JPH0746646B2 - Method for producing surface-treated magnetic material - Google Patents

Method for producing surface-treated magnetic material

Info

Publication number
JPH0746646B2
JPH0746646B2 JP60275293A JP27529385A JPH0746646B2 JP H0746646 B2 JPH0746646 B2 JP H0746646B2 JP 60275293 A JP60275293 A JP 60275293A JP 27529385 A JP27529385 A JP 27529385A JP H0746646 B2 JPH0746646 B2 JP H0746646B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
corrosion
resistant metal
magnetic material
metal film
magnetic body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60275293A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62134909A (en
Inventor
潔 緒方
靖典 安東
文雄 福丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP60275293A priority Critical patent/JPH0746646B2/en
Publication of JPS62134909A publication Critical patent/JPS62134909A/en
Publication of JPH0746646B2 publication Critical patent/JPH0746646B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、耐食性改善のために表面処理された磁性体
の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a magnetic material surface-treated to improve corrosion resistance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

磁性体表面の耐食性改善のために、当該表面を耐食性金
属膜で被覆する方法がある。その場合、当該耐食性金属
膜を被覆する従来の方法としては、電着塗装あるいはめ
っき処理による方法が採られている。
In order to improve the corrosion resistance of the magnetic material surface, there is a method of coating the surface with a corrosion resistant metal film. In that case, as a conventional method for coating the corrosion-resistant metal film, a method by electrodeposition coating or plating treatment is adopted.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところが、上記のような従来の方法においては、耐食性
改善効果があまり良くないという問題がある。その理由
の一つとして、磁性体と被覆膜との密着性が悪くてピン
ホール等が生じ易く、そのため膜と磁性体との界面にお
いて腐食が進展し易く、更にはそれによって膜の剥離が
生じ易いということが挙げられる。
However, the conventional method as described above has a problem that the effect of improving the corrosion resistance is not so good. One of the reasons for this is that the adhesion between the magnetic material and the coating film is poor and pinholes and the like are likely to occur, so that corrosion easily progresses at the interface between the film and the magnetic material, which further causes film peeling. It is easy to occur.

また、上記のような問題に加えて、膜を電着塗装によっ
て形成する場合には、塗装膜の厚みが通常数十μmとな
って大き過ぎ、これが当該磁性体を使用する上で寸法誤
差等の原因になるという問題がある。一方、膜をめっき
処理によって形成する場合は、めっき液によってむしろ
腐食が発生する場合があるという問題がある。
In addition to the above problems, when the film is formed by electrodeposition coating, the thickness of the coating film is usually several tens of μm, which is too large, which causes dimensional error when using the magnetic body. There is a problem that causes. On the other hand, when the film is formed by plating, there is a problem that the plating solution may cause corrosion.

そこでこの発明は、耐食性改善効果の大きい表面処理さ
れた磁性体の製造方法であって従来の方法のような問題
点を有しないものを提供することを主たる目的とする。
Therefore, it is a main object of the present invention to provide a method for producing a surface-treated magnetic body having a large effect of improving corrosion resistance, which does not have the problems of the conventional methods.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明の製造方法は、真空中において、磁性体の表面
に耐食性金属を蒸着させ、その後またはそれと同時にそ
の蒸着面に不活性ガスイオンを照射して磁性体と耐食性
金属との混合層を形成し、ついで混合層が形成された磁
性体の表面に耐食性金属を蒸着させて耐食性金属膜を形
成し、ついでこの耐食性金属膜の表面に酸素イオンを照
射して当該表面に酸化物系の不動態層を形成することを
特徴とする。
In the production method of the present invention, in a vacuum, a corrosion-resistant metal is vapor-deposited on the surface of a magnetic body, and thereafter or at the same time, the vapor deposition surface is irradiated with an inert gas ion to form a mixed layer of the magnetic body and the corrosion-resistant metal. Then, a corrosion resistant metal is deposited on the surface of the magnetic material on which the mixed layer is formed to form a corrosion resistant metal film, and then the surface of the corrosion resistant metal film is irradiated with oxygen ions to form an oxide-based passivation layer on the surface. Is formed.

〔作用〕[Action]

この発明の製造方法による磁性体においては、混合層に
よって磁性体と耐食性金属膜との界面の耐食性が向上す
ると共に、当該混合層によって耐食性金属膜の磁性体に
対する密着性が向上し、それによって界面の腐食や当該
膜の剥離も防止される。従って、大きな耐食性改善効果
が得られる。
In the magnetic material according to the manufacturing method of the present invention, the mixed layer improves the corrosion resistance of the interface between the magnetic material and the corrosion-resistant metal film, and the mixed layer improves the adhesion of the corrosion-resistant metal film to the magnetic material, and thus the interface Corrosion and peeling of the film are also prevented. Therefore, a large effect of improving the corrosion resistance can be obtained.

しかも、この発明の製造方法においては、真空蒸着とイ
オン照射を用いているため、従来の方法における問題点
を排除しつつ、耐食性改善効果の非常に優れた上記のよ
うな表面処理された磁性体を製造することができる。
Moreover, in the manufacturing method of the present invention, since the vacuum deposition and the ion irradiation are used, the above-mentioned surface-treated magnetic material having a very excellent corrosion resistance improving effect while eliminating the problems in the conventional method. Can be manufactured.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、この発明の製造方法による表面処理された磁
性体の一例を示す概略断面図である。この磁性体2は、
磁性体4の表面に耐食性金属膜8を、かつ両者の界面付
近に磁性体4と耐食性金属との混合層6を形成してい
る。更に、表面の耐食性を一層強化するために、耐食性
金属膜8の表面に当該耐食性金属の酸化物系の不動態層
10を形成している。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a magnetic material surface-treated by the manufacturing method of the present invention. This magnetic body 2
A corrosion resistant metal film 8 is formed on the surface of the magnetic body 4, and a mixed layer 6 of the magnetic body 4 and the corrosion resistant metal is formed near the interface between the two. Further, in order to further enhance the corrosion resistance of the surface, the oxide-based passivation layer of the corrosion-resistant metal is formed on the surface of the corrosion-resistant metal film 8.
Forming 10.

耐食性金属膜8を成す耐食性金属としては、例えばAl、
Ni、Cr、Y、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Sn等が採り得る。
Examples of the corrosion-resistant metal forming the corrosion-resistant metal film 8 include Al,
Ni, Cr, Y, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, Sn and the like can be used.

上記のような磁性体2においては、混合層6によって磁
性体4と耐食性金属膜8との界面の耐食性が向上する。
更に、当該混合層6によって耐食性金属膜8の磁性体4
に対する密着性が向上し、従来のピンホール等の発生が
防止され、それによって当該界面の腐食や耐食性金属膜
8の剥離も防止される。従って、大きな耐食性改善効果
が得られる。
In the magnetic body 2 as described above, the mixed layer 6 improves the corrosion resistance at the interface between the magnetic body 4 and the corrosion-resistant metal film 8.
Further, the magnetic layer 4 of the corrosion resistant metal film 8 is formed by the mixed layer 6.
Is improved, and the generation of conventional pinholes and the like is prevented, whereby corrosion of the interface and peeling of the corrosion-resistant metal film 8 are also prevented. Therefore, a large effect of improving the corrosion resistance can be obtained.

尚、耐食性金属膜8の表面の不動態層10は、空気中にお
ける酸化によって自然に形成される場合もあるけれど
も、この実施例のように予め人為的にそれを形成してお
く方が耐食性強化の観点から好ましい。
Although the passivation layer 10 on the surface of the corrosion-resistant metal film 8 may be naturally formed by oxidation in the air, it is better to artificially form it in advance as in this embodiment to enhance the corrosion resistance. From the viewpoint of.

次に、上記のような磁性体2の製造方法の一例を第2図
および第3図を参照しながら説明する。
Next, an example of a method of manufacturing the magnetic body 2 as described above will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

まず第2図を参照して、真空容器(図示省略)内に表面
処理前の磁性体4が収納されており、当該磁性体4に向
けて蒸発源12およびイオン源18が配置されている。蒸発
源12は例えば電子ビーム蒸発源であり、蒸発材料として
前述したような耐食性金属14を有しており、当該金属14
の蒸気を磁性体4上に蒸着させることができる。イオン
源18は例えばバケット型イオン源であり、イオン源物質
を切り替えることにより、アルゴン等の不活性ガスイオ
ン20あるいは酸素イオン22を磁性体4に向けて照射する
ことができる。
First, referring to FIG. 2, a magnetic body 4 before surface treatment is housed in a vacuum container (not shown), and an evaporation source 12 and an ion source 18 are arranged toward the magnetic body 4. The evaporation source 12 is, for example, an electron beam evaporation source, and has the above-described corrosion resistant metal 14 as an evaporation material.
Of the vapor can be deposited on the magnetic body 4. The ion source 18 is, for example, a bucket type ion source, and an inert gas ion 20 such as argon or oxygen ion 22 can be irradiated toward the magnetic body 4 by switching the ion source material.

次に第3図を参照して、磁性体4の表面処理に際して
は、真空容器内を例えば10-5〜10-7Torr程度にまで排気
した後(A)、蒸発源12からの耐食性金属14を磁性体4
の表面に後述するような厚みだけ蒸着させる(B)。そ
の後またはそれと同時に、その蒸着面にイオン源18から
の不活性ガスイオン20を照射(注入とも言える)して、
磁性体4と耐食性金属14との混合層6を形成する
(C)。次いで、混合層6が形成された磁性体4の表面
に蒸発源12からの耐食性金属14を所定厚み、例えば1μ
m以上蒸着させて耐食性金属膜8を形成する(D)。更
にコーティング後の表面の耐食性を一層強化するため
に、イオン源18から酸素イオン22を引き出してこれを耐
食性金属膜8の表面に照射してそこに酸化物系の不動態
層10、例えば耐食性金属膜8がアルミニウムの場合は酸
化アルミニウム層を形成する(E)。以上によって第1
図に示したような表面処理された磁性体2が製造され
る。
Next, referring to FIG. 3, in the surface treatment of the magnetic body 4, the inside of the vacuum chamber is evacuated to, for example, about 10 −5 to 10 −7 Torr (A), and then the corrosion resistant metal 14 from the evaporation source 12 is supplied. The magnetic body 4
(B) is vapor-deposited on the surface of the substrate in a thickness as described later. After that or at the same time, the deposition surface is irradiated with inert gas ions 20 from the ion source 18 (also referred to as implantation),
A mixed layer 6 of the magnetic body 4 and the corrosion resistant metal 14 is formed (C). Then, the corrosion-resistant metal 14 from the evaporation source 12 is applied to the surface of the magnetic body 4 on which the mixed layer 6 is formed to a predetermined thickness, for example, 1 μm.
A corrosion resistant metal film 8 is formed by vapor deposition of m or more (D). Further, in order to further enhance the corrosion resistance of the surface after coating, oxygen ions 22 are extracted from the ion source 18 and irradiated on the surface of the corrosion-resistant metal film 8, and the oxide-based passivation layer 10, for example, the corrosion-resistant metal, is applied thereto. When the film 8 is aluminum, an aluminum oxide layer is formed (E). 1st by the above
The surface-treated magnetic body 2 as shown in the figure is manufactured.

上記の場合、混合層6の厚みは、磁性体4と耐食性金属
膜8との界面の耐食性強化や耐食性金属膜8の磁性体4
に対する密着性強化のためには、なるべく厚い方が好ま
しい。当該混合層6の厚みは具体的には照射イオン20の
エネルギー等に依存するけれども、そのエネルギーが大
き過ぎたりあるいはその注入量が多過ぎたりすると、逆
に混合層6内にピンホール等の欠陥部を招き易い。そこ
でより具体的方法としては、次のようにするのが好まし
い。
In the above case, the thickness of the mixed layer 6 is set such that the corrosion resistance of the interface between the magnetic body 4 and the corrosion-resistant metal film 8 is enhanced or the magnetic body 4 of the corrosion-resistant metal film 8 is increased.
In order to enhance the adhesion to, it is preferable that the thickness is as thick as possible. Although the thickness of the mixed layer 6 specifically depends on the energy of the irradiation ions 20, etc., if the energy is too large or the implantation amount is too large, defects such as pinholes in the mixed layer 6 are conversely produced. It is easy to invite parts. Therefore, as a more specific method, the following is preferable.

磁性体4に予め蒸着させる耐食性金属14の厚みは、
注入する不活性ガスイオン20の飛程(平均射影飛程)程
度の厚み、あるいはそれ以下とする。これは、蒸着させ
た耐食性金属14の全部が混合層6となるようにするため
である。
The thickness of the corrosion-resistant metal 14 deposited in advance on the magnetic body 4 is
The thickness is about the range (average projected range) of the injected inert gas ions 20, or less. This is so that all of the deposited corrosion-resistant metal 14 becomes the mixed layer 6.

不活性ガスイオン20のエネルギーは例えば50〜100K
eV程度とし、その注入量は例えば1015〜1017イオン/cm
2程度とする。エネルギーを上記範囲にするのは飛程が
適当になるからであり、一方注入量を上記範囲とするの
は、注入量が1018以上だと混合層6内にピンホール等の
欠陥ができ易く、逆に1014だと混合層6ができにくいか
らである。
The energy of the inert gas ions 20 is, for example, 50 to 100K.
The injection amount is, for example, about 10 15 to 10 17 ions / cm 2.
It is about 2 . The energy is set in the above range because the range becomes appropriate, while the injection amount is set in the above range when defects such as pinholes are easily formed in the mixed layer 6 when the injection amount is 10 18 or more. On the contrary, if it is 10 14 , it is difficult to form the mixed layer 6.

例えば耐食性金属14、耐食性金属膜8としてアルミニウ
ムを、不活性ガスイオン20としてアルゴンイオンを用い
る場合、上記のようなエネルギーでのアルミニウム中の
アルゴンイオンの飛程は、LSS理論による計算では例え
ば100KeVでは約880Å程度であるため、アルゴンイオン
照射前のアルミニウムの蒸着は例えば900Å程度の厚み
だけ行う。
For example, when aluminum is used as the corrosion-resistant metal 14 and the corrosion-resistant metal film 8 and argon ions are used as the inert gas ions 20, the range of the argon ions in the aluminum with the energy as described above is 100 KeV when calculated by the LSS theory. Since the thickness is about 880Å, aluminum is vapor-deposited before the argon ion irradiation, for example, to a thickness of about 900Å.

尚、耐食性金属膜8のコーティング後の酸素イオン22の
照射は、例えばそのエネルギーを10〜40KeV程度、照射
量1015〜1017イオン/cm2程度とする。ここでエネルギ
ーを若干下げているのは、酸素イオン22によって耐食性
金属膜8の表面がスパッタリングされるのを防止するた
めである。
The irradiation of the oxygen ions 22 after coating the corrosion-resistant metal film 8 is performed, for example, at an energy of about 10 to 40 KeV and a dose of about 10 15 to 10 17 ions / cm 2 . Here, the energy is slightly lowered to prevent the surface of the corrosion-resistant metal film 8 from being sputtered by the oxygen ions 22.

上記のような製造方法においては、一様に(即ち均一性
良く)混合層6や耐食性金属膜8を形成することができ
ると共に、当該耐食性金属膜8の密着強度も強く、また
その膜厚調整も容易であるため、耐食性改善効果の非常
に優れた前述したような構造の磁性体2を製造すること
ができる。しかも従来の電着塗装における塗装膜が厚過
ぎるといった問題や、めっき処理におけるめっき液によ
る腐食発生といった問題も無い。
In the manufacturing method as described above, the mixed layer 6 and the corrosion-resistant metal film 8 can be formed uniformly (that is, with good uniformity), the adhesion strength of the corrosion-resistant metal film 8 is strong, and the film thickness can be adjusted. Since it is also easy, it is possible to manufacture the magnetic body 2 having the structure as described above, which has an excellent effect of improving the corrosion resistance. In addition, there is no problem that the coating film in the conventional electrodeposition coating is too thick, and that the plating solution causes corrosion in the plating process.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のようにこの発明によれば、真空蒸着とイオン照射
を用いているため、均一性良く混合層や耐食性金属膜を
形成することができると共に、当該耐食性金属膜の密着
強度も強く、またその膜厚調整も容易であるため、耐食
性改善効果の非常に優れた表面処理された磁性体を製造
することができる。しかも従来の電着塗装における塗装
膜が厚過ぎるといった問題や、めっき処理におけるめっ
き液による腐食発生といった問題もない。しかも、耐食
性金属膜の形成後にその表面に酸素イオンを照射して当
該表面に酸化物系の不動態層を形成するようにしている
ので、表面の耐食性を一層強化することができる。
As described above, according to the present invention, since vacuum deposition and ion irradiation are used, it is possible to form a mixed layer and a corrosion-resistant metal film with good uniformity, and also the adhesion strength of the corrosion-resistant metal film is strong, and Since the film thickness can be easily adjusted, it is possible to produce a surface-treated magnetic material having an excellent effect of improving corrosion resistance. In addition, there is no problem that the coating film in the conventional electrodeposition coating is too thick, and that the plating solution causes corrosion in the plating process. Moreover, since the surface of the corrosion-resistant metal film is irradiated with oxygen ions to form an oxide-based passivation layer on the surface, the corrosion resistance of the surface can be further enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、この発明の製造方法による表面処理された磁
性体の一例を示す概略断面図である。第2図は、この発
明に係る製造方法を実施する装置の一例を示す概略図で
ある。第3図は、この発明に係る製造方法の一実施例を
示す工程図である。 2…表面処理された磁性体、4…磁性体、6…混合層、
8…耐食性金属膜、10…不動態層、12…蒸発源、14…耐
食性金属、18…イオン源、20…不活性ガスイオン、22…
酸素イオン。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a magnetic material surface-treated by the manufacturing method of the present invention. FIG. 2 is a schematic view showing an example of an apparatus for carrying out the manufacturing method according to the present invention. FIG. 3 is a process drawing showing an embodiment of the manufacturing method according to the present invention. 2 ... Surface-treated magnetic substance, 4 ... Magnetic substance, 6 ... Mixed layer,
8 ... Corrosion resistant metal film, 10 ... Passive layer, 12 ... Evaporation source, 14 ... Corrosion resistant metal, 18 ... Ion source, 20 ... Inert gas ion, 22 ...
Oxygen ion.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】真空中において、磁性体の表面に耐食性金
属を蒸着させ、その後またはそれと同時にその蒸着面に
不活性ガスイオンを照射して磁性体と耐食性金属との混
合層を形成し、ついで混合層が形成された磁性体の表面
に耐食性金属を蒸着させて耐食性金属膜を形成し、つい
でこの耐食性金属膜の表面に酸素イオンを照射して当該
表面に酸化物系の不動態層を形成することを特徴とする
表面処理された磁性体の製造方法。
1. In a vacuum, a corrosion resistant metal is vapor-deposited on the surface of a magnetic material, and thereafter or at the same time, the vapor deposition surface is irradiated with an inert gas ion to form a mixed layer of the magnetic material and the corrosion-resistant metal. A corrosion-resistant metal is deposited on the surface of the magnetic material on which the mixed layer is formed to form a corrosion-resistant metal film, and then the surface of this corrosion-resistant metal film is irradiated with oxygen ions to form an oxide-based passivation layer on the surface. A method for producing a surface-treated magnetic material, comprising:
JP60275293A 1985-12-07 1985-12-07 Method for producing surface-treated magnetic material Expired - Lifetime JPH0746646B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60275293A JPH0746646B2 (en) 1985-12-07 1985-12-07 Method for producing surface-treated magnetic material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60275293A JPH0746646B2 (en) 1985-12-07 1985-12-07 Method for producing surface-treated magnetic material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62134909A JPS62134909A (en) 1987-06-18
JPH0746646B2 true JPH0746646B2 (en) 1995-05-17

Family

ID=17553409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60275293A Expired - Lifetime JPH0746646B2 (en) 1985-12-07 1985-12-07 Method for producing surface-treated magnetic material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0746646B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01298189A (en) * 1988-05-25 1989-12-01 Japan Carlit Co Ltd:The Electrode for electrolysis
JP2749174B2 (en) * 1990-03-16 1998-05-13 株式会社日立製作所 Zeeman atomic absorption spectrophotometer
CN112176286B (en) * 2020-09-30 2022-07-15 福建省长汀金龙稀土有限公司 Coating, metal magnet with coating and preparation method of coating

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60131964A (en) * 1983-12-20 1985-07-13 Nissin Electric Co Ltd Manufacture of film-coated body

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60131964A (en) * 1983-12-20 1985-07-13 Nissin Electric Co Ltd Manufacture of film-coated body

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62134909A (en) 1987-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58221271A (en) Formation of film by ion plating method
JPS62284076A (en) Formation of thin film and its device
JPH0746646B2 (en) Method for producing surface-treated magnetic material
TWI490354B (en) Housing and method for making the same
JPS5956732A (en) Method of imparting step variation to positive slope on vac-uum deposited layer
JPH08287901A (en) Manufacture of positive electrode for lithium secondary battery
Verkerk et al. On the mechanism of anodic oxidation of tantalum
JPH05132754A (en) Formation of titanium carbide thin film
JPH02163366A (en) Formation of chromium layer onto iron or steel product surface
JPH0382747A (en) Formation of thin metal-surface film excellent in corrosion resistance and adhesive strength
TWI486476B (en) Housing and method for making the same
JPH02138458A (en) Laminated hard material and production thereof
JPS60131964A (en) Manufacture of film-coated body
JPS63114966A (en) Apparatus for producing thin film
JPH06204066A (en) Manufacture of permanent magnet excellent in corrosion resistance
JP3314405B2 (en) Film capacitor
JPH01215969A (en) Formation of tantalum oxide film
JPH05279870A (en) Metallizing film and manufacture of metallizing film
JPH05166726A (en) Manufacture of compound thin film
JP2625107B2 (en) Manufacturing method of exposure mask
JPS63206464A (en) Inline type composite surface treatment device
JPS63262457A (en) Preparation of boron nitride film
JP2952683B2 (en) Method for producing nitride film-coated substrate and oxide film-coated substrate
JPS63245922A (en) Mask for x-ray exposure
JPH0772337B2 (en) Method for manufacturing oxide superconductor

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term