JPH07500806A - 結晶形成装置及び自動化された結晶化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般に、結晶化チャンバに関し、より詳細には、ハンギングドロップ方 法すなわち懸滴法における蒸気拡散によって結晶を形成するための装置、並びに 、自動化された結晶化装置に関する。

高分子（例えば、タンパク質及び核酸）及びペプチドの過飽和溶液は、所定のｐ Ｈ１温度及び沈降速度の条件下で、結晶を形成する。高分子の結晶は、生物工学 −薬学産業において多くの目的のために使用されている。例えば、結晶のエック ス線回折から誘導される高分子構造の三次元モデルを用い、薬学的な研究におけ る新規な医薬の設計を行っている。他の例としては、生物工学的に誘導される製 品の製薬プロセスにおいて、結晶化工程が利用されている。また、亜鉛インスリ ンの如き結晶複合体を用いて医薬形態の制御された解放を行っている。

しかしながら、高分子の結晶化に対する正しい条件を見い出すことが必要である 。これは、広範囲の条件をスクリーニングすることを必要とする。例えば、Ａ。

ＭｃｐｈｅｒｓｏｎのＰｒｅ　ａｒａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ａｎａｌ　ｓｉｓ　Ｏ ｆ　Ｐｒｏｔｅｉｎ　Ｃｒ　５ｔａｌｓ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓ。

ｎｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋページ８２−１２７．１９８２）を 参照のこと。

高分子の結晶化のための条件を見い出すために種々のミクロ技術が現在使用され ており、その例として、自由界面拡散方法（Ｆ、Ｒ，Ｓａｌｅｍｍｅ、Ａｒｃｈ 、Ｂｉｏｃｈｅｍ、Ｂｉｏｐｙｓ、、ｐａｇｅＳ　１５１　ａｎｄ　５２２゜１ ９７２を参照）、ハンギングドロップ又はシラティングドロップ方法におけるｙ 　ａｎｄ　５ｏｎｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、ｐａｇｅｓ９６− ９７．１９８２を参照）、及び、液体透析（Ｋ、Ｂａ１ｌｅｙ、Ｎａｔｕｒｅ。

ｐａｇｅｓ　１４５　ａｎｄ　９３４．１９４０を参照）が挙げられる。

現在使用されている方法の中で、蒸気拡散が、溶液から高分子の結晶を成長させ るために最も一般的に使用される方法であり、また、結晶化のための条件をスク リーニングするために使用される最も一般的な技術は、ハンギングドロップ法に おける蒸気拡散である。これについては、Ｒ，Ｈ，Ｄａｖｉｓ　ａｎｄ　Ｄ。

Ｍ、ＳｅｇｅｌのＭｅｔｈｏｄｓ　ｉｎ　Ｅｎｚ　ｍｏｌｏ　（Ａｃａｄｅｍｉ ｃ　Ｐｒｅｓｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｖｏｌ、２２．ｐａｇ ｅ　２６６．１９７１）を参照のこと。蒸気拡散方法は、他の結晶化方法よりも 利点を有しているが、その理由は、この方法が真の微結晶化技術であるからであ る。ハンギングドロップ法における蒸気拡散は、比較的少量の高分子又はペプチ ドを利用して広範囲な条件をスクリーニングすることができる。

タンパク質から結晶を形成するためには、蒸気拡散ハンギングドロップ法が周知 である。高分子溶液を含む液滴が、シールされたチャンバの中で垂下する。液滴 の中の高分子溶液は、より高い濃度の沈降剤を含むリザーバと平衡する。時間経 過と共に、より低い濃度の高分子溶液からより高い濃度のリザーバ溶液へ水蒸気 が拡散し、液滴の中の高分子及び沈降剤の濃度をゆっくりと増大させる。

−例として、シールされた（気体及び蒸気不透過性の）チャンバの中に、例えば 、１ｍｌの１０％の飽和硫酸アンモニウムのリザーバを準備する。装置のカバー の内壁には、例えば、５％飽和硫酸アンモニウムの１０μｌタンパク質液滴を準 備する。液滴とリザーバとの間の蒸気圧の差により、水は、平衡に達するまで液 滴から蒸発する。従って、液滴は、例えば、１０μＩから５μｍまで５０％収縮 する。溶液の中の高分子及び沈降剤の濃度がある速度で増大する過飽和状態にお いて、結晶が形成する。

ハンギングドロップ実験における蒸気拡散は一般に、Ｌｉｎｂｒｏ　ＦｌｏｗＬ ａｂｏｒａ　ｔｏｒ　ｉ　ｅｓ　（Ｍｃ　Ｉ　ｅａｎ、Ｖｒ　ｉ　ｇｉｎ　ｉａ 　：Ｌｉｎｂｒ。

Ｔｉ５ｓｕｅ　Ｃｕ１ｔｕｒｅ　Ｍｕｌｉｗｅｌｌ　Ｐｌａｔｅ／Ｃｏｖｅｒ。

Ｃａｔａｌｏｇ　Ｎｏ、７６−０３３−０５）、並びに、Ｂｅｃｔｏｎ　Ｄｉｃ ｋｉｎｓｏｎ　ａｎｄ　Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｌｉｎｃｏｌｎ　Ｐａｒｋ、ＮｅｗＪ ｅｒｓｅｙ：商品名ＦＡＬＣＯＮ　３０４７　ＭＵＬＴＩＷＥＬＬ）によって販 売されているタイプの２４ウ工ル組織培養プレートの中で行う。リザーバ溶液は 、組織培養プレートの２４の各々のウェルの中に入れる。次に、各々のウェルノ リムすなわち周辺部に、例えば、Ｄｏｗ　Ｃｏｒｎｉｎｇ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉ ｏｎ　（Ｍｉｄｌａｎｄ、Ｍｉｃｈｉｇａｎ）によって販売される高真空グリー スの如きシリコングリースを塗る。例えば、Ｎｏ、２の厚み及び１８ｍｍの直径 を有するマイクロカバーグラス又はカバースリップを、Ｐｉｅｒｃｅ　Ｃｈｅｍ ｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｒｏｃｋｆｏｒｄ、ｌ１ｌｉｎｏｉｓ）によってサ ーフ７ジル（ＳＵＲＦＡＳＩＬ）の商品名で販売されているシリコン化剤の如き シリコン化剤でシリコン化する。

均一な高分子、並びに、飽和硫酸アンモニウム、ポリエチレングリコールポリマ 、又は低分子アルコールすなわち溶媒の如き沈降剤から成る濃縮された緩衝溶液 を含む１−４０μｍの液滴をシリコン化された各々のカバーグラスに分配する。

次に、組織培養プレートのグリースを塗ったウェルの上で反転させ、その上のシ リコングリースによってシールする。一般には、液滴、及び、ウェルの中のリザ ーバ溶液の緩衝剤、塩類、高分子の濃度及び沈降剤の如き幾つかの要素が、蒸気 圧、温度、濃度等と共に体系的に変化する。

カバーグラスを反転させると、各々の液滴は、対応するリザーバの上方又はこれ に隣接するそれぞれのカバーグラスから垂下する。一般に、各実験は、４６Ｃ又 は２２６Ｃの培養条件の下で平衡するように放置され、他の時間間隔を用いるこ とができるが、例えば、３日間、７日間、１力月、３力月及び６力月の如き種々 の時間間隔にわたって結晶の成長を顕微鏡で監視する。

一般に、高品質の結晶を製造するための条件を見い出すまでには、数千回の実験 を行う必要がある。蒸気拡散ハンギングドロップの実験の設定は、経験を積んだ 技術者が行わなければならない非常に労働集約的なプロセスである。例えば、成 分を吸引及び分配する多数の工程、グリース塗り及び研磨の多数の工程等を実験 を設定する際に実行しなければならない。また、各々のウェルに対して、別個の カバースリップをそのウェルの上で手操作で反転させる必要がある。各工程の作 業量及び複雑さにより、実験結果に広い変動が生ずることがある。更に、人員が 拘束されることにより、結晶化を判定するためにスクリーニングされる条件の範 囲が制限される。

上述の理由から、幾つかの研究グループが、独自の自動化された結晶化装置を開 発している。

ハノギングドロップ法に基づく第１のロボット式結晶化装置が、１９８７年以来 、ＩＣＮ　Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌｓから商業的に入手可能となっている。この装 置は、カラーモニタ、プリンタ、及びメニュー操作型のコンピュータプログラム を含むコンピュータ制御型のサンプル準備装置である。この装置は、２４ウエル のマルチウェルプレートを用い、古典的なグラス−マルチウェルプレートのハン ギングドロップ設定で必要とされる吸引及び分配の総ての工程を実行する。この 装置は、リザーバ溶液をウェルの中へ自動的に滴定し、カバーグラス又はカバー スリップの上へ液滴を自動的に滴定する手段を備えている。しかしながら、この 装置は、対応するウェルの上方でカバーグラスに分配された液滴を操作するため に技術者が常時関与することを必要とする。換言すれば、技術者は依然として、 シリコングリースを各々のウェルの周縁部に塗り、次に、各々のカバーグラスを それぞれのウェルの上方で反転させる必要がある。勿論これは、時間がかかり且 つ煩わしい作業である。

自動結晶化の第２の方法は、Ｕ、Ｓ、Ｎａｖａｌ　Ｉｎ５ｔｉｔｕｔｅの協力を 得てＬｉ１ｌｙ　Ｒｅ５ｅａｒｃｈ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（Ｉｎｄｉａｎ ａｐｏｌ　ｊｓ、Ｉｎｄｉａｎａ）で開発され、ｒＡＰＯｃＡＬＹＰｓＥＪと呼 ばれる完全に自動化された装置である。これについては、Ｎ、Ｄ、Ｊｏｎｅｓｅ ｔ　ａｌ　のＡｎｎｕａｌ　Ｍｅｅｔｉｎｇ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ 　Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｉｃ　Ａｓ５ｏｃｉａｔｉｏｎ、１９８７の２７ 頁、並びに、Ｋ、　Ｂ、　Ｗａｒｄ　ｅｔ　ａｌ、のＪ、Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｇｒ 。

ｗｔｈ、１９８８の９０及び３２５頁を参照のこと。この装置は、Ｚｙｍａｒｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔ　ｉｏｎからＺＹＭＡＴＥ　ＩＩの商品名で販売されているロ ボット、並びに、Ｍａｓｔｅｒ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙの滴定ステーションを利 用している。また、上記装置は、ＣＲＹＳＴＡＬＰＬＡＴＥの商品名でＦｌｏｗ ｔ、ａｂｏｒａｔｏｒｌｅｓが販売している特殊な設計のプレートを使用してい る。上記プレートは、結晶化実験のための３×５列のウェルを有する。各々の結 晶化ウェルは、２つのカバーグラスと、充填すべき２つのオイル溝とを有する。

下方の開口を包囲する方形状の下方のオイル溝と、上方の開口を包囲する方形状 の上方のオイル溝が設けられ、上記上方のオイル溝は下方のオイル溝よりも大き い。下方のオイル溝の上に１つのカバーグラスを置いて下方の開口をシールし、 また、上方のオイル溝の上に他のカバーグラスを置いて上方の開口をシールする 。

その結果、シールされたチャンバが、上方及び下方のカバーグラスの間に形成さ れる。リザーバは、オイル溝に隣接して形成され、上記シールされたチャンバに 気体連通する。

しかしながら、設定及び各ウェルのシールを行うためには種々の操作を必要とす る。最初に各々の溝にオイルを入れなければならない。次に、下方のカバースリ ップを下方のオイル溝の上に置き、下方の開口をシールする。次に、上方のカバ ースリップの上に液滴を付与する。上記カバースリップは、その後反転され、上 方のオイル溝の上に置かれる。

この特殊な設計のプレートは、上述の古典的なカバーグラス−組織培養プレート の構造に比較して幾つかの利点を有する。最初に、プレートは、Ｚｙｍａｒｋの ロボットの如き多関節型ロボットアームのフォークリフト・ハンドて容易に取り 扱うことができる。液滴がリザーバを通して見えない、すなわち、リザーノ１は 、液滴の下にあるのではなく液滴に隣接しているので、プレートは優れた光学的 な観察性を有している。また、プレートは、ハンギング（上方のカバーグラスか ら垂下する）、ソツティング（下方のカバーグラスの上に載る）、又はサンドイ ッチ（両方のカバーグラスに接触する）の液滴を許容することができる。

しかしながら、上記プレートは多くの欠点を有している。第一に、取り扱いに煩 雑な多数のカバーグラスがある。また、プレートは、オイル溝を用いてカバーグ ラス−結晶化チャンバの各々のウェルをシールしているので、溝の中のオイルの 高さを適正にするために追加の時間を要する。換言すれば、オイルの高さは、カ バーグラスのシールを確実にするメニスカスを得るように厳密なものでなければ ならない。例えば、オイルの高さが低すぎる場合には、シールが行われない。

反対に、オイルの高さが高すぎる場合には、上方のオイル溝からのオイルが、リ ザーバ及び／又は下方のオイル溝に入り、下方のオイル溝からのオイルはりザー バに入ることになる。更に、上記プレートは、相当する古典的なカバーグラス− マルチウェルプレートの実験に比較して、比較的遅い平衡速度を有する。最後に 、上記プレートの中での高分子の結晶化の条件は、通常のハンギングドロップ実 験とはかなり異なることが判明している。

自動結晶化の第３の方法は、Ｂ　ｉ　ｏｍｅ　ｋの自動液体処理装置を用いて、 Ｃｒｙｓｃｈｅｍ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎが開発している。これについては、 ＭＯｒｒｉｓ　ｅｔ　ａｌ、のＢｉｏｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ、Ｖｏｌ、７．Ｎｏ 、５゜１９８９を参照のこと。この方法を用いる場合には、特殊な設計のプレー トが開発され、この自動化装置で使用するためにＭＤ／２４の名称で販売されて いる。

このプレートは２４のウェルを備え、各々のウェルは、液滴を立てるための中央 ポストすなわちティーを有し、また、各々のウェルは、上記中央ポストよりも若 干低いレベルにあるが該中央ポストと気体連通ずるリザーバによって包囲されて いる。シールされたチャンバを準備するために、Ｃｏｒｎｉｎｇ　ＧｌａｓｓＣ ｏ、の透明なマイラ（ｍＶ　Ｉ　ａ　ｒ）フィルムがプレートの上にシールされ ている。従って、実験を設定するためにカバーグラスを操作する必要は全くない 。液滴は、中央ティーに直接分配され、その後マイラフレームでノールされる。

ＭＤ／２４プレートには幾つかの欠点がある。第一に、マイラフィルムは光学的 な性質が乏しい。また、実験を観察するためには、マイラフィルムを剥がさなけ ればならない。これは、進行中の蒸気平衡プロセスを阻害する。また、幾つかの 顕微鏡観察の後には、マイラフレームは最早、総てのウェルにおいて良好なシー ルを保持することができない。これらの問題は、ＭＤ／２４チャンバを日常的な スクリーニングに広く使用することを阻止している。

また、種々の米国特許は、種々の結晶プレート構造又は同様のものを教示及び／ 又は開示している。

例えば、米国特許第３．１０７．２０４号（Ｂｒｏｗｎ　ｅｔ　ａｌ、）は微生 物工学的な検査方法及びそのための構造を開示している。この米国特許は、複数 のウェルを有するトレイと、該トレイ用のカバーとを開示している。カバーは、 外周部の周囲でトレイにシールされ、重要なことは、ウェルの内側に緊密に嵌合 してウェルを個々に７−ルする突出部を含むことである。ウェルの気体ソールが あることは示していない。また、カバーとトレイとの間にはスナップ式の又は緊 密に接続するシールが設けられ、該シールは、高分子結晶を形成するための蒸気 拡散ハンギングドロップ法に関連して使用することを困難にするであろう。

米国特許第３，１６５．４５０号（Ｓｃｈｅｉｄｔ）は、浅い皿によッテ形成さ れる嫌気性培養装置を開示しており、上記浅い皿は、該皿を４分割する隔壁を有 している。上記隔壁は、皿の外壁よりも低い高さを有する。従って、カバーが皿 にソールされた場合でも、上記隔壁によって形成されたチャンバは互いに自由に 気体連通する。従って、この装置は、結晶化チャンバの個々のシールされたチャ ンバを形成するために使用することはできない。上記装置と同様でまた同様の欠 点を有する米国特許第３，０５５．８０８号（Ｈｅｎｄｅｒｓｏｎ）も参照され たい。

米国特許第２，５６１．３３９号（Ｃｈｅｄｉａｋ）は同様の構成を開示してお り、各ウェルが相互に自由に連通ずることは明らかである。米国特許第４，８２ ２．７４１号（Ｂａｎｅｓ）も参照されたい。

米国特許第４．７７０．８５６号（Ｕｔｈｅｍａｎｎ　ｅｔ　ａｌ、）は、トレ イが複数のウェルを有する構造を開示している。このト１ノイすなわちプレート は、カバーが着座する周辺の棚状部を有している。従って、この構造は、Ｂｅｃ ｔｏｎ−Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ　ａｎｄ　Ｃｏ、のＦＡＬＣＯＮ　３０４７　ＭＵ ＬＴＩＷＥＬＬの組織培養プレートに類似しており、同じ理由から、結晶化チャ ンバとして使用するには欠点がある。米国特許第４，６８２．８９１号（Ｍａｃ ａｒｉｏ　ｅｔ　ａｌ、）の図２及び図３Ｂに示される従来技術も参照されたい 。

米国特許第４．０１２．２８８号（Ｌｙｍａｎ　ｅ　ｔ　ａ　１．　）は、Ｂｅ ｃｔｏｎ−Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ　ａｎｄ　Ｃｏ、のＦＡＬＣＯＮ　３０４７　Ｍ ＵＬＴＩＷＥＬＬと同様の組織培養クラスタを開示している。ウェルの上端は、 上方のプラットフォームの上方へ伸長しているが、蓋すなわちカバーはベースの 上に支持されており、従って、蓋の下面は、ウェルの壁部よりも垂直方向におい て−Ｌ方にあり且つ上記壁部から隔置され、小さなギャップすなわち隙間を残す 。

米国特許第４，５９９．３１４号（Ｓｈａｍｉ）は、多容器標本トレイを開示し ており、該トレイは、容器のカバーに取り外し可能に接着する蓋を備えている。

しかしながら、上記カバーは、各容器に対して独立した別個のものである。すな わち、総てのウェルに共通のカバーは設けられていない。

米国特許第４．５９９，３１５号（Ｔｅｒａｓａｋｉ　ｅｔ　ａｌ、）は、トレ イにマルチウェルが形成されている微小液滴テスト装置を開示している。そのカ バーは、ウェルの中へ突出する種々のロンドを有している。しかしながら、上記 ロッドはシール作用を行わず、ウェルの内容物を光学的に良く観察するためにだ け使用される。また、上記ウェルは互いに気体連通する。

米国特許第４，２９９，９２１号（Ｙｏｕｓｓｅｆ）は、長時間培養型の微生物 学的な装置を開示している。しかしながら、単一のチャンバを有する単一の皿が 設けられるだけである。

また、種々の特許が、関連する自動化された装置を教示している。

例えば、米国特許第４，７５５，３６３号（Ｆｕｊｉｔａ　ｅｔ　ａｌ、）ｈａ 、自動化されたバイオポリマ結晶調整装置を開示しており、該装置は、種々の蒸 気拡散方法によってバイオポリマの単一結晶を形成することができる。この装置 は、別個のリザーバからの溶液の供給を制御し、また、温度も制御する。上記特 許は、ガラスカバーのスリップを用いる周知のハンギングドロップ拡散方法を議 論してはいるが、その議論は当該特許明細書のバックグラウンドの部分でだけ行 われており、当該特許明細書の残りの部分はそれとは非常に異なっている。

米国特許第４．９７８．５０５号（Ｋｅ　ｒ　ｔ　ｚ）は、有機物材料のマイク ロプロ″ゲーンヨン（ｍｉｃｒｏｐｒｏｐａｇａｔ　１ｏｎ）及び培養を行うた めの自動化された装置を開示している。複数の細胞を収容する外皮ロールが、媒 体充填装置を越えて搬送され、該装置において、適正に混合された成分及び割合 を有する成長媒体が各細胞に注入される。次に、バーコード手段が、各細胞の外 側にバーコードを添付する。次のステーションが走査すなわちスキャンを行い、 成長媒体の適性量を確認し、圧力下で細胞を加熱して微生物を総て殺し、サンプ ルを冷却及び貯蔵し、組織の処理を行う。しかしながら、この装置は、自動化さ れたアセンブリを記載してはいるが、自動化された結晶化装置とは非常に異なる 。

米国特許第４．７５１．１８６号（Ｂａｉｓｃｈ　ｅｔ　ａｌ、）は、サンプル 分析を行うプロセス、並びに、該プロセスを実行するためのう・ツクを開示して いる。このラックは、試薬を含む複数のセルを備え、これらセルは、ラックの収 容開口に挿入される。サンプル容器から部分的なサンプルが吸引され、それぞれ のセルに自動的に挿入される。また、ランクにはバーコードが設けられ、セルの 内容物を表示する。しかしながら、単一のカバーの反転、並びに、ベースのウェ ルの上縁部へのシール試薬の付与は行われない。

米国特許第４．９２７．５４５号（ＲＯｇｉｎｓｋｉ）は、血清を自動的に処理 して分析するための方法及び装置を開示している。この装置は、結晶を形成する ためには使用されないが、多目的型のグリッパ、並びに、試験管を特定するため のバーコードリーダを備える５軸型の多関節型ロボノ］・アームを開示する点に おいて関連性を有する。

米国特許第４，７９８．０９５号（Ｉｔｏｈ）は、液体サンプルを各試験管に分 配し、これら試験管をグループに分けるための装置を開示している。この装置も 結晶形成装置に関するものではないが、試験管を特定して試験管を分類するため のバーコード・ラベラ及びバーコードリーダを開示する点において関連性を有す る。

米国特許第４，２６５．８５５号（Ｍａｎｄｌｅ’　ｅｔ　ａｌ、）は・免疫化 学的、及び相分離を含む他の分析を行うための装置を開示している。この装置は 、容器のブロックを特定するために磁性タグを用いており、これにより、洗浄、 試薬の添加、培養、検知及び貯蔵の如きそれ以後の操作を実行することができる 。

しかしながら、上記装置は、自動化された結晶化装置とは極めて異なるものであ る。

発明の摘要 本発明は、従来技術の問題を解消する結晶形成装置、方法、並びに、自動化され た結晶化装置を提供する。

より詳細には、本発明は、 （ａ）複数のウェルを有するベースプレートであって、各々のウェルは、リザー バ溶液をその中に収容するようになされており、また、各々のウェルは、底部、 並びに、該底部に接続される周方向の側壁部を有していてその中にチャンバを形 成し、上記側壁部は、上記ウェルの上部開口を形成する上方の周縁部を有するベ ースプレートと、 （ｂ）上記総てのウェルを覆うための取り外し可能な単一のカバ一手段であって 、上記ウェルの上方の周縁部に着座して上記ウェルをシールし、従って、上記チ ャンバをシールする下面を有する取り外し可能な単一のカバ一手段とを備えるこ とを特徴とする結晶形成装置を提供する。

一実施例においては、本発明の結晶形成装置は、上記上方の周縁部と上記取り外 し可能な単一のカバ一手段との間に設けられ、上記取り外し可能な単一のカッく 一手段の下面を上記各々のウェルにシールし、これにより、複数のシールされた チャンバを形成するシール手段を更に備える。

本発明は更に、 （ａ）ベースプレートに形成された複数のウェルの中にリザーノく溶液を分配す る工程であって、各々のウェルは、底部、並びに、該底部に接続される周方向の 側壁部を有していてその中にチャンバを形成し、上記各々の側壁部は、上記ウェ ルの上部開口を形成する上方の周縁部を有し、上記上部開口を介して上記リザー バ溶液が分配される、リザーバ溶液を分配する工程と、（ｂ）上記リザーバ溶液 が供給される上記ウェルに相当する単一のカッく−の複数の位置に、高分子溶液 を含む複数の液滴を形成する工程と、（Ｃ）上記液滴が、上記単一のカバーの上 記位置と概ね同一の位置に上記液滴が留まるように上記単一のカバーを反転させ る工程と、（ｄ）上記反転された単一のカバーを上記上方の周縁部の上に置いて 上記チャンバをシールし、上記各々の液滴をそれぞれのウェルのリザーノくの上 方で垂下した状態にして吊り下げる工程とを備えることを特徴とする高分子の結 晶を形成するための方法を提供する。

一実施例においては、上記方法は、上記取り外し可能な単一のカッく一手段の下 面を上記各々のウェルにシールし、これにより、ソールされた複数のチャン／く を形成する工程を更に備える。

リザーバ溶液をその中に有する各々のウェルの上方の周縁部には、反転した単一 のカバーをその上に置く前に、ノリコンソールのグリースを塗布するのが好まし い。

本発明は更に、 （ａ）ベースプレートに形成された複数のウェルの中にリザーバ溶液を分配する ための液体分配手段であって、上記各々のウェルは、該ウェルの上部開口を形成 する上方の周縁部を有する側壁部によって形成され、上記」二部開口を介して上 記リザーバ溶液が分配されるようになされた液体分配手段と、（ｂ）カバーの上 方を向いた下面の複数の位置に高分子溶液を含む複数の液滴を付与するための液 滴分配手段であって、上記複数の位置は、上記リザーバ溶液が供給される上記ウ ェルに対応するようになれた液滴分配手段と、（Ｃ）上記液滴が付与された後に 上記カバーを反転させ、これにより、上記カバーの下面を下方に向けるための反 転手段と、（ｄ）上記反転したカバーを上記上方の周縁部の上に置き、これによ り、上記カバーにより上記ウェルをシールし、上記液滴を対応するリザーバ溶液 の上方で垂下した状態で吊り下げるようにする定置手段とを備えることを特徴と する自動化された結晶化装置を提供する。

一実施例においては、上記自動化された結晶化装置の上記液体分配手段は、（ａ ）上記ベースプレートを支持するためのサポートプラントフオーム手段と、（ｂ ）上記ベースプレートの各々のウェルにリザーバ溶液を供給するためのピペット 手段と、 （Ｃ）上記ピペット手段と上記サポートプラットフォーム手段との間に相対的な 運動を生じさせ、これにより、上記ピペット手段が、上記ウェルのいずれの上方 にも選択的に位置することができるようにする駆動手段とを備える。

他の実施例は、前記ウェルに液体が供給された後に、前記サポートプラットフォ ーム手段を振動させて各々のウェルの中の液体を混合するための渦流手段を備え る。

更に別の実施例においては、上記反転手段は、（ａ）上記カバーを上記液滴分配 手段の下方に支持するためのサポートプラットフォーム手段と、 （ｂ）上記カバーの下面がその上に液滴を受けるように上方を向（位置と液滴が 付与された後に上記カバーの下面が下方を向く位置との間で上記サポートプラン トフオーム手段を回転可能に支持するための回転支持手段とを備える。

また別の実施例においては、上記定置手段は多関節型ロボットアーム手段を備え 、該多関節型ロボットアーム手段は、上記ベースプレートを掴んで該ベースプレ ートを上記液体分配手段へ及び該液体分配手段から搬送すると共に、上記カバー を掴んで該カバーを上記反転手段へ及び該反転手段から搬送する。

更に別の実施例は、上記反転したカバーを上記上方の周縁部に置く前に、上記各 々の結晶形成装置のベースプレートの側壁部の上方の周縁部にシール材を付与す るためのシール材ディスペンサを備える。

また別の実施例は、上記複数の結晶形成装置を積み重ねるためのチャンバ重積手 段を備える。

本発明は更に、複数のウェルを有するベースプレートと、上記複数のウェルを覆 うためのカバーとを有する結晶形成装置と共に使用される自動化された結晶化装 置であって、 （ａ）上記複数の結晶形成装置を重積するためのチャンバ重積手段と、（ｂ）上 記チャンバ重積手段からの上記結晶形成装置を処理するための処理手段であって 、 （ｉ）上記各々の結晶形成装置のベースプレートのウェルの中へ所定量の液体を 分配するための液体分配手段と、 （ｉｉ）上記ウェルに相当する上記カバーの各々の位置に高分子溶液を含む液滴 を分配し、上記カバーが対応するベースプレートと組み立てられた時に、上記液 滴が、上記各々のウェルの上方で上記カバーから垂下する状態で吊り下げられる ようにする液滴分配手段とを具備する処理手段と、（ｃ）上記結晶形成装置を掴 んで該結晶形成装置を上記チャンバ重積手段と上記処理手段との間で搬送すると 共に、上記各々の結晶形成装置のカバーを該結晶形成装置のベースプレートから 分解したり該ベースプレートと組み合わせたりするための多関節型ロボットアー ム手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装置を提供する。

一実施例においては、上記液体分配手段は、（ａ）上記ベースプレートを支持す るためのサポートプラットフォーム手段と、（ｂ）上記ベースプレートの各々の ウェルにリザーバ溶液を供給するだめのピペット手段と、 （Ｃ）上記ピペット手段と上記サポートプラットフォーム手段との間に相対的な 運動を生じさせ、これにより、上記ピペット手段が、上記ウェルのいずれの上方 にも選択的に位置することができるようにする駆動手段とを備える。

他の実施例は更に、液体が前記ウェルに供給された後に、前記サポートプラット フォーム手段を振動させて各々のウェルの中の液体を混合するための渦流手段を 備える。

更に別の実施例は、上記カバーの下面が上記液滴を受けるために上方を向（位置 と、液滴を受けた後に上記カバーの下面が下方を向（位置との間で上記各々の結 晶形成装置のカバーを回転させるための回転手段を備え、上記回転手段は、上記 カバーを上記液滴分配手段の下方に支持するためのサポートプラットフォーム手 段を含み、更に、上記カバーの下面がその上に液滴を受けるように上方を向く位 置と液滴が付与された後に上記カバーの下面が下方を向く位置との間で上記サポ ートプラントフオーム手段を回転可能に支持するための回転支持手段とを備える 。

更に別の実施例においては、上記液滴分配手段は、（ａ）液滴を上記カバーに供 給するためのピペット手段と、（ｂ）上記ピペット手段と上記カバーとの間に相 対的な運動を与え、これにより、上記ピペット手段が、上記カバーの上方を向い た下面の上方の種々の箇所に選択的に位置することができるようにする駆動手段 とを備える。

また更に別の実施例においては、上記多関節型ロボットアーム手段は、（ａ）第 １及び第２のグリップアームを具備し、上記ベースプレート及び上記カバーを掴 むためのグリップ手段と、 （ｂ）上記グリップアームを互いに接近させたり離したりするためのグリップ調 節手段を具備し、上記グリップアームを隔置された関係に保持するためのリスト 手段とを備える。

別の実施例は更に、上記カバーを対応するベースプレートと組み合わせる前に、 上記各々の結晶形成装置のベースプレートの側壁部の」三方の周縁部にシール材 を付与するシール材分配手段を備える。

更に別の実施例は、上記チャンバ重積手段から上記結晶形成装置を回収すると共 に、上記結晶形成装置の処理が完了した後に、該結晶形成装置を上記チャンバ重 積手段へ戻すためのトローリ手段を備える。

更に別の実施例においては、上記チャンバ重積手段は、（ａ）処理すべき上記結 晶形成装置のスタックを保持するための入力タワ一手段と、 （ｂ）処理された結晶形成装置のスタックを保持するための出力タワ一手段とを 備える。

本発明は更に、複数のウェルを有するベースプレートと、上記総てのウェルを覆 うための取り外し可能なカバーとを具備し、上記各々のウェルはリザーバ溶液を 収容するようになされ、また、上記各々のウェルは、底部、及び、該底部に接続 される周方向の側壁部を有していてその中にチャンバを形成し、上記側壁部は、 上記ウェルの上部開口を形成する上方の周縁部を有し、また、上記取り外し可能 なカバーは、上記ウェルの上記上方の周縁部に着座して上記ウェルをシールし、 従って、上記チャンバをシールする下面を有するようになされた結晶形成装置と 共に使用される自動化された結晶化装置を提供し、該自動化された結晶化装置は 、（ａ）上記複数の結晶形成装置を重積するためのチャンバ重積手段と、（ｂ） 上記チャンバ重積手段からの上記結晶形成装置を処理するための処理手段であっ て、 （ｉ）上記各々の結晶形成装置のベースプレートの側壁部の上方の周縁部に７− ル材を供給するための７一ル材分配手段と、（ｉｉ）上記各々の結晶形成装置の ベースプレートのウェルの中へ所定量の液体を分配するための液体分配手段と、 （ｉｉｉ）上記ウェルに相当する」１記ノアバーの各々の位置に高分子溶液を含 む液滴を分配し、上記カバーが対応するベースプレートと組み立てられた時に、 」二記ｇＪＬａが、上記各々のウェルの上方で上記カッ＼−から垂下する状態で 吊り下げられるようにする液滴分配手段と、 （ｉｖ）上記カバーの下面が上記液滴を受けるために上方を向く位置と、液滴が 上記下面に付与された後で且つ上記カバーが対応するベースプレートと組み立て られた時に上記カバーの下面が下方を向く位置との間で上記各々の結晶形成装置 のカバーを回転させるための回転手段とを具備する処理手段と、（Ｃ）上記結晶 形成装置を掴んで該結晶形成装置を上記チャンバ重積手段と上記処理手段との間 で搬送すると共に、上記各々の結晶形成装置のカバーを該結晶形成装置のベース プレートから分解したり該ベースプレーｌ・と組み合わせたりするための多関節 型ロボットアーム手段とを備える。

図面の簡単な説明 本発明は、以下の本発明の説明及び添付の図面を参照することにより、より容易 に理解することができるが、図面において、図１は、本発明と共に使用すること のできる高分子結晶形成装置を分解し且つ一部を破線で示す側方立面図であり、 図２は、図１の結晶形成装置のベースプレートを線２−２から見て示す平面図で あり、 図３は、図１の結晶形成装置の単一のカバーを線３−３から見て示す底面図であ り、 図４は、図１の結晶形成装置のベースプレートを線４−４に沿って示す断面図で あり、 図５は、図１の結晶形成装置のカバーを線５−５に沿って示す断面図であり、図 ６は、組み立てられ且つ蒸気拡散ハンギングドロップ方法で使用される図１の結 晶形成装置の部分断面図であり、 図７は、組み立てられ且つノリコンソールと共に蒸気拡散ハンギングドロップ方 法で使用される図１の結晶形成装置の部分断面図であり、図８は、本発明の自動 化された結晶化装置の斜視図であり、図８Ａは、図８の自動化された結晶化装置 の一部の前方立面図であり、図９は、図８の自動化された結晶化装置のチャンバ 重積及び排出ステーションを一部破線て示す平面図てあり、 図１０は、図９のチャンバ重積及び排出ステーションを線１ｏ−ｉｏに沿って示 す断面図であり、 図１１は、図９のチャンバ重積及び排出ステー７ョンを線１１−１１に沿って示 す断面図であり、 図１．ＩＡは、図９のチャンバ重積及び排出ステー７ョンのエレベータ手段の一 部を線１１Ａ−１１Ａに沿って示す断面図であり、図１２は、図９のチャンバ重 積及び排出ステーションの一部の斜視図であり、図１３は、本発明の多関節型ロ ボットアーム・アセンブリのグリッパの平面図であり、 図１４は、図１３のグリッパの側方立面図であり、図１５は、図１３のグリッパ が９０°回転した状態を示す前方立面図であり、図１６は、本発明のシール材分 配ステーションの斜視図であり、図１７は、本発明の回転ステーションの斜視図 であり、図１８は、図１７の回転ステーションの平面図であり、図１９は、図１ ７の回転ステーションの一部の側方立面図であり、図２０は、本発明のチャンバ 液体分配及び渦流ステーションの斜視図であり、図２１は、図２０のチャンバ液 体分配及び渦流ステーションの平面図であり、図２２は、図２０のチャンバ液体 分配及び渦流ステーションの側方立面図であり、 図２３は、本発明のカバー待機ステーションの平面図であり、図２４は、図２３ のカバー待機ステーションの側方立面図であり、図２５は、本発明の液体処理ス テーションの一部の斜視図であり、図２６は、図２５の液体処理ステーションの 要素を概略的に示すブロックダイアグラムであり、 図２７は、本発明のタンパク質溶液貯蔵ラックの平面図であり、図２８は、図２ ７のタンパク質溶液貯蔵ラックの側方立面図であり、図２９は、本発明の組み立 てステーションの平面図であり、図３０は、図２９の組み立てステーションの側 方立面図であり、図３１Ａ乃至図３１Ｄは、コンピュータ制御される本発明の作 動ステップを示すフローチャートである。

発明の説明 本発明の結晶形成装置１０が図１乃至図７に示されている。本装置は、ベースプ レート１２と、該ベースプレート用の取り外し可能な単一のカバー１４とを備え ている。

ベースプレート１２は複数のウェル１６を備えており、各々のウェル１６は、沈 降剤を含むリザーバ溶液１８を収容するようになされている。２４のそのような ウェル１６が図示されているが、本発明はそのような数に限定されるものではな く、その数を変えることができる。各々のウェル１６は、底壁部２０と、円筒形 の側壁部２２とを有しており、該側壁部２２の下端部は、底壁部２０に接続され てコツプ状の結晶化チャンバ２４を形成している。各チャンバ２４の一部にだけ リザーバ溶液１８が充填される。各側壁部２２の円形の上縁部すなわちリム２６ は開放され、それぞれのウェル１６の上方開口２８を形成している。

ウェル１６の底壁部２０は、隣接する底壁部２０の間にだけ伸長する底部接続壁 ３０によって互いに接続され、一方、側壁部２２の上方部は、側壁部２２の周囲 にのみ伸長する頂部接続壁３２によって互いに接続されている。ウェル１６は、 頂部接続壁３２よりも高い位置まで伸長している。換言すれば、円形の上縁部２ ６は頂部接続壁３２よりも高く、それぞれ同一の平面に位置している。この構成 は、後に詳細に説明するように、単一のカバーが円形の上縁部２６に直接着座し て各チャンバ２４をシールし、従って、個々にシールされた複数の結晶化チャン バをもたらすことができるようにするために重要である。最後に、隣接する側壁 部２２は、それぞれの高さの下から約３分の２の長さに沿って、接続壁３４によ って互いに接続されている。

また、周囲に段部を有する側部支持壁３６が、頂部接続壁３２の周縁部に接続さ れ、底部接続壁３０の底部よりも下方の位置まで伸長している。このようにする と、支持壁３６の下縁部が、結晶形成装置１０を平坦な面の上に支持する。

ベースプレート１２は、ファルコン３０４７マルチウエル（ＦＡＬＣＯＮ　３０ ４７　ＭＵＬＴＩＷＥＬＬ）プレートを形成するために使用されるタイプの組織 培養処理されたポリスチレン材料の如き堅固なプラスチック材料から形成するの が好ましい。使用する材料は、メチルペンタンノオール、有機酸及びアルコール の如き化学薬品に対して耐性を有する必要があり、また、ｐＨ３−１０の溶液の 中で長期間安定である必要がある。使い捨て可能なマルチウェル・プレートに使 用されるポリスチレンは廉価であり、多組織培養評価の分野で広く使用されてい る実験室用の材料である。この材料はその特質上、良好な光学的な性質を有して おり、結晶化のためのスクリーニング条件に使用される薬品に対して化学的な耐 性を有することが証明されている。

底壁部２０及び側壁部２２は、カバープレート３８から垂下する液滴を顕微鏡等 によって観察するために、透明又は半透明であることが重要である。しかしなが ら、底部接続壁３０及び頂部接続壁３２は、ウェル１６をより明確に識別するた めに、半透明又は不透明にすることができる。

取り外し可能な単一のカバー１４は、透明で平坦なカバープレート３８と、該平 坦なカバープレート３８の周囲に延在する周縁リップ４０とを備えている。周縁 リング４０は、側部支持壁３６の上部の周囲に嵌合するような寸法を有している 。しかしながら、図６に示すように、周縁リップ４０の高さは十分に小さく、こ れにより、その下縁部がカバー１４をベースプレート１２上に支持するのではな く、後に詳述するように、カバー１４は、円形の上縁部２６に着座する平坦なカ バープレート３８によってのみベースプレート１２上に支持される。

必ずしも必要ではないが、カバープレート３８の下面すなわち内面４２は、複数 の円形のビード４４を有している。各々のビード４４は、ウェル１６の円形の上 縁部２６の直径よりも大きな直径を有しており、カバー１４がベースプレート１ ２の上に置かれた時に、上記上縁部の周囲に延在する。以下の説明から明らかに なるように、円形のビード４４の１つの機能は、高分子溶液を含む液滴のための テンプレートとして機能することである。この設計上の改善は、手動操作の結晶 化スクリーニングを大幅に簡略化する。そのようなビード４４は、上述のＦＡＬ ＣＯＮ　３０４７　ＭＵＬＴＩＷＥＬＬプレートに形成されているタイプである 。

カバ−１４全体は、ベースプレートと同じ透明なポリスチレン材料から形成され るのが好ましい。平坦なカバープレート３８の内面４２は、その上に良好な液滴 形成が行われるようにするために、ノリコン化されるのが好ましい。良好な液滴 形成を確実に行うために、シリコン化剤を塗布し、時間経過と共に高分子液滴が カバー１４上に広がるのを防止する。カバープレート３８のポリスチレン表面を 前処理するために、ヘキサンに溶解させたサーファジル（ＳＵＲＦＡＳＩＬ）ノ リコン化剤の溶液を用いると、ポリスチレンのカバー１４に均一なシリコン膜を 効果的に付与できることが判明した。シリコン化されたカバー１４は、通常のシ リコン化されたカバーグラスから垂れ下がる液滴と同等の高分子液滴の形成を可 能とした。

図６に示すように、カバープレート３８を円形の上縁部２６に直接着座させただ けでシール作用を行わせることができるが、図７に示すように、カバー１４を上 記上縁部の上に置く前に、シリコン又は他のグリースソール４６を円形の上縁部 ２６に塗布するのが好ましい。このようにすると、カバー１４をベースプレート １２の上に置いた時に、シリコンシール４６がチャンバ２４を確実に気密シール し、円形の上縁部２６及び円形のビード４４と協働してそのような気密シールを 確実に行う。ベースプレート１２のウェル１６の２４の円形の上縁部２６の周囲 とカバー１４の接触領域のどのような凹凸も、グリース４６をシール材として用 いることにより覆うことができる。

結晶形成装置１０に種々の変更を加えることができることは明らかであろう。

例えば、ウェル１６は円筒形の形態を有するように図示されているが、矩形の断 面形状の如き他の適宜な形態とすることができる。他の変更例としては、シリコ ンシール４６の代わりにガスケットを用いて各チャンバの気密シールを行うこと ができる。

従って、本発明を用いると、処理工程が極めて容易な簡単な手順により、理想的 な結晶化形成のためのスクリーニングを効率的に行うことができる。

本発明を用いた場合には、好ましくはピペット装置を用いて、最初にウェル１６ をリザーバ溶液１８で部分的に充填する。次に、手動操作又は好ましくは自動化 されたプロセスによって、ノリコングリースのシール４６をウェル１６の円形の 上縁部に塗布する。次に、平坦なカバープレート３８の内面４２に円形のビード ４４によって画成された各領域に高分子溶液を含む液滴４８を置く。次に、カバ ー１４を反転させて円形の上縁部２６の上に置（。シリコンシール４６によりチ ャンバ２４はシールされる。この時点において、各々の液ａ４８は、それぞれの リザーバ溶液１８の上方において垂下した状態で垂れ下がる。各液滴４８の中の 高分子溶液は、より高い濃度の沈降剤を含むそれぞれのリザーバ溶液１８と平衡 する。時間経過と共に、水蒸気が、液ａ４８のより低い濃度の高分子溶液からよ り高い濃度のリザーバ溶液１８へ拡散し、各々の液滴４８の中の高分子及び沈降 剤の濃度がゆっくりと増大する。

結晶形成袋ｆｔ１Ｏを用いた実際の実験では、カバープレート３８をシリコン化 した後に、良好な液滴形成が観察された。そのような実際の実験においては、結 晶形成装置１０は、鶏卵のホワイトリゾチームを結晶化させる条件での垂下液滴 （ハンギング・ドロップ）実験における通常のカバーグラス／マルチウェル・プ レートと平行的に実験してテストした。結晶形成装置１０は、通常の方法と同様 の結果をもたらすことが判明した。形成された結晶のサイズ及び品質は同等なも のであった。また−通常の実験と同じ平衡時間の後に結晶が現れた。

実験は以下のように進めた。ヘキサン中のサーファジル（ＳＵＲＦＡＳ　ＩＬ） シリコン化剤の５％溶液（Ｖ／Ｖ）をカバープレート３８の内面４２に塗布して 乾燥させた。長繊維を含まない柔らかいペーパタオルで内面４２を磨き、該内面 をＦＩＳＨＥＲ，ＢＲＡＮＤの商品名で販売されているプレシジョンダスタ（ｐ ｒｅｃｉｓｉｏｎ　ｄｕｓｔｅｒ）の如きプレシジョンダスタで吹き付は清浄し 、該内面の汚れ又は塵を総て取り除いた。

次に、パーシー外（Ｍ、Ｐｕｒｓｅｙ　ｅｔ　ａｌ、）のＪＣＢ２６１　（１９ ８５年）の６５２４乃至６５２９ページに記載される、蒸気拡散ハンギングドロ ップ法を用いて鶏卵のホワイトリゾチームを結晶化させるための周知の手順を実 行した。ｐ）［，４，０の０．０１Ｍ酢酸ナトリウム及び４％の塩化ナトリウム 中の２０ｍｇ／ｍｌの鶏卵ホワイトリゾチームの液滴を使用した。鶏卵ホワイト リゾチームは、ミズーリ州セントルイスのシグマ・ケミカル社（Ｓｉｇｍａ　Ｃ ｈｅｍｉ　ｃａ　Ｉ　Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手した鶏卵ホワイトからのりゾチ ーム等級Ｉであった。酢酸ナトリウムは、これもングマ・ケミカル社（Ｓ　ｉ　 ｇｍａ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手した無水ＡＣ３試薬等級 であった。塩化ナトリウムは、これもングマ・ケミカル社（Ｓｉｇｍａ　Ｃｈｅ ｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐ　ａ　ｎ　ｙ）から入手したＡＣ３試薬等級であった。液 滴は、ｐＨ４，０の０゜０１Ｍ酢酸ナトリウム及び８％の塩化ナトリウムの２２ °Ｃリザーバ溶液に対して平衡させた。

ボッシュ・アンド・ロム（Ｂａｕｓｃｈ　ａｎｄ　Ｌｏｍｂ）のステレオ顕微鏡 を用いて４０倍の倍率で顕微鏡観察を行った。結晶及び液滴の直径の測定は、ボ ッシュ・アンド・ロム（Ｂａｕｓｃｈ　ａｎｄ　Ｌｏｍｂ）のステレオ顕微鏡の スケーラ接眼鏡で行った。

本結晶形成装置１０の結果を古典的なハンギング下ロップ実験と平行的に比較す るために、幾つかの基準を用いて結晶化チャンバの性能を比較した。

制御ハンギングドロップ実験と比較して、同一の実験条件の下での鶏卵ホワイト リゾチームを結晶化するチャンバ２４の能力をテストした。実験は、同一の沈降 溶液及びリゾチーム溶液を用いて同一の条件の下で実施した。２４の同一の実験 を行った。すなわち、マルチウェルプレート／カバーグラスの装置における通常 の構成のハンギングドロップ、並びに、結晶形成装置１０の結晶化チャンバ２４ における１つの完全なプレートである。液体の処理、吸引及びマルチウェル・プ レートのウェルの中への分配、並びに、結晶形成装置１０のカバー又は従来技術 のカバーグラスへの液滴の付与は手動操作で行った。設定後の３日、１４日及び ３０日に顕微鏡検査により実験を監視した。結晶化開始時間（設定から結晶形成 までの時間）、結晶のサイズ（辺のｍｍ）、及び結晶を生じた実験の数を顕微鏡 観察した。これらの実験の結果を表１に示す。

表−１ 結晶出現　結晶サイズ　形成された 左徒　奥　時間（日）　（ｍｍ）　結晶の数従来技術　２４　３　０．　４５　 ２４４本発明　２４　３　０．４５　２２ 結晶化開始時間は、両方のチャンバに関して同一であることが判明した。同等の サイズ及び品質を有する正方晶系の結晶が、両方の実験の組から観察された。

本発明の結晶化チャンバにおいては、２４の実験中２２の実験において結晶が観 察され、これに対して、従来技術の制御実験においては、２４の実験中２４の実 験において結晶が観察された。

また、時間経過による液滴の直径の収縮は、蒸気葵発速度に関係する。液滴の直 径の変化の顕微鏡測定は、３日、１４日及び３０日の規則的な時間間隔で行った 。液滴の直径の幾何学的な平均を総ての実験の測定値から計算した。そのような 測定の結果を表２に示す。

点−ｌ 初期の液滴　設定後の平均液滴直径（ｍｍ）互−迭　奥　直径（ｍｍ）　３日　 １４日　３０日従来技術　２４　３．９　３．５　３．５　３．５本発明　２４ ．　３．８　３．５　３．５　３．５従来技術の構成、及び、結晶形成装置１０ を有する構成の両方の実験において、３日後に総ての液滴に測定可能な収縮が生 じた。その後、２２°Ｃで３０日間の培養で液滴の直径は安定した。

上記実験は、結晶化チャンバ２４を有する装置１０を用いてリゾチームによる高 分子の結晶化の条件を見い出すことが可能であることを確証している。結晶形成 装置１０によって準備された結晶のサイズ及び品質は、制御実験に比肩し得るも のである。従って、装置１０は、高分子結晶化の実験の処理及び設定の複雑さを 大幅に減少する。

本発明は、自動化された処理装置を有する結晶形成装置１０を用いて結晶化の実 験を設定することに関する。従って、結晶化の実験を設定するために必要な総て の吸引及び分配工程は自動化されたプロセスで行うことができ、該プロセスにお いては、結晶形成装置１０は多関節型ロボットアームによって取り扱われる。

従って、本発明は、従来のハンギングドロノブ実験に比較して明確な利点をもた らす。結晶化の実験を設定するためには最小の処理及びシール工程が必要とされ る。また、本発明は、リゾチームによる結晶化の研究において、従来のハンギン グドロップ実験に相当する結果をもたらす。節約された実験の設定時間は、高分 子を結晶化するための広範囲の条件のスクリーニングに回すことができ、従って 、新規な高分子の結晶形態を見い出す機会が多くなる。

結晶形成装置１０は、本発明の全自動型の結晶化装置に適用することができ、そ の理由は、総ての工程を自動化することができ、また、装置１０を多関節型ロボ ットアームによって容易に操縦することができるからである。

自動化された結晶化袋ｆｉｆｌｏＯは、結晶形成製ｆｉ１．０を使用し、上述の 総ての工程を人間が関与することなく実行する。従って、自動化された結晶化装 置１００は、結晶形成装置１０と組み合わせて、高分子を結晶化するための広範 囲な条件を迅速にスクリーニングするのに適している。結晶形成装置１０のサン ドイッチ型の構造は、自動化された結晶化装置１００に組み込まれる液体の処理 及びシールプロセスを大幅に簡略化する。

後に完全に説明するように、自動化された結晶化袋ｒａ１００は、多関節型ロボ ットアームを用いて、スタッキング（積み重ね）ステーション、シールステーシ ョン、渦流液体分配ステーション及びチャンバ回転ステーションの如き幾つかの ステーションへ複数の結晶形成装置１０を移動さぜる。従って、本発明を用い、 各々の結晶形成製ｒ１１１０が２４のチャンバを備えている場合には、各々の結 晶形成装置ｉｔ　１．０に２４の別個の実験を設定することができ、また、人間 が関与することなく多数の結晶形成製ｒＩ１１０を設定することができる。自動 化された結晶化装置１００を用いた場合には、１日当たり９６０の実験を設定す ることができると判定されている。従って、自動化された結晶化装置１００は、 種々の医学的及び産業的な用途に応用できる高分子の新規な結晶形態を見い出す ことを容易にする。

自動化された結晶化装置１００はチャンバ重積及び排出ステーション１０２を備 え、該ステーションにおいては、結晶形成装置１１０が装ｆｌ１００の残部に供 給されるように積み重ねられ、結晶形成装置ｉ１０は、自動化された結晶化装置 １００によって処理された後に、上記ステーションに戻される。チャンバ重積及 び排出ステーション１０２は、典型的な１日の稼働において、すなわち２４時間 の内に、２０の結晶形成装置１０を重積して装置１００の残部に対して出入りさ せるように構成されるのが好ましい。

図８乃至図１２に示すように、チャンバ重積及び排出ステーション１０２は、隔 置された平行な側壁部１０６．１０８によって形成されるフレーム１０４を備え ており、上記側壁部のそれぞれの前方端は前方壁１１０によって互いに接続され 、それぞれの後方端は後方壁１１２によって互いに接続されている。そのような 接続は、ボルト、溶接等を用いて行うことができる。その結果、フレーム１０は 矩形の箱型の構造を形成する。

図８及び図１２に示すように、カセット入力タワー１１６が、フレーム１０４の 後方部の上方に接続されている。カセット入力タワー１１６は、約２０の結晶形 成装置１０を重積した状態でその中に保持し、自動化された結晶化装置１００の 残部に選択的に供給するようになされている。カセット入力タワー１１６は、垂 直方向に配列された中空で細長い矩形の箱型の構造として形成されている。カセ ット入力タワー１１６の上端１１８及び下端１２０は共に開放されている。この ようにすると、オペレータは操作の始めに、結晶形成装置１０を上端１１８を介 してカセット入力タワー１１６の中へ入れることができ、上記結晶形成装置は、 自動化された結晶化装置１００によって下端１２０から１度に１つづつ自動的に 取り出すことができる。重り付きの抑え板１２１（図１２）をカセット入力タワ ー１１６の中に設け、その中に保持されている結晶形成装置１０の重積体すなわ ちスタックに作用させることができる。

カセット入力タワー１１６は、適宜な手段によって、側壁部１０６．１０８の上 縁部に取り外し可能に又は永続的に取り付けられる。そのような構成の１つにお いては、２字形状の延長部１２２が、カセット入力タワー１１６の側壁部１１６ ａ、１１６ｂの下縁部に固定される。２字形状の各々の延長部１２２は、水平に 配列された上方脚１２４と、該上方脚から隔置され且つ垂直に配列された脚部１ ２８によって上記上方脚に接続された水平に配列された上方脚１２６とを備えて いる。水平に配列された各々の上方脚１２４は、溶接等の適宜な手段によって、 カセット入ツｊタワー１１６の一方の側壁部１１６ａ又は１１６ｂの下縁部に固 定されている。水平に配列された各々の上方脚１２６は、一方の側壁部１０６又 は１０８の上縁部に着座する。その結果、カセット入力タワー１１６は、側壁部 １０６．１０８に取り付けられ、これにより、その開放された下端１２０は、側 壁部１０６及び１０８の間で且つその上方に位置する。

カセｙ　ｌ□入カタワー１１６を側壁部１０６．１０８に対して取り外し可能に 固定するために、クランプ装置１３０を設けることができる。クランプ装置］３ ０は通常の装置であり、汽船のトランクにあるクランプ装置と同様である。従っ て、クランプ装置については簡単に説明する。各々のクランプ装置１３０は、バ ネ止め金１３２を有しており、該ハネ化め金は、枢動取り付は要素１３４によっ て、側壁部１０６又は１０８の外面に枢動可能に取り付けられている。各々のバ ネ止め金１３２の自由端はフック端１３２ａを有しており、該フック端は、２字 形状の延長部１２２の垂直に配列された対応する脚部１２８の外面に取り付けら れたループ１３６に係合するようになされている。従って、カセット入力タワー １１６を側壁部１０６．１０８に取り付けた後に、各々のフック端１３２ａを動 かしてそれぞれのループ１３６に掛止させ、バネ止め金１３２を下方に枢動させ てフック端１３２ａをループ１３６に確実に係合させ、これにより、カセット入 力タワー１１６を側壁部１０６．１０８の頂部に固定する。また、側壁部１０６ ．１０８の」二線部にガイドピン１３７を設け、水平に配列された上方脚１２６ の穴（図示せず）に係合させて、カセット入力タワー１１６を側壁部１０６．１ ０８の」二で適正に整合させることができる。

図１１に示すように、カセット入力タワー１１６は、該カセット入力タワーの中 の結晶形成装置１０のスタックをフレーム１０４の側壁部１０６．１０８の上方 の位置に支持するための枢動式のサポート手段１３８を備えている。枢動式のサ ポート手段１３８は、カセット入力タワー１１６の一方の側壁部１１６ａの下端 において、枢動ピン１４４によって、凹所１４２の中に枢動可能に取り付けられ た第１の枢動レバー１４０を備えている。枢動レバー１４０は、関連する２字形 状の延長部１２２の垂直に配列された脚部１２８から隔置された関係で、カセッ ト入力タワー１１６の側壁部１１６ａの下縁部の下方を伸長する下端１４０ａを 有している。また、枢動レバー１４０は、その上部から内方に伸長するテーパ形 状のクサビ状部分１４０ｂを有している。クサビ状部分１４０ｂは、枢動レバー １４０がその支持位置へ移動した時に水平に配列される上面を有している。また 、枢動レバー１４０は、クサビ状部分１４０ｂの上方に設けられる停止部１４０ Ｃを有しており、該停止部は、図１１の反時計方向に偏倚された時に、側壁部１ １６ａの外面に係合してクサビ状部分１４０ｂの内方の範囲を制限する。図１− １に示す位置においては、クサビ状部分１４０ｂは、カセット入力タワー１１６ の中の結晶形成装置１０の一つの下側に係合せず、これにより、上記１つの結晶 形成装置１０並びにその下に位置する結晶形成装置１０のスタ・ツクを支持しな い。

結晶形成装置１０がクサビ状部分１４０ｂに係合して確実に支持されるようにす るために、レバー１４０を図１１の反時計方向に偏倚するためのノくネ１４６が 側壁部１１６ａに設けられている。バネ１４６は、図１１においては単に概略的 に示されており、このバネはコイルバネであるのが好ましい。しかしながら、他 の形態のバネを使用することができる。例えば、枢動ピン１４４の周囲に巻かれ るトーンヨンバネを設け、該トーンヨンバネの一端部を枢動レノく−１４０に接 触させ、また、上記トーンヨンノくネの他端部を側壁部１１６ａｌこ接触させる こと力くできる。

枢動型のサポート手段１３８はまた、第２の枢動レバー１５０を備えており、該 枢動レバーは、カセット入力タワー１１６の他方の側壁部の下端にお（１て、枢 動ピン１５４によって凹所１５２の中に枢動可能に取り付けられる。枢動レノ＜ −１５０は、関連する２字形状の延長部１２２の垂直に配列された脚部から隔置 された関係でカセット入力タワー１１６の側壁部１１６ｂの下縁部の下方で伸長 する下端１５０ａを有している。また、枢動レバー１５０は、その上部から内方 に伸長するテーパ形状のクサビ状部分１５０ｂを有している。クサビ状部分１５ ０ｂは、枢動レバー１５０が図１１に示すようにその支持位置まで動いた時１こ 水平に配列される上面を有している。また、枢動レノ＜−１５０は、クサビ状部 分１５０ｂの上方に位置する停止部１５０Ｃを有し、該停止部は、図１１の時計 方向に偏倚された時に側壁部１１６ｂの外面に係合し、クサビ状部分１５０ｂの 内方の範囲を制限する。図１１に示す位置においては、クサビ状部分１５０ｂ１ １、カセット入カタワー１１６の中の結晶形成装置１０に係合して該結晶形成装 置を支持する。

結晶形成装置１０をクサビ状部分１５０ｂに係合させて確実に支持されるように するために、レバー１５０を図１１の時計方向に偏倚するバネ１５６が側壁部１ １６ｂに設けられる。バネ１５６は、コイルバネ、トーションバネ等とすること ができる。

し、（−１４０，１５０は、互いに同期し且つ同一の態様で動くことは理解され よう。従って、レバー１５０がバネ１５６の力に抗して外方へ偏倚されると、レ バー１４０もバネ１４６の力に抗して外方へ偏倚される。図１１においてレバー １４０．１５０が異なった位置にあるように示しているのは、単に説明の都合上 である。

チャンバ重積及び排出ステーション１０２はまた、カセット入力タワー１１６の 直ぐ背後のフレーム１０４の上方で接続されているカセット出力タワー１６０を 備えている。カセット入力タワー１１６と同様に、カセット出力タワー１６０は 、自動化された結晶化装置１００によって処理した後の約２０の結晶形成装置１ ０を重積した状態でその中に保持するようになされている。カセット出力タワー １６０は、カセット入力タワー１１６と同一の態様で形成され、同一の固定手段 及び枢動型のサポート手段を備えている。

結晶形成製（ｔｌｏをカセット入力タワー１１６から取り出すために、あるいは 、処理された結晶形成装置１０をカセット出力タワー１６０へ供給するために、 ドローリアセンブリ１６２が設けられている。ドローリアセンブリ１６２は概略 的には、サポートプラットフォーム１６４と、サポートプラットフォーム１６４ を上昇位置と下降位置との間で動かすためのエレベータ手段１６６と、サポート プラットフォーム１６４を前方壁１１０と後方壁１１２との間で動かすための移 動手段１６８とを備えている。

図８、図９及び図１２に示すように、サポートプラットフォーム１６４は、概ね 矩形の形状を有する平坦な金属板から形成されている。プラットフォーム１６４ の短い側部は、該サポートプラットフォーム１６４がカセット入力タワー１１６ 又はカセット出力タワー１６０の中で上昇する時にレバー１４０．１５０の枢動 運動を妨害しないように、符号１６４ａで示すように切り欠くのが好ましい。

また、プラットフォーム１６４の長い側部は、後により完全に説明するように、 結晶形成装置１０がロボットアームによって操縦されるように、符号１６４ｂで 示すように切り欠かれている。その結果、４つのコーナ突出部１７０が形成され ている。対角線の方向において対向する２つのコーナ突出部１７０の上面には２ つのピン１７２が形成されており、これらピンは、結晶形成装置１０をその上で 位置決めする。結晶形成製ｒＩ！１０がサポートプラットフォーム１６４の上に 置かれると、ピン１７２が、結晶形成装置１０の段付きの側部支持周壁３６の下 縁部の中に丁度嵌合する。

エレベータ手段１６６は、垂直方向に運動可能なエレベータシャフト１７４を有 しており、該エレベータンヤフトは、サポートプラットフォーム１６４の下側の 中央に接続された一端部を有している。エレベータシャフト１７４の下部１７４ ａは、図１１Ａに示すようにネジ切りされており、その外面に歯を有するウオー ムギア１７６に螺合している。ウオームギア１７６は、キャリッジアセンブリ１ ８０の下側に回転可能に取り付けられているが、軸方向においては固定されてい る。すなわち、ウオームギア１７６は回転できるがその軸方向には運動できない 。従って、ウオームギア１７６が回転すると、エレベータシャフト１７４が軸方 向に動き、これにより、サポートプラットフォーム１６４が軸方向に動く。ウオ ームギア１７６は、ベアリングレース等の図示しない適宜な手段によって取り付 けることができる。

ウオームギア１７６は、エレベータ用のステッパモータ１８６の出力軸１８４に 固定されたウオーム１８２とかみ合っており、上記ステッパモータは、クランプ （図示せず）によってキャリッジアセンブリ１８０の下側に固定されている。

従って、出力軸１８４が回転すると、ウオーム１８２が回転し、該ウオームの回 転により、ウオームギア１７６が回転する。

キャリッジアセンブリ１８０は、側壁部１０６と１０８との間で横方向に伸長す る横方向のブロック１８８によって形成されている。エレベータンヤフト１７４ は、横方向のブロック１８８の穴１９０を摺動可能に貫通し、サポートプラット フォーム１６４の上昇及び下降を可能としている。また、垂直方向の運動の間の サポートプラットフォーム１６４の回転を阻止するために、ガイドシャフト１９ ２は、エレベータンヤフト１７４に対して隔置された関係でサポートプラットフ ォーム１６４の下側に接続された一端部と、横方向のブロック１８８の別の穴１ ９４の中に摺動可能に係合する他端部とを有している。

移動手段１６８は、チャンバ重積及び排出ステーション１０２の両側において隔 置される２つの平行なガイドロッド１９６．１９８によって形成されている。

ガイドロッド１９６は、側壁部１０６に隣接して前方壁１１０と後方壁１１２と の間で固定されており、一方、ガイドロッド１９８は、側壁部１０８に隣接して 前方壁１１０と後方壁１１２との間で固定されている。

第１のガイドプロッタ２００が、ガイドロッド１９６に摺動可能に取り付けられ ており、また、第２のガイドブロック２０２がガイドロッド１９８に摺動可能に 取り付けられている。図１０に示すように、ガイドブロック２００．２０２は、 これらガイドブロックをガイドロッド１９６．１９８に対して摺動可能に取り付 けるための軸受アセンブリ２０３を備えている。横方向のブロック１８８は、ガ イドブロック２００．２０２の上面に固定して取り付Ｃすられた両端部１８８　 ａ１１８８ｂを有している。サポートプラットフォーム１６４及びエレベータ手 段１６６は、ガイドブロック２００．２０２と共に、ガイドロッド１９６．１９ ８に沿って運動可能である。

ガイドブロック２００．２０２をガイドロッド１９６．１９８に沿って動かすた めに、ネジ付きのアセンブリ２０４が設けられている。ネジ付きのアセンブリ２ ０４は、前方壁１１０の外面に取り付けられた移動駆動モータ２０６を備えてお り、該駆動モータは、前方壁１０を貫通する出力軸２０７を有している。ネジ付 きの駆動軸２０８の親ネジは、通常のカップリング装置２１０によって出力軸２ ０６に固定的に接続された一端部と、軸受アセンブリ２１２によって後方壁１１ ２の中に回転可能に取り付けられた他端部とを有している。被動延長ブロック２ １４が、第１のガイドブロック２０２の下側に固定的に取り付けられ、駆動軸２ ０８をネジ式に収容するネジ付きの開口２１６を有している。従って、出力軸２ ０７及びネジ付きの駆動軸２０８が回転すると、被動延長ブロック２１４がネジ 付きの駆動軸２０８に沿って移動する。一方、これにより、サポートプラットフ ォーム１６４及び検圧力１６６が、ガイドロッド１９６．１９８に沿って制御さ れた態様で動く。

ネジ付きの駆動軸２０８の周囲における被動延長ブロック２１４の遊びを排除す るために、図１０に示すように、ゆるみ緊張アセンブリ２１８がが設けられてい る。ネジ付きの部材２２０が、延長ブロック２１４の後方で駆動軸２０８にネジ 式に係合し、上記ネジ付きの部材は、その外面にキー溝２２２を有している。

キ一部材２２４が、延長ブロック２１４の後面に固定され、キー溝２２２の中に 係合している。このようにすると、ネジ付きの部材２２０は、回転することが防 止されるが、ネジ付きの駆動軸２０８の軸方向において運動可能である。コイル バネ２２６がネジ付きの部材２２０の周囲に巻かれており、上記コイルバネは、 ネジ付きの部材２２０の拡大ヘッド２２０ａに係合する一端部と、延長ブロック ２１４の後面に係合する他端部とを有している。その結果、延長ブロック２１４ 及びネジ付きの部材２２０は引き離され、これにより、延長ブロック２１４及び ネジ付きの駆動軸２０８がネジ式に係合する際の緩みが除去される。

チャンバ重積及び排出ステーション１０２は、枢動型のサポート手段１３８を制 御するための、より詳細には、枢動レバー１４０．１５０の枢動運動を制御する ための制御アセンブリ２２８を備えている。ソレノイド２３０が、横方向のブロ ック１８８から垂下する延長ブロック２１４に接続されている。上記ソレノイド は、ウオームギア１７６の後方て該ウオームギアに概ね整合した状態で、サポー トプラットフォーム１７４の下方に位置している。ソレノイド２３０は、その上 端に固定されたヨーク２３４を有する垂直方向に往復動可能なソレノイド口・ノ ド２３２を備えている。ヨーク２３４は、チャンバ重積及び排出ステーションｌ Ｏ２の横方向に伸長している。ヨーク２３４はまた、ソレノイド口・ノド２３２ の上端の中央に接続され、ヨークの両端部２３４ａ、２３４ｂを形成している。

また、コイルバネ２３３が、ソ１ツノイド２３０の上面とヨーク２３４との間に 設けられ、図１１にヨークの端部２３４ｂで示すように、ソレノイドロッド２３ ２を通常はその伸長位置へ偏倚させている。

第１の横方向の枢動アーム２３６が、ヨーク端部２３４ａに枢動可能に接続され て側壁部１０６に向かって伸長する一端部を有しており、また、第２の横方向の 枢動アーム２３８が、ヨーク端部２３６ａに枢動可能に接続されて側壁部１０８ に向かって伸長する一端部を有している。枢動アーム２３６の他端部は、上方を 向いたレバーアクチュエータ２４０を有しており、一方、枢動アーム２３８の他 端部は上方を向いたレバーアクチュエータ２４２を有している。

枢動アーム２３６とレバーアクチュエータ２４０との間の接合部２３９は、横方 向のブロック１８８の端部１８８ａに枢動可能に接続されている。スペーサブロ ック２４４が、横方向のブロック１８８の端部１８８ａと接合部２３９との間に 設けられている。接合部２３９及びスペーサブロック２４４は共に、整合された 貫通孔を有しており、横方向のブロック１８８の端部１８８ａはネジ付きの孔を 有している。ネジ２４６が、接合部２３９及びスペーサブロック２４４の整合さ れた孔を貫通し、横方向のブロック１８８の端部１８８ａのネジ付きの孔に螺合 している。ネジ２４６のヘッドと接合部２３９との間にはワッシャ２４８を介挿 し、接合部２３９がネジ２４６の周囲で回転する際の該ネジ緩みを阻止するのが 好ましい。

同様に、枢動アーム２３８とレバーアクチュエータ２４２との間の接合部２４１ は、横方向のブロック１８８の端部１８８ｂに枢動可能に接続されている。スペ ーサブロック２５０が、横方向のブロック１８８の端部１８８ｂと接合部２４１ との間に設けられている。接合部２４１及びスペーサブロック２５０は共に整合 された貫通孔を有しており、横方向のブロック１８８の端部１８８ｂはネジ付き の孔を有している。ネジ２５２が、接合部２４１及びスペーサブロック２５０の 整合された孔を貫通し、横方向のブロック１８８の端部１８８ｂのネジ付きの孔 に螺合している。ネジ２５２のヘッドと接合部との間にワッシャ２５４を介挿し 、ネジ２５２の周囲で接合部が回転する際のネジの緩みを阻止するのが好ましい 。

図１１においては、レバーアクチュエータ２４０．２４２は別個の位置にある状 態で示されているが、作動の際には、両方のレバーアクチュエータ２４０．２４ ２は同一の態様で動くことは理解されよう。すなわち、レバーアクチュエータ２ ４０．２４２は共に同じ程度まで枢動する。従って、図１１に示す状態は単に説 明用のものである。

図１１に示すように、ソレノイドロッド２３２は、コイルバネ２３３によって力 が与えられる結果、通常は上昇位置すなわち伸長位置にある。サポートプラット フォーム１６４が、カセット入力タワー１１６又はカセット出力タワー１６０の 下方の位置へ移動すると、レバーアクチュエータ２４０．２４２の自由端が、枢 動レバー１４０．１５０のそれぞれの下端部１４０ａ、１５０ａから離れてこれ ら下端部の外側に位置する。従って、対応するタワー１１６．１６０の中の結晶 形成装置１０は、枢動レバー１４０．１５０のクサビ状部分１４０ｂ、１５０ｂ によって依然として保持されている。それぞれのスタックの最下方の結晶形成装 置１０をサポートプラットフォーム１６４の上面に載せるために、コイルバネ２ ３３の力に抗してソレノイド２３０によりソレノイドロッド２３２を下方へ引っ 張る。その結果、枢動アーム２３６及びレバーアクチュエータ２４０が、ネジ２ ４６の周囲で図１１の反時計方向に枢動し、これにより、レバーアクチュエータ ２４０の自由端が枢動レバー１４０の下端に当接する。これにより、枢動レバー １４０が図示のように図１１の時計方向に偏倚され、従って、そのクサビ状部分 １４０ｂが動いて結晶形成装置１０のスタックと係合しなくなる。

同様にして、枢動アーム２３８及びレバーアクチュエータ２４２は、ネジ２５２ の周囲で図１１の時計方向（図示せず）に枢動し、これにより、レバーアクチュ エータ２４２の自由端が、枢動レバー１５０の下端に当接する。これにより、枢 動レバー１５０は、図１１の反時計方向に偏倚され、従って、そのクサビ状部分 は結晶形成装置１０のスタックと係合しな（なり、これにより、最下方の結晶形 成装置１０は、クサビ状部分１４０ｂ、１５０ｂによって担持されないが、その 代わりに、サポートプラットフォーム１６４の上面に載って該上面に担持される 。

また、図８に示すように、チャンバ重積及び排出ステーション１０２は、側壁部 １０６に隣接して設けられるバーコードリーダ２５６を備えており、該バーコー ドリーダは、カセット入力タワー１１６と前方壁１１０との間に設けられ、且つ 、側壁部１０６に接続されている。バーコードリーダ２５６は、）１ンドベルト 型の通常のバーコード走査リーダであって、チャンバ重積及び排出ステーション １０２に設けられている。例えば、バーコードリーダ２５６は、ウェッジ・オブ ティコン社（Ｗｅｄｇｅ　０ｐｔｉｃｏｎ　Ｉｎｃ、＋８　０１ｙｍｐｉｃ　Ｄ ｒｉｖｅ、Ｏｒａｎｇｅｂｕｒｇ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ）によってｒＮＴＳ−１１ ２０Ｊとして販売されているＣＣＤ装置とすることができる。

以下の議論から理解されるように、別個の結晶形成装置１０に貼付されてそれぞ れの結晶形成装置の別個の処理を表示するラベルを印刷するためのバーコードプ リンタ２５７を設けることも必要である。Ｃｏｇｎｉｔｉｖｅ　５ｏｌｕｔｉｏ ｎｓ、Ｉｎｃ、（７８５０Ｃａｒｅｌｉｔａ　Ａｖｅ、、Ａｔａｓｓｃａｄｅｒ ｏ、Ｃａｌ　１ｆｏｒｎｉａ　９３４４２）によってｒＢａｒ　Ｃｏｄｅ　Ｂｌ ａｚｅｒＪとして販売されているような通常のバーコードプリンタを使用するこ とができる。

ラベルに付与されるバーコードは、結晶実験に使用する種々のパラメータに依存 する。上述のように、上記パラメータとしては、例えば、ｐＨ１温度及び沈降剤 のレベルが挙げられる。コンピュータ２５８を用いてオペ１ノータが特定のパラ メータを選定する。上記コンピュータは、１６ＭＨｚで動作する８０３８６ブロ セソサ、ＩＭＢのランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）　、及び１１０ＭＢのハー ドディスクドライブを備えたＣｏｍｐａＱ　３８６ＳＸ　ｍｏｄｅｌ　１　コン ピュータの如き通常のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）とすることができる。Ｖ ＧＡカラーモニタ２６０、並びに、ｉ（ｅｗｌｅｔｔ　Ｐａｃｋａｒｄ　Ｌａ５ ｅｒＪｅｔ　５ｅｒｉｅｓ　ＩＩプリンタの如きプリンタ２６２を用いることが できる。

各々の結晶形成装置１０のベースプレート１２の側壁部に１つのラベルを貼付し 、ドローリアセンブリ１６２がカセット入力タワー１１６からある結晶形成装置 １０を拾い上げると、バーコードリーダ２５６が該結晶形成装置を走査し、これ により、コンピュータ２５８は、それが正しい結晶形成装置１０であるか否かを 判定する。もし正しい結晶形成装置でなければ、その結晶形成装置は廃棄される 。

自動化された結晶化装２１００はまた、図８に示すように、多関節型ロボットア ーム・アセンブリ２７０を備えている。ＣＲ３ＰＬｕｓ　Ｉｎｃ、（Ｂｕｒｌｉ ｎｇｔｏｎ、　０ｎｔａｒｉｏ、　Ｃａｎａｄａ）によってｒＣＲ８ＰＬＵＳ　 ＳＲ３−Ｍ２Ｊとして販売されており、また、Ｈｕｄｓｏｎ　Ｒｏｂｏｔｉｃｓ 、Ｉｎｃ、（４４Ｃｏｍｍｅｒｃｅ　５ｔｒｅｅｔ、Ｓｐｒｉｎｇｆｉｅｎｄ、 Ｎｅｗ　Ｊｅｒｓｅｙ　０７０８１）によっても販売されていると如き適宜なロ ボットアセンブリを使用することができる。上記多関節型ロボットアーム・アセ ンブリ２７０は、５つの要素、すなわち、ベース２７２、ンヨルダ２７４、上方 アーム２７６、下方アーム２７８及びリスト２８０を備えている。また、結晶形 成装置１０と共に使用されるように特殊化されたグリッパ２８２がリスト２８０ に接続されている。グリッパ２８２の運動を除いて５つの自由度が可能である。

すなわち、ウェスト（ベース２７２とショルダ２７４との間の）周囲での回転、 ショルダ２７４における上方アーム２７６の枢動、上方アームと下方アーム２７ ８との間のエルボの枢動、リストの揺動（回転）、及び、リストの傾動（枢動） が可能である。

多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０の位置の再現性は、グリッパ２８２ を含む約５５９ｍｍ（２２インチ）のアームの全長に沿って約０．０５１ｍｍ（ ０，００２インチ）である。多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０の持ち 上げ能力は、最大速度で１ｋｇであり、８０％の速度で２ｋｇである。最大関節 速度は、ウェスト及びンヨルダに関しては６０度／秒であり、エルボ、リスト及 びグリッパに関しては１８０度／秒である。約３０５ｍｍｘ５ｍｍ　（１２イン チ×２インチ）のピック・アンド・プレースサイクル（ｐｉｃｋ　ａｎｄ　ｐｌ ａｃｅ　ｃｙｃｌｅ）に関する作動時間は２．５秒である。

多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０には、これを制御するためのＣＲ３ −Ｍ２Ｏボットンステム・コントローラ２８１が接続されている。ＣＲ３−Ｍ２ Ｏボットンステム・コントローラ２８１は通常のものであり、ｒＣＲ３ＰＬＵＳ 　５Ｒ８−〜１２」多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０と共に、ＣＲ５ Ｐｌｕｓ　Ｉｎｃ、（Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ、０ｎｔａｒｉｏ、Ｃａｎａｄａ） 及びＨｕｄｓｏｎ　Ｒｏｂｏｔｉｃｓ、Ｉｎｃ、（４４ＣｏｍｍｅｒｃｅＳｔｒ ｅｅｔ、　Ｓｐｒｉｎｇｆｉｅｌｄ、Ｎｅｗ　Ｊｅｒｓｅｙ　０７０８１）によ って販売されている。ＣＲ５−Ｍ２Ｏボットンステム・コントローラ２８１は、 標準として、１６ビノトマイクロプロセツサ基準のマスクコントローラと、レジ デントロボット自動化プログラム言語（ＲＡＰＬ）と、６つの直流サーボ増幅器 と、アーム電源及び電圧調整器と、５つのインテリジエント・サーボ軸カード（ ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｔ　５ｅｒｖｏ　ａｘｉｓ　ｃａｒｄ）とを備えている。

コンピュータ２５８は、ロボットシステム・コントローラ２８１を介して制御多 関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０に接続されている。

ＣＲ８−Ｍ２コントローラ２８１−のプログラミングは、ティーチ・ペンプント （ｔｅａｃｈ　ｐｅｎｄｅｎｔ）又はレジデントロボット自動化プログラミング 言語によって行う。ＲＡＰＬはロボットシステムの応用設計を容易にするように 設計された自動化指向型のラインストラフチャ言語（ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ　。

ｒｉｅｎｔｅｄ　１ｉｎｅ　５ｔｒｕｃｔｕｒｅｄ　ｌａｎｇｕａｇｅ）である 。

ＲＡＰＬは、英語型のコマンドを用いてオペレータに対してユーザフレンドリな インターフェースを提供する。メモリ、オルタネート・コマンド・アイデンティ ファイア、及び高速数理表現の特徴を有する。レンデントメモリはまた、標準的 な特徴としてバッテリバックアップを有している。ＲＡＰＬはコントローラ２８ １と一緒に販売される。

グリッパ２８２は、ＣＲ８Ｐｌｕｓ　Ｉｎｃ、によってｒＳＲ３−３ＧＲＩＰ」 の名称で販売されている変更型のサーボグリッパであり、ロボットシステム・コ ントローラ２８１に対する力及び位置のフィードバックを有するプログラム可能 なサーボモータ制御型のグリッパを備えている。５Ｒ３−５ＧＲＩＰグリツパは 、２インチの最大フィンガストロークを有し、作動に必要な適宜な差し込み型サ ーボカードが設けられている。

図１３乃至図１５に示すように、グリッパ２８２は、平行に隔置されたグリ・ツ ブアーム２８４．２８６を備え、これらグリップアームは、リスト枢動バー２８ ８に摺動可能に取り付けられている。グリップアーム２８４．２８６は、リスト 枢動バー２８８上で枢動可能である。同時に、グリップアーム２８４．２８６は 、リスト枢動バー２８８の軸線に沿って互いに関して接近及び離れるように運動 可能である。

図示のように、各々のグリップアーム２８４．２８６は、傾斜した上面２９０及 び傾斜しない下面２９２を有する平坦なプレートによって形成されており、従っ て、各々のグリップアーム２８４．２８６の高さは、リスト２８０からその自由 端に向かって減少している。

グリッパ２８２は更に、グリップアーム２８４の内面に沿って隔置された関係で 固定された第１及び第２のグリップ部材２９４．２９６を備えている。グリップ 部材２９４はグリップアーム２８４の前方端に形成され、一方、グリップ部材２ ９６はグリップアーム２８４の後方端に形成されるのが好ましい。同様にして、 第３のグリップ部材２９７が、グリップ部材２９４と２９６との間の位置で、グ リップアーム２８６の内面に固定されている。各々のグリップ部材２９４．２９ ６．２９７は、固定プレート２９８及び内方を向いた保持プレート３００を有す るＬ字型の部材として形成されている。各々の固定プレート２９８は、溶接、ボ ルト等の適宜な手段によって、グリップアーム２８４又は２８６の内面に取り付 けられ、傾斜していない下面２９２の下方まで伸長している。各々の保持プレー ト３００は、対応する固定プレート２９８の下端に接続され、反対側のグリップ アームに向かって伸長している。

従って、グリッパ２８２は、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によっ て動かされ、例えばサポートプラットフォーム１６４から結晶形成装置１０を拾 い上げることができる。この場合において、グリップアーム２８４．２８６は、 ベースプレート１２の周囲に段部を有する側部支持壁３６の下端の幅よりも大き な距離だけ離れる。グリッパ２８２は、周囲に段部を有する側部支持壁３６の長 辺を包囲する位置まで移動する。次に、グリップアーム２８４．２８６は互いに 関して移動し、これにより、固定プレート２９８が周囲に段部を有する側部支持 壁３６の長辺の外面に圧接し、周囲に段部を有する側部支持壁３６の長辺の下縁 部が、内方に向かう保持プレート３００に支持される。その後、結晶形成装置１ ０をグリッパ２８２の中に固定した状態で、グリッパ２８２は多関節型ロボット アーム・アセンブリ２７０によって所望の位置へ移動することができる。勿論、 処理を完了した後に結晶形成装置１０をサポートプラットフォーム２６４の如き 表面に載せてそこへ解放する場合には、反対の作用が生ずることは理解されよう 。

各々の結晶形成装置１０をグリッパ２８２の中で適正に整合させるために、停止 プレート３０２がリスト枢動バー２８８に設けられており、上記停止プレートは 、上記リスト枢動バーと共に枢動し、従って、グリップアーム２８４．２８６に 対して直交する関係にある。従って、結晶形成装置１０がグリッパ２８２によっ て掴まれた後に、グリップアーム２８４．２８６は移動して垂直方向において上 昇し且つ若干傾斜した状態となり、若干離れる。従って、その中に保持された結 晶形成袋ｆｌｌｏは、内方を向いた保持プレート３００によってのみ支持される 。

その結果、結晶形成装置１０は、その短辺の一方が停止プレート３０２に当接す るまで、リスト２８０に同かって後方へ摺動する。次に、グリップアーム２８４ ．２８６が再度互いに接近し、これにより、固定プレート２９８は、周囲に段部 を有する側部支持壁３６の長辺の外面に圧接する。従って、グリッパ２８２の中 における結晶形成装置１０の位置は常に同じである。

結晶形成装置１０は、グリッパ２８２によってサポートプラットフォーム１６４ から拾い上げられた後に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって 、図８及び図１６に示すように、自動化された結晶化装置１００のシール材分配 ステーション３１００へ搬送される。ノール材分配ステーション３１０は、通常 の移動テーブル３１２を備え、該移動テーブルは、図１６に概略的に示すように 、平坦な支持面３１４と、平坦な支持面３１４をＸ方向に動かすためのＸ成分移 動手段３１６と、上記Ｘ方向に交差するＹ方向に上記平坦な支持面３１４を動か すためのＹ成分移動手段３１８とを備える。従って、Ｘ成分移動手段３１６及び Ｙ成分移動手段３１８が、平坦な支持面３１４をＸ−Ｙの二次元平面において動 かすことができることが理解されよう。また、必須の要件ではないが、Ｘ成分移 動手段３１６及びＹ成分移動手段３１８をＸ成分移動手段３２０の上に設け、Ｘ 成分移動手段３１６及びＹ成分移動手段３１８を上記Ｘ方向及びＹ方向と交差す るＺ方向に動かすことがてきる。

平坦な支持面３１４は、Ｘ方向に運動するＸ成分移動手段３１６に形成されてい る。Ｘ成分移動手段３１６は、例えば、該Ｘ成分移動手段３１６のサーボモータ ３１６ａに接続された親ネジ（図示せず）の上で移動するように、平坦な支持面 ３１４をネジ式に取り付けることができる。従って、サーボモータ３１６ａを作 動させると、平坦な支持面３１４は周知の曹様てＸ方向に移動する。同様にして 、Ｘ成分移動手段３１６の支持フレーム３１６ｂを、Ｙ成分移動手段３１８のサ ーボモータ３１８ａに接続された親ネン（図示せず）上でＹ方向に移動するよう にネジ式に取り付けることができる。従って、サーボモータ３１８ａ力（作動す ると、平坦な支持面３１４はＹ方向に移動する。最後に、Ｙ成分移動手段３１８ の支持フレーム３１８ｂは、Ｘ成分移動手段３２０のサーボモータ３２０ａに接 続された親ネジ（図示せず）上でＺ方向に移動するようにネジ式に取り付けるこ とができる。従って、サーボモータ３２０ａが作動すると、平坦な支持面３１４ はＺ方向に移動する。上述の移動テーブル３１２のアセンブリは、例えば、ＥＦ Ｄ　Ｉｎｃ、（９７７Ｗａｔｅｒｍａｎ　Ａｖｅｎｕｅ、Ｅａｓｔ　Ｐｒｏｖｉ ｄｅｎｃｅ、Ｒｈｏｄｅ　ｌ５ｌａｎｄ　０２９１４）によって販売されている ｒＴＥｃＨＯＪ　３軸サーボモータ制御型テーブルとすることができる。移動テ ーブル３１２の運動、すなわち、サーボモータ３１６ａ、３１８ａ及び３２０ａ の作動はコンピュータ２５８によって制御される。

、ノール材分配ステーション３１０は、平坦な支持面３１４に装着されたサポー トプラットフォーム３２２を備えている。サポートプラットフォーム３２２は、 サポートプラットフォーム１６４と同様である。すなわち、サポートブラ・ット フオーム３２２は、実質的に矩形の平坦なプレートとして形成され、該プレート は、第１及び第２のグリップ部材２９４．２９６を収容するための大きな切欠部 ３２２ａをその長辺の一方に有しており、また、第３のグリ・ンプ部材２９７を 収容するための小さな切欠部３２２ｂを長辺の他方に有しており、更に、停止プ レート３２０を収容するための小さな切欠部３２２Ｃをその短辺の一方に有して いる。

このようにすると、グリッパ２８２は、結晶形成袋ｆｆ１Ｆ１０をサポートブラ ・ソトフォーム３２２へ載せたり、結晶形成装置１０をサポートプラットフォー ムから回収したりすることができる。

ソール材分配ステーション３１０はまた、サポートプラットフォーム３２２の上 に置かれ且つカバー１４が取り除かれた結晶形成装置１１０の円形の上縁部に対 して、上述のノリコン又は池のグリースソール４６の如きシール材を塗布するシ ール材ディスペンサ３２４を備えている。このようにすると、カッく−１４がベ ースプレート１２の上に置かれた時に、ノリコンシール４６は、チャンｌく２４ の気密シールを確実にし、且つ、円形の上縁部２６及び円形のビード４４と協働 して上述のシールを確実にする。

ノール材ディスペンサ３２４は、サポートプラットフォーム３２２の上方におい て、クランプ３２８によってフレーム３２６に固定的に取り付けられると共ζこ 、上記クランプ３２８によって保持されるバレル３３０を有している。バレル３ ３０はシール材を保有している。粘性を有するシール材４６の細い流れを分配す るための使い捨て可能な分配チップ３３２が上記バレルの下端に接続されている 。

シール材を分配チップ３３２から押し出すためのシールされたピストン（図示せ ス）カハレル３３０の中に設けられている。バレル３３０は、チューブ３３４に よって、空圧コントローラ３３８を介して窒素の如き気体の圧力源３３６に接続 されている。上記空圧コントローラ３３８はコンピュータ２５８によって制御さ れる。従って、空圧コントローラ３３８は、コンピュータ制御にしたがい、バレ ル３３０の中のピストンに窒素ガスの所定圧力を与え、分配チップ３３２から所 定量の７−ル材４６を押し出す。シール材ディスペンサ３２４は通常のものとす ることができ、例えば、ＦＥＤ　Ｉｎｃ、（９７７Ｗａｔｅｒｍａｎ　Ａｖｅｎ ｕｅ、Ｅａｓｔ　Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ、Ｒｈｏｄｅ　ｌ５ｌａｎｄ　０２９１ ４）によって販売されるＦＥＤ　８００Ｄ　シール材ディスペンサとすることが できる。

Ｚ成分移動手段３２０は、Ｙ成分移動手段３１８を装着するのではなく、シール 材ディスペンサ３２４をＺ方向に動かすようにすることができることは理解され よう。

基本的な作用において、結晶形成装置］、０は、多関節型ロボットアーム・アセ ンブリ２７０によって、サポートプラットフォーム１６４から拾い上げられ、シ ール材分配ステーション３１０のサポートプラットフォーム３２２の上に置かれ る。次に、多関節型ロボｙｈアーム・アセンブリ２７０は、結晶形成装置１０の カバー１４を掴み、結晶形成装置のベースプレート１２から上記カバーを取り外 す。次に、コンピュータ２５８が移動テーブル３１２を自動的に作動させ、ベー スプレート１２をノール材ディスペンサ３２４の分配チップ３３２の下に置（。

その後、ノール祠ディスベンザ３２４が制御されて分配チップ３３２からシール 材を分配し、一方、移動テーブル３１２がサーボモータ３１６ａ、３１６ｂによ って動かされて平坦な支持面３１４従ってサポートプラットフォーム３２２を移 動させ、これにより、分配チップ３３２からのノール材４６は、結晶形成装置１ ０の各々のウェル１６の円形の一ヒ縁部２６にトｊ与される。

上述のように、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、結晶形成装置１ ０のカバー１４を掴み、シール材分配ステーション３１０において上記カバーを ベースプレート１２から取り除く。シール材４６がベースプレート１２に付与さ れた頃の時間に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、上記カバー１ ４を回転ステーション３４０へ搬送する。上記回転ステーションは、カバー１４ を１８０°回転させ、その内面４２を上に向ける。

図８Ａ及び図１７乃至図１９に示すように、回転ステーション３４０はフレーム ３４１を備え、該フレームは、実質的に矩形のベース３４２と、該ベース３４２ の両側の短い端部に固定された対向する垂直な支持壁３４４．３４６とを備えて いる。回転可能なプレート３４８が、垂直な支持壁３４４と３４６との間で且つ ベース３４２の上方に回転可能に設けられている。

枢動シリンダ３５０．３５２が、回転可能なプレート３４８の短い端部に固定的 に接続され、垂直な支持壁３４４．３４６の孔３５４．３５６の中へそれぞれ伸 長している。また、枢動シリンダ３５０は垂直な支持壁３４４を貫通し、ギア３ ５８が枢動シリンダ３５０の自由端に固定されている。サーボモータ３６０がフ レーム壁部３６２に取り付けられている。フレーム壁部３６２は、垂直な支持壁 ３４４に対して平行に隔置され、ボスト３６４及びボルト３６６によって垂直な 支持壁３４４に固定されている。サーボモータ３６０の出力軸３６０ａは、該出 力軸に固定されたギア３６８を有しており、該ギア３６８は、ギア３５８とかみ 合っている。サーボモータ３６０はコンピュータ２５８によって制御され、回転 可能なプレート３４８を図１７に示す位置と該位置から１８０°反転した位置と の間で回転させる。

回転可能なプレート３４８は、上面３４８ａを有すると共に矩形の中央開口３７ ０を有する概ね矩形の形態であるのが好ましい。固定された停止ブロック３７２ が、ボルト３７４によって、開口３７０の短辺の一方に隣接して上面３４８ａに に固定的に取り付けられている。図示のように、固定された停止ブロック３７２ は、概ね矩形の形態であり、開口３７０の他端部に向かって伸長する三角形のウ ィング３７２ａを有している。その結果、固定された停止ブロック３７２の内面 ３７２ｂは、図３に示すようなカバー１４の面取りされた側部と同様の形態を有 する。

固定されたバリア壁３７６が、開口３７０の他端部において、回転可能なプレー ト３４８の上面３４８ａにボルト３７８によって固定的に取り伺けられている。

図示のように、固定されたバリア壁３７６は開口３７０から隔置されている。運 動可能な停止ブロック３８０が、開口３７０の長手方向に運動可能なように、回 転可能なプレート３４８の上面に設けられている。第１及び第２の入れ子式のロ ッドの組３８２．３８４が、固定されたバリア壁３７６と運動可能な停止ブロッ ク３８０との間に設けられ、運動可能な停止ブロック３８０が開口３７０の長手 方向に運動することを許容すると共に、運動可能な停止ブロック３８０を回転可 能なプレート３４８の上面３４８ａに保持している。コイルバネ３８６が各々の 入れ子式のロッドの組３８２．３８４の周囲に巻かれ、運動可能な停止ブロック ３８０を固定された停止ブロック３７２に向けて偏倚させている。

回転可能なプレート３４８は、第１及び第２のグリップ部材２９４．２９６を収 容するための第１及び第２の切欠部３４８ｂ、３４８Ｃをその一方の長辺に有し ており、また、第３のグリップ部材２９７を収容するための第３の切欠部３４８ ｄを他方の長辺に有している。また、固定された停止ブロック３７３は、中央の 切欠部３７２ｃをその内面３７２ｂに形成されており、また、回転可能なプレー 　１−３４８は、切欠部３４８ｅをその一方の短辺に形成されており、上記切欠 部３４８Ｃは、グリッパ２８２の停止プレート３０２を収容するように切欠部３ ７２ｃに整合している。このようにすると、グリッパ２８２は、カバー１４を回 転可能なプレー）３４８の上に置いたり、カバー１４を回転可能なプレート３４ ８から回収したりできる。

カバー１４を回転ステーション３４０に挿入するために、グリッパ２８２を回転 可能なプレート３４８の上方の位置に移動させ、カバー１４の端部を運動可能な 停止ブロック３８０に隣接させて該運動可能な停止ブロック３８０に係合させる 。次にグリッパ２８２はカバー１４を少し後方へ動かし、これにより、運動可能 な停止ブロック３８０は、コイルバネ３８６の作用に抗して後方へ移動する。

次に、カバー１４の他端部を回転可能なプレーｈ　３４８の上面３４８ａの上に 置く。そのような運動の際には、グリップ部材２９４．２９６．２９７は切欠部 ３４８ｂ、３４８ｃ、３４８ｄのそれぞれの範囲内で動き、また、グリッパ２８ ２の停止プレート３０２は、切欠部３４８ｅ及び３７２ｃの範囲内で動くことは 理解されよう。その後、グリップアーム２８４．２８６が互いに離れてカバー１ ４を解放し、その後、コイルバネ３８６が運動可能な停止ブロック３８０を偏倚 させてカバー１４を固定された停止ブロック３７２に係合する方向へ少し押圧す る。

カバー１４は、固定された停止ブロック３７２と運動可能な停止ブロック３８０ との間の固定された位置に保持される。その後、回転可能なプレート３４８が１ ８０°回転され、これにより、カバー１４の下面すなわち内面４２が上方を向き 、開口３７を介して露出される。

サポートプラットフォーム３２２に位置する結晶形成装置１０のベースプレート １２の円形の上縁部２６にシール材４６が分配された後に、そこにあるベースプ レート１２は、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって拾い上げら れてチャンバ液体分配及び渦流ステー７ョン３９０へ送られ、該ステーションに おいては、沈降剤を含む特定の容積の液体が、ベースプレート１２の２４のウェ ル１６の各々に供給される。

図８、図８Ａ及び図２０乃至図２２に示すように、チャンバ液体分配及び渦流ス テーション３９０は、ボルテックサ（渦流付与手段）又はシェーカアセンブリ３ ９２を備え、該シェーカアセンブリは、例えば、Ｆｌｏｗ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ ｓ、Ｉｎｃ、（Ｍｃｌｅａｎ、　Ｖｉｒｇｉｎｉａ）によってｒＴＩＴＥＲＴＥ Ｋ　４　ＰＬＡＴＥ　５ＨＡＫＥＲＪの名前で販売されているシェーカアセンブ リとすることができる。そのようなシェーカアセンブリ３９２は、電子部品を収 容するベース３９６に取り付けられたシェーカテーブル３９４と、該シェーカテ ーブルを高周波数で前後方向及び上下方向に短い距離だけ振動させるシェーキン グ機構とを備えている。ノエーカテーブル３９４が振動する時間、及び、振動の 速度すなわち周波数は、ノブ３９６ａ、３９６ｂによってそれぞれ設定すること ができる。そのようなシェーカアセンブリ３９２は周知であり、本明細書におい ては、シェーカアセンブリ３９２がコンピュータ２５８によって作動され且つ制 御されるということを除いてこれ以上説明しない。

チャンバ液体分配及び渦流ステー７ョン３９０はまた、実質的に矩形の形態を有 するのが好ましい支持プレート３９８を備える。支持プレート３９８は、ボルト ４００によってンエーカテーブル３９４に固定されており、上記ボルトは、支持 プレート３９８の上面３９８ａの凹陥した開口４０２を貫通してンエーカテーブ ル３９４のネジ付きの開口（図示せず）に螺合している。

固定された停止ブロック４０４は、支持プレート３９８の一方の短辺において、 ボルト４０５によって上面３９８ａに固定的に取り付けられている。図示のよう に、固定された停止ブロック４０４は概ね矩形状の形態を有しており、その両側 部には小さな耳状部４０４ａが形成され、これら耳状部は支持プレート３９８の 反対側の短辺に向かって伸長している。その結果、ベースプレート１２の上記短 辺は、耳状部４０４ａの間に丁度嵌合する。また、固定された停止ブロック４０ ４の内面４０４ｂには、グリッパ２８２の停止プレート３０２を収容するように なされた切欠部４０４ｃが形成されている。

固定されたバリア壁Ａ０６は、ボルト４０−７によって、支持プレート３９８の 反対側の短辺において上面３９８ａに固定的に取り付けられている。図示のよう に、運動可能な停止ブロック４０８が、固定された停止ブロック４０４に向かっ て支持プレート３９８の長手方向に運動可能なように、支持プレート３９８の上 面３９８ａに設けられている。４つの入れ子式のロッドの組４１０が、固定され たバリア壁４０６と運動可能な停止ブロック４０８との間に設けられ、運動可能 な停止ブロック４０８が支持プレート３９８の長手方向に運動するのを許容する と共に、運動可能な停止ブロック４０８を回転可能なプレート３９８の上面３９ ８ａに保持している。コイルバネ４１２が各々の入れ子式のロッドの組４１０の 周囲に巻かれ、運動可能な停止ブロック４０８を固定された停止プロ・ツク４０ ４に向かって偏倚している。

支持プレート３９８には、第１及び第２のグリップ部材２９４を収容するための 第１及び第２の切欠部３９８ｂ、３９８ｃがその一方の長辺に形成されており、 また、第３のグリップ部材２９７を収容するための第３の切欠部３９８ｄがその 反対側の長辺に形成されている。このようにすると、グリッツ々２８２は、結晶 形成装置１０を支持プレート３９８の上に載せたり、結晶形成装置１０を支持プ レート３９８から回収したりすることができる。

ノール材４６を有するベースプレート１２を支持プレーｈ　３９８に挿入するた めに、グリッパ２８２は、シール材４６がベースプレートに供給された後に、サ ポートプラットフォーム３２２上のベースプレート１２を掴む。グリッパ２８２ は次に、ベースプレート１２を支持プレート３９８の上方の位置まで動かし、ベ ースプレート１２の端部を運動可能な停止ブロック４０８に隣接させ、上記先端 を下げて運動可能な停止ブロツク４０８に係合させる。次にグリッパ２８２はベ ースプレート１２を若干後方へ動かす。これにより、運動可能な停止ブロック４ ０８がコイルバネ４１２の作用に抗して後方へ移動する。次に、ベースプレート １２の他端部を支持プレート３９８の上面３９８ａの」二に置く。そのような運 動の際には、グリップ部材２９４．２９６．２９７が切欠部３９８ｂ、３９８ｃ 、３９８ｄの範囲内でそれぞれ動き、また、グリッパ２８２の停止プレート３０ ２が切欠部４０４Ｃの範囲内で動くことは理解されよう。その後、グリップアー ム２８４．２８６は互いに離れてベースプレート１２を解放し、その後、コイル バネ４１２が、運動可能な停止ブロック３８０を偏倚させ、固定された停止ブロ ック４０４に係合する方向に少し押す。ベースプレー１・１２は、固定された停 止ブロック４０４と運動可能な停止ブロック４０８との間の固定された位置に保 持される。

自動化された結晶化装置１００の効率を増大させるために、多関節型ロボットア ーム・アセンブリ２７０は、チャンバ重積及び排出ステーション１０２によって 与えられた次の結晶形成装置１０を回収し、該結晶形成装置をシール材分配ステ ーション３１０のサポートプラットフォーム３２２に供給する。その後、多関節 型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、シール材分配ステーション３１０にあ る上記結晶形成装置１０のカバー１４を取り除き、図８Ａ、図２３及び図２４に 示すカバー待機ステーション４２０に上記カバーを供給する。

カバー待機ステーション４２０は、回転しないことを除いて回転ステーション３ ４０と実質的に同一である。その理由は、カバー待機ステーションに置かれたカ バー１４は、単に待機するだけであって、カバー待機ステーションにおいては何 等処理を受けないからである。

カバー待機ステーション４２０は、概ね矩形のベース４２４から成るフレーム４ ２２を備え、上記ベースは、該ベース４２４の４つの隅部に設けられる４つの垂 直なポスト４２５を有している。支持プレート４２６が、垂直なポスト４２５の 上端部に設けられてベース４２４の上方に位置している。

支持プレート４２６は、上面４２６ａ、並びに矩形の中央開口４２８を備える実 質的に矩形の形態を有するのが好ましい。固定された停止ブロック４３０が、開 口４２８の一方の短辺に隣接して、上面４２６ａにポルＩ−４３０によって固定 的に取り付けられている。図示のように、固定された停止ブロック４３０は概ね 矩形の形態を備え、開口４２８の他端部に向かって伸長する三角形のウィング４ ３０ａを有している。その結果、固定された停止ブロック４３０の内面４３０ｂ は、図３に示すようなカバー１４の面取りされた側部と同様の形態を有している 。

固定されたバリア壁４３２が、開口４２８の他端部において、支持プレー１−４ ２６の上面４２６ａにボルト４３４によって固定的に取り付けられている。図示 のように、固定されたバリア壁４３２は開口４２８から隔置されている。運動可 能な停止ブロック４３６が、開口４２８の長手方向に運動可能なように、支持プ レート４２６の上面４２６ａに設けられている。第１及び第２の入れ子式の口・ ソドの組４３８．４４０が、固定されたバリア壁４３２と運動可能な停止ブロッ ク４３６との間に設けられ、運動可能な停止ブロック４３６が開口４２８の長手 方向に運動するのを許容すると共に、上記運動可能な停止ブロック４３６を支持 プレート４２６の上面４２６ａに保持している。コイルバネ４４２が各々の入れ 子式のロンドの組４３８．４４０の周囲に巻かれ、運動可能な停止ブロック４３ ６を固定された停止ブロック４３０に向かって偏倚させている。

支持プレート４２６には、第１及び第２のグリップ部材２９４．２９６を収容す るためにその一方の長辺に設けられた第１及び第２の切欠部４２６ｂ、４２６Ｃ と、第３のグリップ部材２９７を収容するために他方の長辺に設けられた第３の 切欠部４２６ｄとが形成されている。また、固定された停止ブロック４３０には 、グリッパ２８２の停止プレート３０２を収容するためにその」二面４３０ｂに 設けられた中央の切欠部４３０Ｃが形成されている。このようにすると、グリッ パ２８２は、カバー１４を支持プレート４２６の上に置いたり、カバー１４を支 持プレートから回収したりすることができる。

カバー１４をカバー待機ステーション４２０に入れるために、グリッパ２８２は 、支持プレート４２６の上方の位置へ移動し、カバー１４の端部を運動可能な停 止ブロック４３６に隣接させ、該端部を下げて最初に運動可能な停止ブロック４ ３６に係合させる。次に、グリッパ２８２はカバー１４を少し後方へ動かす。

これにより、運動可能な停止ブロック４３６は、コイルバネ４４２の作用に抗し て後方へ移動する。次に、カバー１４の他端部を支持ブｌ／−ｈ４２６の上面４ ２６ａに置（。そのような運動の際には、グリップ部材２９４．２９６．２９７ は、切欠部４２６ｂ、４２６ｃ、４２６ｄの範囲内でそれぞれ運動し、また、グ リッパ２８２の停止プレー＋−３０２は切欠部４３０Ｃの範囲内で運動すること は理解されよう。その後、グリップアーム２８４．２８６が互いに離れてカバー １４を解放し、その後コイルバネ４４２が運動可能な停止ブロック４３６を偏倚 させ、該カバー１４を固定された停止ブロック４３０に係合する方向へ少し押圧 する。

カバー１４は、固定された停止ブロック４３０と運動可能な停止ブロック４３６ との間の固定された位置に保持される。

カバー１４が取り除かれてカバー待機ステーション４２０へ供給された後に、ノ ール材４６が、カバー待機ステーション４２０にあるカバー１４に対応するベー スプレート１２の円形の上縁部に塗布される。これは、シール材分配ステーショ ン３１０で行われる。回転ステーション３４０及びチャンバ液体分配及び渦流ス テーション３９０における第１の結晶形成装置１０の処理が終わると、シール材 分配ステーション３１０にある次のベースプレート１２は、チャンノく液体分配 及び渦流ステーション３９０へ送られてそこで処理を受ける準備が直ちに整う。

ノール材４６が、シール材分配ステーション３１０にあるベースプレート１２の 円形の上縁部２６に塗布されているときに、これと同時に、チャンｌく液体分配 及び渦流ステーション３９０の上方に位置し該ステーションに隣接している液体 処理ステーション４５０が、沈降剤を含む特定の容積の溶液をチャンノく液体分 配及び渦流ステー７ョン３９０にあるベースプレート１２の２４のウェルの各々 に供給する。

液体処理ステーション４５０は、Ｔｅｃａｎ　Ｕ、Ｓ、Ｌｔｄ、（Ｐ、　Ｏ，Ｂ ＯＸ　８１０１．Ｈｉｌｌｓｂｏｒｏｕｇｈ、Ｎｏｒｔｈ　Ｃａｒｏｌｉｎａ。

２７２７８）によって販売されているＭｏｄｅｌ　Ｎｏ、５０５２のロボットサ ンプルプロセッサ（Ｒ５Ｐ）を用いている。上記ＴＥＣＡＮ　Ｒ８Ｐ　５０５２ の液体処理ステーション４５０は、特定の容積の溶液群（最大１ｏの溶液）を溶 液群貯蔵領域から、第１の滴定アーム４５２を介して、チャンバ液体分配及び渦 流ステーション３９０に位置するベースプレート１２の２４のウェルの各々に自 動的に分配する。この装置は、の５１０００μｍの供給レベルの滴定精度を有し ている。従って、液体（緩衝剤、沈降剤、及び特殊な添加剤）を５−１．　ＯＯ Ｏμｌの範囲でリザーバのウェル１６の中へ分配することができる。

上述のロボットサンプルプロセッサは周知であるので、図８、図２５及び図２６ に関して簡単に説明する。第１の滴定アーム４５２は、チャンバ液体分配及び渦 流ステーション３９０の後方に位置する後方フレーム４５４に取り付けられ、Ｘ 方向駆動アセンブリ（図示せず）によって、後方フレーム４５４に沿って第１の Ｘ方向に運動する。第１の滴定アーム４５２は、チャンバ液体分配及び渦流ステ ー７ョン３９０にあるベースプレート１２の上方に延在する。第１の滴定アーム ４５２は、細長い駆動スロット４５７を備えており、該駆動スロットは、垂直に 配列されたピペットホルダ４５８を該スロット４５７の中で該スロットに沿って 運動可能なように取り付けている。第１の滴定アーム４５２は、Ｙ方向駆動アセ ンブリ（図示せず）を備え、該Ｙ方向駆動アセンブリは、上記Ｘ方向に交差する Ｙ方向においてピペットホルダ４５８を上記スロット４５７に沿って動かす。

最後に、ピペットホルダ４５８は、垂直に配列されたピペット４６２をその中に 保持すると共に、上記ピペット４６２を垂直方向すなわちＺ方向に動かすための Ｚ方向駆動アセンブリ（図示せず）を備えている。ピペット４６２は、Ｘ方向、 Ｙ方向及びＺ方向に移動してベースプレート１２のいずれのウェル１６の上にも 位置し、これらウェルに溶液を供給することができる。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方 向のそれぞれの駆動アセンブリは、図２６のブロック４６４によって概略的に示 されている。

ＴＥＣＡＮ　Ｒ３Ｐ　５０５２の液体処理ステーション４５０のピペット４６２ は、ピペット４６２に組み込まれた大容積ピペットディスペンサ（図示せず）及 び小容積ピペットディスペンサ（図示せず）を有する状態で販売されており、ピ ペット４６２によって供給すべき溶液の量に応じて、種々のディスペンサが単一 のピペットチップ４６３に使用される。図示のように、液体処理ステーション４ ５０のピペット４６２の大容積ピペットディスペンサに液体を供給するための第 １の弁アセンブリ４６６が、後方フレーム４５４に沿って形成されており、また 、液体処理ステーション４５０のピペット４６２の小容積ピペットディスペンサ へ液体を供給するための第１の弁アセンブリ４６８が後方フレーム４５４に沿っ て形成されている。

勿論、単一のピペットディスペンサをピペット４６２に設けて、第１及び第２の 弁アセンブリ４６６．４６８を設ける必要をなくすことができる。

弁アセンブリ４６６．４６８の上記周知の装置が、図２６のブロックダイアダラ ムに示されている。図２６に示すように、ピペット４６２は、ＸＹＺ方向駆動ア センブリ４６４によって制御され、ベースプレート１２の別個のウェル１６の上 を移動する。この移動は、コンピュータ２５８によって制御される。

次に、液体源からの液体が、共にコンピュータ制御される第１の弁アセンブリ４ ６６及び第２の弁アセンブリ４６８に供給される。しかしながら、弁アセンブリ の一方すなわち４６６又は４６８だけが開いている。各弁アセンブリ４６６．４ ６８からの他方のボートは、カブラ４７０を介してピペット４６２に接続されて いる。従って、液体源からの液体は、開いている弁を介して、ピペット４６２へ 流れる。より詳細には、液体は、ピペット４６２に組み込まれたそれぞれのピペ ットディスペンサへ流れ、次にピペットチップ４６３へ流れる。この所定量の液 体は、周知の態様のピペットアセンブリによってそれぞれのウェル１６に分配さ れる。ＴＥＣＡＮ　Ｒ８Ｐ　５０５２の液体処理ステーション４５０に関して周 知のように、また、図２６にブロックの形態で示すように、分配用の液体をピペ ット４６２の中へ引き込むために、吸引装置すなわち真空装置４６５がピペット ４６２に接続されていることは理解されよう。

各々のウェル１６の中へ入れることができる種々の液体があることが好ましい。

従って、図８、図８Ａ及び図２６に示すように、液体群分配ステーション４８０ が設けられる。液体群分配ステーション４８０は、１０個の１リットルガラスボ トル４８２ａ−４８２’ｊを備え、各々のガラスボトルが別個の液体を保有する のが好ましい。ボトル４８２ａ−４８２ｊには、例えば窒素又はアルゴンガスを 封入するのが好ましい。

各々のボトル４８２ａ−４８２ｊから第１及び第２の弁アセンブリ４６６．４６ ８へ液体を選択的に供給するために、２つの６方向弁４８４．４８６が設けられ ている。第１の６方向弁４８４は、ボトル４８２ａ−４８２ｅに接続された５つ の入口ボート１−５を有しており、その出口ポートは、第２の６方向弁４８６の 入口ポート６に接続されている。第２の６方向弁４８６の他の入口ポート１−５ は、残りのボトル４８２ｆ−４８２ｊに接続され、その出口ポートは、弁アセン ブリ４６６．４６８の入口ポートに接続されている。

ピペット４６２は、各ウェル１６の上を移動し、ボトル４８２ａ−４８２ｊから の液体が、ピペット４６２を介して各ウェル１６に選択的に供給される。一般的 な作用においては、ボトル４８２ａからの液体が、ピペット４６２が上記ウェル の上方を移動する際に、コンピュータ２５８によって決定されている選択された ウェル１６に供給される。次に、ボトル４８２ｂからの液体が、別個の液体の所 望量がウェル１６に分配されるまで、ピペット４６２がその上を移動する際に選 択されたウェル１６に順次供給される。

液体群貯蔵ステーション４８０から各液体を分配する間に、添加される液体成分 が相互汚染されないように、ピペット４６２を洗浄する。その手順は以下の通り である。ボトル４８２ａからの液体が選択された各々のウェル１６に分配された 後に、ボトル４８２ｂからの液体が上述の弁装置を介してピペット４６２に供給 される。ピペット４６２は、吸引装置４６５によって、ボトル４８２ｂからの新 しい液体を約２０分間上下に振動させ、次に、その液体をチャンバ液体分配及び 渦流ステー７ョン３９０に隣接する洗浄又は廃棄物ステーション４８８に排出す る。従って、各ラインは上記新しい液体で洗浄され、従って、相互汚染は全く生 じない。その後、ボトル４８２ｂから所望量の液体が再度吸引され、選択された ウェル１６に正確に分配される。

分配操作が完了した後に、チャンバ液体分配及び渦流ステーション３９０にある ベースプレート１２を、ンエーカアセンブリ３９２を遠隔作動することにより、 １乃至９９９秒の所定時間にわたって揺動させ、添加した総ての液体成分を均一 に混合する。

その後、回転ステーション３４０に位置するカバー１４の、液体が添加されたウ ェル１６に対応する各々の円形のビード４４の中に、高分子溶液を含む液滴４８ を置匂これは、回転ステーション３４０の上方に位置する液滴分配ステーション ４９０によって行われる。液滴分配ステーション４９０は、図８及び図２５に示 す如き、Ｔｅｃａｎ　Ｕ、Ｓ、Ｌｔｄ、（Ｐ、Ｏ，Ｂｏｘ　８１０１．Ｈｉ　Ｉ ｌｓｂｏｒｏｕｇｈ、Ｎｏｒｔｈ　Ｃａｒｏｌｉｎａ、２７２７８）によって販 売される上述のロボットサンプルプロセッサ（Ｒ５Ｐ）Ｍｏｄｅ　Ｉ　Ｎｏ、５ ０５２の一部を形成する。

液滴分配ステーション４９０は、第２の滴定アーム４９２と、該滴定アームと共 に運動するように設けられたピペット４９４とを備え、第１の滴定アーム及びピ ペット４９４の構造は、第１の滴定アーム４５２及びピペット４６２の構造とそ れぞれ同一である。ピペット４９４用のＸＹＺ方向駆動アセンブリは、ピペット ４６２用のＸＹＺ方向駆動アセンブリ４６４と同一であり、従って、ここでは詳 細に説明しない。第２のピペット４９４は、コンピュータ２５８によって決定さ れたカバー１４の円形ビーズ４４の特定のものの中に特定の容積の溶液を自動的 に分配する。この第２の滴定アセンブリは、対応するベースプレート１２の対応 するりザーバノウエル１６の上方に１−４０μｌの範囲の液滴４８を垂下させる ように吸引を行うことができる。

液滴分配ステー／コン４９０と共に使用するために、別個の直径を有する複数の 凹所５０１を備えたタンパク質溶液貯蔵ラック５００が設けられ、該タンパク質 溶液貯蔵ラックは、１つの凹所５０１の中に位置する少なくとも１つの試験管５ ０２を有し、該試験管５０２はタンパク質溶液を保有する。

液滴分配ステーション４９０が作動する際には、ピペット４９４が、タンパク質 溶液貯蔵ランク５００にある試験管５０２から１−４０μｍの液体を吸引し、そ の後、チャンバ液体分配及び渦流ステーション３９０に位置するベースプレー１ ・１２の第１のウェルの中の１−４０μｌの溶液を吸引する。次に、これら両溶 液は、ピペット４９４のチップの中で混合される。例えば、吸引すなわち負圧を 用いて、上記混合液をピペット４９４のチップの中で上下に揺動させ、上記混合 液を完全に混合させる。次に、上記混合液は、液体が吸引された上記第１のウェ ル１６に対応するカバー１４の鏡像関係の位置に液′ａ４８として分配される。

この操作は、最適な液滴形成を可能とする分配速度で、プログラムされた距離か ら行う。次に、ピペット４９４は水溶液を吸引し、負圧による揺動すなわち振動 によってそのチップを洗浄する。次に、水を他の廃棄物ステーション５０４へ排 出する。次に、ピペット４９４は、タンパク質溶液貯蔵ラック５００の試験管５ ０２から１−４０μｌの液体を再度吸引し、その後、チャンバ液体分配及び渦流 ステーション３９０に位置するベースプレート１２の第２のウェル１６の溶液を １−４０μｌ吸引する。次に、上記両名液をピペット４９４のチップの中で混合 する。例えば、負圧を用いて、上記混合液をピペット４９４のチップの中で上下 に揺動させ、上記混合液を完全に混合させる。次に、上記混合液は、液体が吸引 された上記第２のウェル１６に対応するカバー１４の鏡像関係の位置に分配され る。

この操作は、２４のウェル１６に対応するカバー１４の２４の位置の各々に対し て繰り返される。

その後、カバーは自動的に１８０°回転されてその元の位置に戻る。液滴４８は 同一の位置に留まり、カバー１４の下側から垂下する。

次に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０が、チャンバ液体分配及び渦 流ステーション３９０にあるベースプレート１２を組み立てステーション５１０ へ移動させ、該組み立てステーションにおいて、ベースプレート１２は回転ステ ーション３４０からのカバー１４と組み合わされる。図８Ａ、図２９及び図３０ に示すように、組み立てステーション５１０は、概ね矩形の形態の平坦な金属板 から形成されたサポートプラットフォーム５１２を備え、該サポートプラットフ ォームは、ベースプレート１２を収容するための上面５１２ａを有している。

サポートプラットフォーム５１２は、第１及び第２のグリップ部材２９４．２９ ６を収容するためにその一方の長辺に形成された第１及び第２の切欠部５１２ｂ 。

５１２Ｃと、第３のグリップ部材２９７を収容するために他方の長辺に形成され た第３の切欠部５１２ｄと、グリッパ２８２の停止プレート３０２を収容するた めにその一方の短辺付近に形成された第４の切欠部５１２ｅとを備えてルＸる。

このようにすると、グリッパ２８２は、ベースプレート１２をサポートプラット フォーム５１２上に置いたり、ベースプレート１２をサポートプラットフォーム ５１２から回収したりすることができる。サポートプラットフォーム５１２の上 面５１２ａの対角線上で対向する２つの隅部には、２つのピン５１４が形成され ており、これらピンはベースプレート１２をサポートプラットフォーム上に位置 決めする。ベースプレート１２がサポートプラットフォーム５１２の上に位置す ると、ピン５１４は、ベースプレート１２の周囲に段部を有する側部支持壁３６ の下縁部の中に丁度嵌合し、ベースプレート１２をサポートプラットフォーム５ １２上で適正に整合させる。

その後、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって回転ステーション ３４０からカバー１４が動かされ、組み立てステーション５１０にあるベースプ レート１２の頂部に！かれる。次に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７ ０が、カバー１４の上面を下方に軽（押し、これにより、シール材４６が、ベー スプレート１２の個々のウェルをカバー１４でシールするようにする。

次に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、組み立てステーション５ １０にある組み立てられた結晶形成装置１０をドローリアセンブリ１６２のサポ ートプラットフォーム１６４へ動かし、一方、上記ドローリアセンブリは、組み 立てられた結晶形成装置１０をカセット入力タワー１１６の下側を通してカセッ ト出力タワー１６０の下方の位置へ動かす。次に、サポートプラットフォーム１ ６４が上昇する。この時点において、レバーアクチュエータ２４０．２４２は、 サポートプラットフォーム１６４の通過を許容するように、枢動レバー１４０． １５０を退避させるように制御される。次に、枢動レバー１４０．１５０は、処 理された結晶形成装置１０を支持するに適正な時間に解放される。

その後、ドローリアセンブリ１６２は、カセット入力タワー１１６の下を移動し 、処理するための他の結晶形成装置１０を回収する。これと同時に、多関節型ロ ボットアーム・アセンブリ２７０は、シール材分配ステーション３１０にあるベ ースプレート１２を処理するためにチャンバ液体分配及び渦流ステーション３９ ０へ動かし、次に、カバー待機ステーション４２０にあるカバー１４を回転ステ ーション３４０へ動かしてそこで処理を行う。

上述の操作は、カセット入力タワー１１６からの総ての結晶形成装置１０が処理 されてカセット出力タワー１６０へ戻るまで継続される。

準備が整った結晶形成装置１０は次に、カセット出力タワー１６０から手動操作 で取り出され、例えば４°Ｃ乃至２２°Ｃの適正な温度雰囲気の中に置かれて平 衡作用を行い、時間経過と共に所定の時間毎に顕微鏡観察される。

高分子及びペプチドを結晶化するための条件を再現するためには、１−１０００ １１１の範囲の液体を正確に分配及び吸引することが必須であることは理解され よう。０１．の単位のｐＨ及び±１％の沈降レベルの違いは、どのような結晶化 手順から得られる結晶の平衡速度及び品質に大きな影響を与える。自動化された 結晶化装置１１００は、汚染の問題を極力少なくしながら、上記パラメータの範 囲内で上述の各工程を実行する。

上述の総ての操作は、オペレータが入力する個々の実験のパラメータに従って、 コンピュータ２５８によって制御されることは理解されよう。自動化された結晶 化装置１００の作用を示すために、図３１Ａ乃至図３１Ｄに示す作動シーケンス のフローチャートを以下に説明する。

ステップ６００において、自動化された結晶化装置１．００用のパワーがオンさ れると、ステップ６０２において、コンピュータ２５８は、ＴＥＣＡＮ　Ｒ８Ｐ ５０５２８Ｐ５０５２液ノヨン４５０を初期化して洗浄するか否かの判断をオペ レータに促す。ステップ６０４において、オペレータが否定的に応答した場合に は、コンピュータ２５８はステップ６０６においてプログラムを出て、自動化さ れた結晶化袋ｒｉ１１００を停止する。反対に、オペレータがステップ６０４に おいて肯定的に応答した場合には、コンピュータ２５８は、ステップ６０８にお いて、ＴＥＣＡＮ　Ｒ３Ｐ　５０５２液体処理ステーション４５０の総ての液体 分配ラインを初期化してＵＳＰ等級の水で洗浄する。次に、ステップ６１０にお いて、結晶化メインメニューがコンピュータ２５８に表示される。

その後、ステップ６１２において、オペレータがバーコードラベルを準備する。

オペレータは、モニタ２６０に表示されたメインメニューの「プリント・バーコ ードラベル」のオプションを使用する。コンピュータ２５８は次に、種々のバー コードラベルをプリントするようにバーコードプリンタ２５７に命令する。ステ ップ６１４において、複数の結晶形成装置１０のベースプレート１２の側部に） ＜−コードラベルが貼られ、ラベルの貼られた結晶形成装置１０はカセット入力 タワー１１６の中に積み重ねられる。しかしながら、結晶形成装置１０のカッ＜ −１４は、カセット入力タワー１１６の中へ挿入される前に、上述のようにシリ コン化されることに注意する必要がある。

次に、ステップ６１６において、オペレータは、溶液群分配ステーション４８０ から結晶形成装置１０の中の各々のウェル１６に分配すべき緩衝剤、沈降剤及び 特殊な添加剤の組成を決定する液体処理パラメータを入力する。マルチ結晶化チ ャンバに対して、多数の実験的な液体処理パラメータを指定することができる。

これは、コンピュータ２５８から実験設定メニューを選定することにより行われ る。総ての液体処理パラメータが、既に結晶形成装置１０に貼られているノく− コードラベルに追加される。

ステップ６１８において、コンピュータ２５８は、チャンバ重積及び排出ステー ション１０２、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０及びシール材分配ス テーション３１０を初期化する。

ステップ６２０において、チャンバ重積及び排出ステーション１０２はコンピュ ータ２５８によって自動的に作動される。ドローリアセンブリ１６２が、カセッ ト入カタワー１１６の下を移動し、サポートブラ・ソトフォーム１６４が上昇し てスタックの中の最下方の結晶形成装置１０を拾い上げる。この機能を実行する 際に、レバーアクチュエータ２４０．２４２が枢動し、これにより、レノく−ア クチュエータ２４０，２４２の自由端が、枢動したレバー１４０．１５０の下端 １４０ａ、１５０ａに当接する。これにより、枢動したレバー１４０．１５０の クサビ状部分１．４０ｂ、１５０ｂが外方へ偏倚されて結晶形成装置１０のスタ ・ツクから離れ、これにより、最下方の結晶形成装置１０は、クサビ状部分１４ ０ｂ、１５０ｂによって担持されるのではなく、サポートプラットフォーム１６ ４の上面に載って支持される。次に、レバー１４０．１５０が解放され、これに より、レノく−のクサビ状部分１４０ｂ、１５０ｂが、カセット入カタワー１１ ６の中の結晶形成製ｆｆ１ｌＯのスタックの残りを支持する。次φこ、ドローリ アセンブリ１６２が、その上に結晶形成装置１０を載せた状態で、カセット出力 タワー１１６の下側力１ら移動する。

反対に、ステップ６２２において、カセット入力タワー１１６に結晶形成装置１ ０が全くないと判定されたり、あるいは、チャンバ重積及び排出ステーション１ ０２にエラーがあった場合には、ステップ６２４においてエラーレポートを生じ 、ステップ６２６において、操作はエンドシーケンスにジャンプし、運転を終了 する。

しかしながら、結晶形成装置１ｆｌＯがドローリアセンブリによって拾い上げら れたと仮定すると、サポートプラットフォーム１６４は、ステップ６２８におい て、チャンバ重積及び排出ステーシコン１０２の側壁部１０６に隣接するバーコ ードリーダ２５６の前方の位置へ移動する。ステップ６３０において、無効なバ ーコードがバーコードリーダ２５６によって読み取られた場合には、多関節型ロ ボットアーム・アセンブリ２７０は、サポートプラットフォーム１６４からその 無効な結晶形成装置１０を拾い上げ、該結晶形成装置をステップ６３２において 廃棄ビン（図示せず）の中へ落とす。ステップ６３４において、多関節型ロボッ トアーム・アセンブリ２７０は次に、チャンバ重積及び排出ステーション１０２ へ移動し、カセット入力タワー１１６から供給された別の結晶形成装置１０を拾 い上げる。ステップ６３６において、操作はステップ６３８へ戻り、結晶形成装 置１０を回収する最初のシーケンスを繰り返す。

回収した結晶形成装置１０のバーコードを適正に認識した後に、サポートプラッ トフォーム１６４は降下し、チャンバ重積及び排出ステーション１０２の前方端 へ搬送され、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって拾い上げられ る。

ステップ６４０において、サポートプラットフォーム１６４から掴まれた結晶形 成袋ｆｌｌｌｏは多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって拾い上げ られ、ノール材分配ステーション３１０のサポートプラットフォーム３２２の上 に置かれる。次に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は結晶形成装置 １０のカバー１４を掴み、該カバーをシール材分配ステーション３１０において ベースプレート１２から取り除き、カバー１４を回転ステーション３４０へ搬送 する。次に回転ステーション３４０は、液滴４８を分配し易くするために、カバ ー１４を自動的に１８０°回転させる。

ステップ６４２において、コンピュータ２５８は移動テーブル３１２を自動的に 作動させ、ベースプレート］２をシール材ディスペンサ３２４の分配チップ３３ ２の下に置（。シール材ディスペンサ３２４はその後、分配チップ３３２を介し てシール材４６を分配するように制御され、一方、移動テーブル３１２は、サー ボモータ３１６ａ、３１６ｂによって動かされて平坦な支持面３１４従ってサポ ートプラットフォーム３２２を移動させ、これにより、分配チップ３３２からの シール材４６は、対応するベースプレート１２の各々の側壁部の円形の上縁部２ ６に付与される。

シール材４６がサポートプラットフォーム３２２の上に位置するベースプレート １２の円形の上縁部２６に分配された後に、サポートプラットフォームのベース プレート１２は多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０によって拾い上げら れ、チャンバ液体分配及び渦流ステーション３９０へ送られる。これはステップ ６４４において生ずる。

ステップ６４６においては、自動化された結晶化装置１００の効率を増大させる ために、チャンバ重積及び排出ステーション１０２が、カセット入力タワー１１ ６から次の結晶形成装置１０を回収する。

ステップ６４８において、コンピュータ２５８は、カセット入力タワー１１６か ら回収した次の結晶形成装置１ｉｌｆ１０が有効なバーコードを有しているか否 かを判定する。有効なバーコードを有していない場合には、ステップ６５０にお いて、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０がその無効な結晶形成装置１ ０をサポートプラットフォーム１６４から拾い上げ、該結晶形成装置を上述の如 き廃棄ビン（図示せず）の中へ落とす。これと同時に、コンピュータ２５８は、 ステップ６５２において、初期シーケンスのフラグセットを設定する。

バーコードが有効であり、有効な結晶形成装置ｔｌｏがまだドローリアセンブリ １６２の上にある場合には、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、チ ャンバ重積及び排出ステーション１０２によって与えられた上記次の結晶形成装 置１０を回収し、ステップ６５４において、該結晶形成装置をシール材分配ステ ーション３１０のサポートプラットフォーム３２２の上に供給する。その後、多 関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は、シール材分配ステーション３１０ にある上記結晶形成装置１０のカバー１４を取り外し、該カバーをカバー待機ス テーション４２０へ供給する。

ステップ６５６において、シール材ディスペンサ３２４はその後、分配チップ３ ３２を介してシール材４６を分配するように制御され、一方、移動テーブル３１ ２は、サーボモータ３１６ａ、３１６ｂによって動かされて平坦な支持面３１４ 従ってサポートプラットフォーム３２２を動かし、これにより、分配チップ３３ ２からのシール材４６は、この第２の結晶形成装置１０のベースプレート１２の 側壁部の円形の上縁部２６に付与される。

同時に、ステップ６５８において、沈降剤を含む特定の容積の溶液が、チャンバ 液体分配及び渦流ステーション３９０にあるベースプレート１２の２４のウェル １６の各々に供給される。ＴＥＣＡＮ　Ｒ３Ｐ　５０５２液体処理ステーション ４５０は、溶液群分配ステーション４８０のガラスボトル４８２ａ−４８２ｊか ら、ピペット４６２を介して、ベースプレート１２の２４のウェルの各々の中に 、特定の容積の溶液群を自動的に分配する。溶液群分配ステーション４８０から ６方向弁４８４．４８６を介して液体を分配する各操作の間に、ピペット４６２ を洗浄し、添加される液体成分の相互汚染が全（生じないようにする。分配操作 が完了する払ベースプレート１２は、ンエーカアセンブリ３９２を遠隔作動させ ることにより、所定時間（１−９９９秒）にわたって撹拌され、添加された総て の液体成分は均一に混合される。

ステップ６６０において、コンピュータ２５８は、この第１の液体分配サイクル が完了したことを判定する。完了していなければ、液体分配サイクルは完了する まで継続され、完了した時点において、コンピュータ２５８は、添加される液体 を有するウェル１６に対応する回転ステーション３４０に位置するカバー１４の 各々の円形のビード４４の中に高分子溶液を含む液滴４８を付与するように、液 滴分配ステーション４９０に命令を出す。これは、ステップ６６２において生ず る。

ステップ６６４において、コンピュータ２５８は、この第２の液体分配サイクル が完了したか否かを判定する。完了していなければ、液体分配サイクルは完了す る間で継続され、完了した時点において、コンピュータ２５８は、ステップ６６ ６において、回転ステーション３４０を制御してカバー１４を自動的に１８００ 回転させ、その元の状態に戻す。カバーに付与された液滴４８は、同じ位置に留 まり、カバー１４の下側から垂下する。

次に、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０はチャンバ液体分配及び渦流 ステーション３９０にあるベースプレートを組み立てステーション５１０へ動か す。その後、回転ステーション３４０からのカバー１４が多関節型ロボットアー ム・アセンブリ２７０によって動かされ、組み立てステーション５１０にあるベ ースプレート１２の頂部に置かれる。次に、多関節型ロボットアーム・アセンブ リ２７０は、カバー１４の上面を軽く押し、シール材４６がベースプレート１２ の個々のウェルをカバー１４に対して確実にシールするようにする。

ステップ６６８において、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０は次に、 組み立てステーション５１０にある組み立てられた結晶形成装置１０をドローリ アセンブリ１６２のサポートプラットフォーム１６４へ動かす。ステップ６７０ において、ドローリアセンブリは、組み立てられた結晶形成装置１０をカセット 入力タワー１１６を越してカセット出力タワー１６０の下方の位置へ動かす。サ ポートプラットフォーム１６４は次に上昇する。この時点において、レバーアク チュエータ２４０．２４２は、サポートプラットフォーム１６４の通過を許容す るように、枢動レバー１４０．１５０を退避させるように制御される。次に、適 正な時間に枢動レバー１４０．１５０が解放され、処理された結晶形成装置１０ を支持する。

ステップ６７２において、コンピュータ２５８は、カセット空フラグが設定され ているか否かを判定する。このカセット空フラグは、カセット入力タワー１１６ の中に結晶形成装置１０がもうないことを示す。カセット空フラグが設定されて いなければ、カセット入力タワー１１６から別の結晶形成装置１０が回収され、 上述のステップを繰り返す。すなわち、操作はステップ６７４へ行き、ステップ ６７４は、ステップ６７６のリピート・シーケンスへジャンプする。カセット空 フラグが設定されている場合には、多関節型ロボットアーム・アセンブリ２７０ はステップ６７８において休止位置へ移動し、操作はステップ６８０で停止する 。

準備が整った結晶形成装置１０は次に、カセット出力タワー１６０から手動掃作 で取り出され、例えば４°Ｃ乃至２２°Ｃの適正な温度雰囲気の中に置かれて平 衡作用を行い、時間経過と共に所定の後に設定する時間（１週間、１力月、３力 月、及び６力月）毎に顕微鏡観察される。

自動化された結晶化装置１００は、長時間（２４−４８時間）の連続運転の後に 検査される。ニワトリ・リゾチームを結晶化させるための上述の公知の手順を用 いて、リゾチームを結晶化させることに成功した。これらの結晶のサイズ及び品 質は、並行して行った手動操作で準備したハンギングドロップの実験から得た結 晶に比肩し得るものであった。

添付の図面を参照し゛Ｃ本発明の特に好ましい実施例を説明したが、本発明はこ れら厳密な実施例に限定されるものではなく、添付の請求の範囲によって確定さ れる本発明の範囲及び精神から逸脱することな（、当業者が種々の変形及び変更 を行うことができることは理解されよう。

Ｆ／に、　／ ＦＩＧ、３ 特表千７−５００８０６　（２（）） 浄書（内容に変更なし） Ｊ ＦＩ６．３１Ａ 補正書の翻訳文提出書 （特許法第１８４条の８）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．結晶形成装置において、 （ａ）複数のウエルを有するベースプレートであって、各々のウエルは、リザー バ溶液をその中に収容するようになされており、また、各々のウエルは、底部、 並びに、該底部に接続される周方向の側壁部を有していてその中にチャンバを形 成し、前記側壁部は、前記ウエルの上部開口を形成する上方の周縁部を有するベ ースプレートと、 （ｂ）前記総てのウエルを覆うための取り外し可能な単一のカバー手段であって 、前記ウエルの上方の周縁部に着座して前記ウエルをシールし、従って、前記チ ャンバをシールする下面を有する取り外し可能な単一のカバー手段とを備えるこ とを特徴とする結晶形成装置。 ２．請求項１の結晶形成装置において、前記上方の周縁部と前記取り外し可能な 単一のカバー手段との間に設けられ、前記取り外し可能な単一のカバー手段の下 面を前記各々のウエルにシールし、これにより、複数のシールされたチャンバを 形成するシール手段を更に備えることを特徴とする結晶形成装置。 ３．高分子の結晶を形成するための方法において、（ａ）ベースプレートに形成 された複数のウエルの中にリザーバ溶液を分配する工程であって、各々のウエル は、底部、並びに、該底部に接続される周方向の側壁部を有していてその中にチ ャンバを形成し、前記各々の側壁部は、前記ウエルの上部開口を形成する上方の 周縁部を有し、前記上部開口を介して前記リザーバ溶液が分配される、リザーバ 溶液を分配する工程と、（ｂ）前記リザーバ溶液が供給される前記ウエルに相当 する単一のカバーの複数の位置に、高分子溶液を含む複数の液滴を形成する工程 と、（ｃ）前記液滴が、前記単一のカバーの前記位置と概ね同一の位置に前記液 滴が留まるように前記単一のカバーを反転させる工程と、（ｄ）前記反転された 単一のカバーを前記上方の周縁部の上に置いて前記チャンバをシールし、前記各 々の液滴をそれぞれのウエルのリザーバの上方で垂下した状態にして吊り下げる 工程とを備えることを特徴とする方法。 ４．請求項３の方法において、前記取り外し可能な単一のカバー手段の下面を前 記各々のウエルにシールし、これにより、シールされた複数のチャンバを形成す る工程を更に備えることを特徴とする方法。 ５．自動化された結晶化装置において、（ａ）ベースプレートに形成された複数 のウエルの中にリザーバ溶液を分配するための液体分配手段であって、前記各々 のウエルは、該ウエルの上部開口を形成する上方の周縁部を有する側壁部によっ て形成され、前記上部開口を介して前記リザーバ溶液が分配されるようになされ た液体分配手段と、（ｂ）カバーの上方を向いた下面の複数の位置に高分子溶液 を含む複数の液滴を付与するための液滴分配手段であって、前記複数の位置は、 前記リザーバ溶液が供給される前記ウエルに対応するようになれた液滴分配手段 と、（ｃ）前記液滴が付与された後に前記カバーを反転させ、これにより、前記 カバーの下面を下方に向けるための反転手段と、（ｄ）前記反転したカバーを前 記上方の周縁部の上に置き、これにより、前記カバーにより前記ウエルをシール し、前記液滴を対応するリザーバ溶液の上方で垂下した状態で吊り下げるように する定置手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。 ６．請求項５の自動化された結晶化装置において、前記液体分配手段が、（ａ） 前記ベースプレートを支持するためのサポートプラットフォーム手段と、（ｂ） 前記ベースプレートの各々のウエルにリザーバ溶液を供給するためのピペット手 段と、 （ｃ）前記ピペット手段と前記サポートプラットフォーム手段との間に相対的な 運動を生じさせ、これにより、前記ピペット手段が、前記ウエルのいずれの上方 にも選択的に位置することができるようにする駆動手段とを備えることを特徴と する自動化された結晶化装置。 ７．請求項５又は６の自動化された結晶化装置において、前記反転手段が、（ａ ）前記カバーを前記液滴分配手段の下方に支持するためのサポートプラットフォ ーム手段と、 （ｂ）前記カバーの下面がその上に液滴を受けるように上方を向く位置と液滴が 付与された後に前記カバーの下面が下方を向く位置との間で前記サポートプラッ トフォーム手段を回転可能に支持するための回転支持手段とを備えることを特徴 とする自動化された結晶化装置。 ８．請求項５乃至７のいずれかの自動化された結晶化装置において、前記定置手 段は多関節型ロボットアーム手段を備え、該多関節型ロボットアーム手段は、前 記ベースプレートを掴んで該ベースプレートを前記液体分配手段へ及び該液体分 配手段から搬送すると共に、前記カバーを掴んで該カバーを前記反転手段へ及び 該反転手段から搬送することを特徴とする自動化された結晶化装置。 ９．複数のウエルを有するベースプレートと、前記複数のウエルを覆うためのカ バーとを有する結晶形成装置と共に使用される自動化された結晶化装置において 、（ａ）前記複数の結晶形成装置を重積するためのチャンバ重積手段と、（ｂ） 前記チャンバ重積手段からの前記結晶形成装置を処理するための処理手段であっ て、 （ｉ）前記各々の結晶形成装置のベースプレートのウエルの中へ所定量の液体を 分配するための液体分配手段と、 （ｉｉ）前記ウエルに相当する前記カバーの各々の位置に高分子溶液を含む液滴 を分配し、前記カバーが対応するベースプレートと組み立てられた時に、前記液 滴が、前記各々のウエルの上方で前記カバーから垂下する状態で吊り下げられる ようにする液滴分配手段とを具備する処理手段と、（ｃ）前記結晶形成装置を掴 んで該結晶形成装置を前記チャンバ重積手段と前記処理手段との間で搬送すると 共に、前記各々の結晶形成装置のカバーを該結晶形成装置のベースプレートから 分解したり該ベースプレートと組み合わせたりするための多関節型ロボットアー ム手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。 １０．請求項９の自動化された結晶化装置において、前記液体分配手段が、（ａ ）前記ベースプレートを支持するためのサポートプラットフォーム手段と、（ｂ ）前記ベースプレートの各々のウエルにリザーバ溶液を供給するためのピペット 手段と、 （ｃ）前記ピペット手段と前記サポートプラットフォーム手段との間に相対的な 運動を生じさせ、これにより、前記ピペット手段が、前記ウエルのいずれの上方 にも選択的に位置することができるようにする駆動手段とを備えることを特徴と する自動化された結晶化装置。 ｌ１．請求項９又は１０の自動化された結晶化装置において、前記カバーの下面 が前記液滴を受けるために上方を向く位置と液滴を受けた後に前記カバーの下面 が下方を向く位置との間で前記各々の結晶形成装置のカバーを回転させるための 回転手段を備え、前記回転手段は、前記カバーを前記液滴分配手段の下方に支持 するためのサポートプラットフォーム手段を含み、更に、前記カバーの下面がそ の上に液滴を受けるように上方を向く位置と液滴が付与された後に前記カバーの 下面が下方を向く位置との間で前記サポートプラットフォーム手段を回転可能に 支持するための回転支持手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装 置。 １２．請求項９乃至１１のいずれかの自動化された結晶化装置において、前記液 滴分配手段が、 （ａ）液滴を前記カバーに供給するためのピペット手段と、（ｂ）前記ピペット 手段と前記カバーとの間に相対的な運動を与え、これにより、前記ピペット手段 が、前記カバーの上方を向いた下面の上方の種々の箇所に選択的に位置すること ができるようにする駆動手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装 置。 １３．請求項９乃至１２のいずれかの自動化された結晶化装置において、前記多 関節型ロボットアーム手段が、 （ａ）第１及び第２のグリップアームを具備し、前記ベースプレート及び前記カ バーを掴むためのグリップ手段と、 （ｂ）前記グリップアームを互いに接近させたり離したりするためのグリップ調 節手段を具備し、前記グリップアームを隔置された関係に保持するためのリスト 手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。 １４．請求項９乃至１３のいずれかの自動化された結晶化装置において、前記チ ャンバ重積手段から前記結晶形成装置を回収すると共に、前記結晶形成装置の処 理が完了した後に、該結晶形成装置を前記チャンバ重積手段へ戻すためのトロー リ手段を更に備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。 １５．請求項９乃至１４のいずれかの自動化された結晶化装置において、前記チ ャンバ重積手段が、 （ａ）処理すべき前記結晶形成装置のスタックを保持するための入力タワー手段 と、 （ｂ）処理された結晶形成装置のスタックを保持するための出力タワー手段とを 備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。 １６．複数のウエルを有するベースプレートと、前記総てのウエルを覆うための 取り外し可能なカバーとを具備し、前記各々のウエルはリザーバ溶液を収容する ようになされ、また、前記各々のウエルは、底部、及び、該底部に接続される周 方向の側壁部を有していてその中にチャンバを形成し、前記側壁部は、前記ウエ ルの上部開口を形成する上方の周縁部を有し、また、前記取り外し可能なカバー は、前記ウエルの前記上方の周縁部に着座して前記ウエルをシールし、従って、 前記チャンバをシールする下面を有するようになされた結晶形成装置と共に使用 される自動化された結晶化装置において、 （ａ）前記複数の結晶形成装置を重積するためのチャンバ重積手段と、（ｂ）前 記チャンバ重積手段からの前記結晶形成装置を処理するための処理手段であって 、 （ｉ）前記各々の結晶形成装置のペースプレートの側壁部の上方の周縁部にシー ル材を供給するためのシール材分配手段と、（ｉｉ）前記各々の結晶形成装置の ベースプレートのウエルの中へ所定量の液体を分配するための液体分配手段と、 （ｉｉｉ）前記ウエルに相当する前記カバーの各々の位置に高分子溶液を含む液 滴を分配し、前記カバーが対応するベースプレートと組み立てられた時に、前記 液滴が、前記各々のウエルの上方で前記カバーから垂下する状態で吊り下げられ るようにする液滴分配手段と、 （ｉｖ）前記カバーの下面が前記液滴を受けるために上方を向く位置と、液滴が 前記下面に付与された後で且つ前記カバーが対応するベースプレートと組み立て られた時に前記カバーの下面が下方を向く位置との間で前記各々の結晶形成装置 のカバーを回転させるための回転手段とを具備する処理手段と、（ｃ）前記結晶 形成装置を掴んで該結晶形成装置を前記チャンバ重積手段と前記処理手段との間 で搬送すると共に、前記各々の結晶形成装置のカバーを該結晶形成装置のベース プレートから分解したり該ベースプレートと組み合わせたりするための多関節型 ロボットアーム手段とを備えることを特徴とする自動化された結晶化装置。