JPH0762898B2 - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH0762898B2
JPH0762898B2 JP1688885A JP1688885A JPH0762898B2 JP H0762898 B2 JPH0762898 B2 JP H0762898B2 JP 1688885 A JP1688885 A JP 1688885A JP 1688885 A JP1688885 A JP 1688885A JP H0762898 B2 JPH0762898 B2 JP H0762898B2
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film
thermal expansion
recording medium
acid
bis
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俊一 沼田
康二 藤崎
孝栄 池田
徳幸 金城
和悦 吉田
則和 積田
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Hitachi Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
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Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は有機高分子フイルム上にCo−Ni,Co−Cr等の強
磁性金属薄膜を形成した磁気記録媒体に係り、特にカー
ル、しわが少なく、かつ寸法安定性が極めて優れた高密
度記録に適した磁気テープ、または磁気デイスクに関す
る。
The present invention relates to a magnetic recording medium in which a ferromagnetic metal thin film such as Co—Ni, Co—Cr is formed on an organic polymer film, and particularly, curling and wrinkling are reduced. The present invention also relates to a magnetic tape or magnetic disk suitable for high-density recording, which has excellent dimensional stability.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

磁気記録の高密度化に伴い、記録媒体は従来のγ−Fe2O
3に代表される磁性粉微粒子を有機バインダーで混練し
基体上に塗布した、いわゆる塗布型磁気記録媒体から、
Fe,Co,Ni等を主成分とした強磁性金属をスパツタリング
法、真空蒸着法あるいはめつき法で基体上に形成したい
わゆる連続磁性薄膜媒体へと移動しつつある。この種の
磁気記録媒体に関しては、例えば、磯崎真、電子通信学
会誌,67、No.11,1197(1984)に記載されている。
As the density of magnetic recording, the recording medium is conventional gamma-Fe 2 O
From the so-called coating type magnetic recording medium in which magnetic powder fine particles typified by 3 are kneaded with an organic binder and coated on a substrate,
Ferromagnetic metals mainly composed of Fe, Co, Ni, etc. are moving to a so-called continuous magnetic thin film medium formed on a substrate by a sputtering method, a vacuum deposition method or a plating method. This type of magnetic recording medium is described in, for example, Makoto Isozaki, Journal of The Institute of Electronics, Communication, 67 , No. 11, 1197 (1984).

特に、最近においては記録密度の飛躍的向上が期待でき
る垂直磁気記録媒体用の媒体としてCo−Cr膜の研究が精
力的に行われている。通常このCo−Cr膜で優れた磁気特
性を得るためには基体を100℃以上に加熱する必要があ
り、特に真空蒸着法では基体温度を200℃まで加熱する
必要がある。したがつて、磁気テープあるいは磁気デイ
スク用として、Co−Cr膜媒体を作製するにはその基体と
して真空蒸着法では耐熱性の優れたポリイミド系フイル
ムが用いられており、また基体温度がやや低いスパツタ
リング法においては、主にポリエチレンテレフタレート
系フイルムが用いられている。しかし、通常市販されて
いるポリイミドフイルムあるいはポリエチレンテレフタ
レートフイルムでは、熱膨張係数が披着金属の熱膨張係
数よりかなり大きく、フイルムを加熱した状態で金属を
披着すると、熱膨張係数の差によつてカールやしわが発
生し、記録媒体の平坦性を著しく損う。
In particular, recently, Co-Cr films have been vigorously studied as a medium for a perpendicular magnetic recording medium, which is expected to dramatically improve the recording density. Usually, in order to obtain excellent magnetic properties with this Co-Cr film, it is necessary to heat the substrate to 100 ° C or higher, and particularly to heat the substrate temperature to 200 ° C in the vacuum deposition method. Therefore, in order to produce a Co-Cr film medium for magnetic tapes or magnetic disks, a polyimide film with excellent heat resistance is used as the substrate in the vacuum deposition method, and sputtering with a slightly low substrate temperature is used. In the method, a polyethylene terephthalate film is mainly used. However, in a commercially available polyimide film or polyethylene terephthalate film, the coefficient of thermal expansion is considerably larger than the coefficient of thermal expansion of the deposited metal, and when the film is deposited while the film is heated, the difference in thermal expansion coefficient causes Curls and wrinkles occur, and the flatness of the recording medium is significantly impaired.

また、実際に記録媒体として使用する場合、外気温の変
動により、記録媒体自体に寸法の変化が起こる。そのた
め、それをカバーし得る記録のトラツク幅を広くしなけ
ればならず、結果として記録密度を高くできない。従つ
て、高密度磁気記録媒体を実現するには、寸法安定性と
磁性薄膜との熱応力の問題から、耐熱性の優れた低熱膨
張性樹脂材料が不可欠である。
When actually used as a recording medium, the size of the recording medium itself changes due to fluctuations in the outside temperature. Therefore, it is necessary to widen the track width of recording that can cover it, and as a result, the recording density cannot be increased. Therefore, in order to realize a high density magnetic recording medium, a low thermal expansion resin material having excellent heat resistance is indispensable because of problems of dimensional stability and thermal stress with the magnetic thin film.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、Co−Cr等の磁気記録媒体として用いら
れる金属磁性薄膜と熱膨張係数の点でマツチングしてお
り、かつ外気温の変動による寸法変化が極めて少ない特
定の高分子フイルムを基体として用いられることによ
り、高密度に記録可能な磁気テープあるいは磁気デイス
クを提供することにある。
An object of the present invention is to match a metal magnetic thin film used as a magnetic recording medium such as Co-Cr with a thermal expansion coefficient in terms of a coefficient of thermal expansion, and a specific polymer film whose dimensional change due to fluctuations in outside temperature is extremely small is used as a substrate. The purpose of the present invention is to provide a magnetic tape or a magnetic disk that can be used for high density recording.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

上記目的を達成する本発明の磁気記録媒体は金属と同程
度以下の線熱膨張係数(2.0×10-5k-1以下)を有する特
定の化学構造を有する低熱膨張性高分子フイルムを基体
として用いている。この有機高分子材料は、特願昭59−
180549号(特開昭61−60725号公報参照)に示したポリ
イミドを始めとする不飽和環状炭化水素または複素環か
ら構成され、かつ分子軸の折れ曲り角度が40度以内であ
る低熱膨張性樹脂材料からなつている。
The magnetic recording medium of the present invention, which achieves the above-mentioned object, uses a low thermal expansion polymer film having a specific chemical structure and a linear thermal expansion coefficient (2.0 × 10 -5 k -1 or less) as low as that of a metal as a substrate. I am using. This organic polymer material is disclosed in Japanese Patent Application No. 59-
A low thermal expansion resin composed of unsaturated cyclic hydrocarbons or heterocycles such as polyimide shown in JP-A No. 180549 (see JP-A-61-60725) and having a bending angle of the molecular axis within 40 degrees. It is made of materials.

本発明の低熱膨張性ポリマーとしては、ポリイミド、ポ
リオキサジアゾールがある。
The low thermal expansion polymer of the present invention includes polyimide and polyoxadiazole.

本発明に用いる低熱膨張性樹脂材料は、1ケ以上の芳香
環を有し、該芳香環は分子軸を中心として回転容易であ
るが他の方向には柔軟性がない構造(分子構造が、分子
軸を中心に0±40゜の範囲でほぼ直線状を呈する)を有
する芳香族基であつて、該ポリイミド分子が少なくとも
一軸方向に配向されている部分を含むことを特徴とす
る。
The low thermal expansion resin material used in the present invention has one or more aromatic rings, and the aromatic rings have a structure that is easy to rotate about the molecular axis but is not flexible in other directions (the molecular structure is An aromatic group having a substantially linear shape in the range of 0 ± 40 ° around the molecular axis), characterized in that the polyimide molecule contains at least a uniaxially oriented portion.

配向の程度はオーダーパラメータ(S)にして0.07以上
が好ましい。尚、Sは次式にて示される。
The degree of orientation is preferably 0.07 or more in order parameter (S). In addition, S is shown by the following equation.

〔式中、Eは試料の弾性率、E0は均一系(Free cure
後)の弾性率、E∞は無限延伸時の弾性率で約4.0×10
11dyn/cm2である。〕 熱膨張係数比(α/αFREE)で見ると、上記のS値とα
/αFREEとは相関性があり、S値が0.07(7%)程度で
αが約半分になる。本願発明者らは、ポリマー弾性率と
配向との関係を検討してこれを確認した。なお、αは試
料の熱膨張係数、αFREEは均一系(Free cure後)の熱
膨張係数を示す。
[In the formula, E is the elastic modulus of the sample, E 0 is a homogeneous system (Free cure
After), E∞ is the elastic modulus at infinite stretching of about 4.0 × 10
11 dyn / cm 2 . ] Looking at the thermal expansion coefficient ratio (α / α FREE ), the above S value and α
There is a correlation with / α FREE, and α is about half when the S value is about 0.07 (7%). The inventors of the present application examined and confirmed the relationship between the polymer elastic modulus and the orientation. Note that α is the coefficient of thermal expansion of the sample, and α FREE is the coefficient of thermal expansion of the homogeneous system (after free cure).

本発明の要旨は次のとおりである。即ち、有機高分子フ
ィルムの表面に、形成した一層以上の金属薄膜層に記録
される磁気記録媒体において、前記有機高分子フィルム
は、その主鎖が下式〔1〕〜〔7〕に示す構造単位の少
なくとも一つを有し、その線膨張係数が2×10-5k-1
下のものから選択されることを特徴とする磁気記録媒体
にある。
The gist of the present invention is as follows. That is, in the magnetic recording medium in which one or more metal thin film layers are formed on the surface of the organic polymer film, the main chain of the organic polymer film has a structure represented by the following formulas [1] to [7]. A magnetic recording medium having at least one unit and having a linear expansion coefficient of 2 × 10 −5 k −1 or less.

式中、Rはアルキル基,フッ素化アルキル基,アルコキ
シ基,フッ素化アルコキシ基,アシル基またはハロゲン
原子であり、lは0〜4、mは0〜2、nは0〜3、k
は0〜3の整数である。)本発明の低熱膨張性樹脂材料
は、分子配列がランダムでも他ポリマーに比べ低熱膨張
性、高強度、高弾性、高耐熱性であるが、何らかの分子
配向処理を行うことによつて格段にその性質が顕著にな
る。
In the formula, R is an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxy group, a fluorinated alkoxy group, an acyl group or a halogen atom, 1 is 0 to 4, m is 0 to 2, n is 0 to 3, k
Is an integer of 0 to 3. ) The low thermal expansion resin material of the present invention has low thermal expansion property, high strength, high elasticity, and high heat resistance as compared with other polymers even if the molecular arrangement is random, but it is remarkably improved by performing some molecular orientation treatment. The property becomes remarkable.

ポリフエニレンなどの芳香族ポリマーは、一般に剛直で
あるが脆いという欠点があり、芳香環と芳香環の間、−
O−,−S−,CH2 P, −SO2−, CF2 P, などのフレキシブルな結合を導入して、ポリマ全体を可
撓化されている。また、芳香環の結合位置も、o−やm
−位にすると可撓化される。ポリイミドも同様であり、
現在工業化されているポリイミドはすべてが、これらの
中から選ばれた結合を有している。それ故に、本発明に
用い得る低熱膨張性ポリマーは見出されていなかつた。
Aromatic polymers such as polyphenylene generally have the drawback of being rigid but brittle.
O -, - S-, CH 2 P, -SO 2 -, CF 2 P , Introducing a flexible bond such as the entire polymer is flexible. The bonding position of the aromatic ring is also o- or m.
-It becomes flexible when it is in the negative position. Polyimide is the same,
All of the currently industrialized polyimides have bonds selected from these. Therefore, a low thermal expansion polymer which can be used in the present invention has not been found.

低熱膨張性ポリイミドは、芳香族アミノジカルボン誘導
体の単独重合、または芳香族ジアミンあるいは芳香族ジ
イソシアナートと、芳香族テトラカルボン酸誘導体の反
応によつて得ることができる。テトラカルボン酸誘導体
としてはエステル、酸無水物、酸塩化物がある。酸無水
物を用いると、合成上好ましい。合成反応は、一般的に
は、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムア
ミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメチ
ルスルホキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラ
ン、ブチロラクトン、クレゾール、フエノール、ハロゲ
ン化フエノール、シクロヘキサノン、ジオキサンなどの
溶液中で、0〜200℃の範囲で行われる。
The low thermal expansion polyimide can be obtained by homopolymerization of an aromatic aminodicarboxylic derivative or reaction of an aromatic diamine or aromatic diisocyanate with an aromatic tetracarboxylic acid derivative. The tetracarboxylic acid derivative includes ester, acid anhydride and acid chloride. The use of an acid anhydride is preferred for synthesis. The synthetic reaction is generally performed by N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAC), dimethylsulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenation. It is carried out in a solution of phenol, cyclohexanone, dioxane or the like in the range of 0 to 200 ° C.

上記に用いられるアミノジカルボン酸誘導体として具体
例を挙げると、4−アミノフタル酸、4−アミノ−5メ
チルフタル酸、4−(p−アニリノ)−フタル酸、4−
(3,5−ジメチル−4−アニリノ)フタル酸など、ある
いはこれらのエステル、酸無水物、酸塩化物などが挙げ
られる。
Specific examples of the aminodicarboxylic acid derivative used above include 4-aminophthalic acid, 4-amino-5-methylphthalic acid, 4- (p-anilino) -phthalic acid and 4-
Examples thereof include (3,5-dimethyl-4-anilino) phthalic acid and the like, or their esters, acid anhydrides and acid chlorides.

本発明に用いられる芳香族ジアミンとしては、次のもの
が挙げられる。
The following are mentioned as aromatic diamine used for this invention.

p−フエレンジンアミン、2,5−ジアミノトルエン、2,5
−ジアミノキシレン、ジアミノデユレン(2,3,5,6−テ
トラメチル−p−フエニレンジアミン)、2,5−ジアミ
ノベンゾトリフルオライド、2,5−ジアミノアニソー
ル、2,5−ジアミノアセトフエノン、2,5−ジアミノベン
ゾフエノン、2,5−ジアミノジフエニル、2,5−ジアミノ
フルオロベンゼン、ベンジジン、o−トリジン、m−ト
リジン、3,3′,5,5′−テトラメチルベンジジン、3,3′
−ジメトキシベンジジン、3,3′−ジ(トリフルオロメ
チル)ベンジジン、3,3′−ジアセチルベンジジン、3,
3′−ジフルオロベンジジン、オクタフルオロベンジジ
ン、4,4″−ジアミノターフエニル、4,4−ジアミノク
オータフエニル。
p-phenylenediamine, 2,5-diaminotoluene, 2,5
-Diaminoxylene, diaminodeurene (2,3,5,6-tetramethyl-p-phenylenediamine), 2,5-diaminobenzotrifluoride, 2,5-diaminoanisole, 2,5-diaminoacetophenone, 2 , 5-diaminobenzophenone, 2,5-diaminodiphenyl, 2,5-diaminofluorobenzene, benzidine, o-tolidine, m-tolidine, 3,3 ', 5,5'-tetramethylbenzidine, 3, 3 ′
-Dimethoxybenzidine, 3,3'-di (trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-diacetylbenzidine, 3,
3'-difluorobenzidine, octafluorobenzidine, 4,4 "-diaminoterphenyl, 4,4-diaminoquaterphenyl.

また、これらのジイソシアナート化合物も同様に使用で
きる。
Further, these diisocyanate compounds can be used as well.

本発明に用いるテトラカルボン酸誘導体としては、ピロ
メリツト酸、メチルピロメリツト酸、ジメチルピロメリ
ツト酸、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリツト酸、3,
3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸、5,5′−ジメ
チル−3,3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸、p
−(3,4−ジカルボキシフエニル)ベンゼン、またはこ
れらの酸無水物、酸塩化物、エステルなどが挙げられ
る。
As the tetracarboxylic acid derivative used in the present invention, pyromellitic acid, methylpyromellitic acid, dimethylpyromellitic acid, di (trifluoromethyl) pyromellitic acid, 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 5,5'-dimethyl-3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, p
-(3,4-dicarboxyphenyl) benzene, acid anhydrides, acid chlorides, esters thereof and the like can be mentioned.

上記ポリイミドは、特に分子配高させなくても他のポリ
マーに比較して低熱膨張性で、高強度、高弾性である
が、分子鎖を配向させることにより格段にその威力を発
揮することが出来る。例えば、フイルム状の成形品を一
軸または二軸延伸することによつて分子鎖を配列するこ
とが出来る。芳香族ポリイミドは一般に配向処理によつ
て低熱膨張性、高弾性、高強度になることは知られてい
るが、上記ポリイミドに比較し、その効果は全く少な
い。ポリマー鎖の配向させ方は、通常のフイルムを延伸
機で延伸させるだけでなく、ポリイミドまたはその前駆
体ワニスからポリイミド成形体にする過程で、その硬化
反応や溶剤の揮発による収縮を利用しても出来る。すな
わち、ワニスを塗布し、硬化させる際に、収縮を抑制す
ることによつて、分子鎖を配向させることが可能であ
る。硬化収縮による延伸量は、従来の延伸法に比較して
非常に少ないが、本発明のポリイミドにおいてはその程
度の配向処理でも十分効果がある。
The polyimide has low thermal expansion, high strength, and high elasticity as compared with other polymers without particularly increasing the molecular height, but can exert its power remarkably by orienting the molecular chains. . For example, the molecular chains can be arranged by uniaxially or biaxially stretching a film-shaped molded product. It is known that aromatic polyimide generally has low thermal expansion, high elasticity, and high strength due to the orientation treatment, but its effect is quite small as compared with the above polyimide. The method of orienting the polymer chains is not only the stretching of a normal film with a stretching machine, but also the shrinkage due to the curing reaction or the volatilization of the solvent in the process of forming a polyimide molded body from polyimide or its precursor varnish. I can. That is, it is possible to orient the molecular chains by suppressing the shrinkage when the varnish is applied and cured. The amount of stretching due to curing shrinkage is very small as compared with the conventional stretching method, but with the polyimide of the present invention, even such an orientation treatment is sufficiently effective.

また、フイルム状成形体を延伸させる場合、完全に硬化
したものを延伸しようとすると、ポリイミドのガラス転
移温度は極めて高いため、非常に高い温度で延伸しなけ
ればならず、また高温で延伸するにしても分子間凝集力
が非常に強いため配向し難い。容易に配向させるために
は溶剤をある程度含んでいる状態あるいはガラス転移温
度が低いポリアミド酸の状態で延伸して分子を配向さ
せ、その後完全硬化することが好ましい。
Further, in the case of stretching the film-shaped molded product, when trying to stretch a completely cured product, the glass transition temperature of polyimide is extremely high, so it must be stretched at a very high temperature, and it is also necessary to stretch at a high temperature. However, the intermolecular cohesive force is so strong that it is difficult to orient. In order to easily orient, it is preferable that the molecules are orientated by stretching in a state of containing a solvent to a certain degree or in the state of polyamic acid having a low glass transition temperature, and then completely cured.

本発明に用い得るポリイミドがこのような従来のポリマ
の常識から全くはずれた挙動を示す理由は、次のように
考えられる。すなわち、本発明のポリイミド主鎖はほぼ
直線構造を有する。しかし、ポリアミド酸またはポリイ
ミドワニスの状態では溶媒和してランダムコイル状にな
つており、硬化しても直線状構造はとれない。これが、
配向処理が加えられると、このポリイミド分子にとつて
最も安定な直線状の構造をとられるようになつたと考え
られる。
The reason why the polyimide that can be used in the present invention behaves in a manner completely deviated from the conventional wisdom of conventional polymers is considered as follows. That is, the polyimide main chain of the present invention has a substantially linear structure. However, in the state of polyamic acid or polyimide varnish, it is solvated to form a random coil, and even if it is cured, a linear structure cannot be taken. This is,
It is considered that, when the alignment treatment is applied, the polyimide molecule can have the most stable linear structure.

上記の低熱膨張性ポリイミドは、低熱膨張性でないポリ
マーをかなりの量ブレンドまたは共重合させても、その
性質をあまり失わない。本発明のポリイミドの中には多
少機械的に脆いものも含まれるが、そのようなものに対
して、フレキシブルな低熱膨張性でないポリマーをブレ
ンドあるいは共重合させることは好ましい場合もある。
ブレンドあるいは共重合し得るポリマーとしては、例え
ば次のようなジアミンとテトラカルボン酸誘導体から得
られるポリイミドがある。芳香族ジアミンの具体例を挙
げると、m−フエニレンジアミン、4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、4,4′
−ジアミノジフエニルエーテル、ジアミノジフエニルス
ルホン、2,2−ビス(p−アミノフエニル)プロパン、
2,2−ビス(p−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロ
パン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルエ
ーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニル
メタン、ジアミノトルエン、ジアミノベンゾトリフルオ
ライド、1,4−ビス(p−アミノフエノキシ)ベンゼ
ン、4,4′−ビス(p−アミノフエノキシ)ビフエニ
ル、2,2−ビス{4−(p−アミノフエノキシ)フエニ
ル}プロパン、ジアミノアントラキノン、4,4′−ビス
(3−アミノフエノキシフエニル)ジフエニルスルホ
ン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、
1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビ
ス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(ア
ニリノ)テトラデカフルオロヘプタン、一般式 または (R5,R7は2価の有機基、R4,R6は1価の有機基、p,qは
1より大きい整数)で示されるジアミノシロキサン、2,
2−ビス{4−(p−アミノフエノキシ)フエニル}ヘ
キサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(3−アミノ
フエノキシ)フエニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス{4−(2−アミノフエノキシ)フエニル}ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフ
エノキシ)−3,5−ジメチルフエニル}ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフエノキシ)
−3,5−ジトリフルオロメチルフエニル}ヘキサフルオ
ロプロパン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロ
メチルフエノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(4−アミ
ノ−2−トリフルオロメチルフエノキシ)ビフエニル、
4,4′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフ
エノキシ)ビフエニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2
−トリフルオロメチルフエノキシ)ジフエニルスルホ
ン、4,4′−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチ
ルフエノキシ)ジフエニルスルホン、2,2−ビス{4−
(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフエノキシ)フ
エニル}ヘキサフルオロプロパン、などのジアミン類、
並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの反応によつて
得られるジイソシアナート例えばトリレンジイソシアナ
ート、ジフエニルメタンジイソンシアナート、ナフタレ
ンジイソンシアナート、ジフエニルエーテルジイソンシ
アナート、フエニレン−1,3−ジイソンシアナートなど
の芳香族ジイソシアナート類がある。また、テトラカル
ボン酸並びのその誘導体としては次のようなものが挙げ
られる。ここではテトラカルボン酸として例示するが、
これらのエステル化物、酸無水物、塩酸化物ももちろん
使用出来る。2,3,3′,4′−テトラカルボキシジフエニ
ル、3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフエニルエーテ
ル、2,3,3′,4′−テトラカルボキシジフエニルエーテ
ル、3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフエノン、
2,3,3′,4′−テトラカルボキシベンゾフエノン、2,3,
6,7−テトラカルボキシナフタレン、1,4,5,7−テトラカ
ルボキシナフタレン、1,2,5,6−テトラカルボキシナフ
タレン、3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフエニルメ
タン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフ
エニルスルホン、3,4,9,10−テトラカルボキシペリレ
ン、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)
フエニル}プロパン、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボ
キシフエノキシ)フエニル}ヘキサフルオロプロパン、
ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボ
ン酸などがある。また、反応性官能基を有する化合物で
変性し、架橋構造やラダー構造を導入することも出来
る。例えば、次のような方法がある。
The low thermal expansion polyimides described above do not lose much of their properties when blended or copolymerized with significant amounts of non-low thermal expansion polymers. Although some of the polyimides of the present invention are mechanically brittle, it may be preferable to blend or copolymerize such polymers with a flexible, non-low thermal expansion polymer.
Polymers that can be blended or copolymerized include, for example, polyimides obtained from the following diamines and tetracarboxylic acid derivatives. Specific examples of the aromatic diamine include m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,2-bis (anilino) ethane, 4,4 '.
-Diaminodiphenyl ether, diaminodiphenyl sulfone, 2,2-bis (p-aminophenyl) propane,
2,2-bis (p-aminophenyl) hexafluoropropane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, diaminotoluene , Diaminobenzotrifluoride, 1,4-bis (p-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (p-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis {4- (p-aminophenoxy) phenyl} propane, diaminoanthraquinone , 4,4'-bis (3-aminophenoxyphenyl) diphenyl sulfone, 1,3-bis (anilino) hexafluoropropane,
1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) tetradecafluoroheptane, general formula Or (R 5 and R 7 are divalent organic groups, R 4 and R 6 are monovalent organic groups, and p and q are integers greater than 1),
2-bis {4- (p-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2
-Bis {4- (2-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy)
-3,5-Ditrifluoromethylphenyl} hexafluoropropane, p-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethyl) Phenoxy) biphenyl,
4,4'-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-2)
-Trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone, 4,4'-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone, 2,2-bis {4-
Diamines such as (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl} hexafluoropropane,
And diisocyanates obtained by the reaction of these diamines with phosgene, such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate, phenylene-1,3 There are aromatic diisocyanates such as diison cyanate. Further, examples of the derivative of tetracarboxylic acid include the following. Here, as an example of tetracarboxylic acid,
Of course, these ester compounds, acid anhydrides, and salt oxides can also be used. 2,3,3 ', 4'-tetracarboxydiphenyl, 3,3', 4,4'-tetracarboxydiphenyl ether, 2,3,3 ', 4'-tetracarboxydiphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-Tetracarboxybenzophenone,
2,3,3 ', 4'-tetracarboxybenzophenone, 2,3,
6,7-tetracarboxynaphthalene, 1,4,5,7-tetracarboxynaphthalene, 1,2,5,6-tetracarboxynaphthalene, 3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenylmethane, 2, 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenyl sulfone, 3,4,9,10-Tetracarboxyperylene, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy)
Phenyl} propane, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} hexafluoropropane,
Examples include butanetetracarboxylic acid and cyclopentanetetracarboxylic acid. It is also possible to introduce a crosslinked structure or a ladder structure by modifying with a compound having a reactive functional group. For example, there are the following methods.

(i)一般式(III)で表わされる化合物で変性するこ
とによつて、ピロロン環やイソインドロキナゾリンジオ
ン環などを導入する。
(I) A pyrrolone ring, an isoindoloquinazolinedione ring or the like is introduced by modification with a compound represented by the general formula (III).

ここでは、R′は2+x価の芳香族有機基、ZはNH
2基、CONH2基、SO2NH2基から選ばれた基であり、アミノ
基に対して、オルソ位である。xは1または2である。
Here, R'is a 2 + x valent aromatic organic group, and Z is NH.
It is a group selected from two groups, a CONH 2 group, and a SO 2 NH 2 group, and is in an ortho position with respect to an amino group. x is 1 or 2.

(ii)重合性不飽和結合を有するアミン、ジアミン、ジ
カルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸の誘導
体で変性して、硬化時に橋かけ構造を形成する。不飽和
化合物としては、マレイン酸、ナジツク酸、テトラヒド
ロフタル酸、エチニルアニリンなどが使用できる。
(Ii) Modification with an amine, diamine, dicarboxylic acid, tricarboxylic acid, or tetracarboxylic acid derivative having a polymerizable unsaturated bond to form a crosslinked structure during curing. As the unsaturated compound, maleic acid, nadic acid, tetrahydrophthalic acid, ethynylaniline and the like can be used.

(iii)フエノール性水酸基、あるいはカルボン酸を有
する芳香族アミンで変性し、この水酸基またはカルボキ
シル基と反応し得る橋かけ剤を用い網目構造を形成す
る。
(Iii) A network structure is formed by modifying with a phenolic hydroxyl group or an aromatic amine having a carboxylic acid and using a crosslinking agent capable of reacting with the hydroxyl group or the carboxyl group.

本発明において、低熱膨張ポリイミド無機質材料と一体
化する場合、接着性が重要である。無機質材料の表面を
粗化したり、シランカツプリング剤、チタネートカツプ
リング剤、アルミウムアルコレート、アルミニウムキレ
ート、ジルコニウムキレート、アルミニウムアセチルア
セトンなどにより表面処理することが好ましい。これら
の表面処理剤を前記低熱膨張ポリイミドに添加してもよ
い。
In the present invention, the adhesiveness is important when integrated with the low thermal expansion polyimide inorganic material. It is preferable to roughen the surface of the inorganic material or to perform surface treatment with a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum alcoholate, an aluminum chelate, a zirconium chelate, aluminum acetylacetone, or the like. These surface treatment agents may be added to the low thermal expansion polyimide.

本発明において、より熱膨張係数を下げたり、弾性率を
上げたり、流動性をコントロールとしたりするために、
無機質、有機質、または金属などの粉末、繊維、チヨツ
プトストランドなどを混合することも出来る。
In the present invention, in order to further reduce the thermal expansion coefficient, increase the elastic modulus, or control the fluidity,
It is also possible to mix powders of inorganic, organic or metallic materials, fibers, polyester strands and the like.

本発明のポリマーの中には多少機械的に脆いものも含ま
れるが、そのようなものに対して、フレキシブルな低熱
膨張性でないポリマーをブレンドあるいは共重合させる
ことは好ましい場合が多くある。
Although some of the polymers of the present invention are mechanically brittle, it is often preferable to blend or copolymerize such polymers with flexible, non-low thermal expansion polymers.

例えば、(i)低熱膨張性を示すものには機械的に脆い
ものもあるが、フレキシブルなポリマーをブレンドまた
は共重合すると、格段にタフなポリマーになる、(ii)
塗膜などとして使用する場合、金属や無機物に対して接
着し難いものがあるが、シロキサン骨格を導入したり、
アルコキシシラン基を導入することにより接着性を大幅
に向上できる、(iii)複合する相手の無機物に熱膨張
係数を一致させる、など多くのメリツトが挙げられる。
For example, (i) some of them exhibit low thermal expansion and are mechanically brittle, but blending or copolymerizing a flexible polymer results in a significantly tough polymer, (ii)
When used as a coating film, it is difficult to adhere to metals and inorganic substances, but siloxane skeleton is introduced,
There are many merits, such as that the adhesiveness can be significantly improved by introducing an alkoxysilane group, and (iii) the thermal expansion coefficient is made to match the inorganic substance of the partner to be composited.

従来、ポリフエニレンなどの芳香族ポリマーは、一般に
剛直であるが脆いという欠点があり、主鎖中に、−O
−,−S−,CH2 P, CF2 P,−SO2−, などのフレキシブルな結合を導入したり、直線性を有さ
ない、o−結合や、m−結合の芳香環を導入するなどの
工夫をして使用している。これまでに工業化されている
耐熱ポリマーは全てこれらの結合を含んでいるといつて
も過言ではない。それ故、本発明のような低熱膨張性ポ
リマーは発見されておらず、本発明のような磁気記録媒
体もなかつた。
Conventionally, aromatic polymers such as polyphenylene generally have the drawback of being rigid but brittle, and in the main chain, -O
−, −S−, CH 2 P , CF 2 P , -SO 2- , Such as introducing a flexible bond, having no linearity, or introducing an o-bond or m-bond aromatic ring. It is always no exaggeration to say that all of the heat-resistant polymers industrialized to date contain these bonds. Therefore, the low thermal expansion polymer as in the present invention has not been discovered, and the magnetic recording medium as in the present invention has not been found.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下、本発明を実施例によつて詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

実施例1 下記の化学構造を有するポリイミドフイルムをその前駆
体であるポリアミド酸ワニスから、流延法にて作製し
た。ポリプロピレン製キヤリア上にワニスをキヤストし
た後、120℃/10分の条件で乾燥してフイルム化した。キ
ヤリアより剥離した後フイルムの硬化収縮を起させない
ようにフイルムを前後、左右から引張りながら、120→3
50℃/20分,350℃/5分,350℃→室温/20分のスケジユール
のトンネル炉を通し、ポリイミドフイルムとした。
Example 1 A polyimide film having the following chemical structure was prepared from its precursor, polyamic acid varnish, by a casting method. After casting the varnish on a polypropylene carrier, the film was dried at 120 ° C. for 10 minutes. After peeling from the carrier, pull the film from the front, back, left and right so that it does not cause curing shrinkage of the film, 120 → 3
A polyimide film was made by passing through a tunnel furnace of 50 ℃ / 20 minutes, 350 ℃ / 5 minutes, 350 ℃ → room temperature / 20 minutes.

[但し、 フイルムの膜厚は、50μmの平滑なフイルムであり、そ
の線熱膨張係数は長尺方向が0.9×10-5k-1,横方向が1.0
×10-5k-1であつた。
[However, The film thickness is a smooth film with a thickness of 50 μm, and its linear thermal expansion coefficient is 0.9 × 10 -5 k -1 in the longitudinal direction and 1.0 in the lateral direction.
It was x 10 -5 k -1 .

このようにして得たポリイミドフイルムを100mm×70mm
の大きさに切り出し、第1図に示したごとく両端をステ
ンレス製の金具2で固定し、約3kg/cm2の張力をかけて
フイルム1を一様に引張り、真空蒸着装置内に設置し
た。ベルジヤ内を1×10-6Torrの真空度にした後、フイ
ルム裏側からヒーター5で加熱し、フイルム温度を200
℃に保ち、電子線加熱方式蒸着源4を用いてCo−Cr合金
を蒸発させ、Cr組成23重量%、膜厚0.35μmのCo−Cr膜
を作製した。
The polyimide film thus obtained is 100 mm x 70 mm
1 was cut out, and both ends were fixed with stainless steel fittings 2 as shown in FIG. 1, the film 1 was uniformly pulled by applying a tension of about 3 kg / cm 2 , and the film 1 was placed in a vacuum deposition apparatus. After setting the vacuum in the bell jar to 1 × 10 -6 Torr, heat the film from the backside of the film with the heater 5 to increase the film temperature to 200.
The temperature was kept at 0 ° C. and the Co—Cr alloy was evaporated by using the electron beam heating type vapor deposition source 4 to form a Co—Cr film having a Cr composition of 23% by weight and a film thickness of 0.35 μm.

このようにして作製したCo−Cr蒸着フイルムのカールの
大きさは曲率半径を測定することにより求めた。その結
果、Co−Cr薄膜を内側に多少湾曲した。その曲率半径は
290mmであつた。
The curl size of the Co—Cr vapor deposition film thus produced was determined by measuring the radius of curvature. As a result, the Co-Cr thin film was slightly curved inward. Its radius of curvature is
It was 290 mm.

次に、フイルムを裏返して、同様にして裏側にも磁性薄
膜をほぼ同じに膜厚になるように蒸着した。その結果、
フイルムの湾曲はほとんどなくなり、平滑な両面蒸着フ
イルムが得られた。
Next, the film was turned upside down, and a magnetic thin film was similarly vapor-deposited on the back side so that the film thickness was almost the same. as a result,
The curvature of the film was almost eliminated, and a smooth double-sided vapor deposition film was obtained.

実施例2〜5,比較例1〜3 実施例1と同様に種々のポリイミドフイルムを作製し
た。得られたフイルムの熱膨張係数は、表に示した通り
である。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 Various polyimide films were prepared in the same manner as in Example 1. The thermal expansion coefficient of the obtained film is as shown in the table.

また、実施例1と同様にまず片面のみCo−Cr膜を蒸着し
た。蒸着後室温に冷却し、フイルムを取出しその湾曲の
度合を表1に併記した。熱膨張係数が1.0×10-5k-1前後
のものはほぼフラツトであつたが、それより小さいもの
はCo−Cr膜を内側にして多少湾曲し、それより大きいも
のは、その逆に湾曲した。そして、2.5×10-5k-1以上の
ポリイミドフイルムは、カールの度合が極めて大きいこ
とが分る。
Also, as in Example 1, first, a Co—Cr film was vapor-deposited on only one surface. After vapor deposition, the film was cooled to room temperature, the film was taken out, and the degree of curvature thereof is also shown in Table 1. Those with a coefficient of thermal expansion of around 1.0 × 10 -5 k -1 were almost flat, but those with a smaller coefficient of curvature slightly curved with the Co-Cr film inside, and those with a larger coefficient had the opposite curve. did. And, it can be seen that the degree of curling is extremely large in the polyimide film of 2.5 × 10 -5 k -1 or more.

さらに、画面にCo−Cr膜を蒸着すると、片面の蒸着のと
き湾曲度合が小さかつたものは、ほぼフラツトにもどつ
たが、比較例の3種についてはいずれも内部の熱応力の
ためフイルムにしわがよることが分つた。熱膨張係数が
大きくなるほどこの傾向は大きくなつた。
Furthermore, when a Co-Cr film was vapor-deposited on the screen, the one with a small degree of curvature when vapor-deposited on one side returned to almost flat, but for all three types of comparative examples, the film was made into a film due to internal thermal stress. I've found that I can. This tendency increased as the coefficient of thermal expansion increased.

実施例7 実施例1と同じポリイミドフイルム1を用いて、蒸着時
のフイルム温度を200℃とし、真空蒸着法で膜厚0.5μm
のパーマロイ(Ni−20wt%添加Fe)膜7を両面に形成し
た後、その上に厚さ0.2μmのCo−Cr膜8を両面に形成
し二層膜媒体を作製した。その結果、試料はほぼフラツ
トなものが得られた。
Example 7 The same polyimide film 1 as in Example 1 was used, the film temperature during vapor deposition was set to 200 ° C., and the film thickness was 0.5 μm by the vacuum vapor deposition method.
After forming the permalloy (Fe containing Ni-20 wt%) film 7 on both sides, a Co-Cr film 8 having a thickness of 0.2 .mu.m was formed on both sides to prepare a two-layer film medium. As a result, the sample was almost flat.

次いで、試料の両面にフツ素系潤滑油9を塗布して、第
2図に示す断面構造を有するフレキシブル磁気記録媒体
を得た。これを第3図の形状に打抜き、ジヤケツト11に
収納して、第4図の形状、第5図の断面構造を有するフ
ロツピーデイスクを得た。尚、各図中、符号7は軟磁性
膜、8は垂直磁化膜、9は潤滑油層、10は磁気媒体、11
はジヤケツト、12は潤滑油のライナである。
Then, fluorine-based lubricating oil 9 was applied to both surfaces of the sample to obtain a flexible magnetic recording medium having the cross-sectional structure shown in FIG. This was punched into the shape shown in FIG. 3 and housed in the jacket 11 to obtain a floppy disc having the shape shown in FIG. 4 and the sectional structure shown in FIG. In each figure, reference numeral 7 is a soft magnetic film, 8 is a perpendicular magnetization film, 9 is a lubricating oil layer, 10 is a magnetic medium, and 11 is a magnetic medium.
Is a jacket, and 12 is a lubricating oil liner.

実施例8 熱膨張係数が1.2×10-5k-1の下記の化学構造を有するポ
リオキサジアゾールのフイルムを用いて、実施例1と同
様にCo−Cr膜を蒸着した。
Example 8 A Co—Cr film was deposited in the same manner as in Example 1 using a polyoxadiazole film having a thermal expansion coefficient of 1.2 × 10 −5 k −1 and having the following chemical structure.

片面に蒸着した結果、フイルムを内側にしてわずかに湾
曲した。その曲率半径は、250mmであつた。
As a result of vapor deposition on one side, the film was slightly curved with the film inside. The radius of curvature was 250 mm.

〔発明の効果〕 本発明が用いたポリマーは、線膨張係数が小さく、か
つ、そのフィルムは磁性膜を形成してもほとんどカール
しないと云う優れた効果があり、高密度記録が可能な磁
気記録媒体を得ることができる。
[Effects of the Invention] The polymer used in the present invention has an excellent effect that the linear expansion coefficient is small, and the film hardly curls even when a magnetic film is formed. The medium can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の実験に用いた電子線加熱型真空蒸着装
置の概略図、第2図は本発明の実施例に係る磁気記録媒
体の断面図、第3図は磁気記録媒体の外観図、第4図は
ジヤケツトに収納したフロツピーデイスクの外観図、第
5図はフロツピーデイスクの断面図である。 1……フイルム、2……金具、4……蒸着源、5……ヒ
ーター、7……パーマロイ膜、8……Co−Cr膜、9……
潤滑油層、10……磁気媒体、11……ジャケット、12……
潤滑油のライナ。
FIG. 1 is a schematic diagram of an electron beam heating type vacuum evaporation apparatus used in an experiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an external view of the magnetic recording medium. FIG. 4 is an external view of the floppy disc stored in the jacket, and FIG. 5 is a sectional view of the floppy disc. 1 ... Film, 2 ... Metal fitting, 4 ... Evaporation source, 5 ... Heater, 7 ... Permalloy film, 8 ... Co-Cr film, 9 ...
Lubricating oil layer, 10 …… Magnetic medium, 11 …… Jacket, 12 ……
Lubricating oil liner.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤崎 康二 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 池田 孝栄 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 金城 徳幸 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 吉田 和悦 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 積田 則和 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koji Fujisaki 4026 Kuji Town, Hitachi City, Ibaraki Prefecture, Hitachi Research Institute, Ltd. (72) Inventor Takaei Ikeda 4026 Kuji Town, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Tokuyuki Kaneshiro 4026 Kuji-machi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Research Institute, Ltd. (72) Inventor Kaetsu Yoshida 1-280, Higashi Koigakubo, Kokubunji, Tokyo Hitachi Central Research Laboratory, Ltd. (72) Inventor Norikazu Sekida 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji City, Tokyo Metropolitan Research Laboratory, Hitachi, Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機高分子フィルムの表面に、形成した一
層以上の金属薄膜層に記録される磁気記録媒体におい
て、前記有機高分子フィルムは、その主鎖が下式〔1〕
〜〔7〕に示す構造単位の少なくとも一つを有し、その
線膨張係数が2×10-5k-1以下のものから選択されるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 (式中、Rはアルキル基,フッ素化アルキル基,アルコ
キシ基,フッ素化アルコキシ基,アシル基またはハロゲ
ン原子であり、lは0〜4、mは0〜2、nは0〜3、
kは0〜3の整数である。)
1. In a magnetic recording medium in which one or more metal thin film layers are formed on the surface of an organic polymer film, the main chain of the organic polymer film is represented by the following formula [1].
To a magnetic recording medium having at least one of the structural units shown in [7] and having a linear expansion coefficient of 2 × 10 −5 k −1 or less. (In the formula, R is an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxy group, a fluorinated alkoxy group, an acyl group or a halogen atom, l is 0 to 4, m is 0 to 2, n is 0 to 3,
k is an integer of 0 to 3. )
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