JPH0768335B2 - Functionalization of reactive surfaces - Google Patents

Functionalization of reactive surfaces

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JPH0768335B2
JPH0768335B2 JP28270692A JP28270692A JPH0768335B2 JP H0768335 B2 JPH0768335 B2 JP H0768335B2 JP 28270692 A JP28270692 A JP 28270692A JP 28270692 A JP28270692 A JP 28270692A JP H0768335 B2 JPH0768335 B2 JP H0768335B2
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    • B05D3/141Plasma treatment
    • B05D3/142Pretreatment
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】本発明はエレクトロニックパッケージング
の応用に関するもので、特にエレクトロニックパッケー
ジングの応用の際に基板として一般に使用されている、
誘電性ポリマー絶縁体の表面を官能性化しポリマー基板
の表面を反応性にするとともに、基板の全体的の特性は
変化させずにしておく方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to electronic packaging applications, and is commonly used as a substrate, especially in electronic packaging applications,
It relates to a method of functionalizing the surface of a dielectric polymer insulator to render the surface of a polymer substrate reactive, while leaving the overall properties of the substrate unchanged.

【0002】[0002]

【背景技術】多くのエレクトロニックパッケージング応
用のため、誘電性絶縁体としてある種のポリマー材料を
用いることは、その優れた全体的特性(すなわち、誘電
係数、吸水性、熱的安定性、機械的特性など)のために
望ましいものである。過去において、これら材料の表面
特性に関連するいくつかの困難に遭遇している。このよ
うな困難には接着強度と接着耐久性の不充分なことおよ
び表面の金属化と接種することができないことが含まれ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION For many electronic packaging applications, the use of certain polymeric materials as dielectric insulators has been found to have excellent overall properties (ie, dielectric constant, water absorption, thermal stability, mechanical stability). It is desirable because of the characteristics). In the past, we have encountered some difficulties related to the surface properties of these materials. Such difficulties include insufficient bond strength and bond durability and surface metallization and inability to inoculate.

【0003】望ましからぬ表面特性を克服するとともに
基板の好ましい全体的な強度を維持するための1つの方
法は、その物質の全体的の特性には手をつけずにおいた
まま物理的または化学的のいずれかによりその表面を変
化させることである。
One method for overcoming unwanted surface properties and maintaining a desirable overall strength of the substrate is to physically or chemically leave the overall properties of the material untouched. To change its surface either by the target.

【0004】Goldblatt氏他の米国特許第5,019,2
10号はポリマー表面を水蒸気のプラズマによって処理
し、この処理をされたポリマー面の接着性を第2のポリ
マー面に対して増進させる方法を開示している。一方、
本発明はポリマー表面を水蒸気プラズマで処理し、これ
により表面を化学的に反応性にさせるものである。この
処理をされたポリマーの表面は、ついでその表面上に所
望の層を与える選ばれた組成物により処理されるのであ
る。
Goldblatt et al., US Pat. No. 5,019,2
No. 10 discloses a method of treating a polymer surface with a plasma of water vapor to enhance the adhesion of the treated polymer surface to a second polymer surface. on the other hand,
The present invention involves treating the polymer surface with steam plasma, which renders the surface chemically reactive. The surface of this treated polymer is then treated with a selected composition that provides the desired layer on the surface.

【0005】基板表面を官能性化するため付与すること
のできるものにはこの他多くの公知技術がある。
There are many other known techniques that can be applied to functionalize the substrate surface.

【0006】Landler氏他の米国特許第3,676,19
0号は実質的に純粋なグラフトポリマーを形成するた
め、ポリマーを130℃を超えない温度でオゾンに当て
て“オゾン化”ポリマーを形成させ、ついでこれをエチ
レン性の不飽和モノマーと反応させるという1方法を開
示している。この公知例中で用いられたオゾンは本発明
中で使用される水蒸気プラズマと同等なものではなく、
またこの例のエチレン性不飽和モノマーは本発明中で使
用されるグラフト反応剤成分と同じものではないから、
この公知例は本発明で具体化されたものとは異なる方法
である。
US Pat. No. 3,676,19 to Landler et al.
No. 0 says that to form a substantially pure graft polymer, the polymer is exposed to ozone at a temperature not exceeding 130 ° C. to form an “ozonated” polymer, which is then reacted with an ethylenically unsaturated monomer. One method is disclosed. The ozone used in this known example is not equivalent to the water vapor plasma used in the present invention,
Also, the ethylenically unsaturated monomer of this example is not the same as the grafting agent component used in the present invention,
This known example is a method different from that embodied in the present invention.

【0007】米国特許第3,759,954号、同第3,
879,422号および同第3,956,317号はすべ
てジエポキサイド組成物に関するもので、単にジエポキ
サイドについて述べただけで本発明中で具体化された方
法を示してはいない。
US Pat. Nos. 3,759,954 and 3,
Nos. 879,422 and 3,956,317 all relate to diepoxide compositions and merely mention diepoxides and do not indicate the method embodied in the present invention.

【0008】Redmond氏他の米国特許第4,078,09
6号は基板表面をヒドラジン溶液によってまず前処理
し、ついでこの表面処理済みのポリマー上に触媒を沈着
させ、そしてこの触媒を含むポリマー上に無電解的に沈
着しうる金属をその中に含む浴にこの触媒をもつポリマ
ーをさらすことにより、ポリイミド基板上に回路パター
ンを生成する方法を示している。この特許は接種とメッ
キとに関連するものであるが、本発明中で具体化されて
いるような、水蒸気プラズマによる表面官能性化とグラ
フト反応剤成分とは示されていない。
US Pat. No. 4,078,09 to Redmond et al.
No. 6 pre-treats the substrate surface with a hydrazine solution, then deposits a catalyst on the surface-treated polymer, and a bath containing therein a metal capable of electroless deposition on the polymer containing the catalyst. It shows a method of forming a circuit pattern on a polyimide substrate by exposing a polymer having this catalyst to. This patent relates to inoculation and plating, but does not show the surface functionalization by steam plasma and the grafting agent component as embodied in the present invention.

【0009】Hatada氏他の米国特許第4,400,424
号は、繊維中に凹所を形成することにより織物用繊維に
誘起される色素感受性に関するもので、冷プラズマを利
用する範囲にのみ関連している。ここで示された方法は
本発明と直接関係はない。
US Pat. No. 4,400,424 to Hatada et al.
No. 1 relates to the dye sensitivities induced in textile fibers by forming recesses in the fibers and is only relevant to the area of use of cold plasma. The method presented here is not directly related to the present invention.

【0010】Ladizescky氏他の米国特許第4,410,5
86号は、繊維がマトリックス材料中にうめ込まれたよ
うな強化材料の複合材を作る方法を示している。この文
献には強化される材料がマトリックス中に入れられる前
にプラズマ処理をされ好ましくはその表面中にくぼみを
生成して、これにより接着性とマトリックスとの両立性
を得ることが示されている。この文献もまた本発明とは
関係がない。
US Pat. No. 4,410,5 to Ladizescky et al.
No. 86 shows a method of making a composite of reinforcing materials such that the fibers are embedded in a matrix material. It is shown in this document that the material to be strengthened is plasma treated before it is placed in the matrix, preferably creating depressions in its surface, which results in compatibility of the adhesion with the matrix. . This document is also not relevant to the present invention.

【0011】Ueno氏他の米国特許第4,637,851号
は、酸素と窒素の混合物のようなガスの雰囲気中で減圧
下に発生させた低温プラズマに当てて前処理した織物シ
ートを形成させる、プリプレグラミネートマトリックス
の調製法を開示している。この文献もまた本発明とは関
係がない。
US Pat. No. 4,637,851 to Ueno et al. Forms a pretreated textile sheet by exposing it to a low temperature plasma generated under reduced pressure in an atmosphere of a gas such as a mixture of oxygen and nitrogen. Discloses a method for preparing a prepreg laminate matrix. This document is also not relevant to the present invention.

【0012】Ueno氏他の米国特許第4,664,936号
は、また低温プラズマに当てた芳香系ポリアミド繊維の
織物材料をもとにした、樹脂含浸複合プリ−プレグ材料
を開示している。この特許はバインダーと繊維表面間の
接着結合強度は、プラズマ処理をした繊維材料をフリー
ラジカル重合により重合しうる不飽和化合物と接触させ
たとき、増大させることができると述べている。この方
法は本発明に対しある種の類似性を有しているが、本発
明の水蒸気プラズマとは均等でない酸素を使用してお
り、そして不飽和のエチレン性モノマーを使用していて
これは本発明のジエポキサイドと同等のものではない。
Ueno et al., US Pat. No. 4,664,936, also discloses resin impregnated composite prepreg materials based on woven materials of aromatic polyamide fibers exposed to low temperature plasma. The patent states that the adhesive bond strength between the binder and the fiber surface can be increased when the plasma treated fiber material is contacted with an unsaturated compound that can be polymerized by free radical polymerization. This method has certain similarities to the present invention, but uses oxygen that is not equivalent to the steam plasma of the present invention, and uses unsaturated ethylenic monomers, which It is not equivalent to the invention epoxide.

【0013】Kundiuger氏他の米国特許第4,705,7
20号は多層ラミネートに関するものである。これはポ
リイミドを示しているが本発明中に見られるような表面
を反応性とする方法は示していない。
US Pat. No. 4,705,7 to Kundiuger et al.
No. 20 relates to multilayer laminates. It shows a polyimide but does not show how to make the surface reactive as found in the present invention.

【0014】[0014]

【発明の要点】本発明は、誘電性絶縁基板として使用さ
れるポリマーの表面特性を変化させるが、その全体の性
質は未変化のままにしておく1つの手段を与えるもので
ある。本発明によれば、この方法は基板ポリマー、好ま
しくはポリイミドの表面を水蒸気プラズマに接触させる
処理の結果まずその面を官能性化させる。その後、この
水蒸気プラズマ処理をしたポリマーの反応性表面は、そ
の上にグラフト化することのできる反応性の成分と接触
させるのである。
The present invention provides one means of altering the surface properties of polymers used as dielectric insulating substrates, but leaving their overall properties unchanged. According to the invention, this method first functionalizes the surface of the substrate polymer, preferably polyimide, as a result of the treatment of contacting the surface with a steam plasma. The steam plasma treated reactive surface of the polymer is then contacted with a reactive component capable of being grafted thereon.

【0015】[0015]

【発明の具体的説明と好ましい具体例】エレクトロニッ
クパッケージング応用の際に用いるのに望ましいポリマ
ー性の材料となる安定な表面特性は、また接着強度と接
着耐久性の不充分なことおよび表面の金属化と接種する
ことができないことのために問題が存在する。この非常
に安定な表面特性は、特定の条件下に水蒸気の雰囲気中
で発生させた、低温プラズマによる処理を基板に受けさ
せて変化させることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION AND PREFERRED EMBODIMENTS Stable surface properties that make it a desirable polymeric material for use in electronic packaging applications also include insufficient bond strength and bond durability and surface metallurgy. Problems exist because of infestation and the inability to inoculate. This very stable surface property can be altered by subjecting the substrate to a treatment with a low temperature plasma generated in a water vapor atmosphere under certain conditions.

【0016】本発明の方法によれば、基板としての役目
をする誘電性絶縁ポリマーは水蒸気プラズマにさらさ
れ、この処理で基板、つまりポリマーの表面はグラフト
化反応剤による有機表面反応に感受性となり、ポリマー
表面の物理的および化学的の各特性は効果的に仕立てら
れるとともに望ましい全体的特性はそのままに維持され
る。
According to the method of the present invention, the dielectric insulating polymer serving as a substrate is exposed to a water vapor plasma, which treatment renders the substrate, ie the surface of the polymer, susceptible to organic surface reactions by the grafting reagents. The physical and chemical properties of the polymer surface are effectively tailored while maintaining the desired overall properties.

【0017】さらに詳細には、水蒸気含有のプラズマに
よる処理の後で、基板表面は水蒸気プラズマ処理中に表
面上に生成した、増加した分量のヒドロキシルおよびカ
ルボキシル官能性基を含んでいる。得られたこの反応性
の官能性基はグラフト化のサイトとして利用される。本
発明に従って用いられるグラフト化反応剤はエポキシ、
酸クロライド、イソシアネートよりなる群から選ばれた
化合物からなるものである。
More specifically, after treatment with a steam-containing plasma, the substrate surface contains increased amounts of hydroxyl and carboxyl functional groups formed on the surface during the steam plasma treatment. The resulting reactive functional groups are utilized as grafting sites. The grafting reagent used according to the invention is an epoxy,
It is composed of a compound selected from the group consisting of acid chlorides and isocyanates.

【0018】水蒸気プラズマの発生は従来から一般に知
られている。代表的にプラズマはその間にRF電場を与
えた陰極と陽極との間にガスを供給することにより発生
される。RF電場はガスを帯電と中性のフリーラジカル
粒子に解離させる。水蒸気プラズマ中で、水分子はヒド
ロキシルイオンとプロトンとに解離することができる。
本発明によれば、プラズマ処理される基板は陰極または
陽極のいずれかの上にのせる。プラズマとプラズマの発
生方法は、Encyclopedia of Chemical Technology、第
3版、の追補編中の“プラズマ技術”の表題の記事中に
詳細に述べられている。この記事中に含まれるものを参
照により本明細書中に組入れる。
Generation of water vapor plasma has been generally known in the past. Plasma is typically generated by supplying a gas between a cathode and an anode with an RF electric field therebetween. The RF electric field dissociates the gas into charged and neutral free radical particles. In the steam plasma, water molecules can dissociate into hydroxyl ions and protons.
According to the invention, the substrate to be plasma treated is placed on either the cathode or the anode. Plasmas and methods of generating plasmas are described in detail in the article entitled "Plasma Technology" in the Supplement to the Encyclopedia of Chemical Technology , Third Edition. The contents of this article are incorporated herein by reference.

【0019】さらに特定すれば、基板ポリマーはほぼ周
囲温度(20℃〜約25℃)から処理をされるポリマー
のガラス転移温度または融点までの範囲の温度で処理さ
れる。
More particularly, the substrate polymer is processed at temperatures ranging from about ambient temperature (20 ° C. to about 25 ° C.) up to the glass transition temperature or melting point of the polymer being processed.

【0020】本発明で用いるのに好ましいポリマー性材
料はポリイミドで、これは約250℃以上のガラス転移
温度を有している。本発明の方法に用いられるこの他の
操作条件には圧力が含まれ、これは高圧、すなわち約5
気圧から約10-8トルの大気圧以下の圧力、好ましくは
約50〜約300ミリトルの範囲とすることができる。
The preferred polymeric material for use in the present invention is polyimide, which has a glass transition temperature of greater than about 250 ° C. Other operating conditions used in the method of the present invention include pressure, which is high pressure, ie about 5
It can range from atmospheric pressure to sub- atmospheric pressures of about 10 -8 Torr, preferably in the range of about 50 to about 300 mTorr.

【0021】電力は直流(D.C.)、交流(A.C.)、
オーディオ周波数(A.F.)、中間的周波数(I.
F.)、ラジオ周波数(R.F.)、マイクロ波周波数の
ような各種のものとすることができる。
Electric power is direct current (DC), alternating current (AC),
Audio frequency (A.F.), intermediate frequency (I.F.)
F.), radio frequency (RF), microwave frequency, and the like.

【0022】単位面積当りの電力量である使用電力密度
は約10-3W/cm3から約1000W/cm3の範囲であ
る。電力密度は約10-2W/cm3から約101W/cm3
でが好ましい。
The used power density, which is the amount of power per unit area, is in the range of about 10 -3 W / cm 3 to about 1000 W / cm 3 . The power density is preferably from about 10 -2 W / cm 3 to about 10 1 W / cm 3 .

【0023】使用する電力はどのような電気エネルギー
源からも得られるが、特定の例は発電機である。
The power used can come from any source of electrical energy, a particular example being a generator.

【0024】水蒸気プラズマによるポリマー体の処理は
約0.1分から約1時間またはそれ以上の間の範囲に行
うことができる。
Treatment of the polymer body with steam plasma can be performed for a period of between about 0.1 minutes and about 1 hour or more.

【0025】処理の時間は温度、圧力および電力を含む
その他の操作条件に依存し、そしてこの時間はポリマー
の表面がグラフト化する化合物に充分に反応性であるヒ
ドロキシルおよびカルボキシル官能性基を十分にもつよ
うになるまで、ポリマーの表面を処理する時間とされ
る。
The time of treatment depends on other operating conditions, including temperature, pressure and power, and this time the surface of the polymer is sufficiently reactive with hydroxyl and carboxyl functional groups to be grafted to the compound to be grafted. It is the time to treat the surface of the polymer until it becomes viscous.

【0026】本発明の範囲内において、グラフト化反応
剤の反応はポリマー体の表面を水蒸気プラズマによって
処理した後の、比較的短時間内にすることが意図されて
いる。必要なれば、プラズマ処理したポリマーはほぼ8
日またはさらに長い時間大気にさらして保存することが
できる。
Within the scope of the present invention, it is contemplated that the reaction of the grafting reactant will occur within a relatively short period of time after treating the surface of the polymer body with the steam plasma. If necessary, plasma treated polymer is approximately 8
It can be stored exposed to the atmosphere for days or longer.

【0027】本発明の方法は開放または密閉系のいずれ
かで行うことができる。たとえば、密閉系が用いられる
とき、処理されるポリマー材料は密閉した室内に置かれ
水蒸気はこの室中に通じられる。この部屋は温度と圧力
を所定の操作条件に保たれ、この条件は前記したとおり
である。そこでこの部屋の2つの電極間に高電圧の電場
をかける。放電が始まりイオン、フリーラジカルおよび
不安定なガス種とからなる水蒸気プラズマが得られる。
このプラズマを所定の時間ポリマーの表面に接触させて
処理をし、これによりポリマー表面は変成をうけてヒド
ロキシルとカルボキシル基とが形成される。反応時間の
終りに電力を断ち、処理済みのポリマーをとり出すので
ある。
The method of the present invention can be carried out in either an open or closed system. For example, when a closed system is used, the polymeric material to be treated is placed in a closed chamber and water vapor is passed into this chamber. The temperature and pressure of this room are maintained under predetermined operating conditions, which are as described above. Therefore, a high voltage electric field is applied between the two electrodes in this room. A discharge begins and a water vapor plasma consisting of ions, free radicals and unstable gas species is obtained.
The plasma is contacted with the surface of the polymer for a predetermined time for treatment, whereby the surface of the polymer is modified to form hydroxyl and carboxyl groups. At the end of the reaction time, the power is turned off and the treated polymer is removed.

【0028】本発明の範囲内においてはポリマーの水蒸
気プラズマ処理を開放系中で行うことも意図されてお
り、ここで処理をされるポリマーは2つの電極間の電場
中に置いて電場に当て、この間水蒸気をこのポリマー体
の表面上に通して接触をさせ、このポリマーは所定の操
作温度に維持される。所定の時間開放系中でポリマーを
処理した後、このヒドロキシル基とカルボキシル基とを
含んだポリマーは以下に示す反応性成分との反応の準備
が整ったことになる。
It is also contemplated within the scope of the present invention to carry out the steam plasma treatment of the polymer in an open system, wherein the polymer to be treated is placed in an electric field between two electrodes and exposed to the electric field. During this time water vapor is passed over the surface of the polymer to make contact and the polymer is maintained at the desired operating temperature. After treating the polymer in the open system for a predetermined time, the polymer containing hydroxyl groups and carboxyl groups is ready for reaction with the reactive components shown below.

【0029】好ましいポリマーは以下のものの中から選
ばれる:ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リシロキサン、フェノール樹脂、ポリサルファイド、ポ
リアセタール、ポリエチレン、ポリイソブチレン、ポリ
アクリロニトリル、ポリビニルクロライド、ポリスチレ
ン、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルアセテー
ト、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイソプレン、ポ
リカーボネート、ポリエーテル、ポリイミド、ポリベン
ズイミダゾール、ポリベンズオキサゾール、ポリベンゾ
チアゾール、ポリオキサジアゾール、ポリトリアゾー
ル、ポリキノキザリン、ポリイミダゾピロロンおよび芳
香族成分とビニルおよびシクロブタン基から選ばれた成
分とのコポリマーで、ここでこの芳香族成分とビニルお
よびシクロブタングループとは、Babich氏他の1989
年6月13日付出願の米国特許出願第07/366,0
89号、「Ga充填材が埋め込まれた誘電性構造体、高
温安定性のRIEエッチング停止ポリマー材料」中で述
べられているように、Si、Ge、Ti、ZuおよびF
eなどの群の少なくとも1つを含むものであり、この開
示を参照によって本明細書中に組入れる。
Preferred polymers are selected from the following: polyamides, polyesters, polyurethanes, polysiloxanes, phenolic resins, polysulfides, polyacetals, polyethylenes, polyisobutylenes, polyacrylonitriles, polyvinyl chlorides, polystyrenes, polymethylmethacrylates, polyvinylacetates. , Polytetrafluoroethylene, Polyisoprene, Polycarbonate, Polyether, Polyimide, Polybenzimidazole, Polybenzoxazole, Polybenzothiazole, Polyoxadiazole, Polytriazole, Polyquinoxalin, Polyimidazopyrrolone and aromatic components and vinyl and cyclobutane groups A copolymer with a component selected from the aromatic component and vinyl and cyclobutane. The over-flops, Babich said other 1989
US patent application Ser. No. 07 / 366,0 filed June 13, 2014
89, "Ga Filled Embedded Dielectric Structures, High Temperature Stable RIE Etch Stop Polymer Materials", Si, Ge, Ti, Zu and F.
including at least one of the groups such as e, the disclosure of which is incorporated herein by reference.

【0030】本発明により処理されるより好ましいポリ
マーはポリ芳香族ポリマーである。
The more preferred polymers treated according to the present invention are polyaromatic polymers.

【0031】さらに好ましいポリマーは高いガラス転移
点温度をもつポリ芳香族ポリマーである。
Further preferred polymers are polyaromatic polymers having a high glass transition temperature.

【0032】もっとも好ましいポリマーはポリイミド型
のポリマーである。ポリイミドポリマーはEncyclopedia
of Chemical Technology、第3版の第18巻、第70
4頁の“ポリイミド”と題する論文中に述べられてお
り、この記述の参照によって本明細書中に組入れる。
The most preferred polymer is a polyimide type polymer. Polyimide polymer is Encyclopedia
of Chemical Technology , 3rd Ed., Vol. 18, 70
It is described in the article entitled "Polyimide" on page 4 and is incorporated herein by reference for this description.

【0033】一般に、ポリイミドは以下の式のくり返し
単位を含み、ここでnは普通約10,000〜約100,
000の分子量を与えるためのくり返し単位の数を示す
整数である。
Generally, polyimides contain repeating units of the formula: where n is usually about 10,000 to about 100,
It is an integer indicating the number of repeating units for giving a molecular weight of 000.

【化1】 [Chemical 1]

【0034】Rは以下の式で示されるものの群から選ば
れた少なくとも1つの4価の有機基である:
R is at least one tetravalent organic group selected from the group of those represented by the formula:

【化2】 [Chemical 2]

【0035】R2はC1〜C4の脂肪族炭化水素の2価の
残基およびカルボニル、オキシ、スルホ、サルファイ
ド、エーテル、シロキサン、ホスフィンオキサイド、ヘ
キサフルオロイオイソプロピリデンとスルホニル基など
よりなる群から選ばれるものであり、
R 2 is a group consisting of a divalent residue of a C 1 to C 4 aliphatic hydrocarbon, carbonyl, oxy, sulfo, sulfide, ether, siloxane, phosphine oxide, hexafluoroioisopropylidene and a sulfonyl group. Is selected from

【0036】R1は脂肪族の有機基または以下の式で示
されるものよりなる群から選ばれる少なくとも1つの2
価の基であり、ここでR3はR2、シリコおよびアミノ基
よりなる群から選ばれる2価の有機基である。2個また
はそれ以上のRおよび/またはR1基を含むコポリマー
を使用することもできる。
R 1 is at least one selected from the group consisting of aliphatic organic groups and those represented by the following formula:
Is a valent group, wherein R 3 is a divalent organic group selected from the group consisting of R 2 , silico and amino groups. Copolymers containing two or more R and / or R 1 groups can also be used.

【化3】 [Chemical 3]

【0037】ポリイミドは各種の供給者から次の3つの
形態の1つで商業的に入手することができる:a)ポリ
アミド酸前駆体の溶液として(たとえば、デュポン社の
ピラリン);b)プレ−イミド化したポリイミド形態で
(たとえば、デュポン社のカプトンフィルム);もしく
はc)プレ−イミド化した粉末として(たとえば、チバ
−ガイギー社のマトリミッド5218)または溶液で
(たとえば、チバ−ガイギー社のプロブイミド)、市販
ポリイミドの化学性は前記した各成分の多くのものに含
まれるが、本発明に従って用いられる好ましいポリマー
は、ピロメリト酸ジ無水物(PMDA)とオキシジアニ
リン(ODA、また4,4′−ジアミノジフェニルエー
テルとも呼ばれる)の両モノマーをもとにしたものであ
る。本発明に従って用いるのに好ましい別のポリマーは
ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物(BTDA)
とODAおよび/または1,3−フェニレンジアミンお
よび3,3′−ビフェニレンジアミン(PDA)のポリ
マーとのポリマーである。
Polyimides are commercially available from various suppliers in one of three forms: a) as a solution of a polyamic acid precursor (eg DuPont Pyralin); b) pre-. In imidized polyimide form (eg DuPont Kapton film); or c) as pre-imidized powder (eg Ciba-Geigy Matrimid 5218) or in solution (eg Ciba-Geigy probimide). Although the chemistries of commercially available polyimides are included in many of the above components, the preferred polymers used in accordance with the present invention are pyromellitic dianhydride (PMDA) and oxydianiline (ODA, also 4,4'-). (Also called diaminodiphenyl ether) based on both monomers. Another polymer preferred for use in accordance with the present invention is benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA).
And a polymer of ODA and / or 1,3-phenylenediamine and 3,3′-biphenylenediamine (PDA).

【0038】PMDA−ODAをもとにしたポリイミド
フィルムはアライド社からアピカルの商標名のもとに、
デュポン社からはカプトンの商標名の下に入手すること
ができる。ビフェニルジアンヒドライド−フェニレンジ
アミン(BPDA−PDA)をもとにしたフィルムはウ
ベ社からユピレックスとしてまたヒタチ社からはPIQ
−L100として入手することができる。本発明に従っ
て有用なポリイミドのこの他のものの商品名にはロジャ
ース社からのデュルイミドと、デュポン社の次のピラリ
ンシリーズが含まれる、PI−2545、PI−254
0、PI−2555、PI−2556、PI−256
3、PI−2560、PI−2525、PI−257
0、PI−2566、PI−2575、PI−257
6、PI−2574、PI−2580、PI−270
1、PI−2702、PI−2703、PI−2610
およびPI−2611である。
Polyimide film based on PMDA-ODA is manufactured by Allied Company under the trademark Apical ,
It is available from DuPont under the Kapton trademark. Films based on biphenyldianhydride-phenylenediamine (BPDA-PDA) are available as Upyrex from Ube and PIQ from Hitachi.
-Available as L100 . Other trade names for polyimides useful in accordance with the present invention include Durimide from Rogers and the following Pyralin series from DuPont: PI-2545, PI-254.
0, PI-2555, PI-2556, PI-256
3, PI-2560, PI-2525, PI-257
0, PI-2566, PI-2575, PI-257
6, PI-2574, PI-2580, PI-270
1, PI-2702, PI-2703, PI-2610
And PI-2611.

【0039】ポリマー基板は水蒸気プラズマ処理をした
後、酸クロライド、エポキシ、イソシアネートよりなる
群から選ばれた化合物と接触させる。ジグリシジル化合
物がエポキシの好ましい具体的なものである。
The polymer substrate is subjected to steam plasma treatment and then brought into contact with a compound selected from the group consisting of acid chloride, epoxy and isocyanate. Diglycidyl compounds are preferred specific examples of epoxies.

【0040】前記の化合物による反応が、甚だ反応性で
あると記載された化合物とポリマー表面とで進行するの
に必要な要因は特にはない。
There is no particular factor necessary for the reaction with the compound described above to proceed between the compound described as being extremely reactive and the polymer surface.

【0041】本発明に従って利用することのできる適当
な酸クロライドはどのような酸クロライドでも良く、特
にマロニルジクロライド、同様にパラ(シアノ)ベンゾ
イルクロライドとパラ(トリフルオロメチル)ベンゾイ
ルクロライドである。
Suitable acid chlorides which can be utilized according to the invention are any acid chlorides, especially malonyl dichloride, as well as para (cyano) benzoyl chloride and para (trifluoromethyl) benzoyl chloride.

【0042】最初の水蒸気プラズマ処理の後基板表面に
エポキシ樹脂がグラフト化されるとき、これはアミンの
ような触媒の存在下に、適当な無水物反応剤によりエポ
キシを架橋化するようにされる。反応をさせるのに適し
た無水物はナジック酸メチル無水物、ヘキサヒドロフタ
ル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、フタ
ル酸無水物、マレイン酸無水物、ノネニルコハク酸無水
物およびコハク酸無水物などである。
When the epoxy resin is grafted to the substrate surface after the initial steam plasma treatment, it is allowed to crosslink the epoxy with a suitable anhydride reactant in the presence of a catalyst such as an amine. . Suitable anhydrides for the reaction include methyl nadic acid anhydride, hexahydrophthalic acid anhydride, methyltetrahydrophthalic acid anhydride, phthalic acid anhydride, maleic acid anhydride, nonenylsuccinic acid anhydride and succinic acid anhydride. Is.

【0043】基板表面上にグラフト化されるジグリシジ
ルエーテル化合物は、引き続くグラフト反応を進める際
の中間体として使用される。これはその特性と特徴とを
もつ所望の表面層を事実上生成させるとともに、グラフ
ト化が達成される材料の全体の性質をそのままに残すこ
とを可能とする。
The diglycidyl ether compound grafted on the surface of the substrate is used as an intermediate in the subsequent graft reaction. This makes it possible to virtually produce the desired surface layer with its properties and characteristics, while leaving the overall properties of the material on which the grafting is achieved.

【0044】好ましいイソシアネート反応剤は2,4−
トリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−フェニ
ル−イソシアネート)およびポリメチレンポリフェニル
イソシアネートである。この化合物は−OH基と反応し
てポリマー基板の表面上にウレタンを形成する、例え
ば: n(HO-R-OH) + n(OCN-R′-NCO) → HO-(R-OCONH-R′-HNCO-O)n-1-R-OCONH-R′NCO
The preferred isocyanate reactant is 2,4-
Tolylene diisocyanate, methylene bis (4-phenyl-isocyanate) and polymethylene polyphenyl isocyanate. This compound reacts with -OH groups to form urethane on the surface of the polymer substrate, eg: n (HO-R-OH) + n (OCN-R'-NCO) → HO- (R-OCONH-R ′ -HNCO-O) n-1 -R-OCONH-R′NCO

【0045】−COOHおよび−NH2同じくH2Oのよ
うな各種の反応性基に対するイソシアネート基の反応性
のため基板の表面上でポリマー化が起る。
Polymerization occurs on the surface of the substrate due to the reactivity of the isocyanate groups with various reactive groups such as --COOH and --NH 2 as well as H 2 O.

【0046】たとえば水はイソシアネートと反応してC
2とアミンとを生成する。 R−NCO + H2O → RNH2 + CO2 このアミンはイソシアネートグループとさらに反応す
る。 RNH2 + R′−NCO → R−NH−CO−NH−
R′
For example, water reacts with isocyanate to react with C
It produces O 2 and an amine. R-NCO + H 2 O → RNH 2 + CO 2 This amine further reacts with the isocyanate group. RNH 2 + R'-NCO → R-NH-CO-NH-
R '

【0047】また2量化してカルボジイミドとなり: 2R−NCO → R−N=C=N−R + CO2 そして3量化して:Also dimerized to a carbodiimide: 2R-NCO → RN = C = NR + CO 2 and then trimerized:

【化4】 同様にその他各種の副反応が生じるのである。[Chemical 4] Similarly, various other side reactions occur.

【0048】本発明に従って使用するのに適した化合物
は本質的にプレポリマー類であり、これらは水蒸気プラ
ズマ処理をした基板の反応性表面と反応し、通常触媒ま
たは別の反応剤の添加により、第2ステップの重合をす
ることのできる反応生成物を形成するようなものであ
る。
The compounds suitable for use in accordance with the present invention are essentially prepolymers, which react with the reactive surface of the steam plasma treated substrate, usually by addition of a catalyst or another reactant, It is like forming a reaction product that can undergo the second step polymerization.

【0049】このプレポリマーはストラクトセット(st
ructoset)プレポリマーといわれている。この第2ステ
ップの反応は普通第1ステップの反応とは異なるもので
ある。これらのポリマーは一般に重合と架橋化反応によ
り大きなコントロールを与え、また非常に重要なことに
生成物の構造へのコントロールを与えることから、基板
表面上の塗膜として高度の利点をもつ。
This prepolymer is a struct set (st
ructoset) It is said to be a prepolymer. This second step reaction is usually different from the first step reaction. These polymers generally have greater control over the polymerization and cross-linking reactions and, very importantly, control over the structure of the product, and therefore have a high degree of advantage as coatings on the surface of substrates.

【0050】ストラクトセットプレポリマーは個々のケ
ースに応じて各種の官能性基をもつ低分子量はポリマー
である。もし官能性基がポリマー鎖の末端に位置するな
らば、このプレポリマーはストラクトターミナル(stru
ctoterminal)プレポリマーといわれている。官能性基
がポリマー鎖に沿って位置しているとき、このプレポリ
マーはストラクトペンダント(structopendant)プレポ
リマーである。ストラクトセットプレポリマーの反応
は、プレポリマーを官能性基をもつ反応剤として単純化
して考えることにより、ゲル化に対する統計的なアプロ
ーチで処理することができる。
Structset prepolymers are low molecular weight polymers with various functional groups depending on the individual case. If the functional group is located at the end of the polymer chain, this prepolymer is a struct terminal (stru
ctoterminal) It is said to be a prepolymer. When the functional groups are located along the polymer chain, this prepolymer is a structopendant prepolymer. The reaction of the struct set prepolymer can be treated with a statistical approach to gelation by simply considering the prepolymer as a functionalized reactive agent.

【0051】本発明により用いることのできるプレポリ
マーには2つの主なクラスのものがある。これらはジオ
ールプレポリマーとエポキシプレポリマーである。
There are two main classes of prepolymers that can be used according to the present invention. These are diol prepolymers and epoxy prepolymers.

【0052】ヒドロキシル末端のストラクトターミナル
ポリエーテル(H−OR−OH)nとポリエステルH−
(OCOR′COOR)n−OHとは、ポリウレタン技
術においてプレポリマーとしてもっぱら使用されてい
る。ポリエーテルはエチレンとプロピレンオキサイドか
ら普通合成され、またポリエステルは過剰のジオールの
存在下に2塩基酸から合成される。
Hydroxyl-terminated structual terminal polyether (H-OR-OH) n and polyester H-
(OCOR'COOR) n- OH is used exclusively as a prepolymer in polyurethane technology. Polyethers are commonly synthesized from ethylene and propylene oxide, and polyesters are synthesized from dibasic acids in the presence of excess diol.

【0053】これらのヒドロキシル末端プレポリマーは
過剰のジイソシアネートと反応してイソシアネート末端
ポリマーを生じる、たとえば:
These hydroxyl-terminated prepolymers react with excess diisocyanate to give isocyanate-terminated polymers, for example:

【化5】 これはついで各種の方式で架橋化することができる。こ
れらのイソシアネート末端プレポリマーは水蒸気プラズ
マ処理をした表面と直接的に反応することができる。
[Chemical 5] It can then be crosslinked in various ways. These isocyanate terminated prepolymers can react directly with steam plasma treated surfaces.

【0054】[0054]

【化6】 このようにジアミンの添加はイソシアネート末端基との
反応により尿素結合を形成し、これはつぎにビウレット
結合を形成して架橋化する。
[Chemical 6] Thus the addition of the diamine forms a urea bond by reaction with the isocyanate end groups, which in turn forms a biuret bond and crosslinks.

【0055】エポキシプレポリマーは通常2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノール
Aといわれる)とエピクロヒドリンとから形成される。
Epoxy prepolymers are usually formed from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (called bisphenol A) and epiclohydrin.

【化7】 [Chemical 7]

【0056】これらは架橋化がエポキシ末端基を通じて
かまたはヒドロキシル基を通じて生ずるかのいずれかに
より、ストラクトターミナルまたはストラクトペンダン
トプレポリマーと見なされる。すなわち、架橋化剤とし
て無水物(F−2)を用いたとき架橋化はヒドロキシル
基を通じて主に生じ、そしてエポキシプレポリマーはス
トラクトペンダントプレポリマーと見なされる。
These are considered tract terminals or struct pendant prepolymers either because the cross-linking occurs through the epoxy end groups or through the hydroxyl groups. That is, when using anhydride (F-2) as the cross-linking agent, cross-linking occurs predominantly through the hydroxyl groups, and the epoxy prepolymer is considered a struct pendant prepolymer.

【化8】 硬化剤としてフタル酸無水物がしばしば用いられるが、
マレイン酸無水物およびピロメリト酸無水物を含む別の
無水物および前記のその他の無水物も特別の応用の際に
は使用することができる。
[Chemical 8] Phthalic anhydride is often used as a curing agent,
Other anhydrides, including maleic anhydride and pyromellitic anhydride, and the other anhydrides mentioned above may also be used in particular applications.

【0057】ポリアミンが架橋化のため用いられると
き、このプレポリマーはストラクトターミナルプレポリ
マーである。この場合架橋化にはエポキシ基の塩基−接
触開環が含まれる。
When a polyamine is used for cross-linking, this prepolymer is a struct terminal prepolymer. Crosslinking in this case involves base-catalyzed ring opening of the epoxy groups.

【化9】 第1級と第2級アミンとの両方が架橋化剤として用いら
れる。各N−H結合がこの工程において反応性であるか
ら、第1級と第2級アミン官能性基はそれぞれ2および
1に等しい官能性値(F)を有している。エチレントリ
アミン(F=5)、トリエチレンテトラミン(F=6)
およびm−フェニレンジアミン(F=4)を含む各種の
アミンが架橋化剤として使用される。エポキサイド基に
よる架橋化は開始剤として第3級アミンを使用する開環
重合によっても達成される。
[Chemical 9] Both primary and secondary amines are used as crosslinkers. Since each N-H bond is reactive in this step, the primary and secondary amine functional groups have a functionality value (F) equal to 2 and 1, respectively. Ethylenetriamine (F = 5), Triethylenetetramine (F = 6)
Various amines are used as cross-linking agents, including and m-phenylenediamine (F = 4). Crosslinking with epoxide groups is also achieved by ring opening polymerization using tertiary amines as initiators.

【0058】処理をされたポリマー表面について反応性
化合物として使用するのに適したその他のエポキシ化合
物は:
Other epoxy compounds suitable for use as reactive compounds on the treated polymer surface are:

【化10】 ここでnの平均値は約0.2〜1.6間であり、またエポ
キシ官能性値は約2.2〜3.6間である;
[Chemical 10] Where the average value of n is between about 0.2 and 1.6 and the epoxy functionality value is between about 2.2 and 3.6;

【化11】 約3.0の理論的官能性値を有している;[Chemical 11] It has a theoretical functionality value of about 3.0;

【化12】 ここでnの平均値は約0.7〜3.4間であり、またエポ
キシ官能性値は約2.7〜5.4間である;次の式を有す
る脂環ジエポキシカルボキシレート、などである。
[Chemical 12] Here, the average value of n is between about 0.7 and 3.4, and the epoxy functionality value is between about 2.7 and 5.4; a cycloaliphatic diepoxycarboxylate having the formula: Is.

【化13】 [Chemical 13]

【0059】また1,4−ブタンジオールジグリシジル
エーテル、トリグリシジルイソシアヌレートおよびN,
N,N′,N′−テトラグリシジル−4,4′−メチレン
ビスベンゼンアミンも好適である。
Further, 1,4-butanediol diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate and N,
N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-methylenebisbenzenamine is also suitable.

【0060】本発明に有用なこの他の適当なエポキシ化
合物は、LeeとNeville両氏のHandbook of Epoxy Resiu
s、マグロウヒル社、1982年刊、中に示されてお
り、この内容の参照によって本明細書中に組入れる。こ
こに記載されているこのような化合物の利用を支配する
唯一の条件は、これらが水蒸気プラズマ処理された表面
に反応性であることである。
Other suitable epoxidations useful in the present invention
The combination of Lee and NevilleHandbook of Epoxy Resiu
s, McGraw-Hill, 1982, shown in
Incorporated herein by reference. This
Governs the use of such compounds described herein
The only condition is that these are steam plasma treated surfaces
Is to be reactive with.

【0061】以下の各実施例は本発明方法を例証するも
のである。
The following examples illustrate the method of the present invention.

【0062】実施例1 この実施例は本発明による基板の処理方法を説明する。
液体蒸気導入用のMKS型1150A−SP003−8
8マスフロー(Massflow)メーターをプラズマ室にとり
付けた。このマニホールドは液体受器と調整リーク弁と
から構成されている。強制停止弁がプラズマ室からこの
マニホールド全体を隔離している。このマニホールドは
市販の加熱テープで包み、そして温度を可変トランスに
より制御した。
Example 1 This example illustrates a method of treating a substrate according to the present invention.
MKS type 1150A-SP003-8 for introducing liquid vapor
An 8 Massflow meter was attached to the plasma chamber. This manifold consists of a liquid receiver and a regulating leak valve. A forced stop valve isolates the entire manifold from the plasma chamber. The manifold was wrapped with commercially available heating tape and the temperature was controlled by a variable transformer.

【0063】代表的のプラズマ操作条件は:基礎圧力=
0.1〜1μトル、電極温度約25℃、プラズマ圧力約
100〜300mトルそしてRF出力約50Wである。
Typical plasma operating conditions are: Base pressure =
0.1-1 μtorr, electrode temperature about 25 ° C., plasma pressure about 100-300 mTorr, and RF output about 50 W.

【0064】水蒸気プラズマ処理に際しての表面の変化
を検証する試みのため、ポリスチレン(平均分子量=
4,400,000,PDI=1.06)を水蒸気プラズ
マ処理しかつ試験をした。固着−液滴法を用いた水の接
触角測定(前進角0.05ml、後退角0.025ml)は、
プラズマ処理に際しての著しい変化を明示させた。無処
理ポリスチレンの接触角は前進90°そして後退80°
であると測定された。水蒸気プラズマ処理をしたポリス
チレンの接触角は前進角が3°後退角は1°以下である
と測定された。初期の厚み400Aから90Aの最終厚
みにまで低下するよう、水蒸気プラズマ中でエッチング
したポリスチレンフィルムの透過FTIR分光測定は、
プラズマに当てる前には存在しなかった1000cm-1
1750cm-1の新しいバンドが示された。このことは表
面のヒドロキシル化/カルボキシル化という考えと一致
する。従って、プラズマ処理後に基板はさらに反応をす
ることのできる反応性のサイトを与えるものである。
In an attempt to verify the change of the surface during the steam plasma treatment, polystyrene (average molecular weight =
4,400,000, PDI = 1.06) was steam plasma treated and tested. The contact angle measurement of water using the stick-drop method (advancing angle 0.05 ml, receding angle 0.025 ml)
A remarkable change in the plasma treatment was clarified. The contact angles of untreated polystyrene are 90 ° advancing and 80 ° receding.
Was measured. The contact angle of polystyrene treated with steam plasma was measured to have an advancing angle of 3 ° and a receding angle of 1 ° or less. Transmission FTIR spectroscopy of polystyrene film etched in steam plasma to reduce the initial thickness from 400 A to a final thickness of 90 A
A new band of 1000cm -1 and 1750cm -1 that did not exist prior to exposure to the plasma has been shown. This is consistent with the idea of surface hydroxylation / carboxylation. Thus, after plasma treatment the substrate provides reactive sites that can be further reacted.

【0065】実施例2 PMDA−ODAポリイミドシートを調製し、そして水
蒸気プラズマにより実施例1で示したように処理をし
た。水蒸気プラズマによる基板の処理に続いて、その表
面上の有効な複数のグラフト化サイトを測定した。基板
をプラズマ室からとり出し、いくつかの小片に切り分
け、そして各片を以下の各化合物の1つと接触させた:
エポキシ、酸クロライド(マロニルジクロライド)、イ
ソシアネートおよびジグリシジルエポキシ化合物であ
る。
Example 2 A PMDA-ODA polyimide sheet was prepared and treated as described in Example 1 with steam plasma. Following treatment of the substrate with steam plasma, the number of available grafting sites on the surface was measured. The substrate was removed from the plasma chamber, cut into several pieces, and each piece was contacted with one of the following compounds:
Epoxy, acid chloride (malonyl dichloride), isocyanate and diglycidyl epoxy compounds.

【0066】各例における効果的なグラフト化は固着−
水滴接触角の変化を観測することにより示される。水蒸
気プラズマ処理の後、水の接触角は19.5°±0.6°
(前進角,50μl)と3.5°±0.6°(後退角,2
5μl)である。この表面とマロニルジクロライドとの
反応後、この角度はそれぞれ62°±2°と41°±2
°であった。
Effective grafting in each case is fixation-
It is shown by observing the change in water droplet contact angle. After the steam plasma treatment, the contact angle of water is 19.5 ° ± 0.6 °
(Forward angle, 50 μl) and 3.5 ° ± 0.6 ° (receding angle, 2
5 μl). After reaction of this surface with malonyl dichloride, the angles were 62 ° ± 2 ° and 41 ° ± 2, respectively.
It was °.

【0067】実施例3 前の実施例2で示した基板と方法とをくり返した。表面
の反応性をさらに立証するため、固着−水滴接触角評価
に際しクロロトリメチルシラン試薬を使用した。ドラフ
ト後の水接触角66°±4°(前進角,50μl)と3
9°±3°(後退角,25μl)はグラフト化がうまく
いったことを示している。このことはシリコンのピーク
を101.1eDでグラフトした後の外観とXPSとで
も確認された。
Example 3 The substrate and method described in Example 2 above was repeated. To further demonstrate the surface reactivity, the chlorotrimethylsilane reagent was used in the stick-water drop contact angle evaluation. Water contact angle 66 ° ± 4 ° (advance angle, 50 μl) after draft and 3
9 ° ± 3 ° (receding angle, 25 μl) indicates successful grafting. This was confirmed by the appearance and XPS after the silicon peak was grafted with 101.1 eD.

【0068】実施例4 グラフト化反応剤として4−シアノベンゾイルクロライ
ドを使用したことの他は、前の実施例2で示した基板と
方法とを続行した。好結果のグラフト化は接触角とXP
Sとで確められた。
Example 4 The substrate and method set forth in Example 2 above was followed, except that 4-cyanobenzoyl chloride was used as the grafting reagent. Successful grafting depends on contact angle and XP
Confirmed with S.

【0069】実施例5 グラフト化反応剤として4−(トリフルオロメチル)ベ
ンゾイルクロライドを使用したことの他は、前の実施例
2で示した基板と方法とを続行した。好結果のグラフト
化は接触角とXPSとで確められた。
Example 5 The substrate and method set forth in Example 2 above was followed, except that 4- (trifluoromethyl) benzoyl chloride was used as the grafting reagent. Successful grafting was confirmed by contact angle and XPS.

【0070】実施例6 実施例2で詳述したポリイミドシートの水蒸気プラズマ
処理を続けた。酸クロライドを用いる代わりに、メチル
イソブチルケトン中に溶解したジグリシジルエーテル
(ダウD.E.R.667−ビスフェノールAタイプ樹
脂、エポキシ当量1600〜2000)を、解媒として
N,N−ジメチルベンジルアミンを使用して水蒸気プラ
ズマ処理面に反応させた。好結果のグラフト化は目視観
察により認められ、そして接触角の測定によってもまた
パラジウム接種をして通常の無電解銅メッキ浴を使用す
る銅メッキの所見によっても確認された。
Example 6 The steam plasma treatment of the polyimide sheet detailed in Example 2 was continued. Instead of using acid chloride, diglycidyl ether (Dow DER 667-bisphenol A type resin, epoxy equivalent 1600 to 2000) dissolved in methyl isobutyl ketone was used as a solvent for N, N-dimethylbenzylamine. Was used to react with the steam plasma treated surface. Successful grafting was noted by visual observation and was also confirmed by contact angle measurements and by copper plating using a conventional electroless copper plating bath with palladium inoculation.

【0071】ポリイミド表面上のエポキシ層は、望まし
いポリイミドの諸特性をもつ基板を生じると同時にエポ
キシポリマーの能力をも与え、これはHorkans氏他、Ele
ctrochem. Soc. 134, 300(1987)およびKim氏他、IBM, R
es. Rev., 28, 697(1984) 中に示されているのと同じ方
式で無電解銅沈着に対して活性化させるのである。
The epoxy layer on the polyimide surface provides a substrate with desirable polyimide properties while at the same time providing the capability of an epoxy polymer, which Horkans et al., Ele.
ctrochem. Soc. 134 , 300 (1987) and Kim et al., IBM, R
It is activated for electroless copper deposition in the same manner as shown in es. Rev. , 28 , 697 (1984).

【0072】実施例7 実施例6で調製した材料を使用し、エポキシ樹脂を含有
する表面を触媒としてN,N−ジメチルベンジルアミン
を用いナジック酸メチル無水物をこれと反応させること
により架橋化した。
Example 7 The material prepared in Example 6 was used and crosslinked by reacting methyl nadic acid anhydride with N, N-dimethylbenzylamine catalyzed on a surface containing epoxy resin. .

【0073】前記実施例で調製したエポキシ面をもつポ
リイミドの連鎖分岐化は、ポリイミドの優れた全体的特
性に組み合わされたエポキシの表面的特性を有する製品
を与え、どのようなエポキシをベースとする方法によっ
ても透明性をもって施行できる製造方式で、高性能のポ
リイミドベースの2次レベルパッケージの製作ができる
ようにするものである。
Chain branching of the epoxy-faced polyimides prepared in the above examples gives products with epoxy surface properties combined with the excellent overall properties of polyimides, and based on what epoxy it is. It is a manufacturing method that can be implemented transparently depending on the method, and enables the production of a high-performance polyimide-based secondary level package.

【0074】以上、本発明を詳細に説明したが、本発明
はさらに次の実施態様によってこれを要約して示すこと
ができる。 1) 誘電体ポリマーを水蒸気プラズマにさらしてその
表面上に反応性のサイトを形成させ;前記の処理をした
誘電体ポリマー表面を前記反応性のサイトと反応するこ
とのできる物質と接触させ、その上に前記物質をグラフ
ト化しそして反応生成物を形成させることからなる誘電
体ポリマーの処理方法。 2) 前記物質はエポキシ化合物、酸クロライド、イソ
シアネートまたは前記のもののプレポリマーよりなる群
から選ばれるものである、前項1に記載の方法。 3) 誘電体ポリマーはポリアミド、ポリエステル、ポ
リウレタン、ポリシロキサン、フェノール樹脂、ポリサ
ルファイド、ポリアセタール、ポリエチレン、ポリイソ
ブチレン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルクロライ
ド、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
ビニルアセテート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ
イソプレン、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリイ
ミド、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾー
ル、ポリベンゾチアゾール、ポリオキシジアゾール、ポ
リトリアゾール、ポリキノキサリン、ポリイミダゾピロ
ロンおよび芳香族成分とビニルおよびシクロブタン基か
ら選ばれた成分とを含むコポリマーで、この成分がS
i、Ge、Ti、ZnおよびFeの少なくとも1つを含
むものである、よりなる群から選ばれるものである、前
項2に記載の方法。
The present invention has been described in detail above, but the present invention can be summarized and shown by the following embodiments. 1) exposing the dielectric polymer to water vapor plasma to form reactive sites on its surface; contacting the treated dielectric polymer surface with a substance capable of reacting with said reactive sites, A method of treating a dielectric polymer comprising grafting the material onto and forming a reaction product thereon. 2) The method according to item 1, wherein the substance is selected from the group consisting of an epoxy compound, an acid chloride, an isocyanate or a prepolymer of the above. 3) Dielectric polymer is polyamide, polyester, polyurethane, polysiloxane, phenol resin, polysulfide, polyacetal, polyethylene, polyisobutylene, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polystyrene, polymethylmethacrylate, polyvinyl acetate, polytetrafluoroethylene, polyisoprene. , Polycarbonate, polyether, polyimide, polybenzimidazole, polybenzoxazole, polybenzothiazole, polyoxydiazole, polytriazole, polyquinoxaline, polyimidazopyrrolone and aromatic components and components selected from vinyl and cyclobutane groups. A copolymer containing, where the component is S
The method according to item 2 above, wherein the method is selected from the group consisting of i, Ge, Ti, Zn, and Fe.

【0075】4) 誘電体ポリマーがポリ芳香族ポリマ
ーである、前項2に記載の方法。 5) ポリ芳香族ポリマーは約250℃以上のガラス転
移点温度をもつものである、前項4に記載の方法。 6) 誘電体ポリマーがポリイミドである、前項3に記
載の方法。 7) 前記の水蒸気を含むプラズマが、ほぼ周囲温度か
ら処理されるポリマー体のほぼガラス転移点温度までの
温度で、約10-3W/cm3〜約1000W/cm3の電力の
電場中で、約10-6〜約5気圧の範囲の圧力下に、約
0.1分から約1時間の範囲の間に発生されるものであ
る、前項3に記載の方法。 8) 物質がエポキシ樹脂である前項7に記載の方法。 9) エポキシ樹脂がジグリシジルエーテルである、前
項8に記載の方法。
4) The method according to item 2 above, wherein the dielectric polymer is a polyaromatic polymer. 5) The method according to item 4 above, wherein the polyaromatic polymer has a glass transition temperature of about 250 ° C. or higher. 6) The method according to the above item 3, wherein the dielectric polymer is polyimide. 7) The water vapor-containing plasma is at an electric field of about 10 -3 W / cm 3 to about 1000 W / cm 3 at a temperature from about ambient temperature to about the glass transition temperature of the polymer body to be treated. The method according to the preceding paragraph 3, which is generated under a pressure in the range of about 10 −6 to about 5 atm for a period of about 0.1 minutes to about 1 hour. 8) The method according to item 7, wherein the substance is an epoxy resin. 9) The method according to item 8 above, wherein the epoxy resin is diglycidyl ether.

【0076】10) エポキシ樹脂は約1600〜20
00のエポキサイド当量をもちメチルイソブチルケトン
中に溶解されそして反応はN,N−ジメチルベンジルア
ミン触媒の存在下に生じるものである、前項8に記載の
方法。 11) 反応生成物が環状無水物と接触することにより
さらに反応をするものである、前項10に記載の方法。 12) 反応生成物がナジック酸メチル無水物と接触す
ることによりさらに反応をするものである、前項11に
記載の方法。 13) 反応生成物がヘキサヒドロフタル酸無水物と接
触することによりさらに反応をするものである、前項1
1に記載の方法。
10) Epoxy resin is about 1600 to 20
The method of claim 8 wherein the epoxide equivalent of 00 is dissolved in methyl isobutyl ketone and the reaction occurs in the presence of an N, N-dimethylbenzylamine catalyst. 11) The method according to item 10 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting with a cyclic anhydride. 12) The method according to item 11 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting with methyl nadic acid anhydride. 13) The reaction product further reacts by contacting with hexahydrophthalic anhydride, the above 1
The method according to 1.

【0077】14) 反応生成物がメチルヘキサヒドロ
フタル酸無水物と接触することによりさらに反応をする
ものである、前項11に記載の方法。 15) 反応生成物がフタル酸無水物と接触することに
よりさらに反応をするものである、前項11記載の方
法。 16) 反応生成物がマレイン酸無水物と接触すること
によりさらに反応をするものである、前項11に記載の
方法。 17) 反応生成物がノネニルコハク酸無水物と接触す
ることによりさらに反応をするものである、前項11に
記載の方法。 18) 反応生成物がコハク酸無水物と接触することに
よりさらに反応をするものである、前項11に記載の方
法。
14) The method according to item 11 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting with methylhexahydrophthalic anhydride. 15) The method according to item 11 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting with phthalic anhydride. 16) The method according to item 11 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting with maleic anhydride. 17) The method according to item 11 above, wherein the reaction product is further reacted by contacting it with nonenylsuccinic anhydride. 18) The method according to item 11, wherein the reaction product is further reacted by contacting with succinic anhydride.

【0078】19) 物質が酸クロライドである、前項
7に記載の方法。 20) 物質がマロニルジクロライドである、前項19
に記載の方法。 21) 物質が4−(シアノ)ベンゾイルクロライドで
ある、前項19に記載の方法。 22) 物質が4−(トリフルオロメチル)ベンゾイル
クロライドである、前項19に記載の方法。 23) 物質がイソシアネートである、前項7に記載の
方法。 24) 物質が2,4−トリレンジイソシアネートであ
る、前項23に記載の方法。 25) 物質がメチレンビス(4−フェニルイソシアネ
ート)である、前項23に記載の方法。
19) The method according to item 7 above, wherein the substance is an acid chloride. 20) The above-mentioned item 19, wherein the substance is malonyl dichloride
The method described in. 21) The method according to item 19 above, wherein the substance is 4- (cyano) benzoyl chloride. 22) The method according to the above item 19, wherein the substance is 4- (trifluoromethyl) benzoyl chloride. 23) The method according to item 7 above, wherein the substance is isocyanate. 24) The method according to the above item 23, wherein the substance is 2,4-tolylene diisocyanate. 25) The method according to the above item 23, wherein the substance is methylenebis (4-phenylisocyanate).

【0079】26) 物質がポリフェニルイソシアネー
トである、前項23に記載の方法。 27) 物質がプレポリマー、すなわちストラクトセッ
トプレポリマーである、前項2に記載の方法。 28) ストラクトセットプレポリマーがストラクトタ
ーミナルプレポリマーである、前項27に記載の方法。 29) ストラクトセットプレポリマーがストラクトペ
ンダントプレポリマーである、前項27に記載の方法。 30) 物質が次式のものである、前項7に記載の方
法。
26) The method according to item 23 above, wherein the substance is polyphenyl isocyanate. 27) The method according to item 2 above, wherein the substance is a prepolymer, that is, a tract set prepolymer. 28) The method according to item 27 above, wherein the tract set prepolymer is a struct terminal prepolymer. 29) The method according to item 27 above, wherein the tract set prepolymer is a tract pendant prepolymer. 30) The method according to item 7 above, wherein the substance has the following formula.

【化14】 [Chemical 14]

【0080】31) 物質が次式のものである、前項7
に記載の方法。
31) The above item 7 wherein the substance has the following formula:
The method described in.

【化15】 ここでnの平均値は約0.2〜1.6の間であり、そして
エポキシ官能性値は約2.2〜3.6の間である。 32) 物質が1,4−ブタンジオールジグリシジルエ
ーテルである、前項7に記載の方法。 33) 物質がトリグリシジルイソシアヌレートであ
る、前項7に記載の方法。 34) 物質がN,N,N′,N′−テトラグリシジル−
4,4′−メチレンビスベンゼンアミンである、前項7
に記載の方法。 35) 物質が次式のもので約3.0の理論的官能性値
を有するものである、前項7に記載の方法。
[Chemical 15] Here, the average value of n is between about 0.2 and 1.6, and the epoxy functionality value is between about 2.2 and 3.6. 32) The method according to the above item 7, wherein the substance is 1,4-butanediol diglycidyl ether. 33) The method according to item 7 above, wherein the substance is triglycidyl isocyanurate. 34) The substance is N, N, N ', N'-tetraglycidyl-
4,7 ', which is 4,4'-methylenebisbenzenamine.
The method described in. 35) The method according to item 7 above, wherein the substance is of the following formula and has a theoretical functionality value of about 3.0.

【化16】 [Chemical 16]

【0081】36) 物質が次式のものである、前項7
に記載の方法。
36) The above item 7 wherein the substance has the following formula:
The method described in.

【化17】 ここでnの平均値は約0.7〜3.4の間であり、そして
エポキシ官能性値は約2.7〜5.4の間である。 37) 物質が次の式を有する脂環ジエポキシカルボキ
シレートである、前項7に記載の方法。
[Chemical 17] Here, the average value of n is between about 0.7 and 3.4, and the epoxy functionality value is between about 2.7 and 5.4. 37) The method according to the preceding item 7, wherein the substance is an alicyclic diepoxycarboxylate having the following formula.

【化18】 38) ポリマーがポリイミドである、前項7に記載の
方法。 39) ポリイミドがPMDAとODAとの反応生成物
である、前項38に記載の方法。 40) 酸クロライドがマロニルジクロライドである、
前項39に記載の方法。 41) ポリマーがポリイミドである、前項10に記載
の方法。 42) ポリイミドがBPDAとPDAとの反応生成物
である、前項38に記載の方法。
[Chemical 18] 38) The method according to the above item 7, wherein the polymer is polyimide. 39) The method according to the above item 38, wherein the polyimide is a reaction product of PMDA and ODA. 40) The acid chloride is malonyl dichloride,
Item 39. The method according to Item 39. 41) The method described in 10 above, wherein the polymer is polyimide. 42) The method according to the above item 38, wherein the polyimide is a reaction product of BPDA and PDA.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 83/00 NUW 85/00 NVA C08J 7/18 7310−4F H01L 23/02 (72)発明者 チヤールズ・ロバート・デイビス アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンデイコツト.ヒルアベニユー940 (72)発明者 ロナルド・デイーン・ゴールドブラツト アメリカ合衆国ニユーヨーク州10573.ラ イブルツク.サウスリツジストリート242 (72)発明者 リチヤード・ロナルド・トマス アメリカ合衆国ニユーヨーク州12524.フ イツシユキル.アイビーコート7エイ (56)参考文献 特開 昭59−43010(JP,A) 特開 昭62−54734(JP,A) 特開 昭62−50338(JP,A) 米国特許4131691(US,A)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08G 83/00 NUW 85/00 NVA C08J 7/18 7310-4F H01L 23/02 (72) Inventor Charles Robert Davis New York, USA 13760. End cot. Hill Avenyu 940 (72) Inventor Ronald Dane Goldbladto New York, USA 10573. Librutsk. South Ritsuji Street 242 (72) Inventor Richard Ronald Thomas New York, USA 12524. Fish kill. Ivy coat 7A (56) Reference JP-A-59-43010 (JP, A) JP-A-62-54734 (JP, A) JP-A-62-50338 (JP, A) US Pat. No. 4131691 (US, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体ポリマーを水蒸気プラズマにさら
してその表面上に反応性のサイトを形成させ;前記の処
理をした誘電体ポリマー表面を前記反応性のサイトと反
応することのできる物質であって、エポキシ化合物、酸
クロライド、イソシアネートまたは前記のもののプレポ
リマーよりなる群から選ばれるものと接触させ、その上
に前記物質をグラフト化しそして反応生成物を形成させ
ることからなる誘電体ポリマーの処理方法。
1. A substance capable of exposing a dielectric polymer to water vapor plasma to form reactive sites on its surface; a substance capable of reacting the treated dielectric polymer surface with the reactive site. A method of treating a dielectric polymer comprising contacting with an epoxy compound, an acid chloride, an isocyanate or a prepolymer of the foregoing, grafting the material thereon and forming a reaction product. .
【請求項2】 前記の水蒸気を含むプラズマが、ほぼ周
囲温度から処理されるポリマー体のほぼガラス転移点温
度までの温度で、10−3W/cm〜1000W/c
の電力の電場中で、10−6〜5気圧の範囲の圧力
下に、0.1分から1時間の範囲の間に発生されるもの
である、請求項1に記載の方法。
2. The water vapor-containing plasma is at a temperature from about ambient temperature to about the glass transition temperature of the polymer body to be treated, from 10 −3 W / cm 3 to 1000 W / c.
The method according to claim 1, which is generated in the electric field of m 3 electric power under a pressure in the range of 10 −6 to 5 atmospheres for a range of 0.1 minutes to 1 hour.
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