンオキシド
放散塔頂部より放散する蒸気が有する熱エネルギーを回
収し、その回収熱エネルギーの有効利用を計ることであ
る。その手段として、エチレンオキシド放散塔頂部より
放散する蒸気をエチレンオキシド精留塔の加熱器に送
り、熱交換し放散物を液化し、凝縮した液はエチレンオ
キシド放散塔へ還流し、未凝縮ガスは脱水塔へ供給する
方法が採用される。さらにエチレンオキシド放散塔底部
より抜き出した液はエチレンオキシド吸収塔底液と熱交
換して熱量を回収した後、エチレンオキシド精留塔およ
び/または軽質分分離塔の加熱器に導かれ、エチレンオ
キシド精留塔および/または軽質分分離塔の加熱源の一
部として利用され、ついで冷却水で冷却されエチレンオ
キシド吸収塔へ導かれる。
Therefore, the above characteristics, in the presence of a silver catalyst, ethylene, a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic vapor phase oxidation with a molecular oxygen-containing gas is introduced into an ethylene oxide absorption tower, and brought into countercurrent contact with the absorbing liquid, A part of the gas from the top of the ethylene oxide absorption tower is circulated to the ethylene oxidation reaction step, the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower containing ethylene oxide is supplied to the ethylene oxide diffusion tower, and ethylene oxide is diffused from the top of the ethylene oxide diffusion tower, A part of the extracted liquid is heat-exchanged with the bottom of the ethylene oxide absorption tower by a heat exchanger, cooled by a cooler, introduced to an ethylene oxide absorption tower and circulated as an absorption liquid, and the rest is ethylene contained in the liquid. Send to ethylene glycol concentration tower as a by-product to concentrate glycol In step, the thermal energy is recovered with the steam to dissipate from the ethylene oxide stripper top, is to measure the effective use of the recovered heat energy. As a means for this, the vapor that is diffused from the top of the ethylene oxide stripping tower is sent to the heater of the ethylene oxide rectifying tower, the heat exchange is performed and the stripped material is liquefied, the condensed liquid is refluxed to the ethylene oxide stripping tower, and the uncondensed gas is sent to the dehydration tower. The supply method is adopted. Further, the liquid withdrawn from the bottom of the ethylene oxide stripping column is heat-exchanged with the bottom liquid of the ethylene oxide absorption column to recover the heat quantity, and then introduced into the heater of the ethylene oxide rectification column and / or the light fraction separation column, and the ethylene oxide rectification column and / or Alternatively, it is used as a part of the heat source of the light fraction separation column, then cooled with cooling water and led to the ethylene oxide absorption column.

一方、エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド
放散塔底部よりの高温の液と熱交換された後、フラッシ
ュタンクにて軽質分ガスを分離した後、エチレンオキシ
ド放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシドは放散され
る。本発明においてエチレンオキシド放散塔頂部より放
散されるものは、大部分が水、エチレンオキシド、少部
分が二酸化炭素、微量の酸素、エチレン、不活性ガス
(窒素、アルゴン、メタン、エタン)、ホルムアルデヒ
ド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の
高沸点不純物からなる放散物である。
On the other hand, the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower is heat-exchanged with the hot liquid from the bottom of the ethylene oxide stripping tower, and then the light component gas is separated in the flash tank, and then the ethylene oxide is stripped off by being supplied to the top of the ethylene oxide stripping tower. In the present invention, those emitted from the top of the ethylene oxide stripping tower are mostly low in water, ethylene oxide, low in carbon dioxide, trace amounts of oxygen, ethylene, inert gas (nitrogen, argon, methane, ethane), formaldehyde and the like. It is a release product consisting of high-boiling impurities such as boiling impurities and acetaldehyde and acetic acid.

本発明をさらに詳しく述べるために図面に基づいて説明
する。
The present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

第2図においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔あ
るいは棚段塔形式のエチレオキシド吸収塔302の下部へ
供給し、導波管303よりエチレンオキシド吸収塔302の上
部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ、反
応生成ガス中の99重量%以上のエチレンオキシドを回収
し、エチレンオキシド吸収塔302の塔頂より吸収しなか
ったエチレン,酸素,二酸化炭素,不活性ガス(窒素,
アルゴン,メタン,エタン),アルデヒド,酸性物質等
のガスは導管304を通して二酸化炭素吸収工程および/
また酸化反応工程へ循環される。この吸収工程において
エチレンオキシドの他、エチレン,酸素,二酸化炭素,
不活性ガス(窒素,アルゴン,メタン,エタン)ならび
にエチレン酸化反応工程で生成したホルムアルデヒド等
の低沸点不純物,アセトアルデヒド,酢酸等の高沸点不
純物もその実質量が同時に吸収される。エチレンオキシ
ド吸収塔302の塔底液を導管305を通して熱交換器306へ
送りエチレンオキシド放散塔311底液と熱交換して温度7
0〜110℃に高め、導管307によりフラッシュタンク308へ
送られ一部エチレンオキシドおよび水を含む不活性ガス
の軽質分ガスが導管309により分離される。軽質分ガス
をフラッシュした残部の吸収液を導管310を通して塔頂
圧力0.1〜2kg/cmC2G,温度90〜120℃のエチレンオキシド
放散塔311の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔311
の加熱器312より水蒸気またはダウサム(ダウ社商品)
等の加熱媒体で導管313を通して加熱するか、または直
接エチレンオキシド放散塔311の底部へ水蒸気を導入す
る加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエチレン
オキシドの99重量%以上を放散せしめ、エチレンオキシ
ド放散塔311の底部よりエチレンオキシドを実質的に含
まない温度 100〜150℃の放散塔底液の一部は導管314および導管315
を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔302の塔
底液と熱交換した後導管380によりエチレンオキシド精
留塔350の加熱器358へ送られ、加熱源とした後、導管31
6を通して、さらに導管318および319に冷却水が通る冷
却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリ
コール濃度を調節するため新鮮な水を導管321を通して
導入し、必要により、吸収液中のpHを調節するため水酸
化カリウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調
節するため消泡剤をエチレンオキシド吸収塔302へそれ
ぞれ導入することができる。
In FIG. 2, a reaction product gas containing ethylene oxide, which is produced by catalytic gas phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst, is passed through a conduit 301 to a packed tower or a tray tower type ethylene oxide absorption tower 302. Is supplied to the lower part of the ethylene oxide absorption tower 302 through the waveguide 303 and brought into countercurrent contact with the reaction product gas to recover 99% by weight or more of ethylene oxide in the reaction product gas and absorb the ethylene oxide. Ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gas (nitrogen, nitrogen, etc.) not absorbed from the top of the tower 302
Gases such as argon, methane, ethane), aldehydes, acidic substances, etc. are passed through the conduit 304 to the carbon dioxide absorption step and / or
It is also recycled to the oxidation reaction step. In this absorption process, in addition to ethylene oxide, ethylene, oxygen, carbon dioxide,
A substantial amount of inert gas (nitrogen, argon, methane, ethane) and low boiling point impurities such as formaldehyde and high boiling point impurities such as acetaldehyde and acetic acid generated in the ethylene oxidation reaction step are simultaneously absorbed. The bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower 302 is sent to the heat exchanger 306 through the conduit 305 and heat-exchanged with the bottom liquid of the ethylene oxide diffusion tower 311 to obtain a temperature of 7
The temperature is raised to 0 to 110 ° C., and is sent to a flash tank 308 by a conduit 307, and a light component gas of an inert gas including a part of ethylene oxide and water is separated by a conduit 309. The remaining absorption liquid after flushing the light gas is supplied to the upper portion of the ethylene oxide stripping column 311 at a column top pressure of 0.1 to 2 kg / cm C 2 G and a temperature of 90 to 120 ° C through a conduit 310, and the ethylene oxide stripping column 311 is supplied.
Water vapor or Dowsome from the heater 312 of the Dow (Dow company product)
It is heated through a conduit 313 with a heating medium such as, or is heated by a heating method in which steam is directly introduced into the bottom of the ethylene oxide diffusion tower 311 to disperse 99% by weight or more of ethylene oxide contained in the absorption liquid, and the ethylene oxide diffusion tower Part of the bottom liquid of the stripping column at a temperature of 100 to 150 ° C that does not substantially contain ethylene oxide from the bottom of 311 is pipe 314 and pipe 315.
Through a heat exchanger 306 to exchange heat with the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower 302, and then is sent to a heater 358 of the ethylene oxide rectification tower 350 through a conduit 380 and used as a heating source, and then the conduit 31
6 and further cooled by a cooler 317 through which cooling water passes through conduits 318 and 319, and then fresh water is introduced through conduit 321 to adjust the ethylene glycol concentration in the absorption liquid, and if necessary, the pH in the absorption liquid. The aqueous solution of potassium hydroxide can be added to adjust the concentration of the defoaming agent, and the defoaming agent can be introduced into the ethylene oxide absorption tower 302 to adjust the concentration of the defoaming agent in the absorbent.

エチレンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレ
ンオキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシド
と水との加水反応で生成する副生エチレングリコールお
よびホルムアルデヒド等の低沸点不純物,アセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチ
レンオキシド放散塔311の塔底より導管314および322を
通してエチレンオキシド放散塔311の底液を抜き出し、
副生エチレングリコール濃縮工程に送られる。
Low boiling point impurities such as by-product ethylene glycol and formaldehyde and high boiling point such as acetaldehyde and acetic acid produced by the hydrolysis reaction of ethylene oxide with water in the absorbing solution between the oxidation step of oxidizing ethylene with molecular oxygen and the ethylene oxide stripping step In order to prevent the increase of impurities, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower 311 is withdrawn from the bottom of the ethylene oxide stripping tower 311 through conduits 314 and 322.
It is sent to the by-product ethylene glycol concentration step.

一方、エチレンオキシド放散塔311の塔頂部より放散さ
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給される。
On the other hand, the vaporized vapor containing ethylene oxide emitted from the top of the ethylene oxide stripping tower 311 is sent to a heater 360 of the ethylene oxide rectification tower 350 through a conduit 323 and used as a heating source. The pipe 362 and the condenser 364 through which the cooling water passes through the pipe 363 are sent, and the condensate is fed through the pipe 365 to the ethylene oxide stripping tower 3
After refluxing to the top of the column 11, the uncondensed vapor is supplied to the dehydration column 329 through the conduit 366.

脱水塔329の加熱器330により水蒸気またはダウサム(ダ
ウ社商品)等の加熱媒体で導管331を通して加熱する
か、または直接脱水塔329の下部へ水蒸気を導入する加
熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底部より導管332を
通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き出
される。
The heater 330 of the dehydration tower 329 heats it with a heating medium such as steam or Dowsome (commercial product of Dow Company) through the conduit 331, or heats it by a heating method of directly introducing steam to the lower part of the dehydration tower 329, Water substantially free of ethylene oxide is withdrawn from the bottom of the column through a conduit 332.

脱水塔329の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は
導管333を通して、導管335および導管336に冷却水また
はブラインが通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導
管337を通して脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334
の未凝縮蒸気は導管339を通して再エチレンオキシド吸
収塔(図示していない)へ供給される。
The vapor containing ethylene oxide from the top of the dehydration tower 329 is sent to the condenser 334 through which the cooling water or brine passes through the conduit 333 and the conduit 335 through the conduit 333, and a part of the condensate is passed through the conduit 337 to the top of the dehydration tower 329. Reflux and condenser 334
Of uncondensed vapor is fed to a re-ethylene oxide absorber column (not shown) via conduit 339.

凝縮器334の凝縮液の他部は導管338を通して軽質分分離
塔340へ供給される。軽質分分離塔340の塔頂部より軽質
分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管343を通して
凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して軽質分分離
塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管348を通して
エチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシド吸
収塔(図示していない)へ供給される。
The other part of the condensate of the condenser 334 is supplied to the light fraction separation column 340 through the conduit 338. From the top of the light fraction separation column 340, ethylene oxide vapor containing light fraction gas is sent to the condenser 344 through the conduit 343, the condensate is refluxed to the top of the light fraction separation column 340 through the conduit 347, and the uncondensed vapor is conduit 348. Is fed to a re-ethylene oxide absorption column (not shown) to recover ethylene oxide.

軽質分分離塔340の塔底液は導管349を通してエチレンオ
キシド精留塔350へ供給される。
The bottom liquid of the light fraction separation column 340 is supplied to the ethylene oxide rectification column 350 through a conduit 349.

エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へエチレンオキ
シド放散塔311の塔頂部からの放散物を供給し、エチレ
ンオキシド精留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放
散塔311の底部よりの液をエチレンオキシド吸収塔底部
よりの液と熱交換した後、導管380を通して導入する加
熱方式により加熱し、エチレンオキシド精留塔350の塔
底温度35〜85℃,エチレンオキシド精留塔底圧力1.2〜
8.2kg/cm2Gで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔3
50の項部より塔頂温度29〜81℃,塔頂部圧力1〜8kg/cm
2Gのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出される。
The emission from the top of the ethylene oxide stripping tower 311 is supplied to the heater 360 of the ethylene oxide rectification tower 350, and the liquid from the bottom of the ethylene oxide stripping tower 311 is supplied to the heater 358 of the ethylene oxide rectification tower 350 from the bottom of the ethylene oxide absorption tower. After the heat exchange with the liquid of (1), it is heated by a heating system introduced through a conduit 380, the bottom temperature of the ethylene oxide rectification column 350 is 35 to 85 ° C, the ethylene oxide rectification column bottom pressure is 1.2 to
The rectification is performed at 8.2 kg / cm 2 G, and the ethylene oxide rectification tower 3
From the 50th section, tower top temperature 29-81 ℃, tower top pressure 1-8kg / cm
2 G of ethylene oxide vapor is sent to an ethylene oxide condenser 352 through a pipe 351 to liquefy ethylene oxide, and a part of the ethylene oxide rectification tower 350 is passed through a pipe 356.
Is fed to the top of the column as reflux and the other part is withdrawn as ethylene oxide product through conduit 357.

エチレンオキシド精留塔350の塔底液はエチレンオキシ
ドの他アセトアルデヒド,水および酢酸を含むため必要
により導管367を通して抜き出される。
The bottom liquid of the ethylene oxide rectification column 350 contains acetaldehyde, water and acetic acid in addition to ethylene oxide, and is withdrawn through a conduit 367 if necessary.

エチレンオキシド放散塔311底液は熱交換器306によりエ
チレンオキシド吸収塔302底部からの液と熱交換された
後、導管380を経てエチレンオキシド精留塔350の加熱器
358に供給されて加熱源として使用され、ついで導管316
を経て冷却器317に送られて冷却され、さらに導管320お
よび303を経てエチレンオキシド吸収塔302に循環され
る。
The bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower 311 is heat-exchanged with the liquid from the bottom of the ethylene oxide absorption tower 302 by a heat exchanger 306, and then a heater of the ethylene oxide rectification tower 350 via a conduit 380.
Supplied to 358 and used as a heating source, then conduit 316
Is sent to a cooler 317 to be cooled and further circulated to an ethylene oxide absorption tower 302 via conduits 320 and 303.

第3図は、本発明の別の実施態様を示すもので、第2図
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器406によりエチレンオキシド吸収塔4
02底部からの液と熱交換されたのち、導管442を経て軽
質分分離塔440の加熱器441に供給されて加熱源として使
用され、ついで導管416を経て冷却器417に送って冷却
し、さらに導管420および403を経てエチレンオキシド吸
収塔402に循環される。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. In a method similar to the method shown in FIG. 2, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping column is heated by the heat exchanger 406 to obtain the ethylene oxide absorption column 4.
02 After heat exchange with the liquid from the bottom, it is supplied to the heater 441 of the light fraction separation column 440 via the conduit 442 and used as a heating source, and then sent to the cooler 417 via the conduit 416 for cooling, It is circulated to the ethylene oxide absorption tower 402 via conduits 420 and 403.

なお、第2図における符号に100をプラスした符号は第
3図において同一の部材を表わす。
Note that the reference numerals in which 100 is added to the reference numerals in FIG. 2 represent the same members in FIG.

第4図は、本発明の別の実施態様を示すもので、第2図
に示す方法と同様な方法において、エチレンオキシド放
散塔底液は熱交換器506によりエチレンオキシド吸収塔5
02からの液と熱交換されたのち、導管580および581,542
を経てエチレンオキシド精留塔550の加熱器558および軽
質分分離塔540の加熱器541にそれぞれ供給して加熱源と
して使用し、ついで導管582,583および516を経て冷却器
517に送って冷却し、さらに導管520および503を経てエ
チレンオキシド吸収塔502に循環される。
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention. In a method similar to the method shown in FIG. 2, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower is heated by the heat exchanger 506 to obtain the ethylene oxide absorption tower 5.
After heat exchange with the liquid from 02, conduits 580 and 581,542
Supplied to a heater 558 of the ethylene oxide rectification column 550 and a heater 541 of the light fraction separation column 540 for use as a heating source, and then cooled via conduits 582, 583 and 516.
It is sent to 517 for cooling, and is further circulated to the ethylene oxide absorption tower 502 via conduits 520 and 503.

なお、第2図における符号に200をプラスした符号は第
4図において同一の部材を表わす。
The reference numeral in FIG. 2 plus 200 indicates the same member in FIG.

第5図は、本発明のさらに別の実施態様を示すもので、
第2図に示す方法と同様な方法において、エチレンオキ
シド放散塔底液は熱交換器606によりエチレンオキシド
吸収塔602からの液と熱交換されたのち、導管680を経て
エチレンオキシド精留塔650の加熱器658に供給されて加
熱源として使用され、ついで導管642を経て軽質分分離
塔640の加熱器641に供給されて加熱源として使用され、
ついで導管616を経て冷却器617に送られて冷却され、さ
らに導管620および603を経てエチレンオキシド吸収塔60
2へ循環される。
FIG. 5 shows still another embodiment of the present invention,
In a method similar to that shown in FIG. 2, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower is heat-exchanged with the liquid from the ethylene oxide absorption tower 602 by the heat exchanger 606, and then the heater 658 of the ethylene oxide rectification tower 650 via the conduit 680. Is supplied to the heater 641 of the light separation column 640 via the conduit 642 and is used as a heating source.
Then, it is sent to a cooler 617 via a conduit 616 for cooling, and further, via an conduit 620 and 603, an ethylene oxide absorption tower 60.
Cycled to 2.

なお、第2図における符号に300をプラスした符号は第
5図において同一の部材を表わす。
The reference numeral in FIG. 2 plus 300 indicates the same member in FIG.

(実施例) 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものではない。
(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the present invention does not limit the scope of the present invention only by this embodiment.

実施例1 第2図において、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
素含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオ
キシドを含む反応生成ガスを導管301を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔302の下
部へ供給し、導管303よりエチレンオキシド吸収塔302の
上部へ温度29.6℃以下、pH=6、エチレングリコール濃
度=9.0重量%、消泡剤(水溶性シリコーンエマルジョ
ン)濃度3ppmおよび残部は水からなる吸収液を導入し、
反応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
%以上のエチレンオキシドを回収し、エチレンオキシド
吸収塔302の塔頂より吸収しなかったエチレン,酸素,
二酸化炭素,不活性ガス(窒素,アルゴン,メタン,エ
タン),アルデヒド,酸性物質等のガスは導管304を通
して二酸化炭素吸収工程および/または酸化反応工程へ
循環した。この吸収工程においてエチレンオキシドの
他、エチレン,酸素,二酸化炭素,不活性ガス(窒素,
アルゴン,メタン,エタン)ならびにエチレン酸化反応
工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物,ア
セトアルデヒド,酢酸等の高沸点不純物もその実質量が
同時に吸収した。エチレンオキシド吸収塔302の塔底液
を導管305を通して熱交換器306へ送りエチレンオキシド
放散塔底液と熱交換して温度105.5℃に高め、導管307に
よりフラッシュタンク308へ送られ一部エチレンオキシ
ドおよび水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管309に
より分離された。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸
収液を導管310を通して塔頂圧力0.4kg/cm2G,温度99.6℃
のエチレンオキシド放散塔311の上部へ供給し、エチレ
ンオキシド放散塔311の加熱器312より水蒸気を通して加
熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量%
以上を放散せしめ、エチレンオキシド放散塔311の底部
よりエチレンオキシドを実質的に含まない温度113.8℃
のエチレンオキシド放散塔底液の一部は導管314および
導管315を通して熱交換器306でエチレンオキシド吸収塔
302の塔底液と熱交換した後、導管380によりエチレンオ
キシド精留塔350の加熱器358に送り加熱源とした後、導
管316を通して、さらに導管318および導管319に冷却水
が通る冷却器317により冷却し、ついで吸収液中のエチ
レングリコール濃度を調節するため新鮮な水を導管321
を通して導入した。エチレンを分子状酸素で酸化する酸
化工程およびエチレンオキシド放散工程の間で吸収液中
にエチレンオキシドと水との加水反応で生成する副生エ
チレングリコールおよびホルムアルデヒド等の低沸点不
純物,アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の
増加を防ぐためエチレンオキシド放散塔311の塔底より
導管314および322を通してエチレンオキシド放散塔311
の底液を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工程に
送った。
Example 1 In FIG. 2, a reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic gas-phase oxidation of ethylene with a molecular oxygen-containing gas in the presence of a silver catalyst is passed through a conduit 301, and a packed column or plate column type ethylene oxide is produced. It is supplied to the lower part of the absorption tower 302, and the temperature is 29.6 ° C. or lower from the conduit 303 to the upper part of the ethylene oxide absorption tower 302, pH = 6, ethylene glycol concentration = 9.0% by weight, defoaming agent (water-soluble silicone emulsion) concentration 3 ppm, and the balance is Introduce an absorbing liquid consisting of water,
The reaction product gas was brought into countercurrent contact with the reaction product gas to recover 99% by weight or more of ethylene oxide, and ethylene, oxygen, which was not absorbed from the top of the ethylene oxide absorption tower 302,
Gases such as carbon dioxide, inert gases (nitrogen, argon, methane, ethane), aldehydes and acidic substances were circulated to the carbon dioxide absorption step and / or the oxidation reaction step through the conduit 304. In this absorption process, in addition to ethylene oxide, ethylene, oxygen, carbon dioxide, inert gas (nitrogen,
Argon, methane, and ethane) and low boiling point impurities such as formaldehyde produced in the ethylene oxidation reaction step, and high boiling point impurities such as acetaldehyde and acetic acid were also absorbed in substantial amounts. The bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower 302 is sent to the heat exchanger 306 through the conduit 305 to exchange heat with the ethylene oxide diffusion bottom liquid to raise the temperature to 105.5 ° C., and is sent to the flash tank 308 by the conduit 307 and contains a part of ethylene oxide and water. The inert gas light fraction gas was separated by conduit 309. The remaining absorption liquid after flushing the light gas was passed through the conduit 310 and the top pressure was 0.4 kg / cm 2 G and the temperature was 99.6 ° C.
99% by weight of the ethylene oxide contained in the absorption liquid after being supplied to the upper part of the ethylene oxide diffusion tower 311 and heated through steam from the heater 312 of the ethylene oxide diffusion tower 311.
The above was diffused, and the temperature was 113.8 ° C at which ethylene oxide was not substantially contained from the bottom of the ethylene oxide stripping tower 311.
Part of the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower is passed through conduits 314 and 315 in the heat exchanger 306 to the ethylene oxide absorption tower.
After heat exchange with the bottom liquid of 302, it is sent to the heater 358 of the ethylene oxide rectification column 350 by a conduit 380 and used as a heating source, and then through a conduit 316, and by a cooler 317 through which cooling water passes through conduits 318 and 319. Cool water and then add fresh water to conduit 321 to adjust the ethylene glycol concentration in the absorbent.
Introduced through. Low boiling point impurities such as by-product ethylene glycol and formaldehyde and high boiling point such as acetaldehyde and acetic acid produced by the hydrolysis reaction of ethylene oxide with water in the absorbing solution between the oxidation step of oxidizing ethylene with molecular oxygen and the ethylene oxide stripping step In order to prevent the increase of impurities, the ethylene oxide stripping tower 311 is passed through the conduits 314 and 322 from the bottom of the ethylene oxide stripping tower 311.
The bottom liquid was extracted and sent to the by-product ethylene glycol concentration step.

一方、エチレンオキシド放散塔311の塔頂部より放散さ
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管323を通し
て、エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へ送り加熱
源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導管361を通し
て導管362および導管363に冷却水が通る凝縮器364へ送
り、凝縮液は導管365を通してエチレンオキシド放散塔3
11の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管366を通して脱
水塔329へ供給した。
On the other hand, the vaporized vapor containing ethylene oxide emitted from the top of the ethylene oxide stripping tower 311 is sent to a heater 360 of the ethylene oxide rectification tower 350 through a conduit 323 and used as a heating source. The pipe 362 and the condenser 364 through which the cooling water passes through the pipe 363 are sent, and the condensate is fed through the pipe 365 to the ethylene oxide stripping tower 3
It was refluxed to the top of the column 11, and the uncondensed vapor was supplied to the dehydration column 329 through the conduit 366.

脱水塔329の加熱器330により水蒸気を導管331を通して
加熱する加熱方式により加熱し、脱水塔329の塔底より
導管332を通して実質的にエチレンオキシドを含まない
水が抜き出された。
Water was heated by the heater 330 of the dehydration tower 329 by a heating method of heating steam through the conduit 331, and water substantially free of ethylene oxide was extracted from the bottom of the dehydration tower 329 through the conduit 332.

脱水塔329の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は
導管333を通して、導管335および導管336にブラインが
通る凝縮器334へ送り、凝縮液の一部は導管337を通して
脱水塔329の塔頂部へ還流し、凝縮器334の未凝縮蒸気は
導管339を通して再エチレンオキシド吸収塔(図示して
いない)へ供給した。凝縮液の他部は導管338を通して
軽質分分離塔340へ供給された。軽質分分離塔340の塔頂
部より軽質分ガスを含むエチレンオキシド蒸気は導管34
3を通して凝縮器344へ送り、凝縮液は導管347を通して
軽質分分離塔340の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管3
48を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレン
オキシド吸収塔(図示してない)へ供給した。軽質分分
離塔340の塔底液は導管349を通してエチレンオキシド精
留塔350へ供給した。
The vapor containing ethylene oxide from the top of the dehydration tower 329 is sent through the conduit 333 to the condenser 334 through which the brine passes through the conduits 335 and 336, and a part of the condensate is refluxed to the top of the dehydration tower 329 through the conduit 337, The uncondensed vapor in condenser 334 was fed via conduit 339 to a reethylene oxide absorber (not shown). The other part of the condensate was supplied to the light fraction separation column 340 through the conduit 338. From the top of the light separation column 340, the ethylene oxide vapor containing the light gas is introduced into the conduit 34.
3 to the condenser 344, the condensate is refluxed to the top of the light separation column 340 through the conduit 347, and the uncondensed vapor is conduit 3
It was fed to a re-ethylene oxide absorption column (not shown) to recover ethylene oxide through 48. The bottom liquid of the light fraction separation column 340 was supplied to the ethylene oxide rectification column 350 through a conduit 349.

エチレンオキシド精留塔350の加熱器360へエチレンオキ
シド放散塔からの放散物を供給し、エチレンオキシド精
留塔350の加熱器358にエチレンオキシド放散塔311底部
の液を熱交換器306で熱回収した後、導管380により加熱
器358へ導入して加熱する方式により加熱し、エチレン
オキシド精留塔350の塔底温度45℃,エチレンオキシド
精留塔底圧力2.0kg/cm2Gで精留を行ない、エチレンオ
キシド精留塔頂より塔頂温度39℃,塔頂部圧力1.8kg/cm
2Gのエチレンオキシド蒸気を導管351を通して、エチレ
ンオキシド凝縮器352へ送り、エチレンオキシドを液化
し、一部は導管356を通してエチレンオキシド精留塔350
の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管357を通し
てエチレンオキシド製品として抜き出した。
The emissions from the ethylene oxide stripping tower are supplied to the heater 360 of the ethylene oxide rectifying tower 350, and the liquid at the bottom of the ethylene oxide stripping tower 311 is recovered by the heat exchanger 306 to the heater 358 of the ethylene oxide rectifying tower 350, and then the conduit 380 is introduced into the heater 358 and heated by the heating method, and the ethylene oxide rectification column 350 is rectified at a bottom temperature of 45 ° C. and an ethylene oxide rectification column bottom pressure of 2.0 kg / cm 2 G. Tower top temperature 39 ℃, Tower top pressure 1.8kg / cm
2 G of ethylene oxide vapor is sent to an ethylene oxide condenser 352 through a pipe 351 to liquefy ethylene oxide, and a part of the ethylene oxide rectification tower 350 is passed through a pipe 356.
Was fed to the top of the column as a reflux liquid, and the other part was withdrawn as an ethylene oxide product through a conduit 357.

エチレンオキシド凝縮器352の未凝縮蒸気は導管355を通
してエチレンオキシドを回収するため再エチレンオキシ
ド吸収塔(図示してない)へ供給した。
The uncondensed vapor of ethylene oxide condenser 352 was fed through conduit 355 to a re-ethylene oxide absorber (not shown) to recover ethylene oxide.

エチレンオキシド精留塔350の塔底液はエチレンオキシ
ドの他アセトアルデヒド,水および酢酸等の高沸点不純
物のため必要により導管367を通して抜き出された。
The bottom liquid of the ethylene oxide rectification column 350 was withdrawn through a conduit 367 as necessary due to high boiling impurities such as acetaldehyde, water and acetic acid in addition to ethylene oxide.

表−1にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。
Table 1 shows the continuous operating conditions of this process all together.

実施例2 第3図に示すように、実施例1と同様な方法において、
エチレンエキシド放散塔411底液は熱交換器406によりエ
チレンオキシド吸収塔402からの液と熱交換したのち、
導管442を経て軽質分分離塔440の加熱器441に供給して
加熱源として使用し、ついで導管416を経て熱交換器 417に送って冷却し、さらに導管420および403を経てエ
チレンオキシド吸収塔402に循環した以外は同様な方法
を行なった。
Example 2 As shown in FIG. 3, in the same manner as in Example 1,
The bottom liquid of the ethylene oxide diffusion tower 411 exchanges heat with the liquid from the ethylene oxide absorption tower 402 by the heat exchanger 406,
It is supplied to the heater 441 of the light separation column 440 via the conduit 442 for use as a heating source, and then sent to the heat exchanger 417 via the conduit 416 for cooling, and further to the ethylene oxide absorption tower 402 via the conduits 420 and 403. A similar method was used except that it was circulated.

表2にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。Table 2 collectively shows the continuous conditions of this process.

実施例3 第4図に示すように、実施例1と同様な方法において、
エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器506によりエチ
レンオキシド吸収塔502からの液と熱交換したのち、導
管580および581,542を経てエチレンオキシド精留塔550
の加熱器558および軽質分分離塔540の加熱器541にそれ
ぞれ供給して加熱源として使用し、ついで導管582,583
および516を経て冷却器517に送って冷却し、さらに導管
520および503を経てエチレンオキシド吸収塔502に循環
した以外は同様な方法を行なった。
Example 3 As shown in FIG. 4, in the same manner as in Example 1,
The bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower is heat-exchanged with the liquid from the ethylene oxide absorption tower 502 by a heat exchanger 506, and then the ethylene oxide rectification tower 550 is passed through conduits 580 and 581, 542.
To the heater 558 of the light separation column 540 and the heater 541 of the light fraction separation column 540 to be used as a heating source, and then the conduits 582,583
And 516 to cooler 517 for cooling and further conduit
A similar method was carried out except that the ethylene oxide absorption tower 502 was circulated via 520 and 503.

表3にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。Table 3 collectively shows the continuous conditions of this process.

実施例4 第4図に示すように、実施例3の方法において各部の操
作条件を変えた以外は同様の方法を行なったところ、表
4の結果が得られた。
Example 4 As shown in FIG. 4, when the same method was used except that the operating conditions of each part were changed in the method of Example 3, the results in Table 4 were obtained.

実施例5 第5図に示すようにして、実施例1と同様な方法におい
て、エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器606により
エチレンオキシド吸収塔602からの液と熱交換したの
ち、導管680を経てエチレンオキシド精留塔650の加熱器
658に供給して、加熱源として使用したのち、導管642を
通して軽質分分離塔640の加熱器641に供給して加熱源と
して使用し、ついで導管616を経て冷却器617に送って冷
却し、、さらに導管620および603を経てエチレンオキシ
ド吸収塔602に循環した以外は同様な方法を行なった。
Example 5 As shown in FIG. 5, in the same manner as in Example 1, the bottom liquid of the ethylene oxide stripping tower was heat-exchanged with the liquid from the ethylene oxide absorption tower 602 by the heat exchanger 606, and then ethylene oxide was passed through the conduit 680. Rectification tower 650 heater
After being supplied to 658 and used as a heating source, it is supplied to the heater 641 of the light separation column 640 through a conduit 642 and used as a heating source, and then sent to a cooler 617 via a conduit 616 for cooling, Further, the same method was performed except that the ethylene oxide absorption tower 602 was circulated through conduits 620 and 603.

表5にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。Table 5 collectively shows the continuous conditions of this process.

比較例1 第1図に示すように、実施例1と同様の方法において、
エチレンオキシド放散塔11の塔頂部より放散されるエチ
レンオキシドを含む放散蒸気は導管23を通して、導管25
および導管26に冷却水が通る凝縮器24へ送り、凝縮液は
導管27を通してエチレンオキシド放散塔11の塔頂部へ還
流し、未凝縮蒸気は導管28を通して脱水塔29へ供給し
た。
Comparative Example 1 As shown in FIG. 1, in the same manner as in Example 1,
Dispersed vapor containing ethylene oxide, which is dissipated from the top of the ethylene oxide stripping tower 11, passes through a pipe 23 and a pipe 25.
Then, the cooling water was sent to a condenser 24 through which a conduit 26 was passed, the condensate was refluxed to the top of the ethylene oxide stripping column 11 through a conduit 27, and the uncondensed vapor was supplied to a dehydration column 29 through a conduit 28.

脱水塔29の加熱器30により水蒸気で導管31を通して加熱
する加熱方式により加熱し、脱水塔29の塔底より導管32
を通してエチレンオキシドを実質的に含まない水が抜き
出された。これ以外は実施例1と同様な方法を行なっ
た。
The heater 30 of the dehydration tower 29 is heated by a heating system in which steam is heated through the conduit 31 and the conduit 32 is supplied from the bottom of the dehydration tower 29.
Water substantially free of ethylene oxide was withdrawn through. Except for this, the same method as in Example 1 was performed.

表6にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。Table 6 collectively shows the continuous conditions of this process.

(発明の効果) 本発明の方法によれば、エチレンオキシド放散塔での塔
頂部から放散された蒸気をエチレンオキシド精留塔の加
熱器に導入することにより、エチレンオキシド精留塔を
加熱するに要する外部からの加熱熱量を大幅に減少する
ことが可能となる効果を発揮するものである。さらにこ
の方法を実施することによってエチレンオキシドの放散
塔頂部で発生した蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。また、エチレンオキ
シド放散塔底部より抜き出された液の一部をエチレンオ
キシド吸収塔底部よりの液と熱交換した後、エチレンオ
キシド精留塔および/または軽質分分離塔の加熱源とし
て利用するすることによってエチレンオキシド精留塔お
よび軽質分分離塔の加熱蒸気の削減をもたらすものであ
る。さらにエチレンオキシド吸収塔への吸収液を冷却す
るための冷却水の熱負荷が低減される効果を有するもの
である。
(Effect of the invention) According to the method of the present invention, by introducing the vapor diffused from the top of the ethylene oxide stripping tower into the heater of the ethylene oxide fractionating tower, it is necessary to heat the ethylene oxide fractionating tower from the outside. The effect of making it possible to greatly reduce the amount of heating heat of is exhibited. Furthermore, by carrying out this method, the heat load of the cooling water for cooling the vapor phase generated at the top of the ethylene oxide stripping tower is reduced. In addition, a part of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping column is heat-exchanged with the liquid from the bottom of the ethylene oxide absorption column, and then used as a heating source for the ethylene oxide rectification column and / or the light fraction separation column. This will reduce the heating steam of the rectification column and the light fraction separation column. Further, it has an effect of reducing the heat load of the cooling water for cooling the absorption liquid to the ethylene oxide absorption tower.

(発明の効果) エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成
したエチレンオキシド含有反応生成ガスよりエチレンオ
キシドを精製する方法において、エチレンオキシド放散
塔から放散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加
熱源に使用してなるエチレンオキシドの精製方法であ
り、また該放散塔の塔底物は精留塔および/または軽質
分分離塔の加熱源としても使用できる。
(Effects of the Invention) In a method for purifying ethylene oxide from an ethylene oxide-containing reaction product gas produced by catalytic vapor-phase oxidation of ethylene with a gas containing molecular oxygen, in the method of heating the ethylene oxide rectification column, the emissions emitted from the ethylene oxide stripping column are heated. It is a method for purifying ethylene oxide used as a source, and the bottom product of the stripping column can also be used as a heating source for a rectification column and / or a light fraction separation column.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明に関連する公知のエチレンキシド回収
方法を示す一例である。 第2〜5図は、本発明のエチレンオキシド回収方法の好
ましい具体例を示す一例である。 (302)……エチレンオキシド吸収塔 (317)……冷却器 (308)……フラッシュタンク (311)……エチレンオキシド放散塔 (312)……エチレンオキシド放散塔加熱器 (364)……エチレンオキシド放散塔凝縮器 (329)……脱水塔 (330)……脱水塔加熱器 (334)……脱水塔凝縮器 (340)……軽質分分離塔 (341)……軽質分分離塔加熱器 (344)……軽質分分離塔凝縮器 (350)……エチレンオキシド精留塔 (352)……エチレンオキシド精留塔凝縮器 (358)……エチレンオキシド精留塔加熱器 (360)……エチレンオキシド精留塔加熱器 (306)……熱交換器
FIG. 1 is an example showing a known ethylene oxide recovery method related to the present invention. 2 to 5 are examples showing preferred specific examples of the ethylene oxide recovery method of the present invention. (302) …… Ethylene oxide absorption tower (317) …… Cooler (308) …… Flash tank (311) …… Ethylene oxide diffusion tower (312) …… Ethylene oxide diffusion tower heater (364) …… Ethylene oxide diffusion tower condenser (329) …… Dehydration tower (330) …… Dehydration tower heater (334) …… Dehydration tower condenser (340) …… Light fraction separation tower (341) …… Light fraction separation heater (344) …… Light fraction separation tower condenser (350) …… Ethylene oxide rectification tower (352) …… Ethylene oxide rectification tower condenser (358) …… Ethylene oxide rectification tower heater (360) …… Ethylene oxide rectification tower heater (306) )……Heat exchanger

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許3766714(US,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (56) References US Pat. No. 3,766,714 (US, A)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相
酸化して生成したエチレンオキシドを含有する反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入して吸収液と向流
接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエ
チレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔
へ供給してエチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキ
シドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留
出液を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽質分分離塔
で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエ
チレンオキシドを精留する工程よりなるエチレンオキシ
ドの生成方法において、エチレンオキシド放散塔から放
散される放散物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に使
用し、エチレンオキシド放散塔より抜き出された液の一
部はエチレンオキシド精留塔の加熱源および/または軽
質分分離塔の加熱源に使用することを特徴とするエチレ
ンオキシドの生成方法。
1. A reaction product gas containing ethylene oxide produced by catalytic vapor-phase oxidation of ethylene with a gas containing molecular oxygen is introduced into an ethylene oxide absorption tower and is brought into countercurrent contact with an absorbing liquid to remove the ethylene oxide absorption tower from the top. The gas is circulated to the ethylene oxidation reaction step, the bottom liquid of the ethylene oxide absorption tower containing ethylene oxide is supplied to the ethylene oxide diffusion tower to disperse ethylene oxide from the top of the ethylene oxide diffusion tower, the distillate containing ethylene oxide and water is condensed, and the dehydration tower In the method for producing ethylene oxide, which comprises the steps of separating water with a light fraction separator, separating the light fraction with a light fraction separation column, and then rectifying ethylene oxide with an ethylene oxide rectification column, the emissions emitted from the ethylene oxide stripping column are rectified with ethylene oxide. Used as a heating source for the tower, METHOD generation of ethylene oxide portion of liquid extracted from Sid stripping column, characterized in that the used heat source and / or heating source light fraction separating column of ethylene fractionator.
【請求項2】放散塔底液温度は100〜150℃である特許請
求の範囲(1)に記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the stripper bottom liquid temperature is 100 to 150 ° C.
【請求項3】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源として
使用されてなる特許請求の範囲(1)に記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein a part of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping column is used as a heating source for the ethylene oxide rectifying column.
【請求項4】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部は軽質分分離塔の加熱源として使用されて
なる特許請求の範囲(1)に記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein a part of the liquid withdrawn from the bottom of the ethylene oxide stripping column is used as a heating source for the light fraction separation column.
【請求項5】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔および軽質分分
離塔の加熱源として使用されてなる特許請求の範囲
(1)に記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein a part of the liquid withdrawn from the bottom of the ethylene oxide stripping column is used as a heating source for the ethylene oxide rectification column and the light fraction separation column.
【請求項6】エチレンオキシド放散塔底部より抜き出さ
れた液の一部はエチレンオキシド精留塔の加熱源と併用
された後、さらに軽質分分離等の加熱源として使用され
てなる特許請求の範囲(1)に記載の方法。
6. The method according to claim 1, wherein a part of the liquid extracted from the bottom of the ethylene oxide stripping column is used together with a heating source of the ethylene oxide rectification column, and then used as a heating source for light fraction separation and the like. The method described in 1).
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