JPH0744106B2 - Soft magnetic thin film - Google Patents

Soft magnetic thin film

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JPH0744106B2
JPH0744106B2 JP60230467A JP23046785A JPH0744106B2 JP H0744106 B2 JPH0744106 B2 JP H0744106B2 JP 60230467 A JP60230467 A JP 60230467A JP 23046785 A JP23046785 A JP 23046785A JP H0744106 B2 JPH0744106 B2 JP H0744106B2
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洋 岩崎
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えば薄膜磁気ヘッドに用いて好適な軟磁性薄
膜に係わる。
The present invention relates to a soft magnetic thin film suitable for use in, for example, a thin film magnetic head.

〔発明の概要〕 本発明は、窒素含有のFe−Al−Ge系の軟磁性薄膜であ
り、その組成の特定により保磁力Hcが小さく透磁率μが
高く特に耐蝕性及び硬度にすぐれた軟磁性薄膜を得るも
のである。
[Summary of the Invention] The present invention is a soft magnetic thin film of a Fe-Al-Ge system containing nitrogen, which has a low coercive force Hc and a high magnetic permeability μ due to the composition of the soft magnetic thin film, and particularly has excellent corrosion resistance and hardness A thin film is obtained.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

各種磁気記録再生装置において、高密度記録化、高周波
数比の要求が高まり、これに対応して高い飽和磁化、高
い保磁力の磁気記録媒体が用いられる。この種の磁気記
録媒体としては、Fe,Co,Ni等の強磁性金属の粉末を用い
たいわゆるメタルテープや、強磁性金属材料をベースフ
ィルム上に被着して成るいわゆる蒸着テープなどが用い
られるに至っている。
2. Description of the Related Art In various magnetic recording / reproducing devices, demands for high density recording and high frequency ratio are increasing, and correspondingly, magnetic recording media having high saturation magnetization and high coercive force are used. As this kind of magnetic recording medium, a so-called metal tape using a powder of a ferromagnetic metal such as Fe, Co, or Ni, a so-called vapor deposition tape formed by coating a ferromagnetic metal material on a base film, and the like are used. Has reached.

これに伴い、この種の磁気記録媒体に対する磁気ヘッド
としては、高い飽和磁束密度と高透磁率のヘッド材料に
よることが要求されると共に、磁気異方性が小さく磁歪
が零であり、また保磁力が小さく、更にヘッド材料とし
てできるだけ、耐摩耗性が高く、耐蝕性にすぐれている
など、磁気特性はもとより、化学的に安定で機械的特性
にすぐれていることなどが要求される。
Accordingly, a magnetic head for this type of magnetic recording medium is required to be made of a head material having a high saturation magnetic flux density and a high magnetic permeability, and has a small magnetic anisotropy and zero magnetostriction, and a coercive force. Is required, and the head material is required to have not only magnetic characteristics but also chemical stability and excellent mechanical characteristics such as high wear resistance and excellent corrosion resistance as a head material.

一方、高密度記録化に伴って記録トラック幅、したがっ
て磁気ヘッドにおける、作動磁気ギャップのトラック幅
の狭小化が要求され、この要求に対応し、しかも特に多
トラック磁気ヘッドにおいて著しく量産性の向上をはか
ることができるものとして非磁性ないし磁性基板上に軟
磁性薄膜による磁気ヘッドコアを被着形成する薄膜技術
を用いた薄膜磁気ヘッドの普及がめざましい。この種の
軟磁性薄膜としてはFe,Al,Siを主成分とするセンダスト
合金薄膜が注目を集めている。
On the other hand, along with the high density recording, it is required to reduce the recording track width, and hence the track width of the working magnetic gap in the magnetic head, and to meet this requirement, particularly, the mass productivity is remarkably improved in the multi-track magnetic head. As a measure that can be measured, a thin film magnetic head using a thin film technique for forming a magnetic head core of a soft magnetic thin film on a non-magnetic or magnetic substrate is remarkably popularized. As a soft magnetic thin film of this kind, a sendust alloy thin film containing Fe, Al and Si as main components has been attracting attention.

このセンダスト合金薄膜は、高い飽和磁束密度Bsを有
し、比較的高硬度を有するので、上述したメタルテープ
等のように高い残留磁束密度を有する磁気記録媒体に対
しても適用することが可能である。
Since this sendust alloy thin film has a high saturation magnetic flux density Bs and a relatively high hardness, it can be applied to a magnetic recording medium having a high residual magnetic flux density such as the metal tape described above. is there.

しかしながら、このセンダスト合金薄膜は比較的高硬度
を有するものの例えばフェライト材等に比し耐摩耗性及
び耐蝕性に劣る。また、このセンダスト合金薄膜は比較
的比抵抗が低いためにこれを磁気ヘッドのコアとして使
用した場合には、いわゆる渦電流損による高周波領域で
の透磁率の低下が問題となっており、高周波数領域で充
分な再生出力が得られないおそれがあるなどの問題点が
ある。
However, although this sendust alloy thin film has a relatively high hardness, it is inferior in wear resistance and corrosion resistance to, for example, a ferrite material. Further, since this Sendust alloy thin film has a relatively low specific resistance, when it is used as a core of a magnetic head, a decrease in magnetic permeability in a high frequency region due to so-called eddy current loss is a problem, and high frequency There is a problem that sufficient reproduction output may not be obtained in the area.

これに比し、センダスト合金薄膜の代わりに高周波数領
域での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度Bsを有す
る非晶質(アモルファス)磁性合金材料を用いることが
考えられているが、この非晶質磁性合金材料は耐熱性に
難点があり、長時間の加熱や熱サイクルにより透磁率が
大きく劣化し再生効率が悪くなる。特に結晶化の可能性
が大きいので500℃以上の温度を長時間加えることはで
きないものであり、これがため、磁気ヘッドの製造工程
において例えばガラス融着のように500℃以上の温度で
の処理を必要とする工程を採ることは好ましくないなど
の問題点がある。
On the other hand, it is considered to use an amorphous magnetic alloy material having a high saturation magnetic flux density Bs with a small decrease in permeability in the high frequency region instead of the sendust alloy thin film. Amorphous magnetic alloy materials have a difficulty in heat resistance, and their magnetic permeability is greatly deteriorated by long-term heating and thermal cycles, resulting in poor reproduction efficiency. In particular, since there is a high possibility of crystallization, it is not possible to apply a temperature of 500 ° C or higher for a long time, and for this reason, in the manufacturing process of the magnetic head, for example, glass fusion treatment at a temperature of 500 ° C or higher is required. There is a problem that it is not preferable to take the necessary steps.

このような状況から、さらに良好な軟磁気特性を示す軟
磁性材料の研究が進められ、例えば山本達治・千葉久喜
共著,「日本金属学会誌」第14巻B,第2号(1950年)に
は、Fe,Co,Siを主成分とするFe−Co−Si系合金材料が良
好な軟磁気特性を示すことが報告されている。
Under such circumstances, research on soft magnetic materials exhibiting even better soft magnetic properties has been promoted. For example, in Tatsuharu Yamamoto and Kuki Chiba, “Journal of the Japan Institute of Metals”, Volume 14, B, No. 2 (1950). Have reported that an Fe-Co-Si based alloy material containing Fe, Co, and Si as main components exhibits excellent soft magnetic properties.

しかしながら、このFe−Co−Si系合金材は、極めて脆弱
で実用性に乏しく、そのまま磁気ヘッドのコア材料とし
て用いることには問題がある。
However, this Fe-Co-Si alloy material is extremely fragile and poor in practicality, and there is a problem in using it as it is as a core material of a magnetic head.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

本発明は上述した諸問題の改善をはかり、磁気特性、す
なわち飽和磁束密度Bsが大、保磁力Hcが小、磁歪λsが
殆ど零、磁気異方性が小さく、しかも機械的特性、すな
わち、高い硬度を有し、耐摩耗性にすぐれ、更に熱的に
安定で耐熱性が高く、また化学安定性に、すなわち耐蝕
性にすぐれた軟磁性薄膜を提供するものである。
The present invention has improved the above-mentioned various problems, and has magnetic characteristics, that is, a large saturation magnetic flux density Bs, a small coercive force Hc, a magnetostriction λs of almost zero, a small magnetic anisotropy, and a mechanical characteristic, that is, high. It is intended to provide a soft magnetic thin film having hardness, excellent wear resistance, thermal stability and high heat resistance, and chemical stability, that is, excellent corrosion resistance.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、Fe,Al,Geを主成分とする磁性薄膜に窒素Nを
添加することにより飽和磁束密度を低下することなく上
述した諸問題を改善することができることを見出したこ
とに基づくものである。
The present invention is based on the finding that by adding nitrogen N to a magnetic thin film containing Fe, Al and Ge as main components, the above-mentioned problems can be improved without lowering the saturation magnetic flux density. is there.

すなわち、本発明は、Fea Alb Gec Nx(但し、a,b,c及
びxは、夫々の組成比を原子%として表す)なる組成比
で示され、各組成範囲が、 55a84 1b31 1c31 0.1x30 であり、且つ、a+b+c+x=100とした組成の軟磁
性薄膜とする。
That is, the present invention is represented by a composition ratio of Fea Alb Gec Nx (provided that a, b, c and x are each represented by atomic%), and each composition range is 55a84 1b31 1c31 0.1x30. And a soft magnetic thin film having a composition of a + b + c + x = 100.

尚、上述の組成においてAlの一部をGaで、Geの一部をSi
で置換できる。またFeの一部をCo或いはRuの少くとも1
種で15原子%以下をもって置換することができる。
In the above composition, part of Al is Ga and part of Ge is Si.
Can be replaced with. Also, part of Fe is at least 1 of Co or Ru.
It can be replaced by up to 15 atom% of seed.

また、上述の組成を有する本発明による軟磁性薄膜の膜
厚としては、10Å以上1mm以下であることが好ましく、
さらに100Å以上100μm以下であることがより好まし
い。
The thickness of the soft magnetic thin film according to the present invention having the above composition is preferably 10 Å or more and 1 mm or less,
Further, it is more preferable that it is 100 Å or more and 100 μm or less.

〔作用〕[Action]

本発明による軟磁性薄膜は、センダスト合金よりも飽和
磁束密度が高く、またNを含ませたことにより、Nを含
まないFe−Al−Ge系合金に比して、透磁率が上がり、比
抵抗が高くなり、硬度、したがって耐摩耗性の向上がは
かれた。
The soft magnetic thin film according to the present invention has a higher saturation magnetic flux density than the Sendust alloy, and by containing N, the magnetic permeability is higher and the specific resistance is higher than that of the Fe-Al-Ge based alloy containing no N. Was improved, and the hardness and thus the wear resistance were improved.

本発明による軟磁性薄膜においては、高温(例えば550
℃程度)で熱処理した場合に結晶化して軟磁性特性が得
られる。したがって、アモルファス磁性薄膜のような熱
的に不安定な性質は有していない。
In the soft magnetic thin film according to the present invention, high temperature (for example, 550
When heat-treated at (° C.), It is crystallized and soft magnetic properties are obtained. Therefore, it does not have the thermally unstable property of the amorphous magnetic thin film.

本発明による軟磁性薄膜において、Fe,Al及びGeの各元
素に関する組成比、すなわちa,b及びcの値に関して
は、上記範囲外では、磁歪が大きくなるなど磁気特性の
劣化を来し、Nの組成比すなわちxの値に関しては、こ
れが上記範囲外、つまり、xが0.1原子%未満では比抵
抗及び硬度など、Nの添加による効果の発現がみられ
ず、xが30原子%を超えると、かえって透磁率の低下を
招来し、保磁力Hcが高くなるなどの不都合が生じる。
In the soft magnetic thin film according to the present invention, with respect to the composition ratio of each element of Fe, Al and Ge, that is, the values of a, b and c, outside the above range, the magnetostriction becomes large and the magnetic characteristics are deteriorated. With respect to the composition ratio of x, that is, the value of x, if this is outside the above range, that is, if x is less than 0.1 atom%, no effect due to addition of N such as specific resistance and hardness is observed, and if x exceeds 30 atom%. On the contrary, the magnetic permeability is lowered, and the coercive force Hc is increased, which causes inconvenience.

また、上述の組成においてFeの一部をCoで置換するとき
は、更に飽和磁束密度Bsの向上と、耐蝕性の向上をはか
ることができ、Feの一部をRuで置換するときも、Ruが非
磁性元素であるにも拘わらず軟磁気特性を害わずに、ま
たBsの低下を殆ど招来せずに、より耐蝕性、耐摩耗性の
向上をはかることができた。
Further, in the above composition, when substituting a part of Fe with Co, it is possible to further improve the saturation magnetic flux density Bs and the corrosion resistance, and when substituting a part of Fe with Ru, Ru Despite being a non-magnetic element, it was possible to further improve the corrosion resistance and the wear resistance without impairing the soft magnetic characteristics and hardly causing a decrease in Bs.

〔実施例〕〔Example〕

本発明による軟磁性薄膜の製造方法としては、いわゆる
気相薄膜生成技術によることが好ましい。これは、例え
ば一般の溶解による方法では均一に多量の窒素を導入す
ることが難しいことによる。すなわち、通常窒素は合金
溶融中にスラグとして浮上し不純物として合金と分離さ
れてしまうのである。
The method for producing the soft magnetic thin film according to the present invention is preferably based on a so-called vapor phase thin film forming technique. This is because, for example, it is difficult to uniformly introduce a large amount of nitrogen by a general melting method. That is, nitrogen is usually floated as slag during alloy melting and separated from the alloy as impurities.

そこで、本発明による軟磁性薄膜は、蒸着法やイオンイ
ンプランテーション法等により作製するのが好ましいも
のである。蒸着の手法としては、例えばフラッシュ蒸
着、ガス中蒸着法、イオンプレーティング、スパッタリ
ング、クラスター・イオンビーム法等が挙げられ、また
蒸着とイオンインプランテーションを同時に行ってもよ
い。また、磁性薄膜に窒素Nを導入する方法としては、 (1) 窒素ガスを含む雰囲気中で蒸着等を行い、この
窒素ガスの濃度によって得られる磁性薄膜中の窒素Nの
含有量を調節して導入する方法。
Therefore, the soft magnetic thin film according to the present invention is preferably produced by a vapor deposition method, an ion implantation method, or the like. Examples of the vapor deposition method include flash vapor deposition, vapor deposition in gas, ion plating, sputtering, cluster ion beam method, and the like, and vapor deposition and ion implantation may be performed simultaneously. Further, as a method of introducing nitrogen N into the magnetic thin film, (1) vapor deposition or the like is performed in an atmosphere containing nitrogen gas, and the content of nitrogen N in the magnetic thin film obtained by adjusting the concentration of the nitrogen gas is adjusted. How to introduce.

(2) 窒素Nと各成分のうちの少なくとも1種の元素
との化合物と、残りの成分の合金とを蒸発源として使用
し、得られる磁性薄膜中に窒素Nを導入する方法、 等が挙げられる。さらに、磁性薄膜を構成するFe,Al,Ge
等の各成分元素の組成を調節する方法としては、 (1) Fe,Al,Geや他の添加剤、置換金属等を所定の割
合となるように秤量し、これらをあらかじめ例えば高周
波溶解炉等で溶解して合金インゴットを形成しておき、
この合金インゴットを蒸発源として使用する方法、 (2) 各成分の単独元素の蒸発源を用意し、これら蒸
発源の数で組成を制御する方法、 (3) 各成分の単独元素の蒸発源を用意し、これら蒸
発源に加える出力(印加電圧)を制御して蒸発スピード
をコントロールし組成を制御する方法、 (4) 合金を蒸発源として蒸着しながら他の元素を打
ち込む方法、 等が挙げられる。
(2) A method of using a compound of nitrogen N and at least one element of each component, and an alloy of the remaining components as an evaporation source, and introducing nitrogen N into the obtained magnetic thin film. To be In addition, Fe, Al, Ge that make up the magnetic thin film
As a method of adjusting the composition of each component element such as (1) Fe, Al, Ge and other additives, substitution metals, etc. are weighed so as to have a predetermined ratio, and these are preliminarily used, for example, in a high frequency melting furnace, etc. Melt to form an alloy ingot,
A method of using this alloy ingot as an evaporation source, (2) a method of preparing evaporation sources of individual elements of each component and controlling the composition by the number of these evaporation sources, (3) an evaporation source of individual elements of each component Prepared and controlling the output (applied voltage) applied to these evaporation sources to control the evaporation speed to control the composition, (4) a method of implanting another element while depositing an alloy as an evaporation source, and the like. .

実施例1 鉄、アルミニウム、ゲルマニウムの各金属を秤量し、高
周波溶解炉を用いて真空中で溶解し、鋳型に流し込んで
成形して直径105mm、厚さ4mmのスパッタリング用ターゲ
ットを作製した。
Example 1 Metals of iron, aluminum, and germanium were weighed, melted in a vacuum using a high-frequency melting furnace, poured into a mold, and molded to prepare a sputtering target having a diameter of 105 mm and a thickness of 4 mm.

このターゲットを用い、下記のスパッタ条件に従ってプ
レナーマグネトロン型スパッタリング装置によるスパッ
タリングを行った。
Using this target, sputtering was performed using a planar magnetron type sputtering device under the following sputtering conditions.

スパッタ条件 RFパワー 300W ターゲット・基板間距離 55mm 基板温度 水冷 到達真空度 3×10-6Torr ガス圧力 5×10-3Torr 膜厚 約2.8〜3.1μm 上記スパッタ条件に従い、不活性ガスとしてArガスを用
い、このArガスにN2を混入してスパッタリングを行っ
た。ここで、N2の混入量を分圧で制御し、このN2の割合
を変えながらスパッタリングを行い、結晶化ガラス基板
上にNを含むFe−Al−Ge系合金薄膜を形成した。得られ
たNを含むFe−Al−Ge系合金薄膜を550℃で1時間熱処
理した。
Sputtering conditions RF power 300W Target-substrate distance 55mm Substrate temperature Water cooling Ultimate vacuum 3 × 10 -6 Torr Gas pressure 5 × 10 -3 Torr Film thickness 2.8-3.1 μm Ar gas is used as an inert gas according to the above sputtering conditions. This Ar gas was mixed with N 2 and sputtering was performed. Here, the amount of N 2 mixed was controlled by partial pressure, and sputtering was performed while changing the ratio of N 2 to form an Fe-Al-Ge based alloy thin film containing N on the crystallized glass substrate. The obtained Fe-Al-Ge alloy thin film containing N was heat-treated at 550 ° C for 1 hour.

実施例1において、そのN2ガスの分圧を変化させた場合
の得られた膜組成と、保磁力Hcと1MHzにおける透磁率μ
1MHzと、耐蝕性を測定した結果を図面に示す。ここで
耐蝕性の測定は、測定試料を1規定のNaCl溶液中に9時
間浸漬し、表面の発錆状態を目視観察したもので、◎印
は上述のNaCl中に48時間浸漬した後でも鏡面が保たれた
もの、〇印は同条件で表面に曇りが生じ、市水中で48時
間後で鏡面であったもの、△印は市水中48時間浸漬で膜
面に曇りが生じたもの、×印は市水中48時間浸漬で膜面
に薄く赤錆が発生したものを示す。
In Example 1, the film composition obtained when the partial pressure of the N 2 gas was changed, the coercive force Hc and the magnetic permeability μ at 1 MHz
The results of measuring the corrosion resistance at 1MHz are shown in the drawing. Here, the corrosion resistance is measured by immersing the measurement sample in a 1N NaCl solution for 9 hours and visually observing the rusting state of the surface. The ◎ mark indicates a mirror surface even after being immersed in the above-mentioned NaCl for 48 hours. ◯ mark was clouded on the surface under the same conditions and was a mirror surface after 48 hours in city water, △ mark was clouded on the film surface after immersion in city water for 48 hours, × The mark indicates that a thin red rust occurred on the film surface after immersion in city water for 48 hours.

尚、比較のために同図面の表中にNを含有させないもの
についてもその測定結果を示した。
For comparison, the measurement results are also shown for those containing no N in the table of the same drawing.

各組成の測定は、Nに関してはインナートガスディフュ
ージョン(熱伝導度)法によってその測定を行ったもの
であり、他についてはEPMA(Electric Probe Micro Ana
lsis)によった。
The measurement of each composition was carried out by the Innertogas diffusion (thermal conductivity) method for N, and EPMA (Electric Probe Micro Ana) for the other.
lsis).

これらの測定結果から明らかなように、本発明によるN
含有の軟磁性薄膜はNを含有しない軟磁性薄膜に比して
保磁力Hcを高めることなく、透磁率の向上と耐蝕性の向
上がはかられている。
As is clear from these measurement results, the N
The contained soft magnetic thin film is improved in magnetic permeability and corrosion resistance without increasing the coercive force Hc as compared with the soft magnetic thin film not containing N.

以上述べたように、本発明による軟磁性薄膜において
は、その成分として窒素Nを含有していることにより、
高透磁率及び耐蝕性の向上がはかられるものであるが更
に高硬度が達成されて耐摩耗性の向上がはかれるもので
あり、このとき飽和磁束密度や保磁力等の磁気特性の劣
化も見られない。そして特に、窒素Nを含有することに
より比抵抗が増加し、高周波領域での渦電流損失が小さ
くなることから透磁率の周波数特性が向上して10MHz以
上の高周波数領域で使用される磁気ヘッド等に対して極
めて有用となる。
As described above, since the soft magnetic thin film according to the present invention contains nitrogen N as a component thereof,
Although high permeability and corrosion resistance can be achieved, even higher hardness can be achieved and wear resistance can be improved.At this time, deterioration of magnetic properties such as saturation magnetic flux density and coercive force is also observed. I can't. Particularly, by containing nitrogen N, the specific resistance increases, and the eddy current loss in the high frequency region decreases, so that the frequency characteristic of the magnetic permeability is improved and the magnetic head used in the high frequency region of 10 MHz or more, etc. Will be extremely useful for

尚、この磁性薄膜中における窒素Nの果たす役割につい
ては、その詳細は不明であるが、硬度が著しく向上する
ことからFeの窒化物等の高硬度粒子の生成等も予想され
る。
Although the details of the role played by nitrogen N in this magnetic thin film are unknown, it is expected that high hardness particles such as Fe nitrides will be generated since the hardness is remarkably improved.

また、上述の本発明による軟磁性薄膜において、更に耐
蝕性や耐摩耗性そのほか各種特性を改善するために各種
元素を添加剤として加えてもよい。この添加剤として使
用される元素としては、Ti,Zr,Hf等のIVa族元素、V,Nb,
Ta等のVa族元素、Cr,Mo,W等のVIa族元素、Mn等のVIIa族
元素、さらに白金族元素として第5周期の白金族元素、
すなわちRh,Rd、第6周期の白金族元素、すなわちOs,I
r,Pt等を挙げることができるものであり、これら添加剤
の1種または2種以上を組み合わせて、上記磁性薄膜に
対して0〜10原子%の範囲で添加し得る。
Further, in the above-mentioned soft magnetic thin film according to the present invention, various elements may be added as an additive in order to further improve various properties such as corrosion resistance and abrasion resistance. As the element used as this additive, Ti, Zr, IVa group elements such as Hf, V, Nb,
Va group element such as Ta, VIa group element such as Cr, Mo, W, VIIa group element such as Mn, and platinum group element of the fifth period as a platinum group element,
That is, Rh, Rd, platinum group element of the 6th period, that is, Os, I
r, Pt, etc. may be mentioned, and one or more of these additives may be combined and added in the range of 0 to 10 atomic% with respect to the magnetic thin film.

また、或る場合は、窒素Nと共に酸素を含有させること
もできる。
Further, in some cases, oxygen can be contained together with nitrogen N.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述したように本発明による軟磁性薄膜によれば、飽和
磁束密度の低下や、保磁力を高めることなく、高透磁率
を有し、耐蝕性にすぐれ、高硬度の耐摩耗性にすぐれ、
更にアモルファス磁性薄膜におけるような熱的に不安定
性のない耐熱性にすぐれた軟磁性薄膜を得ることができ
るので、例えば高密度記録用の薄膜磁気ヘッドの薄膜磁
気コアとして用いて、その利益は極めて大である。
As described above, according to the soft magnetic thin film of the present invention, the saturation magnetic flux density is reduced and without increasing the coercive force, it has a high magnetic permeability, excellent corrosion resistance, and excellent wear resistance of high hardness,
Furthermore, since it is possible to obtain a soft magnetic thin film having excellent heat resistance without thermal instability as in an amorphous magnetic thin film, it can be used as a thin film magnetic core of a thin film magnetic head for high density recording, and its profit is extremely high. Is large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図は軟磁性薄膜の組成と各特性の測定結果を示す表図で
ある。
The figure is a table showing the composition of the soft magnetic thin film and the measurement results of each characteristic.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 落合 祥隆 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 松田 秀樹 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 岩崎 洋 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 阿蘇 興一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−27941(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshitaka Ochiai 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Hideki Matsuda 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Hiroshi Iwasaki 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Koichi Aso 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni -Incorporated (56) Reference JP-A-58-27941 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Fea Alb Gec Nx(但し、a,b,c及びxは、
夫々の組成比を原子%として表す)なる組成式で示さ
れ、各組成範囲が、 55a84 1b31 1c31 0.1x30 であり、且つ、a+b+c+x=100としたことを特徴
とする軟磁性薄膜。
1. Fea Alb Gec Nx (where a, b, c and x are
The soft magnetic thin film is characterized in that each composition range is 55a84 1b31 1c31 0.1x30, and a + b + c + x = 100.
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