JPH0753587A - Method for synthesizing oligonucleotide - Google Patents

Method for synthesizing oligonucleotide

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JPH0753587A
JPH0753587A JP11328194A JP11328194A JPH0753587A JP H0753587 A JPH0753587 A JP H0753587A JP 11328194 A JP11328194 A JP 11328194A JP 11328194 A JP11328194 A JP 11328194A JP H0753587 A JPH0753587 A JP H0753587A
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JP
Japan
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group
compound
formula
acid
solvent
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP11328194A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Koizumi
誠 小泉
Masakatsu Kaneko
正勝 金子
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To simply obtain the subject compound having an anti-AIDS viral action at a low cost and in high purity by synthesizing a substituent-having oligonucleotide on the 3'-terminal hydroxyl group of an oligonucleotide having a basic sequence through phosphorous acid using a DNA synthesizing machine. CONSTITUTION:A compound of formula I [R<1>-R<3> are each H, a 1-4C alkoxy; X<1> is S', S'O, etc.; A is (CH2)h ((h) is 1-6), etc.; Y<1> is hydroxyl group, phenyloxy, etc.,] is reacted with a polymeric substance of formula II (X<2> is oxygen atom, sulfur atom, etc.,), and a DNA chain is elongated on the obtained polymeric substance of formula III using a DNA-synthesizing machine to obtain the objective compound of formula IV [R<4>-R<6> are each H, a 1-4C alkyl, etc.; Z is C, silicon, etc.,); R<7> is H, a 1-4C aralkyl; Y<2> is O2, sulfur atom, etc.; Y<3> is O2, NH group, etc.; X<3> is O2, etc., D is oligonucleotide having a chain length of 2-30].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,3’末端の水酸基にリ
ン酸を介して、置換基を有するオリゴヌクレオチドの製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an oligonucleotide having a substituent at the 3'-terminal hydroxyl group via a phosphoric acid.

【0002】また、本発明は、例えば優れた抗エイズウ
イルス作用を有する置換オリゴヌクレオチドの製造方法
に関する。
The present invention also relates to a method for producing a substituted oligonucleotide having an excellent anti-AIDS virus activity.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、3′末端の水酸基にリン酸を介し
て、置換基を有するオリゴヌクレオチドを合成する方法
としては、リン酸トリエステル液相合成法で行う方法が
知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for synthesizing an oligonucleotide having a substituent through a phosphoric acid at a 3'-terminal hydroxyl group, a method in which a phosphoric acid triester liquid phase synthesis method is used is known.

【0004】該リン酸トリエステル液相合成法は、次の
順序に従って、行われる。
The phosphoric acid triester liquid phase synthesis method is carried out in the following order.

【0005】(I)3′位に脱保護可能な置換基を有す
るリン酸基を有し、5′位の水酸基にジメトキシトリチ
ル基(DMT基)を有し、かつ、必要があれば塩基部分
に通常のDNA合成に使用されるアシル型の保護基を有
したモノヌクレオチドを合成する。
(I) A phosphoric acid group having a deprotectable substituent at the 3'position, a dimethoxytrityl group (DMT group) at the 5'position hydroxyl group, and a base moiety if necessary. A mononucleotide having an acyl-type protecting group used in ordinary DNA synthesis is synthesized.

【0006】(II)上記モノヌクレオチドユニットの
5’末端の水酸基の保護基であるDMT基を除去する、
(III)目的のヌクレオチド配列に対応した、トリエ
ステル法で用いられる保護ヌクレオチドモノマー又はダ
イマーの3′末端のリン酸残基の保護基を除去し、3’
−リン酸ジエステルとする、(IV)(II)で生じた
5′末端の遊離の水酸基と(III)で得られた3′末
端の遊離のリン酸ジエステルを縮合剤を用いて縮合す
る、(V)(IV)で得られたヌクレオチドの5’末端
の水酸基の保護基であるDMT基を除去する、(VI)
以下、所望のヌクレオチド配列を有するオリゴヌクレオ
チドとなるまで(III)、(IV)及び(V)の操作
を繰り返し、3′末端にリン酸を介して所望の置換基を
有し、塩基部分及びリン酸部分に保護基を有した目的の
オリゴヌクレオチドを得る、(VII)塩基性条件下、
塩基部分及びリン酸部分の保護基を除去することによ
り、目的のオリゴヌクレオチドが得られる。
(II) removing the DMT group, which is a protecting group for the hydroxyl group at the 5'end of the mononucleotide unit,
(III) The protecting group of the phosphate residue at the 3'end of the protected nucleotide monomer or dimer used in the triester method corresponding to the desired nucleotide sequence is removed to remove the 3 '
A phosphoric acid diester, wherein the free hydroxyl group at the 5 ′ end generated in (IV) (II) and the free phosphoric acid diester at the 3 ′ end obtained in (III) are condensed using a condensing agent, V) removing the DMT group, which is a protecting group for the hydroxyl group at the 5'end of the nucleotide obtained in (IV), (VI)
Hereinafter, the operations (III), (IV) and (V) are repeated until an oligonucleotide having a desired nucleotide sequence is obtained, and a desired substituent is provided at the 3'end via a phosphoric acid, and a base moiety and To obtain the desired oligonucleotide having a protecting group on the acid moiety (VII) under basic conditions,
By removing the protecting groups on the base moiety and the phosphate moiety, the desired oligonucleotide can be obtained.

【0007】((I)については、続生化学実験講座
「遺伝子研究法I」1頁参照)。
(For (I), refer to page 1 of the Second Biochemical Experiment Course "Gene Research Method I").

【0008】他の方法としては、担体として、ポリアク
リルアミド(E.Felder et. al, Tetrahedron Letters
25、 3967-3970(1984))、ポリスチレン(V.A.Efimov
et.al, Nucleic Acids Res.,11、 8369(1983))または
セルロースアセテート(K.Kamaike et. al, Nucleic
Acids ,Symposium Series 17、 89(1986))を用い、目
的のオリゴヌクレオチドをリン酸トリエステル固相合成
法で合成する方法が知られている。
As another method, as a carrier, polyacrylamide (E. Felder et. Al, Tetrahedron Letters
25 , 3967-3970 (1984)), polystyrene (VAEfimov
et.al, Nucleic Acids Res., 11 , 8369 (1983)) or cellulose acetate (K. Kamaike et. al, Nucleic
Acids, Symposium Series 17 , 89 (1986)) is known to synthesize the desired oligonucleotide by the phosphate triester solid-phase synthesis method.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
液相法では、縮合反応を行うたびに十分に精製しなけれ
ば高純度の目的化合物を得ることはできず、DNA合成
機を用いた、3′末端にリン酸を介して所望の置換基を
有するオリゴヌクレオチドを合成する簡便な方法が望ま
れていた。
However, in the above liquid phase method, a highly pure target compound cannot be obtained unless it is sufficiently purified each time the condensation reaction is carried out. There has been a demand for a convenient method for synthesizing an oligonucleotide having a desired substituent at the ′ -terminal via a phosphoric acid.

【0010】また、上記の固相法では、限定された置換
基(例えば、オルトクロロフェニル基)が、3’末端に
リン酸を介して、結合したオリゴヌクレオチドが合成さ
れるのみで、汎用性が乏しい。
Further, in the above solid phase method, an oligonucleotide in which limited substituents (eg, orthochlorophenyl group) are bound to the 3'end via phosphoric acid is synthesized, which is versatile. poor.

【0011】本発明者等は、長年、鋭意研究を重ねた結
果、所望の塩基配列を有するオリゴヌクレオチドの3′
末端の水酸基にリン酸を介して所望の置換基を有するオ
リゴヌクレオチドをDNA合成機上で容易に合成すると
いう、精製が簡便で、汎用性が高く、コストも安く、高
純度の目的物が得られ、しかも、大量合成にも向く方法
を見いだし、本発明を完成した。
The present inventors have conducted extensive studies for many years, and as a result, 3'of an oligonucleotide having a desired nucleotide sequence has been obtained.
An oligonucleotide with a desired substituent on the terminal hydroxyl group via phosphoric acid is easily synthesized on a DNA synthesizer. Easy purification, high versatility, low cost, and high purity target product are obtained. In addition, the inventors have found a method suitable for mass synthesis and completed the present invention.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は一般
The manufacturing method of the present invention has the general formula

【0013】[0013]

【化5】 [Chemical 5]

【0014】[式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立
に同一又は異なって、水素原子又は炭素数1乃至4個の
アルコキシ基を示し、X1 は−S−基、−SO−基又は
−SO2 −基を示し、Aは−(CH2 )h −基(hは1
乃至16の整数である)、−(CH2 )h O−基(hは
1乃至16の整数である)、−(CH2 )j −O−CO
−(CH2 )k −基(jは正の整数であり、kは0又は
正の整数であり、かつj+kは2乃至16である)、−
(CH2 )j −NH−CO−(CH2 )k −基(jは正
の整数であり、kは0又は正の整数であり、かつj+k
は2乃至16である)、−(CH2 )j −S−CO−
(CH2 )k −基(jは正の整数であり、kは0又は正
の整数であり、かつj+kは2乃至16である)、−
(CH2 )n−O−CO−CH2 (OCH2 CH2 )p
−OCH2 −基(nは正の整数であり、pは0又は正の
整数であり、かつn+pは2乃至100である)を示
し、Y1 は水酸基、置換基を有していてもよいフェニル
オキシ基、あるいはハロゲンで置換されていてもよいエ
チルオキシ基を表わす。]で示される化合物に、一般式
[In the formula, R 1 , R 2 and R 3 independently represent the same or different and each represent a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X 1 represents an -S- group or -SO- group. A group or a —SO 2 — group, A is a — (CH 2 ) h — group (h is 1
To 16 of an integer), - (CH 2) h O- group (h is an integer of 1 to 16), - (CH 2) j -O-CO
- (CH 2) k - group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k is 2 to 16), -
(CH 2) j -NH-CO- (CH 2) k - group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k
It is 2 to 16), - (CH 2) j -S-CO-
(CH 2 ) k-group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k is 2 to 16),-
(CH 2) n-O- CO-CH 2 (OCH 2 CH 2) p
-OCH 2 - group (n is a positive integer, p is 0 or a positive integer, and n + p is 2 to 100) indicates, Y 1 is hydroxyl group, which may have a substituent It represents a phenyloxy group or an ethyloxy group which may be substituted with halogen. ] To the compound represented by the general formula

【0015】[0015]

【化6】 [Chemical 6]

【0016】[式中、X2 は、酸素原子、硫黄原子又は
NH基を示し、HX2 −P(丸囲み)は高分子物質を表
わす。]で示される高分子物質を反応させる(但し、式
(2)におけるY1 が水酸基の場合はカルボン酸の活性
化剤と反応させた後に高分子物質(3)と反応させ
る。)ことにより、一般式
[In the formula, X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group, and HX 2 -P (circled) represents a polymer substance. ] The polymer substance represented by the formula (2) is reacted (however, when Y 1 in the formula (2) is a hydroxyl group, it is reacted with the carboxylic acid activator and then with the polymer substance (3)). General formula

【0017】[0017]

【化7】 [Chemical 7]

【0018】[式中、R1 、R2 、R3 、X1 、A、X
2 及びHX2 −P(丸囲み)は前述のものと同意義を示
す。]で示される高分子物質(4)を、DNA合成機を
用いて、DNA鎖を伸長させること特徴とする、一般式
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , X 1 , A, X
2 and HX 2 -P (circled) have the same meaning as described above. ] The high molecular substance (4) represented by

【0019】[0019]

【化8】 [Chemical 8]

【0020】[式中、R4 、R5 、R6 及びZ基(式
中、R4 、R5 及びR6 はそれぞれ独立に同一又は異な
って水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基又は置換基を有していて
もよいアントラキノニル基を示し、Zは炭素又はケイ素
原子を示すか、R5 、R6 及びZが一緒になってフルオ
レニル基又はキサンテニル基を示すか、または、R4
5 、R6 及びZが一緒になって、水素原子を示す)を
示し、R7 は水素原子、置換基を有していてもよい炭素
数1乃至4個のアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル
基、Y2 は同一又は異なって酸素原子、硫黄原子、又は
NH基を示し、Y3 は酸素原子、硫黄原子、NH基、炭
素数1乃至4個のアルキレン基又はフェニレン基を示
し、X3 は酸素又は硫黄原子を示し、Dは鎖長が2乃至
30のオリゴヌクレオチドを示す。但し、Dにおいては
各オリゴヌクレオチドの5′末端と3′末端の水酸基を
含まない。]で表される化合物の製造方法である。
[In the formula, R 4 , R 5 , R 6 and Z groups (in the formula, R 4 , R 5 and R 6 are independently the same or different and each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) Represents an optionally substituted aryl group or an optionally substituted anthraquinonyl group, Z represents a carbon or silicon atom, or R 5 , R 6 and Z together form fluorenyl. A group or a xanthenyl group, or R 4 ,
R 5 , R 6 and Z together represent a hydrogen atom), and R 7 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituent. An optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, Y 2 is the same or different and represents an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group, and Y 3 is an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group. Represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylene group, X 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and D represents an oligonucleotide having a chain length of 2 to 30. However, D does not include hydroxyl groups at the 5'end and 3'end of each oligonucleotide. ] It is a manufacturing method of the compound represented by these.

【0021】本発明の方法を工程表1及び2に示す。The method of the present invention is shown in process charts 1 and 2.

【0022】[0022]

【化9】 [Chemical 9]

【0023】[0023]

【化10】 [Chemical 10]

【0024】[0024]

【化11】 [Chemical 11]

【0025】[0025]

【化12】 [Chemical 12]

【0026】表中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、X1 、X2 、X3 、HX2 −P(丸囲み)、
1 、Y2 、Y3 、A、Zは前述の同意義を示す(但
し、化合物(1)以外の化合物においては、R4 、R
5 、R6 及びZが一緒になって、水素原子を示さな
い)。R8aはメチル基又はシアノエチル基を示し、R8b
はクロロ基で置換されていてもよいフェニル基を示し、
8 はメチル基、シアノエチル基又はクロロ基で置換さ
れていてもよいフェニル基、水素原子を示し、Xはハロ
ゲン原子(好適には塩素、臭素、ヨウ素)を示し、R9a
は水素原子又は保護された水酸基を示し、A1 は炭素数
1乃至20のアルキレン基を示し、mは1乃至14の整
数を示し、nは1乃至28の整数を示し、B,B′及び
B″は塩基部分及びリン酸部分が保護されたアデニンヌ
クレオチド、グアニンヌクレオチド、チミンヌクレオチ
ド、シトシンヌクレオチド及びウラシルヌクレオチドの
塩基部分を示し(但し、所望の塩基配列となるように選
択される)、但し、B′は所望の塩基配列を有するDの
3′末端ヌクレオチドの塩基部分を示し、B″は所望の
塩基配列を有するDの5′末端ヌクレオチドの塩基部分
を示し、Dは所望のオリゴヌクレオチドを示し(但し、
5′末端の5′水酸基及び3′末端の3′水酸基は含ま
ない)、Qはハロゲノアルキル基、、ハロゲノフェニル
基又はニトロフェニル基を示し、好適には、2,2,2
−トリクロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2
−クロロエチル基、2,2,2−トリブロモエチル基、
2,2−ジブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2−
ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基、2,4−ジ
ニトロフェニル基、2,4,5−トリクロロフェニル
基、2,3,4,5,6−ペンタクロロフェニル基を示
し(さらに好適には、トリクロロエチル基やオルトニト
ロフェニル基)、Vは低級アルキル基(好適にはメチ
ル、エチル、イソプロピル基、特にイソプロピル基)を
示す。
In the table, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6, R 7, X 1, X 2, X 3, HX 2 -P ( circled),
Y 1 , Y 2 , Y 3 , A and Z have the same meanings as described above (however, in compounds other than compound (1), R 4 , R 3
5 , R 6 and Z together do not represent a hydrogen atom). R 8a represents a methyl group or a cyanoethyl group, and R 8b
Represents a phenyl group which may be substituted with a chloro group,
R 8 represents a methyl group, a phenyl group which may be substituted with a cyanoethyl group or a chloro group, a hydrogen atom, X represents a halogen atom (preferably chlorine, bromine or iodine), and R 9a
Represents a hydrogen atom or a protected hydroxyl group, A 1 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, m represents an integer of 1 to 14, n represents an integer of 1 to 28, B, B ′ and B ″ represents a base portion of an adenine nucleotide, a guanine nucleotide, a thymine nucleotide, a cytosine nucleotide, and a uracil nucleotide in which a base portion and a phosphate portion are protected (provided that a desired base sequence is selected), B'represents the base portion of the 3'terminal nucleotide of D having the desired base sequence, B "represents the base portion of the 5'terminal nucleotide of D having the desired base sequence, and D represents the desired oligonucleotide. (However,
5'-hydroxyl group at the 5'-terminal and 3'-hydroxyl group at the 3'-terminal are not included), Q represents a halogenoalkyl group, a halogenophenyl group or a nitrophenyl group, and preferably 2,2,2
-Trichloroethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2
-Chloroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group,
2,2-dibromoethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
A nitrophenyl group, a 4-nitrophenyl group, a 2,4-dinitrophenyl group, a 2,4,5-trichlorophenyl group, a 2,3,4,5,6-pentachlorophenyl group (more preferably, trichlorophenyl group) (Ethyl group or orthonitrophenyl group), V is a lower alkyl group (preferably methyl, ethyl, isopropyl group, especially isopropyl group).

【0027】次に、各工程について詳述する。Next, each step will be described in detail.

【0028】(第1工程)本工程は、不活性溶剤中で、
脱酸剤の存在下、2−メルカプトエタノール(6)に、
ω−ハロゲノカルボン酸(5)を反応させて化合物
(7)を得る工程である。
(First Step) In this step, in an inert solvent,
In the presence of a deoxidizing agent, 2-mercaptoethanol (6),
In this step, ω-halogenocarboxylic acid (5) is reacted to obtain compound (7).

【0029】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロ
ライド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノ
ール、イソアミルアルコールのようなアルコール類;硫
酸水のような希釈酸;水酸化ナトリウム水のような希釈
塩基;水;アセトン、メチルエチルケトンのようなケト
ン類;ピリジンのような複素環アミン類又はアセトニト
リルのようなニトリル類をあげることができ、好適に
は、アセトンなどのケトン類やエタノール、プロパノー
ルなどのアルコール類をあげられる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. ;
Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; dimethylformamide,
Amides such as dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, isoamyl alcohol; sulfuric acid water Diluted acids such as sodium hydroxide; dilute bases such as aqueous sodium hydroxide; water; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitrites such as acetonitrile. , Ketones such as acetone, and alcohols such as ethanol and propanol.

【0030】使用される脱酸剤としては炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素
ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物塩、トリエチルアミンのような有機アミン類をあげる
ことができるが、好適にはアルカリ金属炭酸塩(特に炭
酸カリウム)である。
The deoxidizer used is potassium carbonate,
Examples thereof include alkali metal carbonates such as sodium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and organic amines such as triethylamine. However, it is preferably an alkali metal carbonate (particularly potassium carbonate).

【0031】反応温度と反応時間は使用される溶剤、脱
酸剤等によって異なるが炭酸カリウムを用いる場合は、
8時間加熱還流する。
The reaction temperature and reaction time vary depending on the solvent, deoxidizing agent, etc. used, but when potassium carbonate is used,
Heat at reflux for 8 hours.

【0032】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0033】(第2工程)本工程は、不活性溶剤中、化
合物(7)に、脱酸剤の存在下、酸性条件下で除去し得
る保護化試薬(好適にはジメトキシトリチルクロリド)
を反応させて、化合物(7)の水酸基を保護した化合物
(8)を得る工程である。
(Second Step) In this step, a protecting reagent (preferably dimethoxytrityl chloride) which can be removed from compound (7) in an inert solvent in the presence of a deoxidizing agent under acidic conditions is used.
Is a step of obtaining a compound (8) in which the hydroxyl group of the compound (7) is protected.

【0034】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないがベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類;アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類;ピリジンのよう
な複素環アミン類又はアセトニトリルのようなニトリル
類をあげることができ、好適には、複素環アミン類(特
にピリジン)をあげられる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride and chloroform. Halogenated hydrocarbons such as; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; acetone,
Mention may be made of ketones such as methyl ethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitriles such as acetonitrile, and preferably heterocyclic amines (particularly pyridine).

【0035】使用される保護化試薬としては、トリチル
クロリド、モノメトキシトリチルクロリド、ジメトキシ
トリチルクロリド、トリメトキシトリチルクロリドなど
のトリチルハライド類があげられるが、好適にはジメト
キシトリチルクロリドである。
Examples of the protecting reagent used include trityl halides such as trityl chloride, monomethoxytrityl chloride, dimethoxytrityl chloride and trimethoxytrityl chloride, but dimethoxytrityl chloride is preferred.

【0036】使用される脱酸剤としては反応を阻害せ
ず、生成物及び出発物質を分解しないものであれば特に
限定はないが、好適にはピリジン、ジメチルアミノピリ
ジンのような芳香族アミン類である。
The deoxidizing agent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and does not decompose the product and the starting material, but aromatic amines such as pyridine and dimethylaminopyridine are preferred. Is.

【0037】反応温度と反応時間については使用する保
護化試薬や脱酸剤の種類によって異なるが、保護化試薬
としてジメトキシトリチルクロリドを用いて、ピリジン
を溶剤と脱酸剤と兼ねて、使用する場合は室温で2時間
である。
The reaction temperature and reaction time will vary depending on the type of protecting reagent and deoxidizing agent used, but when dimethoxytrityl chloride is used as the protecting reagent and pyridine is used as both a solvent and a deoxidizing agent. Is for 2 hours at room temperature.

【0038】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0039】(第3工程)本工程は不活性溶剤中、化合
物(9)(容易に入手し得るジオール体を第2工程で示
した方法と同様にして、トリチル化することにより得ら
れる。)にジカルボン酸無水物(10)を反応させて、
化合物(8)を得る工程である。
(Third step) In this step, compound (9) (obtained by tritylating an easily available diol in the same manner as in the second step) in an inert solvent. Is reacted with dicarboxylic acid anhydride (10),
In this step, compound (8) is obtained.

【0040】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類;アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類;ピリジンのよう
な複素環アミン類又はアセトニトリルのようなニトリル
類をあげることができ、好適には、塩化メチレンのよう
なハロゲン化炭化水素があげられる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride and chloroform. Halogenated hydrocarbons such as; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; acetone,
Mention may be made of ketones such as methyl ethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitrites such as acetonitrile, with halogenated hydrocarbons such as methylene chloride being preferred.

【0041】使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジ
メチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンのようなピ
リジン類があげられるが、好適には、ジメチルアミノピ
リジンである。
Examples of the deoxidizing agent used include pyridines such as pyridine, dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine, but dimethylaminopyridine is preferred.

【0042】使用されるジカルボン酸無水物としては、
炭素数3乃至16個のα,ω−アルキルジカルボン酸の
無水物であれば、特に限定はないが、好適にはコハク酸
無水物である。
The dicarboxylic acid anhydride used is
The anhydride of an α, ω-alkyldicarboxylic acid having 3 to 16 carbon atoms is not particularly limited, but succinic anhydride is preferred.

【0043】反応温度と反応時間は使用される、酸無水
物、脱酸剤等により異なるが、コハク酸無水物を用い、
ジメチルアミノピリジンを脱酸剤として使用する場合に
は、室温で30分である。
Although the reaction temperature and reaction time vary depending on the acid anhydride, deoxidizing agent, etc. used, succinic anhydride is used.
When dimethylaminopyridine is used as a deoxidizing agent, it is 30 minutes at room temperature.

【0044】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0045】(第4工程)本工程は、不活性溶剤中、遊
離のカルボキシル基を有する化合物(8)のカルボキシ
ル基にエステル形成試薬を反応させた後、置換基を有し
ていてもよいフェノールと反応させ、活性エステル
(2)を形成させる工程である。
(Step 4) In this step, the carboxyl group of the compound (8) having a free carboxyl group is reacted with an ester forming reagent in an inert solvent, and then a phenol optionally having a substituent is used. Is a step of forming an active ester (2) by reacting with.

【0046】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトンメチルイソブチルケトン、イソ
ホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類があげられ、好適にはハロゲン化炭
化水素類(特にメチレンクロリド)、アミド類(特にジ
メチルホルムアミド)である。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene. , Halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, esters such as diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone methyl isobutyl ketone, ketones such as isophorone, cyclohexanone; nitroethane, Nitro compounds such as nitrobenzene; Nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; Amides such as formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; Dimethy Sulfoxides, sulfoxides such as sulfolane and the like, preferably a halogenated hydrocarbon (particularly methylene chloride), amides (particularly dimethylformamide).

【0047】使用されるフェノールとしては、活性エス
テルとして使用できるものであれば特に限定はないが、
4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール、
2,4,5−トリクロルフェノール、2,3,4,5,
6−ペンタクロロフェノール、2,3,5,6−テトラ
フルオロフェノールをあげることができるが、好適には
ペンタクロロフェノールである。
The phenol used is not particularly limited as long as it can be used as an active ester.
4-nitrophenol, 2,4-dinitrophenol,
2,4,5-Trichlorophenol, 2,3,4,5
6-Pentachlorophenol and 2,3,5,6-tetrafluorophenol can be mentioned, but pentachlorophenol is preferred.

【0048】使用されるエステル形成試薬としては、例
えば、N−ヒドロキシサクシイミド、1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン
−2,3−ジカルボキシイミドのようなN−ヒドロキシ
化合物類;1,1′−オキザリルジイミダゾール、N,
N′−カルボニルジイミダゾールのようなジイミダゾー
ル化合物類;2,2′−ジピリジルジサルファイドのよ
うなジサルファイド化合物類;N,N′−ジサクシンイ
ミジルカーボネートのようなコハク酸化合物類;N,
N′−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホス
フィニッククロライドのようなホスフィニッククロライ
ド化合物類;N,N′−ジサクシンイミジルオキザレー
ト(DSO)、N,N−ジフタールイミジルオキザレー
ト(DPO)、N,N′−ビス(ノルボルネニルサクシ
ンイミジル)オキザレート(BNO)、1,1′−ビス
(ベンゾトリアゾリル)オキザレート(BBTO)、
1,1′−ビス(6−クロロベンゾトリアゾリル)オキ
ザレート(BCTO)、1,1′−ビス(6−トリフル
オロメチルベンゾトリアゾリル)オキザレート(BTB
O)のようなオキザレート化合物類、ジシクロヘキシル
カーボジイミド(DCC)などのカーボジイミド類があ
げられ、好適にはジイミダゾール化合物類、カーボジイ
ミド類(特に、DCC)である。
Examples of the ester-forming reagent used include N-hydroxy compounds such as N-hydroxysuccinimide, 1-hydroxybenzotriazole, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide; 1,1'-oxalyldiimidazole, N,
Diimidazole compounds such as N'-carbonyldiimidazole; Disulfide compounds such as 2,2'-dipyridyldisulfide; Succinic acid compounds such as N, N'-disuccinimidyl carbonate; N,
Phosphinic chloride compounds such as N'-bis (2-oxo-3-oxazolidinyl) phosphinic chloride; N, N'-disuccinimidyl oxalate (DSO), N, N-diphtalimidylo Xizarate (DPO), N, N′-bis (norbornenylsuccinimidyl) oxalate (BNO), 1,1′-bis (benzotriazolyl) oxalate (BBTO),
1,1'-bis (6-chlorobenzotriazolyl) oxalate (BCTO), 1,1'-bis (6-trifluoromethylbenzotriazolyl) oxalate (BTB)
Examples thereof include oxalate compounds such as O) and carbodiimides such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC), and preferably diimidazole compounds and carbodiimides (particularly DCC).

【0049】反応温度及び反応時間は、使用されるエス
テル形成試薬及び溶剤の種類によって異なるが、0℃乃
至100℃で5乃至50時間、特にペンタクロルフェノ
ールとDCCをDMF中で使用する場合には室温で18
時間である。
The reaction temperature and reaction time will vary depending on the type of ester-forming reagent and solvent used, but may range from 0 ° C. to 100 ° C. for 5 to 50 hours, especially when pentachlorophenol and DCC are used in DMF. 18 at room temperature
It's time.

【0050】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0051】(第5工程)本工程は、不活性溶剤中、脱
酸剤の存在下、化合物(9)を化合物(11)と反応さ
せ、化合物(2)を得る工程である。
(Step 5) In this step, compound (9) is reacted with compound (11) in the presence of a deoxidizing agent in an inert solvent to obtain compound (2).

【0052】使用される溶剤としては反応を阻害しない
ものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよう
なアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホランのよう
なスルホキシド類があげられ、好適にはハロゲン化炭化
水素類、特にメチレンクロリドである。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene; such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate Esters; acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, and cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, hexamethyl Examples thereof include amides such as phosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, preferably halogenated hydrocarbons, particularly methylene chloride.

【0053】また使用される脱酸剤としてはトリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシ
クロ〔2.2.2〕オクタン(DABCO)、1,8−
ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−7−エン(D
BU)のような有機塩基類、好適には、有機塩基類、特
にピリジン、N−メチルモルホリンである。
Deoxidizing agents used include triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine and 4- (N, N-
Dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-
Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (D
BU) organic bases, preferably organic bases, especially pyridine, N-methylmorpholine.

【0054】反応温度及び反応時間は、使用される脱酸
剤によって、異なるが、通常10乃至40℃で、1乃至
5時間である。
The reaction temperature and reaction time will differ depending on the deoxidizing agent used, but will usually be 10 to 40 ° C. and 1 to 5 hours.

【0055】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0056】(第6工程)本工程は、不活性溶剤中、第
5工程で得られる活性化されたカルボキシル基をする化
合物(2)をアルキレン基を介してアミノ基、水酸基、
スルフヒドリル基等の結合したコントロールポアグラス
(CPG)のような高分子物質(3)に反応させて、オ
リゴヌクレオチド合成のための担体として使用できる高
分子誘導体(4)を得る工程である。
(Sixth step) In this step, the compound (2) having an activated carboxyl group obtained in the fifth step is treated with an amino group, a hydroxyl group, and
In this step, a polymer derivative (4) that can be used as a carrier for oligonucleotide synthesis is obtained by reacting with a polymer substance (3) such as control pore glass (CPG) having a sulfhydryl group bonded thereto.

【0057】本工程に使用される高分子物質(3)は、
一般に担体として使用されるものであれば、特に限定は
ないが、担体の、粒子の大きさ、三次元網目構造による
表面積の広さ、親水基部位の比率、化学組成、圧力に対
する強度等について検討する必要がある。
The polymer substance (3) used in this step is
There is no particular limitation as long as it is generally used as a carrier, but the carrier size, particle size, surface area due to three-dimensional network structure, ratio of hydrophilic groups, chemical composition, strength against pressure, etc. are examined. There is a need to.

【0058】使用される担体としては、セルロース、デ
キストラン、アガロ−スのような多糖類誘導体、ポリア
クリルアミドゲル、ポリスチレンジュシ、ポリエチレン
グリコールのような合成高分子、シリカゲル、多孔性ガ
ラス、金属酸化物のような無機物質等を挙げることがで
き、具体的には、アミノプロピル−CPG、長鎖アミノ
アルキル−CPG(以上、CPG Inc. 製)、コスモシ
ールNH2 、コスモシールDiol(以上、ナカライテ
スク社製)、CPC−Silica Carrier SilaneCoated、
アミノプロピル−CPG−550Å、アミノプロピル−
CPG−1400Å、ポリエチレン グリコール 50
00 モノメチルエーテル(以上、Furuka社
製)、p−アルコキシベンジル アルコール レジン、
アミノメチルレジン、ヒドロキシメチル レジン(以
上、国産化学社製)、ポリエチレングリコール 140
00 モノメチルエーテル(以上、ユニオン カーバイ
ド社製)のような市販の担体を挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
Examples of the carrier to be used include polysaccharide derivatives such as cellulose, dextran and agarose, polyacrylamide gel, polystyrene jusi, synthetic polymers such as polyethylene glycol, silica gel, porous glass and metal oxides. Examples of such inorganic substances include, specifically, aminopropyl-CPG, long-chain aminoalkyl-CPG (above, manufactured by CPG Inc.), Cosmoseal NH 2 , Cosmosir Diol (above, Nacalai Tesque, Inc.). Manufactured by CPC-Silica Carrier SilaneCoated,
Aminopropyl-CPG-550Å, Aminopropyl-
CPG-1400Å, polyethylene glycol 50
00 monomethyl ether (above, manufactured by Furuka), p-alkoxybenzyl alcohol resin,
Aminomethyl resin, hydroxymethyl resin (all manufactured by Kokusan Kagaku Co., Ltd.), polyethylene glycol 140
Examples thereof include commercially available carriers such as 00 monomethyl ether (above, manufactured by Union Carbide Co.).
It is not limited to these.

【0059】また、担体に結合した官能基としては、好
適には、アミノ基、スルフヒドリル基、水酸基を挙げる
ことができる。
The functional group bonded to the carrier is preferably an amino group, a sulfhydryl group or a hydroxyl group.

【0060】本工程に使用される溶剤としては反応を阻
害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シ
クロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン、ニト
ロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、
イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類があげられ、好適にはハロゲン化炭化水素類
(特にメチレンクロリド)、アミド類(特にジメチルホ
ルムアミド)である。反応温度は通常−20乃至150
℃であり、好適には0乃至50℃である。反応時間は使
用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通
常1乃至200時間であり、好適には、24乃至100
時間である。反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中
から、濾過により高分子担体を回収し、メチレンクロリ
ドのような有機溶媒で洗浄後、減圧下乾燥することによ
って得られる。 (第7工程)本工程は、不活性溶剤中、化合物(4)に
脱保護化試薬を反応させて、水酸基の保護基を選択的に
除去して、化合物(12)を製造する工程である。 な
お、本工程から第10工程までは、DNA合成機上で通
常、実施される。
The solvent used in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene. Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; acetonitrile,
Nitriles such as isobutyronitrile; amides such as formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and preferably halogenated Hydrocarbons (especially methylene chloride) and amides (especially dimethylformamide). The reaction temperature is usually -20 to 150.
C., preferably 0 to 50.degree. While the reaction time varies depending on the starting materials used, solvent, reaction temperature, etc., it is generally 1 to 200 hours, and preferably 24 to 100.
It's time. After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the polymer carrier is recovered from the reaction mixture by filtration, washed with an organic solvent such as methylene chloride, and then dried under reduced pressure. (Seventh Step) This step is a step of reacting the compound (4) with a deprotecting reagent in an inert solvent to selectively remove the hydroxyl-protecting group to produce a compound (12). . The steps from the 10th step to the 10th step are usually carried out on a DNA synthesizer.

【0061】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−
ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコール類;アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類があげられ、さらに好適には、アルコール類
(特にメタノール、エタノール)や塩化メチレン及び脱
保護化試薬として酢酸を用いる場合は酢酸と水の混液が
あげられる。使用される脱保護化試薬としては、通常用
いられるものであれば、特に制限はないが、保護基がト
リアリールメチル基の場合には、例えば酢酸、ジクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸及び臭化亜鉛のようなル
イス酸類があげられ、好適には酢酸、ジクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸である。反応温度は使用される試薬、原
料、溶剤などにより異なるが、通常−10乃至100℃
であり、好適には0乃至50℃である。反応時間は使用
される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常
1分間乃至50時間であり、好適には、1分間乃至24
時間である。反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中
から、濾過により高分子担体を回収し、メチレンクロリ
ドのような有機溶媒で洗浄後、減圧下乾燥することによ
って得られる。 (第8工程)本工程は、いずれも5′−水酸基にジメト
キシトリチル基を有しており、塩基部分は望ましい塩基
配列の3′末端部の塩基であり、3′−水酸基にリンを
介して結合させたい所望のアルキルオキシ基や、フェニ
ルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキル基、アラル
キル基あるいはフェニル基の結合した(13)、(1
3′)、あるいは3’−H−ホスホネート(13″)
を、高分子物質(12)に反応させた後、必要であれば
チオエート化、アルキルアミノ化を行なって、CPGの
ような高分子物質に所望の塩基配列の3′末端ヌクレオ
チドユニットの結合した(14)を得る工程である。
以下、使用される化合物(13)、(13′)、(1
3″)ごとに説明する。
The solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene;
Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-
Alcohols such as butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane, nitrobenzene; Nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile;
Examples include amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane, and more preferably alcohols (especially methanol and ethanol), methylene chloride, and demethylated. When acetic acid is used as the protecting reagent, a mixed solution of acetic acid and water can be used. The deprotecting reagent used is not particularly limited as long as it is usually used, but when the protecting group is a triarylmethyl group, for example, acetic acid, dichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, hydrochloric acid and bromide. Examples of Lewis acids such as zinc are acetic acid, dichloroacetic acid and trifluoroacetic acid. The reaction temperature will differ depending on the reagents, raw materials, solvent, etc. used, but is usually −10 to 100 ° C.
And preferably 0 to 50 ° C. While the reaction time varies depending on the raw materials used, solvent, reaction temperature, etc., it is generally 1 minute to 50 hours, and preferably 1 minute to 24 hours.
It's time. After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the polymer carrier is recovered from the reaction mixture by filtration, washed with an organic solvent such as methylene chloride, and then dried under reduced pressure. (Eighth step) In this step, each has a dimethoxytrityl group at the 5'-hydroxyl group, the base portion is the base at the 3'-terminal portion of the desired base sequence, and the 3'-hydroxyl group is bonded via phosphorus. Desired alkyloxy group to be bonded, phenyloxy group, aralkyloxy group, alkyl group, aralkyl group or phenyl group bonded (13), (1
3 ') or 3'-H-phosphonate (13 ")
Is reacted with a polymer substance (12) and, if necessary, subjected to thioation and alkylamination to bond the 3'-terminal nucleotide unit of a desired base sequence to the polymer substance such as CPG ( This is the step of obtaining 14).
Hereinafter, the compounds (13), (13 ') and (1
3 ″) will be described.

【0062】(a)本工程において化合物(13)を反
応させる場合には、不活性溶剤中、すなわち、アセトニ
トリル、テトラヒドロフラン、メチレンクロリド(好適
には、アセトニトリル)等中、酸性物質を使用して行
う。する。
(A) When the compound (13) is reacted in this step, it is carried out using an acidic substance in an inert solvent, that is, in acetonitrile, tetrahydrofuran, methylene chloride (preferably acetonitrile) or the like. . To do.

【0063】使用される酸性物質としては、テトラゾー
ル等の酸性物質があげられ、好適には、テトラゾールで
ある。
Examples of the acidic substance used include acidic substances such as tetrazole, and preferably tetrazole.

【0064】反応終了後、目的物をアセトニトリルで洗
浄し、次の酸化工程にそのまま用いる。
After completion of the reaction, the desired product is washed with acetonitrile and used as it is in the next oxidation step.

【0065】本工程の酸化反応において使用される酸化
剤としては、通常、酸化反応に使用されるものであれば
特に限定はないが、好適には、過マンガン酸カリウム、
二酸化マンガンのような酸化マンガン類;四酸化ルテニ
ウムのような酸化ルテニウム類;二酸化ゼレンのような
ゼレン化合物;塩化鉄のような鉄化合物:四酸化オスミ
ウムのようなオスミウム化合物;酸化銀のような銀化合
物;酢酸水銀のような水銀化合物、酸化鉛、四酸化鉛の
ような酸化鉛化合物;クロム酸カリウム、クロム酸−硫
酸錯体、クロム酸−ピリジン錯体のようなクロム酸化合
物、セリウムアンモニウムナイトレイト(CAN)のよ
うなセリウム化合物等の無機金属酸化剤;塩素分子、臭
素分子、沃素分子のようなハロゲン分子;過沃素酸ナト
リウムのような過沃素酸類;オゾン、過酸化水素水;亜
硝酸のような亜硝酸化合物;亜塩素酸カリウム、亜塩素
酸ナトリウムのような亜塩素酸化合物;過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウムのような過硫酸化合物等の無機酸
化剤;DMSO酸化に使用される試薬類(ジメチルスル
ホキシドとジシクロヘキシルカルボジイミド、オキザリ
ルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又はピ
リジン−無水硫酸の錯体);t−ブチルヒドロパーオキ
シドのようなパーオキシド類;トリフェニルメチルカチ
オンのような安定なカチオン類;N−ブロモコハク酸イ
ミドのようなコハク酸イミド類、次亜塩素酸t−ブチル
のような次亜塩素酸化合物;アゾジカルボン酸エステル
のようなアゾジカルボン酸化合物;ジメチルジスルフィ
ド、ジフェニルジスルフィド、ジピリジルジスルフィド
のようなジスルフィド類とトリフェニルホスフィン;亜
硝酸メチルのような亜硝酸エステル類;四臭化メタンの
ようなテトラハロゲン化炭素、2,3−ジクロロ−5,
6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)のようなキ
ノン化合物等の有機酸化剤を挙げることができ、好適に
はヨードである。
The oxidizing agent used in the oxidation reaction in this step is not particularly limited as long as it is usually used in the oxidation reaction, but preferably potassium permanganate,
Manganese oxides such as manganese dioxide; Ruthenium oxides such as ruthenium tetroxide; Zelene compounds such as selene dioxide; Iron compounds such as iron chloride: Osmium compounds such as osmium tetroxide; Silver such as silver oxide Compounds: mercury compounds such as mercury acetate, lead oxide compounds such as lead oxide and lead tetroxide; potassium chromate, chromic acid compounds such as chromic acid-sulfuric acid complex, chromic acid-pyridine complex, cerium ammonium nitrate ( Inorganic metal oxidizers such as cerium compounds such as CAN); halogen molecules such as chlorine molecules, bromine molecules, iodine molecules; periodic acids such as sodium periodate; ozone, hydrogen peroxide water; nitrous acid, etc. Nitrite compounds; chlorite compounds such as potassium chlorite, sodium chlorite; potassium persulfate, sodium persulfate Inorganic oxidizers such as persulfate compounds such as; reagents used in DMSO oxidation (complexes of dimethylsulfoxide with dicyclohexylcarbodiimide, oxalyl chloride, acetic anhydride or phosphorus pentoxide or pyridine-sulfuric anhydride complexes); t -Peroxides such as butyl hydroperoxide; stable cations such as the triphenylmethyl cation; succinimides such as N-bromosuccinimide, hypochlorous acid such as t-butyl hypochlorite Compounds; azodicarboxylic acid compounds such as azodicarboxylic acid esters; disulfides such as dimethyl disulfide, diphenyl disulfide, dipyridyl disulfide and triphenylphosphine; nitrite esters such as methyl nitrite; methane tetrabromide Tetrahalogenated carbon, 2,3 Dichloro -5,
An organic oxidizing agent such as a quinone compound such as 6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ) can be mentioned, and iodine is preferable.

【0066】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類;アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類;ピリジンのよう
な複素環アミン類又はアセトニトリルのようなニトリル
類をあげることができ、好適には、複素環アミン類(特
にピリジン)、ニトリル類(特にアセトニトリル)、エ
ーテル類(特にテトラヒドロフラン)、ハロゲン化炭化
水素類(特にメチレンクロリド)である。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride and chloroform. Halogenated hydrocarbons such as; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; acetone,
Mention may be made of ketones such as methyl ethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitriles such as acetonitrile, preferably heterocyclic amines (particularly pyridine), nitriles (particularly acetonitrile), ethers. (Especially tetrahydrofuran) and halogenated hydrocarbons (especially methylene chloride).

【0067】反応温度は−50乃至100℃で行なわ
れ、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用さ
れる溶剤の種類によって異なるが、通常5分乃至15時
間である。
The reaction temperature is -50 to 100 ° C., and the reaction time is usually 5 minutes to 15 hours, varying mainly depending on the reaction temperature, the starting compound or the type of solvent used.

【0068】(b)化合物(13′)を反応させる場合
に用いられる溶剤は反応を阻害しないものであれば特に
限定はないが好適にはピリジンのような芳香族アミンが
用いられる。
The solvent used when the compound (13 ') (b) is reacted is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but an aromatic amine such as pyridine is preferably used.

【0069】化合物(13′)を反応させる場合には、
通常、縮合剤が使用される。
When the compound (13 ') is reacted,
Usually, a condensing agent is used.

【0070】使用される縮合剤としてはジシクロカルボ
ジイミド(DCC)、メシチレンスルホン酸クロリド
(Ms−Cl)、トリイソプロピルベンゼンスルホン酸
クロリド、メシチレンスルホン酸トリアゾリド(MS
T)、メシチレンスルホン酸−3−ニトロトリアゾリド
(MSNT)、トリイソプロピルベンゼンスルホン酸テ
トラゾリド(TPS−Te)、トリイソプロピルベンゼ
ンスルホン酸ニトロイミダゾリド(TPS−NI)、及
びトリイソプロピルベンゼンスルホン酸ピリジルテトラ
ゾリドなどをあげる事が出来るが、好適にはMSNTや
TPS−Te及びTPS−NIが用いられる。
Examples of the condensing agent used include dicyclocarbodiimide (DCC), mesitylenesulfonic acid chloride (Ms-Cl), triisopropylbenzenesulfonic acid chloride, mesitylenesulfonic acid triazolide (MS).
T), mesitylenesulfonic acid-3-nitrotriazolide (MSNT), triisopropylbenzenesulfonic acid tetrazolid (TPS-Te), triisopropylbenzenesulfonic acid nitroimidazolide (TPS-NI), and triisopropylbenzenesulfonic acid pyridyl Examples thereof include tetrazolide, but MSNT, TPS-Te and TPS-NI are preferably used.

【0071】反応温度は−10〜100℃まで特に限定
はないが通常は室温で実施する。反応時間は使用する溶
媒、反応温度によって異なるが、反応溶媒としてピリジ
ンを使用し、室温で実施した場合は30分である。
The reaction temperature is not particularly limited to -10 to 100 ° C, but is usually room temperature. The reaction time varies depending on the solvent used and the reaction temperature, but it is 30 minutes when the reaction is carried out at room temperature using pyridine.

【0072】(c)化合物(13″)を反応させる場合
に用いられる溶媒としては反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適には無水のアセトニトリルが
使用される。縮合剤として用いられる試薬としては、カ
ルボン酸やリン酸の酸塩化物が用いられるが好適にはピ
バロイルクロリドが用いられる。H−ホスホン酸結合を
有するオリゴヌクレオチドをリン酸ジエステル型のオリ
ゴヌクレオチドに酸化する酸化剤としては、通常、酸化
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、過マン
ガン酸カリウム、二酸化マンガンのような酸化マンガン
類;四酸化ルテニウムのような酸化ルテニウム類;二酸
化ゼレンのようなゼレン化合物;塩化鉄のような鉄化合
物;四酸化オスミウムのようなオスミウム化合物;酸化
銀のような銀化合物;酢酸水銀のような水銀化合物、酸
化鉛、四酸化鉛のような酸化鉛化合物;クロム酸カリウ
ム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジン錯体のよ
うなクロム酸化合物、セリウムアンモニウムナイトレイ
ト(CAN)のようなセリウム化合物等の無機金属酸化
剤;塩素分子、臭素分子、沃素分子のようなハロゲン分
子;過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類;オゾン;
過酸化水素水;亜硝酸のような亜硝酸化合物;亜塩素酸
カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素酸化合
物;過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのような過硫酸
化合物等の無機酸化剤;DMSO酸化に使用される試薬
類(ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシルカルボジ
イミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化
燐との錯体又はピリジン−無水酢酸の錯体);t−ブチ
ルヒドロパーオキシドのようなパーオキシド類;トリフ
ェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類;N−
ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類、次亜
塩素酸t−ブチルのような次亜塩素酸化合物;アゾジカ
ルボン酸メチルのようなアゾジカルボン酸化合物;ジメ
チルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド、ジピリジ
ルジスルフィドのようなジスルフィド類とトリフェニル
ホスフィン;亜硝酸メチルのような亜硝酸エステル類;
四臭化メタンのようなテトラハロゲン化炭素、2,3−
ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DD
Q)のようなキノン化合物等の有機酸化剤を挙げること
ができ、好適にはよう素分子である。使用される脱酸剤
としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジンのような
複素環アミン類、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミンのような脂肪族アミン
類があげられるが、好適には複素環アミン類(特にピリ
ジン)である。反応温度は、特に限定はないが、通常−
50乃至50℃であり、好適には室温である。
(C) The solvent used when reacting the compound (13 ″) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but anhydrous acetonitrile is preferably used. As the reagent to be used, acid chloride of carboxylic acid or phosphoric acid is used, but pivaloyl chloride is preferably used Oxidation for oxidizing an oligonucleotide having an H-phosphonic acid bond into a phosphodiester type oligonucleotide The agent is not particularly limited as long as it is usually used in an oxidation reaction, and manganese oxides such as potassium permanganate and manganese dioxide; ruthenium oxides such as ruthenium tetroxide; Zelene compounds; Iron compounds such as iron chloride; Osmium compounds such as osmium tetroxide; Silver compounds such as silver oxide Mercury compounds such as mercury acetate, lead oxide compounds such as lead oxide and lead tetroxide; potassium chromate, chromic acid compounds such as chromic acid-sulfuric acid complex, chromic acid-pyridine complex, cerium ammonium nitrate (CAN) ) Inorganic metal oxidizers such as cerium compounds; halogen molecules such as chlorine molecules, bromine molecules, iodine molecules; periodic acids such as sodium periodate; ozone;
Hydrogen peroxide water; nitrite compounds such as nitrous acid; chlorite compounds such as potassium chlorite and sodium chlorite; inorganic oxidizers such as persulfate compounds such as potassium persulfate and sodium persulfate; Reagents used for DMSO oxidation (dimethylsulfoxide and dicyclohexylcarbodiimide, oxalyl chloride, acetic anhydride or phosphorus pentoxide complex or pyridine-acetic anhydride complex); peroxides such as t-butyl hydroperoxide; Stable cations such as phenylmethyl cation; N-
Succinimides such as bromosuccinimide, hypochlorite compounds such as t-butyl hypochlorite; azodicarboxylic acid compounds such as methyl azodicarboxylate; dimethyl disulfide, diphenyl disulfide, dipyridyl disulfide Disulfides and triphenylphosphine; nitrites such as methyl nitrite;
Tetrahalogenated carbon such as methane tetrabromide, 2,3-
Dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DD
Examples thereof include organic oxidizers such as quinone compounds such as Q), and iodine molecules are preferable. Examples of the deoxidizing agent to be used include heterocyclic amines such as pyridine and dimethylaminopyridine, and aliphatic amines such as trimethylamine, triethylamine and diisopropylethylamine, preferably heterocyclic amines (particularly pyridine). ). The reaction temperature is not particularly limited, but usually-
The temperature is 50 to 50 ° C., preferably room temperature.

【0073】反応時間は、使用する原料、試薬、温度等
により異なるが、通常、5分から30時間であり、好適
には、室温で反応した場合、30分である。本工程にお
ける所望により行われるチオエート化は前述の方法に従
って化合物(13)を結合させた後、よう素分子などに
よる酸化のかわりにチオエート化試薬を反応させて実施
する事が出来、チオエート結合を有するCPGのような
高分子担体である(14)を得ることが出来る。チオエ
ート化の試薬としては3価のリンに反応してチオエート
を形成する事の出来る試薬であれば特に限定はされない
が、硫黄のほかアプライドバイオシステムズ社より発売
されているテトラエチルチウラムジスルフィド(TET
D)やミリジエン/バイオサーチより発売されているBe
aucage試薬などが好適であり、前者の場合は公知文献
(Tetrahedron Letters, 32,3005(1991) )に示された
方法あるいはその変法、後者の場合は、公知文献(J.A
m.Chem.Soc. 112 1253(1990))に示された方法あるい
はその変法をあげること事が出来るが、これによって限
定されるものではない。
The reaction time varies depending on the starting materials used, reagents, temperature and the like, but is usually 5 minutes to 30 hours, and preferably 30 minutes when reacted at room temperature. The thioation reaction optionally carried out in this step can be carried out by binding the compound (13) according to the above-mentioned method and then reacting it with a thioation reagent instead of oxidation by an iodine molecule, which has a thioate bond. (14) which is a polymer carrier such as CPG can be obtained. The thioation reagent is not particularly limited as long as it is a reagent capable of reacting with trivalent phosphorus to form a thioate, but in addition to sulfur, tetraethylthiuram disulfide (TET) sold by Applied Biosystems, Inc.
D) and Be released by Mirigen / Biosearch
The aucage reagent and the like are preferable, and in the case of the former, the method shown in a known document (Tetrahedron Letters, 32,3005 (1991)) or a modification thereof, and in the case of the latter, a known document (JA
m.Chem.Soc. 112 1253 (1990)) or a modification thereof can be mentioned, but the invention is not limited thereto.

【0074】また、本工程における所望により行われる
アルキルアミノ化は前述の方法に従って化合物(1
3″)を結合させた後、よう素分子のような酸化剤を反
応させるかわりに所望のアルキルアミンを室温で反応さ
せることにより実施することができる。この方法によっ
てCPGのような高分子物質と所望の塩基配列の3′末
端ヌクレオチドをホスホロアミデート結合で結合させた
(14)を得ることが出来る。
The alkylamination optionally carried out in this step can be carried out according to the above-mentioned method.
3 ″) and then reacting with a desired alkylamine at room temperature instead of reacting with an oxidizing agent such as iodine molecule. It is possible to obtain (14) in which the 3'terminal nucleotide of the desired base sequence is linked by a phosphoramidate bond.

【0075】(第9工程)本工程は、第8工程で得られ
る高分子物質(14)を、1)酸処理によってDMT基
を除去し、2)アミダイト試薬と酸触媒を反応させ、
3)酸化剤による酸化反応を行ない、4)反応しなかっ
た部分を無水酢酸を用いてキャッピング反応を行なう。
この1)〜4)をくりかえして所望の塩基配列の5′末
端のヌクレオチドだけがまだ結合していない(15)を
得る工程である。
(Ninth Step) In this step, the polymer substance (14) obtained in the eighth step is 1) treated with acid to remove the DMT group, and 2) reacted with an amidite reagent and an acid catalyst.
3) Oxidation reaction is performed with an oxidizing agent, and 4) The unreacted portion is capped with acetic anhydride.
This is a process of repeating 1) to 4) to obtain (15) in which only the nucleotide at the 5'end of the desired base sequence is not yet bound.

【0076】ここで用いられるDNA合成機上でのDN
A鎖の伸長反応は、たとえば、アプライドバイオシステ
ムズ社380−Bを用いたホスホロアミダイト法のステ
ックによる変法(J.Am.Chem.Soc.,106, 6077-6089(198
4) )や、ミリジエン/バイオサーチ社のサイクロン
プラス DNA合成機によるホスホロアミダイト法(Nuc
leic Acids Res.,12 4539(1984)におけるH.Koester ら
の方法)によって実施されるが、これらの方法に限定さ
れるわけではない。
DN on the DNA synthesizer used here
The extension reaction of the A chain is carried out, for example, by a modified stick method of the phosphoramidite method using Applied Biosystems 380-B (J. Am. Chem. Soc., 106, 6077-6089 (198).
4)) and a cyclone from Milligen / Biosearch
Phosphoramidite method (Nuc
leic Acids Res., 12 4539 (1984) by H. Koester et al.), but is not limited to these methods.

【0077】(第10工程)本工程は、第9工程で得ら
れる高分子物質(15)の5′末端のDMT基を第7工
程の方法に従って除去した後、第8工程の説明における
化合物(13)、(13′)及び(13″)のかわり
に、次に述べる化合物(16)、(16′)及び(1
6″)を用いる以外は同様に処理して所望の塩基配列と
所望の置換基を有し、保護基を保持した高分子物質(1
7)を得る工程である。
(Step 10) In this step, the DMT group at the 5'end of the polymer substance (15) obtained in step 9 is removed according to the method of step 7, and then the compound ( 13), (13 ′) and (13 ″) instead of the following compounds (16), (16 ′) and (1
6 ″) is treated in the same manner as above, and a polymeric substance having a desired base sequence and a desired substituent and having a protecting group (1
This is the step of obtaining 7).

【0078】本工程に使用される化合物(16)、(1
6′)及び(16″)はそれぞれ塩基部分として、所望
の塩基配列の5′末端のヌクレオチドの保護された塩基
部分を有している2′−デオキシリボヌクレオシドであ
り、あるいは2’位に保護されている水酸基を有するリ
ボヌクレオシドであり、その5′位には所望の修飾基を
有している。さらに(16)の3′位には、通常のDN
A合成に用いられるリン酸部の保護基を有するホスホロ
アミダイト結合を有している。
Compounds (16) and (1 used in this step
6 ') and (16 ") are 2'-deoxyribonucleosides each having a protected base portion of the nucleotide at the 5'end of the desired base sequence as a base portion, or are protected at the 2'position. A ribonucleoside having a hydroxyl group, which has a desired modifying group at the 5'-position, and a normal DN at the 3'-position in (16).
It has a phosphoramidite bond having a protecting group for the phosphoric acid moiety used in A synthesis.

【0079】同様に(16′)はリン酸ジエステル結合
を有しており、(16″)はH−ホスホン酸結合を有し
ている。
Similarly, (16 ') has a phosphodiester bond and (16 ") has an H-phosphonic acid bond.

【0080】(第11工程)本工程は、第10工程で得
られる高分子物質に担持されていて、所望の塩基配列と
5′末端及び3′末端側の置換基を有しており、かつ、
保護されたままの高分子物質(17)からオリゴヌクレ
オチド部分を切り出し、次に5′末端部及び/あるいは
3′末端部の所望の置換基以外の保護基を除去して所望
のオリゴヌクレオチド(1)を得る工程である。
(Eleventh step) This step is carried on the polymer substance obtained in the tenth step and has a desired base sequence and substituents on the 5'end and 3'end sides, and ,
The oligonucleotide portion is cleaved from the polymer substance (17) which is still protected, and then the protecting group other than the desired substituents at the 5'end and / or the 3'end is removed to remove the desired oligonucleotide (1 ) Is a process of obtaining.

【0081】保護基の除去は公知の方法(J.Am.Chem.So
c.,103、 3185(1981))によって行なうことができる。
Removal of the protecting group is carried out by a known method (J. Am. Chem. So.
c., 103, 3185 (1981)).

【0082】このようにして得られる、一般式(1)の
化合物を含む反応混合物を、逆相および/又はイオン交
換クロマトグラフィー(高速液体クロマトグラフィーを
含む。)等の各種クロマトグラフィーなど、核酸の精製
に用いられる通常の精製操作で精製することにより、前
記一般式(1)を有する化合物を得ることができる。
The reaction mixture containing the compound of the general formula (1) thus obtained is subjected to nucleic acid chromatography such as reverse phase and / or various chromatography such as ion exchange chromatography (including high performance liquid chromatography). The compound having the above-mentioned general formula (1) can be obtained by purification by a conventional purification operation used for purification.

【0083】(第12工程)本工程は、不活性溶剤中、
化合物(19)の遊離の水酸基あるいは化合物(20)
の遊離のスルフヒドリル基に化合物(18)のようなジ
カルボン酸の無水物を塩基性触媒の存在下に、反応させ
ることにより、ジカルボン酸のハーフエステルを得る工
程であり、本発明の化合物の原料である化合物(5)を
作る工程である。
(Twelfth Step) This step is carried out in an inert solvent,
Free hydroxyl group of compound (19) or compound (20)
Is a step of obtaining a half ester of a dicarboxylic acid by reacting a free sulfhydryl group of the above with an anhydride of a dicarboxylic acid such as the compound (18) in the presence of a basic catalyst. In this step, a compound (5) is prepared.

【0084】用いられるジカルボン酸の無水物としては
特に限定はないが、炭素数1乃至16が好ましく、最も
好ましくはコハク酸無水物、あるいはグルタール酸無水
物である。
The anhydride of the dicarboxylic acid used is not particularly limited, but preferably has 1 to 16 carbon atoms, and most preferably succinic anhydride or glutaric anhydride.

【0085】用いられる塩基性触媒としては、ジメチル
アミノピリジンやピロリジノピリジンのようなアミノピ
リジン類、トリメチルアミンやトリエチルアミンのよう
な三級アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属の炭酸塩などが好ましいが、ジメチル
アミノピリジンや、ピロリジノピリジンが最も好まし
い。
Examples of the basic catalyst used include aminopyridines such as dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine, tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine, alkali metal carbonates such as sodium hydrogencarbonate and potassium carbonate. Are preferred, but dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine are most preferred.

【0086】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのような
エーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類;メ
タノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノ
ール、n-ブタノール、イソブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;硫酸水のような希釈酸;
水酸化ナトリウム水のような希釈塩基;水;アセトン;
メチルエチルケトンのようなケトン類;ピリジンのよう
な複素環アミン類又はアセトニトリルのようなニトリル
類をあげることができ、好適には、ニトリル類(特にア
セトニトリル)、エーテル類(特にテトラヒドロフラ
ン)、ハロゲン化炭化水素類(特にメチレンクロリド)
である。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide Alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, isoamyl alcohol; dilute acids such as sulfuric acid;
Dilute base such as sodium hydroxide water; water; acetone;
Mention may be made of ketones such as methyl ethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitriles such as acetonitrile, preferably nitriles (especially acetonitrile), ethers (especially tetrahydrofuran), halogenated hydrocarbons. Class (especially methylene chloride)
Is.

【0087】反応温度は−50乃至100 ℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常30分乃至15時間
である。
The reaction temperature is -50 to 100 ° C,
The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound or the type of solvent used, but it is usually 30 minutes to 15 hours.

【0088】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the desired compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and the mixture is washed with water to form an organic layer containing the target compound. Separate and
It is obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0089】(第13工程)本工程は、不活性溶剤中、
化合物(9)に、ジカルボン酸(21)を、エステル形
成試薬の存在下、反応させて、化合物(8)を得る工程
である。本工程は、第4工程と同様にして行うことがで
きる。
(13th step) This step is carried out in an inert solvent,
In this step, compound (8) is obtained by reacting compound (9) with dicarboxylic acid (21) in the presence of an ester-forming reagent. This step can be performed in the same manner as the fourth step.

【0090】[0090]

【発明の効果】本方法によれば、オリゴヌクレオチドの
3′末端にリン酸を介して所望の修飾基を有する修飾オ
リゴヌクレオチドをDNA合成機上で容易に合成でき、
精製が簡便で、コストも安く、高純度のものが大量に得
られる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present method, a modified oligonucleotide having a desired modification group at the 3'end of the oligonucleotide via a phosphate can be easily synthesized on a DNA synthesizer,
Purification is simple, cost is low, and a large amount of high-purity products can be obtained.

【0091】3’末端に修飾基を有する有用なオリゴヌ
クレオチドとしては、特願平5−301744号に記載
の抗エイズ作用を有するものがある。
Useful oligonucleotides having a modifying group at the 3'end include those having an anti-AIDS effect described in Japanese Patent Application No. 5-301744.

【0092】[0092]

【実施例】以下に、実施例を示して、本発明を更に詳細
に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples.

【0093】実施例中、塩基配列(TGGGAG)は、それぞ
れ5′末端より対応する塩基配列をもつオリゴデオキシ
リボヌクレオチドのトリエチルアミン塩を示し、5′末
端と3′末端の水酸基を含まないものとする。
In the examples, the base sequence (TGGGAG) represents the triethylamine salt of oligodeoxyribonucleotide having the corresponding base sequence from the 5'end, and does not include hydroxyl groups at the 5'end and 3'end.

【0094】なお、目的化合物を示すのに、適宜、化学
名又は構造式を用いた。
Chemical names or structural formulas were used as appropriate to indicate the target compound.

【0095】[0095]

【実施例1】2−[2−O−(4、4’−ジメトキシトリチルオキ
シ)エチルスルホニル]エチル モノサクシネート 2ー[2−O−(4、4’−ジメトキシトリチルオキ
シ)エチルスルホニル]エタノール(Tetrahedron Let
t. 27、 4705 (1986)) 1.37g(3.0mmol)
にピリジンを加え、減圧下留去し乾燥した。これを塩化
メチレン(12ml)に溶解し、無水コハク酸315m
g(3.15mmol)とジメチルアミノピリジン38
4mg(3.15mmol)を加え、30分間攪拌し
た。反応の完結をTLCで確認後、反応液に塩化メチレ
ン80mlを加え、0. 5M KH2 PO4 (pH5.
0)、水の順に洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去し、1.60g(96%)の目的
化合物を得た。
Example 1 2- [2-O- (4,4′-dimethoxytrityloxy)
Si) ethylsulfonyl] ethyl monosuccinate 2- [2-O- (4,4'-dimethoxytrityloxy) ethylsulfonyl] ethanol (Tetrahedron Let
t. 27, 4705 (1986)) 1.37 g (3.0 mmol)
Pyridine was added to the mixture, and the mixture was evaporated under reduced pressure and dried. This was dissolved in methylene chloride (12 ml) and succinic anhydride 315 m
g (3.15 mmol) and dimethylaminopyridine 38
4 mg (3.15 mmol) was added and stirred for 30 minutes. After confirming the completion of the reaction by TLC, 80 ml of methylene chloride was added to the reaction solution, and 0.5M KH 2 PO 4 (pH 5.
0) and water were washed in this order, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off to obtain 1.60 g (96%) of the target compound.

【0096】1H-NMR(270MHz、CDCl3、TMS) δppm:7.40-6.
83(13H,m,Ph), 4.58-4.53(2H、t,SO2CH2CH2 OCO-,J=5.94H
z)、 3.79(6H, s,CH3-)、 3.68-3.64(2H,t、DMT-O-CH2CH2
-、J=5.61Hz)、 3.50-3.45(2H,t,SO2CH2 CH2OCO-,J=5.94H
z)、3.18-3.14(2H,t,DMT-O-CH 2CH2-、J=5.61Hz) 、2.71-
2.61(4H,m、-COCH2CH2CO-)。
1H-NMR (270 MHz, CDCl 3 , TMS) δppm: 7.40-6.
83 (13H, m, Ph), 4.58-4.53 (2H, t, SO 2 CH 2 C H 2 OCO-, J = 5.94H
z), 3.79 (6H, s, CH 3- ), 3.68-3.64 (2H, t, DMT-O-CH 2 C H 2
-, J = 5.61Hz), 3.50-3.45 (2H, t, SO 2 C H 2 CH 2 OCO-, J = 5.94H
z), 3.18-3.14 (2H, t, DMT-OC H 2 CH 2- , J = 5.61Hz), 2.71-
2.61 (4H, m, -COCH 2 CH 2 CO-).

【0097】[0097]

【実施例2】Example 2

【0098】[0098]

【化13】 [Chemical 13]

【0099】実施例1の化合物1.60g(2.87m
mol)をDMF(18ml)に溶解し、ペンタクロロ
フェノール0.96g(3.6mmol)、1,3−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド0.96g (4.5m
mol)を加え、18時間攪拌した。析出した不溶物を
濾別し、濾液の溶媒を留去した。残渣にベンゼンを加
え、再び析出した不溶物を濾別し、濾液の溶媒を留去し
た。
1.60 g (2.87 m) of the compound of Example 1
mol) was dissolved in DMF (18 ml), and pentachlorophenol 0.96 g (3.6 mmol) and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide 0.96 g (4.5 m).
mol) was added and stirred for 18 hours. The precipitated insoluble material was filtered off, and the solvent of the filtrate was distilled off. Benzene was added to the residue, the insoluble material deposited again was filtered off, and the solvent in the filtrate was distilled off.

【0100】この残渣の 0.16g(0.2mmo
l)をDMF(4ml)に溶解し、トリエチルアミン1
5μl(0.11mmol)とアミノプロピル−CPG
(1.0g、アミノ基が85.7μmol/g量、導入
されている)を加え、室温で24時間放置した。CPG
担体を濾取し、塩化メチレンで洗浄後、減圧乾燥した。
このCPG担体にキャップA,B溶液(日本ミリポア・
リミテッド)を各5ml加え、5分間放置した。ピリジ
ン、塩化メチレンの順で洗浄し減圧乾燥し、目的化合物
を得た。
0.16 g (0.2 mmo of this residue
l) was dissolved in DMF (4 ml) and triethylamine 1 was added.
5 μl (0.11 mmol) and aminopropyl-CPG
(1.0 g, 85.7 μmol / g amount of amino group was introduced) was added, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 24 hours. CPG
The carrier was collected by filtration, washed with methylene chloride, and dried under reduced pressure.
This CPG carrier has a solution of caps A and B (Japan Millipore
Limited) was added in an amount of 5 ml each and left for 5 minutes. It was washed with pyridine and methylene chloride in this order and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0101】目的化合物への実施例1の化合物の導入量
を、次の方法で定量した。すなわち、目的化合物11.
4mgに、デブロック溶液(3%ジクロロ酢酸/塩化メ
チレン溶液、日本ミリポア・リミテッド)を加え、3分
間振とうし、塩化メチレンで全量を20mlとした。そ
のうちの0. 4mlの溶媒を留去後、残渣に過塩素酸−
エタノール溶液(3:2v/v、3ml)を加え、50
0nmにおけるジメトキシトリチルカチオンの吸光度を
測定した(ε=71700)。
The amount of the compound of Example 1 introduced into the target compound was quantified by the following method. That is, the target compound 11.
A deblocking solution (3% dichloroacetic acid / methylene chloride solution, Nippon Millipore Limited) was added to 4 mg, and the mixture was shaken for 3 minutes, and the total amount was adjusted to 20 ml with methylene chloride. After distilling out 0.4 ml of the solvent, perchloric acid was added to the residue.
Add an ethanol solution (3: 2 v / v, 3 ml), and add 50
The absorbance of the dimethoxytrityl cation at 0 nm was measured (ε = 71700).

【0102】ジメトキシトリチル基の導入量=53.1
μmol/g
Introduction amount of dimethoxytrityl group = 53.1
μmol / g

【0103】[0103]

【実施例3】2−[2−O−(4、4’−ジメトキシトリチルオキ
シ)エチルスルホニル]エチル 2、2、2−トリクロ
ロエトキシカルボネート 2−[2−O−(4、4’−ジメトキシトリチルオキ
シ)エチルスルホニル]エタノール(Tetrahedron Lett.
27、 4705 (1986)) 1.1g(2.4mmol)にピリ
ジンを加え、減圧下留去し乾燥した。これを塩化メチレ
ン(12ml)に溶解し、2、2、2ートリクロロエト
キシカルボニルクロライド0.35ml(2.6mmo
l)を加え、2時間攪拌した。反応の完結をTLCで確
認後、反応液を塩化メチレン−5%重曹水(100m
l:100ml)の混液中に注ぎ、分液した。有機層を
5%重曹水で洗浄し、有機層を集め、硫酸ナトリウム
(無水)で乾燥した。溶媒を留去し、残渣を逆相カラム
クロマトグラフィ−(Preparative C18, Waters, φ2.
2 x 7.0 cm, 溶媒:60%アセトニトリル−水)で精製
し、アモルファス状の目的化合物を1.35g(89
%)得た。
Example 3 2- [2-O- (4,4′-dimethoxytrityloxy)
Si) ethylsulfonyl] ethyl 2,2,2-trichloro
Rhoethoxy carbonate 2- [2-O- (4,4'-dimethoxytrityloxy) ethylsulfonyl] ethanol (Tetrahedron Lett.
Pyridine was added to 1.1 g (2.4 mmol) of 27, 4705 (1986)), and the mixture was evaporated under reduced pressure and dried. This was dissolved in methylene chloride (12 ml), and 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl chloride 0.35 ml (2.6 mmo
1) was added and stirred for 2 hours. After confirming the completion of the reaction by TLC, the reaction solution was diluted with methylene chloride-5% aqueous sodium hydrogen carbonate (100 m).
(l: 100 ml), and the mixture was separated. The organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate, the organic layers were collected and dried over sodium sulfate (anhydrous). The solvent was distilled off, and the residue was subjected to reverse phase column chromatography (Preparative C18, Waters, φ2.
2 x 7.0 cm, solvent: 60% acetonitrile-water), and 1.35 g (89%) of the target compound in an amorphous form.
%)Obtained.

【0104】1H-NMR(270MHz、CDCl3、TMS) δppm: 7.41-
6.83(13H,m,Ph), 4.75(2H、s,-CH2CCl3)、 4.70-4.66(2H,
t,CH2CH2 OC0, J=5.94Hz), 3.80(6H, s,CH3-)、 3.68-3.
64(2H,t、DMT-O-CH2CH2 -、J=5.28Hz)、 3.61-3.56(2H,t,CH
2 CH2OCO-,J=6.27Hz)、 3.23-3.19(2H,t,DMT-O-CH2 CH2-、
J=5.28Hz)
1H-NMR (270 MHz, CDCl 3 , TMS) δppm: 7.41-
6.83 (13H, m, Ph), 4.75 (2H, s, -CH 2 CCl 3 ), 4.70-4.66 (2H,
t, CH 2 C H 2 OC0, J = 5.94Hz), 3.80 (6H, s, CH 3- ), 3.68-3.
64 (2H, t, DMT-O-CH 2 C H 2- , J = 5.28Hz), 3.61-3.56 (2H, t, C H
2 CH 2 OCO-, J = 6.27Hz), 3.23-3.19 (2H, t, DMT-OC H 2 CH 2- ,
(J = 5.28Hz)

【0105】[0105]

【実施例4】Example 4

【0106】[0106]

【化14】 [Chemical 14]

【0107】実施例3の化合物0.126g (0.2
mmol)をDMF(5ml)に溶解し、トリエチルア
ミン15μl(0.11mmol)と、1%トリエチル
アミン/DMFで洗浄したアミノプロピルーCPG
(1.0g、アミノ基が85.7μmol/g量、導入
されている)を加え、室温で4日間放置した。CPG担
体を濾取し、塩化メチレンで洗浄後減圧乾燥した。この
CPG担体にキャップA,B溶液(日本ミリポア・リミ
テッド)を各5ml加え、5分間放置した。ピリジン、
塩化メチレンの順で洗浄し減圧乾燥し、目的化合物を得
た。
0.126 g of the compound of Example 3 (0.2
Aminopropyl-CPG dissolved in DMF (5 ml) and washed with 15 μl (0.11 mmol) of triethylamine and 1% triethylamine / DMF.
(1.0 g, 85.7 μmol / g amount of amino group was introduced) was added, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 4 days. The CPG carrier was collected by filtration, washed with methylene chloride and dried under reduced pressure. 5 ml each of Cap A and B solutions (Japan Millipore Limited) were added to this CPG carrier and left for 5 minutes. Pyridine,
It was washed with methylene chloride in this order and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0108】目的化合物への実施例3の化合物の導入量
を、次の方法で定量した。目的化合物11.4mgに、
デブロック溶液(3%ジクロロ酢酸/塩化メチレン溶
液、日本ミリポア・リミテッド)を加え、3分間振とう
し、塩化メチレンで全量を20mlとした。そのうちの
0. 4mlの溶媒を留去後、残渣に過塩素酸−エタノー
ル(3:2=v/v)溶液(3ml)を加え、500n
mにおけるジメトキシトリチルカチオンの吸光度を測定
した(ε=71700)。
The amount of the compound of Example 3 introduced into the target compound was quantified by the following method. 11.4 mg of the target compound,
A deblocking solution (3% dichloroacetic acid / methylene chloride solution, Nippon Millipore Limited) was added, and the mixture was shaken for 3 minutes, and the total amount was adjusted to 20 ml with methylene chloride. After distilling off 0.4 ml of the solvent, a perchloric acid-ethanol (3: 2 = v / v) solution (3 ml) was added to the residue to give 500 n.
The absorbance of the dimethoxytrityl cation at m was measured (ε = 71700).

【0109】ジメトキシトリチル基の導入量=24.0
μmol/g
Introduction amount of dimethoxytrityl group = 24.0
μmol / g

【0110】[0110]

【実施例5】トリエチルアンモニウム 5’−O−ジメトキシトリチ
ル−2−N−イソブチリルー2’ーデオキシグアノシン
−3’−O−フェニルホスフェート 1,2,4−トリアゾール0.8g(11.55mmo
l)にピリジンを加え、減圧下留去し乾燥した。これを
ジオキサン10mlに懸濁し、フェニル ホスホロジク
ロライド0.52ml(3.5mmol)を加えた。こ
れを氷冷撹拌下、トリエチルアミン1.0ml(7.3
5mmol)を加えた後、室温に戻して2時間撹拌し
た。生じた塩酸塩を濾別し、フェニル ホスホロビスト
リアゾリデート/ジオキサン溶液(0.35mmol/
ml)とした。
Example 5 Triethylammonium 5′-O-dimethoxytriti
Le-2-N-isobutyryl 2'-deoxyguanosine
-3' -O-phenyl phosphate 1,2,4-triazole 0.8 g (11.55 mmo
Pyridine was added to l), and the mixture was evaporated under reduced pressure and dried. This was suspended in 10 ml of dioxane, and 0.52 ml (3.5 mmol) of phenyl phosphorodichloride was added. This was stirred under ice-cooling and triethylamine 1.0 ml (7.3
(5 mmol) was added, the mixture was returned to room temperature and stirred for 2 hours. The generated hydrochloride was filtered off, and a phenylphosphorobistriazolidate / dioxane solution (0.35 mmol /
ml).

【0111】5’−O−ジメトキシトリチル−2−N−
イソブチリルー2’ーデオキシグアノシン(Methods Enz
ymol. 65、610(1980)) 0.15g(0.23mmol)
にフェニル ホスホロビストリアゾリデート/ジオキサ
ン溶液1ml(0.35mmol)を加え、室温で3時
間撹拌した。反応液に30%ピリジン水を約10mlを
加え、塩化メチレン(30ml)で抽出後、有機層を
0.1M 炭酸水素トリエチルアミン水溶液(TEA
B)で洗浄し、溶媒を留去した。残渣を塩化メチレン
(1ml)に溶解し、1%トリエチルアミンを含むn−
ヘキサン:エーテル(1:1v/v, 30ml)より
粉末化し、81mg(40%)の目的化合物を得た。
5'-O-dimethoxytrityl-2-N-
Isobutyryl 2'-deoxyguanosine (Methods Enz
ymol.65,610 (1980)) 0.15 g (0.23 mmol)
1 ml (0.35 mmol) of a phenyl phosphorobistriazolidate / dioxane solution was added to and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. About 10 ml of 30% pyridine water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with methylene chloride (30 ml), and then the organic layer was washed with 0.1 M triethylamine hydrogen carbonate aqueous solution (TEA
It was washed with B) and the solvent was distilled off. The residue was dissolved in methylene chloride (1 ml) and n-containing 1% triethylamine was added.
Trituration with hexane: ether (1: 1 v / v, 30 ml) gave 81 mg (40%) of the desired compound.

【0112】1H-NMR(270MHz、CDCl3、TMS)δppm: 12.07(1
H,brs,NH)、9.67(1H,brs,NH)、7.80-7.64(1H,m,H8)、7.47-
6.91(18H,m,Ph)、6.12-6.10(1H,m,H1')、5.48-5.45(1H,m,
HN+Et3)4.64-4.58(1H,m,H3'),4.28(1H,m,H4')、3.74(6H、
s,OCH3)、3.38-3.18(2H,m,H5')、2.98-2.89(6H,m,NCH2)、
2.73-2.51(2H,m,H2')、2.34-2.29(1H,m,CH(CH3)2)、1.25-
1.19(9H,m,CH2CH3 ),1.12-0.99(6H,m,CH(CH3 )2)
1H-NMR (270 MHz, CDCl 3 , TMS) δppm: 12.07 (1
H, brs, NH), 9.67 (1H, brs, NH), 7.80-7.64 (1H, m, H8), 7.47-
6.91 (18H, m, Ph), 6.12-6.10 (1H, m, H1 '), 5.48-5.45 (1H, m,
H N + Et 3 ) 4.64-4.58 (1H, m, H3 '), 4.28 (1H, m, H4'), 3.74 (6H,
s, OCH 3 ), 3.38-3.18 (2H, m, H5 '), 2.98-2.89 (6H, m, NCH 2 ),
2.73-2.51 (2H, m, H2 ' ), 2.34-2.29 (1H, m, C H (CH 3) 2), 1.25-
1.19 (9H, m, CH 2 C H 3 ), 1.12-0.99 (6H, m, CH (C H 3 ) 2 )

【0113】[0113]

【実施例6】Example 6

【0114】[0114]

【化15】 [Chemical 15]

【0115】実施例2の化合物95mg(5μmol)
をフィルター付きカラムに入れ、5mlのデブロック溶
液(日本ミリポア・リミテッド)を加え、1分間処理し
た。5mlの塩化メチレンで洗浄し、再びデブロック溶
液で1分間処理した。5mlの塩化メチレン、ピリジン
の順で洗浄し、ピリジンを加え、留去し、CPGを乾燥
した。これに実施例5の化合物20mgを0.5mlの
ピリジンに溶解したものを加え、溶媒を留去し、乾燥し
た。これに2,4,6−トリメチルベンゼンスルフォニ
ル−3−ニトロトリアゾール40mg/ピリジン0.5
ml溶液を加え、40℃で30分間加温した。5mlの
ピリジンで3回洗浄後、2.5mlのキャップA溶液
(日本ミリポア・リミテッド)と2.5mlのキャップ
B溶液(日本ミリポア・リミテッド)を加え、3分間処
理した。5mlの塩化メチレンで3回洗浄し、目的化合
物を得た。
95 mg (5 μmol) of the compound of Example 2
Was placed in a column with a filter, 5 ml of deblocking solution (Nippon Millipore Limited) was added, and the mixture was treated for 1 minute. It was washed with 5 ml of methylene chloride and treated again with the deblocking solution for 1 minute. The mixture was washed with 5 ml of methylene chloride and pyridine in that order, pyridine was added, the mixture was evaporated, and CPG was dried. To this, a solution prepared by dissolving 20 mg of the compound of Example 5 in 0.5 ml of pyridine was added, the solvent was distilled off, and the residue was dried. To this, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonyl-3-nitrotriazole 40 mg / pyridine 0.5
The ml solution was added and heated at 40 ° C. for 30 minutes. After washing 3 times with 5 ml of pyridine, 2.5 ml of Cap A solution (Japan Millipore Limited) and 2.5 ml of Cap B solution (Japan Millipore Limited) were added and treated for 3 minutes. The target compound was obtained by washing 3 times with 5 ml of methylene chloride.

【0116】[0116]

【実施例7】5′−0−[( 3, 4- ジベンジルオキシ)ベンジル]
チミジン 3′−0−[(1,1-ジメチルエチル)ジメチルシリル]
チミジン(Can.J.Chem.,56,2768(1978)) 713mg(2mm
ol)を4mLのテトラヒドロフランに溶解し、アルゴン雰
囲気下で、175mg(4mmol)の55%水素化ナトリウ
ムを加えて、60℃で2時間撹拌した。室温に戻した
後、678mg(2mmol) の(3,4-ジベンジルオキシ)ベ
ンジルクロリドを1mLのテトラヒドロフランに溶解した
ものを滴下し、ヨウ化ナトリウム149.9mg (1mmol)を
加え、室温で撹拌した。16時間後に減圧下溶媒を留去
し、残渣を50mLの酢酸エチルに溶解し、50mLの0.01
N−塩化アンモニウム水溶液で2回洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を1
00g(230−400mesh)のシリカゲルカラムにア
プライして、0.5 〜3%メタノール−塩化メチレンで溶
出することにより、3′−0−[(1,1-ジメチルエチ
ル)ジメチルシリル]−5′−0−[( 3、4,-ジベン
ジルオキシ)ベンジル]チミジンを含む混合物を得た。
これを1.93mLのテトラヒドロフランに溶解し、テトラブ
チルアンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液
(1M)を1.93mL加えて、室温で撹拌した。30分後に
減圧下溶媒を留去し、残渣を50mLの酢酸エチルに溶解
し、50mLの飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去して、残渣を3
0g(230−400mesh)のシリカゲルカラムにアプ
ライし、1〜3%メタノール−塩化メチレンで溶出する
ことにより345.4mg(23.7%) の目的化合物を得た。
Example 7 5'-0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl]
Thymidine 3'-0-[(1,1-dimethylethyl) dimethylsilyl]
Thymidine (Can.J.Chem., 56,2768 (1978)) 713mg (2mm
ol) was dissolved in 4 mL of tetrahydrofuran, 175 mg (4 mmol) of 55% sodium hydride was added under an argon atmosphere, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After returning to room temperature, a solution prepared by dissolving 678 mg (2 mmol) of (3,4-dibenzyloxy) benzyl chloride in 1 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, 149.9 mg (1 mmol) of sodium iodide was added, and the mixture was stirred at room temperature. After 16 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 50 mL of ethyl acetate, and 50 mL of 0.01
It was washed twice with an N-ammonium chloride aqueous solution and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was washed with 1
3'-0-[(1,1-dimethylethyl) dimethylsilyl] -5'-0 by applying to a silica gel column of 00 g (230-400 mesh) and eluting with 0.5-3% methanol-methylene chloride. A mixture containing-[(3,4, -dibenzyloxy) benzyl] thymidine was obtained.
This was dissolved in 1.93 mL of tetrahydrofuran, 1.93 mL of a tetrahydrofuran solution (1M) of tetrabutylammonium fluoride was added, and the mixture was stirred at room temperature. After 30 minutes, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 50 mL of ethyl acetate, washed twice with 50 mL of saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was washed with 3
It was applied to a silica gel column of 0 g (230-400 mesh) and eluted with 1 to 3% methanol-methylene chloride to obtain 345.4 mg (23.7%) of the target compound.

【0117】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δppm:8.26(1H,
s,NH),7.50(1H,s,H6),7.47-7.28,6.91-6.79(13H,m,Ph),
6.36(1H,t,H1',J=6.75Hz),5.17(4H,s,PhCH2),4.47,4.45
(2H,2s,PhCH2OCH2 ),4.41-4.36(1H,m,H3'),4.04-4.01(1
H,m,H4'),3.72-3.56(2H,m,H5'),2.31-2.05(2H,m,H2'),
1.62(3H,s,CH3).
1H-NMR (270 MHz, CDCl 3 , TMS) δppm: 8.26 (1H,
s, NH), 7.50 (1H, s, H6), 7.47-7.28,6.91-6.79 (13H, m, Ph),
6.36 (1H, t, H1 ', J = 6.75Hz), 5.17 (4H, s, PhCH 2 ), 4.47,4.45
(2H, 2s, PhCH 2 OC H 2 ), 4.41-4.36 (1H, m, H3 '), 4.04-4.01 (1
H, m, H4 '), 3.72-3.56 (2H, m, H5'), 2.31-2.05 (2H, m, H2 '),
1.62 (3H, s, CH 3 ).

【0118】[0118]

【実施例8】5′−0−[(3,4- ジベンジルオキシ)ベンジル]チミ
ジン−3′−0−(2−シアノエチル N,N−ジイソ
プロピル)ホスホロアミダイト 実施例7の化合物 271.7mg(0.499mmol) をピリジンで3
回共沸して乾燥した後、10mLのテトラヒドロフランに
溶解し、1.39mL(8mmol)のジイソプロピルエチルアミ
ンと0.822mL(4mmol)の2−シアノエチル N,N−ジ
イソプロピルクロロホスホロアミダイトを加え、アルゴ
ン雰囲気下、室温で撹拌した。30分後に沈殿をろ過し
て除き、溶媒を減圧下留去した。残渣を100mLの酢酸
エチルに溶解し、氷冷した50mLの10%Na2CO3水で2
回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
下留去した後、残渣を40g(70-230mesh)のシリカゲル
を含むカラムにアプライし、塩化メチレン:酢酸エチ
ル:トリエチルアミン(45:45:10,v/v/v)で溶出すること
により、286.9mg (77%)の目的化合物を得た。
Example 8 5'-0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl] thymi
Gin-3'-0- (2-cyanoethyl N, N-diiso
Propyl) phosphoramidite 271.7 mg (0.499 mmol) of the compound of Example 7 was treated with pyridine to give 3
After being azeotropically dried and dissolved in 10 mL of tetrahydrofuran, 1.39 mL (8 mmol) of diisopropylethylamine and 0.822 mL (4 mmol) of 2-cyanoethyl N, N-diisopropylchlorophosphoramidite were added, and under an argon atmosphere, Stir at room temperature. After 30 minutes, the precipitate was filtered off and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was dissolved in 100 mL of ethyl acetate and treated with 50 mL of ice-cold 10% Na2CO3 water.
It was washed twice and dried over anhydrous sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, apply the residue to a column containing 40 g (70-230 mesh) of silica gel and elute with methylene chloride: ethyl acetate: triethylamine (45:45:10, v / v / v). This gave 286.9 mg (77%) of the desired compound.

【0119】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δppm:8.
07(1H,bs,NH),7.53,7.51(1
H,2s,H6),7.45−7.25,6.92−
6.81(13H,m,Ph),6.37(1H,t,
H1’,J=6.60Hz),5.15(4H,s,P
hCH),4.62−4.53(1H,m,H
3’),4.47(2H,s,PhCHOC ),
4.22,4.14(1H,2bs,H4’),3.9
0−3.53(6H,m,H5’,POCH,PNC
H),2.68−2.53(2H,m,NCCH),
2.47−2.05(2H,m,H2’),1.58
(3H,s,CH),1.17(12H,d,(C
CH,J=5.94Hz).
1H-NMR (270 MHz, CDCl3, TMS) δ ppm: 8.
07 (1H, bs, NH), 7.53, 7.51 (1
H, 2s, H6), 7.45-7.25, 6.92-
6.81 (13H, m, Ph), 6.37 (1H, t,
H1 ′, J = 6.60 Hz), 5.15 (4H, s, P
hCH 2), 4.62-4.53 (1H, m, H
3 '), 4.47 (2H, s, PhCH 2 OC H 2),
4.22, 4.14 (1H, 2bs, H4 '), 3.9
0-3.53 (6H, m, H5 ' , POCH 2, PNC
H), 2.68-2.53 (2H, m , NCCH 2),
2.47-1.05 (2H, m, H2 '), 1.58
(3H, s, CH 3 ), 1.17 (12H, d, (C H
3 ) 2 CH, J = 5.94 Hz).

【0120】[0120]

【実施例9】[Example 9]

【0121】[0121]

【化16】 [Chemical 16]

【0122】ミリジェン/バイオサーチ(日本ミリポア
・リミテッド)のCycloneTM PlusDNA/RNA シンセサイ
ザーに、付属する合成用試薬類と、プログラムとして1
5.0μmol アミダイトカートリッジを接続した。ただし
このとき、チミジンに対応するβ−シアノエチルアミダ
イト溶液のかわりに、およそ35mMに調製した実施例8
化合物のアセトニトリル溶液を用い、固相担体として
は、実施例6 の化合物を95mg( 5μmol)を15.0μmol
用エンプティーカラムにつめて使用した。TGGGAG
という塩基配列を入力し、最後のTを結合させた後には
酸処理を行わない設定のプログラムを作動させることに
よって、コントロールドポアグラス(CPG) 上にオリゴヌ
クレオチドが構築された誘導体を得た。
CycloneTM Plus DNA / RNA Synthesizer from Milligen / Biosearch (Japan Millipore Limited), with the reagents for synthesis and 1 program
A 5.0 μmol amidite cartridge was connected. However, at this time, instead of the β-cyanoethylamidite solution corresponding to thymidine, Example 8 prepared at about 35 mM was used.
An acetonitrile solution of the compound was used, and 95 mg (5 μmol) of the compound of Example 6 was used as a solid-phase carrier and 15.0 μmol
Used as an empty column for use. TGGGAG
The following nucleotide sequence was input, and after the last T was linked, a program was set up in which no acid treatment was performed to obtain a derivative in which the oligonucleotide was constructed on controlled pore glass (CPG).

【0123】これを減圧下乾燥したのちにカラムからと
り出し、約10m lの29%アンモニア水にひたして密
閉し、60度で5時間加温した。CPG をろ過により除
き、10m lの水で2回洗浄した。ろ液と洗浄液を合わ
せて、約半分ぐらいまで溶媒を濃縮し、30mLの酢酸エ
チルで3回洗浄し、減圧下で水溶液を約3m lに濃縮し
た。これを逆相カラムクロマトグラフィ−(Preparativ
e C18、Waters 1.5 x 15cm; 50mM炭酸水素トリエチ
ルアミン水溶液(TEAB)、pH7.5; 15−50%アセトニト
リル;linear gradient; 254 nm )で精製し、アモルフ
ァス状の目的化合物を67OD(260nm)得た。本
化合物は、逆相HPLC(Inertsil ODS、6x150mm;0.
1M 酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA)、 pH 7.5; 1
0−60%アセトニトリル/20min;linear gradi
ent; 1ml/min; 260nm)で分析すると19.51minに溶出され
た。
This was dried under reduced pressure, then taken out from the column, immersed in about 10 ml of 29% ammonia water and sealed, and heated at 60 ° C. for 5 hours. CPG was removed by filtration and washed twice with 10 ml of water. The filtrate and the washing solution were combined, the solvent was concentrated to about half, washed with 30 mL of ethyl acetate three times, and the aqueous solution was concentrated under reduced pressure to about 3 ml. Reverse phase column chromatography (Preparativ
e C18, Waters 1.5 x 15 cm; 50 mM triethylamine hydrogencarbonate aqueous solution (TEAB), pH 7.5; 15-50% acetonitrile; linear gradient; 254 nm) to obtain 67 OD (260 nm) of an amorphous target compound. This compound was analyzed by reverse phase HPLC (Inertsil ODS, 6x150 mm;
1M triethylamine acetate aqueous solution (TEAA), pH 7.5; 1
0-60% acetonitrile / 20min; linear gradi
ent; 1 ml / min; 260 nm), and was eluted at 19.51 min.

【0124】UVmax: 255 nmUVmax: 255 nm

【0125】[0125]

【実施例10】Example 10

【0126】[0126]

【化17】 [Chemical 17]

【0127】ミリジェン/バイオサーチ(日本ミリポア
・リミテッド)のCycloneTM PlusDNA/RNA シンセサイ
ザーに、付属する合成用試薬類と、プログラムとして1
5.0μmoleミダイトカートリッジを接続した。但し、こ
のとき、グアノシンに対応するβ−シアノエチルアミダ
イト溶液のかわりに、およそ35mMに調製した5’−O
−ジメトキシトリチル−2−N−イソブチリル−2’−
デオキシグアノシン−3’−O−(メチル N,N−ジ
イソプロピル)ホスホロアミダイト(Sigma)のアセトニ
トリル溶液を用い、固相担体としては、実施例6の化合
物を95mg( 5μmol)を15.0μmol 用エンプティーカラ
ムにつめて使用した。GXという塩基配列を入力し、G
を結合させた後には酸処理を行わない設定のプログラム
を作動させることによって、目的化合物を得た。
CycloneTM Plus DNA / RNA Synthesizer from Milligen / Biosearch (Japan Millipore Limited) is supplied with the synthetic reagents and 1
A 5.0 μmole midite cartridge was connected. However, at this time, instead of the β-cyanoethylamidite solution corresponding to guanosine, 5′-O prepared to about 35 mM was prepared.
-Dimethoxytrityl-2-N-isobutyryl-2'-
A deoxyguanosine-3'-O- (methyl N, N-diisopropyl) phosphoramidite (Sigma) solution in acetonitrile was used. As a solid phase carrier, 95 mg (5 μmol) of the compound of Example 6 was used as an empty column for 15.0 μmol. I used it after all. Enter the base sequence GX
After binding, the target compound was obtained by activating a program set so that no acid treatment was performed.

【0128】[0128]

【実施例11】[Embodiment 11]

【0129】[0129]

【化18】 [Chemical 18]

【0130】実施例10の化合物95mg(5μmol)
をつめたカラムに対して、実施例9と同様にして合成し
た。逆相カラムクロマトグラフィ−(Preparative C1
8、Waters 1.5x 15 cm; 50mM TEAB、pH7.5; 20−
50%アセトニトリル;lineargradient; 254nm)で精
製し、 アモルファス状の目的化合物を 50 OD(260nm) 得
た。 本化合物は、 逆相HPLC(Inertsil ODS、 6 x 150m
m; 0.1 M TEAA、pH 7.5;10-60% アセトニトリル/20mi
n; linear gradient;1ml/min; 260 nm)で分析すると 1
9.15 minに溶出された。 UVmax: 254 nm 以上述べた方法と同様にして、下記表1及び表2に記載
の化合物を得た。
95 mg (5 μmol) of the compound of Example 10
Synthesis was performed on the packed column in the same manner as in Example 9. Reversed phase column chromatography (Preparative C1
8, Waters 1.5x 15 cm; 50 mM TEAB, pH 7.5; 20-
50% acetonitrile; linear gradient; 254 nm) to obtain an amorphous target compound at 50 OD (260 nm). This compound was applied on reverse phase HPLC (Inertsil ODS, 6 x 150m
m; 0.1 M TEAA, pH 7.5; 10-60% acetonitrile / 20mi
n; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm)
It was eluted at 9.15 min. UVmax: 254 nm In the same manner as described above, the compounds shown in Tables 1 and 2 below were obtained.

【0131】[0131]

【表1】 [Table 1]

【0132】[0132]

【表2】 [Table 2]

【0133】[0133]

【実施例23】Example 23

【0134】[0134]

【化19】 [Chemical 19]

【0135】実施例1 の化合物1.60g(2.87m
mol)をDMF(18ml)に溶解し、ペンタクロロ
フェノール 0.96g(3.6mmol)、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド 0.96g (4.
5mmol)を加え18時間撹はんした。析出した不溶
物を濾別し、濾液の溶媒を留去した。残渣にベンゼンを
加え、再び析出した不溶物を濾別し、濾液の溶媒を留去
した。
1.60 g (2.87 m) of the compound of Example 1
mol) was dissolved in DMF (18 ml), and pentachlorophenol 0.96 g (3.6 mmol), 1,3-
Dicyclohexylcarbodiimide 0.96 g (4.
5 mmol) was added and the mixture was stirred for 18 hours. The precipitated insoluble material was filtered off, and the solvent of the filtrate was distilled off. Benzene was added to the residue, the insoluble material deposited again was filtered off, and the solvent in the filtrate was distilled off.

【0136】この残渣のうち 1.0g (0.92m
mol)をDMF(20ml)に溶解し、トリエチルア
ミン 75μl(0.55mmol)とコスモシール1
50NH2−300(3.0g、アミノ基が450μm
ol/g量、導入されている、ナカライテスク(株))
を加え、室温で約20時間放置した。担体を濾取し、塩
化メチレンで洗浄後減圧乾燥した。この担体にキャップ
A,B溶液(日本ミリポア・リミテッド)を各10ml
加え10分間放置した。ピリジン、塩化メチレンの順で
洗浄し減圧乾燥し、目的化合物を得た。
Of this residue, 1.0 g (0.92 m
(mol) was dissolved in DMF (20 ml) and triethylamine (75 μl, 0.55 mmol) was added to Cosmo Seal 1
50NH2-300 (3.0 g, amino group 450 μm
ol / g amount introduced, Nakarai Tesque Co., Ltd.
Was added and the mixture was allowed to stand at room temperature for about 20 hours. The carrier was collected by filtration, washed with methylene chloride and dried under reduced pressure. 10 ml each of Cap A and B solutions (Nippon Millipore Limited) are added to this carrier.
The mixture was left for 10 minutes. It was washed with pyridine and methylene chloride in this order and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0137】目的化合物への実施例1の化合物の導入量
を、次の方法で定量した。目的化合物5.4mgに、デ
ブロック溶液(3%ジクロロ酢酸/塩化メチレン溶液、
日本ミリポア・リミテッド)を加え3分間振とうし、塩
化メチレンで全量を20mlとした。そのうちの0. 4
mlの溶媒を留去後、残渣に過塩素酸−エタノール溶液
(3:2v/v、ml)を加え500nmにおけるジメ
トキシトリチルカチオンの吸光度を測定した(ε=71
700)。
The amount of the compound of Example 1 introduced into the target compound was quantified by the following method. To 5.4 mg of the target compound, a deblocking solution (3% dichloroacetic acid / methylene chloride solution,
(Japan Millipore Limited) was added and shaken for 3 minutes, and the total amount was adjusted to 20 ml with methylene chloride. 0.4 of them
After distilling off the solvent of ml, a perchloric acid-ethanol solution (3: 2 v / v, ml) was added to the residue, and the absorbance of the dimethoxytrityl cation at 500 nm was measured (ε = 71).
700).

【0138】ジメトキシトリチル基の導入量=51.8
μmol/g
Introduction amount of dimethoxytrityl group = 51.8
μmol / g

【0139】[0139]

【実施例24】Example 24

【0140】[0140]

【化20】 [Chemical 20]

【0141】実施例1 の化合物1.60g(2.87m
mol)をDMF(18ml)に溶解し、ペンタクロロ
フェノール 0.96g(3.6mmol)、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド 0.96g (4.
5mmol)を加え18時間撹はんした。析出した不溶
物を濾別し、濾液の溶媒を留去した。残渣にベンゼンを
加え、再び析出した不溶物を濾別し、濾液の溶媒を留去
した。
1.60 g (2.87 m) of the compound of Example 1
mol) was dissolved in DMF (18 ml), and pentachlorophenol 0.96 g (3.6 mmol), 1,3-
Dicyclohexylcarbodiimide 0.96 g (4.
5 mmol) was added and the mixture was stirred for 18 hours. The precipitated insoluble material was filtered off, and the solvent of the filtrate was distilled off. Benzene was added to the residue, the insoluble material deposited again was filtered off, and the solvent in the filtrate was distilled off.

【0142】この残渣のうち 0.48g (0.6m
mol)をDMF(15ml)に溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン 110mg(0.9mmol)とpーアル
コキシベンジルアルコール レジン(1.0g、アミノ
基が0.9mmol/g量、導入されている、国産化学
(株))を加え、室温で25時間放置した。担体を濾取
し、塩化メチレン、メタノール、エーテルの順で洗浄後
減圧乾燥した。この担体にキャップA,B溶液(日本ミ
リポア・リミテッド)を各10ml加え15分間放置し
た。塩化メチレン、メタノール、エーテルの順で洗浄し
減圧乾燥し、目的化合物を得た。
Of this residue 0.48 g (0.6 m
mol) was dissolved in DMF (15 ml) and dimethylaminopyridine 110 mg (0.9 mmol) and p-alkoxybenzyl alcohol resin (1.0 g, amino group 0.9 mmol / g amount introduced, domestic chemical ( Strain)) was added and the mixture was allowed to stand at room temperature for 25 hours. The carrier was collected by filtration, washed with methylene chloride, methanol and ether in this order and then dried under reduced pressure. 10 ml of each of Cap A and B solutions (Nippon Millipore Limited) were added to this carrier and left for 15 minutes. It was washed with methylene chloride, methanol and ether in this order and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0143】目的化合物への実施例1の化合物の導入量
を、次の方法で定量した。目的化合物10.6mgに、
デブロック溶液(3%ジクロロ酢酸/塩化メチレン溶
液、日本ミリポア・リミテッド)を加え3分間振とう
し、塩化メチレンで全量を20mlとした。そのうちの
0. 4mlの溶媒を留去後、残渣に過塩素酸−エタノー
ル溶液(3:2v/v、6ml)を加え500nmにお
けるジメトキシトリチルカチオンの吸光度を測定した
(ε=71700)。
The amount of the compound of Example 1 introduced into the target compound was quantified by the following method. 10.6 mg of the target compound,
A deblocking solution (3% dichloroacetic acid / methylene chloride solution, Nippon Millipore Limited) was added and shaken for 3 minutes, and the total amount was adjusted to 20 ml with methylene chloride. After distilling off 0.4 ml of the solvent, a perchloric acid-ethanol solution (3: 2 v / v, 6 ml) was added to the residue, and the absorbance of the dimethoxytrityl cation at 500 nm was measured (ε = 71700).

【0144】ジメトキシトリチル基の導入量=302μ
mol/g
Introduction amount of dimethoxytrityl group = 302 μ
mol / g

【0145】[0145]

【実施例25】Example 25

【0146】[0146]

【化21】 [Chemical 21]

【0147】ポリ(オキシエチレン)ジグリコール酸
9.9g(3.3mmol)をピリジンに溶解し減圧下
留去し、残さをジクロロメタン10mlに溶解し、氷冷
撹はん下、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド
226mg (1.1mmol)を加えた。15分後
に、2mlのジクロロメタンに溶解した2ー{2−O−
(4、4’−ジメトキシトリチルオキシ)エチルスルホ
ニル}エタノール ( Tetrahedron Lett. 27、 4705 (1
986)) 0.5g(1.1mmol)とジメチルアミノピ
リジン0.13g(1.1mmol)を加え室温で18
時間撹はんした。原料の消失をTLCで確認した後、析
出物を濾去し、約50mlまで濃縮した。この溶液を氷
冷したエーテル500mlに落とし、粉末を得た。これ
を塩化エチレンに溶解し200gのシリカゲルカラム
(溶媒、20%メタノールー塩化メチレン)で精製し、
2.77gの目的化合物を得た。
Poly (oxyethylene) diglycolic acid
9.9 g (3.3 mmol) was dissolved in pyridine and evaporated under reduced pressure, the residue was dissolved in 10 ml of dichloromethane, and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide was stirred under ice cooling.
226 mg (1.1 mmol) was added. After 15 minutes, 2- {2-O- dissolved in 2 ml of dichloromethane.
(4,4′-dimethoxytrityloxy) ethylsulfonyl} ethanol (Tetrahedron Lett. 27, 4705 (1
986)) 0.5 g (1.1 mmol) and 0.13 g (1.1 mmol) of dimethylaminopyridine were added and the mixture was allowed to stand at room temperature
Stir for time. After confirming the disappearance of the raw materials by TLC, the precipitate was filtered off and concentrated to about 50 ml. This solution was dropped into 500 ml of ice-cooled ether to obtain a powder. This was dissolved in ethylene chloride and purified with a 200 g silica gel column (solvent, 20% methanol-methylene chloride),
2.77 g of the desired compound was obtained.

【0148】1H-NMR(270MHz、CDCl3、TMS) δppm:
7.43−7.09、6.88−6.81(m,P
h)、 4.64−4.58(m,−SOCH
O−CO−)、 3.65(s,−OCHCHO−)、 3.53−
3.50(m、DMT−OCH SO−)、 3.49−3.46(m,−SO CHO−C
O−)、 3.34−3.31(m,DMT−O−C
CHSO−)
1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 , TMS) δ ppm:
7.43-7.09, 6.88-6.81 (m, P
h), 4.64-4.58 (m, -SO 2 CH 2 C H
2 O-CO-), 3.65 ( s, -OCH 2 CH 2 O-), 3.53-
3.50 (m, DMT-OCH 2 C H 2 SO 2 -), 3.49-3.46 (m, -SO 2 C H 2 CH 2 O-C
O-), 3.34-3.31 (m, DMT -O-C H
2 CH 2 SO 2 -)

【0149】[0149]

【実施例26】Example 26

【0150】[0150]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0151】実施例25の化合物0.7g(約0.2m
mol)を塩化メチレン6mlに溶解し、氷冷下1,3
−ジシクロヘキシルカルボジイミド 64mg (0.
3mmol)と、ペンタクロロフェノール(63mg、
0.24mmol)をDMF2mlに溶解した溶液を加
えた後、室温にもどし7日間撹はんした。析出物を濾去
した後、濾液の溶媒を留去し塩化メチレン10mlに溶
解し氷冷下エーテル100ml中に落とし粉末を得た。
これをDMF6mlに溶解し、ジメチルアミノピリジン
37mg(0.3mmol)とpーアルコキシベンジル
アルコール レジン(0.25g、アミノ基が0.9m
mol/g量、導入されている、国産化学(株))を加
え室温で24時間放置した。ろ過して担体を回収し、ピ
リジン、塩化メチレン、エーテルで洗浄し、減圧乾燥し
た。この担体にキャップA,B溶液(日本ミリポア・リ
ミテッド)を各10ml加え30分間放置した。塩化メ
チレン、メタノール、エーテルの順で洗浄し減圧乾燥
し、目的化合物を得た。
0.7 g of the compound of Example 25 (about 0.2 m
(mol) in 6 ml of methylene chloride and cooled with ice
-Dicyclohexylcarbodiimide 64 mg (0.
3 mmol) and pentachlorophenol (63 mg,
After adding a solution of 0.24 mmol) dissolved in 2 ml of DMF, the mixture was returned to room temperature and stirred for 7 days. After the precipitate was filtered off, the solvent of the filtrate was distilled off and the residue was dissolved in 10 ml of methylene chloride and dropped into 100 ml of ether under ice cooling to obtain a powder.
This was dissolved in 6 ml of DMF, and 37 mg (0.3 mmol) of dimethylaminopyridine and p-alkoxybenzyl alcohol resin (0.25 g, the amino group was 0.9 m).
The amount of mol / g introduced, Kokusan Kagaku Co., Ltd., was added, and the mixture was left at room temperature for 24 hours. The carrier was recovered by filtration, washed with pyridine, methylene chloride and ether, and dried under reduced pressure. 10 ml each of Cap A and B solutions (Nippon Millipore Limited) were added to this carrier and left for 30 minutes. It was washed with methylene chloride, methanol and ether in this order and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0152】目的化合物への実施例1の化合物の導入量
を、次の方法で定量した。目的化合物6.7mgに、デ
ブロック溶液(3%ジクロロ酢酸/塩化メチレン溶液、
日本ミリポア・リミテッド)を加え3分間振とうし、塩
化メチレンで全量を20mlとした。そのうちの0. 4
mlの溶媒を留去後、残渣に過塩素酸−エタノール溶液
(3:2v/v、3ml)を加え500nmにおけるジ
メトキシトリチルカチオンの吸光度を測定した(ε=7
1700)。
The amount of the compound of Example 1 introduced into the target compound was quantified by the following method. To 6.7 mg of the target compound, a deblocking solution (3% dichloroacetic acid / methylene chloride solution,
(Japan Millipore Limited) was added and shaken for 3 minutes, and the total amount was adjusted to 20 ml with methylene chloride. 0.4 of them
After distilling off the solvent of ml, a perchloric acid-ethanol solution (3: 2 v / v, 3 ml) was added to the residue, and the absorbance of the dimethoxytrityl cation at 500 nm was measured (ε = 7).
1700).

【0153】ジメトキシトリチル基の導入量=16μm
ol/g
Introduction amount of dimethoxytrityl group = 16 μm
ol / g

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に同一又は異
なって、水素原子又は炭素数1乃至4個のアルコキシ基
を示し、X1 は−S−基、−SO−基又は−SO2 −基
を示し、Aは−(CH2 )h −基(hは1乃至16の整
数である)、−(CH2 )h O−基(hは1乃至16の
整数である)、−(CH2 )j −O−CO−(CH2
k −基(jは正の整数であり、kは0又は正の整数であ
り、かつj+kは2乃至16である)、−(CH2 )j
−NH−CO−(CH2 )k −基(jは正の整数であ
り、kは0又は正の整数であり、かつj+kは2乃至1
6である)、−(CH2 )j −S−CO−(CH2 )k
−基(jは正の整数であり、kは0又は正の整数であ
り、かつj+kは2乃至16である)、−(CH2 )n
−O−CO−CH2 (OCH2 CH2 )p−OCH2
基(nは正の整数であり、,pは0又は正の整数であ
り、かつ,n+pは2乃至100である)を示し、Y1
は水酸基、置換基を有していてもよいフェニルオキシ
基、あるいはハロゲンで置換されていてもよいエチルオ
キシ基を表わす。]で示される化合物に、一般式 【化2】 [式中、X2 は、酸素原子、硫黄原子又はNH基を示
し、HX2 −P(丸囲み)は高分子物質を表わす。]で
示される高分子物質を反応させる(但し、式(2)にお
けるY1 が水酸基の場合はカルボン酸の活性化剤と反応
させた後に高分子物質(3)と反応させる。)ことによ
り得られる 一般式 【化3】 [式中、R1 、R2 、R3 、X1 、A、X2 及びHX2
−P(丸囲み)は前述のものと同意義を示す。]で示さ
れる高分子物質(4)を、DNA合成機を用いて、DN
A鎖を伸長させることを特徴とする、一般式 【化4】 [式中、R4 、R5 、R6 及びZ基(式中、R4 、R5
及びR6 はそれぞれ独立に同一又は異なって水素原子、
炭素数1乃至4個のアルキル基、置換基を有していても
よいアリール基又は置換基を有していてもよいアントラ
キノニル基を示し、Zは炭素又はケイ素原子を示すか、
5 、R6 及びZが一緒になってフルオレニル基又はキ
サンテニル基を示すか、または、R4 、R5 、R6 及び
Zが一緒になって、水素原子を示す)を示し、R7 は水
素原子、置換基を有していてもよい炭素数1乃至4個の
アラルキル基を示し、置換基を有していてもよいアリー
ル基又は置換基を有していてもよいアラルキル基、Y2
は同一又は異なって酸素原子、硫黄原子又はNH基を示
し、Y3 は酸素原子、硫黄原子、NH基、炭素数1乃至
4個のアルキレン基又はフェニレン基を示し、X3 は酸
素又は硫黄原子を示し、Dは鎖長が2乃至30のオリゴ
ヌクレオチドを示す。但し、Dにおいては各オリゴヌク
レオチドの5′末端と3′末端の水酸基を含まない。]
で表される化合物の製造方法。
1. A general formula: [In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent the same or different and represent a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X 1 represents an —S— group, an —SO— group or SO 2 - represents a group, a is - (CH 2) h - group (h is an integer of 1 to 16), - (CH 2) h O- group (h is an integer of 1 to 16), - (CH 2) j -O- CO- (CH 2)
k - group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k is 2 to 16), - (CH 2) j
-NH-CO- (CH 2) k - group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k is 2 to 1
6 is), - (CH 2) j -S-CO- (CH 2) k
- group (j is a positive integer, k is 0 or a positive integer, and j + k is 2 to 16), - (CH 2) n
-O-CO-CH 2 (OCH 2 CH 2) p-OCH 2 -
A group (n is a positive integer, p is 0 or a positive integer, and n + p is 2 to 100), Y 1
Represents a hydroxyl group, a phenyloxy group which may have a substituent, or an ethyloxy group which may be substituted with a halogen. ] To the compound represented by the general formula: [In the formula, X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group, and HX 2 -P (circled) represents a polymer substance. ] It is obtained by reacting a polymer substance represented by the formula (However, when Y 1 in the formula (2) is a hydroxyl group, it is reacted with a carboxylic acid activator and then with a polymer substance (3)). The general formula: [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , X 1 , A, X 2 and HX 2
-P (circled) has the same meaning as described above. ] The polymer substance (4) represented by
A general formula characterized by extending the A chain [In the formula, R 4 , R 5 , R 6 and Z group (in the formula, R 4 , R 5
And R 6 are independently the same or different and each is a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group which may have a substituent or an anthraquinonyl group which may have a substituent, and Z represents a carbon atom or a silicon atom,
R 5 , R 6 and Z together represent a fluorenyl group or a xanthenyl group, or R 4 , R 5 , R 6 and Z together represent a hydrogen atom) and R 7 represents Hydrogen atom, an aralkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent, Y 2
Are the same or different and represent an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group, Y 3 is an oxygen atom, a sulfur atom, an NH group, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylene group, and X 3 is an oxygen or a sulfur atom. And D represents an oligonucleotide having a chain length of 2 to 30. However, D does not include hydroxyl groups at the 5'end and 3'end of each oligonucleotide. ]
The manufacturing method of the compound represented by.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003524631A (en) * 1999-10-14 2003-08-19 ケムサイクルズ・インコーポレーテッド Method and apparatus for purifying low grade acetonitrile and other components from hazardous waste

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003524631A (en) * 1999-10-14 2003-08-19 ケムサイクルズ・インコーポレーテッド Method and apparatus for purifying low grade acetonitrile and other components from hazardous waste

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