JPH076883B2 - 埋設配管の沈下管理方法 - Google Patents
埋設配管の沈下管理方法Info
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- JPH076883B2 JPH076883B2 JP3049887A JP4988791A JPH076883B2 JP H076883 B2 JPH076883 B2 JP H076883B2 JP 3049887 A JP3049887 A JP 3049887A JP 4988791 A JP4988791 A JP 4988791A JP H076883 B2 JPH076883 B2 JP H076883B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、地盤沈下による埋設配
管の影響を把握するために利用される埋設配管の沈下管
理方法に係わり、特にオンラインで埋設配管の応力を推
定する技術を付加した埋設配管の沈下管理方法の改良に
関する。
管の影響を把握するために利用される埋設配管の沈下管
理方法に係わり、特にオンラインで埋設配管の応力を推
定する技術を付加した埋設配管の沈下管理方法の改良に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、地盤の地下にははガス配管、上
下水道配管その他多くの配管が埋設されているが、種々
の工事による振動，地下水の汲み上げ、地震その他の原
因によって地盤沈下が進行すると、前述した埋設配管が
変形し、ある一部の個所に亀裂が生じ、或いは大きな折
損を受けるなどして、ガス漏れ，漏水等の事故が発生す
る。
下水道配管その他多くの配管が埋設されているが、種々
の工事による振動，地下水の汲み上げ、地震その他の原
因によって地盤沈下が進行すると、前述した埋設配管が
変形し、ある一部の個所に亀裂が生じ、或いは大きな折
損を受けるなどして、ガス漏れ，漏水等の事故が発生す
る。
【０００３】そこで、従来、地盤沈下が予測される地下
に配管を埋設する場合、早期に地盤沈下状態を把握して
埋設配管の健全な維持運用を図る観点から次のような埋
設配管の沈下管理方法が考えられている。
に配管を埋設する場合、早期に地盤沈下状態を把握して
埋設配管の健全な維持運用を図る観点から次のような埋
設配管の沈下管理方法が考えられている。
【０００４】その１つは、埋設配管に沈下棒が取り付け
られ、この沈下棒の沈下量から埋設配管の応力を推定す
る方法である。具体的には、図４に示す如く地盤２１の
地下に例えばガス配管等の埋設配管２２が埋設され、ま
た必要に応じて河川２３を通る場合には河川２３を横切
るように横架され、そのうち、埋設配管２２の所定の測
定点２４ａ〜２４ｄ、橋横架部分の所定の測定点２５ａ
〜２５ｃおよび地盤２１上の所定の路面測定点２６ａ，
２６ｂにそれぞれ沈下棒が取り付けられ、これら沈下棒
の沈下量を定期的に測定することにより、予め定めた埋
設配管２２の沈下量と埋設配管２２に発生する応力との
関係から、沈下による埋設配管２２の応力を推定する方
法である。２７は基礎杭である。因みに、図５（ａ）は
測定点２４ａ〜２４ｄなどに設置される沈下量測定機
構、図７（ｂ）は路面測定点２６ａ，２６ｂなどに設置
される沈下量測定機構である。これら図において２８は
ターミナルボックス、２９は沈下棒、３０はゴムシー
ト、３１は２つ割りバンド、３２は土中に埋設したプレ
ートである。なお、この沈下棒を用いた測定の場合、恒
久的な構造物（水準点，橋台，ビル等）との相対変位を
測定しておく必要がある。
られ、この沈下棒の沈下量から埋設配管の応力を推定す
る方法である。具体的には、図４に示す如く地盤２１の
地下に例えばガス配管等の埋設配管２２が埋設され、ま
た必要に応じて河川２３を通る場合には河川２３を横切
るように横架され、そのうち、埋設配管２２の所定の測
定点２４ａ〜２４ｄ、橋横架部分の所定の測定点２５ａ
〜２５ｃおよび地盤２１上の所定の路面測定点２６ａ，
２６ｂにそれぞれ沈下棒が取り付けられ、これら沈下棒
の沈下量を定期的に測定することにより、予め定めた埋
設配管２２の沈下量と埋設配管２２に発生する応力との
関係から、沈下による埋設配管２２の応力を推定する方
法である。２７は基礎杭である。因みに、図５（ａ）は
測定点２４ａ〜２４ｄなどに設置される沈下量測定機
構、図７（ｂ）は路面測定点２６ａ，２６ｂなどに設置
される沈下量測定機構である。これら図において２８は
ターミナルボックス、２９は沈下棒、３０はゴムシー
ト、３１は２つ割りバンド、３２は土中に埋設したプレ
ートである。なお、この沈下棒を用いた測定の場合、恒
久的な構造物（水準点，橋台，ビル等）との相対変位を
測定しておく必要がある。
【０００５】他の１つは、土中埋設配管の長手方向外周
面にそって光ファイバが併設され、その光ファイバ一端
側からレーザ光を入射する一方、埋設配管の物理的な動
きによって前記光ファイバ内部で反射されて返ってくる
後方散乱光，不連続性，減衰量の変化を検出することに
より、埋設配管の影響，つまり埋設配管の曲りの状態を
把握することが行われている。
面にそって光ファイバが併設され、その光ファイバ一端
側からレーザ光を入射する一方、埋設配管の物理的な動
きによって前記光ファイバ内部で反射されて返ってくる
後方散乱光，不連続性，減衰量の変化を検出することに
より、埋設配管の影響，つまり埋設配管の曲りの状態を
把握することが行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の沈下棒
を用いた埋設配管の沈下管理方法の場合には次のような
問題点が指摘されている。すなわち、
を用いた埋設配管の沈下管理方法の場合には次のような
問題点が指摘されている。すなわち、
【０００７】イ 埋設配管２２の最大応力値やその発生
位置を精度よく推定するには、相当多数の沈下量測定機
構を設ける必要があること。長距離の埋設配管を管理す
る場合には益々その設置数が多くなり、コストの高騰を
招き、また設置作業が非常に煩雑となる。 ロ 現在，この方法では、年１回程度定期的に測定する
こととしているが、このため急速な沈下の場合には迅速
に必要な対策がとれない。 ハ さらに、沈下量の測定から応力の推定までの一連の
作業をオフラインで行うことから、作業終了までに相当
長い時間がかかる。 ニ 既設配管の場合、当該既設配管に直接沈下棒２９を
取り付けことおよびその配管周囲を掘削することから、
既設配管に損傷を与えることがある。 ホ さらに、既設配管の周囲が掘削困難な場所の場合、
当該既設配管に沈下棒２９が取り付けられない。 等々の問題が上げられている。
位置を精度よく推定するには、相当多数の沈下量測定機
構を設ける必要があること。長距離の埋設配管を管理す
る場合には益々その設置数が多くなり、コストの高騰を
招き、また設置作業が非常に煩雑となる。 ロ 現在，この方法では、年１回程度定期的に測定する
こととしているが、このため急速な沈下の場合には迅速
に必要な対策がとれない。 ハ さらに、沈下量の測定から応力の推定までの一連の
作業をオフラインで行うことから、作業終了までに相当
長い時間がかかる。 ニ 既設配管の場合、当該既設配管に直接沈下棒２９を
取り付けことおよびその配管周囲を掘削することから、
既設配管に損傷を与えることがある。 ホ さらに、既設配管の周囲が掘削困難な場所の場合、
当該既設配管に沈下棒２９が取り付けられない。 等々の問題が上げられている。
【０００８】一方、後者の光ファイバを併設して埋設配
管２２の曲りの状態を把握する埋設配管の沈下管理方法
の場合には、以上のような種々の問題を解決することが
可能であるが、反面、次のような問題点が指摘されてい
る。
管２２の曲りの状態を把握する埋設配管の沈下管理方法
の場合には、以上のような種々の問題を解決することが
可能であるが、反面、次のような問題点が指摘されてい
る。
【０００９】イ．埋設配管２２と光ファイバとがそれぞ
れ別体のものであり、また、一般的には光ファイバの外
形が埋設配管２２と比較して相当小さいものであるた
め、検出感度が悪く、かつ、埋設配管２２の曲りの状態
を精度よく測定できない。
れ別体のものであり、また、一般的には光ファイバの外
形が埋設配管２２と比較して相当小さいものであるた
め、検出感度が悪く、かつ、埋設配管２２の曲りの状態
を精度よく測定できない。
【００１０】ロ．埋設配管内部にガスその他の流体が流
れているので、流体の温度の影響を受け、或いは流体に
よる振動を受け、ノイズの発生や測定誤りを起こす問題
がある。
れているので、流体の温度の影響を受け、或いは流体に
よる振動を受け、ノイズの発生や測定誤りを起こす問題
がある。
【００１１】本発明は上記実情にかんがみてなされたも
ので、比較的精度よく地盤沈下による埋設配管の影響を
把握でき、しかもオンオラインで迅速に埋設配管の発生
応力を求めうる埋設配管の沈下管理方法を提供すること
を目的とする。
ので、比較的精度よく地盤沈下による埋設配管の影響を
把握でき、しかもオンオラインで迅速に埋設配管の発生
応力を求めうる埋設配管の沈下管理方法を提供すること
を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、埋設配管である被測定配管に隣接する地盤
の土中に、光ファイバひずみセンサを装着したダミー配
管が埋設され、かつ、地盤沈下によるダミー配管に発生
するひずみ分布を求めるために前記光ファイバひずみセ
ンサの入射端から光パルスを入射するとともに、この光
ファイバひずみセンサ内の各位置から反射されてくるひ
ずみの情報をもつ後方散乱光を受光し、その後方散乱光
の強度から前記ダミー配管に発生するひずみに変換す
る。さらに、このダミー配管のひずみ分布に対応する地
盤沈下曲線を求めた後、この地盤沈下曲線に対応する被
測定配管の応力分布を推定し、この被測定用配管の沈下
状態を管理する埋設配管の沈下管理方法である。
するために、埋設配管である被測定配管に隣接する地盤
の土中に、光ファイバひずみセンサを装着したダミー配
管が埋設され、かつ、地盤沈下によるダミー配管に発生
するひずみ分布を求めるために前記光ファイバひずみセ
ンサの入射端から光パルスを入射するとともに、この光
ファイバひずみセンサ内の各位置から反射されてくるひ
ずみの情報をもつ後方散乱光を受光し、その後方散乱光
の強度から前記ダミー配管に発生するひずみに変換す
る。さらに、このダミー配管のひずみ分布に対応する地
盤沈下曲線を求めた後、この地盤沈下曲線に対応する被
測定配管の応力分布を推定し、この被測定用配管の沈下
状態を管理する埋設配管の沈下管理方法である。
【００１３】
【作用】従って、本発明は以上のような手段を講じたこ
とにより、ダミー配管の外面または内面の長手方向にそ
って光ファイバひずみセンサを設置するとともに、この
光ファイバひずみセンサの入射端から光パルスを入射す
れば、地盤沈下による光ファイバひずみセンサ内におけ
るひずみの情報に依存して変化する後方散乱光の強度を
検知でき、これによってダミー配管のひずみ分布を知る
ことができる。そして、このひずみ分布から詳細な地盤
沈下曲線を求め、かつ、この地盤沈下曲線から被測定配
管の最大応力値やその発生位置などを求めることができ
る。
とにより、ダミー配管の外面または内面の長手方向にそ
って光ファイバひずみセンサを設置するとともに、この
光ファイバひずみセンサの入射端から光パルスを入射す
れば、地盤沈下による光ファイバひずみセンサ内におけ
るひずみの情報に依存して変化する後方散乱光の強度を
検知でき、これによってダミー配管のひずみ分布を知る
ことができる。そして、このひずみ分布から詳細な地盤
沈下曲線を求め、かつ、この地盤沈下曲線から被測定配
管の最大応力値やその発生位置などを求めることができ
る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明方法の実施例について図面を参
照して説明する。図１は橋台の背面側地盤に被測定配管
を埋設した例を示す図である。同図において１は紙面方
向に向かって左側に位置する橋台であって、この橋台１
の図示左側に位置する背面部側には土砂等からなる地盤
２が形成されている。３は例えば６００Ａの高圧ガス流
体を輸送する被測定配管３であって、これは橋台１背面
部に位置する地盤２地下の１．５ｍに埋設され、さらに
橋台１を貫通して河川（図示せず）を通って対峙する他
方の橋台（図示せず）１に横架されている。また、光フ
ァイバひずみセンサ４を装着したダミー配管５は、被測
定配管３の管径よりも小さい例えば１００Ａのものを使
用し、当該被測定配管３に隣接するような位置関係を保
持しながら同じく地盤２の地下で被測定配管３よりも浅
い１．０ｍの位置に埋設され、かつ、橋台１を貫通する
ように設けられている。ダミー配管５は光ファイバひず
みセンサ４の検出感度や測定精度等から材質，外形等を
考慮するものとする。なお、この図１は地盤２の沈下に
よって被測定配管３およびダミー配管５とも変形してい
る状態を示している。
照して説明する。図１は橋台の背面側地盤に被測定配管
を埋設した例を示す図である。同図において１は紙面方
向に向かって左側に位置する橋台であって、この橋台１
の図示左側に位置する背面部側には土砂等からなる地盤
２が形成されている。３は例えば６００Ａの高圧ガス流
体を輸送する被測定配管３であって、これは橋台１背面
部に位置する地盤２地下の１．５ｍに埋設され、さらに
橋台１を貫通して河川（図示せず）を通って対峙する他
方の橋台（図示せず）１に横架されている。また、光フ
ァイバひずみセンサ４を装着したダミー配管５は、被測
定配管３の管径よりも小さい例えば１００Ａのものを使
用し、当該被測定配管３に隣接するような位置関係を保
持しながら同じく地盤２の地下で被測定配管３よりも浅
い１．０ｍの位置に埋設され、かつ、橋台１を貫通する
ように設けられている。ダミー配管５は光ファイバひず
みセンサ４の検出感度や測定精度等から材質，外形等を
考慮するものとする。なお、この図１は地盤２の沈下に
よって被測定配管３およびダミー配管５とも変形してい
る状態を示している。
【００１５】一方、ダミー配管５に発生するひずみ分布
を測定するために、光パルス信号の送受信を行う光用Ｔ
ＤＲ装置６と、この光用ＴＤＲ装置６からの光パルス信
号を前記光ファイバひずみセンサ４に入射し、かつ、光
ファイバひずみセンサ４から反射されてくる後方散乱光
を受信して光用ＴＤＲ装置６へ送る光伝送路７と、前記
光用ＴＤＲ装置６による送受信光信号から被測定用配管
３の応力を推定する応力推定計算処理手段８とが設けら
れている。
を測定するために、光パルス信号の送受信を行う光用Ｔ
ＤＲ装置６と、この光用ＴＤＲ装置６からの光パルス信
号を前記光ファイバひずみセンサ４に入射し、かつ、光
ファイバひずみセンサ４から反射されてくる後方散乱光
を受信して光用ＴＤＲ装置６へ送る光伝送路７と、前記
光用ＴＤＲ装置６による送受信光信号から被測定用配管
３の応力を推定する応力推定計算処理手段８とが設けら
れている。
【００１６】次に、図２は光用ＴＤＲ装置６と応力推定
計算処理手段８を詳細に示す図である。同図は光ファイ
バひずみセンサ４から光伝送路７を介して光用ＴＤＲ装
置６が接続されているが、この光ファイバひずみセンサ
４としては従来より周知の如く引張りびずみまたは圧縮
ひずみを受けたときに光信号が漏光し、その光の減衰量
はひずみの大きさに応じて変化すること、しかも光ファ
イバひずみセンサ４内の光伝搬速度が既知であること等
から、ダミー配管５のひずみおよびそのひずみ位置情報
を得ることができる。
計算処理手段８を詳細に示す図である。同図は光ファイ
バひずみセンサ４から光伝送路７を介して光用ＴＤＲ装
置６が接続されているが、この光ファイバひずみセンサ
４としては従来より周知の如く引張りびずみまたは圧縮
ひずみを受けたときに光信号が漏光し、その光の減衰量
はひずみの大きさに応じて変化すること、しかも光ファ
イバひずみセンサ４内の光伝搬速度が既知であること等
から、ダミー配管５のひずみおよびそのひずみ位置情報
を得ることができる。
【００１７】一方、光用ＴＤＲ装置６にあっては、パル
ス半導体レーザ６１、光方向性結合器６２、分光器６
３、光検知器６４、Ｏ／Ｅ変換器６５および変化の速い
電気現象の波形を観測する例えばオシロスコープの波形
観測手段６６等で構成され、パルス半導体レーザ６１か
ら光パルスを発生して光ファイバひずみセンサ４に入射
する。この光パルスの入射によって光ファイバひずみセ
ンサ４内でひずみの大きさに応じて変化する後方散乱光
を含む反射光を光方向性結合器６２を介して分光器６３
に導き、ここで、反射光から後方散乱光を分光し、さら
に光検知器６４にて当該後方散乱光の強度を検知して波
形観測手段６５に供給する。従って、波形観測手段６６
ではＯ／Ｅ変換器６５の出力に基づいて時間の関数をも
った光強度を観測することができる。
ス半導体レーザ６１、光方向性結合器６２、分光器６
３、光検知器６４、Ｏ／Ｅ変換器６５および変化の速い
電気現象の波形を観測する例えばオシロスコープの波形
観測手段６６等で構成され、パルス半導体レーザ６１か
ら光パルスを発生して光ファイバひずみセンサ４に入射
する。この光パルスの入射によって光ファイバひずみセ
ンサ４内でひずみの大きさに応じて変化する後方散乱光
を含む反射光を光方向性結合器６２を介して分光器６３
に導き、ここで、反射光から後方散乱光を分光し、さら
に光検知器６４にて当該後方散乱光の強度を検知して波
形観測手段６５に供給する。従って、波形観測手段６６
ではＯ／Ｅ変換器６５の出力に基づいて時間の関数をも
った光強度を観測することができる。
【００１８】しかる後、波形観測手段６６による観測出
力を応力推定計算処理手段８に導入し、ここで被測定配
管３の応力分布を推定する。すなわち、この応力推定計
算処理手段８のひずみ変換処理手段８１では、時間の関
数として得られた光強度と、予め求めたひずみの大きさ
と損失変化の関係とからダミー配管５のひずみ分布を求
める一方、位置情報は下記の（１）式から求める。 Ｌ＝（ｃ／２ｎ）・△ｔ ……… （１） 上式においてＬは距離、ｃは真空中の光速度、ｎは光フ
ァイバひずみセンサ４の屈折率、△ｔは光パルス入射
後、後方散乱光検出までの時間である。
力を応力推定計算処理手段８に導入し、ここで被測定配
管３の応力分布を推定する。すなわち、この応力推定計
算処理手段８のひずみ変換処理手段８１では、時間の関
数として得られた光強度と、予め求めたひずみの大きさ
と損失変化の関係とからダミー配管５のひずみ分布を求
める一方、位置情報は下記の（１）式から求める。 Ｌ＝（ｃ／２ｎ）・△ｔ ……… （１） 上式においてＬは距離、ｃは真空中の光速度、ｎは光フ
ァイバひずみセンサ４の屈折率、△ｔは光パルス入射
後、後方散乱光検出までの時間である。
【００１９】以上のようにして得られたダミー配管５の
ひずみ分布および位置情報は地盤沈下曲線変換処理手段
８２に送られ、ここで、ダミー配管５の長手方向にひず
み分布をもつ地盤沈下曲線を求めることができる。今、
図１に示すように橋台背面部の地盤２が一様な沈下量△
で地盤沈下したとすると、橋台１から距離Ｌの位置での
ダミー配管５のひずみをεLdとすると、 △＝｜εLd／［βd 2 ・Ｄd ｅｘｐ（−βd Ｌ）｛ｃｏｓ（βd Ｌ） −ｓｉｎ（βd Ｌ）］｜…（２） の関係が成り立つ。上式においてβd ＝（ｋＤd ／４Ｅ
d ・Ｉd ）1/4 、ｋは地盤反力係数、Ｄd はダミー配管
の外径、Ｅd ・Ｉd はダミー配管の曲げ剛性である。そ
して、距離Ｌ＝１ｍ位置のダミー配管５のひずみ値をε
Ld＝０．０２％とすれば、（２）式を用いて一様沈下量
を求めると４．４ｃｍとなる。
ひずみ分布および位置情報は地盤沈下曲線変換処理手段
８２に送られ、ここで、ダミー配管５の長手方向にひず
み分布をもつ地盤沈下曲線を求めることができる。今、
図１に示すように橋台背面部の地盤２が一様な沈下量△
で地盤沈下したとすると、橋台１から距離Ｌの位置での
ダミー配管５のひずみをεLdとすると、 △＝｜εLd／［βd 2 ・Ｄd ｅｘｐ（−βd Ｌ）｛ｃｏｓ（βd Ｌ） −ｓｉｎ（βd Ｌ）］｜…（２） の関係が成り立つ。上式においてβd ＝（ｋＤd ／４Ｅ
d ・Ｉd ）1/4 、ｋは地盤反力係数、Ｄd はダミー配管
の外径、Ｅd ・Ｉd はダミー配管の曲げ剛性である。そ
して、距離Ｌ＝１ｍ位置のダミー配管５のひずみ値をε
Ld＝０．０２％とすれば、（２）式を用いて一様沈下量
を求めると４．４ｃｍとなる。
【００２０】従って、各位置ｉのひずみから求めた沈下
量△ｉからその平均値△meanは、 △mean＝（Σ△ｉ）／Ｎ … …（３） の式から求められる。Ｎはデータ数であり、この場合に
はＮ＝２０としている。なお、以上の述べた説明は一様
沈下と仮定できる場合であるが、一様沈下と仮定できな
い場合には構造力学で一般的に使用されている有限要素
法などを用いて数値解析によりダミー配管５のひずみ分
布から地盤沈下曲線を容易に求めることができる。
量△ｉからその平均値△meanは、 △mean＝（Σ△ｉ）／Ｎ … …（３） の式から求められる。Ｎはデータ数であり、この場合に
はＮ＝２０としている。なお、以上の述べた説明は一様
沈下と仮定できる場合であるが、一様沈下と仮定できな
い場合には構造力学で一般的に使用されている有限要素
法などを用いて数値解析によりダミー配管５のひずみ分
布から地盤沈下曲線を容易に求めることができる。
【００２１】しかる後、この地盤沈下曲線から応力変換
処理手段８３にて被測定配管３の応力を求める。ここで
の処理は、地盤沈下が一様沈下と仮定できる場合には、
被測定配管３の長手方向にそった応力σは、 σ＝△・Ｅ・β2 ・Ｄｅｘｐ（−βＬ）（ｃｏｓβＬ−ｓｉｎβＬ）…（４） の演算式で求めることができる。因みに、この（４）式
では１ｍ位置の被測定配管３の発生応力はσ＝２３６０
ｋｇ／ｃｍ2 となる。ここで、Ｅは被測定用配管３のヤ
ング率である。なお、地盤沈下が一様沈下でない場合に
は前述と同様に有限要素法を用いて数値解析により応力
分布を求めることができる。
処理手段８３にて被測定配管３の応力を求める。ここで
の処理は、地盤沈下が一様沈下と仮定できる場合には、
被測定配管３の長手方向にそった応力σは、 σ＝△・Ｅ・β2 ・Ｄｅｘｐ（−βＬ）（ｃｏｓβＬ−ｓｉｎβＬ）…（４） の演算式で求めることができる。因みに、この（４）式
では１ｍ位置の被測定配管３の発生応力はσ＝２３６０
ｋｇ／ｃｍ2 となる。ここで、Ｅは被測定用配管３のヤ
ング率である。なお、地盤沈下が一様沈下でない場合に
は前述と同様に有限要素法を用いて数値解析により応力
分布を求めることができる。
【００２２】次に、図３は被測定配管３が一般の軟弱地
盤２に埋設されている例を示す図である。この場合には
前述したように応力を求めるに際し、有限要素法などを
用いて数値解析により求めるものであり、その他は図１
と同様である。
盤２に埋設されている例を示す図である。この場合には
前述したように応力を求めるに際し、有限要素法などを
用いて数値解析により求めるものであり、その他は図１
と同様である。
【００２３】従って、以上のような実施例の方式によれ
ば、地盤２の地下に被測定配管３と隣接しつつ光ファイ
バひずみセンサ４を装着したダミー配管５が埋設され、
かつ、そのダミー配管５には光ファイバひずみセンサ４
の検出感度や測定精度等から材質，外形等を考慮したも
のを使用することにより、高感度でダミー配管５のひず
み分布を検出でき、さらにかかるダミー配管５のひずみ
分布に対応する地盤沈下曲線から容易に被測定配管３の
応力分布に変換でき、しかもこれら一連の処理をオンラ
インで実施できることから、急速な地盤沈下にも対処で
き、処理も迅速に行うことができる。さらに、既設配管
に適用する場合でも、この既設配管と隣接してダミー配
管５を埋設することになるので、既設配管に損傷を与え
ることがなく、また掘削できない場所でも光ファイバひ
ずみセンサ４を装着されたダミー配管５を非開削方法例
えば沈下棒などで支持して沈下状態を管理することが可
能である。
ば、地盤２の地下に被測定配管３と隣接しつつ光ファイ
バひずみセンサ４を装着したダミー配管５が埋設され、
かつ、そのダミー配管５には光ファイバひずみセンサ４
の検出感度や測定精度等から材質，外形等を考慮したも
のを使用することにより、高感度でダミー配管５のひず
み分布を検出でき、さらにかかるダミー配管５のひずみ
分布に対応する地盤沈下曲線から容易に被測定配管３の
応力分布に変換でき、しかもこれら一連の処理をオンラ
インで実施できることから、急速な地盤沈下にも対処で
き、処理も迅速に行うことができる。さらに、既設配管
に適用する場合でも、この既設配管と隣接してダミー配
管５を埋設することになるので、既設配管に損傷を与え
ることがなく、また掘削できない場所でも光ファイバひ
ずみセンサ４を装着されたダミー配管５を非開削方法例
えば沈下棒などで支持して沈下状態を管理することが可
能である。
【００２４】なお、上記実施例では、光ファイバひずみ
センサ４の光パルスの入射端からダミー配管５内部のひ
ずみに対応した後方散乱光を得るようにしたが、光ファ
イバひずみセンサ４の反対側端部から取り出すようにし
てもよい。また、ダミー配管５に併設する光ファイバひ
ずみセンサ４は１本として説明したが、複数本を併設す
ることによってより適確に被測定配管５の応力分布を求
めることもできる。さらに、応力推定計算処理手段８に
時間装置を備えれば、その時間を刻時しながら応力分布
を求められ、経時的な応力分布ひいては応力の時間的な
変化も把握できる。その他、本発明はその要旨を逸脱し
ない範囲で種々変形して実施できることは言うまでもな
い。
センサ４の光パルスの入射端からダミー配管５内部のひ
ずみに対応した後方散乱光を得るようにしたが、光ファ
イバひずみセンサ４の反対側端部から取り出すようにし
てもよい。また、ダミー配管５に併設する光ファイバひ
ずみセンサ４は１本として説明したが、複数本を併設す
ることによってより適確に被測定配管５の応力分布を求
めることもできる。さらに、応力推定計算処理手段８に
時間装置を備えれば、その時間を刻時しながら応力分布
を求められ、経時的な応力分布ひいては応力の時間的な
変化も把握できる。その他、本発明はその要旨を逸脱し
ない範囲で種々変形して実施できることは言うまでもな
い。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、比
較的精度よく地盤沈下による被測定配管の影響を迅速に
把握でき、しかもオンオラインで測定できるので急速な
地盤沈下でも十分に対処でき、また既設配管に損傷を与
えずにダミー配管を設置できる埋設配管の沈下管理方法
を提供できる。
較的精度よく地盤沈下による被測定配管の影響を迅速に
把握でき、しかもオンオラインで測定できるので急速な
地盤沈下でも十分に対処でき、また既設配管に損傷を与
えずにダミー配管を設置できる埋設配管の沈下管理方法
を提供できる。
【図１】 本発明方法の一実施例を説明する被測定配管
およびダミー配管の埋設状態を示す模式図。
およびダミー配管の埋設状態を示す模式図。
【図２】 本発明方法の信号処理系を具体化したブロッ
ク図。
ク図。
【図３】 本発明方法の他の実施例を説明する被測定配
管およびダミー配管の埋設状態を示す模式図。
管およびダミー配管の埋設状態を示す模式図。
【図４】 沈下棒を用いた地盤沈下を調べる従来方法の
説明図。
説明図。
【図５】 図４に示す従来方法に用いる沈下量測定機構
の構成図。
の構成図。
１…橋台、２…地盤、３…被測定配管、４…光ファイバ
ひずみセンサ、５…ダミー配管、６…光用ＴＤＲ装置、
７…光伝送路、８…応力推定計算処理手段。
ひずみセンサ、５…ダミー配管、６…光用ＴＤＲ装置、
７…光伝送路、８…応力推定計算処理手段。
Claims (1)
- 【請求項１】 埋設配管である被測定用配管に隣接する
地盤に、光ファイバひずみセンサを装着したダミー配管
が埋設され、かつ、当該光ファイバひずみセンサに光信
号を入射するとともに光ファイバひずみセンサ内の各位
置から反射されてくるひずみ情報をもつ後方散乱光を受
信することにより、前記ダミー配管の長手方向にそった
ひずみ分布を求めた後、このダミー配管のひずみ分布か
ら前記被測定用配管に発生する応力分布を推定し、この
被測定用配管の沈下状態を管理することを特徴とする埋
設配管の沈下管理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3049887A JPH076883B2 (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 埋設配管の沈下管理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3049887A JPH076883B2 (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 埋設配管の沈下管理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04285839A JPH04285839A (ja) | 1992-10-09 |
| JPH076883B2 true JPH076883B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=12843547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3049887A Expired - Fee Related JPH076883B2 (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 埋設配管の沈下管理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076883B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4895105B2 (ja) * | 2006-07-11 | 2012-03-14 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | 計測装置ならびにそれを備えた医療装置および訓練装置 |
| JP4905691B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-03-28 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | 可撓性線状体の圧縮力計測装置 |
| JP6261365B2 (ja) * | 2014-02-13 | 2018-01-17 | 国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構 | 配管の曲げひずみ推定方法およびその方法を用いた配管の安全率評価方法 |
| JP6570861B2 (ja) * | 2015-04-08 | 2019-09-04 | 株式会社クボタ | 断層横断埋設管路の挙動推定方法及び断層横断埋設管路の挙動推定装置 |
| CN105157999B (zh) * | 2015-05-26 | 2017-10-03 | 东华大学 | 基于分布式光纤传感技术桩完整性和横向位移的评估方法 |
| CN113916114B (zh) * | 2021-09-30 | 2023-09-29 | 西安理工大学 | 一种管道变形监测试验装置 |
-
1991
- 1991-03-14 JP JP3049887A patent/JPH076883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04285839A (ja) | 1992-10-09 |
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