JPH0768230B2 - Bimetal complex catalyst for oxidation - Google Patents
Bimetal complex catalyst for oxidationInfo
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- JPH0768230B2 JPH0768230B2 JP4178122A JP17812292A JPH0768230B2 JP H0768230 B2 JPH0768230 B2 JP H0768230B2 JP 4178122 A JP4178122 A JP 4178122A JP 17812292 A JP17812292 A JP 17812292A JP H0768230 B2 JPH0768230 B2 JP H0768230B2
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- Epoxy Compounds (AREA)
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、炭化水素の酸化用触
媒として使用し得るバイメタル錯体に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a bimetal complex which can be used as a catalyst for oxidation of hydrocarbons.
【0002】[0002]
【従来の技術】エポキシドは、オキシラン環を有する一
般的な化合物群である。これらの簡便な製法はオレフィ
ンの酸化である。例えば、エチレンオキシドは、担持銀
触媒の存在下でのエチレンの有気性酸化によって製造さ
れる。しかしながら、この有気性酸化法を利用して、プ
ロピレンからプロピレンオキシドを効率よく製造するこ
とはできない。プロピレンオキシドの簡便な製法は、高
原子価金属酸化物触媒の存在下で過酸化物を使用するプ
ロピレンの酸化法である[コラー(J.Kollar)、米国特
許第3,351,635号明細書参照]。オキシラン化合
物の他の製法は、エピクロロヒドリン中間体を経由する
方法である。米国特許第4,356,311号明細書に
は、遷移金属ニトロ錯体触媒およびタリウム(III)化
合物共触媒を用いるオレフィンのエポキシ化法が記載さ
れている。米国特許第4,822,899号明細書には、
共触媒もしくは共還元剤を実質上存在させないで、金属
ポルフィリンを触媒として使用し、酸素を酸化剤として
使用するオレフィンのエポキシ化法が開示されている。2. Description of the Related Art Epoxides are a general group of compounds having an oxirane ring. A convenient method for producing these is the oxidation of olefins. For example, ethylene oxide is produced by the aerobic oxidation of ethylene in the presence of a supported silver catalyst. However, propylene oxide cannot be efficiently produced from propylene using this aerobic oxidation method. A convenient method for producing propylene oxide is the oxidation of propylene using a peroxide in the presence of a high valent metal oxide catalyst [J. Kollar, US Pat. No. 3,351,635. reference]. Another method for producing an oxirane compound is a method via an epichlorohydrin intermediate. U.S. Pat. No. 4,356,311 describes a process for epoxidation of olefins using a transition metal nitro complex catalyst and a thallium (III) compound cocatalyst. U.S. Pat. No. 4,822,899 describes
A process for epoxidation of olefins using a metalloporphyrin as a catalyst and oxygen as an oxidant in the substantial absence of a cocatalyst or a coreducing agent is disclosed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この発明は、酸化用バ
イメタル錯体触媒を使用するオレフィンのエポキシ化法
を提供するためになされたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to provide an olefin epoxidation method using a bimetal complex catalyst for oxidation.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】即ちこの発明は、以下に
詳述する一般式(1)で表わされるバイメタル錯体の存在
下において、オレフィンと酸化剤を接触させることを含
むオレフィンのエポキシ化法に関する。That is, the present invention relates to an olefin epoxidation method which comprises contacting an olefin with an oxidizing agent in the presence of a bimetal complex represented by the general formula (1) described in detail below. .
【0005】この発明には、炭化水素が少なくとも部分
的に酸化される反応条件下において、触媒量のバイメタ
ル錯体の存在下で、オレフィン性不飽和基質と酸素を接
触させる酸化法、特にオレフィンのエポキシ化法が含ま
れる。The present invention provides an oxidation process for contacting an olefinically unsaturated substrate with oxygen in the presence of a catalytic amount of a bimetallic complex under reaction conditions in which hydrocarbons are at least partially oxidized, especially olefin epoxy. Chemical methods are included.
【0006】この発明の格別の特徴は、触媒としてバイ
メタル錯体を使用することである。本発明の実施に際し
ては、他の酸化剤、例えば過酸化物、過酸またはPhI
O、共触媒、例えばタリウム(III)、あるいは共還元
剤は不要である。また、本発明による方法は都合のよい
温度範囲内でおこなうことができる。A particular feature of this invention is the use of bimetallic complexes as catalysts. In the practice of the present invention, other oxidizing agents such as peroxides, peracids or PhI
No O, cocatalyst such as thallium (III), or coreducing agent is required. Also, the method according to the invention can be carried out within a convenient temperature range.
【0007】この発明はエポキシ化法に関するものであ
って、3種の必須成分、即ち、オレフィン、酸化剤およ
び触媒を必要とする。このエポキシ化反応においては、
溶媒は随意に使用してもよい。溶媒はオレフィンと触媒
を溶解するのに役立つ。溶媒は、エポキシ化反応の進行
を妨げない広範囲の化合物のなかから選択することがで
きる。エポキシ化反応の進行を妨げない限り、混合溶媒
を使用してもよい。このような溶媒としては、N,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセ
トアミド、スルホラン、アセトニトリル、クロロホル
ム、種々のエーテル類、プロピレンカーボネート、ベン
ゼンおよびその誘導体が例示される。適量の溶質を溶解
した溶媒を使用してもよい。溶質としてはイミダゾー
ル、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、ピペリジ
ン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ヒスチジン、ト
リアルキルアミン、ジアルキルアミン、アルキルアミ
ン、アルキルアリールアミンおよびこれらの誘導体が例
示される。溶質の濃度は0.0〜10.0モル/lの範
囲である。溶媒の使用量は広範囲に変化させてもよい
が、典型的には、オレフィン1モルあたり0.0〜10
00リットルである。The present invention relates to an epoxidation process and requires three essential components: an olefin, an oxidant and a catalyst. In this epoxidation reaction,
The solvent may optionally be used. The solvent serves to dissolve the olefin and the catalyst. The solvent can be selected from a wide range of compounds that do not interfere with the progress of the epoxidation reaction. A mixed solvent may be used as long as it does not hinder the progress of the epoxidation reaction. As such a solvent, N, N-
Examples include dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, sulfolane, acetonitrile, chloroform, various ethers, propylene carbonate, benzene and derivatives thereof. A solvent in which an appropriate amount of solute is dissolved may be used. Examples of the solute include imidazole, pyrrole, pyrrolidine, oxazole, piperidine, pyridine, pyrimidine, pyrazine, histidine, trialkylamine, dialkylamine, alkylamine, alkylarylamine and derivatives thereof. The concentration of solute is in the range of 0.0-10.0 mol / l. The amount of solvent used may vary over a wide range, but is typically 0.0 to 10 per mol of olefin.
It is 00 liters.
【0008】オレフィンは、脂肪族、芳香族、脂肪族−
芳香族、直鎖状、分枝鎖状、環状およびこれらの構造的
特徴を併用するオレフィンであってもよい。オレフィン
はエポキシ化反応を妨げない、炭素原子や水素原子以外
の原子を有していてもよい置換基を含んでいてもよい。
オレフィンの混合物を使用してもよい。オレフィンとし
ては、プロピレン、ブチレン、シクロヘキセン、シクロ
オクテン、トランス−β−メチルスチレン、トランス−
β−ニトロスチレン、スチルベン、不飽和脂肪酸、トラ
ンス−メチルシンナメート、無水マレイン酸およびアリ
ルハライド等が例示される。オレフィンのさらに別の例
は米国特許第4,356,311号明細書に開示されてお
り、該明細書のこれに関連する部分は本明細書の一部を
成すものである。Olefins are aliphatic, aromatic, and aliphatic-
Aromatic, linear, branched, cyclic and olefins that combine these structural characteristics may be used. The olefin may contain a substituent which may have an atom other than a carbon atom or a hydrogen atom, which does not interfere with the epoxidation reaction.
Mixtures of olefins may be used. Examples of the olefin include propylene, butylene, cyclohexene, cyclooctene, trans-β-methylstyrene, trans-
Examples include β-nitrostyrene, stilbene, unsaturated fatty acids, trans-methyl cinnamate, maleic anhydride, and allyl halides. Further examples of olefins are disclosed in U.S. Pat. No. 4,356,311, the relevant portions of which are incorporated herein by reference.
【0009】酸化剤は、反応条件下において酸素源とな
るいずれの酸化剤であってもよい。酸素は純粋な酸素、
空気または酸素富化空気として供給してもよい。ガス状
酸素源は希釈剤、例えば、CO2、N2、貴ガスまたは水
蒸気を含んでいてもよい。反応容器内での酸素の分圧は
0.01トル〜500気圧の範囲であってもよい。The oxidant may be any oxidant that becomes an oxygen source under the reaction conditions. Oxygen is pure oxygen,
It may be supplied as air or oxygen-enriched air. The gaseous oxygen source may include diluents such as CO 2 , N 2 , noble gases or water vapor. The partial pressure of oxygen in the reaction vessel may range from 0.01 torr to 500 atmospheres.
【0010】本発明による触媒は、次の一般式(1)で表
わされるバイメタル錯体である: MaMbL(La)n1(Lb)n2(Xa)n3(Xb)n4 (1) 式中、MaおよびMbは相互に独立して、バナジウム、ク
ロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブ
デン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステ
ン、レニウム、オスミウム、イリジウムまたは白金を示
す。Lは次の一般式(2)で表わされる多座配位子を表わ
し、2種の金属MaおよびMbと結合する配位サイトを提
供する:The catalyst according to the present invention is a bimetal complex represented by the following general formula (1): MaMbL (La) n 1 (Lb) n 2 (Xa) n 3 (Xb) n 4 (1) , Ma and Mb independently of each other represent vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium or platinum. L represents a polydentate ligand represented by the following general formula (2), which provides a coordination site for binding with two metals Ma and Mb:
【0011】[0011]
【化9】 (式中、XcおよびXc'は相互に独立して、O、S、アミ
ノ基またはフォスフィノ基を示し、XdはOまたはSを
示し、XeおよびXfは相互に独立して、N、P、Oまた
はSを示し、R1、R2、R3、R1'、R2'およびR3'は
相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシル
基、アシル基、カルボキシレート基、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、カルボニル
基またはイミノ基を示す)[Chemical 9] (In the formula, Xc and Xc ′ independently represent O, S, an amino group or a phosphino group, Xd represents O or S, and Xe and Xf independently represent N, P, O. Or S, and R 1 , R 2 , R 3 , R 1 ′, R 2 ′ and R 3 ′ are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group,
(Cyano group, amino group, hydroxyl group, alkoxyl group, acyl group, carboxylate group, alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, substituted aryl group, carbonyl group or imino group)
【0012】上記の一般式(2)において、C−R1およ
びC−R2またはC−R1'およびC−R2'は相互に独立
して環状基、例えば、適当な置換基を有するフェニル基
またはシクロヘキシル基等を形成してもよい。例えば、
C−R1とC−R2がフェニル基を形成する場合には、当
該部分は次式(4)で表わされる:In the above general formula (2), C—R 1 and C—R 2 or C—R 1 ′ and C—R 2 ′ each independently have a cyclic group, for example, a suitable substituent. A phenyl group or a cyclohexyl group may be formed. For example,
If the C-R 1 and C-R 2 form a phenyl group, the moiety is represented by the following formula (4):
【0013】[0013]
【化10】 (式中、R7、R8、R9およびR10は相互に独立して水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシ
ル基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシレート
基、アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置
換アリール基を示す)[Chemical 10] (In the formula, R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carboxylate group, an alkyl group, a substituent, (Indicates an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group)
【0014】上記の一般式(2)において、C−R2およ
びC−R3またはC−R2'およびC−R3'は相互に独立
して、Xeと共に環状基、例えばピロリル基、イミダゾ
リル基、ピロリジル基、ピペリジル基、ピリジル基、ピ
リミジル基、ピラジル基、オキサゾリル基、ピラジル基
または置換されたこれらの基を形成してもよい。例え
ば、C−R2−Xe−C−R3は次式(5)で表わされる置
換ピリジル基を形成してもよい:In the above general formula (2), C—R 2 and C—R 3 or C—R 2 ′ and C—R 3 ′ are, independently of each other, Xe together with a cyclic group such as a pyrrolyl group or imidazolyl group. A group, a pyrrolidyl group, a piperidyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyrazyl group, an oxazolyl group, a pyrazyl group or a substituted group thereof may be formed. For example, C-R 2 -Xe-C -R 3 may form a substituted pyridyl group represented by the following formula (5):
【0015】[0015]
【化11】 (式中、R11、R12およびR13は相互に独立して水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒ
ドロキシル基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシ
レート基、アルキル基、置換アルキル基、アリール基ま
たは置換アリール基を示す)[Chemical 11] (In the formula, R 11 , R 12 and R 13 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carboxylate group, an alkyl group, a substituent, (Indicates an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group)
【0016】一般式(2)において、R4、R5およびR6
は相互に独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシル
基、アシル基、カルボキシレート基、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基または置換アリール基を示す。In the general formula (2), R 4 , R 5 and R 6
Are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group,
A cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carboxylate group, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
【0017】上記一般式(1)において、LaおよびLbは
それぞれMaおよびMbに配位し得る配位子を示し、n1お
よびn2は0〜3の整数を示す。例えば、LaおよびLbが
ピリジンまたはアセトニトリルの場合には、n1=n2=1
である。Xaは2個の金属イオンを架橋し得る配位子を
示す。架橋配位子としては、ヒドロキシレート、アルコ
キシレート、ピラゾレート、カルボキシレート、アジド
およびハライド等が例示される。n3は0〜3の整数を示
し、Xbは必要な電荷平衡をもたらす対イオンを示す。
このような対イオンとしてはハライド、パークロレー
ト、アセテート、四フッ化硼素、六フッ化燐、ニトレー
トおよびチオシアネート等が例示される。実際は、大抵
のアニオンやカチオンを用いて、金属保有部の電荷を平
衡にすることができる。n4は0〜4の整数を示す。In the above general formula (1), La and Lb each represent a ligand capable of coordinating with Ma and Mb, and n 1 and n 2 each represent an integer of 0 to 3. For example, when La and Lb are pyridine or acetonitrile, n 1 = n 2 = 1
Is. Xa represents a ligand capable of bridging two metal ions. Examples of the bridging ligand include hydroxylate, alkoxylate, pyrazolate, carboxylate, azide and halide. n 3 represents an integer of 0 to 3, and Xb represents a counter ion which brings about necessary charge balance.
Examples of such counter ions include halides, perchlorates, acetates, boron tetrafluoride, phosphorus hexafluoride, nitrates and thiocyanates. In fact, most anions and cations can be used to balance the charge on the metal reservoir. n 4 is an integer of 0-4.
【0018】本発明による好ましいバイメタル錯体は次
の一般式(6)で表わされる化合物である:Preferred bimetallic complexes according to the present invention are compounds of the general formula (6):
【化12】 (式中、R1"〜R11"は相互に独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル
基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシレート基、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換ア
リール基を示し、R12"は水素原子、または水素原子お
よび炭素原子以外の原子を有していてもよいアルキル基
を示す)[Chemical 12] (In the formula, R 1 "to R 11 " are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carboxylate group,
An alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and R 12 "represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a hydrogen atom and an atom other than a carbon atom)
【0019】上記の触媒は10-5M/l〜2.0M/lの
触媒量で使用する。触媒の実際の使用濃度は、使用する
触媒、オレフィンおよび溶媒の性状によって左右される
が、好ましくは10-4M/l〜1M/lである。触媒は固
体状担体に担持して使用してもよい。この場合の触媒濃
度は、担体の有効表面サイトの0.01〜100%を触
媒が占めるようにする。The above catalyst is used in a catalytic amount of 10 -5 M / l to 2.0 M / l. The actual concentration of the catalyst used depends on the properties of the catalyst, olefin and solvent used, but is preferably 10 −4 M / l to 1 M / l. The catalyst may be used by supporting it on a solid carrier. The catalyst concentration in this case is such that the catalyst occupies 0.01 to 100% of the effective surface sites of the carrier.
【0020】本発明方法は、反応が進行するいずれの温
度と圧力を組合せた条件下でおこなってもよいが、一般
的には、温度は0℃〜800℃、好ましくは0℃〜50
0℃であり、圧力は10トル〜500気圧である。The method of the present invention may be carried out under any combination of temperature and pressure at which the reaction proceeds, but generally the temperature is 0 ° C to 800 ° C, preferably 0 ° C to 50 ° C.
The temperature is 0 ° C. and the pressure is 10 torr to 500 atm.
【0021】[0021]
【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに説明す
るが、本発明の範囲はこれらの実施例によって限定され
るものではない。実施例1 : 2,6−ビス[(2−オキソフェニル)イミノメ
チル]−4−メチルフェノラト−μ−ヒドロキソジコバ
ルト(II) [Co2(μ−OH)L (錯体1)]の調製 次式(6)で表わされる錯体1を次の様にして調製した。The present invention will be further described by the following examples, but the scope of the present invention is not limited by these examples. Example 1 : Preparation of 2,6-bis [(2-oxophenyl) iminomethyl] -4-methylphenolato-μ-hydroxodicobalt (II) [Co 2 (μ-OH) L (complex 1)] Complex 1 represented by formula (6) was prepared as follows.
【化13】 [Chemical 13]
【0022】水50mlにCo(NO3)2・6H2O 0.6
1gを溶解した水溶液を、H3L 0.346gとNaOH
0.12g含有するメタノール溶液中に撹拌下で滴下
した後、反応溶液を一定の撹拌速度のもとで、4時間還
流し、反応混合物を濾過処理に付して得られた固体状生
成物を、ジクロロメタンを用いる再結晶処理によって精
製した。この場合、配位子H3L、即ち、2,6−ビス
[(2−ヒドロキシフェニル)イミノメチル]−4−メチル
フェノールは、ロブソン(R.Robson)の方法により、
2,6−ジホルミル−4−メチルフェノールと2−ヒド
ロキシアニリンとの反応によって調製した(Inorg.Nu
cl.Chem.Lett.1970年、第6巻、第125頁参
照)。なお、2,6−ジホルミル−4−メチルフェノール
はウルマン(G.Ullman)とブリットナー(K.Brittne
r)の方法によって調製した(Chem.Ber.、1909
年、第42巻、第2534頁参照)。Co (NO 3 ) 2 .6H 2 O 0.6 in 50 ml of water
An aqueous solution containing 1 g dissolved therein was added with 0.346 g of H 3 L and NaOH.
After adding dropwise to a methanol solution containing 0.12 g under stirring, the reaction solution was refluxed for 4 hours at a constant stirring rate, and the reaction mixture was filtered to obtain a solid product obtained. , Purified by recrystallization treatment with dichloromethane. In this case, the ligand H 3 L, namely 2,6-bis
[(2-Hydroxyphenyl) iminomethyl] -4-methylphenol can be prepared by the method of R. Robson.
Prepared by reaction of 2,6-diformyl-4-methylphenol with 2-hydroxyaniline (Inorg. Nu.
cl. Chem. Lett. 1970, Vol. 6, p. 125). In addition, 2,6-diformyl-4-methylphenol is available from G. Ullman and K. Brittne.
r)) (Chem. Ber., 1909).
, 42, 2534).
【0023】実施例2: 2,6−ビス[(2−オキソフェ
ニル)イミノメチル]−4−メチルフェノラト−μ−メト
キソジコバルト(II) [Co2(μ−OMe)L (錯体2)]の調製 錯体1(0.5g)およびNaOCH3(0.07g)を含有す
るメタノール溶液120mlを3時間加熱還流し、次いで
反応混合物を回転蒸発器を用いて30mlまで濃縮した
後、冷蔵庫内に放置し、沈澱した生成物を濾取した。 Example 2 : 2,6-bis [(2-oxophenyl) iminomethyl] -4-methylphenolato-μ-methoxodicobalt (II) [Co 2 (μ-OMe) L (complex 2)] Preparation of complex 120 ml of a methanol solution containing complex 1 (0.5 g) and NaOCH 3 (0.07 g) was heated under reflux for 3 hours, then the reaction mixture was concentrated to 30 ml using a rotary evaporator and then left in the refrigerator. The precipitated product was collected by filtration.
【0024】実施例3: 2,6−ビス[(2−オキソフェ
ニル)アミノメチル]−4−メチルフェノラト−μ−ヒド
ロキソジコバルト(II) [Co2(μ−OH)L' (錯体3)]の調製 次式(7)で表わされる錯体3を次の様にして調製した。 Example 3 : 2,6-bis [(2-oxophenyl) aminomethyl] -4-methylphenolato-μ-hydroxodicobalt (II) [Co 2 (μ-OH) L '(Complex 3 )]] The complex 3 represented by the following formula (7) was prepared as follows.
【化14】 [Chemical 14]
【0025】H3LとNaBH4を反応させることによっ
てH3L'を調製した。即ち、H3L(0.346g)および
NaBH4(0.378g)を含有するTHF溶液40mlを
6時間加熱還流し、次いで反応混合物を濾過処理に付
し、濾液をHClの2Mメタノール溶液を用いて中和し
た後、濾過処理を再びおこない、濾液中の溶媒を蒸発さ
せることによってH3L'を得た。前記の実施例1におい
て、H3Lの代わりにH3L'を使用する以外は、錯体1
の調製法の場合と実質上同様にして錯体3(Co2(μ
−OH)L')を調製した。H 3 L'was prepared by reacting H 3 L with NaBH 4 . That is, 40 ml of a THF solution containing H 3 L (0.346 g) and NaBH 4 (0.378 g) was heated under reflux for 6 hours, and then the reaction mixture was filtered, and the filtrate was treated with 2 M methanol solution of HCl. After neutralization by filtration, the filtration treatment was performed again, and the solvent in the filtrate was evaporated to obtain H 3 L ′. In Example 1 above, but using H 3 L 'instead of H 3 L, complex 1
Substantially the same as in the case of the preparation method of complex 3 (Co 2 (μ
-OH) L ') was prepared.
【0026】実施例4: 2,6−ビス[(2−オキソフェ
ニル)イミノメチル]−4−メチルフェノラト−μ−ヒド
ロキソ二鉄(II) [Fe(μ−OH)L (錯体4)]の調製 次式(8)で表わされる錯体4を次の様にして調製した。 Example 4 of 2,6-bis [(2-oxophenyl) iminomethyl] -4-methylphenolato-μ-hydroxodiiron (II) [Fe (μ-OH) L (complex 4)] Preparation Complex 4 represented by the following formula (8) was prepared as follows.
【化15】 [Chemical 15]
【0027】メタノール100mlにFeCl2・4H2O
0.4gを溶解したメタノール溶液をH3L(0.346
g)とNaOH(0.16g)を含有する還流メタノール溶液
中に滴下し、滴下終了後、反応液をさらに15分間加熱
した。固体状沈澱物を濾取し、乾燥後、ジクロロメタン
を用いて抽出し、次いで、ジクロロメタンを蒸発させる
ことによって錯体4を得た。上記の全操作は酸素の不存
在下でおこなった。FeCl 2 .4H 2 O in 100 ml of methanol
A methanol solution containing 0.4 g was dissolved in H 3 L (0.346
g) and NaOH (0.16 g) in a refluxing methanol solution, and the reaction solution was heated for another 15 minutes after the completion of the addition. The solid precipitate was filtered off, dried, extracted with dichloromethane and then the dichloromethane was evaporated to give complex 4. All the above operations were carried out in the absence of oxygen.
【0028】実施例5: 2,6−ビス[(2−オキソ−5
−t−ブチルフェニル)イミノメチル]−4−t−ブチルフ
ェノラト−μ−ヒドロキソ二鉄(II) [(Fe2(μ−OH)L" (錯体5)]の調製 次式(9)で表わされる錯体5を次の様にして調製した。 Example 5 : 2,6-bis [(2-oxo-5)
Preparation of -t-butylphenyl) iminomethyl] -4-t-butylphenolato-μ-hydroxodiiron (II) [(Fe 2 (μ-OH) L "(complex 5)] is represented by the following formula (9). The complex 5 was prepared as follows.
【化16】 [Chemical 16]
【0029】2,6−ジホルミル−4−t−ブチルフェノ
ール(2.06g)および2−アミノ−4−t−ブチルフェ
ノール(2.5g)を含有するメタノール溶液を3時間還
流し、溶媒を蒸発させた後、ジクロロメタンとヘキサン
の1:1混合溶媒を用いて反応混合物を再結晶処理に付
すことによって配位子H3L"を調製した。メタノール1
00mlにFeCl2・4H2Oを0.4g溶解したメタノー
ル溶液を、H3L"(0.5g)およびNaOH(0.16g)
を含有する還流メタノール溶液中に滴下した。滴下終了
後、反応液をさらに15分間加熱した。反応混合物を濾
過処理に付し、濾液を約10mlまで濃縮した後、水10
mlを加え、沈澱物を乾燥させ、次いでジクロロメタンと
ヘキサンの1:1混合溶媒を用いる再結晶処理に付すこ
とによって錯体5を得た。上記の全操作は酸素の不存在
下でおこなった。A methanol solution containing 2,6-diformyl-4-t-butylphenol (2.06 g) and 2-amino-4-t-butylphenol (2.5 g) was refluxed for 3 hours and the solvent was evaporated. Then, the ligand H 3 L ″ was prepared by subjecting the reaction mixture to recrystallization treatment using a 1: 1 mixed solvent of dichloromethane and hexane.
A methanol solution prepared by dissolving 0.4 g of FeCl 2 .4H 2 O in 00 ml was added with H 3 L ″ (0.5 g) and NaOH (0.16 g).
Was added dropwise to a refluxing methanol solution containing. After the addition was complete, the reaction was heated for an additional 15 minutes. The reaction mixture was filtered, the filtrate was concentrated to about 10 ml, and then water 10 was added.
The complex 5 was obtained by adding ml and drying the precipitate, followed by recrystallization using a 1: 1 mixed solvent of dichloromethane and hexane. All the above operations were carried out in the absence of oxygen.
【0030】実施例6: 2,6−ビス[(2−オキソフェ
ニル)イミノメチル]−4−メチルフェノラト−μ−ヒド
ロキソ銅(II)鉄(II) [CuFe(μ−OH)L (錯体6)]の調製 Cu(NO3)2・3H2Oを0.482g含有するメタノー
ル溶液5mlを、H3Lを0.692g含有するテトラヒド
ロフラン溶液20mlに添加し、混合物を30分間還流し
た後、固体状沈澱物を濾取し、該沈澱物をジメチルホル
ムアミド(DMF)100mlに再溶解させた。水酸化ナト
リウムを0.04g含有する水溶液5mlを該DMF溶液
に添加し、混合物を30分間還流した後、FeCl2・4
H2Oを0.11g含有する水溶液40mlを反応溶液に添
加し、さらに還流を30分間おこなった。反応混合物を
濾過処理に付し、濾液から溶媒を除去し、残渣をジクロ
ロメタンで抽出した後、ジクロロメタンを除去すること
によって、銅と鉄を含有する錯体6を得た。 Example 6 : 2,6-bis [(2-oxophenyl) iminomethyl] -4-methylphenolato-μ-hydroxocopper (II) iron (II) [CuFe (μ-OH) L (Complex 6 )] Was prepared by adding 5 ml of a methanol solution containing 0.482 g of Cu (NO 3 ) 2 .3H 2 O to 20 ml of a tetrahydrofuran solution containing 0.692 g of H 3 L, and refluxing the mixture for 30 minutes. The precipitate was filtered off and redissolved in 100 ml of dimethylformamide (DMF). After the aqueous solution 5ml of sodium hydroxide containing 0.04g was added to the DMF solution and the mixture was refluxed for 30 minutes, FeCl 2 · 4
40 ml of an aqueous solution containing 0.11 g of H 2 O was added to the reaction solution, and the mixture was refluxed for 30 minutes. The reaction mixture was filtered, the solvent was removed from the filtrate, the residue was extracted with dichloromethane, and then the dichloromethane was removed to obtain a complex 6 containing copper and iron.
【0031】実施例7〜18 実施例1〜6において調製した錯体触媒を、特に言及し
ない限りは、10-4〜10-1Mの濃度範囲内において、
DMF10mlに溶解した。所定量のオレフィンを該触媒
溶液に加えた。この溶液を、酸素ガスを満たした密閉ガ
ラス容器内へ入れ、該溶液を100℃まで加熱し、エポ
キシ化反応を円滑に進行させた。24時間後、生成物を
TLCによって分析したところ、エポキシドは主生成物
として高い選択率で得られ、また、トランス−オレフィ
ンおよびシス−オレフィンからはそれぞれトランス−エ
ポキシドおよびシス−エポキシドが得られた。結果を以
下の表1にまとめて示す。 Examples 7 to 18 The complex catalysts prepared in Examples 1 to 6 were used in the concentration range of 10 -4 to 10 -1 M unless otherwise specified.
It was dissolved in 10 ml of DMF. A predetermined amount of olefin was added to the catalyst solution. This solution was placed in a closed glass container filled with oxygen gas, and the solution was heated to 100 ° C. to smoothly proceed the epoxidation reaction. After 24 hours, the product was analyzed by TLC to give the epoxide as the major product in high selectivity and the trans-olefin and cis-olefin gave the trans-epoxide and cis-epoxide, respectively. The results are summarized in Table 1 below.
【0032】[0032]
【表1】 [Table 1]
【0033】表1における注記は以下の通りである。 a: 実施例番号。 b: 実施例1〜6において調製した錯体の指定番号。 c: 錯体触媒の濃度。 d: オレフィンの濃度。 e: 反応時間24時間後に生成したエポキシドの触媒1
モル当たりのモル数。 f: 溶媒としてスルホランを使用した。 g: 溶媒としてピリジンを0.5%含有するスルホラン
を使用した。 h: 溶媒として純粋なシクロオクタンを使用し、また、
反応温度は393゜Kとした。The notes in Table 1 are as follows: a: Example number. b: Designation number of the complex prepared in Examples 1-6. c: Concentration of complex catalyst. d: concentration of olefin. e: Epoxide catalyst 1 produced after 24 hours of reaction time
Number of moles per mole. f: Sulfolane was used as the solvent. g: Sulfolane containing 0.5% pyridine was used as a solvent. h: use pure cyclooctane as solvent,
The reaction temperature was 393 ° K.
【0034】以上、本発明を例示的な説明と実施例によ
って詳述したが、本発明をさらに例証するために、前記
の特許請求の範囲内において、適宜の変更や修正をおこ
なってもよい。Although the present invention has been described in detail above with reference to the exemplary description and the examples, appropriate changes and modifications may be made within the scope of the claims to further illustrate the present invention.
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明によるバイメタル錯体を使用する
ことによって、オレフィンからエポキシドを高選択率で
製造することができる。この場合、エポキシ化におい
て、オレフィンのシス−トランス異性構造は保持され
る。また、本発明によるエポキシ化法においては、過酸
化物や過酸等の酸化剤、共触媒または共還元剤等を特に
必要としない。By using the bimetal complex according to the present invention, an epoxide can be produced from an olefin with high selectivity. In this case, the cis-trans isomer structure of the olefin is retained in the epoxidation. Further, in the epoxidation method according to the present invention, an oxidizing agent such as peroxide or peracid, a cocatalyst or a coreducing agent, etc. are not particularly required.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 303/38 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location C07D 303/38
Claims (13)
イメタル錯体の存在下において、オレフィンと酸化剤を
接触させることを含むオレフィンのエポキシ化法: MaMbL(La)n1(Lb)n2(Xa)n3(Xb)n4 (1) 式中、MaおよびMbは相互に独立して、バナジウム、ク
ロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブ
デン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステ
ン、レニウム、オスミウム、イリジウムおよび白金から
成る群から選択される金属を示し、 Lは次式(2): 【化1】 (式中、XcおよびXc'は相互に独立して、O、S、アミ
ノ基およびフォスフィノ基から成る群から選択される原
子または基を示し、XdはOまたはSを示し、Xeおよび
Xfは相互に独立して、N、P、OおよびSから成る群
から選択される原子を示し、R1、R2、R3、R1'、
R2'およびR3'は相互に独立して、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル
基、アルコキシル基、アシル基、カルボキシレート基、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、カルボニル基およびイミノ基から成る群から選択
される原子または基を示すか、または次式: 【化2】 および次式: 【化3】 で表わされる部分が相互に独立して環状部分を形成する
か、あるいは次式: 【化4】 および次式: 【化5】 で表わされる部分が相互に独立して、ピロリル基、イミ
ダゾリル基、ピロリジル基、ピペリジル基、ピリジル
基、ピリミジル基、ピラジル基、オキサゾリル基、ピラ
ジル基および置換基を有するこれらの基から成る群から
選択される含窒素複素環部分を形成し、R4、R5および
R6は相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキ
シル基、アシル基、カルボキシレート基、アルキル基、
置換アルキル基、アリール基および置換アリール基から
成る群から選択される原子または基を示す)で表わされ
る多座配位子を示し、LaおよびLbはそれぞれMaおよ
びMbに配位し得る配位子を示し、XaはMaとMbを架橋
し得る配位子を示し、Xbは必要な電荷平衡をもたらす
対イオンを示し、n1およびn2は0〜3の整数を示し、n3
は0〜3の整数を示し、n4は0〜4の整数を示す。1. An olefin epoxidation method comprising contacting an olefin with an oxidizing agent in the presence of a catalytic amount of a bimetallic complex represented by the following general formula (1): MaMbL (La) n 1 (Lb) n 2 (Xa) n 3 (Xb) n 4 (1) In the formula, Ma and Mb are independently of each other vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, tungsten. , A metal selected from the group consisting of rhenium, osmium, iridium and platinum, where L is the following formula (2): (In the formula, Xc and Xc ′ each independently represent an atom or a group selected from the group consisting of O, S, an amino group and a phosphino group, Xd represents O or S, and Xe and Xf represent each other. Independently represent an atom selected from the group consisting of N, P, O and S, and are R 1 , R 2 , R 3 , R 1 ′,
R 2 'and R 3 ' are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carboxylate group,
Represents an atom or group selected from the group consisting of an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a carbonyl group and an imino group, or has the following formula: And the following formula: The moieties represented by form a cyclic moiety independently of each other, or the following formula: And the following formula: Are independently selected from the group consisting of pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrrolidyl group, piperidyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, oxazolyl group, pyrazyl group and groups having these substituents. Forming a nitrogen-containing heterocyclic moiety, R 4 , R 5 and R 6 independently of each other are a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, Carboxylate group, alkyl group,
Represents a polydentate ligand represented by an atom or a group selected from the group consisting of a substituted alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group, wherein La and Lb are ligands capable of coordinating to Ma and Mb, respectively. , Xa represents a ligand capable of bridging Ma and Mb, Xb represents a counter ion that provides the necessary charge balance, n 1 and n 2 represent an integer of 0 to 3 , and n 3
Represents an integer of 0 to 3, and n 4 represents an integer of 0 to 4.
ルケンおよび炭素原子と水素原子以外の元素を含むアル
ケンから成る群から選択されるオレフィンである請求項
1記載のエポキシ化法。2. The epoxidation process according to claim 1, wherein the olefin is an olefin selected from the group consisting of alkenes having 2 to 30 carbon atoms and alkenes containing elements other than carbon atoms and hydrogen atoms.
ブチレン、シクロヘキセン、不飽和脂肪酸、トランス−
メチルシンナメート、マレイン酸およびアリルハライド
から成る群から選択されるオレフィンである請求項2記
載のエポキシ化法。3. The olefin is ethylene, propylene,
Butylene, cyclohexene, unsaturated fatty acids, trans-
An epoxidation process according to claim 2 which is an olefin selected from the group consisting of methyl cinnamate, maleic acid and allyl halides.
エポキシ化法。4. The epoxidation method according to claim 1, wherein the oxidizing agent is oxygen gas.
ト、銅および鉄から成る群から選択される金属を示す請
求項1記載のエポキシ化法。5. The epoxidation process according to claim 1, wherein Ma and Mb independently of each other represent a metal selected from the group consisting of cobalt, copper and iron.
ェニル基およびシクロヘキシル基から成る群から選択さ
れる環状部分を形成する請求項1記載のエポキシ化法。6. The following formula: And the following formula: The epoxidation method according to claim 1, wherein the moieties represented by are independently of each other a cyclic moiety selected from the group consisting of a phenyl group having a substituent and a cyclohexyl group.
ルおよびこれらの誘導体から成る群から選択される配位
子である請求項1記載のエポキシ化法。7. The epoxidation process according to claim 1, wherein La and Lb are ligands selected from the group consisting of pyridine, imidazole and derivatives thereof.
ート、ピラゾレート、カルボキシレート、ハライドおよ
びアジドから成る群から選択される配位子である請求項
1記載のエポキシ化法。8. The epoxidation process according to claim 1, wherein Xa is a ligand selected from the group consisting of hydroxylate, alkoxylate, pyrazolate, carboxylate, halide and azide.
テート、四フッ化硼素、六フッ化燐、ニトレートおよび
チオシアネートから成る群から選択される対イオンであ
る請求項1記載のエポキシ化法。9. The epoxidation process according to claim 1, wherein Xb is a counterion selected from the group consisting of halides, perchlorates, acetates, boron tetrafluoride, phosphorus hexafluoride, nitrates and thiocyanates.
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリ
ブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングス
テン、レニウム、オスミウム、イリジウムおよび白金か
ら成る群から選択される金属を示し、R1"〜R11"は相
互に独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、ア
シル基、カルボキシレート基、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基および置換アリール基から成る群から
選択される原子または基を示し、R12"は水素原子およ
び置換アルキル基から成る群から選択される原子または
基を示す) で表わされる炭化水素のエポキシ化用バイメタル錯体触
媒。10. The following general formula (3): (In the formula, Ma and Mb are independently of each other vanadium,
A metal selected from the group consisting of chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium and platinum, wherein R 1 "to R 11 " are mutually Independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, amino group, hydroxyl group, alkoxyl group, acyl group, carboxylate group, alkyl group, substituted alkyl group, aryl group and substituted aryl group. A hydrogen atom and a substituted alkyl group, and R 12 "represents an atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom and a substituted alkyl group).
ト、鉄および銅から成る群から選択される金属を示す請
求項10記載の炭化水素のエポキシ化用バイメタル錯体
触媒。11. The bimetal complex catalyst for hydrocarbon epoxidation according to claim 10, wherein Ma and Mb each independently represent a metal selected from the group consisting of cobalt, iron and copper.
水素原子を示し、R6"がメチル基を示し、R12"が水素
原子またはメチル基を示す請求項11記載の炭化水素の
エポキシ化用バイメタル錯体触媒。12. R 1 "-R 5 " and R 7 "-R 11 " each represent a hydrogen atom, R 6 "represents a methyl group, and R 12 " represents a hydrogen atom or a methyl group. Bimetal complex catalyst for epoxidation of hydrocarbons described.
R8"、R10"およびR11"が各々水素原子を示し、R3"、
R6"およびR9"が各々ブチル基を示し、R12"が水素原
子を示す請求項11記載の炭化水素のエポキシ化用バイ
メタル錯体触媒。13. R 1 ", R 2 ", R 4 ", R 5 ", R 7 ",
R 8 ", R 10 " and R 11 "each represent a hydrogen atom, and R 3 ",
The bimetal complex catalyst for epoxidation of hydrocarbons according to claim 11, wherein R 6 "and R 9 " each represent a butyl group, and R 12 "represents a hydrogen atom.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4178122A JPH0768230B2 (en) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | Bimetal complex catalyst for oxidation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4178122A JPH0768230B2 (en) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | Bimetal complex catalyst for oxidation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0699074A JPH0699074A (en) | 1994-04-12 |
JPH0768230B2 true JPH0768230B2 (en) | 1995-07-26 |
Family
ID=16043042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP4178122A Expired - Lifetime JPH0768230B2 (en) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | Bimetal complex catalyst for oxidation |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0768230B2 (en) |
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CN115703849B (en) * | 2021-08-03 | 2024-08-27 | 中国石油天然气股份有限公司 | Supported double-center catalyst and preparation method and application thereof |
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1992
- 1992-07-06 JP JP4178122A patent/JPH0768230B2/en not_active Expired - Lifetime
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JPH0699074A (en) | 1994-04-12 |
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