JPH0769215B2 - Spectroscopic analysis method for thin film samples - Google Patents

Spectroscopic analysis method for thin film samples

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JPH0769215B2
JPH0769215B2 JP7529987A JP7529987A JPH0769215B2 JP H0769215 B2 JPH0769215 B2 JP H0769215B2 JP 7529987 A JP7529987 A JP 7529987A JP 7529987 A JP7529987 A JP 7529987A JP H0769215 B2 JPH0769215 B2 JP H0769215B2
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spectrum
sample
refractive index
measurement
film thickness
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茂夫 南
聡 河田
浩一 竹内
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茂夫 南
聡 河田
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、薄膜状試料を分光分析し、観測されたスペク
トルデータから試料の真のスペクトル,膜厚,光学定数
を求める薄膜状試料の分光分析方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for spectroscopic analysis of a thin film sample by spectroscopically analyzing a thin film sample and obtaining a true spectrum, film thickness, and optical constant of the sample from observed spectral data. Regarding

背景 分光分析の目的は、被測定物質によって変調された光強
度分布を、波長あるいは波数の関数として、すなわちス
ペクトルとして測定し、それを解析することにある。ス
ペクトルは、ピーク位置や半値幅あるいは吸収帯といっ
た波長・波数軸に関する情報と、強度・振幅情報から構
成される。一般に、ピーク情報は光エネルギーに関係し
ていることにより定性分析に、強度情報は光子数に関係
していることにより定量分析に利用される。
Background The purpose of spectroscopic analysis is to measure the light intensity distribution modulated by the substance to be measured as a function of wavelength or wave number, that is, as a spectrum, and analyze it. A spectrum is composed of information about the wavelength / wavenumber axis such as a peak position, a half width or an absorption band, and intensity / amplitude information. Generally, peak information is used for qualitative analysis because it relates to light energy, and intensity information is used for quantitative analysis because it relates to photon number.

正確な分析を行なうには、試料スペクトルを精度よく測
定する必要がある。ところが、分析機器から得られる観
測スペクトルは、試料の真のスペクトルに測定系全体の
装置関数が掛かり、更に雑音が加わったものであり、観
測スペクトルをそのまま定性・定量分析に用いると、試
料分析に誤りを冒す可能性がある。そこで、正確な分析
を行なうためには、高精度にスペクトルを測定し、かつ
これから高品質な信号を抽出・分離することが重要であ
る。
In order to perform accurate analysis, it is necessary to measure the sample spectrum with high accuracy. However, the observed spectrum obtained from the analytical equipment is the true spectrum of the sample multiplied by the instrumental function of the entire measurement system, and noise is added, and if the observed spectrum is directly used for qualitative / quantitative analysis, You may make mistakes. Therefore, in order to perform accurate analysis, it is important to measure the spectrum with high accuracy and extract / separate a high-quality signal from this.

このような波形処理において、定数・定量分析を目的と
した処理(例えばスペクトル分離処理)を後処理と呼ぶ
のに対して、正確なスペクトルを得るため、数値処理を
利用して分光機器の性能を間接的に向上させることを目
的とした手法を前処理と呼ぶ。前処理の例としては、雑
音の除去(SN比改善)、ディコンボリューション処理
(分解能向上)などがあるが、本発明は、基本的に前処
理の一つである分光データを対象とした雑音除去に関す
る。
In such waveform processing, processing intended for constant / quantitative analysis (for example, spectral separation processing) is called post-processing, whereas numerical processing is used to improve the performance of the spectroscopic instrument in order to obtain an accurate spectrum. A method that aims to improve indirectly is called preprocessing. Examples of the pre-processing include noise removal (improvement of SN ratio) and deconvolution processing (improvement of resolution), but the present invention is basically one of pre-processing for noise removal for spectral data. Regarding

雑音を大別すると、不規則で信号に依存しないランダム
な雑音と、系統的で信号に依存する雑音の二つになり、
正確な分析を行なうためには両者ともに除去する必要が
ある。特に後者を数学的処理により除去するにはその発
生メカニズムを完全に把握して、その逆過程を精細に辿
ることが課題となる。本発明では薄膜状試料の分光計測
に現れる系統的な雑音である。多重反射干渉の影響を解
析し、その新しい除去手法を与える。以下では、物質の
定性・定量物質に多用されている赤外吸収スペクトルを
例として説明する。
Noise can be roughly divided into two types: random noise that is random and does not depend on signals, and systematic noise that is dependent on signals.
Both must be removed for accurate analysis. In particular, in order to remove the latter by mathematical processing, it is important to fully understand the generation mechanism and follow the reverse process precisely. In the present invention, it is a systematic noise that appears in the spectroscopic measurement of a thin film sample. The effect of multiple reflection interference is analyzed and a new elimination method is given. In the following, an infrared absorption spectrum that is frequently used as a qualitative / quantitative substance will be described as an example.

発明の背景 薄膜やセル中の液体の赤外吸収スペクトルを測定する
と、第1図に示すように、吸収の小さい領域で波数に関
して周期的な波形が見られる。この波形は分析化学の分
野でフリンジと呼ばれており、スペクトルのベースライ
ンに周期的な変化を与えるだけでなく、分析において重
要な吸収ピークの形状,高さにも無視できない影響を与
える。観測スペクトルの形状の変化は定量・定性分析に
大きな障害となるために、フリンジの除去が大きな課題
となっている。フリンジの発生する原因は、膜内やセル
の窓材に狭まれた液層内で繰り返し反射した測定光の干
渉で、特に測定光の波長と試料の厚さとが同程度である
赤外測定の場合、スペクトル形状の変化が顕著にみられ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION When an infrared absorption spectrum of a liquid in a thin film or a cell is measured, as shown in FIG. 1, a periodic waveform with respect to the wave number is observed in a region where the absorption is small. This waveform is called a fringe in the field of analytical chemistry, and it not only gives a periodical change to the baseline of the spectrum, but also has a non-negligible effect on the shape and height of the absorption peak that is important in the analysis. Since the change in the shape of the observed spectrum is a major obstacle to quantitative and qualitative analysis, the removal of fringes is a major issue. The cause of the fringes is the interference of the measurement light repeatedly reflected in the film or in the liquid layer narrowed by the window material of the cell, especially in the infrared measurement where the wavelength of the measurement light and the thickness of the sample are similar. In this case, the change in spectral shape is noticeable.

従来の技術と問題点 この干渉の影響を除去するために、試料表面を粗面にす
る、測定光をブリュースター角で入射させるなどの方法
が早くから行なわれてきたが、これらの実験的な手法で
は膜内での反射と反射光による干渉を完全に抑えること
は不可能で、フリンジを除去出来ない。そこで、数学的
処理によるフリンジの除去法がいくつか提案されてい
る。
Conventional techniques and problems In order to eliminate the influence of this interference, methods such as roughening the sample surface and making the measurement light incident at Brewster's angle have been used early on. In that case, it is impossible to completely suppress the reflection in the film and the interference due to the reflected light, and the fringe cannot be removed. Therefore, some fringe removal methods by mathematical processing have been proposed.

T.Hirschfeldは測定スペクトルからフリンジの周波数成
分を数値的に除去する手法を提案した。(T.Hirschfeld
and H.W.Mantz,“Elimination of Thin Film Infrared
Channel Spectra in Fourier Transform Infrared Spe
ctroscopy",Appl.Spectrosc.30,5,pp.552−553(197
6))。しかし、この手法はフリンジが単一周波数で、
真の吸収スペクトルに加法的に加わっているという誤っ
た仮定に基づいており、この手法ではフリンジを正しく
除去できない。
T. Hirschfeld proposed a method for numerically removing the fringe frequency component from the measured spectrum. (T. Hirschfeld
and HWMantz, “Elimination of Thin Film Infrared
Channel Spectra in Fourier Transform Infrared Spe
ctroscopy ", Appl.Spectrosc.30,5, pp.552-553 (197
6)). However, this method has a single frequency fringe,
It is based on the false assumption that it is additively added to the true absorption spectrum, and this method cannot remove fringes correctly.

他方、R.N.Jonesらは膜厚が既知である試料の光学定数
(吸収スペクトルと屈折率スペクトル)を求める手法を
提案している(R.N.Jones,D.Escolar,J.P.Hawranek,P.N
eelakantan,and R.P.Young,“SOME PROBLEMS IN INFRAR
ED SPECTROPHOTOMETRY",J.Mol.Struct.19,pp.21−42(1
973)、J.P Hawranek,P.Neelakantan,R.P.Young,and R.
N.Jones,“The control of errors in i.r.spectrophot
ometry−III.Transmission measurements using thin c
ells",Spectrochim.Acta 32A,pp.75−84(1976)、J.P.
Hawranek,P.Neelakantan,R.P.Young,and R.N.Jones“Th
e control of errors in i.r.spectrophotometry−IV.C
orrections for dispersion distortion and the evalu
ation of both optical constants",Spectrochim.Acta
32A,pp.85−98(1976)、J.P.Hawranek and R.N.Jone
s,"The control of errors in i.r.spectrophotometry
−V.Assessment of errors in the evaluation of opti
cal constants by transmission measurements on thin
films",Spectrochim.Acta 32A,pp.99−109(1976)、
J.P.Hawranek and R.N.Jones,“The determination of
the optical constantds of benzene and chloroform i
n the i.r.by thin film transmission",Spectrochim.A
cta 32A,pp.111−123(1976).G.K Ribbegard and R.N.
Jones,“The Measurement of the Optical Constants o
f Thin Solid Filme in the Infrared",Appl.Spectros
c.34,pp.638−645(1980))。この手法は、吸収スペク
トルをパラメータとして干渉の影響を受けたスペクトル
を計算し、それを観測スペクトルにフィッティングさせ
ることにより吸収スペクトルを求めるものである。しか
しながら、この手法を観測スペクトルに適用するには、
前もってかなりの高精度で試料膜厚を測定する必要があ
り、複雑な予備実験が要求される。
On the other hand, RNJones et al. Have proposed a method for obtaining the optical constants (absorption spectrum and refractive index spectrum) of a sample with a known film thickness (RNJones, D. Escolar, JPHawranek, PN).
eelakantan, and RPYoung, “SOME PROBLEMS IN INFRAR
ED SPECTROPHOTOMETRY ", J. Mol. Struct. 19, pp. 21-42 (1
973), JP Hawranek, P. Neelakantan, RPYoung, and R.
N. Jones, “The control of errors in irspectrophot
ometry−III.Transmission measurements using thin c
ells ", Spectrochim.Acta 32A, pp.75-84 (1976), JP
Hawranek, P. Neelakantan, RPYoung, and RNJones “Th
e control of errors in irspectrophotometry-IV.C
orrections for dispersion distortion and the evalu
ation of both optical constants ", Spectrochim.Acta
32A, pp.85-98 (1976), JPHawranek and RNJone
s, "The control of errors in irspectrophotometry
−V. Assessment of errors in the evaluation of opti
cal constants by transmission measurements on thin
films ", Spectrochim.Acta 32A, pp.99-109 (1976),
JPHawranek and RNJones, “The determination of
the optical constantds of benzene and chloroform i
n the irby thin film transmission ", Spectrochim.A
cta 32A, pp.111-123 (1976) .GK Ribbegard and RN
Jones, “The Measurement of the Optical Constants o
f Thin Solid Filme in the Infrared ", Appl.Spectros
c.34, pp.638-645 (1980)). In this method, an absorption spectrum is obtained by calculating a spectrum affected by interference using the absorption spectrum as a parameter and fitting it to the observed spectrum. However, to apply this method to the observed spectrum,
It is necessary to measure the sample film thickness with a fairly high degree of accuracy in advance, and complicated preliminary experiments are required.

本発明においては、膜厚が未知の試料を対象にしうるこ
とから、膜厚に関して従来から知られている膜厚測定法
を挙げると、触針法,干渉法,分光法,偏光解
析法などがある。
In the present invention, since a sample of unknown film thickness can be targeted, stylus method, interferometry, spectroscopy, ellipsometry, etc. are mentioned as film thickness measurement methods conventionally known for film thickness. is there.

の触針法は、針を基板部分と基板上の試料部分に接触
させ、その高低差を電気的に拡大、計測する。測定限界
は1nm程度で、基板部と試料部のエッジでの測定が必要
となる。
In the stylus method, the needle is brought into contact with the substrate portion and the sample portion on the substrate, and the height difference is electrically enlarged and measured. The measurement limit is about 1 nm, which requires measurement at the edges of the substrate and sample.

の干渉法はと同様、基板部と試料部とのエッジの高
低差を測定する。試料上にマイカなどの半透膜をわずか
に傾けて置き、膜面と試料面との間で測定光を干渉させ
る。基板部と試料部の高さの差に応じてエッジの部分で
干渉縞がシフトするため、このシフト量から試料の光学
的厚さが測定できる。試料に反射率の高い物質を蒸着す
る必要があるため破壊測定となり、測定限界は測定光の
波長(数nm)程度である。
Similarly to the interferometry method, the height difference between the edges of the substrate and the sample is measured. A semipermeable membrane such as mica is placed on the sample with a slight inclination, and measurement light is caused to interfere between the film surface and the sample surface. Since the interference fringes shift at the edge portion according to the height difference between the substrate portion and the sample portion, the optical thickness of the sample can be measured from this shift amount. Since it is necessary to deposit a substance with high reflectance on the sample, destructive measurement is performed, and the measurement limit is about the wavelength of the measurement light (several nm).

の分光法は、吸収のない領域での試料の分光スペクト
ル中のフリンジの周波数から算出する。(N.J.Harrick,
“Determination of Refractive Index and Film Thick
ness from Interference Fringes",Appl.Opt.10,10,pp.
2344−2349、D.J.Moffatt and D.G.Cameron,“Location
of Low Frequency Fringe Signaturse in Fourier Tra
nsforms of Spectra",Appl.Spectrosc.37,6,p.556(198
3)、藤村貞子,松村篤樹,“分光計測を利用した膜厚
測定",,第46回応用物理学会学術講演会講演予稿集,p.45
(1985))。しかしながら、この手法は吸収がなくかつ
屈折率変化のない領域においてのみしか取扱うことがで
きず、分光スペクトルを利用するにも拘わらず、試料の
物理的性質の現れにくい部分を測定しているわけで、フ
リンジを雑音としてそこから情報を得ないままこれを除
去しようとするのと同様、分光情報という有用な物質情
報を捨てている。この分光法は、非破壊測定であるが、
測定されるのは光学的厚さであり、物理的な厚さは試料
の屈折率を別の計測によって求めなければならない。測
定限界は数nm程度である。
Is calculated from the fringe frequency in the spectrum of the sample in the region without absorption. (NJ Harrick,
“Determination of Refractive Index and Film Thick
ness from Interference Fringes ", Appl.Opt.10,10, pp.
2344-2349, DJMoffatt and DGCameron, “Location
of Low Frequency Fringe Signaturse in Fourier Tra
nsforms of Spectra ", Appl.Spectrosc.37,6, p.556 (198
3), Sadako Fujimura, Atsuki Matsumura, "Film thickness measurement using spectroscopic measurement", Proceedings of the 46th JSAP Academic Conference, p.45
(1985)). However, this method can be handled only in the region where there is no absorption and no change in refractive index, and despite the use of the spectral spectrum, it does not measure the part where the physical properties of the sample are difficult to appear. As with trying to remove fringes as noise without obtaining information from them, useful material information called spectral information is discarded. This spectroscopy is a non-destructive measurement,
It is the optical thickness that is measured, and the physical thickness must be determined by another measurement of the refractive index of the sample. The measurement limit is about several nm.

の偏光解析法は、試料内で繰り返し反射した測定光の
偏光状態を測定して、試料の光学定数及び、膜厚を求め
る。測定限界は1nm程度で、試料が吸収しない波長で測
定する必要がある。試料の吸収係数が0でない場合は、
下地の媒質や試料の膜厚を変化させて複数回の測定を行
い、得られたデータに数学的処理を施すことで、膜厚が
得られる。正確な入射角を与える必要があり、また下地
になる物質の光学定数を予備実験により求めておかなけ
ればならない。
In the ellipsometry method, the polarization state of the measurement light repeatedly reflected in the sample is measured to obtain the optical constant and the film thickness of the sample. The measurement limit is about 1 nm, and it is necessary to measure at a wavelength that the sample does not absorb. If the absorption coefficient of the sample is not 0,
The film thickness can be obtained by performing the measurement a plurality of times while changing the film thickness of the underlying medium or the sample and performing mathematical processing on the obtained data. It is necessary to give an accurate incident angle, and the optical constants of the underlying material must be obtained by preliminary experiments.

発明の目的 本発明は、測定試料に関する情報を全く必要とせず、か
つ測定条件(測定光の入射角)についての情報も必要と
しないで、フリンジの影響を除去したスペクトルを得る
ことができるとともに、高精度に膜厚と屈折率分散の情
報を得ることができる新規な薄膜状試料の分光分析法を
抵抗することを目的とする。
OBJECT OF THE INVENTION The present invention does not require any information about a measurement sample, and does not need information about measurement conditions (incident angle of measurement light), and it is possible to obtain a spectrum in which the influence of fringe is removed, The object is to resist a novel thin film spectroscopic analysis method capable of obtaining information on film thickness and refractive index dispersion with high accuracy.

発明の概要 これまで、真のスペクトルに加わる干渉の影響を多くは
分析における雑音として取扱ってきた。しかし、ここで
視座を変えこの干渉を観測対象と考えてみると、測定ス
ペクトルにおけるフリンジは測定系の影響を受けて発生
したものであるが、試料の情報も含まれているはずであ
るということに想到する。後述するように、たとえば、
フリンジの周波数は試料の屈折率と膜厚との積に反比例
し、測定光の入射角に依存して変化する。また、フリン
ジの振幅は試料表面の反射率に依存する。これにより、
測定スペクトル中には膜厚など試料条件についての情報
も含まれており、干渉の影響を雑音として単に除去して
しまうだけでなく逆に利用することによって、そこから
多くの物質情報を引き出すことが可能である。
SUMMARY OF THE INVENTION So far, much of the effect of interference on the true spectrum has been treated as noise in the analysis. However, if we change the viewpoint and consider this interference as an observation target, it means that the fringes in the measurement spectrum are generated due to the influence of the measurement system, but the information of the sample should also be included. Contemplate. As described below, for example,
The fringe frequency is inversely proportional to the product of the refractive index of the sample and the film thickness, and changes depending on the incident angle of the measurement light. Further, the fringe amplitude depends on the reflectance of the sample surface. This allows
Information about sample conditions such as film thickness is also included in the measurement spectrum, and it is possible to extract a lot of substance information from it by not only simply removing the effect of interference as noise, but also by using it in reverse. It is possible.

本発明は、上記着想に基づくもので、薄膜状の同一試料
を、分光光度計により、試料と測定光光軸とのなす角度
を変えて少なくとも2回測定し、測定したそれぞれのス
ペクトルデータを不変量である吸収係数または消光係数
により結びつけるとともに、前記吸収係数または消光係
数の二乗誤差和を膜厚,屈折率,角度をパラメータとす
る目的関数に設定し、非線形最適化手法により前記目的
関数を最小にする前記パラメータを演算して求め、干渉
縞の除去されたスペクトルを得るとともに、試料の膜厚
と屈折率分散を同時に得られるようにしたことを基本的
な特徴としている。
The present invention is based on the above idea, in which the same thin film sample is measured at least twice with a spectrophotometer while changing the angle between the sample and the optical axis of the measurement light, and the measured spectral data are not measured. In addition to linking with the absorption coefficient or extinction coefficient, which is a variable, the sum of squared errors of the absorption coefficient or extinction coefficient is set to an objective function with film thickness, refractive index, and angle as parameters, and the objective function is minimized by a nonlinear optimization method. The basic feature is that the above parameters are calculated to obtain a spectrum from which interference fringes are removed, and at the same time, the film thickness and refractive index dispersion of the sample can be obtained.

[原理] 第2図は固体の薄膜試料に光を投射しその時生ずる多重
反射干渉を示すモデル図である。振幅A0(ν)の測定光
(1)が、膜厚d0,屈折率nの薄膜(2)に角度θ
入射すると、スネルの法則、 sinθ=nsinθ …(1) で屈折し、膜内の透過距離dは、 d=d0/cosθ …(2) となる。屈折率nは実際には波数νの関数であるが、こ
こでは簡単のため定数とし、屈折率分散については後述
する。
[Principle] FIG. 2 is a model diagram showing multiple reflection interference that occurs when light is projected onto a solid thin film sample. When measuring light (1) with amplitude A 0 (ν) is incident on a thin film (2) having a film thickness d 0 and a refractive index n at an angle θ 0 , it is refracted by Snell's law, sin θ 0 = nsinθ (1) , The transmission distance d in the film is d = d 0 / cos θ (2) The refractive index n is actually a function of the wave number ν, but here it is a constant for simplicity, and the refractive index dispersion will be described later.

試料(2)の吸光係数をa(ν)とすると、膜内1光路
分の透過光(3)の透過率スペクトルT(ν)は、 T(ν)=exp{−nda(ν)} …(3) で与えられるが、実際の吸収測定では、膜(2)の両面
での反射により多光束干渉を生じ、得られる透過率スペ
クトルS(ν)は次式となる。
When the extinction coefficient of the sample (2) is a (ν), the transmittance spectrum T (ν) of the transmitted light (3) for one optical path in the film is T (ν) = exp {-nda (ν)} ... Although given by (3), in the actual absorption measurement, reflection on both surfaces of the film (2) causes multi-beam interference, and the obtained transmittance spectrum S (ν) is as follows.

ここで、rは試料面の反射率で、これはFresnelの式に
より屈折率nと測定光の膜内での反射角θとの関数とし
て次式で与えられる。
Here, r is the reflectance of the sample surface, which is given by the following equation as a function of the refractive index n and the reflection angle θ of the measurement light in the film by the Fresnel equation.

尚、(5)式に於いて上のものはS偏光、下のものはP
偏光の場合であり、分散を考慮すると両式のr,nはr
(ν),n(ν)で置き換えられる。
In the equation (5), the upper one is S-polarized light and the lower one is P-polarized light.
This is the case of polarized light, and considering dispersion, r and n in both equations are r
It is replaced by (ν), n (ν).

上記(4)式において、分母の第3項目(cosを含む
項)は、スペクトルに周期的な変調を与える。第3図,
第4図に透過率スペクトルS(ν)におけるこの干渉の
影響を示す。
In the above equation (4), the third item (the term including cos) of the denominator gives periodic modulation to the spectrum. Figure 3,
FIG. 4 shows the effect of this interference on the transmittance spectrum S (ν).

第3図は同一試料において膜厚d0が5,15,25μmと変わ
った場合(同図(a),(b),(c)に対応、以下同
様)の測定スペクトルS(ν)を示し、フリンジの変化
の様子を示している。屈折率nは1.6で一定である。膜
厚が大きくなればなるほど、フリンジの周波数が低くな
ってゆくのが分かる。
FIG. 3 shows the measured spectrum S (ν) when the film thickness d 0 was changed to 5 , 15, 25 μm in the same sample (corresponding to (a), (b) and (c) in the same figure, the same applies hereinafter). , Showing how the fringe changes. The refractive index n is constant at 1.6. It can be seen that the fringe frequency decreases as the film thickness increases.

第4図は同一試料において屈折率nが1.3,1.6,2.0と変
わった場合の測定スペクトルS(ν)を示し、そのフリ
ンジの変化の様子を示している。膜厚d0は15μmで一定
である。これから、屈折率が大きくなるほど、フリンジ
の振幅が大きくなり、周波数は低くなるのが分かる。
FIG. 4 shows the measured spectrum S (ν) when the refractive index n is changed to 1.3, 1.6 and 2.0 in the same sample, and shows how the fringe changes. The film thickness d 0 is constant at 15 μm. From this, it can be seen that as the refractive index increases, the fringe amplitude increases and the frequency decreases.

また、第5図は透過率の違いによるフリンジの変化の様
子を示している。透過率が100%,60%,30%のそれぞれ
一定の場合で、膜厚d0は15μm,屈折率nは1.6である。
このシュミレヘションの結果から、屈折率が一定でも透
過率が高いほどフリンジの振幅が大きくなることが分か
る。
Further, FIG. 5 shows how the fringe changes due to the difference in transmittance. When the transmittance is constant at 100%, 60% and 30%, the film thickness d 0 is 15 μm and the refractive index n is 1.6.
From the result of this simulation, it can be seen that the fringe amplitude increases as the transmittance increases even if the refractive index is constant.

又、固体薄膜の反射光を測定する際にも多重反射干渉を
避けることができない。第6図に示すように、反射光
(4)を測定する場合には、その観測されるスペクトル
S(ν)は、次式で与えられる。
Also, multiple reflection interference cannot be avoided when measuring the reflected light of a solid thin film. As shown in FIG. 6, when the reflected light (4) is measured, the observed spectrum S (ν) is given by the following equation.

上記と同様、膜厚,屈折率を変えることによる反射スペ
クトルの形状変化を第7図,第8図に示す。第7図は屈
折率n=2.0とした場合の膜厚の違いによるフリンジの
変化、第8図は膜厚d0を15μmの一定にした場合の屈折
率の違いによるフリンジの変化である。
Similar to the above, changes in the shape of the reflection spectrum by changing the film thickness and the refractive index are shown in FIGS. 7 and 8. FIG. 7 shows the change in fringe due to the difference in film thickness when the refractive index n = 2.0, and FIG. 8 shows the change in fringe due to the difference in refractive index when the film thickness d 0 is kept constant at 15 μm.

一方、試料が液体である場合には、その吸光分光測定
は、試料を液体セルに封入して行う。液体を封入した液
体セルの断面を第9図に示す。図において、第1層,第
5層は空気である。第3層(液層)の厚さd2は、通常1
ないし100μm程度であるので、固体試料の場合と同様
に層内での多重反射干渉が生ずる。第2,第4層の窓材
は、測定波長域で吸収ピークをもたず、その厚さd1は数
mm程度と液層に比べ十分に厚いため、窓材内での多重反
射干渉は実際上、問題とはならない。
On the other hand, when the sample is a liquid, the absorption spectroscopic measurement is performed by enclosing the sample in a liquid cell. FIG. 9 shows a cross section of the liquid cell in which the liquid is enclosed. In the figure, the first and fifth layers are air. The thickness d 2 of the third layer (liquid layer) is usually 1
Since the thickness is about 100 μm to 100 μm, multiple reflection interference occurs in the layer as in the case of the solid sample. The window materials of the second and fourth layers do not have an absorption peak in the measurement wavelength range, and their thickness d 1 is several
Since it is about mm, which is sufficiently thick compared to the liquid layer, the multiple reflection interference in the window material does not actually pose a problem.

[フリンジ除去の原理] 第2図に示した固体試料の透過光測定の場合を例とし
て、第10図に本発明の基本概念、干渉成分の除去方法を
示す。
[Principle of Fringe Removal] FIG. 10 shows the basic concept of the present invention and the method of removing interference components, taking the case of the transmitted light measurement of a solid sample shown in FIG. 2 as an example.

分光装置(10)による吸光測定で得られるスペクトルS
(ν)は上記(4)式で与えられる。この(4)式は、
変形すると次式のように目的とするフリンジのない真の
スペクトルT(ν)に関する2次式となる。
Spectrum S obtained by absorption measurement with a spectroscope (10)
(Ν) is given by the above equation (4). This equation (4) is
When modified, it becomes a quadratic equation regarding the target true fringe-free spectrum T (ν) as in the following equation.

r4S(ν)T2(ν) −[2S(ν)r2cos(4πnd0cosθ・ν)-1]T(ν) +S(ν)=0 ………(7) (7)式において、未知であるT(ν)の他に、試料の
膜厚d0,屈折率n,測定光の膜内での反射角θが未知であ
るとすると、これら未知数の数が式の数を上回る事とな
り、(7)式は解くことができない。
r 4 S (ν) T 2 (ν)-[2S (ν) r 2 cos (4πnd 0 cos θ · ν) -1] T (ν) + S (ν) = 0 ... (7) (7) Equation In addition to the unknown T (ν), the film thickness d 0 of the sample, the refractive index n, and the reflection angle θ of the measurement light in the film are unknown. It will exceed, and equation (7) cannot be solved.

そこで、この式を解けるようにするため、同一試料を分
光装置(10)により少なくとも2回測定する。測定光の
試料への入射点を一定にして入射光光軸と試料とのなす
角、すなわち入射角を変えて、入射角θ0102で測定
する。入射角を変化させると、吸収長d(=d0/cos
θ)と反射率rが変化し、これに存在する測定スペク
トルS(ν)は、同一試料においてS1(ν),S2(ν)
の二つが得られる。各々の測定における吸収長dをd1,d
2とすると(d=d0/cosθ1,d=d0/cosθ、θ1
それぞれ入射角θ0102に対する膜内の反射角)、S1
(ν),S2(ν)に対応するそれぞれの真のスペクトルT
1(ν),T2(ν)は、不変量である吸収係数a(ν)に
より次のように結び付けられる。
Therefore, in order to solve this equation, the same sample is measured at least twice by the spectroscopic device (10). The incident point of the measurement light on the sample is kept constant, and the angle formed by the optical axis of the incident light and the sample, that is, the incident angle is changed, and the measurement is performed at incident angles θ 01 and θ 02 . When the incident angle is changed, the absorption length d (= d 0 / cos
θ 1 ) and the reflectance r change, and the measured spectrum S (ν) existing therein changes to S 1 (ν), S 2 (ν) in the same sample.
You can get two of them. The absorption length d in each measurement is d 1 , d
2 (d = d 0 / cos θ 1 , d = d 0 / cos θ 2 , θ 1 and θ 2 are reflection angles in the film with respect to incident angles θ 01 and θ 02 , respectively), S 1
Each true spectrum T corresponding to (ν), S 2 (ν)
1 (ν) and T 2 (ν) are linked as follows by the absorption coefficient a (ν) which is an invariant.

二つの測定スペクトルS1(ν),S2(ν)に関してそれ
ぞれに(7)式が成立し、これに(8)式が加わること
により、式の数が未知数をうわまわる。従って、この連
立方程式を解けば、真のスペクトルT1(ν),T
2(ν)、膜厚d0、屈折率nおよび反射角θ1を求
めることが可能となる。
The equation (7) is established for each of the two measurement spectra S 1 (ν) and S 2 (ν), and the equation (8) is added to this, so that the number of equations is known as an unknown number. Therefore, by solving this simultaneous equation, the true spectrum T 1 (ν), T
2 (ν), the film thickness d 0 , the refractive index n, and the reflection angles θ 1 and θ 2 can be obtained.

しかしながら、この連立方程式を解析的に解くことは事
実上不可能である。さらに、式の数が未知数の数よりも
多いという問題がある。即ち、観測スペクトルにノイズ
が含まれていると一義的な解を求めることが不可能であ
る。そこで、この問題を解消するために、(8)式に着
目し、これに最小二乗法を適用する。
However, it is virtually impossible to solve this simultaneous equation analytically. Furthermore, there is a problem that the number of expressions is larger than the number of unknowns. That is, if the observed spectrum contains noise, it is impossible to find a unique solution. Therefore, in order to solve this problem, attention is paid to the equation (8), and the least squares method is applied to this.

(8)式において、左辺と右辺との二乗誤差和を最小に
するという規範を用いる。そして、ここに、非線形最適
化手法を用いて最適解を求める。この規範を式で示すと
(9)式で表わされる。
In the equation (8), the standard that minimizes the sum of squared errors between the left side and the right side is used. Then, an optimal solution is obtained here by using a non-linear optimization method. This criterion is expressed by equation (9).

この規範は、干渉の影響を除去した二つのスペクトルか
ら、単位長さ当たりの吸光度すなわち吸収係数a
1(ν),a2(ν)を求め、その二乗誤差和が最小となる
ようにパラメータを求めてゆくというものであり、最終
的に求められたパラメータを(7)式に代入することに
よって、干渉縞の除去された真のスペクトルT1(ν),T
2(ν)を得る(第10図ステップ(13)〜(16))。な
お、非線形最適化手法におけるパラメータを変更する各
回の反復においては、測定スペクトルS1(ν),S
2(ν)とパラメータ(n,d01)から(7)式を
解いてT1(ν),T2(ν)を求め、これを上記(9)式
に代入して目的関数Qを演算する。
The criterion is that the absorbance per unit length, that is, the absorption coefficient a
1 (ν), a 2 (ν) is calculated and the parameters are calculated so that the sum of squared errors is minimized. By substituting the finally calculated parameters into Eq. (7), , The true spectrum with interference fringes removed T 1 (ν), T
2 (ν) is obtained (steps (13) to (16) in Fig. 10). In each iteration of changing the parameter in the nonlinear optimization method, the measured spectrum S 1 (ν), S
By solving equation (7) from 2 (ν) and the parameters (n, d 0 , θ 1 , θ 2 ), T 1 (ν) and T 2 (ν) are obtained, and these are substituted into the above equation (9). Then, the objective function Q is calculated.

実施例 第11図に一実施例の行程図を示す。この実施例は、分光
装置(20)に、二光束赤外分光光度計を用いた赤外吸収
スペクトルの分析に係るものである。
Example FIG. 11 shows a process chart of an example. This example relates to analysis of an infrared absorption spectrum using a two-beam infrared spectrophotometer for the spectroscopic device (20).

非線形最適化手法にはシンプレックス法を用いている。
そして、このシンプレックス法による局所探索を円滑に
収束させるように初期値を求めている(ステップ(21)
〜(25))。
The simplex method is used as the nonlinear optimization method.
Then, the initial value is calculated so that the local search by this simplex method can be smoothly converged (step (21)
~(twenty five)).

さらに測定スペクトルから干渉の影響を完全に払拭でき
るように、屈折率を一定とすることに替え、屈折率分散
n(ν)をこのアルゴリズムに取り入れている(ステッ
プ(31))。即ち上述では、測定波数域内で屈折率を一
定として扱ってきたが、実際には屈折率は波数に関する
関数であり、特に吸収ピークの近傍で大きく変化する。
第12図(a)は入射角度を変えて2回測定したマイラの
赤外吸収スペクトルであり、このスペクトルから屈折率
を一定としてフリンジを除去した結果が同図(b)であ
る。高周波側においてフリンジの除去に失敗しているの
が分かる。屈折率はフリンジの周波数、振幅の両方に影
響を与えており、測定スペクトルから干渉の影響を完ぺ
きに排除するために、屈折率分散を取り入れる。このこ
とは逆に、干渉の影響を受けたスペクトルから試料の屈
折率分散を知りうることを示唆している。このように屈
折率分散を考慮することによって吸収スペクトルの精度
を一段と高めることができる。
Further, in order to completely eliminate the influence of interference from the measured spectrum, the refractive index dispersion n (ν) is incorporated into this algorithm instead of keeping the refractive index constant (step (31)). That is, in the above description, the refractive index is treated as constant within the measurement wave number range, but in reality, the refractive index is a function related to the wave number, and changes greatly in the vicinity of the absorption peak.
FIG. 12 (a) is an infrared absorption spectrum of myra measured twice by changing the incident angle, and FIG. 12 (b) shows the result of removing fringes from this spectrum while keeping the refractive index constant. It can be seen that the fringe removal has failed on the high frequency side. The refractive index affects both the frequency and the amplitude of the fringe, and the refractive index dispersion is incorporated in order to completely eliminate the influence of interference from the measured spectrum. On the contrary, this suggests that the refractive index dispersion of the sample can be known from the spectrum affected by the interference. By taking the refractive index dispersion into consideration in this way, the accuracy of the absorption spectrum can be further improved.

第13図はこの実施例の装置システムのブロック図であ
る。薄膜状試料は、パーキン・エルマー社製・モデル98
3の赤外分光光度計(20)によってその吸収スペクトル
が測定される。この分光光度計(20)は、同社製・モデ
ル3600データステーション(20C)によって制御され、
測定されたスペクトルデータは、通信インターフェース
RS−232Cによりコンピュータ(35)に転送される。コン
ピュータ(35)は、具体的には日本電気社製・PC−9801
Fパーソナルコンピュータである。コンピュータ(35)
にセットされたフロッピーディスクにスペクトルデータ
を格納する。演算処理は、このPC−9801F上で行い、結
果は、CRTディスプレイ(36)に表示させる、および/
またはプロッタないしプリンタ(37)で記録する。
FIG. 13 is a block diagram of the device system of this embodiment. The thin film sample is model 98 manufactured by Perkin Elmer.
The absorption spectrum is measured by the infrared spectrophotometer (3) (3). This spectrophotometer (20) is controlled by the company's model 3600 data station (20C),
The measured spectrum data is used as a communication interface.
Transferred to the computer (35) by RS-232C. The computer (35) is specifically PC-9801 manufactured by NEC Corporation.
F is a personal computer. Computers (35)
The spectrum data is stored in the floppy disk set in. Arithmetic processing is performed on this PC-9801F, and the result is displayed on the CRT display (36), and / or
Or record with a plotter or printer (37).

コンピュータ(35)上における演算処理はBASIC言語に
よるプログラムで行っている。プログラムには、シンプ
レックス法のプログラム、最小二乗法のプログラム、初
期値を求める黄金分割法のプログラム等を含む。
The arithmetic processing on the computer (35) is performed by a program in BASIC language. The programs include a simplex method program, a least squares method program, a golden section method program for obtaining an initial value, and the like.

まず、測定されたスペクトルデータS1(ν),S2(ν)
から初期値を決定する。上述の(9)式で示されるよう
な目的関数Qは、その最小点近傍に多数の極小点をも
つ。そのため、シンプレックス法による局所探索を行う
際、パラメータのうち膜厚d0と屈折率nの初期値とし
て、最適値の±10%程度の値を用いなければ、探索が成
功しないことを確認している。このため各測定スペクト
ルに対するパラメータの初期値は次の規範を満足するよ
うな値を採用する。
First, the measured spectral data S 1 (ν), S 2 (ν)
Determine the initial value from. The objective function Q as shown by the above equation (9) has a large number of local minimum points near its minimum point. Therefore, when performing a local search by the simplex method, it is confirmed that the search will not be successful unless initial values of the film thickness d 0 and the refractive index n of the parameters are about ± 10% of the optimum values. There is. Therefore, the initial value of the parameter for each measured spectrum is set to a value that satisfies the following criteria.

ここで、T′′(ν)はT(ν)の波数νに関する2階
微分を表す。この規範は、フリンジを除去した後のスペ
クトルのピークが局在するようなパラメータを与える。
すなわち、人間が目で見ながらできるだけフリンジが除
去されるようなパラメータを探すのと類似の操作であ
る。(10)式の最適解を求めるために、黄金分割法を用
いた。
Here, T ″ (ν) represents the second derivative with respect to the wave number ν of T (ν). This criterion gives a parameter such that the peak of the spectrum after fringe removal is localized.
In other words, it is an operation similar to searching for a parameter by which humans can remove fringes as visually as possible. The golden section method was used to find the optimal solution of Eq. (10).

これによって得られたパラメータを初期値として、次に
シンプレックス法による最適解の推定を行う。シンプレ
ックス法のプログラム(パッケージプログラム)のフロ
ーチャートを第14図に示しておく。
Using the parameters thus obtained as initial values, the optimum solution is estimated by the simplex method. A flowchart of the simplex method program (package program) is shown in FIG.

ステップ(25)〜(33)のシンプレックス法における反
復のパラメータは次の4つである。
The parameters of the iteration in the simplex method of steps (25) to (33) are the following four.

d0:薄膜試料の膜厚 θ1:入射角θ01における膜内の反射角 θ2:入射角θ02における膜内の反射角 :測定波数域内での屈折率の平均値 このd01及びを用いて得られる屈折率分散n
(ν)を用い、測定スペクトルS1(ν),S2(ν)から
それぞれ真のスペクトルT1(ν),T2(ν)を得る。T
(ν)とS(ν)の間には上記(4)式と同様、次の関
係式がなりたっている。
d 0 : Film thickness of thin film sample θ 1 : Reflection angle in the film at incident angle θ 01 θ 2 : Reflection angle in the film at incident angle θ 02 : Average value of refractive index within the measured wave number range d 0 , θ Refractive index dispersion n obtained by using 1 , θ 2 and
Using (ν), the true spectra T 1 (ν) and T 2 (ν) are obtained from the measured spectra S 1 (ν) and S 2 (ν), respectively. T
The following relational expression is established between (ν) and S (ν), as in the above equation (4).

ただし、ri(ν)は試料表面での反射率であり、これは
(5)式で示したように、フレネルの公式によりn
(ν)とθの関数で与えられる。
However, r i (ν) is the reflectance on the surface of the sample, which is n by the Fresnel formula as shown in equation (5).
It is given as a function of (ν) and θ i .

(11)式は、前述のようにT(ν)に関する2次式であ
るので、4つのパラメータとS(ν)とが分かれば、こ
れからT(ν)が求まる。
Since the equation (11) is a quadratic equation regarding T (ν) as described above, if four parameters and S (ν) are known, T (ν) can be obtained from this.

ただし、 C(ν)=ri 2(ν)Si(ν)cos(4π νn(ν)d0cosθ) −1/2 干渉の影響を受けないスペクトルT(ν)と試料の消光
係数k(ν)は次の関係で結び付けられる。
However, C (ν) = r i 2 (ν) S i (ν) cos (4π νn (ν) d 0 cosθ i ) −1/2 The spectrum T (ν) not affected by interference and the extinction coefficient of the sample k (ν) is connected by the following relation.

i=1,2で、S1(ν),S2(ν)は同一試料のスペクトル
であるので、各々から得られる吸収係数a1(ν),a
2(ν)または消光係数k1(ν),k2(ν)は等しい。そ
こで2つのスペクトルから得られる消光係数スペクトル
を求め、この二乗誤差和を演算し、目的関数Qを最小に
するような4つのパラメータd012,を求める。
Since i = 1,2 and S 1 (ν) and S 2 (ν) are spectra of the same sample, the absorption coefficients a 1 (ν), a obtained from each are
2 (ν) or extinction coefficients k 1 (ν) and k 2 (ν) are equal. Therefore, an extinction coefficient spectrum obtained from the two spectra is calculated, the sum of squared errors is calculated, and four parameters d 0 , θ 1 , θ 2 that minimize the objective function Q are calculated.

屈折率スペクトルn(ν)はKramere−Kronigの関係式
により次式で与えられる。
The refractive index spectrum n (ν) is given by the following equation based on the Kramere-Kronig relational expression.

尚、Pは主値積分を表している。 In addition, P represents the integral of the principal value.

ここで積分範囲は0〜∞であるが、実際にはスペクトル
が有限領域のみでしか測定できないため、次の近似式を
用いる。
Here, the integration range is 0 to ∞, but since the spectrum can be actually measured only in the finite region, the following approximate expression is used.

ただし、は測定波数域[νlowerupper]内でのn
(ν)の平均値、 である。このは反復におけるパラメータとして与えら
れる。また、k(ν)は、その回の反復において2つの
観測スペクトルS1(ν),S2(ν)から得られた2つの
消光係数スペクトルk1(ν),k2(ν)の平均値であ
り、その反復回における消光係数の推定値とする。
Where is n in the measured wave number range [ν lower , ν upper ].
The average value of (ν), Is. This is given as a parameter in the iteration. K (ν) is the average of the two extinction coefficient spectra k 1 (ν), k 2 (ν) obtained from the two observed spectra S 1 (ν) and S 2 (ν) in that iteration. The value is the estimated value of the extinction coefficient in the repeated times.

このように、最適化の目的関数を計算する際に求めた消
光係数の平均値k(ν)と、パラメータnからn(ν)
を計算する(ステップ(31))。
In this way, the average value k (ν) of the extinction coefficients obtained when calculating the optimization objective function and the parameters n to n (ν)
Is calculated (step (31)).

(13)式の替わりに(14)式を用いることによって生じ
る誤差については、測定波数域内で複数の吸収ピークや
バンドが孤立しかつサンプリングが十分に細かい場合に
は、殆ど問題にならないと言われており、そのため本発
明に係る手法を適用する場合、上記の条件を満たすよう
にスペクトルを測定するようにしている。
The error caused by using Eq. (14) instead of Eq. (13) is said to be of little concern if multiple absorption peaks or bands are isolated within the measured wavenumber range and the sampling is sufficiently fine. Therefore, when the method according to the present invention is applied, the spectrum is measured so as to satisfy the above conditions.

分光分析において実際によく用いられる吸収係数a
(ν)は消光係数k(ν)より次式で与えられる。
Absorption coefficient a which is actually often used in spectroscopic analysis
(Ν) is given by the following equation from the extinction coefficient k (ν).

a(ν)=4πν・k(ν) ……(17) また複素屈折率n(ν)はn(ν)とk(ν)より次式
で与えられる。
a (ν) = 4πν · k (ν) (17) The complex refractive index n (ν) is given by the following equation from n (ν) and k (ν).

(ν)=n(ν)+ik(ν) …(18) これらは反復演算の終了後、計算して膜厚、消光係数ス
ペクトル、屈折率スペクトル、反射率スペクトルととも
に表示、またはプリンタ(37)で打ち出すことができ
る。
(Ν) = n (ν) + ik (ν) (18) These are calculated and displayed together with the film thickness, the extinction coefficient spectrum, the refractive index spectrum, and the reflectance spectrum after completion of the iterative calculation, or by the printer (37). You can launch.

赤外吸収スペクトル測定における上記実施例の有効性を
シュミレーション実験により検証した。第15図(a),
(b)で示される光学定数をもつ物質を想定した。試料
の膜厚を25.000μm、測定光の入射角を0.000゜とした
とき、この物質の赤外吸収スペクトルは干渉の影響を受
けて第16図(a)のように観測される。次に、測定光の
入射角を10.000゜に変えた場合、その吸収スペクトルは
第16図(b)のように観測される(ただし雑音は含ませ
ていない)。この二つのスペクトルに対し、本手法を適
用したけっかの透過率スペクトルを第17図に示す。
The effectiveness of the above examples in the infrared absorption spectrum measurement was verified by a simulation experiment. Figure 15 (a),
A substance having an optical constant shown in (b) was assumed. When the film thickness of the sample is 25.000 μm and the incident angle of the measurement light is 0.000 °, the infrared absorption spectrum of this substance is observed as shown in FIG. 16 (a) under the influence of interference. Next, when the incident angle of the measuring light is changed to 10.000 °, the absorption spectrum is observed as shown in Fig. 16 (b) (however, noise is not included). Figure 17 shows the transmittance spectra obtained by applying this method to these two spectra.

第17図(a)は、黄金分割法により得た最適な初期解に
基づくスペクトルでT1(ν)とT2(ν)を重ね合わせて
示している。同図(b)は、第11図のフロー全部を使っ
て得られた最適解のスペクトルである。T1(ν),T
2(ν)を同時に示したが全く重なりあっていいる。そ
して、この時得た試料の膜厚の値は25.003μm、測定光
の入射角はそれぞれ0.01゜と10.00゜であった。また、
同時にえられた消光係数スペクトル、屈折率スペクトル
を第18図に示す。求めたスペクトルの真値からの誤差
は、消光係数スペクトルで2.9334×10-6、屈折率スペク
トルで2.7337×10-4であった。250点のスペクトルデー
タに対し、計算に要した時間は、初期解を求めるのに約
2分、最適解で約10分であった。
FIG. 17 (a) shows a spectrum based on the optimum initial solution obtained by the golden section method, in which T 1 (ν) and T 2 (ν) are superimposed. FIG. 11B is the spectrum of the optimum solution obtained by using the entire flow of FIG. T 1 (ν), T
2 (ν) are shown at the same time, but they are completely overlapping. The film thickness of the sample obtained at this time was 25.003 μm, and the incident angles of the measurement light were 0.01 ° and 10.00 °, respectively. Also,
The extinction coefficient spectrum and refractive index spectrum obtained at the same time are shown in FIG. The error from the true value of the obtained spectrum was 2.9334 × 10 −6 in the extinction coefficient spectrum and 2.7337 × 10 −4 in the refractive index spectrum. With respect to the spectrum data of 250 points, the time required for calculation was about 2 minutes for obtaining the initial solution and about 10 minutes for the optimum solution.

具体例1 実際の固体試料の赤外吸収測定に本手法を適用した。Example 1 This method was applied to the actual infrared absorption measurement of a solid sample.

第19図は厚さ15μmのポリ塩化ビニールの観測された赤
外吸収スペクトルを示している。サンプリングは340
点、入射角を変えて測定したものを重ね合わせて示して
いる。
FIG. 19 shows the observed infrared absorption spectrum of polyvinyl chloride with a thickness of 15 μm. Sampling is 340
The points and the incident angles are changed, and the measurements are shown in an overlapping manner.

本手法を適用した結果を第20図に示す。同図(a)は干
渉の影響が完全に除去された吸収スペクトルを、同図
(b)には求められた屈折率スペクトルを示す。また、
求めた膜厚は14.947μmであり、測定光の入射角
(θ0102)はそれぞれ3.05゜,13.12゜であった。
Figure 20 shows the result of applying this method. The figure (a) shows the absorption spectrum in which the influence of interference is completely removed, and the figure (b) shows the obtained refractive index spectrum. Also,
The obtained film thickness was 14.947 μm, and the incident angles (θ 01 , θ 02 ) of the measurement light were 3.05 ° and 13.12 °, respectively.

具体例2 膜厚が25μmのPET(ポリエチレンセレフタレート)を
試料とした例である。第21図にこの赤外吸収スペクトル
を示す(175点)。
Specific Example 2 This is an example in which PET (polyethylene selephthalate) having a film thickness of 25 μm is used as a sample. Figure 21 shows the infrared absorption spectrum (175 points).

第22図が本手法を適用した結果である。同図(a)に吸
収スペクトルを、同図(b)に屈折率スペクトルを示
す。求められた膜厚は26.974μm、測定光入射角は9.83
×10-3゜および5.90゜であった。
Figure 22 shows the result of applying this method. The absorption spectrum is shown in (a) and the refractive index spectrum is shown in (b). The calculated film thickness is 26.974 μm, and the measurement light incident angle is 9.83.
It was × 10 -3 ° and 5.90 °.

具体例3 実際の液体試料に本手法を適用した例である。Concrete Example 3 This is an example in which this method is applied to an actual liquid sample.

液体はベンゼンである。この赤外吸収スペクトルを第23
図に示す。S1(ν),S2(ν)を重ね合わせて示してい
る。サンプリングは200点である。セル厚は25μmで、
液体セルの窓材にはKRS−5を使用し、液層の厚さを決
めるスペーサに25μmのものを用いた。KRS−5の屈折
率は、文献(J.A.Jemleson,R.H.Mcfee,G.N.Plass,R.H.G
rube,and R.G.Richards,“INFRARED PHYSICS AND ENGIN
EERING",MAGRAW−HILL,New York(1963))より測定波
数域で2.392とした。
The liquid is benzene. This infrared absorption spectrum is shown as 23rd
Shown in the figure. S 1 (ν) and S 2 (ν) are shown superimposed. Sampling is 200 points. The cell thickness is 25 μm,
KRS-5 was used as the window material of the liquid cell, and 25 μm spacers were used to determine the thickness of the liquid layer. The refractive index of KRS-5 is shown in the literature (JAJemleson, RHMcfee, GNPlass, RHG).
rube, and RGRichards, “INFRARED PHYSICS AND ENGIN
EERING ", MAGRAW-HILL, New York (1963)) and set it to 2.392 in the measurement wave number range.

求められた液層の厚さは、26.573μmで測定光の入射角
は3.48×10-4゜及び7.12゜であった。得られた透過率ス
ペクトルを第24図に、消光係数スペクトルを第25図
(a)に、屈折率スペクトルを第25図(b)に示す。
The thickness of the obtained liquid layer was 26.573 μm, and the incident angles of the measurement light were 3.48 × 10 −4 ° and 7.12 °. The obtained transmittance spectrum is shown in FIG. 24, the extinction coefficient spectrum is shown in FIG. 25 (a), and the refractive index spectrum is shown in FIG. 25 (b).

具体例4 具体例3で得た結果を検証したものである。即ち、液層
の厚さを変えて同じくベンゼンで測定を行った。スペー
サに厚さ50μmのものを用いた。サンプリングは同様に
200点である。測定した二つの赤外吸収スペクトルを重
ねて第26図に示す。このスペクトルデータから得られた
結果を第27図に、消光係数スペクトルを第28図(a)
に、屈折率スペクトルを第28図(b)に示す。第25図に
示した消光係数スペクトル,屈折率スペクトルと極めて
よく一致している。
Concrete Example 4 This is a verification of the results obtained in Concrete Example 3. That is, the thickness of the liquid layer was changed and the measurement was similarly performed with benzene. A spacer having a thickness of 50 μm was used. Sampling is the same
200 points. The two infrared absorption spectra measured are shown in FIG. The results obtained from this spectrum data are shown in Fig. 27, and the extinction coefficient spectrum is shown in Fig. 28 (a).
FIG. 28 (b) shows the refractive index spectrum. It is in very good agreement with the extinction coefficient spectrum and refractive index spectrum shown in Fig. 25.

又、求められた液層の厚さは、50.777μmで、測定光の
入射角は3.49×10-4゜及び4.55゜であった。得られた光
学定数を信頼できる文献(Appl.Spectrosc.34,6,pp.657
−691(1980))の値と比較した。表1.にこれを示す。
本手法によれば、求めた膜厚や屈折率に4〜5桁の精度
がある。
The thickness of the obtained liquid layer was 50.777 μm, and the incident angles of the measuring light were 3.49 × 10 −4 ° and 4.55 °. The obtained optical constants can be used as a reliable reference (Appl.Spectrosc.34,6, pp.657
-691 (1980)). This is shown in Table 1.
According to this method, the obtained film thickness and refractive index have accuracy of 4 to 5 digits.

上記実施例では分散型の分光光度計を用いたが、もちろ
んフーリエ変換型のものでもよい。
Although the dispersion type spectrophotometer is used in the above embodiment, it is of course possible to use the Fourier transform type.

試料に対する測定光の入射角は0゜に近いほうが偏光の
影響を排除できて好ましい。また、入射角の角度差は5
〜10゜が好ましいが、特に限定するものではない。入射
角を変えるのに、測定光の光軸を変える、または光軸は
一定で試料を傾けるのいずれの方法でもよい。ただし、
入射点は不変とする。
It is preferable that the incident angle of the measurement light on the sample is close to 0 ° because the influence of polarization can be eliminated. Moreover, the angle difference of the incident angle is 5
It is preferably ~ 10 °, but is not particularly limited. The incident angle may be changed by changing the optical axis of the measuring light or by tilting the sample while keeping the optical axis constant. However,
The incident point is unchanged.

上記実施例では、入射角を変えて測定を2回行っている
が、2回以上行って、スペクトルデータS1(ν),S
2(ν),S3(ν)……を得、これを吸収係数または消光
係数で結び付け実施例と同様な手法で最適パラメータを
求め、より精度のよいスペクトル及び光学定数のデータ
を得ることができる。又、多層膜試料に応用することが
できる。反射防止膜や干渉フィルタなど多層膜材料には
種々の使用法があるが、本手法を多層膜試料に応用する
ことでその分光特性や膜厚の制御に極めて有効になる可
能性がある。
In the above-described embodiment, the incident angle is changed and the measurement is performed twice, but the measurement is performed twice or more to obtain the spectral data S 1 (ν), S.
2 (ν), S 3 (ν) ... Is obtained, and the optimum parameters are obtained by linking them with the absorption coefficient or the extinction coefficient by the same method as in the embodiment, and more accurate spectrum and optical constant data can be obtained. it can. It can also be applied to multilayer film samples. There are various uses for multilayer film materials such as antireflection films and interference filters, but application of this method to multilayer film samples may be extremely effective in controlling their spectral characteristics and film thickness.

本発明に係る手法は、ソフトウェアプログラムを用いる
ものであるが、このプログラムをROM化してまたマイク
ロコンピータと結合させてファームウェア的にないしハ
ードウェアとして構成することができる。また、このよ
うな装置化において、例えば半導体材料を対象として吸
収ないし反射スペクトルを測定する場合、光ファイバを
用いて測定光を誘導し、センサヘツドを試料上でスキャ
ンすることで試料スペクトルと膜厚,屈折率分散の2次
元測定も可能となる。さらに、顕微分光装置からの吸収
データへも応用することができる。
The method according to the present invention uses a software program, but the program can be made into a ROM and combined with a micro computer to be configured as firmware or as hardware. Further, in such an apparatus, for example, when measuring an absorption or reflection spectrum for a semiconductor material, the measurement light is guided using an optical fiber, and the sensor head is scanned on the sample to measure the sample spectrum and the film thickness. Two-dimensional measurement of refractive index dispersion is also possible. Furthermore, it can be applied to absorption data from a microspectroscope.

上記実施例は、赤外吸収スペクトルに係るものであった
が、本発明は赤外域に何等限定されない。干渉を利用す
るには、厚さ数〜数十μmの有機薄膜試料を対象にする
場合は、赤外域のスペクトル測定が適するが、コーティ
ング膜など厚さ1μm〜それ以下の試料を対象とする場
合には、可視ないし紫外域における測定がより適合す
る。厚さ1μm及び0.2μmの試料のフリンジの様子を
第29図に示す。
Although the above examples relate to the infrared absorption spectrum, the present invention is not limited to the infrared region. In order to utilize interference, when an organic thin film sample with a thickness of several to several tens of μm is targeted, infrared spectrum measurement is suitable, but when a sample with a thickness of 1 μm or less such as a coating film is targeted. Is more suitable for measurement in the visible or ultraviolet range. Fig. 29 shows the fringe state of the samples with a thickness of 1 µm and 0.2 µm.

本発明の方法は、測定光の波長を限定せず、可視域のス
ペクトルにも利用でき、試料に合わせて吸収のない波長
領域を選べば、屈折率などの予備情報なしでフィルム材
料などの膜厚を高精度かつ短時間に測定できるため、生
産ライン上で直接的に膜厚の検査などが可能である。具
体例としては、半導体表面に形成される機能性膜や保護
膜、光メモリの記録層をなす単層もしくは多層の膜、そ
してスパッタリング,蒸着,プラズマ重合などにより形
成される有機,無機の任意の薄膜に適用可能である。
The method of the present invention does not limit the wavelength of the measurement light and can also be used for the spectrum in the visible range. Since the thickness can be measured with high accuracy and in a short time, it is possible to directly inspect the film thickness on the production line. Specific examples include a functional film and a protective film formed on the surface of a semiconductor, a single-layer or multi-layer film that forms a recording layer of an optical memory, and any organic or inorganic thin film formed by sputtering, vapor deposition, plasma polymerization, or the like. Is applicable to.

発明の効果 以上のように、本発明は、スペクトル分析において生じ
る多重反射干渉を逆に利用するものであって、試料の膜
厚や測定光の入射角など実験条件に関する情報を一切用
いることなく、測定スペクトルから干渉の除去して分光
情報である真のスペクトルを得ることができると同時
に、屈折率スペクトルおよび実験条件に関する情報であ
る試料膜厚と測定考光入射角等を測定スペクトルから高
精度に分析することができる。
Effect of the Invention As described above, the present invention reversely utilizes the multiple reflection interference generated in the spectrum analysis, without using any information about the experimental conditions such as the film thickness of the sample and the incident angle of the measurement light, Interference can be removed from the measured spectrum to obtain a true spectrum that is spectral information.At the same time, the refractive index spectrum and information related to experimental conditions, such as the sample film thickness and the incident angle of light to be measured, can be accurately measured from the measured spectrum. Can be analyzed.

本手法を用いることによつて、薄膜試料の反射,吸収ス
ペクトルに含まれる多重反射干渉の影響を排除でき、微
小な反射,吸収ピークをもったスペクトル形状が高精度
に与えられるので、定性・定量分析において、分析の確
度,精密度を格段に向上させることができる。
By using this method, the influence of multiple reflection interference contained in the reflection and absorption spectra of the thin film sample can be eliminated, and the spectral shape with minute reflection and absorption peaks can be given with high accuracy. In analysis, the accuracy and precision of analysis can be significantly improved.

また、本手法は屈折率や測定光入射角などの情報を必要
とせず、試料の反射,吸収の有無に拘わらずに試料膜厚
を求めることができる。即ち、試料毎にパラメータを変
更したり他の系における計測の情報を一切用いることな
く任意の試料や未知の試料に対しても高精度に膜厚の絶
対測定ができ、膜厚測定法としても極めて有用である。
尚、従来技術に対し本手法は膜厚測定のスペクトル領域
に吸収帯が存在していても何らの支障はなく、従って広
範囲のスペクトル領域を用いて高精度な膜厚測定が可能
である。
In addition, this method does not require information such as the refractive index and the incident angle of the measurement light, and the sample film thickness can be obtained regardless of whether the sample is reflected or absorbed. That is, the absolute film thickness can be measured with high accuracy even on an arbitrary sample or an unknown sample without changing the parameters for each sample or using the measurement information of other systems at all. Extremely useful.
It should be noted that in contrast to the conventional technique, this method has no problem even if there is an absorption band in the spectral region of film thickness measurement, and therefore, highly accurate film thickness measurement is possible using a wide spectral region.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は膜厚25μmのPETの赤外吸収スペクトルを示す
図で横軸はWAVENUMBER(波数)を縦軸はTRANSMITTENNCE
(透過率、単位%)を示す(以下同様)。 第2図は固体試料薄膜における繰り返し反射干渉のモデ
ル図、 第3図は膜厚の違いによるフリンィの変化を示す図、 第4図は屈折率の違いによるフリンジの変化を示す図、 第5図は透過率の違いによるフリンジの変化を示す図、 第6図は固体薄膜の反射スペクトルの測定における多重
反射干渉を示すモデル図、 第7図は固体薄膜の膜厚の違いによるフリンジの変化を
示す図、 第8図は固体薄膜の屈折率の違いによるフリンジの変化
を示す図、 第9図は固体薄膜の反射スペクトルの測定における多重
反射干渉を示すモデル図、 第10図は本発明の基本的な概念を示したフロー図、 第11図は本発明の一実施例を示すフロー図、 第12図はマイラの赤外吸収スペクトルを示す図で(a)
はフリンジ除去前(b)は屈折率を一定にした処理結果
を示す。 第13図は本発明に係る一実施例の装置システムを示すブ
ロック図、 第14図はシンプレックス法の一例のフローチャート、 第15図はシュミレーション用の物質の光学定数を示すス
ペクトル図、 第16図はその赤外吸収スペクトルを示す図、 第17図処理結果のスペクトルを示し(a)は初期解のも
の(b)は最適解のスペクトルを示す図、 第18図はデータ処理による光学定数のスペクトル図、 第19図はポリ塩化ビニールの赤外吸収スペクトルを示す
図、 第20図は処理結果のスペクトル図、 第21図はPETの赤外吸収スペクトルを示す図、 第22図は処理結果のスペクトル図、 第23図はベンゼンの赤外吸収スペクトルを示す図、 第24図、第25図は処理結果を示すスペクトル図、 第26図はセル厚を変えたときのベンゼンの赤外吸収スペ
クトルを示す図、 第27図,第28図はその処理結果を示すスペクトル図、及
び、 第29図は厚さ1μm以下の薄膜の可視,紫外域のスペク
トル中に現れるフリンジを示す図である。
Figure 1 shows the infrared absorption spectrum of PET with a film thickness of 25 μm. The horizontal axis is WAVE NUMBER and the vertical axis is TRANSMITTENNCE.
(Transmittance, unit%) is shown (same below). FIG. 2 is a model diagram of repeated reflection interference in a solid sample thin film, FIG. 3 is a diagram showing changes in fringe due to difference in film thickness, FIG. 4 is a diagram showing changes in fringe due to difference in refractive index, and FIG. Is a diagram showing a change in fringe due to a difference in transmittance, FIG. 6 is a model diagram showing multiple reflection interference in the measurement of a reflection spectrum of a solid thin film, and FIG. 7 is a fringe change due to a difference in film thickness of a solid thin film. Fig. 8 is a diagram showing the change in fringe due to the difference in the refractive index of the solid thin film, Fig. 9 is a model diagram showing multiple reflection interference in the measurement of the reflection spectrum of the solid thin film, and Fig. 10 is the basic of the present invention. 11 is a flow chart showing an embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a view showing an infrared absorption spectrum of Myra (a).
Shows the processing result before the fringe removal (b) with the refractive index kept constant. FIG. 13 is a block diagram showing an apparatus system of an embodiment according to the present invention, FIG. 14 is a flowchart of an example of the simplex method, FIG. 15 is a spectrum diagram showing optical constants of a substance for simulation, and FIG. 16 is Fig. 17 shows the infrared absorption spectrum, Fig. 17 shows the spectrum of the processing result, (a) shows the initial solution, (b) shows the spectrum of the optimum solution, and Fig. 18 shows the spectrum of the optical constants by data processing. , Fig. 19 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of polyvinyl chloride, Fig. 20 is a spectrum diagram of a treatment result, Fig. 21 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of PET, and Fig. 22 is a spectrum diagram of a treatment result. Fig. 23 shows the infrared absorption spectrum of benzene. Fig. 24 and Fig. 25 show the spectrum results of the treatment. Fig. 26 shows the infrared absorption spectrum of benzene when the cell thickness is changed. , Fig. 27, FIG. 28 is a spectrum diagram showing the processing result, and FIG. 29 is a diagram showing fringes appearing in the visible and ultraviolet spectrum of a thin film having a thickness of 1 μm or less.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−7226(JP,A) 特開 昭60−117119(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-59-7226 (JP, A) JP-A-60-117119 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】薄膜状の同一試料を、分光光度計により、
試料と測定光光軸とのなす角度を変えて少なくとも2回
測定し、 測定したそれぞれのスペクトルデータを不変量である吸
収係数または消光係数により結びつけるとともに、前記
吸収係数または消光係数の二乗誤差和を膜厚,屈折率,
角度をパラメータとする目的関数に設定し、 非線形最適化手法により前記目的関数を最小にする前記
パラメータを演算して求め、干渉縞の除去されたスペク
トルを得るとともに、試料の膜厚と屈折率分散を同時に
得られるようにしたことを特徴とする薄膜状試料の分光
分析方法。
1. The same thin film sample is analyzed by a spectrophotometer.
The angle between the sample and the optical axis of the measuring light is changed at least twice, and the measured spectral data are linked by the invariant absorption coefficient or extinction coefficient, and the sum of squared error of the absorption coefficient or extinction coefficient is calculated. Film thickness, refractive index,
Set the objective function with the angle as a parameter, and calculate the parameter that minimizes the objective function by a non-linear optimization method to obtain a spectrum from which interference fringes are removed. A method for spectroscopic analysis of a thin film sample, characterized in that
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