JPH0739726A - Apparatus for concentration and separation of solution - Google Patents

Apparatus for concentration and separation of solution

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JPH0739726A
JPH0739726A JP20892093A JP20892093A JPH0739726A JP H0739726 A JPH0739726 A JP H0739726A JP 20892093 A JP20892093 A JP 20892093A JP 20892093 A JP20892093 A JP 20892093A JP H0739726 A JPH0739726 A JP H0739726A
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Japan
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solution
membrane
processing container
distillation
distillation membrane
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JP20892093A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Masuda
等 増田
Takahito Goshi
▲たか▼仁 五師
Naoki Kondo
直樹 近藤
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Okawara Mfg Co Ltd
Original Assignee
Okawara Mfg Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/15Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces
    • B01D33/21Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces with hollow filtering discs transversely mounted on a hollow rotary shaft

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Abstract

PURPOSE:To decrease temp. polarization which means local decrease in temp. of a distillation membrane or a soln. in the neighborhood of the distillation membrane as small as possible and to avoid decrease in concn. and separation functionality in taking the local temp. polarization and local inhibiting of vaporization into consideration. CONSTITUTION:A rotor 40 wherein a vaporization space with reduced pressure is provided is arranged in a treating container 20 wherein a soln. is stored and on the other hand, the vaporization space communicates with a condenser 70 arranged out of the treating container 20 through a recovery path 14 and the vaporization space is faced to the soln. in the treating container 20 through a distillation membrane fitted on the rotor 40 and the vaporization membrane is moved relatively to the soln. by rotating the rotator in the treating container 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、膜蒸留法のうち、特に
減圧法を用いて原液である溶液を蒸発させて濃縮する濃
縮・分離装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a concentrating / separating device for evaporating and concentrating a solution which is a stock solution using a reduced pressure method among membrane distillation methods.

【0002】[0002]

【従来の技術】膜蒸留法は、疎水性多孔質膜や浸透気化
膜(以下「蒸留膜」という。)等を用いて、気相状態で
ある蒸気は透過するが液相状態のものは透過しないとい
う蒸留膜の特性を利用して、濃縮・分離する方法であ
る。減圧法は膜蒸留法の1つで、蒸モジュール外で透過
した蒸気をコンデンサ等で凝結させる方法である。
2. Description of the Related Art The membrane distillation method uses a hydrophobic porous membrane, a pervaporation membrane (hereinafter referred to as "distillation membrane") or the like to permeate vapor in vapor phase but permeate in liquid phase. This is a method of concentrating and separating by utilizing the characteristic of the distillation membrane that it does not. The depressurization method is one of membrane distillation methods, and is a method of condensing vapor permeated outside the vaporization module with a condenser or the like.

【0003】減圧法を用いた装置の構造および原理は概
ね以下の如くである。まず、その構造についていうと、
溶液を処理する容器、すなわち処理容器内を蒸留膜で2
室に区画し、一方の部屋には濃縮・分離すべく溶液を入
れ、他方の部屋には溶液を入れずに気相状態を保持し、
その上減圧しておく。蒸留膜には、先に説明した様に液
相状態では透過させないが、気相状態では透過させ得る
という特性があり、この特性から、液相状態では溶液は
この蒸留膜を透過することができない。一方、蒸留膜近
傍では、他方の部屋が減圧されていることと相まって溶
液中の溶媒分が蒸留膜近傍で周囲の熱を奪って蒸発する
現象が生ずる。従って、溶媒分は気相状態となり蒸留膜
を透過することが可能となり、よって、蒸留膜を透過す
る。透過した溶媒分は更に下流のコンデンサに導かれ、
ここで冷却されて凝結し、再び液相状態に戻される。以
上の過程を経て、溶液は、一方の部屋で濃縮され、他方
の部屋およびコンデンサで分離・回収される。
The structure and principle of the apparatus using the depressurization method are generally as follows. First, regarding the structure,
A vessel for processing the solution, that is, a distillation membrane in the processing vessel 2
It is divided into chambers, one room is filled with a solution for concentration and separation, and the other room is kept in a vapor phase state without a solution.
Then decompress. As described above, the distillation membrane has a characteristic that it does not permeate in the liquid phase state, but it can permeate in the gas phase state. From this characteristic, the solution cannot permeate this distillation membrane in the liquid phase state. . On the other hand, in the vicinity of the distillation membrane, a phenomenon occurs in which the solvent content in the solution absorbs heat from the surroundings and evaporates in the vicinity of the distillation membrane due to the decompression of the other chamber. Therefore, the solvent component becomes in a gas phase and can pass through the distillation membrane, and thus passes through the distillation membrane. The permeated solvent is led to the condenser further downstream,
Here, it is cooled, condensed, and returned to the liquid state again. Through the above process, the solution is concentrated in one room and separated / collected in the other room and the condenser.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記装
置では、溶媒分が蒸発する際、周囲から多くの蒸発潜熱
を奪って蒸発することから、蒸留膜あるいは蒸留膜近傍
の溶液を局部的に温度低下(以下「温度分極」とい
う。)させてしまう。このため、その近傍では更なる蒸
発が局部的に阻害され、その結果、全体としての濃縮・
分離機能が低下してしまうという弱点がある。
However, in the above apparatus, when the solvent component evaporates, a large amount of latent heat of vaporization is taken from the surroundings to evaporate, so that the temperature of the distillation membrane or the solution near the distillation membrane is locally lowered. (Hereinafter referred to as "temperature polarization"). For this reason, further evaporation is locally hindered in the vicinity, and as a result, the overall concentration and
There is a weak point that the separation function deteriorates.

【0005】本発明は、蒸発により急激な温度低下が局
部的に起こることに鑑みなされたもので、その目的は、
温度分極を極力緩和し、濃縮・分離機能の低下を防止す
ることにある。
The present invention has been made in view of the fact that a rapid temperature drop locally occurs due to evaporation.
The purpose is to alleviate temperature polarization as much as possible and prevent deterioration of the concentration / separation function.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成すべ
く、請求項1記載の溶液の濃縮・分離装置は、減圧され
た蒸発空間を内部に備えた回転体を、溶液が収容された
処理容器内に配置する一方、前記蒸発空間と処理容器外
に配置したコンデンサとを回収通路により連通し、回転
体に取り付けた蒸留膜を介して、蒸発空間を処理容器内
の溶液に臨ませ、回転体が処理容器内で回転することに
より、蒸留膜を溶液に対し相対移動させたことを特徴と
する。
In order to achieve the above object, a solution concentrating / separating apparatus according to a first aspect of the present invention is a processing container in which a solution is contained in a rotating body having a depressurized evaporation space therein. On the other hand, the evaporation space and the condenser arranged outside the processing container are connected to each other through a recovery passage, and the evaporation space is exposed to the solution in the processing container through a distillation membrane attached to the rotation member. Is rotated in the processing container to move the distillation membrane relative to the solution.

【0007】[0007]

【作用】蒸留膜近傍では溶液中の溶媒分が蒸発し、蒸留
膜近傍の溶液や蒸留膜から気化熱が奪われる。このた
め、この蒸発現象が生じた部分と、生じてない部分とで
は温度差が生ずる。すなわち温度分極が生ずるのであ
る。しかしながら、蒸留膜が回転体と共に回転している
ので、蒸留膜近傍の溶液に対し蒸留膜が円周方向に相対
移動し、この相対移動により蒸留膜近傍の溶液がこの蒸
留膜によって撹拌され、温度分極が緩和される。
In the vicinity of the distillation membrane, the solvent in the solution evaporates, and the heat of vaporization is taken from the solution and the distillation membrane near the distillation membrane. Therefore, there is a temperature difference between the part where this evaporation phenomenon occurs and the part where it does not occur. That is, temperature polarization occurs. However, since the distillation membrane rotates together with the rotating body, the distillation membrane moves in the circumferential direction relative to the solution near the distillation membrane, and the relative movement causes the solution near the distillation membrane to be stirred by the distillation membrane, The polarization is relaxed.

【0008】[0008]

【実施例】図1乃至図5は、本発明の第1実施例に係る
濃縮・分離装置を示し、この実施例は、後述するように
回転軸が垂直に配置された所謂縦型のものである。図1
乃至図5を参照して第1実施例を以下説明する。
1 to 5 show a concentrating / separating apparatus according to a first embodiment of the present invention, which is a so-called vertical type in which a rotary shaft is vertically arranged as described later. is there. Figure 1
The first embodiment will be described below with reference to FIGS.

【0009】10は溶液タンク、20は密閉された円筒
状の処理容器、40は回転体、70はコンデンサ、80
は真空ポンプである。溶液タンク10と処理容器20と
は溶液供給通路12を介し常時連通され、また、処理容
器20とコンデンサ70とは回収通路14を介し常時連
通されている。そして、溶液タンク10内には、濃縮・
分離すべく溶液が充填されており、その自重で溶液供給
通路12を介して処理容器20内へ供給充填され、以て
処理容器20内は溶液で常時満たされる。一方、コンデ
ンサ70は真空ポンプ80により吸引され、溶液の状態
等に応じて10〜350Torr(1.3〜46.7k
Pa)に減圧される。なお、本実施例では約60Tor
r(8.0kPa)に減圧保持されている。この吸引に
より、回収通路14を介して、蒸発空間たる後述する円
周溝51a、半径溝51b内も減圧下としている。な
お、74は排出バルブで、コンデンサ70内で回収され
た液体を外部に排出する際に開放するためのバルブであ
る。また、26も排出バルブで、後述する原理で濃縮し
た後、その溶液を外部に排出する時に開放するためのバ
ルブである。
Reference numeral 10 is a solution tank, 20 is a closed cylindrical processing container, 40 is a rotating body, 70 is a condenser, and 80.
Is a vacuum pump. The solution tank 10 and the processing container 20 are in constant communication with each other via the solution supply passage 12, and the processing container 20 and the condenser 70 are in constant communication with each other via the recovery passage 14. Then, in the solution tank 10,
The solution is filled to be separated, and its own weight is used to supply and fill the processing container 20 through the solution supply passage 12, so that the processing container 20 is constantly filled with the solution. On the other hand, the condenser 70 is sucked by the vacuum pump 80, and 10 to 350 Torr (1.3 to 46.7 k) depending on the state of the solution and the like.
The pressure is reduced to Pa). In this embodiment, about 60 Tor
The pressure is held at r (8.0 kPa). By this suction, the inside of the circumferential groove 51a and the radial groove 51b, which will be described later, which are evaporation spaces, are also under reduced pressure via the recovery passageway 14. A drain valve 74 is a valve that opens when the liquid collected in the condenser 70 is discharged to the outside. Further, 26 is also a discharge valve, which is a valve for opening the solution when it is discharged to the outside after being concentrated by the principle described later.

【0010】回転体40は、図1および図2で示すよう
に、中心が垂直にのびた回転軸42と、この回転軸42
に嵌合し、複数のスペーサ44により所定の間隔に保持
された複数(本実施例では4枚)の平膜板50とを備え
ている。そして、回転体40が処理容器20内に配置さ
れ、その回転軸42が処理容器20の上面中央の開口か
ら上方外部に突出している。回転軸42は、軸方向移動
不能かつ回転自在に不図示の軸受けを介して処理容器2
0に軸支されている。なお、4枚の平膜板50は固定ボ
ルト48を締付ることに、回転軸42の鍔部と、4個の
スペーサ44間にそれぞれ挟持されて回転軸42に固定
される(図2参照)。処理容器20は回転軸42が外部
に突出する部分にオイルシール等を備え、これにより液
密密封としている。よって、処理容器20内は、回転軸
42内に形成された回収通路14a、取入口22および
排出口24を除き密封状態となっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the rotary body 40 includes a rotary shaft 42 whose center extends vertically and a rotary shaft 42.
And a plurality of flat membrane plates 50 (four sheets in this embodiment) which are fitted to each other and are held at predetermined intervals by a plurality of spacers 44. The rotating body 40 is disposed inside the processing container 20, and the rotating shaft 42 thereof projects upward from the opening at the center of the upper surface of the processing container 20 to the outside. The rotary shaft 42 is immovable in the axial direction and rotatably rotatably through a bearing (not shown).
It is pivoted at 0. The four flat film plates 50 are fixed to the rotary shaft 42 by being clamped between the flange portion of the rotary shaft 42 and the four spacers 44 by tightening the fixing bolts 48 (see FIG. 2). ). The processing container 20 is provided with an oil seal or the like at a portion where the rotary shaft 42 projects to the outside, thereby making a liquid-tight seal. Therefore, the inside of the processing container 20 is in a hermetically sealed state except for the recovery passage 14a, the intake port 22 and the discharge port 24 which are formed in the rotary shaft 42.

【0011】処理容器20を構成する上面壁には4本の
スタッドボルト32が上端から垂直に植設され、このス
タッドボルト32に略同一長さのカラー34がそれぞれ
3個嵌挿され、これらカラー34の間に円環状の3枚の
バッフルプレート30をそれぞれ挟持して、下端の止め
ナット36を締付ることによりこれらを固定している。
3枚のパッフルプレート30はそれぞれ同一間隔を保持
して平膜板50と平膜板50の丁度中間に配置されてい
る(図2および図3参照)。
Four stud bolts 32 are vertically planted from the upper end on the upper wall of the processing container 20, and three collars 34 of substantially the same length are fitted into the stud bolts 32, respectively. Three baffle plates 30 each having an annular shape are sandwiched between 34, and a lock nut 36 at the lower end is tightened to fix them.
The three puffer plates 30 are arranged at the same intervals, and are arranged just in the middle of the flat film plate 50 and the flat film plate 50 (see FIGS. 2 and 3).

【0012】また、処理容器20内には、円管状の加熱
コイル38が螺旋状に回転体40およびバッフルプレー
ト30の周囲を囲む如く配置され、その端部38a、3
8bが処理容器20の右側(図3における)壁面から外
部に導出されている。加熱コイル38内には熱媒体(例
えば蒸気)が通っており、端部38aから入り処理容器
20内を螺旋状に循環し、端部38bから外部に排出さ
れる。その間、処理容器20内の溶液を加温し、もって
蒸発潜熱が奪われることによる降温を防止している。な
お、処理容器20の側面壁内面には、垂直な面を有する
4個の邪魔板28が処理容器20から一体的に立設され
ている(図2、図3参照)。
In addition, a circular tubular heating coil 38 is arranged in the processing container 20 so as to surround the rotating body 40 and the baffle plate 30 in a spiral shape, and end portions 38a, 3 thereof are provided.
8b is led out from the right (in FIG. 3) wall surface of the processing container 20. A heat medium (for example, steam) passes through the heating coil 38, enters from the end portion 38a, circulates spirally inside the processing container 20, and is discharged to the outside from the end portion 38b. During that time, the solution in the processing container 20 is heated to prevent the temperature from being lowered by removing the latent heat of vaporization. In addition, four baffle plates 28 having vertical surfaces are integrally erected from the processing container 20 on the inner surface of the side wall of the processing container 20 (see FIGS. 2 and 3).

【0013】回転軸42は処理容器20の外側の位置に
プーリ84を備え、駆動モータ82からその回転駆動力
をベルト等を介してプーリ84で受けて回転駆動され
る。回転軸42の上端にはロータリジョイント86が接
続され、このロータリジョイント86を介して回転軸4
2内に形成される回転側の回収通路14aと非回転側の
回収通路14bとが接続される。
The rotating shaft 42 is provided with a pulley 84 at a position outside the processing container 20, and is rotationally driven by the pulley 84 receiving a rotational driving force from a drive motor 82 via a belt or the like. A rotary joint 86 is connected to the upper end of the rotary shaft 42, and the rotary shaft 4 is connected via the rotary joint 86.
The recovery passage 14a on the rotating side and the recovery passage 14b on the non-rotating side formed in the inside 2 are connected.

【0014】次に、平膜板50の構造を図2、図4およ
び図5を用いて説明する。支持基板51、蒸留膜52、
ネット53からなる平膜板50が円盤状をしており、そ
の中心に回転軸42の外周に嵌合すべく中心穴51eを
備えている。平膜板50の上下に位置する両側面には、
同心円状の複数(本実施例は5個)の円周溝51aと、
中心から半径方向にのびる複数(本実施例は18個)の
半径溝51bと、中心に近い環状の合流溝51cとが、
略同一深さで形成され、これら円周溝51aと半径溝5
1bとが、また半径溝51bと合流溝51cとが互いに
交差し、それらの交差箇所でそれぞれ連通している(図
5参照)。これら円周溝51aと半径溝51bが本発明
の蒸発空間を構成する。なお、51dはキー溝で、不図
示のキーを嵌合させることにより、平膜板50と回転軸
42とを所定角度で回転不能に固定する。
Next, the structure of the flat film plate 50 will be described with reference to FIGS. 2, 4 and 5. Support substrate 51, distillation film 52,
The flat film plate 50 composed of the net 53 has a disk shape, and has a center hole 51e at the center thereof so as to be fitted to the outer periphery of the rotary shaft 42. On both side surfaces located above and below the flat film plate 50,
A plurality of concentric circular grooves (five in this embodiment) 51a,
A plurality of (18 in this embodiment) radial grooves 51b extending in the radial direction from the center and an annular confluent groove 51c close to the center are formed.
The circumferential groove 51a and the radial groove 5 are formed to have substantially the same depth.
1b and the radial groove 51b and the merging groove 51c intersect with each other and communicate with each other at their intersections (see FIG. 5). The circumferential groove 51a and the radial groove 51b form the evaporation space of the present invention. Reference numeral 51d denotes a key groove, which is fixed to the flat film plate 50 and the rotary shaft 42 so as not to rotate at a predetermined angle by fitting a key (not shown).

【0015】支持基板51の両側面には円盤状のネット
53および蒸留膜52が、円周溝51aおよび半径溝5
1bを覆う様に配置され、その最外径が全周で支持基板
51に溶着されている。これにより、ネット53および
蒸留膜52の最外径端部において溶液が蒸発空間へリー
クするのを阻止している。他方、ネット53および蒸留
膜52は、その中心部では支持基板51に溶着されてお
らないものの、それに代え平膜板50を回転軸42に嵌
挿し、スペーサ44を交互に組み立てた状態でスペーサ
44の側面に取り付けたOリング46でネット53およ
び蒸留膜52を押しつけることによりリークするのを阻
止している。よって回転体40が組み立てられ固定ボル
ト48により締付固定された状態下では、処理容器20
内の溶液は蒸留膜52およびネットを介してのみ円周溝
51aおよび半径溝51bと、連通され、これらを介さ
ず連通(リーク)することはない。なお、ネット53
は、ここでは回収通路14側が減圧されたとき蒸留膜5
2が円周溝51aや半径溝51b内へ陥没しない様に原
形を保持するための蒸留膜支持部材として機能するもの
であるが、ネットに代え不織布などを用いてもよい。な
お、蒸留膜52自身が原形保持するに十分な剛性を有す
る場合には、ネット53は設けなくてもよい。
A disk-shaped net 53 and a distillation film 52 are provided on both sides of the support substrate 51, and a circumferential groove 51a and a radial groove 5 are provided.
It is arranged so as to cover 1b, and its outermost diameter is welded to the supporting substrate 51 over the entire circumference. This prevents the solution from leaking to the evaporation space at the outermost diameter end portions of the net 53 and the distillation film 52. On the other hand, although the net 53 and the distillation film 52 are not welded to the support substrate 51 at the central portions thereof, the flat film plate 50 is instead inserted into the rotating shaft 42, and the spacers 44 are alternately assembled in the spacer 44. The leakage is prevented by pressing the net 53 and the distillation film 52 with the O-ring 46 attached to the side surface of the. Therefore, when the rotating body 40 is assembled and fixed by the fixing bolts 48, the processing container 20
The solution inside is communicated with the circumferential groove 51a and the radial groove 51b only through the distillation membrane 52 and the net, and does not communicate (leak) without passing through them. In addition, the net 53
Here, when the pressure on the recovery passage 14 side is reduced, the distillation membrane 5
2 functions as a distillation membrane supporting member for holding the original shape so as not to sink into the circumferential groove 51a or the radial groove 51b, but a nonwoven fabric or the like may be used instead of the net. If the distillation membrane 52 itself has sufficient rigidity to maintain the original shape, the net 53 may not be provided.

【0016】本実施例では、蒸留膜52として、直径3
00mm、膜厚40μm、有効膜表面積0.1m2 、気
孔径0.1μm、気孔率70%のポリテトラフルオロエ
チレンからなる疎水性多孔質膜を用いた。なお、蒸留膜
52としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリプロピレン
或いはポリエチレン等の疎水性多孔質膜を用いてもよ
い。更には、浸透気化膜と称されるものを用いてもよ
い。なお、浸透気化膜としては、ナフィオン膜系のイオ
ン交換膜、シリコンポリマーなどの薄膜や、精密濾過膜
或いは限外濾過膜として用いられるポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォ
ン、ポリ沸化ビニリデン等の緻密な基膜の上に、ポリビ
ニルアルコール、キトサン、アセチルセルロース、ポリ
イオンコンプレックス、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
アクリロニトリル等からなる薄膜を形成してなる複合膜
が考え得る。なお、浸透気化膜は疎水性多孔質膜とは透
過原理の点で若干異なるが、液相成分の透過を阻止し気
相成分の透過を可能とする点では同一であるので、その
原理の詳細な説明は省略する。
In this embodiment, the distillation membrane 52 has a diameter of 3 mm.
A hydrophobic porous membrane made of polytetrafluoroethylene having a thickness of 00 mm, a film thickness of 40 μm, an effective membrane surface area of 0.1 m 2 , a pore diameter of 0.1 μm and a porosity of 70% was used. As the distillation membrane 52, a hydrophobic porous membrane such as polyvinylidene fluoride, polypropylene or polyethylene may be used. Furthermore, you may use what is called a pervaporation membrane. As the pervaporation membrane, a Nafion membrane-based ion exchange membrane, a thin film such as a silicone polymer, or polyethylene, polypropylene, polysulfone, polyether sulfone, polyvinylidene fluoride used as a microfiltration membrane or ultrafiltration membrane, etc. A composite film in which a thin film made of polyvinyl alcohol, chitosan, acetyl cellulose, polyion complex, polyimide, polyamide, polyacrylonitrile or the like is formed on the dense base film of is conceivable. Although the pervaporation membrane is slightly different from the hydrophobic porous membrane in the principle of permeation, it is the same in that the permeation of the liquid phase component is blocked and the permeation of the gas phase component is possible, and therefore the details of the principle are described. Detailed description is omitted.

【0017】溶液は蒸留膜52の内外に生ずる差圧によ
り、回収通路14側へ侵入しようとするものの、蒸留膜
52の作用により液相状態での侵入が阻止される。すな
わち、例えば蒸留膜52が疎水性多孔質膜の場合にあっ
ては蒸留膜52内に厚さ方向に形成された多数の小さな
透孔が存在し、そこから溶液が液相状態で侵入しようと
するものの、溶液の表面張力が侵入を阻止する方向に作
用し、この力が上記差圧に打ち勝つ結果、上記侵入が阻
止される。
Although the solution tries to enter the recovery passage 14 side due to the differential pressure generated inside and outside the distillation membrane 52, the action of the distillation membrane 52 prevents the entry in the liquid phase state. That is, for example, in the case where the distillation membrane 52 is a hydrophobic porous membrane, a large number of small through holes formed in the thickness direction exist in the distillation membrane 52, from which the solution tries to enter in a liquid phase state. However, the surface tension of the solution acts in the direction of blocking the invasion, and this force overcomes the differential pressure, and as a result, the invasion is blocked.

【0018】他方、蒸留膜52の回収通路14側、即ち
蒸発空間は減圧された気相状態下にあるので、溶液中の
溶媒分は、その近傍の溶液や蒸留膜52から蒸発潜熱を
奪って蒸発する。蒸気は気相状態であるので最早や表面
張力が無視し得る値となっているので、上記圧力勾配の
方向に、蒸発した成分が、前記透孔を通過することとな
る。しかして、溶液中の溶媒分が蒸気となって、円周溝
51a又は半径溝51b内に入り、半径溝51bを通っ
て合流溝51c内に至り、順次回転軸42内の回収通路
14a、ロータリジョイント86、回収通路14bを経
てコンデンサ70へ導かれる。コンデンサ70内には冷
媒が通過するコイルが設置され、そこでコンデンサ70
内に入った蒸気は冷却されて凝結し、気相状態から液相
状態となる。これがコンデンサ70の底部に溜まる。な
お、蒸気として排出して減少した溶液分は溶液タンク1
0から補充される。しかして、処理容器20内では溶液
が順次濃縮され、他方コンデンサ70内では溶液中の溶
媒分が液相状態となり分離・回収される。
On the other hand, since the distillation passage 52 side of the distillation membrane 52, that is, the evaporation space is in a decompressed vapor phase state, the solvent content in the solution removes latent heat of vaporization from the solution and the distillation membrane 52 in the vicinity thereof. Evaporate. Since the vapor is in a vapor phase state, the surface tension is now at a negligible value, so that the vaporized component passes through the through hole in the direction of the pressure gradient. Then, the solvent component in the solution becomes vapor, enters the circumferential groove 51a or the radial groove 51b, and passes through the radial groove 51b to reach the confluent groove 51c. It is guided to the condenser 70 through the joint 86 and the recovery passage 14b. A coil through which the refrigerant passes is installed in the condenser 70, and the condenser 70 is installed there.
The steam that has entered the inside is cooled and condensed, and changes from the gas phase state to the liquid phase state. This collects at the bottom of the condenser 70. In addition, the amount of the solution that has been discharged as vapor and decreased is the solution tank 1
It is replenished from 0. Thus, the solution is sequentially concentrated in the processing container 20, while the solvent component in the solution is in a liquid phase state in the condenser 70 to be separated and collected.

【0019】ところで、蒸発潜熱は非常に大きいことか
ら、蒸留膜52近傍で生ずる蒸発によって、蒸留膜52
或いは溶液が局所的に著しく温度低下する。他方、この
現象が生じていないところでは、温度低下は殆どない。
このため、生じたところと生じてないところでは、温度
が著しく異なる。すなわち温度分極が生ずる。しかし、
本実施例では、平膜板50が溶液内で回転しているの
で、溶液と蒸留膜52との間に回転軸42の円周方向に
相対的な流れを生じ、これにより溶液が撹拌され、温度
分極が緩和される。よって、蒸留膜52近傍の温度が均
一化し、上記蒸発機能の低下が抑制される。
By the way, since the latent heat of vaporization is very large, the vaporization near the distillation membrane 52 causes the vaporization of the distillation membrane 52.
Alternatively, the temperature of the solution locally drops significantly. On the other hand, there is almost no decrease in temperature where this phenomenon does not occur.
For this reason, the temperature is remarkably different between the place where it is generated and the place where it is not generated. That is, temperature polarization occurs. But,
In this embodiment, since the flat plate 50 is rotating in the solution, a relative flow is generated between the solution and the distillation film 52 in the circumferential direction of the rotating shaft 42, whereby the solution is stirred, Temperature polarization is relaxed. Therefore, the temperature in the vicinity of the distillation film 52 is made uniform, and the deterioration of the evaporation function is suppressed.

【0020】なお、処理容器20内には加熱コイル38
が設置され、この加熱コイル38により溶液が加熱さ
れ、上記蒸発により失われる蒸発潜熱を補う様にしてい
るので、溶液全体の温度が降下せず略一定に保持され
る。
A heating coil 38 is provided in the processing container 20.
Is installed and the solution is heated by the heating coil 38 to compensate for the latent heat of vaporization lost by the vaporization, so that the temperature of the entire solution does not drop and is kept substantially constant.

【0021】また、回転体40が処理容器20内で回転
することにより、溶液が回転体40特に平膜板50と連
れ回ろうとするものの、静止したバッフルプレート30
が平膜板50と平膜板50との間に介在しているので、
このバッフルプレート30がこの溶液の連れ回りを抑制
する。また、邪魔板28も同様な機能を発揮する。これ
らにより、溶液は平膜板50に対し速度勾配を保持出来
る。
Further, when the rotating body 40 rotates in the processing container 20, the solution tends to rotate together with the rotating body 40, particularly the flat membrane plate 50, but the stationary baffle plate 30.
Is interposed between the flat plate 50 and the flat plate 50,
The baffle plate 30 suppresses the accompanying rotation of the solution. The baffle plate 28 also has the same function. By these, the solution can maintain the velocity gradient with respect to the flat membrane plate 50.

【0022】ところで、蒸留膜として、直径300m
m、有効膜表面積0.1m2 のポリテトラフルオロエチ
レン製疎水性多孔質膜(気孔率70%、気孔直径0.1
μm)を用い、溶液62℃、減圧60Torr(8.0
kPa)で蒸発量を計測したところ、回転体40が、0
RPM時(非回転時)には0.3kg/hであったが、
90RPM時には2.5kg/hとの好データを得た。
従って、回転体の回転の有無により、蒸発量が約8倍増
加することが確認出来た。
By the way, the diameter of the distillation membrane is 300 m.
m, effective membrane surface area 0.1 m 2 polytetrafluoroethylene hydrophobic porous membrane (porosity 70%, pore diameter 0.1
μm), solution 62 ° C., reduced pressure 60 Torr (8.0
When the evaporation amount is measured in kPa), the rotary body 40 shows 0
It was 0.3 kg / h at RPM (non-rotation),
Good data of 2.5 kg / h was obtained at 90 RPM.
Therefore, it was confirmed that the evaporation amount increased about 8 times depending on the presence or absence of rotation of the rotating body.

【0023】次に、図6を用いて本発明の第2実施例を
説明する。図6から分かる様に、第2実施例は回転軸が
所謂横置きタイプのものである。なお、本実施例は基本
的構造および作用が先に説明した第1実施例と略同一で
あるため、同一の部分については、第1実施例の参照番
号に100を加えた参照番号を付すことにより、その説
明を省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As can be seen from FIG. 6, the rotating shaft of the second embodiment is of the so-called horizontal type. Since the basic structure and operation of this embodiment are substantially the same as those of the first embodiment described above, the same parts are designated by the reference numerals obtained by adding 100 to the reference numerals of the first embodiment. Therefore, the description thereof will be omitted.

【0024】処理容器120は、第1実施例と同様に円
筒状に形成されているが、その中心が略水平に配置さ
れ、また、回転軸142も略水平に配置されている点で
異なる。複数(本実施例では4枚)の平膜板150は回
転軸142と直交配置され、こスペーサ144を介して
固定ボルトで締付固定される。
The processing container 120 is formed in a cylindrical shape as in the first embodiment, but is different in that the center thereof is arranged substantially horizontally and the rotary shaft 142 is also arranged substantially horizontally. A plurality of (four in this embodiment) flat film plates 150 are arranged orthogonal to the rotary shaft 142, and are fixed by fixing bolts through the spacers 144.

【0025】また、蒸留膜152は平膜板150と平行
に設置され、円盤状のネット153と共に、蒸発空間を
形成する円周溝151aおよび半径溝151bを覆う様
に配置されている。
Further, the distillation membrane 152 is installed in parallel with the flat membrane plate 150, and is arranged so as to cover the disk-shaped net 153 and the circumferential groove 151a and the radial groove 151b forming the evaporation space.

【0026】コンデンサ170が真空ポンプ180で吸
引されると、蒸発空間たる円周溝151aおよび半径溝
151b側も負圧となる。溶液は蒸留膜152近傍で蒸
発して蒸留膜152を透過して円周溝151aおよび半
径溝151bに入り、回収通路114a、ロータリジョ
イント186および回収通路114bを通ってコンデン
サ170内で熱交換して液化し、回収される。
When the condenser 170 is sucked by the vacuum pump 180, a negative pressure is also applied to the circumferential groove 151a and the radial groove 151b which are evaporation spaces. The solution evaporates in the vicinity of the distillation film 152, passes through the distillation film 152, enters the circumferential groove 151a and the radial groove 151b, and exchanges heat in the condenser 170 through the recovery passage 114a, the rotary joint 186, and the recovery passage 114b. It is liquefied and collected.

【0027】蒸留膜152が回転軸142を中心に回転
しているので、第1実施例と同様に、蒸留膜152が蒸
留膜152近傍の溶液に対し周方向に相対移動し、溶液
を撹拌する。よって、第1実施例と同様に温度分極が軽
減される。更に、第2実施例では次の作用が加わる。す
なわち、蒸留膜152近傍で濃縮され、晶析した溶質分
が降下する。蒸留膜152がここでは垂直に配置されて
いるので、降下した溶質分は蒸留膜に阻害されることな
く処理容器の底部に到達し沈殿する。蒸留膜近傍では、
溶質分に替わって濃縮前の溶液が導入され、新たな蒸発
現象に備える。しかして、蒸留膜近傍での濃縮・分離機
能が保持される。なお、他の作用は第1実施例と同様で
あるので、ここではその説明を省略する。
Since the distillation film 152 is rotating around the rotary shaft 142, the distillation film 152 moves in the circumferential direction relative to the solution in the vicinity of the distillation film 152 and stirs the solution, as in the first embodiment. . Therefore, temperature polarization is reduced as in the first embodiment. Further, the following effects are added in the second embodiment. That is, the solute that is concentrated and crystallized in the vicinity of the distillation membrane 152 falls. Since the distillation membrane 152 is arranged vertically here, the solute that has fallen reaches the bottom of the processing container without being hindered by the distillation membrane and is deposited. In the vicinity of the distillation membrane,
The solution before concentration is introduced in place of the solute to prepare for a new evaporation phenomenon. Therefore, the concentration / separation function in the vicinity of the distillation membrane is maintained. Since the other actions are similar to those of the first embodiment, the description thereof will be omitted here.

【0028】次に、図7を用いて本発明の第3実施例を
説明する。なお、本実施例も基本的構造および作用が先
に説明した第1実施例と略同一であるため、同一の部分
については、第1実施例の参照番号に200を加えた参
照番号を付すことにより、その説明を省略する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Since the basic structure and operation of this embodiment are substantially the same as those of the first embodiment described above, the same parts are designated by the reference numerals obtained by adding 200 to the reference numerals of the first embodiment. Therefore, the description thereof will be omitted.

【0029】図7から分かる様に、第3実施例は第2実
施例と同様、回転軸242が所謂横置きタイプのもの
で、他も略同一の構成である。異なる主な点は、処理容
器220内に加熱コイルを備えておらず、それに代え、
加熱のための熱交換器239を備えている。そして、溶
液供給ポンプ211が駆動すると、溶液タンク210か
ら溶液が溶液供給通路212を通って処理容器220に
供給され、処理容器220内の過剰な溶液が溶液循環通
路213を通って溶液タンク210に戻される。所謂強
制循環方式である。溶液が溶液供給通路212を通る
際、その間にある熱交換器239を介して通るので、こ
こで溶液が加熱される。この際の温度上昇量は、処理容
器220内の蒸留膜252近傍で蒸発することにより温
度降下する分を補う程度である。
As can be seen from FIG. 7, in the third embodiment, like the second embodiment, the rotary shaft 242 is of the so-called horizontal type, and the other constructions are substantially the same. The main difference is that no heating coil is provided in the processing container 220, and instead,
A heat exchanger 239 for heating is provided. When the solution supply pump 211 is driven, the solution is supplied from the solution tank 210 to the processing container 220 through the solution supply passage 212, and the excess solution in the processing container 220 is supplied to the solution tank 210 through the solution circulation passage 213. Will be returned. This is the so-called forced circulation system. As the solution passes through the solution supply passage 212, it passes through the heat exchanger 239 between them, so that the solution is heated here. The amount of temperature increase at this time is a degree to compensate for the amount of temperature decrease caused by evaporation in the vicinity of the distillation film 252 in the processing container 220.

【0030】第3実施例では、処理容器220内に加熱
コイルを備えていない分、処理容器220が小型とな
り、この部分でのコンパクト化が達成される。また、溶
液供給ポンプ211の作用により、溶液が強制的に循環
されるので、処理容器220内の溶液も強制的に循環さ
れ、処理容器220内の温度分布がより均一化する。
In the third embodiment, since the heating coil is not provided in the processing container 220, the processing container 220 becomes small in size, and the compactness in this portion is achieved. Further, since the solution is forcibly circulated by the action of the solution supply pump 211, the solution in the processing container 220 is also forcibly circulated, and the temperature distribution in the processing container 220 becomes more uniform.

【0031】次に、図8、図9および図10を用いて本
発明の第4実施例を説明する。なお、本実施例も基本的
構造および作用が先に説明した第1実施例と同一である
ため、同一の部分については、第1実施例の参照番号に
300を加えた参照番号を付すことにより、その説明を
省略する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8, 9 and 10. Since the basic structure and operation of this embodiment are the same as those of the first embodiment described above, the same parts are designated by the reference numerals obtained by adding 300 to the reference numerals of the first embodiment. , The description is omitted.

【0032】図8から分かる様に、第4実施例は第2実
施例と第3実施例との折衷案的実施例である。すなわ
ち、加熱コイルが溶液供給通路312あるいは溶液循環
通路313中に設けられていない。それに代え、バッフ
ルプレート330がその機能を代用している。すなわ
ち、バッフルプレート330が中空に形成され、これが
加熱コイル338の機能を兼用する。熱媒体が加熱コイ
ル338の入口338aからパッフルプレート330あ
るいは処理容器320内に形成された複数(本実施例で
は7本)の通路338cを通って回転軸342の軸方向
と平行に進み、逐次バッフルプレート330の先端に向
かう通路338d、更にパッフルプレート330あるい
は処理容器320内に形成された1本の通路338eを
通って順次、出口338bから排出される。熱媒体が通
路338dを通っている間にこのバッフルプレート33
0を加熱し、溶液を加熱する。この際の温度上昇量は、
処理容器320内の蒸留膜352近傍で蒸発することに
より温度降下する分を補う程度にすると、溶液を一定温
度に保持出来る。
As can be seen from FIG. 8, the fourth embodiment is an eclectic embodiment of the second and third embodiments. That is, the heating coil is not provided in the solution supply passage 312 or the solution circulation passage 313. Instead, the baffle plate 330 substitutes that function. That is, the baffle plate 330 is formed in a hollow shape, and this also serves as the heating coil 338. The heat medium advances from the inlet 338a of the heating coil 338 through a plurality of (7 in the present embodiment) passages 338c formed in the puffle plate 330 or the processing container 320 in parallel to the axial direction of the rotating shaft 342, and successively. It is sequentially discharged from the outlet 338b through a passage 338d toward the tip of the baffle plate 330, and further through a passage 338e formed in the puffle plate 330 or the processing container 320. While the heat transfer medium is passing through the passage 338d, the baffle plate 33
Heat 0 and heat the solution. The amount of temperature rise at this time is
The solution can be maintained at a constant temperature by compensating for the temperature drop caused by evaporation near the distillation film 352 in the processing container 320.

【0033】第4実施例は、パッフルプレート330が
加熱コイルを兼用しているので、加熱コイルのための容
積を処理容器320内に確保する必要がなく、処理容器
320内のコンパクト化が図れる。また、溶液供給通路
312中に第3実施例の様に、熱交換器239を別途設
ける必要もなく、この点からもコンパクト化が図れる。
In the fourth embodiment, since the puffle plate 330 also serves as the heating coil, it is not necessary to secure a volume for the heating coil in the processing container 320, and the processing container 320 can be made compact. . Further, unlike the third embodiment, it is not necessary to separately provide the heat exchanger 239 in the solution supply passage 312, and the size can be made compact also from this point.

【0034】次に、図11および図12を用いて本発明
の第5実施例を説明する。なお、本実施例も基本的構造
および作用が先に説明した第1実施例と略同一であるた
め、同一の部分については、第1実施例の参照番号に4
00を加えた参照番号を付すことにより、その説明を省
略する。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 and 12. Since the basic structure and operation of this embodiment are substantially the same as those of the first embodiment described above, the same parts are designated by the reference numerals of the first embodiment.
The description thereof will be omitted by adding reference numbers including 00.

【0035】図11から分かる様に、第5実施例は第1
実施例と第4実施例との折衷案的実施例である。すなわ
ち、バッフルプレート430が加熱コイルの機能を代用
している点が第4実施例と共通しているが、第4実施例
の様に溶液循環通路313を設けておらず、この点第1
実施例と共通する。
As can be seen from FIG. 11, the fifth embodiment is the first
It is an eclectic embodiment of the embodiment and the fourth embodiment. That is, the baffle plate 430 is common to the fourth embodiment in that the function of the heating coil is substituted, but unlike the fourth embodiment, the solution circulation passage 313 is not provided, which is the first point.
The same as the embodiment.

【0036】以上のいずれの実施例においても、蒸発空
間および蒸留膜を回転体の内、回転軸に直交した円盤状
の平膜板に設置した例を示したが、本発明はこれに限ら
ず、回転軸の外周面等に蒸留膜を設置し、回転軸内に蒸
発空間を設置する例など、要は回転する回転体に設置す
れば良い。
In each of the above embodiments, an example in which the evaporation space and the distillation film are installed on a disk-shaped flat film plate orthogonal to the rotation axis in the rotating body is shown, but the present invention is not limited to this. For example, a distillation film may be installed on the outer peripheral surface of the rotating shaft, and an evaporation space may be installed in the rotating shaft.

【0037】以上のいずれの実施例においても、処理容
器として内部が閉空間を構成する容器を示したが、本発
明はこれに限らず、上部が開放した槽の様なものであっ
ても良い。
In each of the above-mentioned embodiments, a container whose inside constitutes a closed space is shown as a processing container, but the present invention is not limited to this, and may be a tank having an open upper part. .

【0038】また、本発明の装置は、高濃度塩分を含む
液、高濃度発酵廃液、重金属廃水、メッキ廃水、染料排
水、パルプさらし排水などの処理に特に有効である。
Further, the apparatus of the present invention is particularly effective for treating a liquid containing a high concentration of salt, a high concentration fermentation waste liquid, a heavy metal waste water, a plating waste water, a dye waste water, a pulp bleaching waste water and the like.

【0039】特に、溶媒中にNaClなどの塩分を含む
溶液を上記濃縮・分離装置で処理すれば、塩分を含んだ
濃縮化した溶液が処理容器内に残留し、溶媒分がコンデ
ンサ70内に回収されることが可能となり、濃縮・分離
困難なNaClなどの塩分が容易にしかも高濃度に濃縮
・分離可能となる。
In particular, when a solution containing a salt such as NaCl in the solvent is processed by the above-mentioned concentrating / separating apparatus, the concentrated solution containing the salt remains in the processing container and the solvent is recovered in the condenser 70. Therefore, it is possible to easily and highly concentrate and separate salt such as NaCl, which is difficult to concentrate and separate.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の濃縮・分
離装置によれば、温度分極が緩和され濃縮・分離機能の
低下が防止できる等の効果を奏する。
As described above in detail, according to the concentration / separation apparatus of the present invention, temperature polarization is alleviated, and deterioration of the concentration / separation function can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図1乃至図12は本発明に係る図面であり、その内、図
1乃至図5は本発明の第1実施例を、図6は本発明の第
2実施例を、図7は本発明の第3実施例を、図8乃至図
10は本発明の第4実施例を、図11および図12は本
発明の第5実施例を示す。
1 to 12 are drawings according to the present invention, in which FIGS. 1 to 5 show a first embodiment of the present invention, FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 shows the present invention. 8 to 10 show a fourth embodiment of the present invention, and FIGS. 11 and 12 show a fifth embodiment of the present invention.

【図1】第1実施例に係る溶液の蒸発・分離装置の全体
概略説明図である。
FIG. 1 is an overall schematic explanatory diagram of a solution evaporation / separation apparatus according to a first embodiment.

【図2】図1の処理容器の拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the processing container of FIG.

【図3】図2のIII−III線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.

【図4】平膜板、蒸留膜、スペーサおよび回転軸の組み
立て状態を説明するための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining an assembled state of a flat membrane plate, a distillation membrane, a spacer and a rotating shaft.

【図5】支持基板単体の正面図である。FIG. 5 is a front view of a single support substrate.

【図6】第2実施例に係る溶液の蒸発・分離装置の全体
概略説明図である。
FIG. 6 is an overall schematic explanatory diagram of a solution evaporation / separation apparatus according to a second embodiment.

【図7】第3実施例に係る溶液の蒸発・分離装置の全体
概略説明図である。
FIG. 7 is an overall schematic explanatory diagram of a solution evaporation / separation apparatus according to a third embodiment.

【図8】第4実施例に係る溶液の蒸発・分離装置の全体
概略説明図である。
FIG. 8 is an overall schematic explanatory diagram of a solution evaporation / separation apparatus according to a fourth example.

【図9】図8の処理容器の拡大断面図である。9 is an enlarged cross-sectional view of the processing container in FIG.

【図10】図9のX−X線断面図である。10 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG.

【図11】第5実施例に係る溶液の蒸発・分離装置の全
体概略説明図である。
FIG. 11 is an overall schematic explanatory diagram of a solution evaporation / separation apparatus according to a fifth example.

【図12】図11のXII−XII線断面図である。12 is a sectional view taken along line XII-XII in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・・溶液タンク 12・・・・溶液供給通路 14・・・・回収通路 20・・・・処理容器 28・・・・邪魔板 30・・・・バッフルプレート 32・・・・スタッドボルト 34・・・・カラー 38・・・・加熱コイル 40・・・・回転体 42・・・・回転軸 44・・・・スペーサ 46・・・・Oリング 48・・・・固定ボルト 50・・・・平膜板 51・・・・支持基板 51a・・・円周溝 51b・・・半径溝 51c・・・合流溝 51d・・・キー溝 51e・・・中心穴 52・・・・蒸留膜 53・・・・ネット 70・・・・コンデンサ 72・・・・冷却コイル 74・・・・排出バルブ 80・・・・真空ポンプ 82・・・・駆動モータ 84・・・・プーリ 86・・・・ロータリジョイント 211・・・溶液供給ポンプ 213・・・溶液循環通路 239・・・熱交換器 10 ... Solution tank 12 Solution supply passage 14 Recovery passage 20 Processing container 28 Baffle plate Baffle plate 32 Stud bolt 34 ... Collar 38 ... Heating coil 40 ... Rotating body 42 ... Rotating shaft 44 ... Spacer 46 ... O-ring 48 ... Fixing bolt 50 ... ..Flat membrane plate 51..support substrate 51a.circumferential groove 51b.radial groove 51c.confluence groove 51d.key groove 51e.center hole 52..distillation membrane 53 ... Net 70 ... Condenser 72 ... Cooling coil 74 ... Exhaust valve 80 ... Vacuum pump 82 ... Drive motor 84 ... Pulley 86 ...・ Rotary joint 211 ・ ・ ・ Solution supply pump 2 13 ... Solution circulation passage 239 ... Heat exchanger

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】減圧された蒸発空間を内部に備えた回転体
を、溶液が収容された処理容器内に配置する一方、前記
蒸発空間と処理容器外に配置したコンデンサとを回収通
路により連通し、回転体に取り付けた蒸留膜を介して、
蒸発空間を処理容器内の溶液に臨ませ、回転体が処理容
器内で回転することにより、蒸留膜を溶液に対し相対移
動させたことを特徴とする溶液の濃縮・分離装置。
1. A rotating body having a depressurized evaporation space inside is arranged in a processing container containing a solution, while the evaporation space and a condenser arranged outside the processing container are connected by a recovery passage. , Through the distillation membrane attached to the rotating body,
A solution concentrating / separating device, characterized in that an evaporation space is exposed to a solution in a processing container, and a rotating body is rotated in the processing container to move a distillation membrane relative to the solution.
【請求項2】請求項1において、前記回転体は回転軸
と、回転軸に略直交する円盤状の平膜板とを備え、前記
平膜板内に前記蒸発空間を設けてなる溶液の濃縮・分離
装置。
2. The solution concentrating solution according to claim 1, wherein the rotating body includes a rotating shaft and a disk-shaped flat film plate substantially orthogonal to the rotating shaft, and the evaporation space is provided in the flat film plate. -Separation device.
【請求項3】請求項2において、前記平膜板を複数枚備
えるとともに、これら平膜板を所定の間隔をおいて前記
回転軸に固定したことを特徴とする溶液の濃縮・分離装
置。
3. A solution concentrating / separating apparatus according to claim 2, wherein a plurality of the flat membrane plates are provided, and these flat membrane plates are fixed to the rotary shaft at predetermined intervals.
【請求項4】請求項2または請求項3において、前記蒸
留膜を前記平膜板の両面に取り付けたことを特徴とする
溶液の濃縮・分離装置。
4. The solution concentration / separation device according to claim 2 or 3, wherein the distillation membrane is attached to both sides of the flat membrane plate.
【請求項5】請求項2から請求項4において、前記回収
通路を前記回転軸内に設けたことを特徴とする溶液の濃
縮・分離装置。
5. The solution concentration / separation device according to claim 2, wherein the recovery passage is provided in the rotation shaft.
【請求項6】請求項2から請求項5において、前記回転
軸を水平に配置したことを特徴とする溶液の濃縮・分離
装置。
6. The solution concentration / separation device according to claim 2, wherein the rotary shaft is arranged horizontally.
【請求項7】請求項2から請求項5において、前記回転
軸を垂直に配置したことを特徴とする溶液の濃縮・分離
装置。
7. The solution concentration / separation device according to claim 2, wherein the rotating shaft is arranged vertically.
【請求項8】請求項1から請求項7において、前記処理
容器内に加熱手段を設けたことを特徴とする溶液の濃縮
・分離装置。
8. A solution concentrating / separating apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a heating means is provided in the processing container.
JP20892093A 1993-07-30 1993-07-30 Apparatus for concentration and separation of solution Withdrawn JPH0739726A (en)

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