JPH0786694A - Optical transmission device - Google Patents

Optical transmission device

Info

Publication number
JPH0786694A
JPH0786694A JP5229911A JP22991193A JPH0786694A JP H0786694 A JPH0786694 A JP H0786694A JP 5229911 A JP5229911 A JP 5229911A JP 22991193 A JP22991193 A JP 22991193A JP H0786694 A JPH0786694 A JP H0786694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
oscillation wavelength
channel
semiconductor laser
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5229911A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3192293B2 (en
Inventor
Masaki Toyama
政樹 遠山
Nobuo Suzuki
信夫 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP22991193A priority Critical patent/JP3192293B2/en
Priority to US08/208,704 priority patent/US5642371A/en
Publication of JPH0786694A publication Critical patent/JPH0786694A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3192293B2 publication Critical patent/JP3192293B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To provide an optical transmission device which is capable of holding a narrow spectral line width and practically switching over a short circuit. CONSTITUTION:This invention relates to an optical transmission device which uses a multiple electrode DFB semiconductor laser for a receiving service. The optical transmission device uses a multiple electrode DFB semiconductor laser which is provided with an automatic frequency control circuit 12 which controls oscillation wavelength mainly based on the density of carriers and sweeps the oscillation wavelength over a required wavelength range by means of the current control device 12 and selects a specified wavelength in the wavelength range by means of the automatic frequency control circuit 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光周波数分割多重(光
FDM)通信等の通信方式における光伝送装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical transmission device in a communication system such as optical frequency division multiplexing (optical FDM) communication.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より光通信技術の研究や開発が盛ん
に行なわれている。これは光信号伝送が電気信号伝送よ
り伝送速度や信号間の干渉等の点で優れているからであ
る。このような状況の中、近年、光FDMが注目されて
いる。これは光FDMが光の周波数空間への多重化を利
用することで大容量伝送を実現する通信方式であるから
である。特に、光の周波数・位相を利用するコヒーレン
ト光通信は、周波数多重の高密度化が可能であり、飛躍
的に情報伝送量を増大することができるため、次世代通
信方式として有望視されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, research and development of optical communication technology have been actively conducted. This is because optical signal transmission is superior to electrical signal transmission in terms of transmission speed and interference between signals. Under such circumstances, the optical FDM has been receiving attention in recent years. This is because the optical FDM is a communication system that realizes large-capacity transmission by utilizing multiplexing of light in the frequency space. In particular, coherent optical communication that utilizes the frequency and phase of light is promising as a next-generation communication method because it can achieve high density frequency multiplexing and can dramatically increase the amount of information transmission. .

【0003】ところで、コヒーレント光通信では、単一
縦モード発振し、狭いスペクトル線幅を有する光源が要
求される。光FDM通信方式においては、以上の特性に
加えて、広範囲にわたる波長可変特性が要求される。波
長可変光源は、受信側においてチャンネルを選択する際
に用いられ、その波長可変範囲が広いほど多数のチャン
ネルを受信することが可能となる。また、n対n光通信
システムを構成するためには、チャンネルの切り換え時
間が短いことが要求される。
By the way, in coherent optical communication, a light source that oscillates in a single longitudinal mode and has a narrow spectral line width is required. In the optical FDM communication system, in addition to the above characteristics, a wide range of wavelength tunable characteristics is required. The variable wavelength light source is used when selecting channels on the receiving side, and the wider the variable wavelength range, the more channels can be received. Further, in order to construct an n-to-n optical communication system, it is required that the channel switching time be short.

【0004】波長可変な半導体レーザとしては、多電極
分布帰還型(多電極DFB)半導体レーザや、多電極分
布ブラッグ反射型(多電極DBR)半導体レーザなどが
知られている。
As the wavelength tunable semiconductor laser, a multi-electrode distributed feedback (multi-electrode DFB) semiconductor laser, a multi-electrode distributed Bragg reflection (multi-electrode DBR) semiconductor laser, etc. are known.

【0005】多電極DFB半導体レーザにおいては、レ
ーザ本体を共振器方向に複数の領域に分割し、それぞれ
の領域に独立に電流注入することで、共振器内部の屈折
率分布を制御し、発振波長を変化させるもので、高い光
出力と狭いスペクトル線幅を広い波長可変範囲にわたっ
て実現できるという特徴がある。
In a multi-electrode DFB semiconductor laser, the laser main body is divided into a plurality of regions in the cavity direction, and current is independently injected into each region to control the refractive index distribution inside the cavity and to generate an oscillation wavelength. The characteristic is that a high optical output and a narrow spectral line width can be realized over a wide wavelength tunable range.

【0006】しかし、多電極DFB半導体レーザにおい
ては、屈折率はキャリア密度と温度とに依存するが、活
性導波路における注入電流によるキャリア密度の変化量
が小さいため、電流注入にともなう温度上昇の影響が無
視できない。実際のデバイスにおいて、数nm以上にわ
たる広い波長可変範囲が得られているが、温度による波
長可変量が支配的である。
However, in the multi-electrode DFB semiconductor laser, the refractive index depends on the carrier density and the temperature, but since the change amount of the carrier density due to the injection current in the active waveguide is small, the influence of the temperature rise accompanying the current injection is small. Cannot be ignored. In actual devices, a wide wavelength tunable range of several nm or more has been obtained, but the wavelength tunable amount by temperature is dominant.

【0007】このため、多電極DFBレーザを用いた光
伝送装置では、波長変化の速度は温度変化の速度によっ
て律速され、チャンネルの切り換え時間がミリ秒程度と
長くなるという問題点があった。
Therefore, in the optical transmission device using the multi-electrode DFB laser, there is a problem that the speed of wavelength change is rate-controlled by the speed of temperature change, and the switching time of the channel is extended to about milliseconds.

【0008】一方、多電極DBR半導体レーザは、共振
器方向において、活性領域の他に、受動導波路からなる
ブラッグ反射領域と位相整合領域とを有しており、各領
域に対応して複数の電極を設けたものである。
On the other hand, the multi-electrode DBR semiconductor laser has a Bragg reflection region composed of a passive waveguide and a phase matching region in the cavity direction in addition to the active region, and a plurality of regions correspond to each region. It is provided with electrodes.

【0009】ブラッグ反射領域と位相整合領域への注入
電流を制御し、その屈折率を変化させることで波長可変
動作を行なう。受動導波路(ブラッグ反射領域,位相整
合領域)では、注入電流によりそのキャリア密度を大き
く変化させることができるため、ブラッグ反射領域と位
相整合領域における屈折率変化に対しては、温度の寄与
よりもキャリア密度の寄与の方が支配的となる。このた
め、キャリア密度の変化の速度はナノ秒程度と速いた
め、多電極DBRレーザでは、短いチャンネル切り換え
時間を実現できる。
The wavelength tunable operation is performed by controlling the injection current to the Bragg reflection region and the phase matching region and changing the refractive index thereof. In the passive waveguide (Bragg reflection region, phase matching region), the carrier density of the waveguide can be greatly changed by the injection current. Therefore, rather than the contribution of temperature to the refractive index change in the Bragg reflection region and the phase matching region The contribution of carrier density is more dominant. For this reason, the carrier density changes at a high speed of about nanoseconds, and thus a multi-electrode DBR laser can realize a short channel switching time.

【0010】しかし、受動導波路における注入キャリア
量が大きくなると、吸収損失が増大し、光出力が減少す
ると同時に、スペクトル線幅が増大する。このため、多
電極DBRレーザを用いた光伝送装置では、狭いスペク
トル線幅を保てる波長可変範囲が小さくなるという問題
点があった。
However, when the amount of injected carriers in the passive waveguide increases, the absorption loss increases, the optical output decreases, and at the same time the spectral line width increases. Therefore, the optical transmission device using the multi-electrode DBR laser has a problem that the wavelength variable range in which a narrow spectral line width can be maintained becomes small.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の多
電極DFB半導体レーザを用いた光伝送装置では、広い
波長可変範囲にわたって狭いスペクトル線幅を保てる
が、チャンネルの切り換え時間が長いという問題点があ
った。
As described above, in the conventional optical transmission device using the multi-electrode DFB semiconductor laser, a narrow spectral line width can be maintained over a wide wavelength tunable range, but the channel switching time is long. was there.

【0012】また、従来の多電極DBR半導体レーザを
用いた光伝送装置では、チャンネルの切り換え時間は短
いが、狭いスペクトル線幅を保てる波長可変範囲が狭い
という問題点があった。
Further, in the conventional optical transmission device using the multi-electrode DBR semiconductor laser, there is a problem that the channel switching time is short, but the wavelength tunable range capable of maintaining a narrow spectral line width is narrow.

【0013】本発明は、上記事情を考慮して成されたも
ので、その目的とするところは、広範囲にわたって狭い
スペクトル線幅を保ちつつ、短いチャンネル切り換え時
間を実現できる光伝送装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an optical transmission device capable of realizing a short channel switching time while maintaining a narrow spectral line width over a wide range. It is in.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光伝送装置は、光信号を送信する送信装
置と、受信用光源として半導体レーザを使用し、前記光
信号を受信する光受信装置とを具備してなり、前記半導
体レーザは、その発振波長を温度により制御する第1の
発振波長制御手段と、キャリア密度によって制御する第
2の発振波長制御手段とを備え、前記第1の発振波長制
御手段により所望の波長範囲にわたって発振波長を過渡
的に掃引するとともに、この発振周波数を前記第2の発
振波長制御手段により過渡的に変動させ、範囲の所望の
波長を段階的に順次選択することを特徴とする。
In order to achieve the above object, an optical transmission apparatus of the present invention uses a transmission apparatus for transmitting an optical signal and a semiconductor laser as a light source for reception, and receives the optical signal. And a second oscillation wavelength control means for controlling the oscillation wavelength of the semiconductor laser according to temperature, and a second oscillation wavelength control means for controlling the oscillation wavelength of the semiconductor laser according to temperature. The first oscillation wavelength control means transiently sweeps the oscillation wavelength over a desired wavelength range, and the second oscillation wavelength control means transiently fluctuates this oscillation frequency to gradually change the desired wavelength in the range. It is characterized by sequentially selecting.

【0015】ここで、発振波長を温度により制御する第
1の発振波長制御手段とは、具体的には、活性導波路領
域への電流注入、或いは(薄膜抵抗などの)作りつけら
れた加熱手段を意味している。活性導波路領域への電流
注入の場合、温度変化と同時にキャリア密度変化が生じ
るため、温度変化の効果の方が支配的になるようにす
る。
Here, the first oscillation wavelength control means for controlling the oscillation wavelength by temperature is, specifically, a current injection into the active waveguide region or a built-in heating means (such as a thin film resistor). Means In the case of current injection into the active waveguide region, since the carrier density changes at the same time as the temperature change, the effect of the temperature change should be dominant.

【0016】[0016]

【作用】一般に、温度による発振波長の制御は、広い波
長可変範囲にわたって狭いスペクトル線幅を保てるが、
発振波長の切り換えに時間がかかる。一方、キャリア密
度による発振波長の制御は、発振波長の切り換え時間は
短いが、狭いスペクトル線幅を保てる波長可変範囲は狭
い。
In general, controlling the oscillation wavelength by temperature can maintain a narrow spectral line width over a wide wavelength tunable range,
It takes time to switch the oscillation wavelength. On the other hand, in the control of the oscillation wavelength by the carrier density, the oscillation wavelength switching time is short, but the wavelength variable range in which a narrow spectral line width can be maintained is narrow.

【0017】このため、本発明によれば、発振波長を温
度により制御する第1の発振波長制御手段によって、狭
いスペクトル線幅を保ったまま広範囲の波長範囲を掃引
できるとともに、キャリア密度によって制御する第2の
発振波長制御手段によって、短時間で上記波長範囲の所
望の波長を選択できる。
Therefore, according to the present invention, the first oscillation wavelength control means for controlling the oscillation wavelength by the temperature can sweep a wide wavelength range while keeping the narrow spectral line width, and control by the carrier density. The second oscillation wavelength control means can select a desired wavelength within the above wavelength range in a short time.

【0018】したがって、上記第1および第2の発振波
長制御手段を備えた半導体レーザを用いた本発明の光伝
送装置によれば、広範囲にわたって狭いスペクトル線幅
を保ちつつ、短いチャンネル切り換え時間を実現でき
る。
Therefore, according to the optical transmission device of the present invention using the semiconductor laser provided with the first and second oscillation wavelength control means, a short channel switching time is realized while maintaining a narrow spectral line width over a wide range. it can.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。図1は、本発明の第1の実施例に係る光伝送装置の
受信装置に用いる多電極DFB半導体レーザの構造を示
す模式図である。
Embodiments will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of a multi-electrode DFB semiconductor laser used in a receiver of an optical transmission device according to a first embodiment of the present invention.

【0020】図中、1はn型InP基板を示しており、
このn型InP基板1上には共振器方向の一部を除いて
回折格子2が形成されている。この回折格子2上には、
活性導波路としてのInGaAsP活性層(光導波層を
含む)3が形成され、また、共振器方向で回折格子が形
成されていない領域には、受動導波路としてのInGa
AsP受動層(光導波層を含む)4が形成されている。
In the figure, 1 indicates an n-type InP substrate,
A diffraction grating 2 is formed on the n-type InP substrate 1 except for a part in the cavity direction. On this diffraction grating 2,
An InGaAsP active layer (including an optical waveguide layer) 3 as an active waveguide is formed, and InGa as a passive waveguide is formed in a region where a diffraction grating is not formed in the resonator direction.
An AsP passive layer (including an optical waveguide layer) 4 is formed.

【0021】InGaAsP活性層3とInGaAsP
受動層4の上には、p型InPクラッド層5およびp型
InGaAsコンタクト層6が形成され、このp型In
GaAsコンタクト層6は電極ごとに分離されて形成さ
れている。
InGaAsP active layer 3 and InGaAsP
On the passive layer 4, a p-type InP clad layer 5 and a p-type InGaAs contact layer 6 are formed.
The GaAs contact layer 6 is formed separately for each electrode.

【0022】共振器方向には4つのp型オーミック電極
1 ,72 ,73 ,74 が設けられており、これらのう
ちp型オーミック電極72 はInGaAsP受動層4上
に形成されている。劈開により形成された両端面には、
SiNx からなる反射率1%以下の低反射膜9がコーテ
ィングされている。
Four p-type ohmic electrodes 7 1 , 7 2 , 7 3 , 7 4 are provided in the cavity direction, and among these, the p-type ohmic electrode 7 2 is formed on the InGaAsP passive layer 4. There is. On both end surfaces formed by cleavage,
A low reflection film 9 made of SiNx and having a reflectance of 1% or less is coated.

【0023】レーザ本体は、AuSnハンダにより接地
電極となるヒートシンク(不図示)の上に固定されてお
り、ヒートシンクは、例えば、温度センサとペルチェ素
子とを用いて一定温度になるように制御されている。
The laser body is fixed on a heat sink (not shown) serving as a ground electrode by AuSn solder, and the heat sink is controlled to have a constant temperature by using, for example, a temperature sensor and a Peltier element. There is.

【0024】p型電極71 ,72 ,73 ,74 は、セラ
ミック基板上に形成された給電線とボンディングにより
接続されており、各電極独立に注入電流を制御できるよ
うになっている。p型電極71 ,73 ,74 は電流制御
装置12(第1の発振波長制御手段)によって、p型電
極72 は自動周波数制御回路11(第2の発振波長制御
手段)によって制御できるようになっている。具体的に
は、周波数検出装置10にはビームスプリッタ13を介
してレーザ光17の一部が導入されるようになってい
る。そして、周波数検出装置10はレーザ光17の周波
数を検出し、この検出結果は自動周波数制御回路11を
介して電極72 への注入電流にフィードバックされてい
る。また、電流制御装置12は、InGaAsP活性層
3への注入電流を精密に制御すると同時に、チャンネル
波長の切り換えを指示する信号を自動周波数制御回路1
1へ送っている。
The p-type electrodes 7 1 , 7 2 , 7 3 , and 7 4 are connected to a power feed line formed on a ceramic substrate by bonding so that the injection current can be controlled independently for each electrode. . The p-type electrodes 7 1 , 7 3 , and 7 4 can be controlled by the current controller 12 (first oscillation wavelength control means), and the p-type electrode 7 2 can be controlled by the automatic frequency control circuit 11 (second oscillation wavelength control means). It is like this. Specifically, a part of the laser light 17 is introduced into the frequency detection device 10 via the beam splitter 13. Then, the frequency detection device 10 detects the frequency of the laser beam 17, and the detection result is fed back to the injection current to the electrode 7 2 via the automatic frequency control circuit 11. Further, the current control device 12 precisely controls the injection current into the InGaAsP active layer 3, and at the same time, sends a signal instructing the switching of the channel wavelength to the automatic frequency control circuit 1.
I am sending to 1.

【0025】ここで、電流制御装置12とは、具体的に
は、活性導波路領域への電流注入、或いは(薄膜抵抗な
どの)作りつけられた加熱手段を意味している。なお、
活性導波路領域への電流注入の場合、温度変化と同時に
キャリア密度変化が生じるため、温度変化の効果の方が
支配的になるようにする。
Here, the current control device 12 specifically means a current injection into the active waveguide region or a built-in heating means (such as a thin film resistor). In addition,
In the case of current injection into the active waveguide region, since the carrier density changes at the same time as the temperature change, the effect of the temperature change should be dominant.

【0026】この多電極DFB半導体レーザによれば、
例えば、電極72 への注入電流を0mAとし、受動導波
路にキャリアを注入しない場合には、電極71 ,74
の注入電流を一定とし、電極73 への注入電流を400
mA変化させることにより、スペクトル線幅を1MHz
以下に保ちながら、5nmにわたる連続波長可変動作を
得ることができる。
According to this multi-electrode DFB semiconductor laser,
For example, when the injection current into the electrode 7 2 is 0 mA and no carrier is injected into the passive waveguide, the injection current into the electrodes 7 1 and 7 4 is constant and the injection current into the electrode 7 3 is 400 mA.
By changing the mA, the spectral line width is 1MHz
Continuous tunable operation over 5 nm can be obtained while keeping below.

【0027】図2は、電極73 (活性導波路)への注入
電流をステップ状に変化させたときの発振波長の時間変
化を示している。ここでは、活性導波路における屈折率
変化を利用して発振波長を変化させており、温度変化に
より波長可変動作を得ている。このため、波長可変量に
関係なく、発振波長を切り換えるまでに1ミリ秒の時間
を有している。また、発振波長の時間変化は、急俊に立
ち上がってから、緩やかに変化している。
FIG. 2 shows the change over time in the oscillation wavelength when the injection current to the electrode 7 3 (active waveguide) is changed stepwise. Here, the oscillation wavelength is changed by utilizing the refractive index change in the active waveguide, and the wavelength tunable operation is obtained by the temperature change. Therefore, there is a time of 1 millisecond before switching the oscillation wavelength, regardless of the wavelength variable amount. In addition, the time variation of the oscillation wavelength has been gradually changing after it suddenly rises.

【0028】このため、図3に示すように、電極73
の注入電流を直線的に変化させると、時間に対してほぼ
線形に発振波長を変化させることができる。例えば、1
ミリ秒の間に5nmの波長掃引を行なえば、コヒーレン
ト光通信では、0.1nm程度の狭いチャンネル間隔で
周波数多重化することができるので、5nmの波長掃引
の間に50チャンネルにおよぶ多数のチャンネル波長を
横切ることになる。
Therefore, as shown in FIG. 3, when the injection current to the electrode 7 3 is linearly changed, the oscillation wavelength can be changed almost linearly with time. For example, 1
If a wavelength sweep of 5 nm is performed in milliseconds, in coherent optical communication, frequency multiplexing can be performed with a narrow channel interval of about 0.1 nm. Therefore, a large number of channels up to 50 channels can be obtained during a wavelength sweep of 5 nm. Will cross the wavelength.

【0029】このように活性導波路における屈折率変化
を利用し、所定の発振波長範囲の波長を掃引し、各チャ
ンネル波長を横切るようにしたときに、電極72 (受動
導波路)への注入電流を図5に示すように変化させれ
ば、発振波長を各チャンネル波長に合わせながら、発振
波長を掃引することができる。例えば、1ミリ秒かけて
発振波長を5nm掃引する間に、各チャンネルに20マ
イクロ秒ずつアクセスすれば、50チャンネルを切り換
えることができる。
In this way, by utilizing the change in the refractive index in the active waveguide and sweeping the wavelength in the predetermined oscillation wavelength range so as to cross each channel wavelength, injection into the electrode 7 2 (passive waveguide) is performed. By changing the current as shown in FIG. 5, the oscillation wavelength can be swept while adjusting the oscillation wavelength to each channel wavelength. For example, 50 channels can be switched by accessing each channel for 20 microseconds while sweeping the oscillation wavelength by 5 nm over 1 millisecond.

【0030】このチャンネルの切り換えは、受動導波路
における屈折率変化がキャリア密度変化に基づいている
ため、チャンネルの切り換え時間はナノ秒程度と速い。
このため、例えば、各チャンネルに割り当てられたタイ
ムスロットが20マイクロ秒という短いものに対して
も、十分に短いチャンネル切り換え時間を実現できる。
In this channel switching, since the refractive index change in the passive waveguide is based on the carrier density change, the channel switching time is as short as about nanosecond.
Therefore, for example, even when the time slot assigned to each channel is as short as 20 microseconds, a sufficiently short channel switching time can be realized.

【0031】また、InGaAsP受動層4のキャリア
密度変化にともなう波長変化量はチャンネル間隔以下と
小さく、電極72 への注入電流は微少量で済むため、全
チャンネルにおいて3MHz以下の狭いスペクトル線幅
を得ることができる。
Further, since the wavelength change amount due to the carrier density change of the InGaAsP passive layer 4 is as small as the channel interval or less and the injection current to the electrode 7 2 is very small, a narrow spectral line width of 3 MHz or less is obtained for all channels. Obtainable.

【0032】かくして本実施例によれば、活性導波路へ
の注入電流を変化させて広範囲にわたり波長掃引を行な
う間に、受動導波路への注入電流を制御して各チャンネ
ルを高速に切り換えることにより、狭いスペクトル線幅
を保ちつつ、多数のチャンネルとアクセスすることがで
きる。
Thus, according to the present embodiment, while the injection current to the active waveguide is changed to perform the wavelength sweep over a wide range, the injection current to the passive waveguide is controlled to switch each channel at high speed. It is possible to access a large number of channels while maintaining a narrow spectral line width.

【0033】次に図1の多電極DFB半導体レーザにお
ける波長可変動作の第1の変形例を図4を用いて説明す
る。この図4は、InGaAsP活性層3(活性導波
路)およびInGaAsP受動層4(受動導波路)への
注入電流と、発振波長の時間変化との関係を示してい
る。
Next, a first modification of the wavelength variable operation in the multi-electrode DFB semiconductor laser of FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows the relationship between the injection current into the InGaAsP active layer 3 (active waveguide) and the InGaAsP passive layer 4 (passive waveguide) and the time change of the oscillation wavelength.

【0034】実際のシステムでは、広範囲にわたる波長
掃引を繰り返すことになるため、例えば、チャンネル1
からチャンネルnまでを順次切り換えながら発振波長を
掃引した後に、チャンネル1の波長まで発振波長を戻さ
なければならない。
In an actual system, wavelength sweep over a wide range is repeated, and therefore, for example, channel 1
It is necessary to sweep the oscillation wavelength while sequentially switching from to channel n and then return the oscillation wavelength to the wavelength of channel 1.

【0035】これを実現するには、図4に示すように、
長波長側のチャンネル1から短波長側のチャンネルnへ
と順次チャンネルを切り換えた後に、活性導波路への注
入電流を制御し、温度変化の過剰応答を利用すること
で、100マイクロ秒で発振波長を長波長側のチャンネ
ル1まで掃引できる。1ミリ秒の間に各チャンネルに1
回ずつアクセスすることにすれば、デッドタイムは10
%に抑えられることになる。
To realize this, as shown in FIG.
After switching the channel from the long wavelength side channel 1 to the short wavelength side channel n sequentially, by controlling the injection current to the active waveguide and utilizing the excessive response of the temperature change, the oscillation wavelength is 100 microseconds. Can be swept up to channel 1 on the long wavelength side. 1 for each channel in 1 millisecond
If you decide to access each time, the dead time is 10
% Will be suppressed.

【0036】次に図1の多電極DFB半導体レーザにお
ける波長可変動作の第2の変形例を図8を用いて説明す
る。この変形例では、デッドタイムをなくすために、図
8に示すように、チャンネル1からチャンネルnまでを
順次切り換えながら発振波長を掃引した後に、逆にチャ
ンネルnからチャンネル1までを順次切り換えながら発
振波長を掃引している。また、活性導波路への注入電流
を制御することにより、波長掃引時間を片道500マイ
クロ秒としており、少なくとも1ミリ秒の間に1回は、
どのチャンネルにもアクセスできるようになっている。
Next, a second modification of the wavelength variable operation in the multi-electrode DFB semiconductor laser of FIG. 1 will be described with reference to FIG. In this modification, in order to eliminate the dead time, as shown in FIG. 8, the oscillation wavelength is swept while sequentially switching from channel 1 to channel n, and then the oscillation wavelength is switched while sequentially switching from channel n to channel 1. Is sweeping. In addition, the wavelength sweep time is set to 500 microseconds one way by controlling the injection current to the active waveguide, and at least once in at least 1 millisecond,
You can access any channel.

【0037】図6は、本発明の第2の実施例に係るn対
n光通信システムの概略構成を示す模式図である。図
中、211 〜21n は光送信装置を示しており、これら
光送信装置211 〜21n は、スターカプラ20を介し
て、光受信装置221 〜22n に接続されている。光受
信装置221 〜22n はローカルオシレータとして先の
実施例の多電極DFB半導体レーザを用いている。すな
わち、広範囲にわって狭いスペクトル線幅を保ちつつ、
短いチャンネル切り換え時間を実現できる半導体レーザ
が用いられている。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an n-to-n optical communication system according to the second embodiment of the present invention. In the figure, 21 1 to 21 n indicate optical transmitters, and these optical transmitters 21 1 to 21 n are connected to the optical receivers 22 1 to 22 n via a star coupler 20. The optical receivers 22 1 to 22 n use the multi-electrode DFB semiconductor laser of the previous embodiment as a local oscillator. That is, while maintaining a narrow spectral line width over a wide range,
Semiconductor lasers that can realize a short channel switching time are used.

【0038】光送信装置211 〜21n は、それぞれ、
送信信号である波長λ1 〜λn の光信号を送信し、これ
は波長λ1 〜λn の光信号はスターカプラ20によって
周波数分割多重され、光受信装置221 〜22n に送ら
れる。
The optical transmitters 21 1 to 21 n are respectively
The optical signals of the wavelengths λ 1 to λ n , which are transmission signals, are transmitted. The optical signals of the wavelengths λ 1 to λ n are frequency-division multiplexed by the star coupler 20 and sent to the optical receivers 22 1 to 22 n .

【0039】図7に、スターカプラ20からの送信信号
(チャンネルch1 〜ch2 )と多電極DFB半導体レ
ーザの発振波長との関係を示す。各チャンネルからの送
信信号は、隣り合ったチャンネルと1タイムスロットず
つ時間的にずれるように同期されている。ここで、光受
信装置221 についていうと、発振波長を図7に示すよ
うに階段状に掃引すれば、光受信装置221 は各チャン
ネルから送信信号を時分割で受信できる。
FIG. 7 shows the relationship between the transmission signals (channels ch 1 to ch 2 ) from the star coupler 20 and the oscillation wavelength of the multi-electrode DFB semiconductor laser. The transmission signal from each channel is synchronized with the adjacent channel so as to be shifted by one time slot. Here, regarding the optical receiver 22 1 , if the oscillation wavelength is swept in a stepwise manner as shown in FIG. 7, the optical receiver 22 1 can receive a transmission signal from each channel in a time division manner.

【0040】すなわち、受信装置221 は、まず、時間
1 で発振波長λ1 のレーザ光よりチャネルch1 から
の送信信号を受信し、次いで時間t2 で発振波長λ2
レーザ光よりチャネルch2 からの送信信号を受信した
後、時間t3 で発振波長λ2のレーザ光よりチャネルc
3 からの送信信号を受信し、以下、同様に各チャネル
からの送信信号を受信する。同様にして、受信装置22
2 〜22n も全てのチャンネルからの送信信号を受信で
きる。
[0040] That is, the receiving apparatus 22 1 first receives the transmission signal from the channel ch 1 from the laser beams of the emission wavelength lambda 1 at time t 1, then channel from the laser beams of the emission wavelength lambda 2 at time t 2 after receiving the transmission signal from the ch 2, channel c from the laser beams of the emission wavelength lambda 2 at time t 3
The transmission signal from h 3 is received, and thereafter, the transmission signal from each channel is similarly received. Similarly, the receiving device 22
2 to 22 n can also receive transmission signals from all channels.

【0041】本実施例の光通信システムでは、ネットワ
ーク全体で各チャンネルからの送信信号を同期させる必
要があり、このための制御信号をネットワーク全体のコ
ントローラから各チャンネルに送信する必要がある。こ
のためには、例えば、1つのチャンネル波長をこの制御
信号用に割り当てたり、或いはデッドタイム中に強度変
調信号として制御信号を送信すれば良い。
In the optical communication system of this embodiment, it is necessary to synchronize the transmission signals from each channel in the entire network, and it is necessary to transmit the control signal for this purpose to each channel from the controller in the entire network. For this purpose, for example, one channel wavelength may be assigned for this control signal, or the control signal may be transmitted as an intensity modulation signal during the dead time.

【0042】また、InGaAsP受動層4のキャリア
密度変化にともなう波長可変量は、チャンネル間隔以下
にする必要はなく、受動導波路への注入電流は、狭いス
ペクトル線幅を保てる範囲内で変化させることができ
る。
Further, it is not necessary for the wavelength variable amount due to the carrier density change of the InGaAsP passive layer 4 to be less than the channel interval, and the injection current to the passive waveguide should be changed within a range in which a narrow spectral line width can be maintained. You can

【0043】例えば、受動導波路への注入電流を図9の
ように制御することにより、チャンネルchi-1 やチャ
ンネルchi+1 に割り当てられたタイムスロットをチャ
ンネルchi との通信に用いる。
For example, by controlling the injection current to the passive waveguide as shown in FIG. 9, the time slots assigned to the channels ch i-1 and ch i + 1 are used for communication with the channel ch i .

【0044】また、各チャンネルに割り当てられるタイ
ムスロットは、全チャンネルに対して同じ長さである必
要はなく、更に、温度による波長掃引が時間に対して線
形である必要もない。チャンネルを切り換えながら波長
掃引する周期も一定である必要はない。
Also, the time slots assigned to each channel do not have to be the same length for all channels, nor do the wavelength wavelength sweeps need to be linear with time. The period for wavelength sweeping while switching channels does not have to be constant.

【0045】また、チャンネルch1 からチャンネルc
n まで波長掃引する時間と、チャンネルchn からチ
ャンネルch1 まで波長掃引する時間とを変えても良
い。図10は、本発明の第3の実施例に係る光伝送装置
の受信装置に用いる多電極DFB半導体レーザの構造を
示す模式図である。なお、図1の多電極DFB半導体レ
ーザと対応する部分には図1と同一符号を付してあり、
詳細な説明は省略する。
Channels ch 1 to c
The wavelength sweep time to h n and the wavelength sweep time from channel ch n to channel ch 1 may be changed. FIG. 10 is a schematic diagram showing the structure of a multi-electrode DFB semiconductor laser used in the receiver of the optical transmission apparatus according to the third embodiment of the present invention. The parts corresponding to those of the multi-electrode DFB semiconductor laser of FIG.
Detailed description is omitted.

【0046】n型InP基板1上には、InGaAsP
活性層(光導波層を含む)3,InGaAsP受動層
(光導波層を含む)41 、42 が形成され、InGaA
sP受動層42 の下には回折格子2が形成されている。
InGaAsP活性層3,InGaAsP受動層41
2 はメサ状にエッチングされた後に、半絶縁性InP
層14によって埋め込まれている。
InGaAsP is formed on the n-type InP substrate 1.
An active layer (including an optical waveguide layer) 3, an InGaAsP passive layer (including an optical waveguide layer) 4 1 , 4 2 are formed, and InGaA is formed.
The diffraction grating 2 is formed below the sP passive layer 4 2 .
InGaAsP active layer 3, InGaAsP passive layer 4 1,
4 2 is semi-insulating InP after being etched into a mesa shape
Embedded by layer 14.

【0047】InGaAsP活性層3,InGaAsP
受動層41 ,42 および半絶縁性InP層14上には、
p型InPクラッド層5が形成され、その上にはp型I
nGaAsコンタクト層6およびp型オーミック電極7
1 ,72 ,73 が、InGaAsP層41、42、3に
対応して共振器方向に3つに分離されて形成されてい
る。そして、加熱用のPt薄膜抵抗16が、SiO2
15によりp型InPクラッド層5と絶縁されて形成さ
れている。
InGaAsP active layer 3, InGaAsP
On the passive layers 4 1 and 4 2 and the semi-insulating InP layer 14,
A p-type InP clad layer 5 is formed, and a p-type I
nGaAs contact layer 6 and p-type ohmic electrode 7
1 , 7 2 and 7 3 are formed separately corresponding to the InGaAsP layers 41, 42 and 3 in the resonator direction. A Pt thin film resistor 16 for heating is formed by the SiO 2 film 15 so as to be insulated from the p-type InP clad layer 5.

【0048】このように構成された多電極DBR半導体
レーザによれば、温度変化による発振波長制御はPt薄
膜抵抗16への電流注入によって行なわれ、キャリア密
度変化による発振波長制御は受動導波路への電流注入に
よって行なわれる。この受動導波路への電流注入は、電
極71 または電極72 への電流注入により行なう。ま
た、電極71 ,72 への注入電流を同時に制御しても良
い。その具体的な操作方法は、第1の実施例と同様に、
様々な波長可変動作が可能である。
According to the multi-electrode DBR semiconductor laser configured as described above, the oscillation wavelength control by the temperature change is performed by the current injection into the Pt thin film resistor 16, and the oscillation wavelength control by the carrier density change is performed by the passive waveguide. It is performed by current injection. The current injection into the passive waveguide is performed by the current injection into the electrode 7 1 or the electrode 7 2 . Further, the injection currents to the electrodes 7 1 and 7 2 may be controlled simultaneously. The specific operation method is the same as in the first embodiment.
Various wavelength variable operations are possible.

【0049】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。例えば、上記実施例では、InGaA
sP系の半導体レーザの場合について説明したが、本発
明はInGaAlAs系、AlGaInAs系、AlG
aInP系、InGaAsSb系、ZnCdSSe系な
ど様々な材料系にも適用できる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, InGaA
Although the case of the sP-based semiconductor laser has been described, the present invention is InGaAlAs-based, AlGaInAs-based, and AlG.
It can be applied to various material systems such as aInP system, InGaAsSb system, ZnCdSSe system.

【0050】また、基板はn型基板に限るものではない
し、端面には無反射コーティングを施さなくても良い。
更に、半導体レーザの横構造は半絶縁層埋め込み構造に
限るものではないし、活性層や受動層はバルク材料から
構成されていても量子井戸構造から構成されていても良
い。
Further, the substrate is not limited to the n-type substrate, and the end face may not be coated with antireflection coating.
Furthermore, the lateral structure of the semiconductor laser is not limited to the semi-insulating layer embedded structure, and the active layer and the passive layer may be composed of a bulk material or a quantum well structure.

【0051】更にまた、共振器方向における受動導波路
と活性導波路の位置、回折格子を設ける位置、分割電極
数、加熱手段を設ける位置、加熱手段の数など適宜変更
できる。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種
々変形して実施できる。
Furthermore, the positions of the passive waveguide and the active waveguide in the resonator direction, the position where the diffraction grating is provided, the number of divided electrodes, the position where the heating means is provided, the number of heating means, etc. can be changed as appropriate. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、発
振波長を主として温度により制御する第1の発振波長制
御手段によって、狭いスペクトル線幅を保ったまま広範
囲の波長範囲を掃引できるとともに、主としてキャリア
密度によって制御する第2の発振波長制御手段によっ
て、短時間で上記波長範囲の所望の波長を選択できる。
したがって、広範囲にわたって狭いスペクトル線幅を保
ちつつ、短いチャンネル切り換え時間を実現できる。
As described above in detail, according to the present invention, the first oscillation wavelength control means for controlling the oscillation wavelength mainly by the temperature can sweep a wide wavelength range while keeping the narrow spectral line width. The desired wavelength in the above wavelength range can be selected in a short time by the second oscillation wavelength control means which is controlled mainly by the carrier density.
Therefore, it is possible to realize a short channel switching time while maintaining a narrow spectral line width over a wide range.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る光伝送装置の受信
装置に用いる多電極DFB半導体レーザの構造を示す模
式図。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a structure of a multi-electrode DFB semiconductor laser used in a receiver of an optical transmission device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】活性領域の注入電流と発振波長との関係を示す
図。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between an injection current in an active region and an oscillation wavelength.

【図3】活性領域の注入電流と発振波長との関係を示す
図。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an injection current in an active region and an oscillation wavelength.

【図4】活性領域および受動導導波路の注入電流と発振
波長との関係を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between an injection current and an oscillation wavelength in an active region and a passive conducting waveguide.

【図5】活性領域および受動導導波路の注入電流と発振
波長との関係を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between an injection current and an oscillation wavelength of an active region and a passive conducting waveguide.

【図6】本発明の第2の実施例に係るn対n光通信シス
テムの概略構成を示す模式図。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an n-to-n optical communication system according to a second embodiment of the present invention.

【図7】送信信号と発振波長との関係を示す図。FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a transmission signal and an oscillation wavelength.

【図8】活性領域および受動導導波路の注入電流と発振
波長との関係を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between an injection current and an oscillation wavelength of an active region and a passive conducting waveguide.

【図9】活性領域および受動導導波路の注入電流と発振
波長との関係を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between an injection current and an oscillation wavelength of an active region and a passive conducting waveguide.

【図10】本発明の第3の実施例に係る光伝送装置の受
信装置に用いる多電極DFB半導体レーザの構造を示す
模式図。
FIG. 10 is a schematic diagram showing the structure of a multi-electrode DFB semiconductor laser used in a receiver of an optical transmission device according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…n型InP基板 2…回折格子 3…InGaAsP活性層 4,41 ,42 …InGaAsP受動層 5…p型InPクラッド層 6…p型InGaAsコンタクト層 71 ,72 ,73 ,74 …p型オーミック電極 8…n型オーミック電極 9…低反射膜 10…周波数検出装置 11…自動周波数制御回路(第2の発振波長制御手段) 12…電流制御装置(第1の発振波長制御手段) 13…ビームスプリッタ 14…半絶縁性InP層 15…SiO2 膜 16…Pt抵抗薄膜 17…レーザ光 20…スターカプラ 211 〜21n …光送信装置 221 〜22n …光受信装置1 ... n-type InP substrate 2 ... diffraction grating 3 ... InGaAsP active layer 4, 4 1, 4 2 ... InGaAsP passive layer 5 ... p-type InP cladding layer 6 ... p-type InGaAs contact layer 7 1, 7 2, 7 3, 7 4 ... p-type ohmic electrode 8 ... n-type ohmic electrode 9 ... low reflection film 10 ... frequency detection device 11 ... automatic frequency control circuit (second oscillation wavelength control means) 12 ... current control device (first oscillation wavelength control means) ) 13 ... Beam splitter 14 ... Semi-insulating InP layer 15 ... SiO 2 film 16 ... Pt resistance thin film 17 ... Laser light 20 ... Star coupler 21 1 to 21 n ... Optical transmitting device 22 1 to 22 n ... Optical receiving device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 10/04 10/06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H04B 10/04 10/06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光信号を送信する送信装置と、 受信用光源として半導体レーザを使用し、前記光信号を
受信する光受信装置とを具備してなり、 前記半導体レーザは、その発振波長を温度により制御す
る第1の発振波長制御手段と、キャリア密度によって制
御する第2の発振波長制御手段とを備え、前記第1の発
振波長制御手段により所望の波長範囲にわたって発振波
長を過渡的に掃引するとともに、この発振周波数を前記
第2の発振波長制御手段により過渡的に変動させ、所望
の波長を段階的に順次選択することを特徴とする光伝送
装置。
1. A transmission device for transmitting an optical signal, and a light receiving device for receiving the optical signal, wherein a semiconductor laser is used as a light source for reception, and the semiconductor laser has an oscillation wavelength whose temperature is a temperature. And a second oscillation wavelength control means for controlling the carrier density. The first oscillation wavelength control means transiently sweeps the oscillation wavelength over a desired wavelength range. At the same time, the oscillation frequency is transiently changed by the second oscillation wavelength control means, and desired wavelengths are sequentially selected step by step.
【請求項2】前記光信号は周波数分割多重信号であるこ
とを特徴とする請求項1に記載の光伝送装置。
2. The optical transmission device according to claim 1, wherein the optical signal is a frequency division multiplexed signal.
JP22991193A 1993-03-12 1993-09-16 Optical transmission equipment Expired - Fee Related JP3192293B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22991193A JP3192293B2 (en) 1993-09-16 1993-09-16 Optical transmission equipment
US08/208,704 US5642371A (en) 1993-03-12 1994-03-11 Optical transmission apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22991193A JP3192293B2 (en) 1993-09-16 1993-09-16 Optical transmission equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0786694A true JPH0786694A (en) 1995-03-31
JP3192293B2 JP3192293B2 (en) 2001-07-23

Family

ID=16899674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22991193A Expired - Fee Related JP3192293B2 (en) 1993-03-12 1993-09-16 Optical transmission equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3192293B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0813272A2 (en) * 1996-06-11 1997-12-17 Canon Kabushiki Kaisha Wavelength-changeable light source capable of changing wavelength of output light, optical communication network using the same and wavelength control method for controlling wavelength of output light of the same
JP2007273644A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Eudyna Devices Inc Optical semiconductor device, laser chip, and laser module
JP2007294914A (en) * 2006-03-30 2007-11-08 Eudyna Devices Inc Optical semiconductor device
JP2011071562A (en) * 2011-01-11 2011-04-07 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Optical semiconductor device, laser chip, and laser module
JP2011071563A (en) * 2006-03-30 2011-04-07 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Optical semiconductor device
JP2012524409A (en) * 2009-04-14 2012-10-11 コーニング インコーポレイテッド Split control of front and rear parts of DBR diffraction grating
JP2013243206A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor laser module
JP2014022567A (en) * 2012-07-18 2014-02-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor laser module
JP2019212935A (en) * 2011-07-22 2019-12-12 インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド System and method of dynamic and adaptive creation of wavelength continuous and prescribed wavelength-versus-time sweep from laser

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0813272A2 (en) * 1996-06-11 1997-12-17 Canon Kabushiki Kaisha Wavelength-changeable light source capable of changing wavelength of output light, optical communication network using the same and wavelength control method for controlling wavelength of output light of the same
EP0813272A3 (en) * 1996-06-11 1999-06-09 Canon Kabushiki Kaisha Wavelength-changeable light source capable of changing wavelength of output light, optical communication network using the same and wavelength control method for controlling wavelength of output light of the same
US6104516A (en) * 1996-06-11 2000-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Wavelength-changeable light source capable of changing wavelength of output light, optical communication network using the same and wavelength control method for controlling wavelength
JP2007273644A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Eudyna Devices Inc Optical semiconductor device, laser chip, and laser module
JP2007294914A (en) * 2006-03-30 2007-11-08 Eudyna Devices Inc Optical semiconductor device
JP2011071563A (en) * 2006-03-30 2011-04-07 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Optical semiconductor device
JP2012524409A (en) * 2009-04-14 2012-10-11 コーニング インコーポレイテッド Split control of front and rear parts of DBR diffraction grating
JP2011071562A (en) * 2011-01-11 2011-04-07 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Optical semiconductor device, laser chip, and laser module
JP2019212935A (en) * 2011-07-22 2019-12-12 インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド System and method of dynamic and adaptive creation of wavelength continuous and prescribed wavelength-versus-time sweep from laser
JP2013243206A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor laser module
JP2014022567A (en) * 2012-07-18 2014-02-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor laser module

Also Published As

Publication number Publication date
JP3192293B2 (en) 2001-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5642371A (en) Optical transmission apparatus
US6795453B2 (en) Laser thermal tuning
US6665105B2 (en) Tunable electro-absorption modulator
US5173909A (en) Wavelength tunable laser diode
US4896325A (en) Multi-section tunable laser with differing multi-element mirrors
US7656911B2 (en) External resonator type wavelength-variable laser
US6700910B1 (en) Wavelength tunable laser and optical device
US6516017B1 (en) Multiwavelength semiconductor laser device with single modulator and drive method therefor
US5949562A (en) Transmission wavelength control method permitting efficient wavelength multiplexing, optical communication method, optical transmitter, optical transmitter-receiver apparatus, and optical communication system
JP2001127377A (en) Optical transmitter and apparatus therefor
KR930002819B1 (en) Distributed bragg reflector laser for frequency modulated communication systems
JPH084186B2 (en) Semiconductor laser
JP3192293B2 (en) Optical transmission equipment
CA1252188A (en) Single mode injection laser structure
JPH07111354A (en) Semiconductor laser drive device
JP3293968B2 (en) Semiconductor laser device
EP3028352B1 (en) Optical source
JP3247431B2 (en) Distributed reflection semiconductor laser
CN114731026A (en) DR laser
US6678480B1 (en) Optical transmitter and optical communication system
Numai Semiconductor wavelength tunable optical filters
JP3858617B2 (en) Semiconductor laser device and optical transmission module
KR102254954B1 (en) Tunable semiconductor laser and operation method thereof
US20030147441A1 (en) Laser with a resonant optical reflector
JP2579559B2 (en) Optical wavelength filter device

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees